JP2006256040A - Original lithographic printing plate - Google Patents

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JP2006256040A
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一人 國田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original lithographic printing plate which can allow an image to be formed in itself without an alkali development procedure after laser exposure and has successful fine line reproducibility, resistance to plate wear, less susceptibility of contamination, aboard-the-machine developability and shelf stability. <P>SOLUTION: This original lithographic printing plate comprises a photopolymerization layer with laser sensitivity formed on a support and can allow an image to be formed in itself without an alkali development procedure. In addition, the printing plate comprises a copolymer having (a1) a repeating unit with a radical chain crosslinking group and (a2) a repeating unit with a functional group taking an interacting effect with the surface of the support, in the photopolymerization layer or another layer positioned between the support and the photopolymerization group. Further, the copolymer preferably has (a3) a repeating unit with a hydrophilic group. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて、例えば300〜1200nmの波長を有するレーザーを走査することにより直接製版することができる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a so-called lithographic printing plate precursor capable of direct plate making, which can be directly made by scanning a laser having a wavelength of, for example, 300 to 1200 nm based on a digital signal from a computer or the like.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる画像記録層を残存させ、不要の画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer to be an image portion is left, and an unnecessary image recording layer is dissolved with an alkaline developer or an organic solvent. The lithographic printing plate is obtained by performing the plate making by removing the surface of the hydrophilic support to form a non-image portion.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要の画像記録層を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化または簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing an unnecessary image recording layer with a developer or the like is required after exposure. However, such additional wet processing is unnecessary or Simplification is cited as one of the issues. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、簡易な製版方法の一つとして、平版印刷版原版の画像記録層不要部分の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で不要部分を除去し、平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤または湿し水とインキとの乳化物に溶解しまたは分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤等の浸透によって画像記録層の凝集力または画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液)を接触させることにより、平版印刷版原版のレーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキおよび/または湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版のレーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法および工程を指す。
On the other hand, as one simple plate making method, an image recording layer that can remove an unnecessary portion of an image recording layer of a lithographic printing plate precursor in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which unnecessary portions are removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in dampening water, an ink solvent, or an emulsion of dampening water and ink , A method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or a blanket cylinder of a printing press, cohesion of the image recording layer by penetration of dampening water, ink solvent, etc. There is a method in which after the adhesive force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket cylinder.
In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” refers to using a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) and bringing a liquid (usually an alkaline developer) into contact therewith. Refers to the step of removing the laser unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and exposing the surface of the hydrophilic support, and “on-press development” refers to a liquid (usually printing ink and / or printing ink) using a printing press. It refers to a method and a process for removing the laser unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and exposing the surface of the hydrophilic support by contacting with dampening water.

一方、近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。したがって、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization techniques have been put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate (CTP) technology has been attracting attention. Therefore, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

平版印刷版原版のうち走査露光可能な平版印刷版原版としては、親水性支持体上にレーザー露光によりラジカルやブレンステッド酸などの活性種を発生しうる感光性化合物を含有した親油性感光性樹脂層が提案され、既に上市されている。この平版印刷版原版をデジタル情報に基づきレーザー走査し活性種を発生せしめ、その作用によって感光層に物理的、あるいは化学的な変化を起こし不溶化させ、引き続き現像処理することによってネガ型の平版印刷版を得ることができる。特に、親水性支持体上に感光スピードに優れる光重合開始剤、付加重合可能なエチレン性不飽和化合物、およびアルカリ現像液に可溶なバインダーポリマーとを含有する光重合型の感光層、および必要に応じて酸素遮断性の保護層とを設けた平版印刷版原版は、生産性に優れ、更に現像処理が簡便であり、解像度や着肉性もよいといった利点から、望ましい印刷性能を有する刷版となりうる。
また、機上現像可能な平版印刷版としては、例えば、特許文献1には、親水性結合剤中に疎水性熱可塑性重合体粒子を分散させた像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が記載されている。この特許文献1には、上記平版印刷版原版を赤外線レーザーにより露光して、疎水性熱可塑性重合体粒子を熱により合体させて画像を形成させた後、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水および/またはインキにより機上現像することが可能である旨記載されている。
このように微粒子の単なる熱融着による合体で画像を形成させる方法は、良好な機上現像性を示すものの、画像強度(支持体との密着性)が極めて弱く、耐刷性が不十分であるという問題を有していた。
Among the lithographic printing plate precursors, the lithographic printing plate precursor capable of scanning exposure is an oleophilic photosensitive resin containing a photosensitive compound capable of generating active species such as radicals and Bronsted acids on a hydrophilic support by laser exposure. Tiers have been proposed and are already on the market. This lithographic printing plate precursor is laser-scanned based on digital information to generate active species, which causes physical or chemical changes in the photosensitive layer to insolubilize it, followed by development processing, thereby developing a negative lithographic printing plate Can be obtained. In particular, a photopolymerization type photosensitive layer containing a photopolymerization initiator excellent in photosensitive speed on a hydrophilic support, an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, and a binder polymer soluble in an alkali developer, and necessary A lithographic printing plate precursor provided with an oxygen-blocking protective layer in accordance with the printing plate having desirable printing performance due to advantages such as excellent productivity, simple development processing, and good resolution and inking properties. It can be.
Further, as an on-press developable lithographic printing plate, for example, in Patent Document 1, an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder is provided on a hydrophilic support. A planographic printing plate precursor is described. In this Patent Document 1, the above lithographic printing plate precursor is exposed by an infrared laser, and the hydrophobic thermoplastic polymer particles are coalesced by heat to form an image, which is then mounted on a cylinder of a printing press and moistened. It is described that it is possible to perform on-press development with water and / or ink.
In this way, the method of forming an image by merging by simple thermal fusion of fine particles shows good on-press developability, but the image strength (adhesion with the support) is extremely weak and the printing durability is insufficient. Had the problem of being.

また、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献2〜3参照)。
さらに、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する感光層を設けた平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献4参照)。
このように重合反応を用いる方法は、重合体微粒子の熱融着により形成される画像部に比べ、画像部の化学結合密度が高いため画像強度が比較的良好であるという特徴を有する。
Moreover, a lithographic printing plate precursor comprising microcapsules encapsulating a polymerizable compound on a hydrophilic support has been proposed (see, for example, Patent Documents 2 to 3).
Furthermore, a lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound on a support has been proposed (see, for example, Patent Document 4).
As described above, the method using the polymerization reaction has a feature that the image strength is relatively good because the chemical bond density of the image portion is higher than that of the image portion formed by thermal fusion of the polymer fine particles.

しかしながら、重合型感光層は支持体との接着力が必ずしも強力ではないため、高速で大部数の印刷に使用すると、ベタ画像が抜けたり、細線やハイライト部が細ったり、飛んだりする不具合を生じる。そのため高感度光重合系においては支持体と感光層の光接着性は重要なファクターであり、数多く研究、開発されている。   However, since the polymerization type photosensitive layer does not necessarily have a strong adhesive force with the support, when used for printing a large number of copies at a high speed, a solid image may be lost, or fine lines and highlights may be thinned or skipped. Arise. Therefore, in high-sensitivity photopolymerization systems, photoadhesiveness between the support and the photosensitive layer is an important factor, and many researches and developments have been made.

例えば、重合型感光層と支持体の間に、エチレン性不飽和結合を有する重合性基とリン酸基を有するポリマーを設けることが知られている(特許文献5参照)。また、ラジカルによる付加反応を起こし得る官能基を支持体表面上に共有結合により設け、光重合性感光層との接着力を持たせようとする技術も知られている(例えば、特許文献6〜8参照)。
また、エチレン性二重結合を有するシランカップリング剤を加水分解および脱水縮合させた化合物と、一分子中にアルキレンオキサイド鎖およびアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有する化合物を含有する層を感光層と支持体の間に設けることも知られている(特許文献9参照)。
For example, it is known to provide a polymer having a polymerizable group having an ethylenically unsaturated bond and a phosphate group between the polymerization type photosensitive layer and the support (see Patent Document 5). In addition, a technique is also known in which a functional group capable of causing an addition reaction due to a radical is provided on the support surface by a covalent bond so as to have an adhesive force with the photopolymerizable photosensitive layer (for example, Patent Documents 6 to 6). 8).
A photosensitive layer and a support comprising a compound obtained by hydrolyzing and dehydrating and condensing a silane coupling agent having an ethylenic double bond, and a compound containing an alkylene oxide chain and an acryloyl group or a methacryloyl group in one molecule. It is also known to provide between (see Patent Document 9).

また、(メタ)アクリロイル基をもつリン酸エステル化合物を感光層に含有させて支持体との接着を向上させる技術も知られている(特許文献10参照)。
特許第2938397号明細書 特開2001−277740号公報 特開2001−277742号公報 特開2002−287334号公報 特開平2−304441号公報 特開平3−56177号公報 特開平7−159838号公報 特開平8−320551号公報 特開平10−282679号公報 特開平11−30858号公報
In addition, a technique for improving adhesion to a support by adding a phosphate ester compound having a (meth) acryloyl group to a photosensitive layer is also known (see Patent Document 10).
Japanese Patent No. 2938397 JP 2001-277740 A JP 2001-277742 A JP 2002-287334 A JP-A-2-304441 Japanese Patent Laid-Open No. 3-56177 Japanese Patent Laid-Open No. 7-159838 JP-A-8-320551 Japanese Patent Laid-Open No. 10-282679 Japanese Patent Laid-Open No. 11-30858

しかしながら、これら従来技術は、実用的な観点から見ると、細線再現性、耐刷性、汚れにくさ、機上現像性および保存安定性のいずれかが未だ不十分であり、一層の改良が望まれた。本発明の目的は、これに応えるものであり、レーザー露光後、アルカリ現像せずに画像形成可能であり、細線再現性、耐刷性、汚れにくさ、機上現像性および保存安定性のいずれもが良好な平版印刷版原版を提供することである。   However, from the practical point of view, these conventional techniques are still insufficient in any of fine line reproducibility, printing durability, stain resistance, on-press developability and storage stability, and further improvement is desired. Mareta. The object of the present invention is to respond to this, and it is possible to form an image without laser development after laser exposure, and any of fine line reproducibility, printing durability, resistance to stains, on-press developability and storage stability. It is to provide a good planographic printing plate precursor.

本発明者は鋭意検討した結果、特定の共重合体を光重合層中または光重合層と支持体との間の層中に含有させることにより上記課題が満足することを見出した。
本発明は以下の通りである。
As a result of intensive studies, the present inventor has found that the above-described problems can be satisfied by incorporating a specific copolymer into the photopolymerization layer or the layer between the photopolymerization layer and the support.
The present invention is as follows.

1.支持体上にレーザー感受性の光重合層を有するアルカリ現像せずに画像形成可能な平版印刷版原版であって、該光重合層中または、該支持体と該光重合層間に位置する他の層中に、(a1)下記一般式(A1)で表されるラジカル連鎖架橋性基を少なくとも1つ有する繰り返し単位と、(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを有する共重合体を含むことを特徴とする平版印刷版原版。
−C(R1)(R2)−C(R3)(L−X−H)− 一般式(A1)
(式中、Xは25℃でのX−Hの結合解離エネルギーが95kcal/mol〔398kJ/mol〕以下となる基を表す。Lは2価の連結基、R1〜R3は水素原子、炭素数1〜6の置換基を有していても良い炭化水素基またはハロゲン原子を表す。)
1. A lithographic printing plate precursor having a laser-sensitive photopolymerization layer on a support and capable of forming an image without alkali development, wherein the other layer located in the photopolymerization layer or between the support and the photopolymerization layer (A1) a repeating unit having at least one radical chain crosslinkable group represented by the following general formula (A1); and (a2) a repeating unit having at least one functional group that interacts with the support surface; A lithographic printing plate precursor comprising a copolymer having:
—C (R 1 ) (R 2 ) —C (R 3 ) (L—X—H) — General Formula (A1)
(In the formula, X represents a group having a bond dissociation energy of XH at 25 ° C. of 95 kcal / mol [398 kJ / mol] or less. L is a divalent linking group, R 1 to R 3 are hydrogen atoms, (It represents a hydrocarbon group or halogen atom which may have a substituent having 1 to 6 carbon atoms.)

2.該高分子化合物が分子内に、さらに(a3)親水性基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を有する共重合体であることを特徴とする前記1記載の平版印刷版原版。   2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the polymer compound is a copolymer having (a3) a repeating unit having at least one hydrophilic group in the molecule.

3.該支持体が陽極酸化アルミニウムおよびその化学的表面修飾物であること特徴とする前記1または2記載の平版印刷版原版。   3. 3. The lithographic printing plate precursor as described in 1 or 2 above, wherein the support is anodized aluminum and a chemical surface modification product thereof.

4.該光重合層が赤外線吸収剤を含有することを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   4). 4. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 3 above, wherein the photopolymerization layer contains an infrared absorber.

5.該光重合層がマイクロカプセルを含有することを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   5. 5. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 4 above, wherein the photopolymerizable layer contains microcapsules.

本発明の課題は、特定の共重合体を光重合層中または光重合層と支持体との間の層中に含有させることにより解決できた。その機構は明確ではないが、本発明の共重合体は支持体との相互作用基により支持体に接着し、かつ連鎖架橋性の高い一般式(A1)で表される構造を有することから、露光部では、光重合層と重合連鎖架橋により密着性を向上させる作用を有する。一方、耐汚れ性や現像性においては一般式(A1)の水素結合性が印刷湿し水への親和性を高め、耐汚れ性や現像性を向上するものと考えている。
さらに、親水性基を同一分子内に有することから、耐汚れ性や現像性の点が飛躍的に向上し、先の密着効果と相乗的に作用することが見受けられる。
また、本発明の高分子化合物の働きは、特に800nm以上の赤外線レーザー露光によ
るヒートモード露光に好適である。高分子の連鎖架橋反応は加熱により分子運動が活発となり加速される。従って、レーザー露光部で熱を発生し重合を行うヒートモード露光の方がフォトンモード露光よりも好適である。
上記のように、露光部の印刷機上での画像強度と未露光部の印刷機上での現像性とが両立する本発明の平版印刷版原版は、特に無処理型平版印刷版として好適に使用できる。
The problem of the present invention has been solved by including a specific copolymer in the photopolymerization layer or in the layer between the photopolymerization layer and the support. Although the mechanism is not clear, the copolymer of the present invention adheres to the support by an interaction group with the support and has a structure represented by the general formula (A1) having a high chain crosslinking property. The exposed portion has an effect of improving adhesion by photopolymerization layer and polymerization chain crosslinking. On the other hand, in terms of stain resistance and developability, it is considered that the hydrogen bonding property of the general formula (A1) increases the affinity for printing dampening water and improves stain resistance and developability.
Furthermore, since it has a hydrophilic group in the same molecule, it can be seen that the stain resistance and developability are dramatically improved, and it acts synergistically with the previous adhesion effect.
The function of the polymer compound of the present invention is particularly suitable for heat mode exposure by infrared laser exposure of 800 nm or more. The chain cross-linking reaction of the polymer is accelerated by heating and the molecular motion becomes active. Therefore, heat mode exposure in which heat is generated in the laser exposure portion and polymerization is performed is more preferable than photon mode exposure.
As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention in which the image intensity on the printing machine in the exposed area and the developability on the printing machine in the unexposed area are compatible is particularly suitable as an unprocessed lithographic printing plate. Can be used.

本発明によれば、レーザー露光後、アルカリ現像せずに画像形成可能であり、細線再現性、耐刷性、汚れにくさ、機上現像性および保存安定性のいずれもが良好な平版印刷版原版を提供できる。   According to the present invention, a lithographic printing plate that can form an image without laser development after laser exposure and has good fine line reproducibility, printing durability, resistance to stains, on-press developability, and storage stability. The original edition can be provided.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上にレーザー感受性の光重合層を有する、アルカリ現像せずに画像形成可能な平版印刷版原版であって、該光重合層中または、該支持体と該光重合層間に位置する他の層中に、(a1)一般式(A1)で表されるラジカル連鎖架橋性基を少なくとも1つ有する繰り返し単位と、(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを有する共重合体(以下「特定共重合体」ともいう。)を含むことを特徴とする。また本発明の特定共重合体は、さらに(a3)親水性基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位を有していることが好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is a lithographic printing plate precursor having a laser-sensitive photopolymerization layer on a support and capable of forming an image without alkali development, in the photopolymerization layer or the support. In another layer located between the photopolymerization layers, (a1) a repeating unit having at least one radical chain crosslinkable group represented by the general formula (A1), and (a2) a function that interacts with the support surface And a copolymer having a repeating unit having at least one group (hereinafter, also referred to as “specific copolymer”). The specific copolymer of the present invention preferably further has (a3) a repeating unit containing at least one hydrophilic group.

〔特定共重合体〕
上記特定共重合体としては、下記式(I)で表される繰り返し単位を含有するものが好ましい。
[Specific copolymer]
As the specific copolymer, those containing a repeating unit represented by the following formula (I) are preferable.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

式(I)中、A1は下記一般式(A1)で表されるラジカル連鎖架橋性基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位を表し、A2は支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位を表し、A3は親水性基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を表す。x、y、zは共重合比を表す。 In formula (I), A 1 represents a repeating unit containing at least one radical chain crosslinkable group represented by the following general formula (A1), and A 2 represents at least 1 functional group that interacts with the support surface. A 3 represents a repeating unit having at least one hydrophilic group. x, y, z represents a copolymerization ratio.

−C(R1)(R2)−C(R3)(L−X−H)− 一般式(A1)
(式中、Xは25℃でのX−Hの結合解離エネルギーが95kcal/mol〔398kJ/mol〕以下となる基を表す。Lは2価の連結基、R1〜R3は水素原子、炭素数1〜6の置換基を有していても良い炭化水素基またはハロゲン原子を表す。)
—C (R 1 ) (R 2 ) —C (R 3 ) (L—X—H) — General Formula (A1)
(In the formula, X represents a group having a bond dissociation energy of XH at 25 ° C. of 95 kcal / mol [398 kJ / mol] or less. L is a divalent linking group, R 1 to R 3 are hydrogen atoms, (It represents a hydrocarbon group or halogen atom which may have a substituent having 1 to 6 carbon atoms.)

一般式(A1)中のX−Hの好ましい例としては、以下のものがあげられる。
−SH 一般式(A1−1)
−ArOH 一般式(A1−2)
(式中、Arは芳香環またはヘテロ芳香環を表す。
−Z−CH(R1)−C(=O)−Y 一般式(A1−3)
(式中、R1は水素原子、炭化水素基、−W−R3−(Wはヘテロ原子、R3は炭化水素基を表す。)、ハロゲン原子または−COR4(R4は炭化水素基を表す。)を表し、Yはヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。またYは連結基となりR1と連結して環を形成していても良い。Zは、−C(=O)−、−S−、−O−、または−NR2−で表される2価の連結基、R2は水素原子、炭化水素基を表す。)
−CH(Ar)−Y 一般式(A1−4)
(式中、Arは芳香環またはヘテロ芳香環を表す。Yはヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。)
Preferable examples of XH in the general formula (A1) include the following.
-SH General formula (A1-1)
-ArOH Formula (A1-2)
(In the formula, Ar represents an aromatic ring or a heteroaromatic ring.
—Z—CH (R 1 ) —C (═O) —Y Formula (A1-3)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, —W—R 3 — (W represents a heteroatom, R 3 represents a hydrocarbon group), a halogen atom or —COR 4 (R 4 represents a hydrocarbon group. Y represents a hydrocarbon group which may contain a hetero atom, Y may be a linking group and may be linked to R 1 to form a ring, and Z is —C. (= O) —, —S—, —O—, or a divalent linking group represented by —NR 2 —, R 2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
—CH (Ar) —Y Formula (A1-4)
(In the formula, Ar represents an aromatic ring or a heteroaromatic ring. Y represents a hydrocarbon group which may contain a hetero atom.)

一般式(A1)中、Lは−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組合せからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。   In general formula (A1), L represents a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. To express.

組合せからなるLの具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がエチレン性不飽和結合に結合する。
L1:−CO−NH−二価の脂肪族基−O−CO−
L2:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L3:−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L4:−二価の脂肪族基−O−CO−
L5:−CO−NH−二価の芳香族基−O−CO−
L6:−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L7:−二価の芳香族基−O−CO−
L8:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L9:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L10:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L11:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L12:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−
L13:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L14:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−
L15:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L16:−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−O−CO−
L17:−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−O−CO−
Specific examples of L composed of combinations are given below. In the following examples, the left side is bonded to the main chain, and the right side is bonded to the ethylenically unsaturated bond.
L1: -CO-NH-divalent aliphatic group -O-CO-
L2: —CO—divalent aliphatic group —O—CO—
L3: -CO-O-divalent aliphatic group -O-CO-
L4: -Divalent aliphatic group -O-CO-
L5: -CO-NH-divalent aromatic group -O-CO-
L6: -CO-divalent aromatic group -O-CO-
L7: -Divalent aromatic group -O-CO-
L8: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aliphatic group-O-CO-
L9: -CO-divalent aliphatic group-O-CO-divalent aliphatic group-O-CO-
L10: -CO-Divalent aromatic group -CO-O-Divalent aliphatic group -O-CO-
L11: -CO-Divalent aromatic group -O-CO-Divalent aliphatic group -O-CO-
L12: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aromatic group-O-CO-
L13: -CO-Divalent aliphatic group -O-CO-Divalent aromatic group -O-CO-
L14: -CO-divalent aromatic group-CO-O-divalent aromatic group-O-CO-
L15: -CO-Divalent aromatic group -O-CO-Divalent aromatic group -O-CO-
L16: -CO-O-divalent aromatic group -O-CO-NH-divalent aliphatic group -O-CO-
L17: -CO-O-divalent aliphatic group -O-CO-NH-divalent aliphatic group -O-CO-

二価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基またはポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基および置換アルキレン基がさらに好ましい。
二価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、さらに分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。
二価の脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ましく、1乃至15であることがより好ましく、1乃至12であることがさらに好ましく、1乃至10であることがさらにまた好ましく、1乃至8であることが最も好ましい。
二価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。
The divalent aliphatic group means an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkynylene group, a substituted alkynylene group or a polyalkyleneoxy group. Of these, an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, and a substituted alkenylene group are preferable, and an alkylene group and a substituted alkylene group are more preferable.
The divalent aliphatic group is preferably a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably a linear structure than a branched chain structure.
The number of carbon atoms in the divalent aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, further preferably 1 to 12, and further preferably 1 to 10. It is preferably 1 to 8, and most preferably.
Examples of the substituent of the divalent aliphatic group include a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and an acyl group. , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, monoalkylamino group, dialkylamino group, arylamino group and diarylamino group.

二価の芳香族基とは、アリレン基または置換アリレン基を意味する。好ましくは、フェニレン、置換フェニレン基、ナフチレンおよび置換ナフチレン基である。
二価の芳香族基の置換基の例としては、上記二価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。
前記L1〜L17の中では、L1、L3、L5、L7、およびL17が好ましい。
The divalent aromatic group means an arylene group or a substituted arylene group. Preferable are phenylene, substituted phenylene group, naphthylene and substituted naphthylene group.
Examples of the substituent for the divalent aromatic group include an alkyl group in addition to the examples of the substituent for the divalent aliphatic group.
Among L1 to L17, L1, L3, L5, L7, and L17 are preferable.

式(I)において、A2で表される繰り返し単位は、具体的には下記式(A2)で表される。 In the formula (I), the repeating unit represented by A 2 is specifically represented by the following formula (A2).

Figure 2006256040
Figure 2006256040

式中、R1〜R3およびLは前記式(A1)で表されるものと同義である。Qは支持体表面と相互作用する官能基(以下、「特定官能基」と略記する場合がある。)を表す。
特定官能基としては、例えば、陽極酸化処理または親水化処理を施した支持体上に存在する金属、金属酸化物、水酸基などと共有結合、イオン結合、水素結合、極性相互作用、ファンデルワールズ相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。
特定官能基の具体例を以下に挙げる。
In formula, R < 1 > -R < 3 > and L are synonymous with what is represented by said Formula (A1). Q represents a functional group that interacts with the support surface (hereinafter sometimes abbreviated as “specific functional group”).
Specific functional groups include, for example, covalent bonds, ionic bonds, hydrogen bonds, polar interactions, van der Waals interactions with metals, metal oxides, hydroxyl groups, etc. present on an anodized or hydrophilized support. Examples include groups capable of interaction such as action.
Specific examples of the specific functional group are listed below.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

(上記式中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、またはアルケニル基を表し、M1およびM2はそれぞれ独立に、水素原子、金属原子、またはアンモニウム基を表し、X-はカウンターアニオンを表す。)
これらのなかでも特定官能基としては、アンモニウム基、ピリジニウム基等のオニウム塩基、リン酸エステル基、ホスホン酸基、ホウ酸基、アセチルアセトン基などのβ−ジケトン基などが好適である。
(In the above formula, R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkynyl group, or an alkenyl group, and M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, a metal atom, or Represents an ammonium group, and X represents a counter anion.)
Among these, the specific functional group is preferably an onium base such as an ammonium group or a pyridinium group, or a β-diketone group such as a phosphate group, a phosphonic acid group, a boric acid group, or an acetylacetone group.

式(A2)において、Lは−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組合せからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。
組合せからなるLの具体例としては、前記(A1)におけるLの具体例に加えて以下のものを挙げることができる。なお、下記例において左側が主鎖に結合する。
L18: −CO−NH−
L19: −CO−O−
L20: −二価の芳香族基−
In the formula (A2), L represents a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. .
Specific examples of L composed of combinations include the following in addition to the specific examples of L in (A1). In the following examples, the left side is bonded to the main chain.
L18: —CO—NH—
L19: -CO-O-
L20: -Divalent aromatic group-

式(I)において、A3で表される繰り返し単位は、好ましくは下記式(A3)で表される。 In the formula (I), the repeating unit represented by A 3 is preferably represented by the following formula (A3).

Figure 2006256040
Figure 2006256040

式中、R1〜R3およびLは前記式(A1)で表されるものと同義である。Wは下記基を表す。 In formula, R < 1 > -R < 3 > and L are synonymous with what is represented by said Formula (A1). W represents the following group.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

ただし、M1は前記式(A2)の説明で表されるものと同義である。
7およびR8はそれぞれ独立に、水素原子、あるいは炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキル基を表す。
9は炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキレン基を表し、エチレン基が好ましい。
10は水素原子または炭素数1〜12のアルキル基を表す。
nは1〜100の整数を表し、1〜30が好ましい。
However, M 1 is the same meanings as those represented in the description of the formula (A2).
R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R 9 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably an ethylene group.
R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 100, and preferably 1 to 30.

前記(A3)で表される親水性基の少なくとも一つ含有する繰り返し単位は、そのlogPが、−3〜3であるのが好ましく、−1〜2であるのがより好ましい。この範囲で、良好な現像性が得られる。
ここでlogPとは、Medicinal Chemistry Project, Pomona College, Claremont, Californiaで開発され、Daylight Chemical Information System Inc. より入手できるソフトウェアPCModelsを用いて算出した化合物のオクタノール/水分配係数(P)の値の対数である。
前記Wとしては、アルキレンオキシ基を含むものが好ましい。
The repeating unit containing at least one of the hydrophilic groups represented by (A3) preferably has a log P of -3 to 3, more preferably -1 to 2. Within this range, good developability can be obtained.
Here, logP is developed by Medicinal Chemistry Project, Pomona College, Clarmont, California, Daylight Chemical Information Inc. It is the logarithm of the octanol / water partition coefficient (P) value of a compound calculated using the more available software PCModels.
The W preferably contains an alkyleneoxy group.

前記特定共重合体の分子量としては、質量平均分子量で500〜100,000の範囲が好ましく、700〜50,000の範囲がより好ましい。また(a1)は全共重合モノマーに対して5〜80モル%が好ましく、10〜50モル%がより好ましい。(a2)は全共重合モノマーに対して5〜80モル%が好ましく、10〜50モル%がより好ましい。さらに、(a3)は全共重合モノマーに対して5〜80モル%が好ましく、10〜50モル%がより好ましい。   As a molecular weight of the said specific copolymer, the range of 500-100,000 is preferable at a mass mean molecular weight, and the range of 700-50,000 is more preferable. Further, (a1) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from 10 to 50 mol%, based on all copolymerized monomers. (A2) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from 10 to 50 mol%, based on all copolymerized monomers. Furthermore, (a3) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from 10 to 50 mol%, based on all copolymerized monomers.

本発明において用いられる前記特定共重合体の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the specific copolymer used in the present invention are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

Figure 2006256040
Figure 2006256040

Figure 2006256040
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Figure 2006256040
Figure 2006256040

Figure 2006256040
Figure 2006256040

本発明において前記特定共重合体のアルミニウム陽極酸化皮膜への吸着性については、以下の方法で測定できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布液を作製し、その塗布液を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように陽極酸化皮膜を施したアルミニウム支持体上に塗布し、乾燥させる。試験化合物を塗布した支持体を易溶性溶媒で十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量してもよい。化合物の定量法としては、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。アルミニウム陽極酸化皮膜への吸着性がある化合物は、このような洗浄処理を行っても0.1mg/m2以上残存する。
In the present invention, the adsorptivity of the specific copolymer to the anodized aluminum film can be measured by the following method.
A coating solution in which a test compound is dissolved in a readily soluble solvent is prepared, and the coating solution is applied onto an aluminum support on which an anodized film has been applied so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 and dried. Let After the support coated with the test compound is sufficiently washed with a readily soluble solvent, the amount of adsorption of the test compound that has not been removed by washing is measured. Here, the residual amount may be measured by directly quantifying the residual compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. As a method for quantifying the compound, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like can be performed. A compound having an adsorptivity to the aluminum anodic oxide film remains in an amount of 0.1 mg / m 2 or more even after such a cleaning treatment.

本発明において前記特定共重合体の使用形態としては、光重合層中に含有させることも、またはその他の層に含有させることもできる。その他の層としては、支持体または光重合層に隣接する層が好ましい。なかでも、支持体と光重合層との間に設けられる下塗り層(中間層)に用いるのが本発明の効果が十分に発揮されるため特に好ましい。下塗り層に用いることにより、露光部の支持体と光重合層とのより強固な接着性が得られ、未露光部においては、光重合層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、現像性、耐汚れ性が向上する。赤外線露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、赤外線レーザーによる露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点もある。   In the present invention, the specific copolymer can be used in the photopolymerization layer or in other layers. The other layer is preferably a layer adjacent to the support or the photopolymerization layer. Especially, it is especially preferable to use for the undercoat layer (intermediate layer) provided between a support body and a photopolymerization layer since the effect of this invention is fully exhibited. By using it as an undercoat layer, stronger adhesion between the support of the exposed portion and the photopolymerizable layer can be obtained, and in the unexposed portion, the photopolymerizable layer is easily peeled off from the support. Improves stain resistance. In the case of infrared exposure, since the undercoat layer functions as a heat insulating layer, the heat generated by the exposure by the infrared laser does not diffuse to the support and can be used efficiently, so that the sensitivity can be increased. There is also.

本発明において前記特定共重合体を下塗り層に用いる場合には、通常該共重合体を溶剤で希釈して用いる。溶媒としては、水や、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、1−メトキシ−2−プロパノール、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられ、特にアルコール類が好ましい。これらの有機溶媒は混合して用いることもできる。   In the present invention, when the specific copolymer is used for the undercoat layer, the copolymer is usually diluted with a solvent. Examples of the solvent include water and organic solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, hexylene glycol, tetrahydrofuran, dimethylformamide, 1-methoxy-2-propanol, dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. Are preferred. These organic solvents can also be mixed and used.

下塗り層塗布液の濃度としては、0.001〜10質量%が好ましく、より好ましくは
0.01〜5質量%であり、さらに好ましくは0.05〜1質量%である。下塗り層には、必要に応じて後述する界面活性剤を添加してもよい。
As a density | concentration of undercoat layer coating liquid, 0.001-10 mass% is preferable, More preferably, it is 0.01-5 mass%, More preferably, it is 0.05-1 mass%. A surfactant described later may be added to the undercoat layer as necessary.

下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2 であるのが好ましく、3〜30mg/m2 であるのがより好ましい。 The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 3 to 30 mg / m 2.

〔光重合層〕
本発明の平版印刷版原版は、親水性支持体上にレーザー感受性の光重合層を有する。該光重合層は、バインダーポリマー、赤外線吸収剤、重合開始剤、増感色素、重合性化合物、マイクロカプセルおよびその他の添加物を平版印刷版原版の設計目的に応じて含有することができる。以下、光重合層必要の構成成分について説明する。
(Photopolymerization layer)
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a laser-sensitive photopolymerization layer on a hydrophilic support. The photopolymerization layer can contain a binder polymer, an infrared absorber, a polymerization initiator, a sensitizing dye, a polymerizable compound, microcapsules and other additives depending on the design purpose of the lithographic printing plate precursor. Hereinafter, constituent components necessary for the photopolymerization layer will be described.

<バインダーポリマー>
本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知の皮膜性を有するポリマーを制限なく使用できるが、光重合層の皮膜特性や機上現像性の向上のため、バインダーポリマーとして分子内、具体的には側鎖に下記式(1)で表されるエーテル基を有する高分子化合物を用いるのが好ましい。
<Binder polymer>
As the binder polymer that can be used in the present invention, a polymer having a conventionally known film property can be used without limitation. However, in order to improve the film property of the photopolymerization layer and the on-machine developability, the binder polymer may be used in the molecule, specifically It is preferable to use a polymer compound having an ether group represented by the following formula (1) in the side chain.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

式(1)中、Rは水素原子またはメチル基を表し、aは1、3または5であり、lは1〜9の整数を表す。lは好ましくは1〜8の整数であり、より好ましくは1〜7の整数、さらに好ましくは1〜6の整数、最も好ましくは1〜4の整数である。   In formula (1), R represents a hydrogen atom or a methyl group, a is 1, 3 or 5, and 1 represents an integer of 1 to 9. l is preferably an integer of 1 to 8, more preferably an integer of 1 to 7, still more preferably an integer of 1 to 6, and most preferably an integer of 1 to 4.

本発明の上記式(1)で表されるエーテル基を分子内に有する高分子化合物は、ガラス転移温度(Tg)が90℃以下であることが好ましい。機上現像性向上、および、露光による重合効率向上の観点からは70℃未満のものがより好ましい。また、Tgの下限には特に制限はないが、保存安定性の観点からは、−50℃以上のものが好ましい。
ここで、「ガラス転移温度」(Tg)とは、「高分子化学」(共立出版、1993年刊)に定義されるように、高分子物質の比容を温度の関数として測定したときの、2本の直線の交点に対応する温度を指し、示差走査熱量計(DSC)により測定した値を採用する。
The polymer compound having an ether group represented by the above formula (1) of the present invention in the molecule preferably has a glass transition temperature (Tg) of 90 ° C. or lower. From the viewpoint of improving the on-press developability and improving the polymerization efficiency by exposure, those less than 70 ° C. are more preferable. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular in the minimum of Tg, -50 degreeC or more is preferable from a viewpoint of storage stability.
Here, “glass transition temperature” (Tg) is defined as “polymer chemistry” (Kyoritsu Shuppan, published in 1993) and is 2 2 when the specific volume of a polymer substance is measured as a function of temperature. It refers to the temperature corresponding to the intersection of the straight lines of the book, and adopts a value measured by a differential scanning calorimeter (DSC).

本発明に係る高分子化合物に関して、Tgを所望の値に設定するには、高分子化合物を構成する構造単位に、直鎖状の部分構造をもつ官能基を導入すればよく、1種、または2種以上の構造単位のいずれかにこのような官能基を目的に応じて導入すればよい。このため、本発明に係る高分子化合物の主鎖構造は特に限定されない。主鎖構造の好ましいものとしては、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニル樹脂のアセタール変性体等が挙げられ、中でもインク着肉性等の印刷性能の観点からポリ(メタ)アクリル系樹脂が好適である。したがって、このようなポリ(メタ)アクリル系主鎖構造を有する高分子化合物のTgを90℃以下にするためには、高分子化合物が一般式(1)で表される構造単位を側鎖に含有してなることが必要である。なおこの場合、異なる複数の構造単位を含有してもよい。   Regarding the polymer compound according to the present invention, in order to set Tg to a desired value, a functional group having a linear partial structure may be introduced into the structural unit constituting the polymer compound, or one kind, or Such a functional group may be introduced into any one of two or more structural units depending on the purpose. For this reason, the main chain structure of the polymer compound according to the present invention is not particularly limited. Preferable examples of the main chain structure include poly (meth) acrylic resins, polyurethane resins, acetal-modified products of polyvinyl resins, and the like. Among them, poly (meth) acrylic resins are preferred from the viewpoint of printing performance such as ink setting properties. Resins are preferred. Therefore, in order to reduce the Tg of the polymer compound having such a poly (meth) acrylic main chain structure to 90 ° C. or less, the polymer compound has the structural unit represented by the general formula (1) as a side chain. It is necessary to contain. In this case, a plurality of different structural units may be contained.

本発明のバインダーとして用いる高分子化合物には上記式(1)で表されるエーテル基以外のエーテル基を有していてもよい。   The polymer compound used as the binder of the present invention may have an ether group other than the ether group represented by the above formula (1).

本発明のバインダーとして用いる高分子化合物は機上現像性などの諸性能を向上させるために、親水性基を有するラジカル重合性化合物を共重合させてもよい。このような親水性基としては、アルカリ可溶性基でないことが好ましく、たとえば、アミド基、水酸基、
オニウム塩基などがあり、好ましいのはアミド基、水酸基、である。親水性基を有するラジカル重合性化合物の具体例としては、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、N−アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレートが挙げられる。これらを1種あるいは1種以上用いることができ、これらの共重合成分の好適に使用される含有量は、0〜85モル%であり、特に好ましくは5〜70モル%である。
The polymer compound used as the binder of the present invention may be copolymerized with a radically polymerizable compound having a hydrophilic group in order to improve various performances such as on-press developability. Such a hydrophilic group is preferably not an alkali-soluble group, such as an amide group, a hydroxyl group,
There are onium bases and the like, and an amide group and a hydroxyl group are preferable. Specific examples of the radical polymerizable compound having a hydrophilic group include, for example, acrylamide, methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide, N-acryloylmorpholine, 2 -Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate are mentioned. These may be used alone or in combination of one or more. The content of these copolymer components is preferably 0 to 85 mol%, particularly preferably 5 to 70 mol%.

本発明のバインダーとして用いる高分子化合物は画像強度などの諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、前述のラジカル重合性化合物に加えて、さらに、他のラジカル重合性化合物を共重合させることも好ましい態様である。本発明において高分子化合物に共重合させることができるラジカル重合性化合物としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、N,N−2置換アクリルアミド類、N,N−2置換メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。   In order to improve various properties such as image strength, the polymer compound used as the binder of the present invention is not limited to the above-mentioned radical polymerizable compound, as long as the effects of the present invention are not impaired. It is also a preferred embodiment to copolymerize. Examples of the radical polymerizable compound that can be copolymerized with the polymer compound in the present invention include acrylic acid esters, methacrylic acid esters, N, N-2 substituted acrylamides, and N, N-2 substituted methacrylamides. , Radically polymerizable compounds selected from styrenes, acrylonitriles, methacrylonitriles and the like.

具体的には、例えば、アルキルアクリレート(該アルキル基の炭素原子数は1〜20のものが好ましい)等のアクリル酸エステル類、(具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリヌリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど)、アリールアクリレート(例えば、フェニルアクリレートなど)、アルキルメタクリレート(該アルキル基の炭素原子は1〜20のものが好ましい)等のメタクリル酸エステル類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクゾレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど)、スチレン、アルキルスチレン等のスチレン(例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチレン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、プロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。   Specifically, for example, acrylic esters such as alkyl acrylate (the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms) (specifically, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic Propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate , Pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.), aryl acrylate (e.g., Methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, etc.) Cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate , Glycidyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydroph Styrene such as methyl methacrylate, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, Butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, etc.), alkoxy styrene (for example, methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, Dimethoxystyrene, etc.), halogen styrene (eg chlorostyrene, dichlorostyrene, trichloro) Styrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, prom styrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene, etc. ), Acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.

また、本発明のバインダーとして用いる高分子化合物は下記式(2)で表されるエステル基または下記式(3)で表されるアミド基を分子内に有していてもよい。   The polymer compound used as the binder of the present invention may have an ester group represented by the following formula (2) or an amide group represented by the following formula (3) in the molecule.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

式中、bは2〜5の整数であり、cは2〜7の整数であり、mおよびnはそれぞれ独立に1〜100の整数を表す。   In the formula, b is an integer of 2 to 5, c is an integer of 2 to 7, and m and n each independently represents an integer of 1 to 100.

これらラジカル重合性化合物のうち、好適に使用されるのは、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類である。これらを1種あるいは2種以上用いることができ、これら共重合成分の好適に使用される含有量は、0〜95モル%であり、特に好ましくは、20〜90モル%である。   Of these radical polymerizable compounds, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, and styrenes are preferably used. These can be used singly or in combination of two or more. The content of these copolymerization components is preferably 0 to 95 mol%, particularly preferably 20 to 90 mol%.

本発明に係るバインダーとして用いる高分子化合物は単独重合体でもよいが、異なる一般式(1)で表される基を有するラジカル重合性化合物同士、あるいは、一般式(1)で表される基を有するラジカル重合性化合物1種以上と上述の他のラジカル重合性化合物1種以上との共重合体である場合、その共重合体の構成として、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体のいずれであっても良い。   The polymer compound used as the binder according to the present invention may be a homopolymer, but radically polymerizable compounds having different groups represented by the general formula (1) or groups represented by the general formula (1). In the case of a copolymer of one or more radically polymerizable compounds having one or more of the above-mentioned other radically polymerizable compounds, the composition of the copolymer includes a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer. Any of them may be combined.

このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N一ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合してもよい。   Examples of the solvent used for synthesizing such a polymer compound include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxy. Examples include ethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, and ethyl lactate. It is done. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係るバインダーとして用いる高分子化合物は、質量平均分子量Mwで、好ましくは2,000以上であり、さらに好ましくは、5,000〜300,000の範囲である。また、本発明に係る高分子化合物中には、未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、高分子化合物中に占める単量体の割合は、15質量%以下が望ましい。本発明の平版印刷版原版に含まれるバインダーとして用いる高分子化合物の含有量は固形分で好ましくは約5〜95質量%であり、より好ましくは、約10〜85質量%である。この範囲内で、良好な画像部強度と画像形成性が得られる。   The polymer compound used as the binder according to the present invention has a mass average molecular weight Mw, preferably 2,000 or more, and more preferably 5,000 to 300,000. Further, the polymer compound according to the present invention may contain an unreacted monomer. In this case, the proportion of the monomer in the polymer compound is desirably 15% by mass or less. The content of the polymer compound used as the binder contained in the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably about 5 to 95% by mass, more preferably about 10 to 85% by mass in terms of solid content. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.

本発明におけるバインダーポリマーとして用いられる高分子化合物の構成単位具体例を以下に示すがこれらに限定されない。   Specific examples of structural units of the polymer compound used as the binder polymer in the present invention are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2006256040
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<赤外線吸収剤>
本発明の平版印刷版原版を、例えば760〜1200nmの赤外線を発するレーザー光源により画像形成する場合には、赤外線吸収剤を光重合層中に含有させることが好ましい。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。この際発生した熱により、後述する重合開始剤(ラジカル発生剤)が熱分解し、ラジカルを発生する。本発明において使用される赤外線吸収剤としては、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料または顔料が挙げられる。
<Infrared absorber>
When forming an image of the lithographic printing plate precursor according to the invention with a laser light source that emits infrared rays of 760 to 1200 nm, for example, it is preferable to contain an infrared absorber in the photopolymerization layer. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. Due to the heat generated at this time, a polymerization initiator (radical generator) described later is thermally decomposed to generate radicals. Examples of the infrared absorber used in the present invention include dyes or pigments having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料および例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye used as the infrared absorber, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, 58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59- No. 73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent 434,875 And cyanine dyes.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.
Other preferable examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(i)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (i).

Figure 2006256040
Figure 2006256040

一般式(i)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1または以下に示す基を表す。 In formula (i), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below.

Figure 2006256040
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2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
a -は後述するZa -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.
X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

一般式(i)におけるR1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水
素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。
R 1 and R 2 in the general formula (i) each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za -は、対アニオンを示す。ただし、一般式(i)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa -は必要ない。好ましいZa -は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z a - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (i) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of storage stability of the recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(i)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (i) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraphs [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. be able to.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の光重合層塗布液中での良好な安定性と光重合層の良好な均一性が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the photopolymerization layer coating solution and good uniformity of the photopolymerization layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型平版印刷版原版を作製した際に、光重合層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.3〜1.2の範囲にあるように添加する。好ましくは、0.4〜1.1の範囲である。この範囲で、光重合層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
光重合層の吸光度は、光重合層に添加する赤外線吸収剤の量と光重合層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版原版として必要な範囲において適宜決定された厚みの光重合層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer, but photopolymerization is performed when a negative lithographic printing plate precursor is prepared. The layer is added so that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. Preferably, it is the range of 0.4-1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the photopolymerization layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The light absorbency of a photopolymerization layer can be adjusted with the quantity of the infrared absorber added to a photopolymerization layer, and the thickness of a photopolymerization layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, a photopolymerization layer having a thickness appropriately determined as a lithographic printing plate precursor is applied on a coating amount after drying, and the reflection density is optically measured. Examples thereof include a method of measuring with a densitometer, a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere, and the like.

<重合開始剤>
本発明の光重合層に用いられる重合開始剤としては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光重合開始剤、または2種以上の光重合開始剤の併用系(光重合開始系)を適宜選択して使用することができる。
<Polymerization initiator>
As a polymerization initiator used in the photopolymerization layer of the present invention, various photopolymerization initiators known in patents, literatures, etc., or a combination system of two or more photopolymerization initiators depending on the wavelength of the light source used ( Photopolymerization initiation system) can be appropriately selected and used.

青色半導体レーザー、Arレーザー、赤外半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレーザーを光源とする場合には、種々の光重合開始剤(系)が提案されており、例えば米国特許第2,850,445号明細書に記載のある種の光還元性染料、例えばローズべンガル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは染料と開始剤との組合せによる系、例えば染料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189号公報)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−37377号公報)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号公報、特開昭54−155292号公報)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−84183号公報)、環状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024号公報)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−112681号公報、特開昭58−15503号公報)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−140203号公報)、有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号公報、特開昭59−140203号公報、特開昭59−189340号公報、特開昭62−174203号公報、特公昭62−1641号公報、米国特許第4766055号明細書)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−1718105号公報、特開昭63−258903号公報、特開平3−264771号公報など)、染料とボレート化合物の系(特開昭62−143044号公報、特開昭62−150242号公報、特開昭64−13140号公報、特開昭64−13141号公報、特開昭64−13142号公報、特開昭64−13143号公報、特開昭64−13144号公報、特開昭64−17048号公報、特開平1−229003号公報、特開平1−298348号公報、特開平1−138204号公報など)、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号公報、特開平2−244050号公報)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110号公報)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958号公報、特開平4−219756号公報)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号公報)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−334897号公報)等を挙げることができる。   In the case of using a blue semiconductor laser, Ar laser, second harmonic of an infrared semiconductor laser, or SHG-YAG laser as a light source, various photopolymerization initiators (systems) have been proposed. 850,445, certain photoreducible dyes such as rose bengal, eosin, erythrosine, etc., or combinations of dyes and initiators, such as complex initiator systems of dyes and amines. -20099), a combination system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528). JP, 54-155292, cyclic cis-α-dicarbonyl compound and dye system (JP 48-8) 183), a system of cyclic triazine and merocyanine dye (Japanese Patent Laid-Open No. 54-151024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (Japanese Patent Laid-Open No. 52-112682, Japanese Patent Laid-Open No. 58-15503) , Biimidazole, styrene derivative, thiol system (JP 59-140203 A), organic peroxide and dye system (JP 59-1504 A, JP 59-140203 JP, JP JP-A 59-189340, JP-A 62-174203, JP-B 62-1641, US Pat. No. 4,766,055), a system of dye and active halogen compound (JP-A 63-1718105, JP-A-63-258903, JP-A-3-264771, etc.), a system of a dye and a borate compound (JP-A-62-143044, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 62-150242, 64-13140, 64-13141, 64-13142, 64-13143, 64-13144 JP-A-64-17048, JP-A-1-229003, JP-A-1-298348, JP-A-1-138204, etc.), a system comprising a dye having a rhodanine ring and a radical generator ( JP-A-2-17943, JP-A-2-244050), titanocene and 3-ketocoumarin dye system (JP-A 63-221110), titanocene and xanthene dye, addition polymerization containing amino group or urethane group A combination of possible ethylenically unsaturated compounds (JP-A-4-221958, JP-A-4-219756), Tanosen and system specific merocyanine dye (JP-A-6-295061), a dye system with titanocene and benzopyran ring (JP-A-8-334897 JP), and the like.

本発明の平版印刷版原版の光重合層(感光層)において、特に好ましい光重合開始剤(系)は、少なくとも1種のチタノセンを含有する。本発明において光重合性開始剤(系)として用いられるチタノセン化合物は、後述する増感色素との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41483号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−291号公報、特開平3−27393号公報、特開平3−12403号公報、特開平6−41170号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。   In the photopolymerization layer (photosensitive layer) of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a particularly preferred photopolymerization initiator (system) contains at least one titanocene. The titanocene compound used as a photopolymerizable initiator (system) in the present invention may be any titanocene compound that can generate an active radical when irradiated with light in the presence of a sensitizing dye described later. For example, JP 59-152396 A, JP 61-151197 A, JP 63-41483 A, JP 63-41484 A, JP 2-249 A, and JP 2 -291, JP-A-3-27393, JP-A-3-12403, and JP-A-6-41170 can be appropriately selected and used.

更に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル(以下「T−1」ともいう。)、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)フェニル)チタニウム(以下「T−2」ともいう。)等を挙げることができる。   More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-pentafluorophen-1-yl (hereinafter also referred to as “T-1”), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclo Pentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl Di-methylcyclopentadie Ru-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclo And pentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl) phenyl) titanium (hereinafter also referred to as “T-2”).

これらのチタノセン化合物は、さらに、感光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や、付加重合性不飽和化合物その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。   These titanocene compounds can be further subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive layer. For example, bonding with sensitizing dyes, addition polymerizable unsaturated compounds and other radical generating parts, introduction of hydrophilic sites, compatibility improvement, introduction of substituents to suppress crystal precipitation, introduction of substituents to improve adhesion A method such as polymerization can be used.

これらのチタノセン化合物の使用法に関しても、先述の付加重合性化合物同様、平版印刷版原版の性能設計により適宜、任意に設定できる。例えば、2種以上併用することで、感光層への相溶性を高めることができる。上記チタノセン化合物等の光重合開始剤の使用量は通常多い方が感光性の点で有利であり、感光層の不揮発性成分100質量部に対し、0. 5〜80質量部、好ましくは1〜50質量部の範囲で用いることで充分な感光性が得られる。一方、黄色等、白色灯下での使用に際しては、500nm付近の光によるカブリ性の点からチタノセンの使用量は少ないことが好ましいが、増感色素との組合せによりチタノセンの使用量は6質量部以下、さらに1.9質量部以下、さらには1.4質量部以下にまで下げても充分な感光性を得ることができる。   The use method of these titanocene compounds can be arbitrarily set as appropriate according to the performance design of the lithographic printing plate precursor as in the above-described addition polymerizable compound. For example, by using two or more kinds in combination, the compatibility with the photosensitive layer can be increased. A larger amount of the photopolymerization initiator such as the titanocene compound is usually more advantageous from the viewpoint of photosensitivity, and it is preferable that the amount of the photopolymerization initiator is 0.1% relative to 100 parts by mass of the non-volatile component of the photosensitive layer. Sufficient photosensitivity is obtained by using in 5-80 mass parts, Preferably it is 1-50 mass parts. On the other hand, when used under a white light such as yellow, it is preferable that the amount of titanocene used is small from the viewpoint of fogging by light near 500 nm, but the amount of titanocene used is 6 parts by mass in combination with a sensitizing dye. Thereafter, sufficient photosensitivity can be obtained even when the content is further reduced to 1.9 parts by mass or less, and further to 1.4 parts by mass or less.

本発明に用いられる、前記付加重合性化合物の硬化反応を開始、進行させるための熱重合開始剤としては、熱により分解してラジカルを発生する熱分解型のラジカル発生剤が有用である。このようなラジカル発生剤は前述する赤外線吸収剤と併用することで、赤外線レーザーを照射した際に赤外線吸収剤が発熱し、その熱によりラジカルを発生するものであり、これらの組合せにより記録が可能となる。
ラジカル発生剤としては、オニウム塩、トリハロメチル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジド、オキシムエステル化合物
、トリアリールモノアルキルボレート化合物などが挙げられるが、オニウム塩またはオキシムエステル化合物が高感度であり、好ましい。以下に、本発明において重合開始剤として好適に用い得るオニウム塩について説明する。好ましいオニウム塩としては、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(A)〜(C)で表されるオニウム塩である。
As the thermal polymerization initiator used in the present invention for initiating and advancing the curing reaction of the addition polymerizable compound, a thermal decomposition type radical generator that decomposes by heat to generate radicals is useful. Such a radical generator is used in combination with the above-described infrared absorber, and when the infrared laser is irradiated, the infrared absorber generates heat and generates radicals by the heat. Recording is possible by combining these. It becomes.
Examples of the radical generator include onium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, quinonediazides, oxime ester compounds, triaryl monoalkylborate compounds, etc. Or an oxime ester compound has high sensitivity and is preferable. Below, the onium salt which can be used suitably as a polymerization initiator in this invention is demonstrated. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. The onium salt suitably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formulas (A) to (C).

Figure 2006256040
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一般式(A)中、Ar11とAr12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 In general formula (A), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a group having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. Z 11− represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a carboxylate ion, and a sulfonate ion, preferably a perchlorate ion, Hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, and aryl sulfonate ions.

一般式(B)中、Ar21は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21-はZ11-と同義の対イオンを表す。 In the general formula (B), Ar 21 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. Z 21- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

一般式(C)中、R31、R32およびR33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオンを表す。 In the general formula (C), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

本発明において、重合開始剤(ラジカル発生剤)として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133696号公報に記載されたもの等を挙げることができる。以下に、本発明において、好適に用いることのできる一般式(A)で示されるオニウム塩([OI−1]〜[OI−10])、一般式(B)で示されるオニウム塩([ON−1]〜[ON−5])、および一般式(C)で示されるオニウム塩([OS−1]〜[OS−7])の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。   In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator (radical generator) include those described in JP-A-2001-133696. In the present invention, onium salts represented by general formula (A) ([OI-1] to [OI-10]) and onium salts represented by general formula (B) ([ON] which can be suitably used in the present invention are shown below. -1] to [ON-5]), and specific examples of the onium salts ([OS-1] to [OS-7]) represented by the general formula (C), are not limited thereto. .

Figure 2006256040
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本発明において用いられる重合開始剤は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The polymerization initiator used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

また、他の好ましい重合開始剤として、特開2001−343742号、特開2002−006482号、特開2002−148790号の各公報に記載の特定の芳香族スルホニウム塩が挙げられる。以下にその代表的な化合物を例示する。
以下に、本発明に適用し得る他の好ましい重合開始剤の代表的な化合物を例示する。
Other preferable polymerization initiators include specific aromatic sulfonium salts described in JP-A Nos. 2001-343742, 2002-006482, and 2002-148790. The typical compound is illustrated below.
Below, the typical compound of the other preferable polymerization initiator which can be applied to this invention is illustrated.

Figure 2006256040
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Figure 2006256040
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また、以下に、本発明において重合開始剤として好適に用い得るオキシムエステル化合物について説明する。好ましいオキシムエステル化合物としては、下記一般式(D)で表される化合物が挙げられる。   Moreover, the oxime ester compound which can be used suitably as a polymerization initiator in this invention is demonstrated below. Preferred oxime ester compounds include compounds represented by the following general formula (D).

Figure 2006256040
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一般式(D)中、Xはカルボニル基、スルホン基、スルホキシド基を表し、Yは炭素数1〜12の環状または鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数6〜18のアリール基、複素環基であり、アリール基とはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン基、ピレン基、トリフェニレン基等の芳香族炭化水素化合物であり、複素環とは窒素原子、硫黄原子、酸素原子を環構造に少なくとも1つ有する芳香族化合物であり、例えば、ピロール基、フラン基、チオフェン基、セレノフェノン基、ピラゾール基、イミダゾール基、トリアゾール基、テトラゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、インドール基、ベンゾフラン基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、フェノキサジン、フェノチアジン等の化合物が挙げられる。これらYで表される置換基は、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基、またはアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。   In general formula (D), X represents a carbonyl group, a sulfone group, or a sulfoxide group, and Y represents a cyclic or chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. An aryl group is an aromatic hydrocarbon compound such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene group, pyrene group, triphenylene group, and a heterocyclic ring is a nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom For example, a pyrrole group, a furan group, a thiophene group, a selenophenone group, a pyrazole group, an imidazole group, a triazole group, a tetrazole group, an oxazole group, a thiazole group, an indole group, Benzofuran group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzothiazole group, pyridine group Pyrimidine group, a pyrazine group, a triazine group, a quinoline group, a carbazole group, an acridine group, a phenoxazine, and a compound such as phenothiazine. These substituents represented by Y are halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, aldehyde group, alkyl group, thiol group, aryl group or alkenyl group, alkynyl group, ether group, ester group, urea Group, amino group, amide group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl group, imino group, halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, carbonyl group, urethane It can be substituted by a compound containing a group, an alkyl group, a thiol group, an aryl group, a phosphoroso group, a phospho group, or a carbonyl ether group.

一般式(D)におけるZは、Yと同義またはニトリル基、ハロゲン原子、水素原子、またはアミノ基であり、これらのZの化合物はハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基またはアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。   Z in the general formula (D) is synonymous with Y or is a nitrile group, a halogen atom, a hydrogen atom, or an amino group, and these Z compounds are halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, aldehyde groups. , Alkyl group, thiol group, aryl group or alkenyl group, alkynyl group, ether group, ester group, urea group, amino group, amide group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl Substitutable with compounds containing groups, imino groups, halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, carbonyl groups, urethane groups, alkyl groups, thiol groups, aryl groups, phosphoroso groups, phospho groups, carbonyl ether groups It is.

一般式(D)におけるWは、2価の有機基を表し、メチレン基、カルボニル基、スルホキシド基、スルホン基、イミノ基を表し、メチレン基およびイミノ基はアルキル基、アリール基、エステル基、ニトリル基、カルボニルエーテル基、スルホ基、スルホエーテル基、エーテル基等を含有する化合物により置換可能である。nは0または1の整数を表す。   W in the general formula (D) represents a divalent organic group, and represents a methylene group, a carbonyl group, a sulfoxide group, a sulfone group, or an imino group. The methylene group and the imino group are an alkyl group, an aryl group, an ester group, and a nitrile. It can be substituted by a compound containing a group, a carbonyl ether group, a sulfo group, a sulfo ether group, an ether group or the like. n represents an integer of 0 or 1.

一般式(D)におけるVは、炭素数1〜12の環状または鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数6〜18のアリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基であ
り、アリール基とはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン基、ピレン基、トリフェニレン基等の芳香族炭化水素化合物、ピロール基、フラン基、チオフェン基、セレノフェン基、ピラゾール基、イミダゾール基、トリアゾール基、テトラゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、インドール基、ベンゾフラン基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、フェノキサジン、フェノチアジン等のヘテロ原子含有芳香族化合物が挙げられる。これらVの化合物はハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基またはアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する合物により置換可能である。
また、VとZは互いに結合して環を形成してもよい。
V in the general formula (D) is a cyclic or chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkoxy group, or an aryloxy group. Aromatic hydrocarbon compounds such as benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene group, pyrene group, triphenylene group, pyrrole group, furan group, thiophene group, selenophene group, pyrazole group, imidazole group, triazole group, tetrazole group, oxazole Group, thiazole group, indole group, benzofuran group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzothiazole group, pyridine group, pyrimidine group, pyrazine group, triazine group, quinoline group, carbazole group, acridine group, phenoxazine, phenothiazine, etc. Including heteroatoms Aromatics. These V compounds are halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, aldehyde groups, alkyl groups, thiol groups, aryl groups or alkenyl groups, alkynyl groups, ether groups, ester groups, urea groups, amino groups, amides. Group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl group, imino group, halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, carbonyl group, urethane group, alkyl group, thiol It can be substituted by a compound containing a group, an aryl group, a phosphoroso group, a phospho group, or a carbonyl ether group.
V and Z may be bonded to each other to form a ring.

上記一般式(D)で表されるオキシムエステル化合物としては、感度の面から、Xはカルボニル、Yはアリール基またはベンゾイル基、Z基はアルキル基またはアリール基、Wはカルボニル基であり、Vはアリール基であることが好ましい。更に好ましくは、Vのアリール基がチオエーテル置換基を有することが好ましい。
なお、上記一般式(D)におけるN−O結合の構造はE体であってもZ体であっても構わない。
As the oxime ester compound represented by the general formula (D), from the viewpoint of sensitivity, X is carbonyl, Y is an aryl group or benzoyl group, Z group is an alkyl group or aryl group, W is a carbonyl group, V Is preferably an aryl group. More preferably, the aryl group of V has a thioether substituent.
Note that the structure of the N—O bond in the general formula (D) may be E-form or Z-form.

その他、本発明に好適に用いることのできるオキシムエステル化合物は、Progress in Organic Coatings、13(1985)123−150;J.C.S Perkin II(1979)1653−1660;Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)205−232;J.C.S Perkin II(1979)156−162;特開2000−66385号公報;特開2000−80068号公報に記載の化合物である。   Other oxime ester compounds that can be suitably used in the present invention include Progress in Organic Coatings, 13 (1985) 123-150; C. S Perkin II (1979) 1653-1660; Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 205-232; C. S Perkin II (1979) 156-162; JP-A 2000-66385; JP-A 2000-80068.

本発明に好適に用いることのできるオキシムエステル化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。   Although the specific example of the oxime ester compound which can be used suitably for this invention is shown below, it is not limited to this.

Figure 2006256040
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これらの重合開始剤は、感度や、印刷時に発生する非画像部の汚れの観点から、光重合層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These polymerization initiators are from 0.1 to 50% by mass, preferably from 0.5 to 30% by mass, based on the total solid content constituting the photopolymerization layer, from the viewpoint of sensitivity and non-image area stains that occur during printing. %, Particularly preferably 1 to 20% by mass. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

<増感色素>
本発明の平版印刷版原版において、光重合層は増感色素を含有することができる。該増感色素としては、350〜850nmに吸収ピークを有するものが好ましい。このような増感色素としては、分光増感色素、光源の光を吸収して光重合開始剤と相互作用する以下に示す染料あるいは顔料が挙げられる。
好ましい分光増感色素または染料としては、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)等が挙げられる。
<Sensitizing dye>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the photopolymerization layer may contain a sensitizing dye. The sensitizing dye preferably has an absorption peak at 350 to 850 nm. Examples of such sensitizing dyes include spectral sensitizing dyes and the following dyes or pigments that absorb light from a light source and interact with a photopolymerization initiator.
Preferred spectral sensitizing dyes or dyes include polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), cyanines (eg, thianes). Carbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), phthalocyanines ( For example, phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (for example, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin), chlorophylls (for example, chlorophyll, chlorophyllin, central gold) Substituted chlorophyll), metal complexes, anthraquinones (e.g., anthraquinone), squaryliums (e.g., squarylium), and the like.

より好ましい分光増感色素または染料の例としては、特公昭37−13034号公報記載のスチリル系色素、特開昭62−143044号公報記載の陽イオン染料、特公昭59−24147号公報記載のキノキサリニウム塩、特開昭64−33104号公報記載の新メチレンブルー化合物、特開昭64−56767号公報記載のアントラキノン類、特開平2−1714号公報記載のベンゾキサンテン染料、特開平2−226148号および特開平2−226149号各公報記載のアクリジン類、時公昭40−28499号公報記載のピリリウム塩類、特公昭46−42363号公報記載のシアニン類、特開平2−63053号公報記載のベンゾフラン色素、特開平2−85858号、特開平2−216154号各公報記載の共役ケトン色素、特開昭57−10605号公報記載の色素。特公平2−30321号公報記載のアゾシンナミリデン誘導体、特開平1−287105号公報記載のシアニン系色素、特開昭62−31844号、特開昭62−31848号、特開昭62−143043号各公報記載のキサンテン系色素、特公昭59−28325号公報記載のアミノスチリルケトン、特公昭61−962l号公報記載のメロシアニン色素、特開平2−179643号公報記載の色素。特開平2−244050号公報記載のメロシアニン色素、特公昭59−28326号公報記載のメロシアニン色素、特開昭59−89803号公報記載のメロシアニン色素、特開平8−129257号記載のメロシアニン色素、特開平8−334897号記載のベンゾピラン系色素、等を挙げることができる。   Examples of more preferable spectral sensitizing dyes or dyes include styryl dyes described in JP-B-37-13034, cationic dyes described in JP-A-62-143044, and quinoxalinium described in JP-B-59-24147. Salts, new methylene blue compounds described in JP-A No. 64-33104, anthraquinones described in JP-A No. 64-56767, benzoxanthene dyes described in JP-A No. 2-1714, JP-A No. 2-226148 and special Acridines described in the respective publications of Kaihei 2-226149, pyrylium salts described in Japanese Patent Publication No. 40-28499, cyanines described in Japanese Patent Publication No. 46-42363, benzofuran dyes described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-63053, Conjugated ketone dyes described in JP-A-2-85858 and JP-A-2-216154 HirakiAkira 57-10605 described in JP-dye. Azocinnamylidene derivatives described in JP-B-2-30321, cyanine dyes described in JP-A-1-287105, JP-A-62-31844, JP-A-62-31848, JP-A-62-143043 Xanthene dyes described in Japanese Patent Publication Nos. JP-A Nos. 59-28325, merocyanine dyes described in JP-B No. 61-9621, and dyes described in JP-A No. 2-179433. A merocyanine dye described in JP-A-2-244050, a merocyanine dye described in JP-B-59-28326, a merocyanine dye described in JP-A-59-89803, a merocyanine dye described in JP-A-8-129257, and Examples thereof include benzopyran dyes described in JP-A-8-334897.

増感色素の含有量としては、光重合層を構成する全固形分に対して好ましくは0.1〜50質量%、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。   As content of a sensitizing dye, Preferably it is 0.1-50 mass% with respect to the total solid which comprises a photopolymerization layer, More preferably, it is 0.5-30 mass%, Most preferably, it is 1-20 mass%. It is.

<重合性化合物>
本発明の光重合層に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野
において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定せずに用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
<Polymerizable compound>
The polymerizable compound that can be used in the photopolymerization layer of the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one ethylenically unsaturated bond, preferably 2 or more. It is chosen from the compound which has. Such a compound group is widely known in the said industrial field | area, and in this invention, these can be used without specifically limiting. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols.
As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(a)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (a) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (a)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (a)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Furthermore, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, JP-A-1-105238 Can obtain a photopolymerizable composition having an excellent photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include reacting polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. be able to. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。   About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.

感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。   From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.

また、光重合層中の他の成分(例えば高分子化合物、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述のオーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。   In addition, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the photopolymerization layer (for example, polymer compound, initiator, colorant, etc.) For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and an overcoat layer described later.

重合性化合物は、光重合層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass with respect to the non-volatile component in the photopolymerization layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

<マイクロカプセル>
本発明においては、上記の光重合層構成成分および後述のその他構成成分を光重合層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型光重合層である。もう一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層(光重合層)に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。より良好な機上現像性を得るためには、本発明の光重合層は、マイクロカプセル型画像記録層であることが好ましい。
<Microcapsule>
In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned photopolymerization layer constituents and other constituents described later into the photopolymerization layer. One is a molecular dispersion type photopolymerization layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. In another embodiment, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or a part of the constituent components are encapsulated in microcapsules to form an image recording layer (photopolymerization layer). Is a microcapsule type image recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. In order to obtain better on-press developability, the photopolymerizable layer of the present invention is preferably a microcapsule type image recording layer.

上記の光重合層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   As a method for microencapsulating the above photopolymerization layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcino A method using a wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁にエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入しても良い。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Further, a compound having a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the microcapsule wall.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

<その他の添加剤>
本発明における光重合層には、上記した以外の成分、例えば、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤(熱重合防止剤)、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物等を含有させることができる。かかる添加剤は、光重合層に分子分散状に添加することもできるが、必要に応じて前記重合性化合物と共にマイクロカプセルに内包することもできる。
<Other additives>
In the photopolymerization layer in the present invention, components other than those described above, for example, surfactants, colorants, print-out agents, polymerization inhibitors (thermal polymerization inhibitors), higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, low molecules A hydrophilic compound or the like can be contained. Such an additive can be added to the photopolymerization layer in a molecular dispersion state, but can be encapsulated in a microcapsule together with the polymerizable compound as necessary.

(界面活性剤)
本発明において、光重合層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Surfactant)
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the photopolymerization layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適なものとして挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Further, fluorine-based surfactants described in JP-A Nos. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 are also preferable.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、光重合層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜5質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.

(着色剤)
本発明では、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、光重合層の全固形分に対して、0.01〜10質量%の割合が好ましい。
(Coloring agent)
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc. And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.
These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. In addition, the ratio of 0.01-10 mass% is preferable with respect to the total solid of a photopolymerization layer.

(焼き出し剤)
本発明の光重合層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系
、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
(Bake-out agent)
In the photopolymerization layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added to produce a printout image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p’,p”−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、光重合層の全固形分に対して0.01〜10質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by acid or radical is 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.

(重合禁止剤)
本発明の光重合層には、光重合層の製造中または保存中においてラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適なものとして挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、光重合層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
(Polymerization inhibitor)
A small amount of a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the photopolymerization layer of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during the production or storage of the photopolymerization layer.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol). ), 2,2-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), and N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.

(高級脂肪酸誘導体等)
本発明の光重合層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で光重合層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、光重合層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
(Higher fatty acid derivatives, etc.)
In order to prevent polymerization inhibition due to oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenamide is added to the photopolymerization layer of the present invention, and the surface of the photopolymerization layer is dried during the coating process. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.

(可塑剤)
本発明の光重合層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適なものとして挙げられる。
可塑剤の含有量は、光重合層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
(Plasticizer)
The photopolymerizable layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate, and the like as preferred.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the photopolymerization layer.

(無機微粒子)
本発明の光重合層は、画像部の硬化皮膜強度向上および非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適なものとして挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5μm〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲であると、光重合層中に安定に分散して、光重合層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、光重合層の全固形分に対して、40質量%以下であるのが好ましく、30質量%以下であるのがより好ましい。
(Inorganic fine particles)
The photopolymerization layer of the present invention may contain inorganic fine particles in order to improve the strength of the cured film in the image area and to improve the on-press developability of the non-image area.
Suitable inorganic fine particles include, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 μm to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the photopolymerization layer, sufficiently retains the film strength of the photopolymerization layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 40% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the photopolymerization layer.

(低分子親水性化合物)
本発明の光重合層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有しても良い。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が上げられる。
(Low molecular hydrophilic compound)
The photopolymerization layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular compound for improving on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and salts thereof.

<光重合層の形成>
本発明の光重合層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、または溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の光重合層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of photopolymerization layer>
The photopolymerizable layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photopolymerization layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の光重合層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と光重合層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Moreover, although the photopolymerization layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, it is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film properties of the photopolymerization layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミ
ニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および光重合層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photopolymerization layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いてもかまわない。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Also, a transfer method in which the uneven shape is transferred with a roll provided with unevenness in the aluminum rolling step may be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As an electrolyte used for anodizing treatment of an aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions of anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, an electrolyte concentration of 1 to 80% by mass solution, a liquid temperature of 5 to 70 ° C., a current density of 5 to 60 A / It is preferable that dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

(封孔処理)
本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでも良いが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、や封孔処理および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理はこれらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。
たとえば封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔でも可能である。
(Sealing treatment)
As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is. If necessary, the surface immersed in an aqueous solution containing a micropore enlargement treatment, sealing treatment, and hydrophilic compound described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365 A hydrophilic treatment or the like can be appropriately selected and performed. Of course, the enlargement process and the sealing process are not limited to those described above, and any conventionally known methods can be performed.
For example, as the sealing treatment, in addition to the vapor sealing, single treatment with fluorinated zirconate, treatment with sodium fluoride, and vapor sealing with addition of lithium chloride are possible.

本発明に用いられる封孔処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができるが、中でも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処
理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。
(無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理)
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適なものとして挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。中でも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
The sealing treatment used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Among them, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing with hot water are particularly preferable. Hole treatment is preferred. Each will be described below.
(Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound)
As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably used.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, fluorinated zirconate, fluorinated titanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Among these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液は、更に、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができる。   It is preferable that the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that on-machine developability and stain resistance can be improved.

リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適なものとして挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組合せは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。
Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Among these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.

水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Further, in terms of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。
また、水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
中でも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.
The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

(水蒸気による封孔処理)
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧または常圧の水蒸気を連続的にまたは非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、105℃以下であるのが好ましい。水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105 〜1.043×105 Pa)であるのが好ましい。また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
(Sealing with water vapor)
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which pressurized or normal pressure water vapor is brought into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower. The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq). Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.

(熱水による封孔処理)
水蒸気による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)または有機塩を含有していてもよい。熱水の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましい。また、熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
(Sealing treatment with hot water)
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt. The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower. Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.

(親水化処理)
親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
(Hydrophilic treatment)
The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。   When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水
性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。
Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、光重合層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。   The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photopolymerization layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適なものとして挙げられる。中でも、Si(OCH34 、Si(OC254 、Si(OC374 、Si(OC494 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885, an organometallic compound or an inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferable. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版においては、光重合層における傷の発生防止、酸素遮断、高照度レーザー露光時のアブレーション防止等のため、必要に応じて、光重合層の上に保護層を設けることができる。
本発明においては、通常、露光を大気中で行うが、保護層は、光重合層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物の光重合層への混入を防止し、大気中での露光による画像形成反応の阻害を防止する。したがって、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いられる光の透過性が良好で、光重合層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものであるのが好ましい。このような特性を有する保護層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許第3、458、311号明細書および特公昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
[Protective layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, if necessary, a protective layer is provided on the photopolymerization layer in order to prevent scratches in the photopolymerization layer, block oxygen, prevent ablation during high-illumination laser exposure, and the like. Can do.
In the present invention, the exposure is usually performed in the atmosphere, but the protective layer is a light of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit the image forming reaction caused by exposure in the photopolymerization layer. It prevents the polymerization layer from being mixed, and prevents the image formation reaction from being inhibited by exposure in the air. Therefore, the properties desired for the protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, furthermore, good transparency of light used for exposure, excellent adhesion with the photopolymerization layer, and It is preferable that it can be easily removed in an on-press development process after exposure. Various studies have been made on the protective layer having such characteristics, and are described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に用いられる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等の水溶性ポリマーが挙げられる。中でも、ポリビニルアルコール(PVA)を主成分として用いると、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。ポリビニルアルコールは、保護層に必要な酸素遮断性と水溶性を与えるための未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルまたはアセタールで置換されていてもよく、一部が他の共重合成分を有していてもよい。
ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲のものが好適なものとして挙げられる。具体的には、例えば、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8が挙げられる。
Examples of the material used for the protective layer include water-soluble polymer compounds that are relatively excellent in crystallinity. Specific examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid. Among these, when polyvinyl alcohol (PVA) is used as a main component, the best results are obtained for basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol may be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for providing the oxygen barrier property and water solubility necessary for the protective layer, and a part of the other You may have a copolymerization component.
Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, for example, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA- HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, and L-8 are mentioned.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用等)、塗布量等は、酸素遮断性および現像除去性のほか、カブリ性、密着性、耐傷性等を考慮して適宜選択される。一般には、PV
Aの加水分解率が高いほど(即ち、保護層中の未置換ビニルアルコール単位含有率が高いほど)、また、膜厚が厚いほど、酸素遮断性が高くなり、感度の点で好ましい。また、製造時および保存時における不要な重合反応、画像露光時における不要なカブリ、画線の太り等を防止するためには、酸素遮断性が高くなりすぎないことが好ましい。従って、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(cc/m2・day)であることが好ましい。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives, etc.), coating amount, etc. are appropriately selected in consideration of fogging properties, adhesion, scratch resistance, etc. in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, PV
The higher the hydrolysis rate of A (that is, the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is preferable in terms of sensitivity. Further, in order to prevent unnecessary polymerization reaction during production and storage, unnecessary fogging during image exposure, image line thickening, and the like, it is preferable that the oxygen barrier property is not too high. Accordingly, the oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm is preferably 0.2 ≦ A ≦ 20 (cc / m 2 · day).

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。
保護層の膜厚は、0.05〜4μmが適当であり、特に0.1〜2.5μmが好適である。
As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.
The thickness of the protective layer is suitably from 0.05 to 4 μm, particularly preferably from 0.1 to 2.5 μm.

また、画像部との密着性、耐傷性等も平版印刷版原版の取り扱い上、極めて重要である。即ち、水溶性高分子化合物を含有するため親水性である保護層を、親油性である光重合層に積層すると、接着力不足による保護層のはく離が生じやすく、はく離部分において、酸素による重合阻害に起因する膜硬化不良等の欠陥を引き起こすことがある。   In addition, adhesion to the image area, scratch resistance, and the like are extremely important in handling the lithographic printing plate precursor. That is, when a protective layer that is hydrophilic because it contains a water-soluble polymer compound is laminated on a photopolymerizable layer that is oleophilic, the protective layer easily peels off due to insufficient adhesion, and polymerization is inhibited by oxygen at the peeled portion. It may cause defects such as poor film hardening due to.

これに対して、光重合層と保護層との間の接着性を改良すべく、種々の提案がなされている。例えば、特開昭49−70702号公報および英国特許出願公開第1303578号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、光重合層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
更に、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。
On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between the photopolymerization layer and the protective layer. For example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 disclose an acrylic emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, etc. in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photopolymerization layer. Any of these known techniques can be used in the present invention. The method for applying the protective layer is described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.
Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

〔平版印刷方法〕
本発明の平版印刷版原版を露光する光源としては、公知のものを制限なく用いることができる。望ましい光源の波長は300nmから1200nmであり、具体的には各種レーザーを光源として用いることが好適であり、中でも、波長760nm〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザーが好適に用いられる。
露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
また、本発明の平版印刷版原版に対するその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用できる。
[Lithographic printing method]
As a light source for exposing the lithographic printing plate precursor according to the invention, a known light source can be used without limitation. The desirable wavelength of the light source is 300 nm to 1200 nm. Specifically, it is preferable to use various lasers as the light source, and among these, a semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferably used.
The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
In addition, as other exposure light rays for the lithographic printing plate precursor of the present invention, ultra high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps Fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight, etc. can also be used.

本発明の平版印刷版原版を用いた平版印刷方法は、特に制限はないが、たとえば本発明の平版印刷版原版を赤外線レーザーなどのレーザーで画像様に露光した後、なんらの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性成分とを供給して印刷する方法が挙げられる。
具体的には、平版印刷版原版をレーザーで露光した後、現像処理工程を経ることなく印
刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上においてレーザーで露光し、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。
The lithographic printing method using the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not particularly limited. For example, the lithographic printing plate precursor according to the present invention is imagewise exposed with a laser such as an infrared laser and then undergoes any development processing step. A method of printing by supplying oil-based ink and water-based component without any problem.
Specifically, after a lithographic printing plate precursor is exposed with a laser, it is mounted on a printing machine without passing through a development process, and after printing the lithographic printing plate precursor on a printing machine, a laser is used on the printing machine. And a method of printing without passing through a development processing step.

平版印刷版原版をレーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、光重合層の露光部においては、露光により硬化した光重合層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された水性成分および/または油性インキによって、未硬化の光重合層が溶解しまたは分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の光重合層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の光重合層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分および油性インキとしては、通常の平版印刷用の、湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
After the lithographic printing plate precursor is imagewise exposed with a laser, printing is performed by supplying an aqueous component and an oil-based ink without passing through a development processing step such as a wet development processing step. The photopolymerized layer cured by forming an oil-based ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured photopolymerization layer is dissolved or dispersed and removed by the supplied aqueous component and / or oil-based ink, and a hydrophilic surface is exposed in the area. As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is deposited on the photopolymerized layer in the exposed area, and printing is started. Here, the aqueous component or oil-based ink may be supplied to the printing plate first, but the oil-based ink is first used in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the unexposed photopolymerized layer. It is preferable to supply. As the aqueous component and oil-based ink, dampening water and printing ink for ordinary lithographic printing are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

また、本発明の平版印刷版原版をレーザーで画像様に露光した後、pHが10以下の非アルカリ水溶液を現像液として用いて現像処理を行ってもよい。ここで用いることができる非アルカリ水溶液としては、例えば、水単独または水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液や界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有する水溶液が好ましい該現像液のpHは、2〜10が好ましく、より好ましくは3〜9、さらに好ましくは5〜9である。   Further, after the lithographic printing plate precursor of the present invention is imagewise exposed with a laser, a development treatment may be performed using a non-alkaline aqueous solution having a pH of 10 or less as a developer. As the non-alkaline aqueous solution that can be used here, for example, water alone or an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water) is preferable. The aqueous solution containing an aqueous solution or a surfactant (anionic, nonionic, cationic, etc.) is preferred. The pH of the developer is preferably from 2 to 10, more preferably from 3 to 9, and even more preferably from 5 to 9. .

現像液として用いることができる非アルカリ水溶液には、有機酸、無機酸、無機塩などを含有してもよい。
有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。現像液中の含有量は、好ましくは0.01〜5質量%である。
The non-alkali aqueous solution that can be used as the developer may contain an organic acid, an inorganic acid, an inorganic salt, or the like.
Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt. The content in the developer is preferably 0.01 to 5% by mass.

無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。現像液中の含有量は、好ましくは0.01〜5質量%である。   Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like. The content in the developer is preferably 0.01 to 5% by mass.

本発明で使用する現像液に用いることができるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。   Examples of the anionic surfactant that can be used in the developer used in the present invention include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonic acid salts, Branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamides Sodium salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate esters, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfates Ester salt, fatty acid monoglyceride sulfate ester, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate Examples thereof include ester salts, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymer, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, and naphthalene sulfonate formalin condensates. Of these, dialkylsulfosuccinates, alkylsulfate esters and alkylnaphthalenesulfonates are particularly preferably used.

本発明で使用する現像液に用いることができるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   The cationic surfactant that can be used in the developer used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明で使用する現像液に用いることができるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
これらノニオン性界面活系剤は、単独でも、2種以上を混合して用いても良い。本発明においては、ソルビトールおよび/またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
Nonionic surfactants that can be used in the developer used in the present invention include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide Adducts, higher alkylamine ethylene oxide adducts, fatty acid amide ethylene oxide adducts, fat and oil ethylene oxide adducts, polypropylene glycol ethylene oxide adducts, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymers, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) Block copolymer, fatty acid ester of polyhydric alcohol glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, Bitoru and fatty acid esters of sorbitan, fatty acid esters of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines.
These nonionic surfactants may be used alone or in admixture of two or more. In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の現像液に使用するノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile
Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。
さらに、現像液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
またアセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活性剤が特に好適である。
Further, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant used in the developer of the present invention is HLB (Hydrophile-Lipophile).
The (Balance) value is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.
Furthermore, the ratio of the nonionic surfactant contained in the developer is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 5% by mass.
Also, acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicon-based surfactants can be used in the same manner.
As the surfactant used in the developer of the present invention, a nonionic surfactant is particularly suitable from the viewpoint of foam suppression.

また、本発明で使用する現像液には、有機溶剤を含有しても良い。ここで含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、下記の極性溶剤が挙げられる。
極性溶剤としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルホスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)、が挙げられる。
The developer used in the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained here include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons, and the like. (Toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and the following polar solvents.
Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl Alcoa Etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl) Acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液に、有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

また、本発明に用いられる現像液には、水溶性高分子化合物として、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などを含有することができる。   In the developer used in the present invention, as a water-soluble polymer compound, soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fiber derivative (for example, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, Pullulan, polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, etc. Can be contained.

上記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。   A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10 mass% aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。
水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%である。
As the modified starch, known ones can be used, and starch such as corn, potato, tapioca, rice and wheat is decomposed with acid or enzyme in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule, and further in an alkali. It can be made by a method of adding oxypropylene or the like.
Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, more preferably from 0.5 to 10% by mass.

本発明に用いられる現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤などを含有することができる。   In addition to the above, the developer used in the present invention may contain a preservative, a chelate compound, an antifoaming agent and the like.

防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。   Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzisothiazolin-3-one, benztriazole derivatives, amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyridine, Derivatives such as quinoline and guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。   Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents.

消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系界面活性剤のHLBが5以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。   As the antifoaming agent, a general silicon-based self-emulsifying type, emulsifying type, or nonionic surfactant having a HLB of 5 or less can be used. Silicon antifoaming agents are preferred. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used.

本発明における非アルカリ水溶液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号、特開昭60−59351号各公報に記載の自動処理機や、米国特許第5148746号、米国特許第5568768号、英国特許第2297719号の各明細書に記載のシリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。
上記現像液の温度は、任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。
The development processing with a non-alkaline aqueous solution in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. As the automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs rubbing while conveying a lithographic printing plate precursor after image recording, Automatic processing for rubbing the lithographic printing plate precursor after image recording set on the cylinder described in the specifications of Japanese Patent No. 5148746, US Pat. No. 5,568,768 and British Patent No. 2297719 while rotating the cylinder Machine. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. In the present invention, the lithographic printing plate after the rubbing treatment can be optionally washed with water, dried and desensitized.
Although the temperature of the developer can be used at any temperature, it is preferably 10 ° C to 50 ° C.

以下、実施例および比較例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail, this invention is not limited to these.

1.特定共重合体の合成例 (D−1)の合成
コンデンサー、撹拌機を取り付けた1000ml三口フラスコに、N、N’−ジメチルアセトアミド250gを入れ、75℃に加熱した。窒素気流下、アクリルアミド2,2−ジメチルプロパンスルホン酸82g、ホスマーPE(商品名:ユニケミカル(株)製)100g、下記モノマー(1)56g、V−601(商品名:和光純薬製)2.50gをN、N’−ジメチルアセトアミド250gで溶解した溶液を2時間半かけて滴下した。さらに75℃で2時間反応して、室温に戻して、酢酸エチルに投入し、共重合体を析出させた。 これを、デカンテーションし、洗浄、乾燥後、水に10質量%になるように溶解し、室温で1日放置することで化合物I−1を得た。ポリアクリル酸を標準物質としたゲルパ−ミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、質量平均分子量を測定した結果、4万であった。
上記合成例1と同様の方法で、具体例に示す全ての高分子化合物を合成できる。
1. Synthesis Example of Specific Copolymer Synthesis of (D-1) 250 g of N, N′-dimethylacetamide was placed in a 1000 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer and heated to 75 ° C. Under a nitrogen stream, 82 g of acrylamide 2,2-dimethylpropanesulfonic acid, 100 g of Phosmer PE (trade name: manufactured by Unichemical Co., Ltd.), 56 g of the following monomer (1), V-601 (trade name: manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 2 A solution prepared by dissolving .50 g in 250 g of N, N′-dimethylacetamide was added dropwise over two and a half hours. The mixture was further reacted at 75 ° C. for 2 hours, returned to room temperature, and poured into ethyl acetate to precipitate a copolymer. This was decanted, washed, dried, dissolved in water to 10 mass%, and allowed to stand at room temperature for 1 day to give compound I-1. The mass average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using polyacrylic acid as a standard substance was 40,000.
All the polymer compounds shown in the specific examples can be synthesized by the same method as in Synthesis Example 1.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

2.平版印刷版原版の作製(1)
(1)支持体の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
2. Preparation of planographic printing plate precursor (1)
(1) Production of support After degreasing treatment at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution in order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm. The aluminum surface was grained with three bundle-planted nylon brushes having a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し支持体Aとした。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。 Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a direct current anodic oxide coating of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by weight sulfuric acid (containing 0.5% by weight of aluminum ions) as an electrolytic solution, and then washed and dried. Body A. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

(2)下塗層の形成
上記支持体Aに下記下塗り液(1)〜(5)を乾燥塗布量が10mg/m2になるよう塗布し、以下の実験に用いる下塗層を設けた支持体を作製した。
下塗り液(1)
・表1記載の本発明の特定共重合体 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
(2) Formation of undercoat layer The following undercoat liquids (1) to (5) were applied to the support A so that the dry coating amount was 10 mg / m 2 , and the support was provided with an undercoat layer used in the following experiments. The body was made.
Undercoat liquid (1)
-Specific copolymer of the present invention described in Table 1 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

(3)光重合層の形成
〔実施例1〜5〕
支持体Aに下記下塗り液(1)〜(5)を塗布して作製した支持体A−1〜A−5上に、下記組成の光重合層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の光重合層を形成して平版印刷版原版を得た。
(3) Formation of photopolymerization layer [Examples 1 to 5]
On the support A-1 to A-5 prepared by applying the following undercoat liquids (1) to (5) to the support A, a photopolymerization layer coating liquid (1) having the following composition was bar-coated, and then 100 The plate was oven dried at 60 ° C. for 60 seconds to form a photopolymerization layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate precursor.

光重合層塗布液(1)は下記感光液(1)およびマイクロカプセル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
感光液(1)
・下記の高分子化合物(1) 0.162g
・下記の重合開始剤(1) 0.100g
・下記の赤外線吸収剤(1) 0.020g
・重合性モノマー、
アロニックスM−215(東亜合成(株)製) 0.385g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン(MEK) 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール(MFG) 8.609g
マイクロカプセル液(1)
・下記の通り合成したマイクロカプセル(1) 2.640g
・水 2.425g
The photopolymerization layer coating solution (1) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microcapsule solution (1) immediately before coating.
Photosensitive solution (1)
-0.162 g of the following polymer compound (1)
・ The following polymerization initiator (1) 0.100 g
・ The following infrared absorber (1) 0.020 g
・ Polymerizable monomer,
Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) 0.385 g
-0.044 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone (MEK) 1.091 g
1-methoxy-2-propanol (MFG) 8.609 g
Microcapsule liquid (1)
・ Microcapsule synthesized as follows (1) 2.640 g
・ Water 2.425g

Figure 2006256040
Figure 2006256040

マイクロカプセル(1)の合成
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、下記の赤外線吸収剤(2)0.35g、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン(山本化成(株)製ODB)1g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製) 0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.2μmであった。
Synthesis of microcapsule (1) As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N), 10 g of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) SR444) 3.15 g, 0.35 g of the following infrared absorber (2), 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane (ODB manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.), And 0.1 g of Piionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 15% by mass. The average particle size was 0.2 μm.

〔比較例1〜5〕
本発明の特定共重合体を以下に示すX−1〜X−5に変更した以外は、実施例1〜5記載と同様の方法で比較用の下塗り層を有する支持体AX−1〜AX−5を作製し、さらに光重合層を形成して比較用の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Examples 1-5]
Supports AX-1 to AX- having comparative undercoat layers in the same manner as described in Examples 1 to 5 except that the specific copolymer of the present invention is changed to X-1 to X-5 shown below. 5 was produced, and a photopolymerization layer was further formed to obtain a lithographic printing plate precursor for comparison.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

3.露光および印刷
上記実施例および比較例で得られた各平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像には細線チャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインクを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。
光重合層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測したところ、いずれの平版印刷版原版を用いた場合も、100枚以内で非画像部の汚れのない印刷物が得られた。
3. Exposure and Printing Each planographic printing plate precursor obtained in the above Examples and Comparative Examples was exposed with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser-mounted Creo Trendsetter 3244VX under conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi. . The exposure image includes a thin line chart. The obtained exposed original plate was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. Dampening water (EU-3 (Effect manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) After supplying dampening water and ink, 100 sheets were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour.
When the on-press development of the unexposed portion of the photopolymerization layer was completed on the printing press and the number of printing paper required until the ink was not transferred to the printing paper was measured as on-press developability, Even when the planographic printing plate precursor was used, a printed matter having no stain on the non-image area was obtained within 100 sheets.

4.評価
一般に、ネガ型平版印刷版原版の場合、露光量が少ないと光重合層の硬化度が低くなり、露光量が多いと硬化度が高くなる。光重合層の硬化度が低すぎる場合には、平版印刷版の耐刷性が低くなり、また、小点や細線の再現性が不良となる。一方、光重合層の硬化度が高い場合には、耐刷性が高くなり、また、小点や細線の再現性が良好となる。
本実施例では、以下に示すように、上記で得られたネガ型平版印刷版原版を、上述した同一の露光量条件で耐刷性および細線再現性を評価することにより、平版印刷版原版の感度の指標とした。即ち、耐刷性における印刷枚数が高いほど、また、細線再現性における細線幅が細いほど、平版印刷版原版の感度が高いと言える。
以下に、細線再現性、耐刷性、保存安定性の評価方法を示す。評価結果は機上現像性の結果とともに表3に示す。
4). Evaluation In general, in the case of a negative lithographic printing plate precursor, when the exposure amount is small, the photopolymerization layer has a low degree of cure, and when the exposure amount is large, the degree of cure is high. If the photopolymerization layer has a too low degree of curing, the printing durability of the lithographic printing plate will be low, and the reproducibility of small dots and fine lines will be poor. On the other hand, when the degree of curing of the photopolymerization layer is high, the printing durability is increased, and the reproducibility of small dots and fine lines is improved.
In this example, as shown below, the negative lithographic printing plate precursor obtained as described above was evaluated for printing durability and fine line reproducibility under the same exposure amount conditions described above. It was used as an index of sensitivity. That is, it can be said that the sensitivity of the lithographic printing plate precursor is higher as the number of printed sheets in printing durability is higher and the fine line width in fine line reproducibility is thinner.
The evaluation methods for fine line reproducibility, printing durability, and storage stability are shown below. The evaluation results are shown in Table 3 together with the on-press developability results.

(1)細線再現性
上述したように、100枚印刷して非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物の細線チャート(10、12、14、16、18、20、25、30、35、40、60、80、100および200μmの細線を露光したチャート)を25倍のルーペで観察し、途切れることなくインキで再現された細線幅により、細線再現性を評価した。
(1) Fine line reproducibility As described above, after 100 sheets were printed and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were continuously printed. A thin line chart (10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 60, 80, 100 and 200 μm fine line exposed charts) of a total of 600 printed sheets with a 25X magnifier The fine line reproducibility was evaluated based on the fine line width that was observed and reproduced with ink without interruption.

(2)耐刷性
上述したように、細線再現性の評価において印刷を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に光重合層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
(2) Printing durability As described above, after printing was performed in the evaluation of fine line reproducibility, printing was further continued. As the number of printed sheets was increased, the photopolymerization layer was gradually worn out and the ink receptivity was lowered, so that the ink density in the printing paper was lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing.

(3)耐汚れ性
上記、耐刷性評価の際、5千枚目、1万枚目、1.5万枚目の印刷物を抜き出し、非画像部に汚れが生じていないかを目視にて確認した。5千枚〜1.5万枚まで全て汚れが生じなかったものを○とし、1万枚目以降に汚れたものを△とし、5千枚目で汚れたものを×とした。
(3) Stain resistance Upon the printing durability evaluation described above, the prints of the 5,000th, 10,000th and 15,000th sheets are extracted, and the non-image area is visually checked for stains. confirmed. The case where no dirt was produced from 5,000 to 15,000 sheets was marked with ◯, the dirt after the 10,000th sheet was marked with △, and the dirt on the 5,000th sheet was marked with x.

(4)保存安定性1
未露光の平版印刷版原版を45℃、湿度75%で3日間保管し、保管前後の機上現像枚数の増加を調べた。増加枚数が2枚以内なら○、3枚〜5枚以内なら△、6枚以上なら×とした。
(4) Storage stability 1
The unexposed lithographic printing plate precursor was stored at 45 ° C. and 75% humidity for 3 days, and the increase in the number of on-machine development before and after storage was examined. When the number of increase was less than 2, it was evaluated as ◯ when it was within 3 to 5, and when it was 6 or more, it was marked as x.

(5)保存安定性2
未露光の平版印刷版原版を蛍光灯(1000ルクス)の下に2時間放置し、放置前後の機上現像枚数の増加を調べた。増加枚数が2枚以内なら○、3枚〜5枚以内なら△、6枚以上なら×とした。
(5) Storage stability 2
The unexposed lithographic printing plate precursor was left under a fluorescent lamp (1000 lux) for 2 hours, and the increase in the number of on-machine development before and after being left was examined. When the number of increase was less than 2, it was evaluated as ◯ when it was within 3 to 5, and when it was 6 or more, it was marked as x.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

表1より本発明の平版印刷版原版は、細線再現性(画質)良好、耐刷性−耐汚れ性良好、機上現像性良好、保存安定性良好の全てを満足する。   From Table 1, the lithographic printing plate precursor of the present invention satisfies all of fine line reproducibility (image quality), printing durability-stain resistance, on-press development, and storage stability.

5.平版印刷版原版の作製(2)および評価
〔実施例6〜10および比較例6〜10〕
上記感光液(1)の赤外線吸収剤(1)を増感色素(1)に変更した以外は、上記実施例および比較例と同様にして平版印刷版原版を作製した。これらの平版印刷版原版は、下記の露光方法に示す375nmまたは405nmレーザー露光にて評価した。
5. Preparation (2) and evaluation of lithographic printing plate precursor [Examples 6 to 10 and Comparative Examples 6 to 10]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in the above Examples and Comparative Examples, except that the infrared absorbing agent (1) of the photosensitive solution (1) was changed to the sensitizing dye (1). These lithographic printing plate precursors were evaluated by 375 nm or 405 nm laser exposure shown in the following exposure method.

露光方法
平版印刷版原版を、375nmまたは405nm半導体レーザーを用いて、出力2mW、周長900mmの外面ドラム、ドラム回転数800rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。1画素描画時間は1マイクロ秒(μs)である。
Exposure Method The planographic printing plate precursor was exposed using a 375 nm or 405 nm semiconductor laser under the conditions of an output of 2 mW, an outer drum with a peripheral length of 900 mm, a drum rotation speed of 800 rpm, and a resolution of 2400 dpi. One pixel drawing time is 1 microsecond (μs).

印刷方法
平版印刷版原版は得られた露光済み原版を現像処理することなく、各々、ハイデルベルグ社製SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。印刷機上で光重合層の未露光部の除去が完了し、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られた。
Printing method The lithographic printing plate precursor is attached to a cylinder of SOR-M manufactured by Heidelberg without developing the exposed exposed original plate, and dampening water (EU-3 (Etch solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) ) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) and after supplying dampening water and ink 100 sheets were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour. Removal of the unexposed portion of the photopolymerized layer on the printing machine was completed, and a printed matter free from ink stains in the non-image portion was obtained.

結果を表2に示す。   The results are shown in Table 2.

Figure 2006256040
Figure 2006256040

表2より本発明の平版印刷版原版は、細線再現性(画質)良好、耐刷性−耐汚れ性良好、機上現像性良好、保存安定性良好の全てを満足する。   From Table 2, the lithographic printing plate precursor of the present invention satisfies all of fine line reproducibility (image quality), printing durability-stain resistance, on-press development, and storage stability.

Claims (5)

支持体上にレーザー感受性の光重合層を有する、アルカリ現像せずに画像形成可能な平版印刷版原版であって、該光重合層中または、該支持体と該光重合層間に位置する他の層中に、(a1)下記一般式(A1)で表されるラジカル連鎖架橋性基を少なくとも1つ有する繰り返し単位と、(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを有する共重合体を含むことを特徴とする平版印刷版原版。
−C(R1)(R2)−C(R3)(L−X−H)− 一般式(A1)
(式中、Xは25℃でのX−Hの結合解離エネルギーが95kcal/mol〔398kJ/mol〕以下となる基を表す。Lは2価の連結基、R1〜R3は水素原子、炭素数1〜6の置換基を有していても良い炭化水素基またはハロゲン原子を表す。)
A lithographic printing plate precursor having a laser-sensitive photopolymerization layer on a support and capable of forming an image without alkali development, wherein the other is located in the photopolymerization layer or between the support and the photopolymerization layer In the layer, (a1) a repeating unit having at least one radical chain crosslinkable group represented by the following general formula (A1), and (a2) a repeating unit having at least one functional group that interacts with the support surface A lithographic printing plate precursor comprising a copolymer having:
—C (R 1 ) (R 2 ) —C (R 3 ) (L—X—H) — General Formula (A1)
(In the formula, X represents a group having a bond dissociation energy of XH at 25 ° C. of 95 kcal / mol [398 kJ / mol] or less. L is a divalent linking group, R 1 to R 3 are hydrogen atoms, (It represents a hydrocarbon group or halogen atom which may have a substituent having 1 to 6 carbon atoms.)
該高分子化合物が分子内に、さらに(a3)親水性基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を有する共重合体であることを特徴とする請求項1記載の平版印刷版原版。   2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the polymer compound is a copolymer having (a3) a repeating unit having at least one hydrophilic group in the molecule. 該支持体が陽極酸化アルミニウムおよびその化学的表面修飾物であること特徴とする請求項1または2記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein the support is anodized aluminum and a chemical surface modification product thereof. 該光重合層が赤外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, wherein the photopolymerizable layer contains an infrared absorber. 該光重合層がマイクロカプセルを含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the photopolymerizable layer contains microcapsules.
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