JP2006216676A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体基板上に電子回路を形成される半導体装置に関し、特に、パッケージング後において当該電子回路の構成を変更する技術に関する。 The present invention relates to a semiconductor device in which an electronic circuit is formed on a semiconductor substrate, and more particularly to a technique for changing the configuration of the electronic circuit after packaging.
例えば、アナログ集積回路の製造精度の限界により生じる素子誤差を製造工程に最終段階で補正する手段として「ツェナーザップトリミング」というオンチップトリミングの手法が知られている。これは、ツェナーダイオードに対し逆方向に或る一定電圧以上の電気パルス(ザッピングパルス)を印加して、当該ダイオードを破壊(ザッピング)し短絡することによるものであり、予め回路内に配置した複数のツェナーダイオードを選択的にザッピングすることにより、回路構成を変更し調整する。 For example, an on-chip trimming technique called “zener zap trimming” is known as means for correcting an element error caused by the limit of the manufacturing accuracy of an analog integrated circuit in the final stage of the manufacturing process. This is caused by applying an electric pulse (zapping pulse) of a certain voltage or more to the Zener diode in the reverse direction, destroying (zapping) the diode, and short-circuiting. By selectively zapping the zener diodes, the circuit configuration is changed and adjusted.
ここで、電子回路を形成した半導体基板(ウェハー)状態でのザッピングに関しては、チップ上に各ツェナーダイオードそれぞれに対応してパッドを配置することは比較的容易であり、このパッドを利用してザッピングを行うことができる。これに対して、チップをパッケージ内に収納した後のザッピングに関しては、パッケージに設けられる端子(ピン)数の増加に制限がある。すなわち、ピン数を増加することはパッケージサイズが大きくなり、またそれに伴いコストが増大するという問題があり、ツェナーダイオード毎に対応してピンを設けることが難しい。 Here, regarding zapping in the state of a semiconductor substrate (wafer) on which an electronic circuit is formed, it is relatively easy to arrange pads corresponding to each zener diode on the chip, and zapping is performed using this pad. It can be performed. On the other hand, regarding zapping after the chip is accommodated in the package, there is a limit to the increase in the number of terminals (pins) provided in the package. That is, increasing the number of pins has the problem that the package size increases and the cost increases accordingly, and it is difficult to provide pins corresponding to each Zener diode.
この問題を解決する従来技術として、特許文献1に記載されるデコーダ回路を用いる方法が提案されている。この方法では、各ツェナーダイオードの一方端にトランジスタをスイッチ素子として接続し、各トランジスタのベースはデコーダ回路の出力信号線に接続される。デコーダ回路は、外部から入力されるデータに基づいて複数の出力信号線のいずれかに選択信号電圧を出力し、その選択信号電圧をベースに受けたトランジスタのみがオン状態とされる。トランジスタがオン状態とされることにより形成される電流路を介して、ザッピングパルスが選択的にツェナーダイオードに印加される。この構成によれば、ザッピングパルスを入力するピンは複数のツェナーダイオードに共通とすることができ、またデコーダ回路にデータを入力するためのピンの数はツェナーダイオードの数に応じたバイナリのビット数に減らすことができる。
しかし、この従来技術では、チップ上にデコーダ回路を構成する必要があり、チップ面積が増大するという問題がある。特に、トリミング対象の回路自体が小規模であるほど、デコーダ回路のオーバーヘッドは大きくなる。 However, in this conventional technique, it is necessary to configure a decoder circuit on the chip, and there is a problem that the chip area increases. In particular, the smaller the trimming target circuit itself, the greater the overhead of the decoder circuit.
本発明は、上述の問題点を解決するためになされたものであり、オンチップトリミングに関して、デコーダ回路をチップ上に設けることなく、パッケージのピン数の増大が抑制される半導体装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a semiconductor device in which an increase in the number of pins of a package is suppressed without providing a decoder circuit on a chip for on-chip trimming. With the goal.
本発明に係る半導体装置は、半導体基板上に形成された電子回路であって、メイン回路部と当該メイン回路部に接続され回路構成を調整されるトリミング回路部とを含むものにおいて、前記トリミング回路部が、ザッピング動作時に所定のザッピング電位差を外部から与えられる第1電圧入力端子及び第2電圧入力端子と、前記第1電圧入力端子及び前記第2電圧入力端子の間に接続され、前記ザッピング動作において前記ザッピング電位差に応じた逆バイアス電圧を印加され短絡されるツェナーダイオードと、前記ツェナーダイオードに直列に接続され、前記ザッピング動作においてスイッチ制御信号に応じてオン状態とされ前記ツェナーダイオードへの前記逆バイアス電圧の印加を可能とするスイッチ素子と、前記ザッピング動作時に前記第2電圧入力端子との間に所定のトリミング用電位差を生じる第3電圧入力端子と、前記トリミング用電位差に基づいて、前記スイッチ制御信号としてオン制御電圧及びオフ制御電圧を選択的に生成するスイッチ制御回路と、前記スイッチ制御回路が前記オン制御電圧及び前記オフ制御電圧のいずれを生成するかを制御する選択信号を入力されるザッピング選択端子と、を有し、前記第2電圧入力端子及び前記第3電圧入力端子が、前記ザッピング動作時以外において共通電位とされ、前記ザッピング選択端子が、前記メイン回路部の端子と共用されるものである。 A semiconductor device according to the present invention is an electronic circuit formed on a semiconductor substrate, and includes a main circuit unit and a trimming circuit unit connected to the main circuit unit and having a circuit configuration adjusted. Is connected between the first voltage input terminal and the second voltage input terminal to which a predetermined zapping potential difference is given from the outside during the zapping operation, and the zapping operation And a zener diode that is short-circuited by applying a reverse bias voltage corresponding to the zapping potential difference, and is connected in series to the zener diode and is turned on in response to a switch control signal in the zapping operation, and the reverse to the zener diode A switching element that enables the application of a bias voltage, and A third voltage input terminal that generates a predetermined trimming potential difference with the second voltage input terminal, and a switch that selectively generates an on control voltage and an off control voltage as the switch control signal based on the trimming potential difference A control circuit; and a zapping selection terminal to which a selection signal for controlling which of the on control voltage and the off control voltage is generated by the switch control circuit is input, the second voltage input terminal and the The third voltage input terminal is set to a common potential except during the zapping operation, and the zapping selection terminal is shared with the terminal of the main circuit unit.
他の本発明に係る半導体装置においては、前記スイッチ制御回路が、前記第2電圧入力端子及び前記第3電圧入力端子の間に直列に接続された選択用スイッチ素子と抵抗素子とを含み、前記選択用スイッチ素子が、前記選択信号により断続制御され、前記スイッチ制御信号が、前記抵抗素子の前記選択用スイッチ素子側の端子電圧である。 In another semiconductor device according to the present invention, the switch control circuit includes a selection switch element and a resistance element connected in series between the second voltage input terminal and the third voltage input terminal, The selection switch element is intermittently controlled by the selection signal, and the switch control signal is a terminal voltage of the resistance element on the selection switch element side.
また他の本発明に係る半導体装置においては、前記第3電圧入力端子が、接地電位に固定され、前記第2電圧入力端子が、前記ザッピング動作時には前記接地電位より前記トリミング用電位差分だけ低い負電位とされ、前記第1電圧入力端子が、前記ザッピング動作時には前記第2電圧入力端子の電位より前記ザッピング電位差分だけ高い正電位とされる。 In another semiconductor device according to the present invention, the third voltage input terminal is fixed to a ground potential, and the second voltage input terminal is a negative voltage that is lower than the ground potential by the trimming potential difference during the zapping operation. The first voltage input terminal is set to a positive potential that is higher than the potential of the second voltage input terminal by the zapping potential difference during the zapping operation.
本発明の好適な態様は、前記スイッチ素子が、ベースに前記スイッチ制御信号を印加されるトランジスタである半導体装置である。また本発明の他の好適な態様は、前記選択用スイッチ素子が、ベースに前記選択信号を印加されるトランジスタである半導体装置である。 A preferred aspect of the present invention is a semiconductor device in which the switch element is a transistor to which the switch control signal is applied to a base. Another preferable aspect of the present invention is a semiconductor device in which the selection switch element is a transistor to which the selection signal is applied to a base.
本発明によれば、ツェナーダイオードをザッピングする際には、第2電圧入力端子と第3電圧入力端子との間に電位差が与えられ、その電位差に基づいて動作するスイッチ制御回路が、ツェナーダイオードへのザッピングパルスの印加における電流路を形成するスイッチ素子をオン/オフ制御することができる。一方、半導体装置の通常の使用時には、第2電圧入力端子と第3電圧入力端子とを同電位とすることにより、スイッチ制御回路がスイッチ素子に対してオン制御電圧を生成することができないようにされ、メイン回路部の動作への影響が回避される。これにより、スイッチ制御回路を制御するザッピング選択端子をメイン回路部の端子と兼用のものとすることができ、半導体装置の端子数を抑制することができる。 According to the present invention, when the zener diode is zapped, a potential difference is given between the second voltage input terminal and the third voltage input terminal, and the switch control circuit that operates based on the potential difference is connected to the zener diode. It is possible to turn on / off the switch element that forms the current path in the application of the zapping pulse. On the other hand, when the semiconductor device is normally used, the switch control circuit cannot generate the on control voltage for the switch element by setting the second voltage input terminal and the third voltage input terminal to the same potential. Thus, the influence on the operation of the main circuit unit is avoided. As a result, the zapping selection terminal for controlling the switch control circuit can also be used as the terminal of the main circuit portion, and the number of terminals of the semiconductor device can be suppressed.
以下、本発明の実施の形態(以下実施形態という)について、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described with reference to the drawings.
図1は本実施形態に係る半導体素子の概略のブロック構成図である。本半導体素子は、基本的に回路構成が固定のメイン回路部2と、このメイン回路部2に接続され、ツェナーダイオードのザッピングにより回路構成を変更することができるトリミング回路部4とを含んで構成される半導体装置である。例えば、メイン回路部2は基準電圧生成回路6を内蔵し、この基準電圧生成回路6が出力する基準電圧を調整するためにトリミング回路部4が設けられる。例えば、基準電圧生成回路6は、抵抗に電流を流し、その抵抗の端子電圧を基準電圧として出力するものであり、トリミング回路部4により、抵抗に流れる電流を調整することによって、当該抵抗の半導体素子毎のばらつきに起因する基準電圧の差異を補正することができる。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a semiconductor device according to this embodiment. The semiconductor element basically includes a
半導体素子のパッケージには、Vcc,Vz,Vsub,GND,P1〜Pnを含むピン群が設けられる。ここで、Vccは、本半導体素子内の回路にて共通の電源として利用される所定の正電圧(例えば+5V等)の入力端子であり、GNDは回路内に共通の接地電位を与える端子である。また、Vzはトリミング回路部4内のツェナーダイオードをザッピングする際に利用されるザッピングパルスが入力される端子であり、Vsubは、回路が形成される半導体基板に所定の接地電位を印加する端子である。P1〜Pnは、メイン回路部2の各種の入力端子又は出力端子であると同時に、トリミング回路部4に対するザッピング動作時にて当該トリミング回路部4に設けられたn個のツェナーダイオードのうちザッピングするものを選択する選択信号を入力されるザッピング選択端子を兼ねる。
A package of semiconductor elements is provided with a pin group including Vcc, Vz, Vsub, GND, and P1 to Pn. Here, Vcc is an input terminal of a predetermined positive voltage (for example, + 5V, etc.) used as a common power source in the circuit in the semiconductor element, and GND is a terminal for giving a common ground potential in the circuit. . Vz is a terminal to which a zapping pulse used for zapping the zener diode in the
図2は、トリミング回路部4及び基準電圧生成回路6の概略の構成を示す回路図である。基準電圧生成回路6は、Vccと抵抗Rcの一方端Bとの間に、トランジスタQa及び抵抗Raからなる電流路と、定電流源Ik及びトランジスタQbk(k=1,2,・・・,n)からなる電流路とが並列に設けられる。QaはベースにオペアンプAの出力電圧を印加され、コレクタをVcc、エミッタをRaの一方端に接続される。このRaの一方端の電圧が基準電圧Vref2として基準電圧生成回路6から出力される。オペアンプAの一方の入力端子は、基準電圧Vref1を入力され、他方の入力端子はBに接続され、Vref1とB端子の電圧とが等しくなるように動作する。また、各QbkのエミッタはVccに接続された定電流源Ikに、またコレクタはBにそれぞれ接続され、ベースは共通のバイアス電圧Vbiasを印加される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a schematic configuration of the
トリミング回路部4は各Qbkのエミッタに接続され、Qbkに並列な電流路を形成する。各Qbk(k=1,2,・・・,n)に並列な電流路にはトランジスタQdkがエミッタ−コレクタ間を接続される。後述するザッピングによりQdkのオン/オフが決定され、トリミング回路部4が提供するQdkを含む電流路に電流が流れるか否かが定められる。それに応じて、基準電圧生成回路6の各Qbkを介してBに流れ込む電流量が変化し、その結果、Raに流れる電流が変化して、Vref2の値の調整が実現される。
The
トリミング回路部4には、各Qdk(k=1,2,・・・,n)それぞれに対応して、そのオン/オフを決定する回路が設けられる。この回路は、それぞれツェナーダイオードZk,トランジスタQek,Qfk、抵抗Rk1〜Rk4を含んで構成される。ここで、各トランジスタQdk,Qek,Qfkは基本的にスイッチ素子として用いられている。
The
ZkはカソードをVz、アノードをQekのコレクタに接続され、QekのエミッタはVsubに接続される。Qekのベースは、GNDとVsubとの間に設けられるQfk,Rk3及びRk4からなる電流経路に接続される。 In Zk, the cathode is connected to Vz, the anode is connected to the collector of Qek, and the emitter of Qek is connected to Vsub. The base of Qek is connected to a current path composed of Qfk, Rk3, and Rk4 provided between GND and Vsub.
また、ZkのアノードとVsubとの間には、Rk1及びRk2が直列接続され、Rk1とRk2との接続点の電圧がQdkのベースに印加される。 Rk1 and Rk2 are connected in series between the anode of Zk and Vsub, and the voltage at the connection point between Rk1 and Rk2 is applied to the base of Qdk.
QfkはエミッタをGNDに接続され、そのコレクタとVsubとの間にRk3及びRk4が直列接続される。Rk3とRk4との接続点の電圧がQekのベースに印加される。一方、Qfkのベースは、端子Pkから電圧を印加される。なお、図2では、端子Pkに接続されるメイン回路部2は省略されている。
Qfk has an emitter connected to GND, and Rk3 and Rk4 are connected in series between the collector and Vsub. The voltage at the connection point between Rk3 and Rk4 is applied to the base of Qek. On the other hand, a voltage is applied to the base of Qfk from the terminal Pk. In FIG. 2, the
このトリミング回路部4の回路構成において、Qekは、後述するザッピング動作において、ベースに印加されるスイッチ制御信号に応じてオン状態とされツェナーダイオードZkへの逆バイアス電圧の印加を可能とするスイッチ素子として機能する。また、Qfk,Rk3及びRk4からなる電流経路は、GNDとVsubとの電位差(トリミング用電位差)に基づいて、Qekに対するスイッチ制御信号としてオン制御電圧及びオフ制御電圧を選択的に生成するスイッチ制御回路として機能する。
In the circuit configuration of the
次に、トリミング回路部4のツェナーダイオードZkのザッピング動作について説明する。Vsubはメイン回路部2の通常動作時にはGNDと同電位に設定されるが、トリミング回路部4でのザッピング動作時には、VsubはGNDに対して電位差を与えられる。Qfk,Rk3及びRk4からなるスイッチ制御回路を有効に動作させるためには、Vsubは例えば−2Vに設定される。
Next, the zapping operation of the Zener diode Zk of the
Qfkはここではpnp型トランジスタ、一方、Qekはnpn型トランジスタで構成され、例えば、Pkに印加する選択信号が0Vのとき、Qfkのエミッタ−コレクタ間はオフ状態とされ、Qekのベースにはスイッチ制御信号としてオフ制御電圧であるVsubの電圧、すなわち−2Vが印加される。この場合には、ツェナーダイオードを逆バイアス状態としてザッピングし得る所定の高電圧のザッピングパルスを端子Vzに印加しても、Qekがオフ状態であるため、Zkはザッピングされない。 Qfk is a pnp type transistor here, while Qek is an npn type transistor. For example, when the selection signal applied to Pk is 0 V, the emitter-collector of Qfk is turned off, and a switch is provided at the base of Qek. As a control signal, a Vsub voltage that is an off-control voltage, that is, −2 V is applied. In this case, even if a predetermined high voltage zapping pulse that can be zapped with the Zener diode in the reverse bias state is applied to the terminal Vz, Zk is not zapped because Qek is in the off state.
一方、例えば、Pkに印加する選択信号が−1Vのとき、Qfkのエミッタ−コレクタ間はオン状態とされ、Qekのベースにはスイッチ制御信号としてオン制御するために十分な電流が流れる。この場合には、端子Vzにザッピングパルスを印加すると、Qekがオン状態であるため、ZkはVzとVsubとの間で逆バイアス状態とされ、ザッピングされる。 On the other hand, for example, when the selection signal applied to Pk is -1V, the emitter-collector of Qfk is turned on, and a sufficient current flows through the base of Qek for on-control as a switch control signal. In this case, when a zapping pulse is applied to the terminal Vz, since Qek is in an on state, Zk is in a reverse bias state between Vz and Vsub and is zapped.
このように、VsubとGNDとの間に電位差を設けた場合、Pkに印加する選択信号に応じて、Qekのオン/オフを制御することができ、それに基づいて対応するツェナーダイオードZkを選択的にザッピングすることができる。 As described above, when a potential difference is provided between Vsub and GND, on / off of Qek can be controlled in accordance with a selection signal applied to Pk, and the corresponding Zener diode Zk is selectively selected based on it. Can be zapped.
ちなみに、以上のザッピング動作ではVsubを負電圧に設定し、Pkも負電圧側にて設定するように構成した。このように構成することにより、基本的にGNDとVccとの間の電位にて動作するメイン回路部2に対するザッピング動作の影響回避を図ることができる。
Incidentally, in the above zapping operation, Vsub is set to a negative voltage, and Pk is also set on the negative voltage side. With this configuration, it is possible to avoid the influence of the zapping operation on the
以上のようにザッピング動作が完了し、本半導体素子を通常動作させる際には、Vsubは既に述べたようにGNDと同電位とされる。また、Vzは例えばVccと同電位とされる。通常動作時にはPkは、ザッピング選択端子としてではなく、メイン回路部2の端子として機能する。
As described above, when the zapping operation is completed and the semiconductor device is normally operated, Vsub is set to the same potential as GND as described above. Vz is set to the same potential as Vcc, for example. During normal operation, Pk functions not as a zapping selection terminal but as a terminal of the
ちなみに、通常動作時には、VsubとGNDとが同電位であることから、Pkの電圧によらず、基本的にQfkはオフ状態に維持され、Qekもオフ状態に保たれる。これにより、通常動作時には、Pkに印加された電圧はトリミング回路部4の影響を受けず、上述のようにPkはメイン回路部2の端子として利用することが可能となる。
Incidentally, during normal operation, since Vsub and GND are at the same potential, Qfk is basically kept off and Qek is kept off regardless of the voltage of Pk. As a result, during normal operation, the voltage applied to Pk is not affected by the trimming
ザッピングされ短絡されたZkのアノードの電位は、Vzに印加される電位Vccに応じた電圧となる。Qekがオフ状態であることから、そのアノードとVsubとの電位差は、Rk1及びRk2の直列接続に印加され、それらで分割された正電圧がQdkのベースに印加される。これによりQdkはオンし定電流源Ikの電流をバイパスするので、基準電圧生成回路6のQbkに流れる電流が減少し、Vref2を変化させる。
The potential of the zk anode shorted by zapping is a voltage corresponding to the potential Vcc applied to Vz. Since Qek is off, the potential difference between its anode and Vsub is applied to the series connection of Rk1 and Rk2, and the positive voltage divided by them is applied to the base of Qdk. As a result, Qdk is turned on and the current of the constant current source Ik is bypassed, so that the current flowing through Qbk of the reference
一方、ザッピングされていないZkに対応するQdkのベース電位は基本的にVsubの電位、すなわち接地電位となり、Qdkはオフ状態となる。よって、この場合には、定電流源Ikの電流はQbkのみに流れ、Vref2を変化させない。 On the other hand, the base potential of Qdk corresponding to Zk that has not been zapped basically becomes the potential of Vsub, that is, the ground potential, and Qdk is turned off. Therefore, in this case, the current of the constant current source Ik flows only in Qbk and does not change Vref2.
各定電流源Ikの電流値(又は各Qdkでバイパスされ得る電流量)が互いに異なるように構成することで、ザッピングされるZkの組み合わせに応じて、各Qbkに流れる電流量の合計値を異ならせることができ、それに対応してVref2を段階的に調整することができる。 By configuring the current values of the constant current sources Ik (or current amounts that can be bypassed by each Qdk) to be different from each other, the total amount of current flowing through each Qbk varies depending on the combination of Zk to be zapped. And Vref2 can be adjusted step by step accordingly.
上述の半導体素子において、トリミング回路部4のために特別に必要とされる端子は基本的にVz及びVsubであり、トリミング回路部4の他の端子はメイン回路部2と共用される。すなわち、トリミング回路部4を設けることによる半導体素子のピン数の増加が抑制される。
In the above-described semiconductor element, terminals specially required for the
なお、VsubとGNDとの電位差に基づいて、Qekにオン制御電圧とオフ制御電圧とを選択的に生成可能なスイッチ制御回路は、上記実施形態とは異なる構成のものを採用することができる。また、QekやQfk等に代えて他のスイッチ素子を用いることも可能である。 Note that a switch control circuit that can selectively generate an on-control voltage and an off-control voltage for Qek based on the potential difference between Vsub and GND can employ a configuration different from that of the above embodiment. In addition, other switch elements can be used instead of Qek, Qfk, and the like.
2 メイン回路部、4 トリミング回路部、6 基準電圧生成回路、Z1〜Zn ツェナーダイオード、Qa,Qd1〜Qdn,Qe1〜Qen,Qf1〜Qfn トランジスタ、R13〜Rn3,R14〜Rn4 抵抗。 2 main circuit section, 4 trimming circuit section, 6 reference voltage generation circuit, Z1 to Zn Zener diode, Qa, Qd1 to Qdn, Qe1 to Qen, Qf1 to Qfn transistors, R13 to Rn3, R14 to Rn4 resistors.
Claims (5)
前記トリミング回路部は、
ザッピング動作時に相互間に所定のザッピング電位差を外部から与えられる第1電圧入力端子及び第2電圧入力端子と、
前記第1電圧入力端子及び前記第2電圧入力端子の間に接続され、前記ザッピング動作において前記ザッピング電位差に応じた逆バイアス電圧を印加され短絡されるツェナーダイオードと、
前記ツェナーダイオードに直列に接続され、前記ザッピング動作においてスイッチ制御信号に応じてオン状態とされ前記ツェナーダイオードへの前記逆バイアス電圧の印加を可能とするスイッチ素子と、
前記ザッピング動作時に前記第2電圧入力端子との間に所定のトリミング用電位差を生じる第3電圧入力端子と、
前記トリミング用電位差に基づいて、前記スイッチ制御信号としてオン制御電圧及びオフ制御電圧を選択的に生成するスイッチ制御回路と、
前記スイッチ制御回路が前記オン制御電圧及び前記オフ制御電圧のいずれを生成するかを制御する選択信号を入力されるザッピング選択端子と、
を有し、
前記第2電圧入力端子及び前記第3電圧入力端子は、前記ザッピング動作時以外において共通電位とされ、
前記ザッピング選択端子は、前記メイン回路部の端子と共用されること、
を特徴とする半導体装置。 An electronic circuit formed on a semiconductor substrate, including a main circuit unit and a trimming circuit unit connected to the main circuit unit and having a circuit configuration adjusted.
The trimming circuit unit includes:
A first voltage input terminal and a second voltage input terminal to which a predetermined zapping potential difference is given from the outside during zapping operation;
A zener diode connected between the first voltage input terminal and the second voltage input terminal and short-circuited by applying a reverse bias voltage according to the zapping potential difference in the zapping operation;
A switch element connected in series to the Zener diode, and turned on in response to a switch control signal in the zapping operation, and enabling application of the reverse bias voltage to the Zener diode;
A third voltage input terminal that generates a predetermined trimming potential difference with the second voltage input terminal during the zapping operation;
A switch control circuit that selectively generates an on control voltage and an off control voltage as the switch control signal based on the trimming potential difference;
A zapping selection terminal to which a selection signal for controlling whether the switch control circuit generates the on control voltage or the off control voltage is input;
Have
The second voltage input terminal and the third voltage input terminal are set to a common potential except during the zapping operation,
The zapping selection terminal is shared with the terminal of the main circuit unit;
A semiconductor device characterized by the above.
前記スイッチ制御回路は、前記第2電圧入力端子及び前記第3電圧入力端子の間に直列に接続された選択用スイッチ素子と抵抗素子とを含み、
前記選択用スイッチ素子は、前記選択信号により断続制御され、
前記スイッチ制御信号は、前記抵抗素子の前記選択用スイッチ素子側の端子電圧であること、
を特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1,
The switch control circuit includes a selection switch element and a resistance element connected in series between the second voltage input terminal and the third voltage input terminal,
The selection switch element is intermittently controlled by the selection signal,
The switch control signal is a terminal voltage of the resistance element on the selection switch element side;
A semiconductor device characterized by the above.
前記第3電圧入力端子は、接地電位に固定され、
前記第2電圧入力端子は、前記ザッピング動作時には前記接地電位より前記トリミング用電位差分だけ低い負電位とされ、
前記第1電圧入力端子は、前記ザッピング動作時には前記第2電圧入力端子の電位より前記ザッピング電位差分だけ高い正電位とされること、
を特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1 or 2,
The third voltage input terminal is fixed to a ground potential;
The second voltage input terminal is set to a negative potential that is lower than the ground potential by the trimming potential difference during the zapping operation,
The first voltage input terminal is set to a positive potential higher than the potential of the second voltage input terminal by the zapping potential difference during the zapping operation;
A semiconductor device characterized by the above.
前記スイッチ素子は、ベースに前記スイッチ制御信号を印加されるトランジスタであること、を特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein:
The semiconductor device, wherein the switch element is a transistor to which the switch control signal is applied to a base.
前記選択用スイッチ素子は、ベースに前記選択信号を印加されるトランジスタであること、を特徴とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
The semiconductor device, wherein the selection switch element is a transistor to which the selection signal is applied to a base.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH06140512A (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-20 | Toshiba Corp | Trimming circuit |
JPH10275893A (en) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Sanyo Electric Co Ltd | Trimming circuit |
JP2003068858A (en) * | 2001-08-22 | 2003-03-07 | Toshiba Corp | Trimming circuit |
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Patent Citations (3)
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