JP2006301493A - Thin film device and electronic equipment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、薄膜素子や薄膜回路等の薄膜デバイスに関する。 The present invention relates to a thin film device such as a thin film element or a thin film circuit.
近年、折り曲げ可能なディスプレイやその他の電子デバイスの開発が盛んに進められており、かかる電子デバイスの実現するための重要な要素技術として、プラスチック基板やフィルム状基板等の上に薄膜トランジスタ等の薄膜素子を形成する技術の開発、改良が望まれている。かかる要素技術を実現するための手法の一つとして転写技術を用いる手法が知られている。例えば、特開平10−125929号公報(特許文献1)や特開平10−125930号公報(特許文献2)には、予め転写元基板上に剥離層を介して薄膜トランジスタ等の被転写体を形成しておき、その後被転写体を転写先基板に接合し、剥離層に光照射等を行って剥離を生じさせることにより、被転写体を転写先基板に転写する手法が開示されている。これらの手法によれば、製造条件の異なる複数種類の薄膜素子や薄膜回路等をそれぞれ最適な条件で転写元基板上に形成した後に、転写先基板へ移動させることにより、所望の電子デバイスを製造することができる。 In recent years, the development of foldable displays and other electronic devices has been actively promoted. As an important element technology for realizing such electronic devices, thin film elements such as thin film transistors on plastic substrates and film-like substrates are used. Development and improvement of the technology for forming the film are desired. A technique using a transfer technique is known as one of the techniques for realizing such elemental technology. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-125929 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-125930 (Patent Document 2), a transfer body such as a thin film transistor is previously formed on a transfer source substrate via a release layer. A method is disclosed in which the transfer target is transferred to the transfer destination substrate by bonding the transfer target to the transfer destination substrate and then irradiating the release layer with light or the like to cause peeling. According to these methods, a desired electronic device can be manufactured by forming multiple types of thin film elements and thin film circuits with different manufacturing conditions on the transfer source substrate under optimum conditions and then moving them to the transfer destination substrate. can do.
プラスチック基板等の比較的に柔らかく可撓性を有する基板上にデバイス形成を行った場合、主に金属配線膜などの部位において基板にうねり等の変形を生じやすかった。このような基板の変形は、金属配線膜等が自身の有する残留応力により変形を生じることに起因しているものと考えられる。かかる不都合は、例えば外部接続端子として機能する電極など、比較的に大面積に形成されるものにおいて顕著となる。 When a device is formed on a relatively soft and flexible substrate such as a plastic substrate, deformation such as undulation is likely to occur in the substrate mainly at a site such as a metal wiring film. Such deformation of the substrate is considered to be caused by the deformation of the metal wiring film or the like due to its own residual stress. Such an inconvenience becomes remarkable in an electrode formed as a relatively large area such as an electrode functioning as an external connection terminal.
そこで、本発明は、プラスチック基板等の上にデバイス形成を行った際における当該基板の変形を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the technique which can suppress the deformation | transformation of the said board | substrate at the time of forming a device on a plastic substrate etc.
第1の態様の本発明は、可撓性を有する基板と、所定形状にパターニングされており、上記基板の一方面側に設けられる導電膜と、上記導電膜よりも硬度が高く、当該導電膜を覆うようにして設けられる硬質膜と、を備える薄膜デバイスである。ここで、「硬度が高い」とは、応力により生じる変形量が少ないことをいう。 The first aspect of the present invention is a substrate having flexibility, patterned in a predetermined shape, a conductive film provided on one side of the substrate, a hardness higher than that of the conductive film, and the conductive film And a hard film provided so as to cover the thin film device. Here, “high hardness” means that the amount of deformation caused by stress is small.
かかる構成によれば、残留応力による導電膜の変形が硬質膜によって抑制されるので、プラスチック基板等の可撓性を有する基板を用いた場合における当該基板の変形を抑制することが可能となる。 According to such a configuration, since the deformation of the conductive film due to the residual stress is suppressed by the hard film, it is possible to suppress the deformation of the substrate when a flexible substrate such as a plastic substrate is used.
上述した導電膜が外部との電気的接続を担う電極として機能するものである場合には、上記硬質膜は、導電性を有する材料を用いて形成するとよい。 In the case where the conductive film described above functions as an electrode responsible for electrical connection with the outside, the hard film may be formed using a conductive material.
これにより、導電膜の電極としての機能を損なうことなく、基板の変形を抑制することができる。 Thereby, a deformation | transformation of a board | substrate can be suppressed, without impairing the function as an electrode of a electrically conductive film.
また、上記のように導電膜が電極として機能する場合であって、当該導電膜が相互に分離された複数の電極片を含んでなる場合には、上記硬質膜は、各電極片のそれぞれに一対一に対応付けてパターニングして設けるとよい。 In addition, when the conductive film functions as an electrode as described above and the conductive film includes a plurality of electrode pieces separated from each other, the hard film is attached to each of the electrode pieces. It is good to provide by patterning in one-to-one correspondence.
これにより、各電極片の相互間の電気的な絶縁状態を損なうことなく、基板の変形を抑制することができる。 Thereby, a deformation | transformation of a board | substrate can be suppressed, without impairing the electrical insulation state between each electrode piece.
第2の態様の本発明は、上述した製造方法によって製造される薄膜デバイスを含んで構成される電子機器である。ここで「電子機器」とは、回路基板やその他の要素を備え、一定の機能を奏する機器一般をいい、その構成に特に限定はない。かかる電子機器としては、例えば、ICカード、携帯電話、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、リア型またはフロント型のプロジェクター、テレビジョン、ロールアップ式テレビジョン、さらに表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、DSP装置、PDA、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイ等が含まれる。 The second aspect of the present invention is an electronic apparatus including the thin film device manufactured by the manufacturing method described above. Here, the “electronic device” means a general device having a circuit board and other elements and having a certain function, and there is no particular limitation on its configuration. Such electronic devices include, for example, IC cards, mobile phones, video cameras, personal computers, head mounted displays, rear or front projectors, televisions, roll-up televisions, fax machines with display functions, and digital cameras. Finder, portable TV, DSP device, PDA, electronic notebook, electric bulletin board, display for advertisement announcement, and the like.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、一実施形態の薄膜デバイスの構成を概略的に説明する模式平面図である。図1に示す薄膜デバイス100は、画像表示に用いられるものであり、表示部101、ドライバ部102、103、外部接続端子104を含んで構成されている。本実施形態の薄膜デバイス100は、プラスチックフィルム等からなり可撓性を有する基板上に形成されている。
FIG. 1 is a schematic plan view schematically illustrating the configuration of a thin film device according to an embodiment. A
表示部101は、複数の画素部をマトリクス状に配列して構成されており、各画素の点灯状態を制御することによって画像表示を行うために用いられる。この表示部101は、例えば液晶表示パネルからなる。
The
各ドライバ部102、103は、表示部101を駆動するための制御信号を供給するためのものであり、薄膜回路を含んで構成されている。
Each of the
外部接続端子104は、相互に所定距離だけ離間して配置された複数の電極片からなるものであり、配線を介して上述した各ドライバ部102、103と電気的に接続されており、当該各ドライバ102、103に対して外部回路(図示せず)から信号供給を行うために用いられる。
The
図2は、外部接続端子104の詳細構造を説明するための部分断面図であり、図1に示すII−II線方向の断面に対応している。図2に示すように、外部接続端子104は、可撓性を有する基板10上に酸化硅素等からなる絶縁膜12を設け、更に当該絶縁膜12上に導電膜14及び硬質膜16を積層して構成されている。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view for explaining the detailed structure of the
導電膜14は、電極片として機能させるのに適した所定形状、具体的には各電極片が長尺の矩形状となり、相互に分離されるようにパターニングされており、基板10の一方面側(本例では絶縁膜12の上側)に設けられている。この導電膜14は、例えばアルミニウム、タンタル、タングステン、金、モリブデン、クロム、チタン等の金属から構成されている。なお、導電膜14の構成材料は金属に限られず、導電性を有するものであれば採用可能である。
The
硬質膜16は、導電膜14よりも硬度が高い材料から構成されており、当該導電膜14を覆うようにして設けられている。この硬質膜16は、例えばITO(Indium Tin Oxide)などの導電性を有するセラミック材料からなる。また、硬質膜16は、導電膜14を構成する各各電極片のそれぞれに一対一に対応付けてパターニングして設けられている。
The
このように本実施形態によれば、残留応力による導電膜14の変形が硬質膜16によって抑制されるので、プラスチック基板等の可撓性を有する基板10を用いた場合における当該基板の変形を抑制することが可能となる。
As described above, according to the present embodiment, the deformation of the
次に、上述した薄膜デバイス100を備える電子機器の例について説明する。本実施形態にかかる薄膜デバイスは、各種の電子機器において表示部として用いることが可能である。
Next, an example of an electronic apparatus including the above-described
図3は、電子機器の例を示す概略斜視図である。図3(A)は携帯電話への適用例であり、当該携帯電話530はアンテナ部531、音声出力部532、音声入力部533、操作部534、表示部535を備えている。図3(B)はビデオカメラへの適用例であり、当該ビデオカメラ540は受像部541、操作部542、音声入力部543、表示部544を備えている。図3(C)はテレビジョン装置への適用例であり、当該テレビジョン装置550は表示部551を備えている。図3(D)はロールアップ式テレビジョン装置への適用例であり、当該ロールアップ式テレビジョン装置560は表示部561を備えている。また、本発明にかかる薄膜デバイスは、上述した例に限らず各種の電子機器に適用可能である。例えばこれらの他に、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイなどにも活用することができる。
FIG. 3 is a schematic perspective view illustrating an example of an electronic apparatus. FIG. 3A illustrates an application example to a mobile phone, and the
なお、本発明は上述した実施形態の内容に限定されることなく、本発明の要旨の範囲内で種々に変形実施が可能である。 The present invention is not limited to the contents of the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
例えば、上述した実施形態では、薄膜デバイス100の外部接続端子104の部位について本発明を適用した場合の例について説明したが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、他の部位(例えば、表示部101の画素部や金属配線等)に対して適用することも可能である。更に、本発明の適用範囲は上述した薄膜デバイス100のような表示デバイスに限定されるものでもない。
For example, in the above-described embodiment, the example in which the present invention is applied to the portion of the
また、上述した実施形態では、外部接続端子104を構成する導電膜の電極としての機能が損なわれないように、硬質膜16として導電性を有するものが用いられていたが、このような外部との電気的接続の確保を要する等の事情が特にない場合には、硬質膜として導電性を有しないものが用いられてもよい。また、このように導電性を有しない硬質膜を用いる場合には、複数の電極片の全体を覆うようにして硬質膜を設けてもよい。
In the above-described embodiment, the
10…基板、12…絶縁膜、14…導電膜、16…硬質膜、100…薄膜デバイス、101…表示部、102、103…ドライバ部、104…外部接続端子
DESCRIPTION OF
Claims (4)
所定形状にパターニングされており、前記基板の一方面側に設けられる導電膜と、
前記導電膜よりも硬度が高く、当該導電膜を覆うようにして設けられる硬質膜と、
を備える、薄膜デバイス。 A flexible substrate;
A conductive film patterned in a predetermined shape and provided on one side of the substrate;
A hard film that is higher in hardness than the conductive film and is provided so as to cover the conductive film;
A thin film device.
前記硬質膜は、導電性を有する材料を用いて形成される、請求項1に記載の薄膜デバイス。 The conductive film functions as an electrode responsible for electrical connection with the outside,
The thin film device according to claim 1, wherein the hard film is formed using a conductive material.
前記硬質膜は、前記電極片のそれぞれに一対一に対応付けてパターニングして設けられる、請求項2に記載の薄膜デバイス。 The conductive film includes a plurality of electrode pieces separated from each other,
The thin film device according to claim 2, wherein the hard film is provided by patterning in a one-to-one correspondence with each of the electrode pieces.
An electronic apparatus comprising the thin film device according to claim 1.
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JP2005126269A JP2006301493A (en) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | Thin film device and electronic equipment |
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JP2005126269A JP2006301493A (en) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | Thin film device and electronic equipment |
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Cited By (1)
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US7786576B2 (en) | 2007-02-06 | 2010-08-31 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device, method of manufacturing semiconductor device, and electronic apparatus |
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2005
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