JP2006243719A - Manufacturing method for liquid crystal display device, spacer particle dispersion liquid, and liquid crystal display device - Google Patents

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Tsunehisa Ueda
倫久 上田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a liquid crystal display device with which spacer particles can be arranged at positions corresponding to a non-pixel region on a substrate by using an ink jet device to suppress contamination of liquid crystal and an alignment film, and a spacer particle dispersion liquid, and the liquid crystal display device. <P>SOLUTION: The manufacturing method for the liquid crystal display device 1 which has a pixel region and the non-pixel region includes the stages of: discharging the spacer particle dispersion liquid having spacer particles 14 dispersed in a medium on the surface of a 1st substrate 2 or 2nd substrate 3 by using the ink jet device and arranging the spacer particles at designated positions corresponding to the non-pixel region; and placing the 1st substrate and 2nd substrate oppositely to each other one over the other across the liquid crystal and spacer particles. In the stage of overlapping the substrates oppositely to each other across the liquid crystal and spacer particles, the liquid crystal varies in volume resistance value by ≥1% before and after the liquid crystal is arranged, and change in nematic isotropic phase shift temperature of the liquid crystal is ≤±1°C. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上に配置する工程を備える液晶表示装置の製造方法に関し、特に、スペーサ粒子分散液が改良された液晶表示装置の製造方法、スペーサ粒子分散液、及び、液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device including a step of disposing spacer particles on a substrate using an inkjet device, and in particular, a method for manufacturing a liquid crystal display device with an improved spacer particle dispersion, and a spacer particle dispersion. And a liquid crystal display device.

現在、液晶表示装置はパソコン、携帯電子機器等に広く用いられている。一般的な液晶表示装置では、図9に示されているように、2枚の透明基板201、202が対向し合うように重ね合わせられた構造を有する。 Currently, liquid crystal display devices are widely used in personal computers, portable electronic devices, and the like. As shown in FIG. 9, a general liquid crystal display device has a structure in which two transparent substrates 201 and 202 are stacked so as to face each other.

透明基板201の内表面には、カラーフィルタ203及びカラーフィルタ203を画するブラックマトリックス204が形成されている。カラーフィルタ203及びブラックマトリックス204上には、オーバーコート層205が形成されている。オーバーコート層205上には、透明電極206が形成されている。更に、透明電極206を覆うように、配向膜207が形成されている。他方、透明基板202の内表面には、カラーフィルタ203と対向する位置において、透明電極208が形成されている。更に、透明基板202の内表面と透明電極208とを覆うように、配向膜209が形成されている。一方、透明基板201、202の外表面には、それぞれ偏光板210、211が配置されている。透明電極206、208は、画素領域に配置された画素電極と、画素領域以外に配置された電極とを有する。 On the inner surface of the transparent substrate 201, a color filter 203 and a black matrix 204 that defines the color filter 203 are formed. An overcoat layer 205 is formed on the color filter 203 and the black matrix 204. A transparent electrode 206 is formed on the overcoat layer 205. Further, an alignment film 207 is formed so as to cover the transparent electrode 206. On the other hand, a transparent electrode 208 is formed on the inner surface of the transparent substrate 202 at a position facing the color filter 203. Further, an alignment film 209 is formed so as to cover the inner surface of the transparent substrate 202 and the transparent electrode 208. On the other hand, polarizing plates 210 and 211 are disposed on the outer surfaces of the transparent substrates 201 and 202, respectively. The transparent electrodes 206 and 208 include a pixel electrode disposed in the pixel region and an electrode disposed outside the pixel region.

透明基板201と透明基板202とは、それぞれの外周縁近傍において、シール剤212を介して接合されている。配向膜207と配向膜209との空隙には、スペーサ粒子213が配置されており、更に液晶214が封入されている。この液晶表示装置において、スペーサ粒子213は、2枚の透明基板201、202の間隔を規制し、適正な液晶層の厚み(セルギャップ)を維持するように機能している。 The transparent substrate 201 and the transparent substrate 202 are bonded via a sealant 212 in the vicinity of the outer peripheral edge of each. Spacer particles 213 are arranged in the gap between the alignment film 207 and the alignment film 209, and liquid crystal 214 is sealed. In this liquid crystal display device, the spacer particles 213 function to regulate the distance between the two transparent substrates 201 and 202 to maintain an appropriate liquid crystal layer thickness (cell gap).

液晶表示装置200を得る際に、スペーサ粒子213を配置する方法としては、従来、イソプロパノール等の溶剤を用いて散布する湿式散布法や、溶剤を使用せず空気の圧力を利用してスペーサ粒子を散布する乾式散布方法等が用いられていた。
この製造方法では、スペーサは、透明基板201の基板上に均一にランダムに散布されるため、図9に示されているように、画素電極上すなわち液晶表示装置200の表示部(画素領域)にもスペーサ粒子213が配置され易かった。スペーサ粒子は一般的に合成樹脂やガラス等から形成されており、画素電極上にスペーサ粒子が配置されると消偏作用によりスペーサ粒子部分が光漏れを起こす。また、スペーサ粒子表面での液晶の配向が乱れると光抜けが起こり、コントラストや色調が低下し、表示品質が悪化する。他方、TFT液晶表示装置においては、基板上にTFT素子が配置されている。スペーサ粒子がこのTFT素子上に配置されると、基板に圧力が加わったときに素子が破損することがあった。
As a method of arranging the spacer particles 213 when obtaining the liquid crystal display device 200, conventionally, the spacer particles 213 are dispersed using a wet spraying method using a solvent such as isopropanol, or using the pressure of air without using a solvent. A dry spraying method for spraying was used.
In this manufacturing method, since the spacers are uniformly and randomly distributed on the substrate of the transparent substrate 201, as shown in FIG. 9, on the pixel electrode, that is, on the display unit (pixel region) of the liquid crystal display device 200. Also, the spacer particles 213 were easily arranged. The spacer particles are generally made of synthetic resin, glass, or the like, and when the spacer particles are arranged on the pixel electrode, the spacer particle portion leaks light due to a biasing action. Further, when the alignment of the liquid crystal on the surface of the spacer particles is disturbed, light leakage occurs, the contrast and color tone are lowered, and the display quality is deteriorated. On the other hand, in a TFT liquid crystal display device, TFT elements are arranged on a substrate. When spacer particles are disposed on the TFT element, the element may be damaged when pressure is applied to the substrate.

このようなスペーサのランダム散布に伴う問題点を解決するために、スペーサを遮光層(非画素領域)下に配置する種々の試みがなされている。 In order to solve the problems associated with random dispersion of the spacers, various attempts have been made to dispose the spacers under the light shielding layer (non-pixel region).

スペーサを特定の位置にのみ配置する方法として、例えば、特許文献1には、開口部を有するマスクを配置させたい位置と合致させた後に、マスクを通してスペーサを散布する方法が開示されている。一方、特許文献2には、感光体に静電的にスペーサを吸着させた後、透明基板にスペーサを転写する方法が開示されている。また、特許文献3には、基板上の画素電極に電圧を印加し、帯電させたスペーサを散布することで、静電的斥力によって特定の位置にスペーサを配置させる液晶表示装置の製造方法が開示されている。 As a method of arranging the spacers only at specific positions, for example, Patent Document 1 discloses a method of dispersing the spacers through the mask after matching the position where the mask having the opening is desired to be arranged. On the other hand, Patent Document 2 discloses a method in which a spacer is electrostatically attracted to a photoconductor and then transferred to a transparent substrate. Patent Document 3 discloses a method for manufacturing a liquid crystal display device in which a spacer is arranged at a specific position by electrostatic repulsion by applying a voltage to pixel electrodes on a substrate and dispersing charged spacers. Has been.

しかしながら、特許文献1又は特許文献2に記載の方法では、基板上にマスクや感光体が直接接触するために、基板上の配向膜が損傷を受けがちであった。そのため、液晶表示の画質が低下しがちであった。一方、特許文献3に記載の方法では、配置させるパターンに従った電極を必要とするため、任意の位置にスペーサを配置することが不可能であった。 However, in the method described in Patent Document 1 or Patent Document 2, since the mask and the photoconductor are in direct contact with the substrate, the alignment film on the substrate tends to be damaged. Therefore, the image quality of the liquid crystal display tends to deteriorate. On the other hand, in the method described in Patent Document 3, an electrode according to the pattern to be arranged is required, and therefore it is impossible to arrange the spacer at an arbitrary position.

他方、特許文献4には、インクジェット装置を用いてスペーサを配置する方法が開示されている。この方法では、基板そのものにマスクや感光体が直接接触することがなく、任意の位置に任意のパターンでスペーサを配置できる。
特開平4−198919号公報 特開平6−258647号公報 特開平10−339878号公報 特開昭57−58124号公報
On the other hand, Patent Document 4 discloses a method of arranging spacers using an ink jet apparatus. In this method, the mask and the photoconductor do not come into direct contact with the substrate itself, and the spacer can be arranged in an arbitrary pattern at an arbitrary position.
Japanese Patent Laid-Open No. 4-198919 JP-A-6-258647 JP-A-10-339878 JP-A-57-58124

上述したように特許文献1〜3に記載の方法では、基板上の配向膜が損傷したり、任意の位置にスペーサを配置できないことがあった。 As described above, in the methods described in Patent Documents 1 to 3, the alignment film on the substrate may be damaged, or the spacer may not be disposed at an arbitrary position.

他方、上記特許文献4に記載のスペーサ粒子の散布方法では、基板上にはスペーサ粒子が分散されたスペーサ粒子分散液の液滴が吐出される。スペーサ粒子による光抜け等がなく優れた表示品質を有する液晶表示装置を得るには、スペーサ粒子分散液を基板の遮光領域を狙って吐出し、スペーサ粒子を遮光領域下に配置する必要がある。更に、液晶表示装置の表示品質を向上させるためには、液晶や配向膜の汚染を防ぐ必要がある。 On the other hand, in the spacer particle dispersion method described in Patent Document 4, droplets of a spacer particle dispersion liquid in which spacer particles are dispersed are discharged onto a substrate. In order to obtain a liquid crystal display device having excellent display quality without light leakage due to the spacer particles, it is necessary to discharge the spacer particle dispersion liquid toward the light shielding region of the substrate and to dispose the spacer particles under the light shielding region. Furthermore, in order to improve the display quality of the liquid crystal display device, it is necessary to prevent contamination of the liquid crystal and the alignment film.

しかしながら、基板に吐出されるスペーサ粒子分散液中には、不純物が含まれていることがあり、不純物によって液晶や配向膜が汚染されることがあった。この場合、色調やコントラスト等の表示品質を充分に向上させることができなかった。 However, the spacer particle dispersion liquid discharged to the substrate may contain impurities, and the liquid crystals and the alignment film may be contaminated by the impurities. In this case, display quality such as color tone and contrast cannot be sufficiently improved.

また、スペーサ粒子分散液中でのスペーサ粒子の分散性が悪かったり、スペーサ粒子分散液中に不純物が含まれていると、基板上に吐出された液滴の乾燥過程で、スペーサ粒子が基板に固着し難くなり、スペーサ粒子が遮光領域下に配置されないことがあった。 Also, if the spacer particles are poorly dispersed in the spacer particle dispersion or if impurities are contained in the spacer particle dispersion, the spacer particles are applied to the substrate during the drying process of the droplets discharged onto the substrate. In some cases, the spacer particles are difficult to be fixed, and the spacer particles are not disposed under the light shielding region.

本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、インクジェット装置を用いて、基板上の非画素領域に対応する位置にスペーサ粒子を配置することができ、液晶や配向膜の汚染が抑制されている液晶表示装置の製造方法、スペーサ粒子分散液、及び、液晶表示装置を提供することにある。 The object of the present invention is to take into account the current state of the prior art described above, and by using an inkjet device, spacer particles can be arranged at positions corresponding to non-pixel regions on a substrate, and contamination of liquid crystals and alignment films is suppressed. Another object of the present invention is to provide a manufacturing method of a liquid crystal display device, a spacer particle dispersion, and a liquid crystal display device.

本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、画素領域と非画素領域とを有する液晶表示装置の製造方法であって、第1の基板又は第2の基板の表面に、インクジェット装置を用いて、媒体中にスペーサ粒子が分散されているスペーサ粒子分散液を吐出することにより、非画素領域に対応する特定の位置にスペーサ粒子を配置する工程と、第1の基板と第2の基板とを、液晶及びスペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程とを備え、前記液晶及び前記スペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程において、液晶を配置する前後において、液晶の体積抵抗値変化率が1%以上であり、かつ、液晶のネマチック・等方相転移温度の変化が±1℃以内であることを特徴とする。
このような本発明の液晶表示装置の製造方法に用いられるスペーサ粒子分散液もまた、本発明の1つである。
A method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display device having a pixel region and a non-pixel region, using an inkjet device on the surface of a first substrate or a second substrate, A step of disposing spacer particles at a specific position corresponding to the non-pixel region by discharging a spacer particle dispersion in which spacer particles are dispersed in the medium, and the first substrate and the second substrate, A step of superposing the liquid crystal and the spacer particles so as to face each other, and in the step of superposing the liquid crystal and the spacer particles so as to face each other, before and after disposing the liquid crystal, the volume resistance value change rate of the liquid crystal Is 1% or more, and the change in nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal is within ± 1 ° C.
The spacer particle dispersion used in such a method for producing a liquid crystal display device of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明に係る液晶表示装置の製造方法ある特定の局面では、スペーサ粒子分散液中に分散されているスペーサ粒子は、グラフト重合によって表面修飾されており、1μmよりも小さい粒径を有するスペーサ粒子分散液中に存在する不揮発成分の含有割合は、スペーサ粒子分散液100重量%に対して、0.001重量%未満である。 In a specific aspect of the method for producing a liquid crystal display device according to the present invention, the spacer particles dispersed in the spacer particle dispersion are surface-modified by graft polymerization, and the spacer particle dispersion having a particle size of less than 1 μm The content ratio of the non-volatile components present in the liquid is less than 0.001% by weight with respect to 100% by weight of the spacer particle dispersion.

また、本発明のスペーサ粒子分散液は、インクジェット装置を用いて基板の表面にスペーサ粒子を配置する際に用いられるスペーサ粒子分散液であって、少なくとも、スペーサ粒子と媒体とを含有し、前記スペーサ粒子は、グラフト重合によって表面修飾されており、1μmよりも小さい粒径を有する不揮発成分の含有割合が0.001重量%未満であることを特徴とする。 The spacer particle dispersion of the present invention is a spacer particle dispersion used when spacer particles are arranged on the surface of a substrate using an ink jet device, and contains at least spacer particles and a medium. The particles are surface-modified by graft polymerization, and the content ratio of nonvolatile components having a particle size smaller than 1 μm is less than 0.001% by weight.

本発明の液晶表示装置は、本発明の液晶表示装置の製造方法又は本発明のスペーサ分散液を用いてなることを特徴とする。 The liquid crystal display device of the present invention is characterized by using the liquid crystal display device manufacturing method of the present invention or the spacer dispersion liquid of the present invention.

本発明では、液晶を配置する前後において、液晶の体積抵抗変化率が1%以上であり、液晶のネマチック・等方相転移温度の変化が±1℃以内であるため、液晶や配向膜の汚染が防がれている。よって、液晶表示装置の色調やコントラスト等の表示品質の低下が起こり難い。 In the present invention, before and after disposing the liquid crystal, the volume resistance change rate of the liquid crystal is 1% or more, and the change in nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal is within ± 1 ° C. Is prevented. Therefore, the display quality such as the color tone and contrast of the liquid crystal display device is hardly deteriorated.

スペーサ粒子分散液中に分散されているスペーサ粒子が、グラフト重合によって表面修飾されている場合には、スペーサ粒子の表面層の密度が高くされており、充分な厚みの表面層が形成されているため、スペーサ粒子分散液中でのスペーサ粒子の分散性が高められており、更に基板に吐出された際のスペーサ粒子の基板に対する固着性に優れている。よって、基板上の非画素領域に対応する位置にスペーサ粒子を配置することが容易である。 When the spacer particles dispersed in the spacer particle dispersion are surface-modified by graft polymerization, the density of the surface layer of the spacer particles is increased and a sufficiently thick surface layer is formed. Therefore, the dispersibility of the spacer particles in the spacer particle dispersion is improved, and the spacer particles are excellently fixed to the substrate when discharged onto the substrate. Therefore, it is easy to arrange the spacer particles at positions corresponding to the non-pixel regions on the substrate.

1μmよりも小さい粒径を有するスペーサ粒子分散液中に存在する不揮発成分の含有割合が、スペーサ粒子分散液100重量%に対して、0.001重量%未満である場合には、液晶や配向膜がより一層汚染され難くなり、液晶表示装置のコントラスト等の表示品質を向上させることができる。 When the content ratio of the non-volatile components present in the spacer particle dispersion having a particle size smaller than 1 μm is less than 0.001% by weight with respect to 100% by weight of the spacer particle dispersion, a liquid crystal or alignment film However, the display quality such as contrast of the liquid crystal display device can be improved.

以下、本発明の詳細を説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法によって得られた液晶表示装置を模式的に示す正面断面図である。
Details of the present invention will be described below.
FIG. 1 is a front sectional view schematically showing a liquid crystal display device obtained by a method for manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、液晶表示装置1では、透明基板からなる第1、第2の基板2、3が対向されている。図9に示した従来の液晶表示装置200の場合と同様に、第1の基板1の内面には、カラーフィルタ4及びブラックマトリックス5が形成されている。カラーフィルタ4及びブラックマトリックス5を覆うようにオーバーコート層6が形成されている。オーバーコート層6上には、透明電極7が形成されている。また、透明電極7を覆うように配向膜8が形成されている。 As shown in FIG. 1, in the liquid crystal display device 1, the 1st, 2nd board | substrates 2 and 3 which consist of transparent substrates are facing. As in the case of the conventional liquid crystal display device 200 shown in FIG. 9, the color filter 4 and the black matrix 5 are formed on the inner surface of the first substrate 1. An overcoat layer 6 is formed so as to cover the color filter 4 and the black matrix 5. A transparent electrode 7 is formed on the overcoat layer 6. An alignment film 8 is formed so as to cover the transparent electrode 7.

他方、第2の基板3の内面には、カラーフィルタ4と対向する位置に、透明電極9が形成されている。透明電極9を覆うように配向膜10が形成されている。 On the other hand, a transparent electrode 9 is formed on the inner surface of the second substrate 3 at a position facing the color filter 4. An alignment film 10 is formed so as to cover the transparent electrode 9.

なお、第1、第2の基板2、3の外面には、それぞれ、偏光板11、12が積層されている。 Note that polarizing plates 11 and 12 are laminated on the outer surfaces of the first and second substrates 2 and 3, respectively.

第1の基板2と第2の基板3とは、それぞれの外周縁近傍によって、シール材13を介して接合されている。第1の基板2と第2の基板3とにより囲まれた空間に、液晶15が封入されている。ブラックマトリックス6に対応する位置、すなわち非画素領域に複数のスペーサ粒子14が配置されている。よって、スペーサ粒子14により第1、第2の基板2、3の間隔が規制されて、適正な液晶層の厚みが維持されている。 The 1st board | substrate 2 and the 2nd board | substrate 3 are joined via the sealing material 13 by each outer periphery vicinity. A liquid crystal 15 is sealed in a space surrounded by the first substrate 2 and the second substrate 3. A plurality of spacer particles 14 are arranged at positions corresponding to the black matrix 6, that is, non-pixel regions. Therefore, the distance between the first and second substrates 2 and 3 is regulated by the spacer particles 14, and an appropriate thickness of the liquid crystal layer is maintained.

(スペーサ粒子)
本発明に使用されるスペーサ粒子の材料は特に限定されず、例えば、シリカ粒子等の無機系粒子であっても、有機高分子等の有機系粒子であってもよい。中でも、有機系粒子は、液晶表示装置の基板上に形成された配向膜を傷つけない適度の硬度を有し、熱膨張や熱収縮による厚みの変化に追随しやすく、更にセル内部でのスペーサ粒子の移動が比較的少ないという長所を持つために好ましく使用される。
(Spacer particles)
The material of the spacer particles used in the present invention is not particularly limited, and may be inorganic particles such as silica particles or organic particles such as organic polymers. Among them, the organic particles have an appropriate hardness that does not damage the alignment film formed on the substrate of the liquid crystal display device, can easily follow a change in thickness due to thermal expansion and contraction, and are further spacer particles inside the cell. Is preferably used because it has the advantage of relatively little movement.

上記有機系粒子としては特に限定されないが、通常は、強度等が適切な範囲にあるので、単官能単量体と多官能単量体との共重合体が好ましく用いられる。この際、単官能単量体と多官能単量体との比率は特に限定されるものではなく、得られる有機系粒子に要求される強度や硬度により適宜調整される。 Although it does not specifically limit as said organic type particle | grain, Usually, since intensity | strength etc. exist in the suitable range, the copolymer of a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer is used preferably. At this time, the ratio of the monofunctional monomer to the polyfunctional monomer is not particularly limited, and is appropriately adjusted depending on the strength and hardness required for the obtained organic particles.

上記単官能単量体としては、例えば、スチレン、αーメチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン誘導体;塩化ビニル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、エチレングリコール(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル誘導体等が挙げられる。これら単官能単量体は単独で用いてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Examples of the monofunctional monomer include styrene derivatives such as styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, and chloromethylstyrene; vinyl chloride; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; acrylonitrile. Unsaturated nitriles such as: methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, ethylene glycol (meth) acrylate And (meth) acrylic acid ester derivatives such as trifluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate. These monofunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.

上記多官能単量体としては、例えば、ジビニルベンゼン、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート及びその異性体、トリアリルイソシアヌレート及びその誘導体、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート及びその誘導体、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタクリロキシエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート等の2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−水添ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシポリプロポキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これら多官能単量体は単独で用いてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Examples of the polyfunctional monomer include divinylbenzene, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, tetramethylolpropanetetra (meta ) Acrylate, diallyl phthalate and its isomers, triallyl isocyanurate and its derivatives, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and its derivatives, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate such as ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, etc. Ripropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (methacrylic) 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane di (meth) acrylate such as loxyethoxy) phenyl] propanedi (meth) acrylate, 2,2-hydrogenated bis [4- (acryloxypolyethoxy) Phenyl] propane di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxypolypropoxy) phenyl] propane di (meth) acrylate, and the like. These polyfunctional monomers may be used independently and 2 or more types may be used together.

また、上記単官能又は多官能単量体として、インクへの分散性を上げるために、親水性基を有する単量体が用いられてもよい。親水性基としては、水酸基、カルボキシル基、スルホニル基、ホスホフォニル基、アミノ基、アミド基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基が挙げられる。 Further, as the monofunctional or polyfunctional monomer, a monomer having a hydrophilic group may be used in order to increase dispersibility in the ink. Examples of the hydrophilic group include a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonyl group, a phosphonyl group, an amino group, an amide group, an ether group, a thiol group, and a thioether group.

このような親水性基を有する単量体としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(ポリ)カプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、グリセリンモノアリルエーテル等の水酸基を有する単量体;(メタ)アクリル酸、α−エチルアクリル酸、クロトン酸等のアクリル酸、及び、それらのα−又はβ−アルキル誘導体;フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸;これら不飽和ジカルボン酸のモノ2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル誘導体等のカルボキシル基を有する単量体;t−ブチルアクリルアミドスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホニル基を有する単量体;ビニルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のホスフォニル基を有する単量体;ジメチルアミノエチルメタクリレートやジエチルアミノエチルメタクリレート等のアクリロイル基を有するアミン類等のアミノ基を有する化合物;(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレート等の水酸基とエーテル基とをともに有する単量体;(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等のエーテル基を有する単量体;(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン等のアミド基を有する単量体等が挙げられる。 As monomers having such a hydrophilic group, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1,4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl alcohol, glycerin Monomers having a hydroxyl group such as monoallyl ether; acrylic acids such as (meth) acrylic acid, α-ethylacrylic acid and crotonic acid, and α- or β-alkyl derivatives thereof; fumaric acid, maleic acid, citracone Unsaturated dicarboxylic acids such as acids and itaconic acids; monomers having a carboxyl group such as mono 2- (meth) acryloyloxyethyl ester derivatives of these unsaturated dicarboxylic acids; t-butylacrylamidesulfonic acid, styrenesulfonic acid, 2 -Acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, etc. Monomers having a sulfonyl group; Monomers having a phosphonyl group such as vinyl phosphate and 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate; Amino groups such as amines having an acryloyl group such as dimethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate A compound having both a hydroxyl group and an ether group such as (poly) ethylene glycol (meth) acrylate and (poly) propylene glycol (meth) acrylate; a terminal alkyl ether of (poly) ethylene glycol (meth) acrylate , Monomers having an ether group such as (poly) propylene glycol (meth) acrylate terminal alkyl ether, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, etc .; (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylate Amides, monomer having a amide group such as vinyl pyrrolidone.

上記単量体を重合して粒子を製造する方法としては特に限定されず、例えば、懸濁重合法、シード重合法、分散重合法等の各種重合法が挙げられる。 The method for producing particles by polymerizing the monomer is not particularly limited, and examples thereof include various polymerization methods such as a suspension polymerization method, a seed polymerization method, and a dispersion polymerization method.

上記懸濁重合法は、得られる粒子の粒子径分布が比較的広く多分散の粒子が得られるため、スペーサ粒子として利用する場合には分級操作を行って、所望の粒子径や粒子径分布を有する多品種の粒子を得る際に好適に用いられる。一方、シード重合、分散重合は、分級工程を経ることなく単分散粒子が得られるので、特定の粒子径の粒子を大量に製造する際に好適に用いられる。 In the suspension polymerization method, since the particle size distribution of the obtained particles is relatively wide and polydisperse particles are obtained, when used as spacer particles, classification operation is performed to obtain a desired particle size or particle size distribution. It is suitably used when obtaining various types of particles. On the other hand, seed polymerization and dispersion polymerization can be suitably used when producing a large amount of particles having a specific particle diameter because monodispersed particles can be obtained without going through a classification step.

上記懸濁重合法とは、単量体及び重合開始剤よりなる単量体組成物を、目的とする粒子径となるよう貧溶媒中に分散し重合する方法である。懸濁重合に使用する分散媒は、通常、水に分散安定剤を加えたものが使用される。分散安定剤としては媒体中に可溶の高分子、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキシド等が挙げられる。またノニオン性又はイオン性の界面活性剤も適宜使用される。重合条件は上記重合開始剤や単量体の種類により異なるが、通常、重合温度は50〜80℃、重合時間は3〜24時間である。 The suspension polymerization method is a method in which a monomer composition comprising a monomer and a polymerization initiator is dispersed and polymerized in a poor solvent so as to have a target particle size. As the dispersion medium used for the suspension polymerization, a solution obtained by adding a dispersion stabilizer to water is usually used. Examples of the dispersion stabilizer include polymers soluble in the medium, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, methyl cellulose, ethyl cellulose, polyacrylic acid, polyacrylamide, and polyethylene oxide. Nonionic or ionic surfactants are also used as appropriate. The polymerization conditions vary depending on the polymerization initiator and the type of monomer, but the polymerization temperature is usually 50 to 80 ° C. and the polymerization time is 3 to 24 hours.

上記シード重合法とは、ソープフリー重合や乳化重合にて合成された単分散の種粒子に、更に単量体を吸収させることにより、狙いの粒子径にまで膨らませる重合方法である。種粒子に用いられる有機単量体としては特に限定されず、上記の単量体が用いられるが、種粒子の組成は、シード重合時の相分離を抑えるために、シード重合時の単量体成分と親和性のある単量体であることが好ましく、粒子系分布の単分散性の点等からスチレン及びその誘導体等が好ましい。 The seed polymerization method is a polymerization method in which a monodispersed seed particle synthesized by soap-free polymerization or emulsion polymerization is further expanded to a target particle size by further absorbing a monomer. The organic monomer used for the seed particles is not particularly limited, and the above-mentioned monomers are used. The composition of the seed particles is a monomer for seed polymerization in order to suppress phase separation during seed polymerization. A monomer having an affinity for the component is preferred, and styrene and its derivatives are preferred from the viewpoint of monodispersity of the particle system distribution.

上記種粒子の粒子径分布は、シード重合後の粒子径分布にも反映されるのでできるだけ単分散であることが好ましく、Cv値として5%以下であることが好ましい。上述したようにシード重合時には種粒子との相分離が起きやすいため、シード重合時に吸収させる単量体は、できるだけ種粒子組成と近い組成が好ましく、種粒子がスチレン系であれば芳香族系ジビニル単量体、アクリル系であればアクリル系多官能ビニル単量体を吸収させて重合させるのが好ましい。 Since the particle size distribution of the seed particles is also reflected in the particle size distribution after seed polymerization, it is preferably monodispersed as much as possible, and the Cv value is preferably 5% or less. As described above, phase separation from the seed particles is likely to occur during seed polymerization. Therefore, the monomer absorbed during seed polymerization is preferably as close to the seed particle composition as possible. If the seed particles are styrene, aromatic divinyl is used. In the case of a monomer or acrylic, it is preferable to polymerize by absorbing an acrylic polyfunctional vinyl monomer.

また、シード重合法においては、必要に応じて分散安定剤を用いることもできる。分散安定剤としては、媒体中に可溶の高分子であれば特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキシド等が挙げられる。また、ノニオン性又はイオン性の界面活性剤も適宜使用される。 In the seed polymerization method, a dispersion stabilizer can be used as necessary. The dispersion stabilizer is not particularly limited as long as it is a polymer soluble in the medium, and examples thereof include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, methyl cellulose, ethyl cellulose, polyacrylic acid, polyacrylamide, and polyethylene oxide. Nonionic or ionic surfactants are also used as appropriate.

上記シード重合法においては、種粒子1重量部に対して、単量体を20〜100重量部加えることが好ましい。 In the seed polymerization method, it is preferable to add 20 to 100 parts by weight of the monomer with respect to 1 part by weight of the seed particles.

上記シード重合に使用する媒体としては特に限定されず、使用する単量体によって適宜決定されるべきであるが、一般的に好適な有機溶媒としては、アルコール類、セロソルブ類、ケトン類又は炭化水素を挙げることができ、更にこれらを単独、又は、これらと互いに相溶しあう他の有機溶剤、水等との混合溶媒として用いることができる。具体的には、例えば、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、シメチルスルホキシド、酢酸エチル、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、2−ブタノン等のケトン類等を挙げることができる。 The medium used for the seed polymerization is not particularly limited and should be appropriately determined depending on the monomer used. Generally, suitable organic solvents include alcohols, cellosolves, ketones or hydrocarbons. Furthermore, these can be used alone or as a mixed solvent with other organic solvents, water, etc. which are compatible with each other. Specifically, for example, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, alcohols such as ethyl acetate, methanol, ethanol and propanol, cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone and methyl butyl ketone And ketones such as 2-butanone.

上記分散重合法とは、単量体は溶解するが、生成したポリマーは溶解しない貧溶媒系で重合を行い、この系に高分子系分散安定剤を添加することにより生成ポリマーを粒子形状で析出させる方法である。 The above dispersion polymerization method is a polymerization in a poor solvent system in which the monomer is dissolved but the generated polymer is not dissolved, and the resulting polymer is precipitated in a particle shape by adding a polymer dispersion stabilizer to this system. It is a method to make it.

また、一般に架橋成分を分散重合により重合すると、粒子の凝集が起こりやすく、安定的に単分散架橋粒子を得ることが難しいが、条件を選定することにより、架橋成分を含んだ単量体を重合することが可能となる。 In general, when the cross-linking component is polymerized by dispersion polymerization, the particles tend to aggregate and it is difficult to stably obtain monodisperse cross-linked particles. However, by selecting the conditions, the monomer containing the cross-linking component is polymerized. It becomes possible to do.

上記重合に際しては、重合開始剤が用いられ、特に限定されないが、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、オルソクロロ過酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサカルボニトリル、アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物等が好適に用いられる。なお、重合開始剤の使用量は通常、重合に際して用いられる単量体100重量部に対して、0.1〜10重量部の範囲が好ましい。 In the polymerization, a polymerization initiator is used, and is not particularly limited. For example, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, benzoyl orthomethoxybenzoate, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, Organic peroxides such as t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and di-t-butylperoxide, azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexacarbonitrile, azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) An azo compound such as) is preferably used. In general, the amount of the polymerization initiator used is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer used in the polymerization.

本発明に使用されるスペーサ粒子の粒径は、液晶表示素子の種類により適宜選択可能なため特に限定されず、上記スペーサ粒子の粒径の好ましい下限は1μm、好ましい上限は20μmである。1μm未満であると、対向する基板同士が接触して液晶表示素子のスペーサとして充分機能しないことがあり、20μmを超えると、スペーサ粒子を配置すべき基板上の遮光領域等からはみ出しやすくなり、また、対向する基板間の距離が大きくなって近年の液晶表示素子の小型化等の要請に充分に応えられなくなる。 The particle diameter of the spacer particles used in the present invention is not particularly limited because it can be appropriately selected depending on the type of the liquid crystal display element. If the thickness is less than 1 μm, the opposing substrates may come into contact with each other and may not sufficiently function as a spacer of the liquid crystal display element. As a result, the distance between the opposing substrates is increased, making it impossible to sufficiently meet the recent demands for downsizing liquid crystal display elements.

本発明で使用されるスペーサ粒子は、適正な液晶層の厚みを維持するためのギャップ材として用いられるため、一定の強度が必要とされる。粒子の圧縮強度を示す指標として、粒子の直径が10%変位した時の圧縮弾性率(10%K値)で表した場合、適正な液晶層の厚みを維持するためには、2000〜15000MPaが好適である。2000MPaより小さいと、表示素子を組立てる際のプレス圧により、スペーサ粒子が変形して適切なギャップが出にくい。15000MPaより大きいと表示素子に組み込んだ際に、基板上の配向膜を傷つけて表示異常が発生することがある。 Since the spacer particles used in the present invention are used as a gap material for maintaining an appropriate thickness of the liquid crystal layer, a certain strength is required. As an index indicating the compressive strength of the particles, when expressed by a compressive elastic modulus (10% K value) when the diameter of the particles is displaced by 10%, in order to maintain an appropriate thickness of the liquid crystal layer, 2000 to 15000 MPa is used. Is preferred. When the pressure is less than 2000 MPa, the spacer particles are deformed by the press pressure when assembling the display element, and an appropriate gap is hardly generated. If it is greater than 15000 MPa, the display film may be damaged due to damage to the alignment film on the substrate when incorporated in the display element.

上記スペーサ粒子の圧縮弾性率(10%K値)は、特表平6−503180号公報に記載の方法に準拠して求められた値である。例えば微小圧縮試験器(PCT−200、島津製作所社製)を用い、ダイヤモンド製の直径50μmの円柱の平滑端面で、粒子を10%歪ませるための加重から求められる。 The compression elastic modulus (10% K value) of the spacer particles is a value determined according to the method described in JP-T-6-503180. For example, using a micro compression tester (PCT-200, manufactured by Shimadzu Corporation), a smooth end face of a diamond column having a diameter of 50 μm is used to determine the weight for straining the particles by 10%.

上記の方法により得られたスペーサ粒子は、表示素子のコントラスト向上のために着色されて用いられてもよい。着色された粒子としては、例えば、カーボンブラック、分散染料、酸性染料、塩基性染料、金属酸化物等により処理された粒子、また、粒子の表面に有機物の膜が形成され高温で分解又は炭化されて着色された粒子等が挙げられる。なお、粒子を形成する材質自体が色を有している場合には着色せずにそのまま用いられてもよい。 The spacer particles obtained by the above method may be colored and used for improving the contrast of the display element. As colored particles, for example, particles treated with carbon black, disperse dyes, acid dyes, basic dyes, metal oxides, etc., and organic films are formed on the surface of the particles, and decomposed or carbonized at high temperatures. And colored particles. In addition, when the material itself which forms particle | grains has a color, you may use as it is, without coloring.

また、スペーサ粒子には帯電可能な処理が施されていても良い。帯電可能な処理とは、スペーサ粒子が、スペーサ粒子分散液中でも何らかの電位を持つように処理することであり、この電位(電荷)は、ゼータ電位測定器等既存の方法によって測定できる。 The spacer particles may be subjected to a chargeable process. The chargeable treatment is treatment in which the spacer particles have some potential in the spacer particle dispersion, and this potential (charge) can be measured by an existing method such as a zeta potential measuring device.

帯電可能な処理を施す方法としては、例えば、スペーサ粒子中に荷電制御剤を含有させる方法、帯電しやすい単量体を含む単量体からスペーサ粒子を製造する方法、スペーサ粒子に帯電可能な表面処理をする方法等が挙げられる。 Examples of a method for performing chargeable treatment include a method in which a charge control agent is contained in spacer particles, a method in which spacer particles are produced from a monomer containing a monomer that is easily charged, and a surface in which spacer particles can be charged. The method of processing etc. are mentioned.

なお、このようにスペーサ粒子が帯電可能であると、スペーサ粒子分散液中でのスペーサ粒子の分散性や分散安定性が高められ、散布時に電気泳動効果で配線部(段差)部近傍にスペーサ粒子が寄り集まりやすくなる。 In addition, when the spacer particles can be charged in this manner, the dispersibility and dispersion stability of the spacer particles in the spacer particle dispersion liquid are improved, and the spacer particles are located near the wiring portion (step) portion by the electrophoretic effect when sprayed. Makes it easier to get together.

上記荷電制御剤を含有させる方法としては、スペーサ粒子を重合させる際に荷電制御剤を共存させて重合を行いスペーサ粒子中に含有させる方法、スペーサ粒子を重合する際に、スペーサ粒子を構成するモノマーと共重合可能な官能基を有する荷電制御剤を、スペーサ粒子を構成するモノマーと共重合させてスペーサ粒子中に含有させる方法、後述するスペーサ粒子の表面修飾の際に、表面修飾に用いられるモノマーと共重合可能な官能基を有する荷電制御剤を共重合させて表面修飾層に含有させる方法、表面修飾層又はスペーサ粒子の表面官能基と反する官能基を有する荷電粒子を反応させて表面に含有させる方法等が挙げられる。 As a method of containing the charge control agent, there are a method in which the charge control agent is allowed to coexist when polymerizing the spacer particles and the polymerization is performed in the spacer particles, and a monomer constituting the spacer particles when the spacer particles are polymerized. A charge control agent having a functional group copolymerizable with a monomer that is copolymerized with a monomer constituting the spacer particle and contained in the spacer particle, a monomer used for surface modification in the surface modification of the spacer particle described later A charge control agent having a functional group copolymerizable with the surface modification layer by copolymerization, charged particles having a functional group opposite to the surface modification layer or the surface functional group of the spacer particle are reacted and contained on the surface And the like.

上記荷電制御剤としては特に限定されないが、例えば、特開2002−148865号に記載の方法を用いることができる。具体的には、例えば、有機金属化合物、キレート化合物、モノアゾ系染料金属化合物、アセチルアセトン金属化合物、芳香族ヒドロキシルカルボン酸、芳香族モノ及びポリカルボン酸及びその金属塩、無水物、エステル類、ビスフェノール等のフェノール誘導体類等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as said charge control agent, For example, the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-148865 can be used. Specifically, for example, organometallic compounds, chelate compounds, monoazo dye metal compounds, acetylacetone metal compounds, aromatic hydroxyl carboxylic acids, aromatic mono and polycarboxylic acids and their metal salts, anhydrides, esters, bisphenols, etc. Phenol derivatives and the like.

また、荷電制御剤としては特に限定されないが、尿素誘導体、含金属サリチル酸系化合物、4級アンモニウム塩、カリックスアレーン、ケイ素化合物、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−アクリル−スルホン酸共重合体、非金属カルボン酸系化合物、ニグロシン及び脂肪酸金属塩等による変性物、トリブチルベンジルアンモニウム−1−ヒドロキシ−4−ナフトスルフォン酸塩、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート等の4級アンモニウム塩、及び、これらの類似体であるホスホニウム塩等のオニウム塩及びこれらのレーキ顔料、トリフェニルメタン染料及びこれらのレーキ顔料(レーキ化剤としては、リンタングステン酸、リンモリブデン酸、リンタングステンモリブデン酸、タンニン酸、ラウリン酸、没食子酸、フェリシアン化物、フェロシアン化物等が挙げられる)、高級脂肪酸の金属塩、ジブチルスズオキサイド、ジオクチルスズオキサイド、ジシクロヘキシルスズオキサイド等のジオルガノスズオキサイド、ジブチルスズボレート、ジオクチルスズボレート、ジシクロヘキシルスズボレート等のジオルガノスズボレート類等が挙げられる。 Further, the charge control agent is not particularly limited, but urea derivatives, metal-containing salicylic acid compounds, quaternary ammonium salts, calixarene, silicon compounds, styrene-acrylic acid copolymers, styrene-methacrylic acid copolymers, styrene- Acrylic-sulfonic acid copolymer, non-metallic carboxylic acid compound, modified product with nigrosine and fatty acid metal salt, etc., quaternary such as tributylbenzylammonium-1-hydroxy-4-naphthosulfonate, tetrabutylammonium tetrafluoroborate Ammonium salts and onium salts such as phosphonium salts which are analogs thereof and lake pigments thereof, triphenylmethane dyes and lake lake pigments (the rake agents include phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, phosphotungsten molybdenum Acid, tan Acid, lauric acid, gallic acid, ferricyanide, ferrocyanide, etc.), metal salts of higher fatty acids, diorganotin oxides such as dibutyltin oxide, dioctyltin oxide, dicyclohexyltin oxide, dibutyltin borate, dioctyltin And diorganotin borates such as borate and dicyclohexyl tin borate.

これら荷電制御剤は単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。 These charge control agents may be used alone or in combination of two or more.

上記荷電制御剤を含有するスペーサ粒子の極性は、上記耐電制御剤の中から適切な荷電制御剤を適宜選択することにより設定され得る。すなわち、スペーサ粒子を周りの環境に対して正に帯電させたり、負に帯電させたりすることができる。 The polarity of the spacer particles containing the charge control agent can be set by appropriately selecting an appropriate charge control agent from the charge resistance control agent. That is, the spacer particles can be charged positively or negatively with respect to the surrounding environment.

上記スペーサ粒子を製造する際、帯電しやすい単量体を含む単量体から適宜単量体を選択する方法としては、スペーサ粒子を製造する箇所で述べた単量体として、親水性官能基を有するものを組み合わせて用いる方法が挙げられる。これらの親水性官能基を有する単量体の中から適切な単量体を適宜選択することにより、スペーサ粒子を周りの環境に対して正に帯電させたり、負に帯電させたりすることができる。 When manufacturing the spacer particles, as a method for selecting a monomer appropriately from monomers including a monomer that is easily charged, a hydrophilic functional group is used as the monomer described in the section for manufacturing the spacer particles. The method of using what it has in combination is mentioned. By appropriately selecting an appropriate monomer from these monomers having a hydrophilic functional group, the spacer particles can be charged positively or negatively with respect to the surrounding environment. .

また、スペーサ粒子には、基板との接着性を向上させるための表面処理を行うことが好ましい。上記スペーサ粒子の表面修飾をする方法としては、例えば、特開平1−247154号公報に開示されているようにスペーサ粒子表面に樹脂を析出させて修飾する方法、特開平9−113915号公報や特開平7−300587号公報に開示されているようにスペーサ粒子表面の官能基と反応する化合物を作用させて修飾する方法、特開平11−223821号公報、特願2002−102848号に記載のようにスペーサ粒子表面でグラフト重合を行って表面修飾を行う方法等が挙げられるが、これらを行う際、スペーサ粒子が帯電処理されるような方法が適宜選択される。 The spacer particles are preferably subjected to a surface treatment for improving adhesion to the substrate. Examples of the method for modifying the surface of the spacer particles include, for example, a method in which a resin is deposited on the surface of the spacer particles as disclosed in JP-A-1-247154, JP-A-9-11915, and the like. As disclosed in Kaihei 7-300587, a method of modifying by acting a compound that reacts with a functional group on the surface of spacer particles, as described in JP-A-11-223811, Japanese Patent Application No. 2002-102848 Although the method etc. which carry out graft polymerization on the spacer particle | grain surface and performing surface modification etc. are mentioned, When performing these, the method that a spacer particle | grain is charged is selected suitably.

上記スペーサ粒子の表面修飾方法としては、スペーサ粒子表面に化学的に結合した表面層を形成する方法が、液晶表示装置のセル中で表面層の剥離や液晶への溶出という問題が少ないので好ましい。 As a method for modifying the surface of the spacer particles, a method of forming a surface layer chemically bonded to the surface of the spacer particles is preferable because there are few problems such as peeling of the surface layer and elution into the liquid crystal in the cell of the liquid crystal display device.

なかでも、特開平11−223821号公報に記載のグラフト重合を行う方法が好ましい。グラフト重合を行う方法では、スペーサ粒子の表面に還元性基を有する粒子に酸化剤を反応させ、スペーサ粒子の表面にラジカルを発生させて表面にグラフト重合させる。グラフト重合させると、スペーサ粒子の表面層の密度を高くでき、充分な厚みの表面層を形成できる。よって、グラフト重合されたスペーサ粒子は、後述するスペーサ粒子分散液中での分散性に優れている。更に、スペーサ粒子分散液が基板に吐出された際に、スペーサ粒子の基板に対する固着性に優れている。この方法において帯電処理するには、グラフト重合を行う際に、単量体として親水性官能基を有する単量体を組み合わせて用いることが好ましい。 Of these, the method of performing graft polymerization described in JP-A-11-223821 is preferred. In the method of performing graft polymerization, particles having a reducing group on the surface of spacer particles are reacted with an oxidizing agent, radicals are generated on the surfaces of spacer particles, and the surface is graft-polymerized. When the graft polymerization is performed, the density of the surface layer of the spacer particles can be increased, and a sufficiently thick surface layer can be formed. Therefore, the graft-polymerized spacer particles are excellent in dispersibility in a spacer particle dispersion described later. Furthermore, when the spacer particle dispersion is discharged onto the substrate, the spacer particles are excellent in adhesion to the substrate. In order to perform the charging treatment in this method, it is preferable to use a monomer having a hydrophilic functional group in combination as a monomer when performing graft polymerization.

また、このように表面処理を施すことにより、スペーサ粒子の基板に対する接着性が高まったり、使用する単量体を適宜選択すれば、液晶表示体での液晶の配向が乱されなくなるという効果もある。従って、帯電処理の有無にかかわらず、スペーサ粒子に表面修飾が行われてもよい。 In addition, by performing the surface treatment in this way, there is an effect that the adhesion of the spacer particles to the substrate is increased, or if the monomer to be used is appropriately selected, the alignment of the liquid crystal in the liquid crystal display body is not disturbed. . Therefore, the surface modification may be performed on the spacer particles regardless of the presence or absence of the charging treatment.

上記スペーサ粒子は、グラフト処理により表面修飾されていることが好ましい。具体的には、上記スペーサ粒子の表面に親水性官能基及び/又は炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体をラジカル重合してなるビニル系熱可塑性樹脂がグラフト重合により結合されていることが好ましい。 The spacer particles are preferably surface-modified by grafting. Specifically, a vinyl thermoplastic resin obtained by radical polymerization of a vinyl monomer having a hydrophilic functional group and / or an alkyl group having 3 to 22 carbon atoms is bonded to the surface of the spacer particle by graft polymerization. It is preferable.

上記親水性官能基としては特に限定されず、例えば、水酸基、カルボキシル基、スルホニル基、ホスホニル基、アミノ基、アミド基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基等が挙げられるが、中でも、液晶との相互作用が少ないことから、水酸基、カルボキシル基及びエーテル基が好適に用いられる。これらの親水性官能基は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The hydrophilic functional group is not particularly limited, and examples thereof include a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonyl group, a phosphonyl group, an amino group, an amide group, an ether group, a thiol group, and a thioether group. Since there is little interaction, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an ether group are preferably used. These hydrophilic functional groups may be used alone or in combination of two or more.

上記親水性官能基を有するビニル系単量体としては特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(ポリ)カプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、グリセリンモノアリルエーテル等の水酸基を有するビニル系単量体;(メタ)アクリル酸、α−エチルアクリル酸、クロトン酸等のアクリル酸及びそれらのα−アルキル誘導体又はβ−アルキル誘導体;フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸;上記不飽和ジカルボン酸のモノ2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル誘導体等のカルボキシル基を有するビニル系単量体;t−ブチルアクリルアミドスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホニル基を有するビニル系単量体;ビニルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のホスホニル基を有するビニル系単量体;ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートなどのアミノ基を有するビニル系単量体;(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等のエーテル基を有するビニル系単量体;(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレート等の水酸基及びエーテル基を有するビニル系単量体;(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン等のアミド基を有するビニル系単量体等が挙げられる。これらの親水性官能基を有するビニル系単量体は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The vinyl monomer having a hydrophilic functional group is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1,4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl (meta ) Vinyl monomers having a hydroxyl group such as acrylate, allyl alcohol, glycerin monoallyl ether; acrylic acid such as (meth) acrylic acid, α-ethylacrylic acid, crotonic acid, and their α-alkyl derivatives or β-alkyl Derivatives; Unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, maleic acid, citraconic acid and itaconic acid; vinyl monomers having a carboxyl group such as mono 2- (meth) acryloyloxyethyl ester derivatives of the above unsaturated dicarboxylic acids; t -Butylacrylamide sulfonic acid, styrene sulfone , Vinyl monomers having a sulfonyl group such as 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid; vinyl monomers having a phosphonyl group such as vinyl phosphate and 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate; dimethylaminoethyl Vinyl-based monomers having amino groups such as methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate; terminal alkyl ether of (poly) ethylene glycol (meth) acrylate, terminal alkyl ether of (poly) propylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meta ) Vinyl monomers having an ether group such as acrylate; vinyl groups having a hydroxyl group and an ether group such as (poly) ethylene glycol (meth) acrylate and (poly) propylene glycol (meth) acrylate Mer; (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, vinyl monomers having a amide group such as vinyl pyrrolidone. These vinyl monomers having a hydrophilic functional group may be used alone or in combination of two or more.

上記炭素数3〜22のアルキル基としては特に限定されず、例えば、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ノナデシル基、エイコデシル基、ヘニコシル基、ドコシル基、イソボルニル基等が挙げられる。これらの炭素数3〜22のアルキル基は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 It does not specifically limit as said C3-C22 alkyl group, For example, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n- Hexyl group, cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, nonadecyl group, eicodecyl group, Examples include henicosyl group, docosyl group, isobornyl group and the like. These C3-C22 alkyl groups may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体としては特に限定されず、例えば、(メタ)アクリル酸と上記炭素数3〜22のアルキル基とからなるエステル化合物;ビニルアルコールと上記炭素数3〜22のアルキル基とからなるエステル化合物;ビニル基と上記炭素数3〜22のアルキル基とからなるビニルエーテル化合物等が挙げられる。これらの炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。また、上記親水性官能基を有するビニル系単量体及び炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体は、それぞれ単独で用いられても良いし、両者が併用されても良い。 The vinyl monomer having an alkyl group having 3 to 22 carbon atoms is not particularly limited. For example, an ester compound composed of (meth) acrylic acid and the alkyl group having 3 to 22 carbon atoms; vinyl alcohol and the above Examples thereof include ester compounds composed of an alkyl group having 3 to 22 carbon atoms; vinyl ether compounds composed of a vinyl group and the above alkyl group having 3 to 22 carbon atoms. These vinyl monomers having a C 3-22 alkyl group may be used alone or in combination of two or more. The vinyl monomer having a hydrophilic functional group and the vinyl monomer having an alkyl group having 3 to 22 carbon atoms may be used alone or in combination.

また、上記ビニル系熱可塑性樹脂を構成するビニル系単量体が、上記親水性官能基を有するビニル系単量体30〜80重量%及び上記炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体20〜60重量%を含有してなることが好ましい。 The vinyl monomer constituting the vinyl thermoplastic resin is a vinyl monomer having 30 to 80% by weight of the vinyl monomer having the hydrophilic functional group and the alkyl group having 3 to 22 carbon atoms. It is preferable to contain 20 to 60% by weight of the monomer.

ビニル系単量体中における親水性官能基を有するビニル系単量体の含有量が30重量%未満であると、得られるスペーサ粒子を含有するスペーサ粒子分散媒体中に充分に単粒子化した状態で分散することが難しくなって、凝集粒子が発生しやすくなり、インクジェット装置での安定的な吐出が困難となったり、セルギャップを正確に形成できなくなることがあり、逆にビニル系単量体中における親水性官能基を有するビニル系単量体の含有量が80重量%を超えると、液晶表示装置のセルを形成した際に、表示画素中にはみ出したスペーサ粒子の表面において液晶の異常配向を来たしやすくなって、表示品質の低下につながることがある。 When the content of the vinyl monomer having a hydrophilic functional group in the vinyl monomer is less than 30% by weight, the spacer particle dispersion medium containing the obtained spacer particles is sufficiently single-particled It becomes difficult to disperse in the liquid, and aggregated particles are likely to be generated, and stable ejection with an ink jet device may be difficult, and the cell gap may not be formed accurately. When the content of the vinyl monomer having a hydrophilic functional group exceeds 80% by weight, abnormal alignment of the liquid crystal occurs on the surface of the spacer particles protruding into the display pixel when the cell of the liquid crystal display device is formed. May lead to a decrease in display quality.

また、ビニル系単量体中における炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体の含有量が20重量%未満であると、液晶表示装置のセルを形成した際に、表示画素中にはみ出したスペーサの表面において液晶の異常配向を来たしやすくなって、表示品質の低下につながることがあり、逆にビニル系単量体中における炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体の含有量が60重量%を超えると、得られるスペーサ粒子の媒体中への分散安定性が低下することがある。 Further, when the content of the vinyl monomer having an alkyl group having 3 to 22 carbon atoms in the vinyl monomer is less than 20% by weight, when the cell of the liquid crystal display device is formed, It is easy to cause abnormal alignment of the liquid crystal on the surface of the protruding spacer, which may lead to a decrease in display quality. Conversely, a vinyl monomer having an alkyl group having 3 to 22 carbon atoms in the vinyl monomer. When the body content exceeds 60% by weight, the dispersion stability of the obtained spacer particles in the medium may be lowered.

なお、上記スペーサ粒子の表面に上記親水性官能基及び/又は炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体をラジカル重合してなるビニル系熱可塑性樹脂をグラフト重合により結合させてスペーサ粒子の表面被覆層の厚みを厚くする等の目的で、複数の異なった組成のビニル系熱可塑性樹脂層を積層する場合、上記親水性官能基を有するビニル系単量体30〜80重量%及び炭素数3〜22のアルキル基を有するビニル系単量体20〜60重量%を含有してなる好ましいビニル系単量体の使用は、表面被覆層の最外層となるビニル系熱可塑性樹脂についてのみ考慮すれば良い。これは、スペーサ粒子分散液やインクジェットインクに用いられる媒体に対する分散性や液晶異常配向の抑制等の機能はスペーサの表面近傍の状態によって発現するからである。
このような表面処理を行うことにより、パネル作製後の衝撃テスト等でのスペーサ移動がなくなる。
The spacer particles are bonded by graft polymerization with a vinyl thermoplastic resin obtained by radical polymerization of the vinyl monomer having the hydrophilic functional group and / or the alkyl group having 3 to 22 carbon atoms on the surface of the spacer particles. When laminating a plurality of vinyl-based thermoplastic resin layers having different compositions for the purpose of increasing the thickness of the surface coating layer of the particles, 30 to 80% by weight of the vinyl-based monomer having the hydrophilic functional group and The use of a preferred vinyl monomer comprising 20 to 60% by weight of a vinyl monomer having an alkyl group having 3 to 22 carbon atoms is only for the vinyl thermoplastic resin which is the outermost layer of the surface coating layer. Consider it. This is because the functions such as the dispersibility of the spacer particle dispersion and the medium used in the ink-jet ink and the suppression of abnormal liquid crystal orientation are manifested by the state near the surface of the spacer.
By performing such a surface treatment, spacer movement is eliminated in an impact test or the like after the panel is manufactured.

(スペーサ粒子分散液)
本発明において、スペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子を分散させ得る媒体中に、上述のスペーサ粒子が分散されている。
(Spacer particle dispersion)
In the present invention, in the spacer particle dispersion, the above-described spacer particles are dispersed in a medium in which the spacer particles can be dispersed.

上記スペーサ粒子分散液の媒体としては、例えば、ヘッドから吐出される温度で液体である各種溶媒が用いられる。なかでも、水溶性又は親水性の溶媒が好ましい。なお、一部のインクジェット装置のヘッドは水系媒体用にできているため、これらのヘッドを使用する際は、疎水性の強い溶媒は、ヘッドを構成する部材を溶媒が侵したり、部材を接着する接着剤の一部を溶かすことがあるので好ましくない。 As the medium for the spacer particle dispersion, for example, various solvents that are liquid at the temperature discharged from the head are used. Of these, a water-soluble or hydrophilic solvent is preferable. In addition, since the heads of some ink jet devices are made for aqueous media, when these heads are used, a solvent having a strong hydrophobic property may cause the member constituting the head to be affected by the solvent or to adhere the member. This is not preferable because a part of the adhesive may be dissolved.

上記水溶性又は親水性の溶媒としては、水の他、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、1−ヘキサノール、1−メトキシ−2−プロパノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のモノアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコールの多量体;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール等のプロピレングリコールの多量体;グリコール類のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等の低級モノアルキルエーテル類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジプロピルエーテル等の低級ジアルキルエーテル類;モノアセテート、ジアセテート等のアルキルエステル類、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、3−ヘキセン−2,5−ジオール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオール類、ジオール類のエーテル誘導体、ジオール類のアセテート誘導体、グリセリン、1,2,4−ブタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、1,2,5−ペンタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類又はそのエーテル誘導体、アセテート誘導体、ジメチルスルホキシド、チオジグリコール、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジン、スルフォラン、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、α−テルピネオール、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ビス−β−ヒドロキシエチルスルフォン、ビス−β−ヒドロキシエチルウレア、N,N−ジエチルエタノールアミン、アビエチノール、ジアセトンアルコール、尿素等が挙げられる。 Examples of the water-soluble or hydrophilic solvent include water, ethanol, n-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 1-hexanol, 1-methoxy-2-propanol, furfuryl alcohol, tetrahydro Monoalcohols such as furfuryl alcohol, multimers of ethylene glycol such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol; multimers of propylene glycol such as propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and tetrapropylene glycol Lower monoalkyl ethers of glycols such as monomethyl ether, monoethyl ether, monoisopropyl ether, monopropyl ether, monobutyl ether; Lower dialkyl ethers such as ter, diethyl ether, diisopropyl ether and dipropyl ether; alkyl esters such as monoacetate and diacetate, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 3-hexene-2,5-diol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl-2,4- Diols such as pentanediol, 2,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, neopentylglycol, ether derivatives of diols, acetate derivatives of diols, glycerin, 1,2,4-butanetriol, 1, 2,6-hexanetriol, 1,2,5-pentanetriol, tri Polyhydric alcohols such as tyrolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol or ether derivatives thereof, acetate derivatives, dimethyl sulfoxide, thiodiglycol, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidine, sulfolane, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N-methylformamide, acetamide, N-methylacetamide, α-terpineol, ethylene carbonate, propylene carbonate Bis-β-hydroxyethylsulfone, bis-β-hydroxyethylurea, N, N-diethylethanolamine, abietinol, diacetone alcohol, urea and the like.

本発明では、上述した溶媒を組み合わせて、スペーサ粒子分散液の表面張力を33mN/m以上とすることが好ましい。表面張力が33mN/m以上であると、基板上に着弾したスペーサ粒子分散液の液滴径が小さくなる。 In the present invention, it is preferable that the surface tension of the spacer particle dispersion is 33 mN / m or more by combining the above-described solvents. When the surface tension is 33 mN / m or more, the droplet diameter of the spacer particle dispersion liquid that has landed on the substrate becomes small.

本発明では、スペーサ粒子分散液中に、沸点が100℃以上である溶媒を含有させるとよい。更に好ましくは沸点が70℃以上100℃未満の有機溶媒を含ませる。
なお、本発明中でいう沸点とは1気圧の条件下での沸点をいう。
In the present invention, the spacer particle dispersion may contain a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher. More preferably, an organic solvent having a boiling point of 70 ° C. or higher and lower than 100 ° C. is included.
In addition, the boiling point as used in the field of this invention means the boiling point on 1 atmosphere conditions.

上記沸点が100℃未満の溶媒としては、例えば、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール等の低級モノアルコール類、アセトン等が好ましく使用される。 As the solvent having a boiling point of less than 100 ° C., for example, lower monoalcohols such as ethanol, n-propanol and 2-propanol, acetone and the like are preferably used.

スペーサ粒子分散液を散布して溶媒を乾燥させる際に、配向膜に媒体が高温で接触すると配向膜を汚染して液晶表示装置の表示画質を損なうため、乾燥温度をあまり高くできない。しかしながら、上記のような100℃未満の溶剤を使用することにより、乾燥温度を低くできるので配向膜を汚染することがない。 When spraying the spacer particle dispersion and drying the solvent, if the medium comes into contact with the alignment film at a high temperature, the alignment film is contaminated and the display image quality of the liquid crystal display device is impaired. However, since the drying temperature can be lowered by using a solvent having a temperature lower than 100 ° C. as described above, the alignment film is not contaminated.

スペーサ粒子を除くスペーサ粒子分散液100重量%に対し、沸点が100℃未満の溶媒は、好ましい下限が1.5重量%、好ましい上限が80重量%である。沸点が100℃未満の溶媒が1.5重量%未満では本発明で適用される比較的低い乾燥温度における分散液としての乾燥速度が遅くなり、生産効率が低下するので好ましくない。また、沸点が100℃未満の溶媒が80重量%を超えるとスペーサ分散液の表面張力が低くなりすぎ、基板に着弾した際に液滴が広くなりすぎスペーサが集まりにくくなったり、インクジェット装置のノズル付近のスペーサ粒子分散液が乾燥しやすくインクジェット吐出性を損ねることがある。更に、スペーサ粒子分散液の製造時やタンクで乾燥しやすく、その結果凝集粒子の発生する可能性が高くなることがある。 A solvent having a boiling point of less than 100 ° C. has a preferable lower limit of 1.5% by weight and a preferable upper limit of 80% by weight with respect to 100% by weight of the spacer particle dispersion excluding the spacer particles. If the solvent having a boiling point of less than 100 ° C. is less than 1.5% by weight, the drying rate as a dispersion at a relatively low drying temperature applied in the present invention is slow, and production efficiency is lowered, which is not preferable. Further, if the solvent having a boiling point of less than 100 ° C. exceeds 80% by weight, the surface tension of the spacer dispersion becomes too low, and the droplets become too wide when landing on the substrate, making it difficult for the spacers to collect, The nearby spacer particle dispersion is liable to dry, and ink jetting properties may be impaired. Furthermore, it may be easy to dry in the production of the spacer particle dispersion or in the tank, and as a result, there is a high possibility that aggregated particles are generated.

また、上記沸点が100℃未満の溶媒は、20℃における表面張力が38mN/m以下、更に好ましくは25mN/m以下であることが好ましい。溶媒の表面張力が38mN/mより大きいと、インクジェット装置による吐出性が悪くなることがある。なお、沸点が100℃以上の溶媒の20℃における表面張力は、38mN/m以上であることが好ましい。 The solvent having a boiling point of less than 100 ° C. preferably has a surface tension at 20 ° C. of 38 mN / m or less, more preferably 25 mN / m or less. When the surface tension of the solvent is larger than 38 mN / m, the dischargeability by the ink jet apparatus may be deteriorated. In addition, it is preferable that the surface tension in 20 degreeC of the solvent whose boiling point is 100 degreeC or more is 38 mN / m or more.

スペーサ粒子分散液に、沸点100℃未満で表面張力が38mN/m以下の溶媒が含まれていることにより、後述するインクジェット装置にスペーサ粒子分散液を導入し易くなり、吐出する際には吐出性を向上できる。 Since the spacer particle dispersion contains a solvent having a boiling point of less than 100 ° C. and a surface tension of 38 mN / m or less, the spacer particle dispersion can be easily introduced into an ink jet apparatus to be described later. Can be improved.

なお、上述したように、スペーサ粒子分散液には、上記沸点が100℃未満の溶媒と、100℃以上の溶媒とを含有させるとよい。沸点が100℃以上の溶媒は、水と沸点が150℃以上の溶媒との混合物であることが好ましく、水と沸点が150℃以上200℃以下の溶媒との混合物であることが更に好ましい。 As described above, the spacer particle dispersion liquid may contain a solvent having a boiling point of less than 100 ° C. and a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher. The solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher is preferably a mixture of water and a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher, and more preferably a mixture of water and a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.

本発明では、沸点が150℃以上で表面張力が38mN/m以上の溶媒が混合されることにより、後退接触角を5度以上とすることが容易になる。即ち、スペーサ粒子分散液の液滴が基板上に着弾後は、沸点100℃未満の表面張力の低い溶媒が先に揮散し、残された分散液の表面張力が高くなり、着弾地点中心に向かってのスペーサ粒子の移動が起こりやすくなるため好ましい。 In the present invention, it becomes easy to set the receding contact angle to 5 degrees or more by mixing a solvent having a boiling point of 150 ° C. or more and a surface tension of 38 mN / m or more. That is, after the droplets of the spacer particle dispersion liquid land on the substrate, the low surface tension solvent with a boiling point of less than 100 ° C. is volatilized first, and the surface tension of the remaining dispersion liquid becomes high and moves toward the center of the landing point. It is preferable because all the spacer particles easily move.

逆に、沸点が150℃以上の溶媒の表面張力が38mN/m未満であると、スペーサ粒子分散液の液滴が基板上に着弾後は、沸点100℃未満の表面張力の低い溶媒が先に揮散するので、残された分散液の表面張力が初期より低くなる。よって、着弾液滴径が小さくならず、着弾液滴径が初期より拡がり易くなり、着弾地点中心に向かってスペーサ粒子が移動し難くなる。 Conversely, if the surface tension of the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is less than 38 mN / m, after the droplet of the spacer particle dispersion has landed on the substrate, the solvent having a boiling point of less than 100 ° C. Since it volatilizes, the surface tension of the remaining dispersion becomes lower than the initial. Therefore, the landing droplet diameter is not reduced, the landing droplet diameter is easily expanded from the initial stage, and the spacer particles are difficult to move toward the center of the landing point.

上記沸点が150℃以上の溶媒としては、例えば、具体的にはエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール等の低級アルコールエーテル類が挙げられる。このような溶媒は、スペーサ粒子分散液がインクジェット装置のノズル付近で過剰に乾燥し、吐出精度が低下するのを防止する。更に、スペーサ粒子分散液の製造時やタンクで乾燥するため、凝集粒子の発生が抑制される。 Specific examples of the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher include lower alcohol ethers such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, and 1,2-butanediol. Such a solvent prevents the dispersion of the spacer particle dispersion from being excessively dried in the vicinity of the nozzles of the ink jet apparatus and lowering the discharge accuracy. Further, since the spacer particle dispersion is produced or dried in a tank, the generation of aggregated particles is suppressed.

スペーサ粒子分散液の媒体中における沸点が150℃以上の溶媒の比率は、0.1〜95重量%の範囲であることが好ましく、より好ましくは、0.2〜90重量%である。溶媒の比率が0.1重量%未満では上記のような分散液の乾燥による吐出精度低下や凝集粒子の発生が起こりやすくなるため好ましくない。溶媒の比率が95重量%を超えたり、沸点が200℃を超えると、乾燥時間が著しくかかり効率が低下するばかりでなく、配向膜の汚染による液晶表示装置の表示画質の低下が起こりやすくなる。 The ratio of the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher in the medium of the spacer particle dispersion is preferably in the range of 0.1 to 95% by weight, more preferably 0.2 to 90% by weight. If the ratio of the solvent is less than 0.1% by weight, it is not preferable because the discharge accuracy is lowered and the generation of aggregated particles is likely to occur due to drying of the dispersion liquid as described above. When the solvent ratio exceeds 95% by weight or the boiling point exceeds 200 ° C., not only the drying time is remarkably reduced but the efficiency is lowered, and the display image quality of the liquid crystal display device is liable to be deteriorated due to contamination of the alignment film.

本発明に用いられるスペーサ粒子分散液としては、スペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子を除く不揮発成分が少ないものが好適に用いられる。具体的な不揮発分としては、大気中のゴミ、スペーサ粒子を分散させるのに用いた溶剤中に含まれていた不純物、スペーサ粒子の粉砕物及びイオン性の不揮発物質等の不揮発成分が少ないものが好適に用いられる。なお、上記不揮発成分は、スペーサ粒子分散液中における保形性を有さない固形分や非球形の微粒子及び球形であってもギャップ間を保持することに寄与しない極微小粒子等も含むものとする。
このようにスペーサ粒子を除く不揮発成分が少ないスペーサ粒子分散液によって、液晶の体積抵抗値変化率が1%以上であり、かつ、液晶のネマチック・等方相転移温度の変化が±1℃以内であるスペーサ粒子分散液を得ることができる。
上記体積抵抗値変化率及び液晶のネマチック・等方相転移温度の変化は、例えば、スペーサ粒子分散液を基板上等に吐出、乾燥させ、液晶と接触させた前後の変化である。
As the spacer particle dispersion used in the present invention, those having a small amount of non-volatile components excluding spacer particles in the spacer particle dispersion are preferably used. Specific non-volatile components include those containing less non-volatile components such as dust in the atmosphere, impurities contained in the solvent used to disperse the spacer particles, pulverized spacer particles, and ionic non-volatile materials. Preferably used. The non-volatile component includes solids that do not have shape retention in the spacer particle dispersion, non-spherical fine particles, and extremely fine particles that do not contribute to maintaining the gap even when spherical.
Thus, by the spacer particle dispersion liquid with a small non-volatile component excluding the spacer particles, the volume resistivity change rate of the liquid crystal is 1% or more and the change of the nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal is within ± 1 ° C. A spacer particle dispersion can be obtained.
The change in the volume resistance value and the change in the nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal are, for example, changes before and after the spacer particle dispersion is discharged onto a substrate and dried and brought into contact with the liquid crystal.

本発明に用いられるスペーサ粒子分散液中に存在する不揮発成分の含有割合は、スペーサ粒子分散液100重量%に対して、0.001重量%未満であることが好ましい。不揮発性成分の含有割合が、0.001重量%以上であると、液晶や配向膜が汚染されて、液晶表示装置のコントラスト等の表示品質が劣ることがある。
このような、インクジェット装置を用いて基板の表面にスペーサ粒子を配置する際に用いられるスペーサ粒子分散液であって、少なくとも、スペーサ粒子と媒体とを含有し、前記スペーサ粒子は、グラフト重合によって表面修飾されており、不揮発成分の含有割合が0.001重量%未満であるスペーサ粒子分散液もまた、本発明の1つである。
The content ratio of the non-volatile component present in the spacer particle dispersion used in the present invention is preferably less than 0.001% by weight with respect to 100% by weight of the spacer particle dispersion. If the content ratio of the nonvolatile component is 0.001% by weight or more, the liquid crystal and the alignment film are contaminated, and the display quality such as contrast of the liquid crystal display device may be deteriorated.
A spacer particle dispersion used when arranging spacer particles on the surface of a substrate using such an ink jet apparatus, which contains at least spacer particles and a medium. A spacer particle dispersion that is modified and has a non-volatile component content of less than 0.001% by weight is also one aspect of the present invention.

スペーサ粒子分散液中の不揮発成分を少なくして、不揮発成分を上記含有割合とする方法としては、例えば、精密蒸留して不純物を除いた溶媒を用いたり、先ずスペーサ粒子の粒子径よりも大きい濾過径を有するフィルタでスペーサ粒子分散液を濾過し、大きなゴミを除き、次にスペーサ粒子分散液の遠心操作を行い、スペーサ粒子を沈殿させた後、上澄み液を捨てて、更に濾取したスペーサ粒子を1μmの濾過径を有するフィルタで濾過した溶媒を加えてスペーサ粒子を分散させる方法が挙げられる。あるいは、スペーサ粒子の粒子径よりも小さい濾過径を有するフィルタでスペーサ粒子を濾取し、濾取したスペーサ粒子を1μmの濾過径を有するフィルタで濾過した溶媒に分散させる方法、イオン吸着性固体を用いる方法も挙げられる。これらの方法は、繰り返して行われても良い。また、上記不揮発成分を上記含有割合とする際に使用・保存する器具としては、イオン成分や有機物等の不揮発成分の溶出の少ないものが用いられる。使用・保存する器具としては、例えば、ステンレス、フッ素樹脂、無アルカリガラス、ブルーム処理ガラス、ホウケイ酸ガラス等の容器類が用いられる。 As a method of reducing the non-volatile components in the spacer particle dispersion liquid and adjusting the non-volatile components to the above-mentioned content ratio, for example, a solvent from which impurities have been removed by precision distillation is used, or filtration that is first larger than the particle size of the spacer particles The spacer particle dispersion is filtered with a filter having a diameter to remove large dust, and then the spacer particle dispersion is centrifuged to precipitate the spacer particles. Then, the supernatant liquid is discarded, and the filtered spacer particles are further filtered. And a method of dispersing the spacer particles by adding a solvent filtered through a filter having a filtration diameter of 1 μm. Alternatively, the spacer particles are filtered by a filter having a filtration diameter smaller than the particle diameter of the spacer particles, and the filtered spacer particles are dispersed in a solvent filtered by a filter having a filtration diameter of 1 μm. The method used is also mentioned. These methods may be repeated. In addition, as an instrument to be used / stored when the non-volatile component is contained in the above-described content ratio, a device that causes less elution of non-volatile components such as ionic components and organic substances is used. Examples of the equipment to be used / stored include containers such as stainless steel, fluororesin, alkali-free glass, bloom-treated glass, and borosilicate glass.

上記イオン吸着性固体としては、層状無機化合物を用いることが好ましい。上記層状無機化合物は、一定の性質を持つ積層構造単位を有し、隙間構造を持つため、設計性や機能付与性が高く、また2次元的物性やイオン交換等の特異な性質や機能を有している。 As the ion-adsorptive solid, a layered inorganic compound is preferably used. The layered inorganic compound has a laminated structural unit having a certain property and a gap structure, so that it has high designability and function-imparting property, and has unique properties and functions such as two-dimensional physical properties and ion exchange. is doing.

上記層状無機化合物を用いることによって、層状無機化合物の層間に存在する金属原子がイオン性不純物を捕捉する。また層状無機化合物は層状構造であるため、一旦捕捉吸着したイオン性不純物は再溶出しにくい。 By using the layered inorganic compound, metal atoms present between the layers of the layered inorganic compound trap ionic impurities. Further, since the layered inorganic compound has a layered structure, the ionic impurities once trapped and adsorbed are unlikely to elute again.

上記層状無機化合物としては、層状珪酸塩鉱物であることが好ましい。 The layered inorganic compound is preferably a layered silicate mineral.

上記層状珪酸塩鉱物としては、例えば、ハイドロタルサイト族化合物、蛇紋石−カオリン族化合物、タルクーパイロフィライト族化合物、スメクタイト族化合物、バーミキュライト族化合物、雲母族、層間欠損型雲母化合物、脆雲母族化合物、緑泥石族化合物、混合層鉱物、硅藻土、ケイ酸アルミ等が挙げられ、好ましくは、ハイドロタルサイト族化合物、蛇紋石−カオリン族化合物である。上記層状珪酸塩鉱物は、天然に産出される物であってもよく、合成された物であってもよい。これらの層状珪酸塩鉱物は単独で用いられてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the layered silicate mineral include hydrotalcite group compounds, serpentine-kaolin group compounds, talc pyrophyllite group compounds, smectite group compounds, vermiculite group compounds, mica groups, interlayer-deficient mica compounds, and brittle mica. Group compounds, chlorite group compounds, mixed layer minerals, diatomaceous earth, aluminum silicate and the like, preferably hydrotalcite group compounds and serpentine-kaolin group compounds. The layered silicate mineral may be a naturally produced product or a synthesized product. These layered silicate minerals may be used alone or in combination of two or more.

上記ハイドロタルサイト族化合物としては、下記一般式(1)で表されるものが好ましく、なかでも、MgAl(OH)16CO・4HOが好適である。
Mgn1Aln2(OH)r1(COr2・sHO・・・(1)
As the hydrotalcite compound is preferably one represented by the following general formula (1), inter alia, Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 · 4H 2 O are preferred.
Mg n1 Al n2 (OH) r1 (CO 3 ) r2 · sH 2 O (1)

上記式(1)中、n1、n2、r1及びr2は1以上の整数を表す。 In said formula (1), n1, n2, r1 and r2 represent an integer greater than or equal to 1.

上記蛇紋石−カオリン族化合物としては、例えば、リザーダイト、バーチェリン、アメサイト、クロンステダイト、ネポーアイト、ケリアイト、フレイポナイト、ブリンドリアイト、カオリナイト、ディカイト、ナクライト、ハロサイト(板状)、オーディナイト等が挙げられる。 Examples of the serpentine-kaolin group compounds include lizardite, burcerin, amesite, cronsteite, nepoite, keriaite, fraponite, brindriaite, kaolinite, dickite, nacrite, halosite (plate-like), audinite Etc.

上記タルクーパイロフィライト族化合物としては、例えば、タルク、ウィレムサイト、ケロライト、ピメライト、パイロフィライト、フェリパイロフィライト等が挙げられる。 Examples of the talc pyrophyllite group compound include talc, willemsite, kellolite, pimelite, pyrophyllite, ferripyrophyllite and the like.

上記スメクタイト族化合物としては、例えば、サポイナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スチーブンサイト、スインホルダイト、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、ボルコンスコアイト等が挙げられる。 Examples of the smectite group compound include sapoinite, hectorite, saconite, stevensite, swin holderite, montmorillonite, beidellite, nontronite, bolcon score.

上記バーミキュライト族化合物としては、例えば、3八面体型バーミキュライト、2八面体型バーミキュライト等が挙げられる。 Examples of the vermiculite group compound include 3 octahedral vermiculite, 2 octahedral vermiculite, and the like.

上記雲母族化合物としては、例えば、黒雲母、金雲母、鉄雲母、イーストナイト、シデロフィライトテトラフェリ鉄雲母、鱗雲母、ポリリシオナイト、白雲母、セラドン石、鉄セラドン石、鉄アルミノセラドン石、アルミノセラドン石、砥部雲母、ソーダ雲母等が挙げられる。 Examples of the mica group compound include biotite, phlogopite, iron mica, yeast knight, siderophyllite tetraferri iron mica, scale mica, polyriccionite, muscovite, celadonite, iron ceradonite, iron aluminoceradone. Stones, aluminoceradone stones, abrasive mica, soda mica and the like.

上記層間欠損型雲母化合物としては、例えば、2八面体型(イライト、海緑石、ブラマーライト)、3八面体型(ウォンネサイト)等が挙げられる。 Examples of the interlaminar defect type mica compound include a dioctahedral type (illite, sea green stone, bramerlite), a trioctahedral type (wonnesite), and the like.

上記脆雲母族化合物としては、例えば、クリントナイト、木下、ヒデ雲母、アナンダ石、真珠雲母等が挙げられる。 Examples of the brittle mica group compounds include clintonite, kinoshita, hide mica, ananda stone, and pearl mica.

上記緑泥石族化合物としては、クリノクロア、シャモサイト、ペナンタイト、ニマイト、ベイリクロア、ドンバサイト、クッケアイト、スドーアイト等が挙げられる。 Examples of the chlorite group compounds include clinochlore, chamosite, penantite, nimite, bailicroa, dombasite, kukeaite, and suedoite.

上記混合層鉱物としては、例えば、コレンサイト、ハイドロバイオタイト、アリエッタイト、クルケアイト、レクトライト、トスダイト、ドジライト、ルニジャンライト、サライオタイト等が挙げられる。 Examples of the mixed layer mineral include collensite, hydrobiotite, arietite, crucareite, rectolite, tosudite, dodrite, lnjanglite, salioite and the like.

上記イオン吸着性固体は、スペーサ粒子分散液と接触後に容易に分離できるように、粒状固体であることが好ましい。また、上記イオン吸着性固体の形状としては特に限定されず、その粒子径は回収するイオン性不純物との接触機会を多くする目的からも小さい方が好ましいが、濾過時に目詰まり等の問題となるので、2μm以上であることが好ましい。 The ion-adsorptive solid is preferably a granular solid so that it can be easily separated after contact with the spacer particle dispersion. Further, the shape of the ion-adsorbing solid is not particularly limited, and its particle size is preferably small for the purpose of increasing the chance of contact with the ionic impurities to be recovered, but it becomes a problem such as clogging during filtration. Therefore, it is preferably 2 μm or more.

上記イオン吸着性固体を用いてスペーサ粒子分散液中の不揮発成分を少なくして、不揮発成分を上記含有割合とする方法としては、スペーサ粒子を洗浄する際の洗浄溶媒として上記イオン吸着性固体を通過させてイオンを除去した洗浄溶媒を用いる方法、スペーサ粒子を分散する前のスペーサ粒子の分散液を上記イオン吸着性固体に通過させイオンを除去する方法、スペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を上記イオン吸着性固体に通過させイオンを除去する方法等が挙げられる。 As a method of reducing the non-volatile component in the spacer particle dispersion using the ion-adsorptive solid and making the non-volatile component the content ratio, the ion-adsorptive solid is passed as a cleaning solvent for cleaning the spacer particles. A method using a cleaning solvent from which ions have been removed, a method in which a dispersion of spacer particles before dispersing the spacer particles is passed through the ion-adsorptive solid to remove ions, and a spacer particle dispersion in which spacer particles are dispersed. Examples include a method of removing ions by passing through the ion-adsorbing solid.

上記イオン吸着性固体を用いて製造されたスペーサ粒子分散液では、ナトリウムイオン、カリウムイオン、塩素イオン、アクリル酸、メタアクリル酸等のイオン性不純物が取り除かれており、これらが液晶中に流出するのを防止することができる。 In the spacer particle dispersion produced using the ion-adsorptive solid, ionic impurities such as sodium ion, potassium ion, chlorine ion, acrylic acid, and methacrylic acid are removed, and these flow out into the liquid crystal. Can be prevented.

また、上記スペーサ粒子分散液としては、吐出される基板に対する後退接触角(θr)が5度以上になるようなスペーサ粒子分散液が好ましく用いられる。上記後退接触角が5度以上あれば、基板に着弾したスペーサ粒子分散液の液滴が乾燥し、その中心に向かって縮小していくとともに、その液滴中に1個以上含まれるスペーサ粒子がその液滴中心に寄り集まることが可能となる。更にそこに荷電インクが吐出されると静電的に作用する力による荷電インクの着弾点へのスペーサ粒子の移動がより起こりやすくなり、スペーサ粒子の配置精度がより向上する。 Further, as the spacer particle dispersion liquid, a spacer particle dispersion liquid having a receding contact angle (θr) with respect to the substrate to be discharged of 5 degrees or more is preferably used. If the receding contact angle is 5 degrees or more, the droplets of the spacer particle dispersion that have landed on the substrate dries and shrinks toward the center, and at least one spacer particle contained in the droplets. It is possible to gather near the center of the droplet. Further, when the charged ink is ejected there, the spacer particles are more easily moved to the landing point of the charged ink by the force acting electrostatically, and the arrangement accuracy of the spacer particles is further improved.

上記後退接触角(θr)が5度未満であると、基板上で液滴の着弾した箇所の中心(着弾中心)を中心として液滴が乾燥し、その液滴径が縮小するとともに、スペーサ粒子がその中心に集まり難くなる。 When the receding contact angle (θr) is less than 5 degrees, the droplets are dried around the center (landing center) where the droplets land on the substrate, the droplet diameter is reduced, and the spacer particles It becomes difficult to gather at the center.

なお、ここで後退接触角とは、基板上に置かれたスペーサ粒子分散液の液滴が、基板上に置かれてから乾燥するまでの過程で、基板上に最初に置かれた際の着弾径より小さくなりだした時(液滴が縮みだした時)に示す接触角、又は、液滴の揮発成分の内80〜95重量%が揮発した際に示す接触角をいう。 Here, the receding contact angle refers to the landing of the droplet of the spacer particle dispersion placed on the substrate when it is first placed on the substrate in the process from placing on the substrate to drying. It refers to the contact angle shown when it becomes smaller than the diameter (when the droplet starts to shrink), or the contact angle shown when 80 to 95% by weight of the volatile components of the droplet are volatilized.

上記後退接触角が5度以上となるようにする方法としては、上述したスペーサ粒子分散液の分散媒の組成を調整する方法、又は、基板の表面を調整する方法が挙げられる。 Examples of the method for adjusting the receding contact angle to 5 ° or more include a method for adjusting the composition of the dispersion medium of the spacer particle dispersion liquid and a method for adjusting the surface of the substrate.

上記スペーサ粒子分散液の分散媒の組成を調整するには、後退接触角が5度以上の媒体を単独で用いてもよいし、又は、2種以上の媒体を混合して用いてもよい。2種以上を混合して用いると、スペーサ粒子の分散性、スペーサ粒子分散液の作業性、乾燥速度等の調整が容易なので好ましい。 In order to adjust the composition of the dispersion medium of the spacer particle dispersion, a medium having a receding contact angle of 5 degrees or more may be used alone, or two or more kinds of media may be mixed and used. It is preferable to use a mixture of two or more types because it is easy to adjust the dispersibility of the spacer particles, the workability of the spacer particle dispersion, the drying speed, and the like.

上記スペーサ粒子分散液として2種以上の溶媒が混合して用いられる場合には、混合される溶媒の中で最も沸点の高い溶媒の後退接触角(θr)が5度以上となるように混合することが好ましい。最も沸点の高い溶媒の後退接触角(θr)が5度未満であると、乾燥後期で液滴径が大きくなり(基板上で液滴が濡れ拡がり)、スペーサ粒子が基板上で着弾中心に集まり難くなる。 When two or more solvents are mixed and used as the spacer particle dispersion, the spacer particles are mixed so that the receding contact angle (θr) of the solvent having the highest boiling point is 5 degrees or more. It is preferable. If the receding contact angle (θr) of the solvent having the highest boiling point is less than 5 degrees, the droplet diameter increases in the late stage of drying (droplet spreads on the substrate), and the spacer particles gather on the landing center on the substrate. It becomes difficult.

なお、後退接触角は、いわゆる接触角(液滴を基板に置いた際の初期接触角で通常はこれを接触角と呼ぶことがほとんどである)に比べ小さくなる傾向がある。これは、初期の接触角は、スペーサ粒子分散液を構成する溶剤に接触していない基板表面上での液滴の基板に対する接触角であるのに対し、後退接触角はスペーサ粒子分散液を構成する溶剤に接触した後の基板表面上での液滴の基板に対する接触角であるためと考えられる。即ち、後退接触角が初期接触角に対して著しく低い場合は、それらの溶剤によって配向膜が損傷を受けていることを示しており、これらの溶剤を使用することが、配向膜汚染に対して、好ましくないことがあった。 The receding contact angle tends to be smaller than the so-called contact angle (the initial contact angle when a droplet is placed on a substrate, which is usually called the contact angle in most cases). This is because the initial contact angle is the contact angle of the droplet with respect to the substrate on the surface of the substrate not in contact with the solvent constituting the spacer particle dispersion, whereas the receding contact angle constitutes the spacer particle dispersion. This is considered to be due to the contact angle of the droplet with respect to the substrate on the surface of the substrate after contacting with the solvent. That is, when the receding contact angle is remarkably lower than the initial contact angle, it indicates that the alignment film is damaged by those solvents. , It was not preferable.

また、スペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子分散液と基板面との初期接触角θが、10〜110度になるように調整されることが好ましい。スペーサ粒子分散液と基板面との初期接触角が10度未満の場合、基板上に吐出されたスペーサ粒子分散液液滴が、基板上に濡れ拡がった状態となりスペーサ粒子の配置間隔を狭くできないことがあり、110度より大きいと、少しの振動で液滴が基板上を動き回り易く、結果として配置精度が悪化したり、スペーサ粒子と基板との密着性が悪くなるという問題が発生する。 The spacer particle dispersion is preferably adjusted so that the initial contact angle θ between the spacer particle dispersion and the substrate surface is 10 to 110 degrees. When the initial contact angle between the spacer particle dispersion and the substrate surface is less than 10 degrees, the spacer particle dispersion droplets discharged on the substrate are wet and spread on the substrate, and the arrangement interval of the spacer particles cannot be reduced. If the angle is greater than 110 degrees, the droplets easily move around on the substrate with a slight vibration, resulting in a problem that the placement accuracy is deteriorated and the adhesion between the spacer particles and the substrate is deteriorated.

本発明におけるスペーサ粒子分散液の吐出時の粘度は、好ましくは、0.5〜15mPa・sの範囲であり、更に好ましくは5〜10mPa・sの範囲である。吐出時の粘度が、15mPa・sより高いとインクジェット装置で吐出できないことがあり、0.5mPa・sより低いと、吐出できても吐出量をコントロールする事が困難になる等安定的に吐出できなくなることがある。なお、スペーサ粒子分散液を吐出する際に、インクジェット装置のヘッド温度をペルチェ素子や冷媒等により冷却したり、ヒーター等で加温したりして、スペーサ粒子分散液の吐出時の液温を−5℃から50℃の間に調整してもよい。 The viscosity at the time of discharging the spacer particle dispersion in the present invention is preferably in the range of 0.5 to 15 mPa · s, more preferably in the range of 5 to 10 mPa · s. If the viscosity at the time of discharge is higher than 15 mPa · s, the ink jet device may not be able to discharge, and if it is lower than 0.5 mPa · s, it can be discharged stably even if it is possible to control the discharge amount. It may disappear. When discharging the spacer particle dispersion, the head temperature of the inkjet device is cooled by a Peltier element, a refrigerant, or the like, or heated by a heater or the like, so that the liquid temperature at the time of discharging the spacer particle dispersion is − You may adjust between 5 degreeC and 50 degreeC.

スペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の固形分濃度は、0.01〜10重量%の範囲が好ましく、更に好ましくは0.1〜3重量%の範囲である。0.01重量%未満では吐出された液滴中にスペーサ粒子を含まない確率が高くなるため好ましくない。また、10重量%を超えるとインクジェット装置のノズルが閉塞することがあり、着弾した分散液滴中に含まれるスペーサ粒子の数が多くなりすぎて、乾燥過程でスペーサ粒子の移動が起こりにくくなるので好ましくない。 The solid content concentration of the spacer particles in the spacer particle dispersion is preferably in the range of 0.01 to 10% by weight, more preferably in the range of 0.1 to 3% by weight. If it is less than 0.01% by weight, the probability that the discharged droplets do not contain spacer particles increases, which is not preferable. In addition, if it exceeds 10% by weight, the nozzles of the ink jet apparatus may be blocked, and the number of spacer particles contained in the landed dispersed droplets will increase so that the movement of the spacer particles is difficult to occur during the drying process. It is not preferable.

本発明に係るスペーサ粒子分散液は、体積抵抗値やネマチック・等方相転移温度の変化を起こさない不揮発物も、セルギャップや光学特性の点から含有しないことが好ましい。このような不揮発物の含有割合は、本発明に係るスペーサ粒子分散液100重量%に対して、0.001重量%未満であることが好ましい。不揮発物の含有割合が0.001重量%以上であると、液晶や配向膜が汚染されて、液晶表示装置のコントラスト等の表示品質が劣ることがある。 The spacer particle dispersion according to the present invention preferably does not contain non-volatile substances that do not cause a change in volume resistivity or nematic / isotropic phase transition temperature in terms of cell gap and optical characteristics. It is preferable that the content of such a nonvolatile material is less than 0.001% by weight with respect to 100% by weight of the spacer particle dispersion according to the present invention. When the content of the nonvolatile material is 0.001% by weight or more, the liquid crystal and the alignment film are contaminated, and the display quality such as contrast of the liquid crystal display device may be inferior.

また、スペーサ粒子分散液はスペーサ粒子が単粒子状に分散されていることが好ましい。分散液中に凝集物が存在すると、吐出精度が低下するばかりでなく、著しい場合はインクジェット装置のノズルに閉塞を起こす場合があるので好ましくない。 In the spacer particle dispersion, the spacer particles are preferably dispersed in a single particle form. The presence of aggregates in the dispersion liquid is not preferable because not only the discharge accuracy is lowered, but also the nozzles of the ink jet apparatus may be clogged in a remarkable case.

本発明においては、本発明の効果を阻害しない範囲で、スペーサ粒子分散液中に接着性を付与するための接着成分、スペーサ粒子の分散を改良したり、表面張力や粘度等の物理特性を制御して吐出精度を改良したり、スペーサ粒子の移動性を改良する目的で各種の界面活性剤、粘性調整剤等が添加されてもよい。 In the present invention, within the range that does not impair the effects of the present invention, the adhesive component for imparting adhesion to the spacer particle dispersion liquid, the dispersion of the spacer particles is improved, and the physical properties such as surface tension and viscosity are controlled. Various surfactants, viscosity modifiers, and the like may be added for the purpose of improving the discharge accuracy and improving the mobility of the spacer particles.

(インクジェット装置)
次に、スペーサ粒子分散液を基板上に吐出するのに用いられるインクジェット装置について説明する。
(Inkjet device)
Next, an ink jet apparatus used for discharging the spacer particle dispersion onto the substrate will be described.

本発明に用いられるインクジェット装置は、特に限定されず、例えばピエゾ素子の振動によって液体を吐出するピエゾ方式、急激な加熱による液体の膨張を利用して液体を吐出させるサーマル方式等の通常の吐出方法によるインクジェット装置が用いられる。その中でも、スペーサ粒子分散液等吐出物に対して熱的な影響の少ないピエゾ方式が好適に用いられる。 The ink jet apparatus used in the present invention is not particularly limited. For example, a normal ejection method such as a piezo system that ejects a liquid by vibration of a piezo element or a thermal system that ejects a liquid by utilizing the expansion of the liquid by rapid heating. Is used. Among them, a piezo method that has little thermal influence on the discharged material such as spacer particle dispersion is preferably used.

インクジェット装置のスペーサ粒子分散液を収納しているインク室の接液部は、表面張力が31mN/m以上親水性の材料で構成されていることが好ましい。なお、接液部が薬液等により親水化処理されて、表面張力が31mN/m以上の親水性の材料とされていてもよい。
その材料としては、親水性ポリイミド等の親水性の有機材料を用いたり、通常のインク室の接液部の材料からなるヘッドに親水化処理剤で処理を行ったり(接液部の材料により酸化処理や親水性有機薄膜コーティング処理を行ったり)することもできるが、耐久性の点で無機材料、すなわち、セラミックスやガラス、腐食性が少ないステンレス等の金属材料が好適に用いられる。
It is preferable that the liquid contact portion of the ink chamber containing the spacer particle dispersion of the ink jet apparatus is made of a hydrophilic material having a surface tension of 31 mN / m or more. Note that the wetted part may be subjected to a hydrophilic treatment with a chemical solution or the like to obtain a hydrophilic material having a surface tension of 31 mN / m or more.
As the material, a hydrophilic organic material such as hydrophilic polyimide is used, or a head made of a material of a liquid contact part of a normal ink chamber is treated with a hydrophilizing agent (oxidized by the material of the liquid contact part). In addition, an inorganic material, that is, a metal material such as ceramics, glass, and stainless steel with low corrosiveness is preferably used.

通常のヘッドではこの部分に電圧印加部品との絶縁等のために樹脂等が用いられているが、このような表面張力が31mN/mより低い材料では、スペーサ粒子分散液をヘッドに導入する際、スペーサ粒子分散液とのなじみが悪いので気泡が残存しやすく、気泡が残存すると気泡が残存したノズルは吐出できないことがあるので好ましくない。 In a normal head, resin or the like is used in this portion for insulation from a voltage application component. However, when such a material having a surface tension lower than 31 mN / m is used, a spacer particle dispersion is introduced into the head. Since the familiarity with the spacer particle dispersion is poor, bubbles are likely to remain, and if bubbles remain, the nozzle with bubbles remaining may not be ejected, which is not preferable.

また、上記インクジェット装置のノズル口径はスペーサ粒子径に対して5倍以上が好ましい。5倍未満であると粒子径に比較しノズル径が小さすぎて吐出精度が低下したり、著しい場合はノズルが閉塞し吐出ができなくなるので好ましくない。更に好ましくは、7倍以上である。 The nozzle diameter of the ink jet device is preferably 5 times or more the spacer particle diameter. If it is less than 5 times, the nozzle diameter is too small compared to the particle diameter and the discharge accuracy is lowered, and if it is remarkable, the nozzle is blocked and discharge is not preferable. More preferably, it is 7 times or more.

吐出精度が低下する理由は、以下のように考えられる。ピエゾ方式ではピエゾ素子の振動によりピエゾ素子に近接したインク室に、インクを吸引、又は、インク室からインクをノズルの先端を通過させて吐出させている。液滴の吐出法として、吐出の直前にノズル先端のメニスカス(インクと気体との界面)を引き込んでから、液を押し出す引き打ち法とメニスカスが待機停止している位置から直接液を押し出す押し打ち法があるが、一般のインクジェット装置においては前者の引き打ち法が主流であり、これの特徴として小さな液滴が吐出できる。本発明のスペーサ粒子吐出においてはノズルの径がある程度大きく、かつ小液滴の吐出が要求されるため、この引き打ち法が有効である。 The reason why the discharge accuracy is lowered is considered as follows. In the piezo method, ink is sucked into an ink chamber adjacent to the piezo element by vibration of the piezo element, or ink is ejected from the ink chamber through the tip of a nozzle. As a droplet discharge method, the meniscus (interface between ink and gas) at the tip of the nozzle is pulled in immediately before discharge, and then the liquid is pushed out and the liquid is pushed out directly from the position where the meniscus is on standby Although there is a method, in the general ink jet apparatus, the former striking method is the mainstream, and as a feature thereof, small droplets can be ejected. In the ejection of the spacer particles of the present invention, the diameter of the nozzle is somewhat large and the ejection of small droplets is required, so this striking method is effective.

しかしながら、引き打ち法の場合吐出直前にメニスカスを引き込むため、例えばノズル口径が粒子径の5倍未満のようなノズル径が小さい場合、図2(a)に示されているように、引き込んだメニスカス22近傍にスペーサ粒子21があるとメニスカス22が軸対称に引き込まれない。よって、引き込みの後の押し出しの際、スペーサ粒子分散液23の液滴は直進せず曲がってしまい、吐出精度が低下すると考えられる。例えばノズル口径が粒子径の7倍以上のようなノズル径が大きい場合、図2(b)に示されているように、引き込んだメニスカス22近傍にスペーサ粒子21があっても、スペーサ粒子21の影響を受けない。よって、メニスカス22は軸対称に引き込まれ、引き込みの後の押し出しの際、スペーサ粒子分散液23の液滴は直進し、吐出精度が良くなると考えられる。しかしながら、吐出の際の液滴の曲がりをなくすために、不必要にノズル径を大きくすると、吐出される液滴が大きくなり着弾径も大きくなるので、荷電インクやスペーサ粒子21を配置する精度が粗くなり好ましくない。 However, in the case of the pulling method, the meniscus is drawn immediately before discharge, so that, for example, when the nozzle diameter is small such that the nozzle diameter is less than 5 times the particle diameter, the drawn meniscus is shown in FIG. If the spacer particles 21 are present in the vicinity of the meniscus 22, the meniscus 22 is not drawn in an axial symmetry. Therefore, it is considered that the droplets of the spacer particle dispersion liquid 23 are not straight but bent during the extrusion after the drawing, and the discharge accuracy is lowered. For example, when the nozzle diameter is large such that the nozzle diameter is 7 times or more of the particle diameter, even if the spacer particles 21 are in the vicinity of the drawn meniscus 22 as shown in FIG. Not affected. Therefore, it is considered that the meniscus 22 is drawn in an axisymmetric manner, and the liquid droplets of the spacer particle dispersion liquid 23 go straight in the push-out after the pull-in to improve the discharge accuracy. However, if the nozzle diameter is increased unnecessarily in order to eliminate the bending of the droplets during ejection, the ejected droplets become larger and the landing diameter becomes larger. Therefore, the accuracy with which the charged ink and spacer particles 21 are arranged is improved. It becomes rough and is not preferable.

ノズルから吐出される液滴量としては、スペーサ粒子分散液の場合、10〜80pLの範囲が好ましい。液滴量を制御する方法としては、ノズルの口径を最適化する方法やインクジェットヘッドを制御する電気信号を最適化する方法がある。後者はピエゾ方式のインクジェット装置を用いた時に特に重要である。 The amount of droplets ejected from the nozzle is preferably in the range of 10 to 80 pL in the case of a spacer particle dispersion. As a method for controlling the droplet amount, there are a method for optimizing the nozzle diameter and a method for optimizing an electric signal for controlling the ink jet head. The latter is particularly important when a piezo ink jet apparatus is used.

インクジェット装置において、インクジェットヘッドには、上述した様なノズルが、複数個、一定の配置方式により設けられている。例えば、ヘッドの移動方向に対して直交する方向に等間隔で64個や128個設けられている。なお、これらが2列等複数列設けられている場合もある。 In an ink jet apparatus, an ink jet head is provided with a plurality of nozzles as described above in a fixed arrangement. For example, 64 or 128 are provided at equal intervals in a direction orthogonal to the moving direction of the head. In some cases, these are provided in a plurality of rows such as two rows.

ノズルの間隔は、ピエゾ素子等の構造やノズル径等の制約を受ける。従って、スペーサ粒子分散液を上記のノズルが配置されている間隔以外の間隔で基板に吐出する場合には、その吐出間隔それぞれにヘッドを準備するのは難しい。よって、ヘッドの間隔より小さい場合は、通常はヘッドのスキャン方向に直角に配置されているヘッドを基板と平行を保ったまま基板と平行な面内で傾けてあるいは回転させて吐出する。ヘッドの間隔より大きい場合は、全てのノズルで吐出するのではなく一定のノズルのみで吐出したり、加えてヘッドを傾ける等して吐出する。 The interval between the nozzles is restricted by the structure of the piezoelectric element and the nozzle diameter. Therefore, when the spacer particle dispersion is discharged onto the substrate at intervals other than the intervals at which the nozzles are arranged, it is difficult to prepare a head for each of the discharge intervals. Accordingly, when the distance is smaller than the distance between the heads, the head, which is normally arranged at right angles to the scanning direction of the head, is discharged while being tilted or rotated in a plane parallel to the substrate while being parallel to the substrate. When the interval is larger than the interval between the heads, the discharge is not performed by all the nozzles, but is performed by discharging only a certain nozzle, or by additionally tilting the head.

また、生産性を上げる等のために、この様なヘッドを複数個、インクジェット装置に取り付けることも可能であるが、取り付ける数を増やすと制御の点で複雑になるので注意を要する。 In order to increase productivity, it is possible to attach a plurality of such heads to the ink jet apparatus. However, if the number of attachments is increased, the control becomes complicated, so care must be taken.

図8(a)、(b)に、本発明で用いられるインクジェット装置のヘッドの一例を模式的に示す。図8(a)は、インクジェットヘッドの一例の構造を模式的に示す部分切欠斜視図、図8(b)はノズル孔部分における断面を示す部分切欠斜視図である。図8(a)、(b)に示されているように、ヘッド100は、吸引等によって予めインクが充填されるインク室101、及び、インク室101からインクが送り込まれるインク室102を備えている。ヘッド100には、インク室102から吐出面103に至るノズル孔104が形成されている。吐出面103は、インクによる汚染を防止するため、予め撥水処理がされている。ヘッド100には、インクの粘度を調整するための温度制御手段105が設けられている。ヘッド100は、インク室101からインク室102にインクを送り込むように機能し、更にインクをノズル孔104から吐出するように機能するピエゾ素子106を備えている。 FIGS. 8A and 8B schematically show an example of a head of an ink jet apparatus used in the present invention. FIG. 8A is a partially cutaway perspective view schematically showing the structure of an example of an ink jet head, and FIG. 8B is a partially cutaway perspective view showing a cross section of the nozzle hole portion. As shown in FIGS. 8A and 8B, the head 100 includes an ink chamber 101 in which ink is filled in advance by suction or the like, and an ink chamber 102 into which ink is sent from the ink chamber 101. Yes. A nozzle hole 104 extending from the ink chamber 102 to the ejection surface 103 is formed in the head 100. The ejection surface 103 is previously subjected to water repellent treatment in order to prevent contamination with ink. The head 100 is provided with temperature control means 105 for adjusting the viscosity of the ink. The head 100 includes a piezo element 106 that functions to send ink from the ink chamber 101 to the ink chamber 102 and further functions to discharge ink from the nozzle hole 104.

ヘッド100では、上記温度制御手段105が設けられているため、粘度が高すぎる場合にはヒーターによりインクを加熱してインクの粘度を低下させることができ、粘度が低すぎる場合には、ペルチェによりインクを冷却してインクの粘度を上昇させることが可能とされている。 Since the temperature control means 105 is provided in the head 100, when the viscosity is too high, the ink can be heated by a heater to reduce the viscosity of the ink, and when the viscosity is too low, the temperature can be reduced by Peltier. It is possible to increase the viscosity of the ink by cooling the ink.

(液晶表示装置用の基板)
本発明に用いられる液晶表示装置用の第1、第2の基板としては、ガラスや樹脂等通常液晶表示装置のパネル基板として使用されるものを用いることができる。また一方の基板としては、画素領域にカラーフィルタが設けられた基板を用いることができる。この場合、画素領域は、実質的にほとんど光を通さないクロム等の金属やカーボンブラック等が分散された樹脂等のブラックマトリックスで画されている。このブラックマトリックスが、非画素領域を構成することになる。
(Substrate for liquid crystal display)
As a 1st, 2nd board | substrate for liquid crystal display devices used for this invention, what is normally used as a panel substrate of liquid crystal display devices, such as glass and resin, can be used. As the one substrate, a substrate in which a color filter is provided in a pixel region can be used. In this case, the pixel region is defined by a black matrix such as a resin in which a metal such as chrome or carbon black that hardly transmits light is dispersed. This black matrix constitutes a non-pixel region.

(インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子が分散されているスペーサ粒子分散液を吐出し、第1の基板の表面に液滴を着弾させる工程)
本発明では、インクジェット装置を用いて、第1の基板又は第2の基板の表面に、スペーサ粒子分散液が吐出されて、非画素領域に対応する位置にスペーサ粒子が配置される。
(Step of ejecting a spacer particle dispersion liquid in which spacer particles are dispersed using an ink jet apparatus to land droplets on the surface of the first substrate)
In the present invention, the spacer particle dispersion is discharged onto the surface of the first substrate or the second substrate using an inkjet device, and the spacer particles are arranged at positions corresponding to the non-pixel regions.

この際、基板上、特に、スペーサ粒子分散液の液滴が吐出され着弾する箇所は、スペーサ粒子分散液の後退接触角(θr)が5度以上となるように調整されるか、又は、スペーサ粒子分散液が1種以上の溶剤からなる混合物である場合、その溶剤の中で最も沸点の高い溶剤の後退接触角(θr)が5度以上となるように調整されることが好ましい。荷電インクの場合は、上記のように後退接触角が5度以上になるように調整する必要はない。但し、後退接触角が5度以上に調整されていても何ら問題はない。 At this time, the location on the substrate where the droplets of the spacer particle dispersion are discharged and landed is adjusted so that the receding contact angle (θr) of the spacer particle dispersion is 5 degrees or more, or the spacer When the particle dispersion is a mixture composed of one or more solvents, the receding contact angle (θr) of the solvent having the highest boiling point among the solvents is preferably adjusted to be 5 degrees or more. In the case of charged ink, it is not necessary to adjust the receding contact angle to be 5 degrees or more as described above. However, there is no problem even if the receding contact angle is adjusted to 5 degrees or more.

上記後退接触角を5度以上する方法としては、上述したスペーサ粒子分散液の溶媒を選ぶ方法、基板の表面を低エネルギー表面とする方法が挙げられる。 Examples of the method of setting the receding contact angle to 5 degrees or more include a method of selecting the solvent of the spacer particle dispersion described above and a method of setting the surface of the substrate to a low energy surface.

上記基板の表面を低エネルギー表面とする方法としては、フッ素膜やシリコーン膜等の低エネルギー表面を有する樹脂を塗設する方法でもよいが、該基板の表面には液晶分子の配向を規制する必要があるため配向膜と呼ばれる樹脂薄膜(通常は0.1μm以下)を設ける方法が一般に行われる。これらの配向膜には通常ポリイミド樹脂膜が用いられる。ポリイミド樹脂膜は、溶剤に可溶なポリアミック酸を塗設後熱重合させたり、可溶性ポリイミド樹脂を塗設後乾燥させることにより得られる。これらのポリイミド樹脂としては、長鎖の側鎖、主鎖を有するものが、低エネルギー表面を得るのにより好ましい。上記配向膜は、液晶の配向を制御するため、塗設後、表面がラビング処理される場合がある。なお、上述のスペーサ粒子分散液の媒体はこの配向膜中に浸透したり溶解したりして配向膜汚染性が無いようなものを選ぶ必要がある。 As a method of setting the surface of the substrate to a low energy surface, a method of applying a resin having a low energy surface such as a fluorine film or a silicone film may be applied, but it is necessary to regulate the alignment of liquid crystal molecules on the surface of the substrate. Therefore, a method of providing a resin thin film (usually 0.1 μm or less) called an alignment film is generally performed. A polyimide resin film is usually used for these alignment films. The polyimide resin film is obtained by applying a polyamic acid soluble in a solvent and then thermally polymerizing it, or by applying a soluble polyimide resin and then drying. As these polyimide resins, those having a long side chain and a main chain are more preferable for obtaining a low energy surface. In order to control the alignment of the liquid crystal, the alignment film may be rubbed on the surface after coating. In addition, it is necessary to select the medium of the above-mentioned spacer particle dispersion liquid that does not contaminate the alignment film by permeating or dissolving in the alignment film.

なお、本発明では第1の基板のスペーサ粒子分散液が吐出され着弾する箇所は、低エネルギー表面とされていることが好ましい。ここで、非画素領域に対応する位置とは、非画素領域(カラーフィルタ基板であれば上述のブラックマトリックス)、あるいはもう一方の基板(TFT液晶パネルであればTFTアレイ基板)上で、その基板を非画素領域を有する基板と重ね合わせた際の非画素領域に対応する領域(TFTアレイ基板であれば配線部等)のいずれかを指す。 In the present invention, the location where the spacer particle dispersion liquid is discharged and landed on the first substrate is preferably a low energy surface. Here, the position corresponding to the non-pixel region is the substrate on the non-pixel region (the above-described black matrix if a color filter substrate) or on the other substrate (TFT array substrate if a TFT liquid crystal panel). Is a region corresponding to the non-pixel region when the substrate is overlapped with the substrate having the non-pixel region (a wiring portion or the like in the case of a TFT array substrate).

低エネルギー表面を有する箇所の表面エネルギーは45mN/m以下である事が好ましく、より好ましくは40mN/m以下である。45mN/mを超えると、インクジェット装置で吐出できる程度の表面張力を有するスペーサ粒子分散液を使用する限り、その液滴が基板上で濡れ拡がり易くなり、スペーサ粒子が非画素領域からはみ出してしまうことになる。 The surface energy of the portion having a low energy surface is preferably 45 mN / m or less, more preferably 40 mN / m or less. If it exceeds 45 mN / m, as long as a spacer particle dispersion having a surface tension that can be discharged by an ink jet device is used, the droplets are likely to spread on the substrate, and the spacer particles may protrude from the non-pixel region. become.

配向膜を塗る等して得られる低エネルギー表面は、スペーサ粒子が着弾する箇所だけでも良いし、基板全面でも良い。パターニング等の工程を考えると通常は全面が低エネルギー表面とされる。 The low energy surface obtained by applying an alignment film or the like may be only the location where the spacer particles land, or the entire surface of the substrate. Considering processes such as patterning, the entire surface is usually a low energy surface.

また、本発明において、スペーサ粒子分散液が吐出される第1の基板には、非画素領域に対応する領域中で、低エネルギー表面を有する箇所があり、着弾後の液滴が、低エネルギー表面を有する箇所に存在するようにスペーサ粒子分散液の液滴を着弾させているが、そこには、周囲と段差を有する箇所が含まれてもよい。また、段差を有する箇所のみに荷電インクが吐出乾燥させられているとなお好ましい。 In the present invention, the first substrate to which the spacer particle dispersion is discharged has a portion having a low energy surface in a region corresponding to the non-pixel region, and the droplet after landing is a low energy surface. The droplets of the spacer particle dispersion liquid are landed so as to be present at the locations having, but there may be included locations having a step and a periphery. In addition, it is more preferable that the charged ink is discharged and dried only at a portion having a step.

なお、ここでいう段差とは、基板上に設けられた配線等によって生じる非意図的な凹凸(周囲との高低差)、あるいは、本発明のようにスペーサ粒子を集めるために意図的に設けられた凹凸をいい、凸凹表面下の構造は問わない。従ってここでいう段差は、表面凹凸形状における凹部又は凸部と平坦部(基準面)との段差をいう。 Here, the step is an unintentional unevenness (level difference from the surroundings) caused by wiring provided on the substrate, or intentionally provided to collect spacer particles as in the present invention. The structure below the uneven surface is not important. Therefore, the step here refers to a step between a concave portion or a convex portion and a flat portion (reference surface) in the surface uneven shape.

具体的には、例えば、TFT液晶パネルでのアレイ基板では、図3(a)〜(c)に示されているようなゲート電極やソース電極による段差(0.2μm程度)、図3(g)に示されているようなアレイによる段差(1.0μm程度)等が挙げられる。更に、カラーフィルタ基板では、図3(d)〜(f)、(h)に示されているようなブラックマトリックス上での画色カラーフィルタ間の凹部段差(1.0μm程度)等が挙げられる。 Specifically, for example, in an array substrate in a TFT liquid crystal panel, a step (about 0.2 μm) due to a gate electrode or a source electrode as shown in FIGS. 3A to 3C, FIG. ), A step (about 1.0 μm) due to the array as shown in FIG. Further, in the color filter substrate, there is a recess step (about 1.0 μm) between the image color filters on the black matrix as shown in FIGS. 3D to 3F and 3H. .

本発明では、スペーサ粒子径をD(μm)、段差をB(μm)とすると、段差は0.01μm<|B|<0.95Dの関係があるような段差であることが好ましい。0.01μmより小さいと、段差周辺にスペーサ粒子を集めることが困難になることがあり、0.95Dを超えるとスペーサ粒子による基板のギャップ調整効果が得にくくなることがある。 In the present invention, when the spacer particle diameter is D (μm) and the step is B (μm), the step is preferably a step having a relationship of 0.01 μm <| B | <0.95D. If it is smaller than 0.01 μm, it may be difficult to collect spacer particles around the step, and if it exceeds 0.95 D, it may be difficult to obtain a substrate gap adjusting effect by the spacer particles.

なお、段差の作用については、段差が有る場合、乾燥の最終段階で液滴乾燥中心が段差部に擬似的に固定されるので、着弾したスペーサ粒子分散液液滴が乾燥した後、スペーサ粒子を非画素領域に対応する領域中にある段差周辺のごく限られた位置に集めることができると説明される。 As for the effect of the step, if there is a step, the droplet drying center is artificially fixed to the step portion at the final stage of drying. It is explained that the images can be collected at a very limited position around the step in the region corresponding to the non-pixel region.

この場合、図4に示されているように、スペーサ粒子31が乾燥後、最終的に残留する位置は、凸部ならば角で、凹部であればそのくぼみの中であることが多い。 In this case, as shown in FIG. 4, the position where the spacer particles 31 finally remain after drying is often a corner if it is a convex portion and is in a recess if it is a concave portion.

また、段差の作用に関しては、配線等の段差部分又は配向膜等の薄膜を挟んでその近傍に金属があり、スペーサ粒子に表面修飾がされていたり、帯電制御剤が含有されている場合、静電的相互作用いわゆる静電的な「電気泳動」効果により液滴中で粒子がその部分に移動、吸着されていくとも考えられる。この場合、金属種や、例えばイオン性の官能基を使用する等して配線等の表面処理に使用される化合物の官能基等を変えたり、帯電制御剤の種類を調整しながら加えたり、あるいは、ソース配線やゲート配線等の配線や基板全面に回路が破損しない程度の正又は負の電圧を印加したりする。このようにすると、スペーサ粒子の寄り集まりを制御することができる。 Regarding the effect of the step, if there is a metal in the vicinity of a step portion such as a wiring or a thin film such as an alignment film and the spacer particles are surface-modified or contain a charge control agent, Electrical interaction It is also considered that particles are moved and adsorbed by the so-called electrostatic “electrophoresis” effect. In this case, the metal species or the functional group of the compound used for the surface treatment such as wiring is changed by using, for example, an ionic functional group, or the charge control agent is added while adjusting the type, or A positive or negative voltage is applied to the wiring such as the source wiring and the gate wiring and the entire surface of the substrate so as not to damage the circuit. In this way, the crowding of the spacer particles can be controlled.

本発明では、インクジェット装置を用いて上述した基板の非画素領域に対応する位置を含むような位置に、スペーサ粒子分散液を吐出する。 In the present invention, the spacer particle dispersion is discharged to a position including the position corresponding to the non-pixel region of the substrate described above using an ink jet apparatus.

本発明において、スペーサ粒子分散液は下記式(1)以上の間隔をもって基板に対して吐出することが好ましい。なお、この間隔は、着弾したスペーサ粒子分散液の液滴が乾燥しない間に次の液滴が吐出される場合の、それら液滴間の最低間隔である。 In the present invention, it is preferable that the spacer particle dispersion is discharged to the substrate at intervals of the following formula (1) or more. This interval is the minimum interval between droplets when the next droplet is ejected while the landed spacer particle dispersion droplet is not dried.

Figure 2006243719
Figure 2006243719

上記式(1)中、Dはスペーサ粒子の粒子径(μm)を表し、θはスペーサ粒子分散液と基板面との初期接触角を表す。 In the above formula (1), D represents the particle diameter (μm) of the spacer particles, and θ represents the initial contact angle between the spacer particle dispersion and the substrate surface.

上記式(1)よりも小さな間隔で吐出しようとすると、液滴径が大きいままなので着弾径も大きくなり液滴の合着が起き、乾燥過程でスペーサ粒子の凝集方向が一カ所に向かって起こらなくなる。結果として、乾燥後のスペーサ粒子の配置精度が悪くなる問題が発生する。また、吐出液滴量を小さくしようとしてノズル径を小さくすると、相対的にスペーサ粒子径がノズル径に対して大きくなるため、先述したようにインクジェットヘッドノズルより安定的に、例えば常に同一方向に直線的にスペーサ粒子を吐出できず、飛行曲がりにより着弾位置精度が低下する。また、スペーサ粒子によってノズルが閉塞する場合がある。 If the droplets are ejected at an interval smaller than the above formula (1), the droplet diameter remains large, the landing diameter also increases and droplet coalescence occurs, and the aggregation direction of the spacer particles occurs toward one place during the drying process. Disappear. As a result, there arises a problem that the arrangement accuracy of the spacer particles after drying is deteriorated. Further, if the nozzle diameter is reduced in order to reduce the amount of ejected droplets, the spacer particle diameter becomes relatively larger than the nozzle diameter. Therefore, as described above, the ink jet head nozzle is more stable, for example, always linear in the same direction. In particular, the spacer particles cannot be discharged, and the landing position accuracy decreases due to the flight bend. Further, the nozzle may be blocked by the spacer particles.

上記式(1)のようにして吐出されて基板上に配置されるスペーサ粒子の配置個数(散布密度)は、通常50〜350個/mmであることが好ましい。この粒子密度を満たす範囲であれば、ブラックマットリックス等の非画素領域や配線等の非画素領域に対応する領域のどのような部分にどのようなパターンで配置しても構わない。しかしながら、表示部(画素領域)へのはみ出しを防止するため、格子状の遮光領域(非画素領域)からなるカラーフィルタに対しては、一方の基板上のその格子状の遮光領域の格子点に対応する箇所を狙って配置することがより好ましい。 It is preferable that the arrangement number (dispersion density) of the spacer particles discharged and arranged on the substrate as in the above formula (1) is usually 50 to 350 / mm 2 . Any pattern may be arranged in any part of the region corresponding to the non-pixel region such as black matrix or the non-pixel region such as wiring as long as the particle density is satisfied. However, in order to prevent protrusion to the display portion (pixel region), for a color filter composed of a lattice-shaped light-shielding region (non-pixel region), the lattice point of the lattice-shaped light-shielding region on one substrate It is more preferable to arrange for the corresponding part.

なお、1カ所の配置位置におけるスペーサ粒子の個数は、配置箇所毎に違うが、一般的には0〜12個程度であって、平均個数として、2〜6個程度である。その平均個数は、スペーサ粒子の粒子径及びスペーサ粒子分散液の濃度により調整される。 The number of spacer particles at one arrangement position is different for each arrangement position, but is generally about 0 to 12, and the average number is about 2 to 6. The average number is adjusted by the particle diameter of the spacer particles and the concentration of the spacer particle dispersion.

このように、散布密度を調整する方法としては、例えばスペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の濃度を変える方法や、スペーサ粒子分散液の吐出間隔を変える方法、1回で吐出される液滴量を変える方法等が挙げられる。 As described above, as a method of adjusting the spray density, for example, a method of changing the concentration of spacer particles in the spacer particle dispersion, a method of changing the discharge interval of the spacer particle dispersion, or the amount of droplets discharged at one time. The method of changing is mentioned.

上記一つの箇所に着弾される液滴量を変える方法としては、インクジェットヘッドの電圧等の波形を調整する方法や、一つの箇所に複数回液滴を吐出する方法等が挙げられる。 Examples of a method for changing the amount of droplets landed on one location include a method for adjusting a waveform such as a voltage of an inkjet head, and a method for ejecting droplets multiple times at one location.

上記スペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の濃度を変える方法により散布密度を変化させる場合、スペーサ分散液中に含まれるスペーサ粒子の種類を変更することもできる。よって、基板の特定の範囲ごとに、用いるスペーサ粒子の例えば粒子径硬さや回復率等の諸物性を変化させることも可能になる。 When changing the spray density by a method of changing the concentration of the spacer particles in the spacer particle dispersion, the type of spacer particles contained in the spacer dispersion can be changed. Therefore, various physical properties such as particle diameter hardness and recovery rate of the spacer particles to be used can be changed for each specific range of the substrate.

スペーサ粒子の散布密度に関しては、基板上の特定の範囲内において、1mmあたりのスペーサ粒子の散布密度の標準偏差が、その特定の範囲内での散布密度の平均値の40%以内であることが好ましい。上述したようなインクジェット装置を用いる場合、通常の状態、すなわちスペーサ粒子の沈降による濃度のばらつきやそれによるノズルの詰まり、またノズル内への気泡の残存による未吐出ノズルの発生等が起こっていない正常な吐出状態であれば、標準偏差を容易に上記範囲とすることができる。標準偏差が、散布密度の平均値の40%より大きいと、基板間でセルギャップが異なる等して、表示状態に悪影響を及ぼすことがある。 Regarding the dispersion density of the spacer particles, the standard deviation of the dispersion density of the spacer particles per mm 2 is within 40% of the average value of the dispersion density within the specific range within a specific range on the substrate. Is preferred. When using the ink jet apparatus as described above, the normal state, i.e., the occurrence of non-ejection nozzles due to the variation in density due to the sedimentation of spacer particles, the clogging of the nozzles, and the remaining bubbles in the nozzles does not occur. If the discharge state is correct, the standard deviation can be easily within the above range. If the standard deviation is larger than 40% of the average value of the distribution density, the display state may be adversely affected due to a difference in cell gap between the substrates.

なお、1カ所の配置位置におけるスペーサ粒子の個数は、配置箇所毎に違うが、一般的には0〜12個程度であって、平均個数として、2〜6個程度である。その平均個数は、スペーサ粒子の粒子径及びスペーサ粒子分散液の濃度により調整される。 The number of spacer particles at one arrangement position is different for each arrangement position, but is generally about 0 to 12, and the average number is about 2 to 6. The average number is adjusted by the particle diameter of the spacer particles and the concentration of the spacer particle dispersion.

また、このように、スペーサ粒子分散液を吐出し液滴を基板上に着弾させるには、インクジェットヘッドのスキャンを1回で行うことも、複数回に分けて行うこともできる。特に、スペーサ粒子を配置しようとする間隔が上記(1)式よりも狭い場合は、その間隔の整数倍の間隔で吐出し、いったん乾燥させてから、その間隔分だけずらして、再度吐出する等してもよい。移動(スキャン)方向に関しても、1回毎に交互に変えて(往復吐出)吐出することもでき、片方向に移動時のみ吐出(単方向吐出)することもできる。 Further, in this way, in order to discharge the spacer particle dispersion and land the droplets on the substrate, the inkjet head can be scanned once or divided into a plurality of times. In particular, when the interval at which the spacer particles are to be arranged is narrower than the above formula (1), the particles are discharged at an integer multiple of the interval, dried once, shifted by that interval, and discharged again, etc. May be. With respect to the moving (scanning) direction as well, it can be alternately changed (reciprocating discharge) for each discharge and discharged only when moving in one direction (unidirectional discharge).

更に、このような配置方法として、特願2000−194956号にあるように、ヘッドを基板面に対する垂線と角度を持つように傾け、液滴の吐出方向を変え(通常は基板面に対する垂線と平行)、更にヘッドと基板との相対速度をコントロールする。このようにすることで、着弾する液滴径を小さくし、より一層画素領域を画する領域又はそれに対応する領域中にスペーサ粒子を配置し易くすることも可能である。 Further, as such an arrangement method, as disclosed in Japanese Patent Application No. 2000-19456, the head is inclined so as to have an angle with the perpendicular to the substrate surface, and the droplet discharge direction is changed (usually parallel to the perpendicular to the substrate surface). ) Further, the relative speed between the head and the substrate is controlled. In this way, it is possible to reduce the diameter of the droplets that land and make it easier to place the spacer particles in a region that further defines the pixel region or a region corresponding thereto.

(スペーサ粒子分散液の乾燥方法)
次に、スペーサ粒子分散液の液滴が基板上に着弾した後、液滴中の媒体(溶剤、溶媒)を乾燥させて、非画素領域に対応する位置にスペーサ粒子を配置する工程について説明する。
(Method for drying spacer particle dispersion)
Next, after the droplets of the spacer particle dispersion liquid have landed on the substrate, the step of drying the medium (solvent, solvent) in the droplets and arranging the spacer particles at positions corresponding to the non-pixel regions will be described. .

スペーサ粒子分散液を乾燥させる方法としては、特に限定されないが、基板を加熱したり、熱風や冷風を吹き付けたり減圧乾燥する方法が挙げられる。しかしながら、スペーサ粒子を乾燥過程で着弾液滴の中央付近に寄せ集めるためには、媒体の沸点、乾燥温度、乾燥時間、媒体の表面張力、媒体の配向膜に対する接触角、スペーサ粒子の濃度等を適当な条件に設定することが好ましい。 The method of drying the spacer particle dispersion is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating the substrate, blowing hot air or cold air, and drying under reduced pressure. However, in order to gather the spacer particles near the center of the landing droplet during the drying process, the boiling point of the medium, the drying temperature, the drying time, the surface tension of the medium, the contact angle of the medium with the alignment film, the concentration of the spacer particles, etc. It is preferable to set an appropriate condition.

スペーサ粒子を乾燥過程で着弾液滴の中で寄せ集めるためには、スペーサ粒子が基板上を移動する間に液体がなくならないように、ある程度の時間幅をもって乾燥する。このため媒体が急激に乾燥する条件は好ましくない。また、媒体は高温で配向膜と接触すると、配向膜を汚染して液晶表示装置としての表示画質を損なうことがあるため好ましくない。従って、乾燥が完了するまでの間の基板表面温度は90℃以下とすることが好ましく、更に好ましくは60℃以下である。乾燥が完了するまでの間の基板温度が90℃を超えると、配向膜を損傷して液晶表示装置の表示画質を損なうので好ましくない。 In order to gather the spacer particles in the landing droplets during the drying process, the spacer particles are dried with a certain time width so that the liquid does not run out while the spacer particles move on the substrate. For this reason, the conditions under which the medium dries rapidly are not preferable. Further, when the medium comes into contact with the alignment film at a high temperature, the alignment film may be contaminated and the display image quality of the liquid crystal display device may be impaired. Accordingly, the substrate surface temperature until the drying is completed is preferably 90 ° C. or less, more preferably 60 ° C. or less. If the substrate temperature until the drying is completed exceeds 90 ° C., it is not preferable because the alignment film is damaged and the display image quality of the liquid crystal display device is impaired.

媒体として室温で著しく揮発しやすいものや、激しく揮発するような条件下でそれらの媒体を使用すると、インクジェット装置のノズル付近のスペーサ粒子分散液が乾燥しやすくインクジェット吐出性を損なうので好ましくない。また、分散液の製造時やタンクで乾燥によって凝集粒子が生成する可能性があるので好ましくない。 If the medium is extremely volatile at room temperature, or if the medium is used under conditions where it is violently volatile, the spacer particle dispersion near the nozzles of the ink jet device tends to dry out, and ink jetting properties are impaired. Further, aggregated particles may be generated during the production of the dispersion or by drying in a tank, which is not preferable.

基板温度が比較的低い条件であっても乾燥時間が著しく長くなると液晶表示装置の生産効率が低下するだけでなく、インク媒体が長時間、配向膜と接触することによる配向膜の汚染や損傷が発生するので好ましくない。 Even if the substrate temperature is relatively low, if the drying time becomes extremely long, not only the production efficiency of the liquid crystal display device is lowered, but also the alignment film is contaminated or damaged due to the ink medium contacting the alignment film for a long time. Since it occurs, it is not preferable.

本発明においては、スペーサ粒子分散液が基板上に着弾した時の基板表面温度は、分散液に含まれる最も低沸点の溶媒の沸点より20℃以上低い温度であることが好ましい。更に好ましくは室温付近(15〜35℃)である。最も低沸点の溶媒の沸点より20℃低い温度より高くなると、最も低沸点の溶媒が急激に揮散し、スペーサ粒子が移動できないばかりでなく、著しい場合は溶媒の急激な沸騰で液滴ごと基板上を動き回り、スペーサ粒子の配置精度が著しく低下するので好ましくない。 In the present invention, the substrate surface temperature when the spacer particle dispersion has landed on the substrate is preferably 20 ° C. or more lower than the boiling point of the lowest boiling solvent contained in the dispersion. More preferably, it is near room temperature (15-35 degreeC). When the temperature is higher than the boiling point of the lowest boiling point solvent by 20 ° C., the lowest boiling point solvent evaporates rapidly and the spacer particles cannot move. And the arrangement accuracy of the spacer particles is remarkably lowered.

また、スペーサ粒子分散液が基板上に着弾した後に、基板温度を徐々に上昇させながら媒体を乾燥させる際には、乾燥が完了するまでの間の基板表面温度は90℃以下が好ましく、更に好ましくは70℃以下である。乾燥が完了するまでの間の基板温度が90℃を超えると、配向膜を汚染して液晶表示装置の表示画質を損なうので好ましくない。 Further, when the medium is dried while the substrate temperature is gradually increased after the spacer particle dispersion has landed on the substrate, the substrate surface temperature until the drying is completed is preferably 90 ° C. or less, and more preferably. Is 70 ° C. or lower. When the substrate temperature until the drying is completed exceeds 90 ° C., the alignment film is contaminated and the display image quality of the liquid crystal display device is deteriorated.

このように、配向膜の損傷を防止するための乾燥方法としては、できるだけ低温で、短時間に乾燥させることが好ましい。具体的には、基板の表面温度を60℃以下にし、液滴が接触してから5秒から4分以内(更に好ましくは5秒から2分以内)に液滴を乾燥させてしまうことが好ましい。あまりに短時間で乾燥させてしまうと上述したようにスペーサ粒子の寄り集まりが悪化するし、長時間かかると配向膜が損傷する。
これを達成する手段としては、液滴近傍の媒体蒸気を速やかに取り除く、すなわち、風を当てたり、減圧下で乾燥を行ったりすることである。ただし、その風量はあまり強すぎると粒子が液滴内を動き回り結果として、スペーサ粒子の寄り集まりが阻害されるので、風量は適宜調整する必要がある。
但し、配向膜の種類によっては、スペーサ粒子寄り集まりをよくするために、90℃を超える高温で短時間で乾燥してもよい。具体的には、100〜150℃で5〜20秒程度の乾燥を行うことが好ましい。
As described above, as a drying method for preventing the alignment film from being damaged, it is preferable to dry it at a temperature as low as possible in a short time. Specifically, it is preferable that the surface temperature of the substrate is set to 60 ° C. or less, and the droplets are dried within 5 seconds to 4 minutes (more preferably within 5 seconds to 2 minutes) after the droplets contact. . If the drying is performed in an excessively short time, the gathering of the spacer particles is deteriorated as described above, and the alignment film is damaged when the drying is performed for a long time.
Means for achieving this is to quickly remove the medium vapor in the vicinity of the droplets, that is, to apply wind or to dry under reduced pressure. However, if the air flow is too strong, the particles move around in the droplets, and as a result, the gathering of the spacer particles is hindered. Therefore, it is necessary to adjust the air flow appropriately.
However, depending on the type of the alignment film, it may be dried in a short time at a high temperature exceeding 90 ° C. in order to improve the gathering of the spacer particles. Specifically, it is preferable to perform drying at 100 to 150 ° C. for about 5 to 20 seconds.

なお、本発明中でいう乾燥完了とは基板上の液滴が消失した時点をいう。 In the present invention, the term “drying completion” refers to the time when the droplets on the substrate disappear.

この後、スペーサ粒子の基板に対する固着性を高めたり、残留溶剤を除去したりするため、120〜230℃程度のより高い温度に基板を加熱してもよい。 Thereafter, the substrate may be heated to a higher temperature of about 120 to 230 ° C. in order to enhance the adhesion of the spacer particles to the substrate or remove the residual solvent.

(第1の基板と第2の基板とを、液晶及びスペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程)
本発明の製造方法に従ってスペーサ粒子を配置した基板は、スペーサ粒子が配置されていない基板と周辺シール剤を用いて加熱圧着され、形成された基板間の空隙に液晶が充填されて液晶表示装置が作製される(真空注入法)。あるいは、片方の基板に周辺シール剤を塗布しそれに囲まれた範囲内に液晶を滴下しもう一方の基板を貼り合わせシール剤を硬化させて液晶表示装置が作製される(液晶敵下工法)。この場合、いずれの基板にスペーサ粒子が配置されてもよい。
(Step of superposing the first substrate and the second substrate so as to face each other through the liquid crystal and the spacer particles)
The substrate on which the spacer particles are arranged according to the manufacturing method of the present invention is thermocompression-bonded using a substrate on which the spacer particles are not arranged and a peripheral sealant, and a liquid crystal is filled in a gap between the formed substrates to form a liquid crystal display device. Fabricated (vacuum injection method). Alternatively, a peripheral sealing agent is applied to one substrate, a liquid crystal is dropped within a range surrounded by the other substrate, the other substrate is bonded, and the sealing agent is cured to prepare a liquid crystal display device (liquid crystal adversary method). In this case, spacer particles may be disposed on any substrate.

本発明の製造方法では、液晶を配置する前後において、液晶の体積抵抗値変化率が1%以上とされており、かつ液晶のネマチック・等方相転移温度の変化が±1℃以内とされている。 In the manufacturing method of the present invention, before and after disposing the liquid crystal, the volume resistance change rate of the liquid crystal is 1% or more, and the change in nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal is within ± 1 ° C. Yes.

液晶の体積抵抗値変化率が1%以上であると、液晶表示装置のコントラストや色調等の表示品質に優れている。液晶の体積抵抗値変化率が1%未満であると、スペーサ粒子分散液中に存在する導電性を有する異物の混入によって液晶が汚染されており、液晶表示装置の表示品質が低下し、残像や表示ムラが発生する。より好ましくは液晶の体積抵抗値変化率が10%以上である。液晶の体積抵抗値変化率が10%以上であると、液晶表示装置の表示品質により一層優れている。 When the volume resistivity change rate of the liquid crystal is 1% or more, the liquid crystal display device is excellent in display quality such as contrast and color tone. If the volume resistivity change rate of the liquid crystal is less than 1%, the liquid crystal is contaminated by the inclusion of conductive foreign substances present in the spacer particle dispersion liquid, and the display quality of the liquid crystal display device decreases, and afterimages and Display unevenness occurs. More preferably, the volume resistivity change rate of the liquid crystal is 10% or more. When the volume resistivity change rate of the liquid crystal is 10% or more, the display quality of the liquid crystal display device is further improved.

液晶のネマチック・等方相転移温度の変化が±1℃以内であると、液晶表示装置のコントラストや色調等の表示品質に優れている。液晶のネマチック・等方相転移温度の変化が±1℃の範囲外であると、スペーサ粒子分散液中に存在する有機物等の不純物が液晶と相溶して液晶が汚染されており、液晶表示装置の表示品質が低下し、残像や表示ムラが発生する。 When the change in nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal is within ± 1 ° C., the display quality such as contrast and color tone of the liquid crystal display device is excellent. If the change in the nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal is outside the range of ± 1 ° C, impurities such as organic substances present in the dispersion of spacer particles are compatible with the liquid crystal and the liquid crystal is contaminated. The display quality of the apparatus deteriorates, and afterimages and display unevenness occur.

このように本発明の製造方法に従って構成された液晶表示装置の電圧保持率は、90%以上になる。本発明の製造方法によらず液晶表示装置を作製した場合、電圧保持率が90%未満になることが多い。電圧保持率が90%未満である場合、画素の一駆動時間内で電圧の低下が生じ、液晶表示装置の表示品質が低下し、残像や表示ムラが発生することがある。 Thus, the voltage holding ratio of the liquid crystal display device configured according to the manufacturing method of the present invention is 90% or more. When a liquid crystal display device is manufactured regardless of the manufacturing method of the present invention, the voltage holding ratio is often less than 90%. When the voltage holding ratio is less than 90%, the voltage is lowered within one driving time of the pixel, the display quality of the liquid crystal display device is lowered, and an afterimage or display unevenness may occur.

このように本発明の製造方法に従って構成された液晶表示装置の残留DC電圧は、200mV以下となる。本発明の製造方法によらず液晶表示装置を作製した場合は、残留DC電圧が200mVを超えることが多い。残留DC電圧が200mVを超える場合は、電圧をかけるのをやめた後でも電圧が画素に残ることがあり、残像や表示ムラが発生することで表示品質が低下する。なお、残留DC電圧は、液晶や配向膜の汚染の指標である。 Thus, the residual DC voltage of the liquid crystal display device configured according to the manufacturing method of the present invention is 200 mV or less. When a liquid crystal display device is manufactured regardless of the manufacturing method of the present invention, the residual DC voltage often exceeds 200 mV. When the residual DC voltage exceeds 200 mV, the voltage may remain in the pixel even after the voltage application is stopped, and the display quality deteriorates due to the occurrence of afterimages and display unevenness. The residual DC voltage is an index of contamination of the liquid crystal and the alignment film.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例及び比較例]
(スペーサ粒子の調製)
セパラブルフラスコにて、ジビニルベンゼン15重量部と、イソオクチルアクリレート5重量部と、重合開始剤として過酸化ベンゾイル1.3重量部とを均一に混合した。次に、ポリビニルアルコール(商品名「クラレポバールGL−03」、クラレ社製)の3%水溶液20重量部と、ドデシル硫酸ナトリウム0.5重量部とを投入しよく攪拌した。しかる後、イオン交換水140重量部を添加した。この溶液を攪拌しながら窒素気流下80℃で15時間反応を行った。得られた粒子を熱水及びアセトンにて洗浄後、分級操作を行い、平均粒子径が3.0μm、4.0μm及び5.0μm、CV値が3.0%の各スペーサ粒子を得た。
[Examples and Comparative Examples]
(Preparation of spacer particles)
In a separable flask, 15 parts by weight of divinylbenzene, 5 parts by weight of isooctyl acrylate, and 1.3 parts by weight of benzoyl peroxide as a polymerization initiator were uniformly mixed. Next, 20 parts by weight of a 3% aqueous solution of polyvinyl alcohol (trade name “Kuraray Poval GL-03”, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and 0.5 parts by weight of sodium dodecyl sulfate were added and stirred well. Thereafter, 140 parts by weight of ion-exchanged water was added. The solution was reacted at 80 ° C. for 15 hours under a nitrogen stream while stirring. The obtained particles were washed with hot water and acetone and then classified to obtain spacer particles having an average particle size of 3.0 μm, 4.0 μm and 5.0 μm, and a CV value of 3.0%.

(スペーサ粒子の表面修飾)
得られた平均粒子径が3.0μm、4.0μm及び5.0μm、CV値が3.0%のスペーサ粒子5重量部をジメチルスルホキシド(DMSO)20重量部と、ヒドロキシメチルメタクリレート2重量部と、N−エチルアクリルアミド18重量部との中に投入し、ソニケータによって均一に分散させた。しかる後、反応系に窒素ガスを導入し30℃にて2時間撹拌を続けた。次に、1Nの硝酸水溶液で調製した0.1mol/Lの硝酸第2セリウムアンモニウム溶液10重量部を添加し、5時間反応を続けた。反応終了後、2μmのメンブランフィルタにて粒子と反応液とを濾別した。この粒子をエタノール及びアセトンにて充分洗浄し、真空乾燥器にて減圧乾燥を行い、スペーサ粒子SAを得た。
(Surface modification of spacer particles)
5 parts by weight of spacer particles having an average particle diameter of 3.0 μm, 4.0 μm and 5.0 μm and a CV value of 3.0% were obtained, 20 parts by weight of dimethyl sulfoxide (DMSO), and 2 parts by weight of hydroxymethyl methacrylate And 18 parts by weight of N-ethylacrylamide, and uniformly dispersed by a sonicator. Thereafter, nitrogen gas was introduced into the reaction system and stirring was continued at 30 ° C. for 2 hours. Next, 10 parts by weight of a 0.1 mol / L ceric ammonium nitrate solution prepared with a 1N nitric acid aqueous solution was added, and the reaction was continued for 5 hours. After completion of the reaction, the particles and the reaction solution were separated by filtration with a 2 μm membrane filter. The particles were sufficiently washed with ethanol and acetone, and dried under reduced pressure in a vacuum dryer to obtain spacer particles SA.

上記スペーサ粒子の調製により得られた平均粒子径が4.0μm、CV値が3.0%のスペーサ粒子5重量部を、ジメチルスルホキシド(DMSO)20重量部と、ヒドロキシメチルメタクリレート2重量部と、メタクリル酸16重量部と、ラウリルアクリレート2重量部との中に投入し、ソニケータによって均一に分散させた。しかる後、上記スペーサ粒子SAと同様にしてスペーサ粒子SBを得た。 5 parts by weight of spacer particles having an average particle diameter of 4.0 μm and a CV value of 3.0% obtained by the preparation of the spacer particles, 20 parts by weight of dimethyl sulfoxide (DMSO), 2 parts by weight of hydroxymethyl methacrylate, The solution was charged into 16 parts by weight of methacrylic acid and 2 parts by weight of lauryl acrylate, and uniformly dispersed by a sonicator. Thereafter, spacer particles SB were obtained in the same manner as the spacer particles SA.

上記スペーサ粒子の調製により得られた平均粒子径が4.0μm、CV値が3.0%のスペーサ粒子5重量部を、ジメチルスルホキシド(DMSO)20重量部と、ヒドロキシメチルメタクリレート2重量部と、ポリエチレングリコールメタクリレート(分子量800)18重量部との中に投入し、ソニケータによって均一に分散させた。しかる後、上記スペーサ粒子SAと同様にしてスペーサ粒子SCを得た。 5 parts by weight of spacer particles having an average particle diameter of 4.0 μm and a CV value of 3.0% obtained by the preparation of the spacer particles, 20 parts by weight of dimethyl sulfoxide (DMSO), 2 parts by weight of hydroxymethyl methacrylate, The solution was put into 18 parts by weight of polyethylene glycol methacrylate (molecular weight 800) and uniformly dispersed by a sonicator. Thereafter, spacer particles SC were obtained in the same manner as the spacer particles SA.

上記スペーサ粒子の調製により得られた平均粒子径が4.0μm、CV値が3.0%のスペーサ粒子10重量部を、メチルエチルケトン20重量部と、メタクリロイルイソシアナートの30%トルエン溶液3重量部との中に投入し、100〜150℃で1〜2時間反応させ、スペーサ粒子表面にビニル基を導入した。しかる後、遠心分離することによりビニル基で表面修飾されたスペーサ粒子を得た。このビニル基が導入されたスペーサ粒子10重量部を、重合開始剤である2,2’−アゾビスイソブチロニトリル1重量部と、メチルセロソルブ100重量部との中に投入した。次に、開始剤開裂温度である60℃まで昇温し、窒素気流下2時間反応させて、粒子表面のビニル基にラジカルを発生させた。しかる後、OH基を持ちホモポリマーがメチルセロソルブに溶解し得る重合ビニル単量体であるヒドロキシメチルメタクリレート5重量部と、ポリエチレングリコールメタクリレート(分子量800)45重量部とを滴下し、1時間反応させることで、表面にグラフト重合鎖からなる付着層を有するスペーサ粒子とした。反応終了後、2μmのメンブランフィルタにてスペーサ粒子と反応液とを濾別した。このスペーサ粒子をエタノール及びアセトンにて充分洗浄し、真空乾燥器にて減圧乾燥を行い、グラフト重合によって表面修飾されたスペーサ粒子SDを得た。 10 parts by weight of spacer particles having an average particle diameter of 4.0 μm and a CV value of 3.0% obtained by the preparation of the spacer particles, 20 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 3 parts by weight of a 30% toluene solution of methacryloyl isocyanate The mixture was allowed to react at 100 to 150 ° C. for 1 to 2 hours to introduce vinyl groups on the surface of the spacer particles. Thereafter, spacer particles whose surface was modified with vinyl groups were obtained by centrifugation. 10 parts by weight of the spacer particles introduced with the vinyl group were put into 1 part by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator and 100 parts by weight of methyl cellosolve. Next, the temperature was raised to 60 ° C., which is the initiator cleavage temperature, and reacted for 2 hours under a nitrogen stream to generate radicals on the vinyl groups on the particle surface. Thereafter, 5 parts by weight of hydroxymethyl methacrylate, which is a polymerized vinyl monomer having an OH group and capable of dissolving the homopolymer in methyl cellosolve, and 45 parts by weight of polyethylene glycol methacrylate (molecular weight 800) are dropped and reacted for 1 hour. Thus, spacer particles having an adhesion layer composed of graft polymerization chains on the surface were obtained. After completion of the reaction, the spacer particles and the reaction solution were separated by filtration with a 2 μm membrane filter. The spacer particles were thoroughly washed with ethanol and acetone, and dried under reduced pressure in a vacuum dryer to obtain spacer particles SD that were surface-modified by graft polymerization.

(スペーサ粒子分散液の調製)
スペーサ分散液を調製する際に使用した溶剤は、すべて電子工業用のグレードを使用した。スペーサ粒子分散液の調製はクリーンルーム(クラス10000)内で行った。
(Preparation of spacer particle dispersion)
All the solvents used for preparing the spacer dispersion were grades for the electronics industry. The spacer particle dispersion was prepared in a clean room (Class 10000).

上述した方法で得られたスペーサ粒子を所定の粒子濃度になるように必要量をとり、下記表1、2に記載した組成の溶媒にゆっくり添加し、ソニケータを使用しながら充分撹拌することによって分散させた。しかる後、10μmの目開きのステンレスメッシュで濾過して凝集物を除去して、スペーサ粒子分散液を得た。 Disperse the spacer particles obtained by the above-mentioned method by taking a necessary amount so as to have a predetermined particle concentration, slowly adding to the solvent having the composition described in Tables 1 and 2 below, and stirring sufficiently while using a sonicator. I let you. Thereafter, the mixture was filtered through a stainless steel mesh having an opening of 10 μm to remove aggregates, thereby obtaining a spacer particle dispersion.

次に、下記表1に示す実施例1〜10では、スペーサ粒子が通過できる濾過径を有するフィルタでスペーサ粒子分散液を濾過した。次に、不揮発成分であるダスト粒子・ダスト物質を除去するために遠心沈殿操作を行った後、上澄みを捨てた。これを0.1μmの径のフィルタで濾過した下記表1に記載した組成の溶媒に分散させた。この操作を再度行った。得られた不揮発成分が除去されたスペーサ粒子分散液S1〜S10をほうケイ酸ガラスの容器に入れた。 Next, in Examples 1 to 10 shown in Table 1 below, the spacer particle dispersion was filtered with a filter having a filtration diameter through which the spacer particles can pass. Next, a centrifugal sedimentation operation was performed to remove dust particles and dust substances, which are non-volatile components, and then the supernatant was discarded. This was dispersed in a solvent having the composition described in Table 1 below, which was filtered through a filter having a diameter of 0.1 μm. This operation was performed again. The obtained spacer particle dispersions S1 to S10 from which the non-volatile components were removed were placed in a borosilicate glass container.

他方、下記表2に示す比較例1のスペーサ粒子分散液では、上記実施例1〜10で行った操作と同様の操作を行った。得られた不揮発成分が除去されたスペーサ粒子分散液S11をアルカリ(ソーダ)ガラス容器に入れた。 On the other hand, in the spacer particle dispersion liquid of Comparative Example 1 shown in Table 2 below, the same operation as that performed in Examples 1 to 10 was performed. The obtained spacer particle dispersion S11 from which the non-volatile components were removed was placed in an alkali (soda) glass container.

他方、下記表2に示す比較例2〜6のスペーサ粒子分散液では、上記実施例1〜10で行った操作を行わず、不揮発成分を除去しなかった。得られたスペーサ粒子分散液S12〜S16は、ほうケイ酸ガラス容器に入れた。 On the other hand, in the spacer particle dispersion liquids of Comparative Examples 2 to 6 shown in Table 2 below, the operations performed in Examples 1 to 10 were not performed, and the nonvolatile components were not removed. The obtained spacer particle dispersions S12 to S16 were put in a borosilicate glass container.

得られたスペーサ粒子分散液S1〜S16の表面張力は、白金板を使用するウイルヘルミー法で測定した。表面張力、粘度、比重、及び、沈降速度の測定結果を下記表1、表2に示した。 The surface tension of the obtained spacer particle dispersions S1 to S16 was measured by the Wilhelmy method using a platinum plate. The measurement results of surface tension, viscosity, specific gravity and sedimentation rate are shown in Tables 1 and 2 below.

(基板の作製)
液晶テストパネル用の第1の基板としてTFTアレイ基板にある段差を模した液晶表示装置基板(TFTアレイモデル基板)、及び、第2の基板としてカラーフィルタ基板を用いた。
(Production of substrate)
A liquid crystal display device substrate (TFT array model substrate) simulating a step in the TFT array substrate was used as the first substrate for the liquid crystal test panel, and a color filter substrate was used as the second substrate.

(カラーフィルタ基板)
実施例及び比較例に用いたカラーフィルタ基板を、図5(a)に平面図、図5(b)に正面断面図で示す。表面が平滑なカラーフィルタ基板41は、以下のように作製した。
図5(a)、(b)に示されているように、ガラス基板42の上に通常の方法により、金属クロムからなるブラックマトリックス43(幅25μm、縦間隔150μm、横間隔75μm、厚み0.2μm)を設けた。ブラックマトリックス43上及びその間に、赤、緑、青の3色からなるカラーフィルタ44画素(厚み1.5μm)を表面が平坦となるように形成した。その上にほぼ一定の厚みのオーバーコート層45及びITO透明電極46設けた。
(Color filter substrate)
The color filter substrates used in Examples and Comparative Examples are shown in a plan view in FIG. 5A and a front sectional view in FIG. The color filter substrate 41 having a smooth surface was produced as follows.
As shown in FIGS. 5A and 5B, a black matrix 43 (width 25 μm, vertical interval 150 μm, horizontal interval 75 μm, thickness 0. 2 μm). Color filter 44 pixels (thickness 1.5 μm) composed of three colors of red, green and blue were formed on and between the black matrix 43 so as to have a flat surface. An overcoat layer 45 and an ITO transparent electrode 46 having a substantially constant thickness were provided thereon.

更にその上に、スピンコート法によってポリイミド樹脂溶液(日産化学社製、サンエバーSE1211)を均一に塗布した。塗布後、80℃で乾燥した後に190℃で1時間焼成し、硬化させてほぼ一定の厚みの配向膜(PI2)47を形成した。なお、形成された配向膜(PI2)47の表面張力(γ)は、39mN/mであった。 Furthermore, a polyimide resin solution (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Sunever SE1211) was uniformly applied thereon by a spin coat method. After coating, the film was dried at 80 ° C., then baked at 190 ° C. for 1 hour, and cured to form an alignment film (PI2) 47 having a substantially constant thickness. The formed alignment film (PI2) 47 had a surface tension (γ) of 39 mN / m.

(TFTアレイモデル基板)
図6(a)に平面図、図6(b)に正面図で示されている段差が設けられたTFTアレイモデル基板は、以下のように作製した。
(TFT array model substrate)
The TFT array model substrate provided with the steps shown in the plan view in FIG. 6A and in the front view in FIG. 6B was produced as follows.

図6(a)、(b)に示されているように、TFTアレイモデル基板51は、上記カラーフィルタ基板41のブラックマトリックス43に相対する位置において、ガラス基板52上に、従来公知の方法により銅からなるよる段差53(幅8μm、高低差5nm)を設けた。その上に、ほぼ一定の厚みのITO透明電極54を設け、更に上述した方法でほぼ一定の厚みの配向膜55を形成した。なお、TFTアレイモデル基板51では、対向基板と同様のポリイミド樹脂溶液を用いて、配向膜55を形成した。 As shown in FIGS. 6A and 6B, the TFT array model substrate 51 is formed on the glass substrate 52 at a position facing the black matrix 43 of the color filter substrate 41 by a conventionally known method. A step 53 (width 8 μm, height difference 5 nm) made of copper was provided. An ITO transparent electrode 54 having a substantially constant thickness was provided thereon, and an alignment film 55 having a substantially constant thickness was formed by the method described above. In the TFT array model substrate 51, the alignment film 55 was formed using the same polyimide resin solution as that of the counter substrate.

(インクジェット装置)
ピエゾ方式の口径50μmのヘッドを搭載したインクジェット装置を用意した。このヘッドのインク室の接液部は、ガラスセラミック材料により構成した。ノズル面には、フッ素系撥水加工を施した。
(Inkjet device)
An inkjet apparatus equipped with a piezo-type head having a diameter of 50 μm was prepared. The liquid contact part of the ink chamber of this head was made of a glass ceramic material. The nozzle surface was subjected to fluorine-based water repellent finish.

(インクジェット法によるスペーサ粒子の配置)
下記表1、表2に示したスペーサ粒子分散液S1〜S9を用いて、TFTアレイモデル基板51上に、下記の方法でスペーサ粒子を配置した。なお、スペーサ粒子を配置する際には、インクジェット装置のノズルから吐出される初期のスペーサ粒子分散液0.5mLを捨てた後に、配置を開始した。
(Spacer particle arrangement by inkjet method)
Spacer particles were arranged on the TFT array model substrate 51 by the following method using the spacer particle dispersions S1 to S9 shown in Tables 1 and 2 below. In addition, when arrange | positioning spacer particle | grains, arrangement | positioning was started after throwing away 0.5 mL of the initial spacer particle dispersion liquid discharged from the nozzle of an inkjet apparatus.

先ず、ヒーターで45℃に加熱されたステージ上に、図6に示した段差53を有するTFTアレイモデル基板51を載せた。この基板上に、上述したインクジェット装置を用いて、ブラックマトリックス43に対応する段差53を狙って、縦のライン1列おきに、縦のラインの上に、110μm間隔で、表1に示したスペーサ粒子分散液の液滴を縦110μm×横150μmピッチで吐出し、配置し乾燥させた。吐出の際のノズル先端と基板の間隔は0.5mmとし、ダブルパルス方式で吐出した。 First, the TFT array model substrate 51 having the step 53 shown in FIG. 6 was placed on a stage heated to 45 ° C. with a heater. On this substrate, using the above-described ink jet device, aiming at the step 53 corresponding to the black matrix 43, the spacers shown in Table 1 are arranged at intervals of 110 μm on every other vertical line and on the vertical line. The droplets of the particle dispersion were discharged at a pitch of 110 μm in length and 150 μm in width and placed and dried. The distance between the nozzle tip and the substrate during ejection was 0.5 mm, and ejection was performed by the double pulse method.

吐出後、スペーサ粒子分散液の液滴の基板に対する初期接触角(θ)及び後退接触角(θr)を接触角計により測定した。結果を表1、表2に示した。 After ejection, the initial contact angle (θ) and receding contact angle (θr) of the droplets of the spacer particle dispersion with respect to the substrate were measured with a contact angle meter. The results are shown in Tables 1 and 2.

(評価用液晶表示装置の作製)
上述のようにしてスペーサ粒子を配置したTFTアレイモデル基板51と対向基板となるカラーフィルタ基板41とを、周辺シール剤を用いて貼り合わせた。貼り合わせた後、シール剤を150℃で1時間加熱して硬化させてセルギャップがスペーサ粒子の粒子径と等しくされている空セルを作製し、次に真空法で液晶を充填し、封口剤で注入口封止して液晶表示装置を作製した。
(Production of liquid crystal display device for evaluation)
The TFT array model substrate 51 on which the spacer particles are arranged as described above and the color filter substrate 41 serving as the counter substrate are bonded together using a peripheral sealant. After the bonding, the sealing agent is heated at 150 ° C. for 1 hour to be cured to produce an empty cell in which the cell gap is equal to the particle diameter of the spacer particles, and then the liquid crystal is filled by a vacuum method. Then, the inlet was sealed to prepare a liquid crystal display device.

(実施例1〜10及び比較例1〜6の評価)
下記の項目について評価を行った。結果を表1、2に示す。
(Evaluation of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 6)
The following items were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.

(液晶の体積抵抗値変化率)
S1〜S16のスペーサ粒子分散液0.5gをそれぞれサンプル瓶に入れ、90℃で5時間、真空乾燥して乾固させた。しかる後、サンプル瓶中に、液晶(chisso Li
xon JC5007XX)0.5gを入れ、室温で12時間放置した。
(Change rate of volume resistance of liquid crystal)
Each of the spacer particle dispersions 0.5 g of S1 to S16 was put into a sample bottle, and dried at 90 ° C. for 5 hours under vacuum to dryness. After that, in the sample bottle, liquid crystal (chisso Li
xon JC5007XX) 0.5 g was added and allowed to stand at room temperature for 12 hours.

しかる後、東陽テクニカ社比抵抗測定装置を用いて、5V、25℃の条件で体積抵抗値を測定し、下記式(2)に従って体積抵抗値変化率を算出した。
体積抵抗値変化率=試験後の液晶の体積抵抗値/試験前の液晶の体積抵抗値)×100(%)…(2)
Thereafter, the volume resistance value was measured under the conditions of 5 V and 25 ° C. using a Toyo Technica Corporation specific resistance measuring device, and the volume resistance change rate was calculated according to the following formula (2).
Volume resistance change rate = Volume resistance value of liquid crystal after test / Volume resistance value of liquid crystal before test) × 100 (%) (2)

(液晶のネマチック・等方相転移温度の変化)
上述したスペーサ粒子分散液の調製により得られたスペーサ粒子分散液0.5gをそれぞれサンプル瓶に入れ、90℃で5時間、真空乾燥して乾固させた。しかる後、サンプル瓶中に、液晶(chisso Lixon JC5007XX)0.5gを入れ、室温で12時間放置した。
(Change of nematic and isotropic phase transition temperature of liquid crystal)
0.5 g of the spacer particle dispersion obtained by preparing the spacer particle dispersion described above was put in a sample bottle and dried in a vacuum at 90 ° C. for 5 hours to dry. Thereafter, 0.5 g of liquid crystal (chisso Lixon JC5007XX) was placed in the sample bottle and allowed to stand at room temperature for 12 hours.

しかる後、DSC装置を用いて、0〜110℃の範囲で、10℃/分の速度でスキャンしてネマチック・等方相転移温度を測定し、下記式(3)に従ってネマチック・等方相転移温度の変化を算出した。
液晶のネマチック・等方相転移温度の変化=試験前のネマチック・等方相転移温度−試験後の液晶のネマチック・等方相転移温度…(3)
Thereafter, using a DSC apparatus, the nematic / isotropic phase transition temperature is measured by scanning at a rate of 10 ° C./min in the range of 0 to 110 ° C., and the nematic / isotropic phase transition is measured according to the following formula (3). The change in temperature was calculated.
Change in nematic / isotropic phase transition temperature of liquid crystal = nematic / isotropic phase transition temperature before test−nematic / isotropic phase transition temperature of liquid crystal after test (3)

(不揮発成分の含有割合)
S1〜S16スペーサ粒子分散液200gを2500rpmの低速で3分間遠心操作を行い、大部分のスペーサ粒子を沈殿させた後、第1の上澄み液を採取した。しかる後、沈殿させたスペーサ粒子に下記表1、2に記載のスペーサ粒子分散液の溶剤組成物を加えて、超音波により充分に分散させた。次に、再度上記同様の操作を行い、第2の上澄み液を採取した。しかる後、第2の上澄み液を、第1の上澄み液に加えた。
(Non-volatile content)
200 g of the S1-S16 spacer particle dispersion was centrifuged at 2500 rpm for 3 minutes to precipitate most of the spacer particles, and then the first supernatant was collected. Thereafter, the solvent composition of the spacer particle dispersion liquid described in Tables 1 and 2 below was added to the precipitated spacer particles and sufficiently dispersed by ultrasonic waves. Next, the same operation as described above was performed again, and a second supernatant was collected. Thereafter, the second supernatant was added to the first supernatant.

次に、スペーサ粒子より小さい1μmの濾過径を有するフッ素樹脂からなるフィルターを用いて、第1、第2の上澄み液を濾過した。しかる後、1μmの濾過径を有するフッ素樹脂からなるフィルターに捕捉されずに通過した上澄み液を乾固させた。乾固後、乾固物の重さを測定し、S1〜S16のスペーサ粒子分散液100重量%中に存在する不揮発成分の含有割合を算出した。 Next, the 1st and 2nd supernatant liquids were filtered using the filter which consists of a fluororesin which has a 1 micrometer filtration diameter smaller than spacer particle | grains. Thereafter, the supernatant liquid passed without being captured by the filter made of a fluororesin having a filtration diameter of 1 μm was dried. After drying, the weight of the dried product was measured, and the content ratio of the non-volatile components present in 100% by weight of the S1-S16 spacer particle dispersion was calculated.

なお、不揮発成分が存在したものを観察すると、大気中のゴミに関係すると思われる小粒子、スペーサ粒子の表面が剥がれたもの、スペーサ粒子が破壊されたもの、及び、上述したスペーサ粒子の表面修飾処理に由来するにホモポリマーやモノマー、オリゴマーと思われる不定形の固形分が観察された。 When observing the presence of non-volatile components, small particles that are thought to be related to dust in the atmosphere, those in which the surface of the spacer particles is peeled off, those in which the spacer particles are destroyed, and the above-described surface modification of the spacer particles An amorphous solid that appears to be a homopolymer, monomer, or oligomer was observed in the treatment.

(スペーサ粒子散布密度)
基板にスペーサ粒子を固着させた後に、1mmあたりに散布されているスペーサ粒子の個数を観測し、散布密度とした。
(Spacer particle dispersion density)
After the spacer particles were fixed to the substrate, the number of spacer particles dispersed per 1 mm 2 was observed to obtain the distribution density.

(平均スペーサ粒子数)
1配置位置あたりに凝集しているスペーサ粒子の個数の平均値を上記1mmの範囲内で計測した。なお、表1において、−印は、凝集していないため測定不能であることを指す。
(Average number of spacer particles)
An average value of the number of spacer particles aggregated per one arrangement position was measured within the range of 1 mm 2 . In Table 1, “-” indicates that measurement is not possible because no aggregation occurs.

(スペーサ粒子配置精度)
液滴が乾燥した後のスペーサ粒子の配置状態を下記の基準で判定した。
(Spacer particle placement accuracy)
The arrangement state of the spacer particles after the droplets were dried was determined according to the following criteria.

○:殆どすべてのスペーサ粒子が非画素領域に対応する位置(遮光領域)にあった。
△:一部のスペーサ粒子が非画素領域に対応する位置(遮光領域)からはみだした位置にあった。
×:多くのスペーサ粒子が非画素領域に対応する位置(遮光領域)からはみだした位置にあった。
○: Almost all spacer particles were at positions corresponding to the non-pixel areas (light-shielding areas).
(Triangle | delta): It existed in the position which one part spacer particle protruded from the position (light-shielding area | region) corresponding to a non-pixel area | region.
X: Many spacer particles were in a position protruding from the position corresponding to the non-pixel area (light shielding area).

(スペーサ粒子存在範囲)
図7に示されているように、ブラックマトリックス、又は、これに対応する部分の中心から両側に等間隔で平行線を引き、この2本の平行線間に個数で95%以上のスペーサ粒子が存在する平行線間の距離をスペーサ粒子存在範囲とした。
(Spacer particle existence range)
As shown in FIG. 7, parallel lines are drawn at equal intervals on both sides from the center of the black matrix or the corresponding portion, and 95% or more spacer particles are present between the two parallel lines. The distance between the existing parallel lines was defined as the spacer particle existence range.

(表示画質)
(1)光ぬけ評価
液晶表示装置の表示画質を観察し、下記の基準で判定した。
(Display quality)
(1) Evaluation of exposure to light The display image quality of the liquid crystal display device was observed and judged according to the following criteria.

○:表示領域中にスペーサ粒子が殆ど認められず、スペーサ粒子起因の光抜けがなかった。
△:表示領域中に若干のスペーサ粒子が認められスペーサ粒子起因の光抜けがあった。
×:スペーサ粒子が認められスペーサ粒子起因の光抜けがあった。
A: Almost no spacer particles were observed in the display area, and no light leakage due to the spacer particles was observed.
Δ: Some spacer particles were observed in the display area, and light leakage due to the spacer particles was observed.
X: Spacer particles were observed and light leakage due to the spacer particles was observed.

(2)電圧保持率及び(3)残留DC電圧
ITO透明電極でパターニングされた50mm×50mmの基板を用意した。この基板上に、ポリイミド溶液(NISSAN CHEMICAL SUNEVER SE7492)を用いて配向膜を形成した。
(2) Voltage holding ratio and (3) Residual DC voltage A 50 mm × 50 mm substrate patterned with an ITO transparent electrode was prepared. An alignment film was formed on the substrate using a polyimide solution (NISSAN CHEMICAL SUNEVER SE7942).

しかる後、上記工程に従って、インクジェット装置を用いてスペーサ粒子を配置した。次に、スペーサ粒子が配置された基板を、もう一方のスペーサ粒子が配置されていない基板とシール材(MITSHI CHRMICALS STRUCTBOND XN−21−S)を用いて貼りあわせて硬化させた。次に、液晶(CHISSO LIXON JC5007)を真空下で注入し評価セルを作製した。 Thereafter, according to the above process, spacer particles were arranged using an ink jet apparatus. Next, the substrate on which the spacer particles were arranged was bonded to the substrate on which the other spacer particles were not arranged with a sealant (MITSHI CHRMICALS STRACTBOND XN-21-S) and cured. Next, liquid crystal (CHISSO LIXON JC5007) was injected under vacuum to produce an evaluation cell.

作製した評価セルの電圧保持率及び残留DC電圧を、液晶物性測定システム6254(東陽テクニカ社製)を用いて、下記条件で測定した。 The voltage holding ratio and residual DC voltage of the produced evaluation cell were measured under the following conditions using a liquid crystal property measuring system 6254 (manufactured by Toyo Technica Co., Ltd.).

VHR:60μs5V−16.61msecホールド後の電圧を測定(比率)
RDC:1hr5V印加−1secショート−10分後の基板間の電圧を測定
上記電圧保持率及び残留DC電圧の評価において、製造したTFTアレイモデルにおいて電圧保持率が90%未満であると、実際の液晶パネルを製造した際にパネルの液晶駆動電圧が変わる問題が発生することがある。
VHR: 60μs 5V-16.61msec voltage measured after holding (ratio)
RDC: measurement of voltage between substrates after application of 1 hr 5 V-1 sec short-10 minutes In the evaluation of the voltage holding ratio and residual DC voltage, if the voltage holding ratio is less than 90% in the manufactured TFT array model, the actual liquid crystal When the panel is manufactured, there may be a problem that the liquid crystal driving voltage of the panel changes.

また、TFTアレイモデルにおいて残留DC電圧が200mVを超えるであると、実際の液晶パネルを製造した際にパネルに残像が発生することがある。 Further, if the residual DC voltage exceeds 200 mV in the TFT array model, an afterimage may occur on the panel when an actual liquid crystal panel is manufactured.

Figure 2006243719
Figure 2006243719

Figure 2006243719
Figure 2006243719

また、本実施例及び比較例に用いた溶媒の沸点、粘度、表面張力を下記表3に示す。   Table 3 below shows the boiling points, viscosities, and surface tensions of the solvents used in the examples and comparative examples.

Figure 2006243719
Figure 2006243719

表1から明らかように、実施例の液晶表示装置では、表示画質に優れていた。   As is clear from Table 1, the liquid crystal display device of the example was excellent in display image quality.

本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法によって得られる液晶表示装置を模式的に示す正面断面図。1 is a front cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device obtained by a method for manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. インクジェットノズルからの液滴吐出状態を表す模式図であり、(a)はメニスカスが軸対象でない場合を示し、(b)はメニスカスが軸対象の場合を示す。It is a schematic diagram showing the droplet discharge state from an inkjet nozzle, (a) shows the case where a meniscus is not an axis object, and (b) shows the case where a meniscus is an axis object. (a)〜(h)は、基板の表面に設けられた段差部分の例を表す模式図。(A)-(h) is a schematic diagram showing the example of the level | step-difference part provided in the surface of the board | substrate. スペーサ粒子の残留する位置を表す模式図。The schematic diagram showing the position where spacer particle | grains remain. (a)、(b)は、実施例及び比較例で使用するカラーフィルタ基板を模式的に示す平面図及び正面断面図。(A), (b) is the top view and front sectional drawing which show typically the color filter board | substrate used by an Example and a comparative example. (a)、(b)は、実施例及び比較例で使用するTFTアレイモデル基板を模式的に示す平面図及び正面図。(A), (b) is the top view and front view which show typically the TFT array model board | substrate used by an Example and a comparative example. スペーサ粒子の存在範囲の評価方法を示す模式図。The schematic diagram which shows the evaluation method of the existence range of spacer particle | grains. (a)、(b)は、インクジェットヘッドの一例の構造を模式的に示す部分切欠斜視図、及び、ノズル孔部分における断面を示す部分切欠斜視図。(A), (b) is the partial notch perspective view which shows typically the structure of an example of an inkjet head, and the partial notch perspective view which shows the cross section in a nozzle hole part. 従来の液晶表示装置を模式的に示す正面断面図。Front sectional drawing which shows the conventional liquid crystal display device typically.

符号の説明Explanation of symbols

1…液晶表示装置
2…第1の基板
3…第2の基板
4…カラーフィルタ
5…ブラックマトリックス
6…オーバーコート層
7…透明電極
8…配向膜
9…透明電極
10…配向膜
11、12…偏向板
13…シール材
14…スペーサ粒子
15…液晶
21…スペーサ粒子
22…メニスカス
23…スペーサ粒子分散液
31…スペーサ粒子
41…カラーフィルタ基板
42…カラス基板
43…ブラックマトリックス
44…カラーフィルタ
45…オーバーコート層
46…透明電極
47…配向膜
51…TFTアレイモデル基板
52…ガラス基板
53…段差
54…透明電極
55…配向膜
100…ヘッド
101…インク室1(共通インク室)
102…インク室2(圧力インク室)
103…吐出面(ノズル面)
104…ノズル孔
105…温度制御手段
106…ピエゾ素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display device 2 ... 1st board | substrate 3 ... 2nd board | substrate 4 ... Color filter 5 ... Black matrix 6 ... Overcoat layer 7 ... Transparent electrode 8 ... Alignment film 9 ... Transparent electrode 10 ... Alignment film 11, 12 ... Deflection plate 13 ... Sealing material 14 ... Spacer particle 15 ... Liquid crystal 21 ... Spacer particle 22 ... Meniscus 23 ... Spacer particle dispersion 31 ... Spacer particle 41 ... Color filter substrate 42 ... Crow substrate 43 ... Black matrix 44 ... Color filter 45 ... Over Coat layer 46 ... Transparent electrode 47 ... Alignment film 51 ... TFT array model substrate 52 ... Glass substrate 53 ... Step 54 ... Transparent electrode 55 ... Alignment film 100 ... Head 101 ... Ink chamber 1 (common ink chamber)
102: Ink chamber 2 (pressure ink chamber)
103 ... discharge surface (nozzle surface)
104 ... Nozzle hole 105 ... Temperature control means 106 ... Piezo element

Claims (4)

画素領域と非画素領域とを有する液晶表示装置の製造方法であって、
第1の基板又は第2の基板の表面に、インクジェット装置を用いて、媒体中にスペーサ粒子が分散されているスペーサ粒子分散液を吐出することにより、前記非画素領域に対応する特定の位置にスペーサ粒子を配置する工程と、
前記第1の基板と前記第2の基板とを、液晶及び前記スペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程とを備え、
前記液晶及び前記スペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程において、液晶を配置する前後において、液晶の体積抵抗値変化率が1%以上であり、かつ、液晶のネマチック・等方相転移温度の変化が±1℃以内である
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display device having a pixel region and a non-pixel region,
By ejecting a spacer particle dispersion liquid in which spacer particles are dispersed in a medium using an ink jet apparatus on the surface of the first substrate or the second substrate, a specific position corresponding to the non-pixel region is obtained. Arranging the spacer particles;
Stacking the first substrate and the second substrate so as to face each other with the liquid crystal and the spacer particles interposed therebetween,
In the step of superposing the liquid crystal and the spacer particles so as to face each other, the volume resistivity change rate of the liquid crystal is 1% or more before and after the liquid crystal is disposed, and the nematic / isotropic phase transition temperature of the liquid crystal The method of manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that the change in temperature is within ± 1 ° C.
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法に用いられることを特徴とするスペーサ粒子分散液。 A spacer particle dispersion used in the method for producing a liquid crystal display device according to claim 1. インクジェット装置を用いて基板の表面にスペーサ粒子を配置する際に用いられるスペーサ粒子分散液であって、少なくとも、スペーサ粒子と媒体とを含有し、前記スペーサ粒子は、グラフト重合によって表面修飾されており、不揮発成分の含有割合が0.001重量%未満であることを特徴とするスペーサ粒子分散液。 A spacer particle dispersion used when spacer particles are arranged on the surface of a substrate using an ink jet apparatus, which contains at least spacer particles and a medium, and the spacer particles are surface-modified by graft polymerization. A spacer particle dispersion having a nonvolatile component content of less than 0.001% by weight. 請求項1記載の液晶表示装置の製造方法又は請求項2又は3記載のスペーサ分散液を用いてなることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the liquid crystal display device manufacturing method according to claim 1 or the spacer dispersion liquid according to claim 2 or 3.
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