JP2006293209A - Optical writing display element and method - Google Patents

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Takashi Kato
隆志 加藤
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical writing display element excellent in thermal stability and repeated durability. <P>SOLUTION: The optical writing display element has on a support a barrier layer, an organic layer and a layer containing a photochromic dye, wherein the barrier layer and the organic layer are alternately stacked by at least one layer each. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光によって吸収が可逆的に変化するフォトクロミック色素を用いて、光による画像の書込み及び発色による画像の表示を行う光書込み表示素子、及び表示方法に関する。   The present invention relates to an optical writing display element and a display method for writing an image by light and displaying an image by coloring using a photochromic dye whose absorption reversibly changes with light.

近年、明るく見やすい省消費電力なフルカラー表示材料の提供が求められている。例えば、CRT、PDP、ELD等の自発光型素子は明るく見やすいが、消費電力が大きいという問題がある。また、いわゆる電子ペーパーと呼ばれる画像表示装置として種々の表示方式のものが提案されている。   In recent years, there has been a demand for providing full-color display materials that are bright and easy to see and have low power consumption. For example, self-luminous elements such as CRT, PDP, and ELD are bright and easy to see, but have a problem of high power consumption. Also, various display methods have been proposed as an image display device called so-called electronic paper.

液晶表示素子(LCD)については、透過型LCDはバックライトを使用するため消費電力はやや大きく、視野角依存性があり明るく見やすいとはいえない。
また、反射型LCDは省消費電力であるが、視野角依存性があり、カラーフィルタを用いた並置混合法でカラー画像を形成しているが、この方式では白が表現できず、暗い画面になってしまうという問題がある。さらに、反射型表示素子において、素子を2〜3層積層したものについては、構造が複雑となり、製造プロセス確立のための技術的課題は困難であり、製造コストが高くなってしまうという問題がある。
As for a liquid crystal display element (LCD), since a transmissive LCD uses a backlight, power consumption is somewhat large, and it is dependent on a viewing angle and cannot be said to be bright and easy to see.
In addition, the reflective LCD consumes less power, but has a viewing angle dependency, and forms a color image by the side-by-side mixing method using color filters. However, this method cannot express white, resulting in a dark screen. There is a problem of becoming. Furthermore, in the reflection type display element, in which two to three layers of elements are laminated, the structure becomes complicated, and technical problems for establishing the manufacturing process are difficult, and there is a problem that the manufacturing cost becomes high. .

他方、光によって物質の光吸収が可逆的に変化する色素、いわゆるフォトクロミック色素を用いた表示素子に、フォトクロミック素子がある。フォトクロミック色素は紫外光と可視域の光により可逆的に発色と消色を制御することができる機能を有する色素である。 フォトクロミック素子は、光だけで表示が制御できるため、電極が不要であり素子構造が単純であり、光吸収型であるので強い外光下でも明瞭な視野角依存性のない表示が得られる。このため、自動車用防眩ミラーや調光ガラスとして優れた特性を有している。フォトクロミック素子は、偏光板等が不要であり、視野角依存性がなく受光型で視認性に優れ、構造が簡単で大型化が容易である。また、前記フォトクロミック色素を含む薄膜の選択により多様な色調が得られ、表示状態を静止できる(メモリー性)。さらに、表示状態を維持するのに外部刺激が不要であり、消費電力が少ない等の種々の利点を有する(例えば、非特許文献1参照。)。
しかしながら、前記フォトクロミック色素は、熱的な安定性が低い及び繰り返し使用したときの耐久性が低いという問題がある。
On the other hand, there is a photochromic element as a display element using a so-called photochromic dye that reversibly changes light absorption of a substance by light. A photochromic dye is a dye having a function capable of reversibly controlling color development and decoloration by ultraviolet light and visible light. Since the display of the photochromic element can be controlled only by light, an electrode is not required, the element structure is simple, and since it is a light absorption type, a clear display with no viewing angle dependency can be obtained even under strong external light. For this reason, it has the characteristic outstanding as a glare-proof mirror for motor vehicles, and light control glass. A photochromic element does not require a polarizing plate or the like, has no viewing angle dependency, has a light receiving type, has excellent visibility, has a simple structure, and can be easily enlarged. In addition, by selecting a thin film containing the photochromic dye, various color tones can be obtained, and the display state can be stopped (memory property). Furthermore, there are various advantages such as no external stimulus required to maintain the display state and low power consumption (see, for example, Non-Patent Document 1).
However, the photochromic dye has a problem of low thermal stability and low durability when used repeatedly.

従来、フォトクロミック素子にポリビニルアルコール(PVA)層をコーテイングすることで、熱的な安定性が向上するという報告があるが、依然として充分なレベルではなかった(例えば、特許文献1参照。)。
特開2004−198689号公報 SID03DIGEST 第851頁、2003年
Conventionally, there has been a report that thermal stability is improved by coating a polyvinyl alcohol (PVA) layer on a photochromic element, but the level is still not sufficient (see, for example, Patent Document 1).
JP 2004-198689 A SID03DIGEST, page 851, 2003

本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、熱的安定性及び繰り返し耐久性に優れる光書込み表示素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide an optical writing display element having excellent thermal stability and repeated durability.

本発明者は鋭意検討した結果、支持体上に、特定のバリア層と、フォトクロミック色素を組み合わせることで、表示コントラスト比が向上するという予期せぬ効果が得られるとの知見を得、この知見に基づいてさらに検討し、本発明を完成するに至った。
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
As a result of intensive studies, the present inventor obtained a knowledge that an unexpected effect of improving the display contrast ratio can be obtained by combining a specific barrier layer and a photochromic dye on the support. Based on further investigation, the present invention has been completed.
Means for solving the above-mentioned problems are as follows.

(1) 支持体上に、バリア層と、有機層と、フォトクロミック色素を含む層と、を有し、前記バリア層と前記有機層とが、少なくとも1層ずつ交互に積層してなる光書込み表示素子。 (1) An optical writing display having a barrier layer, an organic layer, and a layer containing a photochromic dye on a support, wherein the barrier layer and the organic layer are alternately stacked. element.

(2) 2つの前記支持体の間にフォトクロミック色素を含む層を設けてなり、前記支持体において前記フォトクロミック色素を含む層を設けた面とは反対面側に、前記バリア層と前記有機層との積層体を設けてなることを特徴とする前記(1)に記載の光書込み表示素子。 (2) A layer containing a photochromic dye is provided between the two supports, and the barrier layer and the organic layer are provided on the side of the support opposite to the surface on which the layer containing the photochromic dye is provided. The optical writing display element according to the above (1), wherein a laminated body is provided.

(3) 前記バリア層が、無機バリア層であることを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の光書込み表示素子。 (3) The optical writing display element according to (1) or (2), wherein the barrier layer is an inorganic barrier layer.

(4) 前記フォトクロミック色素を含む層が、異なる色に発色する複数のフォトクロミック色素を含むことを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の光書込み表示素子。 (4) The optical writing display element according to any one of (1) to (3), wherein the layer containing the photochromic dye includes a plurality of photochromic dyes that develop different colors.

(5) 前記フォトクロミック色素を含む層が、イエロー、マゼンタ及びシアンに発色するフォトクロミック色素を含むことを特徴とする前記(4)に記載の光書込み表示素子。 (5) The optical writing display element according to (4), wherein the layer containing the photochromic dye contains a photochromic dye that develops yellow, magenta, and cyan.

(6) 前記フォトクロミック色素が、フルギド誘導体又はジアリールエテン誘導体であることを特徴とする前記(1)〜(5)のいずれか1項に記載の光書込み表示素子。 (6) The optical writing display element according to any one of (1) to (5), wherein the photochromic dye is a fulgide derivative or a diarylethene derivative.

(7) 前記支持体がプラスチック基板であることを特徴とする前記(1)〜(6)のいずれか1項に記載の光書込み表示素子。 (7) The optical writing display element according to any one of (1) to (6), wherein the support is a plastic substrate.

(8) 前記(1)〜(7)のいずれか1項に記載の光書込み表示素子を用い、
紫外光の照射により発色させたのち、可視域の光を照射して、パターンを形成することを特徴とする光書込み表示方法。
(8) Using the optical writing display element according to any one of (1) to (7),
An optical writing display method characterized in that a pattern is formed by irradiating light in a visible region after color is developed by irradiation with ultraviolet light.

本発明によれば、熱的安定性及び繰り返し耐久性に優れる光書込み表示素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical writing display element excellent in thermal stability and repetition durability can be provided.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

<支持体>
本発明で用いる支持体としては、プラスチック基板、ガラス基板、紙、金属などが利用できるが、好ましくは、プラスチック基板である。プラスチック基板としては、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではないが、ポリエステル、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、ナイロン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、シリコーン樹脂、ポリアセタール樹脂、フッ素樹脂、セルロース誘導体、ポリオレフィンなどの高分子のフィルムや板状基板が好ましく用いられる。また、透過型の光書込み表示素子として用いる場合には、少なくとも50%以上の光透過率を有するプラスチック基板が好ましく用いられる。
<Support>
As the support used in the present invention, a plastic substrate, a glass substrate, paper, metal, or the like can be used, but a plastic substrate is preferable. The plastic substrate is not particularly defined as long as it does not depart from the gist of the present invention, but polyester, polyimide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polypropylene, polyethylene, polyamide, nylon, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, poly Polymer films and plate-like substrates such as ether sulfones, silicone resins, polyacetal resins, fluororesins, cellulose derivatives, and polyolefins are preferably used. When used as a transmissive optical writing display element, a plastic substrate having a light transmittance of at least 50% or more is preferably used.

<バリア層及び有機層>
以下、本発明の用いられるバリア層及び有機層について説明する。本発明では、バリア層と有機層とが、互いに少なくとも1層ずつ設けられる。このように、バリア層と有機層とを積層して設けることで、酸素及び水の浸入を阻止することができる。フォトクロミック色素は通常一重項酸素による付加又は加水分解を受けて劣化するといわれており、このバリア層と有機層とを積層することで、酸素及び水の浸入をバリア層1層だけの場合よりも効率的に阻止できる点で、フォトクロミック色素の分解を顕著に制御できる。
<Barrier layer and organic layer>
Hereinafter, the barrier layer and the organic layer used in the present invention will be described. In the present invention, the barrier layer and the organic layer are provided at least one layer each other. Thus, by providing the barrier layer and the organic layer in a stacked manner, intrusion of oxygen and water can be prevented. It is said that photochromic dyes are usually deteriorated by addition or hydrolysis due to singlet oxygen. By laminating this barrier layer and organic layer, the infiltration of oxygen and water is more efficient than the case of only one barrier layer. The decomposition of the photochromic dye can be remarkably controlled.

バリア層及び有機層の積層体は、後述のフォトクロミック色素を含む層への水分及び酸素の浸入を防ぐよう、フォトクロミック色素を含む層の少なくとも一方の面側に設けられていれば良いが、好ましくは、フォトクロミック色素を含む層の両面の双方に設けられる場合である。
また、2つの前記支持体の間にフォトクロミック色素を含む層が設けられ、支持体において該フォトクロミック色素を含む層を設けた面とは反対面側に、バリア層及び有機層の積層体を配置することが、製造上の観点から更に好ましい。
The laminate of the barrier layer and the organic layer may be provided on at least one surface side of the layer containing the photochromic dye, so as to prevent moisture and oxygen from entering the layer containing the photochromic dye described later. In this case, it is provided on both sides of the layer containing the photochromic dye.
In addition, a layer containing a photochromic dye is provided between the two supports, and a laminate of a barrier layer and an organic layer is disposed on the side of the support opposite to the surface provided with the layer containing the photochromic dye. Is more preferable from the viewpoint of manufacturing.

また、層の数は、特に定めるものではないが、好ましくは、バリア層と有機層とを組み合わせを1セットとすると、1〜5セットであり、より好ましくは、1〜3セットである。
バリア層及び有機層の積層体の全体の厚みは、1μm〜100μmであることが好ましく、1μm〜50μmであることがより好ましい。
Further, the number of layers is not particularly defined, but preferably 1 to 5 sets, more preferably 1 to 3 sets, when the combination of the barrier layer and the organic layer is 1 set.
The total thickness of the laminate of the barrier layer and the organic layer is preferably 1 μm to 100 μm, and more preferably 1 μm to 50 μm.

(バリア層)
本発明において、バリア層とは、水分及び酸素の浸入を阻止するために設けられる層をいう。
本発明のバリア層の作製方法は、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法などが適しており、特許第3400324号、特開2002−322561号、特開2002−361774号の各公報記載の方法を好ましく採用することができる。
(Barrier layer)
In the present invention, the barrier layer refers to a layer provided in order to prevent moisture and oxygen from entering.
The method for producing the barrier layer of the present invention is not particularly defined as long as it does not depart from the gist of the present invention, but a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a plasma CVD method, and the like are suitable. The methods described in JP-A-2002-322561 and JP-A-2002-361774 can be preferably employed.

本発明のバリア層は、無機材料から構成される無機バリア層であることが極めて好ましく、例えば、Si、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、Ta等の1種以上を含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物などがより好ましく、Si、Al、Tiの1種以上を含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物が更に好ましく、特に好ましくは、Siを含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物である。   The barrier layer of the present invention is very preferably an inorganic barrier layer composed of an inorganic material, for example, an oxide containing one or more of Si, Al, In, Sn, Zn, Ti, Cu, Ce, Ta, and the like. More preferred are oxides, nitrides, oxynitrides, etc., oxides containing one or more of Si, Al, Ti, nitrides or oxynitrides are more preferred, and oxides, nitrides containing Si, or nitrides are particularly preferred. It is an oxynitride.

バリア層の厚みに関しても特に限定しないが、一つのバリア層の厚みが、5nm〜1000nmの範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、10nm〜1000nmであり、最も好ましくは、10nm〜200nmである。また、バリア層を2層以上設ける場合は、それぞれの層が同じ組成でも別の組成でも良い。   Although it does not specifically limit regarding the thickness of a barrier layer, It is preferable that the thickness of one barrier layer is the range of 5 nm-1000 nm, More preferably, it is 10 nm-1000 nm, Most preferably, it is 10 nm-200 nm. When two or more barrier layers are provided, each layer may have the same composition or different compositions.

水分浸入バリア性と高透明性を両立させるにはバリア層として珪素酸化物や珪素酸化窒化物を用いることが好ましい。
珪素酸化物はSiOxと表記され、例えば、バリア層としてSiOxを用いる場合、より良好な水分浸入バリア性と高い光線透過率を得るためには、1.6<x<1.9であることが好ましい。
珪素酸化窒化物はSiOxyと表記されるが、このxとyの比率は、密着性をより向上させるためには、酸素リッチの膜とし、1<x<2、0<y<1が好ましく、1.0<x<1.8、0.2<y<1.0がより好ましい。水分浸入バリア性向上をより向上させるためには、窒素リッチの膜とし、0<x<0.8、0.8<y<1.3が好ましく、0<x<0.7、1.0<y<1.3がより好ましい。
In order to achieve both moisture penetration barrier properties and high transparency, it is preferable to use silicon oxide or silicon oxynitride as the barrier layer.
Silicon oxide is expressed as SiO x . For example, when SiO x is used as the barrier layer, 1.6 <x <1.9 is obtained in order to obtain better moisture penetration barrier properties and high light transmittance. It is preferable.
Silicon oxynitride is expressed as SiO x N y, and the ratio of x and y is an oxygen-rich film in order to further improve the adhesion, 1 <x <2, 0 <y <1 Are preferable, and 1.0 <x <1.8 and 0.2 <y <1.0 are more preferable. In order to further improve the moisture penetration barrier property, a nitrogen-rich film is used, and 0 <x <0.8 and 0.8 <y <1.3 are preferable, and 0 <x <0.7 and 1.0 <Y <1.3 is more preferable.

(有機層)
前記バリア層の脆性を改良し及びバリア性を向上させる為に、本発明では、バリア層と有機層を積層する。
(Organic layer)
In the present invention, the barrier layer and the organic layer are laminated in order to improve the brittleness of the barrier layer and improve the barrier property.

有機層厚みについては特に限定はしないが、10nm〜5000nmが好ましく、さらに好ましくは10〜2000nmであり、最も好ましくは10nm〜5000nmである。このような厚さとすることにより、上記バリア層の構造欠陥をより効率よく有機層で埋めることができ、バリア性がより向上する。逆に有機層の厚みが厚すぎると、曲げ等の外力により有機層がクラックを発生し易くなるためバリア性が低下してしまう不具合が発生する。   The thickness of the organic layer is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 5000 nm, more preferably 10 to 2000 nm, and most preferably 10 nm to 5000 nm. By setting it as such thickness, the structural defect of the said barrier layer can be filled with an organic layer more efficiently, and barrier property improves more. On the other hand, if the organic layer is too thick, the organic layer is likely to crack due to an external force such as bending, which causes a problem that the barrier property is lowered.

有機層としては、例えば、(1)ゾル−ゲル法を用いて作製した無機酸化物層を利用する方法、(2)有機物を塗布又は蒸着で積層した後、紫外線又は電子線で硬化させる方法を用いて形成することができる。また、(1)及び(2)は、組み合わせて使用しても良く、例えば、樹脂フィルム上に(1)の方法で薄膜を形成した後、無機酸化物層を作製し、その後(2)の方法で薄膜を形成しても良い。   As the organic layer, for example, (1) a method using an inorganic oxide layer produced by using a sol-gel method, and (2) a method in which an organic material is laminated by coating or vapor deposition and then cured by ultraviolet rays or electron beams. Can be formed. Moreover, (1) and (2) may be used in combination. For example, after forming a thin film on the resin film by the method of (1), an inorganic oxide layer is prepared, and then (2) A thin film may be formed by a method.

(1)ゾル−ゲル法
本発明におけるゾル−ゲル法では、好ましくは溶液中、又は塗膜中で金属アルコキシドを加水分解、縮重合させて、緻密な薄膜を得る。またこの時、樹脂を併用して、有機−無機ハイブリッド材料にしても良い。
金属アルコキシドとしては、アルコキシシラン及び/又はアルコキシシラン以外の金属アルコキシドを使用する。アルコキシシラン以外の金属アルコキシドとしては、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、アルミニウムアルコキシド等が好ましい。
(1) Sol-gel method In the sol-gel method in the present invention, a metal alkoxide is preferably hydrolyzed and polycondensed in a solution or a coating film to obtain a dense thin film. At this time, an organic-inorganic hybrid material may be used in combination with a resin.
As the metal alkoxide, alkoxysilane and / or metal alkoxide other than alkoxysilane is used. As the metal alkoxide other than alkoxysilane, zirconium alkoxide, titanium alkoxide, aluminum alkoxide and the like are preferable.

ゾル−ゲル反応時に併用する樹脂としては、水素結合形成基を有していることが好ましい。
水素結合形成基を有する樹脂の例としては、ヒドロキシル基を有するポリマーとその誘導体(ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、フェノール樹脂、メチロールメラミン等とその誘導体);カルボキシル基を有するポリマーとその誘導体(ポリ(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独又は共重合体と、これらのポリマーのエステル化物(酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸メチル等の(メタ)アクリル酸エステル等の単位を含む単独又は共重合体)等);エーテル結合を有するポリマー(ポリアルキレンオキサイド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリビニルエーテル、珪素樹脂等);アミド結合を有するポリマー(>N(COR)−結合、すなわち、N(COR)からなる3価の基(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を示す)を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミンのN−アシル化物);>NC(O)−結合、すなわち、NC(O)からなる3価の基を有するポリビニルピロリドンとその誘導体;ウレタン結合を有するポリウレタン;尿素結合を有するポリマー等を挙げることができる。
樹脂の使用量は、金属アルコキシド1モルに対して、0.1〜10モルであり、より好ましくは0.5〜5モルである。
The resin used together during the sol-gel reaction preferably has a hydrogen bond forming group.
Examples of resins having a hydrogen bond-forming group include polymers having hydroxyl groups and derivatives thereof (polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, ethylene-vinyl alcohol copolymers, phenol resins, methylol melamine, and derivatives thereof); Polymers and derivatives thereof (single or copolymer containing units of polymerizable unsaturated acid such as poly (meth) acrylic acid, maleic anhydride, itaconic acid, and esterified products of these polymers (vinyl esters such as vinyl acetate, Homo- or copolymers containing units such as (meth) acrylic acid esters such as methyl methacrylate)); polymers having ether bonds (polyalkylene oxides, polyoxyalkylene glycols, polyvinyl ethers, silicon resins, etc.); amide bonds (> N (C R) -bond, that is, a trivalent group consisting of N (COR) (wherein R represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent). N-acylated products of polyoxazoline and polyalkyleneimine));> NC (O) -linkage, that is, polyvinylpyrrolidone having a trivalent group consisting of NC (O) and derivatives thereof; polyurethane having urethane bond A polymer having a urea bond, and the like.
The usage-amount of resin is 0.1-10 mol with respect to 1 mol of metal alkoxides, More preferably, it is 0.5-5 mol.

また、ゾル−ゲル反応時にモノマーを併用し、ゾル−ゲル反応時、又はその後に重合させて有機−無機ハイブリッド材料を作製することもできる。このようなモノマーとしては、アクリレート、メタクリレート、イソシアネートを挙げることができる。
ゾル−ゲル反応時に併用するモノマーの使用量は、金属アルコキシド1モルに対して、0.1〜100モルであり、より好ましくは0.5〜50モルである。
In addition, an organic-inorganic hybrid material can be produced by using a monomer in combination during the sol-gel reaction and polymerizing during or after the sol-gel reaction. Examples of such a monomer include acrylate, methacrylate, and isocyanate.
The usage-amount of the monomer used together at the time of sol-gel reaction is 0.1-100 mol with respect to 1 mol of metal alkoxides, More preferably, it is 0.5-50 mol.

ゾル−ゲル反応時には、水、及び有機溶媒中で金属アルコキシドを加水分解、及び縮重合させるが、この時、触媒を用いることが好ましい。加水分解の触媒としては、一般に酸(有機又は無機酸)が用いられる。
酸の使用量は、金属アルコキシド(アルコキシシラン及び他の金属アルコキシドを含有する場合には、アルコキシシラン+他の金属アルコキシド)1モル当たり、好ましくは0.0001〜0.05モルであり、より好ましくは0.001〜0.01モルである。
加水分解後、無機塩基やアミンなどの塩基性化合物を添加して溶液のpHを中性付近にし、縮重合を促進しても良い。
During the sol-gel reaction, the metal alkoxide is hydrolyzed and polycondensed in water and an organic solvent. At this time, it is preferable to use a catalyst. As the hydrolysis catalyst, an acid (organic or inorganic acid) is generally used.
The amount of the acid used is preferably 0.0001 to 0.05 mol, more preferably 1 mol per 1 mol of metal alkoxide (alkoxysilane and other metal alkoxide in the case of containing alkoxysilane and other metal alkoxide). Is 0.001 to 0.01 mol.
After hydrolysis, a basic compound such as an inorganic base or an amine may be added to bring the pH of the solution to near neutrality to promote condensation polymerization.

また、中心金属にAl、Ti、Zrを有する金属キレート化合物、スズの化合物等の有機金属化合物、有機酸のアルカリ金属塩等の金属塩類など、他のゾル−ゲル触媒も併用することができる。ゾル−ゲル触媒化合物の組成物中の割合は、ゾル液の原料であるアルコキシシランに対し、好ましくは0.01〜50重量%、より好ましくは0.1〜50重量%、さらに好ましくは0.5〜10重量%である。   In addition, other sol-gel catalysts such as metal chelate compounds having Al, Ti, and Zr as the central metal, organometallic compounds such as tin compounds, and metal salts such as alkali metal salts of organic acids can be used in combination. The ratio of the sol-gel catalyst compound in the composition is preferably 0.01 to 50% by weight, more preferably 0.1 to 50% by weight, and still more preferably 0.1% by weight with respect to the alkoxysilane that is the raw material of the sol liquid. 5 to 10% by weight.

次に、ゾル−ゲル反応に用いられる溶媒について述べる。溶媒はゾル液中の各成分を均一に混合させ、本発明の組成物の固形分調製をすると同時に、種々の塗布方法に適用できるようにし、組成物の分散安定性及び保存安定性を向上させるものである。これらの溶媒は上記目的を果たせるものであれば特に限定されない。これらの溶媒の好ましい例として、水、及び水と混和性の高い有機溶媒が挙げられる。
溶媒の使用量は、金属アルコキシド1当量当たり、好ましくは1〜100,000質量%であり、より好ましくは10〜10,000質量%である。
Next, the solvent used for the sol-gel reaction will be described. The solvent uniformly mixes each component in the sol solution, and at the same time prepares the solid content of the composition of the present invention, so that it can be applied to various coating methods to improve the dispersion stability and storage stability of the composition. Is. These solvents are not particularly limited as long as they can fulfill the above purpose. Preferable examples of these solvents include water and organic solvents that are highly miscible with water.
The amount of the solvent used is preferably 1 to 100,000% by mass, more preferably 10 to 10,000% by mass per equivalent of metal alkoxide.

ゾル−ゲル反応の速度を調節する目的で、多座配位可能な有機化合物を添加して、金属アルコキシドを安定化しても良い。その例としては、β−ジケトン及び/又はβ−ケトエステル類、及びアルカノールアミンが挙げられる。
このβ−ジケトン類及び/又はβ−ケトエステル類の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−tert−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン類及び/又はβ−ケトエステル類は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することもできる。
これらの多座配位可能な化合物は、ゾル−ゲル触媒として前記の金属キレート化合物を用いた場合、その反応速度を調節する目的にも用いることができる。
多座配位可能な化合物の使用量は、金属アルコキシド1モルに対して、0.1〜100モルであり、より好ましくは0.5〜50モルである。
For the purpose of adjusting the speed of the sol-gel reaction, an organic compound capable of multidentate coordination may be added to stabilize the metal alkoxide. Examples thereof include β-diketones and / or β-ketoesters, and alkanolamines.
Specific examples of the β-diketone and / or β-ketoester include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate Acetic acid-sec-butyl, acetoacetic acid-tert-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane -Dione, 5-methyl-hexane-dione and the like can be mentioned. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketones and / or β-ketoesters may be used alone or in combination of two or more.
These compounds capable of multidentate coordination can also be used for the purpose of adjusting the reaction rate when the metal chelate compound is used as a sol-gel catalyst.
The amount of the compound capable of multidentate coordination is 0.1 to 100 mol, more preferably 0.5 to 50 mol, per 1 mol of the metal alkoxide.

次に、ゾル−ゲル反応組成物を塗設する方法について述べる。ゾル液はカーテンフローコート、ディップコート、スピンコート、ロールコート等の塗布法によって、フィルム上に薄膜を形成することができる。
この場合、加水分解のタイミングは製造工程中の如何なる時期であっても構わない。例えば、予め必要な組成の液を加水分解部分縮合して目的のゾル液を調製し、それを塗布し、乾燥する方法、必要な組成の液を調製し塗布と同時に加水分解部分縮合させながら乾燥する方法、塗布し一次乾燥後、加水分解に必要な水含有液を重ねて塗布し加水分解させる方法等を好適に採用できる。また、塗布方法としては、様々な形態をとることが可能であるが、生産性を重視する場合には多段の吐出口を有するスライドギーサー上で下層塗布液と上層塗布液のそれぞれが必要な塗布量になる様に吐出流量を調整し、形成した多層流を連続的に支持体に乗せ、乾燥させる方法(同時重層法)が好適に用いられる。
Next, a method for applying the sol-gel reaction composition will be described. The sol solution can form a thin film on the film by a coating method such as curtain flow coating, dip coating, spin coating or roll coating.
In this case, the hydrolysis may be performed at any time during the production process. For example, a method of preparing a desired sol solution by subjecting a liquid having a required composition to hydrolysis partial condensation, and applying and drying the solution, and preparing a liquid having a required composition and drying while subjecting it to hydrolysis partial condensation at the same time. For example, a method of applying and hydrolyzing by applying a water-containing liquid necessary for hydrolysis after coating and primary drying can be suitably employed. In addition, the coating method can take various forms. However, when productivity is important, each of the lower layer coating solution and the upper layer coating solution is required on a slide Geyser having a multistage discharge port. A method (simultaneous multi-layer method) is preferably used in which the discharge flow rate is adjusted so that the coating amount is obtained, and the formed multilayer flow is continuously placed on a support and dried.

ゾル−ゲル反応組成物の塗設後の乾燥温度は、好ましくは150〜350℃、より好ましくは150〜250℃、さらに好ましくは150〜200℃である。   The drying temperature after application of the sol-gel reaction composition is preferably 150 to 350 ° C, more preferably 150 to 250 ° C, and still more preferably 150 to 200 ° C.

塗布・乾燥後の有機層をさらに緻密にするため、エネルギー線の照射を行っても良い。その照射線種に特に制限はないが、支持体の変形や変性に対する影響を勘案し、紫外線、電子線あるいはマイクロ波の照射を特に好ましく用いることができる。
照射強度は好ましくは30mJ/cm2〜500mJ/cm2であり、より好ましくは50mJ/cm2〜400mJ/cm2である。照射温度は室温から支持体の変形温度の間を制限無く採用することが可能であり、好ましくは30℃〜150℃、より好ましくは50℃〜130℃である。
In order to further refine the organic layer after coating and drying, irradiation with energy rays may be performed. Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of irradiation radiation, In consideration of the influence with respect to a deformation | transformation and modification | denaturation of a support body, irradiation of an ultraviolet-ray, an electron beam, or a microwave can be used especially preferable.
The irradiation intensity is preferably 30mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2 , more preferably 50mJ / cm 2 ~400mJ / cm 2 . The irradiation temperature can be employed without limitation between room temperature and the deformation temperature of the support, and is preferably 30 ° C to 150 ° C, more preferably 50 ° C to 130 ° C.

(2)有機物を塗布又は蒸着で積層した後、紫外線又は電子線で硬化させる方法
モノマーを紫外線又は電子線で架橋させて有機層を形成する場合について説明する。モノマーとしては、紫外線或いは電子線で架橋できる基を含有していれば特に限定は無いが、アクリロイル基又はメタクリロイル基、オキセタン基を有するモノマーを用いることが好ましい。
例えば、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのうち、2官能以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマーを架橋させて得られる高分子を主成分とすることが好ましい。これらの2官能以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマーは2種類以上を混合して用いても、また1官能の(メタ)アクリレートを混合して用いてもよい。
また、オキセタン基を有する物としては、特開2002−356607号公報の一般式(3)〜(6)に記載されている構造を有する物を使うことが好ましい。この場合、これらを任意に混合しても良い。
(2) A method of laminating an organic substance by coating or vapor deposition, and then curing with an ultraviolet ray or an electron beam A case where an organic layer is formed by crosslinking a monomer with an ultraviolet ray or an electron beam will be described. The monomer is not particularly limited as long as it contains a group that can be cross-linked by ultraviolet rays or an electron beam, but it is preferable to use a monomer having an acryloyl group, a methacryloyl group, or an oxetane group.
For example, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, isocyanuric acid (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, trimethylolpropane (meth) acrylate, ethylene glycol (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, etc. Among these, it is preferable that the main component is a polymer obtained by crosslinking a monomer having a bifunctional or higher functional acryloyl group or methacryloyl group. These monomers having a bifunctional or higher acryloyl group or methacryloyl group may be used as a mixture of two or more kinds, or as a mixture of monofunctional (meth) acrylates.
Moreover, as a thing which has an oxetane group, it is preferable to use the thing which has a structure described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-356607 General formula (3)-(6). In this case, you may mix these arbitrarily.

また、ディスプレイ用途に要求される耐熱性、耐溶剤性の観点から、特に架橋度が高く、ガラス転移温度が200℃以上である、イソシアヌル酸アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートを主成分とすることがさらに好ましい。   In addition, from the viewpoint of heat resistance and solvent resistance required for display applications, it is mainly composed of isocyanuric acid acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate having a high degree of crosslinking and a glass transition temperature of 200 ° C. or higher. Further preferred.

かかる(2)の方法において、有機物を塗布又は蒸着する方法は特に制限されない。
例えば、真空成膜法で有機層を形成する場合、蒸着、プラズマCVD等の成膜方法が好ましく、有機物質モノマーの成膜速度を制御しやすい抵抗加熱蒸着法がより好ましい。
塗布方式で作製する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。
In the method (2), the method for applying or vapor-depositing the organic substance is not particularly limited.
For example, when an organic layer is formed by a vacuum film formation method, a film formation method such as vapor deposition or plasma CVD is preferable, and a resistance heating vapor deposition method that easily controls the film formation rate of the organic material monomer is more preferable.
When the coating method is used, various conventionally used coating methods such as spray coating, spin coating, and bar coating can be used.

(2)の方法において、有機物質モノマーの架橋方法に関しては、何らその制限はないが、電子線や紫外線等による架橋が、真空槽内に容易に取り付けられる点や架橋反応による高分子量化が迅速である点で望ましい。   In the method (2), there is no restriction on the method of crosslinking the organic monomer, but the crosslinking by electron beam or ultraviolet rays is easy to attach in the vacuum chamber and the high molecular weight by the crosslinking reaction is rapid. This is desirable.

(水吸収剤)
また、本発明では、基板と有機層及びバリア層からなる積層体との間、該積層体の最上層、有機層とバリア層との間、又は、有機層若しくはバリア層中に、以下に示すような水吸収剤を併用してもよい。
水吸収剤は、アルカリ土類金属を中心に、水吸収機能を有する化合物から選択することができる。例えば、BaO、SrO、CaO、及びMgOなどが挙げられる。さらに、Ti、Mg、Ba、Caの様な金属元素から選択する事もできる。
(Water absorbent)
In the present invention, the following is shown between the substrate and the laminate composed of the organic layer and the barrier layer, between the uppermost layer of the laminate, the organic layer and the barrier layer, or in the organic layer or the barrier layer. Such a water absorbent may be used in combination.
The water absorbent can be selected from compounds having a water absorption function, mainly alkaline earth metals. For example, BaO, SrO, CaO, MgO, etc. are mentioned. Furthermore, it can also be selected from metal elements such as Ti, Mg, Ba, and Ca.

これらの吸収剤粒子の粒径は、好ましくは100nm以下であり、50nm以下で使用されるのがさらに好ましい。   The particle diameter of these absorbent particles is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

水吸収剤を含む層を別途設ける場合には、上述のバリア層と同様真空下蒸着法等を使って作製しても良いし、ナノ粒子を各種方法で作製して用いても良い。これらは、層厚みとして1〜100nmで使用される場合が好ましく、1〜10nmで用いられることがさらに好ましい。
水吸収剤の塗布量は、10-4g/m2〜102g/m2であることが好ましく、10-3g/m2〜10g/m2であることがより好ましい。
In the case of separately providing a layer containing a water absorbent, it may be prepared by using a vacuum deposition method or the like as in the above-described barrier layer, or nanoparticles may be prepared by various methods. These are preferably used at a layer thickness of 1 to 100 nm, more preferably 1 to 10 nm.
The coating amount of the water absorbing agent is preferably 10 -4 g / m 2 ~10 2 g / m 2, and more preferably 10 -3 g / m 2 ~10g / m 2.

バリア層に添加する場合には、共蒸着法を用いることが好ましい。
有機層に添加する場合には、有機物と水吸収剤とを混合して塗布することで作製することが好ましい。
When adding to a barrier layer, it is preferable to use a co-evaporation method.
When adding to an organic layer, it is preferable to produce by mixing and apply | coating organic substance and a water absorbent.

<フォトクロミック色素を含む層>
本発明におけるフォトクロミック色素を含む層は、フォトクロミック色素を含めば特に定めるものではなく、バインダー中にフォトクロミック色素を分散あるいは溶解させた状態で用いることが好ましい。
フォトクロミック色素に対するバインダーの含有比率は、10質量%〜10,000質量%が好ましく、50質量%〜1,000質量%がより好ましい。
<Layer containing photochromic dye>
The layer containing the photochromic dye in the invention is not particularly defined as long as the photochromic dye is included, and is preferably used in a state where the photochromic dye is dispersed or dissolved in the binder.
The content ratio of the binder with respect to the photochromic dye is preferably 10% by mass to 10,000% by mass, and more preferably 50% by mass to 1,000% by mass.

バインダーとして用いる重縮合系樹脂成分としては、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレア、ポリカーボネートが挙げられる。具体例については原料モノマーの形で以下に例示する。但し、P−23はポリマーの形で例示するが、本発明がこれらに限定されるものではない。各ポリマーにおける酸性基はすべて非解離形で表してある。またポリエステル、ポリアミド等縮合反応により生成するものについては、構成成分は原料の如何に関わらず、すべてジカルボン酸、ジオール、ジアミン、ヒドロキシカルボン酸、アミノカルボン酸等で表記する。括弧内の比は、各成分のモル百分率比を意味する。   Examples of the polycondensation resin component used as the binder include polyurethane, polyester, polyamide, polyurea, and polycarbonate. Specific examples are illustrated below in the form of raw material monomers. However, although P-23 is illustrated in the form of a polymer, the present invention is not limited thereto. All acidic groups in each polymer are represented in non-dissociated form. In addition, regarding components produced by a condensation reaction such as polyester and polyamide, the constituent components are all expressed as dicarboxylic acids, diols, diamines, hydroxycarboxylic acids, aminocarboxylic acids, etc., regardless of the raw materials. The ratio in parentheses means the mole percentage ratio of each component.

P−1:トルエンジイソシアネート/エチレングリコール/1,4−ブタンジオール(50/15/35)   P-1: Toluene diisocyanate / ethylene glycol / 1,4-butanediol (50/15/35)

P−2:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート/1,3−プロパンジオール/ポリプロピレングリコール(Mw=1000)(50/45/5)   P-2: 4,4'-diphenylmethane diisocyanate / 1,3-propanediol / polypropylene glycol (Mw = 1000) (50/45/5)

P−3:トルエンジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシアネート/エチレングリコール/ポリエチレングリコール(Mw=600)/1,4−ブタンジオール(40/10/20/10/20)   P-3: Toluene diisocyanate / hexamethylene diisocyanate / ethylene glycol / polyethylene glycol (Mw = 600) / 1,4-butanediol (40/10/20/10/20)

P−4:1,5−ナフチレンジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシアネート/ジエチレングリコール/1,6−ヘキサンジオール(25/25/35/15)   P-4: 1,5-naphthylene diisocyanate / hexamethylene diisocyanate / diethylene glycol / 1,6-hexanediol (25/25/35/15)

P−5:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシアネート/テトラエチレングリコール/エチレングリコール/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸(40/10/20/20/10)   P-5: 4,4'-diphenylmethane diisocyanate / hexamethylene diisocyanate / tetraethylene glycol / ethylene glycol / 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (40/10/20/20/10)

P−6:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシアネート/ブタンジオール/エチレングリコール/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸(40/10/20/20/10)   P-6: 4,4'-diphenylmethane diisocyanate / hexamethylene diisocyanate / butanediol / ethylene glycol / 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (40/10/20/20/10)

P−7:1,5−ナフチレンジイソシアネート/ブタンジオール/4,4’−ジヒドロキシ−ジフェニル−2,2’−プロパン/ポリプロピレングリコール(Mw=400)/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸(50/20/5/10/15)   P-7: 1,5-naphthylene diisocyanate / butanediol / 4,4′-dihydroxy-diphenyl-2,2′-propane / polypropylene glycol (Mw = 400) / 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (50/20/5/10/15)

P−8:1,5−ナフチレンジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシアネート/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸/ポリブチレンオキシド(Mw=500)(35/15/25/25)   P-8: 1,5-naphthylene diisocyanate / hexamethylene diisocyanate / 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid / polybutylene oxide (Mw = 500) (35/15/25/25)

P−9:イソホロンジイソシアネート/ジエチレングリコール/ネオペンチルグリコール/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸(50/20/20/10)   P-9: Isophorone diisocyanate / diethylene glycol / neopentyl glycol / 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (50/20/20/10)

P−10:トルエンジイソシアネート/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸/ポリエチレングリコール(Mw=1000)/シクロヘキサンジメタノール(50/10/10/30)   P-10: Toluene diisocyanate / 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid / polyethylene glycol (Mw = 1000) / cyclohexanedimethanol (50/10/10/30)

P−11:ジフェニルメタンジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシアネート/テトラエチレングリコール/ブタンジオール/2,4−ジ(2−ヒドロキシ)エチルオキシカルボニルベンゼンスルホン酸(40/10/10/33/7)   P-11: Diphenylmethane diisocyanate / hexamethylene diisocyanate / tetraethylene glycol / butanediol / 2,4-di (2-hydroxy) ethyloxycarbonylbenzenesulfonic acid (40/10/10/33/7)

P−12:ジフェニルメタンジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシアネート/ブタンジオール/エチレングリコール/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸/2,4−ジ(2−ヒドロキシ)エチルオキシカルボニルベンゼンスルホン酸(40/10/20/15/10/5)   P-12: Diphenylmethane diisocyanate / hexamethylene diisocyanate / butanediol / ethylene glycol / 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid / 2,4-di (2-hydroxy) ethyloxycarbonylbenzenesulfonic acid (40/10 / 20/15/10/5)

P−13:テレフタル酸/イソフタル酸/シクロヘキサンジメタノール/1,4−ブタンジオール/エチレングリコール(25/25/25/15/10)   P-13: terephthalic acid / isophthalic acid / cyclohexanedimethanol / 1,4-butanediol / ethylene glycol (25/25/25/15/10)

P−14:テレフタル酸/イソフタル酸/4,4’−ジヒドロキシージフェニルー2,2−プロパン/テトラエチレングリコール/エチレングリコール(30/20/20/15/15)   P-14: terephthalic acid / isophthalic acid / 4,4'-dihydroxy-diphenyl-2,2-propane / tetraethylene glycol / ethylene glycol (30/20/20/15/15)

P−15:テレフタル酸/イソフタル酸/シクロヘキサンジメタノール/ネオペンチルグリコール/ジエチレングリコール(20/30/25/15/10)   P-15: terephthalic acid / isophthalic acid / cyclohexanedimethanol / neopentyl glycol / diethylene glycol (20/30/25/15/10)

P−16:テレフタル酸/イソフタル酸/4,4’−ベンゼンジメタノール/ジエチレングリコール/ネオペンチルグリコール(25/25/25/15/10)   P-16: terephthalic acid / isophthalic acid / 4,4'-benzenedimethanol / diethylene glycol / neopentyl glycol (25/25/25/15/10)

P−17:テレフタル酸/イソフタル酸/5−スルホイソフタル酸/エチレングリコール/ネオペンチルグリコール(24/24/2/25/25) P-17: terephthalic acid / isophthalic acid / 5-sulfoisophthalic acid / ethylene glycol / neopentyl glycol (24/24/2/25/25)

P−18:テレフタル酸/イソフタル酸/5−スルホイソフタル酸/シクロヘキサンジメタノール/1,4−ブタンジオール/エチレングリコール(22/22/6/25/15/10)   P-18: terephthalic acid / isophthalic acid / 5-sulfoisophthalic acid / cyclohexanedimethanol / 1,4-butanediol / ethylene glycol (22/22/6/25/15/10)

P−19:イソフタル酸/5−スルホイソフタル酸/シクロヘキサンジメタノール/エチレングリコール(40/10/40/10)   P-19: Isophthalic acid / 5-sulfoisophthalic acid / cyclohexanedimethanol / ethylene glycol (40/10/40/10)

P−20:シクロヘキサンジカルボン酸/イソフタル酸/2,4−ジ(2−ヒドロキシ)エチルオキシカルボニルベンゼンスルホン酸/シクロヘキサンジメタノール/エチレングリコール(30/20/5/25/20)   P-20: cyclohexanedicarboxylic acid / isophthalic acid / 2,4-di (2-hydroxy) ethyloxycarbonylbenzenesulfonic acid / cyclohexanedimethanol / ethylene glycol (30/20/5/25/20)

P−21:11−アミノウンデカン酸(100)
P−22:12−アミノドデカン酸(100)
P−23:ポリ(12−アミノドデカン酸)と無水マレイン酸との反応物(50/50)
P-21: 11-aminoundecanoic acid (100)
P-22: 12-aminododecanoic acid (100)
P-23: Reaction product of poly (12-aminododecanoic acid) and maleic anhydride (50/50)

P−24:11−アミノウンデカン酸/7−アミノヘプタン酸(50/50)
P−25:ヘキサメチレンジアミン/アジピン酸(50/50)
P−26:テトラメチレンジアミン/アジピン酸(50/50)
P−27:ヘキサメチレンジアミン/セバシン酸(50/50)
P-24: 11-aminoundecanoic acid / 7-aminoheptanoic acid (50/50)
P-25: Hexamethylenediamine / Adipic acid (50/50)
P-26: Tetramethylenediamine / Adipic acid (50/50)
P-27: Hexamethylenediamine / Sebacic acid (50/50)

P−28:N,N−ジメチルエチレンジアミン/アジピン酸/シクロヘキサンジカルボン酸(50/20/30)   P-28: N, N-dimethylethylenediamine / adipic acid / cyclohexanedicarboxylic acid (50/20/30)

P−29:トルエンジイソシアネート/4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート/ヘキサメチレンジアミン(30/20/50)   P-29: Toluene diisocyanate / 4,4'-diphenylmethane diisocyanate / hexamethylenediamine (30/20/50)

P−30:ノナメチレンジアミン/尿素(50/50)
P−31:ヘキサメチレンジアミン/ノナメチレンジアミン/尿素(25/25/50)
P-30: Nonamethylenediamine / urea (50/50)
P-31: Hexamethylenediamine / nonamethylenediamine / urea (25/25/50)

P−32:トルエンジイソシアネート/ヘキサメチレンジアミン/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸(50/40/10)   P-32: Toluene diisocyanate / hexamethylenediamine / 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (50/40/10)

P−33:11−アミノウンデカン酸/ヘキサメチレンジアミン/尿素(33/33/33)   P-33: 11-aminoundecanoic acid / hexamethylenediamine / urea (33/33/33)

本発明のビニル重合体を形成するモノマーとしてはアクリル酸エステル類、具体的にはメチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、tert−オクチルアクリレート、2−クロロエチルアクリレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、2−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、2−クロロシクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−エトキシブチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−iso−プロポキシアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート(付加モル数n=9)、1−ブロモー2−メトキシエチルアクリレート、1,1−ジクロロー2−エトキシエチルアクリレート、などが挙げられる。
その他、下記のモノマーなどが使用できる。
As the monomer for forming the vinyl polymer of the present invention, acrylic acid esters, specifically methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate, tert- Butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-bromoethyl acrylate, 4-chlorobutyl acrylate, cyanoethyl acrylate, 2-acetoxyethyl acrylate, dimethyl Aminoethyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, 2-chlorocyclohexyla Relate, cyclohexyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-ethoxybutyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-iso -Propoxy acrylate, 2-butoxyethyl acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl acrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acrylate, ω-methoxypolyethylene glycol acrylate ( Addition mole number n = 9), 1-bromo-2-methoxyethyl acrylate, 1,1-dichloro-2-ethoxyethyl acrylate, etc. I can get lost.
In addition, the following monomers can be used.

メタクリル酸エステル類:
その具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、スルフォプロピルメタクリレート、N−エチル−N−フェニルアミノエチルメタクリレート、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリレート、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−iso−プロポキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート(付加モル数n=6)、アクリルメタクリレート、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩などを挙げることができる。
Methacrylic acid esters:
Specific examples thereof include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, Chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, stearyl methacrylate, sulfopropyl methacrylate, N-ethyl-N-phenylaminoethyl methacrylate, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl methacrylate, dimethylaminophenoxyethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofur Furyl methacrylate, fu Nyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, triethylene glycol monomethacrylate, dipropylene glycol monomethacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-acetoxyethyl Methacrylate, 2-acetoacetoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-iso-propoxyethyl methacrylate, 2-butoxyethyl methacrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl methacrylate 2- (2-butoxyethoxy) ethyl methacrylate, ω-methoxypolyethylene glycol Examples thereof include methacrylate (addition mole number n = 6), acrylic methacrylate, dimethylaminoethylmethyl chloride methacrylate salt, and the like.

ビニルエステル類:
その他具体例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなどが挙げられる。
Vinyl esters:
Other specific examples include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, and the like. .

アクリルアミド類:
例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、n−ブチルアクリルアミド、sec−ブチルアクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
Acrylamide:
For example, acrylamide, methyl acrylamide, ethyl acrylamide, propyl acrylamide, isopropyl acrylamide, n-butyl acrylamide, sec-butyl acrylamide, tert-butyl acrylamide, cyclohexyl acrylamide, benzyl acrylamide, hydroxymethyl acrylamide, methoxyethyl acrylamide, dimethylaminoethyl acrylamide, Examples include phenylacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, β-cyanoethylacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) acrylamide, diacetoneacrylamide, and the like.

メタクリルアミド類:
例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、イソプロピルメタクリルアミド、n−ブチルメタクリルアミド、sec−ブチルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメタクリルアミド、クロロベンジルメタクリルアミド、オクチルメタクリルアミド、ステアリルメタクリルアミド、スルフォプロピルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアミノエチルメタクリルアミド、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチルメタクリルアミド、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリルアミド、フルフリルメタクリルアミド、テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、クレジルメタクリルアミド、ナフチルメタクリルアミド、2−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリルアミド、トリエチレングリコールモノメタクリルアミド、ジプロピレングリコールモノメタクリルアミド、2−メトキシエチルメタクリルアミド、3−メトキシブチルメタクリルアミド、2−アセトキシエチルメタクリルアミド、2−アセトアセトキシエチルメタクリルアミド、2−エトキシエチルメタクリルアミド、2−iso−プロポキシエチルメタクリルアミド、2−ブトキシエチルメタクリルアミド、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタクリルアミド、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタクリルアミド、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリルアミド、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリルアミド(付加モル数n=6)、アクリルメタクリルアミド、ジメチルアミノメタクリルアミド、ジエチルアミノメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)メタクリルアミドなどが挙げられる。
Methacrylamide:
For example, methacrylamide, methylmethacrylamide, ethylmethacrylamide, propylmethacrylamide, isopropylmethacrylamide, n-butylmethacrylamide, sec-butylmethacrylamide, tert-butylmethacrylamide, cyclohexylmethacrylamide, benzylmethacrylamide, hydroxymethacrylamide , Chlorobenzylmethacrylamide, octylmethacrylamide, stearylmethacrylamide, sulfopropylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylaminoethylmethacrylamide, 2- (3-phenylpropyloxy) ethylmethacrylamide, dimethylaminophenoxyethylmethacrylate Amides, furfuryl methacrylamide, tetrahydrofurfuryl methacrylamide, phenyl Tacrylamide, cresyl methacrylamide, naphthyl methacrylamide, 2-hydroxyethyl methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylamide, triethylene glycol monomethacrylamide, dipropylene glycol monomethacrylamide, 2-methoxyethyl methacrylamide, 3-methoxybutyl Methacrylamide, 2-acetoxyethyl methacrylamide, 2-acetoacetoxyethyl methacrylamide, 2-ethoxyethyl methacrylamide, 2-iso-propoxyethyl methacrylamide, 2-butoxyethyl methacrylamide, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl Methacrylamide, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl methacrylamide, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl methacrylamide, ω-me Examples include toxipolyethylene glycol methacrylamide (addition mole number n = 6), acrylic methacrylamide, dimethylamino methacrylamide, diethylamino methacrylamide, β-cyanoethyl methacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) methacrylamide and the like.

オレフィン類:
例えば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン、などが挙げられる。
Olefins:
Examples thereof include dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, and 2,3-dimethylbutadiene.

スチレン類:
例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。
Styrenes:
Examples thereof include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, vinyl benzoic acid methyl ester, and the like.

ビニルエーテル類:
例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
Vinyl ethers:
Examples thereof include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether and the like.

その他の例として、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、イタコン酸ジブチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタアクリルニトリル、メチレンモロンニトリル、ビニリデンなどを挙げることができる。   Other examples include butyl crotonate, hexyl crotonate, dibutyl itaconate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone, glycidyl acrylate, glycidyl Examples include methacrylate, N-vinyloxazolidone, N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile, methylenemolone nitrile, vinylidene, and the like.

本発明の重縮合体、重合体に用いられるモノマーは、種々の目的(例えば、溶解度、硬さ、柔らかさ、引張り強さ等の改良)に応じて2種以上のモノマーを互いにコモノマーとして使用しても良い。重合体中の本発明のモノマーは、好ましくは、メタクリレート系、アクリルアミド系、及びメタクリルアミド系である。   The monomer used in the polycondensate or polymer of the present invention uses two or more monomers as comonomers according to various purposes (for example, improvement in solubility, hardness, softness, tensile strength, etc.). May be. The monomers of the present invention in the polymer are preferably methacrylate, acrylamide, and methacrylamide.

本発明において、フォトクロミック色素とは、光により可逆的に吸収状態と非吸収状態とが変化しうる機能を有する化合物と定義する。
本発明に用いられるフォトクロミック色素として、吸収極大ならびに吸収帯に関しては、いかなるものであってもよいが、イエロー域(Y)、マゼンタ域(M)、あるいはシアン域(C)に吸収極大を有する場合が好ましい。また、フォトクロミック色素は2種類以上を用いてもよく、フォトクロミック色素を含む層が、異なる色に発色する複数のフォトクロミック色素を含むことが好ましく、Y、M、Cに吸収極大を有するフォトクロミック色素の混合物を用いるのことが好ましい。
イエロー色素、マゼンタ色素ならびにシアン色素を混合することによるフルカラー化表示を行う方法については、「カラーケミストリー」(時田澄男著、丸善、1982年)に詳しい。ここでいう、イエロー域とは、430〜490nmの範囲、マゼンタ域とは、500〜580nmの範囲、シアン域とは600〜700nmの範囲である。
In the present invention, the photochromic dye is defined as a compound having a function capable of reversibly changing between an absorption state and a non-absorption state by light.
The photochromic dye used in the present invention may have any absorption maximum and absorption band, but has an absorption maximum in the yellow range (Y), magenta range (M), or cyan range (C). Is preferred. Two or more kinds of photochromic dyes may be used, and the layer containing the photochromic dye preferably contains a plurality of photochromic dyes that develop different colors, and a mixture of photochromic dyes having absorption maximums in Y, M, and C. Is preferably used.
The method of performing full color display by mixing a yellow dye, a magenta dye, and a cyan dye is detailed in “Color Chemistry” (written by Sumio Tokita, Maruzen, 1982). Here, the yellow region is a range of 430 to 490 nm, the magenta region is a range of 500 to 580 nm, and the cyan region is a range of 600 to 700 nm.

次に、本発明のフォトクロミック色素に用いられる発色団について説明する。
前記フォトクロミック色素の発色団はいかなるものであってもよいが、例えば、フルギド誘導体、ジアリールエテン誘導体、メロシアニン誘導体、アゾベンゼン誘導体、スピロピラン誘導体などが挙げられる。熱的な安定性が高いという観点から、好ましくはフルギド誘導体、ジアリールエテン誘導体である。
以下に、本発明に使用可能なフォトクロミック色素の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
Next, the chromophore used for the photochromic dye of the present invention will be described.
The photochromic dye may have any chromophore, and examples thereof include fulgide derivatives, diarylethene derivatives, merocyanine derivatives, azobenzene derivatives, and spiropyran derivatives. From the viewpoint of high thermal stability, fulgide derivatives and diarylethene derivatives are preferred.
Although the specific example of the photochromic pigment | dye which can be used for this invention below is shown, this invention is not limited at all by the following specific examples.

Figure 2006293209
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フォトクロミック色素は、公知の方法を組み合わせて合成することができる。
また、フォトクロミック色素の塗布量は、1平方メートル当たり、0.1モル〜1,000モルが好ましく、より好ましくは1モル〜100モルである。
The photochromic dye can be synthesized by combining known methods.
The coating amount of the photochromic dye is preferably 0.1 mol to 1,000 mol, more preferably 1 mol to 100 mol per square meter.

<機能層>
本発明では、種々の機能層を設置してもよい。機能層の例としては、反射防止層・偏光層・紫外線吸収層・白色反射層、光取出効率向上層等の光学機能層や、ハードコート層・応力緩和層等の力学的機能層、帯電防止層・導電層などの電気的機能層、防曇層、防汚層、被印刷層などが挙げられる。特に帯電防止層は、高いバリア能を安定的に付与すると言う点で優れている。以下に詳細を示す。
<Functional layer>
In the present invention, various functional layers may be provided. Examples of functional layers include optical functional layers such as antireflection layers, polarizing layers, UV absorbing layers, white reflective layers, light extraction efficiency improving layers, mechanical functional layers such as hard coat layers and stress relaxation layers, and antistatic properties. Examples thereof include an electrical functional layer such as a layer / conductive layer, an antifogging layer, an antifouling layer, and a printing layer. In particular, the antistatic layer is excellent in that it stably imparts a high barrier ability. Details are shown below.

(下塗り層)
例えば、基板とバリア層及び有機層からなる積層体との接着を達成するために、表面活性化処理をしたのち、直接フィルム上に機能層を塗布して接着力を得る方法と、表面処理をした後、あるいは表面処理なしで、下塗り層(接着層)を設けこの上に機能層を塗布する方法とが挙げられる。下塗り層の構成としても種々の工夫が行われており、第1層として支持体によく隣接する層(以下、下塗第1層と略す)を設け、その上に第2層として機能層とよく接着する下塗り第2層を塗布する所謂重層法がある。
(Undercoat layer)
For example, in order to achieve adhesion between a substrate and a laminate composed of a barrier layer and an organic layer, after surface activation treatment, a method of directly applying a functional layer on a film to obtain adhesive force, and surface treatment Or a method of applying a functional layer thereon by providing an undercoat layer (adhesive layer) without surface treatment. Various arrangements have also been made for the constitution of the undercoat layer. A layer often adjacent to the support (hereinafter referred to as the undercoat first layer) is provided as the first layer, and a functional layer is often used as the second layer thereon. There is a so-called multi-layer method in which an undercoat second layer to be bonded is applied.

単層法においては、基板を膨張させ、下塗り層素材と界面混合させることによって良好な接着性を達成している場合が多い。本発明で好ましく用いられる下塗ポリマーとしては、水溶性ポリマー、セルロースアシレート、ラテックスポリマー、水溶性ポリエステルなどが例示される。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸共重合体などであり、セルロースアシレートとしてはカルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどである。ラテックスポリマーとしては塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などである。   In the single layer method, good adhesion is often achieved by expanding the substrate and interfacial mixing with the undercoat layer material. Examples of the undercoat polymer preferably used in the present invention include water-soluble polymers, cellulose acylates, latex polymers, and water-soluble polyesters. Examples of water-soluble polymers include gelatin, gelatin derivatives, casein, agar, sodium alginate, starch, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid copolymers, and maleic anhydride copolymers. Cellulose acylates include carboxymethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose. Etc. Examples of the latex polymer include a vinyl chloride-containing copolymer, a vinylidene chloride-containing copolymer, an acrylate ester-containing copolymer, a vinyl acetate-containing copolymer, and a butadiene-containing copolymer.

重層法における下塗第1層では、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセルロース等のオリゴマーもしくはポリマーなどがある(これらについては、E.H.Immergut「Polymer Handbook IV」187−231、Interscience Pub.New York 1966などに詳しい)。   In the first subbing layer in the multi-layer method, for example, a copolymer starting from a monomer selected from vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride and the like is used. As oligomers or polymers of polyethyleneimine, epoxy resin, grafted gelatin, nitrocellulose and the like (for details, see EH Immergut "Polymer Handbook IV" 187-231, Interscience Pub. New York 1966, etc.) ).

本発明で用いる基板に、場合により施される下塗り層には、機能層の透明性などを実質的に損なわない程度に、無機又は有機の微粒子をマット剤として含有させてもよい。無機の微粒子のマット剤としては二酸化ケイ素(SiO2),二酸化チタン(TiO2)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどを好ましく使用することができる。有機の微粒子マット剤としては、ポリメチルメタクリレ−ト、セルロ−スアセテ−トプロピオネ−ト、ポリスチレン、米国特許第4、142、894号明細書に記載されている処理液可溶性のもの、米国特許第4、396、706号明細書に記載されているポリマ−などを用いることができる。これらの微粒子マット剤の平均粒径は0.01〜10μmのものが好ましく、より好ましくは、0.05〜5μmである。また、その含有量は0.5〜600mg/m2が好ましく、さらに好ましくは、1〜400mg/m2である。下塗液は、一般に良く知られた塗布方法、例えばディップコート法、エア−ナイフコート法、カ−テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、又は、米国特許第2、681、294号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法により塗布することができる。 The undercoat layer optionally applied to the substrate used in the present invention may contain inorganic or organic fine particles as a matting agent so as not to substantially impair the transparency of the functional layer. As the inorganic fine particle matting agent, silicon dioxide (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), calcium carbonate, magnesium carbonate and the like can be preferably used. Examples of the organic fine-particle matting agent include polymethyl methacrylate, cellulose acetate propionate, polystyrene, a treatment solution-soluble one described in US Pat. No. 4,142,894, US Pat. Polymers described in US Pat. No. 4,396,706 can be used. These fine particle matting agents preferably have an average particle diameter of 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 5 μm. Moreover, the content is preferably 0.5 to 600 mg / m 2 , more preferably 1 to 400 mg / m 2 . The undercoating liquid is generally a well-known coating method such as dip coating, air-knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, slide coating, or U.S. Pat. 2, 681, 294 can be applied by an extrusion coating method using a hopper described in the specification.

(帯電防止層)
帯電防止加工とは、樹脂フィルムの取扱の際に、この樹脂フィルムが帯電するのを防ぐ機能を付与するものであり、具体的には、イオン導電性物質や導電性微粒子を含有する層を設けることによって行う。ここでイオン導電性物質とは電気伝導性を示し、電気を運ぶ担体であるイオンを含有する物質のことであるが、例としてはイオン性高分子化合物を挙げることができる。
(Antistatic layer)
Antistatic processing is a function to prevent the resin film from being charged when the resin film is handled. Specifically, a layer containing an ion conductive substance or conductive fine particles is provided. By doing. Here, the ion conductive substance is a substance that shows electric conductivity and contains ions that are carriers for carrying electricity, and examples include ionic polymer compounds.

イオン性高分子化合物としては、特公昭49−23828号、特公昭49−23827号、特公昭47−28937号に見られるようなアニオン性高分子化合物;特公昭55−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−14735号、特公昭57−18175号、特公昭57−18176号、特公昭57−56059号などに見られるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー;特公昭53−13223号、特公昭57−15376号、特公昭53−45231号、特公昭55−145783号、特公昭55−65950号、特公昭55−67746号、特公昭57−11342号、特公昭57−19735号、特公昭58−56858号、特開昭61−27853号、特公昭62−9346号に見られるような、側鎖中にカチオン性解離基を持つカチオン性ペンダント型ポリマー;等を挙げることができる。   Examples of the ionic polymer compound include anionic polymer compounds such as those described in JP-B-49-23828, JP-B-49-23827, and JP-B-47-28937; JP-B-55-734, JP-A-50 Ionene type polymers having a dissociating group in the main chain as seen in JP-B-54672, JP-B-59-14735, JP-B-57-18175, JP-B-57-18176, JP-B-57-56059, etc .; JP-B 53-13223, JP-B 57-15376, JP-B 53-45231, JP-B 55-145783, JP-B 55-65950, JP-B 55-67746, JP-B 57-11342, Side chains as seen in JP-B-57-19735, JP-B-58-56858, JP-A-61-27853, JP-B-62-9346 And the like can be given; cationic pendant polymer having a cationic dissociative group.

これらのうち、好ましくは導電性物質が微粒子状をしており、上記樹脂中にこれらを微分散し添加したものであって、これらに用いられる好ましい導電性物質として、金属酸化物やこれらの複合酸化物からなる導電性微粒子及び特開平9−203810号に記載されているようなアイオネン導電性ポリマー或いは分子間架橋を有する第4級アンモニウムカチオン導電性ポリマー粒子などを含有することが望ましい。好ましい粒径としては5nm〜10μmの範囲であり、更に好ましい範囲は用いられる微粒子の種類に依存する。   Of these, the conductive material is preferably in the form of fine particles, and these are finely dispersed and added to the resin. As a preferable conductive material used in these, a metal oxide or a composite thereof can be used. It is desirable to contain conductive fine particles made of oxides, ionene conductive polymers as described in JP-A-9-203810, quaternary ammonium cation conductive polymer particles having intermolecular crosslinking, and the like. The preferred particle size is in the range of 5 nm to 10 μm, and the more preferred range depends on the type of fine particles used.

導電性微粒子である金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V25等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、又SnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜25mol%の範囲が好ましいが、0.1〜15mol%の範囲が特に好ましい。 Examples of metal oxides that are conductive fine particles include ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5, etc. Complex oxides are preferred, and ZnO, TiO 2 and SnO 2 are particularly preferred. Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al, In, etc. to ZnO, addition of Nb, Ta, etc. to TiO 2 , and addition of Sb, Nb, halogen elements, etc. to SnO 2 . Addition is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 25 mol%, particularly preferably in the range of 0.1 to 15 mol%.

また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ωcm以下、特に105Ωcm以下であって、1次粒子径が100Å以上0.2μm以下で、高次構造の長径が30nm以上6μm以下である特定の構造を有する粉体を、導電層に体積分率で0.01%以上20%以下含んでいることが好ましい。 These metal oxide powders having electrical conductivity have a volume resistivity of 10 7 Ωcm or less, particularly 10 5 Ωcm or less, a primary particle diameter of 100 to 0.2 μm, and a high-order structure. It is preferable that the conductive layer contains a powder having a specific structure having a major axis of 30 nm or more and 6 μm or less in a volume fraction of 0.01% or more and 20% or less.

分散性粒状ポリマーとしての架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴は、粒子内のカチオン成分を高濃度、高密度に持たせることができるため、優れた導電性を有しているばかりでなく、低相対湿度下においても導電性の劣化は見られず、粒子同志も分散状態ではよく分散されているにもかかわらず、塗布後造膜過程において粒子同志の接着性もよいため膜強度も強く、又他の物質例えば支持体にも優れた接着性を有し、耐薬品性に優れている。
帯電防止層に用いられるこれら架橋型のカチオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一般に約10nm〜1000nmの粒子サイズ範囲にあり、好ましくは0nm〜300nmの範囲の粒子サイズが用いられる。ここで用いる分散性粒状性ポリマーとは、視覚的観察によって透明又はわずかに濁った溶液に見えるが、電子顕微鏡の下では粒状分散物として見えるポリマーである。下層塗布組成物に上層の膜厚に相当する粒子径よりも大きなゴミ(異物)が実質的に含まれない塗布組成物を用いることによって、上層の異物故障を防止することができる。
The cross-linked cationic conductive polymer as a dispersible granular polymer is characterized by having a high concentration and high density of the cationic component in the particles, so that it has not only excellent conductivity but also low conductivity. Even when the relative humidity is low, the conductivity is not deteriorated and the particles are well dispersed in the dispersed state. It has excellent adhesion to other substances such as supports, and has excellent chemical resistance.
These cross-linked cationic conductive polymers used in the antistatic layer are generally in the particle size range of about 10 nm to 1000 nm, and preferably in the range of 0 nm to 300 nm. As used herein, a dispersible particulate polymer is a polymer that appears as a transparent or slightly turbid solution by visual observation, but appears as a particulate dispersion under an electron microscope. By using a coating composition that does not substantially contain dust (foreign matter) larger than the particle diameter corresponding to the film thickness of the upper layer in the lower layer coating composition, failure of foreign matter in the upper layer can be prevented.

該微粒子と樹脂の比率は微粒子1質量部に対して、樹脂0.5〜4質量部が密着性の点で好ましく、特に紫外線照射後の密着性では微粒子1質量部に対して、樹脂が1〜2質量部であることが好ましい。更にまた、有機電子導電性有機化合物も利用できる。例えば、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリフォスファゼンなどである。これらは、酸供与材としてポリスチレンスルフォン酸、過塩素酸などとのコンプレックスで好ましく用いられる。   The ratio of the fine particles to the resin is preferably 0.5 to 4 parts by mass of the resin with respect to 1 part by mass of the fine particles, and particularly the adhesion after ultraviolet irradiation is 1 to 1 part by mass of the fine particles with respect to 1 part by mass of the resin. It is preferable that it is -2 mass parts. Furthermore, organic electronically conductive organic compounds can also be used. For example, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, polyphosphazene and the like. These are preferably used in a complex with polystyrene sulfonic acid, perchloric acid or the like as an acid donor.

ここで使用される樹脂は、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、又はセルロースナイトレート等のセルロース誘導体、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、又はコポリブチレン/テレ/イソフタレート等のポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、又はポリビニルベンザール等のポリビニルアルコール誘導体、ノルボルネン化合物を含有するノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂もしくはアクリル樹脂とその他樹脂との共重合体を用いることが出来るが特にこれらに限定されるものではない。この中でセルロース誘導体或いはアクリル樹脂が好ましく、更にアクリル樹脂が最も好ましく用いられる。   The resin used here is, for example, cellulose derivatives such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, or cellulose nitrate, polyvinyl acetate, polystyrene, polycarbonate, polybutylene terephthalate, or copolybutylene / terephthalate. / Polyesters such as isophthalate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol derivatives such as polyvinyl benzal, norbornene polymers containing norbornene compounds, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polypropylyl methacrylate, Acrylics such as polybutyl methacrylate and polymethyl acrylate It can be used a copolymer of fat or acrylic resin and other resins but not particularly limited thereto. Among these, a cellulose derivative or an acrylic resin is preferable, and an acrylic resin is most preferably used.

帯電防止層等の樹脂層に用いられる樹脂としては、重量平均分子量が40万を超え、ガラス転移点が80〜110℃である前述の熱可塑性樹脂が光学特性及び塗布層の面品質の点で好ましい。   As the resin used for the resin layer such as the antistatic layer, the above-mentioned thermoplastic resin having a weight average molecular weight exceeding 400,000 and a glass transition point of 80 to 110 ° C. is in terms of optical characteristics and surface quality of the coating layer. preferable.

ガラス転移点はJIS K7121(2000年度版)に記載の方法にて求めることができる。ここで使用する樹脂は下層で使用している樹脂全体の60質量%以上、更に好ましくは80質量%以上であることが好ましく、必要に応じて活性線硬化性樹脂或いは熱硬化樹脂を添加することもできる。これらの樹脂はバインダーとして前述の適当な溶剤に溶解した状態で塗設される。   The glass transition point can be determined by the method described in JIS K7121 (2000 version). The resin used here is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the entire resin used in the lower layer, and an actinic ray curable resin or thermosetting resin is added as necessary. You can also. These resins are coated as a binder in a state dissolved in the above-mentioned appropriate solvent.

帯電防止層を塗設するための塗布組成物には、次の溶剤が好ましく用いられる。溶剤としては、炭化水素、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒を適宜混合して使用することができるが特にこれらに限定されるものではない。
これらの溶媒のうち、沸点が低い溶媒は蒸発によって空気中の水分を結露させやすく、調液工程、塗布工程にて塗布組成物中に水分を取り込みやすい。特に、降雨時には外部の湿度上昇の影響を受けやすく、湿度65%RH以上の環境ではその影響が顕著となってくる。特に調液工程で樹脂の溶解時間が長時間となったり、塗布工程で塗布組成物が空気に暴露されている時間が長くなったり、塗布組成物と空気との接触面積が広い場合はその影響は大きくなる。
In the coating composition for coating the antistatic layer, the following solvents are preferably used. As the solvent, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other solvents can be used by appropriately mixing them, but are not particularly limited thereto.
Among these solvents, a solvent having a low boiling point is likely to condense moisture in the air by evaporation, and easily incorporates moisture into the coating composition in the liquid preparation step and the coating step. In particular, it is easily affected by an increase in external humidity during rainfall, and the influence becomes prominent in an environment where the humidity is 65% RH or higher. Especially when the dissolution time of the resin is long in the liquid preparation process, the time that the coating composition is exposed to air in the coating process is long, or the contact area between the coating composition and air is large. Becomes bigger.

上記炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げられ、アルコール類としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エステル類としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル等が挙げられ、グリコールエーテル(C1〜C4)類としては、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、又はプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル類としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、その他の溶媒として、N−メチルピロリドンなどが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒も好ましく用いられる。   Examples of the hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane and the like, and examples of alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butanol, 2-butanol, tert- Examples include butanol, pentanol, 2-methyl-2-butanol, and cyclohexanol. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of esters include methyl formate, ethyl formate, Examples thereof include methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and methyl lactate. Examples of glycol ethers (C1 to C4) include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ester. As propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether esters, propylene glycol monomethyl Examples of ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and other solvents include N-methylpyrrolidone. Although not particularly limited to these, a solvent in which these are appropriately mixed is also preferably used.

本技術における塗布組成物を塗布する方法は、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ロールコート、グラビアコート、ワイヤーバーコート、リバースコート、カーテンコート、押し出しコート或いは米国特許第2,681,294号に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート方法等により0.1〜10μmの乾燥膜厚となるように塗布することが出来る。好ましくは通常0.1〜1μmの乾燥膜厚となるように塗布される。   The method for applying the coating composition in the present technology is doctor coat, extrusion coat, slide coat, roll coat, gravure coat, wire bar coat, reverse coat, curtain coat, extrusion coat, or U.S. Pat. No. 2,681,294. It can apply | coat so that it may become a dry film thickness of 0.1-10 micrometers by the extrusion coating method etc. which use the hopper as described in above. Preferably, it is applied so as to obtain a dry film thickness of usually 0.1 to 1 μm.

(滑り層)
本技術のフィルムには、滑り層を設置してもよい。滑り層には、機能層の透明性などを実質的に損なわない程度に無機又は、有機の微粒子をマット剤として含有させることができる。無機の微粒子のマット剤としては二酸化ケイ素(SiO2),二酸化チタン(TiO2),炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどを使用することができる。有機の微粒子マット剤としては、ポリメチルメタクリレ−ト、セルロ−スアセテ−トプロピオネ−ト、ポリスチレン、米国特許第4、142、894号に記載されている処理液可溶性のもの、米国特許第4、396、706号に記載されているポリマ−などを用いることができる。これらの微粒子マット剤の平均粒径は0.01〜10μmのものが好ましい。より好ましくは、0.05〜5μmである。また、その含有量は0.5〜600mg/m2が好ましく、更に好ましくは、1〜400mg/m2である。
下塗液は、一般に良く知られた塗布方法、例えばディップコート法、エア−ナイフコート法、カ−テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第2、681、294号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法により塗布することができる。
(Sliding layer)
A sliding layer may be placed on the film of the present technology. The sliding layer can contain inorganic or organic fine particles as a matting agent to such an extent that the transparency of the functional layer is not substantially impaired. Silicon dioxide (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), calcium carbonate, magnesium carbonate and the like can be used as the inorganic fine particle matting agent. Examples of the organic fine-particle matting agent include polymethyl methacrylate, cellulose acetate propionate, polystyrene, a treatment solution-soluble one described in US Pat. No. 4,142,894, US Pat. Polymers described in 396 and 706 can be used. These fine particle matting agents preferably have an average particle size of 0.01 to 10 μm. More preferably, it is 0.05-5 micrometers. Further, the content thereof is preferably 0.5~600mg / m 2, is more preferably from 1 to 400 mg / m 2.
The undercoating liquid may be a well-known coating method such as dip coating, air-knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, slide coating, or U.S. Pat. 2, 681, 294 can be applied by an extrusion coating method using a hopper described in the specification.

(白色反射層)
本発明の画像表示装置では、酸化チタン等を含む白色反射層を支持体に設けてもよい。 なお、支持体において説明したように、光反射性を有する白色の支持体を用いることができる。この場合には、支持体として酸化チタン、酸化亜鉛などの無機顔料を添加したプラスチック基板を用いることもできる。
(White reflective layer)
In the image display device of the present invention, a white reflective layer containing titanium oxide or the like may be provided on the support. In addition, as described in the support, a white support having light reflectivity can be used. In this case, a plastic substrate to which an inorganic pigment such as titanium oxide or zinc oxide is added as a support can also be used.

(プライマー層、他の無機薄膜層)
本発明の素子では、公知のプライマー層又は無機薄膜層を設置してもよい。
プライマー層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を好ましく用いることでき、特に、有機無機ハイブリッド層、又は、無機蒸着層若しくはゾル−ゲル法による緻密な無機コーティング薄膜がより好ましい。無機蒸着層としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ等の蒸着層が好ましい。無機蒸着層は真空蒸着法、スパッタリング法等により形成することができる。
(Primer layer, other inorganic thin film layer)
In the element of the present invention, a known primer layer or inorganic thin film layer may be provided.
As the primer layer, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicone resin, or the like can be preferably used. In particular, an organic-inorganic hybrid layer, or an inorganic vapor deposition layer or a dense inorganic coating thin film by a sol-gel method is more preferable. . As an inorganic vapor deposition layer, vapor deposition layers, such as a silica, a zirconia, an alumina, are preferable. The inorganic vapor deposition layer can be formed by a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or the like.

<光書込み表示素子>
以下、本発明に係る光書込み表示素子の好適な実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明に係る光書込み表示素子を表す概略断面図である。図1で示す本実施形態による光書込み表示素子は、フォトクロミック層5と、支持体4と、支持体7とを有する。支持体4及び支持体7にはそれぞれバリア層と有機層とが積層し、支持体4にはバリア層1、有機層2、及びバリア層3が積層してなり、支持体7にはバリア層8、有機層9、及びバリア層10が積層してなる。
<Optical writing display element>
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of an optical writing display element according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an optical writing display device according to the present invention. The optical writing display element according to the present embodiment shown in FIG. 1 includes a photochromic layer 5, a support 4, and a support 7. A barrier layer and an organic layer are laminated on the support 4 and the support 7, respectively, and a barrier layer 1, an organic layer 2 and a barrier layer 3 are laminated on the support 4, and the support 7 has a barrier layer. 8, the organic layer 9, and the barrier layer 10 are laminated | stacked.

この実施形態によるフォトクロミック層5には、それぞれ色の三原色である黄色(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)を発色する三種のフォトクロミック色素が存在する。なお、この実施形態では、明るいフルカラー表示のための構成とするが、本発明に係る光書込み表示素子は、YMC以外の任意の色を発色する表示体を用いるものであってもよい。   In the photochromic layer 5 according to this embodiment, there are three types of photochromic dyes that develop yellow (Y), magenta (M), and cyan (C), which are the three primary colors. In this embodiment, a configuration for bright full-color display is used. However, the optical writing display element according to the present invention may use a display body that develops an arbitrary color other than YMC.

また、一方の支持体7とフォトクロミック層5との間には、白色反射層6が敷設されている。   A white reflective layer 6 is laid between the one support 7 and the photochromic layer 5.

更に、図示しないが下塗り層を、支持体4とバリア層3の間、支持体7とバリア層8の間に設けることも好適である。
帯電防止層は、バリア層1の上部に設けることが好ましい。
滑り層は、バリア層10の下部に設けることが好ましい。
Further, although not shown, it is also preferable to provide an undercoat layer between the support 4 and the barrier layer 3 and between the support 7 and the barrier layer 8.
The antistatic layer is preferably provided on the barrier layer 1.
The sliding layer is preferably provided below the barrier layer 10.

本発明の好ましい表示方法としては、紫外域の光を図1の上側から照射させて、フォトクロミック色素を全面的に発色させる工程、つぎに、可視域の光を図1の上側から所望のパターン(光を二次元分布で照射することで画像が形成できる。)となるように照射させる工程を経ることが好ましい。   As a preferable display method of the present invention, a step of irradiating ultraviolet light from the upper side of FIG. 1 to completely develop the photochromic dye, and then a visible light from the upper side of FIG. An image can be formed by irradiating light with a two-dimensional distribution.

また、この3波長の書込み光による書込みでは、画像形成手段として光強度に対応させて着色濃度を制御する、あるいは一定強度の光を照射し、その時間に対応させて着色濃度を制御してもよい。   Further, in writing with this three-wavelength writing light, the coloring density is controlled as an image forming means corresponding to the light intensity, or the coloring density is controlled corresponding to the time by irradiating with light of a certain intensity. Good.

書き込み光に用いられる光源は、いかなるものであってよく、紫外光の光源としてはメタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、赤外半導体SHGレーザー、あるいはキセノンランプと光学フィルターの組合せなどが利用できる。可視域光の光源としては、白色光源と光学フィルターの組合せ、LED、LDなどが利用できる。   Any light source may be used for the writing light, and a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, an infrared semiconductor SHG laser, or a combination of a xenon lamp and an optical filter can be used as an ultraviolet light source. . As a light source for visible light, a combination of a white light source and an optical filter, an LED, an LD, or the like can be used.

本発明の表示素子は、書換え可能な表示媒体としてポイントカード、一時的にだけ用いる資料、画像を表示する媒体として好適に利用することができる。   The display element of the present invention can be suitably used as a point card as a rewritable display medium, a material used only temporarily, and a medium for displaying an image.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

[実施例1]
<1.プラスチック基板の作製>
特開2000−105445号公報の実施例1の試料101の作製と同様に、PEN(Dupont−Teijin Q65A)を作製した。但し、染料は添加しなかった。
すなわち、ポリエチレン−2,6−ナフタレートポリマー100重量部と紫外線吸収剤としてTinuvin P.326(チバ・ガイギーCiba−Geigy社製)2重量部とを乾燥した後、300℃にて溶融後、T型ダイから押し出し、140℃で3.3倍の縦延伸を行ない、続いて、130℃で3.3倍の横延伸を行い、さらに250℃で6秒間熱固定して厚さ90μmのプラスチック基板(PEN)101を得た。
[Example 1]
<1. Fabrication of plastic substrate>
A PEN (Dupont-Teijin Q65A) was produced in the same manner as the production of the sample 101 of Example 1 of JP-A-2000-105445. However, no dye was added.
That is, 100 parts by weight of polyethylene-2,6-naphthalate polymer and Tinuvin P.I. 326 (manufactured by Ciba-Geigy Ciba-Geigy) was dried, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and stretched 3.3 times at 140 ° C., followed by 130 The film was stretched by 3.3 times at 0 ° C., and further heat fixed at 250 ° C. for 6 seconds to obtain a plastic substrate (PEN) 101 having a thickness of 90 μm.

<2.機能性層の設置>
(下塗り層の塗設)
上記支持体の両面にコロナ放電処理、UV照射処理、さらにグロー放電処理をした後、一方の面にゼラチン0.1g/m2、ソジウムα−スルホジ−2−エチルヘキシルサクシネート0.01g/m2、サリチル酸0.04g/m2、p−クロロフェノール0.2g/m2、(CH2=CHSO2CH2CH2NHCO)2CH20.012g/m2、ポリアミド−エピクロロヒドリン重縮合物0.02g/m2の下塗液を塗布して(10mL/m2、バーコーター使用)、下塗り層2を設けた。
その後、115℃、6分間、乾燥を行った。なお、乾燥ゾーンのローラーや搬送装置は、すべて115℃となるようにして実施した。得られた下塗り層102の膜厚は、0.5μmであった。
<2. Installation of functional layer>
(Coating undercoat layer)
After the corona discharge treatment, UV irradiation treatment, and glow discharge treatment were performed on both sides of the above support, gelatin 0.1 g / m 2 and sodium α-sulfodi-2-ethylhexyl succinate 0.01 g / m 2 on one side , Salicylic acid 0.04 g / m 2 , p-chlorophenol 0.2 g / m 2 , (CH 2 ═CHSO 2 CH 2 CH 2 NHCO) 2 CH 2 0.012 g / m 2 , polyamide-epichlorohydrin polycondensation An undercoat solution of 0.02 g / m 2 was applied (10 mL / m 2 , using a bar coater), and an undercoat layer 2 was provided.
Thereafter, drying was performed at 115 ° C. for 6 minutes. The rollers and the conveying device in the drying zone were all set to 115 ° C. The thickness of the obtained undercoat layer 102 was 0.5 μm.

(バック層(帯電防止層及び滑り層)の塗設)
下塗を行った上記支持体の一方の面に、バック層として下記組成の帯電防止層、さらに滑り層を塗設した。
(Coating of back layer (antistatic layer and sliding layer))
An antistatic layer having the following composition and a sliding layer were coated as a back layer on one surface of the above-coated support.

(帯電防止層の塗設)
平均粒径0.005μmの酸化スズ−酸化アンチモン複合物の比抵抗5Ω・cmの微粒子粉末の分散物(2次凝集粒子径約0.08μm)を0.2g/m2、ゼラチン0.05g/m2、(CH2=CHSO2CH2CH2NHCO)2CH20.02g/m2、ポリオキシエチレン−p−ノニルフェノール(重合度10)0.005g/m2及びレゾルシン0.22g/m2とともに塗布し、帯電防止層103を作製した。帯電防止層103の膜厚は、1.0μmであった。
(Coating of antistatic layer)
A dispersion of fine particle powder (secondary agglomerated particle diameter of about 0.08 μm) of a tin oxide-antimony oxide composite having an average particle diameter of 0.005 μm with a specific resistance of 5 Ω · cm is 0.2 g / m 2 and gelatin is 0.05 g / m 2 , (CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 NHCO) 2 CH 2 0.02 g / m 2 , polyoxyethylene-p-nonylphenol (degree of polymerization 10) 0.005 g / m 2 and resorcin 0.22 g / m 2 was applied to prepare an antistatic layer 103. The film thickness of the antistatic layer 103 was 1.0 μm.

(滑り層の調製)
ジアセチルセルロース(25mg/m2)、C613CH(OH)C1020COOC4081(6mg/m2)/C50101O(CH2CH2O)16H(9mg/m2)混合物を塗布し、滑り層104を作製した。なお、この混合物は、キシレン/プロピレングリコールモノメチルエーテル(1/1)中、105℃で溶融し、常温のプロピレングリコールモノメチルエーテル(10倍量)に注加分散して作製した後、アセトン中で分散物(平均粒径0.01μm)にしてから添加した。マット剤として二酸化ケイ素粒子(0.3μm)を15mg/m2となるように添加した。乾燥は115℃、6分行なった。なお、乾燥ゾーンのローラーや搬送装置は、すべて115℃となるようにして実施した。
滑り層4は、動摩擦係数0.06(5mmφのステンレス硬球、荷重100g、スピード6cm/分)、静摩擦係数0.07(クリップ法)であった。また表示面と滑り層の動摩擦係数も0.12と優れた特性であった。滑り層104の膜厚は、1.0μmであった。
(Preparation of sliding layer)
Diacetylcellulose (25 mg / m 2 ), C 6 H 13 CH (OH) C 10 H 20 COOC 40 H 81 (6 mg / m 2 ) / C 50 H 101 O (CH 2 CH 2 O) 16 H (9 mg / m 2 ) The mixture was applied to produce the sliding layer 104. This mixture was prepared by melting at 105 ° C. in xylene / propylene glycol monomethyl ether (1/1), pouring and dispersing in normal temperature propylene glycol monomethyl ether (10 times amount), and then dispersing in acetone. The product (average particle size 0.01 μm) was added. Silicon dioxide particles (0.3 μm) were added as a matting agent so as to be 15 mg / m 2 . Drying was performed at 115 ° C. for 6 minutes. The rollers and the conveying device in the drying zone were all set to 115 ° C.
The sliding layer 4 had a dynamic friction coefficient of 0.06 (5 mmφ stainless hard ball, load of 100 g, speed of 6 cm / min) and static friction coefficient of 0.07 (clip method). The dynamic friction coefficient between the display surface and the sliding layer was also excellent at 0.12. The thickness of the sliding layer 104 was 1.0 μm.

更に、滑り層104の上にハードコート層105を特開平6−123806号公報に記載の方法にて設置した。ハードコート層105の膜厚は、1.0μmであった。   Further, a hard coat layer 105 was placed on the sliding layer 104 by the method described in JP-A-6-123806. The film thickness of the hard coat layer 105 was 1.0 μm.

<3.バリア層(無機層)の設置>
上記2にて作製した、機能性層が設けられた支持体を用いて、以下の工程で処理を行った。
ロールトゥーロール方式のスパッタリング装置を用いた。この装置は真空槽を有しており、その中央部にはプラスチックフィルムを表面に接触させて冷却するためのドラムが配置されている。また、上記真空槽にはプラスチックフィルムを巻くための送り出しロール及び巻き取りロールが配置されている。送り出しロールに巻かれたプラスチックフィルムはガイドロールを介してドラムに巻かれ、さらにプラスチックフィルムはガイドロールを介してロールに巻かれる。真空排気系としては排気口から真空ポンプによって真空槽内の排気が常に行われている。成膜系としてはパルス電力を印加できる直流方式の放電電源に接続されたカソード上にターゲットが装着されている。この放電電源は制御器に接続され、さらにこの制御器は真空槽へ配管を介して反応ガス導入量を調整しつつ供給するガス流量調整ユニットに接続されている。また、真空槽には一定流量の放電ガスが供給されるよう構成されている。
以下、具体的な条件を示す。
<3. Installation of barrier layer (inorganic layer)>
Using the support provided with the functional layer prepared in 2 above, the treatment was performed in the following steps.
A roll-to-roll type sputtering apparatus was used. This apparatus has a vacuum chamber, and a drum for cooling the plastic film in contact with the surface is disposed at the center thereof. The vacuum tank is provided with a feed roll and a take-up roll for winding a plastic film. The plastic film wound on the feed roll is wound on the drum via the guide roll, and the plastic film is further wound on the roll via the guide roll. As a vacuum exhaust system, the vacuum chamber is always exhausted from the exhaust port by a vacuum pump. As a film forming system, a target is mounted on a cathode connected to a direct current type discharge power source to which pulse power can be applied. The discharge power source is connected to a controller, and the controller is further connected to a gas flow rate adjusting unit that supplies the vacuum tank with a reaction gas introduction amount adjusted through a pipe. The vacuum chamber is configured to be supplied with a constant flow rate of discharge gas.
Specific conditions are shown below.

ターゲットとしてSiをセットし、放電電源としてパルス印加方式の直流電源を用意した。プラスチックフィルムとして厚さ100μmの上記機能性層が設けられた支持体を用意し、この支持体の機能層が設けられた面側に、機能層の上にスパッタリングされるよう、これを送り出しロールに掛け、巻き取りロールまで通した。
スパッタリング装置への基材の準備が終了後、真空槽の扉を閉めて真空ポンプを起動し、真空引きとドラムの冷却を開始した。到達圧力が4×10-4Pa、ドラム温度が5℃になったところで、前記支持体(プラスチックフィルム)の走行を開始した。放電ガスとしてアルゴンを導入して放電電源をONし、放電電力5kW、成膜圧力0.3PaでSiターゲット上にプラズマを発生させ、3分間プレスパッタを行った。この後、反応ガスとして酸素を導入した。放電が安定してからアルゴン及び酸素ガス量を徐々に減らして成膜圧力を0.1Paまで下げた。0.1Paでの放電の安定を確認してから、一定時間酸化ケイ素(SiO2)の成膜を行い、バリア層106を作製した。成膜終了後、真空槽を大気圧に戻して、バリア層と機能性層とが設けられた支持体を取り出した。得られたバリア層106は、0.1μmであった。
Si was set as a target, and a pulse application type DC power source was prepared as a discharge power source. A support body provided with the functional layer having a thickness of 100 μm as a plastic film is prepared, and this is applied to the delivery roll so that the support layer is sputtered onto the functional layer on the surface side. It was hung and passed to the take-up roll.
After completing the preparation of the substrate to the sputtering apparatus, the vacuum chamber door was closed and the vacuum pump was started to start vacuuming and cooling the drum. When the ultimate pressure reached 4 × 10 −4 Pa and the drum temperature reached 5 ° C., the support (plastic film) started to run. Argon was introduced as a discharge gas, the discharge power source was turned on, plasma was generated on the Si target at a discharge power of 5 kW and a film formation pressure of 0.3 Pa, and pre-sputtering was performed for 3 minutes. Thereafter, oxygen was introduced as a reaction gas. After the discharge was stabilized, the amounts of argon and oxygen gas were gradually reduced to lower the film forming pressure to 0.1 Pa. After confirming the stability of the discharge at 0.1 Pa, silicon oxide (SiO 2 ) was deposited for a certain period of time to produce the barrier layer 106. After completion of the film formation, the vacuum chamber was returned to atmospheric pressure, and the support provided with the barrier layer and the functional layer was taken out. The obtained barrier layer 106 was 0.1 μm.

<4.有機層の設置>
ついで、(1)テトラエチレングリコールジアクリレート、(2)カプロラクトンアクリレート、(3)トリプロピレングリコールモノアクリレートを重量比=7:1.2:1.4で混合した溶液に、ラジカル開始剤(イルガキュアー651:チバガイギー社製)を1質量%添加し溶剤に溶かして、0.1mm厚の上記バリア層(無機層)を設けた表面に、塗布乾燥した後、UV照射により、硬化させ、厚さ約1μmの有機層を作製した。得られた有機層107は、1.0μmであった。
<4. Installation of organic layer>
Next, a radical initiator (Irgacure was added to a solution in which (1) tetraethylene glycol diacrylate, (2) caprolactone acrylate, and (3) tripropylene glycol monoacrylate were mixed at a weight ratio of 7: 1.2: 1.4. 651: manufactured by Ciba Geigy Co.) was dissolved in a solvent, applied to the surface provided with the 0.1 mm-thick barrier layer (inorganic layer), dried and then cured by UV irradiation to obtain a thickness of about A 1 μm organic layer was prepared. The obtained organic layer 107 was 1.0 μm.

(バリア層・有機層の積層)
上記3,4の操作を繰り返し、支持体の機能性層が設けられていない面側に、支持体からバリア層106、有機層107、バリア層108の順に積層した積層体をPENフイルム上に作製した。該積層体の厚みは、5μmであった。
(Lamination of barrier layer and organic layer)
The above steps 3 and 4 are repeated, and a laminated body in which the barrier layer 106, the organic layer 107, and the barrier layer 108 are laminated in this order on the surface of the support on which the functional layer is not provided is formed on the PEN film. did. The thickness of the laminate was 5 μm.

(白色反射層)
表面処理により表面活性をなくした酸化チタンからなる白色顔料を5質量%のカルボキシセルロースとともに分散して白色反射層塗布液を調整した。この塗布液を上記支持体のバリア層が付設されていない面に塗布し、白色反射層120を作製した。
(White reflective layer)
A white pigment made of titanium oxide whose surface activity was eliminated by surface treatment was dispersed together with 5% by mass of carboxycellulose to prepare a white reflective layer coating solution. This coating solution was applied to the surface of the support on which the barrier layer was not provided to produce a white reflective layer 120.

<5.フォトクロミック層の作製>
本発明に用いられる前記フォトクロミック色素の具体例化合物No.(1−9)、(1−10)は文献記載の方法に従い合成した(Chem.Rev.,第100巻,第1685頁,2000年)。フォトクロミック色素No.(1−3)は東京化成より購入した。
フォトクロミック色素No.(1−3)、(1−9)、(1−10)各々0.2gを、ポリビニルブチラール2gをシクロヘキサン/酢酸エチル=50/50の混合溶媒20mlに溶解した。該溶液を、上記バリア層付きPENフイルム上、バリア層が付設されていない側に、乾燥膜厚14μmとなるように塗設し、フォトクロミック層109の作製を行った。
<5. Preparation of photochromic layer>
Specific examples of the photochromic dye used in the present invention include compound No. (1-9) and (1-10) were synthesized according to the method described in the literature (Chem. Rev., 100, 1685, 2000). Photochromic dye no. (1-3) was purchased from Tokyo Kasei.
Photochromic dye no. (1-3), (1-9), (1-10) 0.2 g each and polyvinyl butyral 2 g were dissolved in 20 ml of a mixed solvent of cyclohexane / ethyl acetate = 50/50. The solution was applied on the PEN film with the barrier layer on the side where the barrier layer was not provided so as to have a dry film thickness of 14 μm, and the photochromic layer 109 was prepared.

<6.フォトクロミック素子の作製>
別途、上記1〜4の操作を行い、支持体111から順に、下塗り層112、帯電防止層113、滑り層114、ハードコート層115、バリア層116、有機層117、バリア層118を備えるPENフィルムを作製した。
このPENフィルムと、5.で作製したフォトクロミック層と積層体とを有するPENフィルムを、フォトクロミック層を挟むように貼りあわせ、本発明のフォトクロミック素子を作製した。得られたフォトクロミック素子の概略断面図を図2に示す。
<6. Production of photochromic element>
Separately, the PEN film including the undercoat layer 112, the antistatic layer 113, the sliding layer 114, the hard coat layer 115, the barrier layer 116, the organic layer 117, and the barrier layer 118 is sequentially performed from the support 111. Was made.
4. this PEN film; The PEN film having the photochromic layer and the laminate produced in step 1 was bonded so as to sandwich the photochromic layer, thereby producing the photochromic element of the present invention. A schematic cross-sectional view of the obtained photochromic element is shown in FIG.

(画像書込みと消去)
この表示装置について、25℃においてUV光(ウシオ製、UV照射装置スポットキュア)を1分間照射したところ、全面が黒色に発色した。次に、カラーフィルターと白色光(キセノンランプ)を組み合わせて露光したところ、照射された光の波長に応じて消色反応が進行し、所望のパターンのフルカラー画像が形成された。
以下、同様の操作を繰り返して、発色−消色のサイクルを1000回繰り返したところ、発色時の色の濃さ、消色時の透明度もほとんど変わらなかった。
(Image writing and erasing)
When this display device was irradiated with UV light (manufactured by Ushio, UV irradiator spot cure) at 25 ° C. for 1 minute, the entire surface was colored black. Next, when the color filter and white light (xenon lamp) were used for exposure, the decolorization reaction proceeded according to the wavelength of the irradiated light, and a full-color image having a desired pattern was formed.
Thereafter, the same operation was repeated and the coloring / decoloring cycle was repeated 1000 times. As a result, the color density during color development and the transparency during color erasing were hardly changed.

[実施例2]
実施例1において、バリア層に酸化珪素(SiO2)を用いたところを、SiOx(x=1.7)に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、実施例2の表示素子を作製した。
実施例2の表示素子について、発色−消色のサイクルを1200回繰り返しても、発色時の色の濃さ、消色時の透明度もほとんど変わらなかった。
[Example 2]
In Example 1, the same operation as that in Example 1 was performed except that silicon oxide (SiO 2 ) was used as the barrier layer in place of SiOx (x = 1.7). Was made.
With respect to the display element of Example 2, even when the coloring / decoloring cycle was repeated 1200 times, the color strength during color development and the transparency during color erasing were hardly changed.

[実施例3]
実施例1において、バリア層に酸化珪素(SiO2)を用いたところを、SiOxNy(x=0.6,y=1.0)に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、実施例2の表示素子を作製した。
実施例2の表示素子について、発色−消色のサイクルを1200回繰り返しても、発色時の色の濃さ、消色時の透明度もほとんど変わらなかった。
[Example 3]
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that silicon oxide (SiO 2 ) was used for the barrier layer and changed to SiOxNy (x = 0.6, y = 1.0). A display element of Example 2 was produced.
With respect to the display element of Example 2, even when the coloring / decoloring cycle was repeated 1200 times, the color strength during color development and the transparency during color erasing were hardly changed.

[比較例1]
実施例1において、バリア層と有機層との積層体付きフイルムの代わりに、積層体が付設されていないフイルムを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較の表示素子を作製した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, instead of the film with the laminate of the barrier layer and the organic layer, the same operation as in Example 1 was performed except that the film without the laminate was used, and a comparative display element was obtained. Produced.

(画像書き込みと消去)
この表示装置について、発色−消色のサイクルを1000回繰り返したところ、発色時の色の濃さが徐々に低下し、消色時の透明度が徐々に低下することが目視にて確認された。
すなわち、バリア層と有機層とが積層された本発明の表示素子は、比較に表示素子に比べ、繰り返し時における安定性が高いことが確認された。
(Image writing and erasing)
With respect to this display device, when the color development / decoloration cycle was repeated 1000 times, it was visually confirmed that the color density during color development gradually decreased and the transparency during color erase gradually decreased.
That is, it was confirmed that the display element according to the present invention in which the barrier layer and the organic layer are laminated has higher stability when repeated than the display element.

[比較例2]
実施例1において、バリア層と有機層との積層体付きフイルムの代わりに、特開2004−198689号公報に記載のように、ポリビニルアルコール層を5μmコーティングしたフイルムを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較の表示素子を作製した。
[Comparative Example 2]
In Example 1, in place of the film with the laminate of the barrier layer and the organic layer, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-198689, except that a film in which a polyvinyl alcohol layer was coated with a thickness of 5 μm was used. The same operation as in No. 1 was performed to produce a comparative display element.

(画像書き込みと消去)
この表示装置について、発色−消色のサイクルを1000回繰り返したところ、発色時の色の濃さが徐々に低下し、消色時の透明度が徐々に低下することが目視にて確認された。
すなわち、バリア層と有機層とが積層された本発明の表示素子は、比較に表示素子に比べ、繰り返し時における安定性が高いことが確認された。
(Image writing and erasing)
With respect to this display device, when the color development / decoloration cycle was repeated 1000 times, it was visually confirmed that the color density during color development gradually decreased and the transparency during color erase gradually decreased.
That is, it was confirmed that the display element according to the present invention in which the barrier layer and the organic layer are laminated has higher stability when repeated than the display element.

本発明の光書込み表示素子の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the optical writing display element of this invention. 実施例の光書込み表示素子を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the optical writing display element of an Example.

符号の説明Explanation of symbols

1,3,8,10 バリア層
2,9 有機層
4,7 支持体
5 フォトクロミック層
6 白色反射層
101,111 支持体
102,112 下塗り層
103,113帯電防止層
104,114 滑り層
105,115 ハードコート層
106,108,116,118 バリア層
107,117 有機層
109 フォトクロミック層
120 白色反射層
1, 3, 8, 10 Barrier layer 2, 9 Organic layer 4, 7 Support 5 Photochromic layer 6 White reflective layer 101, 111 Support 102, 112 Undercoat layer 103, 113 Antistatic layer 104, 114 Sliding layer 105, 115 Hard coat layer 106, 108, 116, 118 Barrier layer 107, 117 Organic layer 109 Photochromic layer 120 White reflective layer

Claims (8)

支持体上に、バリア層と、有機層と、フォトクロミック色素を含む層と、を有し、前記バリア層と前記有機層とが、少なくとも1層ずつ交互に積層してなる光書込み表示素子。   An optical writing display device comprising a barrier layer, an organic layer, and a layer containing a photochromic dye on a support, wherein the barrier layer and the organic layer are alternately stacked. 2つの前記支持体の間にフォトクロミック色素を含む層を設けてなり、前記支持体において前記フォトクロミック色素を含む層を設けた面とは反対面側に、前記バリア層と前記有機層との積層体を設けてなることを特徴とする請求項1に記載の光書込み表示素子。   A layered product of the barrier layer and the organic layer on the side opposite to the surface of the support on which the layer containing the photochromic dye is provided, comprising a layer containing a photochromic dye between the two supports. The optical writing display element according to claim 1, wherein: 前記バリア層が、無機バリア層であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光書込み表示素子。   The optical writing display element according to claim 1, wherein the barrier layer is an inorganic barrier layer. 前記フォトクロミック色素を含む層が、異なる色に発色する複数のフォトクロミック色素を含むことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の光書込み表示素子。   The optical writing display element according to any one of claims 1 to 3, wherein the layer containing the photochromic dye includes a plurality of photochromic dyes that develop different colors. 前記フォトクロミック色素を含む層が、イエロー、マゼンタ及びシアンに発色するフォトクロミック色素を含むことを特徴とする請求項4に記載の光書込み表示素子。   The optical writing display element according to claim 4, wherein the layer containing the photochromic dye contains a photochromic dye that colors yellow, magenta, and cyan. 前記フォトクロミック色素が、フルギド誘導体又はジアリールエテン誘導体であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の光書込み表示素子。   The optical writing display element according to claim 1, wherein the photochromic dye is a fulgide derivative or a diarylethene derivative. 前記支持体がプラスチック基板であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の光書込み表示素子。   The optical writing display element according to claim 1, wherein the support is a plastic substrate. 請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の光書込み表示素子を用い、
紫外光の照射により発色させたのち、可視域の光を照射して、パターンを形成することを特徴とする光書込み表示方法。
Using the optical writing display element according to any one of claims 1 to 7,
An optical writing display method characterized in that a pattern is formed by irradiating light in a visible region after color is developed by irradiation with ultraviolet light.
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Cited By (4)

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