JP2006247856A - Aluminum plate support for photosensitive lithographic printing plate material, method for manufacturing aluminum plate support and photosensitive lithographic printing plate material - Google Patents

Aluminum plate support for photosensitive lithographic printing plate material, method for manufacturing aluminum plate support and photosensitive lithographic printing plate material Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive lithographic printing plate material with excellent printout properties, resistance to plate wear and smear proofness during printing, and an aluminum plate support for a photosensitive lithographic printing plate material and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the aluminum plate support for a photosensitive lithographic printing plate material features the procedures to roughen/anodize the surface of the support, then make it hydrophilic, treat it with silicate of soda, and treat it with an aqueous solution containing a polyvinyl phosphonic acid. Finally, the method dries the aluminum plate support at 150 to 230°C. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、感光性平版印刷版材料、並びにそれに用いられるアルミニウム板支持体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate material, an aluminum plate support used therefor, and a method for producing the same.

近年、オフセット印刷用の印刷版の作製技術において、画像のデジタルデータをレーザー光源で直接印刷版材料に記録するCTP(コンピューター・トゥー・プレート)システムが普及してきた。   2. Description of the Related Art In recent years, CTP (computer to plate) systems that record digital image data directly on a printing plate material with a laser light source have become widespread in the technology for producing printing plates for offset printing.

またこれらのCTPシステムに使用される印刷版材料として、特別な薬剤(例えば、アルカリ、酸、溶媒など)を含む処理液による現像処理を必要とせず、従来の印刷機に適用可能である印刷版材料が求められており、例えば、全く現像処理を必要としない相変化タイプの印刷版材料、水もしくは水を主体とした実質的に中性の処理液で処理をする印刷版材料、印刷機上で印刷の初期段階で現像処理を行い特に現像工程を必要としない印刷版材料などの、ケミカルフリータイプ印刷版材料やプロセスレスタイプ印刷版材料と呼ばれる印刷版材料が知られている。   In addition, as a printing plate material used in these CTP systems, a printing plate that can be applied to a conventional printing machine without requiring a developing treatment with a processing solution containing a special agent (for example, alkali, acid, solvent, etc.). For example, a phase change type printing plate material that does not require development processing at all, a printing plate material that is processed with water or a substantially neutral processing liquid mainly composed of water, on a printing press There are known printing plate materials called chemical-free type printing plate materials and processless type printing plate materials, such as printing plate materials that are developed at an initial stage of printing and do not require a development step.

これらのプロセスレスタイプ印刷版材料としては、画像形成層の非画像部を印刷機上で除去する機上現像タイプの印刷版材料が知られており、これらの印刷版材料を用い画像露光済みの印刷版材料に、印刷機の湿し水供給ローラ、印刷インキ供給ローラから湿し水、印刷インキを供給して印刷機上で現像を行う製版方法が知られている(例えば、特許文献1、2参照。)。   As these processless type printing plate materials, on-press development type printing plate materials that remove non-image portions of the image forming layer on a printing machine are known, and image exposure has been performed using these printing plate materials. A plate making method is known in which dampening water and printing ink are supplied from a dampening water supply roller and printing ink supply roller of a printing machine to the printing plate material, and development is performed on the printing machine (for example, Patent Document 1, 2).

また、機上現像タイプの印刷版材料としては、例えば、特許2938397号公報や特許2938398号公報に開示されているような、親水性層もしくはアルミ砂目上に熱可塑性微粒子、水溶性の結合剤、光熱変換素材を含有する感熱画像形成層を設けた印刷版材料、あるいは親水性層に光熱変換素材を含有させ、この光熱変換素材の発熱により画像を形成させる印刷版材料が知られている(例えば、特許文献3参照。)。   Further, as the on-press development type printing plate material, for example, as disclosed in Japanese Patent No. 2938397 and Japanese Patent No. 2938398, thermoplastic fine particles and water-soluble binder on the hydrophilic layer or aluminum grain. A printing plate material provided with a heat-sensitive image forming layer containing a photothermal conversion material, or a printing plate material in which a photothermal conversion material is contained in a hydrophilic layer and an image is formed by the heat generated by the photothermal conversion material is known ( For example, see Patent Document 3.)

これらのうち、比較的高い耐刷力を要求される印刷の分野においては、アルミニウム板を支持体としてその上に画像記録層有する印刷版材料を用いることが知られている。   Among these, in the field of printing that requires a relatively high printing durability, it is known to use a printing plate material having an aluminum plate as a support and an image recording layer thereon.

アルミニウム板としては、一般的に粗面化処理及び陽極酸化処理を施したものが使用されるが多量の印刷を行う際に、小点が損傷したり汚れが発生する場合があるなどの問題があった。これらの問題を改善する目的で、例えば、特開2000−255177号公報に記載のアルミニウム板支持体を用いた印刷版材料として、アルミニウム砂目支持体表面にベーマイトからなる特定の平均高さを有する突起状物を生成し、その上に重合性組感光層を設けた印刷版材料が知られている。   As the aluminum plate, a surface subjected to roughening treatment and anodizing treatment is generally used. However, there are problems such as damage to small spots or stains when performing a large amount of printing. there were. For the purpose of improving these problems, for example, as a printing plate material using an aluminum plate support described in JP-A-2000-255177, the surface of the aluminum grain support has a specific average height made of boehmite. A printing plate material is known in which protrusions are formed and a polymerizable photosensitive layer is provided thereon.

また、特定の粗面化処理を施し、陽極酸化処理した後、ポリビニルホスホン酸で親水化処理を施したアルミニウム支持体を用いた印刷版材料(例えば、特許文献4参照。)、アルミニウム支持体と感光層の間にポリビニルホスホン酸を含む中間層を設けた印刷版材料(例えば、特許文献5参照。)が知られている。   Further, a printing plate material using an aluminum support that has been subjected to a specific roughening treatment, anodized, and then hydrophilized with polyvinylphosphonic acid (see, for example, Patent Document 4), an aluminum support, and A printing plate material (see, for example, Patent Document 5) in which an intermediate layer containing polyvinylphosphonic acid is provided between photosensitive layers is known.

しかしながら、これらの機上現像タイプの印刷版材料を用いて露光済みの印刷版材料を印刷機上で現像する方法は特別な湿式現像処理を必要とせず、且つ高精細な画像が得ることができるが、印刷版の湿し水供給ローラが接触した後に汚れを生ずる場合がある、印刷の刷り出しまでに使用する損紙の枚数が多い場合がある、耐刷性が不充分であるといった問題があった。
特開平9−211852号公報 特開2002−219881号公報 特開2003−231374号公報 特開2002−103834号公報 特開2003−57831号公報
However, a method of developing an exposed printing plate material on a printing press using these on-press development type printing plate materials does not require a special wet development process, and a high-definition image can be obtained. However, there are cases in which stains may occur after contact with the dampening water supply roller of the printing plate, there are cases where the number of waste paper used before printing is printed out, and the printing durability is insufficient. there were.
JP 9-211182 A JP 2002-219881 A JP 2003-231374 A JP 2002-103834 A JP 2003-57831 A

本発明の目的は、刷り出し性、耐刷性に優れ、更に印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料、並びにその為の感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体及びその製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate material which is excellent in printability, printing durability, and anti-staining property during printing, and an aluminum plate support for the photosensitive lithographic printing plate material and the production thereof. Is to provide a method.

本発明の目的は、下記の構成により達成される。   The object of the present invention is achieved by the following constitution.

(請求項1)
粗面化処理及び陽極酸化処理した後、親水性処理として珪酸ソーダ処理を施した後にポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理し、その後150〜230℃で乾燥することを特徴とする感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体の製造方法。
(Claim 1)
A photosensitive lithographic printing plate comprising a roughening treatment and an anodizing treatment, followed by a sodium silicate treatment as a hydrophilic treatment, a treatment with an aqueous solution containing polyvinylphosphonic acid, and then drying at 150 to 230 ° C. A method for producing an aluminum plate support for materials.

(請求項2)
請求項1に記載の感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体の製造方法により製造されたことを特徴とする感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体。
(Claim 2)
An aluminum plate support for a photosensitive lithographic printing plate material produced by the method for producing an aluminum plate support for a photosensitive lithographic printing plate material according to claim 1.

(請求項3)
請求項2に記載の感光性平版印刷版材料用のアルミニウム板支持体上に画像形成層を有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。
(Claim 3)
A photosensitive lithographic printing plate material comprising an image forming layer on the aluminum plate support for the photosensitive lithographic printing plate material according to claim 2.

(請求項4)
前記画像形成層が感熱画像形成層であることを特徴とする請求項3に記載の感光性平版印刷版材料。
(Claim 4)
The photosensitive lithographic printing plate material according to claim 3, wherein the image forming layer is a heat-sensitive image forming layer.

本発明の構成により、刷り出し性、耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料、並びにその為の感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体及びその製造方法が提供できる。   A photosensitive lithographic printing plate material having excellent printing performance, printing durability, and anti-staining property during printing, and an aluminum plate support for the photosensitive lithographic printing plate material therefor, and a method for producing the same Can be provided.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の特徴は、感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体(単に、アルミニウム板支持体ともいう)を粗面化処理及び陽極酸化処理し、親水性処理として珪酸ソーダ処理を施した後、ポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理し、更に150〜230℃の高温で乾燥する後処理をすることにある。即ち、珪酸ソーダ処理、ポリビニルホスホン酸処理、150〜230℃の高温乾燥処理の組み合わせが特徴である。これによって、ポリビニルホスホン酸がアルミニウム板に融着し、画像形成層との密着性が向上する。また機上現像時の非画線部の取れる枚数が珪酸ソーダ処理単独では多くなり、汚れも悪くなる。   The feature of the present invention is that the aluminum plate support for a photosensitive lithographic printing plate material (also simply referred to as an aluminum plate support) is subjected to a surface roughening treatment and anodizing treatment, and a sodium silicate treatment as a hydrophilic treatment. The treatment is carried out with an aqueous solution containing polyvinylphosphonic acid, followed by a post-treatment of drying at a high temperature of 150 to 230 ° C. That is, it is characterized by a combination of sodium silicate treatment, polyvinylphosphonic acid treatment, and high-temperature drying treatment at 150 to 230 ° C. As a result, the polyvinylphosphonic acid is fused to the aluminum plate, and the adhesion with the image forming layer is improved. In addition, the number of non-image areas that can be removed during on-press development increases with sodium silicate treatment alone, and contamination becomes worse.

(アルミニウム板支持体及び表面処理)
本発明のアルミニウム板支持体は、純アルミニウム板またはアルミニウム合金板である。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられ、各種圧延方法により製造されたアルミニウム板が使用できる。また近年普及しつつあるスクラップ材、及びリサイクル材などの再生アルミニウム地金を圧延した再生アルミニウム板も使用できる。
(Aluminum plate support and surface treatment)
The aluminum plate support of the present invention is a pure aluminum plate or an aluminum alloy plate. Various aluminum alloys can be used, for example, alloys of aluminum such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, etc., and various rolling methods. The aluminum plate manufactured by can be used. In addition, recycled aluminum plates obtained by rolling recycled aluminum ingots such as scrap materials and recycled materials that are becoming popular in recent years can also be used.

本発明のアルミニウム板支持体は粗面化(砂目立て処理)するに先立って、表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としてはトリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。また脱脂処理には苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し、デスマット処理を施すことが好ましい。   Prior to roughening (graining treatment), the aluminum plate support of the present invention is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove rolling oil on the surface. As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichrene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. An alkaline aqueous solution such as caustic soda can also be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the support. In this case, the substrate is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and desmutted. It is preferable to perform the treatment.

次いで粗面化処理が施される。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。本発明では塩酸を主体とする電解液中での交流電解粗面化処理が好ましいが、それに先立ち機械的粗面化処理及び硝酸を主体とする電解粗面化処理を施してもよい。   Next, a roughening process is performed. Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis. In the present invention, AC electrolytic surface roughening treatment in an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid is preferable, but mechanical surface roughening treatment and electrolytic surface roughening treatment mainly composed of nitric acid may be performed prior to this.

機械的粗面化方法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。また、例えば、支持体表面に粒径10〜100μmの研磨剤粒子を100〜200μmの間隔で2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 The mechanical roughening method is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The roughening by the brush polishing method is, for example, by rotating a rotating brush using a bristle having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and for example, volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm on water. While supplying the uniformly dispersed slurry, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm in water, injecting pressure from a nozzle, and causing the surface to collide obliquely with the support surface. Can do. Further, for example, a sheet coated with abrasive particles having a particle diameter of 10 to 100 μm on the support surface so as to exist at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 μm. Roughening can also be performed by transferring the rough surface pattern of the sheet by applying the pressure together.

上記の機械的粗面化法で粗面化した後は、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After roughening by the above mechanical roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive, the formed aluminum scraps, etc. that have digged into the surface of the support. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum in the surface preferably 0.5 to 5 g / m 2. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof.

硝酸を主体とする電解粗面化処理は一般には1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸、アルミニウムイオン等を加えることができる。 The electrolytic surface-roughening treatment mainly composed of nitric acid can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The quantity of electricity may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000C / dm 2. The temperature at which the electrochemical surface roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, aluminum ions, and the like can be added to the electrolytic solution.

上記の硝酸を主体とする電解粗面化処理後は、表面の水酸化アルミニウム等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては0.5〜2g/m2が好ましい。またアルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the electrolytic surface-roughening treatment mainly composed of nitric acid, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum hydroxide and the like on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 2 g / m 2 . Further, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersing in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof after immersing with an alkaline aqueous solution.

塩酸を主体とする電解液中での交流電解粗面化処理は塩酸濃度は5〜20g/lであり、好ましくは6〜15g/lである。電流密度は15〜120A/dm2であり、好ましくは20〜90A/dm2である。電気量は400〜2000C/dm2であり、好ましくは500〜1200C/dm2である。周波数は40〜150Hzの範囲で行うことが好ましい。電解液の温度は10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液には必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸、アルミニウムイオン等を加えることができる。 In the AC electrolytic surface roughening treatment in an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid, the hydrochloric acid concentration is 5 to 20 g / l, preferably 6 to 15 g / l. The current density is 15 to 120 A / dm 2 , preferably 20 to 90 A / dm 2 . The quantity of electricity was 400~2000C / dm 2, preferably 500~1200C / dm 2. The frequency is preferably in the range of 40 to 150 Hz. The temperature of the electrolytic solution can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, aluminum ions, and the like can be added to the electrolytic solution.

上記の塩酸を主体とする電解液中で電解粗面化処理を施した後は、表面の水酸化アルミニウム等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜2g/m2が好ましい。また、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the electrolytic surface roughening treatment is performed in the electrolytic solution mainly containing hydrochloric acid, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum hydroxide and the like on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 2 g / m2. Further, after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

得られるアルミニウム支持体の画像形成層側の表面の算術平均粗さ(Ra)は0.4〜0.7μmが好ましく、粗面化処理での塩酸濃度、電流密度、電気量の組み合わせで制御することができる。   The arithmetic average roughness (Ra) of the surface of the obtained aluminum support on the image forming layer side is preferably 0.4 to 0.7 μm, and is controlled by a combination of hydrochloric acid concentration, current density and electric quantity in the roughening treatment. be able to.

粗面化処理の次には陽極酸化処理を行い、陽極酸化皮膜を形成する。本発明に係る陽極酸化処理の方法は、電解液として硫酸または硫酸を主体とする電解液を用いて行うのが好ましい。硫酸の濃度は5〜50質量%が好ましく、10〜35質量%が特に好ましい。温度は10〜50℃が好ましい。処理電圧は18V以上であることが好ましく、20V以上であることが更に好ましい。電流密度は1〜30A/dm2が好ましい。電気量は200〜600C/dm2が好ましい。 Following the roughening treatment, an anodizing treatment is performed to form an anodized film. The anodizing method according to the present invention is preferably carried out using sulfuric acid or an electrolytic solution mainly composed of sulfuric acid as the electrolytic solution. The concentration of sulfuric acid is preferably 5 to 50% by mass, particularly preferably 10 to 35% by mass. The temperature is preferably 10 to 50 ° C. The treatment voltage is preferably 18V or more, and more preferably 20V or more. Current density is preferably 1~30A / dm 2. Quantity of electricity is preferably from 200~600C / dm 2.

形成される陽極酸化被覆量は1〜6g/m2が好ましく、より好ましくは2〜3g/m2である。陽極酸化被覆量は、例えば、アルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、無水クロム酸:20gを1Lの水に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。陽極酸化皮膜にはマイクロポアが生成されるが、マイクロポアの密度は400〜700個/μm2が好ましく、400〜600個/μm2が更に好ましい。 The amount of the anodized coating formed is preferably 1 to 6 g / m 2 , more preferably 2 to 3 g / m 2 . The anodic oxidation coating amount is obtained by, for example, immersing an aluminum plate in a phosphoric acid chromic acid solution (manufactured by dissolving 85% phosphoric acid solution: 35 ml, chromic anhydride: 20 g in 1 L of water), dissolving the oxide film, It is calculated | required from the mass change measurement etc. before and after melt | dissolution of the coating. Micropores are generated in the anodized film, and the density of the micropores is preferably 400 to 700 / μm 2, and more preferably 400 to 600 / μm 2 .

陽極酸化処理された支持体は珪酸ソーダ処理を行い、続いてポリビニルホスホン酸処理を行い、その後150〜230℃で乾燥することができる。珪酸ソーダ処理は、例えば、JIS3号珪酸ソーダ1〜2%で、50〜90℃、10秒から60秒浸漬処理される。この処理により表面に親水性を付与することができる。次いで、陽極酸化皮膜のマイクロポアの中に残っている珪酸ソーダを水洗または湯洗によって洗い出す。   The anodized support is subjected to sodium silicate treatment, followed by polyvinylphosphonic acid treatment, and then dried at 150 to 230 ° C. The sodium silicate treatment is, for example, immersion treatment at 50 to 90 ° C. for 10 to 60 seconds with JIS No. 3 sodium silicate 1 to 2%. This treatment can impart hydrophilicity to the surface. Next, the sodium silicate remaining in the micropores of the anodized film is washed out with water or hot water.

その後の本発明に係るポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理するとは、ポリビニルホスホン酸を含む水溶液にアルミニウム板支持体の上記陽極酸化処理した面を接触させることである。   Processing with the aqueous solution containing the polyvinyl phosphonic acid which concerns on this invention after that is making the said anodized surface of the aluminum plate support body contact the aqueous solution containing polyvinyl phosphonic acid.

本発明に係るポリビニルホスホン酸はホスホン基を有するビニル重合体であり、数平均分子量が5,000〜40,000のものが好ましく用いられ、10,000〜25,000のものが特に好ましい。上記ポリビニルホスホン酸の含有量としては、水溶液に対して、0.05〜0.6質量%の範囲で存在することが好ましい。更に0.1〜0.4質量%の範囲で使用することがなお好ましい。   The polyvinyl phosphonic acid according to the present invention is a vinyl polymer having a phosphonic group, preferably having a number average molecular weight of 5,000 to 40,000, particularly preferably 10,000 to 25,000. As content of the said polyvinylphosphonic acid, it is preferable to exist in 0.05-0.6 mass% with respect to aqueous solution. Furthermore, it is still more preferable to use in the range of 0.1-0.4 mass%.

ポリビニルホスホン酸を含む水溶液での処理としては、塗布式、スプレー式、ディップ式等の方法が挙げられが、これらに限定されるものではない。この処理としては設備を安価にするにはディップ式が好適である。ディップ式の場合には、ポリビニルホスホン酸の0.1〜0.4質量%の水溶液で処理することが好ましい。また処理温度は20〜90℃、処理時間は10〜180秒で行うのが好ましい。   Examples of the treatment with an aqueous solution containing polyvinylphosphonic acid include, but are not limited to, a coating method, a spray method, a dip method, and the like. As this treatment, a dip type is suitable for making the equipment inexpensive. In the case of a dip type, it is preferable to treat with a 0.1 to 0.4 mass% aqueous solution of polyvinylphosphonic acid. The treatment temperature is preferably 20 to 90 ° C. and the treatment time is preferably 10 to 180 seconds.

ポリビニルホスホン酸を含む水溶液を支持体に接触させた後、過剰に積層したポリビニルホスホン酸を除去するため、スクィーズ処理または水洗処理を行ってもよい。   After the aqueous solution containing polyvinylphosphonic acid is brought into contact with the support, squeeze treatment or water washing treatment may be performed in order to remove excessively laminated polyvinylphosphonic acid.

これらの処理の後に150〜230℃で乾燥を行う。150〜230℃で乾燥を行うとは支持体表面の温度がこの範囲であることをいう。表面温度は市販の非接触式表面温度計で測定することができる。乾燥時間は10〜100秒が好ましく、特に20〜50秒が好ましい。乾燥のための加熱方法は熱風を用いる乾燥でも、石英ヒーター、遠赤外ヒーターを用いたものでもよい。   After these treatments, drying is performed at 150 to 230 ° C. Drying at 150 to 230 ° C. means that the temperature of the support surface is within this range. The surface temperature can be measured with a commercially available non-contact surface thermometer. The drying time is preferably 10 to 100 seconds, particularly preferably 20 to 50 seconds. The heating method for drying may be drying using hot air, or using a quartz heater or a far infrared heater.

珪酸ソーダ処理を実施しないでポリビニルホスホン酸処理を実施することも考えられるが、機上現像後、印刷を重ねていくうちにポリビニルホスホン酸が溶解し、汚れの原因になることが多い。珪酸ソーダ処理はこの汚れを抑えることが出来るため、本発明では必須である。   Although it is conceivable to carry out the polyvinyl phosphonic acid treatment without carrying out the sodium silicate treatment, the polyvinyl phosphonic acid dissolves as printing is repeated after the on-press development, which often causes stains. The sodium silicate treatment is essential in the present invention because this contamination can be suppressed.

(機上現像可能な画像形成層)
本発明に係る機上現像可能な画像形成層とは、画像露光後特に現像工程を経ることなく、印刷工程に供した時点で、即ち印刷準備段階で湿し水、または湿し水と印刷インキにより、印刷時に非画像部となる部分の画像形成層が除去されて、印刷可能な画像が形成され得る画像形成層のことをいい、特に感熱画像形成層である場合が本発明の効果は大きい。
(Image forming layer that can be developed on-machine)
The on-press developable image forming layer according to the present invention is a dampening solution or a dampening solution and a printing ink at the time when the image forming layer is subjected to a printing process after image exposure, without passing through a development process. Thus, the image forming layer that is a non-image part at the time of printing is removed, and an image forming layer that can form a printable image can be formed, and the effect of the present invention is particularly large in the case of a thermal image forming layer. .

感熱画像形成層は画像露光により画像形成可能な層であって、画像露光光を熱に変換する光熱変換素材を含む層の発熱により画像形成可能な感熱画像形成層である。光熱変換素材を含む層は本発明に係る画像形成層であってもよいし、親水性層、あるいは感熱画像形成層に隣接する別層であってもよい。   The heat-sensitive image forming layer is a layer capable of forming an image by image exposure, and is a heat-sensitive image forming layer capable of forming an image by heat generation of a layer containing a photothermal conversion material that converts image exposure light into heat. The layer containing the photothermal conversion material may be the image forming layer according to the present invention, or may be a hydrophilic layer or another layer adjacent to the heat sensitive image forming layer.

感熱画像形成層としては、特に露光部の画像形成層が熱によって親水性層上に固着される方向へと変化する、いわゆるネガ型画像形成層が好ましく用いられる。   As the heat-sensitive image forming layer, a so-called negative image forming layer in which the image forming layer in the exposed portion is changed in a direction to be fixed on the hydrophilic layer by heat is preferably used.

上記の露光部が熱によって親水性層上に固着される方向へと変化する画像形成層としては、例えば、露光前は親水性の層であり、熱により親水性の層から疎水性の層へと変化させ得る疎水化前駆体を含有する画像形成層を挙げることができる。疎水化前駆体としては、熱溶融性粒子または熱融着性粒子等の熱可塑性疎水性粒子、疎水性物質を内包するマイクロカプセル、ブロック化イソシアネート化合物、例えば、熱によって親水性(水溶性または水膨潤性)から疎水性へと変化するポリマー、具体的には、例えば、特開2000−56449号公報に開示されているアリールジアゾスルホネート単位を含有するポリマーが挙げられる。上記熱可塑性疎水性粒子としては、後述する熱溶融性粒子及び熱融着性粒子を挙げることができる。   Examples of the image forming layer in which the exposed portion is changed in a direction to be fixed on the hydrophilic layer by heat include, for example, a hydrophilic layer before exposure and from a hydrophilic layer to a hydrophobic layer by heat. And an image forming layer containing a hydrophobized precursor that can be changed. Examples of the hydrophobizing precursor include thermoplastic hydrophobic particles such as heat-melting particles or heat-fusible particles, microcapsules enclosing a hydrophobic substance, blocked isocyanate compounds, such as hydrophilicity (water-soluble or water-soluble by heat). Polymers that change from (swellable) to hydrophobic, specifically, for example, polymers containing aryl diazosulfonate units disclosed in JP-A-2000-56449. Examples of the thermoplastic hydrophobic particles include heat-fusible particles and heat-fusible particles described later.

熱溶融性粒子とは熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された粒子である。物性としては軟化点40℃以上120℃以下、融点60℃以上150℃以下であることが好ましく、軟化点40℃以上100℃以下、融点60℃以上120℃以下であることが更に好ましい。融点が60℃未満では保存性が問題であり、融点が300℃よりも高い場合はインキ着肉感度が低下する。   The heat-meltable particles are particles made of a material that has a low viscosity when melted, and is generally classified as a wax, among thermoplastic materials. The physical properties are preferably a softening point of 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, a melting point of 60 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably a softening point of 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and a melting point of 60 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. When the melting point is less than 60 ° C., storage stability is a problem, and when the melting point is higher than 300 ° C., ink landing sensitivity is lowered.

使用可能な素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックス等が挙げられる。これらは分子量800から10000程度のものである。また乳化しやすくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。更には軟化点を下げたり作業性を向上させるために、これらのワックスにステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミドまたはこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミドなどを添加することも可能である。またクマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することができる。   Usable materials include paraffin, polyolefin, polyethylene wax, microcrystalline wax, fatty acid wax and the like. These have a molecular weight of about 800 to 10,000. In order to facilitate emulsification, these waxes can be oxidized to introduce polar groups such as hydroxyl groups, ester groups, carboxyl groups, aldehyde groups, peroxide groups and the like. Furthermore, in order to lower the softening point and improve the workability, these waxes are stearamide, linolenamide, laurylamide, myristamide, hardened beef fatty acid amide, palmitoamide, oleic acid amide, rice sugar fatty acid amide, coconut fatty acid amide. Alternatively, methylolated products of these fatty acid amides, methylene bisstellaramide, ethylene bisstellaramide and the like can be added. Coumarone-indene resin, rosin-modified phenol resin, terpene-modified phenol resin, xylene resin, ketone resin, acrylic resin, ionomer, and copolymers of these resins can also be used.

これらの中でもポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸のいずれかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行うことができる。   Among these, it is preferable to contain any of polyethylene, microcrystalline, fatty acid ester, and fatty acid. Since these materials have a relatively low melting point and a low melt viscosity, high-sensitivity image formation can be performed.

またこれらの素材は潤滑性を有するため、印刷版材料の表面に剪断力が加えられた際のダメージが低減し、擦りキズ等による印刷汚れ耐性が向上する。   Further, since these materials have lubricity, damage when a shearing force is applied to the surface of the printing plate material is reduced, and resistance to printing stains due to scratches or the like is improved.

また熱溶融性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒子径は0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。平均粒子径が0.01μmよりも小さい場合、熱溶融性粒子を含有する層の塗布液を後述する多孔質な親水性層上に塗布した際に、熱溶融性粒子が親水性層の細孔中に入り込んだり、親水性層表面の微細な凹凸の隙間に入り込んだりしやすくなり、機上現像が不十分になって、地汚れの懸念が生じる。熱溶融性粒子の平均粒子径が10μmよりも大きい場合には、解像度が低下する。   The hot-melt particles are preferably dispersible in water, and the average particle diameter is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm. When the average particle diameter is smaller than 0.01 μm, when the coating liquid for the layer containing the heat-fusible particles is applied on the porous hydrophilic layer described later, the heat-fusible particles become pores of the hydrophilic layer. It becomes easy to enter inside or into the gaps between fine irregularities on the surface of the hydrophilic layer, and the on-press development becomes insufficient, which may cause scumming. When the average particle size of the heat-meltable particles is larger than 10 μm, the resolution is lowered.

また熱溶融性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。層中の熱溶融性粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%が更に好ましい。   Moreover, the composition of the inside and the surface layer of the heat-meltable particle may be continuously changed, or may be coated with a different material. As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used. As content of the heat-meltable particle | grains in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is still more preferable.

熱融着性粒子としては熱可塑性疎水性高分子重合体粒子が挙げられ、高分子重合体粒子の軟化温度に特定の上限はないが、温度は高分子重合体粒子の分解温度より低いことが好ましい。高分子重合体の重量平均分子量(Mw)は10,000〜1,000,000の範囲であることが好ましい。   The heat-fusible particles include thermoplastic hydrophobic polymer particles, and there is no specific upper limit for the softening temperature of the polymer particles, but the temperature should be lower than the decomposition temperature of the polymer particles. preferable. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000.

高分子重合体粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、例えば、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン(共)重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−(N−メチロールアクリルアミド)共重合体、ポリアクリロニトリル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル(共)重合体、酢酸ビニル−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ビニルエステル(共)重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。   Specific examples of the polymer that constitutes the polymer particles include, for example, diene (co) polymers such as polypropylene, polybutadiene, polyisoprene, and ethylene-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer, Synthetic rubbers such as methyl methacrylate-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate- (2-ethylhexyl acrylate) copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, methyl acrylate- ( (N-methylolacrylamide) copolymer, (meth) acrylic acid ester such as polyacrylonitrile, (meth) acrylic acid (co) polymer, polyvinyl acetate, vinyl acetate-vinyl propionate copolymer, vinyl acetate-ethylene copolymer Vinyl such as polymer Ester (co) polymer, vinyl acetate - (2-ethylhexyl acrylate) copolymers, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene and copolymers thereof. Of these, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid (co) polymers, vinyl ester (co) polymers, polystyrene, and synthetic rubbers are preferably used.

また熱融着性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒子径は機上現像性、感度などの面から0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。また熱融着性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。層中の熱可塑性微粒子の含有量としては層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%が更に好ましい。   The heat-fusible particles are preferably dispersible in water, and the average particle size is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 10 μm from the viewpoint of on-press developability and sensitivity. 3 μm. Further, the composition of the heat fusible particles may vary continuously between the inside and the surface layer, or may be coated with a different material. As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used. As content of the thermoplastic fine particle in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is still more preferable.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2002−2135号、同2002−19317号の各公報に記載されている疎水性素材を内包するマイクロカプセルを挙げることができる。マイクロカプセルは平均径で0.1〜10μmであることが好ましく、0.3〜5μmであることがより好ましく、0.5〜3μmであることが更に好ましい。   Examples of the microcapsule include microcapsules enclosing a hydrophobic material described in JP-A Nos. 2002-2135 and 2002-19317. The microcapsules preferably have an average diameter of 0.1 to 10 μm, more preferably 0.3 to 5 μm, and still more preferably 0.5 to 3 μm.

[ブロック化イソシアネート化合物]
ブロック化イソシアネート化合物はイソシアネート化合物に下記に記載のブロック化剤を反応付加させたものである。画像形成層に用いることができるブロック化イソシアネート化合物は、後述するような化合物の水分散物であることが好ましい。水分散物から塗布形成することで、良好な機上現像性を得ることができる。
[Blocked isocyanate compound]
The blocked isocyanate compound is obtained by reacting an isocyanate compound with a blocking agent described below. The blocked isocyanate compound that can be used in the image forming layer is preferably an aqueous dispersion of a compound as described later. Good on-press developability can be obtained by coating and forming from an aqueous dispersion.

[イソシアネート化合物]
イソシアネート化合物としては、芳香族ポリイソシアネート[ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリレンジイソシアネート(TDI)、ポリフェニルポリメチレンポリイソシアネート(粗製MDI)、ナフタレンジイソシアネート(NDI)など];脂肪族ポリイソシアネート[1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、リジンジイソシアネート(LDI)など];脂環式ポリイソシアネート[イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネートなど];芳香脂肪族ポリイソシアネート[キシリレンジイソシアネート(XDI)、テトラメチルキシレンジイソシアネート(TMXDI)など];これらの変性物(ビューレット基、イソシアヌレート基、カルボジイミド基、オキサゾリジン基含有変性物など);及びこれらのポリイソシアネートと分子量50〜5,000の活性水素含有化合物からなる末端イソシアネート基を有するウレタンプレポリマーが挙げられる。また、特開平10−72520号公報に記載のポリイソシアネート化合物も好ましく用いることができる。上記の中では特にトリレンジイソシアネートが、反応性が速く好ましい。
[Isocyanate compound]
As the isocyanate compound, aromatic polyisocyanate [diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), polyphenylpolymethylene polyisocyanate (crude MDI), naphthalene diisocyanate (NDI), etc.]; aliphatic polyisocyanate [1,6 -Hexamethylene diisocyanate (HDI), lysine diisocyanate (LDI), etc.]; Alicyclic polyisocyanate [isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, etc.]; [Xylylene diisocyanate (XDI), tetramethylxylene diisocyanate (TMXDI), etc.]; , Isocyanurate groups, carbodiimide groups, oxazolidine group-containing modified compounds, etc.); and the urethane prepolymer and the like with these polyisocyanates with terminal isocyanate groups consisting of active hydrogen-containing compound having a molecular weight of 50 to 5,000. Further, polyisocyanate compounds described in JP-A-10-72520 can also be preferably used. Of the above, tolylene diisocyanate is particularly preferred because of its fast reactivity.

[ブロック化剤]
イソシアネート基のブロック剤としては公知のものを使用することができる。例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール系ブロック剤、フェノール、クレゾールなどのフェノール系ブロック剤、ホルムアルドキシム、アセトアルドキシム、メチルエチルケトキシム、メチルイソブチルケトキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトキシム、ジアセチルモノオキシム、ベンゾフェノンオキシムなどのオキシム系ブロック剤、アセトアニリド、ε−カプロラクタム、γ−ブチロラクタムなどの酸アミド系ブロック剤、マロン酸ジメチル、アセト酢酸メチルなどの活性メチレン系ブロック剤、ブチルメルカプタンなどのメルカプタン系ブロック剤、コハン酸イミド、マレイン酸イミドなどのイミド系ブロック剤、イミダゾール、2−メチルイミダゾールなどのイミダゾール系ブロック剤、尿素、チオ尿素などの尿素系ブロック剤、N−フェニルカルバミン酸フェニル等のカルバミン酸系ブロック剤、ジフェニルアミン、アニリン等のアミン系ブロック剤、エチレンイミン、ポリエチレンイミンなどのイミン系ブロック剤などが挙げられる。これらの中では特にオキシム系ブロック剤を用いることが好ましい。
[Blocking agent]
A well-known thing can be used as a blocking agent of an isocyanate group. For example, alcohol blocking agents such as methanol and ethanol, phenol blocking agents such as phenol and cresol, formaldoxime, acetoaldoxime, methyl ethyl ketoxime, methyl isobutyl ketoxime, cyclohexanone oxime, acetoxime, diacetyl monooxime, benzophenone oxime, etc. Oxime blocking agents, acid amid blocking agents such as acetanilide, ε-caprolactam, γ-butyrolactam, active methylene blocking agents such as dimethyl malonate and methyl acetoacetate, mercaptan blocking agents such as butyl mercaptan, succinic acid imide Imide blocking agents such as maleic imide, imidazole blocking agents such as imidazole and 2-methylimidazole, ureas such as urea and thiourea Examples include blocking agents, carbamic acid blocking agents such as phenyl N-phenylcarbamate, amine blocking agents such as diphenylamine and aniline, and imine blocking agents such as ethyleneimine and polyethyleneimine. Among these, it is particularly preferable to use an oxime blocking agent.

ブロック化剤の含有量としては、ブロック剤中の活性水素基がイソシアネート化合物のイソシアネート基に対して1.0〜1.1当量となるように含有させることが好ましいが、後述するポリオール等の活性水素基を有する添加剤と併用する場合は、ブロック剤と活性水素基を有するその他の添加剤とを合計した活性水素基がイソシアネート基に対して1.0〜1.1当量となるように含有させることが好ましい。1.0未満では未反応のイソシアネート基が残存し、また1.1を超えるとブロック剤等が過剰となるため好ましくない。   The content of the blocking agent is preferably such that the active hydrogen group in the blocking agent is 1.0 to 1.1 equivalents relative to the isocyanate group of the isocyanate compound. When used in combination with an additive having a hydrogen group, the active hydrogen group, which is the sum of the blocking agent and other additives having an active hydrogen group, is contained in an amount of 1.0 to 1.1 equivalents relative to the isocyanate group. It is preferable to make it. If it is less than 1.0, unreacted isocyanate groups remain, and if it exceeds 1.1, the blocking agent and the like are excessive, which is not preferable.

ブロック剤の解離温度としては80〜200℃であることが好ましく、80〜160℃であることがより好ましく、80〜130℃であることが特に好ましい。   The dissociation temperature of the blocking agent is preferably 80 to 200 ° C, more preferably 80 to 160 ° C, and particularly preferably 80 to 130 ° C.

[ポリオール]
ブロック化イソシアネート化合物は更にポリオールが付加したポリオール付加物であることが好ましい。ポリオールを含有させることにより、ブロック化イソシアネート化合物の保存安定性を向上させることができる。また加熱して画像を形成した際の画像強度が向上し、耐刷性が向上する。
[Polyol]
The blocked isocyanate compound is preferably a polyol adduct obtained by further adding a polyol. By containing a polyol, the storage stability of the blocked isocyanate compound can be improved. Further, the image strength when heated to form an image is improved, and the printing durability is improved.

ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールメタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキシレングリコール、ブタンジオール、ヘキサメチレングリコール、キシリレングリコール、ソルビトール、しょ糖などの多価アルコール、これらの多価アルコールあるいはポリアミンにエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを、あるいは両者を付加重合して得られるポリエーテルポリオール類、ポリテトラメチレンエーテルポリオール類、ポリカーボネートポリオール類、ポリカプロラクトンポリオール類、更に上記多価アルコールと、例えば、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、アゼライン酸などの多塩基酸とを反応させて得られるポリエステルポリオール類、ポリブタジエンポリオール類、アクリルポリオール類、ヒマシ油、ポリエーテルポリオールまたはポリエステルポリオールにビニルモノマーをグラフトして得られるポリマーポリオール類、エポキシ変性ポリオール類などが挙げられる。   Examples of the polyol include ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, glycerin, trimethylol methane, trimethylol propane, pentaerythritol, neopentyl glycol, 1,6-hexylene glycol, butanediol, hexamethylene glycol, xylylene glycol, Polyhydric alcohols such as sorbitol and sucrose, polyether polyols obtained by addition polymerization of these polyhydric alcohols or polyamines with ethylene oxide or propylene oxide, or both, polytetramethylene ether polyols, polycarbonate polyols, poly Caprolactone polyols and the above polyhydric alcohols, for example, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, seba A vinyl monomer is grafted onto polyester polyols, polybutadiene polyols, acrylic polyols, castor oil, polyether polyols or polyester polyols obtained by reacting with polybasic acids such as acid, fumaric acid, maleic acid and azelaic acid. And polymer polyols and epoxy-modified polyols obtained by the above method.

これらの中では、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールメタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキシレングリコール、ブタンジオール、ヘキサメチレングリコール、キシリレングリコール、ソルビトールなど分子量50〜5,000のポリオールを好ましく使用することができ、特に分子量50〜500程度の低分子量ポリオールをより好ましく使用できる。   Among these, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, glycerin, trimethylol methane, trimethylol propane, pentaerythritol, neopentyl glycol, 1,6-hexylene glycol, butanediol, hexamethylene glycol, xylylene glycol Polyol having a molecular weight of 50 to 5,000 such as sorbitol can be preferably used, and a low molecular weight polyol having a molecular weight of about 50 to 500 can be particularly preferably used.

ポリオールの好ましい含有量としては、ポリオール中の水酸基がイソシアネート化合物のイソシアネート基に対して0.1〜0.9当量となるような範囲であり、この範囲において特にブロック化イソシアネート化合物の保存安定性が向上する。   The preferred content of the polyol is in such a range that the hydroxyl group in the polyol is 0.1 to 0.9 equivalent to the isocyanate group of the isocyanate compound. In this range, the storage stability of the blocked isocyanate compound is particularly good. improves.

[ブロック化方法]
イソシアネート化合物のブロック化方法としては、例えば、イソシアネート化合物を無水の条件下、不活性ガス雰囲気下で40〜120℃程度に加温し、攪拌しながらブロック剤を所定量滴下して混合し、攪拌を続けながら数時間かけて反応させるという方法が挙げられる。この際、何らかの溶媒を用いることもできる。また公知の触媒、例えば、有機金属触媒、第3級アミン、金属塩触媒等を用いることもできる。
[Blocking method]
As a method for blocking an isocyanate compound, for example, the isocyanate compound is heated to about 40 to 120 ° C. in an inert gas atmosphere under anhydrous conditions, and a predetermined amount of the blocking agent is dropped and mixed while stirring, followed by stirring. There is a method of reacting over several hours while continuing. At this time, any solvent can be used. Moreover, a well-known catalyst, for example, an organometallic catalyst, a tertiary amine, a metal salt catalyst, etc. can also be used.

有機金属触媒としては、例えば、スタナスオクトエート、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレートなどのスズ系触媒、2−エチルヘキサン酸鉛などの鉛系触媒などが、第3級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、トリエチレンジアミン、N,N′−ジメチルピペラジン、ジアザビシクロ[2.2.2]−オクタンなどが、金属塩触媒としては、例えば、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸鉛酸化リチウムなどが挙げられる。これらの触媒の使用量は、ポリイソシアネート組成物100質量部に対し通常0.001〜2質量部、好ましくは0.01〜1質量部である。   Examples of the organometallic catalyst include stannous catalysts such as stannous octoate, dibutyltin diacetate, and dibutyltin dilaurate, and lead-based catalysts such as lead 2-ethylhexanoate. Examples of the tertiary amine include triethylamine. N, N-dimethylcyclohexylamine, triethylenediamine, N, N′-dimethylpiperazine, diazabicyclo [2.2.2] -octane, etc., as the metal salt catalyst, for example, cobalt naphthenate, calcium naphthenate, naphthene Examples include lead acid lithium oxide. The usage-amount of these catalysts is 0.001-2 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polyisocyanate compositions, Preferably it is 0.01-1 mass part.

ブロック化イソシアネート化合物において、ポリオールとの化合物でもある態様の場合は、ブロック剤及びポリオールをイソシアネート化合物と反応させるが、先にイソシアネート化合物とポリオールとを反応させた後に、残ったイソシアネート基とブロック剤とを反応させてもよく、また先にイソシアネート化合物とブロック剤とを反応させた後に、残ったイソシアネート基とポリオールとを反応させてもよい。   In the case where the blocked isocyanate compound is also a compound with a polyol, the blocking agent and the polyol are reacted with the isocyanate compound. After the isocyanate compound and the polyol are reacted first, the remaining isocyanate group and the blocking agent are reacted with each other. Alternatively, after the isocyanate compound and the blocking agent are reacted first, the remaining isocyanate group and the polyol may be reacted.

ブロック化イソシアネート化合物の好ましい平均分子量としては、重量平均分子量で500〜2,000であることが好ましく、600〜1,000であることがより好ましい。この範囲で反応性と保存安定性とのバランスが良好となる。   The average molecular weight of the blocked isocyanate compound is preferably 500 to 2,000, more preferably 600 to 1,000 in terms of weight average molecular weight. Within this range, the balance between reactivity and storage stability becomes good.

[水分散物の製造]
上述のようにして得られたブロック化イソシアネート化合物は、例えば、界面活性剤と水とを加えて、ホモジナイザ等を用いて強力に混合攪拌することで水分散物とすることができる。
[Production of water dispersion]
The blocked isocyanate compound obtained as described above can be made into an aqueous dispersion by, for example, adding a surfactant and water, and vigorously mixing and stirring using a homogenizer or the like.

界面活性剤としては、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、コハク酸ジアルキルエステルスルホン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル等のノニオン系界面活性剤、あるいはラウリルベタイン、ステアリルベタインの塩などのアルキルベタイン型の塩、ラウリル−β−アラニン、ラウリルジ(アミノエチル)グリシン、オクチルジ(アミノエチル)グリシンなどのアミノ酸型の両界面活性剤などを挙げることができる。これらは単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。これらの中ではノニオン界面活性剤が好ましい。   Examples of surfactants include anionic surfactants such as sodium dodecylbenzene sulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium dodecyl diphenyl ether disulfonate, sodium succinate dialkyl ester sulfonate, polyoxyethylene alkyl ester, polyoxyethylene alkyl aryl, and the like. Nonionic surfactants such as ether, or alkylbetaine type salts such as lauryl betaine and stearyl betaine salts, both amino acid types such as lauryl-β-alanine, lauryl di (aminoethyl) glycine, and octyldi (aminoethyl) glycine Surfactant etc. can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. Of these, nonionic surfactants are preferred.

ブロック化イソシアネート化合物水分散物の固形分としては、10〜80質量%であることが好ましい。界面活性剤の添加量としては、水分散物の固形分中の0.01〜20質量%であることが好ましい。イソシアネート化合物のブロック化反応等に有機溶媒を用いた場合には、水分散物としてから有機溶媒を除去することもできる。   The solid content of the blocked isocyanate compound aqueous dispersion is preferably 10 to 80% by mass. As addition amount of surfactant, it is preferable that it is 0.01-20 mass% in solid content of an aqueous dispersion. When an organic solvent is used for the blocking reaction of the isocyanate compound, the organic solvent can be removed after forming an aqueous dispersion.

画像形成層は水溶性素材を含んでもよく、水溶性素材としては下記のような素材を挙げることができる。   The image forming layer may contain a water-soluble material, and examples of the water-soluble material include the following materials.

[水溶性高分子化合物]
画像形成層に含有される水溶性素材としては、pH4からpH10の水溶液に溶解する公知の水溶性高分子化合物が挙げられる。
[Water-soluble polymer compound]
Examples of the water-soluble material contained in the image forming layer include known water-soluble polymer compounds that dissolve in an aqueous solution having a pH of 4 to 10.

具体的には、多糖類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂が挙げられる。これらの中では、多糖類、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドンが好ましい。   Specific examples include resins such as polysaccharides, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol (PEG), polyvinyl ether, polyacrylic acid, polyacrylate, polyacrylamide, and polyvinylpyrrolidone. Of these, polysaccharides, polyacrylic acid, polyacrylates, polyacrylamide, and polyvinylpyrrolidone are preferable.

多糖類としては、デンプン類、セルロース類、ポリウロン酸、プルラン、キトサン、またはこれらの誘導体などが使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミドとしては、分子量3,000〜100万であることが好ましく、5,000〜50万であることがより好ましい。   As polysaccharides, starches, celluloses, polyuronic acids, pullulan, chitosan, or derivatives thereof can be used, and cellulose derivatives such as methyl cellulose salts, carboxymethyl cellulose salts, hydroxyethyl cellulose salts are particularly preferable, and carboxymethyl cellulose. The sodium salt and ammonium salt are more preferable. The polyacrylic acid, polyacrylate, and polyacrylamide preferably have a molecular weight of 3,000 to 1,000,000, and more preferably 5,000 to 500,000.

これらの中ではポリアクリル酸Naといったポリアクリル酸塩が最も好ましい。ポリアクリル酸塩は親水性層の親水化処理剤としての効果が高く、画像形成層が機上現像されて現れる親水性層の表面の親水性を向上させることができる。   Of these, polyacrylates such as sodium polyacrylate are most preferred. The polyacrylate is highly effective as a hydrophilic treatment agent for the hydrophilic layer, and can improve the hydrophilicity of the surface of the hydrophilic layer that appears when the image forming layer is developed on the machine.

[オリゴ糖]
水溶性素材としては、上述の水溶性高分子化合物以外にオリゴ糖を含有させることができる。オリゴ糖としては、ラフィノース、トレハロース、マルトース、ガラクトース、スクロース、ラクトースといったものが挙げられるが、特にトレハロースが好ましい。
[oligosaccharide]
As a water-soluble material, an oligosaccharide can be contained in addition to the water-soluble polymer compound described above. Examples of the oligosaccharide include raffinose, trehalose, maltose, galactose, sucrose, and lactose, and trehalose is particularly preferable.

[画像形成層に含有可能なその他の素材]
また画像形成層には光熱変換素材として、赤外吸収色素を含有させることができる。赤外吸収色素の含有量としては、色素の可視光での着色の程度によって、機上現像時の印刷機汚染との兼ね合いを考慮する必要があるが、一般的に印刷版材料の単位面積あたりとして、0.001g/m2以上、0.2g/m2未満であることが好ましく、0.05g/m2未満であることがより好ましい。また可視光での着色が少ない色素を用いることが好ましいことは言うまでもない。
[Other materials that can be contained in the image forming layer]
The image forming layer can contain an infrared absorbing dye as a photothermal conversion material. As the content of the infrared absorbing dye, it is necessary to consider the balance with the printing press contamination during on-press development depending on the degree of coloring of the dye with visible light. as, 0.001 g / m 2 or more, preferably less than 0.2 g / m 2, more preferably less than 0.05 g / m 2. Needless to say, it is preferable to use a dye that is less colored with visible light.

また画像形成層には界面活性剤を含有させることができる。Si系、またはF系等の界面活性剤を使用することができるが、特にSi元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく好ましい。該界面活性剤の含有量は親水性層全体(塗布液としては固形分)の0.01〜3質量%が好ましく、0.03〜1質量%が更に好ましい。   The image forming layer can contain a surfactant. Si-based or F-based surfactants can be used, but it is particularly preferable to use a surfactant containing Si element because there is no fear of causing printing stains. The content of the surfactant is preferably 0.01 to 3% by mass, more preferably 0.03 to 1% by mass, based on the entire hydrophilic layer (solid content as the coating solution).

(光熱変換素材)
本発明の感光性平版印刷版材料は、上記のように光熱変換素材を含む層を有することが好ましく、光熱変換素材としては後述のものが挙げられる。光熱変換素材を含む層は画像形成層であってもよいし、親水性層あるいは画像形成層に隣接する層であってもよい。光熱変換素材としては、赤外吸収色素または顔料が挙げられる。
(Photothermal conversion material)
The photosensitive lithographic printing plate material of the present invention preferably has a layer containing a photothermal conversion material as described above, and examples of the photothermal conversion material include those described below. The layer containing the photothermal conversion material may be an image forming layer, or may be a hydrophilic layer or a layer adjacent to the image forming layer. Examples of the photothermal conversion material include infrared absorbing dyes or pigments.

(赤外吸収色素)
赤外吸収色素としては、例えば、シアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。具体的には、特開昭63−139191号、特開平1−33547号、同1−160683号、同1−280750号、同1−293342号、同2−2074号、同3−26593号、同3−30991号、同3−34891号、同3−36093号、同3−36094号、同3−36095号、同3−42281号、同3−97589号、同3−103476号、同7−43851号、同7−102179号、特開2001−117201号、同2004−345257号の各公報等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種または二種以上を組み合わせて用いることができる。
(Infrared absorbing dye)
Examples of infrared absorbing dyes include organic compounds such as cyanine dyes, croconium dyes, polymethine dyes, azurenium dyes, squalium dyes, thiopyrylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, and naphthalocyanine dyes. , Azo-based, thioamide-based, dithiol-based, and indoaniline-based organometallic complexes. Specifically, JP-A-63-139191, JP-A-1-33547, 1-160683, 1-280750, 1-293342, 2-2074, 3-26593, 3-30991, 3-34891, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, 3-97589, 3-103476, 7 -43851, 7-102179, JP-A-2001-117201, 2004-345257, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。   Examples of the pigment include carbon, graphite, metal, metal oxide and the like.

カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度(d50)は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。   As carbon, furnace black or acetylene black is particularly preferable. The particle size (d50) is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

グラファイトとしては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子を使用することができる。   As the graphite, fine particles having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less can be used.

金属としては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子であれば、いずれの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等何れの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子(Ag、Au等)が好ましい。   Any metal can be used as long as it is a fine particle having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less. The shape may be any shape such as a spherical shape, a piece shape, or a needle shape. Colloidal metal fine particles (Ag, Au, etc.) are particularly preferable.

金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。可視光域で黒色を呈している素材としては、黒色酸化鉄(Fe34)や前述の二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。具体的には、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Sb、Baから選ばれる二種以上の金属からなる複合金属酸化物である。これらは特開平8−27393号、同9−25126号、同9−237570号、同9−241529号、同10−231441号の各公報等に開示されている方法により製造することができる。 As the metal oxide, a material that is black in the visible light region or a material that is conductive or that is a semiconductor can be used. Examples of the material exhibiting black color in the visible light region include black iron oxide (Fe 3 O 4 ) and black mixed metal oxides containing two or more of the aforementioned metals. Specifically, it is a composite metal oxide composed of two or more metals selected from Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Sb, and Ba. These can be produced by the methods disclosed in JP-A-8-27393, 9-25126, 9-237570, 9-241529, and 10-231441.

本発明に用いることができる複合金属酸化物としては、特にCu−Cr−Mn系またはCu−Fe−Mn系の複合金属酸化物であることが好ましい。Cu−Cr−Mn系の場合には、6価クロムの溶出を低減させるために、特開平8−27393号公報に開示されている処理を施すことが好ましい。これらの複合金属酸化物は添加量に対する着色、つまり光熱変換効率が良好である。これらの複合金属酸化物は平均1次粒子径が1μm以下であることが好ましく、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲にあることがより好ましい。平均1次粒子径が1μm以下とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となり、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となる。但し、添加量に対する光熱変換能は粒子の分散度にも大きく影響を受け、分散が良好であるほど良好となる。従って、これらの複合金属酸化物粒子は層の塗布液に添加する前に別途公知の方法により分散して、分散液(ペースト)としておくことが好ましい。平均1次粒子径が0.01未満となると分散が困難となるため好ましくない。分散には適宜分散剤を使用することができる。分散剤の添加量は複合金属酸化物粒子に対して0.01〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましい。分散剤の種類は特に限定しないが、Si元素を含むSi系界面活性剤を用いることが好ましい。   The composite metal oxide that can be used in the present invention is particularly preferably a Cu-Cr-Mn-based or Cu-Fe-Mn-based composite metal oxide. In the case of a Cu—Cr—Mn system, it is preferable to perform the treatment disclosed in JP-A-8-27393 in order to reduce the elution of hexavalent chromium. These composite metal oxides are colored with respect to the amount added, that is, have good photothermal conversion efficiency. These composite metal oxides preferably have an average primary particle size of 1 μm or less, and more preferably have an average primary particle size in the range of 0.01 to 0.5 μm. When the average primary particle diameter is 1 μm or less, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount becomes better, and when the average primary particle diameter is within the range of 0.01 to 0.5 μm, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is further improved. It becomes good. However, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is greatly affected by the degree of dispersion of the particles, and the better the dispersion, the better. Therefore, it is preferable to disperse these composite metal oxide particles by a known method separately before adding them to the layer coating solution to prepare a dispersion (paste). An average primary particle size of less than 0.01 is not preferable because dispersion becomes difficult. A dispersing agent can be appropriately used for the dispersion. The addition amount of the dispersant is preferably 0.01 to 5% by mass, and more preferably 0.1 to 2% by mass with respect to the composite metal oxide particles. Although the kind of dispersing agent is not specifically limited, it is preferable to use Si type surfactant containing Si element.

素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材としては、例えば、SbをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したIn23(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが挙げられる。また、これらの金属酸化物で芯材(BaSO4、TiO2、9Al23・2B2O、K2O・nTiO2等)を被覆したものも使用することができる。これらの粒径は0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下である。 Examples of materials that have conductivity or are semiconductors include reduced Sb-doped SnO 2 (ATO), Sn-added In 2 O 3 (ITO), TiO 2 , and TiO 2 . Examples thereof include TiO (titanium oxynitride, generally titanium black). Further, it is also possible to use those obtained by coating the core material (BaSO 4, TiO 2, 9Al 2 O 3 · 2B 2 O, K 2 O · nTiO 2 , etc.) in these metal oxides. These particle sizes are 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

これらの光熱変換素材の添加量としてはこれを含む層に対して0.1〜50質量%であり、1〜30質量%が好ましく、3〜25質量%がより好ましい。   The addition amount of these photothermal conversion materials is 0.1 to 50% by mass, preferably 1 to 30% by mass, and more preferably 3 to 25% by mass with respect to the layer containing the material.

画像露光の光源としては、例えば、レーザー、発光ダイオード、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ましい。この場合はマスク材料を使用せず、直接書込みを行うことができる。   Examples of light sources for image exposure include lasers, light emitting diodes, xenon lamps, xenon flash lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, high pressure mercury lamps, and electrodeless light sources. When using an array-type light source such as a light-emitting diode array, or when controlling exposure of a light source such as a halogen lamp, metal halide lamp, or tungsten lamp with an optical shutter material such as liquid crystal or PLZT, digital Exposure is possible and preferable. In this case, direct writing can be performed without using a mask material.

レーザー露光の場合には、光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が可能なのでマスク材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。またレーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。   Laser exposure is suitable for direct writing without using a mask material because light exposure can be performed in the form of a beam in accordance with image data. When a laser is used as a light source, it is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible.

レーザーの走査方法としては円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査では記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査とし、レーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査ではドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射し、光学系の一部または全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部または全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。平面走査ではポリゴンミラーやガルバノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。   Laser scanning methods include cylindrical outer surface scanning, cylindrical inner surface scanning, and planar scanning. In cylindrical outer surface scanning, laser exposure is performed while rotating a drum around which the recording material is wound, and the rotation of the drum is used as main scanning, and the movement of laser light is used as sub scanning. In cylindrical inner surface scanning, a recording material is fixed to the inner surface of a drum, a laser beam is irradiated from the inside, and a main scanning is performed in the circumferential direction by rotating part or all of the optical system. Is linearly moved parallel to the axis of the drum to perform sub-scanning in the axial direction. In plane scanning, a laser beam main scan is performed by combining a polygon mirror, a galvanometer mirror, and an fθ lens, and a sub-scan is performed by moving a recording medium. Cylindrical outer surface scanning and cylindrical inner surface scanning are easier to increase the accuracy of the optical system and are suitable for high-density recording.

現像処理が必要な場合には、自動現像機を用いて感光性平版印刷版材料を現像処理する方法が態様である。   In the case where development processing is required, a method of developing the photosensitive lithographic printing plate material using an automatic processor is an embodiment.

印刷は一般的な平版印刷機を用いて行うことができる。近年印刷業界においても環境保全が叫ばれ、印刷インキにおいては石油系の揮発性有機化合物(VOC)を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあるが、本発明の効果はこのような環境対応の印刷インキを使用した場合に特に顕著である。環境対応の印刷インキとしては、大日本インキ化学工業社製の大豆油インキ“ナチュラリス100”、東洋インキ社製のVOCゼロインキ“TKハイエコーNV”、東京インキ社製のプロセスインキ“ソイセルボ”等が挙げられる。   Printing can be performed using a general lithographic printing machine. In recent years, the printing industry has been screaming for environmental protection, and in printing inks, inks that do not use petroleum-based volatile organic compounds (VOC) have been developed and are becoming popular. This is particularly noticeable when the printing inks are used. Environmentally friendly printing inks include soybean oil ink “Naturalis 100” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., VOC zero ink “TK Hi-Echo NV” manufactured by Toyo Ink, and process ink “Soyselbo” manufactured by Tokyo Ink. Can be mentioned.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, the aspect of this invention is not limited to this. In the examples, “parts” represents “parts by mass” unless otherwise specified.

〔基材の作製〕
(基材1の作製)
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、50℃の5質量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、溶解量が2g/m2になるように溶解処理を行い水洗した後、25℃の10質量%硝酸水溶液中に30秒間浸漬し、中和処理した後水洗した。次いで、このアルミニウム板を塩酸10g/L、アルミ0.5g/L含有する電解液により、正弦波の交流を用いて、電流密度が60A/dm2の条件で電解粗面化処理を行った。
[Preparation of substrate]
(Preparation of substrate 1)
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 5% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 50 ° C., dissolved so that the dissolved amount became 2 g / m 2 , and washed with water. Then, it was immersed in a 10% by mass aqueous nitric acid solution at 25 ° C. for 30 seconds, neutralized and then washed with water. Next, this aluminum plate was subjected to an electrolytic surface roughening treatment with an electrolytic solution containing hydrochloric acid 10 g / L and aluminum 0.5 g / L using a sinusoidal alternating current at a current density of 60 A / dm 2 .

この際の電極と試料表面との距離は10mmとした。電解粗面化処理は12回に分割して行い、一回の処理電気量(陽極時)を80C/dm2とし、合計で960C/dm2の処理電気量(陽極時)とした。また各回の粗面化処理の間に1秒間の休止時間を設けた。 The distance between the electrode and the sample surface at this time was 10 mm. The electrolytic surface-roughening treatment was performed in 12 steps, and the amount of electricity processed at one time (when anode) was 80 C / dm 2, and the amount of electricity treated was 960 C / dm 2 (when anode). Further, a pause time of 1 second was provided between each surface roughening treatment.

電解粗面化後は50℃に保たれた10質量%燐酸水溶液中に浸漬して、粗面化された面のスマット含めた溶解量が1.2g/m2になるようにエッチングし、水洗した。次いで20%硫酸水溶液中で、20Vの定電圧条件で電気量が250C/dm2となるように陽極酸化処理を行い、更に水洗した。次いで水洗後の表面水をスクィーズした後、85℃に保たれた2質量%の3号珪酸ソーダ水溶液に30秒間浸漬し、水洗を行った後に、0.4質量%のポリビニルホスホン酸60℃で30秒間浸漬し、水洗した。表面をスクィーズして、直ちに180℃で50秒間熱処理を行い基材1を得た。 After electrolytic surface roughening, the surface is immersed in a 10% by mass phosphoric acid aqueous solution maintained at 50 ° C. and etched so that the amount of dissolution including the smut of the roughened surface becomes 1.2 g / m 2 , and washed with water. did. Next, anodization was performed in a 20% sulfuric acid aqueous solution so that the amount of electricity was 250 C / dm 2 under a constant voltage condition of 20 V, followed by washing with water. Next, after squeezing the surface water after washing with water, it was immersed in a 2% by weight No. 3 sodium silicate aqueous solution maintained at 85 ° C. for 30 seconds, washed with water, and then washed with 0.4% by weight polyvinyl phosphonic acid at 60 ° C. It was immersed for 30 seconds and washed with water. The surface was squeezed and immediately heat treated at 180 ° C. for 50 seconds to obtain a substrate 1.

基材1の平均粗さは、SE1700α(小坂研究所(株))を用いて測定したところ、0.55μmであった。   The average roughness of the substrate 1 was 0.55 μm as measured using SE1700α (Kosaka Laboratory Ltd.).

基材1の陽極酸化処理後の珪酸ソーダ処理、ポリビニルホスホン酸処理、熱処理条件を表1のように変えて、基材2〜8を作製した。   Substrates 2 to 8 were produced by changing the sodium silicate treatment, polyvinylphosphonic acid treatment and heat treatment conditions after the anodizing treatment of the substrate 1 as shown in Table 1.

Figure 2006247856
Figure 2006247856

〔感光性印刷版材料の作製〕
(印刷版材料1)
上記製造例で得たアルミニウム基板上に下記画像形成層塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、55℃で3分間乾燥した。画像形成層の乾燥付量は0.6g/m2であった。次いで45℃で24時間のエイジング処理を行って、印刷版材料1を作製した。
[Preparation of photosensitive printing plate material]
(Printing plate material 1)
The following image forming layer coating solution was applied onto the aluminum substrate obtained in the above production example using a wire bar and dried at 55 ° C. for 3 minutes. The dry weight of the image forming layer was 0.6 g / m 2 . Subsequently, the printing plate material 1 was produced by performing the aging process for 24 hours at 45 degreeC.

疎水化前駆体:熱可塑性微粒子(アクリロニトリル・スチレン・アクリル酸アルキル・メタアクリル酸共重合体、エマルション:ヨドゾールGD87B、日本NSC社製、平均粒径90nm、Tg60℃、固形分45質量%) 20.00
水溶性樹脂(ポリアクリル酸ナトリウム、アクアリックDL522、日本触媒社製、固形分30質量%) 1.67
赤外吸収色素(ADS830WS、American Dye Source社製、1質量%水溶液) 50.00
純水 28.33
上記画像形成層用塗布液の固形分濃度(質量%)は10.0%であった。
Hydrophobized precursor: thermoplastic fine particles (acrylonitrile / styrene / alkyl acrylate / methacrylic acid copolymer, emulsion: iodosol GD87B, manufactured by NSC Japan, average particle size 90 nm, Tg 60 ° C., solid content 45 mass%) 00
Water-soluble resin (sodium polyacrylate, Aqualic DL522, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., solid content: 30% by mass) 1.67
Infrared absorbing dye (ADS830WS, manufactured by American Dye Source, 1 mass% aqueous solution) 50.00
Pure water 28.33
The solid content concentration (% by mass) of the image forming layer coating solution was 10.0%.

(印刷版材料2)
上記製造例で得たアルミニウム基板上に、マイクロカプセル液を含む下記の感熱層塗布液をバー塗布した後、オーブンで100℃60秒の条件で乾燥し、感熱層の乾燥塗布量1.0g/m2の印刷版材料2を作製した。
(Printing plate material 2)
The following heat-sensitive layer coating solution containing a microcapsule solution was bar-coated on the aluminum substrate obtained in the above production example, and then dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds. A printing plate material 2 of m 2 was produced.

水 35.4g
マイクロカプセル液 9.0g
酸前駆体 0.24g
マイクロカプセル液の合成
油相成分として、ビスフェノールAのビス(ビニルオキシエチル)エーテル4.5g、トリメチロールプロパンとキシリレンジイソシアナートとの付加体(三井武田ケミカル(株)製タケネートD−110N、マイクロカプセル壁材)5g、ミリオネートMR−200(日本ポリウレタン(株)製芳香族イソシアネートオリゴマー、マイクロカプセル壁材)3.75g、赤外吸収色素1.5g、パイオニンA41C(竹本油脂(株)界面活性剤)0.1gを酢酸エチル18.4gに溶解した。水相成分としてPVA205(クラレ製ポリビニルアルコール)の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分及び水相成分をホモジナイザーを用い、12000rpmで10分間乳化した。その後テトラエチレンペンタミン(5官能アミン、マイクロカプセル壁架橋剤)0.38gを水26gに溶解したものを添加し、水冷しながら30分、更に65℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は24質量%であり、平均粒径は0.3μmであった。
35.4 g of water
Microcapsule liquid 9.0g
0.24 g of acid precursor
Synthesis of microcapsule solution As oil phase components, 4.5 g of bis (vinyloxyethyl) ether of bisphenol A, an adduct of trimethylolpropane and xylylene diisocyanate (Takenate D-110N manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., micro Capsule wall material) 5 g, Millionate MR-200 (Nippon Polyurethane Co., Ltd. aromatic isocyanate oligomer, microcapsule wall material) 3.75 g, infrared absorbing dye 1.5 g, Pionine A41C (Takemoto Yushi Co., Ltd. surfactant) 0.1 g was dissolved in 18.4 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of PVA205 (Kuraray polyvinyl alcohol) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 12000 rpm for 10 minutes using a homogenizer. Thereafter, a solution obtained by dissolving 0.38 g of tetraethylenepentamine (pentafunctional amine, microcapsule wall cross-linking agent) in 26 g of water was added, and the mixture was stirred for 30 minutes while being cooled with water, and further at 65 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content concentration of 24% by mass and an average particle size of 0.3 μm.

Figure 2006247856
Figure 2006247856

表1の基材と上記印刷版材料1、2の組み合わせで、表2に記載の実施例1〜6、比較例1、2の印刷版材料を作製した。   Printing plate materials of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 described in Table 2 were prepared by combining the base material of Table 1 and the printing plate materials 1 and 2 described above.

〔感光性印刷版材料の露光、印刷〕
印刷版材料を画像形成層を外側にして、外面露光ドラムに巻付け固定した。露光には波長830nm、スポット径約18μmのレーザービームを用い、露光エネルギーを印刷版材料1に対しては400mJ/cm2、2400dpi(dpiとは1インチ即ち2.54cmあたりのドット数を表す)、175線で画像を形成した。
[Exposure and printing of photosensitive printing plate materials]
The printing plate material was wound around and fixed to an external exposure drum with the image forming layer facing outside. A laser beam having a wavelength of 830 nm and a spot diameter of about 18 μm is used for exposure, and the exposure energy is 400 mJ / cm 2 for the printing plate material 1 and 2400 dpi (dpi represents the number of dots per inch, that is, 2.54 cm). An image was formed with 175 lines.

露光した画像は下くわえ側が2cm幅の非画像部、その上に2cm幅のベタ帯、その他は全面50%の網点画像であった。   The exposed image was a non-image portion having a width of 2 cm on the lower side, a solid band having a width of 2 cm on the non-image portion, and a halftone dot image having a whole surface of 50%.

印刷機として、三菱重工業社製DAIYA1F−1を用いた。版胴に接触するローラは、水付けローラ:1、インキローラ:4の計5本であり、図1に示したような配置であった。図1において、ローラAは水付けローラであり、ローラB、C、D、Eはインキローラであり、版胴1の回転時に版胴1に装着された印刷版材料にA、B、C、D、Eの順に接触する。各ローラの適正ニップ幅は下記に示す通りである。   As a printing machine, DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. was used. There were a total of five rollers in contact with the plate cylinder, watering roller: 1 and ink roller: 4, and the arrangement was as shown in FIG. In FIG. 1, roller A is a watering roller, rollers B, C, D, and E are ink rollers, and A, B, C, and A are applied to the printing plate material mounted on the plate cylinder 1 when the plate cylinder 1 rotates. Touch in order of D and E. The appropriate nip width of each roller is as shown below.

ローラA:5mm
ローラB:4mm
ローラC:4mm
ローラD:4mm
ローラE:3mm
印刷に先立って、各ローラのニップ幅と調整ねじ回転角との関係を調べた。
Roller A: 5mm
Roller B: 4mm
Roller C: 4mm
Roller D: 4mm
Roller E: 3mm
Prior to printing, the relationship between the nip width of each roller and the rotation angle of the adjusting screw was examined.

〔評価〕
印刷評価にはコート紙、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インキ(東洋インキ社製、トーヨーキングハイユニティM紅)を使用した。湿し水供給量、インキ供給量はPS版印刷時と同等の設定とした(基準設定)。印刷刷り出しのシークエンスは版胴を回転させながら、版胴に水付けローラを接触させてから3回転回転させた後、インキローラを接触させて(4本同時)3回転回転させたタイミングで印刷用紙が送られて、胴入れ、印刷が行われるシークエンスとした。
[Evaluation]
For printing evaluation, coated paper, fountain solution: 2% by mass of Astro Mark 3 (manufactured by Nikken Chemical Laboratories) and ink (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., Toyo King High Unity M Red) were used. The fountain solution supply amount and the ink supply amount were set to be the same as those for PS plate printing (standard setting). The sequence of printing and printing is printed at the timing when the plate cylinder is rotated, the watering roller is brought into contact with the plate cylinder and then rotated three times, and then the ink roller is brought into contact (simultaneously four) and rotated three times. The sequence was such that paper was sent, cylinderd and printed.

印刷評価は版胴に露光済みの版を取り付け、行った。結果を表2に示す。   Printing evaluation was performed by attaching an exposed plate to the plate cylinder. The results are shown in Table 2.

(機上現像性−刷り出し性)
刷り出し後1〜200枚までの印刷物を観察し、刷り出し性の評価を行った。非画像部の汚れがなく、ベタ濃度が1.5以上で、且つ50%の網点画像のカラミがない状態が得られた印刷枚数を測定し、機上現像性の指標とした。
(On-machine developability-printability)
Up to 1 to 200 printed materials were observed after printing, and printing performance was evaluated. The number of printed sheets in which a non-image area was not stained, a solid density was 1.5 or more, and no halftone dot image was 50% was measured and used as an index for on-press developability.
.

(印刷汚れ)
印刷途中に非画線部が汚れやすくなる枚数を得た。
(Print stains)
The number of sheets in which the non-image area was easily stained during printing was obtained.

(耐刷性)
175LPI(LPIとは、1インチ即ち2.54cmあたりのライン数を表す)、5%の小点が3%に減少するところを終点として評価した。
(Print life)
175 LPI (LPI represents the number of lines per inch, that is, 2.54 cm), and the point at which the 5% dot was reduced to 3% was evaluated as the end point.

Figure 2006247856
Figure 2006247856

表2の結果より、本発明の感光性平版印刷版材料は、刷り出し性、印刷汚れ、耐刷性いずれにおいても優れていることが分かる。   From the results in Table 2, it can be seen that the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention is excellent in all of printing performance, printing stain, and printing durability.

実施例で用いた印刷機の一部の模式図である。It is a partial schematic diagram of the printing machine used in the examples.

符号の説明Explanation of symbols

1 版胴
2 露光された平版印刷版材料
A 湿し水供給ローラ
B インキ供給ローラ
C インキ供給ローラ
D インキ供給ローラ
E インキ供給ローラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plate cylinder 2 Exposed lithographic printing plate material A Dampening water supply roller B Ink supply roller C Ink supply roller D Ink supply roller E Ink supply roller

Claims (4)

粗面化処理及び陽極酸化処理した後、親水性処理として珪酸ソーダ処理を施した後にポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理し、その後150〜230℃で乾燥することを特徴とする感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体の製造方法。 A photosensitive lithographic printing plate comprising a roughening treatment and an anodizing treatment, followed by a sodium silicate treatment as a hydrophilic treatment, a treatment with an aqueous solution containing polyvinylphosphonic acid, and then drying at 150 to 230 ° C. A method for producing an aluminum plate support for materials. 請求項1に記載の感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体の製造方法により製造されたことを特徴とする感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体。 An aluminum plate support for a photosensitive lithographic printing plate material produced by the method for producing an aluminum plate support for a photosensitive lithographic printing plate material according to claim 1. 請求項2に記載の感光性平版印刷版材料用のアルミニウム板支持体上に画像形成層を有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。 A photosensitive lithographic printing plate material comprising an image forming layer on the aluminum plate support for the photosensitive lithographic printing plate material according to claim 2. 前記画像形成層が感熱画像形成層であることを特徴とする請求項3に記載の感光性平版印刷版材料。 The photosensitive lithographic printing plate material according to claim 3, wherein the image forming layer is a heat-sensitive image forming layer.
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