JP2006256025A - Image forming material, image forming method, and manufacturing method for image forming material - Google Patents

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JP2006256025A JP2005075081A JP2005075081A JP2006256025A JP 2006256025 A JP2006256025 A JP 2006256025A JP 2005075081 A JP2005075081 A JP 2005075081A JP 2005075081 A JP2005075081 A JP 2005075081A JP 2006256025 A JP2006256025 A JP 2006256025A
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昌二 西尾
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming material with printing resistance, which can record an image without the need for complicated image exposure via a film and which is excellent in sensitivity and resolution, a manufacturing method for the image forming material, and an image forming method wherein printing is done without wet processing after the recording of the image. <P>SOLUTION: The image forming material comprises an image forming layer, which is provided on a hydrophilic substrate, contains core/shell structure particulates which comprises a chemically active shell and a core with a softening point lower by 40°C than that of the chemically active shell, and a hydrophilic polymer. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、画像形成層に高分子微粒子(コア/シェル)粒子を含有する画像形成材の画像形成方法に関する。特に本発明は、ディジタル信号に基づいたレーザー光の走査露光によって画像を記録し、印刷機により現像できる画像形成材料の画像形成方法に関する。   The present invention relates to an image forming method for an image forming material containing polymer fine particles (core / shell) particles in an image forming layer. In particular, the present invention relates to an image forming method of an image forming material capable of recording an image by scanning exposure of a laser beam based on a digital signal and developing the image by a printing machine.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインクを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とから成る。従来の平版印刷版は、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けたPS版に、フイルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液によって溶解除去することにより製版することが普通であった。近年では、コンピュータを用いて画像情報をデジタル情報として電子的に処理し、蓄積して、出力する。従って、デジタル画像情報に応じた画像形成処理は、レーザ光の様な指向性の高い活性放射線を用いる走査露光により、フイルムを介することなく、平版印刷版用原版に対して直接画像形成を行ういわゆるコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)が今後の主流となる。   In general, a lithographic printing plate is composed of an oleophilic image portion that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image portion that receives dampening water. A conventional lithographic printing plate is made by performing mask exposure on a PS plate provided with a lipophilic photosensitive resin layer on a hydrophilic support through a film and then dissolving and removing a non-image portion with a developer. It was normal. In recent years, image information is electronically processed as digital information using a computer, stored, and output. Therefore, the image forming process corresponding to the digital image information is so-called image formation directly on the lithographic printing plate precursor without using a film by scanning exposure using active radiation having high directivity such as laser light. Computer-to-plate (CTP) will become the mainstream in the future.

また、従来のPS版では、露光の後、非画像部を溶解除去する工程(現像処理)が不可欠である。さらに、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという点は、従来のPS版の大きな検討課題となっている。   Further, in the conventional PS plate, a step (development process) for dissolving and removing the non-image portion after exposure is indispensable. Furthermore, a post-processing step of washing the developed printing plate with water, treating it with a rinsing liquid containing a surfactant, or treating with a desensitizing liquid containing gum arabic or starch derivatives is also necessary. The point that these additional wet treatments are indispensable is a big problem for the conventional PS plate.

前記のデジタル処理によって製版工程の前半(画像形成処理)が簡素化されても、後半(現像処理)が煩雑な湿式処理では、簡素化による効果が不充分である。特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。環境への配慮からも、湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更するか、さらには無処理化することが望ましい。   Even if the first half (image forming process) of the plate making process is simplified by the digital processing, the effect of the simplification is insufficient in the wet process where the second half (development process) is complicated. Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern for the entire industry. In consideration of the environment, it is desirable to simplify the wet post-treatment, change to a dry treatment, or eliminate the treatment.

処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの印刷版用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって、印刷版用原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷版用原版を露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完了する方式である。このような機上現像に適した平版印刷版用原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。従来のPS版では、このような要求を満足することは、実質的に不可能であった。   One method of eliminating the processing step is to mount the exposed printing plate precursor on the cylinder of the printing press, and supply dampening water and ink while rotating the cylinder, so that the non-image area of the printing plate precursor There is a method called on-press development that removes the toner. That is, after the exposure of the printing plate precursor, it is mounted on a printing machine as it is, and the processing is completed in a normal printing process. Such a lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has a photosensitive layer soluble in dampening water or an ink solvent, and is suitable for development on a printing press placed in a bright room. It is necessary to have good light room handling. In the conventional PS plate, it is practically impossible to satisfy such a requirement.

また、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷原版が記載されている。(例えば、特許文献1を参照)
上記、特許文献1の記載によると、製版において、赤外線レーザ露光して熱可塑性疎水性重合体微粒子を熱により合体(融着)させて画像形成した後、印刷機の版胴上に版を取り付け、湿し水またはインクを供給することにより機上現像できる。この平版印刷版用原版は感光域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い性も有している。
Further, a lithographic printing original plate is described in which a photosensitive layer in which thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. (For example, see Patent Document 1)
According to the description of Patent Document 1, in the plate making, after forming an image by infrared laser exposure and coalescence (fusion) of thermoplastic hydrophobic polymer fine particles by heat, the plate is mounted on the plate cylinder of the printing press. On-press development can be performed by supplying dampening water or ink. This lithographic printing plate precursor also has handleability in a bright room because the photosensitive region is in the infrared region.

しかしながら、上記のような高分子重合体粒子を露光によって生じる熱で融着、合体させる画像形成方法では、機上現像をしやすくすると耐刷力が得にくく、耐刷力を高めると機上現像性や、印刷での汚れ難さが劣化するといった、両立させるのが困難な問題があった。
特許2938397号公報
However, in the image forming method in which the polymer particles are fused and coalesced by heat generated by exposure as described above, if the on-press development is facilitated, it is difficult to obtain the printing durability, and if the printing durability is increased, the on-press development is achieved. However, there is a problem that it is difficult to achieve both compatibility and deterioration of the stain resistance in printing.
Japanese Patent No. 2938397

本発明の目的は、第一に複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度および解像度に優れた画像形成材料及びその製造方法を提供することにある。また、第二として、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an image forming material which can record an image without requiring image exposure through a complicated film, has printing durability, and is excellent in sensitivity and resolution, and a method for producing the same. There is. A second object is to provide an image forming method in which an image is recorded and then printed without performing wet development.

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(請求項1)
親水性支持体上に、化学的活性シェルと軟化点が該化学的活性シェルより40℃低いコアを有するコア/シェル構造微粒子及び親水性ポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。
(Claim 1)
An image having a chemically active shell, core / shell structure fine particles having a core having a chemically active shell and a softening point lower by 40 ° C. than the chemically active shell, and a hydrophilic polymer on a hydrophilic support. Forming material.

(請求項2)
シェルの軟化点が20度以上、コアが60度以上であることを特徴とする請求項1に記載の画像形成材料。
(Claim 2)
2. The image forming material according to claim 1, wherein the softening point of the shell is 20 degrees or more and the core is 60 degrees or more.

(請求項3)
請求項1又は2に記載の画像形成材料を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士を融着させ、化学的に結合させる工程、且つ、画像形成材料を水性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除去する工程を経て画像を得ることを特徴とする画像形成方法。
(Claim 3)
The image forming material according to claim 1 or 2 is heated in an image shape, the shell is softened to fuse the shells together and chemically bonded, and the image forming material is treated with an aqueous medium and heated. An image forming method, wherein an image is obtained through a step of removing a portion of the image forming layer that has not been formed.

(請求項4)
請求項1又は2に記載の画像形成材料をレーザー光で走査することにより画像状に加熱し画像を得ることを特徴とする画像形成方法。
(Claim 4)
3. An image forming method, wherein the image forming material according to claim 1 is scanned with a laser beam to be heated in an image form to obtain an image.

(請求項5)
請求項1又2に記載の記載の画像形成材料を製造することを特徴とする画像形成材料の製造方法。
(Claim 5)
An image forming material according to claim 1 or 2, wherein the image forming material is produced.

本発明による画像形成材料、画像形成方法及びその製造方法は、複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度および解像度に優れた効果を有する。また、本発明による画像形成方法、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷することができ優れた効果を有する。   The image forming material, the image forming method, and the manufacturing method thereof according to the present invention can record an image without requiring image exposure through a complicated film, have printing durability, and have excellent effects on sensitivity and resolution. . Also, the image forming method according to the present invention has an excellent effect that it can be printed without performing wet development after recording an image.

コア/シェル粒子
シェルポリマーは、〜180℃の軟化温度を有することが好ましく、80乃至120℃の軟化温度を有することがさらに好ましい。また、シェルポリマーは、コア微粒子を形成するポリマーの軟化温度よりも40℃以上高い軟化温度を有することも好ましい。コアポリマーは、〜120℃の軟化温度を有することが好ましく、25乃至65℃の軟化温度を有することがさらに好ましい。
The core / shell particle shell polymer preferably has a softening temperature of ˜180 ° C., more preferably a softening temperature of 80 to 120 ° C. The shell polymer also preferably has a softening temperature that is 40 ° C. or more higher than the softening temperature of the polymer forming the core fine particles. The core polymer preferably has a softening temperature of ˜120 ° C., more preferably has a softening temperature of 25 to 65 ° C.

コア/シェル構造微粒子の平均粒径は、60乃至300nmであることが好ましく、80乃至250nmであることがさらに好ましい。粒子サイズ分布は、なるべく均一であることが好ましい。コア/シェルの質量比は、0.01乃至5であることが好ましく、0.03乃至4であることがさらに好ましい。二種類以上のコア/シェル構造微粒子を混合して用いてもよい。コア/シェル構造微粒子は、画像形成層に20乃至99質量%含まれていることが好ましく、50乃至95質量%含まれていることがさらに好ましく、60乃至90質量%含まれていることが最も好ましい。   The average particle diameter of the core / shell structured fine particles is preferably 60 to 300 nm, and more preferably 80 to 250 nm. The particle size distribution is preferably as uniform as possible. The mass ratio of the core / shell is preferably 0.01 to 5, and more preferably 0.03 to 4. Two or more kinds of core / shell structured fine particles may be mixed and used. The core / shell structured fine particles are preferably contained in the image forming layer in an amount of 20 to 99% by mass, more preferably 50 to 95% by mass, and most preferably 60 to 90% by mass. preferable.

[化学的活性シェル]
微粒子のシェルには、化学的に活性な物質を使用する。画像形成において、シェルは、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかと、化学的に結合する。化学結合は、水素結合、イオン結合、配位結合および共有結合のいずれかである。化学結合は、外部のエネルギー(例、熱エネルギー、光エネルギー)なしで形成される結合であることが好ましい。
[Chemically active shell]
A chemically active substance is used for the fine particle shell. In imaging, the shell is chemically bonded to either another shell, a hydrophilic polymer and a hydrophilic support. The chemical bond is any one of a hydrogen bond, an ionic bond, a coordination bond, and a covalent bond. The chemical bond is preferably a bond formed without external energy (eg, thermal energy, light energy).

水素結合の場合、化学的活性シェルが、水素(プロトン)供与性基および水素受容性基の一方を有し、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他方を有す。化学的活性シェルが、水素供与性基および水素受容性基の双方を有していてもよい。水素供与性基の例には、ヒドロキシル基(−OH)、カルボキシル基(−COOH)、一級アミノ基(−NH2)、二級アミノ基(−NRH)およびイミノ基(=NH)が含まれる。水素受容性基の例には、カルボニル基(>C=O)、エーテル基(−O−)および三級アミノ基(−NR2)が含まれる。水素供与基−水素受容性基の組み合わせとしては、ヒドロキシル基−三級アミノ基、カルボキシル基−三級アミノ基およびヒドロキシル基−エーテル基が好ましい。ヒドロキシル基−三級アミノ基およびカルボキシル基−三級アミノ基がさらに好ましく、フェノール性ヒドロキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ基およびカルボキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ基が最も好ましい。 In the case of hydrogen bonding, the chemically active shell has one of a hydrogen (proton) donating group and a hydrogen accepting group, and either another shell, a hydrophilic polymer, or a hydrophilic support has the other. The chemically active shell may have both a hydrogen donating group and a hydrogen accepting group. Examples of the hydrogen donating group include a hydroxyl group (—OH), a carboxyl group (—COOH), a primary amino group (—NH 2 ), a secondary amino group (—NRH), and an imino group (═NH). . Examples of the hydrogen-accepting group include a carbonyl group (> C═O), an ether group (—O—), and a tertiary amino group (—NR 2 ). As a combination of a hydrogen donating group and a hydrogen accepting group, a hydroxyl group-tertiary amino group, a carboxyl group-tertiary amino group, and a hydroxyl group-ether group are preferable. More preferred are a hydroxyl group-tertiary amino group and a carboxyl group-tertiary amino group, most preferably a tertiary amino group in a phenolic hydroxyl group-nitrogen-containing heterocycle and a tertiary amino group in a carboxyl group-nitrogen-containing heterocycle. preferable.

イオン結合の場合、化学的活性シェルが、アニオン性基およびカチオン性基の一方を有し、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他方を有す。化学的活性シェルが、アニオン性基およびカチオン性基の双方を有していてもよい。アニオン性基の例には、スルホネート、カルボキシレートおよびホスホネートが含まれる。カチオン性基の例には、アンモニウム基、ヨードニウム基、スルホニウム基およびホスホニウム基が含まれる。   In the case of ionic bonding, the chemically active shell has one of an anionic group and a cationic group, and either another shell, a hydrophilic polymer or a hydrophilic support has the other. The chemically active shell may have both an anionic group and a cationic group. Examples of anionic groups include sulfonates, carboxylates and phosphonates. Examples of the cationic group include an ammonium group, an iodonium group, a sulfonium group, and a phosphonium group.

配位結合の場合、化学的活性シェルが、配位子として機能する官能基を有し、親水性支持体がアルミニウム支持体であって、配位子として機能する官能基がアルミニウムと錯体を形成することが好ましい。配位子として機能する官能基の例には、一級アミノ基、二級アミノ基、三級アミノ基、アンモニウム基、ピリジニウム基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、エポキシ基およびシロキサン基が含まれる。配位子として機能する官能基は、アンモニウム基、ピリジニウム基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、エポキシ基およびシロキサン基が好ましく、アンモニウム基、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基およびエポキシ基がさらに好ましい。   In the case of coordination bonds, the chemically active shell has a functional group that functions as a ligand, the hydrophilic support is an aluminum support, and the functional group that functions as a ligand forms a complex with aluminum. It is preferable to do. Examples of functional groups that function as ligands include primary amino groups, secondary amino groups, tertiary amino groups, ammonium groups, pyridinium groups, phosphonic acid groups and salts thereof, boric acid groups and salts thereof, acetoacetyl groups , Phenolic hydroxyl groups, epoxy groups and siloxane groups. The functional group that functions as a ligand is preferably an ammonium group, a pyridinium group, a phosphonic acid group and a salt thereof, a boric acid group and a salt thereof, an acetoacetyl group, a phenolic hydroxyl group, an epoxy group, and a siloxane group, an ammonium group, More preferred are acetoacetyl groups, phenolic hydroxyl groups and epoxy groups.

共有結合の場合、化学的活性シェルが、以下に述べる化学反応成分の一方を官能基として有し、別のシェル、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他方を官能基として有す。化学的活性シェルが、双方の基を有していてもよい。   In the case of a covalent bond, the chemically active shell has one of the chemical reaction components described below as a functional group, and another shell, a hydrophilic polymer, or a hydrophilic support has the other as a functional group. The chemically active shell may have both groups.

(A)活性エステルと活性水素を含む基との反応活性エステルの例には、N−ヒドロキシフタルイミドエステル、N−ヒドロキシこはく酸イミドエステル、p−ニトロフェニルエステル、p−クロロフェニルエステル、p−メトキシカルボニルフェニルエステル、p−スルホニウムフェニルエステルおよびHCH(OCH3)COOCH3が含まれる。活性水素を含む基の例には、ヒドロキシル、一級アミノ基、二級アミノ基、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジドおよびアミドが含まれる。 (A) Reaction of active ester and group containing active hydrogen Examples of active ester include N-hydroxyphthalimide ester, N-hydroxysuccinimide ester, p-nitrophenyl ester, p-chlorophenyl ester, p-methoxycarbonyl Phenyl esters, p-sulfonium phenyl esters and HCH (OCH 3 ) COOCH 3 are included. Examples of groups containing active hydrogen include hydroxyl, primary amino group, secondary amino group, thiol, hydrazino, hydrazide and amide.

(B)酸無水物と活性水素を含む基との反応
(C)酸ハロゲン化物と活性水素を含む基との反応
(D)求核反応により脱離する基と求核性基との反応求核反応により脱離する基の例には、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基およびアジド基が含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
(B) Reaction between an acid anhydride and a group containing active hydrogen (C) Reaction between an acid halide and a group containing active hydrogen (D) Reaction seeking between a group leaving by a nucleophilic reaction and a nucleophilic group Examples of the group leaving by the nuclear reaction include a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, and an azide group. Examples of nucleophilic groups include hydroxyl, amino, thiol, hydrazino, hydrazide, amide, sulfide and phosphino.

(E)環内に不飽和結合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応環内に不飽和結合を有する複素環の例には、N−アルキルインドール、N−アルキルピロール、N−アルキルイミダゾール、フランおよびオキサゾールが含まれる
(F)環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合反応
(G)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するフェノール基との縮合反応
(H)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するアニリン基との縮合反応
(I)カルボキシル基とN−メチロール基との縮合反応
(J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮合反応
(K)カルボキシル基とカルボキシル基との縮合反応
(L)カルボキシル基と活性水素を含む基との縮合反応
(M)活性水素を含む基とN−メチロール基との縮合反応
(N)活性水素を含む基とN−アルコキシメチル基との縮合反応
(O)カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応
(P)一級アミノ、ヒドラジノ、ケチミンまたはエステルと活性水素原子を含む基との縮合反応
(Q)ジアゾ基と活性メチレン基との反応
(R)環状エーテル基と求核性基との反応環状エーテル基の例には、エポキシ、オキセタンおよびテトラヒドロフランが含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、カルボキシル、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
(E) Condensation reaction of a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring and a carbonyl group Examples of the heterocyclic ring having an unsaturated bond in the ring include N-alkylindole, N-alkylpyrrole, N-alkylimidazole (F) Condensation reaction between a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring and an acetal group (G) A phenol group having an active hydrogen at the ortho position and a hydroxymethyl group at the ortho or para position (H) Condensation reaction of a phenol group having an active hydrogen at the ortho position and an aniline group having a hydroxymethyl group at the ortho or para position (I) A carboxyl group and an N-methylol group Condensation reaction (J) Condensation reaction between carboxyl group and N-alkoxymethyl group (K) Condensation reaction between carboxyl group and carboxyl group (L) Condensation reaction between carboxyl group and group containing active hydrogen (M) Condensation reaction between group containing active hydrogen and N-methylol group (N) Condensation reaction between group containing active hydrogen and N-alkoxymethyl group (O) Condensation reaction between carbonyl group and hydrazide (P) Condensation reaction between primary amino, hydrazino, ketimine or ester and group containing active hydrogen atom (Q) Reaction between diazo group and active methylene group (R) Cyclic ether Examples of reactive cyclic ether groups of groups and nucleophilic groups include epoxy, oxetane and tetrahydrofuran. Examples of nucleophilic groups include hydroxyl, amino, carboxyl, thiol, hydrazino, hydrazide, amide, sulfide and phosphino.

(S)ビニルエーテルとヒドロキシルまたはカルボキシルとの反応
(T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応
(U)エノンと求核性基とのマイケル付加反応エノンの例には、アクリロイルおよびメタクリロイルが含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、カルボキシル、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
(S) Reaction of vinyl ether with hydroxyl or carboxyl (T) Diels-Alder reaction of diene and dienophile (U) Michael addition reaction of enone with nucleophilic group Examples of enones include acryloyl and methacryloyl. Examples of nucleophilic groups include hydroxyl, amino, carboxyl, thiol, hydrazino, hydrazide, amide, sulfide and phosphino.

(V)イソシアネートと活性水素を含む基との反応活性水素を含む基の例には、ヒドロキシル、一級アミノ基、二級アミノ基、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジドおよびアミドが含まれる。   (V) Reaction of isocyanate with group containing active hydrogen Examples of the group containing active hydrogen include hydroxyl, primary amino group, secondary amino group, thiol, hydrazino, hydrazide and amide.

好ましい反応は、
(A)活性エステルと活性水素を含む基との反応、
(D)求核反応により脱離する基と求核性基との反応、
(E)環内に不飽和結合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応、
(F)環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合反応、
(G)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するフェノール基との縮合反応、
(H)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するアニリン基との縮合反応、
(I)カルボキシル基とN−メチロール基との縮合反応、
(J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、
(M)活性水素を含む基とN−メチロール基との縮合反応、
(N)活性水素を含む基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、
(O)カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、
(Q)ジアゾ基と活性メチレン基との反応、
(R)環状エーテル基と求核性基との反応、
(T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応、および
(V)イソシアネートと活性水素を含む基との反応である。
The preferred reaction is
(A) reaction of an active ester with a group containing active hydrogen,
(D) a reaction between a group leaving by a nucleophilic reaction and a nucleophilic group,
(E) a condensation reaction between a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring and a carbonyl group,
(F) a condensation reaction between a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring and an acetal group,
(G) a condensation reaction between a phenol group having an active hydrogen at the ortho position and a phenol group having a hydroxymethyl group at the ortho or para position;
(H) a condensation reaction between a phenol group having an active hydrogen at the ortho position and an aniline group having a hydroxymethyl group at the ortho or para position;
(I) a condensation reaction between a carboxyl group and an N-methylol group,
(J) a condensation reaction between a carboxyl group and an N-alkoxymethyl group,
(M) a condensation reaction between a group containing active hydrogen and an N-methylol group,
(N) a condensation reaction between a group containing active hydrogen and an N-alkoxymethyl group,
(O) a condensation reaction between a carbonyl group and a hydrazide,
(Q) reaction of diazo group with active methylene group,
(R) a reaction between a cyclic ether group and a nucleophilic group,
(T) Diels-Alder reaction of diene and dienophile, and (V) Reaction of isocyanate with a group containing active hydrogen.

さらに好ましい反応は、
(A)活性エステルと活性水素を含む基との反応、
(D)求核反応により脱離する基と求核性基との反応、
(E)環内に不飽和結合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応、
(F)環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合反応、
(I)カルボキシル基とN−メチロール基との縮合反応、
(J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、
(M)活性水素を含む基とN−メチロール基との縮合反応、
(N)活性水素を含む基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、
(O)カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および(T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応である。
A more preferred reaction is
(A) reaction of an active ester with a group containing active hydrogen,
(D) a reaction between a group leaving by a nucleophilic reaction and a nucleophilic group,
(E) a condensation reaction between a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring and a carbonyl group,
(F) a condensation reaction between a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring and an acetal group,
(I) a condensation reaction between a carboxyl group and an N-methylol group,
(J) a condensation reaction between a carboxyl group and an N-alkoxymethyl group,
(M) a condensation reaction between a group containing active hydrogen and an N-methylol group,
(N) a condensation reaction between a group containing active hydrogen and an N-alkoxymethyl group,
(O) condensation reaction of carbonyl group and hydrazide, and (T) Diels-Alder reaction of diene and dienophile.

最も好ましい反応は、
(A)活性エステルと活性水素を含む基との反応、
(I)カルボキシル基とN−メチロール基との縮合反応、
(J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、
(M)活性水素を含む基とN−メチロール基との縮合反応、
(N)活性水素を含む基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、
(O)カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および(T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応である。
The most preferred reaction is
(A) reaction of an active ester with a group containing active hydrogen,
(I) a condensation reaction between a carboxyl group and an N-methylol group,
(J) a condensation reaction between a carboxyl group and an N-alkoxymethyl group,
(M) a condensation reaction between a group containing active hydrogen and an N-methylol group,
(N) a condensation reaction between a group containing active hydrogen and an N-alkoxymethyl group,
(O) condensation reaction of carbonyl group and hydrazide, and (T) Diels-Alder reaction of diene and dienophile.

シェルは、以上述べたような化学的に活性な官能基を有する化合物からなる。シェルは、化学的に活性な官能基を有するポリマーであることが好ましく、化学的に活性な官能基を側鎖に有するポリマーであることがさらに好ましい。ポリマーの主鎖は、炭化水素(ポリオレフィン)、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエーテルおよびそれらの組み合わせから選ばれることが好ましい。炭化水素主鎖が特に好ましい。化学的に活性な官能基は、主鎖に直結することができる。ただし、化学的に活性な官能基は、連結基を介して、主鎖に結合する方が好ましい。   The shell is made of a compound having a chemically active functional group as described above. The shell is preferably a polymer having a chemically active functional group, and more preferably a polymer having a chemically active functional group in the side chain. The polymer main chain is preferably selected from hydrocarbons (polyolefins), polyesters, polyamides, polyimides, polyureas, polyurethanes, polyethers, and combinations thereof. A hydrocarbon backbone is particularly preferred. A chemically active functional group can be directly linked to the main chain. However, the chemically active functional group is preferably bonded to the main chain via a linking group.

ポリマーの主鎖は、化学的に活性な官能基以外にも置換基を有することができる。置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−R、−N(−R)2、−N+<(−R)3、−CO−O−R、−O−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)2および−NH−CO−Rが含まれる。 The main chain of the polymer can have a substituent in addition to the chemically active functional group. Examples of the substituent include a halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxyl, carboxyl, sulfo, cyano, monovalent aliphatic group, monovalent aromatic group, monovalent heterocyclic group, —O -R, -CO-R, -NH-R, -N (-R) 2 , -N + <(-R) 3 , -CO-O-R, -O-CO-R, -CO-NH- R, —CO—N (—R) 2 and —NH—CO—R are included.

上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。置換基が複数のRが含む場合、複数のRは互いに異なってもよい。カルボキシルおよびスルホは、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。主鎖の複数の置換基が結合して、脂肪族環または複素環を形成してもよい。形成される環は、主鎖とスピロ結合の関係になっていてもよい。形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、上記主鎖の置換基に加えて、オキソ(=O)が含まれる。また、主鎖の複数の置換基が結合して、架橋構造を形成してもよい。   Each R is a monovalent aliphatic group, a monovalent aromatic group or a monovalent heterocyclic group. When the substituent includes a plurality of R, the plurality of R may be different from each other. Carboxyl and sulfo may have a hydrogen atom dissociated or may be in a salt state. A plurality of substituents of the main chain may be bonded to form an aliphatic ring or a heterocyclic ring. The ring formed may have a spiro bond relationship with the main chain. The formed ring may have a substituent. Examples of the substituent include oxo (═O) in addition to the substituent of the main chain. Further, a plurality of substituents of the main chain may be bonded to form a crosslinked structure.

脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基は、不飽和結合を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至40であることが好ましく、1乃至30であることがより好ましく、1乃至20であることがさらに好ましく、1乃至15であることがさらにまた好ましく、1乃至12であることが最も好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。脂肪族基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−R、−N(−R)2、−N+<(−R)3、−CO−O−R、−O−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)2および−NH−CO−Rが含まれる。上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。 The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The aliphatic group may have an unsaturated bond. The aliphatic group has preferably 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, still more preferably 1 to 20 carbon atoms, still more preferably 1 to 15 carbon atoms. Most preferably, it is from 12 to 12. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent of the aliphatic group include a halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxyl, carboxyl, sulfo, cyano, a monovalent aromatic group, a monovalent heterocyclic group, —O—R, -CO-R, -NH-R, -N (-R) 2 , -N + <(-R) 3 , -CO-O-R, -O-CO-R, -CO-NH-R,- CO-N (-R) 2 and -NH-CO-R are included. Each R is a monovalent aliphatic group, a monovalent aromatic group or a monovalent heterocyclic group. The carboxyl group and the sulfo group may be in a salt state even when the hydrogen atom is dissociated.

芳香族基は、ベンゼン環またはナフタレン環を有することが好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。芳香族基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−R、−N(−R)2、−N+<(−R)3、−CO−O−R、−O−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)2および−NH−CO−Rが含まれる。上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。カルボキシルおよびスルホは、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。複素環基は、3員環乃至7員環を有することが好ましい。複素環は、不飽和結合を有していてもよい。複素環の例には、ピペリジン環およびピペラジン環が含まれる。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基は、芳香族基の置換基と同様である。 The aromatic group preferably has a benzene ring or a naphthalene ring. The aromatic group may have a substituent. Examples of substituents for aromatic groups include halogen atoms (F, Cl, Br, I), hydroxyl, carboxyl, sulfo, cyano, monovalent aliphatic groups, monovalent aromatic groups, monovalent heterocycles Group, —O—R, —CO—R, —NH—R, —N (—R) 2 , —N + <(— R) 3 , —CO—O—R, —O—CO—R, — CO—NH—R, —CO—N (—R) 2 and —NH—CO—R are included. Each R is a monovalent aliphatic group, a monovalent aromatic group or a monovalent heterocyclic group. Carboxyl and sulfo may have a hydrogen atom dissociated or may be in a salt state. The heterocyclic group preferably has a 3- to 7-membered ring. The heterocyclic ring may have an unsaturated bond. Examples of the heterocyclic ring include a piperidine ring and a piperazine ring. The heterocyclic group may have a substituent. The substituent of the heterocyclic group is the same as the substituent of the aromatic group.

ポリマーが炭化水素主鎖を有する場合、ポリマーは、下記(I)で表される化学的に活性な官能基を含む繰り返し単位を有することが好ましい。   When the polymer has a hydrocarbon main chain, the polymer preferably has a repeating unit containing a chemically active functional group represented by the following (I).

Figure 2006256025
Figure 2006256025

式(I)において、R1は、水素原子、炭素原子数が1乃至10のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至11のアルコキシカルボニル基である。R1は、水素原子、炭素原子数が1乃至6のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至7のアルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数が1乃至3のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至4のアルコキシカルボニル基であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。 In the formula (I), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carboxyl, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 11 carbon atoms. R 1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carboxyl, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferably, it is a carboxyl or an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom or methyl. preferable.

式(I)において、L1は、単結合または二価の連結基である。L1は、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−O−、−S−、−CO−、−CS−、−NH−およびそれらの組み合わせからなる二価の連結基であることがさらに好ましい。 In the formula (I), L 1 is a single bond or a divalent linking group. L 1 is a divalent linking group composed of an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, —O—, —S—, —CO—, —CS—, —NH—, and combinations thereof. Further preferred.

脂肪族基、芳香族基および複素環基の定義および例は、前述した通りである。式(I)において、Xは、化学的に活性な官能基である。   Definitions and examples of the aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group are as described above. In formula (I), X is a chemically active functional group.

コアポリマーは、60乃至150℃の軟化点を有することが好ましく、80乃至130℃の軟化点を有することがさらに好ましい。コアポリマーの主鎖は、炭化水素(ポリオレフィン)、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエーテルおよびそれらの組み合わせから選ばれることが好ましい。炭化水素主鎖が特に好ましい。   The core polymer preferably has a softening point of 60 to 150 ° C, and more preferably has a softening point of 80 to 130 ° C. The main chain of the core polymer is preferably selected from hydrocarbons (polyolefins), polyesters, polyamides, polyimides, polyureas, polyurethanes, polyethers, and combinations thereof. A hydrocarbon backbone is particularly preferred.

コアポリマーの主鎖は、ポリマー全体が疎水性である範囲内で、置換基を有することができる。置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−R、−N(−R)2、−N+(−R)3、−CO−O−R、−O−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)2および−NH−CO−Rが含まれる。上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。置換基が複数のRが含む場合、複数のRは互いに異なってもよい。カルボキシル、スルホ、硫酸エステル基、ホスホノおよびリン酸エステル基は、水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。主鎖の複数の置換基が結合して、脂肪族環または複素環を形成してもよい。形成される環は、主鎖とスピロ結合の関係になっていてもよい。形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、上記主鎖の置換基に加えて、オキソ(=O)が含まれる。 The main chain of the core polymer can have a substituent as long as the whole polymer is hydrophobic. Examples of the substituent include a halogen atom (F, Cl, Br, I), cyano, a monovalent aliphatic group, a monovalent aromatic group, a monovalent heterocyclic group, —O—R, —CO—. R, —NH—R, —N (—R) 2 , —N + (—R) 3 , —CO—O—R, —O—CO—R, —CO—NH—R, —CO—N ( -R) 2 and -NH-CO-R are included. Each R is a monovalent aliphatic group, a monovalent aromatic group or a monovalent heterocyclic group. When the substituent includes a plurality of R, the plurality of R may be different from each other. The carboxyl, sulfo, sulfate ester group, phosphono and phosphate ester group may be in the form of a salt even if the hydrogen atom is dissociated. A plurality of substituents of the main chain may be bonded to form an aliphatic ring or a heterocyclic ring. The ring formed may have a spiro bond relationship with the main chain. The formed ring may have a substituent. Examples of the substituent include oxo (═O) in addition to the substituent of the main chain.

コアポリマーが炭化水素主鎖を有する場合、コアポリマーは、下記式(II)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。   When the core polymer has a hydrocarbon main chain, the core polymer preferably has a repeating unit represented by the following formula (II).

Figure 2006256025
Figure 2006256025

式(II)において、R2は、水素原子、炭素原子数が1乃至10のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至11のアルコキシカルボニル基である。R2は、水素原子、炭素原子数が1乃至6のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至7のアルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数が1乃至3のアルキル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至4のアルコキシカルボニル基であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。式(II)において、L2は、−O−または−N(−R4)−である。式(II)において、R3およびR4は、それぞれ独立に、脂肪族基、芳香族基または複素環基である。脂肪族基、芳香族基および複素環基の定義および例は、微粒子のコアで説明した通りである。 In the formula (II), R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carboxyl, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 11 carbon atoms. R 2 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carboxyl, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferably, it is a carboxyl or an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom or methyl. preferable. In the formula (II), L 2 is —O— or —N (—R 4 ) —. In the formula (II), R 3 and R 4 are each independently an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. Definitions and examples of the aliphatic group, aromatic group, and heterocyclic group are as described in the fine particle core.

コアポリマーの繰り返し単位の例は、微粒子のコアで説明した繰り返し単位の例(101)〜(140)および(201)〜(252)と同様である。コアポリマーとして、二種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーを用いることもできる。以下に、二種類の繰り返し単位からなるコポリマーの例を示す。かっこ内の番号は、微粒子のコアで説明した繰り返し単位の例示番号に相当する。繰り返し単位の割合は、モル比(%)である。   Examples of the repeating unit of the core polymer are the same as the repeating units (101) to (140) and (201) to (252) described with reference to the core of the fine particles. As the core polymer, a copolymer composed of two or more kinds of repeating units can also be used. Examples of copolymers comprising two types of repeating units are shown below. The numbers in parentheses correspond to the example numbers of the repeating units described in the fine particle core. The ratio of the repeating unit is a molar ratio (%).

CP−101:−(102)70− −(110)30
CP−102:−(102)80− −(104)20
CP−103:−(102)60− −(112)40
CP−104:−(102)95− −(140)5
CP−105:−(102)50− −(201)50
CP−106:−(102)90− −(212)10
CP−107:−(102)80− −(207)20
CP−108:−(201)90− −(101)10
CP−109:−(201)80− −(104)20
CP−110:−(201)80− −(110)20
CP−111:−(201)90− −(112)10
CP−112:−(201)90− −(139)10
CP−113:−(201)95− −(126)5
CP−114:−(201)80− −(204)20
CP−115:−(201)80− −(203)20
CP−116:−(201)50− −(207)50
CP−117:−(209)80− −(104)20
CP−118:−(209)70− −(106)30
CP−119:−(209)70− −(112)30
CP−120:−(209)80− −(207)20
コアポリマーは、前述した繰り返し単位に対応するモノマー(一般に、エチレン性不飽和モノマー)の重合反応(ラジカル重合反応)によって合成できる。コアは、重合反応によりコア微粒子上に直接形成できる。均質な微粒子を形成するため、コア形成においては、コア形成と同様に界面活性剤を使用することが好ましい。好ましい界面活性剤は、コア形成において説明した界面活性剤と同様である。二種類以上の界面活性剤を併用してもよい。
CP-101:-(102) 70 --(110) 30-
CP-102 :-( 102) 80 - - (104) 20 -
CP-103:-(102) 60 --(112) 40-
CP-104:-(102) 95 --(140) 5-
CP-105 :-( 102) 50 - - (201) 50 -
CP-106:-(102) 90 --(212) 10-
CP-107 :-( 102) 80 - - (207) 20 -
CP-108 :-( 201) 90 - - (101) 10 -
CP-109 :-( 201) 80 - - (104) 20 -
CP-110 :-( 201) 80 - - (110) 20 -
CP-111 :-( 201) 90 - - (112) 10 -
CP-112 :-( 201) 90 - - (139) 10 -
CP-113:-(201) 95 --(126) 5-
CP-114 :-( 201) 80 - - (204) 20 -
CP-115: − (201) 80 − − (203) 20
CP-116 :-( 201) 50 - - (207) 50 -
CP-117 :-( 209) 80 - - (104) 20 -
CP-118:-(209) 70 --(106) 30-
CP-119:-(209) 70 --(112) 30-
CP-120 :-( 209) 80 - - (207) 20 -
The core polymer can be synthesized by a polymerization reaction (radical polymerization reaction) of a monomer (generally, an ethylenically unsaturated monomer) corresponding to the above-described repeating unit. The core can be formed directly on the core microparticle by a polymerization reaction. In order to form homogeneous fine particles, it is preferable to use a surfactant in the core formation as in the core formation. Preferred surfactants are the same as the surfactants described in the core formation. Two or more kinds of surfactants may be used in combination.

界面活性剤の使用量は、モノマーの総量の0.01乃至10質量%であることが好ましい。重合反応は、重合開始剤(連鎖移動剤)を用いることが好ましい。重合開始剤の使用量は、モノマーの総量の0.05乃至10質量%であることが好ましい。コアポリマーは、60乃至180℃の軟化温度を有することが好ましく、70乃至140℃の軟化温度を有することがさらに好ましい。また、コアポリマーは、コア微粒子を形成するポリマーの軟化温度よりも低い軟化温度を有することも好ましい。   The amount of the surfactant used is preferably 0.01 to 10% by mass of the total amount of monomers. In the polymerization reaction, it is preferable to use a polymerization initiator (chain transfer agent). The amount of the polymerization initiator used is preferably 0.05 to 10% by mass of the total amount of monomers. The core polymer preferably has a softening temperature of 60 to 180 ° C., more preferably 70 to 140 ° C. The core polymer also preferably has a softening temperature lower than the softening temperature of the polymer forming the core fine particles.

1基材
基材としては、印刷版の基板として使用される公知の材料を使用することができる。例えば、金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれば特に制限されるものではないが、50〜500μmのものが一般的に取り扱いやすい。
1 base material As a base material, the well-known material used as a board | substrate of a printing plate can be used. For example, a metal plate, a plastic film, paper treated with a polyolefin, a composite base material obtained by appropriately bonding the above materials, and the like can be given. The thickness of the base material is not particularly limited as long as it can be attached to a printing press, but a thickness of 50 to 500 μm is generally easy to handle.

1.2非金属基材:PET等
プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類等を挙げることができる。
1.2 Non-metallic substrate: PET, etc. Examples of the plastic film include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, polyamide, polycarbonate, polysulfone, polyphenylene oxide, and cellulose esters.

本発明に用いる基材としては、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらプラスチックフィルムは塗布層との接着性を向上させるために、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行なうことが好ましい。易接着処理としては、コロナ放電処理や火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。   As the substrate used in the present invention, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable. These plastic films are preferably subjected to easy adhesion treatment or undercoat layer coating on the coated surface in order to improve adhesion with the coated layer. Examples of the easy adhesion treatment include corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, and ultraviolet irradiation treatment.

また、下塗り層としては、ゼラチンやラテックスを含む層等が挙げられる。下塗り層に、有機または無機の公知の導電性素材を含有させることもできる。   Examples of the undercoat layer include a layer containing gelatin or latex. The undercoat layer may contain an organic or inorganic known conductive material.

また、裏面のすべり性を制御する(例えば版胴表面との摩擦係数を低減させる)目的で、裏面コート層を設けた基材も好ましく使用することができる
《プラズマ処理条件》
バッチ式の大気圧プラズマ処理装置(イーシー化学(株)製、AP−I−H−340)を用いて、高周波出力が4.5kW、周波数が5kHz、処理時間が5秒及びガス条件としてアルゴン、窒素及び水素の体積比をそれぞれ90%及び5%で、プラズマ処理を行った。
In addition, for the purpose of controlling the slip property of the back surface (for example, reducing the friction coefficient with the plate cylinder surface), a substrate provided with a back surface coating layer can also be preferably used.
Using a batch type atmospheric pressure plasma processing apparatus (EC-I-H-340, manufactured by EC Chemical Co., Ltd.), the high frequency output is 4.5 kW, the frequency is 5 kHz, the processing time is 5 seconds, and the gas conditions are argon, Plasma treatment was performed at a volume ratio of nitrogen and hydrogen of 90% and 5%, respectively.

《熱処理条件》
1.25m幅にスリットした後の支持体に対し、張力2hPaで180℃、1分間の低張力熱処理を実施した。
《Heat treatment conditions》
The support after slitting to a width of 1.25 m was subjected to low tension heat treatment at 180 ° C. for 1 minute at a tension of 2 hPa.

《印刷版材料の作製》
親水性層を塗設する直前に、下引き済み支持体1に対し、100℃で30秒間熱処理を加えて乾燥させ、防湿シートでカバーをして空気中の湿度が入らないようにした。支持体試料の一部をサンプリングして水分率測定をしたところ、支持体1は0.2%であった。カバーをしたものについてはシートを除去後、すぐに塗布を行った。
<Preparation of printing plate material>
Immediately before the hydrophilic layer was applied, the undercoated support 1 was dried by applying a heat treatment at 100 ° C. for 30 seconds, and covered with a moisture-proof sheet so as not to enter the humidity in the air. When a moisture content was measured by sampling a part of the support sample, the support 1 was 0.2%. About the thing with the cover, it apply | coated immediately after removing the sheet | seat.

1.3金属基材:AL砂目等
金属板としては、鉄、ステンレス、アルミニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特にアルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常その表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除去するためにアルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用される。脱脂処理としては特にアルカリ水溶液による脱脂が好ましい。また、塗布層との接着性を向上させるために、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行なうことが好ましい。
1.3 Metal Substrate: AL Grain etc. Examples of the metal plate include iron, stainless steel, aluminum and the like, and aluminum is particularly preferable from the relationship between specific gravity and rigidity. The aluminum plate is usually used after degreasing with an alkali, an acid, a solvent or the like in order to remove oil used during rolling and winding existing on the surface. As the degreasing treatment, degreasing with an alkaline aqueous solution is particularly preferable. Moreover, in order to improve adhesiveness with a coating layer, it is preferable to perform an easy adhesion process or undercoat layer application | coating to an application surface.

例えば、ケイ酸塩やシランカップリング剤等のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布した後、十分な乾燥を行なう方法が挙げられる。陽極酸化処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することができる。また、陽極酸化処理と上記浸漬または塗布処理を組み合わせて使用することもできる。また、公知の方法で粗面化されたアルミニウム基材、いわゆるアルミ砂目を、親水性表面を有する基材として使用することもできる。   For example, a method of dipping in a liquid containing a coupling agent such as a silicate or a silane coupling agent or applying a liquid, followed by sufficient drying can be used. Anodizing treatment is also considered as a kind of easy adhesion treatment and can be used. Moreover, it can also use combining an anodizing process and the said immersion or application | coating process. Moreover, the aluminum base material roughened by the well-known method, what is called an aluminum grain can also be used as a base material which has a hydrophilic surface.

1.3.2アルミ砂目について詳細に述べる。   1.3.2 Details of aluminum grain will be described.

本発明の平版印刷版用支持体に使用されるアルミニウム支持体には、純アルミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支持体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。
アルミニウム支持体は、粗面化に先立ってアルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。
The aluminum support used for the lithographic printing plate support of the present invention includes a support made of pure aluminum and an aluminum alloy. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and aluminum is used.
The aluminum support is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the aluminum surface prior to roughening.

脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。   As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed.

脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合には、燐酸、硝酸、塩酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特に好ましい。   When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersing in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof. When electrochemical roughening is performed after the neutralization treatment, it is particularly preferable to match the acid used for neutralization with the acid used for electrochemical roughening.

支持体の粗面化としては本発明の方法での電解粗面化を行なうが、その前処理として、適度な処理量の化学的粗面化や機械的粗面化を適宜くみあわせた粗面化を行なってもかまわない。   As roughening of the support, electrolytic surface roughening is carried out by the method of the present invention. As a pretreatment, a rough surface appropriately combined with chemical roughening and mechanical roughening with an appropriate amount of treatment. It does not matter if it is made.

化学的粗面化は脱脂処理と同様に苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いる。処理後には燐酸、硝酸、塩酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
機械的粗面化法は特に限定されないがブラシ研磨、ホーニング研磨が好ましい。
ブラシ研磨では、例えば毛径0.2〜1mmのブラシ毛を植毛した円筒状ブラシを回転し、接触面に研磨材を水に分散させたスラリーを供給しながら、支持体表面に押しつけて粗面化を行なう。
Chemical roughening uses an aqueous solution of alkali such as caustic soda as in the degreasing treatment. After the treatment, it is preferable to carry out a neutralization treatment by dipping in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof. When electrochemical roughening is performed after the neutralization treatment, it is particularly preferable to match the acid used for neutralization with the acid used for electrochemical roughening.
The mechanical roughening method is not particularly limited, but brush polishing and honing polishing are preferable.
In brush polishing, for example, a cylindrical brush with bristles having a bristle diameter of 0.2 to 1 mm is rotated, and while a slurry in which abrasive is dispersed in water is supplied to the contact surface, it is pressed against the surface of the support to give a rough surface. To do.

ホーニング研磨では、研磨材を水に分散させたスラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行なう。
研磨材としては、火山灰、アルミナ、炭化珪素等の一般に研磨に使用されるものがあげられ、その粒度は#200〜#2000、好ましくは#400〜#800である。
機械的に粗面化された支持体は、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑等を取り除いたり、ピット形状をコントロールする等のために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすることが好ましい。酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。
上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特に好ましく、また、中和処理の次に陽極酸化処理を行なう場合は、中和に使用する酸を陽極酸化処理に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
In the honing polishing, a slurry in which an abrasive is dispersed in water is injected by applying pressure from a nozzle, and the surface is roughened by colliding with the support surface obliquely.
Examples of the abrasive include those generally used for polishing such as volcanic ash, alumina, silicon carbide and the like, and the particle size thereof is # 200 to # 2000, preferably # 400 to # 800.
A mechanically roughened support is immersed in an aqueous solution of acid or alkali to remove abrasives, aluminum scraps, etc. that have digged into the surface of the support, or to control the pit shape. Etching is preferred. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution.
When the above is immersed in an alkaline aqueous solution, it is preferably immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof for neutralization.
When the electrochemical roughening is performed after the neutralization treatment, it is particularly preferable that the acid used for the neutralization is matched with the acid used for the electrochemical roughening. When the oxidation treatment is performed, it is particularly preferable to match the acid used for neutralization with the acid used for the anodization treatment.

電気化学的粗面化は一般に酸性電解液中で交流電流を用いて粗面化を行なう。酸性電解液は通常電気化学的粗面化法に用いられるものが使用できるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましく、本発明での分割電解処理には塩酸系電解液を用いるのが特に好ましい。   Electrochemical roughening is generally performed using an alternating current in an acidic electrolyte. As the acidic electrolyte, those usually used for electrochemical surface roughening can be used, but it is preferable to use a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution, and a hydrochloric acid-based electrolytic solution is used for the divided electrolytic treatment in the present invention. Is particularly preferred.

電解に使用する電源波形は、矩形波、台形波、のこぎり波等さまざまな波形を用いることができるが、特に正弦波が好ましい。
硝酸系電解液を用いての電気化学的粗面化において印加される電圧は、1〜50Vが好ましく、5〜30Vが更に好ましい。電流密度(ピーク値)は、10〜200A/dm2が好ましく、20〜150A/dm2が更に好ましい。
Various waveforms such as a rectangular wave, a trapezoidal wave, and a sawtooth wave can be used as the power supply waveform used for electrolysis, and a sine wave is particularly preferable.
1-50V is preferable and the voltage applied in the electrochemical roughening using nitric acid type electrolyte solution has more preferable 5-30V. The current density (peak value) is preferably from 10 to 200 A / dm 2, more preferably 20 to 150 A / dm 2.

電気量は全処理工程を合計して、100〜2000C/dm2、好ましくは200〜1500C/dm2、より好ましくは200〜1000C/dm2である。 Quantity of electricity by summing all the processing steps, 100~2000C / dm 2, preferably not 200~1500C / dm 2, more preferably a 200~1000C / dm 2.

温度は、10〜50℃が好ましく、15〜45℃が更に好ましい。硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。   The temperature is preferably 10 to 50 ° C, more preferably 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid is preferably 0.1 to 5% by mass.

電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出来る。   If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.

塩酸系電解液を用いての電気化学的粗面化において印加される電圧は、1〜50Vが好ましく、5〜30Vが更に好ましい。電流密度(ピーク値)は、10〜200A/dm2が好ましく、20〜150A/dm2が更に好ましい。電気量は全処理工程を合計して、100〜2000C/dm2が好ましく、200〜1000C/dm2が更に好ましい。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜45℃が更に好ましい。塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。 1-50V is preferable and the voltage applied in the electrochemical roughening using hydrochloric acid type electrolyte solution has more preferable 5-30V. The current density (peak value) is preferably from 10 to 200 A / dm 2, more preferably 20 to 150 A / dm 2. The total amount of electricity is preferably 100 to 2000 C / dm 2, more preferably 200 to 1000 C / dm 2 . The temperature is preferably 10 to 50 ° C, more preferably 15 to 45 ° C. The hydrochloric acid concentration is preferably 0.1 to 5% by mass.

電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出来る。
また,特開平10−869号に記載されているような,電気化学的粗面化を複数回に分割して行う方法も好ましく用いることができる.
電気化学的に粗面化された支持体は、表面のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロールしたりする等のために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすることが好ましい。
If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.
In addition, a method for performing electrochemical roughening by dividing into multiple times as described in JP-A-10-869 can be preferably used.
The electrochemically roughened support is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution to etch the surface in order to remove surface smut or the like or to control the pit shape.

酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の次に陽極酸化処理を行なう場合は、中和に使用する酸を陽極酸化処理に使用する酸に合わせることが特に好ましい。   Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like, and examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. When the above is immersed in an alkaline aqueous solution, it is preferably immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof for neutralization. When the anodizing treatment is performed after the neutralizing treatment, it is particularly preferable that the acid used for the neutralization is matched with the acid used for the anodizing treatment.

粗面化処理の次に、陽極酸化処理を行い、続いて、封孔処理、親水化処理を行なう。
本発明で用いられる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理により支持体上には酸化皮膜が形成される。本発明において、陽極酸化処理には、硫酸および/または燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に米国特許第1,412,768号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661号に記載されている燐酸を用いて電解する方法等を用いることができる。
Following the roughening treatment, an anodizing treatment is performed, followed by a sealing treatment and a hydrophilization treatment.
There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process used by this invention, A well-known method can be used. An oxide film is formed on the support by anodization. In the present invention, a method of electrolyzing with an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid or the like at a concentration of 10 to 50% as an electrolytic solution at an electric current density of 1 to 10 A / dm 2 is preferably used for the anodizing treatment. US Pat. No. 1,412,768 describes a method of electrolysis at a high current density in sulfuric acid, and a method of electrolysis using phosphoric acid described in US Pat. No. 3,511,661. Can be used.

陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行なうことができる。   The anodized support may be sealed as necessary. These sealing treatments can be carried out using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment.

1.3.3実施例:塩酸電解砂目
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、50℃の1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、溶解量が2g/m2になるように溶解処理を行い水洗した後、25℃の0.1質量%塩酸水溶液中に30秒間浸漬し、中和処理した後水洗した。
1.3.3 Example: Hydrochloric Acid Electrolytic Grain A 0.24 mm thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was immersed in a 1% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 50 ° C., and the dissolution amount was 2 g / The solution was dissolved so as to be m 2 and washed with water, then immersed in a 0.1 mass% hydrochloric acid aqueous solution at 25 ° C. for 30 seconds, neutralized, and then washed with water.

次いでこのアルミニウム板を、塩酸10g/L、アルミを0.5g/L含有する電解液により、正弦波の交流を用いて、ピーク電流密度が50A/dm2の条件で電解粗面化処理を行なった。この際の電極と試料表面との距離は10mmとした。電解粗面化処理は12回に分割して行い、一回の処理電気量(陽極時)を40C/dm2とし、合計で480C/dm2の処理電気量(陽極時)とした。 Next, this aluminum plate was subjected to an electrolytic surface roughening treatment with an electrolytic solution containing hydrochloric acid 10 g / L and aluminum 0.5 g / L using a sine wave alternating current and a peak current density of 50 A / dm 2. It was. The distance between the electrode and the sample surface at this time was 10 mm. Perform electrolytic graining treatment is divided into 12 times, and the quantity of electricity used in one treatment (at a positive polarity) as the 40C / dm 2, treatment quantity of electricity 480C / dm 2 in total (at a positive polarity).

また、各回の粗面化処理の間に5秒間の休止時間を設けた。   In addition, a rest period of 5 seconds was provided between each surface roughening treatment.

電解粗面化後は、50℃に保たれた1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、粗面化された面のスマット含めた溶解量が1.2g/m2になるようにエッチングし、水洗し、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、中和処理した後水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、20Vの定電圧条件で電気量が150C/dm2となるように陽極酸化処理を行い、さらに水洗した。 After electrolytic surface roughening, it is immersed in a 1% by weight sodium hydroxide aqueous solution maintained at 50 ° C. and etched so that the amount of dissolution including the smut of the roughened surface becomes 1.2 g / m 2. Then, it was washed with water, then immersed in a 10% aqueous sulfuric acid solution maintained at 25 ° C. for 10 seconds, neutralized, and then washed with water. Next, anodization was performed in a 20% sulfuric acid aqueous solution so that the amount of electricity was 150 C / dm 2 under a constant voltage condition of 20 V, followed by washing with water.

次いで、水洗後の表面水をスクイーズした後、70℃に保たれた1質量%のリン酸二水素ナトリウム水溶液に30秒間浸漬し、水洗を行った後に80℃で5分間乾燥し、基材1を得た。基材1のRaは460nmであった(WYKO社製RST Plusを使用し、40倍で測定した)。   Next, after squeezing the surface water after washing with water, it was immersed in a 1% by mass sodium dihydrogen phosphate aqueous solution maintained at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water, dried at 80 ° C. for 5 minutes, Got. Ra of the substrate 1 was 460 nm (measured at 40 times using RST Plus manufactured by WYKO).

2親水性層(アンカー層も同様)
2.1無機バインダ
親水性層に用いられる親水性素材としては、金属酸化物が好ましい。
2 Hydrophilic layer (same for anchor layer)
2.1 Inorganic binder As a hydrophilic material used for a hydrophilic layer, a metal oxide is preferable.

金属酸化物としては、金属酸化物微粒子を含むことが好ましい。例えば、コロイダルシリカ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物のゾルが挙げられる。該金属酸化物微粒子の形態としては、球状、針状、羽毛状、その他の何れの形態でも良い。平均粒径としては、3〜100nmであることが好ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併用することもできる。又、粒子表面に表面処理がなされていても良い。   The metal oxide preferably contains metal oxide fine particles. Examples thereof include colloidal silica, alumina sol, titania sol, and other metal oxide sols. The form of the metal oxide fine particles may be spherical, needle-like, feather-like, or any other form. The average particle diameter is preferably 3 to 100 nm, and several kinds of metal oxide fine particles having different average particle diameters can be used in combination. The surface of the particles may be surface treated.

上記金属酸化物微粒子はその造膜性を利用して結合剤としての使用が可能である。有機の結合剤を用いるよりも親水性の低下が少なく、親水性層への使用に適している。
本発明には、上記の中でも特にコロイダルシリカが好ましく使用できる。コロイダルシリカは比較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高いという利点があり、炭素原子を含まない素材が91質量%以上というような層においても良好な強度を得ることができる。
The metal oxide fine particles can be used as a binder by utilizing the film forming property. The decrease in hydrophilicity is less than when an organic binder is used, and it is suitable for use in a hydrophilic layer.
Among the above, colloidal silica can be preferably used in the present invention. Colloidal silica has the advantage of high film-forming properties even under relatively low temperature drying conditions, and good strength can be obtained even in a layer in which the material containing no carbon atom is 91% by mass or more.

上記コロイダルシリカとしては、後述するネックレス状コロイダルシリカ、平均粒径20nm以下の微粒子コロイダルシリカを含むことが好ましく、さらに、コロイダルシリカはコロイド溶液としてアルカリ性を呈することが好ましい。   The colloidal silica preferably includes necklace-like colloidal silica, which will be described later, and fine particle colloidal silica having an average particle size of 20 nm or less, and the colloidal silica preferably exhibits alkalinity as a colloidal solution.

本発明に用いられるネックレス状コロイダルシリカとは1次粒子径がnmのオーダーである球状シリカの水分散系の総称である。本発明に用いられるネックレス状コロイダルシリカとは1次粒粒子径が10〜50nmの球状コロイダルシリカが50〜400nmの長さに結合した「パールネックレス状」のコロイダルシリカを意味する。パールネックレス状(即ち真珠ネックレス状)とは、コロイダルシリカのシリカ粒子が連なって結合した状態のイメージが真珠ネックレスの様な形状をしていることを意味している。ネックレス状コロイダルシリカを構成するシリカ粒子同士の結合は、シリカ粒子表面に存在する−SiOH基が脱水結合した−Si−O−Si−と推定される。ネックレス状のコロイダルシリカとしては、具体的には日産化学工業(株)製の「スノーテックス−PS」シリーズなどが挙げられる。   The necklace-like colloidal silica used in the present invention is a general term for an aqueous dispersion of spherical silica whose primary particle diameter is on the order of nm. The necklace-like colloidal silica used in the present invention means “pearl necklace-like” colloidal silica in which spherical colloidal silica having a primary particle diameter of 10 to 50 nm is bonded to a length of 50 to 400 nm. The pearl necklace shape (that is, the pearl necklace shape) means that the image in a state in which the silica particles of colloidal silica are connected and connected has a shape like a pearl necklace. The bond between the silica particles constituting the necklace-shaped colloidal silica is presumed to be —Si—O—Si— in which —SiOH groups present on the surface of the silica particles are dehydrated. Specific examples of the colloidal silica in the form of necklace include “Snowtex-PS” series manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.

製品名としては「スノーテックス−PS−S(連結した状態の平均粒子径は110nm程度)」、「スノーテックス−PS−M(連結した状態の平均粒子径は120nm程度)」及び「スノーテックス−PS−L(連結した状態の平均粒子径は170nm程度)」があり、これらにそれぞれ対応する酸性の製品が「スノーテックス−PS−S−O」、「スノーテックス−PS−M−O」及び「スノーテックス−PS−L−O」である。
ネックレス状コロイダルシリカを添加することにより、層の多孔性を確保しつつ、強度を維持することが可能となり、層の多孔質化材として好ましく使用できる。
Product names include “Snowtex-PS-S (average particle size in the connected state is about 110 nm)”, “Snowtex-PS-M (average particle size in the connected state is about 120 nm)” and “Snowtex- PS-L (the average particle size in the connected state is about 170 nm) ", and acidic products corresponding to these are" Snowtex-PS-SO "," Snowtex-PS-MO "and “Snowtex-PS-LO”.
By adding necklace-like colloidal silica, it becomes possible to maintain the strength while ensuring the porosity of the layer, and it can be preferably used as a porous material for the layer.

これらの中でも、アルカリ性である「スノーテックスPS−S」、「スノーテックスPS−M」、「スノーテックスPS−L」を用いると、親水性層の強度が向上し、また、印刷枚数が多い場合でも地汚れの発生が抑制され、特に好ましい。   Among these, when “Snowtex PS-S”, “Snowtex PS-M”, and “Snowtex PS-L”, which are alkaline, are used, the strength of the hydrophilic layer is improved and the number of printed sheets is large. However, it is particularly preferable because the occurrence of soiling is suppressed.

また、コロイダルシリカは粒子径が小さいほど結合力が強くなることが知られており、本発明には平均粒径が20nm以下であるコロイダルシリカを用いることが好ましく、3〜15nmであることが更に好ましい。又、前述のようにコロイダルシリカの中ではアルカリ性のものが地汚れ発生を抑制する効果が高いため、アルカリ性のコロイダルシリカを使用することが特に好ましい。   Further, it is known that the colloidal silica has a stronger binding force as the particle diameter is smaller, and it is preferable to use colloidal silica having an average particle diameter of 20 nm or less in the present invention, and more preferably 3 to 15 nm. preferable. In addition, as described above, alkaline colloidal silica is particularly preferable because alkaline colloidal silica has a high effect of suppressing the occurrence of soiling.

平均粒径がこの範囲にあるアルカリ性のコロイダルシリカとしては日産化学社製の「スノーテックス−20(粒子径10〜20nm)」、「スノーテックス−30(粒子径10〜20nm)」、「スノーテックス−40(粒子径10〜20nm)」、「スノーテックス−N(粒子径10〜20nm)」、「スノーテックス−S(粒子径8〜11nm)」、「スノーテックス−XS(粒子径4〜6nm)」が挙げられる。
平均粒径が20nm以下であるコロイダルシリカは前述のネックレス状コロイダルシリカと併用することで、層の多孔質性を維持しながら、強度をさらに向上させることが可能となり、特に好ましい。
Alkaline colloidal silica having an average particle size within this range includes “Snowtex-20 (particle size 10-20 nm)”, “Snowtex-30 (particle size 10-20 nm)”, “Snowtex” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. -40 (particle diameter 10-20 nm) "," Snowtex-N (particle diameter 10-20 nm) "," Snowtex-S (particle diameter 8-11 nm) "," Snowtex-XS (particle diameter 4-6 nm) ) ".
Colloidal silica having an average particle size of 20 nm or less is particularly preferable because it can be further improved in strength while maintaining the porous property of the layer when used in combination with the aforementioned necklace-like colloidal silica.

平均粒径が20nm以下であるコロイダルシリカ/ネックレス状コロイダルシリカの比率は95/5〜5/95が好ましく、70/30〜20/80がより好ましく、60/40〜30/70が更に好ましい。   The ratio of colloidal silica / necklace-shaped colloidal silica having an average particle diameter of 20 nm or less is preferably 95/5 to 5/95, more preferably 70/30 to 20/80, and still more preferably 60/40 to 30/70.

本発明の親水性層にはその他の添加素材として、ケイ酸塩水溶液も使用することができる。ケイ酸Na、ケイ酸K、ケイ酸Liといったアルカリ金属ケイ酸塩が好ましく、そのSiO2/M2O比率はケイ酸塩を添加した際の塗布液全体のpHが13を超えない範囲となるように選択することが無機粒子の溶解を防止する上で好ましい。 A silicate aqueous solution can also be used as another additive material in the hydrophilic layer of the present invention. Alkali metal silicates such as silicate Na, silicate K, and silicate Li are preferred, and the SiO 2 / M 2 O ratio is in a range where the pH of the entire coating solution does not exceed 13 when silicate is added. It is preferable to select such that the inorganic particles are not dissolved.

2.2有機無機バインダ
また、金属アルコキシドを用いた、いわゆるゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーも使用することができる。ゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーの形成については、例えば「ゾル−ゲル法の応用」(作花済夫著/アグネ承風社発行)に記載されているか、又は本書に引用されている文献に記載されている公知の方法を使用することができる。
2.2 Organic / Inorganic Binder An inorganic polymer or an organic-inorganic hybrid polymer using a metal alkoxide by a so-called sol-gel method can also be used. The formation of an inorganic polymer or an organic-inorganic hybrid polymer by the sol-gel method is described in, for example, “Application of the sol-gel method” (Sakuo Sakuo / Published by Agne Jofusha) or cited in this book. Known methods described in the published literature can be used.

2.3有機バインダ
親水性層中には親水性有機樹脂を含有させてもよい。
2.3 Organic Binder A hydrophilic organic resin may be contained in the hydrophilic layer.

親水性有機樹脂としては、例えばポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂が挙げられる。   Examples of the hydrophilic organic resin include polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol (PEG), polyvinyl ether, styrene-butadiene copolymer, conjugated diene polymer latex of methyl methacrylate-butadiene copolymer, and acrylic. Examples thereof include resins such as polymer latex, vinyl polymer latex, polyacrylamide, and polyvinylpyrrolidone.

又、カチオン性樹脂を含有しても良く、カチオン性樹脂としては、ポリエチレンアミン、ポリプロピレンポリアミン等のようなポリアルキレンポリアミン類又はその誘導体、第3級アミノ基や第4級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアクリルアミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は微粒子状の形態で添加しても良い。これは、例えば特開平6−161101号に記載のカチオン性マイクロゲルが挙げられる。   In addition, the resin may contain a cationic resin. Examples of the cationic resin include polyalkylene polyamines such as polyethylene amine and polypropylene polyamine or derivatives thereof, and acrylic resins having a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. , Diacrylamine and the like. The cationic resin may be added in the form of fine particles. Examples thereof include a cationic microgel described in JP-A-6-161101.

本発明のより好ましい態様としては、親水性層中に含有される親水性有機樹脂は水溶性であり、かつ、少なくともその一部が水溶性の状態のまま、水に溶出可能な状態で存在することが挙げられる。水溶性の素材であっても、架橋剤等によって架橋し、水に不溶の状態になると、その親水性は低下して印刷性能を劣化させる懸念がある。   As a more preferred embodiment of the present invention, the hydrophilic organic resin contained in the hydrophilic layer is water-soluble, and at least part of the hydrophilic organic resin remains in a water-soluble state and exists in a state that can be eluted in water. Can be mentioned. Even if it is a water-soluble material, when it is cross-linked by a cross-linking agent or the like and becomes insoluble in water, there is a concern that its hydrophilicity is lowered and print performance is deteriorated.

本発明の親水性層に含有される水溶性素材としては、糖類が好ましい。親水性層に糖類を含有させることにより、後述する画像形成能を有する機能層との組み合わせにおいて、画像形成の解像度を向上させたり、耐刷性を向上させたりする効果が得られる。
糖類としては、後に詳細に説明するオリゴ糖を用いることもできるが、特に多糖類を用いることが好ましい。
As the water-soluble material contained in the hydrophilic layer of the present invention, saccharides are preferable. By including saccharides in the hydrophilic layer, an effect of improving the resolution of image formation or improving printing durability can be obtained in combination with a functional layer having an image forming ability described later.
As the saccharide, an oligosaccharide, which will be described in detail later, can be used, but it is particularly preferable to use a polysaccharide.

多糖類としては、デンプン類、セルロース類、ポリウロン酸、プルランなどが使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。   As polysaccharides, starches, celluloses, polyuronic acids, pullulans and the like can be used, but cellulose derivatives such as methyl cellulose salts, carboxymethyl cellulose salts, hydroxyethyl cellulose salts are particularly preferable, and sodium salts and ammonium salts of carboxymethyl cellulose are preferable. More preferred.

これは、親水性層に多糖類を含有させることにより、親水性層の表面形状を好ましい状態形成する効果が得られるためである。   This is because an effect of forming the surface shape of the hydrophilic layer in a preferable state can be obtained by including the polysaccharide in the hydrophilic layer.

親水性層の表面は、PS版のアルミ砂目のように0.1〜50μmピッチの凹凸構造を有することが好ましく、この凹凸により保水性や画像部の保持性が向上する。   The surface of the hydrophilic layer preferably has a concavo-convex structure with a pitch of 0.1 to 50 μm like the aluminum grain of the PS plate, and this concavo-convex improves water retention and image area retention.

このような凹凸構造は、親水性層に適切な粒径のフィラーを適切な量含有させて形成することも可能であるが、親水性層の塗布液に前述のアルカリ性コロイダルシリカと前述の水溶性多糖類とを含有させ、親水性層を塗布、乾燥させる際に相分離を生じさせて形成することがより良好な印刷性能を有する構造を得ることができ、好ましい。   Such a concavo-convex structure can be formed by containing an appropriate amount of a filler having an appropriate particle size in the hydrophilic layer, but the above-mentioned alkaline colloidal silica and the above-mentioned water-soluble substance are used in the hydrophilic layer coating solution. It is preferable that a structure having better printing performance can be obtained by containing a polysaccharide and forming a phase separation when the hydrophilic layer is applied and dried.

凹凸構造の形態(ピッチ及び表面粗さなど)はアルカリ性コロイダルシリカの種類及び添加量、水溶性多糖類の種類及び添加量、その他添加材の種類及び添加量、塗布液の固形分濃度、ウエット膜厚、乾燥条件等で適宜コントロールすることが可能である。   The shape of the concavo-convex structure (such as pitch and surface roughness) is the type and amount of alkaline colloidal silica, the type and amount of water-soluble polysaccharides, the type and amount of other additives, the solid content concentration of the coating solution, and the wet film. The thickness and drying conditions can be appropriately controlled.

凹凸構造のピッチとしては0.2〜30μmであることがより好ましく、0.5〜20μmであることが更に好ましい。又、ピッチの大きな凹凸構造の上に、それよりもピッチの小さい凹凸構造が形成されているような多重構造の凹凸構造が形成されていてもよい。
表面粗さとしては、Raで100〜1000nmが好ましく、150〜600nmがより好ましい。
The pitch of the concavo-convex structure is more preferably 0.2 to 30 μm, and further preferably 0.5 to 20 μm. Further, a concavo-convex structure having a multiple structure in which a concavo-convex structure having a smaller pitch is formed on the concavo-convex structure having a large pitch may be formed.
As surface roughness, 100-1000 nm is preferable by Ra, and 150-600 nm is more preferable.

また、親水性層の膜厚としては、0.01〜50μmであり、好ましくは0.2〜10μmであり、更に好ましくは0.5〜3μmである。   Moreover, as a film thickness of a hydrophilic layer, it is 0.01-50 micrometers, Preferably it is 0.2-10 micrometers, More preferably, it is 0.5-3 micrometers.

2.4フィラー類
・多孔質シリカ多孔質シリカ又は多孔質アルミノシリケート粒子
多孔質シリカ粒子は一般に湿式法又は乾式法により製造される。湿式法ではケイ酸塩水溶液を中和して得られるゲルを乾燥、粉砕するか、中和して析出した沈降物を粉砕することで得ることができる。乾式法では四塩化珪素を水素と酸素と共に燃焼し、シリカを析出することで得られる。これらの粒子は製造条件の調整により多孔性や粒径を制御することが可能である。
2.4 Fillers / Porous Silica Porous silica or porous aluminosilicate particles Porous silica particles are generally produced by a wet method or a dry method. In the wet method, it can be obtained by drying and pulverizing a gel obtained by neutralizing an aqueous silicate solution, or by pulverizing a precipitate deposited after neutralization. In the dry method, silicon tetrachloride is burned together with hydrogen and oxygen to obtain silica. These particles can be controlled in porosity and particle size by adjusting the production conditions.

多孔質シリカ粒子としては、湿式法のゲルから得られるものが特に好ましい。
多孔質アルミノシリケート粒子は例えば特開平10−71764号に記載されている方法により製造される。即ち、アルミニウムアルコキシドと珪素アルコキシドを主成分として加水分解法により合成された非晶質な複合体粒子である。粒子中のアルミナとシリカの比率は1:4〜4:1の範囲で合成することが可能である。又、製造時にその他の金属のアルコキシドを添加して3成分以上の複合体粒子として製造したものも本発明に使用できる。これらの複合体粒子も製造条件の調整により多孔性や粒径を制御することが可能である。
As the porous silica particles, those obtained from a wet gel are particularly preferable.
The porous aluminosilicate particles are produced, for example, by the method described in JP-A-10-71764. That is, amorphous composite particles synthesized by hydrolysis using aluminum alkoxide and silicon alkoxide as main components. The ratio of alumina to silica in the particles can be synthesized in the range of 1: 4 to 4: 1. In addition, those produced as composite particles of three or more components by adding an alkoxide of another metal during production can also be used in the present invention. These composite particles can also control the porosity and particle size by adjusting the production conditions.

粒子の多孔性としては、分散前の状態で細孔容積で1.0ml/g以上であることが好ましく、1.2ml/g以上であることがより好ましく、1.8〜2.5ml/g以下であることが更に好ましい。   The porosity of the particles is preferably 1.0 ml / g or more in terms of pore volume before dispersion, more preferably 1.2 ml / g or more, and 1.8 to 2.5 ml / g. More preferably, it is as follows.

細孔容積は塗膜の保水性と密接に関連しており、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって印刷時に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなるが、2.5ml/gよりも大きくなると粒子自体が非常に脆くなるため塗膜の耐久性が低下する。細孔容積が1.0ml/g未満の場合には、印刷時の汚れにくさ、水量ラチチュードの広さが不充分となる。
粒径としては、親水性層に含有されている状態で(例えば分散時に破砕された場合も含めて)、実質的に1μm以下であることが好ましく、0.5μm以下であることが更に好ましい。不必要に粗大な粒子が存在すると親水性層表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲にインクが残りやすくなって非画線部汚れやブランケット汚れが劣化する場合がある。
・ゼオライト粒子
ゼオライトは結晶性のアルミノケイ酸塩であり、細孔径が0.3〜1nmの規則正しい三次元網目構造の空隙を有する多孔質体である。天然及び合成ゼオライトを合わせた一般式は、次のように表される。
The pore volume is closely related to the water retention of the coating film. The larger the pore volume, the better the water retention and the less smudged during printing, and the greater the water volume latitude, but greater than 2.5 ml / g. Then, since the particles themselves become very brittle, the durability of the coating film decreases. When the pore volume is less than 1.0 ml / g, it is difficult to stain during printing and the water amount latitude is insufficient.
The particle size is preferably substantially 1 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less, in a state where it is contained in the hydrophilic layer (including when crushed during dispersion, for example). If unnecessarily coarse particles are present, porous and steep protrusions are formed on the surface of the hydrophilic layer, and ink tends to remain around the protrusions, which may deteriorate non-image area stains and blanket stains.
-Zeolite particles Zeolite is a crystalline aluminosilicate, which is a porous body having regular three-dimensional network voids with a pore diameter of 0.3 to 1 nm. The general formula combining natural and synthetic zeolite is expressed as follows:

(M1、M2 1/2)m(AlmSinO2(m+n))・xH2
ここで、M1、M2は交換性のカチオンであって、M1はLi+、Na+、K+、Tl+、Me4+(TMA)、Et4+(TEA)、Pr4+(TPA)、C7152 +、C816+等であり、M2はCa2+、Mg2+、Ba2+、Sr2+、C81822+等である。又、n≧mであり、m/nの値つまりはAl/Si比率は1以下となる。Al/Si比率が高いほど交換性カチオンの量が多く含まれるため極性が高く、従って親水性も高い。好ましいAl/Si比率は0.4〜1.0であり、更に好ましくは0.8〜1.0である。xは整数を表す。
(M 1 , M 2 1/2 ) m (AlmSinO 2 (m + n)) · xH 2 O
Here, M 1 and M 2 are exchangeable cations, and M 1 is Li + , Na + , K + , Tl + , Me 4 N + (TMA), Et 4 N + (TEA), Pr 4 N + (TPA), C 7 H 15 N 2 + , C 8 H 16 N + etc., and M 2 is Ca 2+ , Mg 2+ , Ba 2+ , Sr 2+ , C 8 H 18 N 22+ etc. It is. Further, n ≧ m, and the value of m / n, that is, the Al / Si ratio is 1 or less. The higher the Al / Si ratio, the greater the amount of exchangeable cations, and thus the higher the polarity and therefore the higher the hydrophilicity. A preferable Al / Si ratio is 0.4 to 1.0, and more preferably 0.8 to 1.0. x represents an integer.

本発明で使用するゼオライト粒子としては、Al/Si比率が安定しており、又粒径分布も比較的シャープである合成ゼオライトが好ましく、例えばゼオライトA:Na12(Al12Si1248)・27H2O;Al/Si比率1.0、ゼオライトX:Na86(Al86Si106384)・264H2O;Al/Si比率0.811、ゼオライトY:Na56(Al56Si136384)・250H2O;Al/Si比率0.412等が挙げられる。 The zeolite particles used in the present invention are preferably synthetic zeolite having a stable Al / Si ratio and a relatively sharp particle size distribution. For example, zeolite A: Na 12 (Al 12 Si 12 O 48 ). 27H 2 O; Al / Si ratio 1.0, zeolite X: Na86 (Al 86 Si 106 O 384) · 264H 2 O; Al / Si ratio 0.811, zeolite Y: Na56 (Al 56 Si 136 O 384) · 250H 2 O; Al / Si ratio 0.412 and the like.

Al/Si比率が0.4〜1.0である親水性の高い多孔質粒子を含有することで親水性層自体の親水性も大きく向上し、印刷時に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなる。又、指紋跡の汚れも大きく改善される。Al/Si比率が0.4未満では親水性が不充分であり、上記性能の改善効果が小さくなる。
多孔質無機粒子の粒径としては、親水性層に含有されている状態で、実質的に1μm以下であることが好ましく、0.5μm以下であることが更に好ましい。
By containing highly hydrophilic porous particles having an Al / Si ratio of 0.4 to 1.0, the hydrophilicity of the hydrophilic layer itself is greatly improved, it is difficult to get dirty during printing, and the water latitude is widened. In addition, the dirt on the fingerprint marks is greatly improved. When the Al / Si ratio is less than 0.4, the hydrophilicity is insufficient, and the effect of improving the performance becomes small.
The particle diameter of the porous inorganic particles is preferably substantially 1 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less, when contained in the hydrophilic layer.

また、本発明の印刷版材料の親水性層は金属酸化物として、層状粘土鉱物粒子を含んでもよい。該層状鉱物粒子としては、カオリナイト、ハロイサイト、タルク、スメクタイト(モンモリロナイト、バイデライト、ヘクトライト、サボナイト等)、バーミキュライト、マイカ(雲母)、クロライトといった粘土鉱物及び、ハイドロタルサイト、層状ポリケイ酸塩(カネマイト、マカタイト、アイアライト、マガディアイト、ケニヤアイト等)等が挙げられる。   In addition, the hydrophilic layer of the printing plate material of the present invention may contain layered clay mineral particles as a metal oxide. Examples of the layered mineral particles include kaolinite, halloysite, talc, smectite (montmorillonite, beidellite, hectorite, sabonite, etc.), clay minerals such as vermiculite, mica (mica), chlorite, hydrotalcite, layered polysilicate ( Kanemite, macatite, ialite, magadiite, kenyaite, etc.).

中でも、単位層(ユニットレイヤー)の電荷密度が高いほど極性が高く、親水性も高いと考えられる。好ましい電荷密度としては0.25以上、更に好ましくは0.6以上である。このような電荷密度を有する層状鉱物としては、スメクタイト(電荷密度0.25〜0.6;陰電荷)、バーミキュライト(電荷密度0.6〜0.9;陰電荷)等が挙げられる。特に、合成フッ素雲母は粒径等安定した品質のものを入手することができ好ましい。又、合成フッ素雲母の中でも、膨潤性であるものが好ましく、自由膨潤であるものが更に好ましい。   Among them, it is considered that the higher the charge density of the unit layer (unit layer), the higher the polarity and the higher the hydrophilicity. The charge density is preferably 0.25 or more, more preferably 0.6 or more. Examples of the layered mineral having such a charge density include smectite (charge density 0.25 to 0.6; negative charge), vermiculite (charge density 0.6 to 0.9; negative charge) and the like. In particular, synthetic fluoromica is preferable because it can be obtained with stable quality such as particle size. Among the synthetic fluorine mica, those that are swellable are preferable, and those that are free swell are more preferable.

又、上記の層状鉱物のインターカレーション化合物(ピラードクリスタル等)や、イオン交換処理を施したもの、表面処理(シランカップリング処理、有機バインダとの複合化処理等)を施したものも使用することができる。
平板状層状鉱物粒子のサイズとしては、層中に含有されている状態で(膨潤工程、分散剥離工程を経た場合も含めて)、平均粒径(粒子の最大長)が20μm以下であり、又平均アスペクト比(粒子の最大長/粒子の厚さ)が20以上の薄層状であることが好ましく、平均粒径が5μm以下であり、平均アスペクト比が50以上であることが更に好ましく、平均粒径が1μm以下であり、平均アスペクト比が50以上であることが更に好ましい。
Also used are intercalation compounds of the above-mentioned layered minerals (pillar crystals, etc.), those subjected to ion exchange treatment, and those subjected to surface treatment (silane coupling treatment, compounding treatment with organic binder, etc.) can do.
The size of the flat lamellar mineral particles is 20 μm or less in average particle diameter (maximum particle length) in the state of being contained in the layer (including the case where the swelling process and dispersion peeling process have been performed). The average aspect ratio (maximum particle length / particle thickness) is preferably a thin layer of 20 or more, the average particle size is 5 μm or less, the average aspect ratio is more preferably 50 or more, and the average particle size More preferably, the diameter is 1 μm or less and the average aspect ratio is 50 or more.

粒子サイズが上記範囲にある場合、薄層状粒子の特徴である平面方向の連続性及び柔軟性が塗膜に付与され、クラックが入りにくく乾燥状態で強靭な塗膜とすることができる。また、粒子物を多く含有する塗布液においては、層状粘土鉱物の増粘効果によって、粒子物の沈降を抑制することができる。粒子径が上記範囲をはずれると、引っかきによるキズ抑制効果が低下する場合がある。又、アスペクト比が上記範囲以下である場合、柔軟性が不充分となり、同様に引っかきによるキズ抑制効果が低下する場合がある。   When the particle size is in the above range, the continuity and flexibility in the planar direction, which are the characteristics of the thin layered particles, are imparted to the coating film, and it is difficult for cracks to occur, and a tough coating film can be obtained in a dry state. Moreover, in the coating liquid containing many particulate matters, sedimentation of particulate matter can be suppressed by the thickening effect of the layered clay mineral. If the particle diameter is out of the above range, the effect of suppressing scratches due to scratching may be reduced. Further, when the aspect ratio is less than the above range, the flexibility becomes insufficient, and the effect of suppressing scratches due to scratching may also be reduced.

層状鉱物粒子の含有量としては、層全体の0.1〜30質量%であることが好ましく、1〜10質量%であることがより好ましい。   The content of the layered mineral particles is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass based on the entire layer.

特に膨潤性合成フッ素雲母やスメクタイトは少量の添加でも効果が見られるため好ましい。層状鉱物粒子は、塗布液に粉体で添加してもよいが、簡便な調液方法(メディア分散等の分散工程を必要としない)でも良好な分散度を得るために、層状鉱物粒子を単独で水に膨潤させたゲルを作成した後、塗布液に添加することが好ましい。   In particular, swellable synthetic fluorinated mica and smectite are preferable because they are effective even when added in a small amount. The layered mineral particles may be added as a powder to the coating solution, but in order to obtain a good degree of dispersion even with a simple preparation method (no need for a dispersion step such as media dispersion), the layered mineral particles are used alone. After the gel swollen in water is prepared, it is preferably added to the coating solution.

2.5その他含有可能な素材
また、本発明の親水性層(の塗布液)には、塗布性改善等の目的で水溶性の界面活性剤を含有させることができる。Si系、又はF系等の界面活性剤を使用することができるが、特にSi元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく、好ましい。該界面活性剤の含有量は親水性層全体(塗布液としては固形分)の0.01〜3質量%が好ましく、0.03〜1質量%が更に好ましい。
2.5 Other materials that can be contained In addition, the hydrophilic layer (coating solution) of the present invention may contain a water-soluble surfactant for the purpose of improving coating properties. A surfactant such as Si-based or F-based can be used, but it is particularly preferable to use a surfactant containing Si element because there is no fear of causing printing stains. The content of the surfactant is preferably 0.01 to 3% by mass, more preferably 0.03 to 1% by mass, based on the entire hydrophilic layer (solid content as the coating solution).

また、本発明の親水性層はリン酸塩を含むことができる。本発明では親水性層の塗布液がアルカリ性であることが好ましいため、リン酸塩としてはリン酸三ナトリウムやリン酸水素二ナトリウムとして添加することが好ましい。リン酸塩を添加することで、印刷時の網の目開きを改善する効果が得られる。リン酸塩の添加量としては、水和物を除いた有効量として、0.1〜5質量%が好ましく、0.5〜2質量%が更に好ましい。   In addition, the hydrophilic layer of the present invention can contain a phosphate. In the present invention, since the hydrophilic layer coating solution is preferably alkaline, the phosphate is preferably added as trisodium phosphate or disodium hydrogen phosphate. By adding phosphate, the effect of improving the mesh opening at the time of printing can be obtained. The addition amount of phosphate is preferably 0.1 to 5% by mass, and more preferably 0.5 to 2% by mass as an effective amount excluding hydrate.

3画像形成層
3.1疎水化前駆体微粒子
本発明の画像形成層の好ましい態様のひとつとして、画像形成層が疎水化前駆体を含有する態様が挙げられる。
3 Image Forming Layer 3.1 Hydrophobized Precursor Fine Particle As one preferred embodiment of the image forming layer of the present invention, an embodiment in which the image forming layer contains a hydrophobized precursor can be mentioned.

疎水化前駆体としては、熱によって親水性(水溶性または水膨潤性)から疎水性へと変化するポリマーを用いることができる。具体的には、例えば、特開2000−56449に開示されている、アリールジアゾスルホネート単位を含有するポリマーを挙げることができる。
が、本発明においては、疎水化前駆体としては、熱可塑性疎水性粒子、もしくは、疎水性物質を内包するマイクロカプセルを用いることが好ましい。
As the hydrophobizing precursor, a polymer that changes from hydrophilicity (water-soluble or water-swellable) to hydrophobicity by heat can be used. Specific examples include polymers containing aryl diazosulfonate units disclosed in JP-A-2000-56449.
However, in the present invention, it is preferable to use thermoplastic hydrophobic particles or microcapsules enclosing a hydrophobic substance as the hydrophobizing precursor.

熱可塑性微粒子としては、後述する熱溶融性微粒子および熱融着性微粒子を挙げることができる。   Examples of the thermoplastic fine particles include heat-fusible fine particles and heat-fusible fine particles described later.

本発明に用いられる熱溶融性微粒子とは、熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された微粒子である。物性としては、軟化点40℃以上120℃以下、融点60℃以上150℃以下であることが好ましく、軟化点40℃以上100℃以下、融点60℃以上120℃以下であることが更に好ましい。融点が60℃未満では保存性が問題であり、融点が300℃よりも高い場合はインク着肉感度が低下する。   The heat-meltable fine particles used in the present invention are fine particles formed of a material that has a low viscosity when melted, and is generally classified as a wax, among thermoplastic materials. The physical properties are preferably a softening point of 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, a melting point of 60 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably a softening point of 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and a melting point of 60 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. When the melting point is less than 60 ° C., storage stability is a problem, and when the melting point is higher than 300 ° C., ink deposition sensitivity is lowered.

使用可能な素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックス等が挙げられる。これらは分子量800から10000程度のものである。又、乳化しやすくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。更には、軟化点を下げたり作業性を向上させるためにこれらのワックスにステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミドなどを添加することも可能である。又、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することができる。
これらの中でもポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸の何れかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行うことができる。
Usable materials include paraffin, polyolefin, polyethylene wax, microcrystalline wax, fatty acid wax and the like. These have a molecular weight of about 800 to 10,000. In order to facilitate emulsification, these waxes can be oxidized to introduce polar groups such as hydroxyl groups, ester groups, carboxyl groups, aldehyde groups, and peroxide groups. Furthermore, in order to lower the softening point and improve the workability, these waxes are stearamide, linolenamide, laurylamide, myristamide, hardened beef fatty acid amide, palmitoamide, oleic acid amide, rice sugar fatty acid amide, coconut fatty acid amide. Alternatively, methylolated products of these fatty acid amides, methylene bisstellaramide, ethylene bisstellaramide, and the like can be added. Coumarone-indene resin, rosin-modified phenol resin, terpene-modified phenol resin, xylene resin, ketone resin, acrylic resin, ionomer, and copolymers of these resins can also be used.
Among these, it is preferable to contain any of polyethylene, microcrystalline, fatty acid ester, and fatty acid. Since these materials have a relatively low melting point and a low melt viscosity, high-sensitivity image formation can be performed.

又、これらの素材は潤滑性を有するため、印刷版材料の表面に剪断力が加えられた際のダメージが低減し、擦りキズ等による印刷汚れ耐性が向上する。
又、熱溶融性微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。平均粒径が0.01μmよりも小さい場合、熱溶融性微粒子を含有する層の塗布液を後述する多孔質な親水性層上に塗布した際に、熱溶融性微粒子が親水性層の細孔中に入り込んだり、親水性層表面の微細な凹凸の隙間に入り込んだりしやすくなり、機上現像が不十分になって、地汚れの懸念が生じる。熱溶融性微粒子の平均粒径が10μmよりも大きい場合には、解像度が低下する。
In addition, since these materials have lubricity, damage when a shearing force is applied to the surface of the printing plate material is reduced, and resistance to printing stains due to scratches or the like is improved.
The heat-meltable fine particles are preferably dispersible in water, and the average particle size is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm. When the average particle size is smaller than 0.01 μm, when the coating liquid for the layer containing the heat-meltable fine particles is applied onto the porous hydrophilic layer described later, the heat-meltable fine particles are not removed from the pores of the hydrophilic layer. It becomes easy to enter inside or into the gaps between fine irregularities on the surface of the hydrophilic layer, and the on-press development becomes insufficient, which may cause scumming. When the average particle size of the heat-meltable fine particles is larger than 10 μm, the resolution is lowered.

又、熱溶融性微粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。
被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。
層中の熱溶融性微粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がさらに好ましい。
Further, the composition of the heat-meltable fine particles may vary continuously between the inside and the surface layer, or may be coated with a different material.
As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used.
As content of the heat-meltable microparticles | fine-particles in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is more preferable.

本発明の熱融着性微粒子としては、熱可塑性疎水性高分子重合体微粒子が挙げられ、高分子重合体微粒子の軟化温度に特定の上限はないが、温度は高分子重合体微粒子の分解温度より低いことが好ましい。高分子重合体の重量平均分子量(Mw)は10、000〜1、000、000の範囲であることが好ましい。   Examples of the heat-fusible fine particles of the present invention include thermoplastic hydrophobic polymer fine particles, and there is no specific upper limit for the softening temperature of the polymer fine particles, but the temperature is the decomposition temperature of the polymer fine particles. Lower is preferred. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000.

高分子重合体微粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、例えば、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン(共)重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−(N−メチロールアクリルアミド)共重合体、ポリアクリロニトリル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル(共)重合体、酢酸ビニル−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ビニルエステル(共)重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。   Specific examples of the polymer constituting the polymer particles include, for example, diene (co) polymers such as polypropylene, polybutadiene, polyisoprene and ethylene-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer, Synthetic rubbers such as methyl methacrylate-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate- (2-ethylhexyl acrylate) copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, methyl acrylate- ( N-methylolacrylamide) copolymer, (meth) acrylic acid ester such as polyacrylonitrile, (meth) acrylic acid (co) polymer, polyvinyl acetate, vinyl acetate-vinyl propionate copolymer, vinyl acetate-ethylene copolymer Vinyl etc. of polymers Ester (co) polymer, vinyl acetate - (2-ethylhexyl acrylate) copolymers, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene and copolymers thereof. Of these, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid (co) polymers, vinyl ester (co) polymers, polystyrene, and synthetic rubbers are preferably used.

高分子重合体微粒子は乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、気相重合法等、公知の何れの方法で重合された高分子重合体からなるものでもよい。溶液重合法又は気相重合法で重合された高分子重合体を微粒子化する方法としては、高分子重合体の有機溶媒に溶解液を不活性ガス中に噴霧、乾燥して微粒子化する方法、高分子重合体を水に非混和性の有機溶媒に溶解し、この溶液を水又は水性媒体に分散、有機溶媒を留去して微粒子化する方法等が挙げられる。   The polymer polymer fine particles may be composed of a polymer polymer polymerized by any known method such as emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, and gas phase polymerization. As a method of microparticulating a polymer polymer polymerized by a solution polymerization method or a gas phase polymerization method, a method of spraying a solution in an organic solvent of the polymer polymer into an inert gas and drying to form particles, Examples thereof include a method in which a high molecular weight polymer is dissolved in a water-immiscible organic solvent, this solution is dispersed in water or an aqueous medium, and the organic solvent is distilled off to form fine particles.

又、何れの方法においても、必要に応じ重合あるいは微粒子化の際に分散剤、安定剤として、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等の界面活性剤やポリビニルアルコール等の水溶性樹脂を用いてもよい。
又、熱融着性微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。平均粒径が0.01μmよりも小さい場合、熱融着性微粒子を含有する層の塗布液を後述する多孔質な親水性層上に塗布した際に、熱融着性微粒子が親水性層の細孔中に入り込んだり、親水性層表面の微細な凹凸の隙間に入り込んだりしやすくなり、機上現像が不十分になって、地汚れの懸念が生じる。熱融着性微粒子の平均粒径が10μmよりも大きい場合には、解像度が低下する。
In any of the methods, a surfactant, such as sodium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, polyethylene glycol, or a water-soluble resin, such as polyvinyl alcohol, is used as a dispersant or stabilizer in polymerization or micronization as necessary. May be used.
The heat-fusible fine particles are preferably dispersible in water, and the average particle size is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm. When the average particle size is smaller than 0.01 μm, when the coating liquid for the layer containing the heat-fusible fine particles is applied onto the porous hydrophilic layer described later, the heat-fusible fine particles It becomes easy to get into the pores or into the gaps between the fine irregularities on the surface of the hydrophilic layer, and the on-press development becomes insufficient, resulting in fear of soiling. When the average particle size of the heat-fusible fine particles is larger than 10 μm, the resolution is lowered.

又、熱融着性微粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。   Further, the composition of the heat fusible particles may be continuously changed between the inside and the surface layer, or may be coated with a different material.

被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。
層中の熱可塑性微粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がさらに好ましい。
As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used.
As content of the thermoplastic fine particle in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is more preferable.

本発明の印刷版材料に用いられるマイクロカプセルとしては、例えば特開2002−2135号や特開2002−19317号に記載されている疎水性素材を内包するマイクロカプセルを挙げることができる。   Examples of the microcapsules used in the printing plate material of the present invention include microcapsules enclosing a hydrophobic material described in JP-A No. 2002-2135 and JP-A No. 2002-19317.

マイクロカプセルは平均径で0.1〜10μmであることが好ましく、0.3〜5μmであることがより好ましく、0.5〜3μmであることがさらに好ましい。
マイクロカプセルの壁の厚さは径の1/100〜1/5であることが好ましく、1/50〜1/10であることがより好ましい。
The microcapsules preferably have an average diameter of 0.1 to 10 μm, more preferably 0.3 to 5 μm, and even more preferably 0.5 to 3 μm.
The thickness of the wall of the microcapsule is preferably 1/100 to 1/5 of the diameter, and more preferably 1/50 to 1/10.

マイクロカプセルの含有量は画像形成層全体の5〜100質量%であり、20〜95質量%であることが好ましく、40〜90質量%であることがさらに好ましい。
マイクロカプセルの壁材となる素材、およびマイクロカプセルの製造方法は公知の素材および方法を用いることができる。
The content of the microcapsule is 5 to 100% by mass of the entire image forming layer, preferably 20 to 95% by mass, and more preferably 40 to 90% by mass.
Known materials and methods can be used as the material for the wall of the microcapsule and the method for producing the microcapsule.

たとえば、「新版マイクロカプセルその製法・性質・応用」(近藤保、小石真純著 / 三共出版株式会社発行)に記載されているか、引用されている文献に記載されている公知の素材および方法を用いることができる。   For example, known materials and methods described in “New edition microcapsules, production method, properties, and application” (written by Tamotsu Kondo, Masumi Koishi / Sankyo Publishing Co., Ltd.) or cited references are used. be able to.

3.2バインダ
画像形成層には水溶性樹脂、水分散性樹脂を含有させることができる。水溶性樹脂、水分散性樹脂としては、オリゴ糖、多糖類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂が挙げられる。
3.2 Binder The image forming layer may contain a water-soluble resin and a water-dispersible resin. Examples of water-soluble resins and water-dispersible resins include oligosaccharides, polysaccharides, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol (PEG), polyvinyl ether, styrene-butadiene copolymers, and methyl methacrylate-butadiene copolymers. Examples thereof include resins such as conjugated diene polymer latex, acrylic polymer latex, vinyl polymer latex, polyacrylic acid, polyacrylate, polyacrylamide, and polyvinylpyrrolidone.

これらのなかでは、オリゴ糖、多糖類、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩(Na塩等)、ポリアクリルアミドが好ましい。   Of these, oligosaccharides, polysaccharides, polyacrylic acid, polyacrylates (such as Na salts), and polyacrylamide are preferable.

オリゴ糖としては、ラフィノース、トレハロース、マルトース、ガラクトース、スクロース、ラクトースといったものが挙げられるが、特にトレハロースが好ましい。   Examples of the oligosaccharide include raffinose, trehalose, maltose, galactose, sucrose, and lactose, and trehalose is particularly preferable.

多糖類としては、デンプン類、セルロース類、ポリウロン酸、プルランなどが使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。   As polysaccharides, starches, celluloses, polyuronic acids, pullulans and the like can be used, but cellulose derivatives such as methyl cellulose salts, carboxymethyl cellulose salts, hydroxyethyl cellulose salts are particularly preferable, and sodium salts and ammonium salts of carboxymethyl cellulose are preferable. More preferred.

ポリアクリル酸、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩(Na塩等)、ポリアクリルアミドとしては、分子量3000〜500万であることが好ましく、5000〜100万であることがより好ましい。   The polyacrylic acid, polyacrylic acid, polyacrylate (Na salt, etc.), and polyacrylamide preferably have a molecular weight of 3,000 to 5,000,000, and more preferably 5,000 to 1,000,000.

3.3その他含有可能な素材
画像形成層には後述の光熱変換素材を含有させることができる。画像形成層は一部が機上現像されるため、可視光での着色の少ない素材を用いることが好ましく、色素を用いることが好ましい。
3.3 Other materials that can be contained The image-forming layer can contain a photothermal conversion material described later. Since a part of the image forming layer is developed on-press, it is preferable to use a material that is less colored with visible light, and it is preferable to use a dye.

また、画像形成層には、水溶性の界面活性剤を含有させることができる。Si系、又はF系等の界面活性剤を使用することができるが、特にSi元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく、好ましい。該界面活性剤の含有量は親水性層全体(塗布液としては固形分)の0.01〜3質量%が好ましく、0.03〜1質量%が更に好ましい。   The image forming layer can contain a water-soluble surfactant. A surfactant such as Si-based or F-based can be used, but it is particularly preferable to use a surfactant containing Si element because there is no fear of causing printing stains. The content of the surfactant is preferably 0.01 to 3% by mass, more preferably 0.03 to 1% by mass, based on the entire hydrophilic layer (solid content as the coating solution).

さらに、pH調整のための酸(リン酸、酢酸等)またはアルカリ(水酸化ナトリウム、ケイ酸塩、リン酸塩等)を含有していても良い。   Further, it may contain an acid (phosphoric acid, acetic acid, etc.) or an alkali (sodium hydroxide, silicate, phosphate, etc.) for pH adjustment.

4光熱変換素材
4.1IR色素
一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。具体的には、特開昭63−139191号、特開昭64−33547号、特開平1−160683号、特開平1−280750号、特開平1−293342号、特開平2−2074号、特開平3−26593号、特開平3−30991号、特開平3−34891号、特開平3−36093号、特開平3−36094号、特開平3−36095号、特開平3−42281号、特開平3−97589号、特開平3−103476号等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
また、特開平11−240270号、特開平11−265062号、特開2000−309174号、特開2002−49147号、特開2001−162965号、特開2002−144750号、特開2001−219667号に記載の化合物も好ましく用いることができる。
4. Photothermal conversion materials 4.1 IR dyes Cyanine dyes, croconium dyes, polymethine dyes, azurenium dyes, squalium dyes, thiopyrylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, which are general infrared absorbing dyes Examples thereof include organic compounds, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, azo-based, thioamide-based, dithiol-based, and indoaniline-based organometallic complexes. Specifically, JP-A-63-139191, JP-A-64-33547, JP-A-1-160683, JP-A-1-280750, JP-A-1-293342, JP-A-2-2074, Kaihei 3-26593, JP-A-3-30991, JP-A-3-34891, JP-A-3-36093, JP-A-3-36094, JP-A-3-36095, JP-A-3-42281, JP-A-3-42281 Examples thereof include compounds described in JP-A-3-97589, JP-A-3-103476, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
JP-A-11-240270, JP-A-11-265062, JP-A-2000-309174, JP-A-2002-49147, JP-A-2001-162965, JP-A-2002-144750, JP-A-2001-219667. The compounds described in 1 can also be preferably used.

4.2顔料
顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。
カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度(d50)は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。
4.2 Pigment Examples of the pigment include carbon, graphite, metal, and metal oxide.
As carbon, furnace black or acetylene black is particularly preferable. The particle size (d50) is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

グラファイトとしては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子を使用することができる。
金属としては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子であれば何れの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等何れの形状でも良い。特にコロイド状金属微粒子(Ag、Au等)が好ましい。
As the graphite, fine particles having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less can be used.
As the metal, any metal can be used as long as the particle diameter is 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. The shape may be any shape such as a spherical shape, a piece shape, or a needle shape. Colloidal metal fine particles (Ag, Au, etc.) are particularly preferable.

金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材、または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。
前者としては、黒色酸化鉄や二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。
As the metal oxide, a material that is black in the visible light region, or a material that has conductivity or is a semiconductor can be used.
Examples of the former include black iron oxide and black composite metal oxides containing two or more metals.

後者とては、例えばSbをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したIn23(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが挙げられる。又、これらの金属酸化物で芯材(BaSO4、TiO2、9Al23・2B2O、K2O・nTiO2等)を被覆したものも使用することができる。これらの粒径は、0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下である。 Examples of the latter include SnO 2 doped with Sb (ATO), In 2 O 3 doped with Sn (ITO), TiO 2 , TiO 2 with reduced TiO 2 (titanium oxynitride, generally titanium black), etc. Is mentioned. Further, it can also be used those obtained by coating the core material (BaSO 4, TiO 2, 9Al 2 O 3 · 2B 2 O, K 2 O · nTiO 2 , etc.) in these metal oxides. These particle sizes are 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

これらの光熱変換素材のうち黒色酸化鉄や二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物がより好ましい素材として挙げられる。
黒色酸化鉄(Fe34)としては、平均粒子径0.01〜1μmであり、針状比(長軸径/短軸径)が1〜1.5の範囲の粒子であることが好ましく、実質的に球状(針状比1)であるか、もしくは、八面体形状(針状比約1.4)を有していることが好ましい。
Among these photothermal conversion materials, black iron oxide and black composite metal oxides containing two or more metals are more preferable materials.
The black iron oxide (Fe 3 O 4 ) is preferably particles having an average particle diameter of 0.01 to 1 μm and an acicular ratio (major axis diameter / minor axis diameter) of 1 to 1.5. It is preferably substantially spherical (acicular ratio 1) or has an octahedral shape (acicular ratio about 1.4).

このような黒色酸化鉄粒子としては、例えば、チタン工業社製のTAROXシリーズが挙げられる。球状粒子としては、BL−100(粒径0.2〜0.6μm)、BL−500(粒径0.3〜1.0μm)等を好ましく用いることができる。また、八面体形状粒子としては、ABL−203(粒径0.4〜0.5μm)、ABL−204(粒径0.3〜0.4μm)、ABL−205(粒径0.2〜0.3μm)、ABL−207(粒径0.2μm)等を好ましく用いることができる。   Examples of such black iron oxide particles include TAROX series manufactured by Titanium Industry Co., Ltd. As the spherical particles, BL-100 (particle diameter 0.2 to 0.6 μm), BL-500 (particle diameter 0.3 to 1.0 μm), or the like can be preferably used. Further, as octahedral shaped particles, ABL-203 (particle size 0.4 to 0.5 μm), ABL-204 (particle size 0.3 to 0.4 μm), ABL-205 (particle size 0.2 to 0) .3 μm), ABL-207 (particle size: 0.2 μm) and the like can be preferably used.

さらに、これらの粒子表面をSiO2等の無機物でコーティングした粒子も好ましく用いることができ、そのような粒子としては、SiO2でコーティングされた球状粒子:BL−200(粒径0.2〜0.3μm)、八面体形状粒子:ABL−207A(粒径0.2μm)が挙げられる。 Furthermore, particles whose surface is coated with an inorganic substance such as SiO 2 can also be preferably used. As such particles, spherical particles coated with SiO 2 : BL-200 (particle size 0.2 to 0) .3 μm), octahedral shaped particles: ABL-207A (particle size 0.2 μm).

黒色複合金属酸化物としては、具体的には、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、 Co、 Ni、Cu、Zn、Sb、Baから選ばれる二種以上の金属からなる複合金属酸化物である。これらは、特開平8−27393号公報、特開平9−25126号公報、特開平9−237570号公報、特開平9−241529号公報、特開平10−231441号公報等に開示されている方法により製造することができる。
本発明に用いる複合金属酸化物としては、特にCu−Cr−Mn系またはCu−Fe−Mn系の複合金属酸化物であることが好ましい。Cu−Cr−Mn系の場合には、6価クロムの溶出を低減させるために、特開平8−27393号公報に開示されている処理を施すことが好ましい。これらの複合金属酸化物は添加量に対する着色、つまり、光熱変換効率が良好である。
Specifically, the black composite metal oxide is a composite metal oxide composed of two or more metals selected from Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Sb, and Ba. . These are disclosed by methods disclosed in JP-A-8-27393, JP-A-9-25126, JP-A-9-237570, JP-A-9-241529, JP-A-10-231441, and the like. Can be manufactured.
The composite metal oxide used in the present invention is particularly preferably a Cu-Cr-Mn-based or Cu-Fe-Mn-based composite metal oxide. In the case of a Cu—Cr—Mn system, it is preferable to perform the treatment disclosed in JP-A-8-27393 in order to reduce the elution of hexavalent chromium. These composite metal oxides are colored with respect to the amount added, that is, they have good photothermal conversion efficiency.

これらの複合金属酸化物は平均1次粒子径が1μm以下であることが好ましく、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲にあることがより好ましい。平均1次粒子径が1μm以下とすることで、添加量に対する光熱変換能がより良好となり、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となる。ただし、添加量に対する光熱変換能は、粒子の分散度にも大きく影響を受け、分散が良好であるほど良好となる。   These composite metal oxides preferably have an average primary particle size of 1 μm or less, and more preferably have an average primary particle size in the range of 0.01 to 0.5 μm. When the average primary particle diameter is 1 μm or less, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount becomes better, and when the average primary particle diameter is within the range of 0.01 to 0.5 μm, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is obtained. Better. However, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is greatly affected by the degree of dispersion of the particles, and the better the dispersion, the better.

したがって、これらの複合金属酸化物粒子は、層の塗布液に添加する前に、別途公知の方法により分散して、分散液(ペースト)としておくことが好ましい。平均1次粒子径が0.01未満となると分散が困難となるため好ましくない。分散には適宜分散剤を使用することができる。分散剤の添加量は複合金属酸化物粒子に対して0.01〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましい。   Therefore, it is preferable to disperse these composite metal oxide particles by a known method separately before adding them to the layer coating solution to prepare a dispersion (paste). An average primary particle size of less than 0.01 is not preferable because dispersion becomes difficult. A dispersing agent can be appropriately used for the dispersion. The addition amount of the dispersant is preferably 0.01 to 5% by mass, and more preferably 0.1 to 2% by mass with respect to the composite metal oxide particles.

5.露光(画像形成)方法
本発明のひとつの態様の印刷版材料の画像形成は熱により行うことができるが、特に赤外線レーザーによる露光によって画像形成を行うことが好ましい。
本発明に関する露光に関し、より具体的には、赤外および/または近赤外領域で発光する、すなわち700〜1500nmの波長範囲で発光するレーザーを使用した走査露光が好ましい。レーザーとしてはガスレーザーを用いてもよいが、近赤外領域で発光する半導体レーザーを使用することが特に好ましい。
5. Exposure (Image Formation) Method The image formation of the printing plate material according to one embodiment of the present invention can be performed by heat, but it is particularly preferable to perform image formation by exposure with an infrared laser.
More specifically, exposure relating to the present invention is preferably scanning exposure using a laser that emits light in the infrared and / or near-infrared region, that is, in the wavelength range of 700 to 1500 nm. A gas laser may be used as the laser, but it is particularly preferable to use a semiconductor laser that emits light in the near infrared region.

本発明の走査露光に好適な装置としては、該半導体レーザーを用いてコンピュータからの画像信号に応じて印刷版材料表面に画像を形成可能な装置であればどのような方式の装置であってもよい。   As an apparatus suitable for scanning exposure according to the present invention, any apparatus can be used as long as it can form an image on the surface of a printing plate material in accordance with an image signal from a computer using the semiconductor laser. Good.

一般的には、
(1)平板状保持機構に保持された印刷版材料に一本もしくは複数本のレーザービームを用いて2次元的な走査を行って印刷版材料全面を露光する方式、
(2)固定された円筒状の保持機構の内側に、円筒面に沿って保持された印刷版材料に、円筒内部から一本もしくは複数本のレーザービームを用いて円筒の周方向(主走査方向)に走査しつつ、周方向に直角な方向(副走査方向)に移動させて印刷版材料全面を露光する方式、
(3)回転体としての軸を中心に回転する円筒状ドラム表面に保持された印刷版材料に、円筒外部から一本もしくは複数本のレーザービームを用いてドラムの回転によって周方向(主走査方向)に走査しつつ、周方向に直角な方向(副走査方向)に移動させて印刷版材料全面を露光する方式があげられる。
In general,
(1) A method of exposing the entire surface of the printing plate material by performing two-dimensional scanning using one or a plurality of laser beams on the printing plate material held by the plate-like holding mechanism,
(2) The circumferential direction of the cylinder (main scanning direction) using one or a plurality of laser beams from the inside of the cylinder to the printing plate material held along the cylindrical surface inside the fixed cylindrical holding mechanism ), Scanning the entire surface of the printing plate material by moving it in a direction perpendicular to the circumferential direction (sub-scanning direction),
(3) A printing plate material held on the surface of a cylindrical drum that rotates about an axis as a rotating body is rotated in the circumferential direction (main scanning direction) by rotating the drum using one or a plurality of laser beams from the outside of the cylinder. ) And moving in the direction perpendicular to the circumferential direction (sub-scanning direction) to expose the entire surface of the printing plate material.

本発明に関しては特に(3)の走査露光方式が好ましく、特に印刷装置上で露光を行う装置においては、(3)の露光方式が用いられる。   In the present invention, the scanning exposure method (3) is particularly preferable, and the exposure method (3) is used particularly in an apparatus that performs exposure on a printing apparatus.

6.機上現像方法
本発明の印刷版材料の好ましい態様である、赤外線レーザー熱溶融・熱融着方式の印刷版材料の画像形成層は、赤外線レーザー露光部が親油性の画像部となり、未露光部の層が除去されて非画像部となる。未露光部の除去は、水洗によっても可能であるが、印刷機上で湿し水およびまたはインクを用いて除去する、いわゆる機上現像することも十分に可能である。
6). On-machine development method The image forming layer of the printing plate material of the infrared laser heat melting and heat fusion method, which is a preferred embodiment of the printing plate material of the present invention, has an infrared laser exposed portion as an oleophilic image portion, and an unexposed portion. This layer is removed to form a non-image portion. The unexposed portion can be removed by washing with water, but it is also possible to perform so-called on-press development that removes with a dampening water and / or ink on a printing press.

印刷機上での画像形成層の未露光部の除去は、版胴を回転させながら水付けローラーやインクローラーを接触させて行うことができるが、下記に挙げる例のような、もしくは、それ以外の種々のシークエンスによって行うことができる。また、その際には、印刷時に必要な湿し水水量に対して、水量を増加させたり、減少させたりといった水量調整を行ってもよく、水量調整を多段階に分けて、もしくは、無段階に変化させて行ってもよい。   The removal of the unexposed portion of the image forming layer on the printing press can be performed by contacting a watering roller or an ink roller while rotating the plate cylinder. The various sequences can be performed. In that case, the water amount may be adjusted by increasing or decreasing the amount of dampening water required for printing, and the water amount adjustment may be divided into multiple stages or steplessly. You may change it to.

(1)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転、回転させ、次いで、インクローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転させ、次いで、印刷を開始する。   (1) As a sequence for starting printing, a watering roller is contacted to rotate the plate cylinder from 1 to several tens of revolutions, then an ink roller is contacted to rotate the plate cylinder from one to several tens of rotations, Start printing.

(2)印刷開始のシークエンスとして、インクローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転、回転させ、次いで、水付けローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転させ、次いで、印刷を開始する。   (2) As a sequence for starting printing, an ink roller is contacted to rotate the plate cylinder from 1 to several tens of rotations, then a watering roller is contacted to rotate the plate cylinder from 1 to 10 rotations, Start printing.

(3)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーとインクローラーとを実質的に同時に接触させて版胴を1回転〜数十回転させ、次いで、印刷を開始する。   (3) As a sequence for starting printing, the watering roller and the ink roller are brought into contact with each other substantially simultaneously to rotate the plate cylinder one to several tens of times, and then printing is started.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to these.

《支持体の作製》
(ポリエステルフィルムの作製)
(支持体1:ポリエチレンテレフタレート支持体)
テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従いIV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出し、50℃の冷却ドラム上で急冷し熱固定後の平均膜厚が175μmになるような厚みの未延伸フィルムを作製した。これを、延伸温度は前段延伸が102℃で1.3倍に、後段延伸は110℃で2.6倍に縦延伸した。ついでテンターで120℃で4.5倍に横延伸した。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンターのチャック部をスリットした後、両端にナーリング加工を行い、40℃に冷却後4.8kg/mで巻き取った。このようにして厚さ175μの二軸延伸PETフィルムを得た。この二軸延伸PETフィルムのTgは79℃であった。得られたPETフィルムの幅(製膜幅)は2.5mであった。また、得られた支持体1の厚み分布は3%であった。
<Production of support>
(Production of polyester film)
(Support 1: Polyethylene terephthalate support)
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET of IV (inherent viscosity) = 0.66 (measured in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio) at 25 ° C.) was obtained according to a conventional method. This is pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, rapidly cooled on a cooling drum at 50 ° C., and not yet thick enough to have an average film thickness of 175 μm after heat setting. A stretched film was prepared. With respect to the drawing temperature, the first drawing was stretched 1.3 times at 102 ° C. and the second drawing was longitudinally stretched 2.6 times at 110 ° C. Then, it was stretched 4.5 times at 120 ° C. with a tenter. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit, knurled at both ends, cooled to 40 ° C. and wound at 4.8 kg / m. In this way, a biaxially stretched PET film having a thickness of 175 μm was obtained. The biaxially stretched PET film had a Tg of 79 ° C. The width of the obtained PET film (film forming width) was 2.5 m. Further, the thickness distribution of the obtained support 1 was 3%.

《下引き済み支持体1の作製》
上記で得られた支持体1のフィルムの両面に、8W/m2・分のコロナ放電処理を施し、次いで、表4に記載のように、一方の面に下記下引き塗布液aを乾燥膜厚0.8μmになるように塗設後にコロナ放電処理(8W/m2・分)を行いながら下引き塗布液bを乾燥膜厚0.1μmになるように塗布し、各々180℃、4分間乾燥させた(下引き面A)。また反対側の面に下記下引き塗布液cを乾燥膜厚0.8μmになるように塗設後にコロナ放電処理(8W/m2・分)を行いながら下引き塗布液dを乾燥膜厚1.0μmになるように塗布し、しそれぞれ180℃、4分間乾燥させた(下引き面B)。塗布後の25℃、25%RHでの表面電気抵抗は108Ωであった。また、下引き面B側の表面の表面粗さを測定したところRa値で0.8μmであった。ついで、各々の下引き層表面に下記プラズマ処理条件でプラズマ処理を施した。
<< Preparation of underdrawn support 1 >>
Both sides of the film of the support 1 obtained above were subjected to a corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min, and then, as shown in Table 4, the following undercoat coating solution a was applied to one side as a dry film. After coating to a thickness of 0.8 μm, the undercoating liquid b was applied to a dry film thickness of 0.1 μm while performing corona discharge treatment (8 W / m 2 · min), each at 180 ° C. for 4 minutes. Dried (undercoating surface A). Also, after coating the following undercoat coating solution c on the opposite side so as to have a dry film thickness of 0.8 μm, the undercoat coating solution d is dried film thickness 1 while performing corona discharge treatment (8 W / m 2 · min). The coating was applied to a thickness of 0.0 μm and dried at 180 ° C. for 4 minutes (undercoating surface B). The surface electrical resistance at 25 ° C. and 25% RH after coating was 10 8 Ω. Further, when the surface roughness of the surface on the undercoat surface B side was measured, the Ra value was 0.8 μm. Subsequently, the surface of each undercoat layer was subjected to plasma treatment under the following plasma treatment conditions.

《下引き塗布液a》;
スチレン/グリシジルメタクリレート/ブチルアクリレート=60/39/1の3元系共重合ラテックス(Tg=75℃) 6.3%(固形分基準)
スチレン/グリシジルメタクリレート/ブチルアクリレート=20/40/40の3元系共重合ラテックス 1.6%
アニオン系界面活性剤S−1 0.1%
水 92.0%
《下引き塗布液b》;
ゼラチン 1%
アニオン系界面活性剤S−1 0.05%
硬膜剤H−1 0.02%
マット剤(シリカ,平均粒径3.5μm) 0.02%
防黴剤F−1 0.01%
水 98.9%
<< Undercoat coating liquid a >>
Styrene / glycidyl methacrylate / butyl acrylate = 60/39/1 ternary copolymer latex (Tg = 75 ° C.) 6.3% (based on solid content)
Styrene / glycidyl methacrylate / butyl acrylate = 20/40/40 terpolymer latex 1.6%
Anionic surfactant S-1 0.1%
Water 92.0%
<< Undercoat coating liquid b >>
Gelatin 1%
Anionic surfactant S-1 0.05%
Hardener H-1 0.02%
Matting agent (silica, average particle size 3.5 μm) 0.02%
Antifungal agent F-1 0.01%
Water 98.9%

Figure 2006256025
Figure 2006256025

《下引き塗布液c》;
スチレン/グリシジルメタクリレート/ブチルアクリレート=20/40/40の3元系共重合ラテックス 0.4%(固形分基準)
スチレン/グリシジルメタクリレート/ブチルアクリレート/アセトアセトキシエチルメタクリレート=39/40/20/1の4元系共重合ラテックス 7.6%
アニオン系界面活性剤S−1 0.1%
水 91.9%
《下引き塗布液d》;
成分d−1/成分d−2/成分d−3=66/31/1の導電性組成物 6.4%
硬膜剤H−2 0.7%
アニオン系界面活性剤S−1 0.07%
マット剤(シリカ,平均粒径3.5μm) 0.03%
水 93.4%
成分d−1;
スチレンスルホン酸ナトリウム/マレイン酸=50/50の共重合体からなるアニオン性高分子化合物
成分d−2;
スチレン/グリシジルメタクリレート/ブチルアクリレート=40/40/20からなる3成分系共重合ラテックス
成分d−3;
スチレン/イソプレンスルホン酸ナトリウム=80/20からなる高分子活性剤
<< Undercoat coating liquid c >>
Styrene / glycidyl methacrylate / butyl acrylate = 20/40/40 ternary copolymer latex 0.4% (based on solid content)
Styrene / glycidyl methacrylate / butyl acrylate / acetoacetoxyethyl methacrylate = 39/40/20/1 quaternary copolymer latex 7.6%
Anionic surfactant S-1 0.1%
Water 91.9%
<< Undercoat coating liquid d >>
Conductive composition of component d-1 / component d-2 / component d-3 = 66/31/1 6.4%
Hardener H-2 0.7%
Anionic surfactant S-1 0.07%
Matting agent (silica, average particle size 3.5 μm) 0.03%
Water 93.4%
Component d-1;
An anionic polymer compound comprising a copolymer of sodium styrenesulfonate / maleic acid = 50/50; component d-2;
Three-component copolymer latex consisting of styrene / glycidyl methacrylate / butyl acrylate = 40/40/20 component d-3;
Polymeric activator comprising styrene / sodium isoprenesulfonate = 80/20

Figure 2006256025
Figure 2006256025

Figure 2006256025
Figure 2006256025

表から明らかなように、本発明の試料が比較に比して優れていることが分かる。   As is apparent from the table, the sample of the present invention is superior to the comparison.

Claims (5)

親水性支持体上に、化学的活性シェルと軟化点が該化学的活性シェルより40℃低いコアを有するコア/シェル構造微粒子及び親水性ポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。 An image having a chemically active shell, core / shell structure fine particles having a core having a chemically active shell and a softening point lower by 40 ° C. than the chemically active shell, and a hydrophilic polymer on a hydrophilic support. Forming material. シェルの軟化点が20度以上、コアが60度以上であることを特徴とする請求項1に記載の画像形成材料。 2. The image forming material according to claim 1, wherein the softening point of the shell is 20 degrees or more and the core is 60 degrees or more. 請求項1又は2に記載の画像形成材料を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士を融着させ、化学的に結合させる工程、且つ、画像形成材料を水性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除去する工程を経て画像を得ることを特徴とする画像形成方法。 The image forming material according to claim 1 or 2 is heated in an image shape, the shell is softened to fuse the shells together and chemically bonded, and the image forming material is treated with an aqueous medium and heated. An image forming method, wherein an image is obtained through a step of removing a portion of the image forming layer that has not been formed. 請求項1又は2に記載の画像形成材料をレーザー光で走査することにより画像状に加熱し画像を得ることを特徴とする画像形成方法。 3. An image forming method, wherein the image forming material according to claim 1 is scanned with a laser beam to be heated in an image form to obtain an image. 請求項1又2に記載の記載の画像形成材料を製造することを特徴とする画像形成材料の製造方法。 An image forming material according to claim 1 or 2, wherein the image forming material is produced.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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