JP2006237505A - Compound electromagnetic wave shield filter - Google Patents

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JP2006237505A JP2005053580A JP2005053580A JP2006237505A JP 2006237505 A JP2006237505 A JP 2006237505A JP 2005053580 A JP2005053580 A JP 2005053580A JP 2005053580 A JP2005053580 A JP 2005053580A JP 2006237505 A JP2006237505 A JP 2006237505A
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Kazuhito Fujii
井 和 仁 藤
Yuji Nakatsugawa
雄 二 中津川
Nobuo Naito
藤 暢 夫 内
Hironori Kamiyama
山 弘 徳 上
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound electromagnetic wave shield filter having highly durable pigement, absorbability for near-infrared in a wide wavelength range, as well as excellent in optical transparency in a visible light range. <P>SOLUTION: The compound electromagnetic wave shield filter 10 has a mesh layer 3 including a mesh conductive layer 2 formed on the transparent base material 1, and further has the near-infrared ray absorbing layer 4 formed on at least the surface including the opening part of the mesh layer on the surface side with the mesh layer 3 formed on the transparent base material 1. The layer 4 comprises an ionizing-radiation-hardening-type transparent resin including a phthalocyanine compound. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光透過性を有する電磁波シールドフィルタに関し、更に詳しくは光学フィルタ機能として近赤外線吸収性能も有し、特にPDP等のディスプレイ用に好適な電磁波シールドフィルタに関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding filter having optical transparency, and more particularly to an electromagnetic wave shielding filter having near infrared absorption performance as an optical filter function and particularly suitable for a display such as a PDP.

PDP(プラズマディスプレイパネル)、CRT(ブラウン管)ディスプレイ、等の各種ディスプレイから発生する電磁波をシールドする為に、ディスプレイ前面に配置する電磁波シールドフィルタが知られている。この様な用途に用いる電磁波シールドフィルタでは電磁波シールド性能と共に光透過性も要求される。しかし、透明基材の全面にITO(酸化スズインジウム)膜を設けたもの(特許文献1、特許文献2、等参照)では、十分な電磁波シールド性能と十分な透明性との両立が得られない。そこで、樹脂フィルムからなる透明基材に接着剤で貼り合わせた銅箔等の金属箔をエッチングでメッシュ化してメッシュ状導電体層としたもの等が知られている(特許文献3、等参照)。また、金属層等からなるメッシュ状導電体層のみのメッシュ層でも良いが、金属光沢や錆びが気になるので、通常は更にメッシュ状導電体層の表面に防錆層や黒化層等も設けた構成のメッシュ層することも知られている。   In order to shield electromagnetic waves generated from various displays such as a PDP (plasma display panel) and a CRT (CRT) display, an electromagnetic wave shielding filter disposed on the front surface of the display is known. The electromagnetic wave shielding filter used for such applications requires light transmittance as well as electromagnetic wave shielding performance. However, in a case where an ITO (indium tin oxide) film is provided on the entire surface of a transparent substrate (see Patent Document 1, Patent Document 2, etc.), it is not possible to achieve both sufficient electromagnetic shielding performance and sufficient transparency. . Therefore, a metal foil such as a copper foil bonded to a transparent substrate made of a resin film with an adhesive is formed into a mesh-like conductor layer by etching (see Patent Document 3, etc.). . In addition, a mesh layer consisting only of a mesh-like conductor layer made of a metal layer or the like may be used. However, since metallic luster and rust are worrisome, usually a rust prevention layer, a blackening layer, etc. are further provided on the surface of the mesh-like conductor layer. It is also known to provide a mesh layer with a provided configuration.

更に、ディスプレイの前面に配置する前面フィルタ等では、ディスプレイからの不要な近赤外線放射を抑え赤外線利用機器の誤動作を防ぐ近赤外線吸収性能が求められることがある。また、前面フィルタには軽量、薄さも要求される。この為、実際の前面フィルタに対して、電磁波シールドフィルタが電磁波シールド性能のみを有する場合には、この電磁波シールドフィルタに更に、樹脂フィルムベースの近赤外線吸収フィルタを粘着剤等で積層一体化して、電磁波シールド機能以外の機能を複合化させた、複合電磁波シールドフィルタとする等の工夫がなされている(特許文献3、等参照)。   Further, a front filter or the like disposed in front of the display may be required to have near-infrared absorption performance that suppresses unnecessary near-infrared radiation from the display and prevents malfunction of the infrared device. The front filter is also required to be lightweight and thin. For this reason, when the electromagnetic wave shielding filter has only electromagnetic wave shielding performance with respect to the actual front filter, the electromagnetic wave shielding filter is further laminated and integrated with a resin film-based near infrared absorption filter with an adhesive, A device such as a composite electromagnetic shielding filter in which functions other than the electromagnetic shielding function are combined has been devised (see Patent Document 3, etc.).

しかし、更なる、軽さ、薄さ、製造工程簡略化、構成層低減(低コスト化、低ヘイズ化、光透過性向上等につながる)等の点を考慮すると、上記の様な構成は、追加的な別部品として近赤外線吸収フィルタを積層したものは、まだ改善の余地があった。   However, in consideration of further lightness, thinness, simplification of the manufacturing process, reduction of the constituent layers (leading to cost reduction, low haze, light transmittance improvement, etc.), the above configuration is There was room for improvement in the case where the near infrared absorption filter was laminated as an additional separate part.

そこで、追加的な近赤外線吸収フィルタの積層を必要としない構成の、複合電磁波シールドフィルタも提案されている。例えば、反射防止フィルタや前面板等の被着体との積層用の接着剤中や、電磁波シールドフィルタを構成する樹脂層中に近赤外線吸収剤を含有させておくもの等であり、例えば、次の(1)〜(4)様なものが提案されている。   In view of this, a composite electromagnetic wave shielding filter having a configuration that does not require the lamination of an additional near-infrared absorption filter has also been proposed. For example, an adhesive for laminating with an adherend such as an antireflection filter or a front plate, or a resin layer constituting an electromagnetic wave shielding filter containing a near infrared absorber, for example, (1) to (4) have been proposed.

(1)エッチングでメッシュ状導電体層とする銅箔等を透明基材にラミネートし積層する為の接着剤層中、つまり透明基材とメッシュ層との間となる接着剤層に近赤外線吸収剤を含有させたもの(特許文献4)。 (1) Near-infrared absorption in an adhesive layer for laminating and laminating copper foil or the like to be a mesh-like conductor layer by etching on a transparent substrate, that is, an adhesive layer between the transparent substrate and the mesh layer Containing an agent (Patent Document 4).

(2)上記の様な銅箔ラミネート用の接着剤層がメッシュ開口部で露出した部分が表面粗面となり光透過性が低下するのを防止したり、電磁波シールドフィルタを被着体と接着させたりする等の為に、該開口部を埋める透明化樹脂層中に近赤外線吸収剤を含有させたもの(特許文献4、特許文献5)。 (2) The portion of the adhesive layer for copper foil laminating as described above exposed at the mesh opening is roughened to prevent the light transmittance from being lowered, or the electromagnetic wave shielding filter is adhered to the adherend. For example, a near-infrared absorber is contained in the transparent resin layer filling the opening (Patent Document 4, Patent Document 5).

(3)メッシュ層の開口部を埋めてメッシュ層による表面凹凸を平坦化する為の平坦化樹脂層中に近赤外線吸収剤を含有させたもの(特許文献4、特許文献5)。 (3) A near-infrared absorber is contained in a flattening resin layer for filling the openings of the mesh layer and flattening surface irregularities due to the mesh layer (Patent Documents 4 and 5).

(4)透明基材とメッシュ層との間の接着剤層に近赤外線吸収剤を含有させ、更にこの接着剤層の樹脂をプラスチック板等の他の被着体との接着にも利用する為に、被着体と重ねて加熱加圧することで前記接着剤層の樹脂を流動化させてメッシュから染み出させてメッシュの開口部を埋め尽くし被着体に接触させて接着したもの(特許文献6)。 (4) To include a near infrared absorber in the adhesive layer between the transparent substrate and the mesh layer, and further to use the resin of this adhesive layer for adhesion to other adherends such as plastic plates. In addition, the resin of the adhesive layer is fluidized by being heated and pressed over the adherend and oozed out of the mesh, filling the mesh opening and contacting the adherend (Patent Document) 6).

一方、複合電磁波シールドフィルタとして必要な近赤外線吸収機能を電磁波シールドに付与する際に適用可能な近赤外線吸収層としては、透明樹脂中に近赤外線吸収色素を配合したものが提案されている。この近赤外線吸収色素には広い近赤外線領域に吸収を持つとの理由からジインモニウム系やアミニウム系などのオニウム系色素を用いることが多い。しかし、オニウム系色素は反応基を持つ樹脂中では失活して変色するために広範囲な用途に適用することが困難であった(例えば、特許文献7:特開平10−180922号公報)。また、反応基を持つ樹脂中でも安定である近赤外線吸収色素にはフタロシアニン系色素およびジチオールなどの金属錯体系色素が知られている。   On the other hand, as a near-infrared absorbing layer applicable when imparting a near-infrared absorbing function necessary for a composite electromagnetic shielding filter to an electromagnetic shielding, a near-infrared absorbing dye blended in a transparent resin has been proposed. As this near-infrared absorbing dye, onium-based dyes such as diimmonium and aminium are often used because they have absorption in a wide near-infrared region. However, since onium dyes are deactivated and discolored in a resin having a reactive group, it has been difficult to apply them to a wide range of uses (for example, Patent Document 7: JP-A-10-180922). Further, metal complex dyes such as phthalocyanine dyes and dithiols are known as near infrared absorbing dyes that are stable among resins having reactive groups.

フタロシアニン系色素は反応基を持つ樹脂中でも安定であるものの、従来知られているものは700〜900nmに吸収があり、上記ジインモニウム系色素のような900nmより長波長域に吸収をもつ色素と組み合わせるものが殆どであった。また、従来のフタロシアニン系色素は、吸収波長域が必ずしも最適でないことに加えて、分子構造上、吸収域が狭いため複数種のフタロシアニン色素を用いなければ広い波長域で近赤外線吸収能を実現するができない。広い近赤外線域に適当な吸収を持たせようとすると、数種の色素を用いなければならず、可視光線透過率が低くなるという問題があった。   Although phthalocyanine dyes are stable among resins having a reactive group, conventionally known ones absorb at 700 to 900 nm, and are combined with dyes having absorption in a wavelength region longer than 900 nm, such as the above diimonium dyes. Was almost. In addition, the absorption wavelength range of conventional phthalocyanine dyes is not necessarily optimal, and the absorption range is narrow due to the molecular structure. Therefore, near infrared absorption ability is realized in a wide wavelength range if multiple types of phthalocyanine dyes are not used. I can't. In order to give appropriate absorption in a wide near-infrared region, several kinds of dyes must be used, and there is a problem that the visible light transmittance is lowered.

一方、ジチオールなどの金属錯体は反応基を持つ樹脂中でも安定であり、比較的広い近赤外線領域に吸収を持つものもあるが、溶解性が低く使用性に問題があった(例えば、特許文献8:特開2004−29436号公報)。
特開平1−278800号公報 特開平5−323101号公報 特開2001−210988号公報 特開2002−311843号公報(〔請求項1〕、〔請求項2〕、〔0030〕) 特許第3473110号公報(〔請求項1〕〜〔請求項3〕、〔0014〕) 特開平11−145677号公報(〔請求項6〕、〔0007〕、〔0020〕、〔0024〕) 特開平10−180922号公報 特開2004−29436号公報
On the other hand, metal complexes such as dithiol are stable among resins having reactive groups, and some have absorption in a relatively wide near-infrared region, but have poor solubility and usability problems (for example, Patent Document 8). : JP-A-2004-29436).
JP-A-1-278800 JP-A-5-323101 JP 2001-210988 A JP 2002-311843 A ([Claim 1], [Claim 2], [0030]) Japanese Patent No. 3473110 ([Claim 1] to [Claim 3], [0014]) JP-A-11-145679 ([Claim 6], [0007], [0020], [0024]) JP-A-10-180922 JP 2004-29436 A

ところで、近赤外線吸収剤を含有させる樹脂層が、透明基材とメッシュ層間の接着剤層の場合には、溶剤乾燥による体積収縮が気にならないので、ウレタン樹脂等の溶液型の熱硬化性樹脂を用いることができる。一方、該樹脂層が、メッシュ層の開口部を埋める場合の透明樹脂層の場合は、メッシュ層の厚みが厚い為に、平坦化目的等では前記接着剤層に比べて厚く設ける必要がある。その為、該透明樹脂層の樹脂には、無溶剤型での塗工等が可能な点で、紫外線硬化型の樹脂を採用するのが普通である(特許文献4、特許文献5、特許文献6)。   By the way, when the resin layer containing the near-infrared absorbing agent is an adhesive layer between the transparent base material and the mesh layer, volume shrinkage due to solvent drying is not an issue, so solution type thermosetting resin such as urethane resin Can be used. On the other hand, in the case where the resin layer is a transparent resin layer in which the opening of the mesh layer is filled, the mesh layer needs to be thicker than the adhesive layer for the purpose of planarization because the mesh layer is thick. Therefore, as the resin of the transparent resin layer, it is common to adopt an ultraviolet curable resin since it can be applied in a solvent-free type (Patent Document 4, Patent Document 5, Patent Document). 6).

また、透明基材とメッシュ層間の接着剤層に近赤外線吸収剤を含有させる場合、近赤外線吸収剤が有効に作用するのはメッシュ層開口部での露出部分のみであり、透明基材とメッシュ層間でこれらを接着している部分は、不透明であるメッシュ層の為に、有効に作用しない無駄な領域となる。したがって、その分、無駄な近赤外線吸収剤が使われ、材料費的にも不利である。また、同様に、電磁波シールドフィルタを他の被着体と接着積層させる方の接着剤層に、近赤外線吸収剤を含有させる場合も同じことが言える。そこで、近赤外線吸収剤を含有させる層は、含有させた近赤外線吸収剤が無駄なく使われる領域、つまり、メッシュ層の開口部に設ける透明樹脂層が好ましいことなる。   In addition, when a near-infrared absorber is contained in the adhesive layer between the transparent base material and the mesh layer, the near-infrared absorber effectively acts only on the exposed portion at the mesh layer opening, and the transparent base material and the mesh The portion where these layers are bonded to each other becomes a useless region that does not act effectively because of the opaque mesh layer. Therefore, a wasteful near-infrared absorber is used correspondingly, which is disadvantageous in terms of material cost. Similarly, the same can be said for the case where a near-infrared absorber is contained in the adhesive layer on which the electromagnetic wave shielding filter is adhered and laminated to another adherend. Therefore, the layer containing the near infrared absorber is preferably a transparent resin layer provided in an area where the contained near infrared absorber is used without waste, that is, in the opening of the mesh layer.

そこで、本発明者らは、開口部を埋める様に形成する透明樹脂層として、紫外線硬化型樹脂を用い、これに近赤外線吸収剤を含有させて、該赤外線吸収剤を含有させた透明樹脂の層を近赤外線吸収層とした複合電磁波シールドフィルタを作製した。しかし、驚くことに、樹脂層を紫外線で硬化させる前の近赤外線吸収性能は、さらに優れていることを発見した。つまり、樹脂層に含有させた近赤外線吸収剤本来の性能が、紫外線照射で樹脂を硬化させた後は、十分に発揮されていなかったのである。しかし、だからと言って、紫外線硬化が不要なウレタン樹脂等の溶剤乾燥型の樹脂で形成したのでは、メッシュ層の厚みを完全に埋め尽くし表面を平坦にできる様な厚みまでは形成できない。   Therefore, the present inventors used an ultraviolet curable resin as a transparent resin layer to be formed so as to fill the opening, and contained a near-infrared absorber in the transparent resin layer containing the infrared absorber. A composite electromagnetic wave shielding filter having a near-infrared absorbing layer as a layer was produced. Surprisingly, however, it has been found that the near-infrared absorption performance before curing the resin layer with ultraviolet light is even better. In other words, the original performance of the near-infrared absorber contained in the resin layer was not sufficiently exhibited after the resin was cured by ultraviolet irradiation. However, if it is made of a solvent-dried resin such as urethane resin that does not require UV curing, it cannot be formed to a thickness that can completely fill the mesh layer and flatten the surface.

以上の如く、本発明の課題は、少なくともメッシュ状導電体層からなるメッシュ層が、透明基材上に積層された電磁波シールドフィルタに対して、更に近赤外線吸収性能を付加する為に、少なくともメッシュ開口部に形成する透明樹脂層中に近赤外線吸収剤を含有させて複合電磁波シールドフィルタとした場合に、該近赤外線吸収剤を含有させた樹脂層の硬化時に起こる近赤外線吸収剤の性能低下を防ぐことである。   As described above, the problem of the present invention is that at least a mesh layer composed of a mesh-like conductor layer has at least a mesh in order to add near infrared absorption performance to an electromagnetic wave shield filter laminated on a transparent substrate. When a near-infrared absorber is contained in the transparent resin layer formed in the opening to form a composite electromagnetic wave shield filter, the performance of the near-infrared absorber that occurs when the resin layer containing the near-infrared absorber is cured is reduced. Is to prevent.

そして、本発明の更なる課題は、近赤外線吸収剤を含有させた樹脂層の硬化時および硬化後において、色素の耐久性が高く、かつ幅広い波長領域の近赤外線に対する吸収性を有しながら、可視光領域における優れた光透過性をも同時に具備した、複合電磁波シールドフィルタを提供することである。   And the further subject of the present invention is, during the curing and after curing of the resin layer containing the near-infrared absorber, while the durability of the pigment is high and has an absorption property for near-infrared rays in a wide wavelength range, It is an object of the present invention to provide a composite electromagnetic wave shielding filter that simultaneously has excellent light transmittance in the visible light region.

複合電磁波シールドフィルタでは、電磁波シールド機能を得るために金属メッシュが必須であり、この金属メッシュを接着ないし固定するために接着剤層が必要になる場合があるが、このような金属メッシュの金属や接着剤等の存在により、前記近赤外線吸収剤を含有する樹脂層の硬化時および硬化後の使用時において、近赤外線吸収色素の変色ないし退色や、樹脂層の変質等が生じる場合があって、良好な近赤外線吸収特性を長期にわたって維持することが難しいという問題があった。   In a composite electromagnetic shielding filter, a metal mesh is indispensable to obtain an electromagnetic shielding function, and an adhesive layer may be required to adhere or fix the metal mesh. Due to the presence of an adhesive or the like, when the resin layer containing the near-infrared absorber is cured and used after curing, discoloration or fading of the near-infrared absorbing dye, or alteration of the resin layer may occur. There was a problem that it was difficult to maintain good near-infrared absorption characteristics over a long period of time.

上記課題を解決すべく、本発明では、透明基材上に、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層が形成され、更に、前記透明基材にメッシュ層が形成された側の面の少なくともメッシュ層の開口部を含む面に近赤外線吸収層が形成された複合電磁波シールドフィルタであって、前記近赤外線吸収層が、下記の四種類のフタロシアニン化合物(A)〜(D)の内の少なくとも三種類を含んでなる電離放射線硬化型の透明樹脂からなるという構成を採用した。   In order to solve the above problems, in the present invention, a mesh layer including a mesh-like conductor layer is formed on a transparent substrate, and at least the mesh layer on the surface on which the mesh layer is formed on the transparent substrate. A composite electromagnetic wave shielding filter having a near infrared absorbing layer formed on a surface including the opening of the above, wherein the near infrared absorbing layer is at least three of the following four types of phthalocyanine compounds (A) to (D): The composition of an ionizing radiation curable transparent resin comprising

この様な構成とすることで、近赤外線吸収剤を含有する透明樹脂層は、その樹脂に電離放射線硬化性樹脂を採用してあるので厚く形成できる無溶剤塗工も可能である上、該樹脂の電離放射線照射による硬化前後で近赤外線吸収剤の近赤外線吸収性能の低下も起こさず、近赤外線吸収剤本来の性能が得られる。しかも、近赤外線吸収剤を含有させる層は、透明基材とメッシュ層との間に介在させこれらを接着積層させる透明接着剤層では無い為に、透明基材とメッシュ層との間でメッシュ層に隠れてその部分の近赤外線吸収剤を無駄することもない。また、近赤外線吸収剤を含有させる透明樹脂層の形成位置は、光透過性を実現するメッシュの開口部の部分のみでも良いので、必要最小限の無駄の無い近赤外線吸収剤の使用も可能である。   By adopting such a configuration, the transparent resin layer containing the near-infrared absorbing agent employs an ionizing radiation curable resin for the resin, so that a solventless coating that can be formed thick is also possible. The near-infrared absorbing performance of the near-infrared absorbing agent does not deteriorate before and after curing by irradiation with ionizing radiation, and the original performance of the near-infrared absorbing agent is obtained. Moreover, since the layer containing the near infrared absorber is not a transparent adhesive layer that is interposed between the transparent base material and the mesh layer and adhesively laminates them, the mesh layer is between the transparent base material and the mesh layer. There is no need to waste the near-infrared absorber in that area. In addition, since the transparent resin layer containing the near infrared absorber may be formed only at the opening portion of the mesh that realizes light transmittance, it is possible to use the necessary minimum near infrared absorber without waste. is there.

第1の発明は、電磁波シールド性能と近赤外線吸収性能を有する複合電磁波シールドフィルタであって、透明基材上に、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層が形成され、更に、前記透明基材にメッシュ層が形成された側の面の少なくともメッシュ層の開口部を含む面には近赤外線吸収層が形成された複合電磁波シールドフィルタであり、前記近赤外線吸収層が、下記の四種類のフタロシアニン化合物(A)〜(D)の内の少なくとも三種類を含んでなる電離放射線硬化型の透明樹脂からなることを特徴とする、複合電磁波シールドフィルタに関するものである。   1st invention is a composite electromagnetic wave shielding filter which has electromagnetic wave shielding performance and near-infrared absorption performance, Comprising: The mesh layer containing a mesh-like conductor layer is formed on a transparent base material, Furthermore, in the said transparent base material, It is a composite electromagnetic wave shielding filter in which a near-infrared absorbing layer is formed on at least the surface of the side on which the mesh layer is formed including the opening of the mesh layer, and the near-infrared absorbing layer comprises the following four types of phthalocyanine compounds: The present invention relates to a composite electromagnetic shielding filter comprising an ionizing radiation curable transparent resin comprising at least three of (A) to (D).

フタロシアニン化合物(A):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ、少なくとも3つは塩素原子を有する。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(B):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ、実質的に塩素原子を有さない。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(C):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ、硫黄原子を介する置換基を実質的に含まない。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(D):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ硫黄原子を介する置換基を実質的に含まない。Mは銅である。)

Figure 2006237505
(式〔I〕中、A〜A16は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ヒドロキシスルホニル基、アミノスルホニル基、あるいは窒素原子、硫黄原子、酸素原子またはハロゲン原子を含んでも良い炭素数1〜20の置換基を表し、かつ、隣り合う2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。Mは、酸化バナジウムまたは銅を表す。)
第2の発明は、第1または第2の発明において、複合電磁波シールドフィルタがディスプレイの観察側に配置されていることを特徴とする、プラズマディスプレイに関するものである。 Phthalocyanine compound (A):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are substituents via a sulfur atom, and at least three have a chlorine atom. M 1 is oxidized) Vanadium.)
Phthalocyanine compound (B):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are substituents via a sulfur atom and substantially have no chlorine atom. M 1 is Vanadium oxide.)
Phthalocyanine compound (C):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are a substituent via a nitrogen atom and substantially free of a substituent via a sulfur atom). M 1 is vanadium oxide.)
Phthalocyanine compound (D):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are a substituent via a nitrogen atom and are substantially free of a substituent via a sulfur atom. 1 is copper.)
Figure 2006237505
(In the formula [I], A 1 to A 16 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a hydroxysulfonyl group, an aminosulfonyl group, a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, or a halogen atom. It represents a substituent having 1 to 20 carbon atoms which may be contained, and two adjacent substituents may be connected via a linking group, and M 1 represents vanadium oxide or copper.
A second invention relates to a plasma display according to the first or second invention, wherein the composite electromagnetic wave shielding filter is disposed on the viewing side of the display.

本発明の複合電磁波シールドフィルタによれば、近赤外線吸収性能を付与する為に近赤外線吸収剤を含有する透明樹脂層を、メッシュ層による表面凹凸を平坦化できる様な厚い厚みに容易にできる電離放射線硬化性樹脂を採用して形成しても、該透明樹脂層形成時に近赤外線吸収性能の低下が起きず、近赤外線吸収剤本来の性能が得られる。しかも、透明樹脂層はメッシュ開口部のみの形成でも良いので、必要最小限の無駄の無い近赤外線吸収剤の使用も可能となる。特に、本発明では、電離放射線として電子線のみなならず紫外線をも利用できることから、安価かつ簡便な紫外線照射装置によって樹脂の硬化を行うことができる。   According to the composite electromagnetic wave shielding filter of the present invention, a transparent resin layer containing a near-infrared absorber for imparting near-infrared absorbing performance can be easily ionized to a thickness that can flatten surface irregularities due to the mesh layer. Even if a radiation curable resin is used, the near infrared absorption performance is not lowered when the transparent resin layer is formed, and the original performance of the near infrared absorber can be obtained. In addition, since the transparent resin layer may be formed only with the mesh openings, it is possible to use a necessary near-infrared absorber without waste. In particular, in the present invention, since not only an electron beam but also ultraviolet rays can be used as ionizing radiation, the resin can be cured by an inexpensive and simple ultraviolet irradiation device.

そして、本発明では、四種類のフタロシアニン化合物の内の少なくとも三種類を近赤外線吸収色素として含むものであることから、色素の耐久性が高く、かつ幅広い波長領域の近赤外線に対する吸収性を有しながら、可視光領域における優れた光透過性をも同時に具備した、複合電磁波シールドフィルタが提供される。   And in the present invention, since it contains at least three of the four types of phthalocyanine compounds as a near-infrared absorbing dye, the durability of the dye is high, while having an absorption property for near-infrared rays in a wide wavelength range, Provided is a composite electromagnetic wave shielding filter that also has excellent light transmittance in the visible light region.

以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態を説明する。
先ず、図1は、本発明による複合電磁波シールドフィルタについて、基本的な形態例として2例を示す断面図である。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
First, FIG. 1 is sectional drawing which shows two examples as a basic form example about the composite electromagnetic wave shield filter by this invention.

図1(A)の複合電磁波シールドフィルタ10は、最も基本的な形態であり、透明基材1上に少なくともメッシュ状導電体層2を含むメッシュ層3が積層され、更に、該メッシュ層3の直上及びその開口部を含めた全面に、電離放射線で硬化させた可視光線に対して透明な電離放射線硬化型樹脂からなり近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収層4が積層された、構成である。 図1(B)の複合電磁波シールドフィルタ10は、図1(A)の構成に対して更に、透明基材1とメッシュ層3間に、該メッシュ層3の開口部の領域も含めて透明基材1上の全面に透明接着剤層5を有する構成である。   The composite electromagnetic wave shielding filter 10 of FIG. 1 (A) is the most basic form, and a mesh layer 3 including at least a mesh-like conductor layer 2 is laminated on a transparent substrate 1. With a configuration in which a near-infrared absorbing layer 4 made of an ionizing radiation-curable resin transparent to visible light cured with ionizing radiation and containing a near-infrared absorbing agent is laminated on the entire surface including the opening and its opening. is there. The composite electromagnetic wave shielding filter 10 in FIG. 1B further includes a transparent substrate including the region of the opening of the mesh layer 3 between the transparent base material 1 and the mesh layer 3 in addition to the configuration in FIG. The transparent adhesive layer 5 is provided on the entire surface of the material 1.

〔概 要〕
本発明の複合電磁波シールドフィルタは、少なくともメッシュ状導電体層からなるメッシュ層が透明基材に積層され、且つ該メッシュ層の開口部に透明樹脂層が充填されている従来の電磁波シールドフィルタに対して、その透明樹脂層を電離放射線で硬化させた電離放射線硬化型樹脂の樹脂層とした上で特定の三種類以上の近赤外線吸収剤を含有させることで、電磁波シールド性能と共に、近赤外線吸収性能も付与して、機能の複合化を図った点に特徴を有する複合電磁波シールドフィルタである。なお、本発明における「電離放射線」には、紫外線および電子線の両者が包含される。
〔Overview〕
The composite electromagnetic wave shielding filter of the present invention is compared with a conventional electromagnetic wave shielding filter in which a mesh layer composed of at least a mesh-like conductor layer is laminated on a transparent substrate, and an opening of the mesh layer is filled with a transparent resin layer. In addition to making the transparent resin layer a resin layer of ionizing radiation curable resin cured with ionizing radiation, by containing three or more specific near infrared absorbers, near infrared absorbing performance as well as electromagnetic shielding performance This is a composite electromagnetic wave shielding filter characterized in that the functions are combined to provide a function. The “ionizing radiation” in the present invention includes both ultraviolet rays and electron beams.

透明基材上のメッシュ状導電体層等からなるメッシュ層の形成法は限定されるものではなく、従来公知の各種方法を適宜採用すれば良い。例えば、そのメッシュ状導電体層の形成法について述べれば、透明基材に透明接着剤層を介して金属箔を貼合せた後、エッチングでメッシュ状に開口部を形成する方法等は代表的である。また、上記の近赤外線吸収色素を含有した透明樹脂からなる近赤外線吸収層は、それを接着層と兼用させて、近赤外線吸収フィルタ以外のその他の光学フィルタ、例えば、反射防止フィルタ、防眩フィルタ、色調整フィルタ等、或いは、保護フィルム、ディスプレイ自体の構成部品である前面基板等の光学物品等の、用途に応じた機能を付与する為の機能層を被着体として、該被着体と接着積層させる為の層として機能させても良い。なお、これら機能層は、近赤外線吸収層上に別の接着剤層を介して積層しても良い。該接着剤層は従来公知の接着剤を適宜採用すれば良い。
以下、本発明の複合電磁波シールドフィルタについて、透明基材1から、各層毎に順に説明する。
The formation method of the mesh layer which consists of a mesh-like conductor layer etc. on a transparent base material is not limited, What is necessary is just to employ | adopt conventionally well-known various methods suitably. For example, a method for forming the mesh-like conductor layer is typically described as a method of forming an opening in a mesh shape by etching after bonding a metal foil to a transparent substrate via a transparent adhesive layer. is there. In addition, the near-infrared absorbing layer made of a transparent resin containing the above-mentioned near-infrared absorbing dye is used as an adhesive layer, and other optical filters other than the near-infrared absorbing filter, such as an antireflection filter and an antiglare filter. A functional layer for imparting a function according to the application, such as a color adjustment filter, or a protective film, an optical article such as a front substrate that is a component of the display itself, and the adherend. You may make it function as a layer for carrying out adhesion lamination. In addition, you may laminate | stack these functional layers through another adhesive bond layer on a near-infrared absorption layer. A conventionally known adhesive may be appropriately employed for the adhesive layer.
Hereinafter, the composite electromagnetic wave shielding filter of the present invention will be described in order from the transparent substrate 1 for each layer.

〔透明基材〕
透明基材1は、一般的に機械的強度が弱いメッシュ層を補強する為の層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明基材の具体例としては、例えば、樹脂板、樹脂シート(乃至はフィルム、以下同様)、ガラス板等である。
(Transparent substrate)
The transparent substrate 1 is a layer for reinforcing a mesh layer generally having a low mechanical strength. Therefore, as long as it has light transmittance as well as mechanical strength, it may be selected and used depending on the application, taking into account heat resistance, insulation, etc. as appropriate. Specific examples of the transparent substrate include a resin plate, a resin sheet (or a film, the same applies hereinafter), a glass plate, and the like.

樹脂板、樹脂シート等として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   Examples of transparent resins used as resin plates and resin sheets include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, and terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer. Polyester resins such as nylon 6, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene and polymethylpentene, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene resins such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymer, triacetyl Examples thereof include cellulose resins such as cellulose, imide resins, and polycarbonate resins.

なお、これら樹脂は、樹脂材料的には、単独、又は複数種類の混合樹脂(ポリマーアロイを含む)として用いられ、また層的には、単層、又は2層以上の積層体として用いられる。また、樹脂シートの場合、1軸延伸や2軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。   In addition, these resins are used as a single or a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys) as a resin material, and as a layer, they are used as a single layer or a laminate of two or more layers. In the case of a resin sheet, a uniaxially stretched or biaxially stretched sheet is more preferable in terms of mechanical strength.

また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。   Moreover, you may add additives, such as a ultraviolet absorber, a filler, a plasticizer, an antistatic agent, in these resins suitably as needed.

また、ガラス板のガラスとしては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラスなどがあり、より好ましくは熱膨脹率が小さく寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラス等が挙げられ、ディスプレイの前面基板等とする電極基板と兼用することもできる。   Further, as glass of the glass plate, there are quartz glass, borosilicate glass, soda lime glass, etc. More preferably, the thermal expansion coefficient is small, the dimensional stability and the workability in high-temperature heat treatment are excellent, and the alkali component in the glass Non-alkali glass that does not contain any of them can be used, and it can also be used as an electrode substrate as a front substrate of a display.

なお、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無く、透明樹脂から成る場合は、通常12〜1000μm程度であるが、好ましくは50〜700μm、より好ましくは100〜500μmが望ましい。一方、透明基材がガラス板である場合には、通常1〜5mm程度が好適である。いずれの材料に於いても、上記未満の厚さとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を超える厚さとなると過剰性能でコスト高となる上、薄型化が難しくなる。   The thickness of the transparent substrate is not particularly limited as long as it depends on the application. When the transparent substrate is made of a transparent resin, it is usually about 12 to 1000 μm, preferably 50 to 700 μm, more preferably 100. ˜500 μm is desirable. On the other hand, when a transparent base material is a glass plate, about 1-5 mm is usually suitable. In any material, if the thickness is less than the above, the mechanical strength is insufficient, causing warping, sagging, breakage, etc. If the thickness exceeds the above, it becomes excessive performance and high cost, and thinning is difficult. .

なお、透明基材としては、これらの無機材料、有機材料等からなる、シート(乃至はフィルム)、板などが適用でき、また、透明基材は、前面基板及び背面基板等からなるディスプレイ本体の一構成要素である前面基板と兼用しても良いが、前面基板の前に配置する前面フィルタとして複合電磁波シールドフィルタを用いる形態では、薄さ、軽さの点で、板よりもシートの方が優れており、また割れない等の点でも、ガラス板よりも樹脂シートが優れていることは言うまでもない。   In addition, as the transparent substrate, a sheet (or film), a plate, or the like made of these inorganic materials, organic materials, or the like can be applied. It may be combined with the front substrate which is one component, but in the form using the composite electromagnetic wave shielding filter as the front filter disposed in front of the front substrate, the sheet is more preferable than the plate in terms of thinness and lightness. Needless to say, the resin sheet is superior to the glass plate in that it is excellent and does not break.

また、複合電磁波シールドフィルタを連続的に製造し生産性を向上できる点では、透明基材は、メッシュ状導電体層形成等の少なくとも製造初期の段階に於いては、連続帯状のシートの形態で取り扱うのが好ましい。   In addition, the transparent base material is in the form of a continuous belt-like sheet at least in the initial stage of production, such as formation of a mesh-like conductor layer, in that the composite electromagnetic wave shielding filter can be continuously produced to improve productivity. It is preferable to handle.

この様な点で、透明基材としては樹脂シートが好ましい材料であるが、樹脂シートのなかでも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂シート、セルロース系樹脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくはポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で80%以上となる光透過性が良い。   In this respect, a resin sheet is a preferable material for the transparent substrate, but among the resin sheets, in particular, polyester resin sheets such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and cellulose resin sheets are transparent, In view of heat resistance, cost, etc., a polyethylene terephthalate sheet is more preferable. In addition, although the transparency of a transparent base material is so good that it is high, Preferably the light transmittance which becomes 80% or more by visible light transmittance | permeability is good.

なお、樹脂シート等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。   In addition, a transparent substrate such as a resin sheet is appropriately coated on the surface thereof with known easy processes such as corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, and alkali treatment. An adhesion treatment may be performed.

〔メッシュ層:メッシュ状導電体層〕
メッシュ状導電体層2は、電磁波シールド機能を担う層であり、またそれ自体は不透明性であっても、メッシュ状の形状で開口部が存在することにより、電磁波シールド性能と光透過性を両立させており、メッシュ状の形状をしているメッシュ層3の必須の層である。なお、メッシュ層3には、メッシュ状導電体層2以外にも、メッシュ層の形状的特徴の元となるメッシュ状導電体層が有するメッシュ状の形状が維持される点で、後述する防錆層6や黒化層7等も、メッシュ層の構成層として捉える。従って、図1の断面図では、メッシュ層3としては必須のメッシュ状導電体層2のみ符号的に明示した例であるが、必要に応じ設ける防錆層や黒化層を有する場合のメッシュ層も含めた概念的な図面である。
[Mesh layer: Mesh-like conductor layer]
The mesh-like conductor layer 2 is a layer responsible for the electromagnetic wave shielding function, and even if it is opaque itself, the mesh-like shape has an opening so that both electromagnetic wave shielding performance and light transmittance are achieved. This is an essential layer of the mesh layer 3 having a mesh shape. In addition to the mesh-like conductor layer 2, the mesh layer 3 retains the mesh-like shape of the mesh-like conductor layer that is the origin of the shape characteristics of the mesh layer, so that the rust prevention described later The layer 6 and the blackened layer 7 are also regarded as constituent layers of the mesh layer. Accordingly, in the cross-sectional view of FIG. 1, only the essential mesh-like conductor layer 2 is explicitly indicated as the mesh layer 3, but the mesh layer in the case of having a rust prevention layer or a blackening layer provided as necessary. It is a conceptual drawing including.

メッシュ状導電体層2のメッシュ状としての形状は、任意で特に限定されないが、そのメッシュの開口部の形状として、正方形が代表的である。開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などである。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及び開口部間は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は50μm以下、好ましくは20μm以下が良い。また、開口部サイズは〔ライン間隔或いはラインピッチ〕−〔ライン幅〕であるが、この〔ライン間隔或いはラインピッチ〕で言うと150μm以上、好ましくは200μm以上とするのが、光透過性の点で好ましい。   The shape of the mesh-like conductor layer 2 as a mesh shape is not particularly limited, but a square shape is typical as the shape of the mesh opening. The shape of the opening is, for example, a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, or a trapezoid, a polygon such as a hexagon, or a circle or an ellipse. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are usually line-like line portions having a uniform width, and the openings and the openings are generally the same shape and the same size on the entire surface. To illustrate the specific size, the width of the line portion between the openings is 50 μm or less, preferably 20 μm or less in terms of the aperture ratio and the invisibility of the mesh. The size of the opening is [line interval or line pitch]-[line width]. In terms of [line interval or line pitch], it is 150 μm or more, preferably 200 μm or more. Is preferable.

なお、バイアス角度(メッシュのライン部と複合電磁波シールドフィルタの外周辺との成す角度)は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。   The bias angle (the angle formed between the mesh line portion and the outer periphery of the composite electromagnetic wave shield filter) may be appropriately set to an angle at which moiré is not likely to occur in consideration of the pixel pitch of the display and the light emission characteristics.

また、複数の開口部を有する領域(メッシュ部3A)は、少なくとも光透過性が必要な領域であれば良く、従って全面でなくても良い。その一例として、図2の平面図で例示する如く、四角形の複合電磁波シールドフィルタ10の4辺周囲の画像表示に影響しない部分を額縁状に、開口部無しのままにした額縁部3Bとして、その内側のみに複数の開口部を有するメッシュ部3Aとする形態が挙げられる。額縁部はアースを取るのに利用できる。なお、額縁部3Bは全周囲でなくても、一辺のみ等でも良い。また、額縁部の一部領域或いは全領域はアースが取り易い様に露出させるのが好ましく、この為には、近赤外線吸収層等のメッシュ層上に設ける層は、額縁部では露出された部分が残る様にメッシュ部3A、乃至はメッシュ部3Aから一部額縁部3Bにかかる様に設けると良い。   Moreover, the area | region (mesh part 3A) which has a some opening part should just be an area | region which needs a light transmittance at least, Therefore, it does not need to be the whole surface. As an example, as illustrated in the plan view of FIG. 2, a portion that does not affect the image display around the four sides of the square composite electromagnetic wave shield filter 10 is formed into a frame shape, and the frame portion 3B is left without an opening. The form made into the mesh part 3A which has several opening part only inside is mentioned. The frame can be used for grounding. Note that the frame portion 3B may not be the entire periphery but only one side or the like. In addition, it is preferable to expose part or all of the frame part so that the grounding can be easily taken. For this purpose, the layer provided on the mesh layer such as the near-infrared absorbing layer is the part exposed at the frame part. It is preferable to provide the mesh portion 3A or the mesh portion 3A so as to partially cover the frame portion 3B.

メッシュ状導電体層2は、一般的には金属箔のエッチングで形成した物が代表的であるが、これ以外のものでも、電磁波シールド性能に於いては意義を有する。従って、本発明では、メッシュ状導電体層の材料及び形成方法は特に限定されるものでは無く、従来公知の光透過性の電磁波シールドフィルタに於ける各種メッシュ状導電体層を適宜採用できるものである。例えば、印刷法やめっき法等を利用して透明基材上に最初からメッシュ状の形状でメッシュ状導電体層を形成したもの、或いは、最初は透明基材上に全面に、めっき法で導電体層を形成後、エッチング等でメッシュ状の形状にしてメッシュ状導電体層としたもの等でも構わない。   The mesh-shaped conductor layer 2 is typically formed by etching a metal foil, but other mesh layers are also significant in electromagnetic shielding performance. Therefore, in the present invention, the material and forming method of the mesh-like conductor layer are not particularly limited, and various mesh-like conductor layers in a conventionally known light-transmitting electromagnetic wave shielding filter can be appropriately employed. is there. For example, a mesh-like conductor layer is formed from the beginning on a transparent substrate using a printing method, a plating method, or the like, or initially, the entire surface is formed on a transparent substrate by a plating method. After forming the body layer, it may be a mesh-like conductor layer formed into a mesh shape by etching or the like.

例えば、メッシュ状導電体層のメッシュ形状をエッチングで形成する場合は、透明基材に積層した金属層をエッチングでパターンニングして開口部を空けてメッシュ状にすることで形成できる。透明基材に金属層を積層するには、金属箔として用意した金属層を接着剤で透明基材にラミネートしたり、或いはラミネート用接着剤は用いずに、金属層を蒸着、スパッタ、めっき等の1或いは2以上の物理的或いは化学的形成手法を用いて透明基材上に積層したりすることもできる。なお、エッチングによるメッシュ状導電体層は、透明基材に積層前の金属箔単体をエッチングでパターンニングしてメッシュ状のメッシュ状導電体層とすることも可能である。この層単体のメッシュ状導電体層は、接着剤等で透明基材に積層する。これらのなかでも、機械的強度が弱いメッシュ状導電体層の取扱が容易で且つ生産性にも優れる等の点で、金属箔を接着剤で透明基材に積層した後、エッチングでメッシュ状に加工して、透明基材上に接着剤を介して積層された形態となる、メッシュ状導電体層が望ましい。   For example, when the mesh shape of the mesh-like conductor layer is formed by etching, it can be formed by patterning the metal layer laminated on the transparent base material by etching and opening the openings to form a mesh. To laminate a metal layer on a transparent substrate, the metal layer prepared as a metal foil is laminated to the transparent substrate with an adhesive, or the metal layer is deposited, sputtered, plated, etc. without using a laminating adhesive It can also be laminated on a transparent substrate using one or two or more physical or chemical forming methods. In addition, the mesh-like conductor layer by etching can also be formed into a mesh-like mesh-like conductor layer by patterning a single metal foil before lamination on a transparent substrate by etching. This single-layer mesh conductor layer is laminated on a transparent substrate with an adhesive or the like. Among these, a metal foil is laminated on a transparent substrate with an adhesive, and then meshed by etching after being easy to handle a mesh-like conductor layer with low mechanical strength and excellent in productivity. A mesh-like conductor layer that is processed and laminated on the transparent substrate via an adhesive is desirable.

メッシュ状導電体層は、電磁波シールド性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無いが、通常は、導電性が良い点で金属層が好ましく、金属層は上記の如く、蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層乃至は金属箔の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム等が挙げられる。また金属層の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。例えば、鉄の場合には、低炭素リムド鋼や低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、Ni−Fe合金、インバー合金、等が好ましい。一方、金属が銅の場合は、銅や銅合金となるが、銅箔としては圧延銅箔や電解銅箔があるが、薄さ及びその均一性、黒化層との密着性等の点からは、電解銅箔が好ましい。   The mesh-like conductor layer is not particularly limited as long as it is a substance having sufficient conductivity to exhibit electromagnetic wave shielding performance, but usually a metal layer is preferable in terms of good conductivity, and the metal layer is as described above. It can be formed by vapor deposition, plating, metal foil lamination or the like. Examples of the metal material of the metal layer or the metal foil include gold, silver, copper, iron, nickel, and chromium. The metal of the metal layer may be an alloy, and the metal layer may be a single layer or multiple layers. For example, in the case of iron, low carbon steel such as low carbon rimmed steel and low carbon aluminum killed steel, Ni-Fe alloy, Invar alloy, and the like are preferable. On the other hand, when the metal is copper, it becomes copper or copper alloy, but as copper foil there are rolled copper foil and electrolytic copper foil, but from the point of thinness and its uniformity, adhesion with blackened layer, etc. Is preferably an electrolytic copper foil.

なお、金属層による導電体層の厚さは、1〜100μm程度、好ましくは5〜20μmである。厚さがこれより薄くなり過ぎると電気抵抗上昇により十分な電磁波シールド性能を得難くなり、厚さがこれより厚くなり過ぎると高精細なメッシュ形状が得難くなり、開口率低下により光透過性や、メッシュ側面が邪魔してディスプレイの視野角が低下する。   In addition, the thickness of the conductor layer by a metal layer is about 1-100 micrometers, Preferably it is 5-20 micrometers. If the thickness is too thin, it will be difficult to obtain sufficient electromagnetic shielding performance due to an increase in electrical resistance, and if the thickness is too thick, it will be difficult to obtain a high-definition mesh shape. The side of the mesh disturbs the display angle of the display.

また、メッシュ状導電体層となる金属層の表面は、透明接着剤層等の隣接層との密着性向上の為に粗面である事が好ましい。例えば、銅箔の場合、黒化処理による黒化層の形成と同時にその表面(黒化層の表面)に粗面が得られる。なお、その粗面の程度は、10点平均粗さRz〔JIS−B0601準拠(1994年版)〕で、0.1〜10μm程度が良く、より好ましくは1.5μm以下、さらに好ましくは0.5〜1.5μmである。粗さがこれ未満では、粗面化の効果が十分に得られず、またこれより大きくなると、接着剤やレジスト等の塗布時に気泡を抱き込んだりし易くなる。   Moreover, it is preferable that the surface of the metal layer used as a mesh-like conductor layer is a rough surface in order to improve the adhesiveness with adjacent layers, such as a transparent adhesive layer. For example, in the case of copper foil, a rough surface is obtained on the surface (the surface of the blackened layer) simultaneously with the formation of the blackened layer by the blackening treatment. The degree of the rough surface is 10-point average roughness Rz [JIS-B0601 compliant (1994 version)], preferably about 0.1 to 10 μm, more preferably 1.5 μm or less, still more preferably 0.5. ˜1.5 μm. If the roughness is less than this, the effect of roughening cannot be sufficiently obtained, and if the roughness is larger than this, bubbles tend to be embraced during application of an adhesive, a resist or the like.

〔メッシュ層:防錆層〕
メッシュ層3はメッシュ状導電体層2だけでも良いが、金属層からなるメッシュ状導電体層は製造時、取扱時等に錆びて変質し電磁波シールド性能の低下を来すことがあるので、錆びを防ぐ必要がある場合には、防錆層6でメッシュ状導電体層の表面を被覆すると良い。また、後述する黒化層が錆び易い場合には、黒化層も含めて被覆するのが好ましい。防錆層の被覆は、メッシュ状導電体層の表面、裏面、側面の各面のうち必要な1以上の面の中から製造コスト等を勘案して選んだ面について行えば良い。従って、防錆層の被覆は、表面だけ、裏面だけ、表裏両面〔例えば図3(A)参照〕、側面(両側或いは片側)だけ、表面と両側面、裏面と両側面、表裏両面と両側面等である。
[Mesh layer: Antirust layer]
The mesh layer 3 may be only the mesh-like conductor layer 2, but the mesh-like conductor layer made of a metal layer rusts and deteriorates during manufacturing, handling, etc., and may deteriorate the electromagnetic shielding performance. When it is necessary to prevent this, it is preferable to cover the surface of the mesh-like conductor layer with the antirust layer 6. Moreover, when the blackening layer mentioned later tends to rust, it is preferable to coat | cover including a blackening layer. The coating of the antirust layer may be performed on a surface selected in consideration of the manufacturing cost from one or more necessary surfaces among the front surface, the back surface, and the side surface of the mesh-like conductor layer. Therefore, the coating of the anticorrosive layer is only the front surface, only the back surface, both front and back surfaces (see, for example, FIG. 3A), only the side surface (both sides or one side), the front surface and both side surfaces, the back surface and both side surfaces, the front and back both surfaces and both side surfaces. Etc.

なお、本明細書にて、「表面」とは、注目層(ここではメッシュ状導電体層、近赤外線吸収層等も同様)の透明基材から遠い方の面(図面上方の面、透明基材ではその図面上方の面)、「裏面」とは該注目層の透明基材に近い方の面(図面下方の面、透明基材ではその図面下方の面)、「側面」とは表面と裏面とを連結する面(図面左右方向に向いた面)を言うことにする。また、ディスプレイ用途等に適用した場合に於いて、観察者側の面が常に本発明で定義する表面では無く裏面の場合もあり得る。   In this specification, “surface” means a surface (surface above the drawing, transparent substrate) far from the transparent substrate of the target layer (here, the mesh-like conductor layer, the near-infrared absorbing layer, etc.). In the material, the upper surface of the drawing), the “back surface” is the surface of the layer of interest closer to the transparent substrate (the lower surface of the drawing, the lower surface of the transparent substrate is the lower surface of the drawing), and the “side surface” is the surface The surface connecting the back surface (surface facing the left-right direction of the drawing) will be referred to. In addition, when applied to a display application or the like, the viewer side surface may always be the back surface instead of the front surface defined in the present invention.

防錆層は、それで被覆するメッシュ状導電体層よりも錆び難いものであれば、金属等の無機材料、樹脂等の有機材料、或いはこれらの組合せ等、特に限定されるものではない。また場合によっては、黒化層をも防錆層で被覆することで、黒化層の粒子の脱落や変形を防止し、黒化層の黒さを高めることもできる。この点では、メッシュ状導電体層を金属箔で形成する場合、透明基材上の金属箔に黒化処理で黒化層を設けておく場合には、該黒化層の脱落や変質防止の意味で、透明基材と金属箔との積層前に設けておくのが好ましい。   The rust preventive layer is not particularly limited as long as it does not rust more easily than the mesh-like conductor layer coated with the rust preventive layer, such as an inorganic material such as metal, an organic material such as resin, or a combination thereof. In some cases, the blackened layer is also covered with a rust-preventing layer, so that the particles of the blackened layer can be prevented from falling off and deformed, and the blackness of the blackened layer can be increased. In this respect, when the mesh-like conductor layer is formed of a metal foil, when the blackened layer is provided on the metal foil on the transparent substrate by the blackening treatment, the blackened layer is prevented from falling off or being altered. In terms of meaning, it is preferably provided before lamination of the transparent substrate and the metal foil.

防錆層6は、従来公知のものを適宜採用すれば良く、例えば、クロム、亜鉛、ニッケル、スズ、銅等の金属乃至これら金属を含む合金、或いはこれら金属を含む金属酸化物等の金属化合物の層等である。これらは、公知のめっき法等で形成できる。ここで、防錆効果及び密着性等の点で好ましい防錆層の一例を示せば、亜鉛めっきした後、クロメート処理して得られるクロム化合物層が、挙げられる。また、このクロム化合物層による防錆層は、後述する銅−コバルト合金粒子層からなる黒化層、及び透明接着剤層5(特に2液硬化型ウレタン樹脂系の接着剤)との密着性にも優れる。   The rust preventive layer 6 may be appropriately selected from conventionally known ones. For example, a metal compound such as a metal such as chromium, zinc, nickel, tin, copper or an alloy containing these metals, or a metal oxide containing these metals. Layer. These can be formed by a known plating method or the like. Here, if it shows an example of a rust prevention layer preferable at points, such as a rust prevention effect and adhesiveness, the chromium compound layer obtained by carrying out a chromate process after galvanization will be mentioned. In addition, the rust preventive layer made of this chromium compound layer has adhesion to a blackening layer made of a copper-cobalt alloy particle layer, which will be described later, and a transparent adhesive layer 5 (particularly a two-component curable urethane resin-based adhesive). Also excellent.

なお、クロムの場合はクロメート(クロム酸塩)処理等でもよい。なお、クロメート処理は、処理面にクロメート処理液を接触させて行うが、該接触は、ロールコート、カーテンコート、スクイズコート、かけ流し法(以上片面接触)等の塗布法の他、静電霧化法、浸漬法等によれば両面接触も可能である。また、接触後は水洗せずに乾燥すればよい。なお、クロメート処理液にはクロム酸を含む水溶液を通常使用し、具体的には、「アルサーフ(登録商標)1000」(日本ペイント株式会社製)、「PM−284」(日本パ−カライジング株式会社製)等の処理液を利用できる。   In the case of chromium, chromate (chromate) treatment or the like may be used. The chromate treatment is carried out by bringing the chromate treatment solution into contact with the treated surface. This contact is not limited to coating methods such as roll coating, curtain coating, squeeze coating, pouring (single-sided contact), and electrostatic fogging. According to the chemical method, the dipping method, etc., double-sided contact is also possible. Moreover, what is necessary is just to dry, without washing with water after a contact. In addition, an aqueous solution containing chromic acid is usually used for the chromate treatment liquid. Specifically, “Alsurf (registered trademark) 1000” (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.), “PM-284” (Nippon Parkerizing Co., Ltd.) A processing solution such as a company can be used.

また、クロメート処理は、該処理前に亜鉛めっきするのが、密着性、防錆効果の点で好ましい。また、防錆層中には、エッチングや酸洗浄時の耐酸性向上の為に、シランカップリング剤等のケイ素化合物を含有させることもできる。   In the chromate treatment, galvanization before the treatment is preferable in terms of adhesion and rust prevention effect. In addition, the rust preventive layer may contain a silicon compound such as a silane coupling agent in order to improve acid resistance during etching or acid cleaning.

なお、防錆層の厚さは通常0.001〜10μm程度、好ましくは0.01〜1μmである。   In addition, the thickness of a rust prevention layer is about 0.001-10 micrometers normally, Preferably it is 0.01-1 micrometer.

〔メッシュ層:黒化層〕
黒化層7により、ディスプレイの明室時の画像のコントラストを向上できる。なお、黒化層の中には、上述した如く該層表面が粗面となり密着強化を図れるものもある。黒化層はディスプレイ画像のコントラスト向上の点では、観察者から見えるメッシュ層(メッシュ状導電体層自体、或いは防錆層等形成済みのメッシュ状導電体層)の全ての面に設けることが好ましいが、そのうち、表面、裏面、側面の各面のうち1以上の面に設ければ相応の効果が得られる。従って、設ける面は、本複合電磁波シールドフィルタとディスプレイとの配置関係にもよるが、表面だけ、裏面〔例えば図3(A)参照〕だけ、表裏両面、側面(両側或いは片側)だけ、表面と両側面〔例えば図3(B)参照〕、裏面と両側面、表裏両面と両側面等である。
[Mesh layer: Blackened layer]
The blackening layer 7 can improve the contrast of the image in the bright room of the display. Some blackening layers have a roughened surface as described above and can improve adhesion. In terms of improving the contrast of the display image, the blackening layer is preferably provided on all surfaces of the mesh layer (mesh-like conductor layer itself or a mesh-like conductor layer already formed such as a rust prevention layer) that can be seen by the observer. However, if it is provided on one or more of the front, back and side surfaces, a corresponding effect can be obtained. Accordingly, the surface to be provided depends on the arrangement relationship between the composite electromagnetic wave shielding filter and the display, but only the front surface, only the back surface (see, for example, FIG. 3A), both the front and back surfaces, only the side surfaces (both sides or one side), Both side surfaces (see, for example, FIG. 3B), back surface and both side surfaces, front and back both surfaces, both side surfaces, and the like.

いずれにしても、黒化層としては、黒等の暗色を呈する層であれば良く、密着性等の基本的物性を満足するものであれば良く、公知の黒化層を適宜採用し得る。   In any case, the blackened layer may be a layer exhibiting a dark color such as black, and may be any layer that satisfies basic physical properties such as adhesion, and a known blackened layer can be appropriately employed.

従って、黒化層としては、金属等の無機材料、黒着色樹脂等の有機材料等を用いることができ、例えば無機材料としては、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の各種黒化処理法を適宜採用できる。なかでも、めっき法による黒化処理は密着性、均一性、容易性等で好ましい。めっき法の材料は、例えば、銅、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン、スズ、クロム等の金属や金属化合物等を用いる。これらは、密着性、黒さ等の点でカドミウム等による場合よりも優れている。   Therefore, as the blackening layer, an inorganic material such as a metal, an organic material such as a black colored resin, or the like can be used. For example, as the inorganic material, a metal compound such as a metal, an alloy, a metal oxide, or a metal sulfide is used. It is formed as a metal-based layer. As a method for forming the metal layer, various conventionally known blackening methods can be appropriately employed. Especially, the blackening process by a plating method is preferable at adhesiveness, uniformity, ease, etc. As a material for the plating method, for example, a metal such as copper, cobalt, nickel, zinc, molybdenum, tin, or chromium, a metal compound, or the like is used. These are superior to the case of cadmium or the like in terms of adhesion and blackness.

なお、メッシュ状導電体層が銅箔等、銅による場合、黒化層形成の為の黒化処理として好ましいめっき法には、銅からなるメッシュ状導電体層(メッシュ状とする前に行うのであればその前の導電体層)を、硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルト等からなる電解液中で、陰極電解処理を行いカチオン性粒子を付着させるカソーディック電着めっき法がある。この方法によれば、カチオン性粒子の付着で黒色と同時に粗面も得られる。カチオン性粒子としては、銅粒子、銅合金粒子を採用できる。銅合金粒子としては、銅−コバルト合金粒子が好ましく、更にその平均粒子径は0.1〜1μmが好ましい。銅−コバルト合金粒子により、銅−コバルト合金粒子層からなる黒化層が得られる。カソーディック電着法では、付着させるカチオン性粒子の平均粒子径0.1〜1μmに揃えられる点でも好ましい。平均粒子径が上記範囲超過では、付着粒子の緻密さが低下し黒さの低下やムラが起こり、粒子脱落(粉落ち)が発生し易くなる。一方、平均粒子径が上記範囲未満でも、黒さが低下する。なお、カソーディック電着法は処理を高電流密度で行うことで、処理面がカソーディックとなり、還元性水素発生で活性化し、銅面とカチオン性粒子との密着性が著しく向上する。   When the mesh-like conductor layer is made of copper, such as copper foil, a preferable plating method for the blackening treatment for forming the blackened layer is a mesh-like conductor layer made of copper (because it is performed before forming the mesh shape). There is a cathodic electrodeposition plating method in which, if present, the previous conductor layer) is subjected to cathodic electrolysis in an electrolytic solution made of sulfuric acid, copper sulfate, cobalt sulfate or the like, and cationic particles are deposited. According to this method, the rough surface can be obtained simultaneously with the black color by the adhesion of the cationic particles. Copper particles and copper alloy particles can be used as the cationic particles. The copper alloy particles are preferably copper-cobalt alloy particles, and the average particle diameter is preferably 0.1 to 1 μm. A blackened layer composed of a copper-cobalt alloy particle layer is obtained by the copper-cobalt alloy particles. The cathodic electrodeposition method is also preferable in that the average particle size of the cationic particles to be adhered is adjusted to 0.1 to 1 μm. When the average particle diameter exceeds the above range, the density of the adhered particles is reduced, blackness is reduced and unevenness occurs, and particle falling off (powder falling) is likely to occur. On the other hand, even if the average particle diameter is less than the above range, the blackness is lowered. In the cathodic electrodeposition method, when the treatment is performed at a high current density, the treated surface becomes cathodic, and activated by reducing hydrogen generation, the adhesion between the copper surface and the cationic particles is remarkably improved.

また、黒化層として、黒色クロム、黒色ニッケル、ニッケル合金等も好ましく、該ニッケル合金としては、ニッケル−亜鉛合金、ニッケル−スズ合金、ニッケル−スズ−銅合金である。特に、ニッケル合金は黒色度合いと導電性が良い上、黒化層に防錆機能も付与でき(黒化層兼防錆層となる)、防錆層を省略することもできる。しかも、通常、黒化層の粒子は針状のために、外力で変形して外観が変化しやすいが、ニッケル合金による黒化層では粒子が変形し難く、後加工工程で外観が変化し難くい利点も得られる。なお、黒化層として、ニッケル合金の形成方法は、公知の電解または無電解メッキ法でよく、ニッケルメッキを行った後に、ニッケル合金を形成してもよい。   Moreover, as a blackening layer, black chrome, black nickel, a nickel alloy, etc. are preferable, and as this nickel alloy, they are a nickel-zinc alloy, a nickel-tin alloy, and a nickel-tin-copper alloy. In particular, the nickel alloy has a good degree of blackness and conductivity, can also impart a rust prevention function to the blackened layer (becomes a blackened layer and a rustproof layer), and can omit the rustproof layer. In addition, since the particles of the blackened layer are usually needle-like, the appearance is likely to change due to external force, but the blackened layer made of nickel alloy is difficult to deform and the appearance is difficult to change in the post-processing step. Benefits. In addition, the formation method of a nickel alloy as a blackening layer may be a known electrolytic or electroless plating method, and the nickel alloy may be formed after nickel plating.

〔透明接着剤層〕
透明接着剤層5は、メッシュ状導電体層2から少なくとも構成されるメッシュ層3を、透明基材1に接着固定するものであり、メッシュ状導電体層の形成法次第では不要で省略可能な層でもある。透明接着剤層5が必要となるメッシュ状導電体層を例示すれば、メッシュ状導電体層となる金属箔を透明基材に接着剤で接着固定する場合である。この場合、金属箔を透明基材に接着する接着剤としては、メッシュ状導電体層からなるメッシュ層の開口部から見える該接着剤が光透過性を損なわない様に、透明な接着剤を用いる必要がある。特に、金属箔を透明基材に積層してからエッチングで開口部を設けてメッシュ状に加工する場合には、該開口部の全領域で接着剤が露出するので接着剤の透明性が要求される。従って、金属箔によるメッシュ状導電体層2は、透明な接着剤からなる透明接着剤層を介して透明基材に積層されている構成が好ましい。
(Transparent adhesive layer)
The transparent adhesive layer 5 is for adhering and fixing at least the mesh layer 3 composed of the mesh-like conductor layer 2 to the transparent base material 1 and is unnecessary and can be omitted depending on the method of forming the mesh-like conductor layer. It is also a layer. An example of a mesh-like conductor layer that requires the transparent adhesive layer 5 is a case where a metal foil that becomes the mesh-like conductor layer is bonded and fixed to a transparent substrate with an adhesive. In this case, as an adhesive for adhering the metal foil to the transparent substrate, a transparent adhesive is used so that the adhesive visible from the opening of the mesh layer made of the mesh-like conductor layer does not impair the light transmittance. There is a need. In particular, when a metal foil is laminated on a transparent base material and an opening is provided by etching and processed into a mesh shape, the adhesive is exposed in the entire area of the opening, so the transparency of the adhesive is required. The Therefore, it is preferable that the mesh-like conductor layer 2 made of metal foil is laminated on a transparent substrate via a transparent adhesive layer made of a transparent adhesive.

なお、金属箔と透明基材との具体的な積層方法としては、特に限定されるものでは無く公知の積層法が適宜採用されるが、透明基材がそのなかでも代表的な樹脂シートである場は、ドライラミネーション法が一般的である。   In addition, as a specific lamination | stacking method of metal foil and a transparent base material, it does not specifically limit and a well-known lamination | stacking method is employ | adopted suitably, A transparent base material is a typical resin sheet in that. The field is generally dry lamination.

透明接着剤層に用いる透明な接着剤も、特に限定されるものでは無く公知の接着剤を適宜採用すれば良い。例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられ、なかでも、ウレタン系接着剤が接着力等の点で好ましい。なお、この様なウレタン系接着剤としては、2液硬化型ウレタン樹脂系接着剤等があり、2液硬化型ウレタン樹脂系接着剤は、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリオール等の各種ヒドロキシル基含有化合物と、トリレンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネート等の各種ポリイソシアネート化合物を含む2液硬化型ウレタン樹脂を利用した接着剤である。   The transparent adhesive used for the transparent adhesive layer is not particularly limited, and a known adhesive may be appropriately employed. For example, urethane adhesives, acrylic adhesives, epoxy adhesives, rubber adhesives and the like can be mentioned. Among them, urethane adhesives are preferable in terms of adhesive strength and the like. Such urethane adhesives include two-component curable urethane resin-based adhesives, and two-component curable urethane resin-based adhesives include various hydroxyl groups such as polyether polyol, polyester polyol, and acrylic polyol. It is an adhesive using a two-component curable urethane resin containing a containing compound and various polyisocyanate compounds such as tolylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate.

なお、透明接着剤層は、透明な接着剤を、金属箔(メッシュ状とする前のものが良い)、透明基材の、何れか又は両方に公知の形成方法により施した後、これらを積層することで形成される。該塗工法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート等の塗工法、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法が挙げられる。なお、透明接着剤層の厚み(乾燥時)は特に制限は無いが、通常0.1〜20μmであるが、接着力、コスト、作業性等の点でより好ましくは1〜10μmである。   The transparent adhesive layer is formed by applying a transparent adhesive to any one or both of a metal foil (before forming a mesh) or a transparent substrate by a known forming method, and then laminating them. It is formed by doing. Examples of the coating method include coating methods such as roll coating, comma coating, and gravure coating, and printing methods such as screen printing and gravure printing. In addition, although there is no restriction | limiting in particular in the thickness (at the time of drying) of a transparent adhesive bond layer, Usually, it is 0.1-20 micrometers, However, From points, such as adhesive force, cost, workability | operativity, it is 1-10 micrometers more preferably.

〔近赤外線吸収層〕
近赤外線吸収層4は、複合電磁波シールドフィルタとして近赤外線吸収機能を付与する層である。この近赤外線吸収層は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなるマトリックス中に特定の近赤外線吸収剤を含有させた透明な樹脂層である。なお、近赤外線とは、可視光領域に隣接し可視光よりも長波長側の光線であり、本発明で注目する近赤外線とは、波長780〜1100nm程度の光線のことである。また、近赤外線吸収性能としては、一般的には、該780〜1100nmの波長領域にて、平均して、少なくとも50%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、吸収するのが望ましい。特にプラズマディスプレイ用への複合電磁波シールドフィルタとして用いる場合には、800〜950nmの波長領域にて、70%以上、より好ましくは90%以上の近赤外線吸収性能が望ましい。
[Near-infrared absorbing layer]
The near-infrared absorbing layer 4 is a layer that imparts a near-infrared absorbing function as a composite electromagnetic wave shielding filter. This near-infrared absorbing layer is a transparent resin layer in which a specific near-infrared absorber is contained in a matrix made of a cured product of an ionizing radiation curable resin. The near infrared ray is a light ray adjacent to the visible light region and having a longer wavelength side than the visible light, and the near infrared ray to be noted in the present invention is a light ray having a wavelength of about 780 to 1100 nm. Further, as the near-infrared absorption performance, in general, in the wavelength region of 780 to 1100 nm, on average, it absorbs at least 50% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more. desirable. In particular, when used as a composite electromagnetic shielding filter for a plasma display, near infrared absorption performance of 70% or more, more preferably 90% or more is desirable in the wavelength region of 800 to 950 nm.

近赤外線吸収層の形成は、近赤外線吸収剤を添加した透明な電離放射線硬化性樹脂組成物を、塗工法等の公知の層形成手段で未硬化物層として形成した後、該未硬化物層に電子線を照射して樹脂を硬化させて硬化物層とすれば、形成できる。なお、上記電離放射線樹脂組成物中には、必要に応じ、希釈溶媒、安定剤等の公知の各種添加剤を適宜添加しても良い。   The near-infrared absorbing layer is formed by forming a transparent ionizing radiation curable resin composition to which a near-infrared absorbing agent is added as a non-cured material layer by a known layer forming means such as a coating method, and then the uncured material layer. It can be formed by irradiating an electron beam to cure the resin to form a cured product layer. In addition, you may add suitably well-known various additives, such as a dilution solvent and a stabilizer, in the said ionizing radiation resin composition as needed.

なお、上記塗工法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、カーテンコート、スクイズコート、かけ流し法、静電霧化法、浸漬法等が挙げられる。また、任意形状で部分形成可能な層形成手段として、例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法でも良い。   Examples of the coating method include roll coating, comma coating, gravure coating, curtain coating, squeeze coating, pouring method, electrostatic atomization method, and dipping method. Further, as a layer forming means that can be partially formed in an arbitrary shape, for example, a printing method such as screen printing or gravure printing may be used.

近赤外線吸収剤
本発明では、近赤外線吸収剤として、下記の四種類のフタロシアニン化合物(A)〜(D)の内の少なくとも三種類を使用することが重要である。
Near-infrared absorber In the present invention, it is important to use at least three of the following four types of phthalocyanine compounds (A) to (D) as the near-infrared absorber.

フタロシアニン化合物(A):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ、少なくとも3つは塩素原子を有する。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(B):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ、実質的に塩素原子を有さない。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(C):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ、硫黄原子を介する置換基を実質的に含まない。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(D):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ硫黄原子を介する置換基を実質的に含まない。Mは銅である。)

Figure 2006237505
(式〔I〕中、A〜A16は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ヒドロキシスルホニル基、アミノスルホニル基、あるいは窒素原子、硫黄原子、酸素原子またはハロゲン原子を含んでも良い炭素数1〜20の置換基を表し、かつ、隣り合う2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。Mは、酸化バナジウムまたは銅を表す。)
本発明におけるフタロシアニン化合物(A)〜(D)は、上記式〔I〕で表される化合物において、置換基A〜A16ならびにMに関する所定の条件が満たされる限りにおいて特に制限を受けないが、以下に具体的に記載する。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。この中では、特にフッ素原子および塩素原子が好ましい。 Phthalocyanine compound (A):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are substituents via a sulfur atom, and at least three have a chlorine atom. M 1 is oxidized) Vanadium.)
Phthalocyanine compound (B):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are substituents via a sulfur atom and substantially have no chlorine atom. M 1 is Vanadium oxide.)
Phthalocyanine compound (C):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are a substituent via a nitrogen atom and substantially free of a substituent via a sulfur atom). M 1 is vanadium oxide.)
Phthalocyanine compound (D):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are a substituent via a nitrogen atom and are substantially free of a substituent via a sulfur atom. 1 is copper.)
Figure 2006237505
(In the formula [I], A 1 to A 16 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a hydroxysulfonyl group, an aminosulfonyl group, a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, or a halogen atom. It represents a substituent having 1 to 20 carbon atoms which may be contained, and two adjacent substituents may be connected via a linking group, and M 1 represents vanadium oxide or copper.
The phthalocyanine compounds (A) to (D) in the present invention are not particularly limited as long as the predetermined conditions regarding the substituents A 1 to A 16 and M 1 are satisfied in the compound represented by the formula [I]. Is specifically described below.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, a fluorine atom and a chlorine atom are particularly preferable.

窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ハロゲン原子を含んでもよい炭素数1〜20の置換基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジエチルアミノメチル基、フェニルチオメチル基、ベンジル基、p−クロロベンジル基、p−メトキシベンジル基、等のヘテロ原子や芳香環を含むアルキル基、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−t−ブチルフェニル基、p−クロロフェニル基等のアリール基、
メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基等のアルコキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、ヒドロキシエトキシ基等のヒドロキシアルコキシ基、ベンジルオキシ基、p−クロロベンジルオキシ基、p−メトキシベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基、フェノキシ基、p−メトキシフェノキシ基、p−t−ブチルフェノキシ基、p−クロロフェノキシ基、o−アミノフェノキシ基、p−ジエチルアミノフェノキシ基等のアリールオキシ基、
アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、n−ヘプチルカルボニルオキシ基、3−ヘプチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−クロロベンゾイルオキシ基、p−メトキシベンゾイルオキシ基、p−エトキシベンゾイルオキシ基、p−t−ブチルベンゾイルオキシ基、p−トリフロルオメチルベンゾイルオキシ基、m−トリフルオロメチルベンゾイルオキシ基、o−アミノベンゾイルオキシ基、p−ジエチルアミノベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基、
メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基等のアルキルチオ基、ベンジルチオ基、p−クロロベンジルチオ基、p−メトキシベンジルチオ基等のアラルキルチオ基、フェニルチオ基、p−メトキシフェニルチオ基、p−t−ブチルフェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、o−アミノフェニルチオ基、o−(n−オクチルアミノ)フェニルチオ基、o−(ベンジルアミノ)フェニルチオ基、o−(メチルアミノ)フェニルチオ基、p−ジエチルアミノフェニルチオ基、ナフチルチオ基等のアリールチオ基、
メチルアミノ基、エチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−sec−ブチルアミノ基、ジ−n−ペンチルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−ヘプチルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基等のアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−メチルフェニルアミノ基、p−t−ブチルフェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ−p−メチルフェニルアミノ基、ジ−p−t−ブチルフェニルアミノ基等のアリールアミノ基、アセチルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、n−プロピルカルボニルアミノ基、iso−プロピルカルボニルアミノ基、n−ブチルカルボニルアミノ基、iso−ブチルカルボニルアミノ基、sec−ブチルカルボニルアミノ基、t−ブチルカルボニルアミノ基、n−ペンチルカルボニルアミノ基、n−ヘキシルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、n−ヘプチルカルボニルアミノ基、3−ヘプチルカルボニルアミノ基、n−オクチルカルボニルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、p−クロロベンゾイルアミノ基、p−メトキシベンゾイルアミノ基、p−メトキシベンゾイルアミノ基、p−t−ブチルベンゾイルアミノ基、p−クロロベンゾイルアミノ基、p−トリフルオロメチルベンゾイルアミノ基、m−トリフルオロメチルベンゾイルアミノ基等のアリールカルボニルアミノ基、
ヒドロキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、iso−ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、メトキシエトキシカルボニル基、フェノキシエトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基等のアルコキシアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、p−メトキシフェノキシカルボニル基、p−t−ブチルフェノキシカルボニル基、p−クロロフェノキシカルボニル基、o−アミノフェノキシカルボニル基、p−ジエチルアミノフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基、
アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、n−プロピルアミノカルボニル基、n−ブチルアミノカルボニル基、sec−ブチルアミノカルボニル基、n−ペンチルアミノカルボニル基、n−ヘキシルアミノカルボニル基、n−ヘプチルアミノカルボニル基、n−オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−n−プロピルアミノカルボニル基、ジ−n−ブチルアミノカルボニル基、ジ−sec−ブチルアミノカルボニル基、ジ−n−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−n−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−n−ヘプチルアミノカルボニル基、ジ−n−オクチルアミノカルボニル基等のアルキルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、p−メチルフェニルアミノカルボニル基、p−t−ブチルフェニルアミノカルボニル基、ジフェニルアミノカルボニル基、ジ−p−メチルフェニルアミノカルボニル基、ジ−p−t−ブチルフェニルアミノカルボニル基等のアリールアミノカルボニル基、
メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、n−プロピルアミノスルホニル基、n−ブチルアミノスルホニル基、sec−ブチルアミノスルホニル基、n−ペンチルアミノスルホニル基、n−ヘキシルアミノスルホニル基、n−ヘプチルアミノスルホニル基、n−オクチルアミノスルホニル基、2−エチルヘキシルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−n−プロピルアミノスルホニル基、ジ−n−ブチルアミノスルホニル基、ジ−sec−ブチルアミノスルホニル基、ジ−n−ペンチルアミノスルホニル基、ジ−n−ヘキシルアミノスルホニル基、ジ−n−ヘプチルアミノスルホニル基、ジ−n−オクチルアミノスルホニル基等のアルキルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、p−メチルフェニルアミノスルホニル基、p−t−ブチルフェニルアミノスルホニル基、ジフェニルアミノスルホニル基、ジ−p−メチルフェニルアミノスルホニル基、ジ−p−t−ブチルフェニルアミノスルホニル基等のアリールアミノスルホニル基等が挙げられる。
Examples of the substituent having 1 to 20 carbon atoms that may contain a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, or a halogen atom include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, and an iso-butyl group. Linear, branched or cyclic alkyl such as a group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc. Group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, diethylaminomethyl group, phenylthiomethyl group, benzyl group, p-chlorobenzyl group, p-methoxybenzyl group, etc. -Aryl groups such as methoxyphenyl group, pt-butylphenyl group, p-chlorophenyl group,
Methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, iso-propyloxy group, n-butyloxy group, iso-butyloxy group, sec-butyloxy group, t-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, Cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, alkoxy group such as 2-ethylhexyloxy group, alkoxyalkoxy group such as methoxyethoxy group and phenoxyethoxy group, hydroxyalkoxy group such as hydroxyethoxy group, benzyloxy Group, aralkyloxy group such as p-chlorobenzyloxy group, p-methoxybenzyloxy group, phenoxy group, p-methoxyphenoxy group, pt-butylphenoxy group, p-chlorophenoxy group, o-aminophenoxy group, p-diethylaminoph Phenoxy aryloxy group such as a group,
Acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, iso-propylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, iso-butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group Alkylcarbonyloxy groups such as n-pentylcarbonyloxy group, n-hexylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, n-heptylcarbonyloxy group, 3-heptylcarbonyloxy group, n-octylcarbonyloxy group, benzoyloxy group P-chlorobenzoyloxy group, p-methoxybenzoyloxy group, p-ethoxybenzoyloxy group, pt-butylbenzoyloxy group, p-trifluoromethylbenzoyloxy group, m-trifluoro B methylbenzoyl group, o--aminobenzoyl group, p- diethylamino benzoyloxy arylcarbonyloxy group such as a group,
Methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, n-hexylthio group, cyclohexylthio group, n-heptylthio group, n-octylthio group, alkylthio group such as 2-ethylhexylthio group, benzylthio group, p-chlorobenzylthio group, aralkylthio group such as p-methoxybenzylthio group, phenylthio group, p-methoxyphenylthio Group, pt-butylphenylthio group, p-chlorophenylthio group, o-aminophenylthio group, o- (n-octylamino) phenylthio group, o- (benzylamino) phenylthio group, o- (methylamino) Phenylthio group, p-diethylaminophenylthio group, Chiruchio arylthio group such as a group,
Methylamino group, ethylamino group, n-propylamino group, n-butylamino group, sec-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, 2-ethylhexylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, di-n-butylamino group, di-sec-butylamino group, di-n-pentylamino group, di-n-hexyl Alkyl group such as amino group, di-n-heptylamino group, di-n-octylamino group, phenylamino group, p-methylphenylamino group, pt-butylphenylamino group, diphenylamino group, di- arylamino groups such as p-methylphenylamino group, di-pt-butylphenylamino group, acetylamino group, ethyl Nylamino group, n-propylcarbonylamino group, iso-propylcarbonylamino group, n-butylcarbonylamino group, iso-butylcarbonylamino group, sec-butylcarbonylamino group, t-butylcarbonylamino group, n-pentylcarbonylamino Group, n-hexylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, n-heptylcarbonylamino group, 3-heptylcarbonylamino group, n-octylcarbonylamino group and other alkylcarbonylamino groups, benzoylamino group, p-chlorobenzoylamino Group, p-methoxybenzoylamino group, p-methoxybenzoylamino group, p-t-butylbenzoylamino group, p-chlorobenzoylamino group, p-trifluoromethylbenzoylamino group, m-trif Oro methylbenzoyl arylcarbonylamino group such as an amino group,
Hydroxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, iso-propyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, iso-butyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, t-butyl Alkoxycarbonyl groups such as oxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, methoxy Alkoxyalkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl group, phenoxyethoxycarbonyl group, hydroxyethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, phenoxycarboni Group, p- methoxyphenoxy group, p-t-butyl phenoxy carbonyl group, p- chlorophenoxy carbonyl group, o- aminophenoxy group, p- diethylamino phenoxycarbonyl aryloxycarbonyl groups such as,
Aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, n-propylaminocarbonyl group, n-butylaminocarbonyl group, sec-butylaminocarbonyl group, n-pentylaminocarbonyl group, n-hexylaminocarbonyl group, n -Heptylaminocarbonyl group, n-octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, di-n-propylaminocarbonyl group, di-n-butylaminocarbonyl group, di-sec Alkylaminocarbonyl such as -butylaminocarbonyl group, di-n-pentylaminocarbonyl group, di-n-hexylaminocarbonyl group, di-n-heptylaminocarbonyl group, di-n-octylaminocarbonyl group Group, phenylaminocarbonyl group, p-methylphenylaminocarbonyl group, pt-butylphenylaminocarbonyl group, diphenylaminocarbonyl group, di-p-methylphenylaminocarbonyl group, di-pt-butylphenylaminocarbonyl Arylaminocarbonyl groups such as groups,
Methylaminosulfonyl group, ethylaminosulfonyl group, n-propylaminosulfonyl group, n-butylaminosulfonyl group, sec-butylaminosulfonyl group, n-pentylaminosulfonyl group, n-hexylaminosulfonyl group, n-heptylaminosulfonyl Group, n-octylaminosulfonyl group, 2-ethylhexylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, diethylaminosulfonyl group, di-n-propylaminosulfonyl group, di-n-butylaminosulfonyl group, di-sec-butylaminosulfonyl group Group, alkylaminosulfonyl group such as di-n-pentylaminosulfonyl group, di-n-hexylaminosulfonyl group, di-n-heptylaminosulfonyl group, di-n-octylaminosulfonyl group, phenylamino Aryl such as sulfonyl group, p-methylphenylaminosulfonyl group, pt-butylphenylaminosulfonyl group, diphenylaminosulfonyl group, di-p-methylphenylaminosulfonyl group, di-pt-butylphenylaminosulfonyl group An aminosulfonyl group etc. are mentioned.

隣り合う2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい置換基としては、下記式等で表されるようなヘテロ原子を介して5員環あるいは6員環を形成する置換基が挙げられる。

Figure 2006237505
Examples of the substituent that two adjacent substituents may be linked via a linking group include a substituent that forms a 5-membered ring or a 6-membered ring via a heteroatom represented by the following formula or the like. Can be mentioned.
Figure 2006237505

フタロシアニン化合物(A)および(B)における「硫黄原子を介する置換基」、あるいはフタロシアニン化合物(C)および(D)における「窒素原子を介する置換基」としては、アミノ基、アミノスルホニル基、上記のアルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基等が挙げられる。フタロシアニンの吸収波長は通常600〜750nm程度であるが、硫黄原子あるいは窒素原子を介する置換基が導入されることにより、吸収が長波長化され、800nm以上に吸収を有するようになる。そのためには、A〜A16の内の少なくとも4つは硫黄原子を介する置換基および/または窒素原子を介する置換基であり、より好ましくは8つ以上が硫黄原子を介する置換基および/または窒素原子を介する置換基である。 The “substituent through sulfur atom” in the phthalocyanine compounds (A) and (B), or the “substituent through nitrogen atom” in the phthalocyanine compounds (C) and (D) includes an amino group, an aminosulfonyl group, Examples thereof include an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, an alkylcarbonylamino group, and an arylcarbonylamino group. The absorption wavelength of phthalocyanine is usually about 600 to 750 nm. However, when a substituent via a sulfur atom or a nitrogen atom is introduced, the absorption becomes longer, and the absorption reaches 800 nm or more. To that end, at least four of A 1 to A 16 are a substituent via a sulfur atom and / or a substituent via a nitrogen atom, more preferably eight or more are a substituent via a sulfur atom and / or It is a substituent through a nitrogen atom.

本発明による複合電磁波シールドフィルタにおける近赤外線吸収層は、上記の四種類のフタロシアニン化合物(A)〜(D)の内の少なくとも三種類を含むものである。即ち、本発明での近赤外線吸収層は、近赤外線吸収層として、上記四種類のフタロシアニン化合物(A)〜(D)の全種類を含むもの、および上記四種類の化合物から選択された三種類のフタロシアニン化合物を含むものである。三種類のフタロシアニン化合物の選択方法ないしフタロシアニン化合物の組み合わせ、ならびに各フタロシアニン化合物の混合比率等は任意である。例えば、本発明では、フタロシアニン化合物中の置換基A〜A16の具体的内容、それによるフタロシアニン化合物の具体的特定、特に赤外線吸収特性、等を考慮して、フタロシアニン化合物の組み合わせ、各フタロシアニン化合物の混合比率ならびに全フタロシアニン化合物の総配合量等を定めることができる。なお、本発明は、同種類のフタロシアニン化合物として分類された化合物を二種以上併用することを排除しない。即ち、例えばフタロシアニン化合物(A)として分類された化合物群に属する二種以上のフタロシアニン化合物(A)を併用する場合を排除しない。フタロシアニン化合物(B)〜(D)についても同様である。 The near-infrared absorbing layer in the composite electromagnetic wave shielding filter according to the present invention includes at least three of the above four types of phthalocyanine compounds (A) to (D). That is, the near-infrared absorbing layer in the present invention includes, as the near-infrared absorbing layer, three kinds selected from those containing all of the four kinds of phthalocyanine compounds (A) to (D) and the four kinds of compounds. These phthalocyanine compounds are included. The selection method of the three kinds of phthalocyanine compounds, the combination of phthalocyanine compounds, the mixing ratio of each phthalocyanine compound, and the like are arbitrary. For example, in the present invention, in consideration of the specific contents of the substituents A 1 to A 16 in the phthalocyanine compound, the specific identification of the phthalocyanine compound thereby, particularly the infrared absorption characteristics, etc., combinations of phthalocyanine compounds, each phthalocyanine compound And the total blending amount of all phthalocyanine compounds can be determined. In addition, this invention does not exclude using together 2 or more types of compounds classified as the same kind of phthalocyanine compound. That is, for example, the case where two or more phthalocyanine compounds (A) belonging to the group of compounds classified as the phthalocyanine compound (A) are used in combination is not excluded. The same applies to the phthalocyanine compounds (B) to (D).

このような本発明では、フタロシアニン化合物の具体的種類およびその組み合わせ、各フタロシアニン化合物の配合量ないしそれらの配合比率等を適当に変更することによって、複合電磁波シールドフィルタの光学的特性(例えば、吸収波長領域や光透過率等)を任意に制御することが可能であって、複合電磁波シールドフィルタの具体的用途、目的等に応じた最も好ましい近赤外線吸収フィルタを提供することができる。   In the present invention, the optical characteristics (for example, absorption wavelength) of the composite electromagnetic wave shielding filter are appropriately changed by appropriately changing the specific types and combinations of the phthalocyanine compounds, the blending amount of each phthalocyanine compound, or the blending ratio thereof. Area, light transmittance, etc.) can be arbitrarily controlled, and the most preferable near-infrared absorption filter according to the specific application, purpose, etc. of the composite electromagnetic wave shielding filter can be provided.

また、近赤外線吸収層は2層以上の多層構成でも良く、多層の場合では層毎に近赤外線吸収剤の種類や併用割合、含有量等を変えても良い。近赤外線吸収剤の含有量は、要求特性、透明樹脂層の厚み等に応じて適宜決めれば良いが、例えば、透明樹脂層の樹脂分全量に対して0.1〜10質量%である。なお、近赤外線吸収層は電離放射線線硬化させる樹脂組成物で形成するので、厚くできる関係上、溶解性が小さい近赤外線吸収剤でも、層の厚みで必要濃度を稼げる利点もある。   Further, the near infrared absorbing layer may have a multilayer structure of two or more layers. In the case of a multilayer, the type, the combined ratio, the content, etc. of the near infrared absorbing agent may be changed for each layer. Although content of a near-infrared absorber should just be suitably determined according to a required characteristic, the thickness of a transparent resin layer, etc., for example, it is 0.1-10 mass% with respect to the resin part whole quantity of a transparent resin layer. Since the near-infrared absorbing layer is formed of a resin composition that is cured with ionizing radiation, there is an advantage that even if a near-infrared absorber having a low solubility is used, the required concentration can be obtained by the thickness of the layer.

電離放射線硬化型樹脂
近赤外線吸収層を構成する電離放射線硬化型の透明樹脂としては、電離放射線照射により硬化可能な公知の樹脂組成物を用いることができ、具体的には、プレポリマー(所謂オリゴマーも包含する)及び/又はモノマーを適宜混合した組成物が好ましくは用いられる。これらプレポリマー又はモノマーは単体又は複数種を混合して用いる。ここで、本発明における「電離放射線」には、分子を架橋乃至は重合させ得るエネルギー量を有する、電磁波、或いは荷電粒子線等が各種包含されるが、通常良く用いられるものは、紫外線、或いは電子線が代表的なものである。
As the ionizing radiation curable transparent resin constituting the near-infrared absorbing layer of the ionizing radiation curable resin, a known resin composition that can be cured by ionizing radiation irradiation can be used. Specifically, a prepolymer (so-called oligomer) can be used. And / or a composition in which monomers are appropriately mixed is preferably used. These prepolymers or monomers are used alone or in combination. Here, “ionizing radiation” in the present invention includes various kinds of electromagnetic waves, charged particle beams, and the like having an energy amount capable of crosslinking or polymerizing molecules. Electron beams are typical.

上記プレポリマー又はモノマーは、具体的には、分子中に(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のラジカル重合性不飽和基、エポキシ基等のカチオン重合性官能基等を有する化合物からなる。また、ポリエンとポリチオールとの組み合わせによるポリエン/チオール系のプレポリマーも挙げられる。なお、例えば(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基の意味である。また、以下の(メタ)アクリレートも同様に、アクリレート又はメタクリレートの意味である。また、アクリレート化合物及びメタクリレート化合物を総称して、単にアクリレート(化合物)、アクリレート系化合物等とも呼ぶ。   Specifically, the prepolymer or monomer is a compound having a radically polymerizable unsaturated group such as a (meth) acryloyl group or (meth) acryloyloxy group, a cationically polymerizable functional group such as an epoxy group in the molecule. Become. Further, a polyene / thiol prepolymer based on a combination of polyene and polythiol is also included. For example, the (meth) acryloyl group means an acryloyl group or a methacryloyl group. Moreover, the following (meth) acrylates are the meanings of an acrylate or a methacrylate similarly. In addition, the acrylate compound and the methacrylate compound are collectively referred to simply as an acrylate (compound) or an acrylate compound.

ラジカル重合性不飽和基を有するプレポリマーの例としては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート等のアクリレート系プレポリマー等が使用できる。分子量としては、通常250〜100,000程度のものが用いられる。   Examples of prepolymers having radically polymerizable unsaturated groups include acrylate-based prepolymers such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and triazine (meth) acrylate. Etc. can be used. The molecular weight is usually about 250 to 100,000.

ラジカル重合性不飽和基を有するモノマーの例としては、アクリレート系モノマーの場合で例示すれば、単官能モノマーとして、メチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、カルボキシポリカプロラクトン(メタ)アクリレート等のアクリレート系モノマー、(メタ)アクリルアミド等がある。また、多官能モノマーとして、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート等の2官能モノマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイドトリ(メタ)アクリレート等の3官能モノマー、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の多官能モノマー等がある。   As an example of a monomer having a radical polymerizable unsaturated group, in the case of an acrylate monomer, as a monofunctional monomer, methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, Acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, carboxypolycaprolactone (meth) acrylate, etc. System monomers and (meth) acrylamide. In addition, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate as polyfunctional monomers , Bifunctional monomers such as tripropylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide tri ( Trifunctional monomers such as (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaeryth Penta (meth) acrylate, polyfunctional monomers such as four or more functional such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

カチオン重合性官能基を有するプレポリマーの例としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ化合物等のエポキシ系樹脂、脂肪酸系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテル等のビニルエーテル系樹脂のプレポリマーがある。   Examples of the prepolymer having a cationic polymerizable functional group include a prepolymer of an epoxy resin such as a bisphenol type epoxy resin or a novolac type epoxy compound, or a vinyl ether resin such as a fatty acid vinyl ether or an aromatic vinyl ether.

チオールとしては、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオールがある。また、ポリエンとしては、ジオールとジイソシアネートによるポリウレタンの両端にアリルアルコールを付加したもの等がある。   Examples of thiols include polythiols such as trimethylolpropane trithioglycolate and pentaerythritol tetrathioglycolate. Examples of the polyene include those obtained by adding allyl alcohol to both ends of polyurethane by diol and diisocyanate.

電離放射線硬化型樹脂の硬化には、電離放射線として紫外線または電子線を使用することが好ましい。   For curing the ionizing radiation curable resin, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams as ionizing radiation.

従来、メッシュ層の開口部を埋める様にして使う平坦化樹脂層や透明化樹脂層等とする場合の透明樹脂層としては、メッシュ層が厚い為に、塗膜形成時の溶剤乾燥による体積収縮が大きく厚く形成し難い溶剤乾燥型の樹脂(例えばウレタン樹脂等)は不利であった。 本発明では、電離放射線を樹脂の硬化に使用できることから、体積収縮による前記問題点を伴うことなく、近赤外線吸収層を形成することができる。   Conventionally, as a flattening resin layer or a transparent resin layer that is used to fill the opening of the mesh layer, the volume of the resin shrinks due to solvent drying when forming the coating film because the mesh layer is thick. However, a solvent-drying type resin (for example, urethane resin) which is large and difficult to form is disadvantageous. In the present invention, since the ionizing radiation can be used for curing the resin, the near-infrared absorbing layer can be formed without the above-mentioned problem due to volume shrinkage.

電離放射線硬化型樹脂の硬化に際して、電離放射線として紫外線を使用する方法は、紫外線照射装置として手軽かつ安価である紫外線ランプが使用できる点で有利である。   In curing the ionizing radiation curable resin, a method of using ultraviolet rays as ionizing radiation is advantageous in that an ultraviolet lamp that is simple and inexpensive can be used as an ultraviolet irradiation device.

電離放射線硬化型樹脂の硬化に際し、電離放射線として電子線を使用する方法は、本発明において使用される上記の四種類のフタロシアニン化合物(A)〜(D)の優れた特性を最大限に発揮させることができ、より高度の耐久性を発揮させるために有利である。   In curing the ionizing radiation curable resin, the method of using an electron beam as ionizing radiation maximizes the excellent characteristics of the above four types of phthalocyanine compounds (A) to (D) used in the present invention. This is advantageous for providing a higher degree of durability.

電離放射線硬化型樹脂を硬化させる電子線源としては、コッククロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用い、70〜1000keV、好ましくは、100〜300keVのエネルギーをもつ電子を照射し、照射線量は通常5〜300kGy程度が好ましい。   Various electron beam accelerators such as Cockcroft-Walton type, Bandegraft type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. And an electron having an energy of 70 to 1000 keV, preferably 100 to 300 keV, and the irradiation dose is preferably about 5 to 300 kGy.

ところで、透明樹脂層の樹脂に電離放射線硬化型樹脂を用いるのは、無溶剤塗工が可能で溶剤乾燥省略により生産性等に優れ、また、溶剤を或る程度含有させたとしても無溶剤塗工に近い塗工が可能で、塗膜形成時の溶剤乾燥による大きな体積収縮を防げるからである。しかも、厚塗りが出来るので、透明基材上に積層されたメッシュ層の開口部での凹部を埋めて表面を平面に近づける平坦化が容易で、該凹部を完全に埋め尽くして、近赤外線吸収層の表面では完全な平面にすることも容易である為である。このような平坦化により、複合電磁波シールドフィルタに対してその近赤外線吸収層上に、或いは複合電磁波シールドフィルタに於いてその近赤外線吸収層上に、更に別のフィルタや前面板等のディスプレイ自体の構成部品等の機能層と、適宜接着剤等を用いて積層する場合に、接着面の凹凸によって気泡が抱込まれるの防ぐ効果も得られる。このような平坦化の機能を近赤外線吸収層に持たせることで、近赤外線吸収層に従来技術欄で述べた平坦化樹脂層を兼用させることもできる。   By the way, the use of an ionizing radiation curable resin as the resin of the transparent resin layer is possible with solvent-free coating, is excellent in productivity, etc. by omitting solvent drying, and even if a certain amount of solvent is contained, solvent-free coating is possible. This is because coating close to the work is possible and large volume shrinkage due to solvent drying during coating film formation can be prevented. Moreover, since thick coating is possible, it is easy to flatten the surface close to a flat surface by filling the concave portion at the opening of the mesh layer laminated on the transparent base material, and the concave portion is completely filled to absorb near infrared rays. This is because it is easy to form a perfect plane on the surface of the layer. By such flattening, the composite electromagnetic wave shielding filter has a near-infrared absorbing layer, or in the composite electromagnetic wave shielding filter, the near-infrared absorbing layer. In the case of laminating using a functional layer such as a component and an appropriate adhesive or the like, an effect of preventing air bubbles from being engulfed by unevenness of the adhesive surface is also obtained. By providing such a planarizing function in the near infrared absorbing layer, the planarizing resin layer described in the prior art column can also be used in the near infrared absorbing layer.

近赤外線吸収層の形態
近赤外線吸収層の表面は、基本的には、平坦面、非平坦面のいずれでも良く、図1、図3の各図面で例示した近赤外線吸収層4は、その表面(図面上側の面)がメッシュ層3の開口部領域も非開口部領域も含めて連続した平坦面で描いてある。メッシュ層3の非開口部領域上にも近赤外線吸収層がある形態である。
Form of near-infrared absorbing layer The surface of the near-infrared absorbing layer may basically be either a flat surface or a non-flat surface, and the near-infrared absorbing layer 4 illustrated in each of FIGS. (Surface on the upper side of the drawing) is drawn as a continuous flat surface including the opening region and the non-opening region of the mesh layer 3. This is a form in which a near-infrared absorbing layer is also present on the non-opening region of the mesh layer 3.

近赤外線吸収層は、ディスプレイから放射される近赤外線を吸収する為には、該近赤外線が複合電磁波シールドフィルタを通過する部分であるメッシュ層の開口部に存在すれば良く、従って、近赤外線吸収層は少なくとも該開口部に形成すれば足りる。また、近赤外線吸収性能の点では表面は非平面でも良い。この様な観点から、近赤外線吸収層の存在位置及びその表面凹凸状態の他の形態例の幾つかを概念的に例示したのが、図4の断面図である。   In order to absorb the near infrared ray radiated from the display, the near infrared ray absorbing layer only needs to be present in the opening of the mesh layer, which is a portion that passes through the composite electromagnetic wave shielding filter. It is sufficient that a layer is formed at least in the opening. Further, the surface may be non-planar in terms of near infrared absorption performance. 4 is a cross-sectional view of FIG. 4 that conceptually illustrates some of other forms of the near-infrared absorption layer and the surface unevenness state thereof from this point of view.

図4(A)及び(B)は、近赤外線吸収層4の表面が平坦面の形態であり、図4(C)は非平坦面の形態である。また、図4(A)及び(B)は、近赤外線吸収層4がメッシュ層3の開口部のみに存在し非開口部上(メッシュ層直上)には存在しない形態でもある。   4A and 4B, the near-infrared absorbing layer 4 has a flat surface, and FIG. 4C has a non-flat surface. 4A and 4B also show a form in which the near-infrared absorbing layer 4 exists only in the opening of the mesh layer 3 and does not exist on the non-opening (immediately above the mesh layer).

また、図4(A)は、近赤外線吸収層4が開口部を完全には埋め尽くさず、複合電磁波シールドフィルタ10全体としの表面では開口部が凹部となった形態である。また、この図4(A)は、開口部内に存在する近赤外線吸収層4自体の表面は平坦面の形態であるが、実際上は、塗工液の流動特性によって、開口部の凹部中心部が深い様な非平坦面となるのが普通である。   FIG. 4A shows a form in which the near-infrared absorbing layer 4 does not completely fill the opening, and the opening is a recess on the entire surface of the composite electromagnetic wave shielding filter 10. In FIG. 4A, the near-infrared absorbing layer 4 itself present in the opening has a flat surface. However, in practice, depending on the flow characteristics of the coating liquid, the center of the recess in the opening is used. Usually, it is a non-flat surface with a deep surface.

また、図4(B)は、近赤外線吸収層4がメッシュ層3の開口部を完全に埋め尽くし且つメッシュ層の高さと同一高さまで埋め尽くして、メッシュ層の非開口部と近赤外線吸収層の表面とは段差の無い連続した平坦面となった形態である。   4B shows that the near-infrared absorbing layer 4 completely fills the opening of the mesh layer 3 and fills up to the same height as the mesh layer, so that the non-opening of the mesh layer and the near-infrared absorbing layer The surface is a form that is a continuous flat surface with no steps.

また、図4(C)は、近赤外線吸収層4がメッシュ層3の開口部と共にその非開口部上の全領域にも存在するが、メッシュ層の開口部では若干凹部となって、開口部の凹部形状が表面に残った形態である。   FIG. 4C shows that the near-infrared absorbing layer 4 is present in the entire region on the non-opening portion together with the opening portion of the mesh layer 3. This is a form in which the concave shape is left on the surface.

なお、図1や図3等では、近赤外線吸収層4の表面は完全な平坦面となっているが、これら図面は層構成を例示する概念的なものであり、該表面は(図面の様に)平坦面の事もあるし、凹凸面であることもあり、これらを包含した形で平坦面として描画したものである。   In FIG. 1 and FIG. 3 and the like, the surface of the near-infrared absorbing layer 4 is a completely flat surface. However, these drawings are conceptual examples illustrating the layer structure, and the surface is (like the drawing). B) It may be a flat surface or it may be an uneven surface, and it is drawn as a flat surface including these.

但し、近赤外線吸収層の表面は、凹凸面であると、それによって近赤外線吸収層の表面(他層を更に密着積層する場合は該他層との界面)で、開口部を通過した光の進路が曲げられという光学特性の点では、平坦面の方が好ましい。また、平坦面を容易に形成できる点では、開口部のみに近赤外線吸収層を設ける形態でも、図4(B)の様にメッシュ層と同じ厚みの形態、図1や図3の様にメッシュ層の非開口部上にも近赤外線吸収層を設けてしまう形態、が好ましい。   However, if the surface of the near-infrared absorbing layer is an uneven surface, the surface of the near-infrared absorbing layer (or the interface with the other layer in the case where another layer is further closely laminated) is used to transmit light that has passed through the opening. A flat surface is preferable in terms of optical characteristics that the path is bent. Moreover, in the point that a flat surface can be easily formed, even in a form in which a near infrared absorption layer is provided only in the opening, a form having the same thickness as the mesh layer as shown in FIG. 4B, and a mesh as shown in FIGS. The form which provides a near-infrared absorption layer also on the non-opening part of a layer is preferable.

なお、平坦面とは鏡面でも良いが鏡面で無くても良い。平坦面とは、少なくともメッシュ層の厚みの面(水平)方向分布に応じた(開口部は低く谷部となり非開口部は高く山部となる様な)凹凸が無く、またその様な凹凸、或いはその他の凹凸があったとしても、その表面に更に別の被着体を接着剤等を用いて積層する場合には、間に残留気泡を生じ無い程度の平面性があり、ディスプレイ用途に於いてはディスプレイ画像の歪曲や、光散乱による曇り(ヘイズ)等を生じ無い程度の平面性であれば良い。従って、平坦面でも、例えばメッシュ層に応じた緩慢な凹凸面で且つそれが鏡面やマット面である場合もあるし、メッシュ層に応じた緩慢な凹凸も急峻な凹凸も無く平坦であるが、細かいマット状の微細凹凸があるマット面である場合もある。つまり、平坦面と鏡面とは別の概念であり、鏡面と非鏡面は、平坦面と非平坦面よりも細かい微凹凸による区分である。   The flat surface may be a mirror surface but may not be a mirror surface. The flat surface has at least unevenness corresponding to the surface (horizontal) direction distribution of the thickness of the mesh layer (opening is low and valleys and non-opening is high and crests), and such unevenness, Or, even if there are other irregularities, when another adherend is laminated on the surface using an adhesive or the like, there is flatness that does not cause residual bubbles between them, In other words, it may be flatness that does not cause distortion of the display image or cloudiness (haze) due to light scattering. Therefore, even on a flat surface, for example, it may be a slow uneven surface corresponding to the mesh layer and it may be a mirror surface or a mat surface, and it is flat without a slow unevenness or steep unevenness depending on the mesh layer, In some cases, the mat surface has a fine mat-like fine unevenness. That is, the flat surface and the mirror surface are different concepts, and the mirror surface and the non-mirror surface are divided by fine unevenness that is finer than the flat surface and the non-flat surface.

なお、表面をマット面とすると、ピラミッド現象(可撓性のシート状とした複合電磁波シールドフィルタを、ロール状に巻取る際に、近赤外線吸収層の表面が鏡面だと、フィルタの層間に巻き込まれた空気が脱出出来ずに気泡として残留し、それらが巻取り時の張力によって該フィルタに圧入されて、該フィルタの表面にピラミッド状外観の微小突起欠点が生じること。)防止、別の被着体と接着積層時の層間密着性向上等の利点が得られ、また、表面の微細凹凸により、層間界面で屈折率段差がある場合はそれを実質的に滑らかにして界面での不要な光反射を防止しても良い。   If the surface is a matte surface, the pyramid phenomenon (when the surface of the near-infrared absorbing layer is a mirror surface when winding a composite electromagnetic shielding filter in the form of a flexible sheet into a roll, it will be caught between the layers of the filter. The air that has escaped remains as bubbles without being escaped, and they are pressed into the filter by the tension at the time of winding, resulting in a microprojection defect with a pyramidal appearance on the surface of the filter. Advantages such as improved adhesion between layers during adhesion and adhesion lamination are obtained, and if there is a refractive index step at the interlayer interface due to fine irregularities on the surface, it can be made smooth and unnecessary light at the interface Reflection may be prevented.

上記の図4(A)〜図4(C)の場合を含め、近赤外線吸収層の形成は、この近赤外線吸収層を形成する樹脂組成物の供給および塗工を間欠的に行って、金属メッシュの開口部についての当該樹脂組成物の供給および塗工を選択的に行うことからなる間欠塗工法によって行うことが好ましい。そのような間欠塗工法に適した装置の好ましい具体例としては、例えば特開2000−334355号公報および特開2001−38276号公報に記載のものがある。   Including the cases of FIGS. 4A to 4C described above, the formation of the near-infrared absorbing layer is performed by supplying and applying the resin composition for forming the near-infrared absorbing layer intermittently. It is preferable to carry out by the intermittent coating method which consists of selectively supplying the resin composition and coating the mesh openings. Preferable specific examples of an apparatus suitable for such an intermittent coating method include those described in, for example, JP-A Nos. 2000-334355 and 2001-38276.

なお、近赤外線吸収層の厚みは、近赤外線吸収性能、近赤外線吸収剤含有量、近赤外線吸収層形成時の塗膜塗工適性、表面平坦化適性等に応じて適宜な厚みとすれば良く、特に制限は無い。例えば、近赤外線吸収性能のみ(或いは更に開口部から露出した透明接着剤層粗面に対する透明化機能)に、着目するのであれば、開口部のみに設け、それも開口部を完全に埋め尽くす必要はない。従って、例えば1μm以上とすれば良い。但し、要求される一定の近赤外線吸収性能を満足するには、厚みが薄くなる程、近赤外線吸収剤の透明樹脂層中での含有量(割合)を大きくする必要はある。また、平坦化樹脂層も兼ねるのであれば、或いは、メッシュ層の全面に亙って平坦な表面を得る為には、図1に例示の様にメッシュ層の非開口部上も含めて近赤外線吸収層を形成してしまうのが容易であり、この様な場合では、近赤外線吸収層の厚みは、メッシュ層の開口部と非開口部では異なりメッシュ層の開口部ではメッシュ層の厚みの分だけ厚くなる。この場合、メッシュ層の非開口部上を近赤外線吸収層で確実に覆うには、例えばその部分が1μm以上となる様にすると良い。但し、いずれの場合でも、厚みが厚過ぎると、コスト高等となるので、最も厚い部分でも100μm以下(メッシュ層の厚みも含む)とするのが好ましい。   The thickness of the near-infrared absorbing layer may be an appropriate thickness according to the near-infrared absorbing performance, the near-infrared absorbing agent content, the coating coating suitability when forming the near-infrared absorbing layer, the surface flattening suitability, etc. There is no particular limitation. For example, if you want to focus only on near-infrared absorption performance (or even a transparent function for the rough surface of the transparent adhesive layer exposed from the opening), it is necessary to provide only the opening and completely fill the opening. There is no. Therefore, for example, the thickness may be 1 μm or more. However, to satisfy the required near-infrared absorption performance, it is necessary to increase the content (ratio) of the near-infrared absorber in the transparent resin layer as the thickness is reduced. Further, in order to obtain a flat surface over the entire surface of the mesh layer if it also serves as a flattening resin layer, the near infrared ray including the non-opening portion of the mesh layer as illustrated in FIG. It is easy to form an absorption layer, and in such a case, the thickness of the near-infrared absorption layer differs between the opening portion of the mesh layer and the non-opening portion, and is equal to the thickness of the mesh layer at the opening portion of the mesh layer. Only thicker. In this case, in order to reliably cover the non-opening portion of the mesh layer with the near-infrared absorbing layer, for example, the portion may be 1 μm or more. However, in any case, if the thickness is too thick, the cost becomes high. Therefore, the thickest portion is preferably 100 μm or less (including the thickness of the mesh layer).

近赤外線吸収層の表面を、平坦面、マット面、鏡面等と所望の凹凸形状とするには、賦形シートを利用しても良い。賦形シートの利用方法は、例えば、透明基材上に積層されたメッシュ層の上から、近赤外線吸収層を形成する為の塗液を施して塗膜が液状であるうちに、塗膜表面に賦形シートを被せて、該表面に賦形シートの面を賦形し、塗膜が固化する等、塗膜表面に賦形された表面形状が維持される状態になった後、賦形シートを剥がせば、透明樹脂層の表面を所望の表面形状とすることができる。或いは、塗膜が固化後でも加熱により塑性変形する状態が発現するならば、固化後でも賦形シートを被せて加熱加圧して賦形した後、賦形シートを剥がしても良い。なお、通常は、賦形シートを剥がす前に電離放射線で樹脂を硬化させて固化させ、その後賦形シートを剥がす。   In order to make the surface of the near-infrared absorbing layer into a desired uneven shape such as a flat surface, a matte surface, a mirror surface, etc., a shaping sheet may be used. The method of using the shaped sheet is, for example, from the top of the mesh layer laminated on the transparent substrate, while applying the coating liquid for forming the near-infrared absorbing layer and the coating film is liquid, After forming the surface shape formed on the surface of the coating film, such as by shaping the surface of the shaping sheet on the surface and solidifying the coating film, the shaping is performed. If the sheet is peeled off, the surface of the transparent resin layer can have a desired surface shape. Alternatively, if a state in which the coating film is plastically deformed by heating appears even after the coating is solidified, the shaped sheet may be peeled off after being formed by heating and pressurizing and shaping. In general, the resin is cured with ionizing radiation and solidified before peeling off the shaped sheet, and then the shaped sheet is peeled off.

なお、賦形シートは近赤外線吸収層が硬化後も剥がさずに付けたまま、製品として出荷し、客先で剥がすような、保護シートとして使うこともできる。   The shaped sheet can also be used as a protective sheet that is shipped as a product and peeled off at the customer's site while the near-infrared absorbing layer is not peeled off after curing.

賦形シートとしては、平坦面等、表面を所望の表面形状に賦形でき、また、近赤外線吸収層の塗膜と離型性を有するものであれば特に制限は無く、適宜な材料を選択使用すれば良い。なお、近赤外線吸収層とする電離放射線硬化性樹脂組成物を、賦形シート側から電子線照射して硬化させるのであれば、電子線に対して透過性を有するものを選ぶと良い。この様な材料としては、各種樹脂シートからなるものが挙げられる。   As the shaping sheet, there is no particular limitation as long as the surface can be shaped into a desired surface shape, such as a flat surface, and it has releasability from the coating film of the near infrared absorption layer, and an appropriate material is selected. Use it. In addition, if the ionizing radiation curable resin composition used as the near-infrared absorbing layer is cured by irradiating with an electron beam from the shaped sheet side, it is preferable to select one having transparency to the electron beam. As such a material, what consists of various resin sheets is mentioned.

上記樹脂シート樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレングリコール−テレフタル酸−イソフタル酸共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィンなどのポリオレフィン系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネートなどの樹脂が挙げられる。これらのなかでも、通常、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリノルボネンなどのポリオレフィン系樹脂が、平坦性、強度、離型性、電子線透過性、耐熱性やコスト面から好適な樹脂である。また、機械的強度の点では、1軸延伸、2軸延伸等の延伸シートが好ましい。具体例を挙げれば、2軸延伸ポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、樹脂シートの厚みは10〜1000μm程度である。   Examples of the resin sheet resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene glycol-terephthalic acid-isophthalic acid copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer, Examples thereof include polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene, polymethylpentene and cyclic polyolefin, imide resins and resins such as polycarbonate. Of these, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and polyolefin resins such as polypropylene and polynorbornene are usually preferred in terms of flatness, strength, releasability, electron beam transparency, heat resistance and cost. It is a good resin. From the viewpoint of mechanical strength, stretched sheets such as uniaxial stretching and biaxial stretching are preferred. As a specific example, a biaxially stretched polyethylene terephthalate sheet is optimal. The resin sheet has a thickness of about 10 to 1000 μm.

また、賦形シートの賦形面は、平坦面、鏡面の他、凹凸面とするには、樹脂シートの賦形面とする表面をエンボス加工、型押し加工、樹脂シート中への粒子添加、ケミカルエッチングなどを利用することができる。   In addition, the shaping surface of the shaping sheet is a flat surface, a mirror surface, and an uneven surface, the surface to be the shaping surface of the resin sheet is embossed, embossed, particles added into the resin sheet, Chemical etching or the like can be used.

なお、賦形シートとして樹脂シート単体では、その賦形面の離型性が不足する場合には、賦形面に、シリコーン等の離型性物質からなる離型層を形成すると良い。   In addition, when the resin sheet alone is used as the shaping sheet, if the mold release property of the shaping surface is insufficient, a release layer made of a release material such as silicone may be formed on the shaping surface.

また、賦形シートの賦形面の離型性を適度に(離型性のみを考慮した場合に対してはそれを減らす方向で)調整することで、メッシュ層のメッシュ部では近赤外線吸収層を残して賦形シートが剥離され、額縁部では近赤外線吸収層と共に賦形シートが剥離される様にすることもできる。これにより、一旦は額縁部も含めて形成した近赤外線吸収層を額縁部では賦形シートと共に除去して額縁部を露出させ、額縁部でアースがとり易い様にできる。この様にする為の離型性の調整は、例えば該賦形面の濡れ性を指標として、ぬれ張力を35〜45mN/m(JIS K−6768準拠)の範囲とすると良い。賦形面を適度な離型性に調整する為には、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理等の易接着処理を行ってもよい。   Also, by adjusting the releasability of the shaping surface of the shaped sheet moderately (in a direction to reduce it when considering only releasability), the near infrared absorption layer at the mesh part of the mesh layer The shaped sheet is peeled off, and the shaped sheet can be peeled off together with the near-infrared absorbing layer at the frame portion. Thereby, the near-infrared absorption layer once formed also including the frame part can be removed together with the shaping sheet at the frame part to expose the frame part so that the frame part can be easily grounded. In order to adjust the releasability for this purpose, the wetting tension is preferably in the range of 35 to 45 mN / m (conforming to JIS K-6768), for example, with the wettability of the shaped surface as an index. In order to adjust the shaping surface to an appropriate releasability, for example, corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer coating treatment, preheat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, alkali treatment, etc. An adhesion treatment may be performed.

なお、近赤外線吸収層中には、近赤外線吸収剤以外の色素を含有させても良い。例えば、近赤外線吸収剤に用いる色素が可視光領域にも吸収を持ち、その吸収が可視光領域で均一で無いために着色し画像のホワイトバランスが崩れるのを防ぐ為には、可視光領域全体で光吸収がニュートラル(無彩色)となる様に、更に、可視光領域内のその他の部分に吸収を持つ色素を併用すると良い。或いは、PDPから放射されるネオン発光を抑えて色再現性を向上させるネオン光吸収剤、不要な外光反射を抑える色素等である。   In addition, you may contain pigments other than a near-infrared absorber in a near-infrared absorption layer. For example, in order to prevent the coloring used in the near-infrared absorber to absorb in the visible light region, and the absorption is not uniform in the visible light region, and the white balance of the image is lost. In addition, a dye having absorption in other parts in the visible light region may be used in combination so that the light absorption becomes neutral (achromatic color). Alternatively, a neon light absorbing agent that suppresses neon emission emitted from the PDP and improves color reproducibility, a dye that suppresses unnecessary external light reflection, and the like.

〔その他の層〕
本発明の複合電磁波シールドフィルタは、必要に応じ適宜、上述した以外の層を積層した構成としても良い。例えば、透明基材に対して裏面側、表面側、或いはこれら両面に適宜、表面保護、機械的強度向上、光学特性改善等、上述した層構成からは実現できないその他の機能を更に付与する為の層である。これらの層としては、例えば従来ディスプレイ用途等で公知の各種の機能層等を適宜採用することができる。これらは市販品等、公知のものを適宜使用することができる。或いは、塗膜として形成しても良い。また、ディスプレイの前面基板と接着積層しても良い。この際、メッシュ層の非開口部上も含めて透明樹脂層を設けた形態では、該透明樹脂層を接着剤層として機能させても良い。もちろん、該透明樹脂層とは別に接着剤層を設けても良い。
[Other layers]
The composite electromagnetic wave shield filter of the present invention may have a configuration in which layers other than those described above are appropriately laminated as necessary. For example, for further imparting other functions that cannot be realized from the above-described layer configuration, such as surface protection, mechanical strength improvement, optical property improvement, etc., appropriately on the back surface side, the front surface side, or both of these surfaces with respect to the transparent substrate Is a layer. As these layers, for example, various known functional layers can be appropriately employed for conventional display applications. These can use a well-known thing suitably, such as a commercial item. Or you may form as a coating film. Further, it may be bonded and laminated to the front substrate of the display. At this time, in the embodiment in which the transparent resin layer is provided including the non-opening portion of the mesh layer, the transparent resin layer may function as an adhesive layer. Of course, an adhesive layer may be provided separately from the transparent resin layer.

このような本発明の複合電磁波シールドフィルタにおいて、必要に応じ適宜用いることができる機能層の代表的なものとしては、ネオン光遮蔽機能層、反射防止機能層、防眩機能層、防汚染機能層および紫外線吸収層を挙げることができる。   In such a composite electromagnetic wave shielding filter of the present invention, representative functional layers that can be appropriately used as necessary include neon light shielding functional layers, antireflection functional layers, antiglare functional layers, and antifouling functional layers. And an ultraviolet absorbing layer.

以下に、本発明において好ましいネオン光遮蔽機能層、反射防止機能層、防眩機能層、防汚染機能層および紫外線吸収層について詳細する。   The neon light shielding functional layer, the antireflection functional layer, the antiglare functional layer, the antifouling functional layer and the ultraviolet absorbing layer which are preferable in the present invention are described in detail below.

防汚染層
防汚染層は、複合電磁波シールドフィルタを使用する際に、その表面に、不用意な接触や環境からの汚染が原因で、ごみや汚染物質が付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される層である。例えば、フッ素系コート剤、シリコン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が使用され、なかでもシリコン・フッ素系コート剤が好ましく適用される。これらの防汚染層の厚さは好ましくは100nm以下で、より好ましくは10nm以下であり、さらに好ましくは5nm以下である。これらの防汚染層の厚さが100nmを超えると防汚染性の初期値は優れているが、耐久性において劣るものとなる。防汚染性とその耐久性のバランスから5nm以下が最も好ましい。
Antifouling layer The antifouling layer prevents or adheres to the surface of dust and contaminants due to inadvertent contact and environmental contamination when using a composite electromagnetic shielding filter. However, it is a layer formed for easy removal. For example, a fluorine-based coating agent, a silicon-based coating agent, a silicon / fluorine-based coating agent or the like is used, and among them, a silicon / fluorine-based coating agent is preferably applied. The thickness of these antifouling layers is preferably 100 nm or less, more preferably 10 nm or less, and even more preferably 5 nm or less. When the thickness of these antifouling layers exceeds 100 nm, the initial value of antifouling properties is excellent, but the durability is inferior. 5 nm or less is the most preferable from the balance of antifouling property and its durability.

ネオン光遮蔽層
ネオン光遮蔽層は、PDPにおける主にネオンガスの励起によって放出される595nm付近の不要な発光をカットするためのもので、この波長付近に吸収極大を持つネオン光遮蔽色素およびバインダ樹脂、並びにその他の必要に応じて添加する添加剤等を用いて、前記した近赤外線吸収層の形成と同様にして行なえばよい。ネオン光遮蔽色素としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系、もしくはポルフィリン系の化合物を好ましく用いることができ、ポルフィリン系の化合物が耐久性の面で特に好ましい。
Neon light shielding layer The neon light shielding layer is for cutting unnecessary luminescence around 595 nm mainly emitted by excitation of neon gas in PDP, and neon light shielding dye and binder resin having an absorption maximum near this wavelength. In addition, it may be performed in the same manner as in the formation of the near-infrared absorbing layer, using other additives added as necessary. As the neon light-shielding dye, cyanine-based, oxonol-based, methine-based, subphthalocyanine-based, or porphyrin-based compounds can be preferably used, and porphyrin-based compounds are particularly preferable in terms of durability.

反射防止層
反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層が順に積層されたものが代表的であるが、これ以外の積層構造を持つものもある。高屈折率層は、例えば、ZnOやTiOの素材の薄膜、もしくはこれらの素材の微粒子が分散した透明樹脂膜である。また、低屈折率層は、MgFやSiOからなる薄膜、もしくはSiOゲル膜、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の透明樹脂膜である。反射防止層が積層されたことにより、積層された側の外光等の不要な光の反射を低下させ、適用されるディスプレイの画像もしくは映像のコントラストを高めることができる。
Antireflection layer The antireflection layer is typically one in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in order, but there are also those having other laminated structures. The high refractive index layer is, for example, a thin film made of ZnO or TiO 2 or a transparent resin film in which fine particles of these materials are dispersed. The low refractive index layer is a thin film made of MgF 2 or SiO 2 , a SiO 2 gel film, or a transparent resin film containing fluorine or containing fluorine and silicon. Since the antireflection layer is laminated, it is possible to reduce reflection of unnecessary light such as external light on the laminated side, and to increase the contrast of the image or video of the applied display.

防眩層
防眩層は、例えば、透明樹脂中に直径数μm程度のポリスチレン樹脂やアクリル樹脂等のビーズを分散させたものが挙げられ、層が持つ光拡性により、ディスプレイ前面に配置した際に、ディスプレイの特定の位置、方向に生じるシンチレーションの防止を行なうためのものである。
Anti- glare layer Anti-glare layer includes, for example, those in which beads such as polystyrene resin and acrylic resin having a diameter of about several μm are dispersed in a transparent resin. In addition, it is intended to prevent scintillation occurring at a specific position and direction of the display.

紫外線吸収層
紫外線吸収層は、電気的もしくは電子的な装置や自然光等に含まれる紫外線を、遮蔽ないし制御するものである。このことによって、ディスプレイを構成する各種の樹脂材料その他の構成材料(例えば、透明樹脂材料や色素等)の耐久性を更に向上させることが可能になる。
Ultraviolet absorption layer The ultraviolet absorption layer shields or controls ultraviolet rays contained in electrical or electronic devices and natural light. This makes it possible to further improve the durability of various resin materials and other constituent materials (for example, transparent resin materials and pigments) constituting the display.

本発明では、例えば380nmより下の領域の波長の全てにおいて光線透過率が、40%以下、好ましくは30%以下、である紫外線吸収層を、前記反射防止層と前記近赤外線吸収層との間に設けることができる。このような紫外線吸収層が形成された近赤外線吸収フィルタは、本発明の好ましい一具体例である。   In the present invention, for example, an ultraviolet absorbing layer having a light transmittance of 40% or less, preferably 30% or less at all wavelengths in a region below 380 nm is provided between the antireflection layer and the near infrared absorbing layer. Can be provided. A near-infrared absorption filter in which such an ultraviolet absorption layer is formed is a preferred specific example of the present invention.

紫外線吸収剤は、上述の透明基材中に含有させてもよいし、紫外線吸収剤を含有させた独立の層、即ち、紫外線吸収層として設けられていてもよい。紫外線吸収層は、バインダー樹脂として、例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エチレンービニルアルコール系共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニル系共重合樹脂、AS樹脂、ポリエステル系樹脂、塩酢ビ樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、PVPA、ポリスチレン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリスルフォン、ナイロン、セルロース系樹脂、酢酸セルロース系樹脂等に、紫外線吸収剤を含有させたものを、塗布法により、通常、0.1〜30μm、好ましくは0.5〜10μmの膜厚の層として形成する。尚、紫外線吸収層は、フィルタとしての使用時に近赤外線吸収層よりも外界側に位置させるか、外界側に位置する層に含有させるのが、近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤の劣化を保護するために好ましい。   The ultraviolet absorber may be contained in the above-mentioned transparent substrate, or may be provided as an independent layer containing the ultraviolet absorber, that is, an ultraviolet absorbing layer. The ultraviolet absorbing layer is, for example, an acrylic resin, polycarbonate resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, AS resin, polyester resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral as a binder resin. A resin in which an ultraviolet absorber is added to a resin, PVPA, polystyrene resin, phenol resin, phenoxy resin, polysulfone, nylon, cellulose resin, cellulose acetate resin, etc. It is formed as a layer having a thickness of 1 to 30 μm, preferably 0.5 to 10 μm. In addition, when the ultraviolet absorbing layer is used as a filter, it is located on the outside side of the near infrared absorbing layer or contained in a layer located on the outside side, which causes deterioration of the near infrared absorbing agent in the near infrared absorbing layer. Preferred for protection.

<プラズマディスプレイ>
本発明によるプラズマディスプレイは、上記の複合電磁波シールドフィルタがディスプレイの観察側に配置されていること、を特徴とするものである。
<Plasma display>
The plasma display according to the present invention is characterized in that the above-mentioned composite electromagnetic wave shielding filter is arranged on the viewing side of the display.

上記の本発明による複合電磁波シールドフィルタがPDP用として用いられる際は、ディスプレーから放射される電磁波および近赤外線光をカットするべくディスプレーの前面に設置される。このため、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低下することから、フィルタの可視光線の透過率は高い程良く、少なくとも30%以上、好ましくは35%以上必要である。   When the composite electromagnetic wave shielding filter according to the present invention is used for a PDP, it is installed on the front surface of the display to cut off electromagnetic waves and near infrared light emitted from the display. For this reason, if the visible light transmittance is low, the sharpness of the image is lowered. Therefore, the higher the visible light transmittance of the filter, the better. At least 30% or more, preferably 35% or more is necessary.

また、近赤外線光のカット領域はPDPからの発光がある800〜1000nmであり、その領域の光線の透過率が30%以下になるように設計する。   The near infrared light cut region is designed to be 800 to 1000 nm where light is emitted from the PDP, and the light transmittance in that region is 30% or less.

以下、実施例および比較例を挙げ、必要に応じて図2および図3(A)を参照しながら、本発明をさらに具体的に説明する。なお、これらの記載により本発明を制限するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIG. 2 and FIG. Note that the present invention is not limited by these descriptions.

フタロシアニン化合物(A)の合成
250mlの4ツ口フラスコに、3−(4−クロロフェノキシ)−4,5−ビス(フェニルチオ)−6−フルオロフタロニトリル20g(41ミリモル)、三塩化バナジウム2g(13ミリモル)、オクタノール2gおよびベンゾニトリル30gを仕込み、還流下で撹拌しながら約6時間保持した。その後ベンゾニトリル60gを投入し60℃に保温後、1−(2−アミノエチル)モルホリン30g(230ミリモル)を加え60℃に保持しながら撹拌し約6時間保持した。反応液を、アセトニトリルと水の混合溶液を用いたフタロニトリル法にて析出させた後、真空乾燥して、VOPc(PhS){4−ClPhO}(OCN(CHNH) を8g得た(ここで、Pcはフタロシアニンを、Phはフェニルを意味する。以下同様)。なお、フタロシアニン化合物(A)をポリエステル系樹脂(バイロン200、東洋紡績(株)製)に分散させた場合の最大吸収波長は925nmであった。
Synthesis of phthalocyanine compound (A) In a 250 ml four-necked flask, 20 g (41 mmol) of 3- (4-chlorophenoxy) -4,5-bis (phenylthio) -6-fluorophthalonitrile, 2 g of vanadium trichloride (13 Mmol), 2 g of octanol and 30 g of benzonitrile were charged and held for about 6 hours with stirring under reflux. Thereafter, 60 g of benzonitrile was added and the temperature was kept at 60 ° C., then 30 g (230 mmol) of 1- (2-aminoethyl) morpholine was added and stirred while maintaining at 60 ° C. for about 6 hours. The reaction solution was precipitated by a phthalonitrile method using a mixed solution of acetonitrile and water, and then vacuum-dried to obtain VOPc (PhS) 8 {4-ClPhO} 4 (OC 4 H 8 N (CH 2 ) 2. 8 g of NH) 4 was obtained (where Pc represents phthalocyanine, Ph represents phenyl, and so on). The maximum absorption wavelength when the phthalocyanine compound (A) was dispersed in a polyester resin (Byron 200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was 925 nm.

フタロシアニン化合物(B)の合成
3−(4−クロロフェノキシ)−4,5−ビス(フェニルチオ)−6−フルオロフタロニトリルの代わりに3−フェノキシ−4,5−ビス(4−メトキシフェニルチオ)−6−フルオロフタロニトリル22g(41ミリモル)を用いた以外はフタロシアニン化合物(A)と同様にして、VOPc{4−(CHO)PhS}(PhO)(OCN(CHNH)を10g得た。なお、フタロシアニン化合物(B)をポリエステル系樹脂(バイロン200、東洋紡績(株)製)に分散させた場合の最大吸収波長は975nmであった。
Synthesis of phthalocyanine compound (B) 3- (4-chlorophenoxy) -4,5-bis (phenylthio) -6-fluorophthalonitrile instead of 3-phenoxy-4,5-bis (4-methoxyphenylthio)- VOPc {4- (CH 3 O) PhS} 8 (PhO) 4 (OC 4 H 8 N (CH 2 ) is the same as that of the phthalocyanine compound (A) except that 22 g (41 mmol) of 6-fluorophthalonitrile is used. 10 g of 2 NH) 4 was obtained. The maximum absorption wavelength when the phthalocyanine compound (B) was dispersed in a polyester resin (Byron 200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was 975 nm.

フタロシアニン化合物(C)の合成
250mlの4ツ口フラスコに、3−フェノキシ−4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロフタロニトリル20g(34ミリモル)、3塩化バナジウム2g(13ミリモル)、およびn−オクタノール30mlを仕込み、窒素をバブリングしながら170℃下で攪拌しながら約4時間保持した。その後常温まで冷却し、PhCHNHを15g(136ミリモル)とベンゾニトリル120mlを加え、90℃に保温しながら約5時間保持した。反応液を冷却し、フタロニトリル法にて析出させた後、真空乾燥して、VOPc(2,5−ClPhO)(PhO)(PhCHNH)を180g得た。なお、フタロシアニン化合物(C)をポリエステル系樹脂(バイロン200、東洋紡績(株)製)に分散させた場合の最大吸収波長は878nmであった。
Synthesis of phthalocyanine compound (C) In a 250 ml four-necked flask, 20 g (34 mmol) of 3-phenoxy-4,5-bis (2,5-dichlorophenoxy) -6-fluorophthalonitrile, 2 g of vanadium trichloride (13 Millimoles), and 30 ml of n-octanol, and the mixture was kept for about 4 hours with stirring at 170 ° C. while bubbling nitrogen. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, 15 g (136 mmol) of PhCH 2 NH 2 and 120 ml of benzonitrile were added, and the mixture was kept at 90 ° C. for about 5 hours. The reaction solution was cooled, precipitated by the phthalonitrile method, and then vacuum-dried to obtain 180 g of VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 (PhO) 4 (PhCH 2 NH) 4 . The maximum absorption wavelength when the phthalocyanine compound (C) was dispersed in a polyester resin (Byron 200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was 878 nm.

フタロシアニン化合物(D)の合成
3塩化バナジウムの代わりに、塩化銅1g(10ミリモル)を用いた他は化合物(C)の合成と同様にして、CuPc(2,5−ClPhO)(PhO)(PhCHNH)を180g得た。なお、フタロシアニン化合物(D)をポリエステル系樹脂(バイロン200、東洋紡績(株)製)に分散させた場合の最大吸収波長は810nmであった。
電磁波シールドフィルタの作製
図3(A)において、先ず、メッシュ状導電体層2とする金属箔として、一方の面に銅−コバルト合金粒子から成る黒化層7が形成された厚さ10μmの連続帯状の電解銅箔を用意した。また、透明基材1として厚さ100μmで連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
Synthesis of phthalocyanine compound (D) CuPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 (PhO) was carried out in the same manner as the synthesis of compound (C) except that 1 g (10 mmol) of copper chloride was used instead of vanadium trichloride. ) 4 (PhCH 2 NH) 4 180 g was obtained. The maximum absorption wavelength when the phthalocyanine compound (D) was dispersed in a polyester resin (Byron 200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was 810 nm.
Production of Electromagnetic Shielding Filter In FIG. 3A, first, as a metal foil to be a mesh-like conductor layer 2, a continuous 10 μm thick in which a blackened layer 7 made of copper-cobalt alloy particles is formed on one surface. A strip-shaped electrolytic copper foil was prepared. Moreover, the transparent base material 1 prepared the 100-micrometer-thick continuous belt-shaped non-colored transparent biaxially-stretched polyethylene terephthalate film.

そして、前記銅箔の両面に対して、亜鉛めっき後、ディッピング法にて公知のクロメート処理を行い、表裏両面に防錆層6を形成した。次いで、この銅箔をその黒化層面側で上記透明基材に、平均分子量3万のポリエステルポリウレタンポリオール12質量部と、キシレンジイソシアネート系プレポリマー1質量部とから成る透明な2液硬化型ウレタン樹脂系接着剤でドライラミネートした後、50℃3日間養生して、銅箔(防錆層)と透明基材間に厚さ7μmの透明接着剤層5を有する連続帯状の銅貼積層シートを得た。   And after carrying out zinc plating with respect to both surfaces of the said copper foil, the well-known chromate process was performed by the dipping method, and the antirust layer 6 was formed in both front and back surfaces. Next, a transparent two-component curable urethane resin comprising 12 parts by mass of a polyester polyurethane polyol having an average molecular weight of 30,000 and 1 part by mass of a xylene diisocyanate-based prepolymer on the transparent substrate on the blackened layer surface side of the copper foil. After dry laminating with an adhesive, it is cured at 50 ° C. for 3 days to obtain a continuous belt-like copper-clad laminated sheet having a transparent adhesive layer 5 having a thickness of 7 μm between the copper foil (rust preventive layer) and the transparent substrate. It was.

次いで、上記銅貼積層シートに対して、その銅箔(全面の、導電体層、黒化層及び防錆層)をフォトリソグラフィ法を利用したエッチングにより、防錆層6、メッシュ状導電体層2及び黒化層7からなるメッシュ層3が透明基材1上に形成されたメッシュ積層シートを得た。   Subsequently, the copper foil (the conductor layer, the blackening layer, and the rust prevention layer on the entire surface) is etched on the copper-laminated laminated sheet by using a photolithography method to prevent the rust prevention layer 6 and the mesh conductor layer. A mesh laminated sheet in which the mesh layer 3 composed of 2 and the blackening layer 7 was formed on the transparent substrate 1 was obtained.

エッチングは、具体的には、カラーTVシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記銅貼積層シートに対してマスキングからエッチングまでを行った。すなわち、上記銅貼積層シートの導電体層面全面にエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキング後、塩化第二鉄溶液で黒化層、防錆層を含めて銅箔をエッチングしてメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。メッシュ層のメッシュの形状は、図2に示されるように、その開口部が正方形で非開口部となる線状部分のライン幅は10μm、そのライン間隔(ピッチ)は300μm、メッシュ部3Aの長方形領域の長辺に対する劣角として定義されるバイアス角度49度である。また、メッシュ層のメッシュは、連続帯状のシートを所望の大きさの枚葉の四角形のシートに切断した時に、その四辺外周に開口部が無い幅15mmの額縁部3Bを残す様にエッチングした。   Specifically, the etching was performed from masking to etching on the continuous belt-shaped copper-clad laminate sheet using a production line for a color TV shadow mask. That is, after applying an etching resist to the entire surface of the conductor layer of the copper-clad laminate sheet, a desired mesh pattern is closely exposed, developed, hardened, baked, and then blackened with a ferric chloride solution, an anticorrosive layer The copper foil was etched to form a mesh-shaped opening, and then washed with water, stripped of resist, washed, and dried sequentially. As shown in FIG. 2, the mesh shape of the mesh layer is a rectangular part of the mesh part 3 </ b> A whose line width is 10 μm, and whose line interval (pitch) is 300 μm. A bias angle of 49 degrees, defined as a minor angle with respect to the long side of the region. Further, the mesh of the mesh layer was etched so as to leave a frame portion 3B having a width of 15 mm with no opening on the outer periphery of the four sides when the continuous belt-like sheet was cut into a rectangular sheet having a desired size.

複合電磁波シールドフィルタの作製
次いで、一旦巻き取られた上記メッシュ積層シートを、巻き出してそのメッシュ層3の面に対して、透明樹脂層4を形成する為に、近赤外線吸収剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物からなる塗液を、間欠塗工によって、メッシュ上に(固形分基準)塗工量で25g/m塗布した。塗工は、幅方向に走る額縁部及び両側の額縁部の全内周に向かって2.5mm進入した位置まで塗工されその外側は塗工されない様にした。なお、上記塗液は、光重合開始剤〔ダロキュア(登録商標)1173、長瀬産業株式会社製)を樹脂分に対して3%含有させた紫外線硬化型ポリカプロラクトン変性ウレタンアクリル樹脂に、上記のフタロシアニン化合物(A)、フタロシアニン化合物(B)、フタロシアニン化合物(C)、フタロシアニン化合物(D)を、上記塗工量で塗工形成後に於ける開口部での透明樹脂層中の単位面積当りの濃度(以下、「面積濃度」とも呼ぶ)が順に(A):0.09g/m、(B):0.13g/m、(C):0.13g/m、(D):0.18g/m、となる様な割合で含有し、これに更に適量の有機溶媒(メチルエチルケトン:トルエン=1:1質量比の混合溶剤)で希釈した液状の樹脂組成物からなる塗液である。
Production of Composite Electromagnetic Shielding Filter Next, the above-mentioned mesh laminated sheet once wound up is ionized by adding a near-infrared absorber to unwind and form a transparent resin layer 4 on the surface of the mesh layer 3 A coating liquid composed of a radiation curable resin composition was applied on a mesh (based on solid content) at a coating amount of 25 g / m 2 by intermittent coating. The coating was performed up to a position where the frame portion moved 2.5 mm toward the entire inner periphery of the frame portion running in the width direction and the frame portions on both sides, and the outer side was not coated. The coating liquid was prepared by adding the above phthalocyanine to a UV-curable polycaprolactone-modified urethane acrylic resin containing 3% of a photopolymerization initiator (Darocur (registered trademark) 1173, manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd.) with respect to the resin content. Compound (A), phthalocyanine compound (B), phthalocyanine compound (C), and phthalocyanine compound (D) at a concentration per unit area in the transparent resin layer at the opening after coating formation with the above coating amount ( (Hereinafter also referred to as “area concentration”) are (A): 0.09 g / m 2 , (B): 0.13 g / m 2 , (C): 0.13 g / m 2 , (D): 0.0. It is a coating liquid comprising a liquid resin composition which is contained at a ratio of 18 g / m 2 and further diluted with an appropriate amount of an organic solvent (mixed solvent of methyl ethyl ketone: toluene = 1: 1 mass ratio).

そして、上記塗布後、溶剤を乾燥後の塗膜に対して、平坦面を賦形する賦形シートとして、厚さ50μmの連続帯状の市販2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムをその易接着処理未処理面で塗膜にラミネートした。この後、該賦形シート側から紫外線照射(フュージョンUVシステムズ社製のランプ出力240W/cmのDバルブ、ランプ出力100%で使用し、光源−塗膜間距離60mm、ライン速度5m/minの条件)を行い、塗膜を硬化した後、賦形シートのみを剥離して、表面が平坦面の透明樹脂層4を形成し、図3Aの如き、複合電磁波シールドフィルタ10を得た。   And after the said application | coating, as a shaping sheet | seat which shapes a flat surface with respect to the coating film after drying a solvent, a 50-micrometer-thick continuous belt-shaped commercially available biaxially-stretched polyethylene terephthalate film is the unadhesion-treated untreated surface. And laminated to the coating film. Thereafter, UV irradiation from the side of the shaped sheet (using a D bulb with a lamp output of 240 W / cm manufactured by Fusion UV Systems, a lamp output of 100%, a light source-coating distance of 60 mm, and a line speed of 5 m / min) After the coating film was cured, only the shaped sheet was peeled off to form the transparent resin layer 4 having a flat surface, and a composite electromagnetic wave shielding filter 10 as shown in FIG. 3A was obtained.

なお、図3Aの複合電磁波シールドフィルタ10の層構成は、透明基材1側から順に、透明基材1/透明接着剤層5/メッシュ層3(防錆層6/黒化層7/メッシュ状導電体層2/防錆層6)/透明樹脂層4で、観察者側は透明基材1側となる構成である。なお、「/」はその左右の層が積層一体化されている事を示す。透明樹脂層4はメッシュ層3の直上及び開口部の両方に亙って全面に且つ表面を平坦面として形成されている。   3A is composed of transparent substrate 1 / transparent adhesive layer 5 / mesh layer 3 (rust prevention layer 6 / blackening layer 7 / mesh shape) in order from the transparent substrate 1 side. In the conductor layer 2 / rust prevention layer 6) / transparent resin layer 4, the observer side is configured to be the transparent substrate 1 side. “/” Indicates that the left and right layers are laminated and integrated. The transparent resin layer 4 is formed over the entire surface over both the mesh layer 3 and the opening, and the surface is a flat surface.

得られた積層体の紫外線照射前後の分光特性を、分光光度計(島津製作所製:UV−3100)を用いて測定した(図5(a):紫外線照射前、図5(b):紫外線照射後)ところ、紫外線照射前後で分光変化はほとんどみられず800−1000nmの光透過率が10%以下で近赤外線を充分に遮蔽していた。   Spectral characteristics of the obtained laminate before and after ultraviolet irradiation were measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation: UV-3100) (FIG. 5 (a): before ultraviolet irradiation, FIG. 5 (b): ultraviolet irradiation. After) However, almost no spectral change was observed before and after ultraviolet irradiation, and the light transmittance at 800-1000 nm was 10% or less, and the near infrared rays were sufficiently blocked.

<実施例2>
近赤外線吸収剤として3種類のフタロシアニン化合物、(A):0.13g/m、(C):0.13g/m、(D):0.18g/mを用いた他は、実施例1同様にして行った。得られた積層体の紫外線照射前後の分光特性を、分光光度計(島津製作所製:UV−3100)を用いて測定した(図6(a):紫外線照射前、図6(b):紫外線照射後)ところ、紫外線照射前後で分光変化はほとんどみられず、また1000nm付近の光線透過率は若干高いもののPDPパネルからの近赤外線輻射強度の強い800−950nmの光透過率は30%以下であり近赤外線を充分に遮蔽していた。
<Example 2>
Three phthalocyanine compound as a near-infrared absorbing agent, (A): 0.13g / m 2, (C): 0.13g / m 2, (D): except for using 0.18 g / m 2 is carried out It carried out like Example 1. Spectral characteristics of the obtained laminate before and after ultraviolet irradiation were measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation: UV-3100) (FIG. 6 (a): before ultraviolet irradiation, FIG. 6 (b): ultraviolet irradiation. After) However, there is almost no spectral change before and after UV irradiation, and the light transmittance at 1000-nm is slightly high, but the light transmittance at 800-950 nm with strong near-infrared radiation intensity from the PDP panel is 30% or less. The near infrared ray was sufficiently shielded.

<実施例3>
紫外線硬化型樹脂として 光重合開始剤〔Irgacure184(登録商標)、チバスペシャリティケミカルズ株式会社製)を樹脂分に対して3%含有させた紫外線硬化型ウレタンアクリル樹脂を用いた他は、実施例2同様にして行った。結果、実施例2と比較し、紫外線照射前後での分光変化が若干大きいものの、PDPパネルからの近赤外線輻射強度の強い800−950nmの光透過率は30%以下であり近赤外線を充分に遮蔽していた(図7(a):紫外線照射前、図7(b):紫外線照射後)。
<Example 3>
Example 2 The same as in Example 2 except that a photopolymerization initiator (Irgacure184 (registered trademark), manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) containing 3% of the resin content was used as the ultraviolet curable resin. I went there. As a result, although the spectral change before and after UV irradiation is slightly larger than that of Example 2, the light transmittance at 800-950 nm with strong near-infrared radiation intensity from the PDP panel is 30% or less, and the near-infrared rays are sufficiently shielded. (FIG. 7 (a): before ultraviolet irradiation, FIG. 7 (b): after ultraviolet irradiation).

<実施例4>
紫外線樹脂の代わりに、テトラヒドロフルフリルメタクリレート(THF)と、ウレタンアクリレートオリゴマー(UA)との1対1質量比の樹脂(光重合開始剤なし)を用い、硬化条件として電子線照射装置にて電子線を照射して〔加速電圧175kV、照射線量30kGy(3Mrad)〕、塗膜を硬化した以外は、実施例2同様にして行った。得られた積層体の分光特性は実施例2と同じく、電子線照射前後で分光変化はほとんどみられず、また1000nm付近の光線透過率は若干高いもののPDPパネルからの近赤外線輻射強度の強い800−950nmの光透過率は30%以下であり近赤外線を充分に遮蔽していた。
<Example 4>
Instead of the ultraviolet resin, a 1 to 1 mass ratio resin of tetrahydrofurfuryl methacrylate (THF) and a urethane acrylate oligomer (UA) (no photopolymerization initiator) is used, and the electron is irradiated with an electron beam irradiation device as curing conditions. This was performed in the same manner as in Example 2 except that the coating was cured by irradiating the wire [acceleration voltage 175 kV, irradiation dose 30 kGy (3 Mrad)]. The spectral characteristics of the obtained laminate were almost the same as in Example 2, and almost no spectral change was observed before and after electron beam irradiation, and although the light transmittance near 1000 nm was slightly high, the near-infrared radiation intensity from the PDP panel was strong 800 The light transmittance at −950 nm was 30% or less and sufficiently shielded near infrared rays.

<比較例1>
フタロシアニン化合物(A)、(B)、(C)、(D)の代わりに、ジインモニウム(IR−022、日本化薬(株)製)を2g用いた他は、実施例1同様にして行った。紫外線照射による塗膜硬化前の分光を図8(a)に、硬化後の分光を図8(b)に示す。硬化前後で分光が大きく変化し、800〜1000nmの近赤外線域の光透過率は30%を越えて近赤外線の遮蔽性能が著しく劣化した。
<Comparative Example 1>
The same procedure as in Example 1 was conducted except that 2 g of diimmonium (IR-022, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used instead of the phthalocyanine compounds (A), (B), (C), and (D). . FIG. 8A shows the spectrum before curing of the coating film by UV irradiation, and FIG. 8B shows the spectrum after curing. The spectrum changed greatly between before and after curing, and the light transmittance in the near infrared region of 800 to 1000 nm exceeded 30%, and the near infrared shielding performance was remarkably deteriorated.

<比較例2>
近赤外線吸収剤として2種類のフタロシアニン化合物、(C):0.13g/m、(D):0.12g/mのみを用いた他は、実施例1同様にして行った。紫外線照射前後で分光変化はほとんどみられないものの、PDPパネルからの近赤外線輻射強度の強い800−950nmのうち900nm以降を充分に遮蔽できず、950nmで光透過率は70%に達した(図9(a):紫外線照射前、図9(b):紫外線照射後)。
<Comparative example 2>
Two phthalocyanine compound as a near-infrared absorbing agent, (C): 0.13g / m 2, (D): except for using only 0.12 g / m 2 was performed in the same manner as in Example 1. Although there is almost no spectral change before and after UV irradiation, 900-nm and beyond cannot be sufficiently shielded from 800-950 nm with strong near-infrared radiation intensity from the PDP panel, and the light transmittance reaches 70% at 950 nm (Fig. 9 (a): before ultraviolet irradiation, FIG. 9 (b): after ultraviolet irradiation).

本発明による複合電磁波シールドフィルタの形態例を例示する断面図。Sectional drawing which illustrates the form example of the composite electromagnetic wave shield filter by this invention. メッシュ層の周囲に設ける額縁部を例示する平面図。The top view which illustrates the frame part provided in the circumference | surroundings of a mesh layer. 本発明による複合電磁波シールドフィルタの別の形態例の幾つかを例示する断面図。Sectional drawing which illustrates some of the another example of a form of the composite electromagnetic wave shield filter by this invention. 透明樹脂層を設ける位置及びその表面形状例の幾つかを例示する断面図。Sectional drawing which illustrates some of the position which provides a transparent resin layer, and its surface shape example. 図5は、実施例1で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示すものであって、図5(a)は同複合電磁波シールドフィルタの紫外線照射前の特性を、図5(b)は同複合電磁波シールドフィルタを紫外線照射に付した後の特性を、示すものである。FIG. 5 shows the spectral characteristics of the composite electromagnetic shielding filter obtained in Example 1. FIG. 5 (a) shows the characteristics of the composite electromagnetic shielding filter before irradiation with ultraviolet rays, and FIG. The characteristics after subjecting the composite electromagnetic wave shielding filter to ultraviolet irradiation are shown. 図6は、実施例2で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示すものであって、図6(a)は同複合電磁波シールドフィルタの紫外線照射前の特性を、図6(b)は同複合電磁波シールドフィルタを紫外線照射に付した後の特性を、示すものである。FIG. 6 shows the spectral characteristics of the composite electromagnetic wave shielding filter obtained in Example 2. FIG. 6 (a) shows the characteristics of the composite electromagnetic wave shielding filter before ultraviolet irradiation, and FIG. The characteristics after subjecting the composite electromagnetic wave shielding filter to ultraviolet irradiation are shown. 図7は、実施例3で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示すものであって、図7(a)は同複合電磁波シールドフィルタの紫外線照射前の特性を、図7(b)は同複合電磁波シールドフィルタを紫外線照射に付した後の特性を、示すものである。FIG. 7 shows the spectral characteristics of the composite electromagnetic wave shielding filter obtained in Example 3. FIG. 7 (a) shows the characteristics of the composite electromagnetic wave shielding filter before ultraviolet irradiation, and FIG. The characteristics after subjecting the composite electromagnetic wave shielding filter to ultraviolet irradiation are shown. 図8は、比較例1で得られた複合電磁波シールドフィルタ分光特性を示すものであって、図8(a)は同複合電磁波シールドフィルタの紫外線照射前の特性を、図8(b)は同複合電磁波シールドフィルタを紫外線照射に付した後の特性を、示すものである。FIG. 8 shows the spectral characteristics of the composite electromagnetic wave shield filter obtained in Comparative Example 1. FIG. 8 (a) shows the characteristics of the composite electromagnetic wave shield filter before ultraviolet irradiation, and FIG. 8 (b) shows the same characteristics. The characteristic after attaching | subjecting a composite electromagnetic wave shield filter to ultraviolet irradiation is shown. 図9は、比較例2で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示すものであって、図9(a)は同複合電磁波シールドフィルタの紫外線照射前の特性を、図9(b)は同複合電磁波シールドフィルタを紫外線照射に付した後の特性を、示すものである。FIG. 9 shows the spectral characteristics of the composite electromagnetic wave shielding filter obtained in Comparative Example 2. FIG. 9 (a) shows the characteristics of the composite electromagnetic wave shielding filter before ultraviolet irradiation, and FIG. The characteristics after subjecting the composite electromagnetic wave shielding filter to ultraviolet irradiation are shown.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明基材
2 メッシュ状導電体層
3 メッシュ層
3A メッシュ部
3B 額縁部
4 近赤外線吸収層
5 透明接着剤層
6 防錆層
7 黒化層
10 複合電磁波シールドフィルタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base material 2 Mesh-like conductor layer 3 Mesh layer 3A Mesh part 3B Frame part 4 Near-infrared absorption layer 5 Transparent adhesive layer 6 Rust prevention layer 7 Blackening layer 10 Composite electromagnetic wave shielding filter

Claims (2)

電磁波シールド性能と近赤外線吸収性能を有する複合電磁波シールドフィルタであって、
透明基材上に、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層が形成され、更に、前記透明基材にメッシュ層が形成された側の面の少なくともメッシュ層の開口部を含む面には近赤外線吸収層が形成された複合電磁波シールドフィルタであり、
前記近赤外線吸収層が、下記の四種類のフタロシアニン化合物(A)〜(D)の内の少なくとも三種類を含んでなる電離放射線硬化型の透明樹脂からなることを特徴とする、複合電磁波シールドフィルタ。
フタロシアニン化合物(A):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ、少なくとも3つは塩素原子を有する。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(B):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ、実質的に塩素原子を有さない。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(C):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ、硫黄原子を介する置換基を実質的に含まない。Mは酸化バナジウムである。)
フタロシアニン化合物(D):
下記の式〔I〕で表される化合物(但し、A〜A16の内の少なくとも4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ硫黄原子を介する置換基を実質的に含まない。Mは銅である。)
Figure 2006237505
(式〔I〕中、A〜A16は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ヒドロキシスルホニル基、アミノスルホニル基、あるいは窒素原子、硫黄原子、酸素原子またはハロゲン原子を含んでも良い炭素数1〜20の置換基を表し、かつ、隣り合う2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。Mは、酸化バナジウムまたは銅を表す。)
A composite electromagnetic shielding filter having electromagnetic shielding performance and near infrared absorption performance,
A mesh layer including a mesh-like conductor layer is formed on a transparent substrate, and further, near infrared absorption is performed on a surface including at least the mesh layer opening on the surface on which the mesh layer is formed on the transparent substrate. A composite electromagnetic shielding filter in which a layer is formed;
The near-infrared absorbing layer is made of an ionizing radiation curable transparent resin comprising at least three of the following four types of phthalocyanine compounds (A) to (D): .
Phthalocyanine compound (A):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are substituents via a sulfur atom, and at least three have a chlorine atom. M 1 is oxidized) Vanadium.)
Phthalocyanine compound (B):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are substituents via a sulfur atom and substantially have no chlorine atom. M 1 is Vanadium oxide.)
Phthalocyanine compound (C):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are a substituent via a nitrogen atom and substantially free of a substituent via a sulfur atom). M 1 is vanadium oxide.)
Phthalocyanine compound (D):
A compound represented by the following formula [I] (provided that at least four of A 1 to A 16 are a substituent via a nitrogen atom and are substantially free of a substituent via a sulfur atom. 1 is copper.)
Figure 2006237505
(In the formula [I], A 1 to A 16 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a hydroxysulfonyl group, an aminosulfonyl group, a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, or a halogen atom. It represents a substituent having 1 to 20 carbon atoms which may be contained, and two adjacent substituents may be connected via a linking group, and M 1 represents vanadium oxide or copper.
請求項1に記載の複合電磁波シールドフィルタがディスプレイの観察側に配置されていることを特徴とする、プラズマディスプレイ。   A plasma display, wherein the composite electromagnetic wave shielding filter according to claim 1 is disposed on the viewing side of the display.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009042755A (en) * 2007-08-06 2009-02-26 Samsung Corning Precision Glass Co Ltd Optical filter for display apparatus
CN102472854A (en) * 2010-06-16 2012-05-23 索尼公司 Optical body, window member, fittings, solar radiation shield device, and building

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