JP2006310455A - Method of forming conductive circuit on inner wall of transparent hollow body - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately and quickly form a fine conductive circuit of high density on the inner wall of a hollow body. <P>SOLUTION: A copper film 2 having thickness of 0.3 μm is formed on an inner wall 11a of a cylindrical hollow body 1 which is injection molded with cycloolefin polymer of a transparent synthetic resin by a high frequency ion plating method. Then, laser beam is irradiated from the rear side of the copper film 2 so that it passes through the wall thickness from the outside of the hollow body 1, so other non-circuits 2b are removed except for a conductive circuit 2a which comes to be a spiral antenna. Since the conductive circuit 2a is covered with the hollow body 1 itself, no protective cover is required to prevent flaw, corrosion, or sticking of conductive substance, resulting in a lower cost and a smaller size. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば円筒状の透明中空体の内壁に、スパイラル状の導電性回路からなるアンテナを形成する方法に関する。   The present invention relates to a method for forming an antenna made of a spiral conductive circuit on the inner wall of a cylindrical transparent hollow body, for example.

携帯電話機等の電子機器は、益々多機能化および小型化が要請され、これに伴い電子機器に使用する電気回路も、さらに微小かつ高密度のものが要求されている。このような微小かつ高密度の電気回路を形成する方法の1として、既に、絶縁体の外側表面に金属薄膜形成し、この金属薄膜にレーザー光を照射して、回路部だけを残して除去すること等によって、導電性回路を形成する手段が提案されている(例えば特許文献1〜3参照。)。
特開平6−164105号公報(1頁〜4頁、図4) 特開平7−66531号公報(1頁〜4頁、図3) 特開平7−66532号公報(1頁〜5頁、図3)
Electronic devices such as mobile phones are increasingly required to have multiple functions and miniaturization, and accordingly, electric circuits used for electronic devices are also required to be smaller and higher in density. As one of the methods for forming such a minute and high-density electric circuit, a metal thin film is already formed on the outer surface of the insulator, and this metal thin film is irradiated with laser light to remove only the circuit portion. Thus, means for forming a conductive circuit has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 3).
JP-A-6-164105 (pages 1 to 4, FIG. 4) JP-A-7-66531 (pages 1 to 4, FIG. 3) Japanese Patent Laid-Open No. 7-66532 (pages 1 to 5, FIG. 3)

ところでこのような微小かつ高密度の電気回路は、わずかな外傷、腐食、あるいは導電物質の付着等が生じても、電気的な機能が損なわれる。しかるに上述した手段は、いずれも回路部を絶縁体の外側表面に形成するものであるため、このような外傷、腐食、あるいは導電物質の付着等を防止するためには、形成した電気回路をさらに保護カバー等で覆う必要がある。しかるに電気回路の上にこのような保護カバー等を設けることは、その分手間が増えると共に、外形サイズも大きくなるため、可能な限り電気部品や電気回路のコストダウンや小型化を図る場合に、大きな障害となる。したがってこのような保護カバー等を必要としない微小かつ高密度の電気回路を、正確かつ迅速に形成する手段が望まれる。   By the way, such a minute and high-density electric circuit loses its electrical function even if slight trauma, corrosion, or adhesion of a conductive material occurs. However, since all of the above-described means are to form the circuit portion on the outer surface of the insulator, in order to prevent such damage, corrosion, or adhesion of conductive materials, the formed electric circuit is further modified. It is necessary to cover with a protective cover. However, providing such a protective cover on the electric circuit increases the amount of labor and the outer size, so when trying to reduce the cost and size of electric parts and circuits as much as possible, It becomes a big obstacle. Therefore, a means for accurately and quickly forming a minute and high-density electric circuit that does not require such a protective cover or the like is desired.

そこで本発明の目的は、中空体の内壁に、微小かつ高密度の導電性回路を正確かつ迅速に形成する方法を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a method for accurately and quickly forming a minute and high-density conductive circuit on the inner wall of a hollow body.

上述したように透明中空体の内壁に導電性回路を形成できれば、この中空体自体によってこの導電性回路が覆われて、外側に露呈しないので、外傷、腐食、あるいは導電物質の付着等を防止するために何ら保護カバー等を設ける必要がない。そこで本発明者は、実験を重ねた結果、透明中空体の内壁に導電性金属膜を形成し、この透明中空体の外側からこの透明中空体を通過するように、この導電性金属膜にレーザー光を選択的に照射することによって、この透明中空体の内壁に導電性回路を形成できることを見出した。   If the conductive circuit can be formed on the inner wall of the transparent hollow body as described above, the conductive circuit is covered by the hollow body itself and is not exposed to the outside, so that it is possible to prevent external damage, corrosion, or adhesion of a conductive substance. Therefore, it is not necessary to provide a protective cover or the like. Therefore, as a result of repeated experiments, the present inventor formed a conductive metal film on the inner wall of the transparent hollow body, and applied a laser to the conductive metal film so as to pass through the transparent hollow body from the outside of the transparent hollow body. It has been found that a conductive circuit can be formed on the inner wall of the transparent hollow body by selectively irradiating light.

すなわち本発明による透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法の特徴は、絶縁性透明材料からなる中空体の内壁に導電性金属膜を形成する工程と、この中空体の外側からこの中空体を通過するようにレーザー光をこの導電性金属膜に照射して、回路部を残してこの導電性金属膜を除去する工程とを備えることにある。   That is, the characteristics of the method for forming a conductive circuit on the inner wall of the transparent hollow body according to the present invention include a step of forming a conductive metal film on the inner wall of the hollow body made of an insulating transparent material, and the hollow body from the outside of the hollow body. And irradiating the conductive metal film with laser light so as to pass through the body, and removing the conductive metal film while leaving a circuit portion.

ここで「絶縁性透明材料」とは、導電性金属膜を形成することができ、レーザー光を通過させることができる全ての絶縁性を有する透明材料を意味し、例えば透明ガラス、石英、および透明合成樹脂が該当する。また「中空体」とは、内部が空洞になっており、その空洞の一部が外部に開口しているものを意味し、その形状や大きさを問わない。例えば両端が開口する筒状体、一端が開口し他端が閉塞している容器形状が該当する。「中空体の内壁」とは、中空体内に形成された空洞の内側表面を意味する。「導電性金属膜」とは、上述した絶縁性透明材料に皮膜を形成できる全ての導電性金属による膜を意味し、例えば化学めっきや蒸着めっきによって形成する、銅、ニッケル、金、銀等、あるいはこれらの合金の金属膜が該当する。「レーザー」としては、連続発信形式のものが望ましく、YAG、CO、またはArレーザー等が該当する。 Here, the “insulating transparent material” means any transparent material that can form a conductive metal film and can transmit a laser beam, such as transparent glass, quartz, and transparent. Synthetic resin is applicable. Further, the “hollow body” means that the inside is a cavity, and a part of the cavity is open to the outside, and the shape and size are not limited. For example, a cylindrical body having both ends opened, and a container shape having one end opened and the other end closed are applicable. The “inner wall of the hollow body” means an inner surface of a cavity formed in the hollow body. "Conductive metal film" means a film made of all conductive metals capable of forming a film on the above-described insulating transparent material, such as copper, nickel, gold, silver, etc. formed by chemical plating or vapor deposition plating, Or the metal film of these alloys corresponds. The “laser” is preferably a continuous transmission type, and corresponds to YAG, CO 2 , Ar laser, or the like.

ところで回路部が少ない場合には、この少ない回路部を残して、非回路部となる大部分の導電性金属膜をレーザー光で除去しなければならず、極めて作業能率が悪くなる。そこでかかる問題を解決すべく、本発明による透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法の他の特徴は、回路部と非回路部との境界部にレーザー光を照射して、この境界部の導電性金属膜を除去することによって、回路部と非回路部との間を絶縁通路で隔てることにある。そして導電性金属膜の回路部に陰極を荷電して電解めっきをすることによって、この回路部にのみめっきを積層して厚みを増加させ、その後にエッチング液に浸す等によって、電気めっきが付かない非回路部を形成する導電性金属膜だけを除去し、めっきの積層によって厚みが増加した回路部だけを残して導電性回路を形成することにある。   When the number of circuit portions is small, most of the conductive metal film that becomes a non-circuit portion must be removed with laser light while leaving the small number of circuit portions, and the work efficiency is extremely deteriorated. Therefore, in order to solve such a problem, another feature of the method for forming a conductive circuit on the inner wall of the transparent hollow body according to the present invention is that the boundary between the circuit portion and the non-circuit portion is irradiated with laser light, and this boundary is formed. By removing the conductive metal film of the part, the circuit part and the non-circuit part are separated by an insulating passage. Then, the electroplating is performed by charging the cathode to the circuit portion of the conductive metal film, thereby increasing the thickness by laminating the plating only on the circuit portion, and then immersing it in an etching solution, so that the electroplating is not applied. It is an object to form a conductive circuit by removing only the conductive metal film that forms the non-circuit portion and leaving only the circuit portion whose thickness is increased by the lamination of plating.

すなわち本発明による透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法の他の特徴は、絶縁性透明材料からなる中空体の内壁に導電性金属膜を形成する工程と、この中空体の外側からこの中空体を通過するようにレーザー光をこの導電性金属膜に照射して、回路部と非回路部とを隔てる境界部についてこの導電性金属膜を除去する工程と、この導電性金属膜の回路部に通電して電解めっきを行う工程と、この導電性金属膜の非回路部をエッチングにより除去する工程とを備えることにある。   That is, another feature of the method for forming a conductive circuit on the inner wall of the transparent hollow body according to the present invention is the step of forming a conductive metal film on the inner wall of the hollow body made of an insulating transparent material and the outside of the hollow body. A step of irradiating the conductive metal film with laser light so as to pass through the hollow body to remove the conductive metal film at a boundary portion separating the circuit portion and the non-circuit portion; and The present invention includes a step of performing electroplating by energizing the circuit portion and a step of removing the non-circuit portion of the conductive metal film by etching.

ここで「回路部と非回路部とを隔てる境界部」とは、中空体の内壁に形成した導電性金属膜において、導電性回路となる回路部と、導電性回路とならない非回路部とが、互いに電気的に通電しないように隔てる線や帯状等の境界を意味し、回路部または非回路部の一方を取り囲むような閉じた境界に限らず、回路部と非回路部とを分割するような境界も含む。このような場合は、電解めっきの際に、回路部に陰極を荷電すれば、非回路部は回路部から絶縁されているため、回路部にのみ電気めっきを行うことができる。   Here, the “boundary part separating the circuit part and the non-circuit part” means that the conductive metal film formed on the inner wall of the hollow body includes a circuit part that becomes a conductive circuit and a non-circuit part that does not become a conductive circuit. , Which means a boundary such as a line or a band that separates from each other so as not to be electrically energized. Including critical boundaries. In such a case, if the cathode is charged to the circuit portion during the electrolytic plating, the non-circuit portion is insulated from the circuit portion, and therefore, the electroplating can be performed only on the circuit portion.

なお上記絶縁性透明材料は、透明合成樹脂であって、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマ、ポリエチレンテレフタレート、またはアクリルのいずれかの1からなることが望ましい。さらに上記導電性金属膜は、化学めっき、スパッタリング、真空蒸着またはイオンプレーティングのいずれかの1によって形成することが望ましい。   The insulating transparent material is a transparent synthetic resin, and is preferably made of any one of polyetherimide, polyethersulfone, polyimide, polyamide, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyethylene terephthalate, or acrylic. Further, the conductive metal film is preferably formed by any one of chemical plating, sputtering, vacuum deposition, or ion plating.

上述したように、透明中空体の内壁に導電性回路を形成できれば、この中空体自体によってこの導電性回路が覆われるため、外傷、腐食、あるいは導電物質の付着等を防止するために何ら保護カバー等を設ける必要がなくなり、コストダウン及び小型化が可能となる。また透明中空体の内壁に形成した導電性金属膜にレーザー光を照射して、回路部と非回路部との間を絶縁通路で隔て、この回路部だけに通電して電解めっきをし、さらに電気めっきが付かない非回路部を形成する導電性金属膜だけをエッチング等により除去することによって、非回路部の面積が大きい場合にも、この非回路部を形成する導電性金属膜を除去する作業能率を大幅に向上させることができる。   As described above, if a conductive circuit can be formed on the inner wall of the transparent hollow body, the conductive circuit is covered by the hollow body itself, so that no protective cover is provided to prevent damage, corrosion, or adhesion of conductive materials. Etc., and the cost can be reduced and the size can be reduced. In addition, the conductive metal film formed on the inner wall of the transparent hollow body is irradiated with laser light, the circuit portion and the non-circuit portion are separated by an insulating passage, and only this circuit portion is energized for electrolytic plating. By removing only the conductive metal film that forms the non-circuit portion that is not electroplated by etching or the like, the conductive metal film that forms the non-circuit portion is removed even when the area of the non-circuit portion is large. Work efficiency can be greatly improved.

またシリンダ部材等の内周に電気回路を精密に形成することができるので、このシリンダ部材等の内周に回転子やスライダー等を挿入して構成するエンコーダ等の電子機器について、小型化および低コスト化を図ることが可能となる。さらに透明材料からなる中空筒状部材の内壁にスパイラル状のアンテナ回路を形成できれば、携帯電話の着信通知用の発光素子等を、容易にこの中空筒状部材の中に挿入して組み込むことが可能となり、携帯用のアンテナをさらに小型にすることができるようになる。   In addition, since an electric circuit can be precisely formed on the inner periphery of the cylinder member or the like, an electronic device such as an encoder configured by inserting a rotor, a slider, or the like on the inner periphery of the cylinder member or the like can be reduced in size and reduced. Cost can be reduced. Furthermore, if a spiral antenna circuit can be formed on the inner wall of a hollow cylindrical member made of a transparent material, it is possible to easily insert a light-emitting element for incoming notification of a mobile phone into the hollow cylindrical member and incorporate it. Thus, the portable antenna can be further reduced in size.

図1〜図2を参照しつつ、本発明による透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法の1例として、携帯電話機のアンテナ用として、円筒状の透明中空体の内壁にスパイラル状の導電性回路を形成する場合を説明する。さて図1(A)に示すように、まず絶縁性透明材料からなる中空体1を形成する。中空体1は、中心に貫通穴11を有する円筒形状であって、透明な合成樹脂であるシクロオレフィンポリマを射出成形して製作する。中空体1の外形と内径との間の壁厚は、2mmにしてある。   As an example of a method of forming a conductive circuit on the inner wall of a transparent hollow body according to the present invention with reference to FIGS. 1 to 2, a spiral-shaped inner wall of a cylindrical transparent hollow body is used as an antenna for a mobile phone. A case where a conductive circuit is formed will be described. As shown in FIG. 1A, first, a hollow body 1 made of an insulating transparent material is formed. The hollow body 1 has a cylindrical shape having a through hole 11 in the center, and is manufactured by injection molding a cycloolefin polymer which is a transparent synthetic resin. The wall thickness between the outer shape and the inner diameter of the hollow body 1 is 2 mm.

次に中空体1に脱脂及び洗浄等を行い、図1(B)に示すように、この中空体1の貫通穴11の内壁11aに、高周波イオンプレーティング法によって、導電性金属膜として厚さ0.3μmの銅膜2を形成する。なお銅膜2の厚さは、0.1〜2μmであってもよい。   Next, the hollow body 1 is degreased and washed, and as shown in FIG. 1B, the inner wall 11a of the through hole 11 of the hollow body 1 is thickened as a conductive metal film by high-frequency ion plating. A 0.3 μm-thick copper film 2 is formed. The thickness of the copper film 2 may be 0.1 to 2 μm.

次に図1(C)に示すように、中空体1の外側から、厚さ2mmの壁厚を通過するようにして、レーザー光を銅膜2の裏側から照射し、スパイラル状のアンテナとなる導電回路部2aを残して、他の非回路部2bを除去する。レーザー3は、YAGレーザーを使用する。   Next, as shown in FIG. 1 (C), a laser beam is irradiated from the back side of the copper film 2 so as to pass through a wall thickness of 2 mm from the outside of the hollow body 1 to form a spiral antenna. The other non-circuit part 2b is removed leaving the conductive circuit part 2a. As the laser 3, a YAG laser is used.

なおレーザー3は固定し、円筒状の中空体1を回転しつつ軸方向に移動して、スパイラル状のアンテナとなる導電回路部2aを残して、他の非回路部2bを順次除去する。またレーザー3のレーザー光の焦点位置を、銅膜2の手前、すなわち中空体1の壁厚内に設定すると、この中空体の合成樹脂を加熱して発泡等させる恐れがあるため、焦点位置は、この銅膜を通過した位置、すなわちこの中空体の壁厚の外に設定することが望ましい。   The laser 3 is fixed and moved in the axial direction while rotating the cylindrical hollow body 1, and the other non-circuit portions 2b are sequentially removed while leaving the conductive circuit portion 2a serving as a spiral antenna. Further, if the focal position of the laser beam of the laser 3 is set in front of the copper film 2, that is, within the wall thickness of the hollow body 1, the synthetic resin of the hollow body may be heated and foamed, so the focal position is It is desirable to set the position passing through the copper film, that is, outside the wall thickness of the hollow body.

なお導電回路部2aに、さらに電解銅めっきを行い、この導電回路部の厚さを増して、強度や耐久性等を増強することも効果的である。   It is also effective to perform electrolytic copper plating on the conductive circuit portion 2a and increase the thickness of the conductive circuit portion to enhance the strength, durability, and the like.

次に図2を参照しつつ、円筒状の透明中空体の内壁に、スパイラル状のアンテナとして使用する導電性回路を形成する、他の方法を説明する。まず図2(A)に示すように、上述した方法と同様にして、透明な合成樹脂であるシクロオレフィンポリマを用いて、中心に貫通穴111を有する円筒形状の中空体101を射出成形する。そして中空体101に脱脂及び洗浄等を行い、図2(B)に示すように、この中空体の貫通穴111の内壁111aに、高周波イオンプレーティング法によって、導電性金属膜として厚さ0.3μmの銅膜102を形成する。   Next, another method of forming a conductive circuit used as a spiral antenna on the inner wall of a cylindrical transparent hollow body will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 2A, a cylindrical hollow body 101 having a through hole 111 at the center is injection-molded using a cycloolefin polymer, which is a transparent synthetic resin, in the same manner as described above. Then, the hollow body 101 is degreased and washed, and as shown in FIG. 2B, the inner wall 111a of the through hole 111 of the hollow body has a thickness of 0. 5 mm as a conductive metal film by high-frequency ion plating. A 3 μm thick copper film 102 is formed.

次に図2(C)に示すように、中空体101の外側から、厚さ2mmの壁厚を通過するようにして、レーザー光を銅膜102の裏側から照射し、スパイラル状のアンテナとなる回路部102aと、その周囲の非回路部102bとを隔てるスパイラル状の境界部102cを除去する。なおレーザー103は固定し、円筒状の中空体101を回転しつつ軸方向に移動して、スパイラル状の境界部102cを除去する。レーザー103は、YAGレーザーを使用する。   Next, as shown in FIG. 2 (C), a laser beam is irradiated from the back side of the copper film 102 so as to pass through a wall thickness of 2 mm from the outside of the hollow body 101 to form a spiral antenna. The spiral boundary portion 102c that separates the circuit portion 102a from the surrounding non-circuit portion 102b is removed. The laser 103 is fixed and moved in the axial direction while rotating the cylindrical hollow body 101 to remove the spiral boundary portion 102c. The laser 103 uses a YAG laser.

次に図2(D)に示すように導電回路部102aを陰極にして電解銅めっきを行い、この回路部の上に、厚さ10〜100μmの銅膜104を積層する。なおこの電解銅めっきを行う場合には、周囲の非回路部102bは、スパイラル状の境界部102cによって絶縁されているため、この非回路部は銅めっきされず、上述した高周波イオンプレーティング法によって形成した、厚さ0.3μmの銅膜の状態になっている。ここで電解銅めっきは、公知の技術を用いることができる。   Next, as shown in FIG. 2D, electrolytic copper plating is performed using the conductive circuit portion 102a as a cathode, and a copper film 104 having a thickness of 10 to 100 μm is laminated on the circuit portion. When this electrolytic copper plating is performed, the surrounding non-circuit portion 102b is insulated by the spiral boundary portion 102c. Therefore, the non-circuit portion is not copper-plated, and the above-described high-frequency ion plating method is used. The formed copper film is 0.3 μm thick. Here, a known technique can be used for the electrolytic copper plating.

次に図2(E)に示すようにエッチングによって、非回路部102bを形成する厚さ0.3μmの銅膜を除去する。なおこのエッチングの際は、導電回路部102aには電解銅めっきによって、厚さ10〜100μmの銅膜104が積層されているため、この銅膜は除去されず、スパイラル状のアンテナが形成される。   Next, as shown in FIG. 2E, the 0.3 μm-thick copper film forming the non-circuit portion 102b is removed by etching. In this etching, since the copper film 104 having a thickness of 10 to 100 μm is laminated on the conductive circuit portion 102a by electrolytic copper plating, the copper film is not removed and a spiral antenna is formed. .

なお上述したように、中空体1、101は、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマ、ポリエチレンテレフタレート、またはアクリル等の透明合成樹脂を使用することができる。また中空体1、101の壁厚は、上述した2mmに限らず、2mm未満あるいは2mmより厚くてもよい。ここで壁厚を2mmより厚くする場合、理論的にはレーザーのθレンズと焦点深度との間隔まで、壁厚を厚くすることが可能であるが、壁厚があまり厚くなると、内部ひずみ等によってレーザー光が拡散し、回路部を精密に成形することが困難になる。したがって回路部を精密に成形する場合は、壁厚は薄い方が有利となる。   As described above, the hollow bodies 1 and 101 can be made of a transparent synthetic resin such as polyetherimide, polyethersulfone, polyimide, polyamide, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyethylene terephthalate, or acrylic. The wall thickness of the hollow bodies 1 and 101 is not limited to 2 mm described above, and may be less than 2 mm or thicker than 2 mm. When the wall thickness is made thicker than 2 mm, it is theoretically possible to increase the wall thickness up to the distance between the laser θ lens and the focal depth. However, if the wall thickness becomes too thick, Laser light diffuses and it becomes difficult to precisely shape the circuit portion. Therefore, when the circuit part is precisely formed, it is advantageous that the wall thickness is thin.

上述したように、中空体1、101の内壁に形成する銅膜2、102は、イオンプレーティングに限らず、公知の化学めっき、スパッタリング、または真空蒸着等を使用することができる。さらにこの導電性金属膜は、銅膜2、102に限らず、ニッケルや、はんだ等の他の導電性金属膜を使用することができる。   As described above, the copper films 2 and 102 formed on the inner walls of the hollow bodies 1 and 101 are not limited to ion plating, and well-known chemical plating, sputtering, vacuum deposition, or the like can be used. Further, the conductive metal film is not limited to the copper films 2 and 102, and other conductive metal films such as nickel and solder can be used.

レーザー3、103は、上述したようにYAGレーザーに限らず、COまたはArレーザー等を使用することができる。レーザー3、103の出力、焦点深度、ビーム径、あるいは加工速度等の条件は、このレーザーの機種、中空体1、101の材質、形状、及び壁厚、並びにこのレーザーで除去する導電性金属膜の種類、厚さおよび面積等によって異なるが、実施にあたって、この中空体自体に変質や気泡が生じない範囲に設定すればよい。 As described above, the lasers 3 and 103 are not limited to YAG lasers, and CO 2 or Ar lasers can be used. Conditions such as the output of the lasers 3 and 103, the depth of focus, the beam diameter, or the processing speed are as follows: the type of laser, the material, shape, and wall thickness of the hollow bodies 1 and 101, and the conductive metal film removed by the laser. Depending on the type, thickness, and area, the hollow body itself may be set in a range where no alteration or bubbles occur.

[実施例1]
透明合成樹脂であるシクロオレフィンポリマからなる、厚さ2mmの板材の片面に、高周波イオンプレーティング法によって、厚さ0.3μmの銅膜を形成した。次いでYAGレーザー光を、板材の裏面から厚さ2mmのこの板材を通過させて、銅膜に照射させて、この銅膜を除去した。シクロオレフィンポリマ自体に、特に変質や気泡が発生しないで、銅膜を除去できることが確認できた。なお加工条件は次のとおりである。
1.使用したレーザー:東芝(株)製,機種名「LAY−724DU−6CA」
2.出力(W) :26.0(A)QSW 6KHz (光パワーメータ測定)
3.焦点深度 :Fθレンズから296.3mm
4.ビーム径 :120μm
5.加工速度 :370mm/sec
[Example 1]
A copper film having a thickness of 0.3 μm was formed on one surface of a 2 mm-thick plate material made of a cycloolefin polymer, which is a transparent synthetic resin, by high-frequency ion plating. Next, YAG laser light was passed through the plate material having a thickness of 2 mm from the back surface of the plate material, and the copper film was irradiated to remove the copper film. It was confirmed that the copper film can be removed without causing any alteration or bubbles in the cycloolefin polymer itself. The processing conditions are as follows.
1. Laser used: Toshiba Corporation, model name “LAY-724DU-6CA”
2. Output (W): 26.0 (A) QSW 6 KHz (Optical power meter measurement)
3. Depth of focus: 296.3 mm from Fθ lens
4). Beam diameter: 120 μm
5. Processing speed: 370 mm / sec

[実施例2]
透明合成樹脂であるシクロオレフィンポリマを使用して外形10mm、内径6mm、長さ30mmの円筒状の中空体を射出成形した。この円筒状の中空体の内壁に、高周波イオンプレーティング法によって、厚さ0.3μmの銅膜を形成した。次いで中空体の外側から、YAGレーザー光を、この中空体の厚さ2mmの壁厚を通過させて、銅膜に照射させて、この銅膜を除去した。シクロオレフィンポリマ自体に、特に変質や気泡が発生しないで、銅膜を除去できることが確認できた。なお加工条件は上述した[実施例1]と同じに設定した。
[Example 2]
Using a cycloolefin polymer which is a transparent synthetic resin, a cylindrical hollow body having an outer diameter of 10 mm, an inner diameter of 6 mm, and a length of 30 mm was injection molded. A copper film having a thickness of 0.3 μm was formed on the inner wall of the cylindrical hollow body by high frequency ion plating. Next, from the outside of the hollow body, YAG laser light was passed through the wall thickness of 2 mm of the hollow body to irradiate the copper film, thereby removing the copper film. It was confirmed that the copper film can be removed without causing any alteration or bubbles in the cycloolefin polymer itself. The processing conditions were set to be the same as those in [Example 1] described above.

本発明による透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法は、多種多様な透明合成樹脂等の中空体の内壁に、正確かつ迅速に精密な導電性回路を形成することができるため、今後さらなる高密度化とコストダウンとが要請される電子機器等の産業に広く利用することができる。   The method for forming a conductive circuit on the inner wall of a transparent hollow body according to the present invention can form a precise conductive circuit accurately and quickly on the inner wall of a hollow body such as a variety of transparent synthetic resins. The present invention can be widely used in industries such as electronic devices that are required to have higher density and cost reduction.

円筒形状の中空体の内壁に導電性回路を形成する工程図である。It is process drawing which forms a conductive circuit in the inner wall of a cylindrical hollow body. 円筒形状の中空体の内壁に導電性回路を形成する他の工程図である。It is another process drawing which forms a conductive circuit in the inner wall of a cylindrical hollow body.

符号の説明Explanation of symbols

1、101 中空体
11、111 貫通穴
11a、111a 内壁
2、102 銅膜(導電性金属膜)
2a、102a 回路部
2b、102b 非回路部
102c 境界部
3、103 レーザー
104 銅膜(電解めっき)
1, 101 Hollow body 11, 111 Through hole 11a, 111a Inner wall 2, 102 Copper film (conductive metal film)
2a, 102a Circuit part 2b, 102b Non-circuit part 102c Boundary part 3, 103 Laser 104 Copper film (electrolytic plating)

Claims (4)

絶縁性透明材料からなる中空体の内壁に導電性金属膜を形成する工程と、
上記中空体の外側からこの中空体を通過するようにレーザー光を上記導電性金属膜に照射して、回路部を残してこの導電性金属膜を除去する工程とを備える
ことを特徴とする透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法。
Forming a conductive metal film on the inner wall of the hollow body made of an insulating transparent material;
A step of irradiating the conductive metal film with laser light from the outside of the hollow body so as to pass through the hollow body, and removing the conductive metal film leaving a circuit portion. A method of forming a conductive circuit on the inner wall of a hollow body.
絶縁性透明材料からなる中空体の内壁に導電性金属膜を形成する工程と、
上記中空体の外側からこの中空体を通過するようにレーザー光を上記導電性金属膜に照射して、回路部と非回路部とを隔てる境界部についてこの導電性金属膜を除去する工程と、
上記導電性金属膜の回路部に電解めっきを行う工程と、
上記導電性金属膜の非回路部をエッチングにより除去する工程とを備える
ことを特徴とする透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法。
Forming a conductive metal film on the inner wall of the hollow body made of an insulating transparent material;
Irradiating the conductive metal film with laser light so as to pass through the hollow body from the outside of the hollow body, and removing the conductive metal film at a boundary portion separating the circuit portion and the non-circuit portion;
Performing electrolytic plating on the circuit portion of the conductive metal film;
And a step of removing the non-circuit portion of the conductive metal film by etching. A method for forming a conductive circuit on the inner wall of a transparent hollow body.
請求項1または2のいずれかにおいて、上記絶縁性透明材料は透明合成樹脂であって、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマ、ポリエチレンテレフタレート、またはアクリルのいずれかの1からなることを特徴とする透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法。       3. The insulating transparent material according to claim 1, wherein the insulating transparent material is a transparent synthetic resin, and is any one of polyetherimide, polyethersulfone, polyimide, polyamide, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyethylene terephthalate, or acrylic. A method for forming a conductive circuit on the inner wall of a transparent hollow body, comprising: 請求項1乃至3のいずれかの1において、上記導電性金属膜は、化学めっき、スパッタリング、真空蒸着またはイオンプレーティングのいずれかの1によって形成することを特徴とする透明中空体の内壁に導電性回路を形成する方法。       4. The conductive metal film according to claim 1, wherein the conductive metal film is formed on the inner wall of the transparent hollow body by any one of chemical plating, sputtering, vacuum deposition, or ion plating. Method for forming a sex circuit.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009094154A (en) * 2007-10-04 2009-04-30 Olympus Corp Method of manufacturing wiring board, and wiring board
JP2009094153A (en) * 2007-10-04 2009-04-30 Olympus Corp Wiring board and method of manufacturing the same
JP2011029369A (en) * 2009-07-24 2011-02-10 Sankyo Kasei Co Ltd Method of manufacturing three-dimensional molded circuit component

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009094154A (en) * 2007-10-04 2009-04-30 Olympus Corp Method of manufacturing wiring board, and wiring board
JP2009094153A (en) * 2007-10-04 2009-04-30 Olympus Corp Wiring board and method of manufacturing the same
JP2011029369A (en) * 2009-07-24 2011-02-10 Sankyo Kasei Co Ltd Method of manufacturing three-dimensional molded circuit component

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