JP2007014832A - Waste liquid crystal panel treatment apparatus, liquid crystal recovery system and method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a waste liquid crystal panel treatment apparatus capable of effectively making a resin portion of the waste liquid crystal panel fragile, descending a treatment temperature of reduced pressure heating to a temperature degree at which the liquid crystal is volatilized and efficiently and safely recovering the liquid crystal in a liquid crystal extraction treatment, a liquid crystal recovery system and a method. <P>SOLUTION: A supercritical fluid is produced by feeding a substance for producing a supercritical fluid into a chamber 21 in the state that the waste liquid crystal panel 10 is arranged in the chamber 21 as a reaction vessel and pressurizing and heating it. A seal resin portion of the waste liquid crystal panel 10 is made fragile (destroyed) by production of the supercritical fluid. Further, the liquid crystal vaporized (extracted) from the waste liquid crystal panel in which the seal resin portion is made fragile is recovered by a recovery apparatus 24, i.e., an agglomerating means. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶回収システム及びその方法に係り、特に液晶パネルの製造工場等において廃棄される液晶パネル、及び市場において廃棄される映像表示装置や情報表示装置等に用いられた液晶パネルから、減圧加熱によって液晶抽出を行う廃液晶パネル処理装置、液晶回収システム及び方法に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal recovery system and a method thereof, and more particularly, a liquid crystal panel discarded in a liquid crystal panel manufacturing factory or the like, and a reduced pressure from a liquid crystal panel used in a video display device or an information display device discarded in the market. The present invention relates to a waste liquid crystal panel processing apparatus that performs liquid crystal extraction by heating, a liquid crystal recovery system, and a method.

近年、一般廃棄物や産業廃棄物の量が増加の一途を辿っており、これら廃棄物の増加を抑制すると共に、廃棄物による環境の悪化を抑制するために廃棄物を無害化することの要請が一層高まっている。   In recent years, the amount of general waste and industrial waste has been steadily increasing, and the demand for detoxifying waste in order to suppress the increase in these waste and to suppress the deterioration of the environment caused by waste Is growing.

これらの要請に応えるため、工場からは排出される産業廃棄物、および不要になった家電製品や情報機器等の廃棄物等に関して、リサイクルの促進により廃棄量を抑制する努力もなされている。   In order to meet these demands, efforts are being made to reduce the amount of industrial waste discharged from factories and waste of household electrical appliances and information devices that are no longer needed by promoting recycling.

例えば、家電製品や情報機器等には液晶パネルが使用されており、少電力駆動及び省スペースという特性から、高度情報化社会の進展に伴い、今後急速にその使用量が増大することが予想される。   For example, liquid crystal panels are used in home appliances and information devices, and due to the characteristics of low power drive and space saving, the amount of use is expected to increase rapidly in the future as the advanced information society advances. The

この液晶パネルは、一般的には、ITO(In-Sn Oxide)などの透明電極が蒸着された一対のガラス基板間に、主として有機物質からなる液晶を封入した後、外周の接合面をエポキシ系などの接着剤により接着し封印した構造を有するものであり、ガラス基板の外側には偏光板が接着されており、内側にはカラーフィルタなどの有機材料が配置され構成される。   Generally, this liquid crystal panel is composed of a liquid crystal composed mainly of an organic substance between a pair of glass substrates on which transparent electrodes such as ITO (In-Sn Oxide) are deposited, and then the outer joint surface is epoxy-based. A polarizing plate is adhered to the outer side of the glass substrate, and an organic material such as a color filter is disposed on the inner side.

例えば、特許文献1では、 廃液晶パネルをチャンバーに配置し、前記チャンバー内を減圧しかつ加熱して(0〜40kPa,200〜400℃)、前記廃液晶パネルを構成する有機物をガス化する。廃液晶パネルをパネルを構成する2枚のガラス基板を破砕した状態でチャンバー内に配置する。チャンバー内にキャリアガスを導入し、ガス化した有機物をチャンバー外に排出する。チャンバー外に排出した有機ガスを有機ガス分解装置に導入してこの分解装置で無機ガスと水に分解する。有機ガスの分解したガスに含まれる有機成分をガスセンサで検出し、ガスセンサで検出されたガス中の有機成分の濃度が所定値以上であるとき、分解したガスを有機ガス分解装置にフィードバックし再分解する。   For example, in Patent Document 1, a waste liquid crystal panel is placed in a chamber, and the inside of the chamber is decompressed and heated (0 to 40 kPa, 200 to 400 ° C.) to gasify the organic matter constituting the waste liquid crystal panel. The waste liquid crystal panel is placed in the chamber in a state where two glass substrates constituting the panel are crushed. A carrier gas is introduced into the chamber, and the gasified organic matter is discharged out of the chamber. The organic gas discharged out of the chamber is introduced into an organic gas decomposing apparatus and decomposed into inorganic gas and water by this decomposing apparatus. The organic component contained in the decomposed gas of the organic gas is detected by the gas sensor, and when the concentration of the organic component in the gas detected by the gas sensor is equal to or higher than the predetermined value, the decomposed gas is fed back to the organic gas decomposer and re-decomposed. To do.

一方、液晶パネルからガラスや希少金属を回収する方法及び装置も既に提案されている。例えば特許文献2では、廃液晶パネルを破砕しないで反応炉に配置し、反応炉内を減圧状態にして廃液晶パネルを加熱し、廃液晶パネルを構成する液晶、およびガラス基板の内・外面に配した固形有機物の一部を蒸発させると共に、固形有機物の残部を炭化させる廃液晶パネルの処理方法及びその装置が提案されている。
特開2002−23126号公報 特開2004−230229号公報
On the other hand, methods and apparatuses for recovering glass and rare metals from liquid crystal panels have already been proposed. For example, in Patent Document 2, the waste liquid crystal panel is placed in a reaction furnace without being crushed, and the waste liquid crystal panel is heated by depressurizing the inside of the reaction furnace, and the liquid crystal constituting the waste liquid crystal panel and the inner and outer surfaces of the glass substrate are disposed. A processing method and an apparatus for a waste liquid crystal panel that evaporate a part of the arranged solid organic matter and carbonize the remainder of the solid organic matter have been proposed.
JP 2002-23126 A JP 2004230229 A

しかしながら、特許文献1,2では、廃液晶パネルを減圧加熱する際、真空状態であるため、昇温しにくく、処理パネルへの加温が難しい。真空に近い減圧加熱により液晶パネルから液晶を抽出するためには、シール材や封止材の樹脂部分を破壊(脆弱化)させる必要があり、このための温度が液晶の抽出条件よりも高温になる。つまり、液晶を減圧下で揮発させるのに必要な温度は150〜200℃であるのに対して、樹脂部分を脆弱化させるのに必要な温度は300℃以上であるため、減圧加熱の処理温度を300℃以上に設定しなければならない。その結果、処理温度が300℃以上と高温になると、蒸発した液晶が有害物質に変化する可能性があり、液晶のリサイクルに適しないと共に、安全上好ましくない。   However, in Patent Documents 1 and 2, when the waste liquid crystal panel is heated under reduced pressure, it is difficult to raise the temperature because it is in a vacuum state, and it is difficult to heat the treatment panel. In order to extract the liquid crystal from the liquid crystal panel by vacuum heating near vacuum, it is necessary to destroy (weaken) the resin part of the sealing material or sealing material, and the temperature for this is higher than the extraction condition of the liquid crystal. Become. That is, the temperature necessary for volatilizing the liquid crystal under reduced pressure is 150 to 200 ° C., whereas the temperature necessary for weakening the resin portion is 300 ° C. or higher. Must be set above 300 ° C. As a result, when the processing temperature is as high as 300 ° C. or higher, the evaporated liquid crystal may be changed into a harmful substance, which is not suitable for recycling the liquid crystal and is not preferable for safety.

そこで、本発明は上記の問題に鑑み、液晶抽出処理において、廃液晶パネルの樹脂部分を効果的に脆弱化させることができ、しかも減圧加熱の処理温度を液晶の揮発する温度程度に下げることができ、液晶を効率的に且つ安全に回収できる、廃液晶パネル処理装置、液晶回収システム及び方法を提供することを目的とするものである。   Therefore, in view of the above problems, the present invention can effectively weaken the resin portion of the waste liquid crystal panel in the liquid crystal extraction process, and can reduce the processing temperature of the reduced pressure heating to the temperature at which the liquid crystal volatilizes. An object of the present invention is to provide a waste liquid crystal panel processing apparatus, a liquid crystal recovery system and a method capable of efficiently and safely recovering liquid crystals.

本発明による廃液晶パネル処理装置は、超臨界流体生成用の物質を供給する供給源と、内部に廃液晶パネルを配置可能とする反応容器と、前記供給源より前記反応容器内に供給された前記物質から超臨界流体を生成する超臨界流体生成手段とを具備し、前記廃液晶パネルの樹脂部分を前記超臨界流体によって脆弱化して液晶を抽出することを特徴とする。   The waste liquid crystal panel processing apparatus according to the present invention includes a supply source for supplying a substance for generating a supercritical fluid, a reaction vessel capable of disposing a waste liquid crystal panel therein, and the supply source supplied into the reaction vessel. And a supercritical fluid generating means for generating a supercritical fluid from the substance, wherein the liquid crystal is extracted by weakening the resin portion of the waste liquid crystal panel with the supercritical fluid.

このような本発明の構成によれば、反応容器内に廃液晶パネルを配置した状態で、反応容器内へ超臨界流体生成用の物質を供給して加圧・加熱することで超臨界流体を生成する。この超臨界流体の生成によって廃液晶パネルのシール樹脂部分を脆弱化(破壊)する。   According to such a configuration of the present invention, in a state where the waste liquid crystal panel is disposed in the reaction vessel, the supercritical fluid is supplied by pressurizing and heating the material for generating the supercritical fluid into the reaction vessel. Generate. Generation of this supercritical fluid weakens (breaks) the sealing resin portion of the waste liquid crystal panel.

本発明の装置において、前記超臨界流体生成用の物質は、二酸化炭素,エチレン又は亜酸化窒素であることが好ましい。   In the apparatus of the present invention, the supercritical fluid generating substance is preferably carbon dioxide, ethylene or nitrous oxide.

このような構成によれば、上記の二酸化炭素,エチレン又は亜酸化窒素は、超臨界の臨界点(温度,圧力)が常温,常圧に比較的近く、超臨界状態を生成し易い物質である。中でも、二酸化炭素は、通常の大気中に存在し、不燃性で取扱いが容易であると共に、低コストに製造できることから、最適である。   According to such a configuration, carbon dioxide, ethylene, or nitrous oxide is a substance that has a supercritical critical point (temperature, pressure) that is relatively close to normal temperature and normal pressure, and easily generates a supercritical state. . Among these, carbon dioxide is optimal because it is present in normal air, is nonflammable and easy to handle, and can be manufactured at low cost.

本発明による廃液晶パネル処理装置は、超臨界流体生成用の物質を供給する供給源と、内部に廃液晶パネルを配置可能とする反応容器と、前記供給源より前記反応容器内に供給された前記物質から超臨界流体を生成する超臨界流体生成手段と、前記廃液晶パネルから抽出した液晶を凝集させる凝集手段とを具備し、前記廃液晶パネルの樹脂部分を前記超臨界流体によって脆弱化して前記液晶を抽出することを特徴とする。   The waste liquid crystal panel processing apparatus according to the present invention includes a supply source for supplying a substance for generating a supercritical fluid, a reaction vessel capable of disposing a waste liquid crystal panel therein, and the supply source supplied into the reaction vessel. Supercritical fluid generating means for generating a supercritical fluid from the substance, and aggregating means for aggregating the liquid crystal extracted from the waste liquid crystal panel, the resin portion of the waste liquid crystal panel is weakened by the supercritical fluid The liquid crystal is extracted.

このような本発明の構成によれば、反応容器内に廃液晶パネルを配置した状態で、反応容器内へ超臨界流体生成用の物質を供給して加圧・加熱することで超臨界流体を生成する。この超臨界流体の生成によって廃液晶パネルのシール樹脂部分を脆弱化(破壊)し、その後に、廃液晶パネル内から抽出した液晶を凝集手段によって回収する。   According to such a configuration of the present invention, in a state where the waste liquid crystal panel is disposed in the reaction vessel, the supercritical fluid is supplied by pressurizing and heating the material for generating the supercritical fluid into the reaction vessel. Generate. The generation of this supercritical fluid weakens (breaks) the sealing resin portion of the waste liquid crystal panel, and then the liquid crystal extracted from the waste liquid crystal panel is collected by aggregating means.

本発明の液晶回収システムは、超臨界流体生成用の物質を供給する供給源と、 内部に廃液晶パネルを配置可能とし、前記内部を加熱する手段を有する反応容器と、前記反応容器の内部の圧力及び温度を高めて、前記供給源より前記反応容器内に供給された前記物質から超臨界流体を生成する超臨界流体生成手段と、前記反応容器内で前記廃液晶パネルが前記超臨界流体の中におかれた状態で、前記反応容器内の圧力を開放する圧力開放手段と、前記反応容器内の圧力を開放した後に、前記反応容器内を所定の減圧状態にして加熱する減圧加熱手段と、前記減圧加熱によって前記廃液晶パネルから抽出した液晶を凝集させる凝集手段と、を具備したものである。   The liquid crystal recovery system of the present invention includes a supply source for supplying a material for generating a supercritical fluid, a waste liquid crystal panel that can be disposed therein, a reaction vessel having a means for heating the inside, and an inside of the reaction vessel. Supercritical fluid generating means for generating a supercritical fluid from the substance supplied into the reaction vessel from the supply source by increasing the pressure and temperature, and the waste liquid crystal panel in the reaction vessel Pressure releasing means for releasing the pressure in the reaction vessel in a state placed therein, and reduced pressure heating means for heating the reaction vessel to a predetermined reduced pressure after releasing the pressure in the reaction vessel; Aggregating means for aggregating the liquid crystal extracted from the waste liquid crystal panel by the reduced pressure heating.

このような本発明の構成によれば、反応容器内に廃液晶パネルを配置した状態で、反応容器内へ超臨界流体生成用の物質を供給して加圧・加熱することで超臨界流体を生成し、超臨界流体をシール樹脂部分に溶け込ませた後、反応容器内の圧力を開放することによって廃液晶パネルのシール樹脂を脆弱化(破壊)する。その後に、減圧加熱処理を行うことによって廃液晶パネル内から液晶を気化して抽出し、気化した液晶を凝集手段によって回収することができる。これらの一連の動作は、自動的に行うことができる。従って、廃液晶パネルの樹脂部分を効果的に脆弱化させ、しかも減圧加熱の処理温度を液晶の揮発する温度程度に下げることができ、液晶を有害形質に変化させることなく、効率的且つ安全に回収することが可能となる。   According to such a configuration of the present invention, in a state where the waste liquid crystal panel is disposed in the reaction vessel, the supercritical fluid is supplied by pressurizing and heating the material for generating the supercritical fluid into the reaction vessel. After the generated supercritical fluid is dissolved in the seal resin portion, the pressure in the reaction vessel is released to weaken (break) the seal resin of the waste liquid crystal panel. Thereafter, the liquid crystal is vaporized and extracted from the waste liquid crystal panel by performing a heat treatment under reduced pressure, and the vaporized liquid crystal can be collected by the aggregating means. A series of these operations can be performed automatically. Therefore, the resin part of the waste liquid crystal panel can be effectively weakened, and the processing temperature of the reduced pressure heating can be lowered to the temperature at which the liquid crystal is volatilized. It becomes possible to collect.

本発明の装置において、前記反応容器における減圧加熱を行う前に、該反応容器内の前記超臨界流体の圧力を常圧に開放する第2の圧力開放手段を有し、圧力を開放したとき、前記反応容器から流出する超臨界流体から該超臨界流体生成用の物質を凝集して回収するリサイクル系を、更に具備することが好ましい。   In the apparatus of the present invention, before performing the heating under reduced pressure in the reaction vessel, the apparatus has second pressure release means for releasing the pressure of the supercritical fluid in the reaction vessel to normal pressure, and when the pressure is released, It is preferable to further comprise a recycle system for aggregating and recovering the supercritical fluid generating substance from the supercritical fluid flowing out of the reaction vessel.

このような構成によれば、前述の圧力開放手段にて圧力を開放すると同時に、第2の圧力開放手段にて大気圧に圧力を開放し、そのとき前記反応容器から流出する超臨界流体から超臨界流体生成用の物質を凝集して回収するリサイクル系を設けたので、被処理物である液晶パネルから液晶を回収できると共に、樹脂部分の脆弱化に用いる超臨界流体生成用の物質をも回収することが可能となる。   According to such a configuration, the pressure is released by the pressure release means described above, and at the same time, the pressure is released to atmospheric pressure by the second pressure release means. A recycling system that aggregates and recovers substances for generating critical fluids is provided, so that liquid crystals can be recovered from the liquid crystal panel that is the object to be processed, and materials for generating supercritical fluids used to weaken resin parts are also recovered. It becomes possible to do.

本発明の液晶回収方法は、反応容器内で加圧し加熱することによって生成した超臨界流体の中に廃液晶パネルを置いた状態で、該反応容器内の圧力を開放し、該廃液晶パネルを減圧加熱することによって液晶を抽出し回収することを特徴とする。   In the liquid crystal recovery method of the present invention, the waste liquid crystal panel is released in a state where the waste liquid crystal panel is placed in a supercritical fluid generated by pressurizing and heating in the reaction container. The liquid crystal is extracted and recovered by heating under reduced pressure.

本発明の液晶回収方法は、加熱手段を有し内部に廃液晶パネルを配置した反応容器に、超臨界流体生成用の物質を供給する工程と、前記反応容器の内部の圧力及び温度を高めて、前記物質の超臨界流体を生成する超臨界流体生成工程と、前記反応容器内で前記廃液晶パネルが前記超臨界流体の中におかれた状態で、前記反応容器内の圧力を開放する圧力開放工程と、前記反応容器内の圧力を開放した後に、前記反応容器内を所定の減圧状態にして加熱する減圧加熱工程と、前記減圧加熱工程によって前記廃液晶パネルから抽出した液晶を凝集させる凝集工程と、を具備したものである。   The liquid crystal recovery method of the present invention includes a step of supplying a substance for generating a supercritical fluid to a reaction vessel having heating means and a waste liquid crystal panel disposed therein, and increasing the pressure and temperature inside the reaction vessel. A supercritical fluid generating step for generating a supercritical fluid of the substance, and a pressure for releasing the pressure in the reaction vessel in a state where the waste liquid crystal panel is placed in the supercritical fluid in the reaction vessel. An opening step, a pressure reducing heating step in which the inside of the reaction vessel is heated to a predetermined reduced pressure after releasing the pressure in the reaction vessel, and an aggregation for aggregating liquid crystals extracted from the waste liquid crystal panel by the reduced pressure heating step A process.

このような本発明の方法によれば、 反応容器内に廃液晶パネルを配置した状態で、反応容器内へ超臨界流体生成用の物質を供給して加圧・加熱することで超臨界流体を生成し、超臨界流体をシール樹脂部分に溶け込ませた後、反応容器内の圧力を開放することによって廃液晶パネルのシール樹脂を脆弱化(破壊)する。その後に、減圧加熱処理を行うことによって廃液晶パネル内から液晶を気化して抽出し、気化した液晶を凝集手段によって回収することができる。従って、廃液晶パネルの樹脂部分を効果的に脆弱化させ、しかも減圧加熱の処理温度を液晶の揮発する温度程度に下げることができ、液晶を有害形質に変化させることなく、効率的且つ安全に回収することが可能となる。   According to such a method of the present invention, a supercritical fluid is produced by supplying a substance for generating a supercritical fluid into the reaction vessel, pressurizing and heating the waste liquid crystal panel in the reaction vessel. After the generated supercritical fluid is dissolved in the seal resin portion, the pressure in the reaction vessel is released to weaken (break) the seal resin of the waste liquid crystal panel. Thereafter, the liquid crystal is vaporized and extracted from the waste liquid crystal panel by performing a heat treatment under reduced pressure, and the vaporized liquid crystal can be collected by the aggregating means. Therefore, the resin part of the waste liquid crystal panel can be effectively weakened, and the processing temperature of the reduced pressure heating can be lowered to the temperature at which the liquid crystal is volatilized. It becomes possible to collect.

発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図1及び図2を参照して本発明の実施形態を説明する前に、先ず図3及び図4を参照して本実施形態により液晶が回収される、一般的な廃液晶パネルの構造を説明する。
Embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
Before describing the embodiment of the present invention with reference to FIG. 1 and FIG. 2, first, the structure of a general waste liquid crystal panel in which liquid crystal is recovered according to the present embodiment will be described with reference to FIG. 3 and FIG. 4. To do.

図5は一般的な廃液晶パネルを模式化して示す縦断面図である。この廃液晶パネル10は、液晶パネルの製造工場より排出されたり、或いは市場において使用済みの情報表示装置や映像表示装置等から取り出されたものである。なお、ここで述べる廃液晶パネル10は、2枚のガラス基板1a,1bの外面にそれぞれ偏光板2,2を備えたものを示している。また、図5に示す廃液晶パネル10は、TFT液晶パネル等のアクティブ液晶パネルである。但しパッシブタイプの液晶パネルでも同様に処理することができる。廃液晶パネル10は、所定の間隔で対向配置された2枚のガラス基板1a,1bを有している。これらガラス基板1a,1bは、これらの内面間に、これらの周縁部に沿って設けられたエポキシ樹脂等のシール材7により貼合されている。   FIG. 5 is a longitudinal sectional view schematically showing a general waste liquid crystal panel. The waste liquid crystal panel 10 is discharged from a liquid crystal panel manufacturing factory or taken out of an information display device or a video display device that has been used in the market. In addition, the waste liquid crystal panel 10 described here is one in which polarizing plates 2 and 2 are provided on the outer surfaces of two glass substrates 1a and 1b, respectively. A waste liquid crystal panel 10 shown in FIG. 5 is an active liquid crystal panel such as a TFT liquid crystal panel. However, the same processing can be performed with a passive liquid crystal panel. The waste liquid crystal panel 10 has two glass substrates 1a and 1b arranged to face each other at a predetermined interval. These glass substrates 1a and 1b are bonded between the inner surfaces by a sealing material 7 such as an epoxy resin provided along the peripheral edge portion.

ガラス基板1a,1bとシール材7とにより密封された領域は、スペーサ8により所定の間隔に維持されて有機物質からなる液晶9が充填され、液晶層を形成する。各ガラス基板1a,1bの外面には、粘着材により偏光板2が貼着されている。一方のガラス基板1aは、外側に偏光板2を配し内側にカラーフィルタ3、透明導電膜6が形成されたオーバコート4、配向膜5を配したものであり、他方のガラス基板1bは外側に偏光板2を配し内側に透明導電膜6と配向膜5を配したものである。
偏光板2、カラーフィルタ3、配向膜5は有機物を主体とした材料からなり、透明導電膜6はインジウムなどを含む膜からなる。図中の符号11はスイッチ素子で、金属類からなる。
The regions sealed by the glass substrates 1a and 1b and the sealing material 7 are maintained at a predetermined interval by the spacers 8 and are filled with the liquid crystal 9 made of an organic material to form a liquid crystal layer. A polarizing plate 2 is adhered to the outer surface of each glass substrate 1a, 1b with an adhesive material. One glass substrate 1a has a polarizing plate 2 on the outside and a color filter 3, an overcoat 4 on which a transparent conductive film 6 is formed, and an alignment film 5, and the other glass substrate 1b has an outside. The polarizing plate 2 is disposed on the inner side, and the transparent conductive film 6 and the alignment film 5 are disposed on the inner side.
The polarizing plate 2, the color filter 3, and the alignment film 5 are made of a material mainly composed of an organic substance, and the transparent conductive film 6 is made of a film containing indium or the like. Reference numeral 11 in the figure denotes a switch element made of a metal.

図6(a)は図5に示した廃液晶パネル10のうちの要部を構成する、2枚のガラス基板1a,1bと、ガラス基板1a,1b間に液晶9を保持するためのシール材7と、このシール材7の一部に形成された封口部7aを封止する封止材7bと、を示すものである。図6(b)は図6(a)のA−A線断面図を示している。ガラス基板1a又は1bの厚さをL1とし、ガラス基板1a,1b間の間隔をL2としたとき、例えばL1=0.5mm、L2=5〜10μmである。   FIG. 6A shows two glass substrates 1a and 1b constituting the main part of the waste liquid crystal panel 10 shown in FIG. 5, and a sealing material for holding the liquid crystal 9 between the glass substrates 1a and 1b. 7 and a sealing material 7b for sealing the sealing portion 7a formed in a part of the sealing material 7. FIG. 6B shows a cross-sectional view taken along line AA of FIG. When the thickness of the glass substrate 1a or 1b is L1 and the distance between the glass substrates 1a and 1b is L2, for example, L1 = 0.5 mm and L2 = 5 to 10 μm.

(第1の実施形態)
図1は本発明の第1の実施形態の液晶回収システムの構成を概略的に示す図である。
図1において、液晶回収システム20は、反応容器であるチャンバー21と、超臨界流体生成用の物質Gの供給源であるガスボンベ22と、加圧ポンプP1と、逆止め用バルブV1と、圧力開放用バルブV2と、加熱手段であるヒータ23と、回収装置24と、減圧ポンプP2と、活性炭フィルタ25と、制御装置30とを備えている。
チャンバー21は、廃液晶パネル10を収納する内部空間を備え、その内部空間を加熱する加熱手段としてヒータ23を有している。チャンバー21は、略直方体又は立方体の箱形状に構成され、前面には開閉可能でかつ密閉可能な図示しない扉部がある。この扉部には耐熱性のガラスを取り付けて内部空間を観察可能に構成してある。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid crystal recovery system according to a first embodiment of the present invention.
In FIG. 1, a liquid crystal recovery system 20 includes a chamber 21 that is a reaction vessel, a gas cylinder 22 that is a supply source of a substance G for generating a supercritical fluid, a pressurizing pump P1, a check valve V1, and a pressure release. And a recovery device 24, a decompression pump P2, an activated carbon filter 25, and a control device 30.
The chamber 21 has an internal space for storing the waste liquid crystal panel 10 and has a heater 23 as a heating means for heating the internal space. The chamber 21 is configured in a substantially rectangular parallelepiped or cubic box shape, and has a door (not shown) that can be opened and closed and sealed on the front surface. A heat-resistant glass is attached to the door so that the internal space can be observed.

チャンバー21は、内部空間の圧力及び温度が外部のポンプやヒータにて制御可能とされており、圧力及び温度を高めて内部空間内で超臨界流体(例えば超臨界二酸化炭素)を生成して廃液晶パネル10のシール樹脂に溶け込ませた後、バルブV2にて圧力開放することによって樹脂を脆弱化(破壊)させ、その状態で内部空間を減圧加熱することによって廃液晶パネル10から液晶9を揮発させて抽出するための反応容器として機能するものである。   In the chamber 21, the pressure and temperature of the internal space can be controlled by an external pump or heater, and the supercritical fluid (for example, supercritical carbon dioxide) is generated in the internal space by increasing the pressure and temperature. After being dissolved in the sealing resin of the liquid crystal panel 10, the pressure is released by the valve V2 to weaken (break) the resin, and the liquid crystal 9 is volatilized from the waste liquid crystal panel 10 by heating the internal space under reduced pressure in that state. And function as a reaction vessel for extraction.

供給源であるガスボンベ22は、超臨界流体生成用の物質G、例えば二酸化炭素(CO2)を貯留していて、貯留した二酸化炭素は加圧ポンプP1とバルブV1を用いて加圧されて前記チャンバー21に供給可能である。
加圧ポンプP1及びヒータ23は超臨界流体生成手段を構成しており、チャンバー21内にガスボンベ22から物質Gが供給され、そのチャンバー21の内部の圧力及び温度を高めて超臨界流体を生成する。
ヒータ23は、超臨界二酸化炭素の生成時や減圧加熱時に、チャンバー21内を加熱する加熱装置として機能する。
A gas cylinder 22 as a supply source stores a substance G for generating a supercritical fluid, for example, carbon dioxide (CO2), and the stored carbon dioxide is pressurized by using a pressurizing pump P1 and a valve V1 and the chamber. 21 can be supplied.
The pressurizing pump P1 and the heater 23 constitute supercritical fluid generating means. The substance G is supplied from the gas cylinder 22 into the chamber 21, and the pressure and temperature inside the chamber 21 are increased to generate a supercritical fluid. .
The heater 23 functions as a heating device that heats the inside of the chamber 21 when supercritical carbon dioxide is generated or heated under reduced pressure.

バルブV2は、チャンバー21内で廃液晶パネル10が前記超臨界流体の中におかれた状態で、チャンバー21内の圧力を開放することによって、廃液晶パネル10のシール樹脂を脆弱化(破壊)する第1の圧力開放手段として機能するもので、チャンバー21における減圧加熱を行う前に、チャンバー21内の超臨界二酸化炭素の圧力を常圧に開放する。   The valve V2 weakens (breaks) the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10 by releasing the pressure in the chamber 21 while the waste liquid crystal panel 10 is placed in the supercritical fluid in the chamber 21. It functions as a first pressure release means that releases the pressure of the supercritical carbon dioxide in the chamber 21 to normal pressure before performing vacuum heating in the chamber 21.

減圧ポンプP2及びヒータ23は減圧加熱手段を構成しており、チャンバー21内の圧力をバルブV2にて開放した後に、チャンバー21内を所定の減圧状態にして加熱する減圧加熱処理を行う。なお、減圧加熱時、チャンバー21の内部空間は、圧力が0.01〜10kPaに減圧され、温度については液晶揮発温度150℃程度とされる。   The decompression pump P2 and the heater 23 constitute decompression heating means, and after the pressure in the chamber 21 is opened by the valve V2, a decompression heating process is performed in which the interior of the chamber 21 is heated to a predetermined reduced pressure state. At the time of heating under reduced pressure, the pressure in the internal space of the chamber 21 is reduced to 0.01 to 10 kPa, and the liquid crystal volatilization temperature is about 150 ° C.

回収装置24は、冷却器を有し、減圧加熱処理によって廃液晶パネル10から気化(抽出)した液晶を凝集させるもので、前記バルブV2による圧力開放後に減圧ポンプP2を用いて減圧加熱を行った時に、チャンバー21内でシール樹脂が脆弱化された前記廃液晶パネル10内から気化・抽出させた液晶9を冷却・凝集し他のガスと分離して回収する凝集手段として機能する。
活性炭フィルタ25は、回収装置24にて液晶を凝集・分離した後の残留ガスを清浄化(無害化)して大気中へ排出する機能を有している。
The recovery device 24 has a cooler and agglomerates the liquid crystal evaporated (extracted) from the waste liquid crystal panel 10 by the reduced pressure heating process. After the pressure is released by the valve V2, the reduced pressure heating is performed using the reduced pressure pump P2. Sometimes, the liquid crystal 9 vaporized and extracted from the waste liquid crystal panel 10 in which the sealing resin is weakened in the chamber 21 functions as an aggregating means for cooling and aggregating and separating and recovering from other gases.
The activated carbon filter 25 has a function of purifying (detoxifying) the residual gas after the liquid crystal is aggregated and separated by the recovery device 24 and discharging it to the atmosphere.

さらに、液晶回収システム20は、温度や圧力などの各種センサ(図示せず)からの計測データが入力されると共に、加圧ポンプP1及び減圧ポンプP2のオンオフ制御、逆止め用バルブV1及び圧力開放用バルブV2のオンオフ(開閉)制御、ヒータ23の温度制御を行う制御装置30を備えている。
チャンバー21内の温度Tおよび圧力Pは、図示しない温度計および圧力計により計測され、その計測データは制御装置30に入力され、制御装置30は当該計測データに基いてヒータ23の温度制御およびバルブV1,V2の圧力調節制御を行うことになる。
Further, the liquid crystal recovery system 20 receives measurement data from various sensors (not shown) such as temperature and pressure, on / off control of the pressure pump P1 and pressure reduction pump P2, a check valve V1 and pressure release. And a control device 30 for controlling on / off (opening / closing) of the valve V2 and temperature control of the heater 23.
The temperature T and pressure P in the chamber 21 are measured by a thermometer and a pressure gauge (not shown), and the measurement data is input to the control device 30. The control device 30 controls the temperature of the heater 23 and the valve based on the measurement data. The pressure adjustment control of V1 and V2 is performed.

以上の説明において、超臨界状態とは、ある物質の温度と圧力とを上昇していくと、その物質に固有な温度と圧力を組合わせた条件(臨界点)以上では液体と気体の境界線が消滅し、液体と気体の区別がつかなくなる状態を言う。また、この超臨界状態になった流体は、液体に近い密度を有していることから、気体よりもその溶解力が数百倍大きくなるとともに、気体に近い拡散性を有していることから、溶質分子への浸透が気体よりも数百倍速く進行することになる。超臨界状態の二酸化炭素は、廃液晶パネル10のエポキシ樹脂等のシール材に作用して樹脂中に溶け込み、その後にチャンバー21内の圧力を開放してやると、樹脂中から二酸化炭素が抜け出して樹脂を脆弱化(破壊)することができる。   In the above description, the supercritical state means that when the temperature and pressure of a substance are increased, the boundary line between the liquid and the gas is exceeded above the condition (critical point) that combines the temperature and pressure inherent to the substance. Is a state where the liquid and gas cannot be distinguished from each other. In addition, since the fluid in the supercritical state has a density close to that of a liquid, its dissolving power is several hundred times greater than that of a gas and has a diffusivity close to that of a gas. The permeation into the solute molecules proceeds several hundred times faster than the gas. The carbon dioxide in the supercritical state acts on the sealing material such as the epoxy resin of the waste liquid crystal panel 10 and dissolves in the resin. After that, when the pressure in the chamber 21 is released, the carbon dioxide escapes from the resin and removes the resin. Can be weakened (destroyed).

超臨界流体生成用の物質Gとしては、二酸化炭素のほかに、エチレン又は亜酸化窒素が使用可能である。二酸化炭素について言えば、図3に示すように二酸化炭素の超臨界の臨界点(温度,圧力)は31.1℃,7.38MPaであり、これを超えた領域が超臨界領域となる。本発明も超臨界領域で脆弱化処理を行うのが好ましいが、この超臨界領域の図中左側に亜臨界領域(図示略)が存在し、この亜臨界領域における物性は超臨界領域における物性に近似したものである。従って、亜臨界領域の二酸化炭素でも、樹脂中に溶け込みこれを脆弱化(破壊)することが可能である。また、エチレンの超臨界の臨界点は9.2℃,5.0MPaであり、亜酸化窒素の超臨界の臨界点は36.4℃,7.24MPaである。二酸化炭素,エチレン又は亜酸化窒素の物質の中で、臨界点の温度,圧力を考慮すると、二酸化炭素が最も適切である。すなわち、二酸化炭素は、超臨界状態に移行する臨界点が低いことにより容易に超臨界状態とできることと、二酸化炭素は、通常の大気中に存在し、不燃性で取扱いが容易であると共に、低コストに製造できることとから、本実施例では最適として採用している。   As the substance G for generating a supercritical fluid, ethylene or nitrous oxide can be used in addition to carbon dioxide. Regarding carbon dioxide, as shown in FIG. 3, the supercritical critical point (temperature, pressure) of carbon dioxide is 31.1 ° C. and 7.38 MPa, and the region beyond this becomes the supercritical region. In the present invention, the weakening treatment is preferably performed in the supercritical region. However, a subcritical region (not shown) exists on the left side of the supercritical region, and the physical property in the subcritical region is the same as the physical property in the supercritical region. It is an approximation. Therefore, even carbon dioxide in the subcritical region can be dissolved in the resin and weakened (broken). The supercritical critical point of ethylene is 9.2 ° C. and 5.0 MPa, and the supercritical critical point of nitrous oxide is 36.4 ° C. and 7.24 MPa. Of the carbon dioxide, ethylene, and nitrous oxide materials, carbon dioxide is the most appropriate in view of the critical point temperature and pressure. That is, carbon dioxide can be easily changed to a supercritical state because of its low critical point for transition to the supercritical state, and carbon dioxide is present in ordinary air, is nonflammable and easy to handle, and has a low Since it can be manufactured at a low cost, it is adopted as the optimum in this embodiment.

次に、以上説明した図1の液晶回収システムを用いた液晶回収工程の例について、図4(1)〜(12)を参照して説明する。
(1)先ず、チャンバー21の内部空間に廃液晶パネル10を配置する。
(2)次に、圧力開放用のバルブV2をオフ(閉)する。
(3)そして、加圧ポンプP1をオン、逆止め用バルブV1をオンし、ガスボンベ22から二酸化炭素(CO2)を加圧ポンプP1でチャンバー21の内部空間に注入する。
Next, an example of a liquid crystal recovery process using the liquid crystal recovery system of FIG. 1 described above will be described with reference to FIGS.
(1) First, the waste liquid crystal panel 10 is disposed in the internal space of the chamber 21.
(2) Next, the pressure release valve V2 is turned off (closed).
(3) Then, the pressure pump P1 is turned on, the check valve V1 is turned on, and carbon dioxide (CO2) is injected from the gas cylinder 22 into the internal space of the chamber 21 by the pressure pump P1.

(4)図示しない圧力計により、チャンバー21内の圧力Pが計測され、その計測データは制御装置30に入力される。制御装置30は、チャンバー21内の圧力Pが二酸化炭素の臨界点の圧力7.38MPa以上、即ちP≧7.38MPa になったら、加圧ポンプP1をオフ、逆止め用バルブV1をオフする。   (4) The pressure P in the chamber 21 is measured by a pressure gauge (not shown), and the measurement data is input to the control device 30. When the pressure P in the chamber 21 is equal to or higher than the critical point pressure of carbon dioxide of 7.38 MPa, that is, P ≧ 7.38 MPa, the control device 30 turns off the pressurizing pump P1 and turns off the check valve V1.

(5)続いて、チャンバー加熱用のヒータ23をオンして、チャンバー21の加圧された内部空間を加熱する。
(6)そのとき、図示しない温度計により、チャンバー21内の温度Tが計測され、その計測データは制御装置30に入力される。制御装置30は、チャンバー21内の温度Tが二酸化炭素の臨界点の温度31.1℃以上、即ちT≧31.1℃ になったら、ヒータ23をオフにする。このときのチャンバー21内の状態は、二酸化炭素による超臨界流体の状態となっている。
(5) Subsequently, the chamber heating heater 23 is turned on to heat the pressurized internal space of the chamber 21.
(6) At that time, the temperature T in the chamber 21 is measured by a thermometer (not shown), and the measurement data is input to the control device 30. The controller 30 turns off the heater 23 when the temperature T in the chamber 21 is 31.1 ° C. or higher, that is, T ≧ 31.1 ° C., which is the critical point of carbon dioxide. The state in the chamber 21 at this time is a supercritical fluid state of carbon dioxide.

(7)そして、(6)で生成した超臨界流体状態のまま、所定時間(0〜20分)待つ。これによって、超臨界流体状態の二酸化炭素が廃液晶パネル10のシール樹脂に溶け込むのを待つ。
(8)所定時間後、圧力開放用バルブV2をオン(開)し、チャンバー21内を常圧、即ち大気圧に開放する。これによって、廃液晶パネル10のシール樹脂中に溶け込んでいる二酸化炭素が抜け出し、シール材7が脆弱化(破壊)する。その結果、図2(a)に示すようにシール材7に貫通孔7cが形成される。
(9)次に、減圧ポンプP2をオンし、所定圧(0.01〜10kPa)まで減圧する。
(7) Then, a predetermined time (0 to 20 minutes) is waited in the supercritical fluid state generated in (6). This waits for the carbon dioxide in the supercritical fluid state to dissolve in the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10.
(8) After a predetermined time, the pressure release valve V2 is turned on (opened), and the inside of the chamber 21 is opened to normal pressure, that is, atmospheric pressure. As a result, carbon dioxide dissolved in the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10 escapes, and the sealing material 7 becomes weak (broken). As a result, a through hole 7c is formed in the sealing material 7 as shown in FIG.
(9) Next, the decompression pump P2 is turned on, and the pressure is reduced to a predetermined pressure (0.01 to 10 kPa).

(10)さらに、チャンバー加熱用のヒータ23をオンして、チャンバー21の減圧空間を所定温度、例えば200℃まで加熱する。これにより、廃液晶パネル10のシール樹脂の貫通孔7cを通して、図2(b)に示すように廃液晶パネル10内の液晶(LC)が気化し、チャンバー21から排出される。この気化した液晶をバルブV2を経て凝集手段である回収装置24で冷却・凝集して回収する。この減圧状態での加熱は、実験的に求めた所定の時間だけ行う。
この期間には、同時に、液晶を凝集・分離した後のガスを活性炭フィルタ25にて清浄化(無害化)して大気中へ排出する。
(10) Further, the heater 23 for heating the chamber is turned on to heat the decompressed space of the chamber 21 to a predetermined temperature, for example, 200 ° C. Thereby, the liquid crystal (LC) in the waste liquid crystal panel 10 is vaporized and discharged from the chamber 21 through the through hole 7c of the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10 as shown in FIG. The vaporized liquid crystal is recovered by cooling and aggregating through a valve V2 by a recovery device 24 that is an aggregating means. The heating in the reduced pressure state is performed for a predetermined time obtained experimentally.
During this period, at the same time, the gas after the liquid crystal is condensed and separated is cleaned (detoxified) by the activated carbon filter 25 and discharged into the atmosphere.

(11)そして、減圧ポンプP2をオフ、ヒータ23をオフし、液晶の抽出・回収を終了させる。
(12)その後、チャンバー21から液晶なしの廃パネルを取り出す。
(11) Then, the decompression pump P2 is turned off, the heater 23 is turned off, and the liquid crystal extraction / recovery is terminated.
(12) Thereafter, the waste panel without liquid crystal is taken out from the chamber 21.

本発明の第1の実施形態によれば、反応容器内に廃液晶パネルを配置した状態で、反応容器内へ超臨界流体生成用の物質を供給して加圧・加熱することで超臨界流体を生成し、超臨界流体をシール樹脂部分に溶け込ませた後、反応容器内の圧力を開放することによって廃液晶パネルのシール樹脂を脆弱化(破壊)する。その後に、減圧加熱処理を行うことによって廃液晶パネル内から液晶を気化して抽出し、気化した液晶を凝集手段によって回収することができる。これらの一連の動作は、制御装置30の制御によって自動的に行うことができる。従って、廃液晶パネルの樹脂部分を効果的に脆弱化させ、しかも減圧加熱の処理温度を液晶の揮発する温度程度に下げることができ、液晶を有害物質に変化させることなく、効率的且つ安全に回収することが可能となる。   According to the first embodiment of the present invention, with the waste liquid crystal panel disposed in the reaction vessel, the supercritical fluid is generated by supplying the material for generating the supercritical fluid into the reaction vessel and pressurizing and heating it. After the supercritical fluid is dissolved in the seal resin portion, the pressure in the reaction vessel is released to weaken (break) the seal resin of the waste liquid crystal panel. Thereafter, the liquid crystal is vaporized and extracted from the waste liquid crystal panel by performing a heat treatment under reduced pressure, and the vaporized liquid crystal can be collected by the aggregating means. A series of these operations can be automatically performed under the control of the control device 30. Therefore, the resin part of the waste liquid crystal panel can be effectively weakened, and the processing temperature of the reduced pressure heating can be lowered to the temperature at which the liquid crystal volatilizes, and the liquid crystal can be efficiently and safely changed to a harmful substance. It becomes possible to collect.

(第2の実施形態)
図7は本発明の第2の実施形態の液晶回収システムの構成を概略的に示す図である。
図7に示す液晶回収システム20Aは、第1の実施形態の液晶回収システムに、第2の圧力開放手段である圧力開放用バルブV3と、減圧ポンプP3と、液化装置27とから構成される、二酸化炭素の回収及び再利用を行うリサイクル系を追加したシステムとしたものである。
(Second Embodiment)
FIG. 7 is a diagram schematically showing the configuration of the liquid crystal recovery system according to the second embodiment of the present invention.
A liquid crystal recovery system 20A shown in FIG. 7 includes the pressure release valve V3 as a second pressure release means, a decompression pump P3, and a liquefaction device 27 in the liquid crystal recovery system of the first embodiment. This is a system with an added recycling system that collects and reuses carbon dioxide.

すなわち、チャンバー21に配管を接続して圧力開放用バルブV3を配設し、圧力開放用バルブV3のオン、減圧ポンプP3のオンによってチャンバー21内の超臨界二酸化炭素が大気圧に開放されたとき、二酸化炭素に含まれて拡散する液晶を回収装置26で冷却して回収(除去)する一方、前記大気圧開放によって導かれた二酸化炭素を液化装置27で圧力をかけて液化して回収し、前記ガスボンベ22に再貯留するリサイクル系を設けたものである。   That is, when a pressure relief valve V3 is provided by connecting a pipe to the chamber 21, and the supercritical carbon dioxide in the chamber 21 is released to atmospheric pressure by turning on the pressure relief valve V3 and turning on the pressure reducing pump P3. The liquid crystal contained in carbon dioxide diffuses and is recovered (removed) by cooling with the recovery device 26, while the carbon dioxide guided by the release of the atmospheric pressure is liquefied and recovered by applying pressure with the liquefier 27, The gas cylinder 22 is provided with a recycle system for re-storage.

制御装置30Aは、第1の実施形態の場合と同様に、温度や圧力などの各種センサ(図示せず)からの計測データが入力されると共に、加圧ポンプP1及び減圧ポンプP2のオンオフ制御、逆止め用バルブV1及び圧力開放用バルブV2のオンオフ(開閉)制御、ヒータ23の温度制御を行う一方、圧力開放用バルブV3のオンオフ(開閉)制御、及び減圧ポンプP3のオンオフ制御を行う機能を備えたものである。   As in the case of the first embodiment, the control device 30A receives measurement data from various sensors (not shown) such as temperature and pressure, and on / off control of the pressure pump P1 and the pressure reduction pump P2. On-off (open / close) control of the check valve V1 and pressure release valve V2 and temperature control of the heater 23, while on / off (open / close) control of the pressure release valve V3 and on / off control of the decompression pump P3 are performed. It is provided.

次に、以上説明した図7の液晶回収システムを用いた液晶回収工程の例について、図8(1)〜(12)及び(8’),(8'')を参照して説明する。   Next, an example of a liquid crystal recovery process using the liquid crystal recovery system of FIG. 7 described above will be described with reference to FIGS. 8 (1) to (12), (8 ′), and (8 ″).

(1)先ず、チャンバー21の内部空間に廃液晶パネル10を配置する。
(2)次に、圧力開放用のバルブV2、V3をオフ(閉)する。
(3)そして、加圧ポンプP1をオン、逆止め用バルブV1をオンし、ガスボンベ22から二酸化炭素(CO2)を加圧ポンプP1でチャンバー21の内部空間に注入する。
(1) First, the waste liquid crystal panel 10 is disposed in the internal space of the chamber 21.
(2) Next, the pressure release valves V2 and V3 are turned off (closed).
(3) Then, the pressure pump P1 is turned on, the check valve V1 is turned on, and carbon dioxide (CO2) is injected from the gas cylinder 22 into the internal space of the chamber 21 by the pressure pump P1.

(4)図示しない圧力計により、チャンバー21内の圧力Pが計測され、その計測データは制御装置30Aに入力される。制御装置30Aは、チャンバー21内の圧力Pが二酸化炭素の臨界点の圧力7.38MPa以上、即ちP≧7.38MPa になったら、加圧ポンプP1をオフ、逆止め用バルブV1をオフする。
(5)続いて、チャンバー加熱用のヒータ23をオンして、チャンバー21の加圧された内部空間を加熱する。
(4) The pressure P in the chamber 21 is measured by a pressure gauge (not shown), and the measurement data is input to the control device 30A. The control device 30A turns off the pressurizing pump P1 and turns off the check valve V1 when the pressure P in the chamber 21 is 7.38 MPa or more at the critical point of carbon dioxide, that is, P ≧ 7.38 MPa.
(5) Subsequently, the chamber heating heater 23 is turned on to heat the pressurized internal space of the chamber 21.

(6)そのとき、図示しない温度計により、チャンバー21内の温度Tが計測され、その計測データは制御装置30Aに入力される。制御装置30Aは、チャンバー21内の温度Tが二酸化炭素の臨界点の温度31.1℃以上、即ちT≧31.1℃ になったら、ヒータ23をオフにする。このときのチャンバー21内の状態は、二酸化炭素による超臨界流体の状態となっている。
(7)そして、(6)で生成した超臨界流体状態のまま、所定時間(0〜20分)待つ。これによって、超臨界流体状態の二酸化炭素が廃液晶パネル10のシール樹脂に溶け込むのを待つ。
(6) At that time, the temperature T in the chamber 21 is measured by a thermometer (not shown), and the measurement data is input to the control device 30A. The controller 30A turns off the heater 23 when the temperature T in the chamber 21 is 31.1 ° C. or higher, that is, T ≧ 31.1 ° C., which is the critical point of carbon dioxide. The state in the chamber 21 at this time is a supercritical fluid state of carbon dioxide.
(7) Then, a predetermined time (0 to 20 minutes) is waited in the supercritical fluid state generated in (6). This waits for the carbon dioxide in the supercritical fluid state to dissolve in the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10.

(8)所定時間後、圧力開放用バルブV3をオン(開)し、チャンバー21内を常圧、即ち大気圧に開放する。これによって、廃液晶パネル10のシール樹脂中に溶け込んでいる二酸化炭素が抜け出し、シール材7が脆弱化(破壊)する。その結果、図2(a)に示すようにシール材7に貫通孔7cが形成される。   (8) After a predetermined time, the pressure release valve V3 is turned on (opened), and the inside of the chamber 21 is opened to normal pressure, that is, atmospheric pressure. As a result, carbon dioxide dissolved in the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10 escapes, and the sealing material 7 becomes weak (broken). As a result, a through-hole 7c is formed in the sealing material 7 as shown in FIG.

(8’)圧力開放用バルブV3をオン(開)すると同時に、チャンバー21内の圧力を開放し且つ減圧ポンプP3をオンにして、大気圧まで一気に減圧する。この圧力開放及び減圧吸引によって導かれた二酸化炭素を液化装置27に導き圧力をかけて液化して回収し、供給源としての前記ガスボンベ22にフィードバックして再貯留し、再利用(リサイクル)する。この際、二酸化炭素に溶け出した液晶が存在すれば回収装置26で冷却・凝集して回収可能である。   (8 ') At the same time as the pressure release valve V3 is turned on (opened), the pressure in the chamber 21 is released and the pressure reducing pump P3 is turned on to reduce the pressure to atmospheric pressure at once. The carbon dioxide led by the pressure release and the suction under reduced pressure is led to the liquefaction device 27 to be liquefied and recovered, fed back to the gas cylinder 22 as a supply source, re-stored, and reused (recycled). At this time, if there is liquid crystal dissolved in carbon dioxide, it can be recovered by cooling and aggregating with the recovery device 26.

(8'')二酸化炭素を回収した後、圧力開放用バルブV3をオフ(閉)、減圧ポンプP3をオフにする。   (8 ″) After recovering carbon dioxide, the pressure release valve V3 is turned off (closed), and the pressure reducing pump P3 is turned off.

(9)次に、圧力開放用バルブV2をオン(開)すると同時に、減圧ポンプP2をオンし、所定圧(0.01〜10kPa)まで減圧する。   (9) Next, simultaneously with turning on (opening) the pressure release valve V2, the decompression pump P2 is turned on and the pressure is reduced to a predetermined pressure (0.01 to 10 kPa).

(10)さらに、チャンバー加熱用のヒータ23をオンして、チャンバー21の減圧空間を所定温度、例えば200℃まで加熱する。これにより、廃液晶パネル10のシール樹脂の貫通孔7cを通して、図2(b)に示すように廃液晶パネル10内の液晶(LC)が気化し、チャンバー21から排出される。この気化した液晶をバルブV2を経て凝集手段である回収装置24で冷却・凝集して回収する。この減圧状態での加熱は、実験的に求めた所定の時間だけ行う。
この期間には、同時に、液晶を凝集・分離した後のガスを活性炭フィルタ25にて清浄化(無害化)して大気中へ排出する。
(10) Further, the heater 23 for heating the chamber is turned on to heat the decompressed space of the chamber 21 to a predetermined temperature, for example, 200 ° C. Thereby, the liquid crystal (LC) in the waste liquid crystal panel 10 is vaporized and discharged from the chamber 21 through the through hole 7c of the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10 as shown in FIG. The vaporized liquid crystal is recovered by cooling and aggregating through a valve V2 by a recovery device 24 that is an aggregating means. The heating in the reduced pressure state is performed for a predetermined time obtained experimentally.
During this period, at the same time, the gas after the liquid crystal is condensed and separated is cleaned (detoxified) by the activated carbon filter 25 and discharged into the atmosphere.

(11)そして、減圧ポンプP2をオフ、ヒータ23をオフし、液晶の抽出・回収を終了させる。
(12)その後、チャンバー21から液晶なしの廃パネルを取り出す。
本発明の第2の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な作用効果を有すると共に、第1の実施形態における第1の圧力開放手段にて圧力を開放すると同時に、第2の圧力開放手段にて大気圧に圧力を開放し、そのとき前記反応容器から流出する超臨界流体から超臨界流体生成用の物質を凝集して回収し再利用(リサイクル)する構成としたので、被処理物である廃液晶パネルから液晶を回収できる一方、樹脂部分の脆弱化に用いる超臨界流体生成用の物質をも回収・再利用することが可能となる。
(11) Then, the decompression pump P2 is turned off, the heater 23 is turned off, and the liquid crystal extraction / recovery is terminated.
(12) Thereafter, the waste panel without liquid crystal is taken out from the chamber 21.
According to the second embodiment of the present invention, the same effect as the first embodiment is obtained, and at the same time the second pressure is released by the first pressure release means in the first embodiment. Since the pressure is released to atmospheric pressure by the opening means, and the supercritical fluid generating substance is agglomerated and collected from the supercritical fluid flowing out from the reaction vessel at that time, it is configured to be reused (recycled). While the liquid crystal can be recovered from the waste liquid crystal panel, which is a waste, it is also possible to recover and reuse the supercritical fluid generating material used to weaken the resin part.

(第3の実施形態)
図9は本発明の第3の実施形態の液晶回収システムの構成を概略的に示す図である。
図9に示す液晶回収システム20Bは、第1の実施形態の液晶回収システムに、減圧ポンプP3と、液化装置27とから構成される、二酸化炭素の回収及び再利用を行うリサイクル系を追加したシステムとしたものである。
(Third embodiment)
FIG. 9 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid crystal recovery system according to the third embodiment of the present invention.
A liquid crystal recovery system 20B shown in FIG. 9 is a system in which a recycling system for recovering and reusing carbon dioxide, which includes a decompression pump P3 and a liquefaction device 27, is added to the liquid crystal recovery system of the first embodiment. It is what.

すなわち、チャンバー21に配管を接続して圧力開放用バルブV3を配設し、圧力開放開放用バルブV2のオン、減圧ポンプP3のオンによってチャンバー21内の超臨界二酸化炭素が大気圧に開放されたとき、この圧力開放及び減圧吸引によって導かれた二酸化炭素を回収装置24を介して液化装置27に導き圧力をかけて液化して回収し、前記ガスボンベ22に再貯留するリサイクル系を設けたものである。   That is, a pipe is connected to the chamber 21 and a pressure release valve V3 is provided. The supercritical carbon dioxide in the chamber 21 is released to the atmospheric pressure by turning on the pressure release valve V2 and turning on the decompression pump P3. At this time, carbon dioxide led by the pressure release and vacuum suction is led to the liquefaction device 27 via the recovery device 24 to be liquefied and recovered by applying pressure, and a recycling system is provided for re-reserving in the gas cylinder 22. is there.

制御装置30Bは、第1の実施形態の場合と同様に、温度や圧力などの各種センサ(図示せず)からの計測データが入力されると共に、加圧ポンプP1及び減圧ポンプP2のオンオフ制御、逆止め用バルブV1及び圧力開放用バルブV2のオンオフ(開閉)制御、ヒータ23の温度制御を行う一方、減圧ポンプP3のオンオフ制御を行う機能を備えたものである。   As in the case of the first embodiment, the control device 30B receives measurement data from various sensors (not shown) such as temperature and pressure, and on / off control of the pressure pump P1 and the pressure reduction pump P2. It has a function of performing on / off control of the non-return valve V1 and pressure release valve V2 and temperature control of the heater 23, and on / off control of the decompression pump P3.

次に、以上説明した図9の液晶回収システムを用いた液晶回収工程の例について、図10(1)〜(12)及び(8’),(8'')を参照して説明する。   Next, an example of a liquid crystal recovery process using the liquid crystal recovery system of FIG. 9 described above will be described with reference to FIGS. 10 (1) to (12), (8 '), and (8' ').

(1)先ず、チャンバー21の内部空間に廃液晶パネル10を配置する。
(2)次に、圧力開放用のバルブV2をオフ(閉)する。
(3)そして、加圧ポンプP1をオン、逆止め用バルブV1をオンし、ガスボンベ22から二酸化炭素(CO2)を加圧ポンプP1でチャンバー21の内部空間に注入する。
(1) First, the waste liquid crystal panel 10 is disposed in the internal space of the chamber 21.
(2) Next, the pressure release valve V2 is turned off (closed).
(3) Then, the pressure pump P1 is turned on, the check valve V1 is turned on, and carbon dioxide (CO2) is injected from the gas cylinder 22 into the internal space of the chamber 21 by the pressure pump P1.

(4)図示しない圧力計により、チャンバー21内の圧力Pが計測され、その計測データは制御装置30Bに入力される。制御装置30Bは、チャンバー21内の圧力Pが二酸化炭素の臨界点の圧力7.38MPa以上、即ちP≧7.38MPa になったら、加圧ポンプP1をオフ、逆止め用バルブV1をオフする。
(5)続いて、チャンバー加熱用のヒータ23をオンして、チャンバー21の加圧された内部空間を加熱する。
(4) The pressure P in the chamber 21 is measured by a pressure gauge (not shown), and the measurement data is input to the control device 30B. The control device 30B turns off the pressurizing pump P1 and turns off the check valve V1 when the pressure P in the chamber 21 is equal to or higher than the pressure 7.38 MPa at the critical point of carbon dioxide, that is, P ≧ 7.38 MPa.
(5) Subsequently, the chamber heating heater 23 is turned on to heat the pressurized internal space of the chamber 21.

(6)そのとき、図示しない温度計により、チャンバー21内の温度Tが計測され、その計測データは制御装置30Bに入力される。制御装置30Bは、チャンバー21内の温度Tが二酸化炭素の臨界点の温度31.1℃以上、即ちT≧31.1℃ になったら、ヒータ23をオフにする。このときのチャンバー21内の状態は、二酸化炭素による超臨界流体の状態となっている。
(7)そして、(6)で生成した超臨界流体状態のまま、所定時間(0〜20分)待つ。これによって、超臨界流体状態の二酸化炭素が廃液晶パネル10のシール樹脂に溶け込むのを待つ。
(6) At that time, the temperature T in the chamber 21 is measured by a thermometer (not shown), and the measurement data is input to the control device 30B. The control device 30B turns off the heater 23 when the temperature T in the chamber 21 is 31.1 ° C. or higher, ie, T ≧ 31.1 ° C., which is the critical point temperature of carbon dioxide. The state in the chamber 21 at this time is a supercritical fluid state of carbon dioxide.
(7) Then, a predetermined time (0 to 20 minutes) is waited in the supercritical fluid state generated in (6). This waits for the carbon dioxide in the supercritical fluid state to dissolve in the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10.

(8)所定時間後、圧力開放用バルブV2をオン(開)し、チャンバー21内を常圧、即ち大気圧に開放する。これによって、廃液晶パネル10のシール樹脂中に溶け込んでいる二酸化炭素が抜け出し、シール材7が脆弱化(破壊)する。その結果、図2(a)に示すようにシール材7に貫通孔7cが形成される。   (8) After a predetermined time, the pressure release valve V2 is turned on (opened), and the inside of the chamber 21 is opened to normal pressure, that is, atmospheric pressure. As a result, carbon dioxide dissolved in the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10 escapes, and the sealing material 7 becomes weak (broken). As a result, a through-hole 7c is formed in the sealing material 7 as shown in FIG.

(8’)圧力開放用バルブV2をオン(開)すると同時に、チャンバー21内の圧力を開放し且つ減圧ポンプP3をオンにして、大気圧まで一気に減圧する。この圧力開放及び減圧吸引によって導かれた二酸化炭素を回収装置24を介して液化装置27に導き圧力をかけて液化して回収し、供給源としての前記ガスボンベ22にフィードバックして再貯留し、再利用(リサイクル)する。この際、二酸化炭素に溶け出した液晶が存在すれば回収装置24で冷却・凝集して回収可能である。   (8 ') At the same time that the pressure release valve V2 is turned on (opened), the pressure in the chamber 21 is released and the pressure reducing pump P3 is turned on to reduce the pressure to atmospheric pressure at once. The carbon dioxide led by this pressure release and vacuum suction is led to the liquefaction device 27 via the recovery device 24, liquefied and recovered by applying pressure, fed back to the gas cylinder 22 as a supply source, and re-stored. Use (recycle). At this time, if there is liquid crystal dissolved in carbon dioxide, it can be recovered by cooling and aggregating with the recovery device 24.

(8'')二酸化炭素を回収した後、減圧ポンプP3をオフにする。   (8 ″) After recovering the carbon dioxide, the decompression pump P3 is turned off.

(9)次に、減圧ポンプP2をオンし、所定圧(0.01〜10kPa)まで減圧する。   (9) Next, the decompression pump P2 is turned on and the pressure is reduced to a predetermined pressure (0.01 to 10 kPa).

(10)さらに、チャンバー加熱用のヒータ23をオンして、チャンバー21の減圧空間を所定温度、例えば200℃まで加熱する。これにより、廃液晶パネル10のシール樹脂の貫通孔7cを通して、図2(b)に示すように廃液晶パネル10内の液晶(LC)が気化し、チャンバー21から排出される。この気化した液晶をバルブV2を経て凝集手段である回収装置24で冷却・凝集して回収する。この減圧状態での加熱は、実験的に求めた所定の時間だけ行う。
この期間には、同時に、液晶を凝集・分離した後のガスを活性炭フィルタ25にて清浄化(無害化)して大気中へ排出する。
(10) Further, the heater 23 for heating the chamber is turned on to heat the decompressed space of the chamber 21 to a predetermined temperature, for example, 200 ° C. Thereby, the liquid crystal (LC) in the waste liquid crystal panel 10 is vaporized and discharged from the chamber 21 through the through hole 7c of the sealing resin of the waste liquid crystal panel 10 as shown in FIG. The vaporized liquid crystal is recovered by cooling and aggregating through a valve V2 by a recovery device 24 that is an aggregating means. The heating in the reduced pressure state is performed for a predetermined time obtained experimentally.
During this period, at the same time, the gas after the liquid crystal is condensed and separated is cleaned (detoxified) by the activated carbon filter 25 and discharged into the atmosphere.

(11)そして、減圧ポンプP2をオフ、ヒータ23をオフし、液晶の抽出・回収を終了させる。
(12)その後、チャンバー21から液晶なしの廃パネルを取り出す。
本発明の第3の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な作用効果を有すると共に、第1の実施形態における第1の圧力開放手段にて圧力を開放すると同時に、前記反応容器から流出する超臨界流体から超臨界流体生成用の物質を凝集して回収し再利用(リサイクル)する構成としたので、被処理物である廃液晶パネルから液晶を回収できる一方、樹脂部分の脆弱化に用いる超臨界流体生成用の物質をも回収・再利用することが可能となる。
(11) Then, the decompression pump P2 is turned off, the heater 23 is turned off, and the liquid crystal extraction / recovery is terminated.
(12) Thereafter, the waste panel without liquid crystal is taken out from the chamber 21.
According to the third embodiment of the present invention, the same effect as the first embodiment is obtained, and at the same time the pressure is released by the first pressure release means in the first embodiment, and at the same time, the reaction vessel The supercritical fluid generation substance is aggregated, recovered, and reused (recycled) from the flowing supercritical fluid, so that liquid crystal can be recovered from the waste liquid crystal panel that is the object to be processed, while the resin part is weakened. It is also possible to recover and reuse the supercritical fluid generating material used in the process.

本発明では、封止口有り,封止口無しのどちらのタイプの液晶パネルを用いた製品に対しても、有害物質の発生を無くした状態で液晶を有害物質に変えることなくそのままの形で抽出して回収することが可能となり、液晶回収時の安全性及び品質を高め、或いは液晶を無害化する上での安全性を高めた回収システムを実現できるものである。   In the present invention, for products using liquid crystal panels with or without a sealing port, the liquid crystal can be used as it is without changing to a hazardous material in a state where no harmful substances are generated. It is possible to extract and collect, and it is possible to improve the safety and quality at the time of liquid crystal recovery, or to realize a recovery system with increased safety in detoxifying the liquid crystal.

本発明の第1の実施形態の液晶回収システムの構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the liquid-crystal collection | recovery system of the 1st Embodiment of this invention. 液晶回収前のシール樹脂脆弱化、及び液晶抽出を説明する説明図。Explanatory drawing explaining the sealing resin weakening before liquid crystal collection | recovery, and liquid crystal extraction. 二酸化炭素の臨界点を示す状態図。The state diagram which shows the critical point of a carbon dioxide. 第1の実施形態の液晶回収システムを用いた液晶回収工程を示す図。The figure which shows the liquid-crystal collection | recovery process using the liquid-crystal collection | recovery system of 1st Embodiment. 一般的な廃液晶パネルの縦断面図。The longitudinal cross-sectional view of a general waste liquid crystal panel. 封口タイプの液晶パネルを示す図。The figure which shows a sealing type liquid crystal panel. 本発明の第2の実施形態の液晶回収システムの構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the liquid-crystal collection | recovery system of the 2nd Embodiment of this invention. 第2の実施形態の液晶回収システムを用いた液晶回収工程を示す図。The figure which shows the liquid-crystal collection | recovery process using the liquid-crystal collection | recovery system of 2nd Embodiment. 本発明の第3の実施形態の液晶回収システムの構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the liquid-crystal collection | recovery system of the 3rd Embodiment of this invention. 第3の実施形態の液晶回収システムを用いた液晶回収工程を示す図。The figure which shows the liquid-crystal collection | recovery process using the liquid-crystal collection | recovery system of 3rd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10…廃液晶パネル、20…液晶回収システム、21…チャンバー(反応容器)、22…ガスボンベ、23…ヒータ(加熱手段)、24…回収装置(凝集手段)、27…液化装置、P1…加圧ポンプ、P2…減圧ポンプ、V1…逆止め用バルブ、V2…圧力開放用バルブ(第1の圧力開放手段)、V3…圧力開放用バルブ(第2の圧力開放手段)、P3…減圧ポンプ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Waste liquid crystal panel, 20 ... Liquid crystal recovery system, 21 ... Chamber (reaction vessel), 22 ... Gas cylinder, 23 ... Heater (heating means), 24 ... Recovery device (aggregation means), 27 ... Liquefaction device, P1 ... Pressurization Pump, P2 ... decompression pump, V1 ... check valve, V2 ... pressure release valve (first pressure release means), V3 ... pressure release valve (second pressure release means), P3 ... pressure reduction pump.

Claims (10)

超臨界流体生成用の物質を供給する供給源と、
内部に廃液晶パネルを配置可能とする反応容器と、
前記供給源より前記反応容器内に供給された前記物質から超臨界流体を生成する超臨界流体生成手段とを具備し、
前記廃液晶パネルの樹脂部分を前記超臨界流体によって脆弱化して液晶を抽出することを特徴とする廃液晶パネル処理装置。
A source for supplying a material for generating a supercritical fluid;
A reaction vessel capable of disposing a waste liquid crystal panel inside;
A supercritical fluid generating means for generating a supercritical fluid from the substance supplied into the reaction vessel from the supply source,
A waste liquid crystal panel processing apparatus for extracting liquid crystal by weakening a resin portion of the waste liquid crystal panel with the supercritical fluid.
前記超臨界流体生成用の物質は、二酸化炭素,エチレン又は亜酸化窒素であることを特徴とする請求項1に記載の廃液晶パネル処理装置。   The waste liquid crystal panel processing apparatus according to claim 1, wherein the supercritical fluid generating substance is carbon dioxide, ethylene, or nitrous oxide. 超臨界流体生成用の物質を供給する供給源と、
内部に廃液晶パネルを配置可能とする反応容器と、
前記供給源より前記反応容器内に供給された前記物質から超臨界流体を生成する超臨界流体生成手段と、
前記廃液晶パネルから抽出した液晶を凝集させる凝集手段とを具備し、
前記廃液晶パネルの樹脂部分を前記超臨界流体によって脆弱化して前記液晶を抽出することを特徴とする液晶回収システム。
A source for supplying a material for generating a supercritical fluid;
A reaction vessel capable of disposing a waste liquid crystal panel inside;
Supercritical fluid generating means for generating a supercritical fluid from the substance supplied into the reaction vessel from the supply source;
Aggregating means for aggregating the liquid crystal extracted from the waste liquid crystal panel,
A liquid crystal recovery system, wherein the liquid crystal is extracted by weakening a resin portion of the waste liquid crystal panel with the supercritical fluid.
超臨界流体生成用の物質を供給する供給源と、
内部に廃液晶パネルを配置可能とし、前記内部を加熱する手段を有する反応容器と、
前記反応容器の内部の圧力及び温度を高めて、前記供給源より前記反応容器内に供給された前記物質から超臨界流体を生成する超臨界流体生成手段と、
前記反応容器内で前記廃液晶パネルが前記超臨界流体の中におかれた状態で、前記反応容器内の圧力を開放する圧力開放手段と、
前記反応容器内の圧力を開放した後に、前記反応容器内を所定の減圧状態にして加熱する減圧加熱手段と、
前記減圧加熱によって前記廃液晶パネルから抽出した液晶を凝集させる凝集手段と、
を具備したことを特徴とする液晶回収システム。
A source for supplying a material for generating a supercritical fluid;
A reaction vessel having a means for heating the interior, wherein a waste liquid crystal panel can be disposed inside;
A supercritical fluid generating means for increasing the pressure and temperature inside the reaction container to generate a supercritical fluid from the substance supplied into the reaction container from the supply source;
Pressure release means for releasing the pressure in the reaction vessel in a state where the waste liquid crystal panel is placed in the supercritical fluid in the reaction vessel;
Reduced pressure heating means for heating the reaction container to a predetermined reduced pressure after releasing the pressure in the reaction container;
Aggregating means for aggregating the liquid crystal extracted from the waste liquid crystal panel by the reduced pressure heating;
A liquid crystal recovery system comprising:
前記超臨界流体によって、前記廃液晶パネルの樹脂部分を脆弱化して液晶を抽出することを特徴とする請求項3又は4に記載の液晶回収システム。   5. The liquid crystal recovery system according to claim 3, wherein liquid crystal is extracted by weakening a resin portion of the waste liquid crystal panel with the supercritical fluid. 前記超臨界流体生成用の物質は、二酸化炭素,エチレン又は亜酸化窒素であることを特徴とする請求項3ないし請求項5のいずれかに記載の液晶回収システム。   6. The liquid crystal recovery system according to claim 3, wherein the substance for generating a supercritical fluid is carbon dioxide, ethylene, or nitrous oxide. 前記反応容器における減圧加熱を行う前に、該反応容器内の前記超臨界流体の圧力を常圧に開放する第2の圧力開放手段を有し、圧力を開放したとき、前記反応容器から流出する超臨界流体から該超臨界流体生成用の物質を凝集して回収するリサイクル系を、更に具備したことを特徴とする請求項4ないし請求項6のいずれかに記載の液晶回収システム。   Before carrying out the reduced pressure heating in the reaction vessel, it has a second pressure release means for releasing the pressure of the supercritical fluid in the reaction vessel to normal pressure, and when the pressure is released, it flows out of the reaction vessel 7. The liquid crystal recovery system according to claim 4, further comprising a recycle system for aggregating and recovering the supercritical fluid generating substance from the supercritical fluid. 反応容器内で加圧し加熱することによって生成した超臨界流体の中に廃液晶パネルを置いた状態で、該反応容器内の圧力を開放し、該廃液晶パネルを減圧加熱することによって液晶を抽出し回収することを特徴とする液晶回収方法。   With the waste liquid crystal panel placed in the supercritical fluid generated by pressurizing and heating in the reaction vessel, the pressure in the reaction vessel is released, and the waste liquid crystal panel is heated under reduced pressure to extract the liquid crystal. And collecting the liquid crystal. 加熱手段を有し内部に廃液晶パネルを配置した反応容器に、超臨界流体生成用の物質を供給する工程と、
前記反応容器の内部の圧力及び温度を高めて、前記物質の超臨界流体を生成する超臨界流体生成工程と、
前記反応容器内で前記廃液晶パネルが前記超臨界流体の中におかれた状態で、前記反応容器内の圧力を開放する圧力開放工程と、
前記反応容器内の圧力を開放した後に、前記反応容器内を所定の減圧状態にして加熱する減圧加熱工程と、
前記減圧加熱工程によって前記廃液晶パネルから抽出した液晶を凝集させる凝集工程と、
を具備したことを特徴とする液晶回収方法。
Supplying a material for generating a supercritical fluid to a reaction vessel having a heating means and having a waste liquid crystal panel disposed therein;
A supercritical fluid generating step of increasing the pressure and temperature inside the reaction vessel to generate a supercritical fluid of the substance;
A pressure release step of releasing the pressure in the reaction vessel in a state where the waste liquid crystal panel is placed in the supercritical fluid in the reaction vessel;
A reduced pressure heating step of heating the reaction vessel to a predetermined reduced pressure after releasing the pressure in the reaction vessel; and
An aggregation step of aggregating the liquid crystal extracted from the waste liquid crystal panel by the reduced pressure heating step;
A liquid crystal recovery method comprising:
前記超臨界流体によって、前記廃液晶パネルの樹脂部分を脆弱化して液晶を抽出することを特徴とする請求項8又は9に記載の液晶回収方法。
10. The liquid crystal recovery method according to claim 8, wherein the liquid crystal is extracted by weakening a resin portion of the waste liquid crystal panel with the supercritical fluid.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018528853A (en) * 2015-09-03 2018-10-04 セントレ・ナショナル・デ・ラ・レシェルシェ・サイエンティフィーク Method and apparatus for decomposing a multilayer system comprising at least one organic component

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