JP2006527866A - 回折光学系のみを使用して画像を形成する方法および装置 - Google Patents
回折光学系のみを使用して画像を形成する方法および装置 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 24
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 41
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 37
- 230000006335 response to radiation Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 7
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
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- G—PHYSICS
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- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
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- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
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- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4272—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
- G02B27/4277—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path being separated by an air space
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- G—PHYSICS
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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Abstract
方法は、光学的屈折力を有する構造を備えず、光学的回折特性を有するレンズを備えるように画像化レンズセクションを構成し、情景からの放射線をこの画像化レンズセクションを通過させるステップを含んでおり、この画像化レンズセクションは放射線に画像平面において画像を形成させる。装置は、情景からの放射線に応答してこの放射線に画像平面において画像を形成させる画像化レンズセクションを備えており、この画像化レンズセクションは光学的屈折力を有する構造を備えず、光学的回折特性を有するレンズを備えている。
Description
本発明は、一般に、光学系に関し、とくに、入射した放射線に応答して画像を形成する光学系に関する。
入射した放射線に応答して画像を形成することのできる種々の光学系が存在する。これらの光学系のいくつかは、とくに、赤外線を画像化するように構成される。近年、赤外線を画像化する光学系の費用は減少してきている。しかしながら、現在の赤外線画像化光学構造体の費用は依然として非常に高価であるため、競争価格の圧力の強い自動車工業のような大量生産の廉価なマーケットにおいてこれらの構造体を広く使用することは行われていない。
近年赤外線画像化レンズ構造体の費用を減少するために使用されている技術のいくつかには、費用を要する屈折レンズを除去するためにいくつかの(しかし、全てではない)屈折レンズを回折レンズにより置換することが含まれている。さらに、適切な赤外ガラスの使用のようないくつかの素子に対する適切な材料の選択は、塑造または鋳造のようないくつかの大量生産プロセスを使用してレンズを形成することを可能にし、それによって製造費用が減少されている。その結果、赤外線画像化レンズ構造体は屈折光学系と回折光学系とを組合せたものを備えている。このタイプのシステムは一般にそれらの意図された目的に対して適合したものであるが、それらは全ての点において満足できるものではない。
上記の説明から、放射線を画像化することが可能であり、低コストな大量生産が容易である方法および装置が必要とされていることを認識することができる。
本発明の1つの形態は、情景からの放射線に応答してこの放射線に画像平面において画像を形成させる画像化レンズセクションを備えており、この画像化レンズセクションは光学的屈折力を有する構造を備えておらず、光学的回折特性を有するレンズを備えている装置に関する。
本発明の別の形態は、光学的屈折力を有する構造を備えておらず、光学的回折特性を有するレンズを備えるように画像化レンズセクションを構成し、情景からの放射線がこの画像化レンズセクションを通過するようにするステップを含んでおり、この画像化レンズセクションはこの放射線に画像平面において画像を形成させる方法に関する。
本発明は、以下の詳細な説明および添付図面からさらによく認識されるであろう。
図1は、本発明の特徴を使用するレンズ構造体10の概略図である。以下に説明するように、レンズ構造体10は放射線を屈折させることのできる構造を何等備えておらず、その代りに回折構造だけを使用して放射線の画像化を行う。
図1は、本発明の特徴を使用するレンズ構造体10の概略図である。以下に説明するように、レンズ構造体10は放射線を屈折させることのできる構造を何等備えておらず、その代りに回折構造だけを使用して放射線の画像化を行う。
レンズ構造体10は、符号12により概略的に示されている情景により放射された赤外線を受取り、この放射線に影響を与えて画像14を画像平面に形成させる。開示されている実施形態は、8乃至14ミクロンの範囲の波長を有する遠赤外線の画像化を行うように構成されている。しかしながら、本発明はこの特定の波長帯域に制限されず、その代りに、ほぼ3乃至5ミクロンの波長帯域の波長を有する近赤外線、または可視放射線を含む光スペクトルの別の部分における狭帯域放射線の画像化を行うために使用されることが可能であるが、それに限定されない。
レンズ構造体10は、レンズ素子16および17の形態の2個のレンズを備えている。開示されている実施形態において、レンズ素子16および17はそれぞれシリコンから形成されている。しかしながら、それらはその代りに、赤外線ポリマーまたは赤外線ポリマーとシリコンの組合せを含む任意の他の適切な材料から形成されることができるが、それに限定されない。上述したように、開示されている実施形態は、遠赤外線波長帯域内の放射線の画像化を行うように構成されているが、しかし別の波長帯域内での使用に適応可能である。各レンズ素子に対して使用される特定の材料は、その素子が使用されている特定の波長帯域に依存することが認識されるであろう。
情景12に最も近い各レンズ素子16または17の側面はここでは、その第1の表面または前面と呼ばれており、また、各レンズ素子16または17の反対側はここでは、その第2の表面または後面と呼ばれている。レンズ素子16はその後面に回折表面21を備えており、レンズ素子17はその後面に回折表面22を備えている。
上述したように、開示されている実施形態におけるレンズ素子16および17は、シリコンから形成されている。各レンズ素子16または17の後面上の回折表面21または22は、レンズ素子の材料をエッチングするか、あるいはその代りに、レンズ素子の材料をエンボス加工処理することにより形成されている。回折表面21および22を形成するのに適したエッチングおよびエンボス加工技術は技術的に知られており、したがってここでは詳細には説明しない。エッチングおよびエンボス加工技術の使用による回折表面の形成は、レンズ素子16および17がそれぞれ、低コストで大量生産により正確に効率的に製造されることを可能にする。
レンズ素子16の前面には、ダイヤモンド状のカーボン(DLC)コーティング41が設けられている。適切なDLCコーティング材料は技術的によく知られている。開示されている実施形態においては、DLCコーティング41は技術的に知られているタイプの多層コーティングであり、したがってここでは詳細には説明しない。DLCコーティング41は、レンズ素子16を外部環境によるひっかき傷その他の損傷から保護する硬質コーティングである。コーティング41をレンズ素子16上に設けることにより、レンズ構造体10は、情景12とレンズ素子16との間に配置された別体の保護的な非画像化ウインドウ素子を有する必要がなくなり、それによってレンズ構造体10全体の費用が減少する。
レンズ素子17の前面上には、バンドパスフィルタコーティング43が設けられる。このバンドパスフィルタコーティング43は関心を払われている特定の波長帯域内の放射線以外の放射線を除去する狭帯域通過フィルタとして機能し、開示されている実施形態において特定の波長帯域内の放射線は8乃至14ミクロンである。バンドパスフィルタコーティング43は実際には多くの個別の層を含んでいるが、しかしこのフィルタコーティング43の構造は技術的に知られているので、それらは別々に示されていない。
回折表面であるレンズ素子16および17のそれぞれの後面21および22上には、既知のタイプの反射防止(AR)コーティング46および47が設けられている。このARコーティング46および47は、これらの表面が被覆されないままにされた場合に望ましくない反射の結果生じるエネルギ損失を減少させるのを助ける。とくに、ARコーティングはフレネル反射損失を低下させ、レンズ素子16および17の透過率を上昇させる。開示されている実施形態において、ARコーティング46および47はそれぞれ、既知のタイプの単一層コーティングであるが、しかしその代りに、多層ARコーティングを使用することができる。
レンズ構造体10のいくつかの特定の特性を表1に示す。表1においては、長さディメンションとはDLCコーティング41から画像14までの距離のことである。動作の波長範囲内の動作のフラクショナル帯域幅は以下の公式によって規定される:
(λ1−λ2)/((λ1+λ2)/2)
たとえば、動作の波長範囲が8ミクロン乃至14ミクロンである場合、この公式中のλ1が14ミクロンであり、λ2が8ミクロンである。
表 1
特 性
視野 25度
実効焦点距離 23mm
F/数 F/1
素子の総数 2
平坦な表面 4
回折表面 2
非球面 0
基板材料 シリコン
長さ 1.75インチ
フラクショナル帯域幅 0.2ミクロン
動作波長範囲 8乃至14ミクロン
(λ1−λ2)/((λ1+λ2)/2)
たとえば、動作の波長範囲が8ミクロン乃至14ミクロンである場合、この公式中のλ1が14ミクロンであり、λ2が8ミクロンである。
表 1
特 性
視野 25度
実効焦点距離 23mm
F/数 F/1
素子の総数 2
平坦な表面 4
回折表面 2
非球面 0
基板材料 シリコン
長さ 1.75インチ
フラクショナル帯域幅 0.2ミクロン
動作波長範囲 8乃至14ミクロン
表2にはレンズ素子16および17のいくつかの基本的なパラメータが示されており、ここでR1はレンズに到達した放射線により照射される第1の面または前面をさし、R2は放射線により照射される第2の面または後面を意味する。
表3には、開示されている実施形態のレンズ素子16および17に対する正確なレンズパラメータが示されており、これには半径、中心の厚さ、エアギャップ、非球面係数および回折表面パラメータが含まれている。表3中の情報は、カリフォルニア州パサデナのオプティカルリサーチアソシエイツ社から登録商標名CodeVとして販売されているプログラムのような光学設計ソフトウェアプログラムに対する入力として適切なフォーマットで示されている。
図1の実施形態において、レンズ16の回折表面46の主要な目的は、その一例が球面収差である瞳孔収差の補正である。レンズ17上の回折表面47について、その主要な機能は、赤外線エネルギが画像14を画像平面に形成するようにこのエネルギの焦点を結ばせることであり、補助的な機能はフィールド収差の補正である。しかしながら、その代り、回折構造がもっと多くの、あるいはもっと少ない機能を集合的に行い、それら機能が1以上の回折表面の間で異なって割当てられることが可能である。図1の構成は、特定の波長に対する非常に高い変調伝達関数(MTF)と共に高度に補正された良好な品質の画像を提供し、ここでMTFは、フラクショナル帯域幅が増加するにしたがって減少する。
これに関して、図2は、図1のレンズ構造体に対する公称的な変調伝達関数(MTF)をフラクショナル帯域幅の関数として示すグラフである。一般に、たとえば、バンドパスフィルタコーティング43の帯域幅により決定されるレンズ構造体10により画像化される放射線の帯域幅が広くなると、それだけ一層MTFは低くなり、これはレンズ構造体のコントラストの尺度である。
上述したように、開示されている実施形態のレンズ素子16および17はシリコンから形成されているが、しかしその代わりに、技術的に知られているタイプの赤外線用のポリマーから形成されることができる。ポリマーレンズ素子は、上述したタイプのARコーティングを有することが可能である。しかしながら、ポリマーレンズ素子は、ARコーティングなしでさえ比較的低い反射率および比較的高い透過率を有しており、したがってARコーティングは随意に省略されることが可能である。ポリマーレンズ素子は随意に比較的薄く、たとえば、ほぼ0.002インチ程度に形成されることができる。その場合、レンズ素子を保護するために情景とレンス素子との間に非画像化ウインドウを設けることができる。このウインドウは、たとえば、シリコンまたはゲルマニウムであり、その前面または外面上にDLCコーティングを有し、その後面または内面上にARコーティングを有することができる。さらに別のウインドウは、レンズ素子の反対側に、たとえば、画像平面の領域中に設けられることが可能であり、それはバンドパスフィルタコーティングを有することができる。その代り、ARコーティングは省略されることが可能であり、バンドパスフィルタコーティングが外側ウインドウの後面または内面上に設けられることができる。
本発明は多くの利点を提供する。このような利点の1つは、レンズ材料、スペクトル帯域、回折表面および性能要求を注意深く選択し、組合せることによって、倍率を有する屈折光学表面を使用せずに回折光学素子だけを使用して画像を生成することのできる画像化レンズ構造体が提供されることである。関連した利点としては、ほぼ平坦である回折表面だけを使用することにより、回折表面はエッチングまたはエンボス加工のような伝統的な低コストの大量生産プロセスを使用して製造されることが可能になる。その結果、画像化レンズ構造体は非常に低いコストで製造されることができる。実際に、非常に廉価な材料およびプロセスを使用することにより、製造コストを既存のレンズ系に関して10倍以上減少させながら、適切な性能が達成できる。
本発明は、赤外線放射を画像化するために使用されることを意図された画像化レンズ構造体を構成するために使用されるときに有効である。その結果、本発明を使用した画像化レンズ構造体は、競争価格の圧力のために大量生産および低コストが重要である市場において非常に有効なものとなることができ、このような市場の一例は、車両における夜間使用を意図された赤外線画像化システムである。本発明はまた、妥当なレベルの性能が比較的低いコストで要求される監視用を含む別の軍用または民間使用に対して有効である。
1つの実施形態を図示し、詳細に説明してきたが、添付された特許請求の範囲によって規定される本発明の技術的範囲を逸脱することなく種々の置換および変更が可能であることが認識されるであろう。
Claims (29)
- 情景からの放射線に応答して前記放射線により画像平面において画像を形成させる画像化レンズセクションを備えており、前記画像化レンズセクションは光学的屈折力を有する構造を備えず、光学的回折特性を有するレンズを備えている装置。
- 前記画像化レンズセクションは、比較的狭い波長帯域内の放射線を使用して前記画像を形成するように構成されている請求項1記載の装置。
- 前記画像化レンズセクションは、赤外線を使用して前記画像を形成するように構成されている請求項1記載の装置。
- 前記画像化レンズセクションは、光学的回折特性を有する別のレンズを備えている請求項1記載の装置。
- 前記各レンズはそれぞれ、その一側に回折表面を備えている請求項4記載の装置。
- 前記回折表面の少なくとも1つは、エッチングされた表面およびエンボス加工された表面の一つである請求項5記載の装置。
- 前記回折表面はそれぞれ、エッチングされた表面およびエンボス加工された表面の一つである請求項5記載の装置。
- 前記レンズの1つのものの前記回折特性は瞳孔収差の補正を行い、前記レンズの別のものの前記回折特性は前記放射線に焦点を結ばせ、フィールド収差の補正を行う請求項4記載の装置。
- 前記レンズはそれぞれ、ほぼ3乃至5ミクロンの範囲の波長を有する赤外線に透過性の材料から形成されている請求項4記載の装置。
- 前記レンズはそれぞれ、ほぼ8乃至14ミクロンの範囲の波長を有する赤外線に透過性の材料から形成されている請求項4記載の装置。
- 前記レンズの少なくとも1つは、シリコンから形成されている請求項4記載の装置。
- 前記レンズの少なくとも1つは、赤外線ポリマーから形成されている請求項4記載の装置。
- 前記レンズの少なくとも1つは、シリコンと赤外線ポリマーとの組合せから形成されている請求項4記載の装置。
- 前記レンズは、少なくとも1つのその側面上に前記放射線のバンドパス濾波を行うコーティングを有している請求項1記載の装置。
- 前記画像平面の領域に配置された冷却されていない赤外線検出器を備えている請求項1記載の装置。
- 光学的屈折力を有する構造を備えず、光学的回折特性を有するレンズを備えるように画像化レンズセクションを構成し、
情景からの放射線を前記画像化レンズセクションを通過させるステップを含んでおり、前記画像化レンズセクションは前記放射線に画像平面において画像を形成させている方法。 - 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、比較的狭い波長帯域内の放射線を使用して前記画像化を行うように前記画像化レンズセクションを構成するステップを含んでいる請求項16記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、赤外線を使用して画像の形成を行うように前記画像化レンズセクションを構成するステップを含んでいる請求項16記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、光学的回折特性を有する別のレンズを備えるように前記画像化レンズセクションを構成するステップを含んでいる請求項16記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、回折表面をその一側上に有するように前記レンズのそれぞれを構成するステップを含んでいる請求項19記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、エッチング処理およびエンボス加工処理の一方を行うことにより前記回折表面の少なくとも1つを形成するステップを含んでいる請求項20記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、エッチング処理およびエンボス加工処理の一方を行うことにより前記各回折表面を形成するステップを含んでいる請求項20記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、瞳孔収差の補正を行うように前記レンズの1つの前記回折特性を選択し、また、前記放射線の焦点を結ばせ、フィールド収差の補正を行うように前記レンズの別のものの前記回折特性を選択するステップを含んでいる請求項19記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、ほぼ3乃至5ミクロンの範囲の波長を有する赤外線に対して透過性である材料から前記レンズのそれぞれを形成するステップを含んでいる請求項19記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、ほぼ8乃至14ミクロンの範囲の波長を有する赤外線に対して透過性である材料から前記レンズのそれぞれを形成するステップを含んでいる請求項19記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、前記レンズの少なくとも1つをシリコンから形成するステップを含んでいる請求項19記載の方法。
- 前記画像化レンズセクションを構成する前記ステップは、前記レンズの少なくとも1つを赤外線ポリマーから形成するステップを含んでいる請求項19記載の方法。
- 前記画像化レンズ構造体を構成する前記ステップは、前記レンズの少なくとも1つの側面に前記放射線のバンドパス濾波を行う材料によるコーティングを有するステップを含んでいる請求項16記載の方法。
- 前記画像平面の領域に配置された冷却されていない赤外線検出器を使用することにより前記画像を検出するステップを含んでいる請求項16記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/464,970 US20040263978A1 (en) | 2003-06-18 | 2003-06-18 | Method and apparatus for forming an image using only diffractive optics |
PCT/US2004/015250 WO2005001549A1 (en) | 2003-06-18 | 2004-05-14 | Method and apparatus for forming an image using only diffractive optics |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006527866A true JP2006527866A (ja) | 2006-12-07 |
Family
ID=33539008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006517119A Pending JP2006527866A (ja) | 2003-06-18 | 2004-05-14 | 回折光学系のみを使用して画像を形成する方法および装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040263978A1 (ja) |
EP (1) | EP1634113A1 (ja) |
JP (1) | JP2006527866A (ja) |
KR (1) | KR20060016815A (ja) |
TW (1) | TW200513683A (ja) |
WO (1) | WO2005001549A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018010272A (ja) * | 2016-07-13 | 2018-01-18 | エヴァーレディ プリシジョン インダストリー コーポレイションEverready Precision Ind.Corp. | 光学装置及び光学レンズ群 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005060883B4 (de) * | 2005-10-21 | 2014-04-30 | Universität of California | Verwendung von Hohlkugeln mit einer Umhüllung sowie Vorrichtung zu ihrer Herstellung |
EP2226666A1 (en) * | 2006-01-30 | 2010-09-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Infrared lens, infrared camera, and night vision |
CN101915978B (zh) * | 2010-08-05 | 2011-11-09 | 中国兵器工业第二〇五研究所 | 含双层谐衍射面的红外光学镜头 |
WO2018075610A1 (en) * | 2016-10-18 | 2018-04-26 | Corning Incorporated | Variable focus lens with integral optical filter and image capture device comprising the same |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3708225A (en) * | 1971-06-09 | 1973-01-02 | Mbt Corp | Coated synthetic plastic lens |
US5161059A (en) * | 1987-09-21 | 1992-11-03 | Massachusetts Institute Of Technology | High-efficiency, multilevel, diffractive optical elements |
US5013133A (en) * | 1988-10-31 | 1991-05-07 | The University Of Rochester | Diffractive optical imaging lens systems |
US5071207A (en) * | 1990-09-25 | 1991-12-10 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Broadband diffractive lens or imaging element |
US5257132A (en) * | 1990-09-25 | 1993-10-26 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Broadband diffractive lens or imaging element |
US5637353A (en) * | 1990-09-27 | 1997-06-10 | Monsanto Company | Abrasion wear resistant coated substrate product |
US5666221A (en) * | 1992-07-20 | 1997-09-09 | Hughes Electronics | Binary optic imaging system |
AU683869B2 (en) * | 1992-12-28 | 1997-11-27 | Michele Hinnrichs | Image multispectral sensing |
US5629074A (en) * | 1994-08-12 | 1997-05-13 | Texas Instruments Incorporated | Durable polymeric optical systems |
US5973827A (en) * | 1997-03-27 | 1999-10-26 | Raytheon Company | Refractive/diffractive infrared imager and optics |
US6002520A (en) * | 1997-04-25 | 1999-12-14 | Hewlett-Packard Company | Illumination system for creating a desired irradiance profile using diffractive optical elements |
US5880879A (en) * | 1997-08-26 | 1999-03-09 | Nikon Corporation | Objective lens system utilizing diffractive optical element |
JP2001304973A (ja) * | 2000-04-26 | 2001-10-31 | Denso Corp | 赤外線イメージセンサ |
US6717172B2 (en) * | 2000-12-19 | 2004-04-06 | California Institute Of Technology | Diffractive optical fluid shear stress sensor |
US7029831B2 (en) * | 2001-03-01 | 2006-04-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method for fabricating optical element |
DE10123230A1 (de) * | 2001-05-12 | 2002-11-28 | Zeiss Carl | Diffraktives optisches Element sowie optische Anordnung mit einem diffraktiven optischen Element |
-
2003
- 2003-06-18 US US10/464,970 patent/US20040263978A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-05-14 EP EP04752307A patent/EP1634113A1/en not_active Withdrawn
- 2004-05-14 KR KR1020057024113A patent/KR20060016815A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-05-14 JP JP2006517119A patent/JP2006527866A/ja active Pending
- 2004-05-14 WO PCT/US2004/015250 patent/WO2005001549A1/en not_active Application Discontinuation
- 2004-06-18 TW TW093117808A patent/TW200513683A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018010272A (ja) * | 2016-07-13 | 2018-01-18 | エヴァーレディ プリシジョン インダストリー コーポレイションEverready Precision Ind.Corp. | 光学装置及び光学レンズ群 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1634113A1 (en) | 2006-03-15 |
TW200513683A (en) | 2005-04-16 |
KR20060016815A (ko) | 2006-02-22 |
US20040263978A1 (en) | 2004-12-30 |
WO2005001549A1 (en) | 2005-01-06 |
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