JP2006249323A - Photosetting resin composition, photosetting sheet and method for producing molded article - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosetting resin composition capable of providing a photosetting sheet having good design property, excellent in abrasion resistance, weather resistance and chemical resistance, having good adhesion between a layer of the photosetting resin composition and a substrate sheet and good appearance of the surface, free from surface tackiness and excellent in processability and storage stability and a photosetting sheet using the composition and to provide a method for producing a molded article by using the sheet. <P>SOLUTION: The photosetting resin composition comprises (a-1) a thermoplastic resin having a photopolymerizable functional group, (a-2) a photopolymerization initiator and (a-3) inorganic fine particles. The photosetting resin composition is obtained by previously carrying out hydrolytic condensation reaction of a monomer of a radically polymerizable silane compound (s-1) or its hydrolyzate with a monomer of non-radically polymerizable silane compound (s-2) or its hydrolyzate in the presence of the inorganic fine particles (a-3). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光硬化性樹脂組成物、この組成物を用いた光硬化性シート及びこのシートを用いた成形品の製造方法に関する。本発明は、特に、優れた外観、意匠性、耐磨耗性、耐薬品性及び耐候性を有し、保存安定性に優れ、表面粘着性のない光硬化性シートをあたえることのできる光硬化性樹脂組成物、この組成物を用いた光硬化性シート、並びにこのシートを用いた成形品の製造方法に関する。   The present invention relates to a photocurable resin composition, a photocurable sheet using the composition, and a method for producing a molded article using the sheet. The present invention is particularly photocuring that has excellent appearance, design, abrasion resistance, chemical resistance and weather resistance, has excellent storage stability, and can provide a photocurable sheet having no surface tackiness. The present invention relates to a curable resin composition, a photocurable sheet using the composition, and a method for producing a molded article using the sheet.

プラスチック製品の成形と同時にその表面に装飾を施す方法として、(1)金型内表面に予め模様を付けておく方法、(2)金型内壁面に転写フィルムを装着し、成形と同時にフィルムの模様等を成形品の外面に転写する方法、(3)機能付シートまたは印刷シートを金型内壁面に貼り付けておき、成形と同時にそのシートを成形品表面に貼り付けする方法等が提案されている。(2)または(3)の方法については、例えば、耐候性付与シートまたは印刷シートを金型内壁面に形成した後、成形用樹脂を射出成形することにより、シートで表面が被覆された成形品を製造する方法が提案されている(例えば、特許文献1、2、3参照)。   As a method of decorating the surface of a plastic product at the same time as molding, (1) a method of pre-patterning the inner surface of the mold, (2) mounting a transfer film on the inner wall surface of the mold, A method of transferring a pattern or the like to the outer surface of a molded product, and (3) a method of pasting a functional sheet or printed sheet on the inner wall surface of a mold and pasting the sheet on the surface of the molded product simultaneously with molding are proposed. ing. With respect to the method (2) or (3), for example, after forming a weather resistance imparting sheet or printed sheet on the inner wall surface of the mold, a molded product whose surface is coated with the sheet by injection molding a molding resin Has been proposed (see, for example, Patent Documents 1, 2, and 3).

これらの成形品に限らず、一般的な方法による成形品も含め、成形工程上や成形品の実使用環境上において、様々な傷付き要因にさらされる。長期にわたり、これらの成形品の美麗を保つためには、表面の耐傷付き性(耐磨耗性、表面硬度等)は具備すべき重要な特性である。   Not only these molded products but also molded products by general methods are exposed to various damage factors in the molding process and in the actual usage environment of the molded products. In order to maintain the beauty of these molded products over a long period of time, surface scratch resistance (abrasion resistance, surface hardness, etc.) is an important characteristic to be provided.

しかしながら、上記の技術は、加飾や機能性の付与を熱可塑性シートや印刷の転写で行っているため、得られた成形品の表面硬度が不十分なものであった。例えば、成形品に耐候性を付与する場合には、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)等からなる高耐候性シートを用いれば良いが、充分な表面硬度が得られないという問題がある。   However, in the above technique, the surface hardness of the obtained molded product is insufficient because the decoration and the functional addition are performed by transfer of a thermoplastic sheet or printing. For example, when weather resistance is imparted to a molded article, a high weather resistance sheet made of polyvinylidene fluoride (PVDF) or the like may be used, but there is a problem that sufficient surface hardness cannot be obtained.

これに対して、表面硬度の高い成形品を得ようとする場合には、予め架橋した表面硬度の高いシートを用いなければならない。しかしながら、そのようなシートは、立体形状の成形品への適用が困難である。   On the other hand, in order to obtain a molded product having a high surface hardness, a sheet having a high surface hardness that has been previously cross-linked must be used. However, such a sheet is difficult to apply to a three-dimensional molded product.

アクリル樹脂、反応性ビニル基を有する化合物および光重合開始剤を含有する樹脂組成物により形成される光硬化性樹脂層とシート基材とが積層されてなる光硬化性シートが提案された(例えば、特許文献4参照)。しかしながら、このシートでは、光硬化させる前のシートは、低分子量の反応性ビニル基を有する化合物を含有するため、表面に粘着性が有り、あるいは表面の粘着性が時間と共に変化する等の現象が起こり、ロール状態での保存安定性が不良である。具体的には、粘着して巻き出せない、低温で保存しないと両端より化合物がしみ出す等の問題があった。さらには、その表面粘着性のため、特に長時間連続して成形する際に金型面に付着して脱型できない、あるいは印刷シートとして使用する場合の印刷工程において搬送ロールに貼りつくといった不具合が生じていた。   A photocurable sheet was proposed in which a photocurable resin layer formed of a resin composition containing an acrylic resin, a compound having a reactive vinyl group, and a photopolymerization initiator and a sheet substrate are laminated (for example, , See Patent Document 4). However, in this sheet, since the sheet before photocuring contains a compound having a low molecular weight reactive vinyl group, there is a phenomenon that the surface has adhesiveness or the surface adhesiveness changes with time. Occurs and the storage stability in the roll state is poor. Specifically, there are problems such as sticking and unwinding, and exudation of compounds from both ends unless stored at low temperatures. Furthermore, due to its surface tackiness, there is a problem that it cannot adhere to the mold surface and cannot be removed when it is molded continuously for a long time, or sticks to the transport roll in the printing process when used as a printing sheet. It was happening.

一方、側鎖に脂環式エポキシ基またはラジカル重合性不飽和基を有する樹脂、無機微粒子、光重合開始剤を含む組成物を基材シートに積層することにより、インモールド成形またはインサート成形等に代表される(3)の方法が適用可能であり、かつ意匠性の良好な成形品の製造に有利に用いることのできる、耐磨耗性、耐候性および耐薬品性に優れ、かつ、粘着性がなく、加工性および保存安定性に優れた光硬化性樹脂組成物層を表面に有する光硬化性シートが開示されている(例えば、特許文献5参照)。   On the other hand, by laminating a composition containing a resin having an alicyclic epoxy group or radical polymerizable unsaturated group in the side chain, inorganic fine particles, and a photopolymerization initiator on a base sheet, it can be used for in-mold molding or insert molding. The representative method (3) is applicable, and can be advantageously used for the production of molded articles with good design properties. It has excellent wear resistance, weather resistance and chemical resistance, and is tacky. There is disclosed a photocurable sheet having a photocurable resin composition layer excellent in processability and storage stability on the surface (for example, see Patent Document 5).

上記の光硬化性樹脂組成物または光硬化性シートは、光硬化前の優れた成形性と光硬化後の優れた表面性状(硬度、耐擦傷性、耐候性、密着性等)を併せ持っており、センターピラーやサイドモール、ドアモール、コンソールボックス等の自動車内/外装材用途に好適に使用される。しかしながら、例えば、サンルーフやリアスポイラーの上面部のように直射日光に曝される度合いが極端に多い外装用途では、光硬化性樹脂組成物層が変色したり、クラックを生じたり、或いは基材シートより剥離するという問題を生じることがあった。   The above-mentioned photocurable resin composition or photocurable sheet has both excellent moldability before photocuring and excellent surface properties (hardness, scratch resistance, weather resistance, adhesion, etc.) after photocuring. It is suitably used for automotive interior / exterior materials such as center pillars, side moldings, door moldings, and console boxes. However, for example, in exterior applications where the degree of exposure to direct sunlight, such as the upper surface of a sunroof or rear spoiler, is extremely high, the photocurable resin composition layer is discolored, cracked, or a base sheet. There was a case where the problem of more peeling occurred.

また、上記の光硬化性樹脂組成物または光硬化性シートは、保存安定性に優れるものであるが、熱帯/亜熱帯地方における炎天下の屋外倉庫内のように、極端に高温となる環境下で長期に亘って保存する場合には、光硬化性樹脂組成物の硬化反応が一部進行し、光硬化性樹脂組成物のゲル化や光硬化性シートの伸度低下等の問題を生じることもあった。   In addition, the above-mentioned photocurable resin composition or photocurable sheet is excellent in storage stability, but it is used for a long time in an environment where the temperature is extremely high, such as in an outdoor warehouse under a hot sun in a tropical / subtropical region. In some cases, the curing reaction of the photocurable resin composition proceeds partially, causing problems such as gelation of the photocurable resin composition and reduced elongation of the photocurable sheet. It was.

一方、特許文献6〜10には、多官能(メタ)アクリレート化合物、コロイダルシリカ、(メタ)アクリルシラン等のアルコキシシラン化合物を含む被覆用組成物について記載されている。これらの被覆用組成物は、硬化後の物性が比較的優れた耐磨耗性、透明性、耐薬品性は示すものの、耐候性や基材シートとの密着性、特に長期耐候性試験後の密着性は充分なものではなかった。また、硬化前の被覆用組成物は、表面粘着性があり、これらの被覆用組成物の層を基材シート上に積層したシートは、保存安定性や成形加工性(インサート/インモールド成形)、印刷適性に著しく劣るものであった。   On the other hand, Patent Documents 6 to 10 describe coating compositions containing an alkoxysilane compound such as a polyfunctional (meth) acrylate compound, colloidal silica, and (meth) acrylsilane. Although these coating compositions exhibit relatively good abrasion resistance, transparency and chemical resistance after curing, they have weather resistance and adhesion to a substrate sheet, especially after a long-term weather resistance test. Adhesion was not sufficient. In addition, the coating composition before curing has surface tackiness, and a sheet obtained by laminating a layer of these coating compositions on a base sheet is storage stability and moldability (insert / in-mold molding). The printability was extremely inferior.

特開昭60−250925号公報JP-A-60-250925 特公昭59−36841号公報Japanese Patent Publication No.59-36841 特公平8−2550号公報Japanese Patent Publication No. 8-2550 特公平7−323号公報Japanese Patent Publication No.7-323 特開2002−80550号公報JP 2002-80550 A 特開平8−209028号公報JP-A-8-209028 特開平9−194760号公報JP-A-9-194760 特開昭57−131214号公報JP-A-57-13214 特開平7-258582号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-258582 特開2003-213067号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-213067

本発明は、上述の背景に基づきなされたものであり、その目的とするところは、意匠性が良好で、耐磨耗性、耐候性及び耐薬品性に優れ、かつ、光硬化性樹脂組成物の層と基材シートとの密着性及び表面の外観が良好であり、表面粘着性がなく、加工性および保存安定性に優れた光硬化性シートを与えることのできる光硬化性樹脂組成物、この組成物を用いた光硬化性シート、並びにこのシートを用いた優れた成形品の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made on the basis of the above-mentioned background. The object of the present invention is good design, excellent wear resistance, weather resistance and chemical resistance, and a photocurable resin composition. A photocurable resin composition capable of providing a photocurable sheet having good adhesion between the layer and the base sheet and the surface appearance, no surface tackiness, and excellent workability and storage stability, It is providing the photocurable sheet | seat using this composition, and the manufacturing method of the excellent molded article using this sheet | seat.

すなわち、本発明は、光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)、光重合開始剤(a−2)及び無機微粒子(a−3)を含有する光硬化性樹脂組成物であって、無機微粒子(a−3)が、予め、その存在下に、ラジカル重合性シラン化合物(s−1)の単量体もしくは加水分解物と非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)の単量体もしくは加水分解物とを加水分解縮合反応させたものである光硬化性樹脂組成物(すなわち光硬化性樹脂組成物(A))を提供する。   That is, the present invention is a photocurable resin composition containing a thermoplastic resin (a-1) having a photopolymerizable functional group, a photopolymerization initiator (a-2), and inorganic fine particles (a-3). In the presence of the inorganic fine particles (a-3), the monomer or hydrolyzate of the radically polymerizable silane compound (s-1) and the non-radically polymerizable silane compound (s-2) are previously added in the presence of the inorganic fine particles (a-3). Provided is a photocurable resin composition (that is, a photocurable resin composition (A)) obtained by subjecting a monomer or a hydrolyzate to a hydrolytic condensation reaction.

また、本発明は、基材シート(B)上に、上記光硬化性樹脂組成物(A)の層を有する光硬化性シートを提供する。   Moreover, this invention provides the photocurable sheet which has a layer of the said photocurable resin composition (A) on a base material sheet (B).

さらに、本発明は、上記光硬化性シートの基材シート(B)側に、印刷層、蒸着層、接着層及びプライマー層から選ばれる少なくとも1層を形成した光硬化性加飾シートを提供する。   Furthermore, this invention provides the photocurable decorating sheet which formed at least 1 layer chosen from the printing layer, the vapor deposition layer, the contact bonding layer, and the primer layer in the base material sheet (B) side of the said photocurable sheet. .

さらに、本発明は、上記光硬化性シート及び光硬化性加飾シートを用いた成形品およびその成形品の製造方法を提供する。   Furthermore, this invention provides the molded product using the said photocurable sheet and the photocurable decorating sheet, and the manufacturing method of the molded product.

本発明によれば、意匠性が良好で、耐磨耗性、耐候性及び耐薬品性に優れ、かつ、光硬化性樹脂組成物の層と基材シートとの密着性及び表面の外観が良好であり、表面粘着性がなく、加工性および保存安定性に優れた光硬化性シートを与えることのできる光硬化性樹脂組成物、この組成物を用いた優れた外観、意匠性、耐磨耗性、耐候性及び耐薬品性を示す成形品を与えることのでき、加工性、保存安定性、外観、シート取り扱い性等)を発現することが可能な光硬化性シート、並びにこのシートを用いた優れた特性を有する成形品が提供される。   According to the present invention, the design property is good, the wear resistance, the weather resistance and the chemical resistance are excellent, and the adhesion between the layer of the photocurable resin composition and the base sheet and the appearance of the surface are good. A photo-curable resin composition that is capable of providing a photo-curable sheet having no surface tackiness, excellent processability and storage stability, and excellent appearance, designability, and abrasion resistance using this composition. A photocurable sheet capable of giving a molded product exhibiting properties, weather resistance and chemical resistance, and capable of exhibiting processability, storage stability, appearance, sheet handling property, and the like, and this sheet A molded article having excellent characteristics is provided.

以下に、本発明の好ましい態様について詳細に説明するが、本発明はこれらの態様のみに限定されるものではなく、その精神及び思想の範囲内において様々な変形が可能であることは言うまでもないことである。   The preferred embodiments of the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to these embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made within the scope of the spirit and idea thereof. It is.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)、光重合開始剤(a−2)および無機微粒子(a−3)を含有し、かつ無機微粒子(a−3)が、予め、その存在下に、ラジカル重合性シラン化合物(s−1)の単量体もしくは加水分解物と非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)の単量体もしくは加水分解物とを加水分解縮合反応させたものであることを特徴とする。   The photocurable resin composition of the present invention contains a thermoplastic resin (a-1) having a photopolymerizable functional group, a photopolymerization initiator (a-2), and inorganic fine particles (a-3), and is inorganic. In the presence of the fine particles (a-3), a monomer or hydrolyzate of the radical polymerizable silane compound (s-1) and a monomer of the non-radically polymerizable silane compound (s-2) or It is a product obtained by subjecting a hydrolyzate to a hydrolytic condensation reaction.

光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)としては、1分子内に2個以上の光重合性官能基を有し、かつ、光重合反応により硬化して架橋体を形成する熱可塑性樹脂が好ましい。かかる化合物の光重合性官能基としては、ビニル基や(メタ)アクリル基等のエチレン性不飽和基を有し、光ラジカル重合機構で反応する官能基や、脂環式エポキシ基等の光カチオン重合機構で反応する官能基等が挙げられる。   The thermoplastic resin (a-1) having a photopolymerizable functional group has two or more photopolymerizable functional groups in one molecule and is cured by a photopolymerization reaction to form a crosslinked product. A plastic resin is preferred. As a photopolymerizable functional group of such a compound, a functional group having an ethylenically unsaturated group such as a vinyl group or a (meth) acryl group and reacting by a photoradical polymerization mechanism, or a photocation such as an alicyclic epoxy group. Examples thereof include functional groups that react by a polymerization mechanism.

また、熱可塑性樹脂(a−1)の耐候性の観点より、熱可塑性樹脂(a−1)は分子内に光重合性官能基を有するアクリル系樹脂であることが好ましい。   From the viewpoint of the weather resistance of the thermoplastic resin (a-1), the thermoplastic resin (a-1) is preferably an acrylic resin having a photopolymerizable functional group in the molecule.

さらに、良好な耐磨耗性や耐薬品性発現の観点より、熱可塑性樹脂(a−1)は側鎖に光重合性官能基を有するアクリル系樹脂であることがより好ましい。   Furthermore, from the viewpoint of good wear resistance and chemical resistance, the thermoplastic resin (a-1) is more preferably an acrylic resin having a photopolymerizable functional group in the side chain.

特に、光硬化性樹脂組成物(A)が側鎖に光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)を含み、かつ、(a−1)以外の架橋性化合物を実質的に含まない構成の場合、著しく良好な耐磨耗性と成形性、保存安定性が両立された光硬化性シートを得ることができるので好ましい。このように側鎖に光重合性官能基を有する構造を導入することにより、側鎖間で架橋反応が進行するため、低分子量架橋性化合物が含有されていなくても良好な耐磨耗性が発現すると共に、低分子量の架橋性化合物が存在しないことよりシート表面に粘着性が無く、保存安定性に優れるという利点が得られる。   In particular, the photocurable resin composition (A) contains a thermoplastic resin (a-1) having a photopolymerizable functional group in the side chain, and substantially contains a crosslinkable compound other than (a-1). In the case of a structure having no, it is preferable because a photocurable sheet having both extremely good wear resistance, moldability, and storage stability can be obtained. By introducing a structure having a photopolymerizable functional group in the side chain in this way, the cross-linking reaction proceeds between the side chains, so that even if a low molecular weight crosslinkable compound is not contained, good wear resistance is achieved. In addition to being expressed, the absence of a low molecular weight crosslinkable compound provides the advantage that the sheet surface is not sticky and has excellent storage stability.

この光重合性官能基は、活性エネルギー線を照射することにより重合を進行せしめるものであり、好ましい例としてラジカル重合性不飽和基、または下記構造式(1)で示される脂環式エポキシ基が挙げられる。   This photopolymerizable functional group is a polymer that proceeds by irradiation with active energy rays. As a preferable example, a radical polymerizable unsaturated group or an alicyclic epoxy group represented by the following structural formula (1) is used. Can be mentioned.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

側鎖にラジカル重合性不飽和基を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、ガラス転移温度が25〜175℃の、ポリマー側鎖中にラジカル重合性不飽和基を有するものが挙げられる。上記ガラス転移温度は、下限が30℃以上で、上限が150℃以下であることがさらに好ましい。   As a thermoplastic resin which has a radically polymerizable unsaturated group in a side chain, what has a radically polymerizable unsaturated group in a polymer side chain whose glass transition temperature is 25-175 degreeC is mentioned, for example. More preferably, the glass transition temperature has a lower limit of 30 ° C. or higher and an upper limit of 150 ° C. or lower.

具体的には、ポリマーとして以下の化合物(1)〜(8)を重合または共重合させたものに対し、後述する方法(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いることができる。   Specifically, a polymer obtained by polymerizing or copolymerizing the following compounds (1) to (8) as a polymer and introducing a radically polymerizable unsaturated group by the methods (a) to (d) described later. Can be used.

(1)水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等
(2)カルボキシル基を有する単量体:(メタ)アクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート等
(3)エポキシ基を有する単量体:グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等
(4)アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエチル(メタ)アクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸アリル等
(5)アミノ基を有する単量体:(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等
(6)スルホン基を有する単量体:2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等
(7)イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの等モル付加物のような、ジイソシアネートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物、2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート等
(8)さらに、上記の共重合体のガラス転移温度を調節したり、光硬化性シートの物性を調和させたりするために、上記の化合物をそれと共重合可能な単量体と共重合させることもできる。そのような共重合可能な単量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート類、N−フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、N−ブチルマレイミド等のイミド誘導体、ブタジエン等のオレフィン系単量体、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物等を挙げることができる。
(1) Monomers having a hydroxyl group: N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (2) Monomers having a carboxyl group: (meth) acrylic acid, acryloyloxyethyl monosuccinate, etc. (3) Monomers having an epoxy group: glycidyl (meth) acrylate, 3,4- (4) Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl (meth) acrylate, allyl 2-aziridinylpropionate, etc. (5) Monomers having an amino group: (Meth) acrylamide, diacetone acrylamide, di Methylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, etc. (6) Monomer having sulfone group: 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, etc. (7) Monomer having isocyanate group: 2, Adducts of radically polymerizable monomers having diisocyanate and active hydrogen, such as equimolar adducts of 4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate, 2-isocyanate ethyl (meth) acrylate, etc. (8) Further, In order to adjust the glass transition temperature of the copolymer or to match the physical properties of the photocurable sheet, the above compound can be copolymerized with a monomer copolymerizable therewith. Examples of such copolymerizable monomers include (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, and isobornyl (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, and cyclohexylmaleimide. And imide derivatives such as N-butylmaleimide, olefinic monomers such as butadiene, and aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene.

次に、上述のようにして得た重合体に、以下に述べる方法(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入する。   Next, radically polymerizable unsaturated groups are introduced into the polymer obtained as described above by the methods (i) to (d) described below.

(イ)水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させる。
(ロ)カルボキシル基、スルホン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
(ハ)エポキシ基、イソシアネート基またはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体またはカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
(ニ)水酸基またはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体またはアジリジニル基を有する単量体、あるいはイソシアネート基を有する単量体、またはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体との等モル付加物を付加反応させる。
(A) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid is subjected to a condensation reaction.
(B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfone group, the aforementioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction.
(C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group or an aziridinyl group, the aforementioned monomer having a hydroxyl group or monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction.
(D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group, a monomer having an aziridinyl group, a monomer having an isocyanate group, or An equimolar adduct of a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylate monomer is subjected to an addition reaction.

上記の反応は、微量のハイドロキノン等の重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。   The above reaction is preferably carried out while adding a small amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and sending dry air.

本発明に用いられる、側鎖に脂環式エポキシ基を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、ガラス転移温度が25〜175℃の、ポリマー側鎖中に脂環式エポキシ基を有するものが挙げられる。上記ガラス転移温度は、下限が30℃以上で、上限が150℃以下であることがさらに好ましい。具体的な合成例を挙げると、例えば、第一の方法として、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリレート(9)をラジカル重合開始剤の存在下で溶液重合法等の公知の重合方法により単独重合したり、上記(1)〜(8)に示すような他の共重合可能なモノマーと共重合したりすることにより得ることができる。   Examples of the thermoplastic resin having an alicyclic epoxy group in the side chain used in the present invention include those having an alicyclic epoxy group in the polymer side chain having a glass transition temperature of 25 to 175 ° C. . More preferably, the glass transition temperature has a lower limit of 30 ° C. or higher and an upper limit of 150 ° C. or lower. When a specific synthesis example is given, for example, as a first method, a (meth) acrylate (9) having an alicyclic epoxy group is subjected to a known polymerization method such as a solution polymerization method in the presence of a radical polymerization initiator. It can be obtained by homopolymerization or copolymerization with other copolymerizable monomers as shown in the above (1) to (8).

また、側鎖に脂環式エポキシ基を有する熱可塑性樹脂は、上記単独重合や共重合以外の方法によっても得ることができる。例えば、第二の方法として、脂環式エポキシ基と第1の反応性基とを有する化合物と、第1の反応性基と反応する第2の反応性基を有する熱可塑性樹脂とを反応させることによって得ることができる。この第1の反応性基と第2の反応性基との組み合わせの代表例としては、下記の表1に示すようなイソシアネート基と水酸基との組み合わせが挙げられる。   Moreover, the thermoplastic resin which has an alicyclic epoxy group in a side chain can be obtained also by methods other than the said homopolymerization or copolymerization. For example, as a second method, a compound having an alicyclic epoxy group and a first reactive group is reacted with a thermoplastic resin having a second reactive group that reacts with the first reactive group. Can be obtained. Typical examples of the combination of the first reactive group and the second reactive group include combinations of isocyanate groups and hydroxyl groups as shown in Table 1 below.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

上記の第一の方法において、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリレート(9)としては、他のラジカル重合性単量体と共重合可能なものであれば特に限定されないけれども、具体的には下記構造式(2)で示されるような化合物が挙げられる。   In the first method, the (meth) acrylate (9) having an alicyclic epoxy group is not particularly limited as long as it can be copolymerized with other radical polymerizable monomers. Is a compound represented by the following structural formula (2).

Figure 2006249323
Figure 2006249323

(上式中、Rはメチル基または水素原子を表し、nは0〜5の整数である) (In the above formula, R represents a methyl group or a hydrogen atom, and n is an integer of 0 to 5)

熱可塑性樹脂(a−1)の側鎖の光重合性官能基の量は、二重結合当量(側鎖ラジカル重合性不飽和基1個あたりの平均分子量)または脂環式エポキシ当量(側鎖脂環式エポキシ基1個あたりの平均分子量)が、仕込み値からの計算値で平均3000g/モル以下であることが、耐擦傷性、耐磨耗性向上の観点から好ましい。さらに好ましい範囲は、平均1200g/モル以下であり、最も好ましい範囲は、平均800g/モル以下である。   The amount of the photopolymerizable functional group in the side chain of the thermoplastic resin (a-1) is double bond equivalent (average molecular weight per one side chain radical polymerizable unsaturated group) or alicyclic epoxy equivalent (side chain). The average molecular weight per alicyclic epoxy group) is preferably 3000 g / mol or less on average from the charged value, from the viewpoint of improving scratch resistance and wear resistance. A more preferable range is an average of 1200 g / mol or less, and a most preferable range is an average of 800 g / mol or less.

このように、架橋に関与する光重合性官能基を熱可塑性樹脂中に複数導入することにより、低分子量の架橋性化合物を使用する必要がなく、長期間の保管や加熱成形時においても、表面粘着性を有することなく、効率的に硬化物性を向上させることが可能となる。   In this way, by introducing a plurality of photopolymerizable functional groups involved in crosslinking into the thermoplastic resin, there is no need to use a low molecular weight crosslinking compound, and even during long-term storage and thermoforming, the surface It becomes possible to improve hardened | cured material property efficiently, without having adhesiveness.

熱可塑性樹脂(a−1)は、光硬化性樹脂組成物(A)を用いて形成した光硬化性シートをインサート成形やインモールド成形する際に、金型離型性が良好になる点や光硬化後のインサート/インモールド成形品の表面硬度の観点から、数平均分子量が5,000以上であることが好ましい。一方、合成の容易さや外観の観点、また基材シート(B)との密着性発現の観点から、数平均分子量が2,500,000以下であることが好ましい。さらに好ましくは、下限値は10,000以上で、上限値は1,000,000以下である。   The thermoplastic resin (a-1) has good mold releasability when insert molding or in-mold molding of a photocurable sheet formed using the photocurable resin composition (A), From the viewpoint of the surface hardness of the insert / in-mold product after photocuring, the number average molecular weight is preferably 5,000 or more. On the other hand, the number average molecular weight is preferably 2,500,000 or less from the viewpoint of ease of synthesis and appearance, and from the viewpoint of adhesion with the base sheet (B). More preferably, the lower limit is 10,000 or more and the upper limit is 1,000,000 or less.

また、熱可塑性樹脂(a−1)は、ガラス転移温度が25〜175℃に調節されていることが好ましい。上記ガラス転移温度の下限は30℃以上であることがさらに好ましく、またその上限は150℃以下であることがさらに好ましい。インサート成形やインモールド成形時の光硬化性シートの金型剥離性や光硬化後のインサート/インモールド成形品の表面硬度の観点から、ガラス転移温度が25℃以上であることが好ましい。一方、光硬化性シートの取り扱い性の観点からガラス転移温度は175℃以下であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the glass transition temperature of the thermoplastic resin (a-1) is adjusted to 25 to 175 ° C. The lower limit of the glass transition temperature is more preferably 30 ° C. or higher, and the upper limit is more preferably 150 ° C. or lower. From the viewpoint of mold releasability of the photocurable sheet during insert molding or in-mold molding and the surface hardness of the insert / in-mold molded product after photocuring, the glass transition temperature is preferably 25 ° C. or higher. On the other hand, it is preferable that a glass transition temperature is 175 degrees C or less from a viewpoint of the handleability of a photocurable sheet.

また、得られる熱可塑性樹脂のガラス転移温度を考慮すると、ホモポリマーとして高いガラス転移温度を有するものとなるビニル重合性単量体を使用することが好ましい。   In consideration of the glass transition temperature of the thermoplastic resin obtained, it is preferable to use a vinyl polymerizable monomer that has a high glass transition temperature as a homopolymer.

さらに、熱可塑性樹脂の耐候性向上の観点からは、ビニル重合性単量体として(メタ)アクリレート類を主成分として用いることが好ましい。   Furthermore, from the viewpoint of improving the weather resistance of the thermoplastic resin, it is preferable to use (meth) acrylates as the main component as the vinyl polymerizable monomer.

また、本発明において用いる光硬化性樹脂組成物(A)中に無機微粒子(a−3)を添加する場合、後述するように、無機微粒子(a−3)の表面の官能基(ヒドロキシル基,カルボキシル基,シラノール基等)と反応しうる基、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン化シリル基およびアルコキシシリル基からなる群より選ばれた少なくとも1種の官能基を分子内に有するビニル重合性単量体は、得られる光硬化性樹脂組成物の剛性、靱性、耐熱性等の物性をより向上させるように働くため、かかる官能基がラジカル重合可能なビニル重合性単量体成分の一部として含有されていてもよい。   Further, when adding the inorganic fine particles (a-3) to the photocurable resin composition (A) used in the present invention, as described later, the functional groups (hydroxyl groups, A vinyl polymerizable group having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogenated silyl group and an alkoxysilyl group in the molecule. Since the monomer works to further improve the physical properties such as rigidity, toughness and heat resistance of the resulting photocurable resin composition, a part of the vinyl polymerizable monomer component in which such a functional group can be radically polymerized. It may be contained as.

このような反応性の基を分子内に含有するビニル重合性単量体としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of vinyl polymerizable monomers containing such reactive groups in the molecule include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, vinyltrichlorosilane, Examples include vinyltrimethoxysilane and γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane.

光硬化性樹脂組成物(A)には、光重合開始剤(a−2)が含有されていてもよい。光重合開始剤(a−2)としては、活性エネルギー線照射によってラジカルを発生させる光ラジカル重合開始剤や酸を生成する光カチオン重合開始剤が挙げられるが、熱可塑性樹脂(a−1)の光重合性官能基がラジカル重合性不飽和基である場合には光ラジカル重合開始剤が使用され、脂環式エポキシ基の場合には光カチオン重合開始剤が使用される。   The photocurable resin composition (A) may contain a photopolymerization initiator (a-2). Examples of the photopolymerization initiator (a-2) include a photoradical polymerization initiator that generates radicals upon irradiation with active energy rays and a photocationic polymerization initiator that generates an acid. Of the thermoplastic resin (a-1), When the photopolymerizable functional group is a radically polymerizable unsaturated group, a photoradical polymerization initiator is used, and when it is an alicyclic epoxy group, a photocationic polymerization initiator is used.

光ラジカル重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができ、特に限定はないけれども、硬化時の黄変性や耐候時の劣化を考慮すると、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、アシルホスフィンオキサイド系のような分子内にアミノ基を含まない開始剤を用いるのがよい。例えば、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等が好ましい。これらのうちには成形方法によっては一時的にその化合物の沸点以上の温度になるものがあるので、注意が必要である。成形品の表面硬度を上げるため、n−メチルジエタノールアミンなどの酸素による重合硬化阻害を抑制する添加剤を添加しても良い。また、これらの光重合開始剤の外に、成形時の熱を利用しての硬化も考慮して、各種過酸化物を添加してもよい。光硬化性シートに過酸化物を含有させる場合には、150℃、30秒程度で硬化させる必要があるので、臨界温度の低い過酸化物、例えば、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等が好ましく用いられる。   As the radical photopolymerization initiator, a known compound can be used and is not particularly limited. However, in consideration of yellowing during curing and deterioration during weathering, such as acetophenone, benzophenone, and acylphosphine oxide It is preferable to use an initiator that does not contain an amino group in the molecule. For example, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl Phosphine oxide and the like are preferable. Of these, care must be taken because some molding methods temporarily have temperatures above the boiling point of the compound. In order to increase the surface hardness of the molded product, an additive such as n-methyldiethanolamine that suppresses polymerization hardening inhibition by oxygen may be added. In addition to these photopolymerization initiators, various peroxides may be added in consideration of curing using heat during molding. When the photocurable sheet contains a peroxide, it must be cured at 150 ° C. for about 30 seconds. Therefore, a peroxide having a low critical temperature, such as lauroyl peroxide, t-butylperoxy-2, etc. -Ethylhexanoate, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane and the like are preferably used.

光ラジカル重合開始剤の添加量は、硬化後の残存量が耐候性に影響するため、熱可塑性樹脂(a−1)100質量部に対して5質量部以下が望ましく、特に光ラジカル重合開始剤が、アミノ系の光ラジカル重合開始剤である場合は、1質量部以下が好ましい。   The addition amount of the radical photopolymerization initiator is desirably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin (a-1), since the residual amount after curing affects the weather resistance, and particularly the radical photopolymerization initiator. However, when it is an amino-type radical photopolymerization initiator, 1 mass part or less is preferable.

光カチオン重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができ、特に限定されないが、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、鉄アレーン(芳香族炭化水素)錯体等が挙げられる。なかでも、脂環式エポキシ基を有する化合物との反応性、着色の問題等を考慮すると下記構造式(3)で示されるトリアリールスルホニウム塩がより好ましい。   As the photocationic polymerization initiator, known compounds can be used, and are not particularly limited, and examples thereof include diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, iron arene (aromatic hydrocarbon) complexes, and the like. Among these, a triarylsulfonium salt represented by the following structural formula (3) is more preferable in consideration of reactivity with a compound having an alicyclic epoxy group, coloring problems, and the like.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

(上式中、R1は炭素−炭素結合もしくは炭素−硫黄結合を介する置換もしくは未置換の芳香族環を表し、R2及びR3は、それぞれ、置換あるいは未置換の芳香族環を表す) (In the above formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic ring via a carbon-carbon bond or a carbon-sulfur bond, and R 2 and R 3 each represent a substituted or unsubstituted aromatic ring)

光カチオン重合開始剤の添加量は、熱可塑性樹脂(a−1)100質量部に対して0.1〜10質量部が好ましい。   As for the addition amount of a photocationic polymerization initiator, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of thermoplastic resins (a-1).

光硬化性樹脂組成物(A)には、さらに耐擦傷性や耐磨耗性を向上させる目的で、無機微粒子(a−3)を添加する。無機微粒子(a−3)においては、得られる光硬化性樹脂組成物が透明となれば、その種類や粒子径、形態は特に制限されない。無機微粒子の例としては、コロイダルシリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化スズ、異種元素ドープ酸化スズ(ATO、等)、酸化インジウム、異種元素ドープ酸化インジウム(ITO、等)、酸化カドミウム、酸化アンチモン等が挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。なかでも、入手の容易さや価格面、得られる光硬化性樹脂組成物層の透明性や耐磨耗性発現の観点から、特にコロイダルシリカが好ましい。ここでいうコロイダルシリカは、無水ケイ酸の超微粒子が適当な液状媒体に分散させたものである。   Inorganic fine particles (a-3) are added to the photocurable resin composition (A) for the purpose of further improving scratch resistance and abrasion resistance. In the inorganic fine particles (a-3), the type, particle diameter, and form are not particularly limited as long as the obtained photocurable resin composition becomes transparent. Examples of inorganic fine particles include colloidal silica, alumina, titanium oxide, tin oxide, foreign element doped tin oxide (ATO, etc.), indium oxide, foreign element doped indium oxide (ITO, etc.), cadmium oxide, antimony oxide, etc. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, colloidal silica is particularly preferable from the viewpoints of availability, price, transparency of the resulting photocurable resin composition layer, and expression of wear resistance. Here, colloidal silica is obtained by dispersing ultrafine particles of silicic acid anhydride in a suitable liquid medium.

コロイダルシリカは、通常の水性分散液の形態や、有機溶媒に分散させた形態で用いることができるが、熱可塑性樹脂(a−1)とともに均一、かつ、安定に分散させるためには、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが好ましい。   Colloidal silica can be used in the form of a normal aqueous dispersion or in a form dispersed in an organic solvent. In order to disperse uniformly and stably with the thermoplastic resin (a-1), an organic solvent is used. It is preferable to use colloidal silica dispersed in.

そのような有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、エチレングリコール、キシレン/ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン等を例示することができる。熱可塑性樹脂とともに均一に分散させるためには、熱可塑性樹脂を溶解可能な有機溶媒を選択することが好ましいが、本発明の光硬化性シートを製造する際にこれらの有機溶媒は、後述するように、加熱乾燥させて揮発させるため、基材シート(B)の主たる構成成分である樹脂成分(b)のガラス転移温度より沸点が80℃以上高いものであると光硬化性シート内に残存し易く、また30℃以上高いものでも光硬化性シート内に残存する傾向が見られる。   Examples of such organic solvents include methanol, isopropyl alcohol, n-butanol, ethylene glycol, xylene / butanol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, dimethylformamide, dimethylacetamide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene and the like. In order to uniformly disperse together with the thermoplastic resin, it is preferable to select an organic solvent capable of dissolving the thermoplastic resin. However, when the photocurable sheet of the present invention is produced, these organic solvents are described later. In order to volatilize by drying by heating, the resin component (b), which is the main component of the base sheet (B), has a boiling point of 80 ° C. or more higher than the glass transition temperature and remains in the photocurable sheet. It tends to remain in the photocurable sheet even if it is 30 ° C. or higher.

有機溶媒に分散させた形態のコロイダルシリカとしては、例えば、メタノールシリカゾルMA−ST、イソプロピルアルコールシリカゾルIPA−ST、n−ブタノールシリカゾルNBA−ST、エチレングリコールシリカゾルEG−ST、キシレン/ブタノールシリカゾルXBA−ST、エチルセロソルブシリカゾルETC−ST、ブチルセロソルブシリカゾルBTC−ST、ジメチルホルムアミドシリカゾルDBF−ST、ジメチルアセトアミドシリカゾルDMAC−ST、メチルエチルケトンシリカゾルMEK−ST、メチルイソブチルケトンシリカゾルMIBK−ST(以上商品名、日産化学工業(株)製)等の市販品を用いることができる。   Examples of colloidal silica dispersed in an organic solvent include methanol silica sol MA-ST, isopropyl alcohol silica sol IPA-ST, n-butanol silica sol NBA-ST, ethylene glycol silica sol EG-ST, xylene / butanol silica sol XBA-ST. , Ethyl cellosolve silica sol ETC-ST, butyl cellosolve silica sol BTC-ST, dimethylformamide silica sol DBF-ST, dimethylacetamide silica sol DMAC-ST, methyl ethyl ketone silica sol MEK-ST, methyl isobutyl ketone silica sol MIBK-ST Commercially available products such as those manufactured by KK) can be used.

無機微粒子(a−3)の粒子径は、得られる光硬化性樹脂組成物層の透明性の観点から、通常は200nm以下であるのが好ましい。より好ましくは100nm以下であり、さらに好ましくは50nm以下である。また、無機微粒子(a−3)の添加量は、熱可塑性樹脂(a−1)の固形分100質量部に対して、無機微粒子固形分で5〜400質量部の範囲が好ましい。添加量の下限は、10質量部以上であることがさらに好ましい。また、添加量の上限は、200質量部以下であることがさらに好ましい。無機微粒子の添加量が5質量部未満の場合には、耐磨耗性向上効果が認められないことがあり、また添加量が400質量部を超えた場合には、光硬化性樹脂組成物(A)の保存安定性が低下するのみならず、得られる光硬化性シートの成形性が低下することがある。   The particle diameter of the inorganic fine particles (a-3) is usually preferably 200 nm or less from the viewpoint of the transparency of the resulting photocurable resin composition layer. More preferably, it is 100 nm or less, More preferably, it is 50 nm or less. Moreover, the addition amount of inorganic fine particles (a-3) is preferably in the range of 5 to 400 parts by mass in terms of solids of inorganic fine particles with respect to 100 parts by mass of solids of the thermoplastic resin (a-1). The lower limit of the addition amount is more preferably 10 parts by mass or more. Further, the upper limit of the addition amount is more preferably 200 parts by mass or less. When the addition amount of the inorganic fine particles is less than 5 parts by mass, the effect of improving the abrasion resistance may not be recognized. When the addition amount exceeds 400 parts by mass, the photocurable resin composition ( Not only the storage stability of A) is lowered, but also the moldability of the resulting photocurable sheet may be lowered.

本発明に用いられる無機微粒子(a−3)は、予め、その存在下に、ラジカル重合性シラン化合物(s−1)の単量体もしくは加水分解物と非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)の単量体もしくは加水分解物とを加水分解縮合反応させたものである。   In the presence of the inorganic fine particles (a-3) used in the present invention, the radically polymerizable silane compound (s-1) monomer or hydrolyzate and the non-radically polymerizable silane compound (s-2) ) Monomer or hydrolyzate.

このように、無機微粒子(a−3)の存在下に、シラン化合物(s−1)と(s−2)とを加水分解縮合反応させることにより、無機微粒子(a−3)の表面をシラン化合物の加水分解縮合物で修飾し、熱可塑性樹脂(a−1)等の他の成分との相溶性を改良し、光硬化性樹脂組成物(A)の保存安定性を飛躍的に向上させることができる。また、得られる光硬化性シートの耐摩耗性、耐候性、密着性、保存安定性や耐薬品性等の各種物性が良好となる。   Thus, the surface of the inorganic fine particles (a-3) is treated with silane by hydrolytic condensation reaction of the silane compounds (s-1) and (s-2) in the presence of the inorganic fine particles (a-3). Modification with a hydrolytic condensate of the compound improves compatibility with other components such as the thermoplastic resin (a-1), and dramatically improves the storage stability of the photocurable resin composition (A). be able to. Moreover, various physical properties, such as abrasion resistance, a weather resistance, adhesiveness, storage stability, and chemical resistance, of the obtained photocurable sheet | seat become favorable.

本発明に用いられるラジカル重合性シラン化合物(s−1)は、分子内に少なくとも1つのラジカル重合性基を有するシラン化合物であり、紫外線等の活性エネルギー線の照射により、熱可塑性樹脂(a−1)と無機微粒子(a−3)との間に結合を生起させ、硬化後の光硬化性樹脂組成物(A)の表面硬度や耐摩耗性の発現に寄与すると共に、無機微粒子(a−3)表面を疎水化して基材シート(B)との密着性を発現させるのにも寄与する。   The radical-polymerizable silane compound (s-1) used in the present invention is a silane compound having at least one radical-polymerizable group in the molecule, and is irradiated with an active energy ray such as ultraviolet rays to cause the thermoplastic resin (a- 1) and inorganic fine particles (a-3) are bonded to each other, contributing to the expression of the surface hardness and wear resistance of the cured photocurable resin composition (A), and the inorganic fine particles (a- 3) It contributes also to hydrophobizing the surface and expressing adhesiveness with a base material sheet (B).

なお、この明細書において、「ラジカル重合性」とは、適当なラジカル重合開始剤を用いて、加熱あるいは活性エネルギー線の照射により容易にラジカル重合できることを意味する。また、「活性エネルギー線」とは、紫外線、可視光線、赤外線、γ線等の電磁波および電子線を意味する。   In this specification, “radical polymerizability” means that radical polymerization can be easily performed by heating or irradiation with active energy rays using an appropriate radical polymerization initiator. The “active energy rays” mean electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, γ rays, and electron beams.

シラン化合物(s−1)中のラジカル重合性基としては、(メタ)アクリル基、アリル基、ビニル基、スチリル基等のラジカル重合性基が挙げられるが、光硬化反応性の観点から、特に(メタ)アクリル基が好ましい。   Examples of the radical polymerizable group in the silane compound (s-1) include radical polymerizable groups such as a (meth) acryl group, an allyl group, a vinyl group, and a styryl group. From the viewpoint of photocuring reactivity, A (meth) acryl group is preferred.

(メタ)アクリル基を有するシラン化合物は、例えば、下記構造式(4)で表される。
CH2=C(R2)COO(CH2pSiR3 n(OR13-n (4)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、R2は水素原子またはメチル基を表し、R3はエーテル結合、エステル結合、エポキシ結合、メルカプト結合またはアミノ結合を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、nは0〜2の整数であり、pは1〜6の整数である)
The silane compound having a (meth) acryl group is represented by the following structural formula (4), for example.
CH 2 = C (R 2 ) COO (CH 2 ) p SiR 3 n (OR 1 ) 3-n (4)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents an ether bond, an ester bond, an epoxy bond, a mercapto bond, or an amino group. A hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms which may have a bond, n is an integer of 0 to 2, and p is an integer of 1 to 6)

具体的には、β−(メタ)アクリロイルオキシエチルメチルジメトキシシラン、β−(メタ)アクリロイルオキシエチルメチルジエトキシシラン、β−(メタ)アクリロイルオキシエチルジメチルメトキシシラン、β−(メタ)アクリロイルオキシエチルジメチルエトキシシラン、β−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、β−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Specifically, β- (meth) acryloyloxyethylmethyldimethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethylmethyldiethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyldimethylmethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyl Dimethylethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyltrimethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyldimethylmethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyldimethylethoxy Silane, γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ- Meth) acryloyloxy propyl triethoxysilane, and the like.

アリル基を有するシラン化合物は、例えば、下記構造式(5)で表される。
CH=CHCHSiR (OR3−n (5)
(式中、Rは水素原子または炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、R及びRは、それぞれ、エーテル結合、エステル結合、エポキシ結合、メルカプト結合またはアミノ結合を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、nは0〜2の整数である)
The silane compound having an allyl group is represented, for example, by the following structural formula (5).
CH 2 = CHCH 2 R 2 SiR 3 n (OR 1 ) 3-n (5)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 and R 3 each have an ether bond, an ester bond, an epoxy bond, a mercapto bond, or an amino bond. Represents an optionally substituted hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2).

具体的には、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、γ−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アリルアミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples include allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allylmethyldimethoxysilane, allylmethyldiethoxysilane, γ-allylaminopropyltrimethoxysilane, γ-allylaminopropyltriethoxysilane, and the like.

ビニル基を有するシラン化合物は、例えば、下記構造式(6)で表される。
CH2=CHSiR2 n(OR13-n (6)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、R2はエーテル結合、エステル結合、エポキシ結合、メルカプト結合またはアミノ結合を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、nは0〜2の整数である)
The silane compound having a vinyl group is represented, for example, by the following structural formula (6).
CH 2 = CHSiR 2 n (OR 1 ) 3-n (6)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 has 1 carbon atom which may have an ether bond, an ester bond, an epoxy bond, a mercapto bond, or an amino bond. Represents a hydrocarbon residue of -10, n is an integer of 0-2)

具体的には、例えば、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples include vinylmethyldimethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinyldimethylmethoxysilane, vinyldimethylethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and vinyltriethoxysilane.

スチリル基を有するシラン化合物は、例えば、下記構造式(7)で表される。   The silane compound having a styryl group is represented by the following structural formula (7), for example.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、R2は水素原子またはメチル基を表し、R3はエーテル結合、エステル結合、エポキシ結合、メルカプト結合またはアミノ結合を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、nは0〜2の整数である) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents an ether bond, an ester bond, an epoxy bond, a mercapto bond, or an amino group. Represents a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms which may have a bond, and n is an integer of 0 to 2).

具体的には、例えば、p−ビニルフェニルメチルジメトキシシラン、p−ビニルフェニルメチルジエトキシシラン、p−ビニルフェニルトリメトキシシラン、p−ビニルフェニルトリエトキシシラン、o−ビニルフェニルトリメトキシシラン、m−ビニルフェニルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specifically, for example, p-vinylphenylmethyldimethoxysilane, p-vinylphenylmethyldiethoxysilane, p-vinylphenyltrimethoxysilane, p-vinylphenyltriethoxysilane, o-vinylphenyltrimethoxysilane, m- Examples thereof include vinylphenyltrimethoxysilane.

また、上記のシラン化合物の他に、特開平5−247373号公報等に記載されているような水酸基含有多官能(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物にエポキシシランを作用させた(メタ)アクリル基含有シラン化合物、特開平3−93872号公報や特開平3−207765号公報等に記載されているようなアミノシランに多官能(メタ)アクリレートをマイケル付加させた(メタ)アクリル基含有シラン化合物、特開平5-287215号公報や特開平6−100799号公報等に記載されているような水酸基含有(メタ)アクリレートとイソシアネートシランを反応させた(メタ)アクリル基含有シラン化合物、特開2001−287308号公報等に記載されているようなメルカプトシラン、ジイソシアネート化合物、水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させた(メタ)アクリル基含有シラン化合物、特開平11−157014号公報等に記載されているようなメルカプトシランと多官能(メタ)アクリレート化合物をマイケル付加させた(メタ)アクリル基含有シラン化合物等も、本発明において、ラジカル重合性シラン化合物(s−1)として使用することができる。   In addition to the above silane compounds, epoxysilane was allowed to act on the reaction product of a hydroxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate and an acid anhydride as described in JP-A-5-247373. ) Acrylic group-containing silane compound, (meth) acrylic group-containing silane in which polyfunctional (meth) acrylate is Michael-added to aminosilane as described in JP-A-3-93372, JP-A-3-207765, etc. Compounds, (meth) acrylic group-containing silane compounds obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylate and an isocyanate silane as described in JP-A-5-287215 and JP-A-6-10000799 Mercaptosilane, diisocyanate compound, hydroxyl group-containing compounds as described in JP-A-287308 A (meth) acrylic group-containing silane compound reacted with a (meth) acrylate, a mercaptosilane and a polyfunctional (meth) acrylate compound as described in JP-A No. 11-157014 and the like are added by Michael (meta) ) Acrylic group-containing silane compounds and the like can also be used as the radical polymerizable silane compound (s-1) in the present invention.

これらのシラン化合物は、単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。   These silane compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)は、分子内に前述のラジカル重合性基を有さないシラン化合物であり、無機微粒子(a−3)の表面修飾には関与するものの、熱可塑性樹脂(a−1)と無機微粒子(a−3)との間に結合を生起させないため、硬化後の光硬化性樹脂組成物(A)に可撓性を付与し、極めて優れた耐候性の付与や基材シート(B)との密着性の発現に寄与する。また、結合反応を伴わないことから、光硬化性樹脂組成物や光硬化性シートの長期保存安定性の発現にも寄与する。   The non-radically polymerizable silane compound (s-2) used in the present invention is a silane compound that does not have the above-mentioned radical polymerizable group in the molecule, and is involved in the surface modification of the inorganic fine particles (a-3). However, in order not to cause a bond between the thermoplastic resin (a-1) and the inorganic fine particles (a-3), the cured photocurable resin composition (A) is given flexibility and is extremely excellent. It contributes to the provision of high weather resistance and the expression of adhesion to the base sheet (B). Moreover, since it does not accompany a binding reaction, it contributes to the expression of long-term storage stability of the photocurable resin composition and the photocurable sheet.

非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)は、例えば、下記構造式(8)で表される。
SiR2 a3 b(OR1c (8)
(上式中、R1は水素原子または炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、R2及びR3は、それぞれ、エーテル結合、エステル結合、エポキシ結合、メルカプト結合またはアミノ結合を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素残基を表し、a及びbは、それぞれ、0〜3の整数であり、cは4−a−bを満足する1〜4の整数である)
The non-radically polymerizable silane compound (s-2) is represented by the following structural formula (8), for example.
SiR 2 a R 3 b (OR 1 ) c (8)
(In the above formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 and R 3 each have an ether bond, an ester bond, an epoxy bond, a mercapto bond, or an amino bond. And represents an optionally substituted hydrocarbon residue having 1 to 10 carbon atoms, a and b are each an integer of 0 to 3, and c is an integer of 1 to 4 that satisfies 4-ab.

具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、メトキシエチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、n−ノニルトリメトキシシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−ウンデシルトリメトキシシラン、トリデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、ペンタデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘプタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ノナデシルトリメトキシシラン、エイコデシルトリメトキシシラン、アセトキシエチルトリエトキシシラン、ジエトキシエチルジメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、テトラキス(2−メトキシエトキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specifically, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, Ethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methylethyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, trimethylethoxysilane, methoxyethyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, n-nonyltrimethoxysilane N-decyltrimethoxysilane, n-undecyltrimethoxysilane, tridecyltrimethoxysilane, tetradecyltrimethoxysilane, Tadecyltrimethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, heptadecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, nonadecyltrimethoxysilane, eicodecyltrimethoxysilane, acetoxyethyltriethoxysilane, diethoxyethyldimethoxysilane, tetraacetoxysilane , Methyltriacetoxysilane, tetrakis (2-methoxyethoxy) silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane , Γ-mercaptopropyldimethoxymethylsilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrime Toxisilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.

なかでも、得られる光硬化性樹脂組成物(A)中の熱可塑性樹脂(a−1)や溶剤等の各種成分との相溶性や無機微粒子(a−3)の分散安定性の観点から、非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)は炭化水素基のみを有することが好ましい。   Among them, from the viewpoint of the compatibility with various components such as the thermoplastic resin (a-1) and the solvent in the obtained photocurable resin composition (A) and the dispersion stability of the inorganic fine particles (a-3), The non-radically polymerizable silane compound (s-2) preferably has only a hydrocarbon group.

これらのシラン化合物は、単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。   These silane compounds may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合性シラン化合物(s−1)や非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)は、無機微粒子(a−3)の固形分1モル部(無機微粒子の式量に等しいグラム数の無機微粒子の量を1モルとする。したがって、コロイダルシリカ(SiO2=28+16×2=60)の固形分60gは1モルに相当する)に対して、合計で0.0001〜3モル部の割合で使用することが好ましい。シラン化合物の合計使用量が3モル部を超える場合には、得られる光硬化性シートの耐磨耗性が低下することがある。また、シラン化合物の合計使用量が0.0001モル部未満の場合には、シラン処理の効果が認められないことがある。 The radically polymerizable silane compound (s-1) and the non-radically polymerizable silane compound (s-2) are 1 mol part of solid content of the inorganic fine particles (a-3) (inorganic fine particles having the number of grams equal to the formula amount of the inorganic fine particles). Therefore, the total amount of the colloidal silica (SiO 2 = 28 + 16 × 2 = 60) corresponds to 0.001 to 3 mole parts with respect to the solid content of 60 g. It is preferable to do. When the total amount of the silane compound used exceeds 3 mol parts, the abrasion resistance of the resulting photocurable sheet may be lowered. Moreover, when the total amount of silane compounds used is less than 0.0001 mol part, the effect of silane treatment may not be observed.

ラジカル重合性シラン化合物(s−1)と非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)との使用モル比は、3:97〜97:3の範囲にあるのが好ましく、5:95〜95:5の範囲がより好ましく、10:90〜90:10の範囲がさらに好ましく、特に10:90〜80:20の範囲が最も好ましい。ラジカル重合性シラン化合物(s−1)の使用比率が多過ぎると、光硬化性樹脂組成物(A)の層と基材シート(B)との密着性が低下し、さらに耐候性、耐衝撃性、耐チッピング性や長期保存安定性等の特性が低下することがある。また、非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)の使用比率が多過ぎると、硬化後の光硬化性樹脂組成物(A)層の耐擦傷性、耐薬品性、透明性等の特性が低下することがある。   The molar ratio of the radically polymerizable silane compound (s-1) to the non-radically polymerizable silane compound (s-2) is preferably in the range of 3:97 to 97: 3, and 5:95 to 95: The range of 5 is more preferable, the range of 10:90 to 90:10 is more preferable, and the range of 10:90 to 80:20 is most preferable. When the use ratio of the radical polymerizable silane compound (s-1) is too large, the adhesion between the layer of the photocurable resin composition (A) and the base sheet (B) is lowered, and further, weather resistance and impact resistance are reduced. Characteristics such as resistance, chipping resistance and long-term storage stability may be deteriorated. Moreover, when there are too many use ratios of a non-radically polymerizable silane compound (s-2), characteristics, such as abrasion resistance, chemical resistance, and transparency, of the photocurable resin composition (A) layer after hardening will fall. There are things to do.

本発明では、無機微粒子(a−3)は、予め、その存在下に、ラジカル重合性シラン化合物(s−1)の単量体もしくは加水分解物と非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)の単量体もしくは加水分解物とを加水分解縮合反応させて得られたものである。   In the present invention, the inorganic fine particles (a-3) are previously present in the presence of the monomer or hydrolyzate of the radical polymerizable silane compound (s-1) and the non-radical polymerizable silane compound (s-2). It is obtained by subjecting the monomer or hydrolyzate to a hydrolytic condensation reaction.

以下に、無機微粒子(a−3)の存在下における加水分解縮合反応について、一例を説明する。まず、無機微粒子(a−3)がアルコール等の適当な分散媒に分散された分散溶液とシラン化合物(s−1)及び(s−2)を混合する。続いて、シラン化合物(s−1)及び(s−2)の混合物1モルに対して、0.5〜6モルの水あるいは0.00001〜0.1規定の塩酸水溶液等の加水分解触媒を加え、加熱下で攪拌しつつ、加水分解で生じるアルコールを系外に除去する。さらに、加水分解反応に続く縮合反応で生じる水を同様に加熱下で系外に除去し、縮合反応を完結させる。   Below, an example is demonstrated about the hydrolysis-condensation reaction in presence of an inorganic fine particle (a-3). First, a dispersion solution in which inorganic fine particles (a-3) are dispersed in an appropriate dispersion medium such as alcohol and silane compounds (s-1) and (s-2) are mixed. Subsequently, with respect to 1 mol of the mixture of the silane compounds (s-1) and (s-2), a hydrolysis catalyst such as 0.5 to 6 mol of water or a 0.00001 to 0.1 N hydrochloric acid aqueous solution is used. In addition, alcohol produced by hydrolysis is removed from the system while stirring under heating. Further, the water generated in the condensation reaction following the hydrolysis reaction is similarly removed outside the system under heating, and the condensation reaction is completed.

無機微粒子(a−3)を添加は、シラン化合物の加水分解・縮合反応前だけでなく、加水分解・縮合反応の途中や後であっても良い。また、この反応は、常圧下でも、減圧下/加圧下でも行うことができる。さらに、この加水分解・縮合反応時に加熱下で攪拌する際に、無機微粒子(a−3)の分散媒を共沸留出させることにより、別の分散媒に置換することも可能である。   The inorganic fine particles (a-3) may be added not only before the hydrolysis / condensation reaction of the silane compound but also during or after the hydrolysis / condensation reaction. This reaction can be carried out under normal pressure or under reduced pressure / pressure. Furthermore, when stirring under heating during the hydrolysis / condensation reaction, the dispersion medium of the inorganic fine particles (a-3) can be substituted with another dispersion medium by azeotropic distillation.

前記の反応においては、加水分解触媒として、無機酸または有機酸の水溶液を使用することができる。無機酸としては、例えば、塩酸、弗化水素酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸や、硫酸、硝酸、燐酸等が用いられる。有機酸としては、蟻酸、酢酸、シュウ酸、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。   In the above reaction, an aqueous solution of an inorganic acid or an organic acid can be used as a hydrolysis catalyst. As the inorganic acid, for example, hydrohalic acid such as hydrochloric acid, hydrofluoric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and the like are used. Examples of the organic acid include formic acid, acetic acid, oxalic acid, (meth) acrylic acid, and the like.

また、加水分解・縮合反応を温和に、かつ、均一に行うために溶媒を用いることが好ましい。この溶媒としては、無機微粒子(a−3)の分散媒をそのまま用いても良いし、新たな溶剤を必要量加えても良い。新たに加える溶媒としては、水;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;アセトン、MEK、MIBK等のケトン類;ジオキサン、THF等のエーテル類を挙げることができる。   Further, it is preferable to use a solvent in order to perform the hydrolysis / condensation reaction gently and uniformly. As this solvent, the dispersion medium of inorganic fine particles (a-3) may be used as it is, or a new solvent may be added in a necessary amount. Examples of the solvent to be newly added include water; alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol; ketones such as acetone, MEK and MIBK; and ethers such as dioxane and THF.

さらに、無機微粒子(a−3)の加水分解縮合反応について具体的に説明する。まず、イソプロパノールを分散媒とするコロイダルシリカに、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランとジメチルジメトキシシランの混合溶液を添加し、さらに0.1規定の塩酸水溶液を加水分解触媒として加え、加熱下で攪拌しながら加水分解反応を進行させる。次に、コロイダルシリカの分散媒を減圧下で非極性溶媒トルエンと共に共沸留出させ、分散媒をトルエンに置換した後、60〜150℃、好ましくは80〜130℃の温度範囲で、固形分濃度を30〜90質量%の範囲、好ましくは40〜80質量%の範囲に保持しながら0.5〜10時間攪拌する。   Furthermore, the hydrolysis condensation reaction of the inorganic fine particles (a-3) will be specifically described. First, a mixed solution of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane and dimethyldimethoxysilane is added to colloidal silica using isopropanol as a dispersion medium, and 0.1N hydrochloric acid aqueous solution is added as a hydrolysis catalyst, followed by stirring under heating. The hydrolysis reaction proceeds. Next, the dispersion medium of colloidal silica is azeotropically distilled together with the nonpolar solvent toluene under reduced pressure, and after the dispersion medium is replaced with toluene, the solid content is within a temperature range of 60 to 150 ° C., preferably 80 to 130 ° C. The mixture is stirred for 0.5 to 10 hours while maintaining the concentration in the range of 30 to 90% by mass, preferably in the range of 40 to 80% by mass.

このようにして得られた無機微粒子(a−3)は、元来親水性であった微粒子表面がシラン化合物により被覆されて疎水化されているため、熱可塑性樹脂(a−1)との相溶性が向上し、光硬化性樹脂組成物の透明性の向上に寄与し、また基材シート(B)との密着性の発現や長期保存安定性の発現にも寄与する。   The inorganic fine particles (a-3) obtained in this manner are hydrophobized by coating the surface of the fine particles, which were originally hydrophilic, with a silane compound, so that they are in phase with the thermoplastic resin (a-1). Solubility improves, contributes to the improvement of the transparency of a photocurable resin composition, and also contributes to expression of adhesiveness with a base material sheet (B), and expression of long-term storage stability.

ラジカル重合性シラン化合物(s−1)の単量体もしくは加水分解物と非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)の単量体もしくは加水分解物とを加水分解・縮合反応させることにより表面処理した無機微粒子(a−3)を、熱可塑性樹脂(a−1)に添加する方法としては、予め熱可塑性樹脂(a−1)を合成後溶剤に溶解し、無機微粒子を混合する方法でも良いし、また熱可塑性樹脂(a−1)を構成するビニル重合性単量体と無機微粒子を混合した条件下で熱可塑性樹脂(a−1)を重合する方法等の任意の方法を選択することができる。   Surface treatment by subjecting the monomer or hydrolyzate of the radical polymerizable silane compound (s-1) and the monomer or hydrolyzate of the non-radically polymerizable silane compound (s-2) to a hydrolysis / condensation reaction The method of adding the inorganic fine particles (a-3) to the thermoplastic resin (a-1) may be a method in which the thermoplastic resin (a-1) is previously synthesized and then dissolved in a solvent, and the inorganic fine particles are mixed. And selecting an arbitrary method such as a method of polymerizing the thermoplastic resin (a-1) under a condition in which the vinyl polymerizable monomer constituting the thermoplastic resin (a-1) and inorganic fine particles are mixed. Can do.

本発明において、光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)中の光重合性官能基が脂環式エポキシ基の場合には、脂環式エポキシ基と無機微粒子表面の官能基(ヒドロキシル基,カルボキシル基,シラノール基等)が混合の間に架橋し、ゲル化を起こすことがある。このようなゲル化現象を防止するためには、アンモニアおよび沸点が100℃以下であるアミン化合物から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。光硬化性樹脂組成物(A)を用いて光硬化性シートを形成する際に、シート中に過剰に残存しないためには、アミン化合物の沸点は100℃以下であることが必要である。   In the present invention, when the photopolymerizable functional group in the thermoplastic resin (a-1) having a photopolymerizable functional group is an alicyclic epoxy group, the alicyclic epoxy group and the functional group on the surface of the inorganic fine particles ( Hydroxyl groups, carboxyl groups, silanol groups, etc.) may crosslink during mixing and cause gelation. In order to prevent such a gelation phenomenon, it is preferable to include at least one selected from ammonia and an amine compound having a boiling point of 100 ° C. or lower. When forming a photocurable sheet using the photocurable resin composition (A), the boiling point of the amine compound needs to be 100 ° C. or lower so that it does not remain excessively in the sheet.

かかるアミン化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等が挙げられる。   Examples of such amine compounds include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine, triethylamine and the like.

また、上記アミン化合物の添加量は、熱可塑性樹脂(a−1)の固形分100質量部に対して、0.01〜0.5質量部の範囲であることが好ましい。光硬化性樹脂組成物(A)の安定性保持の観点から、その添加量は0.01質量部以上が好ましいが、添加量が0.5質量部を超えると、光硬化性シートをインサート成形やインモールド成形することによって得られた成形品を光硬化させても、光カチオン重合が進行せず、耐擦傷性や耐薬品性が劣ることがある。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the said amine compound is the range of 0.01-0.5 mass part with respect to 100 mass parts of solid content of a thermoplastic resin (a-1). From the viewpoint of maintaining the stability of the photocurable resin composition (A), the addition amount is preferably 0.01 parts by mass or more, but if the addition amount exceeds 0.5 parts by mass, the photocurable sheet is insert molded. Even if a molded product obtained by in-mold molding is photocured, photocationic polymerization does not proceed, and scratch resistance and chemical resistance may be inferior.

光硬化性樹脂組成物(A)には、熱可塑性樹脂(a−1)、光重合開始剤(a−2)および無機微粒子(a−3)以外に、必要に応じて、増感剤、変性用樹脂、染料、顔料およびレベリング剤やハジキ防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化安定剤等の添加剤を配合することができる。   In addition to the thermoplastic resin (a-1), the photopolymerization initiator (a-2), and the inorganic fine particles (a-3), the photocurable resin composition (A) includes a sensitizer, as necessary. Additives such as modifying resins, dyes, pigments, leveling agents, anti-repelling agents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and oxidation stabilizers can be blended.

上記の増感剤は光硬化反応を促進するものであって、その例としてはベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等が挙げられる。   The above sensitizer accelerates the photocuring reaction, and examples thereof include benzophenone, benzoin isopropyl ether, and thioxanthone.

また、熱可塑性樹脂(a−1)中の光重合性官能基が脂環式エポキシ基の場合は、上記変性用樹脂としては、光カチオン重合性を有することが好ましく、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、エポキシ基としてグリシジル基を有する熱可塑性樹脂等が挙げられる。   Further, when the photopolymerizable functional group in the thermoplastic resin (a-1) is an alicyclic epoxy group, the modifying resin preferably has photocationic polymerizability, a glycidyl ether type epoxy resin, Examples thereof include a glycidyl ester type epoxy resin and a thermoplastic resin having a glycidyl group as an epoxy group.

ただし、光硬化性樹脂組成物(A)は、前記熱可塑性樹脂(a−1)以外の架橋性化合物を実質的に含有しないものであるのが好ましい。特に、40℃において液体状の架橋性モノマー、オリゴマーや、数平均分子量2,000以下の低分子量の架橋性モノマー、オリゴマーを実質的に含有しないものが好ましい。このような液体状あるいは数平均分子量2,000以下の架橋性モノマー、オリゴマーを含有すると、長期間の保管や加熱成形時において表面粘着性を有するようになり、印刷工程において不具合を生じたり、インサート成形やインモールド成形時において金型を汚染したりする等の問題を生じることがある。50℃において液体状の架橋性モノマー、オリゴマーを実質的に含有しないものがより好ましく、60℃において液体状の架橋性モノマー、オリゴマーを実質的に含有しないものがさらに好ましい。なお、ここで、「実質的に含有しない」とは、得られる光硬化性シートの耐磨耗性、成形性または保存安定性を損なう程には含まないことを意味する。   However, it is preferable that the photocurable resin composition (A) contains substantially no crosslinkable compound other than the thermoplastic resin (a-1). In particular, a liquid crosslinkable monomer / oligomer which is liquid at 40 ° C. or a low molecular weight crosslinkable monomer / oligomer having a number average molecular weight of 2,000 or less is substantially not contained. If such a liquid or a crosslinkable monomer or oligomer having a number average molecular weight of 2,000 or less is contained, it will have surface tackiness during long-term storage or thermoforming, causing problems in the printing process, Problems such as contamination of the mold during molding or in-mold molding may occur. More preferred are those that substantially contain no liquid crosslinkable monomer or oligomer at 50 ° C, and more preferably those that do not substantially contain a liquid crosslinkable monomer or oligomer at 60 ° C. Here, “substantially does not contain” means that it is not included to the extent that the wear resistance, moldability or storage stability of the resulting photocurable sheet is impaired.

本発明においては、上記の如き光硬化性樹脂組成物(A)を用いているため、光硬化性樹脂組成物の層を基材シート(B)上に積層して光硬化性シートを形成した場合にも、光硬化性シートの表面は粘着性がなく、また表面の粘着性が時間と共に変化する等の現象も起こらず、ロール状態での保存安定性が良好となる。   In the present invention, since the photocurable resin composition (A) as described above is used, the photocurable sheet is formed by laminating the layer of the photocurable resin composition on the base sheet (B). Even in this case, the surface of the photocurable sheet is not sticky, and the phenomenon that the stickiness of the surface changes with time does not occur, and the storage stability in the roll state is improved.

光硬化性樹脂組成物(A)の層の厚みは、1〜50μmの範囲が好ましく、2〜30μmの範囲がさらに好ましい。光硬化性樹脂組成物(A)の層の厚みが1μm未満の場合には、光硬化性樹脂組成物(A)を硬化させても耐擦傷性や耐磨耗性、耐薬品性等の特性が低下することがある。また、光硬化性樹脂組成物(A)層の厚みが50μmを超える場合には、硬化不良が起きる為に耐温水性や耐候性が低下することがある。   The thickness of the layer of the photocurable resin composition (A) is preferably in the range of 1 to 50 μm, and more preferably in the range of 2 to 30 μm. When the thickness of the layer of the photocurable resin composition (A) is less than 1 μm, even if the photocurable resin composition (A) is cured, characteristics such as scratch resistance, abrasion resistance, chemical resistance, etc. May decrease. Moreover, when the thickness of a photocurable resin composition (A) layer exceeds 50 micrometers, since a curing defect occurs, warm water resistance and a weather resistance may fall.

本発明の光硬化性シートの製造方法としては、例えば、光硬化性樹脂組成物(A)を有機溶媒等の溶剤(S)に十分に攪拌溶解させた光硬化性キャスト液組成物を、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法等の公知の印刷方法や、ブレードコート法、ロッドコート法、ロールドクターコート法、ナイフコート法、コンマコート法、リバースロールコート法、トランスファーロールコート法、キスロールコート法、カーテンコート法、ディップコート法等の公知のコート方法により基材シート(B)上に塗工し、溶剤(S)の除去のための加熱乾燥を行った後、必要に応じてカバーフィルムを光硬化性樹脂組成物(A)上に仮着させる方法がある。   As a method for producing a photocurable sheet of the present invention, for example, a photocurable cast liquid composition obtained by sufficiently stirring and dissolving a photocurable resin composition (A) in a solvent (S) such as an organic solvent is used as a gravure. Known printing methods such as printing method, screen printing method, offset printing method, blade coating method, rod coating method, roll doctor coating method, knife coating method, comma coating method, reverse roll coating method, transfer roll coating method, kissing After coating on the base sheet (B) by a known coating method such as a roll coating method, a curtain coating method, a dip coating method, etc., followed by heat drying for removing the solvent (S), if necessary There is a method of temporarily attaching the cover film onto the photocurable resin composition (A).

上記溶剤(S)としては、光硬化性樹脂組成物(A)の各成分を溶解または均一に分散させ、かつ、基材シート(B)の物性(機械的強度、透明性等)に実用上甚大な悪影響を及ぼさず、さらに基材シート(B)の主たる構成成分である樹脂成分(b)のガラス転移温度より+80℃以下、好ましくは+30℃以下の沸点を有している揮発性の溶剤であれば、特に制限されない。そのような溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶剤、キシレン、トルエン、ベンゼン等の芳香族系溶剤、ヘキサン、ペンタン等の脂肪族炭化水素系溶剤、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶剤、フェノール、クレゾール等のフェノール系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン等のケトン系溶剤、ジエチルエーテル、メトキシトルエン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジブトキシエタン、1,1−ジメトキシメタン、1,1−ジメトキシエタン,1,4−ジオキサン、THF等のエーテル系溶剤、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸系溶剤、無水酢酸等の酸無水物系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸ブチル等のエステル系溶剤、エチルアミン、トルイジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の窒素含有溶剤、チオフェン、ジメチルスホキシド等の硫黄含有溶剤、ジアセトンアルコール、2−メトキシエタノール(メチルセロソルブ)、2−エトキシエタノール(エチルセロソルブ)、2−ブトキシエタノール(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコール、2−アミノエタノール、アセトシアノヒドリン、ジエタノールアミン、モルホリン等の2種以上の官能基を有する溶剤、あるいは水等の各種公知の溶剤を使用することができる。   As said solvent (S), each component of a photocurable resin composition (A) is melt | dissolved or disperse | distributed uniformly, and the physical properties (mechanical strength, transparency, etc.) of a base material sheet (B) are practically used. Volatile solvent having no significant adverse effect and having a boiling point of + 80 ° C. or lower, preferably + 30 ° C. or lower, from the glass transition temperature of the resin component (b), which is the main component of the base sheet (B). If it is, it will not be restrict | limited in particular. Examples of such solvents include alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol and ethylene glycol, aromatic solvents such as xylene, toluene and benzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and pentane, Halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform and carbon tetrachloride, phenol solvents such as phenol and cresol, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and acetone, diethyl ether, methoxytoluene, 1,2-dimethoxyethane, 1 , 2-dibutoxyethane, 1,1-dimethoxymethane, 1,1-dimethoxyethane, 1,4-dioxane, ether solvents such as THF, fatty acid solvents such as formic acid, acetic acid, propionic acid, acetic anhydride, etc. Acid anhydride solvent, ethyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as butyl acid, nitrogen-containing solvents such as ethylamine, toluidine, dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfur-containing solvents such as thiophene and dimethyl sulfoxide, diacetone alcohol, 2-methoxyethanol (methylcellosolve), 2-ethoxy Use a solvent having two or more functional groups such as ethanol (ethyl cellosolve), 2-butoxyethanol (butyl cellosolve), diethylene glycol, 2-aminoethanol, acetocyanohydrin, diethanolamine, morpholine, or various known solvents such as water. be able to.

本発明に用いる基材シート(B)としては、その使用方法によって好適なものが選ばれるが、例えば、ABS(アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体)系樹脂、AS(アクリロニトリル/スチレン共重合体)系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、セロファン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレンビニルアルコール系樹脂、軟質アクリル系樹脂等の材質からなるシートが挙げられる。また、これらの各シートの複合体、積層体などを使用することもできる。また、各シートの表面に対して、コロナ放電処理やプラズマ放電処理、グロー放電処理のような公知の表面処理を施すこともできる。なかでも、100℃加熱時における伸度が100%以上である熱可塑性樹脂シートが、インサート成形やインモールド成形時に金型形状への追従性が良好となるので好ましい。光硬化性樹脂組成物(A)との密着性や耐候性、透明性等を考慮すると、さらに熱可塑性アクリル樹脂シートが好ましく、より好ましくは架橋ゴム成分を有する熱可塑性アクリル樹脂シートである。架橋ゴム成分を有する透明熱可塑性アクリル樹脂シートとしては、特開平8−323934号公報、特開平9−263614号公報、特開平11−147237号公報、特開2001−10674号公報等に開示されているよう透明熱可塑性アクリルシートがある。市販されている透明熱可塑性アクリルシートとしては、アクリプレンHBX−N47、HBS−006、HBD−013(以上、三菱レイヨン(株)製)、テクノロイS001、S003、SN101(以上、住友化学工業(株)製)、サンデュレンSD007、SD009(以上、鐘淵化学工業(株)製)が挙げられる。   As the base sheet (B) used in the present invention, a suitable one is selected depending on the method of use. For example, ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer) resin, AS (acrylonitrile / styrene copolymer) is used. Resin, vinyl chloride resin, polystyrene resin, polyolefin resin such as polypropylene, fluorine resin, cellophane resin, cellulose resin, polyurethane resin, polyamide resin such as nylon, polyester resin, polycarbonate resin, Examples thereof include a sheet made of a material such as polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol resin, or soft acrylic resin. Moreover, the composite of these each sheet | seat, a laminated body, etc. can also be used. Moreover, well-known surface treatments such as corona discharge treatment, plasma discharge treatment, and glow discharge treatment can be applied to the surface of each sheet. Among them, a thermoplastic resin sheet having an elongation of 100% or more when heated at 100 ° C. is preferable because the followability to the mold shape becomes good during insert molding or in-mold molding. In view of adhesion to the photocurable resin composition (A), weather resistance, transparency, and the like, a thermoplastic acrylic resin sheet is further preferable, and a thermoplastic acrylic resin sheet having a crosslinked rubber component is more preferable. Transparent thermoplastic acrylic resin sheets having a crosslinked rubber component are disclosed in JP-A-8-323934, JP-A-9-263614, JP-A-11-147237, JP-A-2001-10474, and the like. There is a transparent thermoplastic acrylic sheet. Commercially available transparent thermoplastic acrylic sheets include Acryprene HBX-N47, HBS-006, HBD-013 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Technoloy S001, S003, SN101 (summer, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Product), Sanduren SD007, SD009 (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.).

基材シート(B)の厚みは、500μm以下が好ましく、25〜500μmがより好ましい。厚みを100μm以上にすると、成形品外観として十分な深み感が得られ、特に複雑な形状に成形する場合、延伸されても、十分な厚みを維持できる。また、これらの範囲の上限値は、剛性を適度に抑えて良好なラミネート性や二次加工性を維持する点、単位面積あたりの質量を抑えて経済性を保つ点、さらに安定して基材シートを製造する点等において意義がある。   The thickness of the base sheet (B) is preferably 500 μm or less, and more preferably 25 to 500 μm. When the thickness is 100 μm or more, a sufficient depth can be obtained as the appearance of the molded product. In particular, when molding into a complicated shape, a sufficient thickness can be maintained even if the film is stretched. In addition, the upper limit of these ranges is that the rigidity is moderately suppressed to maintain good laminating properties and secondary processability, the mass per unit area is suppressed to maintain economy, and the base material is more stable. This is significant in terms of manufacturing a sheet.

また、塗装によって成形品に十分な厚みの塗膜を形成するには、十数回の重ね塗りが必要であり、コストがかかり、生産性が極端に悪くなるのに対して、上記で述べたような厚みの基材シートを用いた光硬化性シートを最表層に有する積層成形品であれば、基材シート自体が塗膜となるので、非常に厚い塗膜を容易に形成することができ、工業的に有利である。   Moreover, in order to form a coating film having a sufficient thickness on a molded product by coating, it is necessary to perform overcoating a dozen times, which is costly and extremely deteriorated in productivity. If it is a laminated molded product having a photocurable sheet using a base sheet with such a thickness as the outermost layer, the base sheet itself becomes a coating film, so a very thick coating film can be easily formed. Industrially advantageous.

また、基材シート(B)中には、必要に応じて、適宜、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス等の滑剤、シリカ、球状アルミナ、鱗片状アルミナ等の減摩剤、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、シアノアクリレート系、微粒子酸化セリウム系等の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系ラジカル捕捉剤等の光安定剤、可塑剤、安定剤、着色剤等の各種添加剤を添加してもよい。   Further, in the base sheet (B), lubricants such as polyethylene wax and paraffin wax, lubricants such as silica, spherical alumina, and flaky alumina, benzotriazole, benzophenone, and triazine, as appropriate, are included in the base sheet (B). Various additives such as a UV stabilizer such as a cyanoacrylate, a cyanoacrylate, and a fine particle cerium oxide, a light stabilizer such as a hindered amine radical scavenger, a plasticizer, a stabilizer, and a colorant may be added.

本発明の光硬化性シートは、基材シート(B)上に光硬化性樹脂組成物(A)の層が積層された構造で、インサート成形やインモールド成形時の加工性に優れるだけでなく、各種物性(特に、耐候性−表面硬度(耐磨耗性、鉛筆硬度)−密着性のバランス)に優れた成形品を与えることが可能な光硬化性シートである。光硬化性樹脂組成物(A)層と基材シート(B)の間には、本発明の光硬化性シートの優れた性状を損なわない限りにおいては、さらに1層以上の光硬化性樹脂組成物層を積層することも可能である。この場合、新たに導入する1層以上の光硬化性樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物(A)と同等もしくは類似の組成物を用いると、光硬化後の光硬化性シートの表面性状(特に、密着性、耐候性、外観、意匠性)が良好となる傾向にあり、好ましい。   The photocurable sheet of the present invention has a structure in which a layer of the photocurable resin composition (A) is laminated on the base sheet (B), and is not only excellent in workability during insert molding or in-mold molding. It is a photocurable sheet capable of giving a molded article having excellent physical properties (particularly weather resistance-surface hardness (abrasion resistance, pencil hardness) -adhesion balance). As long as the excellent properties of the photocurable sheet of the present invention are not impaired between the photocurable resin composition (A) layer and the base sheet (B), one or more layers of the photocurable resin composition are further provided. It is also possible to stack physical layers. In this case, when a composition equivalent to or similar to the photocurable resin composition (A) is used as the one or more layers of the photocurable resin composition to be newly introduced, the surface properties of the photocurable sheet after photocuring ( In particular, the adhesiveness, weather resistance, appearance, and design properties tend to be favorable, which is preferable.

本発明の光硬化性シートは、基材シート側に印刷層を設けることにより、光硬化性加飾シートとすることもできる。   The photocurable sheet of the present invention can be a photocurable decorative sheet by providing a printing layer on the base sheet side.

印刷層は、成形品表面に模様や文字等の加飾を施すものである。加飾は、任意であるが、例えば、木目、石目、布目、砂目、幾何学模様、文字、全面ベタ等からなる絵柄が挙げられる。印刷層の材料としては、塩化ビニル/酢酸ビニル系共重合体等のポリビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アルキッド樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂等の樹脂をバインダーとし、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いるとよい。   The printed layer is for decorating the surface of the molded product with patterns, characters, and the like. The decoration is arbitrary, but for example, a pattern composed of wood grain, stone grain, cloth grain, sand grain, geometric pattern, letters, full-color solid, and the like can be mentioned. Materials for the printing layer include polyvinyl resins such as vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, polyamide resins, polyester resins, polyacrylic resins, polyurethane resins, polyvinyl acetal resins, polyester urethane resins, cellulose A colored ink containing a resin such as an ester resin, an alkyd resin, or a chlorinated polyolefin resin as a binder and a pigment or dye of an appropriate color as a colorant may be used.

印刷層に用いられるインキの顔料としては、例えば、次のものが使用できる。通常、顔料としては、黄色顔料としてポリアゾ等のアゾ系顔料、イソインドリノン等の有機顔料や黄鉛等の無機顔料、赤色顔料としてポリアゾ等のアゾ系顔料、キナクリドン等の有機顔料や弁柄等の無機顔料、青色顔料としてフタロシアニンブルー等の有機顔料やコバルトブルー等の無機顔料、黒色顔料としてアニリンブラック等の有機顔料、白色顔料として二酸化チタン等の無機顔料を使用することができる。   As the ink pigments used in the printing layer, for example, the following can be used. Usually, as pigments, azo pigments such as polyazo as yellow pigments, organic pigments such as isoindolinone, inorganic pigments such as yellow lead, azo pigments such as polyazo as red pigments, organic pigments such as quinacridone, and petals Inorganic pigments such as phthalocyanine blue, cobalt blue and other inorganic pigments, black pigments such as aniline black, and white pigments such as titanium dioxide can be used.

印刷層に用いられるインキの染料としては、本発明の効果を損なわない範囲で、各種公知の染料を使用することができる。   Various known dyes can be used as the dye of the ink used in the printing layer as long as the effects of the present invention are not impaired.

また、インキの印刷方法としては、オフセット印刷法、グラビア輪転印刷法、スクリーン印刷法等の公知の印刷法やロールコート法、スプレーコート法等の公知のコート法を用いるのが良い。この際、本発明におけるように、低分子量の架橋性化合物を使用するのではなく、ポリマー同士を架橋させる構成の光硬化性樹脂組成物を用いた場合には、表面に粘着性が無く、印刷時のトラブルが少なく、歩留まりが良好である。   As the ink printing method, a known printing method such as an offset printing method, a gravure rotary printing method or a screen printing method, or a known coating method such as a roll coating method or a spray coating method may be used. At this time, as in the present invention, instead of using a low molecular weight crosslinkable compound, when a photocurable resin composition having a structure in which polymers are crosslinked with each other, the surface is not sticky and printing is performed. There are few troubles, and the yield is good.

また、成形品表面に加飾を施すための層として、印刷層の代わりに蒸着層を設けてもよいし、印刷層と蒸着層の両方を設けてもよい。   Moreover, as a layer for decorating the surface of the molded product, a vapor deposition layer may be provided instead of the print layer, or both the print layer and the vapor deposition layer may be provided.

蒸着層は、アルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、インジウム、スズ、銀、チタニウム、鉛、亜鉛等の群から選ばれる少なくとも一つの金属、またはこれらの金属の合金もしくは化合物を使用して、真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法、鍍金法等の方法により形成することができる。   The deposited layer uses at least one metal selected from the group of aluminum, nickel, gold, platinum, chromium, iron, copper, indium, tin, silver, titanium, lead, zinc, or an alloy or compound of these metals. And it can form by methods, such as a vacuum evaporation method, sputtering method, an ion plating method, and a plating method.

これらの加飾のための印刷層や蒸着層は、所望の成形品の表面外観が得られるよう、成形時の伸張度合いに応じて、適宜その厚みを選択すればよい。   The thickness of the printing layer and the vapor deposition layer for decorating may be appropriately selected according to the degree of expansion at the time of molding so that the desired surface appearance of the molded product can be obtained.

また、本発明の光硬化性シートは、基材シート側に印刷層および/または蒸着層、接着層および必要に応じてプライマーシートが形成された光硬化性加飾シートとすることができる。その場合、光硬化性加飾シートの好ましい厚み範囲は、25〜750μmである。シート厚みが25μm未満の場合には、深しぼり成形を行った際に、曲面でのシート厚みが著しく低下し、結果として耐擦傷性や耐薬品性等のシート物性が低下することがある。また、シート厚みが750μmを超える場合には、金型への形状追従性が低下することがある。   Moreover, the photocurable sheet | seat of this invention can be used as the photocurable decoration sheet by which the printing layer and / or the vapor deposition layer, the contact bonding layer, and the primer sheet as needed were formed in the base material sheet side. In that case, the preferable thickness range of a photocurable decorating sheet is 25-750 micrometers. When the sheet thickness is less than 25 μm, the sheet thickness on the curved surface is remarkably lowered when deep drawing is performed, and as a result, the sheet physical properties such as scratch resistance and chemical resistance may be lowered. In addition, when the sheet thickness exceeds 750 μm, the shape followability to the mold may be deteriorated.

上記接着層には、印刷層または蒸着層と成形樹脂、印刷層または蒸着層とプライマーシートとの密着性を高める性質のものであれば、任意の合成樹脂状材料を選択して用いることができる。例えば、成形樹脂がポリアクリル系樹脂の場合には、ポリアクリル系樹脂を用いるとよい。また、成形樹脂がポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン共重合体系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合には、これらの樹脂と親和性のあるポリアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂等を使用すればよい。さらに、成形樹脂がポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂である場合には、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂、ブロックイソシアネートを用いた熱硬化型ウレタン樹脂等が使用可能である。なお、接着層の粘着性低減や耐熱性向上の目的に、疎水性シリカやエポキシ樹脂、石油樹脂等をさらに含有させることもできる。   As the adhesive layer, any synthetic resinous material can be selected and used as long as it has the property of improving the adhesion between the printed layer or vapor-deposited layer and the molding resin, or the printed layer or vapor-deposited layer and the primer sheet. . For example, when the molding resin is a polyacrylic resin, a polyacrylic resin may be used. If the molding resin is polyphenylene oxide / polystyrene resin, polycarbonate resin, styrene copolymer resin, or polystyrene blend resin, polyacrylic resin, polystyrene resin, polyamide resin that has an affinity for these resins A resin or the like may be used. Furthermore, when the molding resin is a polyolefin resin such as a polypropylene resin, heat using chlorinated polyolefin resin, chlorinated ethylene-vinyl acetate copolymer resin, cyclized rubber, coumarone indene resin, or blocked isocyanate A curable urethane resin or the like can be used. In addition, hydrophobic silica, an epoxy resin, a petroleum resin, or the like can be further included for the purpose of reducing the tackiness of the adhesive layer or improving the heat resistance.

上記プライマーシートは、必要に応じて形成されるものであり、その素材としてはウレタン樹脂等の公知の樹脂が使用可能である。なお、成形樹脂との密着性を高める目的から、成形樹脂と相溶性の材料からなるのが良い。現実的には、プライマーシートは成形樹脂と同じポリマー材料からなるのが好ましい。プライマーシートの存在は、射出成形品の表面欠陥が光硬化性樹脂組成物上に伝搬されるのを最少にするといった利点を与える。この場合、プライマーシートは、光硬化性樹脂組成物の完全に円滑な上面を呈しながら、成形樹脂の表面欠陥を吸収するほどの厚みを有するのがよい。   The primer sheet is formed as necessary, and a known resin such as a urethane resin can be used as the material thereof. In addition, it is good to consist of a material compatible with molding resin for the purpose of improving adhesiveness with molding resin. Actually, the primer sheet is preferably made of the same polymer material as the molding resin. The presence of the primer sheet provides the advantage that the surface defects of the injection-molded product are minimized on the photocurable resin composition. In this case, the primer sheet should have a thickness that can absorb the surface defects of the molding resin while exhibiting a completely smooth upper surface of the photocurable resin composition.

また、本発明の光硬化性シートには、基材シート(B)上の光硬化性樹脂組成物(A)層の上に、さらにカバーフィルムを設けることもできる。このカバーフィルムは、光硬化性シート表面の防塵に有効であり、また光照射前の光硬化性樹脂組成物(A)層表面の傷付き防止にも有効である。さらに、カバーフィルムの仮着は、光硬化性シートの機械的強度低下に起因する製造時の歩留り低下や取り扱い性低下の抑制という別の観点からも好ましい。具体的には、光硬化性シートを製造する際に使用する各種溶剤が基材シート(B)の一部を膨潤・溶解させることにより、光硬化性シートの機械的強度が低下することがある。この機械的強度の低下は、しばしば後工程でのシート切れを誘発して製造歩留まりの低下を招いたり、シート取り扱い性を低下させたりして、工業上問題となることがある。そこで、カバーフィルムを仮着することにより、光硬化性シートの機械的強度を補強し、シートの取り扱い性を良好なものとすることができる。   Moreover, a cover film can also be provided in the photocurable sheet of this invention on the photocurable resin composition (A) layer on a base material sheet (B). This cover film is effective for preventing dust on the surface of the photocurable sheet and also effective for preventing scratches on the surface of the photocurable resin composition (A) layer before light irradiation. Furthermore, the temporary attachment of the cover film is also preferable from another viewpoint, that is, the suppression of the decrease in yield and the decrease in handleability due to the decrease in the mechanical strength of the photocurable sheet. Specifically, the mechanical strength of the photocurable sheet may be reduced by the various solvents used in producing the photocurable sheet swelling and dissolving a part of the base sheet (B). . This decrease in mechanical strength often induces an industrial problem by inducing sheet breakage in the subsequent process, leading to a decrease in manufacturing yield, and sheet handling properties. Therefore, by temporarily attaching the cover film, the mechanical strength of the photocurable sheet can be reinforced and the handleability of the sheet can be improved.

上記カバーフィルムは、後述するように、インサート成形やインモールド成形する前まで光硬化性樹脂組成物(A)層に密着し、インサート成形やインモールド成形する際は直ちに剥離されるので、光硬化性樹脂組成物(A)層に対して適度な密着性と良好な離型性を有していることが必要である。このような条件を満たしたフィルムで有れば、任意のフィルムを選択して用いることができる。そのようなフィルムとしては、例えば、ポリエチレン系フィルム、ポリプロピレン系フィルム、ポリエステル系フィルム等が挙げられる。   As will be described later, the cover film adheres to the photocurable resin composition (A) layer until insert molding or in-mold molding, and immediately peels off when insert molding or in-mold molding. It is necessary to have appropriate adhesion and good releasability to the conductive resin composition (A) layer. Any film can be selected and used as long as it satisfies such conditions. Examples of such a film include a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyester film.

本発明の光硬化性シートおよび光硬化性加飾シートは、二次元形状物に積層する場合、熱融着できる基材に対しては、熱ラミネーション等の公知の方法を用いることができる。熱融着しない基材に対しては、接着剤を介して貼り合せることは可能である。三次元形状物に積層する場合は、インサート成形法やインモールド成形法等の公知の方法を用いることができ、生産性の点からインモールド成形法が好ましい。また、光硬化性シートに十分な厚みがある場合には、真空成形等の方法により、光硬化性シート単体で三次元形状の成形品とすることも可能である。   When the photocurable sheet and the photocurable decorative sheet of the present invention are laminated on a two-dimensional shape, a known method such as thermal lamination can be used for a base material that can be heat-sealed. It is possible to bond to a base material that is not heat-sealed through an adhesive. When laminating on a three-dimensional object, a known method such as an insert molding method or an in-mold molding method can be used, and the in-mold molding method is preferred from the viewpoint of productivity. In addition, when the photocurable sheet has a sufficient thickness, the photocurable sheet alone can be formed into a three-dimensional shaped product by a method such as vacuum forming.

次に、上記の光硬化性シートおよび光硬化性加飾シートを積層した成形品の製造方法の一例について説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the molded article which laminated | stacked said photocurable sheet and photocurable decorating sheet is demonstrated.

まず、光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートにカバーフィルムが設けられている場合には、カバーフィルムをシートより剥離除去する。なお、カバーフィルムは、射出成形用金型内にシートを挿入配置する直前に剥離してもよいし、シートを射出成形用金型内に挿入配置する遥か以前に剥離しておいてもよい。ただし、光照射前の光硬化性樹脂組成物(A)層の防塵や傷付き防止を考慮すると、前者のほうが好ましい。   First, when a cover film is provided on a photocurable sheet or a photocurable decorative sheet, the cover film is peeled off from the sheet. The cover film may be peeled off immediately before the sheet is inserted and arranged in the injection mold, or may be peeled off long before the sheet is inserted and arranged in the injection mold. However, the former is preferable in consideration of dust prevention and damage prevention of the photocurable resin composition (A) layer before light irradiation.

なお、成形品の形状が複雑でない場合、カバーフィルムを剥離することなく後述する射出成形を行い、カバーフィルムが仮着された光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートが表面に配置された樹脂成形体を得て、次いで光照射した後にカバーフィルムを剥離することも可能である。また、射出成形後の光照射する前にカバーフィルムを剥離することも可能である。   In addition, when the shape of the molded product is not complicated, a resin in which a photocurable sheet or a photocurable decorative sheet on which a cover film is temporarily attached is disposed on the surface by performing injection molding described later without peeling the cover film It is also possible to peel the cover film after obtaining a molded body and then irradiating with light. It is also possible to peel the cover film before light irradiation after injection molding.

次に、光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを、光硬化性樹脂組成物(A)側が金型の内壁面に向き合うように(すなわち、光硬化性樹脂組成物(A)層の反対側が成形樹脂と接する状態に)挿入配置する。この際、長尺のシートのまま(ロールから巻き出しながら)必要部分を間欠的に送り込んでもよいし、シートを枚葉化して1枚ずつ送り込んでもよい。特に加飾のための印刷層や蒸着層を有する長尺のシートを使用する場合、位置決め機構を有する送り装置を使用して、加飾のための層と金型との見当が一致するようにするとよい。また、シートを間欠的に送り込む際に、シートの位置をセンサーで検出した後にシートを固定するようにすれば、常に同じ位置でシートを固定することができ、加飾のための層の位置ずれが生じないので便利である。   Next, the photocurable sheet or the photocurable decorative sheet is placed so that the photocurable resin composition (A) side faces the inner wall surface of the mold (that is, opposite to the photocurable resin composition (A) layer) Inserted and placed with the side in contact with the molding resin. At this time, a necessary part may be intermittently sent as it is (e.g., unwinding from a roll) as a long sheet, or the sheets may be separated into sheets and fed one by one. In particular, when using a long sheet with a printing layer or vapor deposition layer for decoration, use a feeding device that has a positioning mechanism so that the registration of the layer for decoration matches the mold. Good. In addition, when the sheet is intermittently fed, if the sheet is fixed after the position of the sheet is detected by a sensor, the sheet can always be fixed at the same position, and the position of the layer for decoration is shifted. This is convenient because it does not occur.

次いで、必要に応じて、光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを予備成形する。   Next, if necessary, a photocurable sheet or a photocurable decorative sheet is preformed.

例えば、ホットパック等の加熱手段によりシートをその軟化点以上に軟化させ、射出成形用金型に設けられた吸引孔を通じて真空吸引することにより金型形状にシートを追従させることで予備成形することができる。また、予め、射出成形用金型とは別の立体加工成形用型を用いて、真空成形法、圧空成形法、熱せられたゴムを押し付ける押圧成形法、プレス成形法等の公知の成形法により、シートを予め所望の形状に予備成形しておき、不要な部分を除去した後に、射出成形用金型に装填してもよい。なお、シートを金型内に挿入配置する前に、シートを予めシートの熱変形温度未満の温度に予熱しておくと、シートを金型内に挿入配置後に行う加熱時間を短縮することができ、生産性を向上させることが可能となる。   For example, the sheet is preliminarily formed by softening the sheet to the softening point or higher by a heating means such as a hot pack and following the sheet to the mold shape by vacuum suction through a suction hole provided in the injection mold. Can do. In addition, by using a three-dimensional processing mold different from the injection mold, in advance, by a known molding method such as a vacuum molding method, a pressure molding method, a pressure molding method for pressing heated rubber, or a press molding method. The sheet may be preformed in a desired shape in advance, and unnecessary portions may be removed and then loaded into an injection mold. If the sheet is preheated to a temperature lower than the thermal deformation temperature of the sheet before the sheet is inserted into the mold, the heating time to be performed after the sheet is inserted into the mold can be shortened. It becomes possible to improve productivity.

もちろん、シートを予備成形せずに、後述する成形樹脂の射出圧により、シートの成形および成形樹脂との一体化を同時に行うことも可能である。この際、シートを予め予備加熱して軟化させておくことも可能である。   Of course, it is also possible to simultaneously perform the molding of the sheet and the integration with the molding resin by the injection pressure of the molding resin described later without preforming the sheet. At this time, the sheet can be preheated and softened in advance.

その後、金型を閉じて、キャビティー内に溶融状態の成形樹脂を射出し、樹脂を固化させることにより光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートが表面に配置された樹脂成形体を形成する。   Thereafter, the mold is closed, a molten molded resin is injected into the cavity, and the resin is solidified to form a resin molded body in which the photocurable sheet or the photocurable decorative sheet is disposed on the surface. .

このように、真空成形により光硬化性シートに三次元形状を付与する場合、本発明の光硬化性シートは高温時の伸度に富んでおり、非常に有利である。   Thus, when giving a three-dimensional shape to a photocurable sheet | seat by vacuum forming, the photocurable sheet | seat of this invention is rich in the elongation at the time of high temperature, and is very advantageous.

本発明で使用する成形樹脂としては、種類は問わず、射出成形可能な全ての樹脂が使用可能である。そのような成形樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリブテン系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂、エチレン−プロピレン共重合体樹脂、エチレン−プロピレン−ブテン共重合体樹脂、オレフィン系熱可塑性エラストマー等のオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ABS(アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン系共重合体)系樹脂、AS(アクリロニトリル/スチレン系共重合体)系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂等の汎用の熱可塑性または熱硬化性樹脂を挙げることができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等の汎用エンジニアリング樹脂やポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、液晶ポリエステル系樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂等のスーパーエンジニアリング樹脂を使用することもできる。さらに、ガラス繊維や無機フィラー(タルク、炭酸カルシウム、シリカ、マイカ等)等の補強材、ゴム成分等の改質剤を添加した複合樹脂や各種変性樹脂を使用することができる。なお、成形樹脂の成形後の収縮率を前記シートの収縮率に近似させることにより、成形品の反りやシートの剥がれ等の不具合を解消できるので好ましい。   As the molding resin used in the present invention, any resin that can be injection molded can be used regardless of the type. Examples of such molding resins include polyethylene resins, polypropylene resins, polybutene resins, polymethylpentene resins, ethylene-propylene copolymer resins, ethylene-propylene-butene copolymer resins, and olefin thermoplastics. Olefin resins such as elastomers, polystyrene resins, ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymers) resins, AS (acrylonitrile / styrene copolymers) resins, acrylic resins, urethane resins, unsaturated polyesters And general-purpose thermoplastic or thermosetting resins such as epoxy resins and epoxy resins. Also, general-purpose engineering resins such as polyphenylene oxide / polystyrene resins, polycarbonate resins, polyacetal resins, polycarbonate modified polyphenylene ether resins, polyethylene terephthalate resins, polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyphenylene oxide resins, polyethers Super engineering resins such as imide resins, polyimide resins, liquid crystal polyester resins, and polyallyl heat resistant resins can also be used. Further, reinforcing materials such as glass fibers and inorganic fillers (talc, calcium carbonate, silica, mica, etc.), composite resins added with modifiers such as rubber components, and various modified resins can be used. It is preferable that the shrinkage rate after molding of the molding resin is approximated to the shrinkage rate of the sheet because problems such as warpage of the molded product and peeling of the sheet can be eliminated.

最後に、金型内より成形品を取り出した後、光照射することにより成形品表面の光硬化性樹脂組成物を光硬化させる。   Finally, after taking out the molded product from the mold, the photocurable resin composition on the surface of the molded product is photocured by light irradiation.

照射する光としては、電子線、紫外線、γ線等を挙げることができる。照射条件は、光硬化性樹脂組成物(A)層の光硬化特性に応じて定められるが、照射量は、通常500〜10,000mJ/cm2程度である。これによって、光硬化性樹脂組成物が硬化して硬質の被膜が表面に形成された成形品を得ることができる。 Examples of light to be irradiated include electron beams, ultraviolet rays, and γ rays. Although irradiation conditions are determined according to the photocuring property of a photocurable resin composition (A) layer, irradiation amount is about 500-10,000mJ / cm < 2 > normally. As a result, a molded product in which the photocurable resin composition is cured and a hard film is formed on the surface can be obtained.

成形品に接着された光硬化性シートまたは光硬化性加飾のうち、不要な部分は必要に応じて適宜トリミングして除去する。このトリミングは、シートを金型内に挿入配置した後や、成形品に光照射する前、或いは光照射した後に行うことができる。トリミングの方法としては、レーザー光線等を照射してシートを焼き切る方法、トリミング用の打ち抜き型を作製し、プレス加工によってシートを打ち抜く方法、人手によりシートをちぎるようにして除去する方法等、公知の方法により行うことができる。   Of the photocurable sheet or photocurable decoration adhered to the molded product, unnecessary portions are appropriately trimmed and removed as necessary. This trimming can be performed after the sheet is inserted and placed in the mold, before the molded product is irradiated with light, or after irradiated with light. As a trimming method, a known method, such as a method of burning a sheet by irradiating a laser beam or the like, a method of producing a punching die for trimming, punching a sheet by press working, a method of removing the sheet by tearing manually, etc. Can be performed.

本発明の成形品は、ウェザーストリップ、バンパー、バンパーガード、サイドマッドガード、ボディーパネル、スポイラー、フロントグリル、ストラットマウント、ホイールキャップ、センターピラー、ドアミラー、センターオーナメント、サイドモール、ドアモール、ウインドモール等、窓、ヘッドランプカバー、テールランプカバー、風防部品等の自動車外装用途、インストルメントパネル、コンソールボックス、メーターカバー、ドアロックベゼル、ステアリングホイール、パワーウィンドウスイッチベース、センタークラスター、ダッシュボード等の自動車内装用途、AV機器や家具製品のフロントパネル、ボタン、エンブレム、表面化粧材等の用途、携帯電話等のハウジング、表示窓、ボタン等の用途、さらには家具用外装材用途、壁面、天井、床等の建築用内装材用途、サイディング等の外壁、塀、屋根、門扉、破風板等の建築用外装材用途、窓枠、扉、手すり、敷居、鴨居等の家具類や建築用内装材等の表面化粧材用途、各種ディスプレイ、レンズ、ミラー、ゴーグル、窓ガラス等の光学部材用途、あるいは電車、航空機、船舶等の自動車以外の各種乗り物の内外装用途、瓶、化粧品容器、小物入れ等の各種包装容器および材料、景品や小物等の雑貨等のその他各種用途等に好適に使用することができる。また、透明樹脂の上においてはその透明性を活かしたまま良好な耐磨耗性、耐候性および耐薬品性を有する表面が形成でき、自動車や鉄道車両、飛行機等の窓やヘッドランプカバー、風防部品等に好適に使用することができる。また、成形品の表面を塗装する場合に比べて工程数を省略することができて、生産性もよく、環境に対する影響も少ない。   Molded articles of the present invention include weather strips, bumpers, bumper guards, side mud guards, body panels, spoilers, front grills, strut mounts, wheel caps, center pillars, door mirrors, center ornaments, side moldings, door moldings, wind moldings, windows, etc. , Automotive exterior applications such as headlamp covers, taillight covers, windshield parts, instrument panels, console boxes, meter covers, door lock bezels, steering wheels, power window switch bases, center clusters, dashboards, automotive interior applications, AV Applications such as front panels of equipment and furniture products, buttons, emblems, surface cosmetics, housings for mobile phones, display windows, buttons, etc. Building interior materials such as walls, ceilings, and floors, exterior walls such as siding, exterior materials for buildings such as fences, roofs, gates, and windbreaks, furniture such as window frames, doors, railings, sills, and duck Use for surface cosmetic materials such as interior materials for automobiles, use for various displays, lenses, mirrors, goggles, window glass and other optical components, or interior and exterior use for various vehicles other than automobiles such as trains, aircraft, ships, bottles, cosmetic containers, It can be suitably used for various packaging containers and materials such as small items, and various other uses such as miscellaneous goods such as prizes and small items. In addition, on transparent resin, a surface with good wear resistance, weather resistance, and chemical resistance can be formed while taking advantage of its transparency, and windows, headlamp covers, windshields of automobiles, railway vehicles, airplanes, etc. It can be suitably used for parts and the like. In addition, the number of steps can be omitted compared to the case where the surface of the molded product is painted, the productivity is good, and the influence on the environment is small.

なお、上記では、成形品の製造方法として、射出成形を用いた製造方法について説明したが、射出成形の代わりにブロー成形を用いることも可能である。   In the above description, a manufacturing method using injection molding has been described as a manufacturing method of a molded product, but blow molding may be used instead of injection molding.

このようにして得られた成形品は、成形と同時に色もしくはデザインが付与され、さらには短時間の光照射によって、耐磨耗性、耐薬品性および耐候性等が向上する。さらに、従来の成形後のスプレー塗装等と比較して、工程の短縮、歩留まりの向上、環境への影響の低減がはかれる。特に、本発明の光硬化性シートは、加工性および保存安定性に優れ、表面粘着性がなく、光硬化性樹脂組成物の層と基材シートとの密着性が良好なものであり、工業的利用価値が極めて高い。   The molded product thus obtained is given a color or design at the same time as molding, and is further improved in wear resistance, chemical resistance, weather resistance, etc. by light irradiation for a short time. Furthermore, the process can be shortened, the yield can be improved, and the impact on the environment can be reduced as compared with conventional spray coating after molding. In particular, the photocurable sheet of the present invention is excellent in processability and storage stability, has no surface tackiness, and has good adhesion between the layer of the photocurable resin composition and the base sheet, industrial The practical use value is extremely high.

以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。なお、例中、「部」は「質量部」を意味する。また、実施例中の略号は以下のとおりである。
メチルメタクリレート MMA
n−オクチルメルカプタン nOM
メチルエチルケトン MEK
グリシジルメタクリレート GMA
アゾビスイソブチロニトリル AIBN
ハイドロキノンモノメチルエーテル MEHQ
トリフェニルホスフィン TPP
アクリル酸 AA
The present invention will be specifically described below based on examples. In the examples, “parts” means “parts by mass”. Abbreviations in the examples are as follows.
Methyl methacrylate MMA
n-octyl mercaptan nOM
Methyl ethyl ketone MEK
Glycidyl methacrylate GMA
Azobisisobutyronitrile AIBN
Hydroquinone monomethyl ether MEHQ
Triphenylphosphine TPP
Acrylic acid AA

合成例1((a−1)成分としての側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂Aの合成)
窒素導入口、攪拌機、コンデンサーおよび温度計を備えた1Lの4つ口フラスコに、MEK50部を入れ、80℃に昇温した。窒素雰囲気下でGMA100部およびAIBN0.5部およびnOM1部の混合物を3時間かけて滴下した。その後、MEK80部とAIBN0.2部の混合物を加え、重合させた。4時間後、MEK50部、MEHQ0.5部、TPP2.5部およびAA50.1部を加え、空気を吹き込みながら80℃で30時間攪拌した。その後、冷却した後、反応物をフラスコより取り出し、側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂Aの溶液を得た。
Synthesis Example 1 (Synthesis of acrylic resin A having a photopolymerizable functional group in the side chain as component (a-1))
50 parts of MEK was put into a 1 L four-necked flask equipped with a nitrogen inlet, a stirrer, a condenser and a thermometer, and the temperature was raised to 80 ° C. Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 100 parts GMA, 0.5 parts AIBN and 1 part nOM was added dropwise over 3 hours. Thereafter, a mixture of 80 parts of MEK and 0.2 part of AIBN was added and polymerized. After 4 hours, 50 parts of MEK, 0.5 part of MEHQ, 2.5 parts of TPP, and 50.1 parts of AA were added and stirred at 80 ° C. for 30 hours while blowing air. Then, after cooling, the reaction product was taken out from the flask to obtain a solution of acrylic resin A having a photopolymerizable functional group in the side chain.

側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂Aにおける単量体の重合率は99.5%以上であり、ポリマー固形分量は約46重量%、数平均分子量は約25,000、ガラス転移温度は約32℃、二重結合当量は平均216g/モルであった。   The polymerization rate of the monomer in the acrylic resin A having a photopolymerizable functional group in the side chain is 99.5% or more, the polymer solid content is about 46% by weight, the number average molecular weight is about 25,000, and the glass transition temperature. Was about 32 ° C., and the average double bond equivalent was 216 g / mol.

合成例2((a−1)成分としての側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂Bの合成)
窒素導入口、撹拌機、コンデンサーおよび温度計を備えた1Lの4つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート100部、MEK60部およびAIBN0.3部を入れ、撹拌しながら湯浴の温度を75℃に上げ、その温度で2時間重合させた。次いで、AIBN0.7部を1時間おきに5回に分けて添加した後、フラスコ内温を溶剤の沸点まで上昇させてその温度でさらに2時間重合させた。その後、フラスコ内温度が50℃以下になってから、MEK90部を添加して重合反応物をフラスコより取り出し、側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂Bの溶液を得た。
Synthesis Example 2 (Synthesis of acrylic resin B having a photopolymerizable functional group on the side chain as component (a-1))
In a 1 L four-necked flask equipped with a nitrogen inlet, a stirrer, a condenser, and a thermometer, 100 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, 60 parts of MEK and 0.3 part of AIBN are placed in a nitrogen atmosphere and stirred. While raising the temperature of the hot water bath to 75 ° C., polymerization was carried out at that temperature for 2 hours. Then, 0.7 parts of AIBN was added in 5 portions every 1 hour, and then the temperature in the flask was raised to the boiling point of the solvent and polymerization was conducted at that temperature for another 2 hours. Thereafter, after the temperature in the flask became 50 ° C. or less, 90 parts of MEK was added and the polymerization reaction product was taken out of the flask to obtain a solution of acrylic resin B having a photopolymerizable functional group in the side chain.

側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂Bにおける単量体の重合率は99.5%以上であり、ポリマー固形分量は約40重量%、数平均分子量は約12,000、ガラス転移温度は約73℃、脂環式エポキシ当量(側鎖脂環式エポキシ基1個あたりの平均分子量)は平均196g/モルであった。   The polymerization rate of the monomer in the acrylic resin B having a photopolymerizable functional group in the side chain is 99.5% or more, the polymer solid content is about 40% by weight, the number average molecular weight is about 12,000, the glass transition temperature. Was about 73 ° C., and the alicyclic epoxy equivalent (average molecular weight per side chain alicyclic epoxy group) was 196 g / mol on average.

合成例3((a−1)成分としての側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂Cの合成)
窒素導入口、攪拌機、コンデンサーおよび温度計を備えた1Lの4つ口フラスコに、MEK50部を入れ、80℃に昇温した。窒素雰囲気下でMMA79.9部、GMA20.1部およびAIBN0.5部の混合物を3時間かけて滴下した。その後、MEK80部とAIBN0.2部の混合物を加え、重合させた。4時間後、MEK74.4部、MEHQ0.5部、TPP2.5部およびAA10.1部を加え、空気を吹き込みながら80℃で30時間攪拌した。その後、冷却した後、反応物をフラスコより取り出し、側鎖に光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂Cの溶液を得た。
Synthesis Example 3 (Synthesis of acrylic resin C having a photopolymerizable functional group in the side chain as component (a-1))
50 parts of MEK was put into a 1 L four-necked flask equipped with a nitrogen inlet, a stirrer, a condenser and a thermometer, and the temperature was raised to 80 ° C. Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 79.9 parts of MMA, 20.1 parts of GMA and 0.5 part of AIBN was added dropwise over 3 hours. Thereafter, a mixture of 80 parts of MEK and 0.2 part of AIBN was added and polymerized. After 4 hours, MEK 74.4 parts, MEHQ 0.5 parts, TPP 2.5 parts and AA 10.1 parts were added and stirred at 80 ° C. for 30 hours while blowing air. Then, after cooling, the reaction product was taken out from the flask to obtain a solution of a thermoplastic resin C having a photopolymerizable functional group in the side chain.

側鎖に光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂Cにおける単量体の重合率は99.5%以上であり、ポリマー固形分量は約35質量%、数平均分子量は約30,000、ガラス転移温度は約105℃、二重結合当量は平均788g/モルであった。   The polymerization rate of the monomer in the thermoplastic resin C having a photopolymerizable functional group in the side chain is 99.5% or more, the polymer solid content is about 35% by mass, the number average molecular weight is about 30,000, glass transition The temperature was about 105 ° C., and the average double bond equivalent was 788 g / mol.

コロイダルシリカの表面処理例1(表面処理コロイダルシリカCS1の調製)
攪拌機、コンデンサー及び温度計を備えたフラスコに、IPA−ST(イソプロパノール分散コロイダルシリカゾル,日産化学工業(株)製,シリカ粒子径15nm,シリカ固形分30質量%)630部と重合禁止剤としてMEHQ0.012部、加水分解触媒として0.0001規定の塩酸水溶液50部を加え、攪拌しながら湯浴の温度を80℃に昇温した。還流が始まると同時に、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製,商品名KBM503,分子量248)117.2部、トリメチルメトキシシラン(信越化学工業(株)製,商品名LS−510,分子量104)16.4部の混合溶液を約30分かけて滴下し、滴下が終了した後、約2時間加熱攪拌することにより、イソプロパノール中に分散され、表面がシラン化合物で処理されたコロイダルシリカを得た。
Surface treatment example 1 of colloidal silica (Preparation of surface-treated colloidal silica CS1)
In a flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 630 parts of IPA-ST (isopropanol-dispersed colloidal silica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, silica particle diameter 15 nm, silica solid content 30% by mass) and MEHQ0. 012 parts, 50 parts of a 0.0001N aqueous hydrochloric acid solution as a hydrolysis catalyst was added, and the temperature of the hot water bath was raised to 80 ° C. while stirring. At the same time as refluxing, 117.2 parts of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM503, molecular weight 248), trimethylmethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name LS) -510, molecular weight 104) 16.4 parts of a mixed solution was added dropwise over about 30 minutes. After the addition was completed, the mixture was dispersed in isopropanol by heating and stirring for about 2 hours, and the surface was treated with a silane compound. Colloidal silica was obtained.

続いて、湯浴を110℃にまで昇温しながら、イソプロパノールを留去した後にトルエンを添加することを繰り返し、約4時間かけて完全にイソプロパノールをトルエンに置換し、固形分濃度が40質量%になるまで濃縮することにより、トルエン中に分散され、表面がシラン化合物で処理されたコロイダルシリカCS1を得た。   Subsequently, while the temperature of the hot water bath was raised to 110 ° C., isopropanol was distilled off and toluene was repeatedly added. Over about 4 hours, isopropanol was completely replaced with toluene, and the solid content concentration was 40% by mass. By concentrating until obtained, colloidal silica CS1 dispersed in toluene and treated with a silane compound was obtained.

コロイダルシリカの表面処理例2〜14(表面処理コロイダルシリカCS2〜CS13の調製及びCS14の準備)
下記の表2に記載のように各成分の組み合わせを変更した以外は、コロイダルシリカCS1の場合と同様の操作をすることにより、トルエン中に分散され、表面がシラン化合物で処理されたコロイダルシリカCS2〜CS13を得た。
Surface treatment examples 2 to 14 of colloidal silica (Preparation of surface treatment colloidal silica CS2 to CS13 and preparation of CS14)
Colloidal silica CS2 dispersed in toluene and treated with a silane compound in the same manner as in the case of colloidal silica CS1, except that the combination of each component was changed as shown in Table 2 below. ~ CS13 was obtained.

また、CS14としては、CS1と同様の操作をすることなく、市販のMEK分散コロイダルシリカをそのまま使用した。   Further, as CS14, a commercially available MEK-dispersed colloidal silica was used as it was without performing the same operation as CS1.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

注)数値は固形分換算のモル部である。   Note) The numerical value is the mole part in terms of solid content.

1)IPA−ST:イソプロパノール分散コロイダルシリカゾル(日産化学工業(株)製),シリカ粒子径=15nm,シリカ固形分=30質量%
2)3MPTMS:γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名KBM−503,分子量=248
3)TMMS:トリメチルメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名LS−510,分子量=104
4)PTMS:フェニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名KBM−103,分子量=198
5)nDTMS:n−デシルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名KBM−3103C,分子量=263
6)3GPTMS:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名KBM−403,分子量=236
7)3MRPTMS:γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名KBM−803,分子量=196
8)VTMS:ビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名KBM−1003,分子量=148
9)STMS:p−スチリルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製),商品名KBM−1403,分子量=224
10)MEK−ST:MEK分散コロイダルシリカゾル(日産化学工業(株)製),シリカ粒子径=15nm,シリカ固形分=30質量%
1) IPA-ST: Isopropanol-dispersed colloidal silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), silica particle size = 15 nm, silica solid content = 30% by mass
2) 3MPTMS: γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name KBM-503, molecular weight = 248
3) TMMS: Trimethylmethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name LS-510, molecular weight = 104
4) PTMS: Phenyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name KBM-103, molecular weight = 198
5) nDTMS: n-decyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name KBM-3103C, molecular weight = 263
6) 3GPTMS: γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name KBM-403, molecular weight = 236
7) 3MRPTMS: γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name KBM-803, molecular weight = 196
8) VTMS: Vinyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name KBM-1003, molecular weight = 148
9) STMS: p-styryltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name KBM-1403, molecular weight = 224
10) MEK-ST: MEK-dispersed colloidal silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), silica particle diameter = 15 nm, silica solid content = 30% by mass

光硬化性キャスト液組成物の調製(光硬化性キャスト液組成物1〜16の調製)
合成した側鎖に光重合性官能基を有するアクリル樹脂A〜C、表面処理コロイダルシリカCS1〜CS14および表3の化合物を用いて、下記の表3の組成を有する光硬化性キャスト液組成物1〜16を調製した。
Preparation of photocurable casting liquid composition (Preparation of photocurable casting liquid compositions 1 to 16)
A photocurable casting liquid composition 1 having the composition shown in Table 3 below using the synthesized acrylic resins A to C having a photopolymerizable functional group in the side chain, surface-treated colloidal silica CS1 to CS14, and the compounds shown in Table 3 below. ~ 16 were prepared.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

注)数値は固形分換算の質量部である。   Note) Numerical values are parts by mass in terms of solid content.

1)1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
2)トリフェニルスルホニウム6フッ化アンチモネート
1) 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2) triphenylsulfonium hexafluoroantimonate

調製した光硬化性キャスト液組成物を金属製容器内に密閉し、50℃の環境下で3ヶ月間保存した後の状態を目視で評価した。結果を表3に示す。   The prepared photocurable casting liquid composition was sealed in a metal container, and the state after storage for 3 months in an environment of 50 ° C. was visually evaluated. The results are shown in Table 3.

ラジカル重合性シラン化合物および非ラジカル重合性シラン化合物の2種類のシラン化合物で処理したコロイダルシリカを含有する光硬化性キャスト液組成物1〜13はいずれも増粘等の経時変化は無く、調製直後の状態とほぼ同様であった。   Photocurable cast liquid compositions 1 to 13 containing colloidal silica treated with two types of silane compounds, a radically polymerizable silane compound and a non-radically polymerizable silane compound, did not change with time such as thickening, and immediately after preparation. The situation was almost the same.

一方、単独のシラン化合物で処理したコロイダルシリカを含有する光硬化性キャスト液組成物14および15、そして未処理のコロイダルシリカを含有する光硬化性キャスト液組成物16は、キャスト液粘度が増加しており、保存安定性が低いことが認められた。   On the other hand, the photocurable cast liquid compositions 14 and 15 containing colloidal silica treated with a single silane compound and the photocurable cast liquid composition 16 containing untreated colloidal silica have increased casting liquid viscosity. The storage stability was found to be low.

実施例1
得られた光硬化性キャスト液組成物1をプロペラ型ミキサーにより撹拌し、市販のアクリルシート(三菱レイヨン(株)製、アクリプレンHBX−N47、厚み125μm、巾730mm)上にコンマロールコーターにて塗工幅690mmで塗工を行った。
Example 1
The obtained photocurable casting liquid composition 1 was stirred with a propeller-type mixer, and coated on a commercially available acrylic sheet (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Acryprene HBX-N47, thickness 125 μm, width 730 mm) with a comma roll coater. Coating was performed at a work width of 690 mm.

引き続いて、下記表4の温度条件に設定したトンネル型乾燥炉(巾800mm,高さ100mm,長さ8m,4つの乾燥ゾーン(1ゾーンの長さ2m)に分割,シートの動きに対して向流になるように熱風を送り込む方式,シートの支持方式はロールサポート方式)の中を、5m/分の速度で通過させて溶剤を揮発させ、厚さ8μmの光硬化性樹脂層を形成した。この時の各乾燥ゾーンの滞在時間を表4に示す。   Subsequently, the tunnel-type drying furnace (width 800 mm, height 100 mm, length 8 m, divided into four drying zones (one zone length 2 m)) set to the temperature conditions shown in Table 4 below is suitable for sheet movement. The solvent was volatilized by passing it through a method in which hot air was fed so as to be a flow, and a sheet support method was a roll support method) to form a photocurable resin layer having a thickness of 8 μm. Table 4 shows the residence time of each drying zone at this time.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

続いて、微粘着処理したPETフィルムをカバーフィルムとして用い、PETフィルムの微粘着層と光硬化性樹脂層が接するように、カバーフィルムをインラインで貼り合せてプレスロールを通し、1000mの長さにABS製コアにロール状に巻き取った。   Subsequently, the PET film subjected to the fine adhesion treatment was used as a cover film, and the cover film was bonded in-line so that the fine adhesion layer of the PET film and the photocurable resin layer were in contact with each other and passed through a press roll, and the length was 1000 m. It wound up in roll shape on the core made from ABS.

このロール状態で、遮光措置を講ずることなく、蛍光灯下で、50℃の雰囲気温度中で3ヶ月間保存した。   In this roll state, it was stored for 3 months in an atmospheric temperature of 50 ° C. under a fluorescent lamp without taking light shielding measures.

保存後、光硬化性シートの一部を巻き出してカバーフィルムを手で剥離し、光硬化性樹脂層表面の状態を観察した。光硬化性樹脂層表面には何ら意匠上の欠陥は無く良好であった。結果を表5に示す。   After storage, a part of the photocurable sheet was unwound, the cover film was peeled off by hand, and the state of the photocurable resin layer surface was observed. The surface of the photocurable resin layer was good without any design defects. The results are shown in Table 5.

続いて、この光硬化性シートを枚葉化し、カバーフィルムを手で剥離した後、光硬化性樹脂組成物が金型の内壁面に向き合うように金型内に配置し、次いで赤外線ヒーター(温度350℃)で10秒間シートを予備加熱した後、さらに加熱を行いながら真空吸引することにより金型形状にシートを追従させた。なお、この金型の形状は、切頭角錐形状で、切頭面のサイズは100mm×100mmで、底面のサイズは108mm×117mm、深さは10mmであり、切頭面の端部の曲率半径がそれぞれ3,5,7,10mmであった。その際の金型追従性を目視で評価したところ、各端部とも良好に追従していた。   Subsequently, the photocurable sheet was made into a single sheet, the cover film was peeled off by hand, and the photocurable resin composition was placed in the mold so as to face the inner wall surface of the mold, and then an infrared heater (temperature The sheet was preheated at 350 ° C. for 10 seconds, and then the sheet was caused to follow the mold shape by vacuum suction while further heating. The shape of this mold is a truncated pyramid, the size of the truncated surface is 100 mm × 100 mm, the size of the bottom surface is 108 mm × 117 mm, the depth is 10 mm, and the radius of curvature of the edge of the truncated surface is Were 3, 5, 7, and 10 mm, respectively. When the mold following property at that time was visually evaluated, each end portion followed well.

次に、成形温度280〜300℃、金型温度40〜60℃の条件において、ポリカーボネート樹脂を成形樹脂として用いてインモールド成形を行い、光硬化性シートが成形品表面に密着した成形品を得た。この際の成形用金型の汚れを目視で評価した。結果を表5に示す。   Next, in-mold molding is performed using a polycarbonate resin as a molding resin under conditions of a molding temperature of 280 to 300 ° C. and a mold temperature of 40 to 60 ° C., thereby obtaining a molded product in which the photocurable sheet is in close contact with the surface of the molded product. It was. At this time, the stain on the molding die was visually evaluated. The results are shown in Table 5.

次いで、紫外線照射装置を用いて、約700mJ/cm2の紫外線を照射して、光硬化性樹脂組成物を硬化させ、表面物性を評価した。表5に示す通り、成形品の外観は非常に良好であり、また、その他の表面物性も良好であった。 Next, using an ultraviolet irradiation device, ultraviolet rays of about 700 mJ / cm 2 were irradiated to cure the photocurable resin composition, and the surface physical properties were evaluated. As shown in Table 5, the appearance of the molded product was very good, and other surface properties were also good.

成形品物性評価方法
外観評価:目視にて評価。
Molded article physical property evaluation method Appearance evaluation: Visually evaluated.

鉛筆硬度試験:JIS K 5400に準じて、鉛筆としてユニ(三菱鉛筆社製;商品名)を使用して評価した。   Pencil hardness test: According to JIS K 5400, evaluation was performed using Uni (Mitsubishi Pencil Co., Ltd .; trade name) as a pencil.

碁盤目剥離試験:JIS K 5400に準じて、カッターで1×1mm幅の碁盤目を100マス作製し、ニチバン製セロテープを圧着後、90度の角度に剥離した後のフィルム外観を目視評価した(碁盤目剥離性1)。さらに、同じ部位でセロテープの圧着−剥離を合計5回繰り返した後のフィルム外観を目視評価した(碁盤目剥離性2)。
○:外観変化なし
△:碁盤目周囲の剥離、もしくは碁盤目剥離少し有り
×:碁盤目周囲の剥離、および/もしくは碁盤目剥離著しい
Cross-cut peel test: According to JIS K 5400, 100 square grids having a width of 1 × 1 mm were prepared with a cutter, and Nichiban-made cello tape was pressure-bonded, and the film appearance after peeling at a 90-degree angle was visually evaluated ( Cross peelability 1). Further, the appearance of the film after repeating the pressure-bonding / peeling of the cello tape at the same site for a total of 5 times was visually evaluated (cross-cut peelability 2).
○: No change in appearance △: Peeling around the grid or slight peeling of the grid *: Peeling around the grid and / or peeling of the grid

耐酸性:47重量%硫酸水溶液を40℃で3時間スポット試験した後の外観を目視評価した。
○:良好
△:薄く跡有り
×:著しい跡有り
Acid resistance: The appearance after a spot test of a 47% by weight sulfuric acid aqueous solution at 40 ° C. for 3 hours was visually evaluated.
○: Good △: Thin trace x: Remarkable trace

耐アルカリ性:0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液を55℃で4時間スポット試験した後の外観を目視評価した。
○:良好
△:薄く跡有り
×:著しい跡有り
Alkali resistance: The appearance after a spot test of a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution at 55 ° C. for 4 hours was visually evaluated.
○: Good △: Thin trace x: Remarkable trace

耐温水性:40℃の温水中に24時間浸漬後のシート状態を目視評価した。
○:良好
△:薄く白化有り
×:著しい白化有り
Hot water resistance: The sheet state after immersion in warm water of 40 ° C. for 24 hours was visually evaluated.
○: Good △: Thin whitening ×: Remarkable whitening

透明性:ASTM D1003に準じて、ヘイズメーターを用いて全光線透過率及びヘイズを測定した。   Transparency: The total light transmittance and haze were measured using a haze meter according to ASTM D1003.

耐磨耗性:テーバー磨耗試験(片側500g荷重、CS−10F磨耗輪を用い、回転速度60rpm、試験回数100回で試験を実施)後の曇価をヘイズメーターで測定した。そして(試験後の曇価)−(試験前の曇価)で表される数値を耐磨耗性(%)として示した。   Abrasion resistance: The haze value was measured with a haze meter after the Taber abrasion test (500 g load on one side, CS-10F wear wheel was used, and the test was carried out at a rotational speed of 60 rpm and 100 tests). And the numerical value represented by (the haze value after the test) − (the haze value before the test) was shown as wear resistance (%).

耐候性:サンシャインウエザーメーター(スガ試験機製)を用い、乾燥48分、雨12分のサイクルで4000時間曝露試験したときの外観を目視評価した。
○:良好
△:僅かに白化し、光沢が低下
×:白化またはクラック有り
Weather resistance: A sunshine weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) was used to visually evaluate the appearance when the exposure test was performed for 4000 hours in a cycle of 48 minutes for drying and 12 minutes for rain.
○: Good △: Slightly whitened and gloss decreased ×: Whitened or cracked

実施例2〜13
実施例1の光硬化性キャスト液組成物1を表5に示した組み合わせに変更した以外は、実施例1と同様にして光硬化性シートを製造し、インモールド成形品を得た。いずれの光硬化性シートも、光硬化性樹脂組成物層は表面タック性が皆無でカバーフィルム剥離後の意匠上の欠陥は認められなかった。また、いずれのインモールド成形品も、良好な表面物性を示した。結果を表5に示す。
Examples 2-13
A photocurable sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the photocurable casting liquid composition 1 of Example 1 was changed to the combination shown in Table 5, and an in-mold molded product was obtained. In any of the photocurable sheets, the photocurable resin composition layer had no surface tackiness, and no design defects were observed after the cover film was peeled off. Moreover, all in-mold molded products showed good surface properties. The results are shown in Table 5.

比較例1〜3
実施例1の光硬化性キャスト液組成物1を表5に示した組み合わせに変更した以外は、全て実施例1と同様にして光硬化性シートを製造し、インモールド成形品を得た。
いずれの光硬化性シートも、光硬化性樹脂組成物層の表面タック性は無いものの、得られたインモールド成形品には成形品の曲面部に微小なクラックが生じており、長期保存中に光硬化性シートの伸度が低下したことが認められた。また、成形品平面部の密着性や耐候性、耐薬品性も劣るものであった。結果を表5に示す。
Comparative Examples 1-3
A photocurable sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the photocurable cast liquid composition 1 of Example 1 was changed to the combination shown in Table 5, and an in-mold molded product was obtained.
None of the photocurable sheets have the surface tackiness of the photocurable resin composition layer, but the obtained in-mold molded product has microcracks on the curved surface of the molded product, which can be stored during long-term storage. It was observed that the elongation of the photocurable sheet was reduced. Further, the adhesion, weather resistance, and chemical resistance of the flat part of the molded product were also inferior. The results are shown in Table 5.

Figure 2006249323
Figure 2006249323

実施例14〜26
実施例1〜13と同様にして、カバーフィルムが光硬化性樹脂層に仮着した光硬化性シートを製造した。
Examples 14-26
In the same manner as in Examples 1 to 13, a photocurable sheet in which the cover film was temporarily attached to the photocurable resin layer was produced.

次いで、黒、茶、黄の各色の顔料から成るインキを用い、基材シート面に絵柄をグラビア印刷法によって印刷した後、光硬化性加飾シートを得た。   Next, using an ink composed of pigments of black, brown, and yellow, a pattern was printed on the surface of the base sheet by a gravure printing method, and a photocurable decorative sheet was obtained.

これらの光硬化性加飾シートを枚葉化しカバーフィルムを剥離した後、光硬化性樹脂組成物が金型の内壁面に向き合うように金型内に配置し、次いで赤外線ヒーター(温度300℃)で15秒間シートを予備加熱した後、さらに加熱を行いながら真空吸引することにより金型形状にシートを追従させた。   After these photocurable decorative sheets are made into a single sheet and the cover film is peeled off, the photocurable resin composition is placed in the mold so as to face the inner wall surface of the mold, and then an infrared heater (temperature of 300 ° C.) After the sheet was preheated for 15 seconds, the sheet was allowed to follow the mold shape by vacuum suction while further heating.

次に、成形温度220〜250℃、金型温度40〜60℃の条件において、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体樹脂を成形樹脂として用いてインモールド成形を行い、光硬化性加飾シートが成形品表面に密着した成形品を得た。その際のシートの金型追従性及び金型離型性は共に良好であった。   Next, under conditions of a molding temperature of 220 to 250 ° C. and a mold temperature of 40 to 60 ° C., in-mold molding is performed using acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer resin as a molding resin, and a photocurable decorative sheet is molded. A molded product adhered to the product surface was obtained. The mold following property and mold releasability of the sheet at that time were both good.

次いで、紫外線照射装置を用いて、約700mJ/cm2の紫外線を照射して光硬化性樹脂組成物を硬化させ、表面硬度が高く、光沢に優れ、印刷絵柄を有して意匠性に優れる成形品を得た。 Next, by using an ultraviolet irradiation device, the photocurable resin composition is cured by irradiating with an ultraviolet ray of about 700 mJ / cm 2 , forming with high surface hardness, excellent gloss, and having a printed pattern and excellent design. I got a product.

実施例27〜39
実施例1〜13と同様にして、カバーフィルムが光硬化性樹脂層に仮着した光硬化性シートを製造した。
Examples 27-39
In the same manner as in Examples 1 to 13, a photocurable sheet in which the cover film was temporarily attached to the photocurable resin layer was produced.

次いで、黒、茶、黄の各色の顔料から成るインキを用い、基材シート面に絵柄をグラビア印刷法によって印刷した。   Subsequently, the ink which consists of a pigment of each color of black, brown, and yellow was used, and the pattern was printed on the base material sheet surface by the gravure printing method.

さらに、塩素化ポリプロピレン樹脂(塩素化度15%)からなる接着層を、印刷面にグラビア印刷法によって形成させた後、光硬化性加飾シートを得た。   Furthermore, after forming the adhesive layer which consists of chlorinated polypropylene resin (chlorination degree 15%) by the gravure printing method on the printing surface, the photocurable decorating sheet was obtained.

これらの光硬化性加飾シートを枚葉化しカバーフィルムを剥離した後、光硬化性樹脂組成物が金型の内壁面に向き合うように金型内に配置し、次いで赤外線ヒーター(温度300℃)で15秒間シートを予備加熱した後、さらに加熱を行いながら真空吸引することにより金型形状にシートを追従させた。   After these photocurable decorative sheets are made into a single sheet and the cover film is peeled off, the photocurable resin composition is placed in the mold so as to face the inner wall surface of the mold, and then an infrared heater (temperature of 300 ° C.) After the sheet was preheated for 15 seconds, the sheet was allowed to follow the mold shape by vacuum suction while further heating.

次に、成形温度200〜240℃、金型温度30〜60℃の条件において、ポリプロピレン系樹脂(タルクを20重量%含有、エチレン−プロピレン系ゴムを10重量%含有)を成形樹脂として用いてインモールド成形を行い、光硬化性加飾シートが成形品表面に密着した成形品を得た。その際のシートの金型追従性及び金型離型性は共に良好であった。   Next, under conditions of a molding temperature of 200 to 240 ° C. and a mold temperature of 30 to 60 ° C., a polypropylene resin (containing 20% by weight of talc and 10% by weight of ethylene-propylene rubber) is used as a molding resin. Molding was performed to obtain a molded product in which the photocurable decorative sheet was in close contact with the surface of the molded product. The mold following property and mold releasability of the sheet at that time were both good.

次いで、紫外線照射装置を用いて、約700mJ/cm2の紫外線を照射して光硬化性樹脂組成物を硬化させ、表面硬度や耐磨耗性が高く、光沢に優れ、印刷絵柄を有して意匠性に優れる成形品を得た。 Next, using an ultraviolet irradiation device, the photocurable resin composition is cured by irradiating ultraviolet rays of about 700 mJ / cm 2 , has high surface hardness and high wear resistance, excellent gloss, and has a printed pattern. A molded product excellent in design was obtained.

本発明は、優れた外観、意匠性、耐磨耗性、耐薬品性及び耐候性を示す成形品を与えることのできる、長期保存安定性に優れ、表面粘着性のない光硬化性シート、及びこのシートを用いた成形品を提供することができ、産業上有用である。   The present invention can provide a molded article having excellent appearance, design, abrasion resistance, chemical resistance and weather resistance, is excellent in long-term storage stability, and is a photocurable sheet having no surface tackiness, and A molded product using this sheet can be provided, which is industrially useful.

Claims (13)

光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)、光重合開始剤(a−2)及び無機微粒子(a−3)を含有する光硬化性樹脂組成物であって、無機微粒子(a−3)が、予め、その存在下に、ラジカル重合性シラン化合物(s−1)の単量体もしくは加水分解物と非ラジカル重合性シラン化合物(s−2)の単量体もしくは加水分解物とを加水分解縮合反応させたものであることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。   A photocurable resin composition comprising a thermoplastic resin (a-1) having a photopolymerizable functional group, a photopolymerization initiator (a-2), and inorganic fine particles (a-3), wherein the inorganic fine particles (a -3) is a monomer or hydrolyzate of a radically polymerizable silane compound (s-1) and a monomer or hydrolyzate of a non-radically polymerizable silane compound (s-2) in the presence thereof. And a photo-curable resin composition obtained by hydrolytic condensation reaction. 光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)が、分子内に光重合性官能基を有するアクリル系樹脂である、請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition of Claim 1 whose thermoplastic resin (a-1) which has a photopolymerizable functional group is an acrylic resin which has a photopolymerizable functional group in a molecule | numerator. 光重合性官能基を有する熱可塑性樹脂(a−1)が、側鎖に光重合性官能基を有するアクリル系樹脂である、請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition of Claim 1 whose thermoplastic resin (a-1) which has a photopolymerizable functional group is an acrylic resin which has a photopolymerizable functional group in a side chain. 光硬化性樹脂組成物が、前記樹脂(a−1)以外の架橋性化合物を実質的に含まない、請求項1〜3のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition in any one of Claims 1-3 in which a photocurable resin composition does not contain crosslinkable compounds other than the said resin (a-1) substantially. 無機微粒子(a−3)がコロイダルシリカである、請求項1〜4のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic fine particles (a-3) are colloidal silica. 基材シート(B)上に、請求項1〜5のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物(A)の層を有する光硬化性シート。   The photocurable sheet which has a layer of the photocurable resin composition (A) in any one of Claims 1-5 on a base material sheet (B). 基材シート(B)が、熱可塑性アクリル樹脂シートである、請求項6に記載の光硬化性シート。   The photocurable sheet according to claim 6, wherein the base sheet (B) is a thermoplastic acrylic resin sheet. 基材シート(B)が、架橋ゴム成分を有する熱可塑性アクリル樹脂シートである、請求項7に記載の光硬化性シート。   The photocurable sheet according to claim 7, wherein the base sheet (B) is a thermoplastic acrylic resin sheet having a crosslinked rubber component. 請求項6〜8のいずれかに記載した光硬化性シートの基材シート(B)側に、印刷層、蒸着層、接着層及びプライマー層から選ばれる少なくとも1層が形成された光硬化性加飾シート。   A photocurable additive in which at least one layer selected from a printed layer, a vapor deposition layer, an adhesive layer and a primer layer is formed on the base sheet (B) side of the photocurable sheet according to any one of claims 6 to 8. Decorative sheet. 請求項6〜9のいずれかに記載した光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを、光硬化性樹脂組成物(A)側が金型の内壁面に向き合うように挿入配置する工程、金型を閉じて、溶融樹脂を金型内に射出し、樹脂を固化させることにより光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートが表面に配置された樹脂成形品を形成する工程、及び光照射することにより成形品表面の光硬化性樹脂組成物を光硬化させる工程を含む成形品の製造方法。   A step of inserting and arranging the photocurable sheet or photocurable decorative sheet according to any one of claims 6 to 9 so that the photocurable resin composition (A) side faces the inner wall surface of the mold, , By injecting molten resin into a mold and solidifying the resin to form a resin molded product having a photocurable sheet or photocurable decorative sheet disposed on the surface, and light irradiation The manufacturing method of a molded article including the process of photocuring the photocurable resin composition of the molded article surface by. 請求項6〜9のいずれかに記載した光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを、光硬化性樹脂組成物(A)側が金型の内壁面に向き合うように挿入配置する工程、光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを予備成形してシートを金型形状に追従させる工程、金型を閉じて、溶融樹脂を金型内に射出し、樹脂を固化させることにより光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートが表面に配置された樹脂成形品を形成する工程、及び光照射することにより成形品表面の光硬化性樹脂組成物を光硬化させる工程を含む成形品の製造方法。   A step of inserting and arranging the photocurable sheet or photocurable decorative sheet according to any one of claims 6 to 9 such that the photocurable resin composition (A) side faces the inner wall surface of the mold, photocuring A step of preforming an adhesive sheet or a photocurable decorative sheet and following the mold shape, closing the mold, injecting molten resin into the mold, and solidifying the resin, the photocurable sheet Or the manufacturing method of the molded article including the process of photocuring the photocurable resin composition of the surface of a molded article by light-irradiating the process of forming the resin molded article in which the photocurable decorating sheet has been arrange | positioned on the surface. 請求項6〜9のいずれかに記載した光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを、光硬化性樹脂組成物(A)側が金型の内壁面に向き合うように予備成形用金型に挿入配置する工程、光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを予備成形してシートを金型形状に追従させる工程、予備成形した光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートを、光硬化性樹脂組成物側が金型の内壁面に向き合うように成形用金型に挿入配置する工程、成形用金型を閉じて、溶融樹脂を金型内に射出し、樹脂を固化させることにより光硬化性シートまたは光硬化性加飾シートが表面に配置された樹脂成形品を形成する工程、及び光照射することにより成形品表面の光硬化性樹脂組成物を光硬化させる工程を含む成形品の製造方法。   The photocurable sheet or photocurable decorative sheet according to any one of claims 6 to 9 is inserted into a preforming mold so that the photocurable resin composition (A) side faces the inner wall surface of the mold. A step of arranging, a step of preforming a photocurable sheet or a photocurable decorative sheet and causing the sheet to follow the shape of the mold, a preformed photocurable sheet or a photocurable decorative sheet, a photocurable resin A step of inserting and arranging in the molding die so that the composition side faces the inner wall surface of the die, closing the molding die, injecting the molten resin into the die, and solidifying the resin, the photocurable sheet Or the manufacturing method of the molded article including the process of photocuring the photocurable resin composition of the surface of a molded article by light-irradiating the process of forming the resin molded article in which the photocurable decorating sheet has been arrange | positioned on the surface. 請求項10〜12のいずれかに記載した製造方法により得られる成形品。   The molded product obtained by the manufacturing method in any one of Claims 10-12.
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