JP2006305558A - Catalyst composition and process for producing cross-coupled compound using same - Google Patents

Catalyst composition and process for producing cross-coupled compound using same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a catalyst composition having very high activity for a cross-coupling reaction very important in organic syntheses. <P>SOLUTION: The catalyst composition for the cross-coupling reaction comprises a complex of the nickel salt represented by formula (1) (wherein R<SP>1</SP>through R<SP>4</SP>are each an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group or an alkenyl group; n is an integer of 1 to 6; Xs are each a halogen atom, a hydroxyl group, a nitrate group or an acetate group) with an amine compound and triphenylphosphine. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機合成上、クロスカップリング反応に対し極めて高活性な触媒組成物、及びそれを用いたクロスカップリング化合物の製造方法に関するものである。本発明の方法を用いることにより、種々の機能性化合物を効率的に製造することが可能となる。例えば、液晶や医薬原料として多用される、4−ヒドロキシ−4’−シアノビフェニルを効率的に合成する方法として非常に有用である。   The present invention relates to a catalyst composition that is extremely active for cross-coupling reaction in organic synthesis, and a method for producing a cross-coupling compound using the same. By using the method of the present invention, various functional compounds can be efficiently produced. For example, it is very useful as a method for efficiently synthesizing 4-hydroxy-4'-cyanobiphenyl, which is frequently used as a liquid crystal or pharmaceutical raw material.

カップリング反応技術は、電子材料、医農薬中間体、各種機能性化合物等を合成する技術として非常に重要な技術である。中でも、塩基及び触媒存在下に、ホウ素化合物と有機ハライド化合物とをクロスカップリング反応させる技術(以下、鈴木カップリング反応技術と略記する)が、有用で汎用性の高い技術として大きく注目されてきており、この技術を利用して様々な有用な化合物を合成可能である。特に近年では、ビアリール化合物(医農薬中間体や液晶材料等)や置換オレフィン化合物(機能性材料の原料等)合成において極めて重要となっている。   The coupling reaction technique is a very important technique as a technique for synthesizing electronic materials, intermediates for medical and agricultural chemicals, various functional compounds and the like. Among them, a technique for cross-coupling reaction between a boron compound and an organic halide compound in the presence of a base and a catalyst (hereinafter abbreviated as Suzuki coupling reaction technique) has attracted much attention as a useful and versatile technique. Various useful compounds can be synthesized using this technique. Particularly in recent years, it has become extremely important in the synthesis of biaryl compounds (medicine and agrochemical intermediates and liquid crystal materials) and substituted olefin compounds (raw materials for functional materials).

従来、鈴木カップリング反応技術を利用してビアリール化合物または置換オレフィン化合物を合成する際の触媒としては、パラジウム塩とホスフィン化合物からなる触媒(以下、パラジウム−ホスフィン触媒と略記する)が多用されてきた。しかしながら、パラジウムは非常に高価であり、また、カップリング原料として安価な塩化物の利用が困難であった。   Conventionally, a catalyst composed of a palladium salt and a phosphine compound (hereinafter abbreviated as a palladium-phosphine catalyst) has been frequently used as a catalyst for synthesizing a biaryl compound or a substituted olefin compound using the Suzuki coupling reaction technique. . However, palladium is very expensive, and it is difficult to use an inexpensive chloride as a coupling raw material.

これに対し、パラジウムを経済的に有利となる安価なニッケルで代替したニッケル塩とホスフィン化合物からなる触媒(以下、ニッケル−ホスフィン触媒と略記する)が提案されてきている(例えば、特許文献1〜4、非特許文献1〜3参照)。これらの方法で、反応を円滑に進行させるためには、1,2−ビス(ジエチルホスフィノ)エタンなどの高価且つ安定性に問題があり、取扱いにくいホスフィン配位子が必須であること、また高価で取扱いが困難なBuLiなどの還元剤の使用が必要となる問題がある。   On the other hand, a catalyst (hereinafter abbreviated as a nickel-phosphine catalyst) composed of a nickel salt and a phosphine compound in which palladium is replaced with economically advantageous nickel that has been economically advantageous has been proposed (for example, Patent Documents 1 to 3). 4, see non-patent documents 1 to 3). In order to allow the reaction to proceed smoothly by these methods, a phosphine ligand that is expensive and difficult to handle such as 1,2-bis (diethylphosphino) ethane and is difficult to handle is essential. There is a problem that it is necessary to use a reducing agent such as BuLi which is expensive and difficult to handle.

これら上記問題に対し、最近ではニッケル化合物とアミン化合物からなる触媒(以下、ニッケル−アミン触媒と略記する)を利用する方法が注目されている(例えば、特許文献5、非特許文献4参照)。この方法において、収率改善のためには、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの高価なアミン化合物を用いる必要があり、さらには、ニッケル化合物として、空気に対して極めて敏感で大気中での取扱いが困難なビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケルを使用していることから、この方法も量産化の観点では問題がある。   Recently, attention has been paid to a method using a catalyst composed of a nickel compound and an amine compound (hereinafter abbreviated as a nickel-amine catalyst) for these problems (for example, see Patent Document 5 and Non-Patent Document 4). In this method, in order to improve the yield, it is necessary to use an expensive amine compound such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene. Furthermore, as a nickel compound, This method is also problematic from the viewpoint of mass production because it uses bis (1,5-cyclooctadiene) nickel which is extremely sensitive and difficult to handle in the atmosphere.

さらに、ニッケル触媒を使用するこれらの方法における共通の課題として、塩基にリン酸カリウムなどの高価な強塩基が必須である問題がある。リン酸カリウムは強塩基性を有するため、反応時に原料であるボロン酸の分解反応が併発する問題を有し、経済的にもプロセス的にも問題がある。   Furthermore, as a common problem in these methods using a nickel catalyst, there is a problem that an expensive strong base such as potassium phosphate is essential for the base. Since potassium phosphate has a strong basicity, it has a problem that the decomposition reaction of the boronic acid, which is a raw material, occurs at the time of the reaction, and there is a problem both economically and in process.

特開2000−302697号公報(実施例)JP 2000-302697 A (Example) 特開2000−302720号公報(実施例)JP 2000-302720 A (Example) 特開2003−119175号公報(実施例)JP 2003-119175 A (Example) 特開2004−91467号公報(実施例)JP 2004-91467 A (Example) 特開2004−91465号公報(実施例)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-91465 (Example) 「テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)」,(英国),1996年,第37巻,p2993−2996(スキーム1、表1〜2)"Tetrahedron Letters" (UK), 1996, 37, p2993-996 (Scheme 1, Tables 1-2) 「ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Journal of Organic Chemistry)」,(米国),1997年,第62巻,p8024−8030(スキーム1、表1〜6)“Journal of Organic Chemistry”, (USA), 1997, Vol. 62, p8024-3030 (Scheme 1, Tables 1-6) 「テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)」,(英国),1997年,第38巻,p3513−3516(スキーム1、表1〜2)“Tetrahedron Letters” (UK), 1997, Vol. 38, p3513-3516 (Scheme 1, Tables 1-2) テトラヘドロン(Tetrahedron)」,(英国),1999年,第55巻,p11889−11894(図1〜3、表1〜3)Tetrahedron ", (UK), 1999, Vol. 55, p11889-11894 (Figs. 1-3, Tables 1-3)

本発明は、従来の方法では解決できなかった、有機合成上非常に重要な反応技術であるクロスカップリング反応用に極めて高活性な触媒組成物、及びそれを用いたクロスカップリング化合物の製造方法を提供することにある。   The present invention is a catalyst composition extremely active for a cross-coupling reaction, which is a very important reaction technique for organic synthesis, which cannot be solved by conventional methods, and a method for producing a cross-coupling compound using the same. Is to provide.

本発明者らは、従来の問題点を解決すべく鋭意検討した結果、ニッケル塩とアミン化合物との錯体及びトリフェニルホスフィンの3成分からなる新規な触媒組成物が、クロスカップリング反応用の触媒として、鈴木カップリング反応において極めて高活性を発現することを見出した。   As a result of intensive studies to solve the conventional problems, the present inventors have found that a novel catalyst composition comprising a complex of a nickel salt and an amine compound and three components of triphenylphosphine is a catalyst for cross-coupling reaction. As a result, the present inventors have found that a very high activity is expressed in the Suzuki coupling reaction.

すなわち本発明は、イ)下記式(1)で示されるニッケル塩とアミン化合物との錯体及びトリフェニルホスフィンからなる触媒組成物、及びロ)下記式(2)で示されるホウ素化合物と下記式(3)で示される化合物とを、塩基及び前記触媒組成物の存在下に、クロスカップリング反応させることを特徴とする下記式(4)で示されるクロスカップリング化合物の製造方法に関するものである。   That is, the present invention relates to a) a catalyst composition comprising a complex of a nickel salt represented by the following formula (1) and an amine compound and triphenylphosphine, and b) a boron compound represented by the following formula (2) and the following formula ( The present invention relates to a method for producing a cross-coupling compound represented by the following formula (4), wherein the compound represented by 3) is subjected to a cross-coupling reaction in the presence of a base and the catalyst composition.

Figure 2006305558
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Figure 2006305558
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Figure 2006305558
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Figure 2006305558
(式中、R〜Rは同一または異なっていてもよく、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基を表す。nは1〜6の整数を表す。Xは各々同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子、水酸基、硝酸基または酢酸基を表す。R,Rは同一または異なっていてもよく、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基を表す。Yは各々同一または異なっていてもよく、水酸基またはアルコキシ基を表す。Zはハロゲン原子、メタンスルホナート基またはトリフルオロメタンスルホナート基を表す。)
以下、本発明について詳細に説明する。
Figure 2006305558
Wherein R 1 to R 4 may be the same or different and are a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group Or a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, n represents an integer of 1 to 6. X may be the same or different and each may be a halogen atom, a hydroxyl group, a nitrate group or acetic acid. R 5 and R 6 may be the same or different and are a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group. Or a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, each Y may be the same or different, and may be a hydroxyl group or an alkoxy group. The representative .Z represents a halogen atom, methanesulfonate group or a trifluoromethanesulfonate group.)
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の触媒組成物は、ニッケル塩とアミン化合物との錯体及びトリフェニルホスフィンの3成分から構成される。   The catalyst composition of the present invention is composed of a complex of a nickel salt and an amine compound and three components of triphenylphosphine.

本発明の触媒組成物におけるニッケル塩とは、ニッケル元素を有効成分とする化合物を示し、例えば、0〜2価ニッケル塩を示す。ニッケル塩の具体例としては、特に限定されるものではないが、例えば、フッ化ニッケル(II)、塩化ニッケル(II)、臭化ニッケル(II)、ヨウ化ニッケル(II)等のハロゲン化ニッケル、ニッケル(0)粉末、硫酸ニッケル(II)、硝酸ニッケル(II)、過塩素酸ニッケル(II)、硫化ニッケル(II)等の無機塩、ギ酸ニッケル(II)、シュウ酸ニッケル(II)、酢酸ニッケル(II)、フマル酸ニッケル(II)、乳酸ニッケル(II)、グルコン酸ニッケル(II)、安息香酸ニッケル(II)、ステアリン酸ニッケル(II)、スルファミン酸ニッケル(II)、アミド硫酸ニッケル(II)、炭酸ニッケル(II)、ニッケルアセチルアセトナート(II)等の有機酸ニッケル塩が挙げられる。   The nickel salt in the catalyst composition of the present invention refers to a compound containing nickel element as an active ingredient, for example, a 0 to divalent nickel salt. Specific examples of the nickel salt are not particularly limited. For example, nickel halides such as nickel fluoride (II), nickel chloride (II), nickel bromide (II), nickel iodide (II), etc. , Nickel (0) powder, nickel sulfate (II), nickel nitrate (II), nickel perchlorate (II), nickel sulfide (II) and other inorganic salts, nickel formate (II), nickel oxalate (II), Nickel (II) acetate, nickel (II) fumarate, nickel (II) lactate, nickel (II) gluconate, nickel (II) benzoate, nickel (II) stearate, nickel (II) sulfamate, nickel amidosulfate Examples of the organic acid nickel salt include (II), nickel carbonate (II), and nickel acetylacetonate (II).

上記したニッケル塩は単独または混合物として使用してもよい。なお、経済性及び化合物入手、反応性及び安定性の観点から、ハロゲン化ニッケルを用いることが好ましい。   The above nickel salts may be used alone or as a mixture. In addition, it is preferable to use nickel halide from a viewpoint of economical efficiency, compound availability, reactivity, and stability.

また、本発明の触媒組成物におけるアミン化合物とは、下記式(9)で示される第三級の二座アミン化合物である。   The amine compound in the catalyst composition of the present invention is a tertiary bidentate amine compound represented by the following formula (9).

Figure 2006305558
(式中、R〜Rは同一または異なっていてもよく、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基を表す。nは1〜6の整数を表す。)
式(9)で示される第三級の二座アミン化合物の具体例としては、例えば、N,N,N’,N’−テトラメチルメタンジアミン、N,N,N’,N’−テトラエチルメタンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルヘキサンジアミン、N,N,N’,N’−テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラエチルプロピレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラエチルヘキサンジアミン、N,N,N’,N’−テトラフェニルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラフェニルプロピレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラフェニルヘキサンジアミン、N,N−ジメチル−N’,N’−ジエチルエチレンジアミン、N,N−ジメチル−N’,N’−ジエチルプロパンジアミン、N,N−ジメチル−N’,N’−ジエチルヘキサンジアミンが挙げられる。収率及び経済性や化合物入手の観点から、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンを用いることが好ましい。
Figure 2006305558
Wherein R 1 to R 4 may be the same or different and are a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group Or a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, n represents an integer of 1 to 6.)
Specific examples of the tertiary bidentate amine compound represented by the formula (9) include, for example, N, N, N ′, N′-tetramethylmethanediamine, N, N, N ′, N′-tetraethylmethane. Diamine, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylpropylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylhexanediamine, N, N, N ′, N′-tetraethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraethylpropylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraethylhexanediamine, N, N, N ′, N′-tetraphenylethylenediamine N, N, N ′, N′-tetraphenylpropylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraphenylhexanediamine, N, N-dimethyl-N ′, N′-diethylethylenediamine, N, N— Dimethyl N ', N'-diethyl-propane diamine, N, N-dimethyl -N', N'-diethyl-hexane diamine. N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine is preferably used from the viewpoints of yield, economy, and compound availability.

本発明の触媒組成物は、一般式(1)で示されるニッケル塩とアミン化合物との錯体及びトリフェニルホスフィンから構成され、種々のホスフィン化合物の中でも、トリフェニルホスフィンを使用した場合にのみ、特異的に高活性な触媒組成物が得られることを見出した。このように、一般式(1)とトリフェニルホスフィンのような特殊な組み合わせの場合にのみ、高活性な触媒組成物が得られたことは驚くべきことであった。また、本発明の触媒組成物は、経済性や化合物入手の容易さ、安定性や取扱いの観点からも非常に優れている。   The catalyst composition of the present invention is composed of a complex of a nickel salt represented by the general formula (1) and an amine compound and triphenylphosphine. Among various phosphine compounds, the catalyst composition is unique only when triphenylphosphine is used. It was found that a highly active catalyst composition was obtained. Thus, it was surprising that a highly active catalyst composition was obtained only in the case of a special combination such as general formula (1) and triphenylphosphine. The catalyst composition of the present invention is also excellent from the viewpoints of economy, availability of compounds, stability and handling.

本発明の触媒組成物は、上記したニッケル−アミン錯体にトリフェニルホスフィンを添加することにより得られる。また、ニッケル塩、アミン化合物、トリフェニルホスフィンを別々に加えても、系中でニッケル−アミン錯体が形成し、本発明の触媒組成物が得られる。各々の化合物の組成比は、ニッケル塩1.0モルに対し、アミン化合物1.0〜10.0モル、トリフェニルホスフィン1.0〜10.0モルの範囲から適宜選択することができる。より好ましくは、ニッケル塩1.0モルに対し、アミン化合物1.0〜5.0モル、トリフェニルホスフィン2.0〜5.0モルである。   The catalyst composition of the present invention can be obtained by adding triphenylphosphine to the above nickel-amine complex. Moreover, even if nickel salt, an amine compound, and triphenylphosphine are added separately, a nickel-amine complex is formed in the system, and the catalyst composition of the present invention is obtained. The composition ratio of each compound can be appropriately selected from the range of 1.0 to 10.0 mol of the amine compound and 1.0 to 10.0 mol of triphenylphosphine with respect to 1.0 mol of the nickel salt. More preferably, they are 1.0-5.0 mol of amine compounds and 2.0-5.0 mol of triphenylphosphine with respect to 1.0 mol of nickel salt.

触媒組成物は溶媒存在下に調製することができる。使用される溶媒は、ニッケル塩、アミン化合物及びトリフェニルホスフィンに対して不活性であれば特に限定されないが、例えば、エーテル系溶媒、含酸素系溶媒、含窒素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。通常、これらの溶媒を単独または混合して使用することができる。   The catalyst composition can be prepared in the presence of a solvent. The solvent used is not particularly limited as long as it is inert to nickel salts, amine compounds and triphenylphosphine. For example, ether solvents, oxygen-containing solvents, nitrogen-containing solvents, aromatic hydrocarbon solvents And aliphatic hydrocarbon solvents. Usually, these solvents can be used alone or in combination.

本発明者らは、上記の触媒組成物が、有機合成反応において非常に高い活性を有することを見出した。特に、塩基の存在下にホウ素化合物とハライド化合物とをクロスカップリングさせる方法(鈴木カップリング反応)において、極めて高い活性を有することを見出した。   The present inventors have found that the above catalyst composition has very high activity in organic synthesis reactions. In particular, it has been found that the method (Suzuki coupling reaction) in which a boron compound and a halide compound are cross-coupled in the presence of a base has extremely high activity.

以下、本発明の方法におけるクロスカップリング反応について詳細に説明する。   Hereinafter, the cross-coupling reaction in the method of the present invention will be described in detail.

本発明の方法において実施される鈴木カップリング反応は、下記式(2)で示されるホウ素化合物と、下記式(3)で示される化合物とを、塩基及び前記触媒組成物の存在下にクロスカップリング反応させて、下記式(4)で示されるクロスカップリング化合物を得る方法である。   The Suzuki coupling reaction carried out in the method of the present invention involves cross-coupling a boron compound represented by the following formula (2) and a compound represented by the following formula (3) in the presence of a base and the catalyst composition. In this method, a ring reaction is performed to obtain a cross-coupling compound represented by the following formula (4).

Figure 2006305558
Figure 2006305558

Figure 2006305558
Figure 2006305558

Figure 2006305558
(式中、R,Rは同一または異なっていてもよく、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基を表す。Yは各々同一または異なっていてもよく、水酸基またはアルコキシ基を表す。Zはハロゲン原子、メタンスルホナート基またはトリフルオロメタンスルホナート基を表す。)
本発明の方法において使用されるホウ素化合物は、上記式(2)で示される化合物である。式中、Rは置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基を表す。
Figure 2006305558
(In the formula, R 5 and R 6 may be the same or different, and are substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl groups, substituted or unsubstituted aryl groups, substituted or unsubstituted heteroaryl groups. Or a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, each Y may be the same or different, and represents a hydroxyl group or an alkoxy group, and Z represents a halogen atom, a methanesulfonate group or trifluoromethane. Represents a sulfonate group.)
The boron compound used in the method of the present invention is a compound represented by the above formula (2). In the formula, R 5 represents a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted linear, branched or Represents a cyclic alkenyl group.

における置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基としては特に限定されないが、例えば、直線状、分岐状または環状のC〜C20のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタデシル基、シクロヘキサデシル基、シクロプタデシル基、シクロオクタデシル基、シクロノナデシル基、シクロエイコシル基等が挙げられ、さらにノルボルナル基、アダマンチル基等の多環式化合物もこの範疇に含まれる。また、それぞれ任意の数の水素原子が、それぞれハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基で置換されていてもよい。 Substituted or unsubstituted linear in R 5, it is not particularly restricted but includes branched or cyclic alkyl group, for example, linear, include branched or cyclic alkyl group of C 1 -C 20, specifically Is methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl Group, octadecyl group, nonadecyl group, eicosyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, cycloundecyl group, cyclododecyl group, cyclotridecyl group Group, cyclotetradecyl group, cyclopenta Examples include a decyl group, a cyclohexadecyl group, a cycloptadecyl group, a cyclooctadecyl group, a cyclononadecyl group, a cycloeicosyl group, and the like, and polycyclic compounds such as a norbornal group and an adamantyl group are included in this category. In addition, each of any number of hydrogen atoms is a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or It may be substituted with an unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, cyano group, carbonyl group, carboxyl group or ester group.

における置換もしくは無置換のアリール基としては特に限定されないが、例えば、C〜C18の1〜4環の置換もしくは無置換のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、アズレン基、ピレン基、フェナントレニル基、フルオレニル基等が挙げられる。また、それぞれ任意の数の水素原子が、それぞれハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基で置換されていてもよい。 Is not particularly restricted but includes substituted or unsubstituted aryl group for R 5, for example, it includes 1-4 substituted or unsubstituted aryl group ring of C 6 -C 18, specifically a phenyl group, a naphthyl group , Anthracenyl group, azulene group, pyrene group, phenanthrenyl group, fluorenyl group and the like. In addition, each of any number of hydrogen atoms is a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or It may be substituted with an unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, cyano group, carbonyl group, carboxyl group or ester group.

における置換もしくは無置換のヘテロアリール基としては特に限定されないが、例えば、C〜C18の1〜4環の置換もしくは無置換のヘテロアリール基が挙げられ、具体的にはピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピラジル基、トリアジル基、ベンゾフラニル基、インドール基、ベンゾチオフェン基、キノリン基、イソキノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、フェナントロリン基、フェノチアジン基等が挙げられる。また、それぞれ任意の数の水素原子が、それぞれハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基で置換されていてもよい。 Is not particularly restricted but includes substituted or unsubstituted heteroaryl groups in R 5, for example, C 3 -C 18 include 1-4 substituted or unsubstituted heteroaryl group rings, specifically a pyridyl group, Examples include pyrimidyl group, pyridazyl group, pyrazyl group, triazyl group, benzofuranyl group, indole group, benzothiophene group, quinoline group, isoquinoline group, carbazole group, acridine group, phenanthroline group, phenothiazine group and the like. In addition, each of any number of hydrogen atoms is a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or It may be substituted with an unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, cyano group, carbonyl group, carboxyl group or ester group.

における置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基としては特に限定されないが、例えば、C〜C20のアルケニル基が挙げられ、具体的にはビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、エイコセニル基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロノネニル基、シクロデセニル基、シクロウンデセニル基、シクロドデセニル基、シクロトリデセニル基、シクロテトラデセニル基、シクロペンタデセニル基、シクロヘキサデセニル基、ヘシクロプタデセニル基、シクロオクタデセニル基、シクロノナデセニル基、シクロエイコセニル基等が挙げられ、さらにノルボルニル基等の多環式化合物もこの範疇に含まれる。また、それぞれ任意の数の水素原子が、それぞれハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基で置換されていてもよい。 R 5 substituted or unsubstituted linear in is not particularly restricted but includes branched or cyclic alkenyl group, for example, include alkenyl groups of C 2 -C 20, specifically vinyl, propenyl, butenyl Group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, undecenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, tetradecenyl group, pentadecenyl group, hexadecenyl group, heptadecenyl group, octadecenyl group, nonadecenyl group, eicosenyl group Cyclopropenyl group, cyclobutenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, cycloheptenyl group, cyclooctenyl group, cyclononenyl group, cyclodecenyl group, cycloundecenyl group, cyclododecenyl group, cyclotridecenyl group, Tradecenyl group, cyclopentadecenyl group, cyclohexadecenyl group, hecycloptadecenyl group, cyclooctadecenyl group, cyclononadecenyl group, cycloeicocenyl group, etc., and norbornyl Polycyclic compounds such as groups are also included in this category. In addition, each of any number of hydrogen atoms is a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or It may be substituted with an unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, cyano group, carbonyl group, carboxyl group or ester group.

また、Yは各々同一または異なっていてもよく、水酸基またはアルコキシ基を表す。Yが共に水酸基の場合には、下記式(10)で示されるように、脱水縮合して3量体無水物を形成してもよい。また、Yが共にアルコキシ基の場合には、2つのアルコキシ基は環を形成していてもよい。   Y may be the same or different and each represents a hydroxyl group or an alkoxy group. When both Y are hydroxyl groups, a trimer anhydride may be formed by dehydration condensation as shown by the following formula (10). When both Y are alkoxy groups, the two alkoxy groups may form a ring.

Figure 2006305558
ホウ素化合物のより好ましい例は、下記式(5)で示される芳香族ホウ素化合物または下記式(6)で示されるアルケニルホウ素化合物である。
Figure 2006305558
A more preferable example of the boron compound is an aromatic boron compound represented by the following formula (5) or an alkenyl boron compound represented by the following formula (6).

Figure 2006305558
Figure 2006305558

Figure 2006305558
(式中、R〜R10は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基を表す。aは1〜5の整数を表す。ベンゼン環の隣り合う炭素原子に結合しているR同士が、任意に結合してベンゼン環と縮合環を形成してもよい。アルケニル基上の隣接するRとR10、同一炭素上にあるRとR10はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。Yは各々同一または異なっていてもよく、水酸基またはアルコキシ基を表す。)
特に限定されないが、上記式(5)で示される芳香族ホウ素化合物の具体例としては、例えば、フェニルボロン酸、2−メチルフェニルボロン酸、3−メチルフェニルボロン酸、4−メチルフェニルボロン酸、2,3−ジメチルフェニルボロン酸、2,4−ジメチルフェニルボロン酸、2,5−ジメチルフェニルボロン酸、2−エチルフェニルボロン酸、4−エチルフェニルボロン酸、4−n−プロピルフェニルボロン酸、4−イソプロピルフェニルボロン酸、4−n−ブチルフェニルボロン酸、4−t−ブチルフェニルボロン酸、1−ナフチルボロン酸、2−ナフチルボロン酸、2−ビフェニルボロン酸、3−ビフェニルボロン酸、4−ビフェニルボロン酸、2−フルオロ−4−ビフェニルボロン酸、2−フルオレニルボロン酸、9−フルオレニルボロン酸、9−フェナンスレニルボロン酸、9−アントラセニルボロン酸、1−ピレニルボロン酸、2−トリフルオロメチルフェニルボロン酸、3−トリフルオロメチルフェニルボロン酸、4−トリフルオロメチルフェニルボロン酸、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸、2−メトキシフェニルボロン酸、3−メトキシフェニルボロン酸、4−メトキシフェニルボロン酸、2,5−ジメトキシフェニルボロン酸、4,5−ジメトキシフェニルボロン酸、2,4−ジメトキシフェニルボロン酸、2−エトキシフェニルボロン酸、3−エトキシフェニルボロン酸、4−エトキシフェニルボロン酸、2−n−ブトキシフェニルボロン酸、3−n−ブトキシフェニルボロン酸、4−n−ブトキシフェニルボロン酸、2−t−ブトキシフェニルボロン酸、3−t−ブトキシフェニルボロン酸、4−t−ブトキシフェニルボロン酸、4−フェノキシフェニルボロン酸、3,4−メチレンジオキシフェニルボロン酸、2−フルオロフェニルボロン酸、3−フルオロフェニルボロン酸、4−フルオロフェニルボロン酸、2,4−ジフルオロフェニルボロン酸、2,5−ジフルオロフェニルボロン酸、4,5−ジフルオロフェニルボロン酸、3,5−ジフルオロフェニルボロン酸、2−クロロフェニルボロン酸、3−クロロフェニルボロン酸、4−クロロフェニルボロン酸、2−ブロモフェニルボロン酸、3−ブロモフェニルボロン酸、4−ブロモフェニルボロン酸、2−ホルミルフェニルボロン酸、3−ホルミルフェニルボロン酸、4−ホルミルフェニルボロン酸、3−ホルミル−4−メトキシフェニルボロン酸、2−(1−エトキシエトキシ)フェニルボロン酸、3−(1−エトキシエトキシ)フェニルボロン酸、4−(1−エトキシエトキシ)フェニルボロン酸、2−アセトキシフェニルボロン酸、2−アセトキシフェニルボロン酸、3−アセトキシフェニルボロン酸、4−シアノフェニルボロン酸、3−シアノフェニルボロン酸、4−シアノフェニルボロン酸、3−ニトロフェニルボロン酸、3−アセチルフェニルボロン酸、4−アセチルフェニルボロン酸、3−トリフルオロアセチルフェニルボロン酸、4−トリフルオロアセチルフェニルボロン酸、4−メチルチオフェニルボロン酸、4−ビニルフェニルボロン酸、3−カルボキシフェニルボロン酸、4−カルボキシフェニルボロン酸、3−アミノフェニルボロン酸、2−(N,N−ジメチルアミノ)フェニルボロン酸、3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニルボロン酸、4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニルボロン酸、2−(N,N−ジエチルアミノ)フェニルボロン酸、3−(N,N−ジエチルアミノ)フェニルボロン酸、4−(N,N−ジエチルアミノ)フェニルボロン酸、2−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェニルボロン酸、4−ベンゼンビス(ボロン酸)、フェニルボロン酸ピナコールエステル、4−シアノフェニルボロン酸ピナコールエステルなどが挙げられる。
Figure 2006305558
(Wherein R 7 to R 10 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or An unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, a cyano group, a carbonyl group, a carboxyl group or an ester group, where a is 1 to 5. R 7 bonded to adjacent carbon atoms of the benzene ring may be arbitrarily bonded to form a condensed ring with the benzene ring, and adjacent R 8 and R 10 on the alkenyl group. , the R 9 and R 10 on the same carbon may be respectively bonded to each other to form a ring .Y may each be identical or different, a hydroxyl group or an alkoxy group It is.)
Although not particularly limited, specific examples of the aromatic boron compound represented by the above formula (5) include, for example, phenylboronic acid, 2-methylphenylboronic acid, 3-methylphenylboronic acid, 4-methylphenylboronic acid, 2,3-dimethylphenylboronic acid, 2,4-dimethylphenylboronic acid, 2,5-dimethylphenylboronic acid, 2-ethylphenylboronic acid, 4-ethylphenylboronic acid, 4-n-propylphenylboronic acid, 4-isopropylphenylboronic acid, 4-n-butylphenylboronic acid, 4-t-butylphenylboronic acid, 1-naphthylboronic acid, 2-naphthylboronic acid, 2-biphenylboronic acid, 3-biphenylboronic acid, 4 -Biphenylboronic acid, 2-fluoro-4-biphenylboronic acid, 2-fluorenylboronic acid, 9-fluro Renylboronic acid, 9-phenanthrenylboronic acid, 9-anthracenylboronic acid, 1-pyrenylboronic acid, 2-trifluoromethylphenylboronic acid, 3-trifluoromethylphenylboronic acid, 4-trifluoromethylphenylboron Acid, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid, 2-methoxyphenylboronic acid, 3-methoxyphenylboronic acid, 4-methoxyphenylboronic acid, 2,5-dimethoxyphenylboronic acid, 4,5- Dimethoxyphenylboronic acid, 2,4-dimethoxyphenylboronic acid, 2-ethoxyphenylboronic acid, 3-ethoxyphenylboronic acid, 4-ethoxyphenylboronic acid, 2-n-butoxyphenylboronic acid, 3-n-butoxyphenyl Boronic acid, 4-n-butoxyphenylboronic acid, 2-t Butoxyphenylboronic acid, 3-t-butoxyphenylboronic acid, 4-t-butoxyphenylboronic acid, 4-phenoxyphenylboronic acid, 3,4-methylenedioxyphenylboronic acid, 2-fluorophenylboronic acid, 3- Fluorophenylboronic acid, 4-fluorophenylboronic acid, 2,4-difluorophenylboronic acid, 2,5-difluorophenylboronic acid, 4,5-difluorophenylboronic acid, 3,5-difluorophenylboronic acid, 2- Chlorophenylboronic acid, 3-chlorophenylboronic acid, 4-chlorophenylboronic acid, 2-bromophenylboronic acid, 3-bromophenylboronic acid, 4-bromophenylboronic acid, 2-formylphenylboronic acid, 3-formylphenylboronic acid 4-formylphenylboronic acid, 3-phospho Rumyl-4-methoxyphenylboronic acid, 2- (1-ethoxyethoxy) phenylboronic acid, 3- (1-ethoxyethoxy) phenylboronic acid, 4- (1-ethoxyethoxy) phenylboronic acid, 2-acetoxyphenylboron Acid, 2-acetoxyphenylboronic acid, 3-acetoxyphenylboronic acid, 4-cyanophenylboronic acid, 3-cyanophenylboronic acid, 4-cyanophenylboronic acid, 3-nitrophenylboronic acid, 3-acetylphenylboronic acid 4-acetylphenylboronic acid, 3-trifluoroacetylphenylboronic acid, 4-trifluoroacetylphenylboronic acid, 4-methylthiophenylboronic acid, 4-vinylphenylboronic acid, 3-carboxyphenylboronic acid, 4-carboxy Phenylboronic acid, 3-aminophen Ruboronic acid, 2- (N, N-dimethylamino) phenylboronic acid, 3- (N, N-dimethylamino) phenylboronic acid, 4- (N, N-dimethylamino) phenylboronic acid, 2- (N, N-diethylamino) phenylboronic acid, 3- (N, N-diethylamino) phenylboronic acid, 4- (N, N-diethylamino) phenylboronic acid, 2- (N, N-dimethylaminomethyl) phenylboronic acid, 4 -Benzenebis (boronic acid), phenylboronic acid pinacol ester, 4-cyanophenylboronic acid pinacol ester, and the like.

また、特に限定されないが、上記式(6)で示されるアルケニルホウ素化合物の具体例としては、ビニルボロン酸、ビニルボロン酸・トリエチルアミン付加体、トランス−2−ブロモメチルビニルボロン酸、トランス−2−クロロメチルビニルボロン酸、シス−プロペニルボロン酸、トランス−プロペニルボロン酸、1−ペンテニルボロン酸、(E)−5−クロロ−1−ペンテンボロン酸、トランス−1−ヘキセン−1−イルボロン酸、トランス−2−t−ブチルビニルボロン酸、トランス−2−フェニルビニルボロン酸、α−フェニルビニルボロン酸、トランス−2−(4−クロロフェニル)ビニルボロン酸、トランス−2−(4−フルオロフェニル)ビニルボロン酸、トランス−1−オクテン−1−イルボロン酸、トランス−2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]ビニルボロン酸、トランス−2−(4−メチルフェニル)ビニルボロン酸、トランス−1−ノネニルボロン酸、2−アリル−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボレーン、ビニルボロン酸ジブチルエステル、2−(シス−1−エチル−1−ブテニル)ベンゾ(1,3,2)ジオキサボロール、トランス−2−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロレーン−2−イル)スチレン、メチル−3−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロレーン−2−イル)−2−オクテノエートなどが挙げられる。   Although not particularly limited, specific examples of the alkenyl boron compound represented by the above formula (6) include vinyl boronic acid, vinyl boronic acid / triethylamine adduct, trans-2-bromomethylvinyl boronic acid, trans-2-chloromethyl. Vinylboronic acid, cis-propenylboronic acid, trans-propenylboronic acid, 1-pentenylboronic acid, (E) -5-chloro-1-penteneboronic acid, trans-1-hexen-1-ylboronic acid, trans-2 -T-butylvinylboronic acid, trans-2-phenylvinylboronic acid, α-phenylvinylboronic acid, trans-2- (4-chlorophenyl) vinylboronic acid, trans-2- (4-fluorophenyl) vinylboronic acid, trans -1-octen-1-ylboronic acid, trans-2- [4- Trifluoromethyl) phenyl] vinylboronic acid, trans-2- (4-methylphenyl) vinylboronic acid, trans-1-nonenylboronic acid, 2-allyl-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2- Dioxaborene, vinylboronic acid dibutyl ester, 2- (cis-1-ethyl-1-butenyl) benzo (1,3,2) dioxaborol, trans-2- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3 2-dioxaborolane-2-yl) styrene, methyl-3- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2-yl) -2-octenoate and the like Can be mentioned.

本発明の方法において使用される上記式(3)で示される化合物のRは、先に記載したホウ素化合物のRと同様の構造を例示することができる。 R 6 of the compound represented by the above formula (3) used in the method of the present invention can be exemplified by the same structure as R 5 of the boron compound described above.

また、Zはハロゲン原子、メタンスルホナート基またはトリフルオロメタンスルホナート基を表す。ハロゲン原子の具体例は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。   Z represents a halogen atom, a methanesulfonate group or a trifluoromethanesulfonate group. Specific examples of the halogen atom are a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

一般式(3)で示される化合物のさらに好ましい例は、下記式(7)で示される芳香族化合物または下記式(8)で示されるアルケニル化合物である。   Further preferred examples of the compound represented by the general formula (3) are an aromatic compound represented by the following formula (7) or an alkenyl compound represented by the following formula (8).

Figure 2006305558
Figure 2006305558

Figure 2006305558
(式中、R11〜R14は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基を表す。bは1〜5の整数を表す。ベンゼン環の隣り合う炭素原子に結合しているR11同士が、任意に結合してベンゼン環と縮合環を形成してもよい。アルケニル基上の隣接するR12とR14、同一炭素上にあるR13とR14はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。Zはハロゲン原子、メタンスルホナート基またはトリフルオロメタンスルホナート基を表す。)
特に限定されないが、上記式(7)で示される芳香族化合物の具体例としては、例えば、フッ化ベンゼン、塩化ベンゼン、臭化ベンゼン、ヨウ化ベンゼン、フェニルメタンスルホナート、フェニルトリフルオロメタンスルホナート、o−クロロトルエン、m−クロロトルエン、p−クロロトルエン、o−ブロモトルエン、m−ブロモトルエン、p−ブロモトルエン、o−ヨードトルエン、m−ヨードトルエン、p−ヨードトルエン、2−エチルクロロベンゼン、3−エチルクロロベンゼン、4−エチルクロロベンゼン、2−エチルブロモベンゼン、3−エチルブロモベンゼン、4−エチルブロモベンゼン、2−エチルヨードベンゼン、3−エチルヨードベンゼン、4−エチルヨードベンゼン、2−プロピルクロロベンゼン、3−プロピルクロロベンゼン、4−プロピルクロロベンゼン、2−プロピルブロモベンゼン、3−プロピルブロモベンゼン、4−プロピルブロモベンゼン、2−プロピルヨードベンゼン、3−プロピルヨードベンゼン、4−プロピルヨードベンゼン、2−ブチルクロロベンゼン、3−ブチルクロロベンゼン、4−ブチルクロロベンゼン、2−ブチルブロモベンゼン、3−ブチルブロモベンゼン、4−ブチルブロモベンゼン、2−ブチルヨードベンゼン、3−ブチルヨードベンゼン、4−ブチルヨードベンゼン、1−クロロナフタレン、2−クロロナフタレン、1−ブロモナフタレン、2−ブロモナフタレン、1−ヨードナフタレン、2−ヨードナフタレン、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼン、o−ジブロモベンゼン、m−ジブロモベンゼン、p−ジブロモベンゼン、o−ブロモクロロベンゼン、m−ブロモクロロベンゼン、p−ブロモクロロベンゼン、o−クロロフルオロベンゼン、m−クロロフルオロベンゼン、p−クロロフルオロベンゼン、o−ブロモフルオロベンゼン、m−ブロモフルオロベンゼン、p−ブロモフルオロベンゼン、o−クロロアニゾール、m−クロロアニソール、p−クロロアニソール、o−ブロモアニゾール、m−ブロモアニソール、p−ブロモアニソール、o−ヨードアニゾール、m−ヨードアニソール、p−ヨードアニソール、o−クロロフェネトール、m−クロロフェネトール、p−クロロフェネトール、o−ブロモフェネトール、m−ブロモフェネトール、p−ブロモフェネトール、o−ヨードフェネトール、m−ヨードフェネトール、p−ヨードフェネトール、o−n−ブトキシクロロベンゼン、m−n−ブトキシクロロベンゼン、p−n−ブトキシクロロベンゼン、o−n−ブトキシブロモベンゼン、m−n−ブトキシブロモベンゼン、p−n−ブトキシブロモベンゼン、o−n−ブトキシヨードベンゼン、m−n−ブトキシヨードベンゼン、p−n−ブトキシヨードベンゼン、o−t−ブトキシクロロベンゼン、m−t−ブトキシクロロベンゼン、p−t−ブトキシクロロベンゼン、o−t−ブトキシフェニルブロマイド、m−t−ブトキシフェニルブロマイド、p−t−ブトキシフェニルブロマイド、o−t−ブトキシヨードベンゼン、m−t−ブトキシヨードベンゼン、p−t−ブトキシヨードベンゼン、2−クロロベンゾニトリル、3−クロロベンゾニトリル、4−クロロベンゾニトリル、2−ブロモベンゾニトリル、3−ブロモベンゾニトリル、4−ブロモベンゾニトリル、2−ヨードベンゾニトリル、3−ヨードベンゾニトリル、4−ヨードベンゾニトリル、o−(1−エトキシエトキシ)クロロベンゼン、m−(1−エトキシエトキシ)クロロベンゼン、p−(1−エトキシエトキシ)クロロベンゼン、o−(1−エトキシエトキシ)ブロモベンゼン、m−(1−エトキシエトキシ)ブロモベンゼン、p−(1−エトキシエトキシ)ブロモベンゼン、o−(1−エトキシエトキシ)ヨードベンゼン、m−(1−エトキシエトキシ)ヨードベンゼン、p−(1−エトキシエトキシ)ヨードベンゼン、o−アセチルクロロベンゼン、m−アセチルクロロベンゼン、p−アセチルクロロベンゼン、o−アセチルブロモベンゼン、m−アセチルブロモベンゼン、p−アセチルブロモベンゼン、o−アセチルヨードベンゼン、m−アセチルヨードベンゼン、p−アセチルヨードベンゼン、o−アセトキシクロロベンゼン、m−アセトキシクロロベンゼン、p−アセトキシクロロベンゼン、o−アセトキシブロモベンゼン、m−アセトキシブロモベンゼン、p−アセトキシブロモベンゼン、o−アセトキシヨードベンゼン、m−アセトキシヨードベンゼン、p−アセトキシヨードベンゼン、2−トリフルオロメチルクロロベンゼン、3−トリフルオロメチルクロロベンゼン、4−トリフルオロメチルクロロベンゼン、2−トリフルオロメチルブロモベンゼン、3−トリフルオロメチルブロモベンゼン、4−トリフルオロメチルブロモベンゼン、2−トリフルオロメチルヨードベンゼン、3−トリフルオロメチルヨードベンゼン、4−トリフルオロメチルヨードベンゼン、2−クロロ安息香酸、3−クロロ安息香酸、4−クロロ安息香酸、2−ブロモ安息香酸、3−ブロモ安息香酸、4−ブロモ安息香酸、2−ヨード安息香酸、3−ヨード安息香酸、4−ヨード安息香酸、2−クロロ安息香酸メチル、3−クロロ安息香酸メチル、4−クロロ安息香酸メチル、2−ブロモ安息香酸メチル、3−ブロモ安息香酸メチル、4−ブロモ安息香酸メチル、2−ヨード安息香酸メチル、3−ヨード安息香酸メチル、4−ヨード安息香酸メチル、2−クロロアニリン、3−クロロアニリン、4−クロロアニリン、2−ブロモアニリン、3−ブロモアニリン、4−ブロモアニリン、2−ヨードアニリン、3−ヨードアニリン、4−ヨードアニリン、2−クロロホルミルベンゼン、3−クロロホルミルベンゼン、4−クロロホルミルベンゼン、2−ブロモホルミルベンゼン、3−ブロモホルミルベンゼン、4−ブロモホルミルベンゼンなどが挙げられる。
Figure 2006305558
(Wherein R 11 to R 14 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, substituted or An unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, a cyano group, a carbonyl group, a carboxyl group, or an ester group, and b is 1 to 5. R 11 bonded to adjacent carbon atoms of the benzene ring may be arbitrarily bonded to form a condensed ring with the benzene ring, and adjacent R 12 and R 14 on the alkenyl group. , R 13 and R 14 on the same carbon combined with each other may be to form a ring .Z halogen atom, methanesulfonate group or a trifluoromethyl It represents a single sulfonate group.)
Although not particularly limited, specific examples of the aromatic compound represented by the formula (7) include, for example, fluorinated benzene, chlorobenzene, bromobromide, benzene iodide, phenylmethanesulfonate, phenyltrifluoromethanesulfonate, o-chlorotoluene, m-chlorotoluene, p-chlorotoluene, o-bromotoluene, m-bromotoluene, p-bromotoluene, o-iodotoluene, m-iodotoluene, p-iodotoluene, 2-ethylchlorobenzene, 3-ethylchlorobenzene, 4-ethylchlorobenzene, 2-ethylbromobenzene, 3-ethylbromobenzene, 4-ethylbromobenzene, 2-ethyliodobenzene, 3-ethyliodobenzene, 4-ethyliodobenzene, 2-propylchlorobenzene , 3-propyl black Benzene, 4-propylchlorobenzene, 2-propylbromobenzene, 3-propylbromobenzene, 4-propylbromobenzene, 2-propyliodobenzene, 3-propyliodobenzene, 4-propyliodobenzene, 2-butylchlorobenzene, 3- Butylchlorobenzene, 4-butylchlorobenzene, 2-butylbromobenzene, 3-butylbromobenzene, 4-butylbromobenzene, 2-butyliodobenzene, 3-butyliodobenzene, 4-butyliodobenzene, 1-chloronaphthalene, 2 -Chloronaphthalene, 1-bromonaphthalene, 2-bromonaphthalene, 1-iodonaphthalene, 2-iodonaphthalene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, o-dibromobenzene, m- Bromobenzene, p-dibromobenzene, o-bromochlorobenzene, m-bromochlorobenzene, p-bromochlorobenzene, o-chlorofluorobenzene, m-chlorofluorobenzene, p-chlorofluorobenzene, o-bromofluorobenzene, m-bromo Fluorobenzene, p-bromofluorobenzene, o-chloroanisole, m-chloroanisole, p-chloroanisole, o-bromoanisole, m-bromoanisole, p-bromoanisole, o-iodoanisole, m-iodo Anisole, p-iodoanisole, o-chlorophenetole, m-chlorophenetole, p-chlorophenetole, o-bromophenetole, m-bromophenetole, p-bromophenetole, o-iodophenetole, m -Iodophene Tol, p-iodophenetole, on-butoxychlorobenzene, mn-butoxychlorobenzene, pn-butoxychlorobenzene, on-butoxybromobenzene, mn-butoxybromobenzene, pn-butoxy Bromobenzene, on-butoxyiodobenzene, mn-butoxyiodobenzene, pn-butoxyiodobenzene, ot-butoxychlorobenzene, mt-butoxychlorobenzene, pt-butoxychlorobenzene, o- t-butoxyphenyl bromide, mt-butoxyphenyl bromide, pt-butoxyphenyl bromide, ot-butoxyiodobenzene, mt-butoxyiodobenzene, pt-butoxyiodobenzene, 2-chlorobenzo Nitrile, 3-chlorobenzonite 4-chlorobenzonitrile, 2-bromobenzonitrile, 3-bromobenzonitrile, 4-bromobenzonitrile, 2-iodobenzonitrile, 3-iodobenzonitrile, 4-iodobenzonitrile, o- (1-ethoxy Ethoxy) chlorobenzene, m- (1-ethoxyethoxy) chlorobenzene, p- (1-ethoxyethoxy) chlorobenzene, o- (1-ethoxyethoxy) bromobenzene, m- (1-ethoxyethoxy) bromobenzene, p- (1 -Ethoxyethoxy) bromobenzene, o- (1-ethoxyethoxy) iodobenzene, m- (1-ethoxyethoxy) iodobenzene, p- (1-ethoxyethoxy) iodobenzene, o-acetylchlorobenzene, m-acetylchlorobenzene, p-acetylchlorobenzene o-acetylbromobenzene, m-acetylbromobenzene, p-acetylbromobenzene, o-acetyliodobenzene, m-acetyliodobenzene, p-acetyliodobenzene, o-acetoxychlorobenzene, m-acetoxychlorobenzene, p-acetoxychlorobenzene O-acetoxybromobenzene, m-acetoxybromobenzene, p-acetoxybromobenzene, o-acetoxyiodobenzene, m-acetoxyiodobenzene, p-acetoxyiodobenzene, 2-trifluoromethylchlorobenzene, 3-trifluoromethylchlorobenzene 4-trifluoromethylchlorobenzene, 2-trifluoromethylbromobenzene, 3-trifluoromethylbromobenzene, 4-trifluoromethylbromobenzene, 2-trifluoromethyliodobenzene, 3-trifluoromethyliodobenzene, 4-trifluoromethyliodobenzene, 2-chlorobenzoic acid, 3-chlorobenzoic acid, 4-chlorobenzoic acid, 2-bromobenzoic acid, 3- Bromobenzoic acid, 4-bromobenzoic acid, 2-iodobenzoic acid, 3-iodobenzoic acid, 4-iodobenzoic acid, methyl 2-chlorobenzoate, methyl 3-chlorobenzoate, methyl 4-chlorobenzoate, 2 -Methyl bromobenzoate, methyl 3-bromobenzoate, methyl 4-bromobenzoate, methyl 2-iodobenzoate, methyl 3-iodobenzoate, methyl 4-iodobenzoate, 2-chloroaniline, 3-chloroaniline 4-chloroaniline, 2-bromoaniline, 3-bromoaniline, 4-bromoaniline, 2-iodoaniline 3-iodoaniline, 4-iodoaniline, 2-chloroformyl benzene, 3-chloroformyl benzene, 4-chloroformyl benzene, 2-bromo-formyl benzene, 3-bromo-formyl benzene, 4-bromo-formyl benzene.

また、特に限定されないが、上記式(8)で示されるアルケニル化合物の具体例としては、塩化ビニル、臭化ビニル、β−ブロモスチレン、β−クロロスチレン、β−ヨードスチレン、α−ブロモスチレン、α−クロロスチレン、α−ヨードスチレン、1−ブロモ−1−ブテン、1−クロロ−1−ブテン、1−ヨード−1−ブテン、1−ブロモ−1−ペンテン、1−クロロ−1−ペンテン、1−ヨード−1−ペンテン、1−ブロモ−1−ヘキセン、1−クロロ−1−ヘキセン、1−ヨード−1−ヘキセン、1−ブロモ−1−ヘプテン、1−クロロ−1−ヘプテン、1−ヨード−1−ヘプテン、1−ブロモ−1−オクテン、1−クロロ−1−オクテン、1−ブロモ−1−デセン、1−クロロ−1−デセン、1−ヨード−1−オクテンなどが挙げられる。   Although not particularly limited, specific examples of the alkenyl compound represented by the above formula (8) include vinyl chloride, vinyl bromide, β-bromostyrene, β-chlorostyrene, β-iodostyrene, α-bromostyrene, α-chlorostyrene, α-iodostyrene, 1-bromo-1-butene, 1-chloro-1-butene, 1-iodo-1-butene, 1-bromo-1-pentene, 1-chloro-1-pentene, 1-iodo-1-pentene, 1-bromo-1-hexene, 1-chloro-1-hexene, 1-iodo-1-hexene, 1-bromo-1-heptene, 1-chloro-1-heptene, 1- Examples include iodo-1-heptene, 1-bromo-1-octene, 1-chloro-1-octene, 1-bromo-1-decene, 1-chloro-1-decene, 1-iodo-1-octene and the like. .

本発明の方法では、塩基の存在下に、一般式(2)で示されるホウ素化合物と一般式(3)で示される化合物とを反応させることにより、クロスカップリング反応を実施する。   In the method of the present invention, a cross-coupling reaction is carried out by reacting a boron compound represented by the general formula (2) and a compound represented by the general formula (3) in the presence of a base.

本発明の方法で使用される塩基については、塩基性を有する化合物であれば特に限定されないが、通常は無機塩基化合物が挙げられる。無機塩基化合物の具体例としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化化合物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩化合物、リン酸リチウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等のリン酸塩化合物、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム等の酢酸塩化合物、リチウムメトキシド、リチウム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド等のアルコキシド化合物等が挙げられる。これらのうち、経済性及び反応収率の観点からは炭酸塩化合物が好ましい。   The base used in the method of the present invention is not particularly limited as long as it is a basic compound, but usually an inorganic basic compound is exemplified. Specific examples of the inorganic base compound include, for example, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide and other hydroxide compounds, lithium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, carbonate Carbonate compounds such as potassium hydrogen, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, cesium carbonate, phosphate compounds such as lithium phosphate, sodium phosphate, potassium phosphate, lithium acetate, sodium acetate, magnesium acetate, calcium acetate, etc. And alkoxide compounds such as lithium methoxide, lithium-t-butoxide, sodium methoxide, sodium-t-butoxide, and the like. Of these, carbonate compounds are preferred from the viewpoints of economy and reaction yield.

なお、用いる塩基の使用量は、上述した芳香族ホウ素化合物に対して通常0.1〜20当量の範囲で用いられる。使用量が0.1当量未満の場合には、反応が円滑に進行せず、20当量を超える場合には、使用量の割には収率が向上せず、かえって経済的に不利となる。   In addition, the usage-amount of the base to be used is normally used in 0.1-20 equivalent with respect to the aromatic boron compound mentioned above. When the amount used is less than 0.1 equivalent, the reaction does not proceed smoothly. When the amount used exceeds 20 equivalents, the yield does not improve for the amount used, but it is economically disadvantageous.

本発明者らは、前述したクロスカップリング反応において、ニッケル塩とアミン化合物との錯体及びホスフィン化合物からなる触媒組成物が有効であることを初めて見出した。特に本発明の如き触媒組成物を用いた場合には、炭酸塩の如き安価な塩基存在下においても、高収率で反応が進行する特徴を有しており、本発明の方法はクロスカップリング反応の工業的製造法として極めて有用である。   The present inventors have found for the first time that a catalyst composition comprising a complex of a nickel salt and an amine compound and a phosphine compound is effective in the above-described cross-coupling reaction. In particular, when the catalyst composition as in the present invention is used, the reaction proceeds in a high yield even in the presence of an inexpensive base such as a carbonate. It is extremely useful as an industrial production method for reactions.

本発明の方法における触媒組成物の使用量については、一般式(3)で示される化合物に対し、ニッケル原子として0.001〜0.15当量であり、好ましくは0.005〜0.10当量である。使用量が0.001当量未満の場合には、反応が円滑に進行せず、0.15当量を超える場合には、使用量の割には収率が向上せず、かえって経済的に不利となる。   About the usage-amount of the catalyst composition in the method of this invention, it is 0.001-0.15 equivalent as a nickel atom with respect to the compound shown by General formula (3), Preferably it is 0.005-0.10 equivalent It is. When the amount used is less than 0.001 equivalent, the reaction does not proceed smoothly, and when it exceeds 0.15 equivalent, the yield does not improve for the amount used, but it is economically disadvantageous. Become.

本発明の方法における反応温度は、通常0〜150℃の範囲である。   The reaction temperature in the method of the present invention is usually in the range of 0 to 150 ° C.

本発明の反応は、溶媒存在下に実施することができる。使用される溶媒は、反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されないが、例えば、エーテル系溶媒、含酸素系溶媒、含窒素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。通常、これらの溶媒を単独または混合して使用することができる。また、共溶媒として、水等の溶媒も使用することができる。   The reaction of the present invention can be carried out in the presence of a solvent. The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, ether solvents, oxygen-containing solvents, nitrogen-containing solvents, aromatic hydrocarbon solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, and the like. Can be mentioned. Usually, these solvents can be used alone or in combination. A solvent such as water can also be used as a co-solvent.

反応終了後は、酸洗浄、水洗浄、アルカリ洗浄を適当に組み合わせることにより、副生した無機物や未反応原料等を除去し、さらにクロマトグラフィーや蒸留、再結晶等の通常の精製技術により、目的とするカップリング化合物を得ることができる。   After completion of the reaction, by appropriately combining acid washing, water washing, and alkali washing, by-product inorganic substances and unreacted raw materials are removed, and further, by a conventional purification technique such as chromatography, distillation, recrystallization, etc. A coupling compound can be obtained.

以上の説明から明らかなように、本発明の方法によれば、従来の問題点を解決した高活性な触媒組成物、特に鈴木カップリングの如きクロスカップリング反応に対して本触媒組成物を用いることにより、高収率にてクロスカップリング化合物を得ることができる。   As is clear from the above explanation, according to the method of the present invention, a highly active catalyst composition that solves the conventional problems, particularly, the present catalyst composition is used for a cross-coupling reaction such as Suzuki coupling. As a result, a cross-coupling compound can be obtained in a high yield.

また、本発明の方法を応用することにより、液晶材料として有用な4−ヒドロキシ−4’−シアノビフェニルへの重要な中間体である4−t−ブトキシ−4’−シアノビフェニルを効率的に合成することが可能となった。   In addition, by applying the method of the present invention, 4-t-butoxy-4′-cyanobiphenyl, which is an important intermediate to 4-hydroxy-4′-cyanobiphenyl useful as a liquid crystal material, is efficiently synthesized. It became possible to do.

以下に、本発明の方法を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES The method of the present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、無水塩化ニッケル(NiCl) 9.7mg(0.08mmol)[キシダ化学品]、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 26mg(0.23mmol)[キシダ化学品]、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)[和光純薬品]、テトラヒドロフラン11.0g[関東化学品]を仕込み、溶媒還流条件下にて30分間加熱攪拌した。その後、この溶液を室温まで冷却し、フェニルボロン酸(PhB(OH)) 0.40g(3.3mmol)[東京化成品]、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物である4−メチルビフェニルが、収率77%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に示す。
Example 1
To a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, 9.7 mg (0.08 mmol) of anhydrous nickel chloride (NiCl 2 ) [Kishida Chemical], 26 mg of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (TMEDA) (0 .23 mmol) [Kishida Chemicals], triphenylphosphine (PPh 3 ) 79 mg (0.30 mmol) [Wako Pure Chemicals], tetrahydrofuran 11.0 g [Kanto Chemicals], and heated and stirred for 30 minutes under solvent reflux conditions did. Then, this solution was cooled to room temperature, 0.40 g (3.3 mmol) of phenylboronic acid (PhB (OH) 2 ) [Tokyo Chemicals], 0.38 g (3.0 mmol) of p-chlorotoluene [Tokyo Kasei Co., Ltd.] Product], potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) [Kishida Chemical Co., Ltd.] was added, and the mixture was stirred at the solvent reflux temperature for 12 hours. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. As a result of analyzing the obtained organic layer by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Chemicals] as an internal standard substance, the target 4-methylbiphenyl was found to have a yield of 77% (p-chloro (Based on toluene). The results are shown in Table 1.

実施例2
実施例1の方法において、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)に代えて、リン酸カリウム(KPO) 1.91g(9.0mmol)[和光純薬品]を用いた以外は実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率74%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に併せて示す。
Example 2
In the method of Example 1, instead of 1.24 g (9.0 mmol) of potassium carbonate (K 2 CO 3 ), 1.91 g (9.0 mmol) [Wako Pure Chemical Industries] of potassium phosphate (K 3 PO 4 ) was used. When the reaction was carried out according to the method of Example 1 except that it was used, 4-methylbiphenyl, which was the target product, was produced at a yield of 74% (based on p-chlorotoluene). The results are also shown in Table 1.

実施例3
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、硝酸ニッケル・6水和物(Ni(NO・6HO) 23.3mg(0.08mmol)[キシダ化学品]、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 26mg(0.23mmol)[キシダ化学品]、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)[和光純薬品]、テトラヒドロフラン11.0g[関東化学品]を仕込み、溶媒還流条件下にて30分間加熱攪拌した。その後、この溶液を室温まで冷却し、フェニルボロン酸(PhB(OH)) 0.40g(3.3mmol)[東京化成品]、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物である4−メチルビフェニルが、収率75%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に示す。
Example 3
In a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, nickel nitrate hexahydrate (Ni (NO 3 ) 2 .6H 2 O) 23.3 mg (0.08 mmol) [Kishida Chemical], N, N, N ′, N'-tetramethylethylenediamine (TMEDA) 26 mg (0.23 mmol) [Kishida Chemicals], triphenylphosphine (PPh 3 ) 79 mg (0.30 mmol) [Wako Pure Chemicals], tetrahydrofuran 11.0 g [Kanto Chemicals] The mixture was heated and stirred for 30 minutes under reflux conditions of the solvent. Then, this solution was cooled to room temperature, 0.40 g (3.3 mmol) of phenylboronic acid (PhB (OH) 2 ) [Tokyo Chemicals], 0.38 g (3.0 mmol) of p-chlorotoluene [Tokyo Kasei Co., Ltd.] Product], potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) [Kishida Chemical Co., Ltd.] was added, and the mixture was stirred at the solvent reflux temperature for 12 hours. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. The obtained organic layer was analyzed by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Kasei Co., Ltd.] as an internal standard substance. As a result, 4-methylbiphenyl as a target product was found to have a yield of 75% (p-chloro (Based on toluene). The results are shown in Table 1.

比較例1
実施例1の方法において、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)を用いない以外は、実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率2%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 1
In the method of Example 1, the reaction was performed according to the method of Example 1 except that 79 mg (0.30 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ) was not used. It was produced at a yield of 2% (based on p-chlorotoluene). The results are also shown in Table 1.

比較例2
実施例1の方法において、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 26mg(0.23mmol)を用いない以外は、実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルは全く生成しなかった(収率0%)。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 2
In the method of Example 1, the reaction was conducted according to the method of Example 1 except that 26 mg (0.23 mmol) of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (TMEDA) was not used. The product 4-methylbiphenyl was not produced at all (yield 0%). The results are also shown in Table 1.

比較例3
実施例1の方法において、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)を用いず、さらにN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)の量を26mg(0.23mmol)から62mg(0.53mmol)に変更した以外は、実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率2%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 3
In the method of Example 1, 79 mg (0.30 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ) was not used, and the amount of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (TMEDA) was 26 mg (0.23 mmol). The reaction was carried out according to the method of Example 1 except that the amount was changed from 62 to 62 mg (0.53 mmol). As a result, the target product, 4-methylbiphenyl, had a yield of 2% (based on p-chlorotoluene). It was generated with. The results are also shown in Table 1.

比較例4
実施例1の方法において、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 26mg(0.23mmol)を用いず、さらにトリフェニルホスフィン(PPh)の量を79mg(0.30mmol)から139mg(0.53mmol)に変更した以外は、実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルは全く生成しなかった(収率0%)。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 4
In the method of Example 1, 26 mg (0.23 mmol) of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (TMEDA) was not used, and the amount of triphenylphosphine (PPh 3 ) was 79 mg (0.30 mmol). The reaction was carried out according to the method of Example 1 except that the amount was changed to 139 mg (0.53 mmol). As a result, 4-methylbiphenyl which was the target product was not produced at all (yield 0%). The results are also shown in Table 1.

比較例5
実施例1の方法において、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)の代わりに、トリ−o−トリルホスフィン 91.3mg(0.30mmol)[STREM社品]を使用した以外は、実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルは全く生成しなかった(収率0%)。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 5
In the method of Example 1, instead of 79 mg (0.30 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ), 91.3 mg (0.30 mmol) [product of STREM] of tri-o-tolylphosphine was used. When the reaction was carried out according to the method of Example 1, 4-methylbiphenyl which was the target product was not produced at all (yield 0%). The results are also shown in Table 1.

比較例6
実施例1の方法において、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)の代わりに、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン 119.5mg(0.30mmol)[STREM社品]を使用した以外は、実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルは全く生成しなかった(収率0%)。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 6
In the method of Example 1, instead of 79 mg (0.30 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ), 119.5 mg (0.30 mmol) [product of STREM] of 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane was used. Except that, the reaction was carried out according to the method of Example 1. As a result, 4-methylbiphenyl which was the target product was not produced at all (yield 0%). The results are also shown in Table 1.

比較例7(
「テトラヘドロン(Tetrahedron)」,(英国),1999年,第55巻,p11889−11894の方法) 窒素ガスで置換された50mlフラスコに、無水塩化ニッケル(NiCl2) 9.7mg(0.08mmol)[キシダ化学品]、2,2’−ビピリジル(BPY) 36mg(0.23mmol)[アルドリッチ品]、テトラヒドロフラン11.0g[関東化学品]を仕込み、溶媒還流条件下にて30分間加熱攪拌した。その後、この溶液を室温まで冷却し、フェニルボロン酸(PhB(OH)2) 0.40g(3.3mmol)[東京化成品]、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]、リン酸ナトリウム(Na3PO4) 1.48g(9.0mmol)[和光純薬品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物である4−メチルビフェニルが、収率41%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に示す。
Comparative Example 7 (
(Method of “Tetrahedron”, (UK), 1999, Vol. 55, p11889-11894) In a 50 ml flask purged with nitrogen gas, 9.7 mg (0.08 mmol) of anhydrous nickel chloride (NiCl 2) [ Kishida Chemicals], 2,2′-bipyridyl (BPY) 36 mg (0.23 mmol) [Aldrich product] and tetrahydrofuran 11.0 g [Kanto Chemicals] were charged, and the mixture was heated and stirred for 30 minutes under solvent reflux conditions. Then, this solution was cooled to room temperature, 0.40 g (3.3 mmol) of phenylboronic acid (PhB (OH) 2) [Tokyo Chemicals], 0.38 g (3.0 mmol) of p-chlorotoluene [Tokyo Kasei Co., Ltd.] Product], sodium phosphate (Na3PO4) 1.48 g (9.0 mmol) [Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added and stirred at the solvent reflux temperature for 12 hours. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. As a result of analyzing the obtained organic layer by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Chemicals] as an internal standard substance, the target 4-methylbiphenyl was found to have a yield of 41% (p-chloro (Based on toluene). The results are shown in Table 1.

比較例8
比較例7の方法において、リン酸ナトリウム(NaPO) 1.48g(9.0mmol)に代えて、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を用いた以外は、比較例7の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルは全く生成しなかった(収率0%)。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 8
In the method of Comparative Example 7, instead of 1.48 g (9.0 mmol) of sodium phosphate (Na 3 PO 4 ), 1.24 g (9.0 mmol) of potassium carbonate (K 2 CO 3 ) [Kishida Chemical Co., Ltd.] The reaction was carried out according to the method of Comparative Example 7 except that 4-methylbiphenyl as the target product was not produced at all (yield 0%). The results are also shown in Table 1.

比較例9
比較例7の方法において、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)[和光純薬品]を添加し、リン酸ナトリウム(NaPO) 1.48g(9.0mmol)に代えて、リン酸カリウム(KPO) 1.91g(9.0mmol)[和光純薬品]を用いた以外は、比較例7の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率35%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に示す。
Comparative Example 9
In the method of Comparative Example 7, triphenylphosphine (PPh 3 ) 79 mg (0.30 mmol) [Wako Pure Chemical Industries] was added, and instead of sodium phosphate (Na 3 PO 4 ) 1.48 g (9.0 mmol), The reaction was carried out according to the method of Comparative Example 7 except that 1.91 g (9.0 mmol) [Wako Pure Chemical Industries] of potassium phosphate (K 3 PO 4 ) was used. Was produced at a yield of 35% (based on p-chlorotoluene). The results are shown in Table 1.

比較例10
比較例9の方法において、リン酸カリウム(KPO) 1.91g(9.0mmol)[和光純薬品]に代えて、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を用いた以外は、比較例9の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率27%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に示す。
Comparative Example 10
In the method of Comparative Example 9, potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) instead of potassium phosphate (K 3 PO 4 ) 1.91 g (9.0 mmol) [Wako Pure Chemical Industries] Except for using Kishida Chemical Co., Ltd.], the reaction was carried out in accordance with the method of Comparative Example 9, and the target product, 4-methylbiphenyl, was produced at a yield of 27% (p-chlorotoluene basis). Was. The results are shown in Table 1.

比較例11
実施例3の方法において、トリフェニルホスフィン(PPh) 79mg(0.30mmol)を用いない以外は、実施例3の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルは全く生成しなかった(収率0%)。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 11
In the method of Example 3, the reaction was carried out according to the method of Example 3 except that 79 mg (0.30 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ) was not used. Not formed (yield 0%). The results are also shown in Table 1.

比較例12
実施例3の方法において、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 26mg(0.23mmol)を用いない以外は、実施例3の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、34%の収率(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 12
In the method of Example 3, the reaction was conducted according to the method of Example 3 except that 26 mg (0.23 mmol) of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (TMEDA) was not used. 4-methylbiphenyl as a product was produced at a yield of 34% (based on p-chlorotoluene). The results are also shown in Table 1.

Figure 2006305558
実施例4〜11
実施例1の方法において、フェニルボロン酸(PhB(OH)) 0.40g(3.3mmol)及びp−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)に代えて、それぞれ表2に示した芳香族ボロン酸(3.3mmol)及び芳香族ハライド(3.0mmol)を用いた以外は、実施例1の方法に準じて反応を行った。結果を表2に示す。
Figure 2006305558
Examples 4-11
In the method of Example 1, instead of 0.40 g (3.3 mmol) of phenylboronic acid (PhB (OH) 2 ) and 0.38 g (3.0 mmol) of p-chlorotoluene, the aromatics shown in Table 2, respectively. The reaction was performed according to the method of Example 1 except that boronic acid (3.3 mmol) and aromatic halide (3.0 mmol) were used. The results are shown in Table 2.

実施例12
実施例1の方法において、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 26mg(0.23mmol)[キシダ化学品]の代わりに、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミン 30mg(0.23mmol)[アルドリッチ品]を用いた以外は、実施例1の方法に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率77%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表2に示す。
Example 12
In the method of Example 1, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (TMEDA) 26 mg (0.23 mmol) [Kishida Chemical] was replaced with N, N, N ′, N′-tetramethyl. The reaction was conducted according to the method of Example 1 except that 30 mg (0.23 mmol) [Aldrich product] of propylenediamine was used. As a result, 4-methylbiphenyl which was the target product was found to have a yield of 77% (p-chloro). (Based on toluene). The results are shown in Table 2.

Figure 2006305558
実施例13
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(NiCl(PPh) 52.3mg(0.08mmol)[アルドリッチ品]、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 26mg(0.23mmol)[キシダ化学品]、トリフェニルホスフィン(PPh) 39mg(0.15mmol)[和光純薬品]、テトラヒドロフラン11.0g[関東化学品]を仕込み、溶媒還流条件下にて30分間加熱攪拌した。その後、この溶液を室温まで冷却し、フェニルボロン酸(PhB(OH)) 0.40g(3.3mmol)[東京化成品]、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物である4−メチルビフェニルが、収率75%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。
Figure 2006305558
Example 13
To a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, dichlorobis (triphenylphosphine) nickel (NiCl 2 (PPh 3 ) 2 ) 52.3 mg (0.08 mmol) [Aldrich product], N, N, N ′, N′-tetra Methylethylenediamine (TMEDA) 26 mg (0.23 mmol) [Kishida Chemicals], triphenylphosphine (PPh 3 ) 39 mg (0.15 mmol) [Wako Pure Chemicals], tetrahydrofuran 11.0 g [Kanto Chemicals] were charged, and the solvent was refluxed. The mixture was heated and stirred for 30 minutes under the conditions. Then, this solution was cooled to room temperature, 0.40 g (3.3 mmol) of phenylboronic acid (PhB (OH) 2 ) [Tokyo Chemicals], 0.38 g (3.0 mmol) of p-chlorotoluene [Tokyo Kasei Co., Ltd.] Product], potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) [Kishida Chemical Co., Ltd.] was added, and the mixture was stirred at the solvent reflux temperature for 12 hours. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. The obtained organic layer was analyzed by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Kasei Co., Ltd.] as an internal standard substance. As a result, 4-methylbiphenyl as a target product was found to have a yield of 75% (p-chloro (Based on toluene).

錯体調製例1(塩化ニッケル−TMEDA錯体の調製)
窒素ガスで置換した200mlフラスコ中に、無水塩化ニッケル(NiCl) 13.0g(0.10mol)[キシダ化学品]、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA) 13.9g(0.12mol)[キシダ化学社品]、脱水メタノール[関東化学社品]50.0gを加え、窒素雰囲気下にて1時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、析出した固体をろ別し、真空条件下にて乾燥したところ、緑黄色固体が19.7g得られた。元素分析の結果より、該固体は塩化ニッケルとTMEDAの1:1錯体であると確認された(収率80%)。
(元素分析;塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体)
計算値:C=29.3%;H=6.6%;Cl=28.9%;N=11.4%;Ni=23.9%
実測値:C=29.5%;H=6.4%;Cl=28.8%;N=11.4%;Ni=23.7%
実施例14
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、触媒調製例1にて調製された塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体 7.37mg(0.03mmol)、トリフェニルホスフィン(PPh) 24mg(0.09mmol)[和光純薬品]、テトラヒドロフラン11.0g[関東化学品]を仕込み、さらにフェニルボロン酸(PhB(OH)) 0.44g(3.6mmol)[東京化成品]、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物である4−メチルビフェニルが、収率84%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Complex Preparation Example 1 (Preparation of nickel chloride-TMEDA complex)
In a 200 ml flask substituted with nitrogen gas, 13.0 g (0.10 mol) of anhydrous nickel chloride (NiCl 2 ) [Kishida Chemicals], 13.9 g of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (TMEDA) (0.12 mol) [Kishida Chemical Co., Ltd.] and dehydrated methanol [Kanto Chemical Co., Ltd.] 50.0 g were added and heated under reflux for 1 hour in a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the precipitated solid was collected by filtration and dried under vacuum conditions to obtain 19.7 g of a greenish yellow solid. The result of elemental analysis confirmed that the solid was a 1: 1 complex of nickel chloride and TMEDA (yield 80%).
(Elemental analysis; nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex)
Calculated values: C = 29.3%; H = 6.6%; Cl = 28.9%; N = 11.4%; Ni = 23.9%
Found: C = 29.5%; H = 6.4%; Cl = 28.8%; N = 11.4%; Ni = 23.7%
Example 14
In a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, 7.37 mg (0.03 mmol) of the nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex prepared in Catalyst Preparation Example 1 and 24 mg (0.09 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ) [ Wako Pure Chemical Industries Ltd.], 11.0 g of tetrahydrofuran [Kanto Chemical Co., Ltd.] were charged, and phenylboronic acid (PhB (OH) 2 ) 0.44 g (3.6 mmol) [Tokyo Chemicals], p-chlorotoluene 0.38 g ( 3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.] and potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) [Kishida Chemical Co., Ltd.] were added and stirred for 12 hours at the solvent reflux temperature. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. As a result of analyzing the obtained organic layer by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Kasei Co., Ltd.] as an internal standard substance, the target 4-methylbiphenyl was found to have a yield of 84% (p-chloro (Based on toluene). The results are also shown in Table 3.

実施例15
実施例14の方法において、テトラヒドロフラン11.0g[関東化学社品]の代わりに、1,4−ジオキサン 5.0g[関東化学品]を用いた以外は、実施例14に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率95%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 15
In the method of Example 14, the reaction was performed according to Example 14 except that 5.0 g of 1,4-dioxane [Kanto Chemical Co.] was used instead of 11.0 g of tetrahydrofuran [Kanto Chemical Co., Ltd.]. However, 4-methylbiphenyl, which was the target product, was produced at a yield of 95% (based on p-chlorotoluene). The results are also shown in Table 3.

実施例16
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、触媒調製例1にて調製された塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体 7.37mg(0.03mmol)、1,4−ジオキサン 5.0g[関東化学品]を仕込み、80℃で0.5時間加熱して紫色の液を得た。別途用意した窒素ガスで置換した50mlフラスコに、フェニルボロン酸(PhB(OH)) 0.44g(3.6mmol)[東京化成品]、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]、トリフェニルホスフィン(PPh) 24mg(0.09mmol)[和光純薬品]、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]、1,4−ジオキサン 10.0g[関東化学品]を仕込み、溶媒還流温度まで加熱した後、先に調製した塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体/ジオキサン液を加え、同温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物である4−メチルビフェニルが、収率94%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。
Example 16
To a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, 7.37 mg (0.03 mmol) of nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex prepared in Catalyst Preparation Example 1 and 5.0 g of 1,4-dioxane [Kanto Chemical Co., Ltd.] The mixture was charged and heated at 80 ° C. for 0.5 hour to obtain a purple liquid. In a 50 ml flask substituted with separately prepared nitrogen gas, phenylboronic acid (PhB (OH) 2 ) 0.44 g (3.6 mmol) [Tokyo Chemicals], p-chlorotoluene 0.38 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.], triphenylphosphine (PPh 3 ) 24 mg (0.09 mmol) [Wako Pure Chemicals], potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) [Kishida Chemical Co., Ltd.], 1,4 -Dioxane 10.0g [Kanto Chemical Co., Inc.] was charged and heated to the solvent reflux temperature, then the previously prepared nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex / dioxane solution was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 12 hours. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. The obtained organic layer was analyzed by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Kasei Co., Ltd.] as an internal standard substance. As a result, 4-methylbiphenyl as a target product was found to have a yield of 94% (p-chloro (Based on toluene).

実施例17
実施例14の方法において、塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体 7.37mg(0.03mmol)の代わりに、触媒調製例1と同様の方法にて調製された塩化ニッケル−N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミン 1:1錯体 7.79mg(0.03mmol)を用いた以外は、実施例14に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率61%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 17
In the method of Example 14, instead of 7.37 mg (0.03 mmol) of nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex, nickel chloride-N, N, N ′, prepared in the same manner as in Catalyst Preparation Example 1 When the reaction was carried out according to Example 14 except that 7.79 mg (0.03 mmol) of N′-tetramethylpropylenediamine 1: 1 complex was used, the target 4-methylbiphenyl was obtained in a yield of 61 % (Based on p-chlorotoluene). The results are also shown in Table 3.

実施例18
実施例14の方法において、塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体 7.37mg(0.03mmol)の代わりに、触媒調製例1と同様の方法にて調製された臭化ニッケル−N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン 1:1錯体 10.0mg(0.03mmol)を用いた以外は、実施例14に準じて反応を行ったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率82%(p−クロロトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 18
In the method of Example 14, instead of 7.37 mg (0.03 mmol) of nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex, nickel bromide-N, N, N ′ prepared by the same method as in Catalyst Preparation Example 1 , N′-tetramethylethylenediamine 1: 1 complex, except that 10.0 mg (0.03 mmol) was used, and the reaction was carried out according to Example 14. As a result, the desired 4-methylbiphenyl was obtained in a yield of 82. % (Based on p-chlorotoluene). The results are also shown in Table 3.

実施例19
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、触媒調製例1にて調製された塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体 7.37mg(0.03mmol)、トリフェニルホスフィン(PPh) 24mg(0.09mmol)[和光純薬品]、テトラヒドロフラン10.0g[関東化学品]を仕込み、さらにトリス(4−t−ブトキシフェニル)ボロキシン 0.63g(1.2mmol)、p−クロロベンゾニトリル 0.41g(3.0mmol)[東京化成社品]、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物である4−t−ブトキシ−4’−シアノビフェニルが、収率96%(p−クロロベンゾニトリル基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 19
In a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, 7.37 mg (0.03 mmol) of the nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex prepared in Catalyst Preparation Example 1 and 24 mg (0.09 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ) [ Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], 10.0 g of tetrahydrofuran [Kanto Chemical Co., Ltd.], tris (4-t-butoxyphenyl) boroxine 0.63 g (1.2 mmol), p-chlorobenzonitrile 0.41 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.] and potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) [Kishida Chemical Co., Ltd.] were added and stirred for 12 hours at the solvent reflux temperature. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. The obtained organic layer was analyzed by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Chemicals] as an internal standard substance. As a result, 4-t-butoxy-4′-cyanobiphenyl, which was the target product, was recovered. It was produced at a rate of 96% (based on p-chlorobenzonitrile). The results are also shown in Table 3.

実施例20
実施例15の方法において、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]の代わりに、p−ブロモトルエン 0.51g(3.0mmol)[東京化成社品]を用いた以外は、実施例15の方法に準じて反応を行なったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率89%(p−ブロモトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 20
In the method of Example 15, p-bromotoluene 0.51 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.] was used instead of p-chlorotoluene 0.38 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.]. Except for the above, the reaction was carried out according to the method of Example 15. As a result, 4-methylbiphenyl as the target product was produced at a yield of 89% (p-bromotoluene basis). The results are also shown in Table 3.

実施例21
実施例15の方法において、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]の代わりに、p−ヨードトルエン 0.65g(3.0mmol)[東京化成社品]を用いた以外は、実施例15の方法に準じて反応を行なったところ、目的物である4−メチルビフェニルが、収率85%(p−ヨードトルエン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 21
In the method of Example 15, p-iodotoluene 0.65 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.] was used instead of p-chlorotoluene 0.38 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.]. Except for the above, the reaction was carried out according to the method of Example 15. As a result, 4-methylbiphenyl as the target product was produced at a yield of 85% (p-iodotoluene basis). The results are also shown in Table 3.

実施例22
実施例15の方法において、p−クロロトルエン 0.38g(3.0mmol)[東京化成社品]の代わりに、トランス−β−ブロモスチレン0.55g(3.0mmol)を用いた以外は、実施例15の方法に準じて反応を行なったところ、目的物であるトランス−スチルベンが、収率59%(トランス−β−ブロモスチレン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 22
In the method of Example 15, except that trans-β-bromostyrene 0.55 g (3.0 mmol) was used instead of p-chlorotoluene 0.38 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.] When the reaction was conducted according to the method of Example 15, the target product, trans-stilbene, was produced at a yield of 59% (based on trans-β-bromostyrene). The results are also shown in Table 3.

実施例23
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、触媒調製例1にて調製された塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体 7.37mg(0.03mmol)、トリフェニルホスフィン(PPh) 24mg(0.09mmol)[和光純薬品]、1,4−ジオキサン 10.0g[関東化学品]を仕込み、さらにトランス−2−(4−メチルフェニル)ビニルボロン酸 0.58g(3.6mmol)[アルドリッチ社品]、ブロモベンゼン0.47g(3.0mmol)[関東化学社品]、炭酸カリウム(KCO) 1.24g(9.0mmol)[キシダ化学社品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物であるトランス−β−(4−メチルフェニル)スチレンが、収率63%(ブロモベンゼン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 23
In a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, 7.37 mg (0.03 mmol) of the nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex prepared in Catalyst Preparation Example 1 and 24 mg (0.09 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ) [ Wako Pure Chemicals], 1,4-dioxane 10.0 g [Kanto Chemicals], and trans-2- (4-methylphenyl) vinylboronic acid 0.58 g (3.6 mmol) [Aldrich product], bromobenzene 0.47 g (3.0 mmol) [Kanto Chemical Co., Ltd.] and potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 1.24 g (9.0 mmol) [Kishida Chemical Co., Ltd.] were added and stirred at the solvent reflux temperature for 12 hours. . After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. As a result of analyzing the obtained organic layer by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Chemicals] as an internal standard substance, the target product, trans-β- (4-methylphenyl) styrene, was collected. It was produced at a rate of 63% (based on bromobenzene). The results are also shown in Table 3.

実施例24
実施例23の方法において、ブロモベンゼン0.47g(3.0mmol)[関東化学社品]の代わりに、ヨードベンゼン0.61g(3.0mmol)[東京化成社品]を用いた以外は、実施例23の方法に準じて反応を行なったところ、目的物であるトランス−β−(4−メチルフェニル)スチレンが、収率61%(ヨードベンゼン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 24
In the method of Example 23, except that 0.61 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.] was used instead of 0.47 g (3.0 mmol) [Kanto Chemical Co., Ltd.] bromobenzene When the reaction was carried out according to the method of Example 23, the desired product, trans-β- (4-methylphenyl) styrene, was produced at a yield of 61% (based on iodobenzene). The results are also shown in Table 3.

実施例25
窒素ガスで置換された50mlフラスコに、触媒調製例1にて調製された塩化ニッケル−TMEDA 1:1錯体 7.37mg(0.03mmol)、トリフェニルホスフィン(PPh) 24mg(0.09mmol)[和光純薬品]、1,4−ジオキサン 10.0g[関東化学品]を仕込み、さらにトランス−2−フェニルビニルボロン酸 0.53g(3.6mmol)[アルドリッチ社品]、ブロモベンゼン0.47g(3.0mmol)[関東化学社品]、リン酸カリウム(KPO) 1.91g(9.0mmol)[和光純薬品]を加えて、溶媒還流温度にて12時間攪拌した。反応終了後、5%HCl水溶液を加えて後処理し、分液操作にて得られた有機層をさらに飽和NaCl水溶液で洗浄した。得られた有機層を、n−ドデカン[東京化成品]を内部標準物質とするガスクロマトグラフィー定量分析にて分析した結果、目的物であるトランス−スチルベンが、収率91%(ブロモベンゼン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 25
In a 50 ml flask substituted with nitrogen gas, 7.37 mg (0.03 mmol) of the nickel chloride-TMEDA 1: 1 complex prepared in Catalyst Preparation Example 1 and 24 mg (0.09 mmol) of triphenylphosphine (PPh 3 ) [ Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], 1,4-dioxane 10.0 g [Kanto Chemical Co., Ltd.], trans-2-phenylvinylboronic acid 0.53 g (3.6 mmol) [Aldrich product], bromobenzene 0.47 g ( 3.0 mmol) [Kanto Chemical Co., Ltd.] and potassium phosphate (K 3 PO 4 ) 1.91 g (9.0 mmol) [Wako Pure Chemical Industries] were added and stirred for 12 hours at the solvent reflux temperature. After completion of the reaction, 5% aqueous HCl solution was added for post-treatment, and the organic layer obtained by the liquid separation operation was further washed with saturated aqueous NaCl solution. As a result of analyzing the obtained organic layer by gas chromatography quantitative analysis using n-dodecane [Tokyo Chemicals] as an internal standard substance, the target product, trans-stilbene, was obtained in a yield of 91% (based on bromobenzene). It was generated at a rate of The results are also shown in Table 3.

実施例26
実施例25の方法において、ブロモベンゼン0.47g(3.0mmol)[関東化学社品]の代わりに、ヨードベンゼン0.61g(3.0mmol)[東京化成社品]を用いた以外は、実施例25の方法に準じて反応を行なったところ、目的物であるトランス−スチルベンが、収率86%(ヨードベンゼン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 26
In the method of Example 25, except that 0.61 g (3.0 mmol) [Tokyo Kasei Co., Ltd.] was used instead of 0.47 g (3.0 mmol) [Kanto Chemical Co., Ltd.] bromobenzene When the reaction was carried out according to the method of Example 25, the target product, trans-stilbene, was produced at a yield of 86% (based on iodobenzene). The results are also shown in Table 3.

実施例27
実施例25の方法において、ブロモベンゼン0.47g(3.0mmol)[関東化学社品]の代わりに、トランス−β−ブロモスチレン 0.55g(3.0mmol)を用いた以外は、実施例25の方法に準じて反応を行なったところ、目的物であるトランス−トランス−1,4−ブタジエンが、収率59%(トランス−β−ブロモスチレン基準)の割合で生成していた。結果を表3に併せて示す。
Example 27
In the method of Example 25, Example 25 was used except that 0.55 g (3.0 mmol) of trans-β-bromostyrene was used instead of 0.47 g (3.0 mmol) [product of Kanto Chemical Co., Ltd.] of bromobenzene. As a result of the reaction according to the method, trans-trans-1,4-butadiene, which is the target product, was produced at a yield of 59% (based on trans-β-bromostyrene). The results are also shown in Table 3.

Figure 2006305558
Figure 2006305558

Claims (7)

下記式(1)で示されるニッケル塩とアミン化合物との錯体及びトリフェニルホスフィンからなるクロスカップリング反応用触媒組成物。
Figure 2006305558
(式中、R〜Rは同一または異なっていてもよく、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基を表す。nは1〜6の整数を表す。Xは各々同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子、水酸基、硝酸基または酢酸基を表す。)
A catalyst composition for cross-coupling reaction comprising a complex of a nickel salt represented by the following formula (1) and an amine compound and triphenylphosphine.
Figure 2006305558
Wherein R 1 to R 4 may be the same or different and are a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group Or a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, n represents an integer of 1 to 6. X may be the same or different and each may be a halogen atom, a hydroxyl group, a nitrate group or acetic acid. Represents a group.)
ニッケル塩が、ハロゲン化ニッケルであることを特徴とする請求項1に記載のクロスカップリング反応用触媒組成物。 The catalyst composition for cross coupling reaction according to claim 1, wherein the nickel salt is nickel halide. アミン化合物が、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンであることを特徴とする請求項1または2に記載のクロスカップリング反応用触媒組成物。 The catalyst composition for cross coupling reaction according to claim 1 or 2, wherein the amine compound is N, N, N ', N'-tetramethylethylenediamine. 下記式(2)で示されるホウ素化合物と下記式(3)で示される化合物とを、塩基及び請求項1〜3のいずれか1項に記載の触媒組成物の存在下に、クロスカップリング反応させることを特徴とする下記式(4)で示されるクロスカップリング化合物の製造方法。
Figure 2006305558
Figure 2006305558
Figure 2006305558
(式中、R,Rは同一または異なっていてもよく、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、または置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基を表す。Yは各々同一または異なっていてもよく、水酸基またはアルコキシ基を表す。Zはハロゲン原子、メタンスルホナート基またはトリフルオロメタンスルホナート基を表す。)
A boron compound represented by the following formula (2) and a compound represented by the following formula (3) are subjected to a cross-coupling reaction in the presence of a base and the catalyst composition according to any one of claims 1 to 3. A process for producing a cross-coupling compound represented by the following formula (4):
Figure 2006305558
Figure 2006305558
Figure 2006305558
(In the formula, R 5 and R 6 may be the same or different, and are substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl groups, substituted or unsubstituted aryl groups, substituted or unsubstituted heteroaryl groups. Or a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, each Y may be the same or different, and represents a hydroxyl group or an alkoxy group, and Z represents a halogen atom, a methanesulfonate group or trifluoromethane. Represents a sulfonate group.)
塩基が炭酸塩化合物であることを特徴とする請求項4に記載のクロスカップリング化合物の製造方法。 The method for producing a cross-coupling compound according to claim 4, wherein the base is a carbonate compound. ホウ素化合物が、下記式(5)で示される芳香族ホウ素化合物もしくは下記式(6)で示されるアルケニルホウ素化合物であることを特徴とする請求項4〜5に記載のクロスカップリング化合物の製造方法。
Figure 2006305558
Figure 2006305558
(式中、R〜R10は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基を表す。aは1〜5の整数を表す。ベンゼン環の隣り合う炭素原子に結合しているR同士が、任意に結合してベンゼン環と縮合環を形成してもよい。アルケニル基上の隣接するRとR10、同一炭素上にあるRとR10はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。Yは各々同一または異なっていてもよく、水酸基またはアルコキシ基を表す。)
6. The method for producing a cross-coupling compound according to claim 4, wherein the boron compound is an aromatic boron compound represented by the following formula (5) or an alkenyl boron compound represented by the following formula (6). .
Figure 2006305558
Figure 2006305558
(Wherein R 7 to R 10 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or An unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, a cyano group, a carbonyl group, a carboxyl group or an ester group, where a is 1 to 5. R 7 bonded to adjacent carbon atoms of the benzene ring may be arbitrarily bonded to form a condensed ring with the benzene ring, and adjacent R 8 and R 10 on the alkenyl group. , the R 9 and R 10 on the same carbon may be respectively bonded to each other to form a ring .Y may each be identical or different, a hydroxyl group or an alkoxy group It is.)
式(3)で示される化合物が、下記式(7)で示される芳香族化合物もしくは下記式(8)で示されるアルケニル化合物であることを特徴とする請求項4〜6に記載のクロスカップリング化合物の製造方法。
Figure 2006305558
Figure 2006305558
(式中、R11〜R14は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の直線状、分岐状または環状のアルケニル基、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基またはエステル基を表す。bは1〜5の整数を表す。ベンゼン環の隣り合う炭素原子に結合しているR11同士が、任意に結合してベンゼン環と縮合環を形成してもよい。アルケニル基上の隣接するR12とR14、同一炭素上にあるR13とR14はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。Zはハロゲン原子、メタンスルホナート基またはトリフルオロメタンスルホナート基を表す。)
The compound represented by the formula (3) is an aromatic compound represented by the following formula (7) or an alkenyl compound represented by the following formula (8). Compound production method.
Figure 2006305558
Figure 2006305558
(Wherein R 11 to R 14 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, substituted or An unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkenyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, a cyano group, a carbonyl group, a carboxyl group, or an ester group, and b is 1 to 5. R 11 bonded to adjacent carbon atoms of the benzene ring may be arbitrarily bonded to form a condensed ring with the benzene ring, and adjacent R 12 and R 14 on the alkenyl group. , R 13 and R 14 on the same carbon combined with each other may be to form a ring .Z halogen atom, methanesulfonate group or a trifluoromethyl It represents a single sulfonate group.)
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