JP2006270671A - Method of manufacturing antenna pattern, and method of manufacturing rfid - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an antenna pattern with which characteristics of the antenna pattern can be accurately measured even if an aluminum layer is residual around the antenna pattern when forming the antenna pattern by means of etching. <P>SOLUTION: The manufacturing method of forming an antenna pattern 30 in a planar coil shape by etching a metal layer disposed on an insulating film includes: making an outer edge metal layer part 26 surrounding the antenna pattern 30 residual at the outer edge of the antenna pattern 30; and forming a dummy capacitor 60 capable of relaxing interference of the outer edge metal layer part 26 to a resonance circuit including the antenna pattern inside the outer edge metal layer part 26 or the antenna pattern 30 while connecting to the antenna pattern 30. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、本発明は、アンテナパターン、特にRFID用アンテナパターンの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an antenna pattern, particularly an RFID antenna pattern.

プラスチック等の基材の上にコイル状アンテナパターンを備え、このアンテナパターンと容量素子とにより共振回路を形成して一定周波数の電波を受信・送信できるように構成されたRFID(Radio Frequency Identification)が利用されている。
このRFIDのアンテナパターンは、特許文献1に開示されるように、基材上に積層したアルミニウム層上にレジストパターンを形成しエッチングする方法により製造されている。
RFID (Radio Frequency Identification) is equipped with a coiled antenna pattern on a base material such as plastic, and this antenna pattern and capacitive element form a resonant circuit to receive and transmit radio waves of a certain frequency. It's being used.
As disclosed in Patent Document 1, this RFID antenna pattern is manufactured by a method in which a resist pattern is formed on an aluminum layer laminated on a substrate and etched.

アンテナパターンを製造する際には、製造効率の向上、製品コストの抑制を図るため、同一工程で複数のアンテナパターンを製造することが望ましい。このため、大きな基材上に、複数のアンテナパターンを整列配置されるようにエッチングを施す方法が採られている。
更に、アンテナパターンの特性検査を行う際には、基材上に複数のアンテナパターンが形成された状態で順次又は同時に、検査を行う方法が採られている。
特開2000−132643号公報
When manufacturing an antenna pattern, it is desirable to manufacture a plurality of antenna patterns in the same process in order to improve manufacturing efficiency and reduce product cost. For this reason, a method is employed in which etching is performed so that a plurality of antenna patterns are aligned on a large substrate.
Further, when performing the antenna pattern characteristic inspection, a method is employed in which the inspection is performed sequentially or simultaneously with a plurality of antenna patterns formed on the substrate.
JP 2000-132634 A

ところで、更なる製品コストの抑制を図るためには、エッチングにより複数のアンテナパターンを整列配置させて形成する際に、除去されるアルミニウム層の量を減らし、エッチング液の使用量を抑えることが望ましい。このため、各アンテナパターン間等に存在するアルミニウム層は、エッチングの際には除去せずに残しておき、各アンテナパターンを基材から切断(打ち抜き加工)する際に取り除くようにするようにしている。
しかしながら、アンテナパターンの周囲にアルミニウム層を残存させているため、アンテナパターンの特性を正確に計測することができない。すなわち、アンテナパターンに計測装置を近接させると、アンテナパターンと周囲のアルミニウム層とが一体となった特性が検出されてしまうという問題がある。
なお、アンテナパターンと周囲のアルミニウム層とが一体となった特性値から、アンテナパターンの特性値を推測することも可能であるが、必ずしも正確に推測することはできないという問題がある。
By the way, in order to further reduce the product cost, it is desirable to reduce the amount of the aluminum layer to be removed and reduce the amount of etching solution used when forming a plurality of antenna patterns by arranging them by etching. . For this reason, the aluminum layer existing between the antenna patterns is left without being removed during etching, and is removed when each antenna pattern is cut (punched) from the base material. Yes.
However, since the aluminum layer is left around the antenna pattern, the characteristics of the antenna pattern cannot be measured accurately. That is, when the measuring device is brought close to the antenna pattern, there is a problem that a characteristic in which the antenna pattern and the surrounding aluminum layer are integrated is detected.
Although it is possible to estimate the characteristic value of the antenna pattern from the characteristic value obtained by integrating the antenna pattern and the surrounding aluminum layer, there is a problem that it cannot always be estimated accurately.

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、アンテナパターンをエッチングにより形成する際に、アンテナパターンの周囲にアルミニウム層を残存させた場合であっても、アンテナパターンの特性を正確に計測することができるアンテナパターンの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances. When an antenna pattern is formed by etching, the characteristics of the antenna pattern are accurately measured even when an aluminum layer is left around the antenna pattern. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an antenna pattern.

本発明に係るアンテナパターンの製造方法では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第1の発明は、絶縁フィルム上に配置された金属層をエッチングして、平面コイル形のアンテナパターンを形成する製造方法において、前記アンテナパターンの外縁に、前記アンテナパターンを取り囲む外縁金属層部を残存させると共に、前記外縁金属層部又は前記アンテナパターンの内側に、前記アンテナパターンを含む共振回路に対する前記外縁金属層部の干渉を緩和可能なダミーコンデンサを、前記アンテナパターンに接続される形成するようにした。
この発明によれば、平面コイル形のアンテナパターンをエッチングにより形成した際に、アンテナパターンの外縁を取り囲むように外縁金属層部を残存させると、アンテナパターンを含む共振回路の共振周波数が外縁金属層部による干渉されて、所望の共振周波数が得られないという不都合を、アンテナパターンに接続されるダミーコンデンサをアンテナパターンと同時に形成することで、製造工程を増やさずに、容易に解消することが可能となる。
これにより、外縁金属層部をエッチングにより除去する必要がなくなるので、製造コストを抑えることが可能となる。また、アンテナパターンを絶縁フィルムから切り抜く前であっても、アンテナパターンを含む共振回路の共振周波数を正確に計測することが可能となる。
The antenna pattern manufacturing method according to the present invention employs the following means in order to solve the above problems.
1st invention is a manufacturing method which etches the metal layer arrange | positioned on an insulating film, and forms a planar coil-shaped antenna pattern, The outer edge metal layer part surrounding the said antenna pattern is formed in the outer edge of the said antenna pattern. A dummy capacitor that is allowed to remain and that can mitigate interference of the outer edge metal layer portion with respect to a resonance circuit including the antenna pattern is formed inside the outer edge metal layer portion or the antenna pattern so as to be connected to the antenna pattern. I made it.
According to the present invention, when the planar coil-shaped antenna pattern is formed by etching and the outer edge metal layer portion is left so as to surround the outer edge of the antenna pattern, the resonance frequency of the resonance circuit including the antenna pattern is changed to the outer edge metal layer. By forming a dummy capacitor connected to the antenna pattern at the same time as the antenna pattern, it is possible to easily eliminate the inconvenience that the desired resonance frequency cannot be obtained due to interference by the parts without increasing the manufacturing process. It becomes.
As a result, it is not necessary to remove the outer edge metal layer portion by etching, and the manufacturing cost can be reduced. Moreover, even before the antenna pattern is cut out from the insulating film, the resonance frequency of the resonance circuit including the antenna pattern can be accurately measured.

また、前記アンテナパターンが、前記絶縁フィルム上に整列配置させて複数形成されるものでは、特に製造コストを抑えることが可能となる。
また、前記外縁金属層部が、前記アンテナパターンを不完全に取り囲むように形成されるものでは、外縁金属層部の形状を、アンテナパターンを含む共振回路の共振周波数に対する干渉が少なくなるように、形成することにより、ダミーコンデンサの容量を小さくすることができる。
また、前記ダミーコンデンサと前記アンテナパターンとを絶縁させる絶縁工程を含むものでは、アンテナパターンの使用の際には、不要となるダミーコンデンサがアンテナパターンから絶縁されているので、アンテナパターンを含む共振回路から所望の共振周波数を得ることができる。
また、前記絶縁工程が、前記絶縁フィルムから前記アンテナパターンを切り抜く工程と略同時に行われるものでは、絶縁工程と切り抜き工程を略同一工程にて行うことで、製造コストを抑えることが可能となる。
In addition, in the case where a plurality of the antenna patterns are formed so as to be aligned on the insulating film, the manufacturing cost can be particularly reduced.
Further, when the outer edge metal layer portion is formed so as to imperfectly surround the antenna pattern, the shape of the outer edge metal layer portion is reduced so that interference with the resonance frequency of the resonance circuit including the antenna pattern is reduced. By forming, the capacity of the dummy capacitor can be reduced.
Further, in the case of including an insulating step for insulating the dummy capacitor and the antenna pattern, the unnecessary dummy capacitor is insulated from the antenna pattern when the antenna pattern is used. Thus, a desired resonance frequency can be obtained.
In addition, in the case where the insulating step is performed substantially simultaneously with the step of cutting out the antenna pattern from the insulating film, the manufacturing cost can be suppressed by performing the insulating step and the cutting step in substantially the same step.

第2の発明は、平面コイル形のアンテナパターンを形成する工程と、前記アンテナパターンにICチップを接続する工程と、前記アンテナパターン及び前記ICチップを含む共振回路の共振周波数を検査する工程と、を含むRFIDの製造において、前記アンテナパターンの形成工程として、第1の発明の製造方法を用いるようにした。
この発明によれば、
アンテナパターンを絶縁フィルムから切り抜く前に、アンテナパターンにICチップを接続し、更にアンテナパターン及びICチップを含む共振回路の共振周波数を検査した場合であっても、アンテナパターンの外縁を取り囲むように残存された外縁金属層部が、アンテナパターン及びICチップを含む共振回路の共振周波数に干渉することが緩和されるので、共振周波数の検査を正確に行うことが可能となり、製造効率を向上させることができる。これにより、低コストのRFIDを製造することが可能となる。
The second invention includes a step of forming a planar coil antenna pattern, a step of connecting an IC chip to the antenna pattern, a step of inspecting a resonance frequency of a resonance circuit including the antenna pattern and the IC chip, In the manufacturing of the RFID including the antenna pattern, the manufacturing method of the first invention is used as the antenna pattern forming step.
According to this invention,
Even when an IC chip is connected to the antenna pattern and the resonance frequency of the resonance circuit including the antenna pattern and the IC chip is inspected before the antenna pattern is cut out from the insulating film, it remains so as to surround the outer edge of the antenna pattern. Since the outer edge metal layer portion that has been made is mitigated from interfering with the resonance frequency of the resonance circuit including the antenna pattern and the IC chip, the inspection of the resonance frequency can be performed accurately, and the manufacturing efficiency can be improved. it can. This makes it possible to manufacture a low-cost RFID.

以下、本発明のアンテナパターンの製造方法の実施形態について、図を参照して説明する。なお、各図に示すアンテナパターンの巻数は、例えば5〜8巻き程度であるが、図においてはコイルの巻数を簡略化する。
図1は、RFID10の構成を示す模式図である。
RFID10は、平面コイル形のアンテナパターン30とICチップ(集積回路)40とを備えたインレット12に対して、プラスチック等の保護フィルム14,16を重ね合わせることにより形成される。
インレット12は、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のフィルム上に、一定周波数の電磁波を送受信可能なコイル状のアンテナパターン30が形成されたものである。そして、このアンテナパターン30に対してICチップ40が接続されるように配置される。
なお、ICチップ40は、各種演算を行うCPU、ROM、RAM、メモリ等を備えたものである。また、ICチップ40内には、コンデンサ42(図4参照)が設けられ、アンテナパターン30と共に共振回路Kを構成するようになっている。
Hereinafter, an embodiment of an antenna pattern manufacturing method of the present invention will be described with reference to the drawings. The number of turns of the antenna pattern shown in each figure is, for example, about 5 to 8, but the number of turns of the coil is simplified in the figures.
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of the RFID 10.
The RFID 10 is formed by superposing protective films 14 and 16 such as plastic on an inlet 12 having a planar coil antenna pattern 30 and an IC chip (integrated circuit) 40.
The inlet 12 is obtained by forming a coiled antenna pattern 30 capable of transmitting and receiving electromagnetic waves of a constant frequency on a film such as polyethylene terephthalate (PET). And it arrange | positions so that IC chip 40 may be connected with respect to this antenna pattern 30. FIG.
The IC chip 40 includes a CPU, a ROM, a RAM, a memory, and the like that perform various calculations. Further, a capacitor 42 (see FIG. 4) is provided in the IC chip 40, and constitutes a resonance circuit K together with the antenna pattern 30.

インレット12の両面に貼り付けられる保護フィルム14,16は、有色または無色透明なプラスチック、例えばポリビニルカーボネート(PVC)や耐熱性PVC、非結晶性ポリエステル樹脂(PET−G)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等が使用される。なお、保護フィルム14,16としては、反射防止や防湿、耐引っ掻き性等の機能を付与しても良い。   The protective films 14 and 16 attached to both surfaces of the inlet 12 are colored or colorless and transparent plastics such as polyvinyl carbonate (PVC), heat resistant PVC, amorphous polyester resin (PET-G), polyethylene terephthalate (PET), and the like. Is used. The protective films 14 and 16 may be provided with functions such as antireflection, moisture proofing, and scratch resistance.

次に、RFID10の製造方法、特にアンテナパターン30を製造する方法について、図を参照して説明する。
なお、図2は、複数のアンテナパターン30が形成された基材20を示す斜視図である。図3は、アンテナパターン30を示す図である。図4は、共振回路Kの回路図である。
Next, a method for manufacturing the RFID 10, particularly a method for manufacturing the antenna pattern 30, will be described with reference to the drawings.
FIG. 2 is a perspective view showing the substrate 20 on which a plurality of antenna patterns 30 are formed. FIG. 3 is a diagram showing the antenna pattern 30. FIG. 4 is a circuit diagram of the resonance circuit K.

まず、図2に示すように、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の絶縁フィルム22の両面にアルミニウム(アルミニウム層24)が蒸着された基材20に対して、エッチング処理を施して、複数のコイル状のアンテナパターン30等を形成する。
なお、RFID10の生産効率を向上させるために、基材20には複数のアンテナパターン30等が形成される。
First, as shown in FIG. 2, the base material 20 having aluminum (aluminum layer 24) vapor-deposited on both surfaces of an insulating film 22 such as polyethylene terephthalate (PET) is etched to form a plurality of coil-like shapes. An antenna pattern 30 and the like are formed.
Note that a plurality of antenna patterns 30 and the like are formed on the base material 20 in order to improve the production efficiency of the RFID 10.

アンテナパターン30は、図3(a)に示すように、基材20の表面に形成される。そして、アンテナパターン30の内側に配置される一端には、ICチップ40が接続される端子部30aが形成される。アンテナパターン30の外側に配置される他端には、後述するブリッジ部34と接続される端子部30bが形成される。
また、端子部30aの近傍には、ICチップ40が接続される端子部32aとブリッジ部34と接続される端子部32bとを有する配線部32が形成される。なお、配線部32とアンテナパターン30とは、絶縁されて形成される。
The antenna pattern 30 is formed on the surface of the substrate 20 as shown in FIG. A terminal portion 30 a to which the IC chip 40 is connected is formed at one end disposed inside the antenna pattern 30. A terminal portion 30b connected to a bridge portion 34 to be described later is formed at the other end disposed outside the antenna pattern 30.
Further, a wiring portion 32 having a terminal portion 32a to which the IC chip 40 is connected and a terminal portion 32b to be connected to the bridge portion 34 is formed in the vicinity of the terminal portion 30a. In addition, the wiring part 32 and the antenna pattern 30 are insulated and formed.

基材20の裏面には、図3(b)に示すように、表面に形成された端子部30a及び端子部32bに対して、絶縁フィルム22を介して対向する位置に配置された端子部34a及び端子部34bを有するブリッジ部34が形成される。   As shown in FIG. 3B, on the back surface of the base material 20, the terminal portion 34 a disposed at a position facing the terminal portion 30 a and the terminal portion 32 b formed on the front surface through the insulating film 22. And the bridge part 34 which has the terminal part 34b is formed.

また、図3(a),(b)に示すように、アンテナパターン30の内側には、アンテナパターン30に接続されるダミーコンデンサ60が形成される。ダミーコンデンサ60は、基材20の表面と裏面に、絶縁フィルム22を介して対向するそれぞれ対向する電極60a,60bを設けることにより形成される。そして、電極60a,60bはそれぞれ端子部30a、端子部34bに接続される。
なお、ダミーコンデンサ60の容量は、電極60a,60bの大きさにより規定される。
Further, as shown in FIGS. 3A and 3B, a dummy capacitor 60 connected to the antenna pattern 30 is formed inside the antenna pattern 30. The dummy capacitor 60 is formed by providing opposing electrodes 60 a and 60 b that are opposed to each other with the insulating film 22 interposed between the front surface and the back surface of the base material 20. The electrodes 60a and 60b are connected to the terminal portion 30a and the terminal portion 34b, respectively.
The capacity of the dummy capacitor 60 is defined by the size of the electrodes 60a and 60b.

次に、端子部32aと端子部34b、及び端子部30bと端子部34aとを、かしめることにより、物理的に接続させる。これにより、アンテナパターン30とブリッジ部34と配線部32とが導通状態となる。   Next, the terminal part 32a and the terminal part 34b, and the terminal part 30b and the terminal part 34a are physically connected by caulking. Thereby, the antenna pattern 30, the bridge part 34, and the wiring part 32 will be in a conductive state.

次に、基材20上にICチップ40を配置する。ICチップ40は、端子部30a及び端子部32aに接続される。このように、アンテナパターン30とICチップ40とが接続されことにより、図4に示すように、ICチップ40の内部に設けられたコンデンサ42とアンテナパターン30とからなる共振回路Kが形成される。
この共振回路Kは、RFID10が不図示の外部読取装置との間で非接触に通信を行う際の通信周波数を規定するものである。通信周波数としては、例えば、13.56MHz(ISO/IEC18000-3)、135KHz(ISO/IEC18000-2)等がある。
Next, the IC chip 40 is disposed on the substrate 20. The IC chip 40 is connected to the terminal portion 30a and the terminal portion 32a. As described above, the antenna pattern 30 and the IC chip 40 are connected to form a resonance circuit K including the capacitor 42 and the antenna pattern 30 provided inside the IC chip 40 as shown in FIG. .
The resonance circuit K defines a communication frequency when the RFID 10 performs non-contact communication with an external reader (not shown). Examples of the communication frequency include 13.56 MHz (ISO / IEC18000-3) and 135 KHz (ISO / IEC18000-2).

次に、基材20上に形成したアンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kが、上述した通信周波数と略同一の周波数を有するか否かを検査する。
具体的には、基材20上に形成したアンテナパターン30に対して、共振周波数を計測可能な検出ヘッド(不図示)を近接させて、アンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kを検出する。
なお、検出ヘッドを近接させるのは、アンテナパターン30が複数存在する場合に、近接するアンテナパターン30が検出ヘッドに反応して共振してしまわないようにするためである。また、アンテナパターン30が複数存在する場合には、検出ヘッドを各アンテナパターン30に順次近接させる方法、複数の検出ヘッドを用意して、同時に複数のアンテナパターン30に近接させる方法のいずれの方法を用いてもよい。
このようにして、基材20上に形成されたアンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kの共振周波数を検出する。
Next, it is inspected whether or not the resonance circuit K formed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 formed on the base material 20 has substantially the same frequency as the communication frequency described above.
Specifically, a detection head (not shown) capable of measuring a resonance frequency is brought close to the antenna pattern 30 formed on the substrate 20, and the resonance circuit K including the antenna pattern 30 and the IC chip 40 is formed. To detect.
The reason for making the detection heads close is to prevent the adjacent antenna patterns 30 from reacting to the detection head and resonating when there are a plurality of antenna patterns 30. In addition, when there are a plurality of antenna patterns 30, either a method of sequentially bringing the detection heads close to the respective antenna patterns 30 or a method of preparing a plurality of detection heads and bringing them close to the plurality of antenna patterns 30 simultaneously. It may be used.
In this way, the resonance frequency of the resonance circuit K composed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 formed on the substrate 20 is detected.

ところで、RFID10の生産効率を向上させるために、通常、基材20には複数のアンテナパターン30等が形成される。更に、製造コストを抑えるために、アルミニウム層24のエッチング量を最小限にするように、アンテナパターン30等の以外の部分のアルミニウム層24は、エッチングにより除去せずに残しておく場合が少なくない。
すなわち、アンテナパターン30等の輪郭部分のアルミニウム層24のみをエッチングにより除去している。このため、アンテナパターン30の内側及び外側には、アンテナパターン30等とは絶縁されたアルミニウム層24が残存する。
アンテナパターン30の外側に残存するアルミニウム層24は、アンテナパターン30を取り囲む円環形の部位(以下、外縁金属層部26という)を有する。この外縁金属層部26は、アンテナパターン30と近接しているため、アンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kが共振すると、アンテナパターン30と一体となって共振してしまう。すなわち、外縁金属層部26が、基材20上にアンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kの共振周波数を変化させてしまう(干渉してしまう)。
このため、基材20上に形成されたアンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kに、検出ヘッドを近接させたとしても、アンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kの正確な共振周波数を検出することはできない。
Incidentally, in order to improve the production efficiency of the RFID 10, a plurality of antenna patterns 30 and the like are usually formed on the base material 20. Furthermore, in order to reduce the manufacturing cost, the aluminum layer 24 other than the antenna pattern 30 is often left without being removed by etching so as to minimize the etching amount of the aluminum layer 24. .
That is, only the aluminum layer 24 in the contour portion such as the antenna pattern 30 is removed by etching. For this reason, the aluminum layer 24 insulated from the antenna pattern 30 and the like remains inside and outside the antenna pattern 30.
The aluminum layer 24 remaining outside the antenna pattern 30 has an annular portion (hereinafter referred to as an outer edge metal layer portion 26) surrounding the antenna pattern 30. Since the outer edge metal layer portion 26 is close to the antenna pattern 30, when the resonance circuit K composed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 resonates, the outer edge metal layer portion 26 resonates integrally with the antenna pattern 30. That is, the outer edge metal layer portion 26 changes (interferes) the resonance frequency of the resonance circuit K including the antenna pattern 30 and the IC chip 40 on the base material 20.
For this reason, even if the detection head is brought close to the resonance circuit K formed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 formed on the base material 20, the accuracy of the resonance circuit K formed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 is correct. It is not possible to detect a resonance frequency.

しかしながら、アンテナパターン30には、ダミーコンデンサ60が接続されていることから、アンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kに対する外縁金属層部26の干渉を緩和(減少)させることが可能となっている。
すなわち、アンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kの共振周波数fは、アンテナパターン30のインダクタンスをL、ICチップ40内のコンデンサ42の容量をCとすると、
f=1/(2π√(LC)) 〔Hz〕
と表される。このため、共振回路KのC成分を調整することにより、所望の共振周波数を得ることが可能である。
そして、ダミーコンデンサ60は、ICチップ40内のコンデンサ42に対して並列に配置されるので、上式のC成分を変化させることができる。
すなわち、ダミーコンデンサ60の容量を調整することにより、アンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kに対して外縁金属層部26が干渉することにより変化した共振周波数を、本来の共振周波数に戻すことが可能である。つまり、外縁金属層部26が存在する場合であっても、基材20上に形成されたアンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kに、検出ヘッドを近接させることにより、アンテナパターン30とICチップ40とからなる共振回路Kの共振周波数を検出することが可能となる。
However, since the dummy capacitor 60 is connected to the antenna pattern 30, it is possible to mitigate (reduce) interference of the outer edge metal layer portion 26 with respect to the resonance circuit K composed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40. It has become.
That is, the resonance frequency f of the resonance circuit K composed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 is expressed as follows, assuming that the inductance of the antenna pattern 30 is L and the capacitance of the capacitor 42 in the IC chip 40 is C.
f = 1 / (2π√ (LC)) [Hz]
It is expressed. For this reason, it is possible to obtain a desired resonance frequency by adjusting the C component of the resonance circuit K.
Since the dummy capacitor 60 is arranged in parallel with the capacitor 42 in the IC chip 40, the C component of the above equation can be changed.
That is, by adjusting the capacitance of the dummy capacitor 60, the resonance frequency changed by the interference of the outer metal layer 26 with the resonance circuit K composed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 is changed to the original resonance frequency. It is possible to return. That is, even in the case where the outer edge metal layer portion 26 exists, the antenna pattern 30 can be obtained by bringing the detection head close to the resonance circuit K formed of the antenna pattern 30 and the IC chip 40 formed on the substrate 20. It is possible to detect the resonance frequency of the resonance circuit K including the IC chip 40.

図5は、共振回路Kの共振周波数を計測した実験結果を示す図である。なお、ここでは、共振回路Kの共振周波数の設計値を、14.6MHzとした場合である。
図5に示すように、ダミーコンデンサ60を有しない共振回路(従来例)では、約16Hz程度の共振周波数が計測された。このように、共振周波数が設計値よりも大きくなってしまのは、上述したように、外縁金属層部26の影響を受けているためである。
一方、共振回路Kでは、略設計値通りの共振周波数が計測された。このように、共振回路Kにダミーコンデンサ60を設けることにより、外縁金属層部26の影響を抑えることができる。したがって、共振回路Kの共振周波数を略正確に計測することができる。
FIG. 5 is a diagram illustrating an experimental result of measuring the resonance frequency of the resonance circuit K. In this case, the design value of the resonance frequency of the resonance circuit K is 14.6 MHz.
As shown in FIG. 5, in the resonance circuit (conventional example) that does not have the dummy capacitor 60, a resonance frequency of about 16 Hz was measured. Thus, the reason why the resonance frequency is larger than the design value is that it is influenced by the outer edge metal layer portion 26 as described above.
On the other hand, in the resonance circuit K, the resonance frequency substantially as designed was measured. Thus, by providing the dummy capacitor 60 in the resonance circuit K, the influence of the outer edge metal layer portion 26 can be suppressed. Therefore, the resonance frequency of the resonance circuit K can be measured substantially accurately.

次に、基材20から、アンテナパターン30をICチップ40と共に切り抜いて、RFID10のインレット12を形成する。
この切り抜き工程においては、インレット12の切り抜きと同時に、アンテナパターン30とダミーコンデンサ60との接続(導通)を切り離す。
具体的には、アンテナパターン30とダミーコンデンサ60との間の配線部をインレット12から打ち抜く。又は、ダミーコンデンサ60自体をインレット12から打ち抜く。これにより、インレット12には、ダミーコンデンサ60と絶縁された、又はダミーコンデンサ60のない共振回路Kが形成される。
Next, the antenna pattern 30 is cut out together with the IC chip 40 from the base material 20 to form the inlet 12 of the RFID 10.
In this cutting process, the connection (conduction) between the antenna pattern 30 and the dummy capacitor 60 is disconnected simultaneously with the cutting of the inlet 12.
Specifically, the wiring part between the antenna pattern 30 and the dummy capacitor 60 is punched out from the inlet 12. Alternatively, the dummy capacitor 60 itself is punched from the inlet 12. As a result, a resonance circuit K insulated from the dummy capacitor 60 or without the dummy capacitor 60 is formed in the inlet 12.

そして、最後に、インレット12の両面に保護フィルム14,16を貼り付けることにより、RFID10が完成する。
このように、本発明のアンテナパターンの製造方法によれば、基材20上にアンテナパターン30を形成する際に、アンテナパターン30の外縁に外縁金属層部26を残存させる場合であっても、アンテナパターン30に接続するダミーコンデンサ60を設けることにより、アンテナパターン30を含む共振回路Kに対する外縁金属層部26の干渉を緩和することができる。
これにより、外縁金属層部26を必ずしもエッチングにより除去する必要がなくなるので、製造コストを抑えることが可能となる。そして、アンテナパターン30を基材20上から切り抜く前であっても、アンテナパターン30を含む共振回路Kの共振周波数を正確に計測することが可能となる。
Finally, the protective films 14 and 16 are attached to both surfaces of the inlet 12 to complete the RFID 10.
Thus, according to the antenna pattern manufacturing method of the present invention, when the antenna pattern 30 is formed on the substrate 20, even when the outer edge metal layer portion 26 is left on the outer edge of the antenna pattern 30, By providing the dummy capacitor 60 connected to the antenna pattern 30, the interference of the outer edge metal layer portion 26 with respect to the resonance circuit K including the antenna pattern 30 can be reduced.
As a result, the outer edge metal layer portion 26 does not necessarily have to be removed by etching, and the manufacturing cost can be reduced. Even before the antenna pattern 30 is cut out from the base material 20, the resonance frequency of the resonance circuit K including the antenna pattern 30 can be accurately measured.

なお、上述した実施形態では、ダミーコンデンサ60をアンテナパターン30の内側の領域に形成したが、アンテナパターン30の外縁、すなわち外縁金属層部26内に形成してもよい。
また、ダミーコンデンサ60の容量は、予めダミーコンデンサ60のない共振回路において、外縁金属層部26の影響を実験等により求めておくことにより、この影響を打ち消すことができるような容量とすればよい。
In the above-described embodiment, the dummy capacitor 60 is formed in the region inside the antenna pattern 30. However, the dummy capacitor 60 may be formed in the outer edge of the antenna pattern 30, that is, in the outer edge metal layer portion 26.
Further, the capacity of the dummy capacitor 60 may be set such that the influence of the outer edge metal layer portion 26 is obtained by experiments in advance in a resonance circuit without the dummy capacitor 60 so that this influence can be counteracted. .

また、外縁金属層部26がアンテナパターン30を完全に取り囲むように形成する場合について説明したが、外縁金属層部26のアンテナパターン30を含む共振回路Kに対する干渉を予め小さくしておくことが好ましい。ダミーコンデンサ60の大きさ(容量)も小さくすることができるからである。
具体的には、図5に示すように、外縁金属層部26がアンテナパターン30を不完全に取り囲むように形成してもよい。
Moreover, although the case where the outer edge metal layer portion 26 is formed so as to completely surround the antenna pattern 30 has been described, it is preferable to reduce the interference of the outer edge metal layer portion 26 with respect to the resonance circuit K including the antenna pattern 30 in advance. . This is because the size (capacitance) of the dummy capacitor 60 can also be reduced.
Specifically, as shown in FIG. 5, the outer edge metal layer portion 26 may be formed so as to surround the antenna pattern 30 incompletely.

本実施形態のRFID10の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of RFID10 of this embodiment. 本実施形態のアンテナパターン30が複数形成された基材20を示す斜視図である。It is a perspective view showing substrate 20 in which a plurality of antenna patterns 30 of this embodiment were formed. 本実施形態のアンテナパターン30を示す図である。It is a figure which shows the antenna pattern 30 of this embodiment. 本実施形態の共振回路Kの回路図である。It is a circuit diagram of the resonance circuit K of this embodiment. 本実施形態の共振回路Kの共振周波数を計測した実験結果を示す図である。It is a figure which shows the experimental result which measured the resonant frequency of the resonant circuit K of this embodiment. 外縁金属層部26の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the outer edge metal layer part.

符号の説明Explanation of symbols

10…RFID、 22…絶縁フィルム、 24…アルミニウム層(金属層)、 26…外縁金属層部、 30…アンテナパターン、 40…ICチップ、 60…ダミーコンデンサ、 K…共振回路



10 ... RFID, 22 ... insulating film, 24 ... aluminum layer (metal layer), 26 ... outer metal layer, 30 ... antenna pattern, 40 ... IC chip, 60 ... dummy capacitor, K ... resonant circuit



Claims (6)

絶縁フィルム上に配置された金属層をエッチングして、平面コイル形のアンテナパターンを形成する製造方法において、
前記アンテナパターンの外縁に、前記アンテナパターンを取り囲む外縁金属層部を残存させると共に、
前記外縁金属層部又は前記アンテナパターンの内側に、前記アンテナパターンを含む共振回路に対する前記外縁金属層部の干渉を緩和可能なダミーコンデンサを、前記アンテナパターンに接続して形成することを特長とするアンテナパターンの製造方法。
In the manufacturing method of forming the planar coil-shaped antenna pattern by etching the metal layer disposed on the insulating film,
At the outer edge of the antenna pattern, the outer edge metal layer surrounding the antenna pattern remains, and
A dummy capacitor capable of mitigating interference of the outer edge metal layer portion with respect to a resonance circuit including the antenna pattern is formed inside the outer edge metal layer portion or the antenna pattern, connected to the antenna pattern. Manufacturing method of antenna pattern.
前記アンテナパターンは、前記絶縁フィルム上に整列配置させて複数形成されることを特徴とする請求項1に記載のアンテナパターンの製造方法。   The method for manufacturing an antenna pattern according to claim 1, wherein a plurality of the antenna patterns are formed in an aligned manner on the insulating film. 前記外縁金属層部は、前記アンテナパターンを不完全に取り囲むように形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のアンテナパターンの製造方法。   The method of manufacturing an antenna pattern according to claim 1, wherein the outer edge metal layer portion is formed so as to surround the antenna pattern incompletely. 前記ダミーコンデンサと前記アンテナパターンとを絶縁させる絶縁工程を含むことを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載のアンテナパターンの製造方法。   The method for manufacturing an antenna pattern according to any one of claims 1 to 3, further comprising an insulating step of insulating the dummy capacitor and the antenna pattern. 前記絶縁工程は、前記絶縁フィルムから前記アンテナパターンを切り抜く工程と略同時に行われることを特徴とする請求項4に記載のアンテナパターンの製造方法。   The method for manufacturing an antenna pattern according to claim 4, wherein the insulating step is performed substantially simultaneously with a step of cutting out the antenna pattern from the insulating film. 平面コイル形のアンテナパターンを形成する工程と、
前記アンテナパターンにICチップを接続する工程と、
前記アンテナパターン及び前記ICチップを含む共振回路の共振周波数を検査する工程と、
を含むRFIDの製造において、
前記アンテナパターンの形成工程として、請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載の製造方法を用いることを特徴とするRFIDの製造方法。


Forming a planar coil antenna pattern;
Connecting an IC chip to the antenna pattern;
Inspecting a resonance frequency of a resonance circuit including the antenna pattern and the IC chip;
In the manufacture of RFID including
An RFID manufacturing method using the manufacturing method according to claim 1 as the antenna pattern forming step.


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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009049992A (en) * 2007-08-21 2009-03-05 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Antenna integrally formed with case and method of manufacturing the same
JP5673891B1 (en) * 2014-03-17 2015-02-18 株式会社村田製作所 Antenna device, wireless communication terminal
WO2015141016A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-24 株式会社村田製作所 Antenna device and wireless communication terminal

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009049992A (en) * 2007-08-21 2009-03-05 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Antenna integrally formed with case and method of manufacturing the same
US8068067B2 (en) 2007-08-21 2011-11-29 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Antenna integrally formed with case and method of manufacturing the same
JP5673891B1 (en) * 2014-03-17 2015-02-18 株式会社村田製作所 Antenna device, wireless communication terminal
WO2015141016A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-24 株式会社村田製作所 Antenna device and wireless communication terminal
WO2015141082A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-24 株式会社村田製作所 Antenna device and wireless communication terminal
GB2533181A (en) * 2014-03-17 2016-06-15 Murata Manufacturing Co Antenna device and wireless communication terminal
US9633305B2 (en) 2014-03-17 2017-04-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. Antenna device and wireless communication terminal

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