JP2006262396A - Microwave resonator couple, microwave filter, and microwave filter group - Google Patents

Microwave resonator couple, microwave filter, and microwave filter group Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To extend the latitude of designing a high frequency member of a communication apparatus by providing various kinds of strong and weak couplings between resonators within the same board. <P>SOLUTION: In the microwave resonator couple, resonators 101 and 102 composed of a microstrip line where a line-shaped electrode is formed on one principal surface of a dielectric layer 11 and a common electrode is formed on the other principal surface, are disposed so as to form a couple. The thickness of the dielectric layer 11 is different between one of the coupled resonators 101 and 102 and the other. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、マイクロストリップラインにより構成される共振器を用いたマイクロ波共振器対、更にはこの共振器対を用いたマイクロ波フィルタ及びマイクロ波フィルタ群に関する。   The present invention relates to a microwave resonator pair using a resonator constituted by a microstrip line, and further to a microwave filter and a group of microwave filters using the resonator pair.

無線又は有線で情報通信を行う通信機器には、共振特性を利用した高周波部材が多く含まれている。例えば、帯域通過(バンドパス)フィルタは、共振素子を複数個並べて特定の周波数帯の信号のみを通過させる機能を有する。このバンドパスフィルタは、励振線と共振器、更にそれぞれの共振器対で作る結合によって構成されている。   Communication devices that perform information communication wirelessly or by wire include many high-frequency members that use resonance characteristics. For example, a band pass filter has a function of arranging a plurality of resonant elements and passing only signals in a specific frequency band. This band-pass filter is configured by an excitation line, a resonator, and a coupling formed by each resonator pair.

通信システムで用いるバンドパスフィルタには、隣接する周波数帯域間で干渉を起こさないようなスカート特性が要求される。これは、急峻なスカート特性を有するバンドパスフィルタを用いることで、周波数を有効に利用することができるからである。ここで、スカート特性とは、通過帯域端部から阻止域に至る減衰の度合いである。   A bandpass filter used in a communication system is required to have a skirt characteristic that does not cause interference between adjacent frequency bands. This is because the frequency can be used effectively by using a bandpass filter having a steep skirt characteristic. Here, the skirt characteristic is the degree of attenuation from the end of the pass band to the stop band.

超狭帯域なバンドパスフィルタの従来例として、高温超伝導体を用いたマイクロストリップライン構造を採用した例がある(例えば、非特許文献1参照)。ここで、本明細書では、比帯域で1%未満を超狭帯域、5%未満を狭帯域と呼ぶこととする。この文献のフィルタは5段のチェビシェフ型フィルタであるが、比帯域0.014%を実現している。このような超狭帯域フィルタは、共振器間の結合を非常に小さくする必要がある。   As a conventional example of an ultra-narrow band-pass filter, there is an example in which a microstrip line structure using a high-temperature superconductor is employed (see, for example, Non-Patent Document 1). Here, in this specification, in the specific band, less than 1% is referred to as an ultra-narrow band, and less than 5% is referred to as a narrow band. The filter of this document is a five-stage Chebyshev type filter, which realizes a relative bandwidth of 0.014%. Such an ultra-narrow band filter requires very small coupling between resonators.

しかしながら、共振器対の間の距離で変えることができ、安定な結合を得ることが可能な結合の取り得る範囲が限られているために、この共振器対を用いてフィルタを構成しようとすると、シャープカットに必要なフィルタ段数の増加と狭帯域化が両立できない。また、超狭帯域フィルタでは弱い結合が必須で、そのために多段にすると非常に大きくなり、基板の反り等の問題もあり、実現が非常に困難になる。さらに、超狭帯域フィルタを複数個用いてフィルタバンク化しようとすると、もともと小さい結合で構成されているフィルタであるため、別のフィルタとの弱い結合が効いてきて、特性に変調をきたすという問題があった。
IEEE International Microwave Symposium Digest, Vol.3, June 2003., P.P.1881-4
However, since the range of the coupling that can be changed by the distance between the resonator pair and that can obtain a stable coupling is limited, when a filter is configured using this resonator pair, The increase in the number of filter stages necessary for sharp cutting and the narrowing of the band cannot be achieved at the same time. In addition, weak coupling is indispensable in the ultra-narrow band filter. For this reason, if it is multistage, it becomes very large, and there are problems such as warping of the substrate, which makes it very difficult to realize. Furthermore, when trying to create a filter bank using a plurality of ultra-narrow band filters, the filter is originally composed of small coupling, so that weak coupling with another filter is effective and the characteristic is modulated. was there.
IEEE International Microwave Symposium Digest, Vol.3, June 2003., PP1881-4

従来の技術で挙げたような超狭帯域フィルタを実現するためには、共振器間の結合を極めて弱くする必要がある。共振器間の結合の強さは共振器間の距離に関係し、共振器間の距離を離せば弱い結合が得られる。しかし、共振器間の距離を離すのも基板サイズの制約がある。そこで、短い共振器間距離で弱い結合を達成するために、基板を薄くすることが考えられる。基板を薄くすれば、確かに短い距離で弱い結合を達成できるが、そうすると今度は、強い結合を持たせる場合に共振器間を非常に近接させなければならず、製作の上で困難が生じてくる。   In order to realize an ultra narrow band filter as mentioned in the prior art, it is necessary to extremely weaken the coupling between the resonators. The strength of coupling between the resonators is related to the distance between the resonators, and weak coupling can be obtained by separating the distances between the resonators. However, the distance between the resonators is also limited by the substrate size. Therefore, in order to achieve weak coupling with a short inter-resonator distance, it is conceivable to make the substrate thin. If the substrate is made thinner, it is possible to achieve weak coupling at a short distance, but this time, in order to provide strong coupling, the resonators must be very close to each other, which makes manufacturing difficult. come.

本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、同一基板内に強弱様々な結合を共振器間に持たせることができ、通信機器の高周波部材などの設計の許容度を広げることのできるマイクロ波共振器対、マイクロ波フィルタ、及びマイクロ波フィルタ群を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and the object of the present invention is to provide various couplings between the resonators in the same substrate between the resonators, and to design high-frequency members of communication equipment. An object is to provide a microwave resonator pair, a microwave filter, and a group of microwave filters that can increase the tolerance.

上記課題を解決するために本発明は、次のような構成を採用している。   In order to solve the above problems, the present invention adopts the following configuration.

即ち、本発明の一態様は、誘電体層の一方の主面上に第1のライン状電極が形成され、他方の主面上に共通電極が形成されたマイクロストリップラインにより構成される第1の共振器と、前記第1の共振器と同様な構造を有し、前記第1のライン状電極に隣接して第2のライン状電極が配置され、前記共通電極が共用された第2の共振器とを具備したマイクロ波共振器対であって、前記第1及び第2の共振器の一方と他方で前記誘電体層の厚みが異なることを特徴とする。   That is, according to one aspect of the present invention, the first line-shaped electrode is formed on one main surface of the dielectric layer, and the first is configured by a microstrip line in which a common electrode is formed on the other main surface. And a second line electrode having a structure similar to that of the first resonator, the second line electrode being disposed adjacent to the first line electrode, and the common electrode being shared. A microwave resonator pair including a resonator, wherein one of the first and second resonators is different in thickness from the other dielectric layer.

また、本発明の別の一態様は、誘電体層の一方の主面上にライン状電極が形成され、他方の主面上に共通電極が形成されたマイクロストリップラインにより構成される共振器が、一方向に沿って複数個配列されたマイクロ波フィルタであって、前記共振器のうち少なくとも一つは他の共振器よりも前記誘電体層の膜厚が薄いことを特徴とする。   Another aspect of the present invention is a resonator including a microstrip line in which a line electrode is formed on one main surface of a dielectric layer and a common electrode is formed on the other main surface. A plurality of microwave filters arranged along one direction, wherein at least one of the resonators is thinner in thickness of the dielectric layer than the other resonators.

また、本発明の更に別の一態様は、誘電体層の一方の主面上にライン状電極が形成され、他方の主面上に共通電極が形成されたマイクロストリップラインにより構成される第1の共振器が、一方向に沿って複数個配列された第1のマイクロ波フィルタと、前記第1の共振器と同様な構造を有する第2の共振器が一方向に沿って複数個配列され、且つ第1のマイクロ波フィルタと平行に配置された第2のマイクロ波フィルタとを具備したマイクロ波フィルタ群であって、第1及び第2のマイクロ波フィルタにおける前記誘電体層の膜厚が異なることを特徴とする。   According to still another aspect of the present invention, there is provided a first configuration including a microstrip line in which a line electrode is formed on one main surface of a dielectric layer and a common electrode is formed on the other main surface. A plurality of first microwave filters in which a plurality of resonators are arranged in one direction and a plurality of second resonators having a structure similar to that of the first resonator are arranged in one direction. And a microwave filter group having a second microwave filter arranged in parallel with the first microwave filter, wherein the dielectric layer in the first and second microwave filters has a film thickness. It is characterized by being different.

本発明によれば、同一基板上に形成されたマイクロストリップライン構造において、隣接する共振器間、又は異なるフィルタ間で誘電体層の厚みを変えることにより、同一基板(誘電体層)内に結合の強さの異なる共振器対を配置することができる。従って、通信機器の高周波部材などの設計の許容度を広げることができ、その有用性は大である。   According to the present invention, in a microstrip line structure formed on the same substrate, coupling between the adjacent resonators or different filters by changing the thickness of the dielectric layer in the same substrate (dielectric layer) Resonator pairs with different strengths can be arranged. Accordingly, it is possible to widen the design tolerance of the high-frequency member of the communication device, and its usefulness is great.

実施形態を説明する前に、本発明の基本的な考え方について説明する。   Before describing the embodiments, the basic concept of the present invention will be described.

帯域通過フィルタの構成は、図1に示すように、励振線1と共振器2、更にそれぞれの共振器対で作る結合3,4によって実現される。前述したように、超狭帯域フィルタを実現するためには、共振器間の結合を極めて弱くする必要があり、短い共振器間距離で弱い結合を達成するために、基板(誘電体層)を薄くする必要がある。   As shown in FIG. 1, the configuration of the band pass filter is realized by an excitation line 1, a resonator 2, and couplings 3 and 4 formed by respective resonator pairs. As described above, in order to realize an ultra narrow band filter, it is necessary to extremely weaken the coupling between the resonators, and in order to achieve a weak coupling at a short distance between the resonators, a substrate (dielectric layer) is required. It needs to be thin.

基板が薄い場合の共振器間の距離と結合の強さの関係を図2中のAに示す。図2には、基板が薄くなった効果が分かるように、厚い場合の特性もBとして表示してある。図2より、基板を薄くすれば、確かに短い距離で弱い結合を達成できるが、そうすると今度は、強い結合を持たせる場合、共振器間を非常に近接させなければならず、製作の上で困難が生じてくる。   The relationship between the distance between the resonators and the strength of coupling when the substrate is thin is shown in FIG. In FIG. 2, the characteristic when the substrate is thick is also displayed as B so that the effect of thinning the substrate can be seen. From FIG. 2, if the substrate is made thinner, it is possible to achieve a weak coupling at a short distance. However, in this case, in order to have a strong coupling, the resonators must be very close together. Difficulties arise.

そこで本発明者らは、誘電体層に段差を持たせたマイクロストリップライン構造を考案した。   Accordingly, the present inventors have devised a microstrip line structure in which a step is provided in the dielectric layer.

誘電体層の厚さが厚い場合と薄い場合の共振器間の結合係数kとギャップsの関係は、図2の特性AとBに、それぞれ示してある。基板の大きさをx2、導体パターン形成の際に可能な最小のギャップをx1とすれば、物理的に製作可能なギャップsは、x1<s<x2となり、この区間X1-2 に対応する結合係数kが実現可能なkの値である。 The relationship between the coupling coefficient k and the gap s between the resonators when the dielectric layer is thick and thin is shown in the characteristics A and B of FIG. 2, respectively. The size of the substrate x2, if the smallest gap possible at the time of the conductive pattern formation and x1, physically manufacturable gap s is, x1 <s <x2, and the corresponding to the section X 1-2 The coupling coefficient k is a realizable value of k.

誘電体層の厚さが一様な場合は、得られるkの値の範囲は、厚さが薄い場合は区間ka(ka1〜ka2)であり、厚い場合は区間kb(kb1〜kb2)である。本発明の構造により、厚い部分と薄い部分、2通りの誘電体層の厚さが同一基板内に存在し、得られるkの値の範囲は区間Ka-b (ka1〜kb2)に広げられることになる。 If the thickness of the dielectric layer is uniform, the range of values of the resulting k is the interval when the thickness is thin ka (k a1 ~k a2), a thick case section kb (k b1 to k b2 ). The structure of the present invention, is spread thick portion and a thin portion, the thickness of the dielectric layer in two ways are present in the same substrate, the range of values of the resulting k is the interval K ab (k a1 ~k b2) It will be.

また、上記のように誘電体層の厚さを変化させ所望の結合係数を共振器に持たせる方法により、同一基板上に、共振器間の距離を離すことなく、強弱の結合係数を実現できるため、限られた大きさの基板内での狭帯域シャープカットフィルタの設計が可能である。   In addition, by changing the thickness of the dielectric layer and causing the resonator to have a desired coupling coefficient as described above, a strong and weak coupling coefficient can be realized on the same substrate without increasing the distance between the resonators. Therefore, it is possible to design a narrow-band sharp cut filter within a limited size substrate.

また、2つのフィルタ間で一方の厚さを薄くすれば、フィルタ間の結合が弱くなる。これを、同一基板上の独立したフィルタに用いると、フィルタ間の寄生結合が大幅に低減でき、それぞれのフィルタの特性の寄生結合による変調、或いは劣化を大幅に低減できる。つまり、同一基板上に複数のフィルタを、それぞれの特性に影響を与えることなく、配置できる。これにより、同一基板上にフィルタバンク等の多数個のフィルタを形成でき、特に超狭帯域フィルタの場合は、フィルタ内の結合が非常に弱くフィルタ間の結合にも非常に敏感のため、非常に有効となる。   If one of the two filters is made thinner, the coupling between the filters is weakened. When this is used for independent filters on the same substrate, the parasitic coupling between the filters can be greatly reduced, and the modulation or deterioration due to the parasitic coupling of the characteristics of each filter can be greatly reduced. That is, a plurality of filters can be arranged on the same substrate without affecting each characteristic. As a result, a large number of filters such as filter banks can be formed on the same substrate. Especially in the case of an ultra narrow band filter, the coupling within the filter is very weak and the coupling between the filters is very sensitive. It becomes effective.

以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
図3(a)(b)は、本発明の第1の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの概略構成を説明するためのもので、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。このフィルタは、マイクロストリップライン共振器対を用いた2段フィルタ(共振周波数5GHz、帯域2MHz)である。
(First embodiment)
3A and 3B are diagrams for explaining a schematic configuration of the microwave filter according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3A is a plan view, and FIG. It is -A 'sectional drawing. This filter is a two-stage filter (resonance frequency 5 GHz, band 2 MHz) using a microstrip line resonator pair.

誘電体層としての基板11の一方の主面(表面)上に、ライン状電極14,15,16がそれぞれ形成され、他方の主面(裏面)上には共通電極13が形成されている。ライン状電極14は、L字形パターンに形成され、励振線として機能する。ライン状電極15,16は、コ字形パターンに形成され、共振器を構成するようになっている。即ち、ライン状電極15と共通電極13でマイクロストリップライン構造の第1の共振器101が構成され、ライン状電極16と共通電極13でマイクロストリップライン構造の第2の共振器102が構成されている。そして、共振器101,102で共振器対が構成され、共振器102を設ける部分12の基板膜厚は薄くなっている。   Line electrodes 14, 15 and 16 are formed on one main surface (front surface) of the substrate 11 as a dielectric layer, and a common electrode 13 is formed on the other main surface (back surface). The line electrode 14 is formed in an L-shaped pattern and functions as an excitation line. The line electrodes 15 and 16 are formed in a U-shaped pattern and constitute a resonator. That is, the line-shaped electrode 15 and the common electrode 13 constitute a first resonator 101 having a microstrip line structure, and the line-shaped electrode 16 and the common electrode 13 constitute a second resonator 102 having a microstrip line structure. Yes. The resonators 101 and 102 constitute a resonator pair, and the thickness of the substrate in the portion 12 where the resonator 102 is provided is thin.

次に、上記のマイクロストリップライン構造の製作手順を述べる。誘電体層には、厚さ0.5mm、比誘電率約10のMgO基板11を用いた。この基板11の一方の表面に、イオンミリングにより0.1mm削った領域(凹部領域)12を設けた。そして、基板11の表裏両面に、レーザー蒸着法により超電導膜であるYBCO薄膜を形成した。このYBCO薄膜に対し、上面のみをイオンミリングにより励振線14及び共振器101,102のパターン(15,16)に切り出した。基板11の下面側のYBCO薄膜は共通電極13としてそのまま用いた。なお、図には示さないが、励振線14の電極取り出し部分には、コネクタとのコンタクトを取るために、YBCO薄膜の上にAg,Auの層をスパッタリングとイオンミリングを用いて形成している。   Next, the manufacturing procedure of the microstrip line structure will be described. As the dielectric layer, an MgO substrate 11 having a thickness of 0.5 mm and a relative dielectric constant of about 10 was used. On one surface of the substrate 11, a region (recessed region) 12 cut by 0.1 mm by ion milling was provided. And the YBCO thin film which is a superconducting film was formed in the front and back both surfaces of the board | substrate 11 with the laser vapor deposition method. Only the upper surface of this YBCO thin film was cut into the excitation line 14 and the patterns (15, 16) of the resonators 101, 102 by ion milling. The YBCO thin film on the lower surface side of the substrate 11 was used as it is as the common electrode 13. Although not shown in the drawing, Ag and Au layers are formed on the YBCO thin film by sputtering and ion milling at the electrode lead-out portion of the excitation wire 14 in order to make contact with the connector. .

本実施形態の2段フィルタの特性を、図4に示す。図中の実線が本実施形態素子の特性、破線が従来素子の特性である。従来の一様な厚さの誘電体層を用いて作製した場合と比較して、共振器間の距離は同一にしてあるが、共振器間の結合が小さくなっているため、帯域が小さなフィルタが実現できていることが分かる。   The characteristics of the two-stage filter of this embodiment are shown in FIG. The solid line in the figure is the characteristic of the element of the present embodiment, and the broken line is the characteristic of the conventional element. Compared to the case of using a conventional dielectric layer having a uniform thickness, the distance between the resonators is the same, but since the coupling between the resonators is small, the filter has a small band. It can be seen that is realized.

ここで、電極を形成するための導体として、超電導体であるYBCOを用いているが、他の酸化物超電導体や金属系超電導体、或いはAu等の金属の場合にも、同様に結合が小さい共振器対を実現することができる。また、基板としても、サファイア,LaAlO3 を初めとして、上記導体が成膜できる材料であれば、本実施形態と同様の効果を得ることが可能である。但し、共振器を用いる性質上、共振器の構成要素としては導体損失の小さな導体や誘電損失が小さな基板を用いることが好ましい。 Here, YBCO, which is a superconductor, is used as a conductor for forming an electrode. However, in the case of another oxide superconductor, a metal-based superconductor, or a metal such as Au, the coupling is similarly small. A resonator pair can be realized. Further, the same effects as those of the present embodiment can be obtained as long as the substrate is made of a material capable of forming the conductor, such as sapphire and LaAlO 3 . However, due to the nature of using a resonator, it is preferable to use a conductor with a small conductor loss or a substrate with a small dielectric loss as a component of the resonator.

このように本実施形態によれば、隣接する共振器101,102の一方に対し、凹部領域12を設けて基板厚みを薄くすることにより、共振器101,102間の結合を小さくして帯域がより小さなフィルタを実現することができる。ここで、本実施形態のように隣接する共振器101,102を、段差を持って配置することは、単に薄い誘電体層上に共振器を隣接配置するよりも共振器間の結合を弱くできるのである。   As described above, according to the present embodiment, the concave region 12 is provided in one of the adjacent resonators 101 and 102 to reduce the substrate thickness, thereby reducing the coupling between the resonators 101 and 102 and reducing the bandwidth. A smaller filter can be realized. Here, disposing the adjacent resonators 101 and 102 with a step as in the present embodiment can weaken the coupling between the resonators than simply disposing the resonators adjacent to each other on a thin dielectric layer. It is.

(第2の実施形態)
図5(a)(b)は、本発明の第2の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの概略構成を説明するためのもので、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B’断面図である。このフィルタは、マイクロストリップラインで構成したチェビシェフ8段帯域通過フィルタである。なお、図3(a)(b)と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Second Embodiment)
FIGS. 5A and 5B are diagrams for explaining a schematic configuration of a microwave filter according to the second embodiment of the present invention. FIG. 5A is a plan view, and FIG. It is -B 'sectional drawing. This filter is a Chebyshev 8-stage bandpass filter constituted by a microstrip line. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to FIG. 3 (a) (b) and an identical part, and the detailed description is abbreviate | omitted.

本実施形態のフィルタは、中心周波数5GHz、帯域幅2.5MHzで設計されており、さらに基板の厚さを交互に変えることにより、各共振器対の結合を小さくしている。このため、30mm×40mmと比較的小さなフィルタ占有面積で、比帯域が0.05%と小さいにも拘わらず、8段の超狭帯域フィルタを実現できた。   The filter of the present embodiment is designed with a center frequency of 5 GHz and a bandwidth of 2.5 MHz, and the coupling between the resonator pairs is reduced by alternately changing the thickness of the substrate. Therefore, an 8-stage ultra-narrow band filter can be realized with a relatively small filter occupation area of 30 mm × 40 mm and a small specific band of 0.05%.

以下に、このフィルタ構造の製作手順を述べる。第1の実施形態と同様に、誘電体層としては、厚さ0.5mm、比誘電率約10のMgO基板11を用いた。この基板11の表面に、イオンミリングにより0.1mm削った凹部領域12を設けた。そして、基板11の両面に、レーザー蒸着法によりYBCO薄膜を形成した。このYBCO薄膜に対し、イオンミリングにより励振線14及び共振器201,202のパターン(電極17,18,19,20,21,22,23,24)に切り出した。励振線14の電極取り出し部分は、第1の実施形態と同様、Ag,Auがスパッタリングとイオンミリングで成膜してある。また、フィルタの占有面積は30mm×40mmである。   The manufacturing procedure of this filter structure will be described below. Similar to the first embodiment, an MgO substrate 11 having a thickness of 0.5 mm and a relative dielectric constant of about 10 was used as the dielectric layer. On the surface of the substrate 11, a recessed area 12 was provided by cutting 0.1 mm by ion milling. Then, YBCO thin films were formed on both surfaces of the substrate 11 by laser vapor deposition. The YBCO thin film was cut into patterns of excitation lines 14 and resonators 201, 202 (electrodes 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24) by ion milling. As in the first embodiment, Ag and Au are formed by sputtering and ion milling in the electrode lead-out portion of the excitation wire 14. The area occupied by the filter is 30 mm × 40 mm.

図5(a)のパターンで、第1の共振器201を構成する電極17,19,21,23は段差の無い誘電体層部分に、第2の共振器202を構成する電極18,20,22,24は、段差のある部分つまり誘電体層が0.1mm薄い部分12に配置されている。即ち、誘電体層の膜厚が厚い第1の共振器201と誘電体層の膜厚が薄い第2の共振器202が交互に配置されている。   In the pattern of FIG. 5A, the electrodes 17, 19, 21, and 23 constituting the first resonator 201 are formed on the dielectric layer portion having no step, and the electrodes 18, 20, and 22 and 24 are arranged in a stepped portion, that is, a portion 12 where the dielectric layer is 0.1 mm thinner. That is, the first resonator 201 having a thick dielectric layer and the second resonator 202 having a thin dielectric layer are alternately arranged.

本実施形態の帯域通過フィルタの特性を、図6に示す。図中の実線が本実施形態素子の特性、破線が従来素子の特性である。この図から本実施形態素子は、超狭帯域にも拘わらず、良好な特性が実現できていることが分かる。   The characteristics of the band pass filter of this embodiment are shown in FIG. The solid line in the figure is the characteristic of the element of the present embodiment, and the broken line is the characteristic of the conventional element. From this figure, it can be seen that the element of this embodiment can realize good characteristics despite the ultra-narrow band.

ここで、導体としては、第1の実施形態で説明したように、YBCOの代わりに、他の酸化物超電導体や金属系超電導体、或いはAu等の金属を用いることも可能である。さらに、基板としても、第1の実施形態で説明したように、サファイア,LaAlO3 を始めとする上記導体が成膜できる基板を用いることが可能である。 Here, as described in the first embodiment, other oxide superconductors, metal-based superconductors, or metals such as Au can be used as conductors instead of YBCO. Further, as described in the first embodiment, a substrate on which the conductor such as sapphire and LaAlO 3 can be formed can be used as the substrate.

このように本実施形態によれば、共振器の配列方向に対して誘電体層膜厚の薄い凹部領域12を交互に設けることにより、隣接する共振器間の結合を小さくすることができ、先の第1の実施形態と同様の効果が得られる。   As described above, according to the present embodiment, by providing the recessed regions 12 having a thin dielectric layer thickness alternately in the arrangement direction of the resonators, the coupling between the adjacent resonators can be reduced. The same effects as those of the first embodiment can be obtained.

(第3の実施形態)
図7(a)(b)は、本発明の第3の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの概略構成を説明するためのもので、(a)は平面図、(b)は(a)のC−C’断面図である。このフィルタは、第2の実施形態と同様に、マイクロストリップラインで構成したチェビシェフ8段帯域通過フィルタである。なお、図3(a)(b)と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Third embodiment)
FIGS. 7A and 7B are views for explaining a schematic configuration of a microwave filter according to the third embodiment of the present invention. FIG. 7A is a plan view, and FIG. It is -C 'sectional drawing. Similar to the second embodiment, this filter is a Chebyshev 8-stage bandpass filter configured by a microstrip line. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to FIG. 3 (a) (b) and an identical part, and the detailed description is abbreviate | omitted.

本実施形態のフィルタは、中心周波数5GHz、帯域10MHzと第2の実施形態に比べて、広い帯域を実現している。この場合、共振器対の結合量は、小さいものから比較的大きなものまでの3つにしている。従来の板厚一定の誘電体基板を用いた場合には小さい結合の場合に共振器間の距離が離れすぎて、安定な結合をとることが困難であったが、本実施形態のように共振器毎の誘電体厚さを変えることにより、良好な結合を実現できた。   The filter of the present embodiment realizes a wider band than the second embodiment, with a center frequency of 5 GHz and a band of 10 MHz. In this case, the coupling amount of the resonator pair is set to three from small to relatively large. When a conventional dielectric substrate with a constant plate thickness is used, the distance between the resonators is too large in the case of small coupling, making it difficult to achieve stable coupling. Good coupling could be achieved by changing the dielectric thickness of each vessel.

以下に、このマイクロストリップライン構造の製作手順を述べる。第1の実施形態と同様に、ベースとなる誘電体層には、厚さ0.5mm、比誘電率約10のMgO基板11を用いた。この基板11の表面に、イオンミリングによって、0.1mm削った凹部領域12と、0.2mm削った凹部領域25を設けた。そして、基板11の両主面に、レーザー蒸着法によりYBCO薄膜を形成した。このYBCO薄膜に対し、イオンミリングにより励振線14及び共振器のパターン(電極26,27,28,29,30,31,32,33)に切り出した。励振線14の電極取り出し部分は、第1の実施形態と同様、Ag,Auがスパッタリングとイオンミリングで成膜してある。   The manufacturing procedure of this microstrip line structure will be described below. As in the first embodiment, a MgO substrate 11 having a thickness of 0.5 mm and a relative dielectric constant of about 10 was used as the base dielectric layer. The surface of the substrate 11 was provided with a recessed area 12 cut by 0.1 mm and a recessed area 25 cut by 0.2 mm by ion milling. And the YBCO thin film was formed in the both main surfaces of the board | substrate 11 with the laser vapor deposition method. The YBCO thin film was cut into excitation lines 14 and resonator patterns (electrodes 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33) by ion milling. As in the first embodiment, Ag and Au are formed by sputtering and ion milling in the electrode lead-out portion of the excitation wire 14.

図7(a)のパターン中、電極26,33は段差の無い誘電体層部分に、電極27,28,31,32は段差0.1mmの部分12に、電極29,30は段差が0.2mmの部分25に配置されている。ここで、電極26による共振器と電極27による共振器との間の結合係数をk1、電極27による共振器と電極28による共振器との間の結合係数をk2、電極28による共振器と電極29による共振器との間の結合係数をk3、電極29による共振器と電極30による共振器との間の結合係数をk4、電極30による共振器と電極31による共振器との間の結合係数をk5、電極31による共振器と電極32による共振器との間の結合係数をk6、電極32による共振器と電極33による共振器との間の結合係数をk7とすると、結合係数の大小関係は、k1=k7>k2=k6>k3=k5>k4となっている。   In the pattern of FIG. 7A, the electrodes 26 and 33 are in a dielectric layer portion without a step, the electrodes 27, 28, 31, and 32 are in a portion 12 having a step of 0.1 mm, and the electrodes 29 and 30 have a step of 0. It is arranged in a 2 mm portion 25. Here, the coupling coefficient between the resonator by the electrode 26 and the resonator by the electrode 27 is k1, the coupling coefficient between the resonator by the electrode 27 and the resonator by the electrode 28 is k2, and the resonator and the electrode by the electrode 28 The coupling coefficient between the resonator by the electrode 29 and the resonator by the electrode 31 is k4, the coupling coefficient between the resonator by the electrode 29 and the resonator by the electrode 30 is k4, and the coupling coefficient between the resonator by the electrode 30 and the resonator by the electrode 31. , K5, the coupling coefficient between the resonator by the electrode 31 and the resonator by the electrode 32 is k6, and the coupling coefficient between the resonator by the electrode 32 and the resonator by the electrode 33 is k7. K1 = k7> k2 = k6> k3 = k5> k4.

本実施形態の帯域通過フィルタの特性を、図8に示す。図中の実線が本実施形態素子の特性、波線が従来素子の特性である。この図から、誘電体基板の板厚が一定で、かつ大きな共振器間結合を得るべく板厚を決めた従来素子と比較し、本実施形態素子は共振器間の結合が小さいものから大きなものまで存在するフィルタとして、良好な特性が実現できていることが分かる。   The characteristics of the bandpass filter of this embodiment are shown in FIG. The solid line in the figure is the characteristic of the element of the present embodiment, and the wavy line is the characteristic of the conventional element. From this figure, compared with the conventional element in which the plate thickness of the dielectric substrate is constant and the plate thickness is determined to obtain a large inter-resonator coupling, this embodiment element has a small to large coupling between the resonators. It can be seen that good characteristics can be realized as the existing filter.

なお、導体としては、第1の実施形態で説明したように、YBCOの代わりに、他の酸化物超電導体や金属系超電導体、或いはAu等の金属を用いることも可能である。さらに、基板としても、第1の実施形態で説明したように、サファイア,LaAlO3 を始めとする上記導体が成膜できる基板を用いることが可能である。 As described in the first embodiment, other oxide superconductors, metal superconductors, or metals such as Au can be used as conductors instead of YBCO. Further, as described in the first embodiment, a substrate on which the conductor such as sapphire and LaAlO 3 can be formed can be used as the substrate.

このように本実施形態によれば、誘電体基板11に凹部領域12を設けると共に、凹部領域12内で膜厚の異なる部分25を設けることにより、同一基板内に強弱様々な結合を共振器間に持たせることができる。このため、通信機器の高周波部材の設計の許容度を大きく広げることができる。従って、共振器を用いるマイクロ波コンポーネントの設計の自由度が大幅に増加でき、従来不可能だった超狭帯域シャープカットフィルタや、帯域が大きく異なるフィルタの同一基板への集積化が実現可能となる。   As described above, according to the present embodiment, the concave region 12 is provided in the dielectric substrate 11 and the portions 25 having different film thicknesses are provided in the concave region 12, so that various couplings can be made between the resonators in the same substrate. Can have. For this reason, the tolerance of design of the high frequency member of a communication apparatus can be expanded greatly. Therefore, the degree of freedom in designing a microwave component using a resonator can be greatly increased, and integration of an ultra-narrow band sharp cut filter, which has been impossible in the past, and a filter having greatly different bands on the same substrate can be realized. .

(第4の実施形態)
図9は(a)(b)は、本発明の第4の実施形態に係わるマイクロ波フィルタ群の概略構成を説明するためのもので、(a)は平面図、(b)は(a)のD−D’断面図である。このフィルタ群は、2種類の8段帯域通過フィルタである。なお、図3(a)(b)と同一部部には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Fourth embodiment)
FIGS. 9A and 9B are diagrams for explaining a schematic configuration of a microwave filter group according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 9A is a plan view, and FIG. 9B is a plan view. It is DD 'sectional drawing of. This filter group is two types of 8-stage bandpass filters. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the part same as FIG. 3 (a) (b), and the detailed description is abbreviate | omitted.

誘電体層からなる同一基板上に、2種類の8段帯域通過フィルタが形成されている。即ち、中心周波数4.92GHz、帯域10MHzの第1のフィルタと、中心周波数4.94GHz、帯域5MHzの第2のフィルタが、同一基板上に配置されている。   Two types of 8-stage bandpass filters are formed on the same substrate made of a dielectric layer. That is, a first filter having a center frequency of 4.92 GHz and a band of 10 MHz and a second filter having a center frequency of 4.94 GHz and a band of 5 MHz are arranged on the same substrate.

フィルタバンク等にも用いられるフィルタの集積化においては、フィルタ間のアイソレーションが非常に重要である。このアイソレーションは、特に結合の小さな狭帯域フィルタでは問題となる。本実施形態では、互いに異なるフィルタに属する共振器の対に、本発明を適用して、フィルタ間の相互作用を十分低減した狭帯域フィルタ群を構成した。   Isolation between filters is very important in integrating filters used for filter banks and the like. This isolation becomes a problem particularly in a narrow band filter having a small coupling. In the present embodiment, the present invention is applied to a pair of resonators belonging to different filters to configure a narrowband filter group in which the interaction between the filters is sufficiently reduced.

製作にあたっては、第1の実施形態と同様に、ベースとなる誘電体層としての基板には、厚さ0.5mm、比誘電率約10のMgO基板11を用いた。この基板11の表面に、イオンミリングにより0.2mmの段差の凹部領域25を形成した。そして、基板11の両面に、レーザー蒸着法によりYBCO薄膜を形成した。このYBCO薄膜に対し、イオンミリングにより励振線14及び共振器のパターン(電極34,35)に切り出した。即ち、第1のフィルタ401として、段差のない誘電体層部分に電極34を配置し、第2のフィルタ402として、段差のある部分つまり誘電体層が0.2mm薄い部分25に電極35を配置した。励振線14は、何れのフィルタ401,402においても段差のない部分に形成した。   In production, as in the first embodiment, a MgO substrate 11 having a thickness of 0.5 mm and a relative dielectric constant of about 10 was used as a substrate as a dielectric layer serving as a base. A concave region 25 having a step of 0.2 mm was formed on the surface of the substrate 11 by ion milling. Then, YBCO thin films were formed on both surfaces of the substrate 11 by laser vapor deposition. The YBCO thin film was cut into excitation lines 14 and resonator patterns (electrodes 34 and 35) by ion milling. That is, as the first filter 401, the electrode 34 is disposed in the dielectric layer portion having no step, and as the second filter 402, the electrode 35 is disposed in the portion 25 having the step, that is, the portion 25 where the dielectric layer is 0.2 mm thin. did. The excitation line 14 was formed in a portion having no step in any of the filters 401 and 402.

本実施形態のマイクロ波フィルタ群(両帯域通過フィルタ)の特性を、図10にそれぞれ示す。この図から、相互干渉による特性の変調は見られず、独立のフィルタとして実現できていることが分かる。   The characteristics of the microwave filter group (both bandpass filters) of this embodiment are shown in FIG. From this figure, it can be seen that the modulation of the characteristic due to the mutual interference is not seen and the filter is realized as an independent filter.

なお、導体としては、第1の実施形態で説明したように、YBCOの代わりに、他の酸化物超電導体や金属系超電導体、或いはAu等の金属を用いることも可能である。さらに、基板としても、第1の実施形態で説明したように、サファイア,LaAlO3 を始めとする上記導体が成膜できる基板を用いることが可能である。 As described in the first embodiment, other oxide superconductors, metal superconductors, or metals such as Au can be used as conductors instead of YBCO. Further, as described in the first embodiment, a substrate on which the conductor such as sapphire and LaAlO 3 can be formed can be used as the substrate.

このように本実施形態によれば、同一基板11上に形成する第1及び第2のフィルタ401,402において、各々のフィルタにおける誘電体層の膜厚を異ならせることにより、同一基板11上に異なる特性のフィルタ401,402を実現することができる。即ち、誘電体層の膜厚を変えるのみで、同一基板内に共振器間の結合の異なる2つのフィルタを簡易に作製することができる。従って、共振器を用いるマイクロ波コンポーネントの設計の自由度が大幅に増加でき、従来不可能だった超狭帯域シャープカットフィルタや、帯域が大きく異なるフィルタの同一基板への集積化が実現可能となる。   As described above, according to the present embodiment, the first and second filters 401 and 402 formed on the same substrate 11 are formed on the same substrate 11 by changing the film thicknesses of the dielectric layers in the respective filters. Filters 401 and 402 having different characteristics can be realized. That is, by simply changing the film thickness of the dielectric layer, two filters having different couplings between the resonators can be easily manufactured in the same substrate. Therefore, the degree of freedom in designing a microwave component using a resonator can be greatly increased, and integration of an ultra-narrow band sharp cut filter, which has been impossible in the past, and a filter having greatly different bands on the same substrate can be realized. .

(第5の実施形態)
図11(a)(b)は、本発明の第5の実施形態に係わるマイクロ波フィルタ群の概略構成を説明するためのもので、(a)は平面図、(b)は(a)のD−D’断面図である。このフィルタ群は、帯域幅の異なる3種類の8段帯域通過フィルタである。なお、図3(a)(b)と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Fifth embodiment)
FIGS. 11A and 11B are views for explaining a schematic configuration of a microwave filter group according to the fifth embodiment of the present invention. FIG. 11A is a plan view, and FIG. It is DD 'sectional drawing. This group of filters is three types of eight-stage bandpass filters having different bandwidths. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to FIG. 3 (a) (b) and an identical part, and the detailed description is abbreviate | omitted.

誘電体層からなる同一基板上に、3種類の8段帯域通過フィルタが形成されている。即ち、中心周波数は共通で5GHz、帯域幅が5MHz,7MHz,10MHzと異なる3つのフィルタが1枚の基板に集積化されている。このように、帯域が異なることにより、用いる結合の値が大きく変わる場合においても、本実施形態により同一基板上への集積化が可能となる。   Three types of eight-stage bandpass filters are formed on the same substrate made of a dielectric layer. That is, three filters having a common center frequency of 5 GHz and bandwidths of 5 MHz, 7 MHz, and 10 MHz are integrated on a single substrate. As described above, even when the coupling value to be used varies greatly due to the different bands, the present embodiment enables integration on the same substrate.

製作に当たっては、第1の実施形態と同様に、ベースとなる誘電体層としての基板には、厚さ0.5mm、比誘電率約10のMgO基板11を用いた。この基板11の表面に、イオンミリングによって、0.1mm削った凹部領域12と、0.2mm削った凹部領域25との段差を設けた。そして、基板11の両主面に、レーザー蒸着法によりYBCO薄膜を形成した。このYBCO薄膜に対し、イオンミリングにより励振線14及び共振器のパターン(電極36,37,38)に切り出した。即ち、第1のフィルタ(広帯域幅帯域通過フィルタ)501として、段差のない誘電体層部分に電極37を配置し、第2のフィルタ(中間帯域通過フィルタ)502として、誘電体層が0.1mm薄い部分12に電極38を配置し、第3のフィルタ(狭帯域幅帯域通過フィルタ)503として誘電体層が0.2mm薄い部分25に共振器36を配置した。励振線14は、何れのフィルタにおいても段差のない部分に形成した。   In manufacturing, as in the first embodiment, a MgO substrate 11 having a thickness of 0.5 mm and a relative dielectric constant of about 10 was used as a substrate as a dielectric layer serving as a base. On the surface of the substrate 11, a step was formed between the recessed region 12 cut by 0.1 mm and the recessed region 25 cut by 0.2 mm by ion milling. And the YBCO thin film was formed in the both main surfaces of the board | substrate 11 with the laser vapor deposition method. The YBCO thin film was cut into excitation lines 14 and resonator patterns (electrodes 36, 37, 38) by ion milling. That is, as the first filter (broadband bandpass filter) 501, the electrode 37 is disposed on the dielectric layer portion without a step, and as the second filter (intermediate bandpass filter) 502, the dielectric layer has a thickness of 0.1 mm. The electrode 38 is disposed on the thin portion 12, and the resonator 36 is disposed on the portion 25 where the dielectric layer is 0.2 mm thin as a third filter (narrow bandwidth bandpass filter) 503. The excitation line 14 was formed in a portion having no step in any filter.

本実施形態のマイクロ波フィルタ群の特性を、図12にそれぞれ示す。図中の点線は第1のフィルタ501、破線は第2のフィルタ502、実線は第3のフィルタ503の特性をそれぞれ示している。この図から分かるように、特性の変調は見られず、従来の誘電体層の厚さが一様なマイクロストリップライン構造では実現が難しかった、同一基板上の帯域幅の異なる帯域通過フィルタを作製できた。   The characteristics of the microwave filter group of this embodiment are shown in FIG. In the figure, the dotted line indicates the characteristics of the first filter 501, the broken line indicates the characteristics of the second filter 502, and the solid line indicates the characteristics of the third filter 503. As can be seen from the figure, bandpass filters with different bandwidths on the same substrate were fabricated, which were difficult to achieve with a conventional microstrip line structure with no characteristic modulation and a uniform dielectric layer thickness. did it.

なお、このフィルタ群は、中央に最も薄い誘電体層部分を配置することにより、各帯域通過フィルタ間の分離が図られている。また、導体としては、第1の実施形態で説明したように、YBCOの代わりに、他の酸化物超電導体や金属系超電導体、或いはAu等の金属を用いることも可能である。さらに、基板としても、第1の実施形態で説明したように、サファイア,LaAlO3 を始めとする上記導体が成膜できる基板を用いることが可能である。 In this filter group, the thinnest dielectric layer portion is arranged at the center so that the band-pass filters are separated from each other. In addition, as described in the first embodiment, other oxide superconductors, metal-based superconductors, or metals such as Au can be used as conductors instead of YBCO. Further, as described in the first embodiment, a substrate on which the conductor such as sapphire and LaAlO 3 can be formed can be used as the substrate.

このように本実施形態によれば、同一基板11上に形成する第1乃至第3のフィルタ501〜503において、各々のフィルタにおける誘電体層の膜厚を異ならせることにより、同一基板11上に異なる特性のフィルタ501〜503を実現することができる。即ち、誘電体層の膜厚を変えるのみで、同一基板内に共振器間の結合の異なる3つのフィルタを簡易に作製することができる。従って、先の第4の実施形態と同様の効果が得られる。   As described above, according to the present embodiment, in the first to third filters 501 to 503 formed on the same substrate 11, the film thickness of the dielectric layer in each filter is made different, so that the same substrate 11 is formed. Filters 501 to 503 having different characteristics can be realized. That is, only by changing the film thickness of the dielectric layer, three filters having different couplings between the resonators can be easily manufactured in the same substrate. Therefore, the same effect as in the fourth embodiment can be obtained.

(変形例)
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。マイクロストリップラインを構成する導体や誘電体層は、先に説明したように各種の変形が可能である。さらに、共振器の配置個数、誘電体層の膜厚の薄い部分の種類,配置方法等の条件は、仕様に応じて適宜変更可能である。また、実施形態ではフィルタに適用した例を説明したが、必ずしもフィルタに限らず共振器を用いる各種のデバイスに適用することが可能である。
(Modification)
The present invention is not limited to the above-described embodiments. Various modifications can be made to the conductor and the dielectric layer constituting the microstrip line as described above. Furthermore, conditions such as the number of arranged resonators, the type of the thin portion of the dielectric layer, the arrangement method, and the like can be appropriately changed according to the specifications. Moreover, although the example applied to the filter was described in the embodiment, the present invention is not necessarily limited to the filter, and can be applied to various devices using a resonator.

その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。   In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

帯域通過フィルタの基本構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the basic composition of a bandpass filter. 厚さが異なる誘電体層に構成されたマイクロストリップライン共振器対のギャップと結合係数の関係を示す特性図。The characteristic view which shows the relationship between the gap of the microstrip line resonator pair comprised in the dielectric material layer from which thickness differs, and a coupling coefficient. 第1の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの概略構成を示す平面図と断面図。The top view and sectional view showing the schematic structure of the microwave filter concerning a 1st embodiment. 第1の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの特性を示す図。The figure which shows the characteristic of the microwave filter concerning 1st Embodiment. 第2の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの概略構成を示す平面図と断面図。The top view and sectional drawing which show schematic structure of the microwave filter concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの特性を示す図。The figure which shows the characteristic of the microwave filter concerning 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの概略構成を示す平面図と断面図。The top view and sectional drawing which show schematic structure of the microwave filter concerning 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係わるマイクロ波フィルタの特性を示す図。The figure which shows the characteristic of the microwave filter concerning 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係わるマイクロ波フィルタ群の概略構成を示す平面図と断面図。The top view and sectional drawing which show schematic structure of the microwave filter group concerning 4th Embodiment. 第4の実施形態に係わるマイクロ波フィルタ群の特性を示す図。The figure which shows the characteristic of the microwave filter group concerning 4th Embodiment. 第5の実施形態に係わるマイクロ波フィルタ群の概略構成を示す平面図と断面図。The top view and sectional drawing which show schematic structure of the microwave filter group concerning 5th Embodiment. 第5の実施形態に係わるマイクロ波フィルタ群の特性を示す図。The figure which shows the characteristic of the microwave filter group concerning 5th Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1…励振線
2…共振器
3…励振線と共振器の間の結合
4…共振器同士の間の結合
11…基板(誘電体層)
12…凹部領域
13…共通電極
14…ライン状電極(励振線)
15〜24,26〜38…ライン状電極
25…凹部領域
101,201…第1の共振器
102,202…第2の共振器
401,501…第1のマイクロ波フィルタ
402,502…第2のマイクロ波フィルタ
503…第3のマイクロ波フィルタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Excitation line 2 ... Resonator 3 ... Coupling between excitation line and resonator 4 ... Coupling between resonators 11 ... Substrate (dielectric layer)
12 ... recessed area 13 ... common electrode 14 ... line electrode (excitation line)
15 to 24, 26 to 38 ... line electrode 25 ... recessed region 101, 201 ... first resonator 102, 202 ... second resonator 401, 501 ... first microwave filter 402, 502 ... second Microwave filter 503 ... Third microwave filter

Claims (5)

誘電体層の一方の主面上に第1のライン状電極が形成され、他方の主面上に共通電極が形成されたマイクロストリップラインにより構成される第1の共振器と、
前記第1の共振器と同様な構造を有し、前記第1のライン状電極に隣接して第2のライン状電極が配置され、前記共通電極が共用された第2の共振器とを具備し、
前記第1及び第2の共振器の一方と他方で前記誘電体層の厚みが異なることを特徴とするマイクロ波共振器対。
A first resonator constituted by a microstrip line in which a first line-shaped electrode is formed on one main surface of the dielectric layer and a common electrode is formed on the other main surface;
A second resonator having a structure similar to that of the first resonator, the second line electrode being disposed adjacent to the first line electrode, and the common electrode being shared. And
A microwave resonator pair, wherein one of the first and second resonators is different in thickness from the other dielectric layer.
誘電体層の一方の主面上にライン状電極が形成され、他方の主面上に共通電極が形成されたマイクロストリップラインにより構成される共振器が、一方向に沿って複数個配列されたマイクロ波フィルタであって、
前記共振器のうち少なくとも一つは、他の共振器よりも前記誘電体層の膜厚が薄いことを特徴とするマイクロ波フィルタ。
A plurality of resonators composed of microstrip lines in which a line electrode is formed on one main surface of the dielectric layer and a common electrode is formed on the other main surface are arranged along one direction. A microwave filter,
At least one of the resonators is characterized in that the dielectric layer is thinner than the other resonators.
前記共振器は、隣接するもの同士で前記誘電体層の膜厚が異なることを特徴とする請求項2記載のマイクロ波フィルタ。   3. The microwave filter according to claim 2, wherein the resonators are adjacent to each other and have different thicknesses of the dielectric layer. 前記共振器は、前記誘電体層の膜厚が厚い第1の共振器と前記誘電体層の膜厚が薄い第2の共振器を有し、第1及び第2の共振器が交互に配置されていることを特徴とする請求項3記載のマイクロ波フィルタ。   The resonator includes a first resonator in which the dielectric layer is thick and a second resonator in which the dielectric layer is thin, and the first and second resonators are alternately arranged. The microwave filter according to claim 3, wherein the microwave filter is provided. 誘電体層の一方の主面上にライン状電極が形成され、他方の主面上に共通電極が形成されたマイクロストリップラインにより構成される第1の共振器が、一方向に沿って複数個配列された第1のマイクロ波フィルタと、
前記第1の共振器と同様な構造を有する第2の共振器が一方向に沿って複数個配列され、且つ第1のマイクロ波フィルタと平行に配置された第2のマイクロ波フィルタとを具備し、
第1及び第2のマイクロ波フィルタにおける前記誘電体層の膜厚が異なることを特徴とするマイクロ波フィルタ群。
A plurality of first resonators including a microstrip line in which a line electrode is formed on one main surface of the dielectric layer and a common electrode is formed on the other main surface are provided along one direction. A first microwave filter arranged;
A plurality of second resonators having a structure similar to that of the first resonator, and a second microwave filter arranged in parallel with the first microwave filter; And
A group of microwave filters, wherein the dielectric layers of the first and second microwave filters have different thicknesses.
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