JP2006230127A - Linear motor, stage set and aligner - Google Patents

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忠弘 小南
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress impact on a magnetic circuit while suppressing heat generation. <P>SOLUTION: A coil body 62 and a magnetism generating body 72 supported on a yoke 71 are moved relatively. The yoke 71 is constituted by stacking a first split body 71A, and a second split body 71B having a width in the relative moving direction different from that of the first split body 71A through an electric insulating portion 74. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、コイル体と発磁体とを有するリニアモータ、及びこのリニアモータを駆動装置として備えるステージ装置、並びにリニアモータの駆動により移動するステージを用いてマスクのパターンを基板に露光する露光装置に関するものである。   The present invention relates to a linear motor having a coil body and a magnetism generator, a stage apparatus including the linear motor as a driving apparatus, and an exposure apparatus that exposes a mask pattern onto a substrate using a stage that is moved by driving the linear motor. Is.

半導体等を製造する際に用いられる露光装置におけるステージ駆動には、発塵がないことや駆動機構の構成が簡単であること等の理由からリニアモータが多く用いられている。このステージ駆動用リニアモータには、使用環境の要望から種々の厳格な仕様が求められており、その一つに温度に関する仕様がある。   A linear motor is often used for stage driving in an exposure apparatus used when manufacturing a semiconductor or the like because there is no dust generation and the structure of the driving mechanism is simple. Various strict specifications are required for the stage driving linear motor in accordance with the demands of the use environment, and one of them is a temperature related specification.

通常、露光装置のステージ駆動においては、精密な位置決め動作が必要とされ、その動作制御にはステージの位置を計測するための測長器が用いられており、リニアモータ（の可動子）はこの測長器の計測結果を基にサーボ制御されることで、ステージの高精度の位置決めが可能となっている。   In general, the stage drive of an exposure apparatus requires a precise positioning operation, and a length measuring device for measuring the position of the stage is used for the operation control. Servo control based on the measurement result of the length measuring device enables high-precision positioning of the stage.

ところが、リニアモータの駆動時には、モータからの発熱によって測長器に悪影響を及ぼし、位置決め精度が低下するという問題が生じる。また、コイル体により発生する磁力線は、コイルを収容するケースや永久磁石、それを支持しているヨークに作用するが、導電体であるケースや永久磁石、ヨークに変動磁場が作用すると、その磁場変動を打ち消すように導体表面近傍に渦電流が生じ、ジュール損失による発熱が生じる。
そして、測長器として光干渉測長器を用いた場合に、モータの発熱により周囲の温度が上昇すると空気揺らぎが生じ、光路変化が起こることにより測長器に微小な読取誤差を生じさせる。従って、露光装置においてはモータの温度上昇には厳格な制限が設けられている。 However, when the linear motor is driven, the length measuring device is adversely affected by heat generated from the motor, resulting in a problem that the positioning accuracy is lowered. In addition, the magnetic field lines generated by the coil body act on the case housing the coil, the permanent magnet, and the yoke that supports the coil. When a variable magnetic field acts on the case, permanent magnet, or yoke that is a conductor, the magnetic field An eddy current is generated in the vicinity of the conductor surface so as to cancel the fluctuation, and heat is generated due to Joule loss.
When an optical interference length measuring device is used as the length measuring device, air fluctuations occur when the ambient temperature rises due to the heat generated by the motor, and the optical path change causes a minute reading error in the length measuring device. Therefore, in the exposure apparatus, there is a strict limit on the temperature rise of the motor.

そのため、従来からリニアモータの温度上昇を抑えるために種々の工夫がなされおり、例えば特許文献１には発熱体であるコイルをハウジング内に封入して電機子を構成し、この電機子内に冷媒を流出入させて冷却する方法が開示されている。また、磁石を支持して閉磁路を形成するヨークを冷却する技術として、特許文献２にはヨークに冷媒用流路を設けたリニアモータが開示されている。また、特許文献３には、ヨークを薄板からなる積層鋼板で形成することにより渦電流の発生を低減させ、ヨークの発熱を抑える技術が開示されている。
特開平８−１６７５５４号公報 特開２０００−２４５１３０号公報 特開平１０−１４６０３７号公報 For this reason, various devices have been conventionally used in order to suppress the temperature rise of the linear motor. For example, in Patent Document 1, a coil as a heating element is enclosed in a housing to constitute an armature, and a refrigerant is contained in the armature. A method for cooling by flowing in and out is disclosed. As a technique for cooling a yoke that supports a magnet and forms a closed magnetic path, Patent Document 2 discloses a linear motor in which a refrigerant flow path is provided in the yoke. Patent Document 3 discloses a technique for reducing the generation of eddy current and suppressing the heat generation of the yoke by forming the yoke from a laminated steel plate made of thin plates.
JP-A-8-167554 JP 2000-245130 A JP-A-10-146037

しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
ヨークを一様に積層させた場合、ヨーク間には絶縁層が介装されるため、ヨークにおける絶縁層の割合が多くなり、磁気回路に悪影響を及ぼしモータ効率が低下するという問題が生じる。また、ステージ駆動に用いられるリニアモータは駆動ストーロークが長く、また高推力化により大型化されているため、ヨークの剛性、製造コストにも問題が生じる可能性がある。 However, the following problems exist in the conventional technology as described above.
When the yokes are uniformly laminated, an insulating layer is interposed between the yokes, so that the ratio of the insulating layer in the yoke increases, which adversely affects the magnetic circuit and lowers the motor efficiency. Further, since the linear motor used for stage driving has a long driving stroke and is enlarged due to high thrust, there is a possibility that problems may arise in the rigidity and manufacturing cost of the yoke.

本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、磁気回路に及ぼす影響が少なく、また発熱を抑えることができるリニアモータ及びこのリニアモータを駆動装置として備えるステージ装置並びに露光装置を提供することを目的とする。
また、本発明の別の目的は、ヨークの剛性を損なわず、容易に製造できるリニアモータ及びこのリニアモータを駆動装置として備えるステージ装置並びに露光装置を提供することである。 The present invention has been made in consideration of the above points, and includes a linear motor that has little influence on a magnetic circuit and that can suppress heat generation, and a stage apparatus and an exposure apparatus that include this linear motor as a driving device. The purpose is to provide.
Another object of the present invention is to provide a linear motor that can be easily manufactured without impairing the rigidity of the yoke, and a stage apparatus and an exposure apparatus that include the linear motor as a driving device.

上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１１に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のリニアモータは、コイル体（６２）と、ヨーク（７１）に支持された発磁体（７２）とを相対移動させるリニアモータ（３０）であって、ヨーク（７１）は、第１分割体（７１Ａ）と、第１分割体（７１Ａ）とは相対移動方向における幅が異なる第２分割体（７１Ｂ）とを電気絶縁部（７４）を介して積層させてなることを特徴とするものである。 In order to achieve the above object, the present invention adopts the following configuration corresponding to FIGS. 1 to 11 showing the embodiment.
The linear motor according to the present invention is a linear motor (30) that relatively moves a coil body (62) and a magnetic generator (72) supported by a yoke (71), and the yoke (71) is divided into first parts. The body (71A) and the first divided body (71A) are formed by laminating a second divided body (71B) having different widths in the relative movement direction via an electric insulating part (74). It is.

従って、本発明のリニアモータでは、ヨーク（７１）が分割されることにより、各分割体（７１Ａ、７１Ｂ）に流れる渦電流を小さくすることができ、発熱を抑えることが可能になる。また、本発明では、例えば第１分割体（７１Ａ）の幅（ＷＡ）を第２分割体（７１Ｂ）の幅（ＷＢ）よりも大きくすることにより、分割体の数が減り、結果として電気絶縁部（７４）の数を減らすことができる。そのため、本発明では磁気回路に及ぼす影響を低減することが可能になる。さらに、本発明では第１分割体（７１Ａ）及び第２分割体（７１Ｂ）が相対移動方向における幅が異なるように分割されるので、相対移動方向の駆動ストロークが長くなった場合でも、第１分割体（７１Ａ）、第２分割体（７１Ｂ）の数が増減するだけであり、剛性の低下を招くことはない。   Therefore, in the linear motor of the present invention, by dividing the yoke (71), the eddy current flowing through each divided body (71A, 71B) can be reduced, and heat generation can be suppressed. In the present invention, for example, by making the width (WA) of the first divided body (71A) larger than the width (WB) of the second divided body (71B), the number of divided bodies is reduced, resulting in electrical insulation. The number of parts (74) can be reduced. Therefore, in the present invention, the influence on the magnetic circuit can be reduced. Further, in the present invention, since the first divided body (71A) and the second divided body (71B) are divided so that the width in the relative movement direction is different, even if the drive stroke in the relative movement direction becomes long, Only the number of the divided bodies (71A) and the second divided bodies (71B) is increased or decreased, and the rigidity is not lowered.

また、本発明のステージ装置は、上記のリニアモータ（３０）が駆動装置として用いられることを特徴とするものである。そして、本発明の露光装置は、ステージ装置（２）を用いて基板（Ｐ）にパターンを露光する露光装置において、ステージ装置として、上記のステージ装置（２）を用いたことを特徴とするものである。
従って、本発明のステージ装置及び露光装置では、モータ（３０）の駆動時にもヨーク（７１）からの発熱を抑えることができ、装置を熱変形させたり、ステージの位置検出精度を低下させてパターンの転写精度が低下することを抑えることができるとともに、磁気回路に及ぼす悪影響を低減できる。 The stage device of the present invention is characterized in that the linear motor (30) is used as a driving device. The exposure apparatus of the present invention is characterized in that the stage apparatus (2) is used as a stage apparatus in an exposure apparatus that exposes a pattern onto a substrate (P) using the stage apparatus (2). It is.
Therefore, in the stage apparatus and the exposure apparatus of the present invention, heat generation from the yoke (71) can be suppressed even when the motor (30) is driven, the apparatus is thermally deformed, and the position detection accuracy of the stage is lowered to reduce the pattern. As a result, it is possible to suppress a decrease in the transfer accuracy of the magnetic circuit and to reduce adverse effects on the magnetic circuit.

なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。   In order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, the description has been made in association with the reference numerals of the drawings showing one embodiment, but it goes without saying that the present invention is not limited to the embodiment.

本発明では、磁気回路に及ぼす影響を抑えつつ、発熱を抑えることができる。
また、本発明では、発熱を抑えることにより、パターンの転写精度が低下することを防止できる。 In the present invention, heat generation can be suppressed while suppressing the influence on the magnetic circuit.
Further, in the present invention, it is possible to prevent the pattern transfer accuracy from being lowered by suppressing heat generation.

以下、本発明のリニアモータ及びステージ装置並びに露光装置の実施の形態を、図１ないし図１２を参照して説明する。
（第１実施形態）
図１は本発明のリニアモータを駆動装置として備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。ここで、本実施形態における露光装置ＥＸは、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動しつつマスクＭに設けられているパターンを投影光学系ＰＬを介して感光基板（基板）Ｐ上に転写する所謂スキャニングステッパである。以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内における前記同期移動方向（相対移動方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向と垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。更に、Ｘ軸周り、Ｙ軸周り、及びＺ軸周りの回転方向をそれぞれθＸ方向、θＹ方向、及びθＺ方向とする。また、ここでいう「感光基板」は半導体ウエハ上にレジストが塗布されたものを含み、「マスク」は感光基板上に縮小投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。 Embodiments of a linear motor, a stage apparatus, and an exposure apparatus according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic block diagram showing an embodiment of an exposure apparatus provided with the linear motor of the present invention as a drive device. Here, the exposure apparatus EX in the present embodiment transfers the pattern provided on the mask M onto the photosensitive substrate (substrate) P via the projection optical system PL while moving the mask M and the photosensitive substrate P synchronously. This is a so-called scanning stepper. In the following description, the direction that coincides with the optical axis AX of the projection optical system PL is the Z-axis direction, and the synchronous movement direction (relative movement direction) in a plane perpendicular to the Z-axis direction is the Y-axis direction, Z-axis direction, and Y The direction perpendicular to the axial direction (non-scanning direction) is taken as the X-axis direction. Further, the rotation directions around the X axis, the Y axis, and the Z axis are defined as a θX direction, a θY direction, and a θZ direction, respectively. In addition, the “photosensitive substrate” herein includes a semiconductor wafer coated with a resist, and the “mask” includes a reticle on which a device pattern to be reduced and projected on the photosensitive substrate is formed.

図１において、露光装置ＥＸは、マスク（レチクル）Ｍを保持して移動するマスクステージ（レチクルステージ）ＭＳＴ及びこのマスクステージＭＳＴを支持するマスク定盤３を有するステージ装置１と、光源を有し、マスクステージＭＳＴに支持されているマスクＭを露光光で照明する照明光学系ＩＬと、感光基板Ｐを保持して移動する基板ステージＰＳＴ及びこの基板ステージＰＳＴを支持する基板定盤４を有するステージ装置２と、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターン像を基板ステージＰＳＴに支持されている感光基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、ステージ装置１及び投影光学系ＰＬを支持するリアクションフレーム５と、露光装置ＥＸの動作を統括制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。リアクションフレーム５は床面に水平に載置されたベースプレート６上に設置されており、このリアクションフレーム５の上部側及び下部側には内側に向けて突出する段部５ａ及び５ｂがそれぞれ形成されている。   In FIG. 1, an exposure apparatus EX has a mask apparatus (reticle stage) MST that holds and moves a mask (reticle) M, a stage apparatus 1 having a mask surface plate 3 that supports the mask stage MST, and a light source. A stage having an illumination optical system IL that illuminates the mask M supported by the mask stage MST with exposure light, a substrate stage PST that holds and moves the photosensitive substrate P, and a substrate surface plate 4 that supports the substrate stage PST. The apparatus 2, the projection optical system PL that projects the pattern image of the mask M illuminated by the exposure light EL onto the photosensitive substrate P supported by the substrate stage PST, and the reaction frame that supports the stage apparatus 1 and the projection optical system PL 5 and a control device CONT that performs overall control of the operation of the exposure apparatus EX. The reaction frame 5 is installed on a base plate 6 placed horizontally on the floor surface, and step portions 5a and 5b projecting inward are formed on the upper side and the lower side of the reaction frame 5, respectively. Yes.

照明光学系ＩＬはリアクションフレーム５の上面に固定された支持コラム７により支持される。照明光学系ＩＬより射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。 The illumination optical system IL is supported by a support column 7 fixed to the upper surface of the reaction frame 5. As the exposure light EL emitted from the illumination optical system IL, for example, far ultraviolet light (g-line, h-line, i-line) emitted from a mercury lamp and far ultraviolet light (wavelength 248 nm) such as KrF excimer laser light (wavelength 248 nm). DUV light), vacuum ultraviolet light (VUV light) such as ArF excimer laser light (wavelength 193 nm) and F 2 laser light (wavelength 157 nm), or the like is used.

ステージ装置１のうちマスク定盤３は各コーナーにおいてリアクションフレーム５の段部５ａに防振ユニット８を介してほぼ水平に支持されており、その中央部にマスクＭのパターン像が通過する開口３ａを備えている。マスクステージＭＳＴはマスク定盤３上に設けられており、その中央部にマスク定盤３の開口３ａと連通しマスクＭのパターン像が通過する開口Ｋを備えている。マスクステージＭＳＴの底面には非接触ベアリングである複数のエアベアリング９が設けられており、マスクステージＭＳＴはエアベアリング９によりマスク定盤３に対して所定のクリアランスを介して浮上支持されている。   The mask surface plate 3 of the stage apparatus 1 is supported almost horizontally on the step portion 5a of the reaction frame 5 through the vibration isolation unit 8 at each corner, and an opening 3a through which the pattern image of the mask M passes at the center portion. It has. The mask stage MST is provided on the mask surface plate 3, and has an opening K that communicates with the opening 3a of the mask surface plate 3 and through which the pattern image of the mask M passes. A plurality of air bearings 9 which are non-contact bearings are provided on the bottom surface of the mask stage MST, and the mask stage MST is supported by the air bearing 9 so as to be levitated with a predetermined clearance from the mask surface plate 3.

図２はマスクステージＭＳＴを有するステージ装置１の概略斜視図である。
図２に示すように、ステージ装置１（マスクステージＭＳＴ）は、マスク定盤３上に設けられたマスク粗動ステージ１６と、マスク粗動ステージ１６上に設けられたマスク微動ステージ１８と、マスク定盤３上において粗動ステージ１６をＹ軸方向に所定ストロークで移動可能な一対のＹリニアモータ２０、２０と、マスク定盤３の中央部の上部突出部３ｂの上面に設けられ、Ｙ軸方向に移動する粗動ステージ１６を案内する一対のＹガイド部２４、２４と、粗動ステージ１６上において微動ステージ１８をＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に微小移動可能な一対のＸボイスコイルモータ１７Ｘ及び一対のＹボイスコイルモータ１７Ｙとを備えている。なお、図１では、粗動ステージ１６及び微動ステージ１８を簡略化して１つのステージとして図示している。 FIG. 2 is a schematic perspective view of the stage apparatus 1 having the mask stage MST.
As shown in FIG. 2, the stage apparatus 1 (mask stage MST) includes a mask coarse movement stage 16 provided on the mask surface plate 3, a mask fine movement stage 18 provided on the mask coarse movement stage 16, and a mask. Provided on the upper surface of a pair of Y linear motors 20 and 20 capable of moving the coarse movement stage 16 in the Y-axis direction with a predetermined stroke on the surface plate 3 and the upper protrusion 3b at the center of the mask surface plate 3, A pair of Y guide portions 24, 24 for guiding the coarse movement stage 16 moving in the direction, and a pair of X voice coils capable of fine movement of the fine movement stage 18 in the X axis, Y axis, and θZ directions on the coarse movement stage 16 A motor 17X and a pair of Y voice coil motors 17Y are provided. In FIG. 1, the coarse movement stage 16 and the fine movement stage 18 are simplified and illustrated as one stage.

Ｙリニアモータ２０のそれぞれは、マスク定盤３上においてＹ軸方向に延びるように設けられたコイルユニット（電機子ユニット）からなる一対の固定子２１と、この固定子２１に対応して設けられ、連結部材２３を介して粗動ステージ１６に固定された磁石ユニットからなる可動子２２とを備えている。そして、これら固定子２１及び可動子２２によりムービングマグネット型のリニアモータ２０が構成されており、可動子２２が固定子２１との間の電磁気的相互作用により駆動することで粗動ステージ１６（マスクステージＭＳＴ）がＹ軸方向に移動する。固定子２１のそれぞれは非接触ベアリングである複数のエアベアリング１９によりマスク定盤３に対して浮上支持されている。このため、運動量保存の法則により粗動ステージ１６の＋Ｙ方向の移動に応じて固定子２１が−Ｙ方向に移動する。この固定子２１の移動により粗動ステージ１６の移動に伴う反力が相殺されるとともに重心位置の変化を防ぐことができる。なお、固定子２１は、マスク定盤３に変えてリアクションフレーム５に設けられてもよい。固定子２１をリアクションフレーム５に設ける場合にはエアベアリング１９を省略し、固定子２１をリアクションフレーム５に固定して粗動ステージ１６の移動により固定子２１に作用する反力をリアクションフレーム５を介して床に逃がしてもよい。   Each of the Y linear motors 20 is provided in correspondence with the pair of stators 21 including a coil unit (armature unit) provided to extend in the Y-axis direction on the mask surface plate 3. And a mover 22 composed of a magnet unit fixed to the coarse movement stage 16 via a connecting member 23. The stator 21 and the mover 22 constitute a moving magnet type linear motor 20, and the mover 22 is driven by electromagnetic interaction with the stator 21, whereby the coarse movement stage 16 (mask Stage MST) moves in the Y-axis direction. Each of the stators 21 is levitated and supported with respect to the mask surface plate 3 by a plurality of air bearings 19 which are non-contact bearings. For this reason, the stator 21 moves in the −Y direction according to the movement of the coarse movement stage 16 in the + Y direction according to the law of conservation of momentum. The movement of the stator 21 cancels out the reaction force accompanying the movement of the coarse movement stage 16 and can prevent the change in the position of the center of gravity. The stator 21 may be provided on the reaction frame 5 in place of the mask surface plate 3. When the stator 21 is provided on the reaction frame 5, the air bearing 19 is omitted, the stator 21 is fixed to the reaction frame 5, and the reaction force acting on the stator 21 due to the movement of the coarse movement stage 16 is applied to the reaction frame 5. You may escape to the floor.

Ｙガイド部２４のそれぞれは、Ｙ軸方向に移動する粗動ステージ１６を案内するものであって、マスク定盤３の中央部に形成された上部突出部３ｂの上面においてＹ軸方向に延びるように固定されている。また、粗動ステージ１６とＹガイド部２４、２４との間には非接触ベアリングである不図示のエアベアリングが設けられており、粗動ステージ１６はＹガイド部２４に対して非接触で支持されている。   Each of the Y guide portions 24 guides the coarse movement stage 16 moving in the Y-axis direction, and extends in the Y-axis direction on the upper surface of the upper protruding portion 3b formed at the center portion of the mask surface plate 3. It is fixed to. In addition, an air bearing (not shown) that is a non-contact bearing is provided between the coarse movement stage 16 and the Y guide parts 24, 24, and the coarse movement stage 16 is supported in a non-contact manner with respect to the Y guide part 24. Has been.

微動ステージ１８は不図示のバキュームチャックを介してマスクＭを吸着保持する。微動ステージ１８の＋Ｙ方向の端部にはコーナーキューブからなる一対のＹ移動鏡２５ａ、２５ｂが固定され、微動ステージ１８の−Ｘ方向の端部にはＹ軸方向に延びる平面ミラーからなるＸ移動鏡２６が固定されている。そして、これら移動鏡２５ａ、２５ｂ、２６に対して測長ビームを照射する３つのレーザ干渉計（いずれも不図示）が各移動鏡との距離を計測することにより、マスクステージＭＳＴのＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の位置が高精度で検出される。制御装置ＣＯＮＴはこれらレーザ干渉計の検出結果に基づいて、Ｙリニアモータ２０、Ｘボイスコイルモータ１７Ｘ、及びＹボイスコイルモータ１７Ｙを含む各モータを駆動し、微動ステージ１８に支持されているマスクＭ（マスクステージＭＳＴ）の位置制御を行う。   The fine movement stage 18 sucks and holds the mask M via a vacuum chuck (not shown). A pair of Y moving mirrors 25a and 25b made of a corner cube is fixed to the end of the fine movement stage 18 in the + Y direction, and an X movement made of a plane mirror extending in the Y-axis direction is attached to the end of the fine movement stage 18 in the -X direction. A mirror 26 is fixed. Then, three laser interferometers (all not shown) that irradiate the measuring beams to the movable mirrors 25a, 25b, and 26 measure the distances from the movable mirrors, so that the X axis of the mask stage MST, The Y axis and the position in the θZ direction are detected with high accuracy. Based on the detection results of these laser interferometers, the control device CONT drives each motor including the Y linear motor 20, the X voice coil motor 17X, and the Y voice coil motor 17Y, and a mask M supported by the fine movement stage 18. The position control of (mask stage MST) is performed.

図１に戻って、開口Ｋ及び開口３ａを通過したマスクＭのパターン像は投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬは複数の光学素子により構成され、これら光学素子は鏡筒で支持されている。投影光学系ＰＬは、例えば１／４又は１／５の投影倍率を有する縮小系である。なお、投影光学系ＰＬとしては等倍系あるいは拡大系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬの鏡筒の外周にはこの鏡筒に一体化されたフランジ部１０が設けられている。そして、投影光学系ＰＬはリアクションフレーム５の段部５ｂに防振ユニット１１を介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤１２にフランジ部１０を係合している。   Returning to FIG. 1, the pattern image of the mask M that has passed through the opening K and the opening 3a is incident on the projection optical system PL. Projection optical system PL is composed of a plurality of optical elements, and these optical elements are supported by a lens barrel. The projection optical system PL is a reduction system having a projection magnification of, for example, 1/4 or 1/5. The projection optical system PL may be either an equal magnification system or an enlargement system. A flange portion 10 integrated with the lens barrel is provided on the outer periphery of the lens barrel of the projection optical system PL. In the projection optical system PL, the flange portion 10 is engaged with the lens barrel surface plate 12 supported substantially horizontally by the step portion 5b of the reaction frame 5 via the vibration isolation unit 11.

ステージ装置２は、基板ステージＰＳＴと、基板ステージＰＳＴをＸＹ平面に沿った２次元方向に移動可能に支持する基板定盤４と、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に案内しつつ移動自在に支持するＸガイドステージ３５と、Ｘガイドステージ３５に設けられ、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に移動可能なＸリニアモータ４０と、Ｘガイドステージ３５をＹ軸方向に移動可能な一対のＹリニアモータ（リニアモータ、駆動装置）３０、３０とを有している。基板ステージＰＳＴは感光基板Ｐを真空吸着保持する基板ホルダＰＨを有しており、感光基板Ｐは基板ホルダＰＨを介して基板ステージＰＳＴに支持される。また、基板ステージＰＳＴの底面には非接触ベアリングである複数のエアベアリング３７が設けられており、これらエアベアリング３７により基板ステージＰＳＴは基板定盤４に対して非接触で支持されている。また、基板定盤４はベースプレート６の上方に防振ユニット１３を介してほぼ水平に支持されている。   The stage apparatus 2 supports the substrate stage PST, the substrate surface plate 4 that supports the substrate stage PST so as to be movable in a two-dimensional direction along the XY plane, and the substrate stage PST that is movable while being guided in the X-axis direction. An X guide stage 35, an X linear motor 40 provided on the X guide stage 35 and capable of moving the substrate stage PST in the X axis direction, and a pair of Y linear motors (linear) capable of moving the X guide stage 35 in the Y axis direction Motor, driving device) 30 and 30. The substrate stage PST has a substrate holder PH that holds the photosensitive substrate P by vacuum suction, and the photosensitive substrate P is supported by the substrate stage PST via the substrate holder PH. A plurality of air bearings 37 that are non-contact bearings are provided on the bottom surface of the substrate stage PST, and the substrate stage PST is supported in a non-contact manner with respect to the substrate surface plate 4 by these air bearings 37. The substrate surface plate 4 is supported substantially horizontally above the base plate 6 via a vibration isolation unit 13.

図３は基板ステージＰＳＴを有するステージ装置２の概略斜視図である。
図３に示すように、ステージ装置２は、Ｘ軸方向に沿った長尺形状を有するＸガイドステージ３５と、Ｘガイドステージ３５で案内しつつ基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に所定ストロークで移動可能なＸリニアモータ４０と、Ｘガイドステージ３５の長手方向両端に設けられ、このＸガイドステージ３５を基板ステージＰＳＴとともにＹ軸方向に移動可能な一対のＹリニアモータ３０、３０とを備えている。 FIG. 3 is a schematic perspective view of the stage apparatus 2 having the substrate stage PST.
As shown in FIG. 3, the stage apparatus 2 can move the substrate stage PST in the X axis direction with a predetermined stroke while being guided by the X guide stage 35 having an elongated shape along the X axis direction. An X linear motor 40 and a pair of Y linear motors 30 and 30 provided at both ends in the longitudinal direction of the X guide stage 35 and capable of moving the X guide stage 35 together with the substrate stage PST in the Y-axis direction are provided.

Ｘリニアモータ４０は、Ｘガイドステージ３５にＸ軸方向に延びるように設けられたコイルユニットからなる固定子４１と、この固定子４１に対応して設けられ、基板ステージＰＳＴに固定された磁石ユニットからなる可動子４２とを備えている。これら固定子４１及び可動子４２によりムービングマグネット型のリニアモータ４０が構成されており、可動子４２が固定子４１との間の電磁気的相互作用により駆動することで基板ステージＰＳＴがＸ軸方向に移動する。ここで、基板ステージＰＳＴはＸガイドステージ３５に対してＺ軸方向に所定量のギャップを維持する磁石及びアクチュエータからなる磁気ガイドにより非接触で支持されている。基板ステージＰＳＴはＸガイドステージ３５に非接触支持された状態でＸリニアモータ４０によりＸ軸方向に移動する。   The X linear motor 40 includes a stator 41 including a coil unit provided on the X guide stage 35 so as to extend in the X-axis direction, and a magnet unit provided corresponding to the stator 41 and fixed to the substrate stage PST. The movable element 42 which consists of these is provided. The stator 41 and the mover 42 constitute a moving magnet type linear motor 40, and the substrate stage PST is moved in the X-axis direction by driving the mover 42 by electromagnetic interaction with the stator 41. Moving. Here, the substrate stage PST is supported in a non-contact manner by a magnetic guide including a magnet and an actuator that maintain a predetermined amount of gap in the Z-axis direction with respect to the X guide stage 35. The substrate stage PST is moved in the X-axis direction by the X linear motor 40 while being supported by the X guide stage 35 in a non-contact manner.

Ｙリニアモータ３０のそれぞれは、Ｘガイドステージ３５の長手方向両端に設けられた磁石ユニットからなる可動子３２と、この可動子３２に対応して設けられコイルユニットからなる固定子３１とを備えている。ここで、固定子３１、３１はベースプレート６に突設された支持部３６、３６（図１参照）に設けられている。なお、図１では固定子３１及び可動子３２は簡略化して図示されている。これら固定子３１及び可動子３２によりムービングマグネット型のリニアモータ３０が構成されており、可動子３２が固定子３１との間の電磁気的相互作用により駆動することでＸガイドステージ３５がＹ軸方向に移動する。また、Ｙリニアモータ３０、３０のそれぞれの駆動を調整することでＸガイドステージ３５はθＺ方向にも回転移動可能となっている。したがって、このＹリニアモータ３０、３０により基板ステージＰＳＴがＸガイドステージ３５とほぼ一体的にＹ軸方向及びθＺ方向に移動可能となっている。   Each of the Y linear motors 30 includes a mover 32 made of a magnet unit provided at both ends of the X guide stage 35 in the longitudinal direction, and a stator 31 made of a coil unit provided corresponding to the mover 32. Yes. Here, the stators 31 and 31 are provided on support portions 36 and 36 (see FIG. 1) protruding from the base plate 6. In FIG. 1, the stator 31 and the mover 32 are illustrated in a simplified manner. The stator 31 and the mover 32 constitute a moving magnet type linear motor 30, and the mover 32 is driven by electromagnetic interaction with the stator 31, whereby the X guide stage 35 is moved in the Y-axis direction. Move to. Further, the X guide stage 35 can be rotated in the θZ direction by adjusting the driving of the Y linear motors 30 and 30. Therefore, the Y linear motors 30 and 30 enable the substrate stage PST to move in the Y axis direction and the θZ direction almost integrally with the X guide stage 35.

図１に戻って、基板ステージＰＳＴの−Ｘ側の側縁にはＹ軸方向に沿って延設されたＸ移動鏡５１が設けられ、Ｘ移動鏡５１に対向する位置にはレーザ干渉計５０が設けられている。レーザ干渉計５０はＸ移動鏡５１の反射面と投影光学系ＰＬの鏡筒下端に設けられた参照鏡５２とのそれぞれに向けてレーザ光（検出光）を照射するとともに、その反射光と入射光との干渉に基づいてＸ移動鏡５１と参照鏡５２との相対変位を計測することにより、基板ステージＰＳＴ、ひいては感光基板ＰのＸ軸方向における位置を所定の分解能でリアルタイムに検出する。同様に、基板ステージＰＳＴ上の＋Ｙ側の側縁にはＸ軸方向に沿って延設されたＹ移動鏡５３（図１には不図示、図３参照）が設けられ、Ｙ移動鏡５３に対向する位置にはＹレーザ干渉計（不図示）が設けられており、Ｙレーザ干渉計はＹ移動鏡５３の反射面と投影光学系ＰＬの鏡筒下端に設けられた参照鏡（不図示）とのそれぞれに向けてレーザ光を照射するとともに、その反射光と入射光との干渉に基づいてＹ移動鏡と参照鏡との相対変位を計測することにより、基板ステージＰＳＴ、ひいては感光基板ＰのＹ軸方向における位置を所定の分解能でリアルタイムに検出する。レーザ干渉計の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴはレーザ干渉計の検出結果に基づいてリニアモータ３０、４０を介して基板ステージＰＳＴの位置制御を行う。   Returning to FIG. 1, an X moving mirror 51 extending along the Y-axis direction is provided at the −X side edge of the substrate stage PST, and a laser interferometer 50 is disposed at a position facing the X moving mirror 51. Is provided. The laser interferometer 50 irradiates laser light (detection light) toward each of the reflection surface of the X movable mirror 51 and the reference mirror 52 provided at the lower end of the projection optical system PL, and the reflected light and the incident light are incident thereon. By measuring the relative displacement between the X moving mirror 51 and the reference mirror 52 based on the interference with light, the position of the substrate stage PST and thus the photosensitive substrate P in the X-axis direction is detected in real time with a predetermined resolution. Similarly, a Y moving mirror 53 (not shown in FIG. 1, refer to FIG. 3) extending along the X-axis direction is provided on the side edge on the + Y side on the substrate stage PST. A Y laser interferometer (not shown) is provided at the facing position, and the Y laser interferometer is a reference mirror (not shown) provided at the reflecting surface of the Y movable mirror 53 and the lower end of the projection optical system PL. And the relative displacement between the Y moving mirror and the reference mirror based on the interference between the reflected light and the incident light, thereby measuring the substrate stage PST and eventually the photosensitive substrate P. A position in the Y-axis direction is detected in real time with a predetermined resolution. The detection result of the laser interferometer is output to the control device CONT, and the control device CONT controls the position of the substrate stage PST via the linear motors 30 and 40 based on the detection result of the laser interferometer.

次に、図４乃至図６を参照しながら本発明に係るリニアモータ３０の第１実施形態について説明する。
図４はリニアモータ３０をＸ軸方向に沿って断面した図であり、図５はリニアモータ３０をＹ軸方向に沿って断面した図である。
リニアモータ３０は、Ｙ軸方向を長手方向とするコイルユニットからなる固定子３１と、図４に示すように、固定子３１のＺ方向両側に隙間をあけて配置された永久磁石（発磁体）７２を有する可動子３２とを備えている。 Next, a first embodiment of the linear motor 30 according to the present invention will be described with reference to FIGS.
4 is a cross-sectional view of the linear motor 30 along the X-axis direction, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the linear motor 30 along the Y-axis direction.
The linear motor 30 includes a stator 31 composed of a coil unit whose longitudinal direction is the Y-axis direction, and permanent magnets (magnet generators) arranged with gaps on both sides in the Z direction of the stator 31 as shown in FIG. And a mover 32 having 72.

固定子３１は、図５に示すように、ハウジング（コイルジャケット）６０内にコイル体６２が配置された構成となっている。コイル体６２は、ボビン６３の周囲に巻回されたコイル６４を有しており、長さ方向（Ｙ軸方向）に沿って複数配列されている。複数のコイル体６２は、エポキシ樹脂等により樹脂成型体として一体的に形成されている。この樹脂成型体は、円柱状の突起６２ａ及び不図示の支持体によってハウジング６０内に位置決め固定されるとともに、ハウジング６０との間に冷媒流路６５を形成する。図３に示すように、ハウジング６０には、冷媒流路６５に冷媒を入れるための導入管８１及び冷媒を排出するための導出管８２が設けられており、不図示の冷媒供給装置により温度調整された冷媒が循環する構成となっている。
なお、使用される冷媒としては、ハイドロフルオロエーテル（例えば「ノベックＨＦＥ」：住友スリーエム株式会社製）や、フッ素系不活性液体（例えば「フロリナート」：住友スリーエム株式会社製）などが挙げられる。 As shown in FIG. 5, the stator 31 has a configuration in which a coil body 62 is disposed in a housing (coil jacket) 60. The coil body 62 includes a coil 64 wound around the bobbin 63, and a plurality of the coil bodies 62 are arranged along the length direction (Y-axis direction). The plurality of coil bodies 62 are integrally formed as a resin molded body using an epoxy resin or the like. The resin molded body is positioned and fixed in the housing 60 by a cylindrical protrusion 62 a and a support body (not shown), and forms a coolant channel 65 between the resin molded body and the housing 60. As shown in FIG. 3, the housing 60 is provided with an introduction pipe 81 for introducing the refrigerant into the refrigerant flow path 65 and a lead-out pipe 82 for discharging the refrigerant, and the temperature is adjusted by a refrigerant supply device (not shown). The configured refrigerant circulates.
In addition, as a refrigerant | coolant used, hydrofluoro ether (For example, "Novec HFE": Sumitomo 3M Co., Ltd. product), a fluorine-type inert liquid (For example, "Fluorinert": Sumitomo 3M Co., Ltd. product), etc. are mentioned.

可動子３２は、永久磁石７２と、永久磁石７２をそれぞれ支持するヨーク７１と、ヨーク７１を固定子３１を挟んだＺ方向両側に位置させるスペーサ７０とから構成されている。スペーサ７０及びヨーク７１は、取付ネジ等の締結部材６９により一体的に締結固定される。   The mover 32 includes a permanent magnet 72, a yoke 71 that supports the permanent magnet 72, and a spacer 70 that positions the yoke 71 on both sides in the Z direction with the stator 31 interposed therebetween. The spacer 70 and the yoke 71 are integrally fastened and fixed by a fastening member 69 such as a mounting screw.

永久磁石７２は、例えば大きなブロック状態で磁化された後に、切断されて配列されたものであり、図５に示すように、磁化方向が固定子３１（コイル体６２）を貫くＺ軸方向（コイル体６２と対向する方向）となる主極（第１発磁体）７２Ａと、磁化方向が長さ方向（Ｙ方向、相対移動方向）となる補極（第２発磁体）７２Ｂとが交互に、且つＸ軸周りの磁路（閉磁路）を形成するようにハルバッハ配列された構成となっている。これら永久磁石７２同士は、電気絶縁性を有する接着剤（樹脂接着剤等）で固定されている。   The permanent magnets 72 are, for example, magnetized in a large block state and then cut and arranged, and as shown in FIG. 5, the magnetization direction penetrates the stator 31 (coil body 62) in the Z-axis direction (coil The main pole (first magnet generator) 72A which is the direction facing the body 62 and the auxiliary pole (second magnet generator) 72B whose magnetization direction is the length direction (Y direction, relative movement direction) are alternately arranged, In addition, a Halbach array is formed so as to form a magnetic path (closed magnetic path) around the X axis. These permanent magnets 72 are fixed with an adhesive (resin adhesive or the like) having electrical insulation.

ヨーク７１は、永久磁石７２を保持（支持）するとともに、主極７２Ａから漏れ出した磁力線を補極７２Ｂに導くための磁路を形成するものであって、厚さ（Ｚ軸方向の長さ）が略同一で、固定子３１と可動子３２との相対移動方向であるＹ軸方向に異なる幅を有するヨーク片（第１分割体）７１Ａ及びヨーク片（第２分割体）７１Ｂとが電気絶縁層（電気絶縁部）７４を介して積層された構成となっている。ヨーク片７１Ａ、７１Ｂとしては、珪素鋼、純Ｆｅ、パーマロイ、Ｆｅ−Ｃｏ系合金等の軟磁性材が用いられ、加工性やコスト等を考慮して、ここでは珪素鋼が使用されている。   The yoke 71 holds (supports) the permanent magnet 72 and forms a magnetic path for guiding the magnetic field lines leaking from the main pole 72A to the auxiliary pole 72B, and has a thickness (length in the Z-axis direction). ) Are substantially the same, and the yoke piece (first divided body) 71A and the yoke piece (second divided body) 71B having different widths in the Y-axis direction, which is the relative movement direction of the stator 31 and the mover 32, are electrically connected. The insulating layer (electrical insulating portion) 74 is laminated. As the yoke pieces 71A and 71B, soft magnetic materials such as silicon steel, pure Fe, permalloy, and Fe-Co alloy are used, and silicon steel is used here in consideration of workability and cost.

これらヨーク片７１Ａ、７１Ｂの配置は、永久磁石７２によって発生するヨーク７１内の磁束密度分布に応じて決定される。
具体的には、相対的に大きな幅ＷＡのヨーク片７１Ａは、永久磁石７２からの磁束漏れが生じやすく（ヨーク７１における磁束密度が大きく）、磁気回路への影響が大きい主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部と対向する位置に配置される。一方、幅ＷＡよりも小さな幅ＷＢのヨーク片７１Ｂは、永久磁石７２からの磁束の漏れ量が少ない（ヨーク７１における磁束密度が小さい）、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部から離間した位置に複数枚で配置されている。隣り合うヨーク片７１Ａと７１Ｂとの間、及び隣り合うヨーク片７１Ｂ、７１Ｂの間には、電気絶縁層７４が介装されている。そして、上述した永久磁石７２（主極７２Ａ及び補極７２Ｂ）は、電気絶縁性を有する接着剤により幅広のヨーク片７１Ａに固定されている。 The arrangement of the yoke pieces 71A and 71B is determined according to the magnetic flux density distribution in the yoke 71 generated by the permanent magnet 72.
Specifically, the yoke piece 71A having a relatively large width WA is likely to cause magnetic flux leakage from the permanent magnet 72 (the magnetic flux density in the yoke 71 is large) and has a large influence on the magnetic circuit and the auxiliary pole 72A. It arrange | positions in the position facing a junction part with 72B. On the other hand, the yoke piece 71B having a width WB smaller than the width WA has a small amount of magnetic flux leakage from the permanent magnet 72 (the magnetic flux density in the yoke 71 is small), and is separated from the junction between the main pole 72A and the auxiliary pole 72B. It is arranged in multiple positions. An electric insulating layer 74 is interposed between the adjacent yoke pieces 71A and 71B and between the adjacent yoke pieces 71B and 71B. The permanent magnet 72 (the main pole 72A and the auxiliary pole 72B) described above is fixed to the wide yoke piece 71A with an adhesive having electrical insulation.

電気絶縁層７４としては、導電率が低い接着剤が用いられる。
接着剤としては、例えばエポキシ系接着剤や、シリコン系接着剤、アクリル系接着剤等を用いることができる。 As the electrical insulating layer 74, an adhesive having low conductivity is used.
As the adhesive, for example, an epoxy adhesive, a silicon adhesive, an acrylic adhesive, or the like can be used.

また、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂ（及び電気絶縁層７４）には、これらが組み立てられたときに互いに連通する位置に位置決め孔（連通孔）７５がそれぞれ略同一径で形成されている。位置決め孔７５は、永久磁石７２によって生じる磁束に影響を与えないように、図４に示すように、永久磁石７２と対向する位置から外れたＸ軸方向両側に形成されている。   In addition, positioning holes (communication holes) 75 are formed in the yoke pieces 71A and 71B (and the electrical insulating layer 74) with substantially the same diameter at positions where they are communicated with each other when they are assembled. As shown in FIG. 4, the positioning holes 75 are formed on both sides in the X-axis direction away from the position facing the permanent magnet 72 so as not to affect the magnetic flux generated by the permanent magnet 72.

続いて、上述したヨーク７１の製造方法について図６を参照して説明する。
ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの中、幅が小さい（薄い）ヨーク片７１Ｂについては、薄板に対して外形形状及び位置決め孔７５をプレスで打ち抜くことにより製造される。また、幅が大きい（厚い）ヨーク片７１Ａについては、外形形状、位置決め孔７５及び締結部材６９が挿入される挿入孔６９ａを切削加工や研削加工等の機械加工で製造される。なお、挿入孔６９ａは、スペーサ７０と対向し、且つ締結部材６９の径に応じた挿入孔６９ａが形成可能な幅を有するヨーク片７１Ａに形成される。また、挿入孔６９ａとしては、一対のヨーク７１の中、一方には貫通孔及び締結部材６９のヘッド部が係合するザグリが形成され、他方には締結部材６９の雄ネジ部に螺合する雌ネジ部が形成される。
そして、このように製造されたヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組立治具ＪＧを用いて組み立てる。 Next, a manufacturing method of the yoke 71 described above will be described with reference to FIG.
Among the yoke pieces 71A and 71B, the yoke piece 71B having a small width (thin) is manufactured by punching out the outer shape and the positioning hole 75 from a thin plate with a press. In addition, the yoke piece 71A having a large width (thickness) is manufactured by machining such as cutting or grinding in the outer shape, the positioning hole 75, and the insertion hole 69a into which the fastening member 69 is inserted. The insertion hole 69a is formed in the yoke piece 71A that faces the spacer 70 and has a width that allows the insertion hole 69a to be formed according to the diameter of the fastening member 69. Further, as the insertion hole 69a, one of the pair of yokes 71 is formed with a counterbore that engages the through hole and the head portion of the fastening member 69, and the other is screwed into the male screw portion of the fastening member 69. An internal thread portion is formed.
Then, the yoke pieces 71A and 71B thus manufactured are assembled using the assembly jig JG.

組立治具ＪＧは、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの外形よりも大きな輪郭を有する基台８６と、基台８６に位置決め孔７５と対応する位置（ピッチ）に着脱自在に立設され、位置決め孔７５と嵌合する軸部８７とから構成されている。基台８６には、組立及び取り外し時に、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの操作性（把持性）を向上させるための切欠８６ａが長さ方向中央部に形成されている。軸部８７は、組立後のヨーク７１の全長よりも大きな長さを有しており、その先端には、位置決め孔７５への挿入を容易にするためのテーパー部８７ａが形成されている。   The assembly jig JG is erected on a base 86 having an outline larger than the outer shape of the yoke pieces 71A and 71B, and is detachably installed on the base 86 at a position (pitch) corresponding to the positioning hole 75. It is comprised from the axial part 87 to fit. In the base 86, a notch 86a for improving the operability (gripability) of the yoke pieces 71A and 71B at the time of assembly and removal is formed in the central portion in the length direction. The shaft portion 87 has a length that is greater than the entire length of the assembled yoke 71, and a tapered portion 87 a for facilitating insertion into the positioning hole 75 is formed at the tip of the shaft portion 87.

組立治具ＪＧを用いてヨーク７１を組み立てる際には、軸部８７に位置決め孔７５を挿入することにより、まず挿入孔６９ａを有するヨーク片７１Ａを組み込む。
次いで、ヨーク片７１Ａの露出している側面に電気絶縁層７４としての接着剤を塗布し、その上に同様にヨーク片７１Ｂを組み込む。そして、同様の手順で主極７２Ａ及び補極７２Ｂに応じた配置となるように、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの組み込み及び接着剤の塗布を繰り返す。この後、乾燥工程で接着剤を固化させて一体化したヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組立治具ＪＧから引き抜くことにより、ヨーク７１が完成する。完成したヨーク７１は、図４に示すように、ヨーク片７１Ａにおいて永久磁石７２を接着固定させた後に、スペーサ７０を挟持した状態で締結部材６９により締結固定することにより可動子３２が完成する。 When assembling the yoke 71 using the assembly jig JG, the yoke piece 71A having the insertion hole 69a is first assembled by inserting the positioning hole 75 into the shaft portion 87.
Next, an adhesive as the electrical insulating layer 74 is applied to the exposed side surface of the yoke piece 71A, and the yoke piece 71B is similarly assembled thereon. Then, the incorporation of the yoke pieces 71A and 71B and the application of the adhesive are repeated so that the arrangement according to the main electrode 72A and the auxiliary electrode 72B is achieved in the same procedure. Thereafter, the yoke 71 is completed by pulling out the yoke pieces 71A and 71B integrated by solidifying the adhesive in the drying process from the assembly jig JG. As shown in FIG. 4, after the permanent magnet 72 is bonded and fixed to the yoke piece 71A, the completed yoke 71 is fastened and fixed by the fastening member 69 with the spacer 70 sandwiched therebetween, whereby the movable element 32 is completed.

続いて、上述したリニアモータ３０の作用について説明する。
制御装置ＣＯＮＴの制御のもとで、リニアモータ３０のコイル体６２に対して駆動電流として交流電流が供給されると、主極７２Ａが発生する磁力線はコイル体６２に作用しローレンツ力を発生させる。補極７２Ｂは、主極７２Ａから発生しコイル体６２（固定子３１）と逆方向へ向かう磁力線を引き寄せて隣接する主極７２Ａに導くための磁路を形成する。また、補極７２Ｂが発生する磁力線も隣接する主極７２Ａに導入されてコイル体６２に作用することにより、コイル体６２に作用する磁力線の数、即ち推力の増加に寄与することになる。 Then, the effect | action of the linear motor 30 mentioned above is demonstrated.
When an alternating current is supplied as a drive current to the coil body 62 of the linear motor 30 under the control of the control device CONT, the magnetic field lines generated by the main pole 72A act on the coil body 62 to generate a Lorentz force. . The auxiliary pole 72B forms a magnetic path for drawing a magnetic field line generated from the main pole 72A and going in the opposite direction to the coil body 62 (stator 31) and guiding it to the adjacent main pole 72A. In addition, the lines of magnetic force generated by the auxiliary pole 72B are also introduced into the adjacent main pole 72A and act on the coil body 62, thereby contributing to an increase in the number of magnetic field lines acting on the coil body 62, that is, thrust.

ここで、永久磁石７２によって発生するヨーク７２内における磁束密度は、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部近傍、すなわちヨーク片７１Ａが配置された位置において大きく、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部から離間した位置、すなわちヨーク片７１Ｂが配置された位置では小さい。
そして、主極７２Ａと補極７２Ｂとの磁化方向が直交しており、また磁力線は急激に進行方向の向きを変えられないため、主極７２Ａから補極７２Ｂに導かれる磁力線及び補極７２Ｂから主極７２Ａに導かれる磁力線は、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部近傍からヨーク７１におけるヨーク片７１Ａに漏れ出し、ヨーク片７１Ａにおいても磁路の一部が形成される（図５に符号Ｂで示す）。 Here, the magnetic flux density in the yoke 72 generated by the permanent magnet 72 is large in the vicinity of the junction between the main pole 72A and the auxiliary pole 72B, that is, at the position where the yoke piece 71A is disposed, and the main pole 72A and the auxiliary pole 72B It is small at a position away from the joint portion, that is, at a position where the yoke piece 71B is disposed.
Since the magnetization directions of the main pole 72A and the auxiliary pole 72B are orthogonal to each other and the direction of the magnetic force line cannot be changed suddenly, the magnetic force lines guided from the main pole 72A to the auxiliary pole 72B and the auxiliary pole 72B The lines of magnetic force guided to the main pole 72A leak into the yoke piece 71A in the yoke 71 from the vicinity of the junction between the main pole 72A and the auxiliary pole 72B, and a part of the magnetic path is also formed in the yoke piece 71A (see FIG. 5). (Indicated by symbol B).

このとき、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂは導電性を有しているため、変動磁場が作用することにより、磁場変動を相殺するように表面近傍にＺ軸周りに渦電流が生じる。ここで、ヨーク片７１Ｂは、Ｙ軸方向に分断された形状を呈しており、Ｙ軸方向の幅ＷＢが小さく設定されているため、ヨーク片７１Ｂで生じる渦電流は、ヨーク片の間に介在する電気絶縁層７４によって流れを阻止される。そのため、ヨーク片７１Ｂで生じる渦電流は、それぞれ幅ＷＢの狭い範囲で流れることになり電流値が小さくなる。   At this time, since the yoke pieces 71A and 71B have conductivity, an eddy current is generated around the Z-axis in the vicinity of the surface so that the magnetic field fluctuation is canceled by the action of the varying magnetic field. Here, since the yoke piece 71B has a shape divided in the Y-axis direction and the width WB in the Y-axis direction is set small, the eddy current generated in the yoke piece 71B is interposed between the yoke pieces. The electrical insulating layer 74 is prevented from flowing. Therefore, the eddy current generated in the yoke piece 71B flows in a narrow range of the width WB, and the current value becomes small.

このように、本実施の形態では、幅の異なるヨーク片７１Ａ、７１Ｂが電気絶縁部７４を介して積層されているので、幅の小さいヨーク片７１Ｂにおいて生じる渦電流の値が小さくなり、その結果、発熱を抑制することができる。また、本実施の形態では、磁束密度が大きい主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部近傍に配置されるヨーク片７１Ａはヨーク片７１Ｂよりも幅が大きく設定され磁路形成に寄与できるため、ヨーク片の積層構造による磁気回路への悪影響を低減して、モータ効率の低下を防止することができる。すなわち、本実施の形態では、永久磁石７２によって生じる磁束密度分布に応じて決定される幅でヨーク片７１Ａ、７１Ｂを積層させることにより、モータ効率の低下防止と発熱抑制という相反する効果を両立させることが可能である。さらに、本実施の形態では、永久磁石７２とヨーク７１との間も電気絶縁した状態で固定しているので、永久磁石７２の内部に流れる渦電流も分断することが可能となり、渦電流を低減して発熱量をより小さくすることができる。   As described above, in this embodiment, since the yoke pieces 71A and 71B having different widths are laminated via the electric insulating portion 74, the value of the eddy current generated in the yoke piece 71B having a small width is reduced, and as a result. Heat generation can be suppressed. In the present embodiment, the yoke piece 71A disposed near the junction between the main pole 72A and the auxiliary pole 72B having a high magnetic flux density is set to be wider than the yoke piece 71B and can contribute to magnetic path formation. An adverse effect on the magnetic circuit due to the laminated structure of the yoke pieces can be reduced, and a reduction in motor efficiency can be prevented. In other words, in the present embodiment, the yoke pieces 71A and 71B are stacked with a width determined according to the magnetic flux density distribution generated by the permanent magnet 72, thereby achieving both conflicting effects of preventing reduction in motor efficiency and suppressing heat generation. It is possible. Further, in the present embodiment, since the permanent magnet 72 and the yoke 71 are also fixed in an electrically insulated state, the eddy current flowing in the permanent magnet 72 can be divided, and the eddy current is reduced. Thus, the calorific value can be further reduced.

また、本実施の形態では、幅広のヨーク片７１Ａを用いることで、結果的にヨーク片の枚数を少なくすることが可能になり、複数のヨーク片７１Ａ、７１Ｂからなるヨーク７１を用いる場合の製造上のコストアップを減ずることができる。さらに、本実施の形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂが互いに連通する位置決め孔７５を有しているため、これらの組立・製造及び位置決めが容易になり、製造効率及び組立精度の向上に寄与できる。さらに、本実施の形態では、位置決め孔７５が永久磁石７２と対向する位置から外れた位置に形成されているので、磁気回路への悪影響を回避することができる。   Further, in the present embodiment, by using the wide yoke piece 71A, the number of yoke pieces can be reduced as a result, and the manufacturing in the case of using the yoke 71 composed of a plurality of yoke pieces 71A and 71B is possible. The cost increase above can be reduced. Furthermore, in this embodiment, since the yoke pieces 71A and 71B have the positioning holes 75 that communicate with each other, the assembly, manufacture, and positioning of these are facilitated, which can contribute to the improvement of manufacturing efficiency and assembly accuracy. Furthermore, in the present embodiment, since the positioning hole 75 is formed at a position deviating from the position facing the permanent magnet 72, an adverse effect on the magnetic circuit can be avoided.

なお、上記実施の形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの組立時に、組立治具ＪＧにおける軸部８７からヨーク片７１Ａ、７１Ｂを離脱させる手順としたが、これに限定されるものではなく、軸部８７を位置決め孔７５に嵌合させた状態で残存させてもよい。この場合、ヨーク７１としての剛性を高めることができる。また、軸部８７をヨーク７１に残存させない場合には、ヨーク７１を貫通する位置決め孔７５を冷媒（温度調整用媒体）を流通させるための流路として用い、ヨーク７１（可動子３２）を冷却する構成としてもよい。この場合、冷媒は気体であってもよいし、液体であってもよい。   In the above embodiment, the yoke pieces 71A and 71B are detached from the shaft portion 87 of the assembly jig JG when the yoke pieces 71A and 71B are assembled. However, the present invention is not limited to this. 87 may be left in a state of being fitted in the positioning hole 75. In this case, the rigidity as the yoke 71 can be increased. Further, when the shaft portion 87 is not left in the yoke 71, the positioning hole 75 penetrating the yoke 71 is used as a flow path for circulating the refrigerant (temperature adjusting medium) to cool the yoke 71 (movable element 32). It is good also as composition to do. In this case, the refrigerant may be a gas or a liquid.

続いて、上記の構成の露光装置ＥＸにおける露光動作について説明する。
不図示のレチクル顕微鏡および不図示のオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後アライメントセンサを用いた感光基板Ｐのファインアライメント（ＥＧＡ；エンハンスト・グローバル・アライメント等）が終了し、感光基板Ｐ上の複数のショット領域の配列座標が求められる。そして、アライメント結果に基づいてレーザ干渉計５０の計測値をモニタしつつ、リニアモータ３０、４０を制御して感光基板Ｐの第１ショットの露光のための走査開始位置に基板ステージＰＳＴを移動する。そして、リニアモータ２０、３０を介してマスクステージＭＳＴと基板ステージＰＳＴとのＹ方向の走査を開始し、両ステージＭＳＴ、ＰＳＴがそれぞれの目標走査速度に達すると、ブラインド機構の駆動により設定された露光用照明光によってマスクＭのパターン領域が照明され、走査露光が開始される。 Next, an exposure operation in the exposure apparatus EX having the above configuration will be described.
Preparatory work such as reticle alignment and baseline measurement using a reticle microscope (not shown) and off-axis alignment sensor (not shown) is performed, and then fine alignment (EGA; Enhanced Global) of the photosensitive substrate P using the alignment sensor is performed. (Alignment etc.) is completed, and arrangement coordinates of a plurality of shot areas on the photosensitive substrate P are obtained. Then, while monitoring the measurement value of the laser interferometer 50 based on the alignment result, the linear motors 30 and 40 are controlled to move the substrate stage PST to the scanning start position for the exposure of the first shot of the photosensitive substrate P. . Then, scanning in the Y direction of the mask stage MST and the substrate stage PST is started via the linear motors 20 and 30, and when both the stages MST and PST reach their target scanning speeds, they are set by driving the blind mechanism. The pattern area of the mask M is illuminated by the exposure illumination light, and scanning exposure is started.

この走査露光時には、マスクステージＭＳＴのＹ方向の移動速度と、基板ステージＰＳＴのＹ方向の移動速度とが投影光学系ＰＬの投影倍率（１／５倍あるいは１／４倍）に応じた速度比に維持されるように、リニアモータ２０、３０を介してマスクステージＭＳＴおよび基板ステージＰＳＴを同期制御する。基板ステージＰＳＴの移動に伴って基板定盤４に変形が生じる場合には、防振ユニット１３を制御して定盤４の変形を補正することで、感光基板Ｐの表面位置を投影光学系ＰＬの焦点位置に位置決めすることができる。   At the time of this scanning exposure, the moving speed in the Y direction of the mask stage MST and the moving speed in the Y direction of the substrate stage PST are speed ratios corresponding to the projection magnification (1/5 or 1/4) of the projection optical system PL. Thus, the mask stage MST and the substrate stage PST are synchronously controlled via the linear motors 20 and 30 so as to be maintained. When the substrate surface plate 4 is deformed with the movement of the substrate stage PST, the surface position of the photosensitive substrate P is corrected by controlling the image stabilization unit 13 to correct the deformation of the surface plate 4 to the projection optical system PL. Can be positioned at the focal position.

また、鏡筒定盤１２の残留振動に関しては、ステージ移動に伴う重心変化時と同様にエアマウント２６及びボイスコイルモータ２７を駆動することで残留振動をアクティブに制振し、下部支持フレーム５ｄを介して鏡筒定盤２５（投影光学系ＰＬ）に伝わる微振動をマイクロＧ（Ｇは重力加速度）レベルで絶縁する。
そして、マスクＭのパターン領域の異なる領域が照明光で逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、感光基板Ｐ上の第１ショットの走査露光が完了する。これにより、マスクＭのパターンが投影光学系ＰＬを介して感光基板Ｐ上の第１ショット領域に縮小転写される。 As for the residual vibration of the lens barrel surface plate 12, the residual vibration is actively suppressed by driving the air mount 26 and the voice coil motor 27 in the same manner as when the center of gravity changes due to the stage movement, and the lower support frame 5d is moved. The micro vibration transmitted to the lens barrel surface plate 25 (projection optical system PL) through the micro G (G is gravitational acceleration) level is insulated.
Then, different areas of the pattern area of the mask M are sequentially illuminated with illumination light, and the illumination of the entire pattern area is completed, whereby the scanning exposure of the first shot on the photosensitive substrate P is completed. Thereby, the pattern of the mask M is reduced and transferred to the first shot area on the photosensitive substrate P via the projection optical system PL.

このように、本実施形態におけるステージ装置及び露光装置では、走査露光時にＹリニアモータ３０を駆動する際にも、モータ効率を低下させることなく、ヨーク７１及び永久磁石７２からの発熱を抑制することができるため、発熱に起因する周囲の部材・装置の熱変形や、空気揺らぎ等のステージ位置検出精度の低下要因を排除することが可能になり、パターンの転写精度が低下することを防止できる。   As described above, in the stage apparatus and the exposure apparatus according to the present embodiment, even when the Y linear motor 30 is driven during the scanning exposure, the heat generation from the yoke 71 and the permanent magnet 72 is suppressed without reducing the motor efficiency. Therefore, it is possible to eliminate factors that reduce the accuracy of stage position detection, such as thermal deformation of surrounding members and devices caused by heat generation, air fluctuation, and the like, and it is possible to prevent a decrease in pattern transfer accuracy.

（第２実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第２実施形態について図７を参照して説明する。
上記第１実施形態では、電気絶縁層として接着剤を用いたが、本実施の形態では絶縁シートを用いる場合について説明する。この図において、図１乃至図６に示す第１の実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
図７に示す組立治具ＪＧには、両端に小径部８８が設けられた軸部８７が着脱自在に立設されている（図７では一端のみ図示）。小径部８８にはナット８９と螺合する雄ネジ８８ａが形成されており、また小径部８８の基端部（軸部８７の大径部の先端）には面取りＣが形成されている。 (Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the linear motor according to the present invention will be described with reference to FIG.
In the said 1st Embodiment, although the adhesive agent was used as an electrically insulating layer, the case where an insulating sheet is used is demonstrated in this Embodiment. In this figure, the same reference numerals are given to the same elements as those of the first embodiment shown in FIGS.
In the assembly jig JG shown in FIG. 7, a shaft portion 87 having small diameter portions 88 provided at both ends is detachably provided (only one end is shown in FIG. 7). The small-diameter portion 88 is formed with a male screw 88 a that is screwed with the nut 89, and a chamfer C is formed at the proximal end portion of the small-diameter portion 88 (the distal end of the large-diameter portion of the shaft portion 87).

この組立治具ＪＧを用いてヨーク７１を組み立てる際には、軸部８７に位置決め孔７５を挿入することにより、まず挿入孔６９ａを有するヨーク片７１Ａを組み込む。
次いで、絶縁シート（電気絶縁部）７４Ａを組み込み、さらにヨーク片７１Ｂを組み込む。絶縁シート７４Ａとしては、例えばポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ；厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が５×１０１７Ω・ｃｍ）やポリエステル（厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が１×１０１８Ω・ｃｍ）、ポリイミド（ＰＩ；厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が１×１０１８Ω・ｃｍ）、ポリエーテルイミド（厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が１×１０１７Ω・ｃｍ）等を用いることができる。なお、絶縁シート７４Ａにおいても軸部８７と嵌合する位置決め孔７５Ａが形成されている。 When assembling the yoke 71 using the assembly jig JG, the yoke piece 71A having the insertion hole 69a is first assembled by inserting the positioning hole 75 into the shaft portion 87.
Next, an insulating sheet (electrical insulating portion) 74A is incorporated, and a yoke piece 71B is further incorporated. As the insulating sheet 74A, for example, polyphenylene sulfide (PPS; volume specific resistance at a thickness of 25 μm is 5 × 10 17 Ω · cm) or polyester (volume specific resistance at a thickness of 25 μm is 1 × 10 18 Ω · cm), Polyimide (PI; volume resistivity at a thickness of 25 μm is 1 × 10 18 Ω · cm), polyetherimide (volume resistivity at a thickness of 25 μm is 1 × 10 17 Ω · cm), or the like can be used. Note that a positioning hole 75A that fits with the shaft portion 87 is also formed in the insulating sheet 74A.

そして、同様の手順で、間に絶縁シート７４Ａを介在させながら、所定の配置となるようにヨーク片７１Ａ、７１Ｂをそれぞれ組み込む。このとき、軸部８７には面取りＣが施されているため、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂ及び絶縁シート７４Ａを容易に組み込むことができる。ヨーク片７１Ａ、７１Ｂ及び絶縁シート７４Ａの組み込みが完了したら、軸部８７の先端の雄ネジ８８ａにナット８９を螺合し、ヨーク列の一端側を挟持させる。この後、軸部８７の他端側を基台８６から外し、他端側に形成された雄ネジ８８ａに同様にナット８９を螺合させ、これらナット８９間でヨーク列を挟持させる。かくして、ヨーク７１が形成される。   Then, in the same procedure, the yoke pieces 71A and 71B are respectively incorporated so as to have a predetermined arrangement with the insulating sheet 74A interposed therebetween. At this time, since the shaft portion 87 is chamfered C, the yoke pieces 71A and 71B and the insulating sheet 74A can be easily assembled. When the incorporation of the yoke pieces 71A, 71B and the insulating sheet 74A is completed, a nut 89 is screwed into the male screw 88a at the tip of the shaft portion 87, and one end side of the yoke row is clamped. Thereafter, the other end side of the shaft portion 87 is removed from the base 86, and a nut 89 is similarly screwed into the male screw 88 a formed on the other end side, and the yoke row is sandwiched between these nuts 89. Thus, the yoke 71 is formed.

本実施形態では、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、接着剤を用いることなくヨーク片７１Ａ、７１Ｂを有するヨーク７１を製造できるので、接着剤の塗布・固化に要する時間が不要となり、製造効率を向上させることができる。   In this embodiment, in addition to obtaining the same operations and effects as those in the first embodiment, the yoke 71 having the yoke pieces 71A and 71B can be manufactured without using an adhesive. The time required for the production becomes unnecessary, and the production efficiency can be improved.

（第３実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第３実施形態について図８を参照して説明する。
上記第１実施形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの厚さ（Ｚ軸方向の長さ；ヨーク片７１Ａの磁化方向の厚さ）が略同一であるものとして説明したが、第３実施形態では、厚さを異ならせる構成としている。
すなわち、幅広のヨーク片７１Ａは、磁束漏れを防止するために、磁気回路設計や磁気解析のルーチンによって必要な厚さが設定されるが、幅狭のヨーク片７１Ｂについては、ＸＹ平面と平行に流れる渦電流を遮断するという観点から大きな厚さは必要としない。そのため、図８に示すように、ヨーク片７１Ｂの厚さは、ヨーク片７１Ａの厚さよりも薄く形成されている。 (Third embodiment)
Next, a third embodiment of the linear motor according to the present invention will be described with reference to FIG.
In the first embodiment, the yoke pieces 71A and 71B have been described as having substantially the same thickness (the length in the Z-axis direction; the thickness in the magnetization direction of the yoke piece 71A). In the third embodiment, The thickness is varied.
That is, the wide yoke piece 71A has a necessary thickness set by a magnetic circuit design and magnetic analysis routine to prevent magnetic flux leakage, but the narrow yoke piece 71B is parallel to the XY plane. A large thickness is not required from the viewpoint of blocking the flowing eddy current. Therefore, as shown in FIG. 8, the thickness of the yoke piece 71B is formed thinner than the thickness of the yoke piece 71A.

従って、本実施の形態では、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、ヨーク７１の軽量化が図られることから、可動子３２の駆動に伴って生じる熱を少なくすることができるとともに、ヨーク７１Ａの露出面積が増えることから、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂで形成される凹凸が冷却用フィンとして機能し、モータ駆動時の冷却効率を高めることができる。   Therefore, in this embodiment, in addition to obtaining the same operations and effects as those in the first embodiment, the yoke 71 can be reduced in weight, so that heat generated by driving the mover 32 is reduced. In addition, since the exposed area of the yoke 71A increases, the irregularities formed by the yoke pieces 71A and 71B function as cooling fins, and the cooling efficiency when the motor is driven can be increased.

（第４実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第４実施形態について図９及び図１０を参照して説明する。上記実施形態は、固定子にコイル体が設けられ、可動子に永久磁石が設けられる構成としたが、第４実施形態では、固定子に永久磁石が設けられ、可動子にコイル体が設けられる構成について説明する。 (Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the linear motor according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the above embodiment, the stator is provided with a coil body and the mover is provided with a permanent magnet. In the fourth embodiment, the stator is provided with a permanent magnet, and the mover is provided with a coil body. The configuration will be described.

図９に示すように、本実施形態における固定子３１は、スペーサ７０と、−Ｘ側の側縁においてスペーサ７０を挟んだＺ方向両側に配置された一対のヨーク７１とが＋Ｘ側に開口するコ字状に形成された構成となっている。各ヨーク７１は、内部にコイル体を有する可動子３２の移動ストロークを超える長さを有している。本実施形態では、永久磁石７２は、ヨーク７１の可動子３２と対向する面で、且つスペーサ７０と逆側の縁部に沿って固定されている。そして、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂに形成される位置決め孔７５は、永久磁石７２と離間したスペーサ７０近傍の位置に一箇所ずつ配置されている。   As shown in FIG. 9, in the stator 31 according to the present embodiment, a spacer 70 and a pair of yokes 71 disposed on both sides in the Z direction with the spacer 70 sandwiched between side edges on the −X side open to the + X side. The structure is formed in a U-shape. Each yoke 71 has a length exceeding the moving stroke of the mover 32 having a coil body therein. In the present embodiment, the permanent magnet 72 is fixed along the edge opposite to the spacer 70 on the surface of the yoke 71 that faces the mover 32. The positioning holes 75 formed in the yoke pieces 71 </ b> A and 71 </ b> B are arranged one by one at a position near the spacer 70 that is separated from the permanent magnet 72.

上記の構成では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂを位置決めするための位置決め孔７５がそれぞれ一箇所ずつしか形成されていないため、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの組立時に位置決め孔７５（軸部８７）を中心として回転してしまう。そのため、図１０に示すように、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの長辺側の一面Ｆと当接する治具ＪＧ１を設けておき、位置決め孔７５に軸部８７を挿通させた状態で面Ｆを治具ＪＧ１に当接させることにより、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂを位置決めして固定することが可能になる。   In the above configuration, only one positioning hole 75 for positioning the yoke pieces 71A and 71B is formed, so that the yoke pieces 71A and 71B are rotated around the positioning hole 75 (shaft portion 87) when assembling. Resulting in. Therefore, as shown in FIG. 10, a jig JG1 that comes into contact with the long-side surface F of the yoke pieces 71A and 71B is provided, and the surface F is inserted into the positioning hole 75 with the shaft portion 87 inserted. By abutting against JG1, the yoke pieces 71A and 71B can be positioned and fixed.

（第５実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第５実施形態について図１１を参照して説明する。
本実施の形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組み立てる際に、位置決め孔７５に管体を嵌合させる構成としている。
すなわち、図１１に示すように、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの位置決め孔７５には、管体としての円管９０の外周面が嵌合している。円管９０は、両端の内径部（内周面）に形成された雌ネジ９０ａを有している。雌ネジ９０ａには、不図示の冷媒供給装置に接続された供給管９１の継手９２が螺着している。 (Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment of the linear motor according to the present invention will be described with reference to FIG.
In the present embodiment, the pipe body is fitted into the positioning hole 75 when the yoke pieces 71A and 71B are assembled.
That is, as shown in FIG. 11, the outer peripheral surface of the circular tube 90 as a tubular body is fitted in the positioning holes 75 of the yoke pieces 71A and 71B. The circular tube 90 has female threads 90a formed on inner diameter portions (inner peripheral surfaces) at both ends. A joint 92 of a supply pipe 91 connected to a refrigerant supply device (not shown) is screwed to the female screw 90a.

上記の構成のリニアモータでは、円管９０をヨーク片７１Ａ、７１Ｂの位置決め孔７５に挿通させることにより容易にヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組み立てられるとともに、円管９０内の内部空間９０ｂが冷媒供給装置から供給管９１を介して供給される温度調整された冷媒の流路となり、冷媒供給装置との間で冷媒を循環させることにより、ヨーク７１を効果的に冷却することが可能になる。
なお、ここで用いられる冷媒は、上述した固定子３１の冷媒流路６５に供給するものを分岐させて用いればよい。 In the linear motor having the above-described configuration, the yoke pieces 71A and 71B can be easily assembled by inserting the circular pipe 90 through the positioning holes 75 of the yoke pieces 71A and 71B, and the internal space 90b in the circular pipe 90 has the refrigerant supply device. Thus, the temperature-adjusted refrigerant flow path supplied through the supply pipe 91 is provided. By circulating the refrigerant between the refrigerant supply devices, the yoke 71 can be effectively cooled.
In addition, what is necessary is just to branch and use the refrigerant | coolant used here to the refrigerant | coolant flow path 65 of the stator 31 mentioned above.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

例えば、上記実施形態では、幅が異なる２種類のヨーク片７１Ａ、７１Ｂの例を用いて説明したが、これに限定されるものではなく、Ｙ軸方向の位置における磁束密度の大きさに基づいてそれぞれ幅の異なる３種類以上のヨーク片を用いてもよい。
また、上記実施形態では、固定子と可動子の相対移動方向にヨーク片を積層させる構成としたが、さらに相対移動方向と交差する方向（Ｘ軸方向）にも積層させる構成、すなわち、ＸＹ平面と平行に格子状に配列する構成としてもよい。
さらに、永久磁石７２の構成としては、必ずしも主極７２Ａと補極７２Ｂとを双方備えている必要はなく、主極７２Ａのみが配列されている構成であってもよい。 For example, in the above-described embodiment, the description has been given using the example of two types of yoke pieces 71A and 71B having different widths. However, the present invention is not limited to this, and based on the magnitude of the magnetic flux density at the position in the Y-axis direction. Three or more types of yoke pieces having different widths may be used.
In the above embodiment, the yoke pieces are stacked in the relative movement direction of the stator and the mover. However, the yoke pieces are stacked in the direction intersecting the relative movement direction (X-axis direction), that is, the XY plane. It is good also as a structure arranged in a grid | lattice form in parallel with.
Further, the configuration of the permanent magnet 72 does not necessarily include both the main pole 72A and the auxiliary pole 72B, and may be a configuration in which only the main pole 72A is arranged.

また、ヨーク片の間に介在させる電気絶縁部としては、上述した非金属の接着剤や絶縁シートの他に、非磁性金属のメッキ等を用いることが可能である。この種の非磁性金属としては、チタンやステンレス等を採用できる。さらに、非金属の電気絶縁部として、ヨーク片をエナメル被覆したものや、ポリエチレン等の透明樹脂でホルマル被覆したものを用いてもよい。   Further, as the electrical insulating portion interposed between the yoke pieces, it is possible to use nonmagnetic metal plating or the like in addition to the above-described nonmetallic adhesive and insulating sheet. As this type of nonmagnetic metal, titanium, stainless steel, or the like can be used. Furthermore, as the non-metallic electrical insulating portion, a yoke piece enamel-coated or a formal coating with a transparent resin such as polyethylene may be used.

また、上記の実施形態では、本発明をＹリニアモータ３０に適用する構成としたが、これに限られず、Ｘリニアモータ４０に適用する構成としてもよい。さらに、上記実施形態では、本発明を基板Ｐ側のステージ装置２に適用する構成としたが、これ以外にもマスクＭ側のステージ装置１に適用してもよい。この場合、Ｙリニアモータ２０に本発明を適用できる。   In the above embodiment, the present invention is applied to the Y linear motor 30. However, the present invention is not limited to this, and may be applied to the X linear motor 40. Furthermore, in the above embodiment, the present invention is applied to the stage device 2 on the substrate P side. However, the present invention may be applied to the stage device 1 on the mask M side. In this case, the present invention can be applied to the Y linear motor 20.

また、上記実施形態の感光基板Ｐとしては、半導体デバイス用の半導体ウエハのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。   The photosensitive substrate P of the above embodiment is not only a semiconductor wafer for a semiconductor device, but also a glass substrate for a liquid crystal display device, a ceramic wafer for a thin film magnetic head, or an original mask or reticle used in an exposure apparatus. (Synthetic quartz, silicon wafer) or the like is applied.

露光装置ＥＸとしては、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、感光基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置にも適用することができる。   As the exposure apparatus EX, in addition to the step-and-scan type scanning exposure apparatus that scans and exposes the pattern of the mask M by synchronously moving the mask M and the photosensitive substrate P, the mask M and the substrate P are stationary. The present invention can also be applied to a step-and-repeat projection exposure apparatus in which the pattern of the mask M is exposed in this state and the photosensitive substrate P is sequentially moved stepwise.

露光装置ＥＸの種類としては、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置に限られず、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶表示素子製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。   The type of exposure apparatus EX is not limited to an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor device that exposes a semiconductor device pattern on a wafer, but an exposure apparatus for manufacturing a liquid crystal display element that exposes a liquid crystal display element pattern on a square glass plate, The present invention can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing a thin film magnetic head, an image sensor (CCD) or a mask.

また、本発明は、投影光学系と基板との間に局所的に液体を満たし、該液体を介して基板を露光する、所謂液浸露光装置にも適用することができる。液浸露光装置については、国際公開第９９／４９５０４号パンフレットに開示されている。液浸露光装置の場合、露光に用いる液体の温度管理を特に厳密に行う必要があり、感光基板Ｐの近傍に熱源が存在することは好ましくない。この点、本発明によればリニアモータの発熱が低減されるので、本発明に係るリニアモータあるいはステージ装置は液浸露光装置に好適である。   The present invention can also be applied to a so-called immersion exposure apparatus in which a liquid is locally filled between the projection optical system and the substrate, and the substrate is exposed through the liquid. The immersion exposure apparatus is disclosed in International Publication No. 99/49504 pamphlet. In the case of the immersion exposure apparatus, it is necessary to strictly control the temperature of the liquid used for exposure, and it is not preferable that a heat source exists in the vicinity of the photosensitive substrate P. In this respect, according to the present invention, since the heat generation of the linear motor is reduced, the linear motor or the stage apparatus according to the present invention is suitable for an immersion exposure apparatus.

また、本発明は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。
ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）或いは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。 The present invention can also be applied to a twin stage type exposure apparatus.
The structure and exposure operation of a twin stage type exposure apparatus are described in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 10-163099 and 10-214783 (corresponding US Pat. Nos. 6,341,007, 6,400,441, 6,549). , 269 and 6,590,634), JP 2000-505958 (corresponding US Pat. No. 5,969,441) or US Pat. No. 6,208,407.

また、本発明は、特開平１１−１３５４００号に開示されているように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種の計測部材やセンサを備えて移動可能な計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。   In addition, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-135400, the present invention includes an exposure stage that is movable while holding a substrate to be processed such as a wafer, and a movable measurement device that includes various measurement members and sensors. The present invention can also be applied to an exposure apparatus that includes a stage.

また、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（または位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型のマスクＭを用いたが、光反射性の基板上に所定の反射パターンを形成した光反射型マスクを用いることもできる。さらに、これらのマスクに代えて、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターンまたは反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスクを用いてもよい。このような電子マスクは、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されている。ここではこの米国特許第６，７７８，２５７号公報を参照として援用する。なお、電子マスクとしては、非発光型画像表示素子または自発光型画像表示素子のいずれも用いることができる。   In the above-described embodiment, the light-transmitting mask M in which a predetermined light-shielding pattern (or phase pattern / dimming pattern) is formed on the light-transmitting substrate is used. It is also possible to use a light reflection mask on which a predetermined reflection pattern is formed. Further, instead of these masks, an electronic mask that forms a transmission pattern, a reflection pattern, or a light emission pattern based on electronic data of a pattern to be exposed may be used. Such an electronic mask is disclosed in, for example, US Pat. No. 6,778,257. This US Pat. No. 6,778,257 is hereby incorporated by reference. As the electronic mask, either a non-light-emitting image display element or a self-light-emitting image display element can be used.

また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２ レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６ ）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、マスクＭを用いる構成としてもよいし、マスクＭを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。   Further, as a light source for exposure illumination light, bright lines (g line (436 nm), h line (404.7 nm), i line (365 nm)) generated from an ultrahigh pressure mercury lamp, KrF excimer laser (248 nm), ArF excimer laser In addition to (193 nm) and F2 laser (157 nm), charged particle beams such as X-rays and electron beams can be used. For example, when using an electron beam, thermionic emission type lanthanum hexabolite (LaB6) and tantalum (Ta) can be used as the electron gun. Further, when an electron beam is used, a configuration using the mask M may be used, or a pattern may be formed directly on the wafer without using the mask M. Further, a high frequency such as a YAG laser or a semiconductor laser may be used.

投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクＭも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ及び偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、マスクＭと基板Ｐとを密接させてマスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。 As the projection optical system PL, when using far ultraviolet rays such as an excimer laser, a material that transmits far ultraviolet rays such as quartz or fluorite is used as a glass material, and when using an F 2 laser or X-ray, a catadioptric system or a refractive system is used. (The mask M is also of a reflective type), and when an electron beam is used, an electron optical system comprising an electron lens and a deflector may be used as the optical system. Needless to say, the optical path through which the electron beam passes is in a vacuum state. Further, the present invention can be applied to a proximity exposure apparatus that exposes the pattern of the mask M by bringing the mask M and the substrate P into close contact without using the projection optical system PL.

上記実施形態のように基板ステージＰＳＴやマスクステージＭＳＴにリニアモータを用いる場合においてエアベアリングを用いたエア浮上型に限られず、ローレンツ力を用いた磁気浮上型を用いてもよい。また、各ステージＰＳＴ、ＭＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。   In the case where a linear motor is used for the substrate stage PST and the mask stage MST as in the above embodiment, the magnetic levitation type using Lorentz force may be used instead of the air levitation type using an air bearing. Each stage PST, MST may be a type that moves along a guide, or may be a guideless type that does not have a guide.

基板ステージＰＳＴの移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−１６６４７５号公報（USP5,528,118）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。マスクステージＭＳＴの移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−３３０２２４号公報（US S/N08/416,558）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。   As described in JP-A-8-166475 (USP 5,528,118), the reaction force generated by the movement of the substrate stage PST is not transmitted to the projection optical system PL, but mechanically using a frame member. You may escape to the floor (ground). As described in JP-A-8-330224 (US S / N08 / 416,558), the reaction force generated by the movement of the mask stage MST is not transmitted to the projection optical system PL. You may mechanically escape to the floor (ground).

以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。   As described above, the exposure apparatus EX according to the present embodiment maintains various mechanical subsystems including the respective constituent elements recited in the claims of the present application so as to maintain predetermined mechanical accuracy, electrical accuracy, and optical accuracy. Manufactured by assembling. In order to ensure these various accuracies, before and after assembly, various optical systems are adjusted to achieve optical accuracy, various mechanical systems are adjusted to achieve mechanical accuracy, and various electrical systems are Adjustments are made to achieve electrical accuracy. The assembly process from the various subsystems to the exposure apparatus includes mechanical connection, electrical circuit wiring connection, pneumatic circuit piping connection and the like between the various subsystems. Needless to say, there is an assembly process for each subsystem before the assembly process from the various subsystems to the exposure apparatus. When the assembly process of the various subsystems to the exposure apparatus is completed, comprehensive adjustment is performed to ensure various accuracies as the entire exposure apparatus. The exposure apparatus is preferably manufactured in a clean room where the temperature, cleanliness, etc. are controlled.

半導体デバイスは、図１２に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。   As shown in FIG. 12, the semiconductor device has a step 201 for designing the function and performance of the device, a step 202 for producing a mask (reticle) based on the design step, and a step 203 for producing a substrate as a base material of the device. The substrate is manufactured through the substrate processing step 204 for exposing the mask pattern onto the substrate by the exposure apparatus EX of the above-described embodiment, the device assembly step (including the dicing process, bonding process, and package process) 205, the inspection step 206, and the like.

本発明のリニアモータを備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows one Embodiment of the exposure apparatus provided with the linear motor of this invention. 同露光装置を構成するステージ装置の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the stage apparatus which comprises the exposure apparatus. 本発明のリニアモータを備えたステージ装置の一実施形態を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows one Embodiment of the stage apparatus provided with the linear motor of this invention. リニアモータをＸ軸方向に沿って断面した図である。It is the figure which carried out the cross section of the linear motor along the X-axis direction. リニアモータをＹ軸方向に沿って断面した図である。It is the figure which carried out the cross section of the linear motor along the Y-axis direction. ヨーク片の組立手順を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the assembly procedure of a yoke piece. 第２実施形態に係る、ヨーク片の組立手順を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the assembly procedure of the yoke piece based on 2nd Embodiment. 第３実施形態に係るリニアモータをＹ軸方向に沿って断面した図である。It is the figure which carried out the cross section along the Y-axis direction of the linear motor which concerns on 3rd Embodiment. 第４実施形態に係るリニアモータの外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the linear motor which concerns on 4th Embodiment. 第４実施形態に係るヨーク片の組立手順を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the assembly procedure of the yoke piece which concerns on 4th Embodiment. 第５実施形態に係るリニアモータをＹ軸方向に沿って断面した図である。It is the figure which cut along the Y-axis direction the linear motor concerning a 5th embodiment. 半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows an example of the manufacturing process of a semiconductor device.

符号の説明Explanation of symbols

ＥＸ…露光装置、 Ｍ…マスク（レチクル）、 Ｐ…感光基板（基板）、 ２…ステージ装置、 ３０…Ｙリニアモータ（リニアモータ、駆動装置）、 ６２…コイル体、 ７１…ヨーク、 ７１Ａ…ヨーク片（第１分割体）、 ７１Ｂ…ヨーク片（第２分割体）、 ７２…永久磁石（発磁体）、 ７２Ａ…主極（第１発磁体）、 ７２Ｂ…補極（第２発磁体）、 ７４…電気絶縁層（電気絶縁部）、 ７４Ａ…絶縁シート（電気絶縁部）、 ７５…位置決め孔（連通孔）、 ９０…円管（管体）、 ９０ｂ…内部空間（流路）
EX ... exposure device, M ... mask (reticle), P ... photosensitive substrate (substrate), 2 ... stage device, 30 ... Y linear motor (linear motor, drive device), 62 ... coil body, 71 ... yoke, 71A ... yoke Piece (first divided body), 71B ... yoke piece (second divided body), 72 ... permanent magnet (magnetic generator), 72A ... main pole (first magnetic generator), 72B ... complementary pole (second magnetic generator), 74: Electrical insulating layer (electrical insulating part), 74A: Insulating sheet (electrical insulating part), 75 ... Positioning hole (communication hole), 90 ... Circular tube (tubular body), 90b ... Internal space (flow path)

Claims (10)

コイル体と、ヨークに支持された発磁体とを相対移動させるリニアモータであって、
前記ヨークは、第１分割体と、前記第１分割体とは前記相対移動方向における幅が異なる第２分割体とを電気絶縁部を介して積層させてなることを特徴とするリニアモータ。 A linear motor that relatively moves a coil body and a magnet generator supported by a yoke,
The linear motor is characterized in that the yoke is formed by laminating a first divided body and a second divided body having a width different from that of the first divided body in the relative movement direction via an electric insulating portion. 請求項１記載のリニアモータにおいて、
前記第１分割体及び第２分割体の前記幅は、前記発磁体によって発生する前記ヨーク内の磁束密度分布に応じて決定されることを特徴とするリニアモータ。 The linear motor according to claim 1,
The linear motor according to claim 1, wherein the widths of the first divided body and the second divided body are determined in accordance with a magnetic flux density distribution in the yoke generated by the magnet generator. 請求項１または２記載のリニアモータにおいて、
前記第１分割体の前記幅は、前記第２分割体の前記幅よりも大きく、
前記発磁体は、前記コイル体と対向する方向に磁化された第１発磁体と、前記第１発磁体と隣り合って配置され前記相対移動方向に磁化された第２発磁体とを有し、
前記第１分割体は、前記第１発磁体と前記第２発磁体との境界部近傍に配置されることを特徴とするリニアモータ。 The linear motor according to claim 1 or 2,
The width of the first divided body is larger than the width of the second divided body,
The magnetism generator includes a first magnetism magnetized in a direction facing the coil body, and a second magnetism magnet arranged in a direction adjacent to the first magnetism body and magnetized in the relative movement direction,
The linear motor according to claim 1, wherein the first divided body is disposed in the vicinity of a boundary portion between the first and second magnet generators. 請求項３記載のリニアモータにおいて、
前記第１発磁体の磁化方向における前記第２分割体の厚さは、前記第１分割体の前記厚さよりも薄いことを特徴とするリニアモータ。 The linear motor according to claim 3,
The linear motor according to claim 1, wherein a thickness of the second divided body in a magnetization direction of the first magnetic generator is thinner than the thickness of the first divided body. 請求項１から４のいずれかに記載のリニアモータにおいて、
前記ヨークと前記発磁体とが電気絶縁されて設けられていることを特徴とするリニアモータ。 In the linear motor according to any one of claims 1 to 4,
A linear motor characterized in that the yoke and the magnetism generator are electrically insulated. 請求項１から５のいずれかに記載のリニアモータにおいて、
前記電気絶縁部は、非金属であることを特徴とするリニアモータ。 In the linear motor according to any one of claims 1 to 5,
The linear motor is characterized in that the electrical insulating part is non-metallic. 請求項１から６のいずれかに記載のリニアモータにおいて、
前記第１及び第２の分割体は、組み立てられたときに互いに連通する連通孔をそれぞれ有することを特徴とするリニアモータ。 The linear motor according to any one of claims 1 to 6,
The linear motor, wherein the first and second divided bodies each have a communication hole that communicates with each other when assembled. 請求項７記載のリニアモータにおいて、
前記連通孔と嵌合し、温度調整用媒体が流動する流路を形成する管体を有することを特徴とするリニアモータ。 The linear motor according to claim 7, wherein
A linear motor comprising a tubular body that fits into the communication hole and forms a flow path through which a temperature adjusting medium flows. 請求項１から８のいずれか一項に記載のリニアモータが駆動装置として用いられることを特徴とするステージ装置。   9. A stage apparatus, wherein the linear motor according to claim 1 is used as a driving apparatus. ステージ装置を用いて基板にパターンを露光する露光装置において、
前記ステージ装置として、請求項９に記載のステージ装置を用いたことを特徴とする露光装置。
In an exposure apparatus that exposes a pattern on a substrate using a stage device,
An exposure apparatus using the stage apparatus according to claim 9 as the stage apparatus.
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