JP2006236518A - Sheet for protective layer formation of optical recording medium, optical recording medium and manufacturing method of those - Google Patents

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Masahiko Sekiya
昌彦 関谷
Masahito Nakabayashi
正仁 中林
Takeshi Miyata
壮 宮田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sheet for protective layer formation forming a protective layer of an optical recording medium having uniform physical properties, to provide its manufacturing method, and also to provide the optical recording medium provided with the protective layer having the uniform physical properties, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: In the sheet 1 for protective layer formation comprising an uncured protective layer 11 and two base materials 12 and 12' sandwiching the uncured protective layer 11, the protective layer 11 before curing is constituted of a composition which contains 10 to 70 mass% energy ray curing compound having ≥25°C melting point and 30 to 90 mass% energy ray curing oligomer which is preferably in a liquid state at 20°C, and does not substantially contain a polymer component having weight average molecular weight of 50,000 or more. The protective layer 11 is press-fixed to an information recording layer (a semitransmission reflection layer 3') and the protective layer 11 is cured by irradiation with an energy ray to form the protective layer 11'. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光記録媒体の表面を保護する保護層を形成するためのシートおよびその製造方法、ならびに当該シートを使用した光記録媒体およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a sheet for forming a protective layer for protecting the surface of an optical recording medium and a manufacturing method thereof, and an optical recording medium using the sheet and a manufacturing method thereof.

光ディスクとして、ポリカーボネートからなる光ディスク基板と、光ディスク基板上に形成された1層または2層以上の情報記録層と、接着層を介して情報記録層に接着された保護フィルムとから構成されるものが一般的に知られている。光ディスクが読出し専用のものである場合、情報記録層にはピットを構成する凹凸パターンが形成され、光ディスクが書換え可能なものである場合、情報記録層にはグルーブおよびランドを構成する凹凸パターンが形成される。   2. Description of the Related Art An optical disk is composed of an optical disk substrate made of polycarbonate, one or more information recording layers formed on the optical disk substrate, and a protective film bonded to the information recording layer through an adhesive layer Generally known. When the optical disc is read-only, the information recording layer has a concavo-convex pattern forming pits. When the optical disc is rewritable, the information recording layer has a concavo-convex pattern forming grooves and lands. Is done.

保護フィルムと情報記録層との接着方法としては、例えば、保護フィルムまたは情報記録層に光硬化性樹脂を塗工して接着層を形成し、その接着層によって保護フィルムと情報記録層とを貼り合わせる方法が知られている(特許文献1)。   As a method for adhering the protective film and the information recording layer, for example, a photocurable resin is applied to the protective film or the information recording layer to form an adhesive layer, and the protective film and the information recording layer are bonded by the adhesive layer. A method of matching is known (Patent Document 1).

しかしながら、上記の方法は、接着層を形成する工程と、保護フィルムを貼り合わせる工程とを必要とするため、光ディスクの製造工程を増やす一因、ひいては光ディスクの製造コストを増加させる一因となっていた。   However, the above-described method requires a step of forming an adhesive layer and a step of bonding a protective film, and thus contributes to an increase in the manufacturing process of the optical disk, and in turn increases the manufacturing cost of the optical disk. It was.

そこで、最近、光硬化性接着剤フィルムをあらかじめ形成し、その光硬化性接着剤フィルムを情報記録層に転写して、光硬化性接着剤による保護層を形成してなる光ディスクが提案された(特許文献2)。かかる光ディスクによれば、接着層を形成することなく、情報記録層に直接保護層を形成することができるため、従来の光ディスクの製造工程を一つ減らすことができる。
特開平10−283683号公報 特開2002−25110号公報
Therefore, recently, an optical disc has been proposed in which a photocurable adhesive film is formed in advance, the photocurable adhesive film is transferred to an information recording layer, and a protective layer is formed by the photocurable adhesive ( Patent Document 2). According to such an optical disc, since a protective layer can be formed directly on the information recording layer without forming an adhesive layer, the conventional optical disc manufacturing process can be reduced by one.
JP-A-10-283683 JP 2002-25110 A

特許文献2に記載の発明では、光硬化性の(メタ)アクリル樹脂またはエチレン−酢酸ビニル共重合体を主原料とする光硬化性接着剤を使用し、その光硬化性接着剤を酢酸エチル中で混合溶解して調製した接着剤塗布液をセパレーター上に塗布することにより、接着剤層を形成している。   In the invention described in Patent Document 2, a photocurable adhesive mainly composed of a photocurable (meth) acrylic resin or an ethylene-vinyl acetate copolymer is used, and the photocurable adhesive is contained in ethyl acetate. An adhesive layer is formed by applying an adhesive coating solution prepared by mixing and dissolving on a separator.

しかしながら、上記のような接着剤塗布液を使用して得られる保護層においては、屈折率等の物性が不均一になり易く、その場合には、光ディスクとして不適なものとなる。   However, in the protective layer obtained by using the adhesive coating liquid as described above, the physical properties such as the refractive index are likely to be non-uniform, and in that case, it is unsuitable as an optical disk.

本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、均一な物性を有する光記録媒体の保護層を形成することのできる保護層形成用シートおよびその製造方法、ならびに均一な物性を有する保護層を備えた光記録媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and has a protective layer forming sheet capable of forming a protective layer of an optical recording medium having uniform physical properties, a method for producing the same, and uniform physical properties. An object of the present invention is to provide an optical recording medium having a protective layer and a method for producing the same.

上記目的を達成するために、第1に本発明は、融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物を10〜70質量%含有し、重量平均分子量が50,000以上の高分子成分を実質的に含有しない組成物からなる硬化前保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シートを提供する(請求項1)。   In order to achieve the above object, first, the present invention substantially comprises a polymer component containing 10 to 70% by mass of an energy ray curable compound having a melting point of 25 ° C. or higher and a weight average molecular weight of 50,000 or higher. Provided is a protective layer-forming sheet for an optical recording medium, comprising a pre-curing protective layer comprising a composition not contained.

本明細書における「光記録媒体」とは、光学的に情報を記録・再生することのできる媒体をいい、主として再生専用型、追記型または書換え型のディスク状の媒体(例えば、CD、CD−ROM、CD−R、CD−RW、DVD、DVD−ROM、DVD−R、DVD−RW、DVD−RAM、LD、Blu−ray Disc、MO等;いわゆる光ディスク(光磁気ディスクを含む))が該当するが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   An “optical recording medium” in this specification refers to a medium on which information can be optically recorded / reproduced, and is mainly a read-only, write once or rewritable disc-like medium (for example, CD, CD- ROM, CD-R, CD-RW, DVD, DVD-ROM, DVD-R, DVD-RW, DVD-RAM, LD, Blu-ray Disc, MO, etc .; so-called optical disks (including magneto-optical disks) However, it is not necessarily limited to these.

従来の光ディスク(特開2002−25110号公報)において接着剤塗布液を使用して得られる保護層の物性の不均一化は、接着剤塗布液の溶剤揮発に伴う高分子成分(重量平均分子量50,000以上)の対流が一因と考えられるが、上記発明(請求項1)では、重量平均分子量が50,000以上の高分子成分を実質的に含有しないため、保護層の物性は均一なものとなる。また、通常、重量平均分子量が50,000以上の高分子成分を含有しない組成物からなる硬化前保護層は、形状保持性が低いものになる傾向があるが、上記発明(請求項1)では、融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物を使用することにより、形状保持性に優れた硬化前保護層を得ることができる。このような保護層形成用シートによれば、良好な信号特性を有する光記録媒体を、少ない製造工程で製造することができる。   In the conventional optical disk (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-25110), the physical properties of the protective layer obtained by using the adhesive coating liquid are made nonuniform, which is a polymer component (weight average molecular weight of 50) accompanying the solvent volatilization of the adhesive coating liquid. However, in the above-mentioned invention (Invention 1), the physical properties of the protective layer are uniform because it does not substantially contain a polymer component having a weight average molecular weight of 50,000 or more. It will be a thing. In general, a pre-curing protective layer made of a composition containing no polymer component having a weight average molecular weight of 50,000 or more tends to have low shape retention, but in the above invention (invention 1) By using an energy ray curable compound having a melting point of 25 ° C. or higher, a pre-curing protective layer having excellent shape retention can be obtained. According to such a protective layer forming sheet, an optical recording medium having good signal characteristics can be manufactured with a small number of manufacturing steps.

上記発明(請求項1)において、前記組成物は、さらに20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマーを30〜90質量%含有することが好ましい(請求項2)。組成物がかかるオリゴマーを含有することにより、保護層の靭性を適度に保ち、光記録媒体の製造工程中に保護層にクラック等の不具合が発生することを防止することができる。   In the said invention (invention 1), it is preferable that the said composition contains 30-90 mass% of liquid energy ray-curable oligomers further at 20 degreeC (invention 2). When the composition contains such an oligomer, the toughness of the protective layer can be kept moderate, and defects such as cracks can be prevented from occurring in the protective layer during the production process of the optical recording medium.

上記発明(請求項1,2)において、前記硬化前保護層は、表面粗さ(Ra)が0.1μm以下の平滑面を有する基材の前記平滑面に積層されていること(請求項3)、さらには、表面粗さ(Ra)が0.1μm以下の平滑面を有する2つの基材の前記平滑面相互間に挟まれていること(請求項4)が好ましい。   In the above inventions (Inventions 1 and 2), the protective layer before curing is laminated on the smooth surface of a substrate having a smooth surface with a surface roughness (Ra) of 0.1 μm or less (Invention 3). Furthermore, it is preferable that the surface roughness (Ra) is sandwiched between the smooth surfaces of two substrates having a smooth surface of 0.1 μm or less (Claim 4).

上記発明(請求項3)によれば、硬化前保護層における少なくとも一方の面の平滑性が高くなり、この面を情報記録層に密着させることにより、より良好な信号特性を得ることができる。また、上記発明(請求項4)によれば、硬化前保護層の両面の平滑性が高くなるため、さらに良好な信号特性を得ることができる。   According to the above invention (invention 3), the smoothness of at least one surface of the pre-curing protective layer is increased, and better signal characteristics can be obtained by bringing this surface into close contact with the information recording layer. Moreover, according to the said invention (invention 4), since the smoothness of both surfaces of the protective layer before hardening becomes high, a more favorable signal characteristic can be obtained.

第2に本発明は、硬化前保護層を備えた光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法であって、融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物を10〜70質量%含有し、重量平均分子量が50,000以上の高分子成分を実質的に含有しない組成物を、溶剤を使用することなく第1の平面上に塗布するとともに、前記第1の平面と第2の平面によって挟むことにより、前記硬化前保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法を提供する(請求項5)。   Secondly, the present invention is a method for producing a protective layer-forming sheet for an optical recording medium provided with a pre-curing protective layer, containing 10 to 70% by mass of an energy ray-curable compound having a melting point of 25 ° C. or higher, and having a weight. A composition that does not substantially contain a polymer component having an average molecular weight of 50,000 or more is applied on the first plane without using a solvent, and is sandwiched between the first plane and the second plane. To provide a protective layer forming sheet for an optical recording medium, wherein the pre-curing protective layer is formed.

なお、ここでいう「平面」は、シート状の基材の平面であってもよいが、これに限定されるものではなく、例えば、テーブル等の平面であってもよい。また、当該平面を有する物は、必ずしも記録媒体の保護層形成用シートにおける硬化前保護層に積層されていなくてもよい。   Here, the “plane” may be a plane of a sheet-like base material, but is not limited thereto, and may be a plane of a table or the like, for example. Moreover, the thing which has the said plane does not necessarily need to be laminated | stacked on the protection layer before hardening in the sheet | seat for protective layer formation of a recording medium.

上記発明(請求項5)によれば、厚さ精度の高い硬化前保護層を確実に形成することができる。また、溶剤を使用することなく上記組成物を塗布することにより、溶剤の揮発に伴う組成物中の成分の対流が生じることがないため、保護層の物性の均一性をより確実なものとすることができる。   According to the above invention (invention 5), the pre-curing protective layer with high thickness accuracy can be reliably formed. In addition, by applying the above composition without using a solvent, convection of the components in the composition accompanying the volatilization of the solvent does not occur, so the uniformity of the physical properties of the protective layer is made more reliable. be able to.

上記発明(請求項5)において、前記組成物は、さらに20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマーを30〜90質量%含有することが好ましい(請求項6)。   In the said invention (invention 5), it is preferable that the said composition contains 30-90 mass% of liquid energy ray-curable oligomers further at 20 degreeC (invention 6).

第3に本発明は、光記録媒体基板と、1層または2層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、最外層の情報記録層に対し、前記光記録媒体の保護層形成用シート(請求項1〜4)の硬化前保護層を圧着し、エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する(請求項7)。   Thirdly, the present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium comprising an optical recording medium substrate, one or more information recording layers, and a protective layer. The protective layer-forming sheet of the optical recording medium (Claims 1 to 4) is pressure-bonded, and the protective layer is cured by irradiation with energy rays, thereby forming the protective layer of the optical recording medium. An optical recording medium manufacturing method is provided (claim 7).

第4に本発明は、光記録媒体基板と、1層または2層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、最外層の情報記録層に対し、前記光記録媒体の保護層形成用シート(請求項3)の硬化前保護層を、前記保護層形成用シートにおける前記基材の平滑面に接していた側の面が前記情報記録層側になるようにして圧着し、エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する(請求項8)。   Fourthly, the present invention relates to a method of manufacturing an optical recording medium comprising an optical recording medium substrate, one or more information recording layers, and a protective layer, the outermost information recording layer being The protective layer pre-curing protective layer of the optical recording medium (Claim 3), the surface of the protective layer forming sheet that is in contact with the smooth surface of the substrate is the information recording layer side. Thus, a method for producing an optical recording medium is provided, wherein the protective layer before curing is cured by irradiation with energy rays, thereby forming a protective layer for the optical recording medium. .

上記発明(請求項7,8)によれば、接着層を形成することなく、しかも均一な物性を有する保護層を形成することができるため、良好な信号特性を有する光記録媒体が得られる。   According to the above inventions (Inventions 7 and 8), since a protective layer having uniform physical properties can be formed without forming an adhesive layer, an optical recording medium having good signal characteristics can be obtained.

第5に本発明は、前記光記録媒体の保護層形成用シート(請求項1〜4)の硬化前保護層を硬化してなる保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体を提供する(請求項9)。   Fifthly, the present invention provides an optical recording medium comprising a protective layer obtained by curing the protective layer before curing of the protective layer-forming sheet of the optical recording medium (claims 1 to 4). (Claim 9).

第6に本発明は、光記録媒体基板と、1層または2層以上の情報記録層と、前記光記録媒体の保護層形成用シート(請求項3)の硬化前保護層を硬化してなる保護層とを備え、前記保護層は、前記硬化前保護層における前記基材の平滑面に接していた側の面を情報記録層側として、前記情報記録層に積層されていることを特徴とする光記録媒体を提供する(請求項10)。   Sixth, the present invention is obtained by curing an optical recording medium substrate, one or more information recording layers, and a protective layer before curing of a protective layer forming sheet of the optical recording medium (Claim 3). A protective layer, and the protective layer is laminated on the information recording layer, with the surface of the protective layer before curing that is in contact with the smooth surface of the base material being the information recording layer side. An optical recording medium is provided.

本発明によれば、形状保持性に優れ、かつ均一な物性(例えば屈折率)を有する保護層を形成することのできる光記録媒体の保護層形成用シートが得られる。また、本発明によれば、均一な物性を有する保護層を、接着層を介することなく情報記録層に形成することができ、それによって良好な信号特性を有する光記録媒体が得られる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sheet | seat for protective layer formation of the optical recording medium which can form the protective layer which is excellent in shape retention property and has a uniform physical property (for example, refractive index) is obtained. Further, according to the present invention, a protective layer having uniform physical properties can be formed on the information recording layer without using an adhesive layer, whereby an optical recording medium having good signal characteristics can be obtained.

以下、本発明の実施形態について説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートの断面図であり、図2(a)〜(g)は同実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a protective layer forming sheet for an optical disc according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2G are optical discs using the protective layer forming sheet for an optical disc according to the embodiment. It is sectional drawing which shows an example of this manufacturing method.

図1に示すように、本実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シート1は、硬化前保護層11と、硬化前保護層11の一方の面に積層された基材12と、硬化前保護層11の他方の面に積層された基材12’とからなる。ただし、基材12,12’は、保護層形成用シート1の使用時に剥離されるものである。   As shown in FIG. 1, a protective layer forming sheet 1 for an optical disc according to this embodiment includes a pre-curing protective layer 11, a base material 12 laminated on one surface of the pre-curing protective layer 11, and pre-curing protection. It consists of a base material 12 ′ laminated on the other surface of the layer 11. However, the base materials 12 and 12 ′ are peeled off when the protective layer forming sheet 1 is used.

硬化前保護層11は、融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物(I)と、好ましくは20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマー(II)と、所望により第三成分(III)とを含有し、重量平均分子量が50,000以上の高分子成分を実質的に含有しない組成物からなり、エネルギー線の照射によって硬化し、光ディスクDの保護層11’を形成するものである。   The pre-curing protective layer 11 contains an energy ray curable compound (I) having a melting point of 25 ° C. or higher, preferably an energy ray curable oligomer (II) which is liquid at 20 ° C., and optionally a third component (III). The protective layer 11 ′ of the optical disk D is formed by a composition that does not substantially contain a polymer component having a weight average molecular weight of 50,000 or more and is cured by irradiation with energy rays.

〔融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物(I)〕
融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物(I)としては、例えば、ベヘニルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド(EO)変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のアクリレートなどが挙げられ、それらの中でも、ベヘニルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレートおよびイソシアヌール酸EO変性トリアクリレートが好ましい。
[Energy ray curable compound (I) having a melting point of 25 ° C. or higher]
Examples of the energy ray-curable compound (I) having a melting point of 25 ° C. or higher include behenyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate, and isocyanuric acid ethylene oxide. Examples include (EO) -modified triacrylate and acrylates such as pentaerythritol tetraacrylate. Among them, behenyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, and isocyanuric acid EO-modified triacrylate are preferable.

エネルギー線硬化性化合物(I)が重合体の場合、その重量平均分子量(Mw)は、10,000以下、特に5,000以下であることが好ましい。エネルギー線硬化性化合物(I)の重量平均分子量が10,000を超えると、保護層11’の物性の不均一化を招くおそれがある。   When the energy ray curable compound (I) is a polymer, its weight average molecular weight (Mw) is preferably 10,000 or less, particularly preferably 5,000 or less. If the weight average molecular weight of the energy ray curable compound (I) exceeds 10,000, the physical properties of the protective layer 11 ′ may be uneven.

エネルギー線硬化性化合物(I)の融点は、25℃以上であることが必要である。融点が25℃未満では、硬化前保護層11の形状安定性が低く、ハンドリング性が悪いものとなる。一方、融点が高すぎると、塗工適性が低下するおそれがある。したがって、エネルギー線硬化性化合物(I)の融点は、25〜100℃であることが好ましく、特に35〜80℃であることが好ましい。   The melting point of the energy beam curable compound (I) needs to be 25 ° C. or higher. When the melting point is less than 25 ° C., the shape stability of the pre-curing protective layer 11 is low and the handling property is poor. On the other hand, if the melting point is too high, the coating suitability may be reduced. Therefore, it is preferable that melting | fusing point of energy-beam curable compound (I) is 25-100 degreeC, and it is especially preferable that it is 35-80 degreeC.

硬化前保護層11を構成する組成物中、エネルギー線硬化性化合物(I)の含有量は10〜70質量%であり、好ましくは40〜60質量%である。エネルギー線硬化性化合物(I)の含有量が10質量%未満では、硬化前保護層11の形状安定性が低くなる。一方、エネルギー線硬化性化合物(I)の含有量が70質量%を超えると、硬化前保護層11または硬化後の保護層11’の靭性が低くなり過ぎ、製造工程中に硬化前保護層11または硬化後の保護層11’にクラック等の不具合が発生するおそれがある。   In the composition constituting the pre-curing protective layer 11, the content of the energy ray-curable compound (I) is 10 to 70% by mass, preferably 40 to 60% by mass. If content of energy-beam curable compound (I) is less than 10 mass%, the shape stability of the protective layer 11 before hardening will become low. On the other hand, when the content of the energy beam curable compound (I) exceeds 70% by mass, the toughness of the protective layer 11 before curing or the protective layer 11 ′ after curing becomes too low, and the protective layer 11 before curing during the manufacturing process. Or there is a possibility that defects such as cracks may occur in the protective layer 11 ′ after curing.

〔20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマー(II)〕
20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマー(II)としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートのオリゴマーが挙げられ、それらの中でもウレタン(メタ)アクリレートが好ましい。
[Liquid energy ray-curable oligomer (II) at 20 ° C]
Examples of the energy ray-curable oligomer (II) that is liquid at 20 ° C. include oligomers of (meth) acrylates such as urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate. Urethane (meth) acrylate is preferred.

エネルギー線硬化性オリゴマー(II)の重量平均分子量(Mw)は、1,000〜10,000であるのが好ましく、特に1,000〜5,000であるのが好ましい。エネルギー線硬化性オリゴマー(II)の重量平均分子量が1,000未満であると、硬化前保護層11の形状安定性が低くなるおそれ、および硬化後の保護層11’の柔軟性が低くなるおそれがある。一方、エネルギー線硬化性オリゴマー(II)の重量平均分子量が10,000を超えると、硬化後の保護層11’の物性の不均一化を招くおそれがある。   The weight average molecular weight (Mw) of the energy ray curable oligomer (II) is preferably 1,000 to 10,000, and more preferably 1,000 to 5,000. If the weight average molecular weight of the energy ray-curable oligomer (II) is less than 1,000, the shape stability of the protective layer 11 before curing may be low, and the flexibility of the protective layer 11 ′ after curing may be low. There is. On the other hand, if the weight average molecular weight of the energy ray-curable oligomer (II) exceeds 10,000, the physical properties of the protective layer 11 'after curing may be made non-uniform.

硬化前保護層11を構成する組成物が上記のような20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマー(II)を含有することにより、保護層11’の靭性を適度に保ち、光ディスクDの製造工程中に保護層11’にクラック等の不具合が発生することを防止することができる。   The composition constituting the pre-curing protective layer 11 contains the energy ray-curable oligomer (II) that is liquid at 20 ° C. as described above, so that the toughness of the protective layer 11 ′ is kept moderate, and the optical disk D manufacturing process It is possible to prevent defects such as cracks from occurring in the protective layer 11 ′.

硬化前保護層11を構成する組成物中、エネルギー線硬化性オリゴマー(II)の含有量は30〜90質量%であることが好ましく、特に40〜60質量%であることが好ましい。エネルギー線硬化性オリゴマー(II)の含有量が30質量%未満では、硬化前保護層11または硬化後の保護層11’の靭性を適度に保つ効果が得られ難く、エネルギー線硬化性オリゴマー(II)の含有量が90質量%を超えると、組成物の均質性が低くなり、硬化前保護層11、ひいては硬化後の保護層11’の物性が不均一になる。   In the composition constituting the pre-curing protective layer 11, the content of the energy ray-curable oligomer (II) is preferably 30 to 90% by mass, and particularly preferably 40 to 60% by mass. When the content of the energy ray-curable oligomer (II) is less than 30% by mass, it is difficult to obtain an effect of appropriately maintaining the toughness of the protective layer 11 before curing or the protective layer 11 ′ after curing. When the content of) exceeds 90% by mass, the homogeneity of the composition becomes low, and the physical properties of the protective layer 11 before curing, and hence the protective layer 11 'after curing, become non-uniform.

〔第三成分(III)〕
硬化前保護層11を構成する組成物は、上記エネルギー線硬化性化合物(I)およびエネルギー線硬化性オリゴマー(II)以外の第三成分(III)を含有してもよい。そのような第三成分(III)としては、例えば、レベリング剤、微粒子、その他の添加剤等が挙げられる。また、エネルギー線として紫外線を用いる場合には、第三成分(III)として光重合開始剤を添加することにより、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。
[Third component (III)]
The composition constituting the pre-curing protective layer 11 may contain a third component (III) other than the energy beam curable compound (I) and the energy beam curable oligomer (II). Examples of such third component (III) include leveling agents, fine particles, and other additives. In addition, when ultraviolet rays are used as energy rays, the polymerization curing time and the amount of light irradiation can be reduced by adding a photopolymerization initiator as the third component (III).

光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4−ジエチルチオキサンソン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、(2,4,6−トリメチルベンジルジフェニル)フォスフィンオキサイド、2−ベンゾチアゾール−N,N−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−プロペニル)フェニル]プロパノン}などが挙げられる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, methyl benzoin benzoate, benzoin dimethyl ketal, 2,4 -Diethylthioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone, (2,4,6-trimethyl) Benzyldiphenyl) phosphine oxide, 2-benzothiazole-N, N-diethyldithiocarbamate, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1 [4- (1-propenyl) phenyl] propanone}, and the like.

光重合開始剤は、エネルギー線硬化性化合物(I)およびエネルギー線硬化性オリゴマー(II)の合計量100質量部に対して0.1〜20質量部、特には0.5〜10質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。   A photoinitiator is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of energy-beam curable compound (I) and energy-beam curable oligomer (II), especially 0.5-10 mass parts. It is preferably used in amounts in the range.

レベリング剤としては、例えば、ジメチルシロキサン系化合物、フッ素系化合物、界面活性剤等を使用することができる。組成物がかかるレベリング剤を含有することにより、硬化前保護層11(保護層11’)の平滑性を向上させることができる。   As the leveling agent, for example, a dimethylsiloxane compound, a fluorine compound, a surfactant and the like can be used. By containing such a leveling agent in the composition, the smoothness of the pre-curing protective layer 11 (protective layer 11 ') can be improved.

硬化前保護層11を構成する組成物中、レベリング剤の含有量は、エネルギー線硬化性化合物(I)100質量部に対して、0〜2質量部であることが好ましく、特に0.01〜0.5質量部であることが好ましい。   In the composition constituting the protective layer 11 before curing, the content of the leveling agent is preferably 0 to 2 parts by mass, particularly 0.01 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the energy beam curable compound (I). The amount is preferably 0.5 parts by mass.

微粒子としては、例えば、平均粒子径が0.5μm以下の二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリン、硫酸カルシウム粒子等の無機微粒子や、有機物によって修飾された上記無機酸化物微粒子、あるいは、例えば特開2000−273272号公報に記載の反応性粒子などが挙げられる。組成物がかかる微粒子を含有することにより、得られる保護層11’の硬度を向上させ、保護層11’に傷防止性能を付与することができる。   Examples of the fine particles include inorganic fine particles such as silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles, tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles, talc, kaolin, and calcium sulfate particles having an average particle size of 0.5 μm or less. In addition, the inorganic oxide fine particles modified with an organic substance, or reactive particles described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-273272 may be used. When the composition contains such fine particles, the hardness of the protective layer 11 ′ obtained can be improved, and scratch protection performance can be imparted to the protective layer 11 ′.

硬化前保護層11を構成する組成物中、微粒子の含有量は、エネルギー線硬化性化合物(I)100質量部に対して、0〜60質量部であることが好ましく、特に0〜50質量部であることが好ましい。   In the composition constituting the protective layer 11 before curing, the content of the fine particles is preferably 0 to 60 parts by mass, particularly 0 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the energy ray curable compound (I). It is preferable that

その他の添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、粘着付与剤、カップリング剤、染料等が挙げられる。硬化前保護層11を構成する組成物中、その他の添加剤の含有量は、エネルギー線硬化性化合物(I)100質量部に対して、その他の添加剤の合計で0〜5質量部であることが好ましく、特に0〜3質量部であることが好ましい。   Examples of other additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, tackifiers, coupling agents, and dyes. In the composition constituting the protective layer 11 before curing, the content of other additives is 0 to 5 parts by mass in total of the other additives with respect to 100 parts by mass of the energy ray curable compound (I). It is preferable that it is 0-3 mass parts especially.

硬化前保護層11を構成する組成物は、重量平均分子量(Mw)が50,000以上の高分子成分を実質的に含有しない。かかる高分子成分を含有すると、組成物の均質性が低くなり、硬化前保護層11、ひいては硬化後の保護層11’の物性が不均一になる。   The composition constituting the pre-curing protective layer 11 does not substantially contain a polymer component having a weight average molecular weight (Mw) of 50,000 or more. When such a polymer component is contained, the homogeneity of the composition becomes low, and the physical properties of the protective layer 11 before curing, and hence the protective layer 11 'after curing, become non-uniform.

硬化前保護層11を構成する組成物の硬化後の貯蔵弾性率は、1×10Pa以上であるのが好ましく、5×10〜1×10Paであるのが特に好ましい。ここで、「硬化後の貯蔵弾性率」の測定温度は、光ディスクの保管環境と同じ温度、すなわち室温であるものとする。 The storage elastic modulus after curing of the composition constituting the pre-curing protective layer 11 is preferably 1 × 10 6 Pa or more, particularly preferably 5 × 10 6 to 1 × 10 8 Pa. Here, the measurement temperature of the “storage modulus after curing” is the same temperature as the storage environment of the optical disk, that is, room temperature.

硬化前保護層11の硬化後の貯蔵弾性率が1×10Pa未満であると、形成される保護層11’の強度が不足するおそれがある。 When the storage elastic modulus after curing of the pre-curing protective layer 11 is less than 1 × 10 6 Pa, the strength of the formed protective layer 11 ′ may be insufficient.

硬化前保護層11を構成する組成物の硬化後の波長400nm以上の光の透過率は、85%以上であるのが好ましい。光ディスクにおいては、記録容量を上げるために短波長レーザ(例えば波長405nmの青紫色レーザ)を使用することがあるが、硬化後の組成物(保護層11’)が上記透過率を有することにより、かかる短波長レーザにも対応することが可能となる。   The transmittance of light having a wavelength of 400 nm or more after curing of the composition constituting the pre-curing protective layer 11 is preferably 85% or more. In an optical disk, a short wavelength laser (for example, a blue-violet laser having a wavelength of 405 nm) may be used to increase the recording capacity, but the cured composition (protective layer 11 ′) has the above transmittance. It is possible to cope with such a short wavelength laser.

硬化前保護層11を構成する組成物の硬化後の線膨張係数(保護層11’の線膨張係数)は、湿熱条件下での使用でも光ディスクが大きな反りを起こさないよう、光ディスク基板2の線膨張係数とほぼ同じであるのが好ましい。例えば、光ディスク基板2がポリカーボネート樹脂からなる場合、その線膨張係数は通常0.8×10−4/℃であるため、この場合、硬化前保護層11を構成する組成物の硬化後の線膨張係数は、0.3×10−4〜2.5×10−4/℃であるのが好ましく、特に0.6×10−4〜2.0×10−4/℃であるのが好ましい。 The linear expansion coefficient after curing of the composition constituting the pre-curing protective layer 11 (the linear expansion coefficient of the protective layer 11 ′) is such that the optical disk substrate 2 does not warp even when used under wet heat conditions. It is preferably approximately the same as the expansion coefficient. For example, when the optical disk substrate 2 is made of polycarbonate resin, the linear expansion coefficient is usually 0.8 × 10 −4 / ° C., and in this case, the linear expansion after curing of the composition constituting the pre-curing protective layer 11 The coefficient is preferably 0.3 × 10 −4 to 2.5 × 10 −4 / ° C., and particularly preferably 0.6 × 10 −4 to 2.0 × 10 −4 / ° C.

硬化前保護層11を構成する組成物の硬化後の屈折率は、1.45〜1.75であるのが好ましく、特に1.45〜1.55であるのが好ましい。光ディスクでは、傷防止のために保護層11’の表面にハードコート層を設けることがあるが、組成物の硬化後の屈折率(保護層11’の屈折率)が上記の範囲から外れると、ハードコート層の屈折率と大きく異なることが多く、信号特性に悪影響を及ぼす可能性がある。   The refractive index after curing of the composition constituting the pre-curing protective layer 11 is preferably 1.45 to 1.75, and particularly preferably 1.45 to 1.55. In an optical disc, a hard coat layer may be provided on the surface of the protective layer 11 ′ to prevent scratches, but when the refractive index after curing of the composition (the refractive index of the protective layer 11 ′) is out of the above range, It is often very different from the refractive index of the hard coat layer, which may adversely affect signal characteristics.

以上の組成物から構成される硬化前保護層11の厚さは、光ディスクの規格に基づいて決定され、例えば片面1層式のBlu−ray Discの場合には100μmであるが、一般的には95〜105μm程度であり、好ましくは97〜103μm程度である。   The thickness of the pre-curing protective layer 11 composed of the above composition is determined based on the standard of the optical disk. For example, in the case of a single-sided single-layer Blu-ray Disc, it is 100 μm. It is about 95-105 micrometers, Preferably it is about 97-103 micrometers.

上記のような硬化前保護層11に積層される基材12,12’のうち、先に剥離される方の基材(本実施形態では基材12’)は、硬化前保護層11に対して剥離性を有する必要があり、後に剥離される方の基材(本実施形態では基材12)は、硬化後の保護層11’に対して剥離性を有する必要がある。   Of the base materials 12 and 12 ′ laminated on the pre-curing protective layer 11 as described above, the base material to be peeled first (the base material 12 ′ in the present embodiment) is relative to the pre-curing protective layer 11. The base material to be peeled later (the base material 12 in this embodiment) needs to have peelability with respect to the cured protective layer 11 ′.

具体的には、先に剥離される方の基材(基材12’)の硬化前保護層11側の面の剥離力(剥離力A)は150mN/25mm以下であるのが好ましく、後に剥離される方の基材(基材12)の硬化前保護層11側の面の剥離力(剥離力B)は、剥離力A以上、200mN/25mm以下であるのが好ましい。   Specifically, the peeling force (peeling force A) on the surface on the protective layer 11 side before curing of the base material (base material 12 ′) to be peeled first is preferably 150 mN / 25 mm or less, and is peeled later. The peeling force (peeling force B) of the surface on the protective layer 11 side of the base material (base material 12) to be cured is preferably a peeling force A or more and 200 mN / 25 mm or less.

また、基材12,12’、特に先に剥離される方の基材(基材12’)の硬化前保護層11側の面の表面粗さ(Ra)は、0.1μm以下であるのが好ましく、さらには0.05μm以下であるのが好ましい。基材12,12’がかかる表面粗さ(Ra)を有することにより、硬化前保護層11に平滑性を付与し、それによって良好な信号特性を得ることができる。特に、硬化前保護層11(保護層11’)の情報記録層側の面は光ディスクの信号特性に大きな影響を与えるため、先に剥離される方の基材(基材12’)の硬化前保護層11側の面の表面粗さ(Ra)の制御は重要なものとなる。   Moreover, the surface roughness (Ra) of the surface on the protective layer 11 side before curing of the base material 12, 12 ′, particularly the base material (base material 12 ′) that is peeled first, is 0.1 μm or less. And more preferably 0.05 μm or less. When the base materials 12 and 12 ′ have such surface roughness (Ra), smoothness can be imparted to the pre-curing protective layer 11, thereby obtaining good signal characteristics. In particular, since the surface on the information recording layer side of the pre-curing protective layer 11 (protective layer 11 ′) has a great influence on the signal characteristics of the optical disc, the base material (base material 12 ′) to be peeled first is not cured. Control of the surface roughness (Ra) of the surface on the protective layer 11 side is important.

このような基材12,12’としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、塩化ビニル、アイオノマー、エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアラミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテル・エーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリ(4−メチルペンテン−1)、ポリテトラフルオロエチレン等の樹脂またはそれら樹脂を架橋したものからなる透明フィルムを、必要に応じてシリコーン樹脂系、アルキド樹脂系、フッ素樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、ポリオレフィン樹脂系、ワックス系等の剥離剤で剥離処理したものを使用するのが好ましい。   Examples of such base materials 12 and 12 'include polyethylene, polypropylene, polybutene, polybutadiene, vinyl chloride, ionomer, ethylene-methacrylic acid copolymer, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyimide, and polyether. A transparent film made of a resin such as imide, polyaramid, polyetherketone, polyetheretherketone, polyphenylene sulfide, poly (4-methylpentene-1), polytetrafluoroethylene or a cross-linked resin, as required It is preferable to use those that have been subjected to a release treatment with a release agent such as a silicone resin, alkyd resin, fluororesin, unsaturated polyester resin, polyolefin resin, or wax.

基材12,12’の厚さは、通常は5〜300μm程度であり、好ましくは20〜100μmである。   The thickness of the base materials 12 and 12 ′ is usually about 5 to 300 μm, preferably 20 to 100 μm.

本実施形態に係る保護層形成用シート1を製造するには、まず、硬化前保護層11を構成する組成物を調製し、その組成物を基材12または基材12’上(基材に剥離処理が施されている場合にはその剥離処理面上)に塗工する。   In order to manufacture the protective layer forming sheet 1 according to the present embodiment, first, a composition constituting the pre-curing protective layer 11 is prepared, and the composition is formed on the base material 12 or the base material 12 ′ (on the base material). When the peeling treatment is applied, the coating is applied on the peeling treatment surface.

ここで、組成物の塗工においては、溶剤を使用することなく、組成物が塗工に適した粘度になるように組成物を加熱して塗工することが好ましい。溶剤を使用すると、その揮発に伴って組成物中の成分に対流が生じ、硬化前保護層11、ひいては硬化後の保護層11’の物性が不均一になるおそれがあるからである。組成物の加熱温度は、通常70〜100℃程度とするのが好ましい。   Here, in the application of the composition, it is preferable to apply the composition by heating without using a solvent so that the composition has a viscosity suitable for application. This is because when a solvent is used, convection occurs in the components in the composition as it volatilizes, and the physical properties of the pre-curing protective layer 11 and thus the protective layer 11 'after curing may become non-uniform. The heating temperature of the composition is usually preferably about 70 to 100 ° C.

組成物の塗工には、例えば、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機を使用することができる。   For application of the composition, for example, a coating machine such as a kiss roll coater, reverse roll coater, knife coater, roll knife coater, die coater or the like can be used.

次いで、上記塗工した組成物の表面にもう1枚の基材12’または基材12(基材に剥離処理が施されている場合にはその剥離処理面)を重ね合わせ、2枚の基材12,12’で挟むようにして硬化前保護層11を形成する。   Next, another substrate 12 ′ or substrate 12 (or a release treatment surface when the substrate is peeled) is superposed on the surface of the coated composition. The pre-curing protective layer 11 is formed so as to be sandwiched between the materials 12 and 12 '.

このようにして製造される保護層形成用シート1の硬化前保護層11は、2枚の基材12,12’によって挟まれるため、厚さ精度が高いものとなる。また、硬化前保護層11の表面には、基材12,12’における硬化前保護層11側の表面状態が転写されるため、基材12,12’における硬化前保護層11側の表面の平滑性を高くすれば、硬化前保護層11の表面の平滑性も高くなる。   Since the protective layer 11 before curing of the protective layer forming sheet 1 manufactured in this manner is sandwiched between the two base materials 12 and 12 ', the thickness accuracy is high. In addition, since the surface state of the pre-curing protective layer 11 side of the base materials 12 and 12 ′ is transferred to the surface of the pre-curing protective layer 11, the surface of the base materials 12 and 12 ′ on the pre-curing protective layer 11 side is transferred. If the smoothness is increased, the smoothness of the surface of the pre-curing protective layer 11 is also increased.

次に、上記保護層形成用シート1を使用した光ディスク(片面2層式)の製造方法の一例について説明する。   Next, an example of a method for producing an optical disk (single-sided, two-layer type) using the protective layer forming sheet 1 will be described.

最初に、図2(a)に示すように、ピットまたはグルーブ/ランドによる凹凸パターンを有する光ディスク基板2を製造する。この光ディスク基板2は、通常、ポリカーボネートからなり、射出成形等の成形法によって成形することができる。   First, as shown in FIG. 2A, an optical disk substrate 2 having a concavo-convex pattern of pits or grooves / lands is manufactured. The optical disk substrate 2 is usually made of polycarbonate and can be formed by a molding method such as injection molding.

上記光ディスク基板2の凹凸パターン上には、図2(b)に示すように、スパッタリング等の手段により反射層3を形成する。本光ディスクDでは、その反射層3が情報記録層となる。反射層3は、単層膜であってもよいし、例えば反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等からなる多層膜であってもよい。   On the concave-convex pattern of the optical disk substrate 2, as shown in FIG. 2B, the reflective layer 3 is formed by means such as sputtering. In the present optical disc D, the reflective layer 3 serves as an information recording layer. The reflective layer 3 may be a single layer film, or may be a multilayer film composed of, for example, a reflective film, a dielectric film, a phase change film, and a dielectric film.

次いで、図2(c)に示すように、上記反射層3上にエネルギー線硬化性のスタンパー受容層4を形成する。このスタンパー受容層4は、あらかじめシート状に形成したスタンパー受容層を貼り付けることにより形成してもよいし、スピンコート法等によってスタンパー受容層4用の塗布剤を塗工することにより形成してもよい。スタンパー受容層4の材料としては、例えば、前述したエネルギー線硬化性化合物(I)を使用することができる。   Next, as shown in FIG. 2C, an energy ray curable stamper receiving layer 4 is formed on the reflective layer 3. The stamper-receiving layer 4 may be formed by pasting a stamper-receiving layer formed in advance in a sheet shape, or by applying a coating agent for the stamper-receiving layer 4 by a spin coat method or the like. Also good. As a material for the stamper-receiving layer 4, for example, the energy ray-curable compound (I) described above can be used.

スタンパー受容層4を形成したら、図2(d)に示すように、そのスタンパー受容層4に対してスタンパーSを圧着し、スタンパー受容層4にスタンパーSの凹凸パターンを転写する。なお、図2(d)に示すスタンパーSの形状は板状であるが、これに限定されるものではなく、ロール状であってもよい。   When the stamper receiving layer 4 is formed, as shown in FIG. 2D, the stamper S is pressed against the stamper receiving layer 4, and the uneven pattern of the stamper S is transferred to the stamper receiving layer 4. In addition, although the shape of the stamper S illustrated in FIG. 2D is a plate shape, the shape is not limited to this, and may be a roll shape.

この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、スタンパー受容層4に対してエネルギー線を照射し、スタンパー受容層4を硬化させる。エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。   In this state, the energy ray irradiation device is used to irradiate the stamper receiving layer 4 with energy rays to cure the stamper receiving layer 4. As energy rays, ultraviolet rays, electron beams, etc. are usually used.

スタンパー受容層4が硬化して、スタンパーSの凹凸パターンによるピットまたはグルーブ/ランドが形成されたら、スタンパーSとスタンパー受容層4とを分離し、図2(e)に示すように、スタンパー受容層4の凹凸パターン上に、スパッタリング等の手段により半透過反射層3’を形成する。この半透過反射層3’は、単層膜であってもよいし、例えば半透過反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等からなる多層膜であってもよい。   When the stamper receiving layer 4 is cured to form pits or grooves / lands by the uneven pattern of the stamper S, the stamper S and the stamper receiving layer 4 are separated, and as shown in FIG. A transflective layer 3 ′ is formed on the uneven pattern 4 by means such as sputtering. The semi-transmissive reflective layer 3 ′ may be a single layer film, or may be a multilayer film composed of a semi-transmissive reflective film, a dielectric film, a phase change film, a dielectric film, and the like.

そして、保護層形成用シート1の一方の基材12’を剥離除去して硬化前保護層11を露出させ、図2(f)に示すように、硬化前保護層11を上記半透過反射層3’の表面に圧着する。この状態で、エネルギー照射装置を使用して、硬化前保護層11に対してエネルギー線を照射し、硬化前保護層11を硬化させ、保護層11’とする。   And one base material 12 'of the protective layer forming sheet 1 is peeled and removed to expose the protective layer 11 before curing, and as shown in FIG. Crimp to the 3 'surface. In this state, an energy irradiation apparatus is used to irradiate the pre-curing protective layer 11 with energy rays to cure the pre-curing protective layer 11 to form a protective layer 11 ′.

エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられ、好ましくは紫外線が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で100〜500mJ/cm程度が好ましく、電子線の場合には、10〜1000krad程度が好ましい。 As energy rays, ultraviolet rays, electron beams and the like are usually used, and preferably ultraviolet rays are used. The amount of energy beam irradiation varies depending on the type of energy beam. For example, in the case of ultraviolet rays, the amount of light is preferably about 100 to 500 mJ / cm 2 , and in the case of an electron beam, it is preferably about 10 to 1000 krad.

硬化前保護層11が硬化して保護層11’が形成されたら、図2(g)に示すように、保護層形成用シート1の他方の基材12を剥離除去し、必要に応じて保護層11’の表面にハードコート層、防汚層等のオーバーコート層を形成し、光ディスクDとする。   When the protective layer 11 before curing is cured to form the protective layer 11 ′, the other substrate 12 of the protective layer forming sheet 1 is peeled and removed as shown in FIG. An overcoat layer such as a hard coat layer and an antifouling layer is formed on the surface of the layer 11 ′ to obtain an optical disc D.

ハードコート層としては、分子内に(メタ)アクリロイル基を2つ以上有するポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートまたはエポキシ(メタ)アクリレートと、(メタ)アクリレートモノマーとをエネルギー線硬化反応させたものが一般的に用いられるが、これに限定されるものではなく、例えば、シロキサン結合を有する材料からなるもの等を用いることもできる。   As the hard coat layer, a polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate or epoxy (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule and a (meth) acrylate monomer are subjected to an energy ray curing reaction. However, the present invention is not limited to this, and for example, a material made of a material having a siloxane bond can be used.

防汚層を構成する材料としては、例えば、フッ素系化合物、ジメチルシロキサン系化合物、フッ素変性ジメチルシロキサン系化合物などを用いることができる。   As a material constituting the antifouling layer, for example, a fluorine compound, a dimethylsiloxane compound, a fluorine-modified dimethylsiloxane compound, or the like can be used.

上記のように保護層形成用シート1を使用した光ディスク製造方法によれば、保護層11’を形成するにあたって接着層を設ける必要がないため、少ない製造工程で光ディスクDを製造することができる。しかも、硬化前保護層11を構成する組成物として、高分子成分を実質的に含有せず、融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物を含有する組成物を使用することにより、硬化前保護層11の形状保持性は高く、かつ保護層11’の屈折率等の物性は均一なものとなるため、得られる光ディスクDは良好な信号特性を有し、製造歩留りも高い。   According to the optical disk manufacturing method using the protective layer forming sheet 1 as described above, it is not necessary to provide an adhesive layer when forming the protective layer 11 ′, so that the optical disk D can be manufactured with a small number of manufacturing steps. Moreover, as a composition constituting the pre-curing protective layer 11, a pre-curing protective layer is obtained by using a composition containing substantially no polymer component and containing an energy ray-curable compound having a melting point of 25 ° C. or higher. 11 has a high shape-retaining property, and the physical properties such as the refractive index of the protective layer 11 ′ are uniform, so that the obtained optical disc D has good signal characteristics and a high manufacturing yield.

以上の光ディスク製造方法では、上記保護層形成用シート1を使用して片面2層式の光ディスクを製造したが、これに限定されることなく、例えば、上記保護層形成用シート1を使用して片面1層式等の光ディスクを製造することもできる。   In the optical disc manufacturing method described above, a single-sided dual-layer type optical disc was manufactured using the protective layer forming sheet 1, but the present invention is not limited to this. For example, the protective layer forming sheet 1 is used. A single-sided single-layer optical disk or the like can also be manufactured.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

例えば、保護層形成用シート1における基材12または基材12’はなくてもよい。   For example, the base material 12 or the base material 12 ′ in the protective layer forming sheet 1 may be omitted.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples etc.

〔実施例1〕
融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物としてのポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業社製,NKエステルA−1000,固形分濃度:100%,融点:37〜39℃,重量平均分子量:1108)50質量部と、20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマーとしてのウレタンアクリレート(大日本インキ社製,ユニディックRS24−156,重量平均分子量:1600,固形分濃度:100%)50質量部と、光重合開始剤としての1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製,イルガキュア184,固形分濃度:100質量%)3質量部とを混合し、80℃で加熱しながら攪拌し、これを塗工液とした。
[Example 1]
Polyethylene glycol diacrylate as an energy ray-curable compound having a melting point of 25 ° C. or higher (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester A-1000, solid content concentration: 100%, melting point: 37-39 ° C., weight average molecular weight: 1108) 50 parts by mass and 50 parts by mass of urethane acrylate as a liquid energy ray-curable oligomer at 20 ° C. (Dainippon Ink Co., Ltd., Unidick RS24-156, weight average molecular weight: 1600, solid content concentration: 100%), 1 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184, solid content concentration: 100% by mass) as a photopolymerization initiator is mixed and stirred while heating at 80 ° C. Was used as a coating solution.

上記塗工液を、基材12としてのポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム社製,PET75T600,厚さ:75μm,Ra:0.01μm,剥離力:160mN/25mm)上に膜厚が100μmになるようにダイコーターを用いて塗工した後、その上にシリコーン樹脂系の剥離剤で剥離処理した基材12’としての剥離フィルム(リンテック社製,SP−PET7501,厚さ:75μm,Ra:0.015μm,剥離力:100mN/25mm)を積層し、2枚のフィルムと、それらに挟まれた硬化前保護層とからなる保護層形成用シートを得た。   A film thickness of the coating solution is 100 μm on a polyethylene terephthalate film (Mitsubishi Chemical Polyester Film, PET75T600, thickness: 75 μm, Ra: 0.01 μm, peeling force: 160 mN / 25 mm) as the base 12 After being coated using a die coater as described above, a release film (SP-PET 7501, thickness: 75 μm, Ra: 0, manufactured by Lintec Co., Ltd.) as a base material 12 ′ peel-treated with a silicone resin-based release agent thereon. .015 μm, peeling force: 100 mN / 25 mm) was laminated to obtain a protective layer forming sheet comprising two films and a pre-curing protective layer sandwiched between them.

〔実施例2〕
融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物として、メトキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学工業社製,NKエステルAM−230G,固形分濃度:100%,融点:40℃,重量平均分子量:1054)を用いた以外、実施例1と同様にして保護層の塗工液を調製した。そして、得られた塗工液を使用し、実施例1と同様にして保護層形成用シートを作製した。
[Example 2]
Methoxypolyethylene glycol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester AM-230G, solid content concentration: 100%, melting point: 40 ° C., weight average molecular weight: 1054) is used as an energy ray curable compound having a melting point of 25 ° C. or higher. A coating solution for the protective layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that. Then, using the obtained coating liquid, a protective layer forming sheet was produced in the same manner as in Example 1.

〔比較例1〕
ポリエチレングリコールジアクリレートの代わりに、1,6−ヘキサンアクリレート(新中村化学工業社製,NKエステルA−HD−N,固形分濃度:100%,融点:8〜10℃,重量平均分子量:226)を使用する以外、実施例1と同様にして保護層の塗工液を調製した。そして、得られた塗工液を使用し、実施例1と同様にして保護層形成用シートを作製した。
[Comparative Example 1]
1,6-hexane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester A-HD-N, solid content concentration: 100%, melting point: 8-10 ° C., weight average molecular weight: 226) instead of polyethylene glycol diacrylate A protective layer coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that. Then, using the obtained coating liquid, a protective layer forming sheet was produced in the same manner as in Example 1.

〔試験例〕
1.形状保持性
実施例および比較例で得られた保護層形成用シート(未硬化)に1.0N/cmの圧力を10分間印加し、硬化前保護層の変形の有無を目視により確認した。変形が認められなかったものを○、変形が認められたものを×で表す。結果を表1に示す。
[Test example]
1. Shape retention property A pressure of 1.0 N / cm 2 was applied to the protective layer-forming sheets (uncured) obtained in the examples and comparative examples for 10 minutes, and the presence or absence of deformation of the protective layer before curing was visually confirmed. A case where no deformation was observed is indicated by ○, and a case where deformation was recognized is indicated by ×. The results are shown in Table 1.

2.貯蔵弾性率・表面粗さ・線膨張係数・透過率・屈折率
実施例および比較例で得られた保護層形成用シートに対し、ポリエチレンテレフタレートフィルム側から紫外線を照射し(リンテック社製,装置名:Adwill RAD−2000m/8を使用。照射条件:照度310mW/cm2,光量200mJ/cm2)、硬化前保護層を硬化させ、保護層とした。
2. Storage elastic modulus / surface roughness / linear expansion coefficient / transmittance / refractive index The protective layer forming sheets obtained in the examples and comparative examples were irradiated with ultraviolet rays from the polyethylene terephthalate film side (manufactured by Lintec Corporation, apparatus name) : Adwill RAD-2000 m / 8, irradiation conditions: illuminance: 310 mW / cm 2 , light quantity: 200 mJ / cm 2 ), the protective layer before curing was cured to obtain a protective layer.

保護層から剥離フィルムおよびポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、以下のようにして、保護層のポリエチレンテレフタレートフィルムに接触していた側の面の表面粗さ(Ra)、保護層の貯蔵弾性率、線膨張係数、400nm透過率および屈折率を測定した。結果を表1に示す。   The release film and the polyethylene terephthalate film were peeled from the protective layer, and the surface roughness (Ra) of the surface of the protective layer that was in contact with the polyethylene terephthalate film, the storage elastic modulus of the protective layer, and the linear expansion were as follows. The coefficient, 400 nm transmittance and refractive index were measured. The results are shown in Table 1.

表面粗さ(Ra):接触式表面粗さ計(ミツトヨ社製,SV3000S4)を使用し、ISO4287に準じて測定した。
貯蔵弾性率:粘弾性測定装置(オリエンテック社製,レオバイブロンDDV−II−EP)を用いて11Hzで30℃の値を測定した。
線膨張係数:熱分析装置(マックサイエンス社製,システムWS002)を使用して測定した。
400nm透過率:分光光度計(島津製作所社製,UV−3101PC)を使用して測定した。
屈折率:アッベ屈折率計(アタゴ社製)を使用し、JIS K7142に準じて測定した。
Surface roughness (Ra): A contact type surface roughness meter (manufactured by Mitutoyo Corporation, SV3000S4) was used and measured according to ISO 4287.
Storage modulus: A value at 30 ° C. was measured at 11 Hz using a viscoelasticity measuring device (Orientec, Leo Vibron DDV-II-EP).
Linear expansion coefficient: Measured using a thermal analyzer (manufactured by Mac Science, system WS002).
400 nm transmittance: measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3101PC).
Refractive index: Measured according to JIS K7142 using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

3.屈折率の均一性
上記のようにして硬化させた保護層について、屈折率の均一性を判定した。具体的には、硬化させた保護層の一方の面を市販の黒色のペンで黒く塗り潰し、その黒く塗り潰した面を下にして、3波長蛍光灯下(東芝社製,メロウ5N 3波長昼白色 FLR40S EX−N/M/36−H 40形 36ワット)で干渉縞が均一であるかどうか目視で確認した。コントロールとして、ポリカーボネートフィルム(帝人化学社製,ピュアエースC110−100,厚さ:100μm)についても、同様にして干渉縞の均一性を確認した。ポリカーボネートフィルムと比較して、干渉縞の均一性が同等であったものを○、干渉縞が不均一であったものを×で表す。結果を表1に示す。
3. Refractive index uniformity The refractive index uniformity of the protective layer cured as described above was determined. Specifically, one side of the cured protective layer is painted black with a commercially available black pen, with the black painted surface facing down, under a three-wavelength fluorescent lamp (manufactured by Toshiba, Mellow 5N, three-wavelength daylight white) FLR40S EX-N / M / 36-H 40 type 36 watts), whether or not the interference fringes are uniform was visually confirmed. As a control, the uniformity of interference fringes was confirmed in the same manner for a polycarbonate film (Pure Ace C110-100, manufactured by Teijin Chemicals Limited, thickness: 100 μm). Compared with the polycarbonate film, the case where the uniformity of the interference fringes is equal is indicated by ◯, and the case where the interference fringes are non-uniform is indicated by ×. The results are shown in Table 1.

Figure 2006236518
Figure 2006236518

表1から明らかなように、実施例で作製した保護層形成用シートは形状保持性に優れ、また、当該保護層形成用シートから得られた保護層は、光ディスク用として好適な物性を有するとともに、屈折率の均一性に優れていた。   As is clear from Table 1, the protective layer forming sheets prepared in the examples are excellent in shape retention, and the protective layer obtained from the protective layer forming sheet has physical properties suitable for optical disks. The refractive index uniformity was excellent.

〔製造例〕
厚さ1.1mm、外径120mm、内径15mmであり、片面に凹凸パターンを有するポリカーボネートからなる光ディスク基板を射出成形により成形した。その光ディスク基板の凹凸パターン上に、スパッタリングによって銀合金からなる厚さ約150nmの反射層を形成した。
[Production example]
An optical disc substrate made of polycarbonate having a thickness of 1.1 mm, an outer diameter of 120 mm, and an inner diameter of 15 mm and having an uneven pattern on one side was molded by injection molding. A reflective layer made of a silver alloy and having a thickness of about 150 nm was formed on the concavo-convex pattern of the optical disk substrate by sputtering.

実施例にて製造した光ディスク製造用シートを、打抜き加工により上記光ディスク基板と同様の形状にカットした後、一方の剥離フィルム(基材12’)を剥離し、露出した硬化前保護層を上記光ディスク基板上の反射層面に20Nの圧力で圧着した。   The optical disk manufacturing sheet manufactured in the example was cut into the same shape as the optical disk substrate by punching, and then one release film (base material 12 ') was peeled off, and the exposed pre-curing protective layer was used as the optical disk. The pressure was applied to the reflective layer surface on the substrate with a pressure of 20N.

次に、他方の剥離フィルム(基材12)側から硬化前保護層に対して紫外線を照射し(リンテック社製,Adwill RAD−2000m/8を使用。照射条件:照度310mW/cm2,光量200mJ/cm2)、硬化前保護層を硬化させた後、他方の剥離フィルム(基材12)を剥離し、保護層が形成された光ディスクを得た。得られた光ディスクにおいては、接着層を形成することなく、しかも均一な物性を有する保護層を形成することができたため、良好な信号特性を有していた。 Next, the protective layer before curing is irradiated with ultraviolet rays from the other release film (base material 12) side (using Lintec's Adwill RAD-2000m / 8. Irradiation conditions: illuminance: 310 mW / cm 2 , light amount: 200 mJ / cm 2 ), after curing the protective layer before curing, the other release film (base material 12) was peeled off to obtain an optical disk on which the protective layer was formed. The obtained optical disk had good signal characteristics because a protective layer having uniform physical properties could be formed without forming an adhesive layer.

本発明は、保護層の物性が均一で信号特性が良好な光記録媒体を、少ない製造工程で歩留り良く製造するのに有用である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful for manufacturing an optical recording medium having a uniform protective layer physical property and good signal characteristics with a small number of manufacturing steps and high yield.

本発明の一実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートの断面図である。It is sectional drawing of the sheet | seat for protective layer formation of the optical disk which concerns on one Embodiment of this invention. 同実施形態に係る光ディスクの保護層形成用シートを使用した光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the optical disk manufacturing method using the sheet | seat for protective layer formation of the optical disk which concerns on the embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1…光ディスク(光記録媒体)の保護層形成用シート
11…硬化前保護層
11’…保護層
12,12’…基材
2…光ディスク基板
3…反射層
3’…半透過反射層
4…スタンパー受容層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sheet | seat for protective layer formation of an optical disk (optical recording medium) 11 ... Pre-cure protective layer 11 '... Protective layer 12, 12' ... Base material 2 ... Optical disk substrate 3 ... Reflective layer 3 '... Semi-transmissive reflective layer 4 ... Stamper Receptive layer

Claims (10)

融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物を10〜70質量%含有し、重量平均分子量が50,000以上の高分子成分を実質的に含有しない組成物からなる硬化前保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シート。   A pre-curing protective layer comprising a composition containing 10 to 70% by mass of an energy ray-curable compound having a melting point of 25 ° C. or more and substantially not containing a polymer component having a weight average molecular weight of 50,000 or more is provided. A protective layer forming sheet for an optical recording medium. 前記組成物は、さらに20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマーを30〜90質量%含有することを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体の保護層形成用シート。   The sheet for forming a protective layer of an optical recording medium according to claim 1, wherein the composition further contains 30 to 90% by mass of an energy ray-curable oligomer that is liquid at 20 ° C. 前記硬化前保護層は、表面粗さ(Ra)が0.1μm以下の平滑面を有する基材の前記平滑面に積層されていることを特徴とする請求項1または2に記載の光記録媒体の保護層形成用シート。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the protective layer before curing is laminated on the smooth surface of a substrate having a smooth surface with a surface roughness (Ra) of 0.1 μm or less. A protective layer forming sheet. 前記硬化前保護層は、表面粗さ(Ra)が0.1μm以下の平滑面を有する2つの基材の前記平滑面相互間に挟まれていることを特徴とする請求項1または2に記載の光記録媒体の保護層形成用シート。   The said pre-curing protective layer is sandwiched between said smooth surfaces of two substrates having a smooth surface with a surface roughness (Ra) of 0.1 µm or less. A protective layer-forming sheet for optical recording media. 硬化前保護層を備えた光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法であって、
融点25℃以上のエネルギー線硬化性化合物を10〜70質量%含有し、重量平均分子量が50,000以上の高分子成分を実質的に含有しない組成物を、溶剤を使用することなく第1の平面上に塗布するとともに、前記第1の平面と第2の平面によって挟むことにより、前記硬化前保護層を形成する
ことを特徴とする光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法。
A method for producing a protective layer forming sheet for an optical recording medium comprising a pre-curing protective layer,
A composition containing 10 to 70% by mass of an energy ray-curable compound having a melting point of 25 ° C. or higher and containing substantially no polymer component having a weight average molecular weight of 50,000 or higher is used without using a solvent. A method for producing a protective layer-forming sheet for an optical recording medium, wherein the pre-curing protective layer is formed by coating on a flat surface and sandwiching between the first flat surface and the second flat surface.
前記組成物は、さらに20℃で液状のエネルギー線硬化性オリゴマーを30〜90質量%含有することを特徴とする請求項5に記載の光記録媒体の保護層形成用シートの製造方法。   The method for producing a protective layer forming sheet for an optical recording medium according to claim 5, wherein the composition further contains 30 to 90% by mass of an energy ray-curable oligomer that is liquid at 20 ° C. 光記録媒体基板と、1層または2層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、
最外層の情報記録層に対し、請求項1〜4のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を圧着し、
エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成する
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
An optical recording medium manufacturing method comprising an optical recording medium substrate, one or more information recording layers, and a protective layer,
Crimping the protective layer before curing of the protective layer forming sheet of the optical recording medium according to any one of claims 1 to 4 to the outermost information recording layer,
A method for producing an optical recording medium, comprising: curing the pre-curing protective layer by irradiation of energy rays to form a protective layer of the optical recording medium.
光記録媒体基板と、1層または2層以上の情報記録層と、保護層とを備えてなる光記録媒体の製造方法であって、
最外層の情報記録層に対し、請求項3に記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を、前記保護層形成用シートにおける前記基材の平滑面に接していた側の面が前記情報記録層側になるようにして圧着し、
エネルギー線の照射により前記硬化前保護層を硬化させ、もって光記録媒体の保護層を形成する
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
An optical recording medium manufacturing method comprising an optical recording medium substrate, one or more information recording layers, and a protective layer,
The protective layer before curing of the protective layer forming sheet of the optical recording medium according to claim 3, with respect to the outermost information recording layer, on the side in contact with the smooth surface of the substrate in the protective layer forming sheet Crimp so that the surface is on the information recording layer side,
A method for producing an optical recording medium, comprising: curing the pre-curing protective layer by irradiation of energy rays to form a protective layer of the optical recording medium.
請求項1〜4のいずれかに記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を硬化してなる保護層を備えたことを特徴とする光記録媒体。   An optical recording medium comprising a protective layer formed by curing the protective layer before curing of the protective layer forming sheet of the optical recording medium according to claim 1. 光記録媒体基板と、1層または2層以上の情報記録層と、請求項3に記載の光記録媒体の保護層形成用シートの硬化前保護層を硬化してなる保護層とを備え、
前記保護層は、前記硬化前保護層における前記基材の平滑面に接していた側の面を情報記録層側として、前記情報記録層に積層されていることを特徴とする光記録媒体。
An optical recording medium substrate, one or more information recording layers, and a protective layer formed by curing the protective layer before curing of the protective layer forming sheet of the optical recording medium according to claim 3,
The optical recording medium is characterized in that the protective layer is laminated on the information recording layer with the surface of the protective layer before curing that is in contact with the smooth surface of the substrate as the information recording layer side.
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