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Unpei Nagashima
雲兵 長嶋
Tomoo Aoyama
智夫 青山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new current measuring apparatus to be used for detecting a current leakage path, analyzing a current for an extremely short period of time in a medium containing metallic particulates, and sensing and analyzing an electromagnetic wave by utilizing the behavior of the metallic particulates covered with oxide films. <P>SOLUTION: If metallic particles whose surfaces are covered with oxides are suspended in a liquid which has electrical insulating properties and slightly conducts electricity, its electrical resistance shows a property of a semiconductor when measured. When the metallic particles in this state are put into a state that a current exists by electromagnetic induction, or through electrodes put in the liquid layer wherein the metallic particles are suspended, The positions of the metallic particles changes from their thermal stabilization positions, and their distribution changes. If the liquid is evaporated while the displacement relaxation is insufficient, the locus of current passage can be obtained, and detection of the current leakage path, analysis of a current in a medium containing suspended particles, and sensing and analysis of the electromagnetic wave can be performed. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、金属粒子及び金属微粒子からなる薄膜積層体及び電気機器の電流漏洩経路の探知や微粒子媒体中の電流の解析、電磁波の解析及びセンシングに用いる装置に関するものである。   The present invention relates to a thin film laminate composed of metal particles and metal fine particles, and an apparatus used for detection of a current leakage path of an electric device, analysis of current in a fine particle medium, analysis of electromagnetic waves, and sensing.

電流の検知には以下の手段が知られている。
送電線路や支持鉄塔等の設備に落雷があったとき、その地点を素早く確実に発見して設備の管理点検をできるようにするため、鉄塔脚部等の所定箇所に取り付けられている電流検出表示装置がある。雷サージ電流が流れると、これを検出して、内部に収納してある表示布等の表示用物体を、装置筐体から外部に露出表示または突出表示する動作をさせることにより、視覚情報として点検者らに報知する装置である。この装置では雷サージ電流の検出があったときは表示用物体の露出表示動作を行うものの、表示用物体は露出されたそのままの状態で経過してしまうので、次に続く雷サージ電流に対しての検出動作は不可能であり、すなわち連続的な雷サージ電流に対しての検出や測定を行うことができない。電流検出表示装置において、前記装置は、前記表示変化部の動作を制御するために、少なくとも、電流検出時に動作するソレノイド、表示変化部を駆動するモーター、各構成部材を連携して動作させるスイッチを設け、流出電流を検出するたびごとに視覚的に表示を変化させる表示変化部を備えることが行われる(特許文献1)。しかしながら、前記の表示装置は、微弱電量などには用いることができないし、又その精度の点でも、満足できるものではなかった。このようなことから、微弱電量を対象とし、十分な精度を有する測定装置の開発が望まれていた。
The following means are known for current detection.
In the event of lightning strikes on equipment such as power transmission lines and supporting towers, current detection displays attached to predetermined places such as tower legs so that the point can be quickly and reliably discovered and managed and inspected. There is a device. When lightning surge current flows, this is detected and inspected as visual information by causing the display object such as display cloth stored inside to be exposed or projected from the device housing. It is a device that informs people. Although this device performs the exposure display operation of the display object when a lightning surge current is detected, the display object will be exposed as it is exposed. Cannot be detected, that is, it is impossible to detect or measure a continuous lightning surge current. In the current detection display device, in order to control the operation of the display change unit, the device includes at least a solenoid that operates during current detection, a motor that drives the display change unit, and a switch that operates each component in cooperation with each other. Provided and provided with a display changing unit that visually changes the display whenever an outflow current is detected (Patent Document 1). However, the above-mentioned display device cannot be used for weak electric energy and is not satisfactory in terms of its accuracy. For these reasons, it has been desired to develop a measuring apparatus that has sufficient accuracy for weak electric energy.

ところで、イオンの検出に電流を用いる方法が開発されている。
抑制イオンクロマトグラフィー(SIC)は、直列の二つのイオン交換カラム、続いてサンプルイオンを検出するためのフロースルー導電率検出器を一般に使用するイオンクロマトグラフィーにおいて、サプレッサー、及び分析物イオンを検出するためのサプレッサー中に少なくとも第一センサー電極及び第二センサー電極を設置し、電流を印加しイオンの検出用を行う一体化されたサプレッサー及び検出器が知られている(特許文献2)。また、近年、イオンクロマトグラフィーの分野では、少なくとも2種類の分析物イオンを、イオン交換カラムに導入する工程と、前記イオン交換カラムに溶離液を流して前記分析物イオンを分離して溶出する工程と、前記溶出液を、互いに離間して対向配置されてなる少なくとも2つの電極間に前記分析物イオンと反対の表面電荷を有する固定相が介挿されてなる電気伝導度検出器に導入して前記2つの電極間の電流を測定する工程とを含むイオンクロマトグラフィーによる分析物イオンを検出する方法が知られている(特許文献3)。
By the way, a method using an electric current for ion detection has been developed.
Suppressed ion chromatography (SIC) detects suppressor and analyte ions in ion chromatography, which typically uses two ion exchange columns in series, followed by a flow-through conductivity detector to detect sample ions. There is known an integrated suppressor and detector in which at least a first sensor electrode and a second sensor electrode are installed in a suppressor for applying an electric current to detect ions (Patent Document 2). In recent years, in the field of ion chromatography, a step of introducing at least two types of analyte ions into an ion exchange column, and a step of separating and eluting the analyte ions by flowing an eluent through the ion exchange column. And introducing the eluate into an electrical conductivity detector in which a stationary phase having a surface charge opposite to that of the analyte ions is interposed between at least two electrodes arranged opposite to each other. A method for detecting analyte ions by ion chromatography including a step of measuring a current between the two electrodes is known (Patent Document 3).

このようなことがらを背景にして、物質の挙動を利用して電流を検出することを目指して、新規な微弱電流の測定装置の開発を考えた。
特開2003−47144号公報 特表2002−513912号公報 特開2005−9878号公報
Against this background, the development of a new measurement device for weak current was considered with the aim of detecting current using the behavior of substances.
JP 2003-47144 A JP-T-2002-513912 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-9878

本発明の課題は、物質の挙動を利用して電流漏洩経路の探知や微粒子媒体中の電流の解析、電磁波の解析及びセンシングに用いる新規な微弱電流、電流が通過した軌跡、電流漏洩経路の探知用装置、電磁波の探知及び解析装置を提供することである。   An object of the present invention is to detect a current leakage path using a behavior of a substance, to analyze a current in a particulate medium, to analyze a new weak current used for electromagnetic wave analysis and sensing, a trajectory through which a current has passed, and to detect a current leakage path. Device, electromagnetic wave detection and analysis device.

本発明は、金属粒子や金属微粒子は、その表面が前記金属の酸化物により覆われていて、乾燥状態にあると、絶縁体としての特性を示す、そして、このような金属粒子や微粒子を、電気絶縁性あるいは僅かに電気を導通させる液体中に懸濁させ、その電気抵抗を測定すると、半導体の性質を示すことを見出し、又この特性を利用して、この状態ある金属粒子や金属微粒子からなる固液層を基板の表面に付着させ、液体を部分的に除去して得られる薄膜層に電極を介して、電流が存在する状態に置くと、電流が通過した軌跡をたどることができ、電流漏洩経路の探知や微粒子媒体中の電流の解析、電磁波の解析及びセンシングを行うことができ、新規な微弱電流の測定が可能になることを見出して、本発明を完成させた。前記の液体を部分的に除去することとは、液体を完全に除去するのではなく、部分的に除去して粒子同士は酸化物皮膜を接している状態とすることであり、換言すれば、粒子同士は酸化物皮膜を接している程度に、液体を残存させている状態を意味する。   In the present invention, the metal particles and the metal fine particles have characteristics as an insulator when the surfaces thereof are covered with the metal oxide and are in a dry state. When suspended in a liquid that is electrically insulating or slightly conducting electricity, and measuring its electrical resistance, it is found that it shows the properties of a semiconductor. When a solid-liquid layer is attached to the surface of the substrate and placed in a state where an electric current exists through a thin film layer obtained by partially removing the liquid, the trajectory through which the current has passed can be traced. The present invention has been completed by finding that it is possible to detect a current leakage path, analyze a current in a particulate medium, analyze an electromagnetic wave, and sense, and measure a novel weak current. Partially removing the liquid does not completely remove the liquid but partially removes the particles so that the particles are in contact with the oxide film, in other words, The particles mean a state in which the liquid remains to the extent that the oxide film is in contact.

本発明によれば、従来その例を見ない、電流漏洩経路の探知や微粒子の媒体中の電流解析、電磁波の解析及びセンシングを用いる、新規な微弱電流の測定装置を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a novel weak current measuring device that uses current leakage path detection, analysis of current in a medium of fine particles, analysis of electromagnetic waves, and sensing, which is not seen in the prior art.

金属粒子や金属微粒子は、その表面が前記金属の酸化物により覆われていて、乾燥状態にあると、絶縁体としての特性を示す。そして、このような金属粒子や微粒子を、電気絶縁性あるいは僅かに電気を導通させる液体中に懸濁させた状態で、その電気抵抗を測定すると、半導体の性質を示す。半導体としての抵抗率は10〜10[Ω・cm]である。この状態にある金属粒子や金属微粒子の固液層を基板の表面に付着させ、液体を部分的に除去して得られる薄膜層に電極を介して、又は電極を介することなく、電流が存在する状態に置く、又は、電磁誘導により電流が存在する状態に置くと、金属粒子位置分布が熱的安定位置から変位する。その変位緩和が不十分な時間内に液体を蒸散させると電流が通過した軌跡を追跡できる。具体的には、電流漏洩経路の探知や微粒子媒体中の電流の解析、電磁波の解析及びンシングを行うことができる。
この現象に見られる抵抗率は液体により、また負荷電圧によっても変化する。
When the surface of the metal particle or metal fine particle is covered with the metal oxide and is in a dry state, the metal particle or the metal fine particle exhibits characteristics as an insulator. Then, when such an electrical resistance is measured in a state where such metal particles or fine particles are suspended in a liquid that is electrically insulating or slightly conducting electricity, the properties of the semiconductor are shown. The resistivity as a semiconductor is 10 4 to 10 8 [Ω · cm]. A current exists in the thin film layer obtained by attaching a solid-liquid layer of metal particles or metal fine particles in this state to the surface of the substrate and partially removing the liquid, with or without an electrode. When placed in a state or in a state where current is present due to electromagnetic induction, the metal particle position distribution is displaced from the thermally stable position. If the liquid is evaporated within a time when the displacement relaxation is insufficient, the trajectory through which the current has passed can be traced. Specifically, it is possible to detect a current leakage path, analyze a current in a fine particle medium, analyze an electromagnetic wave, and perform sensing.
The resistivity seen in this phenomenon varies with the liquid and with the load voltage.

この場合の金属には、亜鉛、アルミニウム、錫、チタン、ニッケル、タングステン、モリブデン、イリジウムなどを挙げることができる。亜鉛と酸化チタン混合物、亜鉛と酸化亜鉛混合物についても用いることができる。
これらの金属粒子や金属微粒子は金属の粉砕或いは気相合成により製造することができる。これらの金属粒子の大きさは、ある程度の範囲の分布をもつものであり、1μ〜500μ程度の範囲のものが選ばれる。これらは適宜その範囲を特定して用いられる。1μから10μ程度の範囲のものによると、良好な結果を得ている。
微粒子の場合には、10nm以上1000nm以下のものが用いられる。
酸化物に覆われるようにするためには、真空中或いは不活性気体中で製造した後に,正常な、清浄な乾燥した酸素を送り込んで金属或いは金属微粒子の表面に酸化物の皮膜を形成する。また、金属粒子を形成後、大気中に取り出すことにより酸化物の皮膜を形成することもできる。
その後に、湿度が低い状態に保たれた状態で保管する。
Examples of the metal in this case include zinc, aluminum, tin, titanium, nickel, tungsten, molybdenum, and iridium. Zinc and titanium oxide mixtures and zinc and zinc oxide mixtures can also be used.
These metal particles and metal fine particles can be produced by metal pulverization or gas phase synthesis. The size of these metal particles has a distribution within a certain range, and a size in the range of about 1 μm to 500 μm is selected. These are used by appropriately specifying the range. Good results are obtained when the thickness is in the range of 1 μm to 10 μm.
In the case of fine particles, those of 10 nm to 1000 nm are used.
In order to be covered with oxide, after manufacturing in vacuum or in an inert gas, normal, clean, dry oxygen is fed to form an oxide film on the surface of the metal or metal fine particles. Further, after forming the metal particles, the oxide film can be formed by taking it out into the atmosphere.
After that, it is stored in a state where the humidity is kept low.

液体は、電気絶縁性あるいは僅かに電気を導通させる液体である。この液体は、金属粒子又は金属微粒子を液体中に懸濁させることが必要であり、均一な懸濁液を形成することが必要であり、又、懸濁液からなる固液層を基板の表面に付着させ、この液体を部分的に除去することが要求される。このことから、
有機溶媒が用いられる。具体的には、抵抗率が10[MΩ・cm]以上の液体である。
具体的な、有機溶媒としては、アルコール、エーテル、エステルなど用いられる。
アルコールには、メチルアルコール、エチルアルコール、n-又はi-プロパノール、n-又はi-ブタノール、n-又はi-ペンタノール、n-又はi-ヘキサノール、シクロヘキサノールなどをあげることができる。
エーテルには、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどをあげることができる。
エステルには、酢酸エチル、プロピオン酸エチルなどを挙げることができる。
これらの溶剤中にはアミン、アルキルアミンやアリールアミンを添加することができる。この物質を添加すると粒子や微量子を液体になじみやすくすることができる。アルキルアミンでは、メチルアミンやエチルアミンなどをあげることができる。また、前記アルコール、エーテルを用いる場合には水を含んでいてもよい。
The liquid is an electrically insulating or slightly conducting liquid. In this liquid, it is necessary to suspend metal particles or metal fine particles in the liquid, and it is necessary to form a uniform suspension, and a solid-liquid layer composed of the suspension is formed on the surface of the substrate. It is required that the liquid adheres to and partially removes this liquid. From this,
An organic solvent is used. Specifically, it is a liquid having a resistivity of 10 [MΩ · cm] or more.
Specific examples of the organic solvent include alcohol, ether, ester and the like.
Examples of the alcohol include methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or i-propanol, n- or i-butanol, n- or i-pentanol, n- or i-hexanol, cyclohexanol and the like.
Examples of the ether include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like.
Examples of the ester include ethyl acetate and ethyl propionate.
An amine, an alkylamine or an arylamine can be added to these solvents. When this substance is added, particles and traces can be easily adapted to the liquid. Examples of alkylamines include methylamine and ethylamine. Moreover, when using the said alcohol and ether, it may contain water.

粒子又は微粒子と前記液体の割合は、粒子又は微粒子が懸濁状態を保つことできるものであれば、適宜定めることができる。懸濁状態に保つためには有機溶媒中に添加した粒子又は微粒子を十分に攪拌することにより達成される。   The ratio of the particles or fine particles to the liquid can be appropriately determined as long as the particles or fine particles can maintain a suspended state. In order to maintain a suspended state, it is achieved by sufficiently stirring particles or fine particles added in an organic solvent.

前記のようにして得られる懸濁液を、平滑な基板の表面に塗布し、有機溶媒を蒸発させて皮膜を形成する。基板の表面に、はけ塗り、アトライター、スピンコート又は浸漬などにより液体の状態で付着させる。層の厚さは、有機溶媒を蒸発により蒸発させた状態で、厚さが1mmから2mm程度のものとされる。
層中には有機溶媒がわずか残っている、湿った状態とすることが望ましい。
基板には高分子化合物のフィルム又は板状体、板状ガラス、板状セラミックなどが用いられる。高分子化合物のフィルムでは溶媒に溶け出すことがないものであれば適宜使用することができる。基板に用いられる高分子フィルム又は板状体には、以下の樹脂を挙げること具体的には、高密度ポリエチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフエニレンオキシド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂など挙げることができる。
ガラスでは、ソーダ石灰を含む軟質ガラス、これにカリ成分を添加カリガラス、高質二級、タングステンガラス、硬質一級、石英ガラスなどを用いることができる。
セラミックには、アルミナ、炭素、炭化珪素などを用いることができる。
基板の厚さは適宜定めることができる。
以上の形状を示すと、図1のAの場合である。1は、金属粒子又は金属微粒子の薄膜である。3は基板である(以下、二層型と言う)。
The suspension obtained as described above is applied to the surface of a smooth substrate, and the organic solvent is evaporated to form a film. It adheres to the surface of the substrate in a liquid state by brushing, attritor, spin coating or dipping. The thickness of the layer is about 1 mm to 2 mm when the organic solvent is evaporated by evaporation.
It is desirable to have a wet state in which a small amount of organic solvent remains in the layer.
As the substrate, a polymer compound film or plate, plate glass, plate ceramic, or the like is used. Any polymer compound film can be used as long as it does not dissolve in a solvent. Specific examples of the polymer film or plate used for the substrate include the following resins: high-density polyethylene resin, polysulfone resin, polyphenylene oxide resin, polystyrene resin, polyacrylate resin, polyamide resin , Polycarbonate resin, polyester resin, and the like.
As the glass, soft glass containing soda lime, potash glass added with a potassium component, high quality secondary, tungsten glass, hard primary, quartz glass and the like can be used.
As the ceramic, alumina, carbon, silicon carbide, or the like can be used.
The thickness of the substrate can be determined as appropriate.
The above shape is the case of A in FIG. Reference numeral 1 denotes a thin film of metal particles or metal fine particles. Reference numeral 3 denotes a substrate (hereinafter referred to as a two-layer type).

前記二層型の薄膜の表面に液体保持用の薄膜を積層することにより薄膜二層からなる
厚膜を基板の上に形成することができる。具体的な操作は前記二層型の表面に同様の手順で液体保持層を形成する(以下、三層型と言う)。
又、この三層型は二層型の薄膜を厚くしたものであり、二層型の薄膜を厚い膜として形成することもできる。
図に示すと、図1のBの場合である。1は薄膜であり、2は液体保持を可能にする薄膜である。
By laminating a thin film for liquid holding on the surface of the two-layer thin film, a thick film composed of two thin films can be formed on the substrate. Specifically, a liquid holding layer is formed on the surface of the two-layer type in the same procedure (hereinafter referred to as a three-layer type).
The three-layer type is a thickened two-layer thin film, and the two-layer thin film can be formed as a thick film.
As shown in the figure, this is the case of B in FIG. 1 is a thin film, and 2 is a thin film that enables liquid retention.

薄膜電極を設ける場合には、基板上に懸濁液を付着させる前記二層型の薄膜を形成するときに、電極を薄膜内に埋め込み、溶媒が蒸発させることにより電極を設置する。
電極は、ニッケル、炭素、白金、チタン、ステンレス鋼、アルミニウム、銅などの導電性の非腐食性材料で構成される。これを線状のものとして取り付ける。
図2は電極を取り付けたものである。1は金属薄膜、3は基板、4は電極である。
液体が薄膜層内に僅かに残っている状態とし、すなわち、液体を完全に飛ばさない状態とし、2電極間に電圧を負荷すると、薄膜層内で放電が起こり放電された後の状態が記録される。この場合に電圧の負荷時間を可能な限り短くする。一瞬の液体中の放電が記録される。その後、薄膜層の残った液体を蒸発させる。この状態でルーペ(倍率×20〜80)により、又は実体顕微鏡により、放電跡の膜表面の観察を行う。
厚膜にすると、3次元の放電跡を記録することができる。この場合には3次元構造を(ジオ)トモグラフィ、神経回路網の技術を使って解析することが行われる。
図3は検出用と放電用の電極を設置した場合である。
1は、金属粒子又は金属微粒子薄膜、3は基板、4は放電用電極、5は検出用電極である。
When a thin film electrode is provided, when forming the two-layered thin film on which the suspension is deposited on the substrate, the electrode is installed by embedding the electrode in the thin film and evaporating the solvent.
The electrode is made of a conductive non-corrosive material such as nickel, carbon, platinum, titanium, stainless steel, aluminum, or copper. This is attached as a linear object.
FIG. 2 shows an electrode attached. 1 is a metal thin film, 3 is a substrate, and 4 is an electrode.
When the liquid remains in the thin film layer slightly, that is, when the liquid is not completely blown, and a voltage is applied between the two electrodes, a discharge occurs in the thin film layer and the state after the discharge is recorded. The In this case, the voltage load time is made as short as possible. A momentary discharge in the liquid is recorded. Thereafter, the remaining liquid of the thin film layer is evaporated. In this state, the film surface of the discharge trace is observed with a magnifying glass (magnification × 20 to 80) or with a stereomicroscope.
When the film is thick, a three-dimensional discharge trace can be recorded. In this case, the three-dimensional structure is analyzed using (geo) tomography and neural network techniques.
FIG. 3 shows a case where detection and discharge electrodes are provided.
1 is a metal particle or metal fine particle thin film, 3 is a substrate, 4 is a discharge electrode, and 5 is a detection electrode.

亜鉛粒子(平均粒径7μ)1 [g]を、イソプロピルアルコール2[mL]中に添加して、基板にソーダガラス板に 面積10 [cm2]にわたり付着させた。電極にはニッケル線を用いた。
電極間距離は、1-5 [mm]であった。負荷電圧 0.5-1 [kV]とした。イソプロピルアルコールを蒸発させて、幾分残った状態とした。薄膜層の厚さはおよそ0.25 [mm]であった。電流が通過した跡が記録され、薄膜層の残った液体を蒸発させた。この状態をルーペ(倍率×20〜80)により放電跡の膜表面の観察を行った。
Zinc particles (average particle size 7 μ) 1 [g] were added in isopropyl alcohol 2 [mL], and adhered to a soda glass plate over an area of 10 [cm 2 ]. Nickel wire was used for the electrode.
The distance between the electrodes was 1-5 [mm]. The load voltage was 0.5-1 [kV]. Isopropyl alcohol was evaporated to some extent. The thickness of the thin film layer was about 0.25 [mm]. The trace of current passing was recorded and the remaining liquid in the thin film layer was evaporated. In this state, the film surface of the discharge trace was observed with a magnifying glass (magnification × 20 to 80).

Aは二層型の状態を示す図 Bは三層型の状態を示す図A is a diagram showing a two-layered state B is a diagram showing a three-layered state 二層型で電極を設置した図Figure with two-layer electrodes installed 二層型で放電用電極と検出用電極を設置した図Diagram of a two-layer type with a discharge electrode and a detection electrode installed

符号の説明Explanation of symbols

1金属粒子又は金属微粒子の薄膜層
2液体保持を可能にする薄膜層
3基板
4放電用電極
5検出用電極


1 thin film layer of metal particles or metal fine particles 2 thin film layer enabling liquid retention 3 substrate 4 discharge electrode 5 detection electrode


Claims (11)

金属粒子又は金属微粒子を電気絶縁性あるいは僅かに電気を導通させる液体中に懸濁させて得られる固液層を基板の表面に付着させ、液体を部分的に除去して得られる薄膜層からなることを特徴とする薄膜と基板からなる積層体。 It consists of a thin film layer obtained by attaching a solid-liquid layer obtained by suspending metal particles or metal fine particles in a liquid that is electrically insulating or slightly conducting electricity to the surface of the substrate and partially removing the liquid. A laminate comprising a thin film and a substrate. 前記金属粒子又は金属微粒子が酸化物の皮膜に覆われていることを特徴とする請求項1記載の薄膜と基板からなる積層体。 2. The laminate comprising a thin film and a substrate according to claim 1, wherein the metal particles or the metal fine particles are covered with an oxide film. 前記電気絶縁性あるいは僅かに電気を導通させる液体は、その抵抗率が10[MΩ・cm]以上であることを特徴とする請求項1記載の薄膜と基板からなる積層体。 2. The laminate comprising a thin film and a substrate according to claim 1, wherein the electrical insulating or slightly conducting liquid has a resistivity of 10 [MΩ · cm] or more. 前記液体を部分的に除去して得られる薄膜層は、粒子間に液体が存在するが、粒子同士は酸化物皮膜を接している状態であることを特徴とする請求項1記載の薄膜と基板からなる積層体。 2. The thin film and substrate according to claim 1, wherein the thin film layer obtained by partially removing the liquid has a liquid between the particles, but the particles are in contact with an oxide film. A laminate comprising: 前記薄膜層が厚膜であることを特徴とする請求項1記載の薄膜と基板からなる積層体。 The laminate comprising a thin film and a substrate according to claim 1, wherein the thin film layer is a thick film. 金属粒子又は金属微粒子を電気絶縁性あるいは僅かに電気を導通させる液体中に懸濁させて得られる固液層を付着させる前に電極を基板上に置き、液体を部分除去して得られる薄膜層に電極を設けたことを特徴とする請求項1から5いずれか記載の薄膜と基板からなる積層体。 A thin film layer obtained by placing an electrode on a substrate and partially removing the liquid before attaching a solid-liquid layer obtained by suspending metal particles or metal fine particles in a liquid that is electrically insulating or slightly conducting electricity. 6. A laminate comprising a thin film and a substrate according to claim 1, wherein an electrode is provided on the substrate. 前記薄膜層に電極を設けた電極は薄膜層内に放電するための電極であることを特徴とする請求項6記載の薄膜と基板からなる積層体。 7. A laminate comprising a thin film and a substrate according to claim 6, wherein the electrode provided with an electrode on the thin film layer is an electrode for discharging into the thin film layer. 前記薄膜層に電極を設けた電極は薄膜層内に電流を導くための電極が、放電用電極と検出用電極が個別に設けられていることを特徴とする請求項6記載の薄膜と基板からなる積層体。 7. The thin film and substrate according to claim 6, wherein the electrode provided with an electrode in the thin film layer is provided with an electrode for conducting current in the thin film layer, and a discharge electrode and a detection electrode are separately provided. Laminated body. 前記請求項1から6いずれか記載の薄膜と基板からなる積層体からなることを特徴とする電流の存在、電流が通過した軌跡、電流漏洩経路の探知用装置。 An apparatus for detecting the presence of a current, a trajectory through which the current has passed, and a current leakage path, characterized by comprising a laminate comprising the thin film and the substrate according to any one of claims 1 to 6. 前記請求項1から6いずれか記載の薄膜と基板からなる積層体からなることを特徴とする微粒子媒体中の電流の解析装置。 An apparatus for analyzing an electric current in a fine particle medium, comprising a laminate comprising the thin film according to any one of claims 1 to 6 and a substrate. 前記請求項1から6いずれか記載の薄膜と基板からなる積層体からなることを特徴とする電磁波の探知及び解析装置。
An electromagnetic wave detection and analysis device comprising a laminate comprising a thin film and a substrate according to any one of claims 1 to 6.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10246729A (en) * 1997-03-04 1998-09-14 Canon Inc Minute tip and probe using the same for detecting minute current or minute force, and their manufacture
JP2002063340A (en) * 2000-08-22 2002-02-28 Nec Corp System and method for inquiring, retrieving, and contracting research and development theme
JP2002250752A (en) * 2001-02-23 2002-09-06 Canon Inc Method and apparatus for measurement of surge-current resistant amount of element

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10246729A (en) * 1997-03-04 1998-09-14 Canon Inc Minute tip and probe using the same for detecting minute current or minute force, and their manufacture
JP2002063340A (en) * 2000-08-22 2002-02-28 Nec Corp System and method for inquiring, retrieving, and contracting research and development theme
JP2002250752A (en) * 2001-02-23 2002-09-06 Canon Inc Method and apparatus for measurement of surge-current resistant amount of element

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