JP2006331763A - Plasma processing device and plasma processing method using the same - Google Patents

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Motoshige Mizuno
元重 水野
Naoki Kobayashi
小林  直樹
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma processing device capable of processing an object to be processed continuously or in a manner of semi-batch, capable of reducing consumption amount of plasma generating gas, and an effective plasma processing method using the same. <P>SOLUTION: The plasma processing device is composed of a plasma generating means 1, a transport means 2, and in addition, a plasma generating gas (light gas) introducing means 3 capable of introducing light gas lighter than air as plasma generating gas G to the plasma generating means 1 and neighboring area thereof, and further, a gas storing means 4 arranged so as to cover the plasma generating means 1 from upper part thereof, capable of intensively storing plasma generating gas (light gas) G introduced from the plasma generating gas (light gas) introducing means 3 to the plasma generating means 1 and neighboring area thereof. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマ処理装置及びそれを用いたプラズマ処理方法に関する。さらに詳しくは、被処理物を連続的又はセミバッチ的に処理することが可能であるとともに、プラズマ発生用ガスの使用量を低減することが可能なプラズマ処理装置及びそれを用いた効率的なプラズマ処理方法に関する。   The present invention relates to a plasma processing apparatus and a plasma processing method using the same. More specifically, a plasma processing apparatus capable of processing an object to be processed continuously or semi-batch and reducing the amount of plasma generating gas used, and an efficient plasma processing using the same. Regarding the method.

シリンジ、ブリスターパック等の医療用器材、これらの廃棄物、食料品等の包装材料等は、使用される前に殺菌・滅菌処理をすることが必要である。このような殺菌・滅菌処理するための装置・方法として、例えば、粗面化表面を有するガス密閉チャンバーと、物品(被殺菌物)収容帯域と、バリヤー手段とからなる殺菌装置、及び負荷を、粗面化表面を有するガス密閉チャンバー内に装入する工程と、殺菌性流体をチャンバー内に導入する工程と、負荷を殺菌性流体に露呈させる工程と、チャンバー内でプラズマを発生させる工程と、プラズマを一定時間維持する工程とからなり、負荷に接触する活性種の定常濃度を増大させることができる殺菌方法が開示されている(特許文献1参照)。
特表平11−505166号公報
Medical devices such as syringes and blister packs, packaging materials such as wastes and foods, etc. need to be sterilized and sterilized before being used. As such an apparatus / method for sterilization / sterilization treatment, for example, a gas-sealed chamber having a roughened surface, an article (object to be sterilized) containing zone, and a sterilizer comprising a barrier means, and a load, Charging a gas-tight chamber having a roughened surface; introducing a bactericidal fluid into the chamber; exposing a load to the bactericidal fluid; generating plasma in the chamber; Disclosed is a sterilization method that includes a step of maintaining plasma for a certain period of time and can increase the steady concentration of active species in contact with a load (see Patent Document 1).
Japanese National Patent Publication No. 11-505166

しかしながら、特許文献1に開示された殺菌装置及び殺菌方法は、物品(被殺菌物)を所定数だけまとめたものをその都度バッチ処理するものであって、殺菌効率の面で必ずしも十分に満足し得るものではないという問題があった。   However, the sterilization apparatus and sterilization method disclosed in Patent Document 1 batch-processes a predetermined number of articles (substances to be sterilized) each time, and is sufficiently satisfactory in terms of sterilization efficiency. There was a problem of not getting.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、被処理物を連続的又はセミバッチ的に処理することが可能であるとともに、プラズマ発生用ガスの使用量を低減することが可能なプラズマ処理装置及びそれを用いた効率的なプラズマ処理方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problem, and can treat the object to be treated continuously or semi-batch, and can reduce the amount of plasma generating gas used. It is an object of the present invention to provide a plasma processing apparatus and an efficient plasma processing method using the same.

上記目的を達成するため、本発明によれば、以下のプラズマ処理装置及びそれを用いたプラズマ処理方法が提供される。   In order to achieve the above object, according to the present invention, the following plasma processing apparatus and a plasma processing method using the same are provided.

[1]対向電極の相互間のプラズマ発生用ガスを含む雰囲気中でプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生手段と、被処理物を前記プラズマ発生手段に搬入させること、前記プラズマ発生手段の内部を通過させること及び前記プラズマ発生手段から搬出させることがそれぞれ可能であるとともに、前記被処理物が前記プラズマ発生手段中を通過する際に、前記被処理物を前記プラズマ発生手段で発生させたプラズマによって処理することが可能な搬送手段とを備えたプラズマ処理装置であって、前記プラズマ発生用ガスとして空気よりも軽量な軽量ガスを前記プラズマ発生手段及びその近傍に導入することが可能なプラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段、並びに、前記プラズマ発生手段をその上部から覆蓋するように配設された、前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段から導入された前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)を前記プラズマ発生手段及びその近傍に集中的に貯留させることが可能なガス貯留手段をさらに備えてなることを特徴とするプラズマ処理装置。 [1] Plasma generating means capable of generating plasma in an atmosphere containing a gas for generating plasma between opposing electrodes, carrying an object to be processed into the plasma generating means, and the inside of the plasma generating means And plasma generated by the plasma generating means when the object to be processed passes through the plasma generating means. A plasma processing apparatus including a transporting means capable of processing by the plasma generating apparatus, wherein a lighter gas than the air as the plasma generating gas can be introduced into the plasma generating means and the vicinity thereof Gas (light gas) introducing means, and the plasma generating means are disposed so as to cover from above, The plasma generating gas (light gas) introduced from the plasma generating gas (light gas) introducing means is further provided with a gas storing means capable of concentratingly storing the plasma generating gas (light gas) in the vicinity of the plasma generating means. A plasma processing apparatus.

[2]前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)がヘリウムガスである前記[1]に記載のプラズマ処理装置。 [2] The plasma processing apparatus according to [1], wherein the plasma generating gas (light gas) is helium gas.

[3]前記搬送手段が、前記被処理物を前記プラズマ発生手段に搬入させることが可能な搬入部と、前記プラズマ発生手段の内部を通過させることが可能な通過部と、前記プラズマ発生手段から搬出させることが可能な搬出部とを有し、
前記プラズマ発生手段、前記ガス貯留手段及び前記搬送手段の前記通過部が、前記搬送手段の前記搬入部及び前記搬出部よりもそれぞれ上方に配設されてなるとともに、前記搬送手段が、前記被処理物を、前記搬入部の配設位置から前記通過部の配設位置まで上昇させること及び前記通過部の配設位置から前記搬出部の配設位置まで下降させることがそれぞれ可能な昇降部をさらに有する前記[1]又は[2]に記載のプラズマ処理装置。
[3] From the plasma generation unit, the transfer unit can transfer the workpiece to the plasma generation unit, a passage unit that can pass through the plasma generation unit, and the plasma generation unit. An unloading unit that can be unloaded,
The passing portions of the plasma generating means, the gas storage means, and the transport means are disposed above the carry-in section and the carry-out section of the transport means, respectively, and the transport means is the object to be processed. A lifting part capable of raising an object from the placement position of the carry-in part to the placement position of the passage part and lowering the object from the placement position of the passage part to the placement position of the carry-out part; The plasma processing apparatus according to [1] or [2].

[4]前記被処理物を、前記プラズマ発生手段で発生させたプラズマによって連続的又はセミバッチ的に処理することが可能である前記[1]〜[3]のいずれかに記載のプラズマ処理装置。 [4] The plasma processing apparatus according to any one of [1] to [3], wherein the object to be processed can be processed continuously or semi-batch by plasma generated by the plasma generating means.

[5]前記被処理物の処理が、被殺菌・滅菌物の殺菌・滅菌処理である前記[1]〜[4]のいずれかに記載のプラズマ処理装置。 [5] The plasma processing apparatus according to any one of [1] to [4], wherein the processing of the object to be processed is a sterilizing / sterilizing process of the object to be sterilized.

[6]前記搬送手段が、前記被処理物(被殺菌・滅菌物)とともに前記プラズマ発生手段の内部を通過するとともにプラズマ処理されて前記被処理物(被殺菌・滅菌物)における前記殺菌・滅菌処理の検証が可能なバイオロジカルインディケータを取り付けるためのバイオロジカルインディケータ取り付け部を有する前記[5]に記載のプラズマ処理装置。
[7]前記プラズマ発生手段が、その内部に存在する前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)中の菌の有無の検証のためのサンプリングを可能とするサンプリングノズルを有する前記[5]又は[6]に記載のプラズマ処理装置。
[8]前記[1]〜[7]のいずれかに記載のプラズマ処理装置を用いて、被処理物を処理することを特徴とするプラズマ処理方法。
[6] The conveying means passes through the inside of the plasma generating means together with the object to be treated (sterilized / sterilized material) and is subjected to plasma treatment to sterilize / sterilize the object to be treated (sterilized / sterilized material). The plasma processing apparatus according to [5], further including a biological indicator mounting portion for mounting a biological indicator capable of verifying processing.
[7] The above-mentioned [5] or [6], wherein the plasma generating means has a sampling nozzle that enables sampling for verification of the presence or absence of bacteria in the plasma generating gas (light gas) existing in the plasma generating means The plasma processing apparatus according to 1.
[8] A plasma processing method for processing an object to be processed using the plasma processing apparatus according to any one of [1] to [7].

[9]前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)に加えて、0.1〜25%の酸素ガスを前記ガス貯留手段に導入する前記[8]に記載のプラズマ処理方法。 [9] The plasma processing method according to [8], wherein 0.1 to 25% oxygen gas is introduced into the gas storage means in addition to the plasma generating gas (light gas).

[10]前記被処理物の近傍に水分を配設した後に、又は前記被処理物に水分を予め噴霧若しくは添加した後に、プラズマ処理する前記[8]又は[9]に記載のプラズマ処理方法。 [10] The plasma processing method according to [8] or [9], in which plasma processing is performed after water is disposed in the vicinity of the processing object or after water is sprayed or added to the processing object in advance.

[11]前記被処理物の処理が、被殺菌・滅菌物の殺菌・滅菌処理である前記[8]〜[10]のいずれかに記載のプラズマ処理方法。 [11] The plasma processing method according to any one of [8] to [10], wherein the processing of the object to be processed is a sterilizing / sterilizing process of the object to be sterilized.

[12]前記搬送手段として、前記被処理物(被殺菌・滅菌物)とともに前記プラズマ発生手段の内部を通過するとともにプラズマ処理されて前記被処理物(被殺菌・滅菌物)における前記殺菌・滅菌処理の検証が可能なバイオロジカルインディケータを取り付けるためのバイオロジカルインディケータ取り付け部を有するものを用いて、前記被処理物(被殺菌・滅菌物)の前記殺菌・滅菌処理の検証をする前記[11]に記載のプラズマ処理方法。 [12] The sterilization / sterilization of the object to be treated (sterilized / sterilized material) as the conveying means passes through the inside of the plasma generating means together with the object to be treated (sterilized / sterilized material). [11] The verification of the sterilization / sterilization treatment of the object to be processed (sterilized / sterilized) is performed using a biological indicator mounting part for attaching a biological indicator capable of verifying the process. The plasma processing method as described in any one of.

[13]前記プラズマ発生手段として、その内部に存在する前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)中の菌の有無の検証のためのサンプリングが可能なサンプリングノズルを有するものを用いて、前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)中の菌の有無の検証をする前記[11]又は[12]に記載のプラズマ処理方法。 [13] Using the plasma generating means having a sampling nozzle capable of sampling for verifying the presence or absence of bacteria in the plasma generating gas (light gas) existing in the plasma generating means, The plasma processing method according to [11] or [12], wherein the presence or absence of bacteria in the gas (light gas) is verified.

本発明によって、被処理物を連続的又はセミバッチ的に処理することが可能であるとともに、プラズマ発生用ガスの使用量を低減することが可能なプラズマ処理装置及びそれを用いた効率的なプラズマ処理方法が提供される。   INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a plasma processing apparatus capable of processing an object to be processed continuously or semi-batch and reducing the amount of plasma generating gas used, and an efficient plasma processing using the same. A method is provided.

以下、本発明を実施するための最良の形態を図面を参照しつつ具体的に説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図1は、本発明のプラズマ処理装置における、被処理物としてシリンジ等の立体的器材を用いた場合であって、被処理物を連続的に処理することが可能な、第1の実施の形態を模式的に示す説明図である。図2は、図1に示す第1の実施の形態において電極として平板型電極を用いた場合の具体例を示す斜視図である。   FIG. 1 shows a case where a three-dimensional device such as a syringe is used as an object to be processed in the plasma processing apparatus of the present invention, and the object to be processed can be continuously processed. It is explanatory drawing which shows this typically. FIG. 2 is a perspective view showing a specific example in the case where a flat electrode is used as an electrode in the first embodiment shown in FIG.

図1、2に示すように、第1の実施の形態のプラズマ処理装置は、対向電極11、12の相互間のプラズマ発生用ガスGを含む雰囲気中でプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生手段1と、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)をプラズマ発生手段1に搬入させること、プラズマ発生手段1の内部を通過させること及びプラズマ発生手段1から搬出させることがそれぞれ可能であるとともに、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)がプラズマ発生手段1中を通過する際に、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)をプラズマ発生手段1で発生させたプラズマによって処理することが可能な搬送手段2とを備えたプラズマ処理装置10であって、プラズマ発生用ガスGとして空気よりも軽量な軽量ガスをプラズマ発生手段1及びその近傍に導入することが可能なプラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3、並びに、プラズマ発生手段1をその上部から覆蓋するように配設された、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3から導入されたプラズマ発生用ガス(軽量ガス)Gをプラズマ発生手段1及びその近傍に集中的に貯留させることが可能なガス貯留手段4をさらに備えてなることを特徴とする。   As shown in FIGS. 1 and 2, the plasma processing apparatus according to the first embodiment is capable of generating plasma in an atmosphere containing a plasma generating gas G between the counter electrodes 11 and 12. The means 1 and the object to be processed S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) can be carried into the plasma generating means 1, passed through the inside of the plasma generating means 1, and unloaded from the plasma generating means 1. At the same time, when the object to be processed S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) passes through the plasma generating means 1, the object to be processed S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) was generated by the plasma generating means 1. A plasma processing apparatus 10 having a conveying means 2 capable of processing with plasma, and generating a light-weight gas that is lighter than air as a plasma generating gas G Plasma generating gas (light gas) introducing means 3 that can be introduced into the stage 1 and the vicinity thereof, and plasma generating gas (light gas) disposed so as to cover the plasma generating means 1 from above. ) The plasma generating gas (lightweight gas) G introduced from the introducing means 3 is further provided with the gas storing means 4 capable of concentratingly storing the gas in the plasma generating means 1 and the vicinity thereof.

また、搬送手段2は、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)をプラズマ発生手段1に搬入させることが可能な搬入部21と、プラズマ発生手段1の内部を通過させることが可能な通過部22と、プラズマ発生手段1から搬出させることが可能な搬出部23とを有し、プラズマ発生手段1、ガス貯留手段4及び搬送手段2の通過部22が、搬送手段2の搬入部21及び搬出部23よりもそれぞれ上方に配設されてなるとともに、搬送手段2が、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)を、搬入部21の配設位置から通過部22の配設位置まで上昇させること及び通過部22の配設位置から搬出部23の配設位置まで下降させることがそれぞれ可能な昇降部24をさらに有することが好ましい。   Further, the conveying means 2 can pass the workpiece S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) into the plasma generating means 1 and the inside of the plasma generating means 1. The passage section 22 and the unloading section 23 that can be unloaded from the plasma generation means 1, and the passage section 22 of the plasma generation means 1, the gas storage means 4, and the conveyance means 2 are the carry-in section 21 of the conveyance means 2. In addition, the transfer means 2 disposes the workpiece S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) from the disposition position of the carry-in portion 21 to the disposition portion 22. It is preferable to further include an elevating part 24 that can be raised to a position and lowered from the position where the passage part 22 is disposed to the position where the carry-out part 23 is disposed.

第1の実施の形態においては、搬送手段2の搬入部21、通過部22及び搬出部23として、ベルトがローラーによって回転するベルトコンベヤーが用いられている。この場合、図2に示すように、コンベヤーベルトにはプラズマが被処理物に均一に照射されるようにメッシュ状のもの(メッシュベルト29)を用いることが好ましい。このメッシュベルト29には絶縁材質を用いるが、導電性の材質を用い、アースを取り、電極11とメッシュベルト29との間、及び電極12とメッシュベルト29との間で放電を行わせてもよい。また、メッシュベルト29の代わりにコロを用いたコンベヤーシステムとし、コロを電極として電極11、12間で放電を起こすように構成したものであってもよい。さらに、コロにアースを取り、コロと電極11又は電極12との間で放電を起こすように構成したものであってもよい。通過部22においては、複数本のローラー、ベルト、被処理物置き台(ストッパー)等を用い、搬入部21から受け取った被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)を上昇させるとともに、搬出部23に向けて下降させて、昇降部24を形成するように構成している。昇降部24としては、例えば、被処理物を保持するためのストッパー25を取り付けたベルトコンベアのように構成したものを挙げることができる。   In the first embodiment, a belt conveyor in which a belt is rotated by a roller is used as the carry-in unit 21, the passage unit 22, and the carry-out unit 23 of the transport unit 2. In this case, as shown in FIG. 2, it is preferable to use a mesh belt (mesh belt 29) as the conveyor belt so that the workpiece is uniformly irradiated with plasma. Although an insulating material is used for the mesh belt 29, a conductive material may be used, grounded, and discharge may be performed between the electrode 11 and the mesh belt 29 and between the electrode 12 and the mesh belt 29. Good. Further, a conveyor system using a roller instead of the mesh belt 29 may be used, and a roller may be used as an electrode to cause discharge between the electrodes 11 and 12. Further, the roller may be grounded and a discharge may be generated between the roller and the electrode 11 or the electrode 12. In the passage part 22, a plurality of rollers, a belt, a work object table (stopper), etc. are used to raise the work object S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) received from the carry-in part 21 and carry it out. The elevating part 24 is formed by being lowered toward the part 23. As the raising / lowering part 24, what was comprised like the belt conveyor which attached the stopper 25 for hold | maintaining a to-be-processed object can be mentioned, for example.

本実施の形態において用いられる被処理物Sとしては、医療用器材、食料品用包装シート等を挙げることができる。中でも高温処理を適用することができないものに対して特に有効である。具体的には、ブリスターパック、ブリスターパック用シート、シリンジ、シリンジ用ガスケット、バイアル用ゴム栓、注射針、ガーゼ、不織布等の医療用器材;食料品用包装シート;半導体ウエハー;液晶ガラス基板;セラミックス基板等を挙げることができる。また、抗体医薬やたんぱく質製剤を注入したプレフィルドシリンジ、あるいはプレフィルドシリンジを封入したブリスターパック等の殺菌・滅菌にも用いることができる。なお、被処理物Sの形状としては、第1の実施の形態におけるシリンジ等の立体的器材S1、後述する第2〜第3の実施の形態における長尺シートS2、短尺シートS3等のいずれの形状のものであってもよい。   Examples of the object to be processed S used in the present embodiment include medical equipment, food packaging sheets, and the like. In particular, it is particularly effective for those to which high temperature treatment cannot be applied. Specifically, blister packs, blister pack sheets, syringes, syringe gaskets, vial rubber stoppers, injection needles, gauze, non-woven fabrics and other medical equipment; food packaging sheets; semiconductor wafers; liquid crystal glass substrates; ceramics A substrate etc. can be mentioned. It can also be used for sterilization and sterilization of prefilled syringes injected with antibody drugs and protein preparations, or blister packs containing prefilled syringes. In addition, as a shape of the to-be-processed object S, any one of three-dimensional equipment S1 such as a syringe in the first embodiment, a long sheet S2 and a short sheet S3 in second to third embodiments to be described later. It may be of a shape.

本実施の形態において用いられるプラズマ発生用ガス(軽量ガス)Gとしては、空気よりも軽量であり、励起電圧が低いガスであれば特に制限はないが、例えば、希ガス(ヘリウム、アルゴン、ネオン等)、窒素ガス、酸素ガス、水素、空気(大気)、塩素ガス、アンモニアガス、SF6、CF系ガス等を挙げることができる。中でも、最も励起電圧が低く、放電が起こり易いことから、ヘリウムガスであることが好ましい。また、過酸化水素、過酢酸、エタノール、メタノール、水等の液体を噴霧したり、蒸発させて霧状にしたものを加えてもよく、被処理物(被殺菌・滅菌物)の近傍に水分を配設してもよい。このように構成することによって、OHラジカル等を生成させ、殺菌・滅菌用途や半導体ウエハー、ガラス上の有機物除去、表面改質等の処理に用いることができる。また、上述のガス及び液体は単独で又は他のガスや液体と組み合わせた混合物として用いてもよい。また、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)に加えて、0.1〜25%の酸素ガスをガス貯留手段に導入してもよい。このように構成することによって、酸素を活性化させ、酸素ラジカル、オゾンガスを生成させ、殺菌・滅菌用途や半導体ウエハー、ガラス上の有機物除去、表面改質等の処理に用いることができる。なお、ヘリウムガス等はガス貯留手段から僅かに漏洩することがあるため、定期的にプラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段から補充することが好ましい。   The plasma generating gas (light gas) G used in the present embodiment is not particularly limited as long as it is lighter than air and has a lower excitation voltage. For example, rare gas (helium, argon, neon) Etc.), nitrogen gas, oxygen gas, hydrogen, air (atmosphere), chlorine gas, ammonia gas, SF6, CF-based gas and the like. Among these, helium gas is preferred because it has the lowest excitation voltage and discharge is likely to occur. In addition, liquids such as hydrogen peroxide, peracetic acid, ethanol, methanol, water, etc. may be sprayed or evaporated to form a mist, and moisture may be added near the object to be treated (sterilized / sterilized). May be provided. By comprising in this way, OH radical etc. can be produced | generated and it can use for processes, such as a sterilization / sterilization use, a semiconductor wafer, organic substance removal on a glass, and surface modification. Moreover, you may use the above-mentioned gas and liquid individually or as a mixture combined with other gas and liquid. Further, in addition to the plasma generating gas (light gas), 0.1 to 25% oxygen gas may be introduced into the gas storage means. By comprising in this way, oxygen can be activated, an oxygen radical, ozone gas can be produced | generated, and it can use for processes, such as a disinfection / sterilization use, a semiconductor wafer, organic substance removal on a glass, and surface modification. Since helium gas or the like may slightly leak from the gas storage means, it is preferable to periodically replenish from the plasma generation gas (light gas) introduction means.

本実施の形態に用いられるプラズマ発生手段としては特に制限はなく、汎用されているものを適宜用いることができる。例えば、図2に示すように、誘電体からなる基板13内に電極11、12が埋設されているものを挙げることができる。ここで、基板13を構成する誘電体材料としては特に制限はないが、例えば、セラミックスを挙げることができる。中でも、アルミナ、マグネシア、ジルコニア、シリカ、ムライト、スピネル、コージェライト、窒化アルミニウム、窒化珪素、チタン−バリウム系酸化物、バリウム−チタン−亜鉛系酸化物等が好ましい。基板13は、いわゆるグリーンシート積層法によって作製することができる。   There is no restriction | limiting in particular as a plasma generation means used for this Embodiment, The thing generally used can be used suitably. For example, as shown in FIG. 2, a substrate in which electrodes 11 and 12 are embedded in a dielectric substrate 13 can be used. Here, although there is no restriction | limiting in particular as a dielectric material which comprises the board | substrate 13, For example, ceramics can be mentioned. Of these, alumina, magnesia, zirconia, silica, mullite, spinel, cordierite, aluminum nitride, silicon nitride, titanium-barium oxide, barium-titanium-zinc oxide, and the like are preferable. The substrate 13 can be produced by a so-called green sheet lamination method.

また、電極の材質についても特に制限はなく、所定の導電性を有する材料であればよい。具体的には、タングステン、モリブデン、マンガン、チタン、クロム、ジルコニウム、ニッケル、銀、鉄、銅、白金、パラジウム、又はこれらの合金を挙げることができる。また、電極の形状は、平板、線状、同軸円筒状等のいずれであってもよい。平面的パターンは、活性種の種類、寿命、生成量に合わせて適宜選択することができる。例えば、電極の平面的パターンを櫛歯状としたり、網目状としてもよい。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular also about the material of an electrode, What is necessary is just a material which has predetermined electroconductivity. Specifically, tungsten, molybdenum, manganese, titanium, chromium, zirconium, nickel, silver, iron, copper, platinum, palladium, or an alloy thereof can be given. In addition, the shape of the electrode may be any of a flat plate, a linear shape, a coaxial cylindrical shape, and the like. The planar pattern can be appropriately selected according to the type of active species, the lifetime, and the generation amount. For example, the planar pattern of the electrodes may be comb-like or mesh-like.

上述のプラズマ発生用ガス(軽量ガス)Gは、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3からガス貯留手段4に導入されるが、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3としては特に制限はないが、例えば、市販のガスボンベからレギュレーターを介して減圧した軽量ガスをさらに流量計により流量を制御した構成のものを好適例として挙げることができる。   The plasma generating gas (light gas) G is introduced from the plasma generating gas (light gas) introduction means 3 to the gas storage means 4, but the plasma generating gas (light gas) introduction means 3 is particularly limited. However, for example, a light gas gas decompressed from a commercially available gas cylinder through a regulator and a flow rate controlled by a flow meter can be cited as a suitable example.

また、ガス貯留手段4としては、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)Gをプラズマ発生手段1及びその近傍に集中的に貯留させることが可能なものであれば特に制限はないが、例えば、ステンレス、ガラス、セラミックス等の無機材料、あるいはアクリル、ポリプロピレン等の樹脂材質の箱形状で上端が密閉された構成のものを好適例として挙げることができる。   The gas storage means 4 is not particularly limited as long as the gas for generating plasma (lightweight gas) G can be stored in a concentrated manner in the plasma generation means 1 and its vicinity. As a suitable example, an inorganic material such as glass or ceramics, or a box-shaped resin material such as acrylic or polypropylene, whose upper end is hermetically sealed can be given.

図3は、本発明のプラズマ処理装置における、被処理物として長尺シートを用いた場合であって、被処理物を連続的に処理することが可能な、第2の実施の形態を模式的に示す説明図である。図4は、図3に示す第2の実施の形態において電極として平板型電極を用いた場合の具体例を示す斜視図である。   FIG. 3 schematically shows a second embodiment in which a long sheet is used as an object to be processed in the plasma processing apparatus of the present invention, and the object to be processed can be continuously processed. It is explanatory drawing shown in. FIG. 4 is a perspective view showing a specific example in the case where a flat electrode is used as an electrode in the second embodiment shown in FIG.

図3、4に示すように、第2の実施の形態のプラズマ処理装置は、被処理物Sとして長尺シートS2を用いた場合であるが、この場合は、メッシュベルト(図2参照)に乗せず、長尺シートS2自体をベルトに見たてて搬送することができる。すなわち、ローラー26に巻き付けた処理前の長尺シートS2のロールを、複数本のローラーを用い、搬送手段2の搬入部21から通過部22に向けて被処理物S(長尺シートS2)を上昇させるとともに、搬出部23に向けて下降させて、昇降部24を形成するように構成している。また、搬出部23においてはローラー27に処理後の長尺シートS2を巻き付けてロール形状に巻き取っている。   As shown in FIGS. 3 and 4, the plasma processing apparatus of the second embodiment is a case where a long sheet S2 is used as the object to be processed S. In this case, the mesh belt (see FIG. 2) is used. The long sheet S2 itself can be viewed as a belt and transported without being placed. That is, the roll of the long sheet S2 before the process wound around the roller 26 is used to move the workpiece S (long sheet S2) from the carry-in part 21 of the conveying means 2 toward the passing part 22 using a plurality of rollers. While raising and lowering, it is comprised toward the carrying-out part 23, and the raising / lowering part 24 is formed. Moreover, in the carrying-out part 23, the long sheet S2 after a process is wound around the roller 27, and it winds up in roll shape.

図5は、本発明のプラズマ処理装置における、被処理物として短尺シートを用いた場合であって、被処理物を連続的に処理することが可能な、第3の実施の形態を模式的に示す説明図である。図6は、図5に示す第3の実施の形態において電極として平板型電極を用いた場合の具体例を示す斜視図であり、図7は、図5に示す第3の実施の形態において電極として線状型電極及び平板型電極を用いた場合の具体例を示す斜視図である。   FIG. 5 schematically shows a third embodiment in which a short sheet is used as an object to be processed in the plasma processing apparatus of the present invention, and the object to be processed can be continuously processed. It is explanatory drawing shown. FIG. 6 is a perspective view showing a specific example when a flat plate-type electrode is used as an electrode in the third embodiment shown in FIG. 5, and FIG. 7 is an electrode in the third embodiment shown in FIG. It is a perspective view which shows the specific example at the time of using a linear type electrode and a flat plate type electrode as.

図5〜7に示すように、第3の実施の形態のプラズマ処理装置は、被処理物Sとして短尺シートS3を用いた場合であり、基本的な構成は、上述の第1の実施の形態と同様であるが、短尺シートS3が、搬送手段2の搬入部21、通過部22及び搬出部23(特に昇降部24)から逸脱しないように、ガイドローラー28が配設されている点が異なっている。   As shown in FIGS. 5-7, the plasma processing apparatus of 3rd Embodiment is a case where the short sheet S3 is used as the to-be-processed object S, and a fundamental structure is the above-mentioned 1st Embodiment. The guide roller 28 is disposed so that the short sheet S3 does not deviate from the carry-in part 21, the passage part 22 and the carry-out part 23 (particularly the lifting part 24) of the conveying means 2. ing.

図8(a)は、本発明のプラズマ処理装置における、被処理物としてシリンジ等の立体的器材を用い、電極として平行平板型電極を用いた場合であって、被処理物をセミバッチ的に処理することが可能な、第4の実施の形態を模式的に示す説明図であり、被処理物を搬入部で通過部の真下まで移動する状態を示し、図8(b)は、被処理物を通過部の真下から昇降部によって通過部まで移動する状態を示し、図8(c)は、被処理物を通過部(プラズマ発生手段)で処理する状態を示し、図8(d)は、被処理物を通過部から昇降部によって通過部の真下まで移動する状態を示し、図8(e)は、通過部の真下から搬出部で搬出する状態を示す。図9は、図8に示す第4の実施の形態の一の具体例を示す斜視図であり、図10は、図8に示す第4の実施の形態の他の具体例を示す斜視図である。   FIG. 8 (a) shows a case where a three-dimensional device such as a syringe is used as an object to be processed and a parallel plate electrode is used as an electrode in the plasma processing apparatus of the present invention. FIG. 8B is an explanatory view schematically showing a fourth embodiment that can be performed, and shows a state in which the object to be processed is moved to a position just below the passage part at the carry-in part, and FIG. 8 (c) shows a state in which the object to be processed is processed by the passage (plasma generating means), and FIG. 8 (d) The state which moves a to-be-processed object from a passage part to right under a passage part by a raising / lowering part is shown, and FIG.8 (e) shows the state carried out by the carrying-out part from right under a passage part. FIG. 9 is a perspective view showing one specific example of the fourth embodiment shown in FIG. 8, and FIG. 10 is a perspective view showing another specific example of the fourth embodiment shown in FIG. is there.

図8〜10に示すように、第4の実施の形態のプラズマ処理装置は、対向電極11、12の相互間のプラズマ発生用ガスGを含む雰囲気中でプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生手段1と、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)をプラズマ発生手段1に搬入させること、プラズマ発生手段1の内部を通過させること及びプラズマ発生手段1から搬出させることがそれぞれ可能であるとともに、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)がプラズマ発生手段1中を通過する際に、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)をプラズマ発生手段1で発生させたプラズマによって処理することが可能な搬送手段2とを備えたプラズマ処理装置10であって、プラズマ発生用ガスGとして空気よりも軽量な軽量ガスをプラズマ発生手段1及びその近傍に導入することが可能なプラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3、並びに、プラズマ発生手段1をその上部から覆蓋するように配設された、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3から導入されたプラズマ発生用ガス(軽量ガス)Gをプラズマ発生手段1及びその近傍に集中的に貯留させることが可能なガス貯留手段4をさらに備えてなることを特徴とする。   As shown in FIGS. 8 to 10, the plasma processing apparatus according to the fourth embodiment is capable of generating plasma in an atmosphere containing a plasma generating gas G between the counter electrodes 11 and 12. The means 1 and the object to be processed S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) can be carried into the plasma generating means 1, passed through the inside of the plasma generating means 1, and unloaded from the plasma generating means 1. At the same time, when the object to be processed S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) passes through the plasma generating means 1, the object to be processed S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) was generated by the plasma generating means 1. A plasma processing apparatus 10 having a conveying means 2 capable of processing by plasma, and generating a light-weight gas that is lighter than air as a plasma generating gas G. Plasma generating gas (light gas) introducing means 3 that can be introduced in the vicinity of the means 1 and plasma generating gas (light gas) disposed so as to cover the plasma generating means 1 from above. ) The plasma generating gas (lightweight gas) G introduced from the introducing means 3 is further provided with the gas storing means 4 capable of concentratingly storing the gas in the plasma generating means 1 and the vicinity thereof.

また、搬送手段2は、図8(a)に示すように、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)を後述する通過部22(図8(c)参照)の真下まで移動させてプラズマ発生手段1に搬入させることが可能な搬入部21と、図8(c)に示すように、プラズマ発生手段1の内部を通過させて、プラズマ発生手段1で発生したプラズマによって被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)を処理させることが可能な通過部22と、図8(e)に示すように、プラズマ発生手段1(通過部22(図8(c)参照))の真下から搬出させることが可能な搬出部23とを有し、プラズマ発生手段1、ガス貯留手段4及び搬送手段2の通過部22が、搬送手段2の搬入部21及び搬出部23よりもそれぞれ上方に配設されてなるとともに、図8(b)、(d)に示すように、搬送手段2が、被処理物S(シリンジ等の立体的器材S1)を、搬入部21の配設位置(通過部22の真下の位置)から通過部22の配設位置まで上昇させること及び通過部22の配設位置から搬出部23の配設位置(通過部22の真下の位置)まで下降させることがそれぞれ可能な昇降部24をさらに有することが好ましい。   Further, as shown in FIG. 8A, the conveying means 2 moves the object to be processed S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) to a position just below a passage portion 22 (see FIG. 8C) described later. As shown in FIG. 8 (c), the carry-in portion 21 that can be carried into the plasma generation means 1 and the inside of the plasma generation means 1 to pass through the plasma generation means 1, and the workpiece S (Passing part 22 capable of processing a three-dimensional device S1 such as a syringe) and, as shown in FIG. 8 (e), directly below the plasma generating means 1 (passing part 22 (see FIG. 8 (c))). The plasma generating means 1, the gas storage means 4, and the passing section 22 of the transport means 2 are respectively located above the carry-in section 21 and the carry-out section 23 of the transport means 2. 8 (b), ( ), The conveying means 2 moves the processing object S (three-dimensional equipment S1 such as a syringe) from the arrangement position of the carry-in section 21 (position just below the passage section 22) to the arrangement position of the passage section 22. It is preferable to further include an elevating part 24 that can be moved up to and lowered from the position where the passage part 22 is disposed to the position where the carry-out part 23 is disposed (a position directly below the passage part 22).

第4の実施の形態においては、搬送手段2の搬入部21、及び搬出部23として、例えば、ベルトがローラーによって回転するベルトコンベヤー方式のものを挙げることができる。また、通過部22は昇降部24の一部(昇降部24のうちプラズマ発生手段1の内部に位置する部分)を利用して構成することができる。また、昇降部24は、例えば、油圧、電動等を用いたリフトによって昇降させることができる。   In 4th Embodiment, the thing of the belt conveyor system which a belt rotates with a roller can be mentioned as the carrying-in part 21 and the carrying-out part 23 of the conveyance means 2, for example. Further, the passage portion 22 can be configured by using a part of the elevating unit 24 (a portion of the elevating unit 24 located inside the plasma generating unit 1). Moreover, the raising / lowering part 24 can be raised / lowered by the lift using hydraulic pressure, electricity, etc., for example.

図11(a)は、本発明のプラズマ処理装置における、被処理物としてシリンジ等の立体的器材を用い、電極として同軸円筒型電極を用いた場合であって、被処理物をセミバッチ的に処理することが可能な、第5の実施の形態を模式的に示す説明図であり、被処理物を搬入部によって通過部の真下まで移動する状態を示し、図11(b)は、被処理物を通過部の真下から昇降部によって通過部まで移動する状態を示し、図11(c)は、被処理物を通過部(プラズマ発生手段)で処理する状態を示し、図11(d)は、被処理物を通過部から昇降部によって通過部の真下まで移動する状態を示し、図11(e)は、通過部の真下から搬出部によって搬出する状態を示す。図12は、図11に示す第5の実施の形態の一具体例を示す斜視図である。   FIG. 11A shows a case in which a three-dimensional device such as a syringe is used as an object to be processed and a coaxial cylindrical electrode is used as an electrode in the plasma processing apparatus of the present invention. It is explanatory drawing which shows typically 5th Embodiment which can do, and shows the state which moves a to-be-processed object to just under a passage part by a carrying-in part, FIG.11 (b) is a to-be-processed object 11 (c) shows a state in which the object to be processed is processed by the passage (plasma generating means), and FIG. 11 (d) The state which moves a to-be-processed object from a passage part to right under a passage part by a raising / lowering part is shown, and FIG.11 (e) shows the state carried out by the carrying-out part from right under a passage part. FIG. 12 is a perspective view showing a specific example of the fifth embodiment shown in FIG.

第5の実施の形態は、電極として同軸円筒型電極を用いたこと以外は第4の実施の形態の場合と基本的な構成は同様である。第4の実施の形態の場合は電極として平行平板型電極を用いている。このような構成の具体例としては、例えば、ガス貯留手段4として、上端が封鎖された石英、アクリル、ガラス、セラミックス等からなる管状体を用い、この管状体の外壁に、一方の電極として、ステンレス、アルミニウム、銅等からなる薄板を同軸円筒形状に巻き付け、他方の電極として、同軸円筒形状の一方の電極の中心軸に沿って、ステンレスの線状体を配置して、これらの電極間に電圧を印加して放電を起こし、プラズマを発生させることを挙げることができる。   The basic configuration of the fifth embodiment is the same as that of the fourth embodiment except that a coaxial cylindrical electrode is used as the electrode. In the case of the fourth embodiment, parallel plate electrodes are used as the electrodes. As a specific example of such a configuration, for example, as the gas storage means 4, a tubular body made of quartz, acrylic, glass, ceramics or the like whose upper end is blocked is used, and on the outer wall of the tubular body, as one electrode, A thin plate made of stainless steel, aluminum, copper or the like is wound around a coaxial cylindrical shape, and as the other electrode, a stainless steel linear body is disposed along the central axis of one electrode of the coaxial cylindrical shape, and between these electrodes. For example, plasma can be generated by applying a voltage to cause discharge.

本発明のプラズマ処理装置は、被処理物を、プラズマ発生手段で発生させたプラズマによって連続的又はセミバッチ的に処理することが可能であり、処理効率を向上させることができる。   The plasma processing apparatus of the present invention can process an object to be processed continuously or semi-batch by plasma generated by plasma generating means, and can improve processing efficiency.

また、本発明のプラズマ処理装置は、殺菌・滅菌処理、有機物除去処理、表面改質処理、エッチング、イオン注入等の各種処理に用いることができる。   The plasma processing apparatus of the present invention can be used for various processes such as sterilization / sterilization processing, organic substance removal processing, surface modification processing, etching, and ion implantation.

また、本発明のプラズマ処理装置は、後に詳述するように、搬送手段2(例えば、通過部22)が、被処理物(被殺菌・滅菌物)Sとともにプラズマ発生手段1の内部を通過するとともにプラズマ処理されて被処理物(被殺菌・滅菌物)Sにおける殺菌・滅菌処理の検証が可能なバイオロジカルインディケータB(図13(a)、(b)参照)を取り付けるためのバイオロジカルインディケータ取り付け部29aを有するものであることが好ましい。   In the plasma processing apparatus of the present invention, as will be described in detail later, the conveying means 2 (for example, the passage portion 22) passes through the inside of the plasma generating means 1 together with the object to be processed (sterilized / sterilized object) S. A biological indicator for attaching a biological indicator B (see FIGS. 13 (a) and 13 (b)) that can be verified with the sterilization and sterilization treatment of the object to be treated (sterilized / sterilized) S. It is preferable that it has the part 29a.

さらに、本発明のプラズマ処理装置は、後に詳述するように、プラズマ発生手段1が、その内部に存在するプラズマ発生用ガス(軽量ガス)G中の菌の有無の検証のためのサンプリングを可能とするサンプリングノズル14を有するものであることが好ましい。   Further, in the plasma processing apparatus of the present invention, as will be described in detail later, the plasma generating means 1 can perform sampling for verifying the presence or absence of bacteria in the plasma generating gas (light gas) G existing therein. It is preferable to have a sampling nozzle 14.

バイオロジカルインディケータ取り付け部29aとしては、図13(a)に示すように、クリップ形状を有しバイオロジカルインディケータBを挟持する構成のものであってもよく、図13(b)に示すように、メッシュ状の箱型の形状を有しバイオロジカルインディケータBを収納する構成のものであってもよい。このように、バイオロジカルインディケータ取り付け部29aは、例えば、搬送手段2の通過部22(例えば、メッシュベルト29)の所定箇所に配設されて(図1、5参照)、その中に挟持、収納されたバイオロジカルインディケータBが被処理物と同様にプラズマに曝露されるように構成されている。   As shown in FIG. 13 (a), the biological indicator mounting portion 29a may have a clip shape and a structure that sandwiches the biological indicator B. As shown in FIG. 13 (b), A configuration having a mesh-like box shape and accommodating the biological indicator B may be used. In this way, the biological indicator mounting portion 29a is disposed, for example, at a predetermined location of the passage portion 22 (for example, the mesh belt 29) of the transport means 2 (see FIGS. 1 and 5), and is sandwiched and stored therein. The biological indicator B is exposed to plasma in the same manner as the object to be processed.

本発明のプラズマ処理方法は、上述のプラズマ処理装置を用いて、被処理物を処理することを特徴とする。すなわち、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段から導入されたプラズマ発生用ガス(軽量ガス)を貯留することが可能なガス貯留手段を用いて、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)をプラズマ発生手段及びその近傍に集中的に貯留させた状態で被処理物を処理することができる。このためプラズマ発生用ガス(軽量ガス)の使用量を節約することが可能で効率的なプラズマ処理を実現することができる。   The plasma processing method of the present invention is characterized by processing an object to be processed using the above-described plasma processing apparatus. That is, using a gas storage means capable of storing a plasma generation gas (light weight gas) introduced from a plasma generation gas (light weight gas) introduction means, the plasma generation gas (light weight gas) is converted into plasma generation means. And a to-be-processed object can be processed in the state stored intensively in the vicinity. For this reason, it is possible to save the amount of plasma generation gas (lightweight gas) used, and to realize efficient plasma processing.

本発明のプラズマ処理方法においては、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)に加えて、好ましくは0.1〜25%、さらに好ましくは1〜10%の酸素ガスをガス貯留手段に導入することが好ましい。このように構成することによって、酸素を活性化させ、酸素ラジカル、オゾンガスを生成させ、殺菌・滅菌用途や半導体ウエハー、ガラス上の有機物除去、表面改質等の処理に用いることができる。また、被処理物の近傍に水分を配設した後に、又は被処理物に水分を予め噴霧若しくは添加した後に、プラズマ処理することが好ましい。このように構成することによって、OHラジカル等を生成させ、殺菌・滅菌用途や半導体ウエハー、ガラス上の有機物除去、表面改質等の処理に用いることができる。   In the plasma processing method of the present invention, preferably 0.1 to 25%, more preferably 1 to 10% of oxygen gas is introduced into the gas storage means in addition to the plasma generating gas (light gas). . By comprising in this way, oxygen can be activated, an oxygen radical, ozone gas can be produced | generated, and it can use for processes, such as a disinfection / sterilization use, a semiconductor wafer, organic substance removal on a glass, and surface modification. In addition, it is preferable to perform plasma treatment after disposing moisture in the vicinity of the object to be processed, or after previously spraying or adding moisture to the object to be processed. By comprising in this way, OH radical etc. can be produced | generated and it can use for processes, such as a sterilization / sterilization use, a semiconductor wafer, organic substance removal on a glass, and surface modification.

また、本発明のプラズマ処理方法においては、被処理物の処理は、被殺菌・滅菌物の殺菌・滅菌処理であることが好ましい。このような殺菌・滅菌効果の検証のために、後に詳述するバイオロジカルインディケータを被処理物(被殺菌・滅菌物)とともに処理装置内を移動させ、処理装置から出た時点でこれを回収して、殺菌・滅菌の程度を評価できるように、例えば、搬送手段の通過部にバイオロジカルインディケータの取り付け部を設けることによって、被処理物(被殺菌・滅菌物)の殺菌・滅菌処理の検証をすることが好ましい。さらに、プラズマ処理室内のプラズマ発生用ガス(軽量ガス)をサンプリングして、そのプラズマ発生用ガス(軽量ガス)中の菌の有無を菌等の生物が細胞内に保有しているATP(アデノシン三リン酸)を試薬により検出することで、プラズマ処理による殺菌・滅菌効果の検証に使用できるように、プラズマ発生手段にサンプリングノズルを設けることによって、軽量ガス中の菌の有無の検証をすることも好ましい。   In the plasma processing method of the present invention, the treatment of the object to be treated is preferably a sterilization / sterilization treatment of the object to be sterilized / sterilized. In order to verify the sterilization and sterilization effects, a biological indicator, which will be described in detail later, is moved along with the object to be treated (to be sterilized and sterilized) in the processing apparatus, and this is collected when it leaves the processing apparatus. In order to be able to evaluate the degree of sterilization and sterilization, for example, by installing a biological indicator mounting part in the passage part of the transport means, verification of sterilization and sterilization treatment of the object to be processed (sterilized and sterilized object) It is preferable to do. Further, the plasma generating gas (light gas) in the plasma processing chamber is sampled, and the presence or absence of bacteria in the plasma generating gas (light gas) is detected by ATP (adenosine 3) in the cells. It is possible to verify the presence or absence of bacteria in lightweight gas by providing a sampling nozzle in the plasma generation means so that it can be used for verification of sterilization and sterilization effects by plasma treatment by detecting phosphoric acid) with a reagent preferable.

以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
50mm×90mmの平板電極4枚を用い、上面2枚、下面2枚をそれぞれ対向配置し、電極間隔を5〜15mmとし、その間に80mm×80mmのポリプロピレンシートを設置して表面の殺菌・滅菌を行った。この時、4枚の電極は150mm×150mm×50mmのステンレス製で上端が密閉された容器で覆い、これをリアクターとした。プラズマ発生器としてSIサイリスタパルス電源(ピーク電圧:1〜20kV、周波数:0.1〜5kHz)を用いた。消費電力は20〜400Wで行った。ヘリウム(約1000mL)、酸素(約100mL)を混合させ、リアクター内に充填させた。殺菌・滅菌効果の評価は、枯草菌(Geobacillus stearothermophilus(ATCC#7953))のバイオロジカルインディケータ(米国Raven社製、以下「BI」と略すことがある)を用いて行った。1×106個の菌が付着したセルロース製の担体がグラシン紙(グラシン紙:1mm平方当り、200個程度のメッシュがあり、外部からの菌の進入と内部の胞子の飛散を阻止し、気流の流入は容易な構造)に包埋されている。試験紙型のBIをポリプロピレンシート上に所定の枚数貼り付け、殺菌・滅菌処理後に1次包装(グラシン紙)から無菌状態で担体を取り出し、培養を行った。培養にはAcumedia製TSB(Tryptic Soy Broth.)培地とpHインジケータ(Bromocresol Purpule)がガラス試験管に入れてある培養液を用い、殺菌・滅菌処理を施した試験紙型BIの担体を無菌状態を保持したまま試験管に入れて58〜60℃で7日間培養を行い、培養液の色の変化で殺菌・滅菌の有無を確認した。培養液の色の変化は無く、殺菌・滅菌ができていることが分かった。殺菌・滅菌不良であれば、培養液が紫色から黄色に変化する。プラズマ放電の結果、1分間の放電により殺菌・滅菌が可能であった。さらにエネルギーを印加することにより短時間に殺菌・滅菌が可能である。この時のガスの漏洩は1%程度であった。
Example 1
Four plate electrodes of 50mm x 90mm are used, two upper surfaces and two lower surfaces are arranged facing each other, the electrode interval is set to 5-15mm, and an 80mm x 80mm polypropylene sheet is placed between them to sterilize and sterilize the surface. went. At this time, the four electrodes were covered with a 150 mm × 150 mm × 50 mm stainless steel container sealed at the upper end, and this was used as a reactor. An SI thyristor pulse power source (peak voltage: 1 to 20 kV, frequency: 0.1 to 5 kHz) was used as a plasma generator. The power consumption was 20 to 400W. Helium (about 1000 mL) and oxygen (about 100 mL) were mixed and charged into the reactor. The evaluation of sterilization and sterilization effect was performed using a biological indicator (manufactured by Raven, USA, hereinafter abbreviated as “BI”) of Bacillus subtilis (Geobacillus stearothermophilus (ATCC # 7953)). Cellulose carrier with 1 × 10 6 bacteria attached is glassine paper (glassine paper: there are about 200 meshes per 1 mm square, preventing entry of bacteria from outside and scattering of internal spores, and air flow Is embedded in an easy structure). A predetermined number of test paper-type BIs were pasted onto a polypropylene sheet, and after sterilization and sterilization treatment, the carrier was taken out from the primary package (glassine paper) in an aseptic condition and cultured. The culture medium in which TSB (Tryptic Soy Broth.) Medium and pH indicator (Bromocresol Purple) manufactured by Acumedia are placed in a glass test tube is used for culturing. The sample was kept in a test tube and cultured at 58-60 ° C. for 7 days, and the presence or absence of sterilization / sterilization was confirmed by the change in the color of the culture solution. It was found that there was no change in the color of the culture solution and that it was sterilized and sterilized. If sterilization / sterilization is poor, the culture solution changes from purple to yellow. As a result of the plasma discharge, it was possible to sterilize and sterilize by discharging for 1 minute. Furthermore, sterilization and sterilization are possible in a short time by applying energy. The gas leakage at this time was about 1%.

本発明のプラズマ処理装置及びそれを用いたプラズマ処理方法は、殺菌・滅菌処理、有機物除去処理、表面改質処理等の各種処理を必要とする各種産業分野、例えば、医療用器材、食料品用包装シート、半導体ウエハー等を製造したり、取り扱う分野で有効に利用される。   The plasma processing apparatus of the present invention and the plasma processing method using the same are used in various industrial fields that require various processing such as sterilization / sterilization processing, organic substance removal processing, surface modification processing, etc., for example, medical equipment, food products Effectively used in the field of manufacturing and handling packaging sheets, semiconductor wafers and the like.

本発明のプラズマ処理装置における、被処理物としてシリンジ等の立体的器材を用いた場合であって、被処理物を連続的に処理することが可能な、第1の実施の形態を模式的に示す説明図である。The plasma processing apparatus of this invention WHEREIN: It is a case where three-dimensional equipments, such as a syringe, are used as a to-be-processed object, Comprising: 1st Embodiment which can process a to-be-processed object continuously is typically It is explanatory drawing shown. 図1に示す第1の実施の形態において電極として平板型電極を用いた場合の具体例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the specific example at the time of using a flat type electrode as an electrode in 1st Embodiment shown in FIG. 本発明のプラズマ処理装置における、被処理物として長尺シートを用いた場合であって、被処理物を連続的に処理することが可能な、第2の実施の形態を模式的に示す説明図である。Explanatory drawing which shows typically 2nd Embodiment which is a case where a long sheet | seat is used as a to-be-processed object in the plasma processing apparatus of this invention, and can process a to-be-processed object continuously. It is. 図3に示す第2の実施の形態において電極として平板型電極を用いた場合の一具体例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one specific example at the time of using a flat type electrode as an electrode in 2nd Embodiment shown in FIG. 本発明のプラズマ処理装置における、被処理物として短尺シートを用いた場合であって、被処理物を連続的に処理することが可能な、第3の実施の形態を模式的に示す説明図である。In the plasma processing apparatus of this invention, it is a case where a short sheet | seat is used as a to-be-processed object, Comprising: It is explanatory drawing which shows typically 3rd Embodiment which can process a to-be-processed object continuously. is there. 図5に示す第3の実施の形態において電極として平板型電極を用いた場合の一具体例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a specific example at the time of using a flat type electrode as an electrode in 3rd Embodiment shown in FIG. 図5に示す第3の実施の形態において電極として線状型電極及び平板型電極を用いた場合の具体例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the specific example at the time of using a linear type electrode and a flat plate type electrode as an electrode in 3rd Embodiment shown in FIG. 図8(a)は、本発明のプラズマ処理装置における、被処理物としてシリンジ等の立体的器材を用い、電極として平行平板型電極を用いた場合であって、被処理物をセミバッチ的に処理することが可能な、第4の実施の形態を模式的に示す説明図であり、被処理物を搬入部で通過部の真下まで移動する状態を示し、図8(b)は、被処理物を通過部の真下から昇降部によって通過部まで移動する状態を示し、図8(c)は、被処理物を通過部(プラズマ発生手段)で処理する状態を示し、図8(d)は、被処理物を通過部から昇降部によって通過部の真下まで移動する状態を示し、図8(e)は、通過部の真下から搬出部で搬出する状態を示す。FIG. 8 (a) shows a case where a three-dimensional device such as a syringe is used as an object to be processed and a parallel plate electrode is used as an electrode in the plasma processing apparatus of the present invention. FIG. 8B is an explanatory view schematically showing a fourth embodiment that can be performed, and shows a state in which the object to be processed is moved to a position just below the passage part at the carry-in part, and FIG. 8 (c) shows a state in which the object to be processed is processed by the passage (plasma generating means), and FIG. 8 (d) The state which moves a to-be-processed object from a passage part to right under a passage part by a raising / lowering part is shown, and FIG.8 (e) shows the state carried out by the carrying-out part from right under a passage part. 図8に示す第4の実施の形態の一の具体例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one specific example of 4th Embodiment shown in FIG. 図8に示す第4の実施の形態の他の具体例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the other specific example of 4th Embodiment shown in FIG. 図11(a)は、本発明のプラズマ処理装置における、被処理物としてシリンジ等の立体的器材を用い、電極として同軸円筒型電極を用いた場合であって、被処理物をセミバッチ的に処理することが可能な、第5の実施の形態を模式的に示す説明図であり、被処理物を搬入部によって通過部の真下まで移動する状態を示し、図11(b)は、被処理物を通過部の真下から昇降部によって通過部まで移動する状態を示し、図11(c)は、被処理物を通過部(プラズマ発生手段)で処理する状態を示し、図11(d)は、被処理物を通過部から昇降部によって通過部の真下まで移動する状態を示し、図11(e)は、通過部の真下から搬出部によって搬出する状態を示す。FIG. 11A shows a case in which a three-dimensional device such as a syringe is used as an object to be processed and a coaxial cylindrical electrode is used as an electrode in the plasma processing apparatus of the present invention. It is explanatory drawing which shows typically 5th Embodiment which can do, and shows the state which moves a to-be-processed object to just under a passage part by a carrying-in part, FIG.11 (b) is a to-be-processed object 11 (c) shows a state in which the object to be processed is processed by the passage (plasma generating means), and FIG. 11 (d) The state which moves a to-be-processed object from a passage part to right under a passage part by a raising / lowering part is shown, and FIG.11 (e) shows the state carried out by the carrying-out part from right under a passage part. 図11に示す第5の実施の形態の一具体例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one specific example of 5th Embodiment shown in FIG. 図13(a)は、本発明のプラズマ処理装置に用いられるバイオロジカルインディケータ取り付け部の一例を模式的に示す説明図であり、図13(b)は、バイオロジカルインディケータ取り付け部の他の例を模式的に示す説明図である。Fig.13 (a) is explanatory drawing which shows typically an example of the biological indicator attachment part used for the plasma processing apparatus of this invention, FIG.13 (b) is another example of the biological indicator attachment part. It is explanatory drawing shown typically.

符号の説明Explanation of symbols

1…プラズマ発生手段、2…搬送手段、3…プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段、4…ガス貯留手段、10…プラズマ処理装置、11…対向電極、12…対向電極、13…基板、14…サンプリングノズル、21…搬入部、22…通過部、23…搬出部、24…昇降部、25…ストッパー、26…ローラー、27…ローラー、28…ガイドローラー、29…メッシュベルト、29a…バイオロジカルインディケータ取り付け部、B…バイオロジカルインディケータ、G…プラズマ発生用ガス(軽量ガス)、S(S1、S2、S3)…被処理物。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plasma generation means, 2 ... Conveyance means, 3 ... Plasma generation gas (light weight gas) introduction means, 4 ... Gas storage means, 10 ... Plasma processing apparatus, 11 ... Counter electrode, 12 ... Counter electrode, 13 ... Substrate, DESCRIPTION OF SYMBOLS 14 ... Sampling nozzle, 21 ... Carry-in part, 22 ... Passing part, 23 ... Unloading part, 24 ... Lifting part, 25 ... Stopper, 26 ... Roller, 27 ... Roller, 28 ... Guide roller, 29 ... Mesh belt, 29a ... Bio Logical indicator mounting portion, B: Biological indicator, G: Plasma generating gas (light weight gas), S (S1, S2, S3): Work piece.

Claims (13)

対向電極の相互間のプラズマ発生用ガスを含む雰囲気中でプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生手段と、被処理物を前記プラズマ発生手段に搬入させること、前記プラズマ発生手段の内部を通過させること及び前記プラズマ発生手段から搬出させることがそれぞれ可能であるとともに、前記被処理物が前記プラズマ発生手段中を通過する際に、前記被処理物を前記プラズマ発生手段で発生させたプラズマによって処理することが可能な搬送手段とを備えたプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ発生用ガスとして空気よりも軽量な軽量ガスを前記プラズマ発生手段及びその近傍に導入することが可能なプラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段、並びに、
前記プラズマ発生手段をその上部から覆蓋するように配設された、前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段から導入された前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)を前記プラズマ発生手段及びその近傍に集中的に貯留させることが可能なガス貯留手段をさらに備えてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
Plasma generating means capable of generating plasma in an atmosphere including a gas for generating plasma between the counter electrodes, carrying an object to be processed into the plasma generating means, and passing the inside of the plasma generating means And the plasma generating means can each be carried out, and when the object to be processed passes through the plasma generating means, the object to be processed is processed by the plasma generated by the plasma generating means. A plasma processing apparatus comprising a transfer means capable of
A plasma generating gas (light gas) introducing means capable of introducing a light weight gas that is lighter than air as the plasma generating gas into the plasma generating means and the vicinity thereof; and
The plasma generating gas (light gas) introduced from the plasma generating gas (light gas) introducing means, which is disposed so as to cover the plasma generating means from above, is introduced to the plasma generating means and the vicinity thereof. A plasma processing apparatus, further comprising gas storage means capable of storing in a concentrated manner.
前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)がヘリウムガスである請求項1に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the plasma generating gas (light gas) is helium gas. 前記搬送手段が、前記被処理物を前記プラズマ発生手段に搬入させることが可能な搬入部と、前記プラズマ発生手段の内部を通過させることが可能な通過部と、前記プラズマ発生手段から搬出させることが可能な搬出部とを有し、
前記プラズマ発生手段、前記ガス貯留手段及び前記搬送手段の前記通過部が、前記搬送手段の前記搬入部及び前記搬出部よりもそれぞれ上方に配設されてなるとともに、前記搬送手段が、前記被処理物を、前記搬入部の配設位置から前記通過部の配設位置まで上昇させること及び前記通過部の配設位置から前記搬出部の配設位置まで下降させることがそれぞれ可能な昇降部をさらに有する請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。
The transporting unit transports the workpiece to the plasma generating unit, a passing unit capable of passing the inside of the plasma generating unit, and unloads the plasma processing unit from the plasma generating unit. An unloading part capable of
The passing portions of the plasma generating means, the gas storage means, and the transport means are disposed above the carry-in section and the carry-out section of the transport means, respectively, and the transport means is the object to be processed. A lifting part capable of raising an object from the placement position of the carry-in part to the placement position of the passage part and lowering the object from the placement position of the passage part to the placement position of the carry-out part; The plasma processing apparatus according to claim 1 or 2.
前記被処理物を、前記プラズマ発生手段で発生させたプラズマによって連続的又はセミバッチ的に処理することが可能である請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the object to be processed can be processed continuously or semi-batch by plasma generated by the plasma generating means. 前記被処理物の処理が、被殺菌・滅菌物の殺菌・滅菌処理である請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the processing of the object to be processed is a sterilizing / sterilizing process of the object to be sterilized / sterilized. 前記搬送手段が、前記被処理物(被殺菌・滅菌物)とともに前記プラズマ発生手段の内部を通過するとともにプラズマ処理されて前記被処理物(被殺菌・滅菌物)における前記殺菌・滅菌処理の検証が可能なバイオロジカルインディケータを取り付けるためのバイオロジカルインディケータ取り付け部を有する請求項5に記載のプラズマ処理装置。   Verification of the sterilization / sterilization treatment of the object to be processed (sterilized / sterilized material) by the transfer means passing through the inside of the plasma generating means together with the object to be processed (sterilized / sterilized) The plasma processing apparatus according to claim 5, further comprising a biological indicator mounting portion for mounting a biological indicator capable of performing the above. 前記プラズマ発生手段が、その内部に存在する前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)中の菌の有無の検証のためのサンプリングを可能とするサンプリングノズルを有する請求項5又は6に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 5 or 6, wherein the plasma generating means has a sampling nozzle that enables sampling for verification of the presence or absence of bacteria in the plasma generating gas (light gas) existing therein. . 前記1〜7のいずれかに記載のプラズマ処理装置を用いて、被処理物を処理することを特徴とするプラズマ処理方法。   A plasma processing method of processing an object to be processed using the plasma processing apparatus according to any one of 1 to 7 above. 前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)に加えて、0.1〜25%の酸素ガスを前記ガス貯留手段に導入する請求項8に記載のプラズマ処理方法。   The plasma processing method according to claim 8, wherein 0.1 to 25% of oxygen gas is introduced into the gas storage means in addition to the plasma generating gas (light gas). 前記被処理物の近傍に水分を配設した後に、又は前記被処理物に水分を予め噴霧若しくは添加した後に、プラズマ処理する請求項8又は9に記載のプラズマ処理方法。   The plasma processing method according to claim 8 or 9, wherein plasma processing is performed after water is disposed in the vicinity of the object to be processed, or after water is sprayed or added to the object to be processed in advance. 前記被処理物の処理が、被殺菌・滅菌物の殺菌・滅菌処理である請求項8〜10のいずれかに記載のプラズマ処理方法。   The plasma processing method according to claim 8, wherein the processing of the object to be processed is a sterilizing / sterilizing process of the object to be sterilized / sterilized. 前記搬送手段として、前記被処理物(被殺菌・滅菌物)とともに前記プラズマ発生手段の内部を通過するとともにプラズマ処理されて前記被処理物(被殺菌・滅菌物)における前記殺菌・滅菌処理の検証が可能なバイオロジカルインディケータを取り付けるためのバイオロジカルインディケータ取り付け部を有するものを用いて、前記被処理物(被殺菌・滅菌物)の前記殺菌・滅菌処理の検証をする請求項11に記載のプラズマ処理方法。   Verification of the sterilization / sterilization treatment of the object to be treated (sterilized / sterilized material) by passing through the inside of the plasma generating means together with the object to be treated (sterilized / sterilized) as the conveying means The plasma according to claim 11, wherein the sterilization / sterilization treatment of the object to be processed (sterilized / sterilized) is verified by using a biological indicator attaching part for attaching a biological indicator capable of being treated. Processing method. 前記プラズマ発生手段として、その内部に存在する前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)中の菌の有無の検証のためのサンプリングが可能なサンプリングノズルを有するものを用いて、前記プラズマ発生用ガス(軽量ガス)中の菌の有無の検証をする請求項11又は12に記載のプラズマ処理方法。   As the plasma generating means, a device having a sampling nozzle capable of sampling for verifying the presence or absence of bacteria in the plasma generating gas (light gas) existing inside the plasma generating gas (light weight) The plasma processing method according to claim 11 or 12, wherein the presence or absence of bacteria in the gas) is verified.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010036973A (en) * 2008-08-07 2010-02-18 Toyo Seikan Kaisha Ltd Method for verifying "sterilization level of container" in sterile filling system, and sterile filling system
WO2017065234A1 (en) * 2015-10-13 2017-04-20 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization device
WO2017065235A1 (en) * 2015-10-13 2017-04-20 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization method
JP2017094059A (en) * 2015-10-13 2017-06-01 サントリーホールディングス株式会社 Sterilizing apparatus
WO2017110501A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization system
JP2017119085A (en) * 2015-12-25 2017-07-06 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization method

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11501530A (en) * 1994-12-29 1999-02-09 グレーヴズ,クリントン・ジイ Apparatus and method for plasma sterilization
JP2002538896A (en) * 1999-03-16 2002-11-19 アブシス Sterilization process and device by plasma
JP2003523053A (en) * 2000-02-11 2003-07-29 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド Atmospheric pressure plasma system
WO2003086031A1 (en) * 2002-04-10 2003-10-16 Dow Corning Ireland Limited An atmospheric pressure plasma assembly
JP2004173704A (en) * 2002-11-22 2004-06-24 Air Water Inc Method for sterilization

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11501530A (en) * 1994-12-29 1999-02-09 グレーヴズ,クリントン・ジイ Apparatus and method for plasma sterilization
JP2002538896A (en) * 1999-03-16 2002-11-19 アブシス Sterilization process and device by plasma
JP2003523053A (en) * 2000-02-11 2003-07-29 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド Atmospheric pressure plasma system
WO2003086031A1 (en) * 2002-04-10 2003-10-16 Dow Corning Ireland Limited An atmospheric pressure plasma assembly
JP2005524930A (en) * 2002-04-10 2005-08-18 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド Atmospheric pressure plasma assembly
JP2004173704A (en) * 2002-11-22 2004-06-24 Air Water Inc Method for sterilization

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010036973A (en) * 2008-08-07 2010-02-18 Toyo Seikan Kaisha Ltd Method for verifying "sterilization level of container" in sterile filling system, and sterile filling system
WO2017065234A1 (en) * 2015-10-13 2017-04-20 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization device
WO2017065235A1 (en) * 2015-10-13 2017-04-20 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization method
JP2017094059A (en) * 2015-10-13 2017-06-01 サントリーホールディングス株式会社 Sterilizing apparatus
JPWO2017065235A1 (en) * 2015-10-13 2018-09-06 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization method
WO2017110501A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization system
JP2017119085A (en) * 2015-12-25 2017-07-06 サントリーホールディングス株式会社 Sterilization method

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