JP2006241241A - Photosensitive material and laminated product given by using the photosensitive material - Google Patents

Photosensitive material and laminated product given by using the photosensitive material Download PDF

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JP2006241241A JP2005056187A JP2005056187A JP2006241241A JP 2006241241 A JP2006241241 A JP 2006241241A JP 2005056187 A JP2005056187 A JP 2005056187A JP 2005056187 A JP2005056187 A JP 2005056187A JP 2006241241 A JP2006241241 A JP 2006241241A
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acrylate
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Kazunori Shigemori
一範 重森
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive material having a high refractive index by the material itself and further having enough resistance to yellowing. <P>SOLUTION: This photosensitive material contains a compound expressed by general formula (1) (R<SB>1</SB>, R<SB>2</SB>and R<SB>3</SB>are each a monovalent organic residue, provided that at least one of R<SB>1</SB>, R<SB>2</SB>and R<SB>3</SB>has substituted or unsubstituted phenyl, at least one of R<SB>1</SB>, R<SB>2</SB>and R<SB>3</SB>is an organic residue containing an unsaturated double bond, and R<SB>3</SB>may form a ring together with R<SB>1</SB>or with R<SB>2</SB>). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、感光性材料に関する。本発明の感光性材料は、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などに用いることができる。   The present invention relates to a photosensitive material. The photosensitive material of the present invention can be used for lenses, waveguides, optical fibers, or optical elements such as interference films, optical filters, and holograms alternately laminated with low refractive index layers.

近年、高屈折率である透明な感光性材料が光学用物品で求められている。このような感光性材料は、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などへの検討が盛んに行われている。(特許文献1−5参照)   In recent years, a transparent photosensitive material having a high refractive index has been demanded for optical articles. Such photosensitive materials are actively studied for lenses, waveguides, optical fibers, or optical elements such as interference films, optical filters, and holograms alternately laminated with low refractive index layers. (See Patent Documents 1-5)

これらの用途では高屈折率性以外にも耐黄変性など、いろいろな要求物性がある。しかしながら、従来は屈折率を上げるために無機系材料の配合比率を高めて対処していたが、無機系材料の配合比率が高くなるほど有機系材料の利点が発現しにくくなり、耐クラック性などは発現させにくくなる。そこで感光性材料自身の屈折率を上昇させ無機微粒子の配合比を減らす必要がある。
また、感光性材料によっては無機系材料と配合させることにより黄変しやすくなる材料があるため、そのような材料は除外する必要がある。
特開平7−13472号公報 特開平8−217825号公報 特開平9−208529号公報 特開平11−240864号公報 特開平10−73718号公報
In these applications, in addition to high refractive index properties, there are various required physical properties such as yellowing resistance. However, in the past, in order to increase the refractive index, it was dealt with by increasing the blending ratio of the inorganic material, but as the blending ratio of the inorganic material increases, the advantage of the organic material becomes harder to develop, and crack resistance, etc. It becomes difficult to express. Therefore, it is necessary to increase the refractive index of the photosensitive material itself and reduce the compounding ratio of the inorganic fine particles.
Moreover, since there exists a material which becomes easy to yellow by mixing with an inorganic material depending on the photosensitive material, it is necessary to exclude such a material.
JP-A-7-13472 JP-A-8-217825 Japanese Patent Laid-Open No. 9-208529 JP-A-11-240864 Japanese Patent Laid-Open No. 10-73718

本発明は、感光性材料単独で高い屈折率を有し、かつ十分な耐黄変性を有する感光性材料を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a photosensitive material which has a high refractive index by itself and has sufficient yellowing resistance.

すなわち、本発明は、フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)を含んでなる感光性材料に関する。   That is, the present invention relates to a photosensitive material comprising a compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond.

また、本発明は、フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)、および
光重合開始剤(B)、
を含んでなる感光性材料に関する。
The present invention also includes a compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond, and a photopolymerization initiator (B),
The present invention relates to a photosensitive material comprising

また、本発明は、フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)が、下記一般式(1)である上記感光性材料に関する。   Moreover, this invention relates to the said photosensitive material whose compound (A) which has a phenylphosphoryl residue and has a polymerizable unsaturated bond is following General formula (1).

一般式(1)

Figure 2006241241
General formula (1)
Figure 2006241241

(式中のR1,R2,R3は、それぞれ独立に1価の有機残基を表すが、少なくとも一つは置換もしくは未置換のフェニル基を有し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む有機残基を表す。R1とR3,R2とR3は一体となって環を形成してもよい。)
また、本発明は、感光後の屈折率が1.58以上である上記感光性材料に関する。
また、本発明は、基材上に、上記記載の感光性材料を積層してなる積層体に関する。
また、本発明は、基材上に、上記感光性材料を積層する工程と、
前記感光性材料に光を照射する工程とを含む積層体の製造方法に関する。
(In the formula, R1, R2, and R3 each independently represent a monovalent organic residue, but at least one has a substituted or unsubstituted phenyl group, and at least one contains an unsaturated double bond. Represents an organic residue, R1 and R3, and R2 and R3 may form a ring together.)
The present invention also relates to the above photosensitive material having a refractive index after exposure of 1.58 or more.
Moreover, this invention relates to the laminated body formed by laminating | stacking the said photosensitive material on a base material.
The present invention also includes a step of laminating the photosensitive material on a substrate,
And a step of irradiating the photosensitive material with light.

本発明により、感光性材料単独で1.58以上の屈折率を有し、かつ良好な耐黄変性を有する感光性材料を提供することができた。   According to the present invention, a photosensitive material having a refractive index of 1.58 or more alone and having good yellowing resistance can be provided.

<フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)>
フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)は下記一般式(1)で表される。
<Compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond>
The compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond is represented by the following general formula (1).

一般式(1)

Figure 2006241241
General formula (1)
Figure 2006241241

(式中のR1,R2,R3は、それぞれ独立に1価の有機残基を表すが、少なくとも一つは置換もしくは未置換のフェニル基を有し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む有機残基を表す。R1とR3,R2とR3は一体となって環を形成してもよい。) (In the formula, R1, R2, and R3 each independently represent a monovalent organic residue, but at least one has a substituted or unsubstituted phenyl group, and at least one contains an unsaturated double bond. Represents an organic residue, R1 and R3, and R2 and R3 may form a ring together.)

ここで、1価の有機残基とは、脂肪族、芳香族、ヘテロ原子を含む原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルオキシ基などの脂肪族、アリール基などの芳香族の有機残基が挙げられ、これらは、さらに、置換基を有していても良い。   Here, the monovalent organic residue is an atomic group formed by combining an aliphatic, aromatic, or heteroatom-containing atomic group alone, or specifically, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an alkyloxy group. And aliphatic organic residues such as aryl groups and the like, and these may further have a substituent.

本発明で言う置換基とは、特に、断らない限り、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、アリール基、アミノ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基などをいう。   Unless otherwise specified, the substituent in the present invention includes a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, an amino group, a cyano group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and the like. Say.

R1,R2,R3の少なくとも一つは、感光後の屈折率が1.58となるように、置換もしくは未置換のフェニル基を含む有機残基であり、好ましくは、置換もしくは未置換のフェニル基である。また、好ましくは、R1,R2,R3の3つとも置換もしくは未置換のフェニル基を含む有機残基であり、好ましくは、置換もしくは未置換のフェニル基である。具体的に、置換もしくは未置換のフェニル基を含む有機残基としては、フェニル基、置換されたフェニル基、ベンジル基、置換されたベンジル基、フェナシル基、置換されたフェナシル、フェニルオキシ基、置換されたフェニルオキシ基などが挙げられる。   At least one of R1, R2, and R3 is an organic residue containing a substituted or unsubstituted phenyl group, preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, so that the refractive index after exposure is 1.58. It is. Preferably, all of R1, R2, and R3 are organic residues containing a substituted or unsubstituted phenyl group, and preferably a substituted or unsubstituted phenyl group. Specifically, the organic residue containing a substituted or unsubstituted phenyl group includes a phenyl group, a substituted phenyl group, a benzyl group, a substituted benzyl group, a phenacyl group, a substituted phenacyl, a phenyloxy group, a substituted And the like phenyloxy group.

置換されたフェニル基としては、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、C2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から選ばれる基で置換されたフェニル基があげられ、さらに、フェニル基中のベンゼン環が、不飽和炭化水素基によって、C10〜C22の縮合多環芳香族環を形成していても良い構造があげられる。 Examples of the substituted phenyl group include fluorine, chlorine, bromine, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group, hydroxyl group, mercapto group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, acetyl group, benzoyl group, and C 1 to C 18 . linear, branched, cyclic alkyl group, C 1 -C 18 linear, branched, cyclic alkoxyl group, C 2 -C 18 linear, branched, selected from the cyclic alkoxycarbonyl group a phenyl group substituted by a group mentioned that, further, the benzene ring in the phenyl group, the unsaturated hydrocarbon group, condensed polycyclic aromatic rings formed even though a good structure of C 10 -C 22 can give.

置換されたベンジル基としては、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、C2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から選ばれる基で置換されたベンジル基があげられ、さらに、ベンジル基中のベンゼン環が、不飽和炭化水素基によって、C10〜C22の縮合多環芳香族環を形成していても良い構造があげられる。 Examples of the substituted benzyl group include fluorine, chlorine, bromine, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group, hydroxyl group, mercapto group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, acetyl group, benzoyl group, and C 1 to C 18 . linear, branched, cyclic alkyl group, C 1 -C 18 linear, branched, cyclic alkoxyl group, C 2 -C 18 linear, branched, selected from the cyclic alkoxycarbonyl group a benzyl group substituted by a group mentioned that, further, the benzene ring in the benzyl group, the unsaturated hydrocarbon group, condensed polycyclic aromatic rings formed even though a good structure of C 10 -C 22 can give.

置換されたフェナシル基としては、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、C2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から選ばれる基で置換されたフェナシル基があげられ、さらに、フェナシル基中のベンゼン環が、不飽和炭化水素基によって、C10〜C22の縮合多環芳香族環を形成していても良い構造があげられる。 Examples of the substituted phenacyl group include fluorine, chlorine, bromine, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group, hydroxyl group, mercapto group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, acetyl group, benzoyl group, and C 1 to C 18 . linear, branched, cyclic alkyl group, C 1 -C 18 linear, branched, cyclic alkoxyl group, C 2 -C 18 linear, branched, selected from the cyclic alkoxycarbonyl group is phenacyl group which is substituted with a group mentioned that, further, the benzene ring in the phenacyl group, the unsaturated hydrocarbon group, condensed polycyclic aromatic rings formed even though a good structure of C 10 -C 22 can give.

また、R1,R2,R3の少なくとも一つは、不飽和二重結合を含む有機残基である。前記置換もしくは未置換のフェニル基を含む有機残基が不飽和二重結合を含む場合は、当該有機残基は、不飽和二重結合を含む有機残基でもある。具体的に、不飽和二重結合を含む有機残基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基、(メタ)アクリロイルフェニル基、ビニルフェニル基、ビニルオキシフェニル基、アリルフェニル基などが挙げられる。   Moreover, at least one of R1, R2, and R3 is an organic residue containing an unsaturated double bond. When the organic residue containing a substituted or unsubstituted phenyl group contains an unsaturated double bond, the organic residue is also an organic residue containing an unsaturated double bond. Specifically, organic residues containing unsaturated double bonds include (meth) acryloyl group, vinyl group, vinyloxy group, allyl group, (meth) acryloylphenyl group, vinylphenyl group, vinyloxyphenyl group, allylphenyl. Groups and the like.

フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)は、フェニルホスホリ残基を有し、かつ、反応性置換基を有する化合物(a)と、化合物(a)の反応性置換基と反応する官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(b)との反応により合成することもできる。
化合物(a)としてはフェニルホスホリル残基と反応性置換基とを有するものであればよい。
The compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond includes a compound (a) having a phenylphosphory residue and having a reactive substituent, and a compound (a) It can also synthesize | combine by reaction with the compound (b) which has a functional group and unsaturated double bond which react with this reactive substituent.
As the compound (a), any compound having a phenylphosphoryl residue and a reactive substituent may be used.

ここで言う反応性置換基としては、水酸基、カルボキシル基、グリシジル基、アミノ基、イソシアナト基などが挙げられる。
化合物(a)の具体的としては、Phosphoric Acid Dibenzyl Ester、Phosphoric Acid Diphenyl Ester、Phosphoric Acid 4−Methylumbelliferyl Ester、2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン(北興化学工業株式会社製)、HCA-HQ(三光株式会社製)などが挙げられる。
Examples of the reactive substituent mentioned here include a hydroxyl group, a carboxyl group, a glycidyl group, an amino group, an isocyanato group, and the like.
Specific examples of the compound (a) include Phosphoric Acid Divenzyl Ester, Phosphoric Acid Diphenyl Ester, Phosphoric Acid 4-Methylumbiferyl Estel, 2- (Diphenylphosphinyl) Kogyo HQ Etc.).

<化合物(a)の反応性置換基と反応する官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(b)> <Compound (b) having a functional group that reacts with the reactive substituent of compound (a) and an unsaturated double bond>

反応性置換基としては、水酸基、カルボキシル基、グリシジル基、アミノ基、イソシアナト基が挙げられる。   Examples of the reactive substituent include a hydroxyl group, a carboxyl group, a glycidyl group, an amino group, and an isocyanato group.

水酸基に反応しうる官能基としては、エポキシ基、イソシアナト基、酸ハロゲン化物、酸無水物基、カルボキシル基が挙げられる。   Examples of the functional group capable of reacting with a hydroxyl group include an epoxy group, an isocyanato group, an acid halide, an acid anhydride group, and a carboxyl group.

カルボキシル基に反応しうる官能基としては、エポキシ基、オキサゾリン基、またはアミノ基、またはカルボジイミド基、またはイソシアナト基、またはイソチオシアネート基が挙げられる。カルボキシル基と反応しうる官能基としては、エポキシ基が特に有用である。   Examples of the functional group capable of reacting with a carboxyl group include an epoxy group, an oxazoline group, an amino group, a carbodiimide group, an isocyanato group, and an isothiocyanate group. An epoxy group is particularly useful as a functional group capable of reacting with a carboxyl group.

グリシジル基に反応しうる官能基としては、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、N−メチロール基が挙げられる。   Examples of the functional group capable of reacting with the glycidyl group include a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, a carboxyl group, and an N-methylol group.

アミノ基に反応しうる官能基としては、エポキシ基、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド基、酸無水物基、酸クロライド基、ホルミル基が挙げられる。   Examples of the functional group capable of reacting with an amino group include an epoxy group, an isocyanate group, an N-methylol group, a carboxyl group, an alkyl halide group, an acid anhydride group, an acid chloride group, and a formyl group.

イソシアナト基に反応しうる官能基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、N−メチロール基が挙げられる。   Examples of the functional group capable of reacting with the isocyanato group include a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a carboxyl group, and an N-methylol group.

反応性置換基と、反応性置換基と反応しうる官能基との反応は、無溶媒で行なってもよく、あるいは反応に対して不活性溶媒中で行なってもよい。かかる溶媒としては、例えば、n−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は2種類以上を併用しても差し支えない。   The reaction between the reactive substituent and the functional group capable of reacting with the reactive substituent may be performed without a solvent, or may be performed in a solvent inert to the reaction. Examples of the solvent include hydrocarbon solvents such as n-hexane, benzene and toluene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, tetrahydrofuran or Ether solvents such as dioxane, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, or parkrene, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylimidazo Examples include polar solvents such as lysinone. Two or more of these solvents may be used in combination.

エポキシ基と重合性二重結合とを有する化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、4ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、グリシジルアリルエーテル、2,3−エポキシ−2−メチルプロピル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、4−ビニル−1−シクロヘキセン1,2エポキシド、グリシジルシンナメート、1,3−ブタジエンモノエポキサイド、セロキサイド2000(ダイセル化学工業株式会社製)などが挙げられる。   A well-known thing can be used as a compound which has an epoxy group and a polymerizable double bond. For example, glycidyl (meth) acrylate, 4 hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, glycidyl allyl ether, 2,3-epoxy-2-methylpropyl (meth) acrylate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate 4-vinyl-1-cyclohexene 1,2 epoxide, glycidyl cinnamate, 1,3-butadiene monoepoxide, Celoxide 2000 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and the like.

イソシアナト基と重合性二重結合とを有する化合物としては、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート(MAI)、イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート(TMI)等がある。また、1,6ージイソシアナトヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、ジイソシアン酸4,4’−ジフェニルメタン、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアン酸トリレン、ジイソシアン酸トルエン、2,4−ジイソシアン酸トルエン、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸4−メチル−m−フェニレン、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、m−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、p−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のジイソシアン酸エステル化合物と水酸基、カルボキシル基、アミド基含有ビニルモノマーとを等モルで反応せしめた化合物もイソシアン酸エステル化合物として使用することができる。   Examples of the compound having an isocyanato group and a polymerizable double bond include methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI), vinyl isocyanate, allyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate (MAI), isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate (TMI). ) Etc. 1,6-diisocyanatohexane, isophorone diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, polymeric diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, tolylene 2,4-diisocyanate, toluene diisocyanate, 2,4-diisocyanic acid Toluene, hexamethylene diisocyanate, 4-methyl-m-phenylene diisocyanate, naphthylene diisocyanate, paraphenylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, cyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, tolidine diisocyanate, 2,2 , 4-Trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate Nisocyanate, m-tetramethylxylylene diisocyanate, p-tetramethylxylylene diisocyanate, diisocyanate ester compounds such as dimer acid diisocyanate and hydroxyl group, carboxyl group, and amide group-containing vinyl monomers are reacted in equimolar amounts. It can be used as an ester compound.

あるいは、(メタ)アクリル酸の酸ハロゲン化物、ハロプロピオン酸類またはその酸ハロゲン化物などが挙げられる。ハロプロピオン酸類またはその酸ハロゲン化物を使用した際には、生成したハロプロピオン酸エステル化合物を、脱ハロゲン化水素して、(メタ)アクリル酸エステル化合物を製造することにより、感光性組成物の感光後の硬度を上げることができる。   Alternatively, acid halides of (meth) acrylic acid, halopropionic acids, or acid halides thereof can be used. When halopropionic acids or acid halides thereof are used, the resulting halopropionic acid ester compound is dehalogenated to produce a (meth) acrylic acid ester compound. Later hardness can be increased.

また、(メタ)アクリル酸の酸ハロゲン化物との反応を行う際には、ハロゲン化水素(例えば、塩化水素など)が副生するので、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)等の有機塩基、あるいは、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム等の無機塩基を脱塩化水素剤として使用してもよい。   In addition, when a reaction with an acid halide of (meth) acrylic acid is performed, hydrogen halide (for example, hydrogen chloride) is by-produced. For example, triethylamine, pyridine, picoline, dimethylaniline, diethylaniline, Organic bases such as 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), or sodium bicarbonate, sodium carbonate Inorganic bases such as potassium carbonate, lithium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, and magnesium oxide may be used as the dehydrochlorinating agent.

なお、化合物(a)と化合物(b)との反応において、さらに化合物(a)の反応性置換基と反応する官能基と不飽和二重結合とを有さない化合物(c)を用いることもできる。   In addition, in the reaction between the compound (a) and the compound (b), a compound (c) that does not have a functional group that reacts with the reactive substituent of the compound (a) and an unsaturated double bond may be used. it can.

エポキシ基を有しかつ重合性二重結合を有しない化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテルなどを挙げることができる。   Known compounds can be used as the compound having an epoxy group and no polymerizable double bond. Examples thereof include styrene oxide and phenyl glycidyl ether.

水酸基と反応しうる官能基を有しかつ重合性二重結合を有しない化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、モノイソシアネートを挙げることができる。モノイソシアネートとしてはメチルイソシアネート、エチルイソシアネート、プロピルイソシアネート、ブチルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、フェニルイソシアネート等が挙げられる。
また、1,6ージイソシアナトヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、ジイソシアン酸4,4’−ジフェニルメタン、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアン酸トリレン、ジイソシアン酸トルエン、2,4−ジイソシアン酸トルエン、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸4−メチル−m−フェニレン、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、m−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、p−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のジイソシアン酸エステル化合物と水酸基、カルボキシル基、アミド基含有で不飽和二重結合を有さない化合物を等モルで反応せしめた化合物もイソシアン酸エステル化合物として使用することができる。
A well-known thing can be used as a compound which has a functional group which can react with a hydroxyl group, and does not have a polymerizable double bond. For example, monoisocyanate can be mentioned. Examples of the monoisocyanate include methyl isocyanate, ethyl isocyanate, propyl isocyanate, butyl isocyanate, octadecyl isocyanate, and phenyl isocyanate.
1,6-diisocyanatohexane, isophorone diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, polymeric diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, tolylene 2,4-diisocyanate, toluene diisocyanate, 2,4-diisocyanic acid Toluene, hexamethylene diisocyanate, 4-methyl-m-phenylene diisocyanate, naphthylene diisocyanate, paraphenylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, cyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, tolidine diisocyanate, 2,2 , 4-Trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate Nate, m-tetramethylxylylene diisocyanate, p-tetramethylxylylene diisocyanate, diisocyanate ester compounds such as dimer acid diisocyanate, and equimolar amounts of hydroxyl group, carboxyl group and amide group-containing compounds without unsaturated double bonds The compound reacted with can also be used as an isocyanate compound.

<触媒>
エポキシ基と反応する官能基とエポキシ基との反応を進行させるときには、必要に応じて、アミン類等の触媒を添加して行っても良い。使用される触媒としては公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
<Catalyst>
When the reaction of the functional group that reacts with the epoxy group and the epoxy group proceeds, a catalyst such as amines may be added as necessary. As the catalyst used, a known catalyst can be used. Examples of the catalyst include the following compounds. Although the preferable specific example of a catalyst is shown below, this invention is not limited to these at all.

(1)3級アミン類及び/又はその塩類トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N−メチルピペラジン等
(2)イミダゾール類及び/又はその塩類2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−S−トリアジン等
(1) Tertiary amines and / or salts thereof Triethylamine, tributylamine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N-methylpiperazine, etc. (2) Imidazoles and / or salts thereof 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2,4-dicyano-6- [2-methylimidazolyl- (1 )]-Ethyl-S-triazine, etc.

(3)ジアザビシクロ化合物類
1,5−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン、1,4−ジアビシクロ[2.2.2]オクタン等
(4)ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(ヒドロキシプロピル)ホスフィン、トリス(シアノエチル)ホスフィン等
(5)ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
(3) Diazabicyclo compounds
1,5-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecane, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene, 1,4-diabicyclo [2.2.2] octane, etc. (4) Phosphines tributylphosphine, Triphenylphosphine, tris (dimethoxyphenyl) phosphine, tris (hydroxypropyl) phosphine, tris (cyanoethyl) phosphine, etc. (5) Phosphonium salts tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, methyltributylphosphonium tetraphenylborate, methyltricyanoethylphosphonium tetraphenylborate etc

本発明で用いられる上記のうちのエポキシ基を有する化合物と触媒の配合割合は、エポキシ基を有する化合物100重量部に対し、触媒が0.01〜10重量部である。触媒が0.01重量部未満であると反応が遅くなり、10重量部を越えると硬化物の耐水性が低下するため好ましくない。   The compounding ratio of the compound having an epoxy group and the catalyst used in the present invention is 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having an epoxy group. If the catalyst is less than 0.01 parts by weight, the reaction is slow, and if it exceeds 10 parts by weight, the water resistance of the cured product is lowered, which is not preferable.

エポキシ基と反応する官能基とエポキシ基の反応を進行させるときには、用いるエポキシ基を有する化合物の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いるエポキシ基を有する化合物の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、エポキシ基、水酸基、有機酸と反応しないものであれば特に制限なく、用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼン等の公知の溶剤を使用できる。   When the reaction of the epoxy group with the functional group that reacts with the epoxy group is allowed to proceed, the compound having the epoxy group to be used can be carried out without a solvent if the softening temperature is lower than the reaction temperature range. Moreover, it can also carry out using a suitable solvent irrespective of the softening temperature of the compound which has an epoxy group to be used. The solvent used at this time is not particularly limited as long as it does not react with an epoxy group, a hydroxyl group, or an organic acid. For example, known solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, toluene, acetone, and benzene can be used.

<光重合開始剤(B)>
光重合開始剤は、紫外線により感光性組成物を硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
<Photoinitiator (B)>
The photopolymerization initiator is added when the photosensitive composition is cured by ultraviolet rays. In addition, an initiator is not particularly necessary when curing with an electron beam.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a function capable of initiating vinyl polymerization by photoexcitation. For example, a monocarbonyl compound, a dicarbonyl compound, an acetophenone compound, a benzoin ether compound, an acylphosphine oxide compound, an aminocarbonyl A compound etc. can be used.

具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル-エネタノン、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-(1,3-アクリロイル-1,4,7,10,13-ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3'4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチルベンゼンメタアンモニウムクロリド、2-ヒドロキシ-3-(4-ベンゾイル-フェノキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-[2-(1-オキソ-2-プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム臭酸塩、2-/4-iso-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト(1,2-d)チアゾリン等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
Specific monocarbonyl compounds include benzophenone, 4-methyl-benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4- (4-methylphenylthio) phenyl-enetanone 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4- (1,3-acryloyl-1,4,7,10,13-pentaoxotridecyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra ( t-Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4-benzoyl-N, N, N-trimethylbenzenemethammonium chloride, 2-hydroxy-3- (4-benzoyl-phenoxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanamine Hydrochloride, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxyethyl) methammonium bromide, 2- / 4-iso-propylthioxanthone, 2,4-diethyl Thioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-hydroxy-3- (3,4-dimethyl-9-oxo-9Hthioxanthone-2-yloxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanamine hydrochloride, benzoyl And methylene-3-methylnaphtho (1,2-d) thiazoline.
Examples of the dicarbonyl compound include 1,7,7-trimethyl-bicyclo [2.1.1] heptane-2,3-dione, benzyl, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, methyl-α-oxobenzeneacetate, 4-phenylbenzyl and the like can be mentioned.

アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-ジ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノ-フェニル)ブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、3,6-ビス(2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル)-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。   Examples of acetophenone compounds include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- ( 4-Isopropylphenyl) 2-hydroxy-di-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-styrylpropan-1-one polymerization , Diethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino-phenyl) butan-1-one, 1-phenyl-1,2- Propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 3,6-bis (2-methyl-2-morpholino-propanonyl) -9- Chill carbazole, and the like.

ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
Examples of the benzoin ether compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin normal butyl ether.
Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 4-n-propylphenyl-di (2,6-dichlorobenzoyl) phosphine oxide.

アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-nブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4'-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5'-ビス-(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。   Examples of aminocarbonyl compounds include methyl-4- (dimethylamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2-nbutoxyethyl-4- (dimethylamino) benzoate, isoamyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2- (dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4'-bis-4-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-bis-4-diethylaminobenzophenone, 2,5'-bis- (4-diethylaminobenzal) cyclopenta Non etc. are mentioned.

これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、被硬化物の乾燥重量の合計100重量部に対して1〜20重量部の範囲で添加されるのが好ましい。また、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。   These are not limited to the above compounds, and any compounds can be used as long as they have the ability to initiate polymerization by ultraviolet rays. These can be used alone or in combination, and the amount used is not limited, but it is preferably added in the range of 1 to 20 parts by weight relative to 100 parts by weight of the total dry weight of the cured product. Moreover, a well-known organic amine can also be added as a sensitizer.

本発明の感光性組成物には、必要に応じて、バインダー樹脂、不飽和化合物、光重合開始剤などを添加できる。バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、重合性不飽和二重結合が導入されていてもよい。重合性不飽和二重結合の導入方法はどのようなものであっても構わない。これらの樹脂を単独で添加しても良いし、他の樹脂を含む、複数の樹脂を混合して添加しても良い。   If necessary, a binder resin, an unsaturated compound, a photopolymerization initiator, and the like can be added to the photosensitive composition of the present invention. Examples of the binder resin include polyurethane resin, polyurea resin, polyurethane urea resin, polyester resin, polyether resin, polycarbonate resin, epoxy resin, amino resin, styrene resin, acrylic resin, melamine resin, polyamide resin, phenol resin, vinyl resin. Etc. In these resins, a polymerizable unsaturated double bond may be introduced. Any method for introducing a polymerizable unsaturated double bond may be used. These resins may be added alone, or a plurality of resins including other resins may be mixed and added.

不飽和化合物としては、例えば、(メタ)アクリレート系化合物としては、アルキル系(メタ)アクリレート、アルキレングリコール系(メタ)アクリレート等が例示できる。   Examples of unsaturated compounds include alkyl (meth) acrylates and alkylene glycol (meth) acrylates as (meth) acrylate compounds.

更に具体的に例示すると、アルキル系(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ノナデシル(メタ)アクリレート、イコシル(メタ)アクリレート、ヘンイコシル(メタ)アクリレート、ドコシル(メタ)アクリレート等の炭素数1〜22のアルキル(メタ)アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数6以上が好ましい。   More specifically, as the alkyl-based (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( (Meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) Acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, nonadeci There are alkyl (meth) acrylates having 1 to 22 carbon atoms such as (meth) acrylate, icosyl (meth) acrylate, henecosyl (meth) acrylate, docosyl (meth) acrylate, etc. Examples thereof include an alkyl group-containing acrylate having a C 2-10 alkyl group, more preferably a C 2-8 alkyl group, or a corresponding methacrylate. For the purpose of adjusting leveling properties, it is preferable that the number of carbon atoms is 6 or more.

また、アルキレングリコール系(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ(メタ)等、末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、   Examples of the alkylene glycol (meth) acrylate include diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene glycol mono (meth) acrylate, and polyethylene glycol. Mono (meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, tetrapropylene glycol mono (meth) acrylate, polytetramethylene glycol mono (meth), etc. A monoacrylate having a polyoxyalkylene chain or a corresponding monomethacrylate,

メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、n−ブトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、n−ペンタキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、n−ブトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、n−ペンタキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレートなど末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートがある。 Methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, propoxytetraethylene glycol (meth) acrylate , N-butoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, n-pentoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, tripropylene glycol (meth) acrylate, tetrapropylene glycol (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (meth) acrylate, methoxy Tetrapropylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetrapropyleneglycol (Meth) acrylate, propoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, n-butoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, n-pentoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolytetra Methylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, monoacrylate having an alkoxy group at the terminal and having a polyoxyalkylene chain, or a corresponding monomethacrylate, such as phenoxydiethylene glycol ( (Meth) acrylate, phenoxyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytriethylene glycol (me ) Acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, etc. Polyoxyalkylene having a phenoxy or aryloxy group at the terminal There are system acrylates or corresponding methacrylates.

カルボキシル基含有不飽和化合物としてはマレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−(メタ)アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−(メタ)アクリロキシエチルモノエステル、テレフタル酸β−(メタ)アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−(メタ)アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等を例示することが出来る。   Carboxylic group-containing unsaturated compounds include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, or alkyl or alkenyl monoesters thereof, phthalic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, isophthalic acid β- (meth) Examples include acryloxyethyl monoester, terephthalic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, succinic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid and the like. I can do it.

上記以外の水酸基含有不飽和化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシビニルベンゼンなどが挙がられる。   Examples of hydroxyl-containing unsaturated compounds other than those described above include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, and 4-hydroxyvinylbenzene. And so on.

窒素含有不飽和化合物としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−エトキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−プロポキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−ペントキシメチル−(メタ)アクリルアミドなどのモノアルキロール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ(メチロール)アクリルアミド、N−メチロール−N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ(メトキシメチル)アクリルアミド、N−エトキシメチル−N−メトキシメチルメタアクリルアミド、N,N−ジ(エトキシメチル)アクリルアミド、N−エトキシメチル−N−プロポキシメチルメタアクリルアミド、N,N−ジ(プロポキシメチル)アクリルアミド、N−ブトキシメチル−N−(プロポキシメチル)メタアクリルアミド、N,N−ジ(ブトキシメチル)アクリルアミド、N−ブトキシメチル−N−(メトキシメチル)メタアクリルアミド、N,N−ジ(ペントキシメチル)アクリルアミド、N−メトキシメチル−N−(ペントキシメチル)メタアクリルアミドなどのジアルキロール(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレートメチルエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてCl-,Br-,I-等のハロゲンイオンまたはQSO3 -(Q:炭素数1〜12アルキル基)を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の4級アンモニウム塩を例示できる。 Examples of the nitrogen-containing unsaturated compound include (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl- (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl- (meth) acrylamide, and N-propoxymethyl- (meth) acrylamide. , N-butoxymethyl- (meth) acrylamide, monoalkylol (meth) acrylamide such as N-pentoxymethyl- (meth) acrylamide, N, N-di (methylol) acrylamide, N-methylol-N-methoxymethyl ( (Meth) acrylamide, N, N-di (methoxymethyl) acrylamide, N-ethoxymethyl-N-methoxymethylmethacrylamide, N, N-di (ethoxymethyl) acrylamide, N-ethoxymethyl-N-propoxymethylmethacrylamide, N N-di (propoxymethyl) acrylamide, N-butoxymethyl-N- (propoxymethyl) methacrylamide, N, N-di (butoxymethyl) acrylamide, N-butoxymethyl-N- (methoxymethyl) methacrylamide, N, Acrylamide-type unsaturated compounds such as N-di (pentoxymethyl) acrylamide, N-methoxymethyl-N- (pentoxymethyl) methacrylamide, dialalkylol (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl ( (Meth) acrylate methylethylaminoethyl (meth) acrylate, unsaturated compounds having a dialkylamino group such as dimethylaminostyrene and diethylaminostyrene, and halogen ions such as Cl , Br and I as counter ions. Examples thereof include quaternary ammonium salts of dialkylamino group-containing unsaturated compounds having ON or QSO 3 (Q: an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms).

更にその他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロエチルメチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロイソノニルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロノニルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルアミル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル(メタ)アクリレート等の炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル(メタ)アクリレート類;パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-(メタ)ア
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、3、4-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
Further, other unsaturated compounds include perfluoromethylmethyl (meth) acrylate, perfluoroethylmethyl (meth) acrylate, 2-perfluorobutylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorohexylethyl (meth) acrylate, 2 -Perfluorooctylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroisononylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorononylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorodecylethyl (meth) acrylate, perfluoropropylpropyl (meth) ) Acrylate, perfluorooctylpropyl (meth) acrylate, perfluorooctyl amyl (meth) acrylate, perfluorooctyl undecyl (meth) acrylate, etc. Perfluoroalkylalkyl (meth) acrylates having a kill group; perfluoroalkyl group-containing vinyl monomers such as perfluoroalkyls such as perfluorobutylethylene, perfluorohexylethylene, perfluorooctylethylene, and perfluorodecylethylene, and alkylenes , Vinyltrichlorosilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and other alkoxysilyl group-containing vinyl compounds and derivatives thereof, glycidyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl Examples thereof include glycidyl group-containing acrylates such as acrylate, and a plurality of them can be used from these groups.

脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
Examples of the fatty acid vinyl compound include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl propionate, vinyl hexanoate, vinyl caprylate, vinyl laurate, vinyl palmitate, and vinyl stearate.
Examples of the alkyl vinyl ether compound include butyl vinyl ether and ethyl vinyl ether.

α−オレフィン化合物としては、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン等が挙げられる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは2種類以上を併用して使用することもできる。
Examples of the α-olefin compound include 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene and the like.
Examples of vinyl compounds include allyl compounds such as allyl acetate, allyl alcohol, allylbenzene, and allyl cyanide, vinyl cyanide, vinylcyclohexane, vinyl methyl ketone, styrene, α-methylstyrene, 2-methylstyrene, and chlorostyrene. Can be mentioned.
Examples of the ethynyl compound include acetylene, ethynylbenzene, ethynyltoluene, 1-ethynyl-1-cyclohexanol and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

少なくとも1つの重合性二重結合を有する化合物の多官能のものとしては具体的に下記のものを挙げることができる。   Specific examples of the polyfunctional compound having at least one polymerizable double bond include the following.

先ず、重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、非ハロゲン系脂肪族系化合物を例示する。具体的には、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビス(アクリロキシネオペンチルグリコール)アジペート、ビス(メタクリロキシネオペンチルグリコール)アジペート、エピクロルヒドリン変性1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート:日本化薬製カヤラッドR−167、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート:日本化薬製カヤラッドHXシリーズなどのアルキル型(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ(メタ)アクリレート:長瀬産業デナコールDA(M)−811、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート:長瀬産業デナコールDA(M)−851、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジ(メタ)アクリレート:長瀬産業デナコールDA(M)−911などのアルキレングリコール型(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート:日本化薬製カヤラッドR−604、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート:サートマーSR−454、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート:日本化薬製TPA−310、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート:長瀬産業DA(M)−321などのトリメチロールプロパン型(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート:東亜合成アロニックスM−233、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート類:日本化薬製カヤラッドD−310,320,330など、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート類:日本化薬製カヤラッドDPCA−20,30,60,120などのペンタエリスリトール型(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート:長瀬産業デナコールDA(M)−314、トリグリセロールジ(メタ)アクリレートなどのグリセロール型(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、トリシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート:山陽国策パルプCAM−200などの脂環式(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート:東亜合成アロニックスM−315、トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   First, among the compounds having a polymerizable ethylenically unsaturated group, non-halogen aliphatic compounds are exemplified. Specifically, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, Bis (acryloxy neopentyl glycol) adipate, bis (methacryloxy neopentyl glycol) adipate, epichlorohydrin modified 1,6-hexanediol di (meth) acrylate: Nippon Kayaku Kayrad R-167, hydroxypivalate neopentyl glycol di (Meth) acrylate, caprolactone-modified hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate: Nippon Kayaku Kayrad HX series alkyl type (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, epichlorohydrin modified ethylene glycol di (meth) acrylate: Nagase Sangyo Denacol DA (M) -811, epichlorohydrin modified diethylene glycol di (meth) acrylate: Nagase Sangyo Denacol DA (M) -851, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate , Tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, epichlorohydrin modified proleng Cold di (meth) acrylate: alkylene glycol type (meth) acrylate such as Nagase Sangyo Denacol DA (M) -911, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol modified trimethylolpropane Di (meth) acrylate: Nippon Kayaku Kayrad R-604, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate: Sartomer SR-454, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate: Nippon Kayaku TPA- 310, epichlorohydrin-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate: trimethylolpropane type (meth) acrylate such as Nagase Sangyo DA (M) -321, pentae Rithritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, stearic acid-modified pentaerythritol di (meth) acrylate: Toagosei Aronix M-233, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta ( (Meth) acrylates, alkyl-modified dipentaerythritol poly (meth) acrylates: Kaprorad-modified dipentaerythritol poly (meth) acrylates such as Nippon Kayaku Kayrad D-310, 320, 330, etc .: Nippon Kayaku Kayrad DPCA-20 , 30, 60, 120, etc. Pentaerythritol type (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, epichlorohydrin modified glycerol tri (meth) acrylate Nagase Sangyo Denacol DA (M) -314, glycerol type (meth) acrylate such as triglycerol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, tricyclopentanyl di (meth) acrylate, cyclohexyl Di (meth) acrylate, methoxylated cyclohexyl di (meth) acrylate: cycloaliphatic (meth) acrylate such as Sanyo Kokusaku Pulp CAM-200, tris (acryloxyethyl) isocyanurate: Toa Gosei Aronix M-315, Tris (methacrylic) Isocyanurate type (meth) acrylates such as (Roxyethyl) isocyanurate, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, caprolactone-modified tris (methacryloxyethyl) isocyanurate, etc. It is.

また、脂肪族基からのみ構成される重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、硫黄原子をさらに分子内に含有する化合物を例示する。1,3−プロパンジオールジチオ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジチオ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジチオ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジチオ(メタ)アクリレート、ビス(チオアクリロキシネオペンチルグリコール)アジペート、ビス(チオメタクリロキシネオペンチルグリコール)アジペート、エピクロルヒドリン変性1,6−ヘキサンジオールジチオ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ(メタ)アクリレートなどのアルキル型チオ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジチオ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジチオ(メタ)アクリレートなどのアルキレングリコール型チオ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリチオ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリチオ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジチオ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリチオ(メタ)アクリレートなどのトリメチロールプロパン型チオ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリチオ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラチオ(メタ)アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジチオ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサチオ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタチオ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリチオ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリチオ(メタ)アクリレート類などペンタエリスリトール型チオ(メタ)アクリレート、グリセロールジチオ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリチオ(メタ)アクリレート、トリグリセロールジチオ(メタ)アクリレートなどのグリセロール型チオ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジチオ(メタ)アクリレート、トリシクロペンタニルジチオ(メタ)アクリレート、シクロヘキシルジチオ(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジチオ(メタ)アクリレートなどの脂環式チオ(メタ)アクリレート、トリス(チオアクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(チオメタクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(チオアクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(チオメタクリロキシエチル)イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型チオ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらは単独あるいは複数混合して用いても良い。   Moreover, the compound which further contains a sulfur atom in a molecule | numerator among the compounds which have a polymerizable ethylenically unsaturated group comprised only from an aliphatic group is illustrated. 1,3-propanediol dithio (meth) acrylate, 1,4-butanediol dithio (meth) acrylate, 1,6-hexanediol dithio (meth) acrylate, neopentyl glycol dithio (meth) acrylate, bis (thioacryloxy) Neopentyl glycol) adipate, bis (thiomethacryloxy neopentyl glycol) adipate, epichlorohydrin modified 1,6-hexanediol dithio (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol dithio (meth) acrylate, caprolactone modified hydroxypivalate neopentyl Alkyl thio (meth) acrylate such as glycol dithio (meth) acrylate, ethylene glycol dithio (meth) acrylate, diethylene glycol dithio (Meth) acrylate, triethylene glycol dithio (meth) acrylate, tetraethylene glycol dithio (meth) acrylate, polyethylene glycol dithio (meth) acrylate, epichlorohydrin modified ethylene glycol dithio (meth) acrylate, epichlorohydrin modified diethylene glycol dithio (meth) acrylate, propylene Glycol dithio (meth) acrylate, dipropylene glycol dithio (meth) acrylate, tripropylene glycol dithio (meth) acrylate, tetrapropylene glycol dithio (meth) acrylate, polypropylene glycol dithio (meth) acrylate, epichlorohydrin modified prolene glycol dithio (meth) ) Alkylene glycol type thio such as acrylate (Meth) acrylate, trimethylolpropane trithio (meth) acrylate, ditrimethylolpropane trithio (meth) acrylate, neopentyl glycol modified trimethylolpropane dithio (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane trithio (meth) acrylate, Trimethylolpropane type thio (meth) acrylate such as propylene oxide modified trimethylolpropane trithio (meth) acrylate, epichlorohydrin modified trimethylolpropane trithio (meth) acrylate, pentaerythritol trithio (meth) acrylate, pentaerythritol tetrathio ( (Meth) acrylate, stearic acid-modified pentaerythritol dithio (meth) acrylate, dipentaerythritol Pentaerythritol-type thio (meth) such as hexahexa (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypentathio (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol polythio (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol polythio (meth) acrylates Glycerol-type thio (meth) acrylate such as acrylate, glycerol dithio (meth) acrylate, epichlorohydrin modified glycerol trithio (meth) acrylate, triglycerol dithio (meth) acrylate, dicyclopentanyl dithio (meth) acrylate, tricyclopentanyl Dithio (meth) acrylate, cyclohexyldithio (meth) acrylate, methoxylated cyclohexyldithio (meth) acrylate Any cycloaliphatic thio (meth) acrylate, tris (thioacryloxyethyl) isocyanurate, tris (thiomethacryloxyethyl) isocyanurate, caprolactone-modified tris (thioacryloxyethyl) isocyanurate, caprolactone-modified tris (thiomethacryloxyethyl) ) Isocyanurate type thio (meth) acrylate such as isocyanurate. These may be used alone or in combination.

芳香族ポリヒドロキシ化合物、例えば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール等のジあるいはポリ(メタ)アクリレート化合物、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチ(プロピ)レンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、エチ(プロピ)レンオキサイド変性ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールSジ(メタ)アクリレート、エチ(プロピ)レンオキサイド変性ビスフェノールSジ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性フタル酸ジ(メタ)アクリレートなどの芳香族基を有する(メタ)アクリレート化合物、テトラクロロビスフェノールSエチ(プロピ)レンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールSエチ(プロピ)レンオキシド変性ジ(メタ)アクリレートなどの塩素以上の原子量を持つハロゲン原子で置換された芳香族基を有するスチレン類および(メタ)アクリレート化合物などが挙げられる。   Aromatic polyhydroxy compounds such as diquinone or poly (meth) acrylate compounds such as hydroquinone, resorcin, catechol, pyrogallol, bisphenol A di (meth) acrylate, ethyl (propi) lene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol F Di (meth) acrylate, Ethi (propi) ylene oxide modified bisphenol F Di (meth) acrylate, Bisphenol S di (meth) acrylate, Ethi (propi) lene oxide modified bisphenol S di (meth) acrylate, Epichlorohydrin modified phthalic acid di (Meth) acrylate compounds having aromatic groups such as (meth) acrylate, tetrachlorobisphenol S ethyl (propi) ylene oxide modified di (meth) acrylate, tetrabromobi Phenol S ethyl (prop) Ren'okishido modified di (meth) acrylate styrenes and (meth) acrylate compound having an aromatic group substituted by a halogen atom with chlorine or atomic weight, such as and the like.

ウレタンアクリレート、例えば、フェニルグリシジルエーテルアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学AH−600、フェニルグリシジルエーテルアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学AT−600、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学UA―306H、フェニルグリシジルエーテルアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学AI−600、グリセリンジメタクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学UA−101T、グリセリンジメタクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学UA−101I、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学UA―306T、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー:共栄社化学UA―306Iなどが挙げられる。   Urethane acrylate, for example, phenylglycidyl ether acrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer: Kyoeisha Chemical AH-600, phenylglycidyl ether acrylate tolylene diisocyanate urethane prepolymer: Kyoeisha Chemical AT-600, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer: Kyoeisha Chemical UA-306H, phenylglycidyl ether acrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer: Kyoeisha Chemical AI-600, glycerol dimethacrylate tolylene diisocyanate urethane prepolymer: Kyoeisha Chemical UA-101T, glycerin dimethacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer: Kyoeisha Chemical UA -1 1I, pentaerythritol triacrylate tolylene diisocyanate urethane prepolymer Kyoeisha Chemical UA-306T, pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer and the like Kyoeisha Chemical UA-306I and the like.

<有機溶剤>
本発明の硬化性組成物は、有機溶剤を含まない硬化性組成物としても、有機溶剤を含む硬化性組成物としても用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。具体的には、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
<Organic solvent>
The curable composition of the present invention can be used as a curable composition containing no organic solvent or as a curable composition containing an organic solvent.
In the case of containing an organic solvent, it may be applied to various substrates, and after the organic solvent is volatilized, active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams necessary for curing may be irradiated.
Known organic solvents can be used as the organic solvent used in the coating agent of the present invention. Specific examples include cyclohexanone, methyl ethyl ketone, toluene, methyl propylene glycol acetate and the like.

<その他>
この他、本発明の感光性組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、さらに溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、球状フィラー等を添加することができる。
<Others>
In addition to the above, the photosensitive composition of the present invention includes optional components as long as the purpose is not impaired, and further includes solvents, dyes, antioxidants, polymerization inhibitors, leveling agents, humectants, viscosity modifiers, antiseptics, antibacterial agents. An antistatic agent, an antiblocking agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an electromagnetic wave shielding agent, a spherical filler, and the like can be added.

本発明の感光性組成物は、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、400〜500nmの可視光を使用することができる。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および400〜500nmの可視光の線源(光源)には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、5〜2000mJの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい50〜1000mJの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
The photosensitive composition of the present invention can be cured by a known radiation curing method to obtain a cured product, and as an active energy ray, an electron beam, an ultraviolet ray, or visible light of 400 to 500 nm can be used.
A thermionic emission gun, a field emission gun, or the like can be used as the electron beam source to be irradiated. For example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used as a source (light source) of ultraviolet light and visible light of 400 to 500 nm. Specifically, an ultra-high pressure mercury lamp or a xenon mercury lamp is often used because of the point light source and the stability of luminance. The active energy dose to be irradiated can be set in a timely manner within a range of 5 to 2000 mJ, but is preferably within a range of 50 to 1000 mJ that can be easily managed in the process.
Further, these ultraviolet rays or electron beams can be used in combination with heat by infrared rays, far infrared rays, hot air, high frequency heating or the like.

本発明の感光性オリゴマー組成物は、基材に塗工後、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行っても良いし、塗工に続いてラジエーション硬化させた後に自然または強制乾燥しても構わないが、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化した方が好ましい。電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害又は有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行うのが好ましい。ラジエーション硬化のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。   The photosensitive oligomer composition of the present invention may be subjected to radiation curing after natural or forced drying after coating on a substrate, or may be naturally or forcedly dried after radiation curing subsequent to coating. However, it is preferable that the radiation curing is performed after natural or forced drying. In the case of curing with an electron beam, it is preferable to perform radiation curing after natural or forced drying in order to prevent curing inhibition due to water or reduction in strength of the coating film due to residual organic solvent. The timing of radiation curing may be simultaneous with coating or after coating.

以下に製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、重量平均分子量はGPCにより測定された標準ポリスチレン換算分子量を示す。
また、特に断らない限り、数字は重量基準で記載した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to production examples and examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, a weight average molecular weight shows the standard polystyrene conversion molecular weight measured by GPC.
Unless otherwise specified, the numbers are based on weight.

合成例1
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン(北興化学工業株式会社製)30.0g、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)27.5g、ヒドロキノン0.03g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン38.3gを仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン(和光純薬株式会社製)0.46gを加え、90℃で10時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は褐色で固形分60%、数平均分子量MN260、重量平均分子量MW280であった。
Synthesis example 1
A 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 30.0 g of 2- (diphenylphosphinyl) hydroquinone (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.), glycidyl methacrylate (Dow Chemical Japan Co., Ltd.) 27.5 g (manufactured by company), 0.03 g hydroquinone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 38.3 g cyclohexanone were charged and heated to 85 ° C. Next, 0.46 g of dimethylbenzylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 10 hours, and cooled to room temperature to complete the reaction. This reaction solution was brown and had a solid content of 60%, a number average molecular weight MN260, and a weight average molecular weight MW280.

合成例2
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン(北興化学工業株式会社製)30.0g、カレンズMOI(昭和電工株式会社製)30.0g、ヒドロキノン0.03g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン40.0gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒としてジブチル錫ジラウレート0.30gを加え、90℃で10時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分60%、数平均分子量MN240、重量平均分子量MW260であった。
Synthesis example 2
A 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 30.0 g of 2- (diphenylphosphinyl) hydroquinone (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.), Karenz MOI (made by Showa Denko KK) ) 30.0 g, hydroquinone 0.03 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and cyclohexanone 40.0 g were charged and heated to 90 ° C. Next, 0.30 g of dibutyltin dilaurate was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 10 hours, and cooled to room temperature to complete the reaction. This reaction solution was light yellow and transparent and had a solid content of 60%, a number average molecular weight MN240, and a weight average molecular weight MW260.

合成例3
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン(北興化学工業株式会社製)30.0g、カレンズMOI(昭和電工株式会社製)15.0g、ヒドロキノン0.02g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン30.0gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒としてジブチル錫ジラウレート0.23gを加え、90℃で10時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分60%、数平均分子量MN200、重量平均分子量MW220であった。
Synthesis example 3
A 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 30.0 g of 2- (diphenylphosphinyl) hydroquinone (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.), Karenz MOI (made by Showa Denko KK) ) 15.0 g, hydroquinone 0.02 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and cyclohexanone 30.0 g were charged and heated to 90 ° C. Next, 0.23 g of dibutyltin dilaurate was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 10 hours, and cooled to room temperature to complete the reaction. This reaction solution was light yellow and transparent and had a solid content of 60%, a number average molecular weight MN200, and a weight average molecular weight MW220.

合成例4
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン(北興化学工業株式会社製)30.0g、トリエチルアミン21.5g、トルエン100gを加えた混合溶液に対して、氷水冷下(10℃)でメタクリル酸クロリド20.2gを滴下した。滴下終了後、90℃でさらに5時間攪拌して反応を行い、その後、副生したアミン塩酸塩を濾過して除いた。濾液のトルエン溶液をさらに希塩酸水100gで洗浄した後、排水層が中性になるまで水洗を行った上で、分液して、有機層を取り出した。トルエンを減圧下、60℃で留去して、淡黄色透明液体の粗生成物を得た。この生成物は固形分40%、数平均分子量MN180、重量平均分子量MW200であった。
Synthesis example 4
In a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, 30.0 g of 2- (diphenylphosphinyl) hydroquinone (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.), 21.5 g of triethylamine, and 100 g of toluene To the added mixed solution, 20.2 g of methacrylic acid chloride was added dropwise under ice water cooling (10 ° C.). After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out by further stirring for 5 hours at 90 ° C., and then the amine hydrochloride formed as a by-product was removed by filtration. The toluene solution of the filtrate was further washed with 100 g of dilute hydrochloric acid, and then washed with water until the drainage layer became neutral, followed by liquid separation to take out the organic layer. Toluene was distilled off at 60 ° C. under reduced pressure to obtain a pale yellow transparent liquid crude product. This product had a solid content of 40%, a number average molecular weight MN180, and a weight average molecular weight MW200.

合成例5
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン(北興化学工業株式会社製)30.0g、トリエチルアミン21.5g、トルエン100gを加えた混合溶液に対して、氷水冷下(10℃)でアクリル酸クロリド17.5gを滴下した。滴下終了後、90℃でさらに5時間攪拌して反応を行い、その後、副生したアミン塩酸塩を濾過して除いた。濾液のトルエン溶液をさらに希塩酸水100gで洗浄した後、排水層が中性になるまで水洗を行った上で、分液して、有機層を取り出した。トルエンを減圧下、60℃で留去して、淡黄色透明液体の粗生成物を得た。この生成物は固形分40%、数平均分子量MN180、重量平均分子量MW190であった。
Synthesis example 5
In a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, 30.0 g of 2- (diphenylphosphinyl) hydroquinone (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.), 21.5 g of triethylamine, and 100 g of toluene 17.5 g of acrylic acid chloride was added dropwise to the added mixed solution under ice water cooling (10 ° C.). After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out by further stirring for 5 hours at 90 ° C., and then the amine hydrochloride formed as a by-product was removed by filtration. The toluene solution of the filtrate was further washed with 100 g of dilute hydrochloric acid, and then washed with water until the drainage layer became neutral, followed by liquid separation to take out the organic layer. Toluene was distilled off at 60 ° C. under reduced pressure to obtain a pale yellow transparent liquid crude product. This product had a solid content of 40%, a number average molecular weight MN180, and a weight average molecular weight MW190.

合成例6
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにHCA-HQ(三光株式会社製)30.0g、カレンズMOI(昭和電工株式会社製)28.7g、ヒドロキノン0.03g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン39.1gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒としてジブチル錫ジラウレート0.29gを加え、90℃で10時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分60%、数平均分子量MN260、重量平均分子量MW280であった。
Synthesis Example 6
A four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, and thermometer, 30.0 g of HCA-HQ (manufactured by Sanko), 28.7 g of Karenz MOI (manufactured by Showa Denko), 03 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 39.1 g of cyclohexanone were charged and heated to 90 ° C. Next, 0.29 g of dibutyltin dilaurate was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 10 hours, and cooled to room temperature to complete the reaction. This reaction solution was light yellow and transparent and had a solid content of 60%, a number average molecular weight MN260, and a weight average molecular weight MW280.

比較合成例1
比較用の感光性材料としてp−スチリルジフェニルホスフィン(北興化学工業株式会社製)を使用した。

実施例1〜実施例6,比較例1
<高屈折率塗膜評価>
<塗工方法>
各合成例で得られた感光性材料溶液にメチルイソブチルケトンを加えて粘度が10〜100mPa・Sになるように調整した。この感光性材料溶液100重量部に対して光重合開始剤イルカギュア184を5重量部加え、PETフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が5μmになるように塗工し、100℃−2分乾燥し、メタルハライドランプで400mJの紫外線を照射し、塗工物を作製した。室温で1週間経過したものを以下の測定に用いた。
Comparative Synthesis Example 1
As a photosensitive material for comparison, p-styryl diphenylphosphine (manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) was used.

Examples 1 to 6, Comparative Example 1
<High refractive index coating evaluation>
<Coating method>
Methyl isobutyl ketone was added to the photosensitive material solution obtained in each synthesis example to adjust the viscosity to 10 to 100 mPa · S. 5 parts by weight of photopolymerization initiator Ircagua 184 is added to 100 parts by weight of this photosensitive material solution, and applied to a PET film with a bar coder so that the dry coating film becomes 5 μm, and dried at 100 ° C. for 2 minutes, A 400 mJ ultraviolet ray was irradiated with a metal halide lamp to prepare a coated product. What passed 1 week at room temperature was used for the following measurements.

<屈折率>
上記塗工物をアッベ屈折計(アタゴ株式会社)を用いて屈折率を測定した。屈折率は表1のようになった。
屈折率が
1.58以上のものを○
1.58未満のものを×
として評価した。
<Refractive index>
The refractive index of the coated product was measured using an Abbe refractometer (Atago Co., Ltd.). The refractive index was as shown in Table 1.
○ with a refractive index of 1.58 or more
X less than 1.58
As evaluated.

<無機物と混ぜての耐黄変性>
<塗工方法>
各合成例で得られた感光性材料溶液にメチルイソブチルケトンを加えて粘度が10〜100mPa・Sになるように調整した。この感光性材料溶液100重量部に対して光重合開始剤イルカギュア184を5重量部、MZ−505S(テイカ株式会社製)50gを加え、PETフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が5μmになるように塗工し、100℃−2分乾燥し、メタルハライドランプで500mJの紫外線を照射し、塗工物を作製した。室温で1週間経過したものを以下の測定に用いた。
上記塗工物をカーボンアークに30時間曝して、その前後で測色計を用い、b値の変化(Δb)を求め、黄変の程度を以下の基準に従って評価した。
Δbが4未満:○
Δbが4以上:×
<Anti-yellowing resistance by mixing with inorganic substances>
<Coating method>
Methyl isobutyl ketone was added to the photosensitive material solution obtained in each synthesis example to adjust the viscosity to 10 to 100 mPa · S. To 100 parts by weight of this photosensitive material solution, 5 parts by weight of photopolymerization initiator Irukagua 184 and 50 g of MZ-505S (manufactured by Teika Co., Ltd.) are added, and the dry coating film is 5 μm with a bar coder on PET film. It was coated, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and irradiated with 500 mJ ultraviolet rays with a metal halide lamp to prepare a coated product. What passed 1 week at room temperature was used for the following measurements.
The coated material was exposed to a carbon arc for 30 hours, and a change in b value (Δb) was obtained using a colorimeter before and after that, and the degree of yellowing was evaluated according to the following criteria.
Δb is less than 4:
Δb is 4 or more: ×

Figure 2006241241
Figure 2006241241

Claims (6)

フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)を含んでなる感光性材料。 A photosensitive material comprising a compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond. フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)、および
光重合開始剤(B)、
を含んでなる感光性材料。
A compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond, and a photopolymerization initiator (B),
A photosensitive material comprising:
フェニルホスホリル残基を有し、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物(A)が、下記一般式(1)である請求項1または2記載の感光性材料。
一般式(1)
Figure 2006241241
(式中のR1,R2,R3は、それぞれ独立に1価の有機残基を表すが、少なくとも一つは置換もしくは未置換のフェニル基を有し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む有機残基を表す。R1とR3,R2とR3は一体となって環を形成してもよい。)
The photosensitive material according to claim 1 or 2, wherein the compound (A) having a phenylphosphoryl residue and having a polymerizable unsaturated bond is represented by the following general formula (1).
General formula (1)
Figure 2006241241
(In the formula, R1, R2, and R3 each independently represent a monovalent organic residue, but at least one has a substituted or unsubstituted phenyl group, and at least one contains an unsaturated double bond. Represents an organic residue, R1 and R3, and R2 and R3 may form a ring together.)
感光後の屈折率が1.58以上である請求項1〜3いずれか記載の感光性材料。 The photosensitive material according to claim 1, wherein the refractive index after exposure is 1.58 or more. 基材上に、請求項1〜4いずれか記載の感光性材料を積層してなる積層体。 The laminated body formed by laminating | stacking the photosensitive material in any one of Claims 1-4 on a base material. 基材上に、請求項1〜4いずれか記載の感光性材料を積層する工程と、
前記感光性材料に光を照射する工程とを含む積層体の製造方法。
A step of laminating the photosensitive material according to any one of claims 1 to 4 on a substrate;
And a step of irradiating the photosensitive material with light.
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