JP2006299432A - Wig and method for producing the same - Google Patents

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貴 佐藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wig having high delustering effect even in the case of using a thin wig base, hardly discernible from outside, following the movement of the skin when pasted to the scalp, having good adhesiveness to the scalp and resistant to peel and provide a method for producing the wig. <P>SOLUTION: At least a part of a wig base 2 comprises an artificial skin base 2 made of a soft synthetic resin. The artificial skin base 2 is delustered by mixing a delustering agent 4 and forming fine irregularity 20 on the surface. A urethane resin can be used as a material for the artificial skin base 2 and an particulate inorganic material such as silica can be used as the delustering agent 4. The fine irregularity 20 can be formed by a transfer process with fine-mesh fibers. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、頭部の薄毛又は脱毛状態の部位を覆うかつらに利用でき、外部から視認し難い艶消しかつらベースを有するかつら及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a wig having a matte wig base that can be used for a thin wig or a hair removal part of the head and is difficult to visually recognize from the outside, and a method for manufacturing the wig.

一般に、かつらは、かつらベースとこのかつらベースに植設した人毛又は人工毛髪でなる毛髪とで構成されている。かつらベースとしては、通気性の点で優れるネット部材を主体としたものや、主として軟質の合成樹脂、例えばウレタン樹脂で成形した人工皮膚製のものなどが知られている。後者の人工皮膚製のかつらベースは、外観上、頭皮と同じ皮膚感を呈することができるので、とくに生え際や分髪部又はつむじ部などのように外部から視認し易い部分に好適であるため、かつらベース全体を人工皮膚で成形する場合のほか、ネット製のかつらベースの生え際や分髪部又はつむじ部だけを部分的に人工皮膚とする場合などに、多用されている。   Generally, a wig is composed of a wig base and hair made of human hair or artificial hair implanted in the wig base. As the wig base, those mainly composed of a net member excellent in breathability, and those made of artificial skin mainly molded with a soft synthetic resin, for example, a urethane resin, are known. Since the latter wig base made of artificial skin can exhibit the same skin feeling as the scalp on the appearance, it is particularly suitable for parts that are easily visible from the outside, such as the hairline, the hair-dividing part or the nail part, etc. In addition to the case where the entire wig base is formed with artificial skin, the wig base is frequently used in the case where only the hairline of the net wig base, the hair-cutting part, or the nail part is made artificial skin.

人工皮膚製のかつらベースに毛髪を取り付ける場合、頭皮から恰も頭髪が生えているように見せるために、かつらベースに毛髪を挿通させるだけの、所謂V型植設(V植え)が重用される。V型植設は、鉤針などの植設具を用いて二つ折りにした毛髪を表面側から裏面側に貫通し、1mm程度の針足部を作って、二つ折りにした毛髪の一方を再び表面側に引き抜くことでV状に植設するものである。しかし、毛髪をV状に植設しただけでは手指やブラッシングなどで簡単に毛髪が引き抜かれるので、毛髪を固定するの為の毛止め工程が不可欠になる。この毛髪固定のために、通常、植設後にかつらベースの裏面から、有機溶剤で希釈した接着用溶剤を塗布し、人工皮膚に対してこの溶剤を付着して固化することで、毛髪の針足部を人工皮膚と接着剤塗膜との間でサンドイッチ状に挟んで固定保持している(特許文献1及び2参照)。   When hair is attached to a wig base made of artificial skin, so-called V-shaped planting (V planting), in which only hair is inserted through the wig base, is used in order to make hair appear to grow from the scalp. V-type planting is performed by penetrating the hair folded in half using a planting tool such as an acupuncture needle from the front side to the back side, creating a needle foot of about 1 mm, and then bringing one of the folded hair back to the surface. It is planted in a V shape by pulling it out to the side. However, if the hair is simply planted in a V shape, the hair can be easily pulled out by fingers or brushing, so that a hair fixing process for fixing the hair becomes indispensable. In order to fix the hair, usually, after the planting, a solvent for adhesion diluted with an organic solvent is applied from the back of the wig base, and this solvent is attached to the artificial skin and solidified to solidify the hair. The part is sandwiched between the artificial skin and the adhesive coating and held in a fixed manner (see Patent Documents 1 and 2).

さらに、人工皮膚製のかつらであっても、植設した毛髪の隙間を通して光が人工皮膚ベースに反射されて、頭皮色と異なる不自然な光沢が現れる場合がある。かつらベースの表面に光沢があるとかつらを装着していることが容易に視認される恐れがあるため、不自然な光沢を抑える艶消し加工を施すことが望ましい。この艶消し加工としては、合成樹脂材で形成した人工皮膚ベースの表面をサンドブラストやエンボス加工等で物理的に粗面化したり、無機物などの異物を合成樹脂中に混入したりすることにより、入射した光を乱反射させて光沢を抑える工夫などが知られている。
サンドブラストやエンボス加工は、機械を用いてシート状あるいはフイルム状の平たい材料を加工するには向いているが、頭部の形状が付いた膨出状のかつらベースを加工するのには不向きである。無機物などの異物を混入する方法は簡便でかつらの製造に好適ではあるが、これだけで艶を消して自然な光沢に制御することは困難であり、また軟質の合成樹脂材中に無機物が混合されるため、かつらベースが硬くなり、使用者それぞれの頭部形状や頭皮の動きへの追従が困難である。
Further, even with a wig made of artificial skin, light may be reflected by the artificial skin base through a gap between the implanted hairs, and an unnatural luster different from the scalp color may appear. If the surface of the wig base is glossy, it may be easily recognized that the wig is mounted. Therefore, it is desirable to apply a matte process that suppresses unnatural gloss. The matte processing is performed by physically roughening the surface of the artificial skin base formed of synthetic resin material by sandblasting or embossing, or by mixing foreign substances such as inorganic substances into the synthetic resin. There is a known technique for suppressing the gloss by irregularly reflecting the reflected light.
Sand blasting and embossing are suitable for processing flat materials in the form of sheets or films using machines, but are not suitable for processing bulging wig bases with head shapes. . The method of mixing foreign substances such as inorganic substances is simple and suitable for the production of wigs, but it is difficult to control the natural luster by shining alone, and inorganic substances are mixed in soft synthetic resin materials. For this reason, the wig base becomes hard and it is difficult to follow the movement of the user's head shape and scalp.

さらに、頭部の形状が付いたかつらベースの艶消し加工として、特許文献3及び4には、かつらベース部材表面をランダムに浸食させて微細な凹凸を付与して粗面化する方法が開示されている。
特開昭52−123755号公報(特許請求の範囲) 特許第3484565号公報 特開平2−216207号公報 特開平3−69601号公報
Further, as a matte process for a wig base having a head shape, Patent Documents 3 and 4 disclose a method of randomly eroding the surface of a wig base member to impart fine irregularities to roughen the surface. ing.
JP-A-52-123755 (Claims) Japanese Patent No. 3484565 JP-A-2-216207 Japanese Patent Laid-Open No. 3-69601

このように、従来のかつらベースの表面の光沢を抑える艶消し加工において、サンドブラストやエンボス加工などによって物理的に表面を粗面化する方法や、無機物などの異物を混入して艶を抑える方法は、適宜の度合いに艶を消し、ヒトの頭皮と同じような光沢感や皮膚感を醸しだして自然な光沢に制御することが困難である。   In this way, in conventional matte processing to reduce the gloss of the surface of the wig base, there are methods of physically roughing the surface by sandblasting or embossing, etc., and methods of suppressing gloss by mixing foreign substances such as inorganic substances It is difficult to control the natural luster by delustering it to an appropriate degree and giving it the same luster and skin feel as a human scalp.

とくに、人工皮膚ベースとなる合成樹脂材に無機物などの異物を混入する方法は、或る混入割合までは混入する無機物の色は目立たないが、一定割合を超えると無機物の色が目立ち、人工皮膚ベース自体の色が不自然になること、さらに、成形した人工皮膚ベースが硬くなり、頭皮に貼着した時に皮膚の動きに追従できず頭皮との密着性が低下することから、特に接着剤を用いてかつらベースを頭皮に接着する方式では剥離し易い点で不利である。   In particular, the method of mixing foreign substances such as inorganic substances into a synthetic resin material that is a base for artificial skin is inconspicuous up to a certain mixing ratio, but the color of inorganic substances is not noticeable up to a certain mixing ratio. The base itself becomes unnatural, and the molded artificial skin base becomes hard, and when it is attached to the scalp, it cannot follow the movement of the skin and the adhesion with the scalp is reduced. The method of using and bonding the wig base to the scalp is disadvantageous in that it easily peels.

本発明は、上記課題に鑑み、軟質の合成樹脂材で肉薄に成形した人工皮膚製のかつらベースの場合においても、艶消し効果が高く、恰もヒトの頭皮の光沢感と皮膚感とを備えており、従って外部からかつらベースであることを視認し難く、かつ、特に接着剤を用いてかつらベースを頭皮に接着する方式の場合、頭皮の動きに追従し、頭皮との密着性が良好で剥離し難い、艶消しかつらベースを有するかつら及びその製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above problems, the present invention has a high matte effect even in the case of an artificial skin wig base that is thinly formed of a soft synthetic resin material, and has a gloss and skin feel of a human scalp. Therefore, it is difficult to visually recognize that it is a wig base from the outside, and in the case of a method of bonding the wig base to the scalp using an adhesive, it follows the movement of the scalp and has good adhesion to the scalp and peels off. It is an object of the present invention to provide a wig having a matte wig base and a method for producing the same.

上記の目的を達成するため、本発明のかつらは、かつらベースの少なくとも一部が軟質合成樹脂製、例えばウレタン樹脂の薄いシート状に作られた頭形状の人工皮膚ベースで成っており、この人工皮膚ベースは、艶消し剤が混合されていると共に、表面に微細な凹凸部が形成されることにより、艶消し処理がされていることを特徴とする。
上記構成において、艶消し剤は無機物粒子であり、好ましくは、人工皮膚ベース表面の微細凹凸部の表面に露出し、この表面側から所定の深さまで添加されているだけで、人工皮膚ベースの裏面、即ち、装着時に頭皮と密着する内面側には艶消し剤は達していない。さらに、人工皮膚ベースの表面は、細メッシュ繊維による転写により微細な凹凸部が形成されている。人工皮膚ベースは、例えばウレタン樹脂で薄いシート状に成形される。
さらに、本発明の他の構成のかつらは、かつらベースの少なくとも一部が軟質合成樹脂製の人工皮膚ベースで成っており、人工皮膚ベースが、艶消し剤を含まない基層と、この基層上に積層した艶消し剤を混合した上層との二層で成り、上層の表面に微細凹凸部が形成されることで艶消し処理されてなることを特徴としている。
In order to achieve the above-mentioned object, the wig of the present invention comprises a head-shaped artificial skin base in which at least a part of a wig base is made of a soft synthetic resin, for example, a thin sheet of urethane resin. The skin base is characterized in that a matting agent is mixed and a matte treatment is performed by forming fine irregularities on the surface.
In the above configuration, the matting agent is an inorganic particle, and preferably, the matting agent is exposed to the surface of the fine irregularities on the surface of the artificial skin base and is added from the surface side to a predetermined depth, so that the back surface of the artificial skin base is used. That is, the matting agent does not reach the inner surface that is in close contact with the scalp when worn. Furthermore, the surface of the artificial skin base has fine irregularities formed by transfer with fine mesh fibers. The artificial skin base is formed into a thin sheet with, for example, urethane resin.
Further, in the wig of another configuration of the present invention, at least a part of the wig base is made of an artificial skin base made of a soft synthetic resin, and the artificial skin base includes a base layer that does not contain a matting agent, and a base layer on the base layer. It consists of two layers with an upper layer mixed with a layered matting agent, and is characterized in that it is matted by forming fine irregularities on the surface of the upper layer.

上記構成によれば、人工皮膚ベースには艶消し剤が添加されると共に、表面が微細な凹凸部により艶消し処理されているので、恰も人の頭部と同程度に艶消しされた頭皮感が得られると共に、微細凹凸が皮膚の皺模様を呈してヒトと同じ皮膚感が得られ、毛髪の隙間を通して外部光が人工皮膚ベースに入射しても、艶消し剤と表面の微細凹凸の存在により、光が乱反射されてかつらベースの存在が露見されにくいかつらを実現できる。さらに、艶消し剤が人工皮膚ベースの表面から所定の深さまで添加されている場合、すなわち、人工皮膚の表面側だけに配合されて、裏面側すなわち装着時に頭皮と密着する内面側の領域には艶消し剤が達していない場合には、人工皮膚ベースの頭皮に接する下側には艶消し剤が配合されず柔軟な状態を維持しているので、特に人工皮膚ベースを接着剤を用いて頭皮に貼着した場合には皮膚の動きに追従し、頭皮との密着性が良好で剥離し難いかつらを提供することができる。   According to the above configuration, a matting agent is added to the artificial skin base, and the surface is matte by the fine irregularities, so that the scalp feels matte to the same degree as the human head. In addition to the presence of a matting agent and surface irregularities even when external light is incident on the artificial skin base through the gaps between the hairs, and the fine irregularities exhibit a wrinkle pattern on the skin. Thus, it is possible to realize a wig in which light is irregularly reflected and the presence of the wig base is hardly exposed. Furthermore, when a matting agent is added from the surface of the artificial skin base to a predetermined depth, that is, it is blended only on the surface side of the artificial skin, and on the back side, that is, on the inner surface side area that is in close contact with the scalp when worn. If the matting agent has not been reached, the matting agent is not blended in the lower side in contact with the scalp of the artificial skin base, and the soft skin is maintained. When attached to the skin, it can follow the movement of the skin, and can provide a wig with good adhesion to the scalp and difficult to peel off.

また、本発明のかつらの製造方法は、かつらベースの少なくとも一部を構成する軟質合成樹脂材の人工皮膚ベースを形成する際に、人工皮膚ベースに艶消し処理を行う工程を含み、この艶消し処理工程は、軟質合成樹脂材に艶消し剤を添加して艶消し層を形成する工程と、表面に微細な凹凸部を形成する工程と、からなることを特徴としている。
上記構成において、人工皮膚ベースの形成工程は、好ましくは、合成樹脂材の溶液を塗布し乾燥することで所定のベース形状と所定厚さの基層を形成する工程と、次いで、合成樹脂材の溶液に無機物粒子を添加した溶液を基層の上面に塗布し乾燥することにより所定厚さの艶消し層を形成する工程とで成る。上記艶消し層の形成工程は、合成樹脂材の溶液に無機物粒子を添加した溶液を塗布し乾燥することにより、人工皮膚ベースの形成工程中で行われる。
また、人工皮膚ベースの微細凹凸部形成工程は、好ましくは、艶消し層の形成工程の後に、艶消し層の上から細メッシュ状のネット部材を被せ、この細メッシュの転写により行う。さらに詳しくは、艶消し層の形成工程の後に、艶消し層の上から細メッシュ状のネット部材を被せ、さらに合成樹脂材の溶剤を塗布して乾燥した後ネット部材を剥離することにより、艶消し層を若干溶解することで細メッシュを転写して、凹凸部を形成する。
さらに、人工皮膚ベースの形成工程は、好ましくは、頭部形状の雄型に合成樹脂材の溶液を所定のベース形状になるよう塗布し乾燥することにより所定厚さの基層を形成する工程と、次いで、合成樹脂材の溶液に無機物粒子を添加した溶液を上記基層の上面に塗布し乾燥することにより所定厚さの艶消し層を形成する工程とで成る。
前記人工皮膚ベースは、例えばウレタン樹脂により、頭部形状の雄型上で頭形のシート状に成形される。
The wig production method of the present invention includes a step of matting the artificial skin base when forming the artificial skin base of the soft synthetic resin material constituting at least a part of the wig base. The treatment step is characterized by comprising a step of forming a matte layer by adding a matting agent to a soft synthetic resin material, and a step of forming fine irregularities on the surface.
In the above configuration, the step of forming the artificial skin base preferably includes a step of forming a base layer having a predetermined base shape and a predetermined thickness by applying and drying a synthetic resin material solution, and then a synthetic resin material solution. And a step of forming a matte layer having a predetermined thickness by applying a solution containing inorganic particles to the top surface of the base layer and drying the solution. The matting layer forming step is performed during the artificial skin base forming step by applying and drying a solution obtained by adding inorganic particles to a synthetic resin material solution.
Moreover, the fine uneven | corrugated | grooved part formation process of the artificial skin base is preferably performed by covering the matte layer with a fine mesh-like net member after the matte layer forming process and transferring the fine mesh. More specifically, after the matting layer forming step, the mat member is covered with a fine mesh-shaped net member, further coated with a synthetic resin solvent, dried, and then peeled off. The fine mesh is transferred by slightly dissolving the eraser layer to form an uneven portion.
Furthermore, the step of forming the artificial skin base preferably includes a step of forming a base layer having a predetermined thickness by applying a synthetic resin material solution to a head-shaped male mold so as to have a predetermined base shape and drying. Next, a step of forming a matte layer having a predetermined thickness by applying a solution obtained by adding inorganic particles to a solution of a synthetic resin material on the upper surface of the base layer and drying it.
The artificial skin base is formed into a head-shaped sheet on a head-shaped male mold by, for example, urethane resin.

上記構成によれば、人工皮膚ベースを、無機物粒子を含まない基層とその上側の無機物粒子の艶消し剤を含む艶消し層との二層に形成するので、少なくとも頭皮に密着する人工皮膚ベースの基層側は柔軟性に富み、人工皮膚ベースを被着した時に頭皮との密着性が良好なかつらが得られる。また、艶消し層の表面にさらに微細な凹凸部を形成することで艶消し処理するので、恰も人の頭部と同程度に艶消しされた頭皮感が得られると共に、微細凹凸が皮膚の皺模様を呈してヒトと同じ皮膚感が得られ、毛髪の隙間を通して外部光が人工皮膚ベースに入射しても、艶消し剤と表面の微細凹凸の存在により、光が乱反射されてかつらベースの存在が露見され難い。   According to the above configuration, the artificial skin base is formed in two layers of the base layer not containing the inorganic particles and the matting layer containing the matting agent for the inorganic particles on the upper side, so that the artificial skin base that adheres at least to the scalp is used. The base layer is rich in flexibility, and a wig with good adhesion to the scalp can be obtained when an artificial skin base is applied. In addition, since the surface of the matte layer is matted by forming finer uneven parts, the scalp feels matte to the same degree as the human head, and the fine irregularities are the skin wrinkles. Even if external light is incident on the artificial skin base through the gaps in the hair, the light is diffusely reflected due to the presence of the matting agent and fine irregularities on the surface, and the presence of the wig base. Is difficult to see.

本発明のかつら及びこのかつらの製造方法によれば、人工皮膚ベースに艶消し剤が添加されると共に、表面が微細な凹凸部により艶消し処理されているので、恰も人の頭部と同程度に艶消しされた頭皮感が得られると共に、微細凹凸が皮膚の皺模様を呈してヒトと同じ皮膚感が得られ、毛髪の隙間を通して外部光が人工皮膚ベースに入射しても、艶消し剤と表面の微細凹凸の存在により光が乱反射され、人工皮膚を用いたかつらベースであることが視認でき難いかつらを実現できる。さらに、人工皮膚ベースを接着剤により頭皮に貼着した時に皮膚の動きに追従し、頭皮との密着性が良好で剥離し難いかつらを製造することができる。   According to the wig of the present invention and the method of manufacturing the wig, the matte agent is added to the artificial skin base, and the surface is mattely processed by fine irregularities, so that the heel is also comparable to a human head. The matte scalp feels like a human, and the fine unevenness gives the skin's wrinkle pattern and the same skin feel as a human being. Even if external light enters the artificial skin base through the gaps in the hair, the matting agent Because of the presence of fine irregularities on the surface, light is irregularly reflected, and it is possible to realize a wig that is difficult to visually recognize as a wig base using artificial skin. Furthermore, when the artificial skin base is attached to the scalp with an adhesive, it is possible to manufacture a wig that follows the movement of the skin and has good adhesion to the scalp and is difficult to peel off.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明により艶消し処理されたかつらベース2を有するかつら1の構成を模式的に示す断面図で、図2は図1のかつら1の表面側、即ち、毛髪3が上方に伸びる方向を示す平面図である。図に示すように、かつら1は、基本的には艶消し処理されたかつらベース2とこのかつらベース2に植設される毛髪3とで構成されている。
かつらベース2の艶消し処理は、かつらベース2中へ艶消し剤4を添加することによりかつらベースに艶消し層を形成することと、かつらベース表面、即ち、植設された毛髪が延在し外部から視認される側の表面、に微細な凹凸部20を形成することから成る。この微細な凹凸部20は、凹部20aと凸部20bとから成っている。また、図示の場合、艶消し剤4は、かつらベース2の全体に混合されることなく、かつらベース2の表面側から所定の領域21の深さまで添加されている。
さらに、本発明のかつらベース2には、その裏面(内面)側に、後述するように、植設した毛髪3をかつらベース2に固定するための接着層5を備えていてもよい。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a wig 1 having a wig base 2 that has been matted according to the present invention, and FIG. 2 is a surface side of the wig 1 of FIG. 1, that is, a direction in which hair 3 extends upward. FIG. As shown in the figure, the wig 1 is basically composed of a wig base 2 that has been matted, and hair 3 that is implanted in the wig base 2.
The matte treatment of the wig base 2 includes forming a matte layer on the wig base by adding a matting agent 4 into the wig base 2, and extending the surface of the wig base, that is, the implanted hair. It consists of forming the fine uneven part 20 in the surface of the side visually recognized from the outside. The fine concavo-convex portion 20 includes a concave portion 20a and a convex portion 20b. Further, in the illustrated case, the matting agent 4 is added from the surface side of the wig base 2 to the depth of the predetermined region 21 without being mixed with the entire wig base 2.
Furthermore, the wig base 2 of the present invention may be provided with an adhesive layer 5 for fixing the planted hair 3 to the wig base 2 on the back surface (inner surface) side, as will be described later.

ここで、艶消し処理されたかつらベース2は人工皮膚部材で形成される。以下、人工皮膚部材で作ったかつらベースを人工皮膚ベースと称する。本発明では特にかつらベースの全体を人工皮膚部材で作ったものであってもよく、或いは、ネット部材を主体として形成したかつらベースの一部、例えば前額部や頭頂部或いは分髪部のみに人工皮膚ベースを用いて形成したものであってもよい。この人工皮膚部材の材料は、例えばウレタン樹脂やシリコン樹脂のような軟質合成樹脂にて肉薄に成形することができる。ウレタン樹脂やシリコン樹脂のように軟質の合成樹脂はある程度の弾力性や伸縮性を有しているため、頭皮に密着して被着したときにフィット感に優れている。   Here, the matted wig base 2 is formed of an artificial skin member. Hereinafter, a wig base made of an artificial skin member is referred to as an artificial skin base. In the present invention, the entire wig base may be made of an artificial skin member, or only a part of the wig base formed mainly of a net member, for example, the forehead, the top of the head, or the hair part. It may be formed using an artificial skin base. The material of this artificial skin member can be thinly molded with a soft synthetic resin such as urethane resin or silicon resin. A soft synthetic resin such as urethane resin or silicone resin has a certain degree of elasticity and stretchability, and therefore has a good fit when attached in close contact with the scalp.

人工皮膚ベース2を軽量化するために厚さを薄くする場合には、艶消し効果と頭皮に貼着したときの皮膚の動きへの追従性とを考慮して、艶消し剤4を人工皮膚ベース2の表面からの深さをなるべく浅く添加することが好ましい。一例として、人工皮膚ベース2の厚さを、0.05〜0.1mm程度に設定する場合には、艶消し剤4を人工皮膚ベース2の表面側から0.01〜0.02mm程度の深さまで添加すれば十分である。0.01mmよりも浅いと艶消し剤自体の色が目立って艶消し効果が十分でなく、0.02mm程度よりも厚いと人工皮膚ベース2の表面の光沢が消えず、さらに硬化し、頭皮の動きに追従し難くなり好ましくない。   When the thickness of the artificial skin base 2 is reduced to reduce the weight, the matting agent 4 is added to the artificial skin in consideration of the matting effect and the ability to follow the movement of the skin when attached to the scalp. It is preferable to add the depth from the surface of the base 2 as shallow as possible. As an example, when the thickness of the artificial skin base 2 is set to about 0.05 to 0.1 mm, the matting agent 4 is removed from the surface side of the artificial skin base 2 to a depth of about 0.01 to 0.02 mm. It is sufficient to add more. If it is shallower than 0.01 mm, the matting agent itself has a conspicuous color and the matting effect is not sufficient. If it is thicker than about 0.02 mm, the gloss of the surface of the artificial skin base 2 does not disappear and further hardens. It becomes difficult to follow the movement, which is not preferable.

図3は本発明のかつらの構成の変形例を模式的に示す断面図である。本発明のかつら10は、人工皮膚ベース2を、艶消し剤4を含まない基層2aとこの基層2a上に積層した艶消し剤4を混合した上層2bとの二層で形成し、この上層2bの表面に微細凹凸部2c(図2参照)を形成することで艶消し処理する。他の構成は、図1に示したかつら1と同じであるので説明は省略する。いま、人工皮膚ベース2の全体の厚さを0.05〜0.1mm程度に設定した場合は、基層2aは0.04〜0.08mm程度の厚さとし、艶消し剤4を添加した上層2bを0.01〜0.02mm程度の厚さに設定すれば、良好な艶消し効果と共に、柔軟な基層2aによる頭皮への良好な追従を発現することができる。   FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a modification of the configuration of the wig of the present invention. The wig 10 of the present invention comprises an artificial skin base 2 formed of two layers of a base layer 2a that does not contain the matting agent 4 and an upper layer 2b that is a mixture of the matting agent 4 laminated on the base layer 2a. A matte treatment is performed by forming fine irregularities 2c (see FIG. 2) on the surface of the substrate. Since the other structure is the same as the wig 1 shown in FIG. 1, description is abbreviate | omitted. Now, when the total thickness of the artificial skin base 2 is set to about 0.05 to 0.1 mm, the base layer 2a has a thickness of about 0.04 to 0.08 mm, and the upper layer 2b to which the matting agent 4 is added. Is set to a thickness of about 0.01 to 0.02 mm, it is possible to exhibit good follow-up to the scalp by the flexible base layer 2a as well as a good matting effect.

艶消し剤4は、各種の無機物粒子が使用できる。この無機物粒子4の材料としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ゼオライト、硝子の何れかを用いることができる。特に、粒子径が1〜10μmの粉末状のシリカが好適である。この際、粉末状のシリカは、塗布する適宜な有機溶剤中に溶解させた熱可塑性エラストマー重量に対して5〜25%が望ましい。艶消し剤4として、例えば粉末状のシリカを適量用いることで、シリカ自身の色が目立つこと無く、被着者の頭皮の色が透けて見えるので、艶消し処理した人工皮膚ベース2と頭皮の境目が視認され難くなり、かつら被着時の自然さが向上する。   As the matting agent 4, various inorganic particles can be used. As the material of the inorganic particles 4, any of silica, titanium oxide, aluminum oxide, aluminum hydroxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, zeolite, and glass can be used. In particular, powdered silica having a particle diameter of 1 to 10 μm is suitable. At this time, the powdered silica is desirably 5 to 25% based on the weight of the thermoplastic elastomer dissolved in an appropriate organic solvent to be applied. As a matting agent 4, for example, by using an appropriate amount of powdered silica, the color of the scalp of the adherend can be seen through without showing the color of the silica itself. The border is less visible and the naturalness of wearing the wig is improved.

微細な凹凸部20は、後で詳述するが、ネット状の織物などの細メッシュ繊維を用いた転写により形成することができる。このようなネット部材を構成する縦横の微細な格子状のフィラメントを人工皮膚ベース2に押しつけてこのメッシュ模様を転写することで、人工皮膚ベース2の表面に微細なメッシュ模様の凹凸が形成される。この微細な凹凸部が、皮膚を擬似した模様を呈する。   Although the detailed uneven | corrugated | grooved part 20 is explained in full detail later, it can be formed by transcription | transfer using fine mesh fibers, such as a net-like textile fabric. Fine mesh pattern irregularities are formed on the surface of the artificial skin base 2 by transferring the mesh pattern by pressing the vertical and horizontal fine lattice-like filaments constituting the net member against the artificial skin base 2. . This fine uneven part exhibits a pattern simulating the skin.

人工皮膚ベース2へ植設される毛髪3は人毛または人工毛からなる。図示するように、毛髪3は、艶消し処理された人工皮膚ベース2の表面側から裏面に貫通して植設され、再び人工皮膚ベース2の表面側に引き抜くことにより、V字状又はU字状に植設することができる。この人工皮膚ベース2の裏面に貫通し、裏面側の露出する毛髪部を針足部3Aと呼ぶことにする。なお、このような植設方法を通常、V植えと称している。   The hair 3 implanted in the artificial skin base 2 is made of human hair or artificial hair. As shown in the figure, the hair 3 is implanted through the matte-treated artificial skin base 2 from the front side to the back side, and is pulled out again to the front side of the artificial skin base 2 to form a V-shape or U-shape. Can be planted in a shape. The hair portion that penetrates the back surface of the artificial skin base 2 and is exposed on the back surface side is referred to as a needle foot portion 3A. Such a planting method is generally referred to as V planting.

ところで、V植え技法により人工皮膚ベース2に植設した毛髪3は、単に人工皮膚ベース2の表側から裏側に毛髪3の一方を通して再び表側に引き抜くことでV状に植設しているだけであるから、簡単に引き抜かれてしまうので、植設した毛髪3を確実に固定するために、植設後、艶消し人工皮膚ベース2の裏面から、有機溶剤で希釈した接着用溶液を塗布し、人工皮膚に対してこの溶液を付着して固化させ、所謂接着層5を形成することが必要である。これにより、V植えした毛髪の針足部3Aを人工皮膚と接着剤塗膜との間でサンドイッチ状に挟んで確実に固定保持することができる。   By the way, the hair 3 planted on the artificial skin base 2 by the V planting technique is simply planted in a V shape by pulling out the hair 3 again from the front side to the back side of the artificial skin base 2 to the front side. Therefore, in order to securely fix the planted hair 3, an adhesive solution diluted with an organic solvent is applied from the back surface of the matte artificial skin base 2 after planting, It is necessary to form a so-called adhesive layer 5 by adhering this solution to the skin and solidifying it. Thereby, the needle foot part 3A of the V-planted hair can be securely held by being sandwiched between the artificial skin and the adhesive coating film.

図4は本発明のかつらの構成の別の変形例を模式的に示す断面図である。図4に示すように、本発明のかつら15は、図1に示したかつら1の毛髪3を固定した接着層5上に、すなわちかつら1の最下面側に、さらに、頭皮に貼着するための接着層6を備えている。他の構成はかつら1と同じであるので説明は省略する。この接着層6は、例えば、両面テープを用いることができ、使用者はかつらを被着する際、両面テープの保護紙或いは保護テープを剥がして粘着層を頭皮に貼着することでかつらを装着することができる。この頭皮に貼着するための接着層6は、図3に示したかつら10に適用してもよい。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another modification of the configuration of the wig of the present invention. As shown in FIG. 4, the wig 15 of the present invention is attached to the scalp on the adhesive layer 5 to which the hair 3 of the wig 1 shown in FIG. 1 is fixed, that is, on the lowermost surface side of the wig 1. The adhesive layer 6 is provided. Since the other structure is the same as that of the wig 1, the description thereof is omitted. For example, a double-sided tape can be used as the adhesive layer 6, and when the user wears a wig, the protective layer or protective tape of the double-sided tape is peeled off, and the adhesive layer is attached to the scalp. can do. The adhesive layer 6 for adhering to the scalp may be applied to the wig 10 shown in FIG.

本発明のかつら1,10,15において、艶消し処理された人工皮膚ベース2をかつらベースの全体に用いたものでもよく、或いは、この人工皮膚ベース2をかつらベースの一部に設けたものであってもよい。したがって、被着者の脱毛又は薄毛の状態に応じて適宜にかつらのサイズやデザインを設計し、人工皮膚ベースを用いる部分だけを艶消し処理すればよい。   In the wigs 1, 10 and 15 of the present invention, the matte artificial skin base 2 may be used for the entire wig base, or the artificial skin base 2 is provided on a part of the wig base. There may be. Therefore, it is only necessary to design the size and design of the wig as appropriate according to the hair loss or thinning state of the adherend, and to apply a matte treatment only to the portion using the artificial skin base.

このように、本発明の艶消し処理したかつらベース2を有するかつら1,10,15によれば、艶消し剤4及び微細な凹凸部20による外部からの入射光の乱反射により、複合された艶消し効果が発揮される。そして、粉末状のシリカ自身の色は目立たなく、被着者の頭皮の色が透けて見えるので、かつらベースと頭皮の境目が視認され難くなり、かつら被着時の自然さが向上する。
さらに、無機物を人工皮膚ベース2の全体に添加混合したものにあっては、所望の光沢が得られても、人工皮膚ベース2が硬くなって頭部に装着した場合の装着感に劣っていたり、添加した無機物の作用により艶消しかつらベース2の色合いが大きく変化して、被着者の頭皮の色に近似させることが困難であったが、本発明のように、人工皮膚ベース2の表面からある程度の深さ領域だけに艶消し剤を導入した構造とすることによってこのような欠点が解決される。これにより、本発明によれば、頭皮の動きに追従し易く、かつ、艶消し効果の極めて高い艶消し処理されたかつらベース2を有するかつら1,10,15を実現できる。
Thus, according to the wigs 1, 10, and 15 having the matted wig base 2 of the present invention, the composite gloss is caused by the irregular reflection of the incident light from the outside by the matting agent 4 and the fine irregularities 20. Erasing effect is demonstrated. Since the color of the powdered silica itself is inconspicuous and the color of the scalp of the wearer can be seen through, the boundary between the wig base and the scalp becomes difficult to be visually recognized, and the naturalness of the wig is improved.
Furthermore, in the case where the inorganic substance is added to the whole artificial skin base 2 and mixed, even if a desired gloss is obtained, the artificial skin base 2 becomes hard and has a poor feeling when worn on the head. However, it was difficult to approximate the color of the matte wig base 2 due to the action of the added inorganic substance and approximate the color of the scalp of the wearer. Therefore, such a drawback can be solved by adopting a structure in which a matting agent is introduced only in a certain depth region. Thereby, according to this invention, the wig 1,10,15 which has the wig base 2 by which the movement of the scalp was easy to follow and the mat | matte process of the matt effect was very high is realizable.

次に、本発明によるかつらの製造方法について説明する。
本発明のかつら1,10,15は、人工皮膚ベース2を形成する際に人工皮膚ベース2に艶消し処理を行う工程を含み、艶消し処理工程が、軟質合成樹脂材に、艶消し剤4を添加して艶消し層を形成する工程と、さらに、艶消し層表面に微細な凹凸部20を形成する工程と、により製造することができる。
艶消し層の形成工程を、合成樹脂材の溶液に無機物粒子を添加した溶液を塗布し乾燥することにより、人工皮膚ベース2の形成工程中で行ってもよい。また、艶消し層の形成工程は、合成樹脂材の溶液を塗布及び乾燥して所定のベース形状と所定厚さの基層2aを形成する工程と、次いで、合成樹脂材の溶液に無機物粒子を添加した溶液を基層2aの上面に塗布し乾燥することにより所定厚さの艶消し層2bを形成する工程と、で行なってもよい。人工皮膚ベース2は、ウレタン樹脂で頭形のシート状に成形すればよい。特に、好ましくは、頭部形状の雄型を用いて、頭形のシート状に成形すれば、フィット感に優れたかつらが得られる。
Next, the manufacturing method of the wig by this invention is demonstrated.
The wigs 1, 10 and 15 of the present invention include a step of matting the artificial skin base 2 when forming the artificial skin base 2, and the matting processing step is performed on the soft synthetic resin material and the matting agent 4. Can be produced by the step of forming a matte layer by adding, and the step of forming fine irregularities 20 on the surface of the matte layer.
You may perform the formation process of a mat layer in the formation process of the artificial skin base 2 by apply | coating and drying the solution which added the inorganic particle to the solution of the synthetic resin material. The matte layer forming step includes applying a synthetic resin material solution and drying to form a base layer 2a having a predetermined base shape and a predetermined thickness, and then adding inorganic particles to the synthetic resin material solution. You may perform by the process of forming the matte layer 2b of predetermined thickness by apply | coating the solution which carried out to the upper surface of the base layer 2a, and drying. The artificial skin base 2 may be formed into a head-shaped sheet with urethane resin. In particular, when a head-shaped male mold is used to form a head-shaped sheet, a wig having an excellent fit can be obtained.

艶消し層の形成後、人工皮膚ベース2への微細な凹凸部20を形成する工程は、艶消し層の上から細メッシュ状のネット部材を被せ、細メッシュの転写により行なうことができる。例えば、艶消し層の形成工程の後に、艶消し層の上から細メッシュ状のネット部材を被せて合成樹脂材の溶剤を塗布し、これをある程度乾燥させて、ネット部材を剥離することにより、細メッシュの転写を行なうことができる。   After forming the matte layer, the step of forming the fine irregularities 20 on the artificial skin base 2 can be performed by covering the matte layer with a fine mesh net member and transferring the fine mesh. For example, after the matting layer forming step, by covering the matting layer with a fine mesh net member, applying a synthetic resin solvent, drying it to some extent, and peeling the net member, A fine mesh can be transferred.

次に、本発明によるかつら1の具体的な製造方法について説明する。
第1工程として、艶消し処理する前の毛髪3を植設するかつらベースは、軟質合成樹脂からなる熱可塑性エラストマーを、適宜、有機溶剤に溶解した溶液(以下、適宜、熱可塑性エラストマー溶液と呼ぶ)を、予め用意したかつら被着者の頭部形状の雄型(例えば、石膏型など)に塗布した後に、乾燥して成形することで恰も人の頭皮に近似した人工皮膚が得られる。また、人工皮膚の強度を向上させるために、かつら被着者の頭部形状雄型に細メッシュ繊維或いはネットなどの編み地を被せた上に、上記熱可塑性エラストマー溶液を塗布した後、乾燥して細メッシュ繊維或いはネットなどの編み地を混在させた人工皮膚に形成してもよい。熱可塑性エラストマーは各種のものが適用可能であるが、例えばウレタンエラストマーが好ましい。また、必要に応じて防黴剤などを添加してもよい。この際、かつらの大きさは、被着者の頭部状態に応じて決めればよく、所謂部分かつらや頭部全体を覆うかつらであってもよい。本人工皮膚を使用者の頭部の扁平な箇所に用いる場合はシート状に成形してもよい。
Next, the specific manufacturing method of the wig 1 by this invention is demonstrated.
As the first step, the wig base for planting the hair 3 before matting treatment is a solution in which a thermoplastic elastomer made of a soft synthetic resin is appropriately dissolved in an organic solvent (hereinafter referred to as a thermoplastic elastomer solution as appropriate). ) Is applied to a previously prepared wig-attached head-shaped male mold (for example, a plaster mold), and then dried to form an artificial skin resembling a human scalp. In addition, in order to improve the strength of the artificial skin, the above-mentioned thermoplastic elastomer solution is applied on a wig-attached head-shaped male mold with a fine mesh fiber or net, and then dried. Alternatively, it may be formed on artificial skin mixed with knitted fabric such as fine mesh fiber or net. Various thermoplastic elastomers can be applied, and for example, urethane elastomer is preferable. Moreover, you may add an antifungal agent etc. as needed. At this time, the size of the wig may be determined according to the head state of the adherend, and may be a so-called partial wig or a wig that covers the entire head. When the artificial skin is used in a flat portion of the user's head, it may be formed into a sheet shape.

第2工程として、第1工程で成形したかつらベースに以下の工程で艶消しを行い、かつらベース2の表面に自然な艶消し光沢を付与することができる。
具体的には、上記かつらベースの作製で使用した熱可塑性エラストマー溶液に艶消し剤4となる無機物粒子を添加した溶液を塗布した後に乾燥させる。かつらベースの厚さが0.05〜0.1mm程度の場合には、この溶液を塗布及び乾燥させたときの艶消し剤4を含む領域21の深さは、0.01〜0.015mm程度が好ましい。そのためには、塗布する溶液中の熱可塑性エラストマーの粘度を調整すればよい。無機物粒子は各種適用可能であるが、粒子径が1〜10μmの粉末状のシリカが好ましく、その添加量は、塗布する溶液中に溶解させた熱可塑性エラストマー重量に対して5〜25%が望ましい。
また、必要に応じて、艶消し剤4と共に、かつらベースの劣化防止のための紫外線吸収剤や黄変防止のための酸化剤などを添加してもよい。
As the second step, the wig base molded in the first step can be matted in the following steps to give a natural matte gloss to the surface of the wig base 2.
Specifically, a solution obtained by adding inorganic particles as the matting agent 4 to the thermoplastic elastomer solution used in the preparation of the wig base is applied and then dried. When the thickness of the wig base is about 0.05 to 0.1 mm, the depth of the region 21 containing the matting agent 4 when this solution is applied and dried is about 0.01 to 0.015 mm. Is preferred. For this purpose, the viscosity of the thermoplastic elastomer in the solution to be applied may be adjusted. Various inorganic particles can be applied, but powdered silica having a particle diameter of 1 to 10 μm is preferable, and the addition amount is desirably 5 to 25% with respect to the weight of the thermoplastic elastomer dissolved in the solution to be applied. .
Moreover, you may add the ultraviolet absorber for the deterioration prevention of a wig base, the oxidizing agent for yellowing prevention, etc. with the matting agent 4 as needed.

第3工程として、第2工程で表面に艶消し剤4が添加されたかつらベースに細メッシュ繊維状のネットを被せてかつらベース材質の溶剤を塗布し、乾燥した後にネットを取り除くことで、被せたネットを構成する繊維に接触しているかつらベース部分が溶解して、かつらベース表面に細メッシュ繊維により微細な凹凸部20を形成する。
この工程で使用される細メッシュ繊維状ネットは、上記かつらベースに塗布する溶剤に溶解しない材料であれば何れでもよい。例えば、かつらベースをウレタン樹脂で形成した場合には、ナイロンを用いることができる。また、ネットは、0.03〜0.1mmの糸径で編まれ、30〜100メッシュ(本/インチ、1インチ=2.54cm)程度のサイズが好ましい。
As the third step, the wig base with the matting agent 4 added to the surface in the second step is covered with a fine mesh fiber net, the solvent of the wig base material is applied, and after drying, the net is removed to cover the wig base. The wig base portion in contact with the fibers constituting the net is dissolved, and fine concavo-convex portions 20 are formed on the surface of the wig base with fine mesh fibers.
The fine mesh fibrous net used in this step may be any material that does not dissolve in the solvent applied to the wig base. For example, nylon can be used when the wig base is formed of a urethane resin. Further, the net is knitted with a thread diameter of 0.03 to 0.1 mm, and preferably has a size of about 30 to 100 mesh (lines / inch, 1 inch = 2.54 cm).

上記第2及び第3工程により、第1工程で成形したかつらベースに艶消し処理が施され、自然な光沢が付与された艶消し処理されたかつらベース2を形成することができる。これにより、艶消し処理されたかつらベース2には、無機物粒子の添加された艶消し剤添加領域21及び微細な凹凸部20の形成による複合された艶消し処理が施される。   By the second and third steps, the wig base formed in the first step is subjected to a matte treatment, and the matted wig base 2 with a natural gloss can be formed. As a result, the matte wig base 2 is subjected to a composite matting process by forming the matting agent-added region 21 to which inorganic particles are added and the fine irregularities 20.

第4工程として、かつらベース2に毛髪3となる人毛または人工毛を、V植えなどにより植設する。   As a fourth step, human hair or artificial hair to be the hair 3 is planted on the wig base 2 by V planting or the like.

第5工程として、毛髪3を植設したかつらベース2の裏面に毛髪3をかつらベースに固定するための接着層5を形成する。この接着層5は、かつらベース2の裏面にある毛髪の針足部3Aをかつらベース2に固定する。この接着層5の形成はかつら用接着剤をスプレー法や刷毛を用いた塗布方法にて行われる。   As a fifth step, an adhesive layer 5 for fixing the hair 3 to the wig base is formed on the back surface of the wig base 2 in which the hair 3 is implanted. The adhesive layer 5 fixes the hair foot 3 </ b> A on the back surface of the wig base 2 to the wig base 2. The adhesive layer 5 is formed by spraying or applying a wig adhesive using a brush.

上記の工程により、本発明の艶消し処理されたかつらベース2を形成し、艶消し処理されたかつらベース2を有するかつら1を製造することができる。また、かつら1に頭皮との接着層6を設ければ、かつら15を製造することができる。   According to the above-described steps, the matted wig base 2 of the present invention can be formed, and the wig 1 having the matted wig base 2 can be manufactured. If the wig 1 is provided with an adhesive layer 6 with the scalp, the wig 15 can be manufactured.

次に、本発明の他の態様によるかつら10の製造方法について説明する。
かつら10の場合には、上記第1の工程で人工皮膚ベース2の艶消し剤4を含まない基層2aを形成し、上記第2の工程でこの基層2a上に艶消し剤4を混合した上層2bを形成することにより、人工皮膚ベースを形成する。
次に、上記第3の工程により、人工皮膚ベースの上層2bの表面に微細凹凸部20を形成することで艶消し処理して、人工皮膚ベース2を形成することができる。以降の工程は、かつら1の第4及び第5工程と同様に行なうことで、かつら15を製造することができる。ここで、人工皮膚ベース2の全体の厚さを0.05〜0.1mm程度に設定した場合は、基層2aは0.04〜0.08mm程度の厚さとし、艶消し剤4を添加した上層2bを0.01〜0.02mm程度の厚さに設定すれば、良好な艶消し効果と共に、柔軟な基層2aによる頭皮への良好な追従を発現することができる。
Next, the manufacturing method of the wig 10 by the other aspect of this invention is demonstrated.
In the case of the wig 10, the base layer 2 a not containing the matting agent 4 of the artificial skin base 2 is formed in the first step, and the matting agent 4 is mixed on the base layer 2 a in the second step. By forming 2b, an artificial skin base is formed.
Next, by the third step, the artificial skin base 2 can be formed by matting treatment by forming the fine irregularities 20 on the surface of the upper layer 2b of the artificial skin base. By performing the subsequent steps in the same manner as the fourth and fifth steps of the wig 1, the wig 15 can be manufactured. Here, when the total thickness of the artificial skin base 2 is set to about 0.05 to 0.1 mm, the base layer 2a has a thickness of about 0.04 to 0.08 mm, and the upper layer to which the matting agent 4 is added. If 2b is set to a thickness of about 0.01 to 0.02 mm, good follow-up to the scalp by the flexible base layer 2a can be exhibited with a good matting effect.

本実施例として、本発明による艶消しされたかつらベース2を有するかつら1を製造した。
第1工程として、予め用意したかつら被着者の頭部形状の石膏型に、ウレタンエラストマーをDMF及びMEKに溶解させ、さらに紫外線吸収剤、酸化防止剤、防黴剤を添加した溶液を塗布し、加熱温度60℃で、1時間程度乾燥させ、厚さが0.04mm程度のかつらベースを作製した。
As an example, a wig 1 having a matted wig base 2 according to the invention was produced.
As the first step, a urethane elastomer is dissolved in DMF and MEK in a pre-prepared gypsum mold of the wig adherent, and a solution containing an ultraviolet absorber, an antioxidant, and an antifungal agent is applied. A wig base having a thickness of about 0.04 mm was produced by drying at a heating temperature of 60 ° C. for about 1 hour.

次に、第2工程として、ウレタンエラストマーをDMF及びMEKに溶解させ、防黴剤を添加した溶液に、さらに、艶消し剤4となる粉状シリカ(平均粒径3.1μm〜4.1μm)と、紫外線吸収剤と、酸化防止剤を添加した艶消し用溶液を作成した。シリカの重量は、ウレタンエラストマー重量に対して、約15%であった。この艶消し用溶液をかつらベースに塗布し、加熱温度60℃で、2〜4時間程度乾燥させた。   Next, as a second step, a urethane elastomer is dissolved in DMF and MEK, and a powdery silica (average particle size: 3.1 μm to 4.1 μm) that becomes the matting agent 4 is further added to the solution added with the antifungal agent. Then, a matting solution to which an ultraviolet absorber and an antioxidant were added was prepared. The weight of silica was about 15% based on the weight of the urethane elastomer. This matting solution was applied to a wig base and dried at a heating temperature of 60 ° C. for about 2 to 4 hours.

次に、第3工程として、上記第2工程で表面に艶消し剤4が添加された側のかつらベースに、細メッシュ繊維状のネットとして、市販のナイロン製のストッキング用ネットを被せて、かつらベースの有機溶剤であるMEK及びDMFを塗布し、100℃で4時間乾燥させた。乾燥した後に、該ネットを取り除き、かつらベース表面に微細な凹凸部20を形成した。この際、用いたネットの糸径は0.05mmであり、メッシュは、50メッシュ(本/インチ)程度であった。
このようにして、ウレタン樹脂からなるかつらベース2の表面に艶消し剤4を含む領域21と微細な凹凸部20とを形成し、艶消し処理されたかつらベース2を製造した。かつらベース2の厚さは、艶消し剤4を含む領域21の厚さの0.01〜0.015mm程度が増加して、全体のかつらベース2の厚みが0.5〜0.6mm程度の厚さとなった。
Next, as a third step, the wig base on the surface where the matting agent 4 is added to the surface in the second step is covered with a net for a stocking made of nylon as a fine mesh fibrous net, and the wig The base organic solvents MEK and DMF were applied and dried at 100 ° C. for 4 hours. After drying, the net was removed to form fine irregularities 20 on the wig base surface. At this time, the yarn diameter of the net used was 0.05 mm, and the mesh was about 50 mesh (lines / inch).
Thus, the area | region 21 containing the matting agent 4 and the fine uneven | corrugated | grooved part 20 were formed in the surface of the wig base 2 which consists of urethane resins, and the wig base 2 by which the matting process was carried out was manufactured. The thickness of the wig base 2 is increased by about 0.01 to 0.015 mm of the thickness of the region 21 containing the matting agent 4, and the thickness of the entire wig base 2 is about 0.5 to 0.6 mm. It became thick.

第4工程として、かつらベース2にナイロンからなる人工毛3を、V植えにより植設した。   As a fourth step, artificial hair 3 made of nylon was planted on the wig base 2 by V planting.

第5工程として、毛髪3を植設したかつらベース2の裏面に接着層5を形成した。具体的には、毛髪3を植設したかつらベース2を裏返してかつら被着者の頭部形状雄型に張り付けた。
次に毛髪を固定するための接着層5を形成するための接着剤として、かつら製造で使用したウレタンとは別グレードのウレタンエラストマーをかつらベースの有機溶剤であるMEK及びDMFで希釈した接着用溶液を用い、かつらベース2の裏面にハケ塗りし、乾燥した。このようにして、厚さが0.1mm程度の接着層5を形成した。
As a fifth step, the adhesive layer 5 was formed on the back surface of the wig base 2 on which the hair 3 was implanted. Specifically, the wig base 2 in which the hair 3 was implanted was turned over and attached to the head-shaped male mold of the wig wearer.
Next, as an adhesive for forming the adhesive layer 5 for fixing the hair, an adhesive solution obtained by diluting a urethane elastomer of a different grade from the urethane used in the manufacture of the wig with MEK and DMF, which are wig-based organic solvents. The back of the wig base 2 was brushed and dried. Thus, the adhesive layer 5 having a thickness of about 0.1 mm was formed.

図5は、実施例によるかつら1における艶消し処理されたかつらベース2表面の走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。電子の加速電圧は15keVで、倍率は150倍である。図示するように、表面が艶消し剤4により平坦ではなく荒れた表面になっていることが分かる。そして、かつら1の表面の微細な凹部20aがネットにより転写された図面水平方向の2本の線状部分により形成されていることが分かる。
図5から明らかなように、本発明のかつら1のかつらベース2は、艶消し剤4と、かつら1の表面に形成された微細な凹凸部20と、により艶消しされていることが分かる。
FIG. 5 is a diagram showing a scanning electron microscope (SEM) image of the surface of the wig base 2 that has been matted in the wig 1 according to the embodiment. The electron acceleration voltage is 15 keV, and the magnification is 150 times. As shown in the figure, it can be seen that the surface is not flat but rough due to the matting agent 4. And it turns out that the fine recessed part 20a of the surface of the wig 1 is formed of the two linear parts of the drawing horizontal direction transferred by the net.
As can be seen from FIG. 5, the wig base 2 of the wig 1 of the present invention is matted by the matting agent 4 and the fine irregularities 20 formed on the surface of the wig 1.

次に、このかつら1を両面テープ6により被試験者の頭皮に貼着し、外観観察を行ったところ、かつらベース2の周囲からの光の反射は観察されなかった。さらに、かつら1を装着しない別の被試験者に観察させても、かつらベース2を用いたことにより、かつら1を装着していることは分からず、見栄えがよいことが分かった。   Next, when the wig 1 was attached to the scalp of the examinee with the double-sided tape 6 and the appearance was observed, no reflection of light from the periphery of the wig base 2 was observed. Furthermore, even if another person under test who did not wear the wig 1 was allowed to observe, the use of the wig base 2 did not reveal that the wig 1 was worn, and it was found that the appearance was good.

さらに、かつら1の被試験者の頭皮への貼着性及び頭皮への追従性は良好であり、接着層6の剥がれが生じ難くなった。これは、かつらベース2の全体の厚みが0.05〜0.06mm程度であり、その表面の0.01〜0.015mm程度の領域21にだけ艶消し剤4を含む層を形成したために、頭皮と接触する艶消し処理されたかつらベース2が硬化しないためであることが明らかとなった。   Furthermore, the sticking property of the wig 1 on the scalp of the examinee and the followability to the scalp were good, and the adhesive layer 6 did not easily peel off. This is because the entire thickness of the wig base 2 is about 0.05 to 0.06 mm, and the layer containing the matting agent 4 is formed only in the region 21 of about 0.01 to 0.015 mm on the surface. It was revealed that the matte wig base 2 in contact with the scalp did not cure.

以上、本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明は実施形態にのみ限定されるものでなく、本発明の範囲内で適宜変更等が可能である。たとえば、艶消し剤はシリカに限らずその他の艶消し剤でもよい。さらに、上記実施形態で説明した具体的数値等は必要に応じて適宜変更可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the embodiments, and can be appropriately changed within the scope of the present invention. For example, the matting agent is not limited to silica and may be other matting agents. Furthermore, the specific numerical values and the like described in the above embodiment can be appropriately changed as necessary.

本発明により艶消し処理されたかつらベースを有するかつらの構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the wig which has the wig base matted by this invention. 図1のかつらの表面側、即ち、毛髪が上方に伸びる方向を示す平面図である。It is a top view which shows the surface side of the wig of FIG. 1, ie, the direction where hair extends upwards. 本発明のかつらの構成の変形例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the modification of the structure of the wig of this invention. 本発明のかつらの構成の別の変形例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another modification of the structure of the wig of this invention. 実施例によるかつらにおける艶消し処理されたかつらベース2表面の走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。It is a figure which shows the scanning electron microscope (SEM) image of the wig base 2 surface by which the mat | matte process was carried out in the wig by an Example.

符号の説明Explanation of symbols

1,10,15:かつら
2:かつらベース(人工皮膚ベース)
2a:艶消し剤を含まない基層
2b:艶消し剤を混合した上層
3:毛髪
3A:毛髪の針足部
4:艶消し剤
5:毛髪を固定する接着層
6:頭皮へ貼着するための接着層
20:微細な凹凸部
20a:凹部
20b:凸部
21:艶消し剤の添加された領域
1, 10, 15: Wig 2: Wig base (artificial skin base)
2a: Base layer not containing matting agent 2b: Upper layer mixed with matting agent 3: Hair 3A: Needle foot part of hair 4: Matting agent 5: Adhesive layer for fixing hair 6: For attaching to scalp Adhesive layer 20: fine uneven portion 20a: concave portion 20b: convex portion 21: region to which matting agent is added

Claims (13)

かつらベースとかつらベースに取り付けた毛髪とを有するかつらにおいて、
上記かつらベースの少なくとも一部が軟質合成樹脂製の人工皮膚ベースで成っており、該人工皮膚ベースに艶消し剤が混合されていると共に、該人工皮膚ベース表面に微細な凹凸部が形成されることにより、艶消し処理されてなることを特徴とする、かつら。
In a wig having a wig base and hair attached to the wig base,
At least a part of the wig base is made of an artificial skin base made of a soft synthetic resin, a matting agent is mixed with the artificial skin base, and fine irregularities are formed on the artificial skin base surface. A wig characterized by being matte treated.
前記艶消し剤が、前記人工皮膚ベース表面の微細凹凸部の表面に露出していることを特徴とする、請求項1に記載のかつら。   The wig according to claim 1, wherein the matting agent is exposed on a surface of the fine uneven portion of the artificial skin base surface. 前記艶消し剤が、人工皮膚ベースの表面から所定の深さまで添加されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載のかつら。   The wig according to claim 1 or 2, wherein the matting agent is added from the surface of the artificial skin base to a predetermined depth. かつらベースとかつらベースに取り付けた毛髪とを有するかつらにおいて、
上記かつらベースの少なくとも一部が軟質合成樹脂製の人工皮膚ベースで成っており、該人工皮膚ベースが、艶消し剤を含まない基層と、該基層上に積層した艶消し剤を混合した上層との二層で成り、該上層の表面に微細凹凸部が形成されることで艶消し処理されてなることを特徴とする、かつら。
In a wig having a wig base and hair attached to the wig base,
At least a part of the wig base is an artificial skin base made of a soft synthetic resin, and the artificial skin base includes a base layer that does not include a matting agent, and an upper layer in which a matting agent laminated on the base layer is mixed. The wig is characterized in that it is matted by forming fine irregularities on the surface of the upper layer.
前記微細な凹凸部が、細メッシュ繊維による転写で形成されていることを特徴とする、請求項1又は4に記載のかつら。   The wig according to claim 1 or 4, wherein the fine irregularities are formed by transfer with fine mesh fibers. 前記人工皮膚ベースは、ウレタン樹脂の薄いシート状に成形されていることを特徴とする、請求項1又は4に記載のかつら。   The wig according to claim 1 or 4, wherein the artificial skin base is formed into a thin sheet of urethane resin. かつらベースの少なくとも一部を構成する軟質合成樹脂材の人工皮膚ベースを形成する工程と、該人工皮膚ベースに毛髪を取り付ける工程と、を有するかつらの製造方法において、
人工皮膚ベースを形成する際に該人工皮膚ベースに艶消し処理を行う工程を含み、
上記艶消し処理工程が、上記軟質合成樹脂材に、艶消し剤を添加して艶消し層を形成する工程と、さらに、該艶消し層表面に微細な凹凸部を形成する工程と、からなることを特徴とする、かつらの製造方法。
In a method of manufacturing a wig, comprising: forming an artificial skin base of a soft synthetic resin material constituting at least a part of the wig base; and attaching a hair to the artificial skin base.
Including a step of matting the artificial skin base when forming the artificial skin base,
The matting treatment step comprises a step of adding a matting agent to the soft synthetic resin material to form a matting layer, and a step of forming fine irregularities on the matting layer surface. The manufacturing method of the wig characterized by the above-mentioned.
前記人工皮膚ベースの形成工程が、前記合成樹脂材の溶液を乾燥して所定のベース形状と所定厚さの基層を形成する工程と、次いで、前記合成樹脂材の溶液に無機物粒子を添加した溶液を該基層の上面に塗布し乾燥することにより所定厚さの艶消し層を形成する工程と、で成ることを特徴とする、請求項7に記載のかつらの製造方法。   The step of forming the artificial skin base includes a step of drying the solution of the synthetic resin material to form a base layer having a predetermined base shape and a predetermined thickness, and then a solution in which inorganic particles are added to the solution of the synthetic resin material The method for manufacturing a wig according to claim 7, further comprising: forming a matte layer having a predetermined thickness by applying to the upper surface of the base layer and drying. 前記艶消し層の形成工程が、前記合成樹脂材の溶液に無機物粒子を添加した溶液を塗布し乾燥することにより、前記人工皮膚ベースの形成工程中で行われることを特徴とする、請求項7又は8に記載のかつらの製造方法。   The step of forming the matte layer is performed during the step of forming the artificial skin base by applying and drying a solution obtained by adding inorganic particles to the solution of the synthetic resin material. Or the manufacturing method of the wig of 8. 前記微細凹凸部の形成工程が、前記艶消し層の形成工程の後に、該艶消し層の上から細メッシュ状のネット部材を被せ、該細メッシュの転写により行われることを特徴とする、請求項7に記載のかつらの製造方法。   The step of forming the fine uneven portion is performed by transferring the fine mesh after covering the matte layer with a fine mesh-shaped net member after the step of forming the matte layer. Item 8. A method for producing a wig according to Item 7. 前記微細凹凸部の形成工程が、前記艶消し層の形成工程の後に、該艶消し層の上から細メッシュ状のネット部材を被せて前記合成樹脂材の溶剤を塗布し乾燥後該ネット部材を剥離することにより、該細メッシュの転写が行われることを特徴とする、請求項7に記載のかつらの製造方法。   After the step of forming the mat layer, the step of forming the fine irregularities covers the mat member with a fine mesh-shaped net member, applies the solvent of the synthetic resin material, and after drying the net member The wig manufacturing method according to claim 7, wherein the fine mesh is transferred by peeling. 前記人工皮膚ベースは、ウレタン樹脂で頭形のシート状に成形されることを特徴とする、請求項7に記載のかつらの製造方法。   The method of manufacturing a wig according to claim 7, wherein the artificial skin base is formed into a head-like sheet shape with urethane resin. 前記人工皮膚ベースは、頭部形状の雄型を用いて頭形のシート状に成形されることを特徴とする、請求項12に記載のかつらの製造方法。
The method of manufacturing a wig according to claim 12, wherein the artificial skin base is formed into a head-shaped sheet using a head-shaped male mold.
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