JP2006269241A - Heater mirror - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ヒータミラーに関する。 The present invention relates to a heater mirror.
ヒータミラーにおいては、例えば温度が上がりすぎるのを防ぐために、温度制御を行う必要がある。従来、別体の温度制御部品を使用することなく自己温度制御機能を持たせたヒータミラーが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
特許文献１の図１、２には、基板（ミラー基板）上に、反射膜兼抵抗発熱膜（反射膜兼発熱抵抗体膜）、一対のＰＴＣ給電電極、及び絶縁防湿層をこの順で形成した構成が開示されている。この構成において、例えば正極を一方のＰＴＣ給電電極、負極を他方のＰＴＣ給電電極とすると、正極のＰＴＣ給電電極における正極給電点にリード線より給電された電流は、反射膜兼抵抗発熱膜を通って、負極のＰＴＣ給電電極へ流れる。 1 and 2 of Patent Document 1, a reflective film / resistance heating film (reflection film / heating resistance film), a pair of PTC power supply electrodes, and an insulating moisture-proof layer are formed in this order on a substrate (mirror substrate). The configuration is disclosed. In this configuration, for example, when the positive electrode is one PTC power supply electrode and the negative electrode is the other PTC power supply electrode, the current supplied from the lead wire to the positive electrode power supply point of the positive PTC power supply electrode passes through the reflective film and resistance heating film. And flows to the negative PTC power supply electrode.
しかし、この構成において、ＰＴＣ給電電極の導電性は、反射膜兼抵抗発熱膜よりも低い。そのため、正極のＰＴＣ給電電極の内部において、電流は、正極給電点を中心に放射状に広がって流れる。また、反射膜兼抵抗発熱膜において、電流は、正極のＰＴＣ給電電極の正極給電点に最も近い部分から負極のＰＴＣ給電電極に向かって、放射状に流れる。そして、放射状に広がって流れる電流に応じて、反射膜兼抵抗発熱膜は、正極のＰＴＣ給電電極の正極給電点に最も近い部分から負極のＰＴＣ給電電極に向かって、放射状に発熱していく。 However, in this configuration, the conductivity of the PTC power supply electrode is lower than that of the reflective film / resistance heating film. Therefore, in the positive electrode PTC power supply electrode, current flows radially spreading around the positive electrode power supply point. In the reflective / resistance heating film, the current flows radially from the portion closest to the positive electrode feeding point of the positive PTC feeding electrode toward the negative PTC feeding electrode. Then, according to the current that spreads radially, the reflective / resistance heating film generates heat radially from the portion closest to the positive electrode feeding point of the positive PTC power supply electrode toward the negative PTC power supply electrode.
このように、導電性の低い（すなわち、抵抗値が高い）ＰＴＣ給電電極を用いた場合、反射膜兼抵抗発熱膜に均一な電流を流すことができず、反射膜兼抵抗発熱膜の発熱が均一に始まらないおそれがある。尚、一対のＰＴＣ給電電極のそれぞれの導電性は同程度であり、正極、負極を逆にした場合でも同様の問題が生じる。 As described above, when a PTC power supply electrode having low conductivity (that is, having a high resistance value) is used, a uniform current cannot flow through the reflective film / resistance heating film, and the reflection film / resistance heating film generates heat. There is a risk that it will not start uniformly. The conductivity of each of the pair of PTC power supply electrodes is approximately the same, and the same problem occurs even when the positive electrode and the negative electrode are reversed.
また、特許文献１の図３、４には、基板上に、反射膜兼抵抗発熱膜、一対のＰＴＣ温度調整層（温度調整を担う層）、一対の給電導電層、及び絶縁防湿層をこの順で形成した構成が開示されている。このように構成すれば、ＰＴＣ温度調整層の抵抗値が高い場合にも、反射膜兼抵抗発熱膜に均一な電流を供給できる。 In FIGS. 3 and 4 of Patent Document 1, a reflective / resistance heating film, a pair of PTC temperature adjustment layers (layers responsible for temperature adjustment), a pair of power supply conductive layers, and an insulating moisture-proof layer are provided on the substrate. A configuration formed in order is disclosed. With this configuration, even when the resistance value of the PTC temperature adjustment layer is high, a uniform current can be supplied to the reflective film / resistance heating film.
しかし、この構成において、ＰＴＣ温度調整層の線膨張率は、給電導電層よりも大きい。そのため、このように構成した場合、線膨張率が大きいＰＴＣ温度調整層の上に線膨張率が小さい給電導電層が形成されることとなり、ＰＴＣ温度調整層が熱膨張すると、給電導電層が熱膨張に追従できず、クラックが発生するおそれがある。 However, in this configuration, the linear expansion coefficient of the PTC temperature adjustment layer is larger than that of the power supply conductive layer. Therefore, when configured in this way, a power supply conductive layer having a low linear expansion coefficient is formed on a PTC temperature adjustment layer having a large linear expansion coefficient. When the PTC temperature adjustment layer is thermally expanded, the power supply conductive layer is heated. There is a risk that cracks may occur due to failure to follow expansion.
このように、反射膜兼抵抗発熱膜に均一な電流を供給するために、ＰＴＣ温度調整層の上に給電導電層を形成した場合、線膨張率の違いにより給電導電層にクラックが発生するおそれがある。そのため、従来、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えるのは困難であった。 As described above, when the power supply conductive layer is formed on the PTC temperature adjustment layer in order to supply a uniform current to the reflection film / resistance heating film, there is a risk that the power supply conductive layer may crack due to the difference in linear expansion coefficient. There is. For this reason, conventionally, it has been difficult to uniformly heat a heater mirror having a self-temperature control function and to suppress the occurrence of cracks due to thermal expansion.
そこで、本発明は、上記の問題点を解決できるヒータミラーを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a heater mirror that can solve the above-described problems.
上記の問題点を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）ヒータミラーであって、少なくとも背面が非導電性の基板と、基板の背面に形成された、スリットにより分割された複数の抵抗発熱膜と、分割された一方の抵抗発熱膜上に形成された第一電極と、分割された他方の抵抗発熱膜上に形成された第二電極と、スリットを覆うＰＴＣ材料層とを備える。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration.
(Configuration 1) A heater mirror having at least a back surface of a non-conductive substrate, a plurality of resistance heating films formed on the back surface of the substrate divided by slits, and one of the divided resistance heating films A first electrode formed; a second electrode formed on the other divided resistance heating film; and a PTC material layer covering the slit.
このヒータミラーは、例えばバックミラー等の自動車用ミラーに用いられる。また、ヒータミラーは、第一電極と第二電極との間に電力を受け取る。抵抗発熱膜は、ＰＴＣ材料層を介して流れる電流に応じて発熱する。ＰＴＣ材料層は、例えば、抵抗発熱膜よりも導電性が低く、かつ温度上昇と共に抵抗値が増大するＰＴＣ材料により形成される。ＰＴＣ材料層を形成しない状態において、複数の抵抗発熱膜は、スリットにより、電気的に切り離されている。ＰＴＣ材料層は、複数の抵抗発熱膜を、電気的に接続する。 This heater mirror is used for an automobile mirror such as a rearview mirror. The heater mirror receives electric power between the first electrode and the second electrode. The resistance heating film generates heat according to the current flowing through the PTC material layer. The PTC material layer is formed of, for example, a PTC material that is lower in conductivity than the resistance heating film and that increases in resistance as temperature rises. In a state where the PTC material layer is not formed, the plurality of resistance heating films are electrically separated by slits. The PTC material layer electrically connects a plurality of resistance heating films.
この構成において、ヒータミラーの温度が上昇すると、ＰＴＣ材料層の温度上昇により抵抗値が高くなり、抵抗発熱膜に流れる電流が低下する。そのため、このように構成すれば、ヒータミラーに自己温度制御機能を持たせることができる。 In this configuration, when the temperature of the heater mirror rises, the resistance value increases due to the temperature rise of the PTC material layer, and the current flowing through the resistance heating film decreases. Therefore, if comprised in this way, a self-temperature control function can be given to a heater mirror.
また、構成１において、第一電極又は第二電極のいずれを正極にした場合も、正極から抵抗発熱膜を経てＰＴＣ材料層に至る経路上、電流は、導電性の高い材料から低い材料へと流れる。そのため、ＰＴＣ材料層において、電流は、スリットの幅方向に、幅広均一に流れる。これにより、抵抗発熱膜に均一な電流を供給できる。また、ヒータミラーを均一に発熱させることができる。 Further, in the configuration 1, when either the first electrode or the second electrode is a positive electrode, the current is changed from a highly conductive material to a low material on the path from the positive electrode through the resistance heating film to the PTC material layer. Flowing. Therefore, in the PTC material layer, the current flows uniformly in the width direction of the slit. Thereby, a uniform current can be supplied to the resistance heating film. In addition, the heater mirror can generate heat uniformly.
また、構成１は、線膨張率が低い材料から高い材料へ積層される構成になっている。このように構成した場合、特許文献１の図３、４に開示された構成等と異なり、線膨張率の違いによりクラックが生じることもない。 Configuration 1 is a configuration in which a material having a low coefficient of linear expansion is stacked from a material having a high linear expansion coefficient. When configured in this way, unlike the configuration disclosed in FIGS. 3 and 4 of Patent Document 1, cracks are not generated due to the difference in linear expansion coefficient.
尚、スリットとは、例えば、細長いスリット状の隙間である。スリットは、一定幅に形成されるのが好ましい。複数の抵抗発熱膜は、少なくとも１本以上のスリットにより分割されていればよく、例えば２本以上のスリットにより分割されてもよい。２本以上のスリットにより分割されている場合、ＰＴＣ材料層は、例えば、これら２本以上のスリットを連続的に覆う。 In addition, a slit is an elongate slit-shaped clearance gap, for example. The slit is preferably formed with a constant width. The plurality of resistance heating films may be divided by at least one or more slits, for example, may be divided by two or more slits. When divided by two or more slits, the PTC material layer continuously covers these two or more slits, for example.
また、抵抗発熱膜は、反射膜兼抵抗発熱膜であってよい。このように構成すれば、ヒータミラーのコストを低減できる。また、ヒータミラーは、基板、抵抗発熱膜、第一電極、及び第二電極を連続的に覆う保護材層を更に備えるのが好ましい。 Further, the resistance heating film may be a reflection film / resistance heating film. If comprised in this way, the cost of a heater mirror can be reduced. The heater mirror preferably further includes a protective material layer that continuously covers the substrate, the resistance heating film, the first electrode, and the second electrode.
（構成２）ＰＴＣ材料層は、スリットと、第一電極の一部とを連続的に覆う。このように構成すれば、例えば幅広のＰＴＣ材料層を用いることができるため、スリットとＰＴＣ材料層との位置合わせが容易になる。 (Configuration 2) The PTC material layer continuously covers the slit and a part of the first electrode. If comprised in this way, since a wide PTC material layer can be used, for example, alignment of a slit and a PTC material layer becomes easy.
（構成３）ＰＴＣ材料層は、スリットと、第一電極とを連続的に覆う。このように構成すれば、例えば幅広のＰＴＣ材料層を用いることができるため、スリットとＰＴＣ材料層との位置合わせが容易になる。 (Configuration 3) The PTC material layer continuously covers the slit and the first electrode. If comprised in this way, since a wide PTC material layer can be used, for example, alignment of a slit and a PTC material layer becomes easy.
（構成４）ヒータミラーであって、少なくとも背面が非導電性の基板と、基板の背面において、背面の一部分を欠いた領域に形成された抵抗発熱膜と、抵抗発熱膜から離間して、基板の背面に直接形成された第一電極と、抵抗発熱膜上に形成された第二電極と、第一電極と抵抗発熱膜とを接続するように、第一電極と抵抗発熱膜との間に形成されたＰＴＣ材料層とを備える。 (Configuration 4) A heater mirror, at least a back surface of a non-conductive substrate, a resistance heating film formed in a region of the back surface of the substrate where a portion of the back surface is missing, and a substrate spaced apart from the resistance heating film. Between the first electrode and the resistance heating film so as to connect the first electrode formed directly on the back surface of the first electrode, the second electrode formed on the resistance heating film, and the first electrode and the resistance heating film. And a formed PTC material layer.
このように構成した場合も、構成１と同様に、ヒータミラーに自己温度制御機能を持たせることができる。また、抵抗発熱膜、第一電極、第二電極、及びＰＴＣ材料層は、構成１と同様に、それぞれの導電性、及び線膨張率が考慮された構成で形成されている。そのため、ＰＴＣ材料層における電流は、第一電極と抵抗発熱膜との間の隙間を、隙間の幅方向に幅広均一に流れる。これにより、ヒータミラーの発熱を均一にできる。また、線膨張率の違いによりクラックが生じることもない。尚、第一電極は、例えば抵抗発熱膜の片側の端辺に沿って形成され、例えばスリットを隔てて、抵抗発熱膜から離間する。 Even in this configuration, the heater mirror can be provided with a self-temperature control function as in the first configuration. In addition, the resistance heating film, the first electrode, the second electrode, and the PTC material layer are formed in a configuration that takes into consideration the respective conductivity and linear expansion coefficient, as in the configuration 1. Therefore, the current in the PTC material layer flows uniformly and wide in the gap between the first electrode and the resistance heating film in the width direction of the gap. Thereby, the heat generation of the heater mirror can be made uniform. Moreover, cracks do not occur due to the difference in linear expansion coefficient. The first electrode is formed, for example, along one end of the resistance heating film, and is separated from the resistance heating film, for example, with a slit.
（構成５）ＰＴＣ材料層は、抵抗発熱膜の一部と、第一電極の一部とを連続的に覆う。このように構成すれば、ＰＴＣ材料層により、第一電極と抵抗発熱膜とを適切に接続できる。 (Configuration 5) The PTC material layer continuously covers a part of the resistance heating film and a part of the first electrode. If comprised in this way, a 1st electrode and a resistive heating film can be connected appropriately by a PTC material layer.
（構成６）ＰＴＣ材料層は、抵抗発熱膜の一部と、第一電極とを連続的に覆う。このように構成すれば、ＰＴＣ材料層により、第一電極と抵抗発熱膜とを適切に接続できる。 (Configuration 6) The PTC material layer continuously covers a part of the resistance heating film and the first electrode. If comprised in this way, a 1st electrode and a resistive heating film can be connected appropriately by a PTC material layer.
（構成７）ＰＴＣ材料層は、抵抗発熱膜の一部を覆い、第一電極は、ＰＴＣ材料層の一部を覆う。このように構成すれば、ＰＴＣ材料層の形成後に第一電極を形成することができる。また、例えば、第一電極として、導電性の高いクリップ電極を用いることができる。これにより、ヒータミラーの発熱を更に均一にできる。 (Configuration 7) The PTC material layer covers a part of the resistance heating film, and the first electrode covers a part of the PTC material layer. If comprised in this way, a 1st electrode can be formed after formation of a PTC material layer. For example, a clip electrode with high conductivity can be used as the first electrode. Thereby, the heat generation of the heater mirror can be made more uniform.
本発明によれば、自己温度制御機能を有するヒータミラーの発熱を均一にできる。また、熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。 According to the present invention, the heat generation of the heater mirror having a self-temperature control function can be made uniform. Moreover, the generation of cracks due to thermal expansion can be suppressed.
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図１、２は、本発明の第１実施形態に係るヒータミラーの第１の実施例（実施例１）の構成を示す。図１は、ヒータミラーの背面図である。図２は、ヒータミラーの断面図である。このヒータミラーは、例えばバックミラー等の自動車用ミラーに用いられる。本実施例において、ヒータミラーは、基板１１、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ、第一電極１３ａ、第二電極１３ｂ、ＰＴＣ材料層１４、及び保護材層１６を備える。基板１１は、少なくとも背面が非導電性の透明基板であり、例えば、ガラス、セラミック、又はアクリル樹脂等の透明材料からなる。
Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.
1 and 2 show the configuration of a first example (Example 1) of the heater mirror according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a rear view of the heater mirror. FIG. 2 is a sectional view of the heater mirror. This heater mirror is used for an automobile mirror such as a rearview mirror. In this embodiment, the heater mirror includes a
反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂは、反射膜及び抵抗発熱膜として機能する金属又は合金の薄膜である。反射膜兼抵抗発熱膜１２ａと反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂとは、スリット１５により分割された状態で、基板１１の背面に形成される。また、本実施例においては、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂが基板１１の背面の過半を覆っており、ヒータミラーの主な発熱源として機能する。
The reflective film /
反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂの材料は、例えば、鉄、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、タンタル、タングステン等の金属、又はこれらの合金等である。反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂを形成する工程において、この金属又は合金の材料は、基板１１の背面全面に、真空蒸着又はスパッタリング等により成膜される。そして、レーザ加工、酸、薬品等のエッチング等によりスリット１５と、スリット１５により分割された反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂとが形成される。
The material of the reflective film /
第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂは、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂに電力を供給するための電極である。第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂのそれぞれの端部には、外部電源のリード線がそれぞれ接続される。
The
第一電極１３ａは、分割された一方の反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ上に、スリット１５に沿って形成される。第二電極１３ｂは、分割された他方の反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ上において、基板１１の一方の端辺近くに形成される。この端辺は、基板１１の中心に対してスリット１５と反対側にある端辺である。第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂは、例えば、銀、銅、ニッケル等の導電性樹脂ぺ一ストを用いたスクリーン印刷、ディスペンサー吐出、又は塗装等により形成される。第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂは、銅、アルミニウム等の金属箔の貼付けにより形成されてもよい。また、銅、アルミニウム等の金属薄膜の真空蒸着、又はスパッタリング等により形成されてもよい。
The
ＰＴＣ材料層１４は、温度上昇と共に抵抗値が増大する材料の層であり、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａと反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂとを橋渡しするように、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａの一部と、スリット１５と、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂの一部とを連続的に覆って形成される。これにより、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ、ＰＴＣ材料層１４、及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂは、第一電極１３ａと第二電極１３ｂとの間に直列に接続される。ＰＴＣ材料層１４は、例えば、熱可塑性樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、又はゴム等を主剤とし、カーボン粒子、金属導電性粒子、金属酸化物、又は金属窒化物等の充填剤を混合した導電性ペーストからなり、スクリーン印刷、ディスペンサー吐出、塗装等により形成される。
The
保護材層１６は、絶縁防湿のための層であり、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ、第一電極１３ａ、第二電極１３ｂ、ＰＴＣ材料層１４、及び基板１１を連続的に覆って形成される。保護材層１６は、例えば、粘着材付きＰＥＴフィルム、アクリル系塗料、ウレタン系塗料、シリコーン系塗料、ゴムペースト、シリコーン樹脂、樹脂発泡シート、又はこれらの組み合わせからなる。尚、本実施例において、保護材層１６は、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ等を比べて大きな厚みを有しており、断熱材としての機能を更に有している。
The
この構成において、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂは、両者の間に設けられたＰＴＣ材料層１４を介して流れる電流に応じて発熱する。また、ヒータミラーの温度が上昇すると、ＰＴＣ材料層１４の内部抵抗は増大する。そのため、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂに流れる電流は、温度上昇に従って減少する。電流が減少すると、ヒータミラーの温度は低下する。また、温度が低下すると、再び電流が増加して、ヒータミラーの温度は上昇する。そのため、本実施例によれば、通電抑制により、ヒータミラーの温度調節を行うことができる。また、温度を一定に保つ自己温度制御機能をヒータミラーに持たせることができる。
In this configuration, the reflective /
以下、各部材の導電性及び膨張率（線膨張率）について説明する。最初に、導電性について説明する。本実施例において、第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂに使われる導電材料の導電性は、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂに使われる導電材料の導電性よりも高い。これらの導電性は、ＰＴＣ材料層１４に使われる導電材料の導電性よりも高い。また、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂのそれぞれには、同程度の導電性の導電材料が使用される。第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂのそれぞれには、同程度の導電性の導電材料が使用される。
Hereinafter, the conductivity and expansion coefficient (linear expansion coefficient) of each member will be described. First, the conductivity will be described. In this embodiment, the conductivity of the conductive material used for the
また、本実施例において、例えば、正極を第一電極１３ａ、負極を第二電極１３ｂとした場合、電流は、第一電極１３ａから、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ、ＰＴＣ材料層１４、及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂを順次通って、第二電極１３ｂへ流れる。この構成において、正極である導電性の高い第一電極１３ａの給電点にリード線から給電されると、第一電極１３ａの内部では、すみやかに電流が広がって流れる。これにより、第一電極１３ａから反射膜兼抵抗発熱膜１２ａへ、幅広均一な電流が流れる。そして、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａからより導電性の低いＰＴＣ材料層１４へ、幅広均一な電流が更に流れる。
Further, in this embodiment, for example, when the positive electrode is the
ここで、ＰＴＣ材料層１４は、スリット１５に沿って反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂと接触している。そのため、ＰＴＣ材料層１４において、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａから供給される幅広均一な電流は、幅広均一なまま、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂに向かって流れる。また、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂにおいても、幅広均一な電流が、第二電極１３ｂに向かって流れる。そのため、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂは、第二電極１３ｂに向かう幅広均一な電流に応じて、幅広均一に発熱していく。
Here, the
また、正極を第二電極１３ｂ、負極を第一電極１３ａとした場合、電流は、第二電極１３ｂから、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ、ＰＴＣ材料層１４、及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ａを順次通って、第一電極１３ａへ流れる。この構成において、正極である導電性の高い第二電極１３ｂの給電点にリード線より給電されると、第二電極１３ｂの内部では、すみやかに電流が広がって流れる。これにより、第二電極１３ｂから反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂへ、幅広均一な電流が流れる。そして、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂからより導電性の低いＰＴＣ材料層１４へ、幅広均一な電流が流れる。反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂは、ＰＴＣ材料層１４に向かう幅広均一な電流に応じて、幅広均一に発熱していく。
Further, when the positive electrode is the
このように、本実施例においては、導電性の高い第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂを給電電極として使用しているため、いずれを正極又は負極にした場合であっても、給電点にリード線より給電された電流は、電極内部において、すみやかに広がって流れる。また、ＰＴＣ材料層１４には、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ又は反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂを介して、幅広均一な電流が供給される。これにより、ヒータミラーの発熱源である反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂにおいても、順次各部材を通って、幅広均一な電流が流れることとなる。そのため、本実施例によれば、ヒータミラーを均一に発熱させることができる。
As described above, in the present embodiment, since the
続いて、膨張率（線膨張率）について説明する。本実施例において、保護材層１６の線膨張率は、ＰＴＣ材料層１４と同程度、又はＰＴＣ材料層１４よりも大きい。ＰＴＣ材料層１４の線膨張率は第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂよりも大きい。第一電極１３ａの線膨張率は第二電極１３ｂと同程度である。第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂの線膨張率は反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂより大きい。反射膜兼抵抗発熱膜１２ａの線膨張率は反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂと同程度である。反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂの線膨張率は、基板１１と同程度、又は基板１１より大きい。
Subsequently, the expansion coefficient (linear expansion coefficient) will be described. In this embodiment, the linear expansion coefficient of the
そして、図２に示した要部１０から分かるように、これらの各部材は、基板１１上に反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ、その上に第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂ、その上にＰＴＣ材料層１４、その上に保護材層１６の順で積層されている。尚、基板１１は、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂと比べて十分に大きな厚みを有しているため、ヒータミラーの仕様温度範囲（例えば−３０℃〜８０℃）では、基板１１と、と反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂとは、近い線膨張率を有していればよく、いずれの線膨張率が大きくてもよい。
As can be seen from the
この構成において、第一電極１３ａは、より線膨張率の小さな反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ上に積層されている。このように構成した場合、下層の反射膜兼抵抗発熱膜１２ａが熱膨張したとしても、第一電極１３ａは、その熱膨張に追従できる。そのため、第一電極１３ａにクラックは発生しない。また、第二電極１３ｂは、より線膨張率の小さな反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ上に積層されている。このように構成した場合、下層の反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂが熱膨張したとしても、第二電極１３ｂは、その熱膨張に追従できる。そのため、第二電極１３ｂにクラックは発生しない。
In this configuration, the
このように、本実施例においては、線膨張率が低い材料から高い材料へ積層される構成になっているため、熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。そのため、本実施例によれば、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。 As described above, in this embodiment, since the material is laminated from a material having a low coefficient of linear expansion to a material having a high linear expansion coefficient, occurrence of cracks due to thermal expansion can be suppressed. Therefore, according to the present embodiment, the heater mirror having the self-temperature control function can uniformly generate heat, and the generation of cracks due to thermal expansion can be suppressed.
図３、４は、本発明の第１実施形態に係るヒータミラーの第２の実施例（実施例２）の構成を示す。図３は、ヒータミラーの背面図である。図４は、ヒータミラーの断面図である。本実施例のヒータミラーは、実施例１における第一電極１３ａ及び第二電極１３ｂを、第一クリップ電極２３ａ及び第二クリップ電極２３ｂに置き換えたものであり、基板２１、反射膜兼抵抗発熱膜２２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜２２ｂ、第一クリップ電極２３ａ、第二クリップ電極２３ｂ、ＰＴＣ材料層２４、及び保護材層２６を備える。第一クリップ電極２３ａ及び第二クリップ電極２３ｂは、バネ性を有する青銅、真鍮、鋼、ステンレススチール等の材質で形成される。
3 and 4 show the configuration of a second example (Example 2) of the heater mirror according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a rear view of the heater mirror. FIG. 4 is a cross-sectional view of the heater mirror. The heater mirror of the present embodiment is obtained by replacing the
尚、以下に説明する点を除き、本実施例のヒータミラーは、実施例１のヒータミラーと同一又は同様である。基板２１、反射膜兼抵抗発熱膜２２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜２２ｂ、ＰＴＣ材料層２４、及び保護材層２６は、実施例１における基板１１、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ、ＰＴＣ材料層１４、及び保護材層１６と同一又は同様の構成を有する。反射膜兼抵抗発熱膜１２ａと反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂとは、実施例１におけるスリット１５と同一又は同様のスリット２５により分割されている。図４に示した要部２０は、図２に示した要部１０に対応する部分である。
Except for the points described below, the heater mirror of the present embodiment is the same as or similar to the heater mirror of the first embodiment. The
本実施例においては、導電性の高い第一クリップ電極２３ａ及び第二クリップ電極２３ｂを給電電極として使用しているため、いずれを正極又は負極にした場合であっても、給電点にリード線より給電された電流は、電極内部において、すみやかに広がって流れる。そして、ヒータミラーの発熱源である反射膜兼抵抗発熱膜２２ｂには、各部材を順次通った電流が幅広均一に流れる。また、この電流に応じて、反射膜兼抵抗発熱膜２２ｂは、幅広均一に発熱していく。
In the present embodiment, since the
また、第一クリップ電極２３ａ及び第二クリップ電極２３ｂは、下層の反射膜兼抵抗発熱膜２２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜２２ｂより線膨張率が大きく、バネ性を有している。このように構成した場合、反射膜兼抵抗発熱膜２２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜２２ｂが熱膨張したとしても、第一クリップ電極２３ａ及び第二クリップ電極２３ｂは、その熱膨張に追従できる。そのため、第一クリップ電極２３ａ及び第二クリップ電極２３ｂにクラックは発生しない。
The
また、ＰＴＣ材料層２４は、温度上昇とともに内部抵抗が増大し、電流が流れにくくなる。そのため、通電抑制により、ヒータミラーの温度調節を行い、温度を一定に保つことができる。これにより、ヒータミラーに自己温度制御機能を持たせることができる。このように、本実施例においても、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。
Moreover, the internal resistance of the
図５、６は、本発明の第２実施形態に係るヒータミラーの第１の実施例（実施例３）の構成を示す。図５は、ヒータミラーの背面図である。図６は、ヒータミラーの断面図である。本実施例において、ヒータミラーは、基板３１、反射膜兼抵抗発熱膜３２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂ、第一電極３３ａ、第二電極３３ｂ、ＰＴＣ材料層３４、及び保護材層３６を備える。
5 and 6 show the configuration of the first example (Example 3) of the heater mirror according to the second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a rear view of the heater mirror. FIG. 6 is a cross-sectional view of the heater mirror. In this embodiment, the heater mirror includes a
尚、以下に説明する点を除き、本実施例のヒータミラーは、実施例１のヒータミラーと同一又は同様である。基板３１、反射膜兼抵抗発熱膜３２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂ、第一電極３３ａ、第二電極３３ｂ、ＰＴＣ材料層３４、及び保護材層３６は、実施例１における基板１１、反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ、第一電極１３ａ、第二電極１３ｂ、ＰＴＣ材料層１４、及び保護材層１６と同一又は同様の構成を有する。反射膜兼抵抗発熱膜３２ａと反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂとは、実施例１におけるスリット１５と同一又は同様のスリット３５により分割されている。図６に示した要部３０は、図２に示した要部１０に対応する部分である。
Except for the points described below, the heater mirror of the present embodiment is the same as or similar to the heater mirror of the first embodiment. The
本実施例において、ＰＴＣ材料層３４は、スリット３５と第一電極３３ａの一部とをを連続的に覆う。この構成において、例えば正極を第一電極３３ａ、負極を第二電極３３ｂとすると、両電極の間は、第一電極３３ａからＰＴＣ材料層３４へ直接電流が流れる第１の経路と、反射膜兼抵抗発熱膜３２ａを介して第一電極３３ａからＰＴＣ材料層３４へ電流が流れる第２の経路とを介して接続される。第１の経路上、電流は、第一電極３３ａから、ＰＴＣ材料層３４及び反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂを順次通って、第二電極（３３ｂ）へ流れる。また、第２の経路上、電流は、第一電極３３ａから、反射膜兼抵抗発熱膜３２ａ、ＰＴＣ材料層３４、及び反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂを順次通って、第二電極３３ｂへ流れる。
In this embodiment, the
この構成において、正極である導電性の高い第一電極３３ａの給電点にリード線から給電されると、第一電極３３ａの内部では、すみやかに電流が広がって流れる。そして、第１の経路上、第一電極３３ａからＰＴＣ材料層３４へ、幅広均一な電流が流れる。そして、ＰＴＣ材料層３４から反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂへ、幅広均一な電流が流れる。これにより、第１の経路に流れる電流は、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂにおいて、第二電極３３ｂに向かって、幅広均一に流れる。
In this configuration, when power is supplied from the lead wire to the power supply point of the
また、第２の経路上、第一電極３３ａから反射膜兼抵抗発熱膜３２ａへ、幅広均一な電流が流れる。そして、反射膜兼抵抗発熱膜３２ａからＰＴＣ材料層３４へ、幅広均一な電流が流れる。更に、ＰＴＣ材料層３４から反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂへ、幅広均一な電流が流れる。これにより、第２の経路に流れる電流は、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂにおいて、第二電極３３ｂに向かって、幅広均一に流れる。このように、本実施例において、第１の経路及び第２の経路のいずれを流れる電流も、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂを、幅広均一に流れる。そして、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂは、第二電極３３ｂに向かう幅広均一な電流に応じて、幅広均一に発熱していく。
In addition, a wide and uniform current flows from the
また、正極を第二電極３３ｂ、負極を第一電極３３ａとした場合、電流は、上記の第１の経路及び第２の経路を逆向きに流れることになる。この構成において、正極である導電性の高い第二電極３３ｂの給電点にリード線から給電されると、第二電極３３ｂの内部では、すみやかに電流が広がって流れる。そのため、第二電極３３ｂから反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂに幅広均一な電流が流れる。これにより、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂでは、ＰＴＣ材料層３４に向かって幅広均一に電流が流れる。反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂは、ＰＴＣ材料層３４に向かう幅広均一な電流に応じて、幅広均一に発熱していく。そのため、本実施例によれば、ヒータミラーを均一に発熱させることができる。
Further, when the positive electrode is the
また、ＰＴＣ材料層３４は、温度上昇とともに内部抵抗が増大し、電流が流れにくくなる。そのため、通電抑制により、ヒータミラーの温度調節を行い、温度を一定に保つことができる。これにより、ヒータミラーに自己温度制御機能を持たせることができる。
Moreover, the internal resistance of the
更には、本実施例においても、第一電極３３ａ及び第二電極３３ｂは、より線膨張率の小さな反射膜兼抵抗発熱膜１２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ上に積層されている。このように構成した場合、反射膜兼抵抗発熱膜３２ａ及び反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂが熱膨張したとしても、第一電極３３ａ及び第二電極３３ｂは、その熱膨張に追従できる。そのため、第一電極３３ａ及び第二電極３３ｂにクラックは発生しない。従って、本実施例においても、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。尚、本実施例において、ＰＴＣ材料層３４は、第一電極３３ａの一部のみを覆っている。このように構成すれば、ＰＴＣ材料層３４の材料を節約しつつ、位置合わせの容易な幅広のＰＴＣ材料層３４を用いることができる。
Furthermore, also in this embodiment, the
図７、８は、本発明の第２実施形態に係るヒータミラーの第２の実施例（実施例４）の構成を示す。図７は、ヒータミラーの背面図である。図８は、ヒータミラーの断面図である。本実施例において、ヒータミラーは、基板４１、反射膜兼抵抗発熱膜４２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜４２ｂ、第一電極４３ａ、第二電極４３ｂ、ＰＴＣ材料層４４、及び保護材層４６を備える。ＰＴＣ材料層４４は、スリット４５と、第一電極４３ａのほぼ全体とをを連続的に覆う。このように構成すれば、位置合わせの容易な幅広のＰＴＣ材料層４４を用いることができる。
7 and 8 show the configuration of a second example (Example 4) of the heater mirror according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a rear view of the heater mirror. FIG. 8 is a cross-sectional view of the heater mirror. In this embodiment, the heater mirror includes a
この点を除き、本実施例のヒータミラーは、実施例３のヒータミラーと同一又は同様である。基板４１、反射膜兼抵抗発熱膜４２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜４２ｂ、第一電極４３ａ、第二電極４３ｂ、ＰＴＣ材料層４４、及び保護材層４６は、実施例３における基板３１、反射膜兼抵抗発熱膜３２ａ、反射膜兼抵抗発熱膜３２ｂ、第一電極３３ａ、第二電極３３ｂ、ＰＴＣ材料層３４、及び保護材層３６と同一又は同様の構成を有する。反射膜兼抵抗発熱膜４２ａと反射膜兼抵抗発熱膜４２ｂとは、実施例３におけるスリット３５と同一又は同様のスリット４５により分割されている。図８に示した要部４０は、図６に示した要部３０に対応する部分である。従って、本実施例においても、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。
Except for this point, the heater mirror of the present embodiment is the same as or similar to the heater mirror of the third embodiment. The
図９、１０は、本発明の第３実施形態に係るヒータミラーの第１の実施例（実施例５）の構成を示す。図９は、ヒータミラーの背面図である。図１０は、ヒータミラーの断面図である。本実施例において、ヒータミラーは、基板５１、反射膜兼抵抗発熱膜５２、第一電極５３ａ、第二電極５３ｂ、ＰＴＣ材料層５４、及び保護材層５６を備える。
9 and 10 show the configuration of a first example (Example 5) of the heater mirror according to the third embodiment of the present invention. FIG. 9 is a rear view of the heater mirror. FIG. 10 is a cross-sectional view of the heater mirror. In the present embodiment, the heater mirror includes a
尚、以下に説明する点を除き、本実施例のヒータミラーは、実施例１のヒータミラーと同一又は同様である。基板５１、反射膜兼抵抗発熱膜５２、第一電極５３ａ、第二電極５３ｂ、ＰＴＣ材料層５４、及び保護材層５６は、実施例１における基板１１、反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂ、第一電極１３ａ、第二電極１３ｂ、ＰＴＣ材料層１４、及び保護材層１６と同一又は同様の構成を有する。図１０に示した要部５０は、図２に示した要部１０に対応する部分である。
Except for the points described below, the heater mirror of the present embodiment is the same as or similar to the heater mirror of the first embodiment. The
本実施例のヒータミラーは、実施例１のヒータミラーから反射膜兼抵抗発熱膜１２ａを除いた場合と同様の構成を有している。反射膜兼抵抗発熱膜１２ａに対応する構成がないため、本実施例において、保護材層５６は、反射膜兼抵抗発熱膜５２、第一電極５３ａ、第二電極５３ｂ、ＰＴＣ材料層５４、及び基板５１を連続的に覆って形成される。また、実施例１の反射膜兼抵抗発熱膜１２ｂに対応する反射膜兼抵抗発熱膜５２は、基板５１の背面において、背面の一部分を欠いた領域に形成される。実施例１の第一電極１３ａに対応する第一電極５３ａは、反射膜兼抵抗発熱膜５２から離間して、基板５１の背面に直接形成される。
The heater mirror of the present embodiment has the same configuration as that of the heater mirror of Embodiment 1 except that the reflective film /
反射膜兼抵抗発熱膜５２は、例えば、実施例１の基板１１と同様の基板５１を用い、基板５１の背面上の一部がマスキング治具等でマスキングされた状態で、真空蒸着又はスパッタリング等により形成される。反射膜兼抵抗発熱膜５２は、真空蒸着又はスパッタリング等により基板５１の背面全体に成膜された膜を酸等の薬品でエッチングすることにより形成されてもよい。
As the reflective film /
第一電極５３ａは、基板５１背面において反射膜兼抵抗発熱膜５２が形成されずに露出している部分に、基板５１の一方の端部形状に沿って形成される。また、第二電極５３ｂは、反射膜兼抵抗発熱膜５２上に、基板５１の他方の端部形状に沿って形成される。第一電極５３ａ及び第二電極５３ｂのそれぞれの端部には、外部電源のリード線がそれぞれ接続される。尚、端部形状とは、例えば、端辺の形状である。
The
また、本実施例においては、実施例１の反射膜兼抵抗発熱膜１２ａに対応する構成がないため、スリット１５に対応するスリットはない。ＰＴＣ材料層５４は、スリットを覆う代わりに、第一電極５３ａと反射膜兼抵抗発熱膜５２とを接続するように、第一電極５３ａと反射膜兼抵抗発熱膜５２との間に形成される。本実施例において、ＰＴＣ材料層５４は、反射膜兼抵抗発熱膜５２の一部と、第一電極５３ａの一部とを、連続的に覆って形成される。これにより、ＰＴＣ材料層５４は、反射膜兼抵抗発熱膜５２の一方の端部形状に沿って、第一電極５３ａと反射膜兼抵抗発熱膜５２との間の隙間を覆うように形成される。
In addition, in this embodiment, since there is no configuration corresponding to the reflective film /
ここで、本実施例の各部材の導電性は、実施例１における対応する部材と同程度である。また、例えば、正極を第一電極５３ａ、負極を第二電極５３ｂとした場合、電流は、第一電極５３ａから、ＰＴＣ材料層５４及び反射膜兼抵抗発熱膜５２を順次通って、第二電極５３ｂへ流れる。この構成において、正極である導電性の高い第一電極５３ａの給電点にリード線から給電されると、第一電極５３ａの内部では、すみやかに電流が広がって流れる。これにより、第一電極５３ａからＰＴＣ材料層５４へ、幅広均一な電流が流れる。
Here, the conductivity of each member of the present embodiment is comparable to the corresponding member in the first embodiment. Further, for example, when the positive electrode is the
そして、第一電極５３ａから供給される幅広均一な電流は、第一電極５３ａと反射膜兼抵抗発熱膜５２との間の隙間を覆うＰＴＣ材料層５４を、幅広均一なまま、反射膜兼抵抗発熱膜５２に向かって流れる。また、反射膜兼抵抗発熱膜５２においても、幅広均一な電流が、第二電極５３ｂに向かって流れる。そのため、反射膜兼抵抗発熱膜５２は、第二電極５３ｂに向かう幅広均一な電流に応じて、幅広均一に発熱していく。
The wide and uniform current supplied from the
また、正極を第二電極５３ｂ、負極を第一電極５３ａとした場合、電流は、第二電極５３ｂから、反射膜兼抵抗発熱膜５２及びＰＴＣ材料層５４を順次通って、第一電極５３ａへ流れる。この構成において、正極である導電性の高い第二電極５３ｂの給電点にリード線より給電されると、第二電極５３ｂの内部では、すみやかに電流が広がって流れる。これにより、第二電極５３ｂから反射膜兼抵抗発熱膜５２へ、幅広均一な電流が流れる。そして、反射膜兼抵抗発熱膜５２からより導電性の低いＰＴＣ材料層５４へ、幅広均一な電流が流れる。反射膜兼抵抗発熱膜５２は、ＰＴＣ材料層５４に向かう幅広均一な電流に応じて、幅広均一に発熱していく。
Further, when the positive electrode is the
このように、本実施例においても、導電性の高い第一電極５３ａ及び第二電極５３ｂを給電電極として使用しているため、いずれを正極又は負極にした場合であっても、給電点にリード線より給電された電流は、電極内部において、すみやかに広がって流れる。また、ＰＴＣ材料層５４には、第一電極５３ａ又は反射膜兼抵抗発熱膜５２を介して、幅広均一な電流が供給される。これにより、ヒータミラーの発熱源である反射膜兼抵抗発熱膜５２においても、順次各部材を通って、幅広均一な電流が流れることとなる。そのため、本実施例によれば、ヒータミラーを均一に発熱させることができる。また、ＰＴＣ材料層５４を用いた通電抑制により、ヒータミラーの温度調節を行い、温度を一定に保つことができる。これにより、ヒータミラーに自己温度制御機能を持たせることができる。
Thus, also in this embodiment, since the
また、本実施例において、第一電極５３ａは、より線膨張率の小さな基板５１の上に形成されている。このように構成した場合、下層の基板５１が熱膨張したとしても、第一電極５３ａは、その熱膨張に追従できる。そのため、第一電極５３ａにクラックは発生しない。また、第二電極５３ｂは、より線膨張率の小さな反射膜兼抵抗発熱膜５２上に積層されている。このように構成した場合、下層の反射膜兼抵抗発熱膜５２が熱膨張したとしても、第二電極５３ｂは、その熱膨張に追従できる。そのため、第二電極５３ｂにクラックは発生しない。
In the present embodiment, the
このように、本実施例においても、線膨張率が低い材料から高い材料へ積層される構成になっているため、熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。そのため、本実施例によれば、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。 Thus, also in the present embodiment, since it is configured to be laminated from a material having a low coefficient of linear expansion to a material having a high linear expansion coefficient, occurrence of cracks due to thermal expansion can be suppressed. Therefore, according to the present embodiment, the heater mirror having the self-temperature control function can uniformly generate heat, and the generation of cracks due to thermal expansion can be suppressed.
図１１、１２は、本発明の第３実施形態に係るヒータミラーの第２の実施例（実施例６）の構成を示す。図１１は、ヒータミラーの背面図である。図１２は、ヒータミラーの断面図である。本実施例において、ヒータミラーは、基板６１、反射膜兼抵抗発熱膜６２、第一電極６３ａ、第二電極６３ｂ、ＰＴＣ材料層６４、及び保護材層６６を備える。
11 and 12 show the configuration of a second example (Example 6) of the heater mirror according to the third embodiment of the present invention. FIG. 11 is a rear view of the heater mirror. FIG. 12 is a cross-sectional view of the heater mirror. In the present embodiment, the heater mirror includes a
本実施例において、ＰＴＣ材料層６４は、反射膜兼抵抗発熱膜６２の一部と、第一電極６３ａのほぼ全体とをを連続的に覆う。このように構成すれば、位置合わせの容易な幅広のＰＴＣ材料層６４を用いることができる。
In this embodiment, the
この点を除き、本実施例のヒータミラーは、実施例５のヒータミラーと同一又は同様である。基板６１、反射膜兼抵抗発熱膜６２、第一電極６３ａ、第二電極６３ｂ、ＰＴＣ材料層６４、及び保護材層６６は、実施例５における基板５１、反射膜兼抵抗発熱膜５２、第一電極５３ａ、第二電極５３ｂ、ＰＴＣ材料層５４、及び保護材層５６と同一又は同様の構成を有する。図１２に示した要部６０は、図１０に示した要部５０に対応する部分である。従って、本実施例においても、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。
Except for this point, the heater mirror of the present embodiment is the same as or similar to the heater mirror of the fifth embodiment. The
図１３、１４は、本発明の第４実施形態に係るヒータミラーの第１の実施例（実施例７）の構成を示す。図１３は、ヒータミラーの背面図である。図１４は、ヒータミラーの断面図である。本実施例において、ヒータミラーは、基板７１、反射膜兼抵抗発熱膜７２、第一電極７３ａ、第二電極７３ｂ、ＰＴＣ材料層７４、及び保護材層７６を備える。
13 and 14 show the configuration of the first example (Example 7) of the heater mirror according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 13 is a rear view of the heater mirror. FIG. 14 is a sectional view of the heater mirror. In the present embodiment, the heater mirror includes a
尚、以下に説明する点を除き、本実施例のヒータミラーは、実施例５のヒータミラーと同一又は同様である。基板７１、反射膜兼抵抗発熱膜７２、第一電極７３ａ、第二電極７３ｂ、ＰＴＣ材料層７４、及び保護材層７６は、実施例５における基板５１、反射膜兼抵抗発熱膜５２、第一電極５３ａ、第二電極５３ｂ、ＰＴＣ材料層５４、及び保護材層５６と同一又は同様の構成を有する。図１４に示した要部７０は、図１０に示した要部５０に対応する部分である。
Except for the points described below, the heater mirror of the present embodiment is the same as or similar to the heater mirror of the fifth embodiment. The
本実施例のヒータミラーは、実施例５の第一電極５３ａ及びＰＴＣ材料層５４に対応する第一電極７３ａ及びＰＴＣ材料層７４を形成する順序が、実施例５と異なる。本実施例において、ＰＴＣ材料層７４は、第一電極７３ａよりも先に形成される。そのため、ＰＴＣ材料層７４は、反射膜兼抵抗発熱膜７２の一部と、基板７１の一部とを覆うように形成される。ＰＴＣ材料層７４は、基板７１上において、反射膜兼抵抗発熱膜７２の欠けた形状の端辺上を連続に覆う。
The order of forming the
第一電極７３ａは、ＰＴＣ材料層７４の一部を覆うように形成される。本実施例において、第一電極７３ａは、基板７１上において、ＰＴＣ材料層７４の片側の端辺上を連続に覆う。これにより、第一電極７３ａは、基板７１背面において、反射膜兼抵抗発熱膜７２が形成されずに露出している部分に直接形成される。
The
ここで、本実施例の各部材の導電性は、実施例５における対応する部材と同程度である。また、第一電極７３ａと第二電極７３ｂとの間に流れる電流の経路も、実施例５と同様である。本実施例においても、導電性の高い第一電極７３ａ及び第二電極７３ｂを給電電極として使用しているため、いずれを正極又は負極にした場合であっても、給電点にリード線より給電された電流は、電極内部において、すみやかに広がって流れる。また、ＰＴＣ材料層７４には、第一電極７３ａ又は反射膜兼抵抗発熱膜７２を介して、幅広均一な電流が供給される。これにより、ヒータミラーの発熱源である反射膜兼抵抗発熱膜７２においても、順次各部材を通って、幅広均一な電流が流れることとなる。そのため、本実施例によれば、ヒータミラーを均一に発熱させることができる。また、反射膜兼抵抗発熱膜７２を用いた通電抑制により、ヒータミラーの温度調節を行い、温度を一定に保つことができる。これにより、ヒータミラーに自己温度制御機能を持たせることができる。
Here, the conductivity of each member of the present embodiment is comparable to the corresponding member in the fifth embodiment. The path of the current flowing between the
また、本実施例の各部材の線膨張率は、実施例５における対応する部材と同程度である。第一電極７３ａは、より線膨張率の小さな基板７１の上に形成されている。第二電極７３ｂは、より線膨張率の小さな反射膜兼抵抗発熱膜７２上に積層されている。そのため、下層の基板７１及び反射膜兼抵抗発熱膜７２が熱膨張したとしても、第一電極７３ａ及び第二電極７３ｂは、その熱膨張に追従できる。そのため、第一電極７３ａ及び第二電極７３ｂにクラックは発生しない。
Moreover, the linear expansion coefficient of each member of the present embodiment is comparable to the corresponding member in the fifth embodiment. The
このように、本実施例においても、線膨張率が低い材料から高い材料へ積層される構成になっているため、熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。そのため、本実施例によれば、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。 Thus, also in the present embodiment, since it is configured to be laminated from a material having a low coefficient of linear expansion to a material having a high linear expansion coefficient, occurrence of cracks due to thermal expansion can be suppressed. Therefore, according to the present embodiment, the heater mirror having the self-temperature control function can uniformly generate heat, and the generation of cracks due to thermal expansion can be suppressed.
尚、本実施例において、第一電極７３ａの一部は、ＰＴＣ材料層７４の一部を覆っている。しかし、図１４に示した要部７０からも分かるように、第一電極７３ａは、ＰＴＣ材料層７４と側壁部分においても接している。この構成においては、側壁部分において電流の通過面積を確保できるため、ＰＴＣ材料層７４上面において第一電極７３ａに覆われる面積がわずかである。この面積がわずかであれば、ＰＴＣ材料層７４の熱膨張は保護材層７６に向かって広がるため、第一電極７３ａが受ける熱膨張の影響は小さい。そのため、本実施例において、第一電極７３ａにクラックは発生しない。ＰＴＣ材料層７４は、上面において第一電極７３ａに覆われる部分の割合を小さくするように、基板７１上に広い面積（幅広）で形成されるのが好ましい。
In the present embodiment, a part of the
図１５、１６は、本発明の第４実施形態に係るヒータミラーの第２の実施例（実施例８）の構成を示す。図１５は、ヒータミラーの背面図である。図１６は、ヒータミラーの断面図である。本実施例において、ヒータミラーは、基板８１、反射膜兼抵抗発熱膜８２、第一クリップ電極８３ａ、第二クリップ電極８３ｂ、ＰＴＣ材料層８４、及び保護材層８６を備える。
15 and 16 show the configuration of a second example (Example 8) of the heater mirror according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 15 is a rear view of the heater mirror. FIG. 16 is a cross-sectional view of the heater mirror. In the present embodiment, the heater mirror includes a
尚、以下に説明する点を除き、本実施例のヒータミラーは、実施例７のヒータミラーと同一又は同様である。基板８１、反射膜兼抵抗発熱膜８２、ＰＴＣ材料層８４、及び保護材層８６は、実施例７における基板７１、反射膜兼抵抗発熱膜７２、ＰＴＣ材料層７４、及び保護材層７６と同一又は同様の構成を有する。図１６に示した要部８０は、図１４に示した要部７０に対応する部分である。また、第一クリップ電極８３ａ及び第二クリップ電極８３ｂは、実施例２における第一クリップ電極２３ａ及び第二クリップ電極２３ｂと同一又は同様の構成を有する。
Except for the points described below, the heater mirror of the present embodiment is the same as or similar to the heater mirror of the seventh embodiment. The
本実施例のヒータミラーは、実施例７における第一電極７３ａ及び第二電極７３ｂを、第一クリップ電極８３ａ及び第二クリップ電極８３ｂに置き換えたものである。導電性の高い第一クリップ電極８３ａ及び第二クリップ電極８３ｂを給電電極として使用しているため、いずれを正極又は負極にした場合であっても、給電点にリード線より給電された電流は、電極内部において、すみやかに広がって流れる。そして、ヒータミラーの発熱源である反射膜兼抵抗発熱膜８２には、各部材を順次通った電流が幅広均一に流れる。また、この電流に応じて、反射膜兼抵抗発熱膜８２は、幅広均一に発熱していく。
The heater mirror of this example is obtained by replacing the
また、第一クリップ電極８３ａ及び第二クリップ電極８３ｂは、下層の基板８１及び反射膜兼抵抗発熱膜８２より線膨張率が大きく、バネ性を有している。そのため、基板８１及び反射膜兼抵抗発熱膜８２が熱膨張したとしても、第一クリップ電極８３ａ及び第二クリップ電極８３ｂは、その熱膨張に追従できる。また、第一クリップ電極８３ａ及び第二クリップ電極８３ｂにクラックは発生しない。
Further, the
また、ＰＴＣ材料層８４は、温度上昇とともに内部抵抗が増大し、電流が流れにくくなる。そのため、通電抑制により、ヒータミラーの温度調節を行い、温度を一定に保つことができる。これにより、ヒータミラーに自己温度制御機能を持たせることができる。このように、本実施例においても、自己温度制御機能を有するヒータミラーを均一に発熱させ、かつ熱膨張によるクラックの発生を抑えることができる。
In addition, the
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above embodiment. It is apparent from the description of the scope of claims that embodiments with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.
本発明は、例えばヒータミラーに好適に利用できる。 The present invention can be suitably used for, for example, a heater mirror.
１０・・・要部、１１・・・基板、１２ａ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、１２ｂ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、１３ａ・・・第一電極、１３ｂ・・・第二電極、１４・・・ＰＴＣ材料層、１５・・・スリット、１６・・・保護材層、２０・・・要部、２１・・・基板、２２ａ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、２２ｂ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、２３ａ・・・第一クリップ電極、２３ｂ・・・第二クリップ電極、２４・・・ＰＴＣ材料層、２５・・・スリット、２６・・・保護材層、３０・・・要部、３１・・・基板、３２ａ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、３２ｂ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、３３ａ・・・第一電極、３３ｂ・・・第二電極、３４・・・ＰＴＣ材料層、３５・・・スリット、３６・・・保護材層、４０・・・要部、４１・・・基板、４２ａ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、４２ｂ・・・反射膜兼抵抗発熱膜、４３ａ・・・第一電極、４３ｂ・・・第二電極、４４・・・ＰＴＣ材料層、４５・・・スリット、４６・・・保護材層、５０・・・要部、５１・・・基板、５２・・・反射膜兼抵抗発熱膜、５３ａ・・・第一電極、５３ｂ・・・第二電極、５４・・・ＰＴＣ材料層、５６・・・保護材層、６０・・・要部、６１・・・基板、６２・・・反射膜兼抵抗発熱膜、６３ａ・・・第一電極、６３ｂ・・・第二電極、６４・・・ＰＴＣ材料層、６６・・・保護材層、７０・・・要部、７１・・・基板、７２・・・反射膜兼抵抗発熱膜、７３ａ・・・第一電極、７３ｂ・・・第二電極、７４・・・ＰＴＣ材料層、７６・・・保護材層、８０・・・要部、８１・・・基板、８２・・・反射膜兼抵抗発熱膜、８３ａ・・・第一クリップ電極、８３ｂ・・・第二クリップ電極、８４・・・ＰＴＣ材料層、８６・・・保護材層
DESCRIPTION OF
Claims (7)
少なくとも背面が非導電性の基板と、
前記基板の背面に形成された、スリットにより分割された複数の抵抗発熱膜と、
分割された一方の前記抵抗発熱膜上に形成された第一電極と、
分割された他方の前記抵抗発熱膜上に形成された第二電極と、
前記スリットを覆うＰＴＣ材料層と
を備えることを特徴とするヒータミラー。 A heater mirror,
A non-conductive substrate at least on the back side,
A plurality of resistance heating films formed on the back surface of the substrate and divided by slits;
A first electrode formed on one of the divided resistance heating films;
A second electrode formed on the other divided resistance heating film;
A heater mirror comprising: a PTC material layer covering the slit.
少なくとも背面が非導電性の基板と、
前記基板の背面において、前記背面の一部分を欠いた領域に形成された抵抗発熱膜と、
前記抵抗発熱膜から離間して、前記基板の背面に直接形成された第一電極と、
前記抵抗発熱膜上に形成された第二電極と、
前記第一電極と前記抵抗発熱膜とを接続するように、前記第一電極と前記抵抗発熱膜との間に形成されたＰＴＣ材料層と
を備えることを特徴とするヒータミラー。 A heater mirror,
A non-conductive substrate at least on the back side,
On the back surface of the substrate, a resistance heating film formed in a region lacking a part of the back surface;
A first electrode formed directly on the back surface of the substrate apart from the resistance heating film;
A second electrode formed on the resistance heating film;
A heater mirror comprising: a PTC material layer formed between the first electrode and the resistance heating film so as to connect the first electrode and the resistance heating film.
前記第一電極は、前記ＰＴＣ材料層の一部を覆うことを特徴とする請求項４に記載のヒータミラー。
The PTC material layer covers a part of the resistance heating film,
The heater mirror according to claim 4, wherein the first electrode covers a part of the PTC material layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005085347A JP2006269241A (en) | 2005-03-24 | 2005-03-24 | Heater mirror |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005085347A JP2006269241A (en) | 2005-03-24 | 2005-03-24 | Heater mirror |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006269241A true JP2006269241A (en) | 2006-10-05 |
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ID=37204972
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005085347A Pending JP2006269241A (en) | 2005-03-24 | 2005-03-24 | Heater mirror |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2006269241A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008198538A (en) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Mitsubishi Electric Corp | Planar heating element, divider in refrigerator-freezer using it, and manufacturing method of planar heating element |
| EP2315495A1 (en) * | 2009-10-22 | 2011-04-27 | SMR Patents S.à.r.l. | Process to apply heater function to plastic glass |
| WO2023276463A1 (en) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 東京コスモス電機株式会社 | Planar heating element, optical device, and method for manufacturing planar heating element |
| WO2023153493A1 (en) * | 2022-02-14 | 2023-08-17 | 東京コスモス電機株式会社 | Planar heat-generating element |
-
2005
- 2005-03-24 JP JP2005085347A patent/JP2006269241A/en active Pending
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