JP2006513740A - Lipstick mechanism or similar where braking is provided by the relief section of the inner sleeve - Google Patents

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JP2006513740A JP2004547608A JP2004547608A JP2006513740A JP 2006513740 A JP2006513740 A JP 2006513740A JP 2004547608 A JP2004547608 A JP 2004547608A JP 2004547608 A JP2004547608 A JP 2004547608A JP 2006513740 A JP2006513740 A JP 2006513740A
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ベルナール ブーローニュ,
クロード スシニ,
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レクサム ルブル
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Abstract

本発明は、外部管状スリーブ(3)の内側を回転することが意図される内部管状スリーブ(1)を備える型のリップスティック機構または類似のものに関する。上記のスリーブは、移動の際にスタッド(6)をガイドするために使用される2つの長手軸方向の穴(10、11)および2つの螺旋の穴(5)を備え付けられており、このスタッドは、内部管状スリーブ(1)内に配置されるスティックホルダー(2)に属している。さらに、この内部スリーブは、外部スリーブ(3)に連結された、本質的に円筒型の軸受け表面(7)に対して伸縮自在に通過するように設計されている、制動リリーフセクション(21)を有する円筒型ベース(12)を備えている。本発明は、外部スリーブに連結されている上記の軸受け表面(7)が、伸縮自在に変形可能であり、制動リリーフセクション(21)が軸受け表面(7)内に沈められている隆起した領域を備えるという点で特徴付けられる。The invention relates to a lipstick mechanism of the type comprising an inner tubular sleeve (1) intended to rotate inside the outer tubular sleeve (3) or the like. The sleeve is provided with two longitudinal holes (10, 11) and two helical holes (5) used to guide the stud (6) during movement, the stud Belongs to the stick holder (2) which is arranged in the inner tubular sleeve (1). Furthermore, this inner sleeve passes through a braking relief section (21), which is designed to extend telescopically against an essentially cylindrical bearing surface (7) connected to the outer sleeve (3). A cylindrical base (12) is provided. The present invention provides a raised area in which the bearing surface (7) connected to the outer sleeve is telescopically deformable and the braking relief section (21) is submerged in the bearing surface (7). Characterized by the provision.

Description

本発明は、外部管状ダクト内に入ることが意図される内部管状ダクトを備える型のリップスティック機構または類似のものに関し、このダクトは、内部管状ダクト内に配置されるスティック−ホルダーカップ上のスタッドの移動をガイドするための2つの長手軸方向のスロットおよび2つの螺旋スロットを有し、内部ダクトは、2つのダクト間の穏やかな移動、かつ、回転移動さえ生じさせるために、円筒型ベースにおいて、外部ダクトに接続された円筒型表面上で、伸縮自在に進むことが意図される制限リリーフを備える。   The present invention relates to a lipstick mechanism or the like of the type comprising an inner tubular duct intended to enter into an outer tubular duct, which duct is a stud on a stick-holder cup arranged in the inner tubular duct With two longitudinal slots and two helical slots to guide the movement of the inner duct, in the cylindrical base to cause a gentle movement between the two ducts and even a rotational movement A restriction relief intended to extend telescopically on a cylindrical surface connected to an external duct.

出願人は、欧州特許EP 0 439 381において、このような制限デバイスを備え付けられた機構を提案し、この機構において、リリーフは、ダクトのベースに取り付けられたリングによって形成される伸縮自在のラグから構成されるか、または、ダクトのベース上に直接形成されている。これらのラグまたはタングは、ダクトの軸と平行に配置され、そのベースにおいて外部ダクトの内側壁上、もしくは、このダクトに接続された壁上を進むために半径方向外向きに分かれている(外部ダクトを取り囲む装飾的なシースがあってもよい)。この機構は、完全な満足を得る制限を提供する。しかし、この優秀な品質は、質はあまり要求しない大量生産には高価すぎ得る製造コストを有する。   The applicant proposes in EP 0 439 381 a mechanism equipped with such a restriction device, in which the relief is from a telescopic lug formed by a ring attached to the base of the duct. Constructed or formed directly on the base of the duct. These lugs or tangs are arranged parallel to the axis of the duct and are separated radially outwardly in their base to travel on the inner wall of the outer duct or on the wall connected to this duct (external There may be a decorative sheath surrounding the duct). This mechanism provides a limit to obtain complete satisfaction. However, this superior quality has a manufacturing cost that can be too expensive for mass production where quality is less demanding.

単一の注入成形操作によって製造コストを減らすために、円筒型ベースの壁に直接制限タングを生成し;次いで、制限リリースが、壁の一部に配置され、薄くても薄くなくてもよい、円筒型ベースの壁内に形成された、シューまたはボタンを構成し、タングを形成するために(成形によって)切断されることが求められている。このことは、例えば、米国特許第5,186,560号、同第5,186,561号または同第5,324,126号によって、タングの種々の形態で示されているものである。   In order to reduce manufacturing costs by a single injection molding operation, a restrictive tongue is generated directly on the wall of the cylindrical base; a restrictive release is then placed on the part of the wall, which may or may not be thin, It constitutes a shoe or button formed in the wall of a cylindrical base and is required to be cut (by molding) to form a tongue. This is shown, for example, in various forms of tongues by US Pat. Nos. 5,186,560, 5,186,561 or 5,324,126.

しかし、これらの機構の品質は、大量生産に対してさえも、平凡すぎる。   However, the quality of these mechanisms is too mediocre, even for mass production.

本発明の目的は、欧州特許EP 0 439 381において提案したものと同等の品質を達成するが、あまり高コストでない新規な制限機構を提案することである。   The object of the present invention is to propose a novel limiting mechanism which achieves a quality equivalent to that proposed in European patent EP 0 439 381, but is not very expensive.

この目的は、外部管状ダクト内に入ることが意図される内部管状ダクトを備える型のリップスティック機構または類似のものによって、本発明に従って達成され、このダクトは、内部管状ダクト内に配置されるスティック−ホルダーカップ上のスタッドの移動をガイドするための2つの長手軸方向のスロットおよび2つの螺旋スロットを有し、この内部ダクトは、外部ダクトに接続された実質的に円筒型の表面上を伸縮自在に進むことが意図される制限リリーフを備える円筒型ベースを備え、このリップスティック機構は、外部ダクトに接続された表面が伸縮自在に変形可能であり、制限リリーフが上記表面内に沈められた隆起した領域から構成される点で特徴付けられる。隆起した領域とは、回転軸までの距離が内部ダクトの円筒型ベースのリリーフなしに、パーツの外部半径よりも長い領域を意味し;この高さは、外部シースの表面の見かけ上内側の外部半径よりもなお高く、これにより、上記の沈降を生じ、この沈降は、その元々の位置に対して、壁自体の沈降だけでなく、上記壁の局所的な変形としてみなされる。従って、制限の男性は、制限ラグによってではなく、表面を構成する壁の変形の弾性によって付与される。このことは製造を単純化し、先行技術の機構のパーツ(すなわち、弾性ラグのカラー)を排除する。   This object is achieved according to the invention by a lipstick mechanism of the type comprising an internal tubular duct intended to enter into an external tubular duct, which is a stick arranged in the internal tubular duct. -With two longitudinal slots and two helical slots to guide the movement of the stud on the holder cup, this inner duct telescopic on a substantially cylindrical surface connected to the outer duct This lipstick mechanism has a cylindrical base with a restriction relief intended to be freely advanced, the surface connected to the external duct is elastically deformable, and the restriction relief is submerged in the surface Characterized by points composed of raised areas. By raised area is meant the area where the distance to the axis of rotation is greater than the external radius of the part without the relief of the cylindrical base of the internal duct; this height is the external appearance of the outer sheath surface. Still higher than the radius, this results in the above settling, which, for its original position, is regarded as a local deformation of the wall, not just the settling of the wall itself. Therefore, the restriction man is not given by the restriction lug, but by the elasticity of the deformation of the wall constituting the surface. This simplifies manufacturing and eliminates the parts of the prior art mechanism (ie the collar of the elastic lug).

特に有利な様式において、制限リリーフは、かなり広い表面を提供するように内部ダクト(または表面)の実質的に角ばったセクターと関係し、制限に必要とされる圧力を減少することを可能にし、そして、非常に低い値まで沈降を制限することを可能にする。リリーフは、好ましくは、円筒型の隆起した領域の形状であり、その伸長セクターは、70°と100°の間、好ましくは、80°と90°の間である。   In a particularly advantageous manner, the restriction relief is associated with a substantially angular sector of the internal duct (or surface) to provide a fairly wide surface, allowing the pressure required for restriction to be reduced, It makes it possible to limit sedimentation to very low values. The relief is preferably in the shape of a cylindrical raised region, and its elongating sector is between 70 ° and 100 °, preferably between 80 ° and 90 °.

1つの実施形態に従って、制限リリーフは、制限表面において、内部ダクトの円筒型パーツの単純なオフセンタリング(off−centring)から構成される。   According to one embodiment, the restriction relief consists of a simple off-centring of the cylindrical part of the internal duct at the restriction surface.

表面を構成する壁が、この機構のシースのような円筒型の剛性なエンベロープで覆われる場合、この壁は、その変形を可能にする空間と外部で関係し、このベースは、エンベロープの間引きによってか、または、表面を構成する壁の間引きによって、少なくとも部分的に形成され得、後者は、壁を変形可能にするための要件と部分的に適合性である可能性がある。当然のことながら、例えば、より短いシースを生成するための設備(provision)を作製することによって、このレベルにおいて、円筒型エンベロープを全く有さないこともまた可能である。   When the wall that makes up the surface is covered with a cylindrical rigid envelope, such as the sheath of this mechanism, this wall is externally related to the space that allows its deformation, and the base is removed by decimation of the envelope Alternatively, it may be formed at least in part by thinning out the walls that make up the surface, the latter potentially being partially compatible with the requirements for making the wall deformable. Of course, it is also possible at this level to have no cylindrical envelope at all, for example by creating a provision for producing a shorter sheath.

この機構は、有利なことに1つ以上の注入されたプラスチック材料から生成される。本発明に従う内部ダクトは、品質および減少したコスト価格に従って、この型の注入に従来使用される多くのプラスチック材料から製造され得る。求められる適用もまた考慮される:リップスティックおよびそこから放出される溶剤に使用される特定の処方に従って、他のもの以外の特定の材料が勧められることが知られている。例えば、特定の溶媒は、ポリスチレンのようなスチレンと反応し、他のものは、本発明の機構の制限品質の経時的な維持に不利益なポリプロピレンの膨潤を生じる。これは、これらの品質が、全ての構成パーツの間の比較的正確なクリアランスと本質的に関係するからである。変形可能な表面を備える外部シースについて、例えば、ポリアセタール樹脂(ポリオキシメチレンPOM)を使用することが有利である。この樹脂は、その良好な形状記憶およびそのクラッキングに対する抵抗性のために特に有利である;さらに、ポリスチレン−ポリアセタールの対またはポリプロピレン−ポリアセタールの対が、良好な摩擦の質を提供する。   This mechanism is advantageously generated from one or more injected plastic materials. The internal duct according to the invention can be manufactured from many plastic materials conventionally used for this type of injection, according to quality and reduced cost price. The required application is also considered: it is known that specific materials other than others are recommended according to the specific formulation used for the lipstick and the solvent released therefrom. For example, certain solvents react with styrene, such as polystyrene, others produce polypropylene swelling that is detrimental to maintaining the limited quality of the mechanism of the present invention over time. This is because these qualities are essentially related to a relatively accurate clearance between all components. For an outer sheath with a deformable surface, it is advantageous to use, for example, polyacetal resin (polyoxymethylene POM). This resin is particularly advantageous because of its good shape memory and its resistance to cracking; in addition, polystyrene-polyacetal pairs or polypropylene-polyacetal pairs provide good friction quality.

この機構を製造するために、最小限のクリアランスで組み立てられる(各々がダクトのリリーフパーツである)全ての部品のために、設備が有利に作製され、使用者が感知できないが、部品の「ドリフト」に抵抗する非常にわずかな全体の摩擦を提供し、認知できるのみであるが、穏やかな摩擦が、本発明に従うダクトのリリーフパーツによって提供される。部品間、特に、内部ダクトと外部ダクトとの間のこの最小限のクリアランスを保証するために、制限リリーフは別として、内部ダクトおよび外部ダクトが、好ましくは、その各々の端部に向かって置かれる狭いアバットメント領域に制限された接点を有することが特に有利である。実際は、内部ダクトは、完全に円筒型であるように設計され、外部シースは、眼では確認できないが、鋳型からの良好な取り出しを促進するのに十分なほどごくわずかに円錐型に設計される;内部ダクトは、その底部パーツにおいて、第一に、内部ダクトの頂部パーツ上、そして、第二に、内部ダクトの底部パーツの上記表面上のアバットメントへの外部ダクトの完全に同軸の保持を確保するために十分な非常に薄い円筒型表面(約1/10mm)を備える。この2つの離れた狭い領域におけるアバットメントは、内部ダクトへの外部ダクトの摩擦をかなり減少する。摩擦の主要な部分は、本発明に従う制限リリーフによって形成されるカムに起因する。このリリーフは、有利なことに、それ自体が、必要とされるトルクに従って特定の円錐性(conicity)を有するように提供され得る;このことは、この円錐性が制限表面を適合することを可能にし、従って、必要とされる適用に圧力が発揮されるからである。   To make this mechanism, all parts that are assembled with minimal clearance (each of which is a relief part of a duct) are advantageously constructed and undetectable by the user, but the parts “drift” A mild friction is provided by the relief part of the duct according to the present invention, which provides only very little overall friction resisting and can be perceived. In order to ensure this minimum clearance between the parts, in particular between the inner and outer ducts, apart from the restriction relief, the inner and outer ducts are preferably placed towards their respective ends. It is particularly advantageous to have contacts limited to the narrow abutment area to be drilled. In fact, the inner duct is designed to be completely cylindrical and the outer sheath is not visible to the eye, but is designed to be slightly conical enough to facilitate good removal from the mold. The inner duct has a completely coaxial holding of the outer duct to the abutment on its top part, firstly on the top part of the inner duct and secondly on the surface of the bottom part of the inner duct. Provide a very thin cylindrical surface (about 1/10 mm) sufficient to ensure. The abutment in these two separate narrow areas significantly reduces the friction of the outer duct to the inner duct. The main part of the friction is due to the cam formed by the limiting relief according to the invention. This relief can advantageously be provided to itself have a certain conicity according to the required torque; this allows this conicity to adapt the limiting surface Thus, pressure is exerted on the required application.

本発明の他の利点および特徴は、添付の図面を参照して、以下の説明を読むことによって明らかとなる。   Other advantages and features of the present invention will become apparent upon reading the following description with reference to the accompanying drawings.

リップスティック機構は、従来、リップスティック−ホルダーカップ2を受容するプラスチック製の円筒型内部ダクト1を備える(図5)。またプラスチック製であり、実質的に円筒型の、それ自体が装飾的なシースまたはボディ4で覆われており、一般に、金属または金属化されたプラスチックから作製された外部ダクトまたは螺旋3が、全体に滑る。これらの要素は、軸XXの回りの回転の対称において同心円状に取り付けられる。   The lipstick mechanism conventionally comprises a plastic cylindrical inner duct 1 that receives a lipstick-holder cup 2 (FIG. 5). It is also made of plastic, is substantially cylindrical and is itself covered with a decorative sheath or body 4, generally an external duct or helix 3 made of metal or metallized plastic To slip. These elements are mounted concentrically in symmetry of rotation about axis XX.

内部ダクト1は、2つの長手軸方向のスロット10および11を備え、一方で、外部ダクト3は、長手軸方向のスロット10、11で交差領域を規定する2つの螺旋スロット5(その実質的に円筒型の内側表面において唯一の単純な溝であり得る)を備える。この螺旋スロット5内において、カップ2のスタッド6が、ダクト1および3の相対的な回転に依存して、この領域の高さ(そして、従って、カップ2の位置)を係合する。   The inner duct 1 comprises two longitudinal slots 10 and 11, while the outer duct 3 comprises two helical slots 5 (its substantially It can be the only simple groove on the inner surface of the cylinder. Within this spiral slot 5, the stud 6 of the cup 2 engages the height of this region (and hence the position of the cup 2) depending on the relative rotation of the ducts 1 and 3.

外部ダクト3は、その底部において実質的に円筒型の領域7を備え、この領域は、以下に記載される穏やかな摩擦デバイスを生成するために、内部ダクトと協調するように、内部ダクト1の輪状のベース12に対向することが意図される。   The outer duct 3 comprises a substantially cylindrical region 7 at its bottom, which region of the inner duct 1 to cooperate with the inner duct to produce a gentle friction device as described below. It is intended to face the annular base 12.

内部ダクト1は各々頂部から底部までの3つの領域を備える:スロット10、11が形成される主要領域13;次いで、本発明の偏心制限デバイスが形成される輪状ベース領域12、そして、最後に、その外部円筒型表面の一部(好ましくは底部)上に長手軸方向の溝またはそりひだ彫り19を備え得るキャップ14。領域13および12、ならびに12および14は、肩17および18から分離され得る。   The inner duct 1 comprises three regions each from top to bottom: a main region 13 in which slots 10, 11 are formed; then an annular base region 12 in which the eccentricity limiting device of the invention is formed; and finally A cap 14 that may comprise a longitudinal groove or sled 19 on a portion (preferably the bottom) of its outer cylindrical surface. Regions 13 and 12 and 12 and 14 can be separated from shoulders 17 and 18.

全てのこれらの要素は、それ自体は公知であり、任意のさらなる説明を必要としない。   All these elements are known per se and do not require any further explanation.

輪状ベース領域12は、全体が実質的に円筒型の壁から構成され、その内側表面は、領域13または領域14の内側表面と連続している(図2を参照のこと)。壁12の外側表面20は、大きな角ばったセクターの上に、ダクト3の底部パーツ7の内側壁22と協調することが意図される穏やかな制限リリーフ21を備える。   The annular base region 12 is entirely composed of a substantially cylindrical wall, and its inner surface is continuous with the inner surface of region 13 or region 14 (see FIG. 2). The outer surface 20 of the wall 12 comprises a gentle restriction relief 21 intended to cooperate with the inner wall 22 of the bottom part 7 of the duct 3 on a large angular sector.

この穏やかなリリーフ21は、一般に、軸XXと平行な母線を有する円筒型表面から構成される。図6に模式的に示されるのは、XXの中心にある壁12の円筒型の外部表面20上にセクションAの局所的な突出部(この突出部は、カムと類似している)が提供される場合であり得る。図7に模式的に示されるのは、円筒型の外側表面20、21が、近接する軸00の中心にあり、XXに対して平行となるように、これらの表面を完全にオフセンタリングする場合であり得る。2つの軸の間(例えば、0.2mm)のオフセンタリングdは、パーツ21が、XXの中心にある理論上の円筒型表面20’に関してその最大レベルにおいて、ほぼ同じ値dを有するリリーフを構成する一方で、外部表面20の対向するパーツは、理論上の表面20’に関して同じクリアランスdだけ凹んでいることを意味する。両方の場合において、理論上の円筒に関して最大突出部hを有するリリーフ21が得られる。この高さhは、図7の場合におけるオフセンタリングdと等しい。   This gentle relief 21 is generally composed of a cylindrical surface having a generatrix parallel to the axis XX. Shown schematically in FIG. 6 is a local protrusion of section A (similar to a cam) provided on the cylindrical outer surface 20 of the wall 12 in the center of XX. It can be the case. FIG. 7 schematically shows a case where the cylindrical outer surfaces 20, 21 are completely off-centered so that they are in the center of the adjacent axis 00 and parallel to XX. It can be. Off-centering d between the two axes (eg 0.2 mm) constitutes a relief in which part 21 has approximately the same value d at its maximum level with respect to the theoretical cylindrical surface 20 ′ centered on XX. On the other hand, the opposing parts of the outer surface 20 mean that they are recessed by the same clearance d with respect to the theoretical surface 20 ′. In both cases, a relief 21 with a maximum protrusion h with respect to the theoretical cylinder is obtained. This height h is equal to the off-centering d in the case of FIG.

リリーフ21のこのパーツは、正味のリリーフまたはオフセンタリングによるものであってもそうでなくても、従って、十分に広くなるように、本発明に従って選択されるか配ったセクターAの上の壁7の表面22上を進む。この角張ったセクターAは、好ましくは70°と100°との間であり、より好ましくは、80°と90°との間である。   This part of the relief 21 may or may not be due to a net relief or off-centering, and therefore the wall 7 above the sector A selected or distributed according to the invention to be sufficiently wide. Proceed on the surface 22. This angular sector A is preferably between 70 ° and 100 °, more preferably between 80 ° and 90 °.

壁7は、その寸法および構成的特徴によって、リリーフパーツ21が通過する際に変形し得るように設計されている:所定のプラスチック材料が特定の可撓性および、この可撓性からの恩恵を受けるためにかなり薄い厚みを有する;例えば、ポリアセタール樹脂の場合、約0.5mmの厚みが想定され得る。リリーフ21の沈降に起因する、この外向きの変形を可能にするために、壁7は、原則的に、リリーフ21の最大突出部hよりもわずかに大きい十分な空間25によって、ボディ4の面削り壁23から離れている。この空間25は、図2に示されるように、その底部パーツにおけるボディ4の内側の間引きによって(または、上記ボディの間引きなしの溝切りによって、ボディの平均直径の増加によって)か、または、図3に示されるように、壁7自体の外側間引きによってか、または、これらの可能性の組合せによってのいずれかにより得られ得る。   The walls 7 are designed so that, due to their dimensions and structural characteristics, the relief parts 21 can be deformed as they pass through: a given plastic material has a certain flexibility and benefits from this flexibility. For example, in the case of a polyacetal resin, a thickness of about 0.5 mm can be envisaged. In order to allow this outward deformation due to the sinking of the relief 21, the wall 7 is essentially free from the surface of the body 4 by a sufficient space 25 which is slightly larger than the largest protrusion h of the relief 21. It is away from the shaving wall 23. This space 25, as shown in FIG. 2, can be achieved by thinning the inside of the body 4 at its bottom part (or by increasing the mean diameter of the body by grooving without thinning of the body), or 3 can be obtained either by external thinning of the wall 7 itself or by a combination of these possibilities.

図4は、螺旋3の壁7および内部ダクトの壁12において生じる変形を例示する。ボディ4は、剛性であり、円筒をXXの中心に残す。00の中心にある内部シース1の壁12(これは、リリーフ21がオフセンタリングによって形成される場合である)は、壁7の対向する表面22に対してそのパーツ21によって押され、ここで、原則的に、XXの中心にある円筒型が、次いで、卵型に変形し、ボディ4の壁に局所的に接近し;正反対の壁12のパーツ20は、壁7から離れたままであり、壁7自体も、ボディ4から離れたままである。   FIG. 4 illustrates the deformation that occurs in the wall 7 of the helix 3 and the wall 12 of the internal duct. The body 4 is rigid and leaves the cylinder at the center of XX. The wall 12 of the inner sheath 1 at the center of 00 (this is the case when the relief 21 is formed by off-centering) is pushed by its part 21 against the opposite surface 22 of the wall 7, where In principle, the cylindrical shape in the center of XX then deforms into an oval shape and locally approaches the wall of the body 4; the part 20 of the opposite wall 12 remains away from the wall 7 and the wall 7 itself also remains away from the body 4.

変形が作用する領域12および領域7の接点における高さは、およそ2〜3mmである。   The height at the contact point between the region 12 and the region 7 where the deformation acts is approximately 2 to 3 mm.

このようにして、穏やかな弾性圧が領域12に及ぼされ、このことにより、機構の必要とされる穏やかかつ均一な回転を可能にする。   In this way, a gentle elastic pressure is exerted on the region 12, thereby allowing the required gentle and uniform rotation of the mechanism.

摩擦が、ほぼ独占的に本発明に従うリリーフのパーツ21によって及ぼされる摩擦によるものにすることを可能にするために、機構の他の元々のクリアランスが最小限に減らされる。特に、実質的に円筒型として記載される外部ダクト3は、好ましくは、頂部パーツにおけるその最小直径とその底部パーツにおける最大直径との間の数百mmの距離を生じる、ごくわずかな円錐性を備えられる。その頂パーツは、リム14の直ぐ下にある内部ダクト1の外部表面上を直接進み、一方で、その底部パーツは、輪状領域12の直ぐ上にあるダクト1の領域13の底部パーツに形成される非常に薄い肩(例えば、1/10mm)の上に載っている。このため、外部ダクト3は、それぞれ頂部および底部における円までほぼ減らすように形成された2つの領域においてのみ、内部ダクト1上の同軸性アバットメント内にあり、その相対的回転の間に生じる摩擦は最小限である。さらに、外部シート3のわずかな円錐性、従って、その底部スカート7を考慮して、そして、制限カム22に起因する変形と共にこの円錐性が増加するので、本願に従って、上記制限カム21の表面に、この領域21および底部領域7の接触表面を適用するように特定の円錐性(下向きに広がっている)を提供することがまた有利である;適合されるより大きなまたはより小さな円錐性は、表面21の高さおよび開きのような他のパラメータと関連して、及ぼされる制限力を決定する。   In order to allow the friction to be almost exclusively due to the friction exerted by the relief part 21 according to the invention, the other original clearance of the mechanism is reduced to a minimum. In particular, the outer duct 3, which is described as being substantially cylindrical, preferably has very little conicity, resulting in a distance of several hundred mm between its minimum diameter at the top part and the maximum diameter at the bottom part. Provided. Its top part travels directly on the outer surface of the internal duct 1 just below the rim 14, while its bottom part is formed in the bottom part of the area 13 of the duct 1 just above the ring-shaped area 12. It rests on a very thin shoulder (eg 1/10 mm). For this reason, the outer duct 3 is in the coaxial abutment on the inner duct 1 only in two regions which are formed so as to substantially reduce to a circle at the top and bottom respectively, and the friction that occurs during its relative rotation. Is minimal. Furthermore, in view of the slight conicity of the outer seat 3, and therefore its bottom skirt 7, and this conicity increases with deformation due to the limiting cam 22, on the surface of the limiting cam 21 according to the present application. It is also advantageous to provide a specific conicity (spreading downward) to apply the contact surface of this region 21 and the bottom region 7; In connection with other parameters such as 21 height and opening, the limiting force exerted is determined.

図1は、本発明に従うリップスティック機構の断面の半断面図および半側図である。FIG. 1 is a half sectional view and a half side view of a cross section of a lipstick mechanism according to the present invention. 図2は、図1の機構の摩擦パーツの断面の詳細図である。FIG. 2 is a detailed view of a cross section of the friction part of the mechanism of FIG. 図3は、図1の機構の摩擦パーツの改変物の断面の単純化された詳細図である。FIG. 3 is a simplified detailed view of a cross section of a variation of the friction part of the mechanism of FIG. 図4は、図1の機構の摩擦パーツの横断面の図である。4 is a cross-sectional view of the friction part of the mechanism of FIG. 図5は、図1の機構を構成する種々の要素の展開図である。FIG. 5 is a developed view of various elements constituting the mechanism of FIG. 図6は、摩擦パーツにおけるダクトの外部円筒型表面の横断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of the outer cylindrical surface of the duct in the friction part. 図7は、摩擦パーツにおけるダクトの外部円筒型表面の横断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the outer cylindrical surface of the duct in the friction part.

Claims (11)

外部管状ダクト(3)内に入ることが意図される内部管状ダクト(1)を備える型のリップスティック機構または類似のものであって、該ダクトは、該内部管状ダクト(1)内に配置されるリップスティック−ホルダーカップ(2)のスタッド(6)の移動をガイドするための2つの長手軸方向のスロット(10、11)および2つの螺旋スロット(5)を有し、該内部ダクトは、該外部ダクト(3)に接続された実質的に円筒型の表面(7)上で伸縮自在に進むことが意図される制限リリーフ(21)を備える円筒型ベース(12)を備え、該外部ダクトに接続された表面(7)が伸縮自在に変形可能であり、かつ、該制限リリーフ(21)が、該表面(7)内に沈められた隆起した領域によって形成されている点で特徴付けられる、リップスティック機構。 A lipstick mechanism of the type comprising an inner tubular duct (1) intended to enter the outer tubular duct (3), or the like, which is arranged in the inner tubular duct (1). Two longitudinal slots (10, 11) and two helical slots (5) for guiding the movement of the stud (6) of the lipstick-holder cup (2), the internal duct comprising: A cylindrical base (12) with a restriction relief (21) intended to extend telescopically on a substantially cylindrical surface (7) connected to the outer duct (3), the outer duct Characterized in that the surface (7) connected to the surface is elastically deformable and the limiting relief (21) is formed by a raised region submerged in the surface (7) , Ri Stick mechanism. 前記制限リリーフ(21)が前記内部ダクトの実質的に角張ったセクターと関係する点で特徴付けられる、請求項1に記載の機構。 A mechanism according to claim 1, characterized in that the limiting relief (21) is related to a substantially angular sector of the internal duct. 前記角張ったセクターの角(A)が、70°と100°との間、好ましくは、80°と90°との間である点で特徴付けられる、請求項2に記載の機構。 A mechanism according to claim 2, characterized in that the angle (A) of the angular sector is between 70 ° and 100 °, preferably between 80 ° and 90 °. 前記制限リリーフが、前記制限表面(7)において、前記内部ダクトの円筒型パーツ(20)の単純なオフセンタリング(off−centring)から構成される点で特徴付けられる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の機構。 Any of the preceding claims characterized in that the limiting relief is composed of a simple off-centring of the cylindrical part (20) of the internal duct at the limiting surface (7). The mechanism according to claim 1. 前記表面(7)を構成する壁が、剛性な円筒型エンベロープ(4)で覆われ、その変形を可能にする空間(25)と外面的に関連している点で特徴付けられる、請求項4に記載の機構。 5. The wall constituting the surface (7) is characterized in that it is covered with a rigid cylindrical envelope (4) and is externally associated with a space (25) allowing its deformation. The mechanism described in. 前記空間(25)が、前記剛性なエンベロープの間引きに少なくとも部分的に起因する点で特徴付けられる、請求項5に記載の機構。 6. A mechanism according to claim 5, wherein the space (25) is characterized in that it is at least partly due to thinning of the rigid envelope. 前記空間(25)が、前記表面を構成する壁の間引きに少なくとも部分的に起因する点で特徴付けられる、請求項5に記載の機構。 6. A mechanism according to claim 5, characterized in that the space (25) is at least partly due to thinning of the walls constituting the surface. 注入されたプラスチック材料から生成されるという点で特徴付けられる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の機構。 A mechanism according to any one of the preceding claims, characterized in that it is produced from an injected plastic material. 前記内部ダクト(1)がスチレン樹脂から生成されている点で特徴付けられる、請求項8に記載の機構。 9. Mechanism according to claim 8, characterized in that the internal duct (1) is made of styrene resin. 前記外部ダクト(3)がポリアセタール樹脂から生成されている点で特徴付けられる、請求項8または9のいずれか1項に記載の機構。 10. Mechanism according to any one of claims 8 or 9, characterized in that the external duct (3) is produced from a polyacetal resin. 前記制限リリーフ(21)は別として、前記内部ダクト(1)および前記外部ダクト(3)が、2つの狭いアバットメント領域に制限された接点を有する点で特徴付けられる、請求項1〜10のいずれか1項に記載の機構。 Aside from the limiting relief (21), the inner duct (1) and the outer duct (3) are characterized in that they have contacts limited to two narrow abutment regions. The mechanism according to any one of the above.
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