JP2006206649A - Heat-decomposable block copolymer composed of ketene and aldehyde copolymer - Google Patents

Heat-decomposable block copolymer composed of ketene and aldehyde copolymer Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a block copolymer enabling easy removal of a decomposed polymer chain generated by the breakage and decomposition of the main chain of a specific repeating unit of the block copolymer. <P>SOLUTION: The heat-decomposable block copolymer contains a decomposable chain composed of a structure decomposable with acid or heat as at least one phase of the block copolymer. Especially, the heat-decomposable block copolymer contains a repeating unit expressed by formula (I) as a decomposable chain having a structure decomposable with heat. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、熱分解性ユニットと非熱分解性樹脂からなる新規ブロックポリマー及びグラフトコポリマーに関する。さらに詳しくは、ブロックコポリマー中、少なくとも1相が分解性ユニットで構成され、熱により分解性ユニットの主鎖が切断し、低分子量まで分解する熱分解性鎖含有ブロックコポリマーおよびグラフトコポリマーに関する。   The present invention relates to a novel block polymer and graft copolymer comprising a thermally decomposable unit and a non-thermally decomposable resin. More specifically, the present invention relates to a thermally decomposable chain-containing block copolymer and graft copolymer in which at least one phase is composed of degradable units in the block copolymer, and the main chain of the degradable unit is cleaved by heat to decompose to a low molecular weight.

これまで、種々のブロックコポリマーが知られている。このブロックコポリマーを用いナノメートルオーダーの微細構造を有する成形体を形成する方法として、ブロックコポリマーあるいはブロックコポリマーのミクロ相分離を利用する方法が知られている。この方法は、ミクロ相分離構造の特定の1相を選択的に除去して、繊維状構造、薄膜状構造、多孔質構造を有する成形体を形成したり、基板上に成膜したミクロ相分離膜の1相を選択的に除去して多孔質膜やアレイ状に配列したドットとして、この多孔質膜やドットアレイをエッチングマスクとして基板の微細加工などを行う。   Various block copolymers have been known so far. As a method for forming a molded article having a nanometer-order microstructure using this block copolymer, a method using block copolymer or microphase separation of the block copolymer is known. This method selectively removes one specific phase of the microphase separation structure to form a molded body having a fibrous structure, a thin film structure, or a porous structure, or a microphase separation film formed on a substrate. As the dots arranged in a porous film or array by selectively removing one phase of the film, the substrate is finely processed using the porous film or the dot array as an etching mask.

このときブロックコポリマーやグラフトコポリマーを構成する各ポリマー鎖は、相互に化学的に結合しているために、特定の1相を選択的に除去するためには、その相を構成するポリマー鎖の主鎖を切断、分解する。切断、分解したポリマー鎖は、加熱して揮発させたり、有機溶剤や水によって溶出して除去する。   At this time, since each polymer chain constituting the block copolymer or graft copolymer is chemically bonded to each other, in order to selectively remove one specific phase, the main chain of the polymer chain constituting the phase Break and break chains. The polymer chain that has been cut and decomposed is removed by heating to volatilize or by elution with an organic solvent or water.

しかしながら、上述した切断、分解したポリマー鎖を除去するためには必要な加熱操作や有機溶剤や水による溶出操作には問題があった。   However, there was a problem in the heating operation necessary for removing the above-described cleaved and decomposed polymer chains and the elution operation with an organic solvent or water.

すなわち加熱操作は、ポリマーを熱分解し揮発させるために、通常、200℃以上の高温で行う必要がある。そのため加熱操作中に残留する微細加工が酸化などで熱劣化したり、ガラス転移点温度以上となり、熱変形したりする恐れがある。このため、加熱操作によって製造できる成形体は、ポリイミドなどの高いガラス転移点温度を有する耐熱性ポリマーの成形態に限られ、材料の汎用性が無い。   That is, the heating operation usually needs to be performed at a high temperature of 200 ° C. or higher in order to thermally decompose and volatilize the polymer. Therefore, there is a possibility that the fine processing remaining during the heating operation is thermally deteriorated due to oxidation or the like, or becomes higher than the glass transition temperature, and is thermally deformed. For this reason, the molded object which can be manufactured by heating operation is restricted to the form of the heat resistant polymer which has high glass transition temperature, such as a polyimide, and does not have the versatility of a material.

また、溶出操作は、切断、分解したポリマー鎖を比較的低温で行える利点がある。しかしながら溶出に1日以上の長い時間を必要とすることが多くスループットが低いといった問題点があった。
一方、国際公開第03/069412号パンフレットには、化1で表されるケテン、アルデヒド共重合体のブロック重合体が酸で分解することが記載されている。
国際公開第03/069412号パンフレット
In addition, the elution operation has an advantage that a polymer chain that has been cut and decomposed can be obtained at a relatively low temperature. However, there is a problem that elution often requires a long time of one day or more and the throughput is low.
On the other hand, in the pamphlet of International Publication No. 03/069412, it is described that the block polymer of ketene and aldehyde copolymer represented by Chemical Formula 1 is decomposed with an acid.
International Publication No. 03/069412 Pamphlet

本発明の目的は、ブロックコポリマーの特定の繰り返し単位の主鎖を容易に切断、分解、分解されたポリマー鎖を除去可能なブロックコポリマーを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a block copolymer capable of easily removing, decomposing and decomposing a polymer chain of a specific repeating unit of the block copolymer.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ケテン、芳香族アルデヒドから容易に合成することが可能な主鎖にエステル結合を有する特定の組み合わせの重合体をブロックコポリマーの一部の相に導入することにより、上記課題を解決することができることを見い出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have determined that a specific combination of polymers having an ester bond in the main chain, which can be easily synthesized from ketene and aromatic aldehyde, is part of the block copolymer. It was found that the above-mentioned problems can be solved by introducing it in this phase, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下である。
(1)ブロックコポリマーの少なくとも1相が、酸もしくは熱により分解可能な構造からなる分解性鎖を含有する熱分解性ブロックコポリマー。
(2)上記(1)に記載の酸もしくは熱により分解可能な構造からなる分解性鎖として、式(I)

Figure 2006206649
(式中、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、C(=O)R4基、S(0)p4基、P(=O)(R42基、M(R43基を表し、R3はC1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基を表し、R4はC1〜C20の炭化水素オキシ基、C1〜C20の炭化水素基、C1〜C20の炭化水素チオ基、モノもしくはジC1〜C20の炭化水素アミノ基を表し、Mは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子を表し、pは0、1、または2のいずれかを表す。)で表される繰り返し単位を有することを特徴とする(1)に記載の熱分解性ブロックコポリマー。
(3)式(I)で表される化合物中、R3が、式(II)
Figure 2006206649
(式中、Xは、酸素原子、硫黄原子を表し、R5は、水素原子、C1〜C20の炭化水素基、または熱で分解・脱離する基を表し、R6は、ハロゲン原子、C1〜C20の炭化水素基を表し、mは1〜3のいずれかの整数を表し、nは0または1〜3のいずれかの整数を表し、m+n≦5を表し、mが2以上の場合、R5は同一または相異なっていてもよく、nが2以上の場合、R6は同一または相異なっていてもよい。)で表される置換基であることを特徴とする(2)に記載の熱分解性ブロックコポリマー。
(4)重合体の数平均分子量が、2,000〜900,000であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の熱分解性ブロックコポリマー。
(5)重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が、1.01〜3.00の範囲であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の熱分解性ブロックコポリマー及び熱分解性グラフトコポリマー。
(6)ブロックコポリマーがグラフトコポリマーであることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の熱分解性ブロックコポリマー。
(7)(1)〜(6)記載の熱分解性ブロックコポリマーを含有する樹脂組成物を、酸非存在下で加熱して分解することを特徴とする樹脂組成物の分解方法。 That is, the present invention is as follows.
(1) A thermally decomposable block copolymer in which at least one phase of the block copolymer contains a degradable chain having a structure decomposable by acid or heat.
(2) As a degradable chain having a structure decomposable by acid or heat as described in (1) above, formula (I)
Figure 2006206649
(In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C20 hydrocarbon group, a heterocyclic group, a cyano group, a nitro group, a C (═O) R 4 group, S (0 ) P R 4 group, P (═O) (R 4 ) 2 group, M (R 4 ) 3 group, R 3 represents a C1-C20 hydrocarbon group or heterocyclic group, and R 4 represents C1— C20 represents a hydrocarbon oxy group, C1 to C20 hydrocarbon group, C1 to C20 hydrocarbon thio group, mono or di C1 to C20 hydrocarbon amino group, and M represents a silicon atom, a germanium atom, a tin atom, (1) represents a lead atom, and p represents any one of 0, 1, or 2. The heat decomposable block copolymer according to (1), which has a repeating unit represented by
(3) In the compound represented by the formula (I), R 3 represents the formula (II)
Figure 2006206649
(In the formula, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 5 represents a hydrogen atom, a C1 to C20 hydrocarbon group, or a group that decomposes and desorbs by heat, R 6 represents a halogen atom, C1 C represents a hydrocarbon group of C20, m represents an integer of 1 to 3, n represents an integer of 0 or 1 to 3, m + n ≦ 5, and when m is 2 or more, R 5 may be the same or different, and when n is 2 or more, R 6 may be the same or different.) Thermally decomposable block copolymer.
(4) The thermally decomposable block copolymer according to any one of (1) to (3), wherein the polymer has a number average molecular weight of 2,000 to 900,000.
(5) The ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is in the range of 1.01 to 3.00, any of (1) to (4) Thermally decomposable block copolymers and thermally decomposable graft copolymers as described above.
(6) The thermally decomposable block copolymer according to any one of (1) to (5), wherein the block copolymer is a graft copolymer.
(7) A method for decomposing a resin composition comprising heating and decomposing a resin composition containing the thermally decomposable block copolymer according to (1) to (6) in the absence of an acid.

ブロックコポリマーとは、複数の単独ポリマー鎖を部分構成成分(ブロック)とするコポリマー(共重合体)をいう。ブロックコポリマーの代表例は、直鎖型の分子鎖形態をとっているもので、繰り返し単位Aを有するAポリマー鎖と繰り返し単位Bを有するBポリマー鎖とが末端どうしで化学的に結合した、−(AA・・AA)−(BB・・BB)−という構造を有するA−B型ジブロックコポリマーである。また、3種類以上のポリマー鎖が結合したブロックコポリマーでもよい。トリブロックコポリマーの場合、A−B−A型、B−A−B型、A−B−C型のいずれでもよい。スター型の分子鎖形態をとっていてもよい。スター型としては、ブロックコポリマー鎖が中心から放射状に伸びたものでもよいし、中心からそれぞれ異なるポリマー鎖が延びたものでもよい。ブロックが4つ以上の(A−B)t方または(A−B−A)t型などのブロックコポリマーを用いてもよい。また、上記以外にも例えば、−(AA・・AA)−(BCBBBCBCBCB・・CBB)−のように少なくとも一つのブロックがランダムコポリマーからなるポリマー鎖であるブロックコポリマーでもよい。   The block copolymer refers to a copolymer (copolymer) having a plurality of single polymer chains as partial constituent components (blocks). A typical example of the block copolymer is in the form of a linear molecular chain, in which an A polymer chain having a repeating unit A and a B polymer chain having a repeating unit B are chemically bonded at the ends. It is an AB type diblock copolymer having a structure of (AA ·· AA)-(BB ·· BB)-. Moreover, the block copolymer which 3 or more types of polymer chains couple | bonded may be sufficient. In the case of a triblock copolymer, any of ABA type, BAB type, and ABC type may be used. It may be in the form of a star-shaped molecular chain. As the star type, block copolymer chains may extend radially from the center, or different polymer chains may extend from the center. A block copolymer such as (AB) t or (ABA) t type having four or more blocks may be used. In addition to the above, for example, a block copolymer in which at least one block is a polymer chain made of a random copolymer, such as-(AA ·· AA)-(BCBBBCBCCBCB ·· CBB)-, may be used.

グラフトコポリマーとは、あるポリマーの主鎖に、他のポリマー鎖が側鎖としてぶら下がった構造を有する。グラフトコポリマーでは、側鎖に数種類のポリマーをぶら下げることができる。また、A−B型、A−B−A型、B−A−B型などのブロックコポリマーにCポリマー鎖がぶら下がったようなブロックコポリマーとグラフトコポリマーの組み合わせでもよい。   The graft copolymer has a structure in which another polymer chain is suspended as a side chain in the main chain of a certain polymer. In the graft copolymer, several types of polymers can be hung on the side chain. Further, a combination of a block copolymer and a graft copolymer in which a C polymer chain is suspended from a block copolymer such as an AB type, an ABA type, or a BAB type may be used.

本発明のブロックコポリマーは、特定の繰り返し単位の主鎖を容易に切断、分解、その除去が可能で操作性に優れる。   The block copolymer of the present invention can easily cleave, decompose, and remove the main chain of a specific repeating unit, and is excellent in operability.

本発明に用いられる式(I)で表される繰り返し単位中、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、C(=O)R4基、S(0)p4基、P(=O)(R42基、M(R43基を表し、R3はC1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基を表し、R4はC1〜C20の炭化水素オキシ基、C1〜C20の炭化水素基、C1〜C20の炭化水素チオ基、モノもしくはジC1〜C20の炭化水素アミノ基を表し、Mは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子を表し、pは0、1、または2のいずれかを表す。R1、R2として具体的には、水素原子、フッ素原子、クロ原子、ブロム原子、ヨウ素原子であるハロゲン原子、メチル基、エチル基、n−ブロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、s−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、s−ヘキシル基、s−ヘキシル基、1,1−ジメチル−n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−デシル基、n−ドデシル基等C1〜C20のアルキル基、ビニル基、アリル基、2−ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、4−オクテニル基等のC2〜C20のアルケニル基、エチニル基、プロパルギル基、1−メチル−プロピニル基等のC2〜C20のアルキニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−アダマンチル基、1−メチルアダマンチル基、2−アダマンチル基、2−メチル−2−アダマンチル基、ノルボルニル基等のC3〜C20の脂環式炭化水素基、フェニル基、1−ナフチル基、9−アントラセニル基等のC6〜C20の芳香族炭化水素基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−フラニル基、2−チエニル基、3−チエニル基、1−ピロロ基、2−オキサゾリル基、3−イソオキサゾリル基、2−チアゾリル基、3−イソチアゾリル基、1−ピラゾリル基、4−ピラゾリル基、2−イミダゾリル基、1,3,4−オキサジアゾール−2−イル、1,2,4−オキサジアゾール−5−イル、1,3,4−チアジアゾール−2−イル、1,2,4−チアジアゾール−5−イル、1,3,4−トリアゾール−2−イル、1,2,3−チアジアゾール−5−イル、1,2,3−トリアゾール−4−イル、1,2,3,4−テトラゾール−5−イル、ピリミジン−2−イル、ピリミジン−4−イル、ピラジン−2−イル、ピリダジン−3−イル、1,2,4−トリアジン−6−イル、1,3,5−トリアジン−2−イル、1−ピロリジニル基、1−ピペリジル基、4−モルホリニル基、2−テトラヒドロフラニル基、4−テトラヒドロピラニル基等のヘテロ環基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のC1〜C20のアルコキシカルボニル基、メチルチオカルボニル基等のC1〜C20のアルキルチオカルボニル基、N,N−ジメチルカルバモイル基等の置換または無置換カルバモイル基、メチルスルフェニル基、フェニルスルフェニル基、メチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、メチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、メチルスルフリル基、N,N−ジメチルスルファモイル基等の置換または無置換スルファモイル基、ジメチルホスホリル基、ビスメチルチオホスホニル基、テトラメチルアミノホスホニル基等のホスホニル基、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、トリメチルスタンニル基、トリフェニルプランバンニル基等を例示することができる。 In the repeating unit represented by the formula (I) used in the present invention, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C20 hydrocarbon group, a heterocyclic group, a cyano group, or a nitro group. , C (═O) R 4 group, S (0) p R 4 group, P (═O) (R 4 ) 2 group, M (R 4 ) 3 group, and R 3 is a C1-C20 hydrocarbon. R 4 represents a C1-C20 hydrocarbon oxy group, a C1-C20 hydrocarbon group, a C1-C20 hydrocarbon thio group, a mono- or di-C1-C20 hydrocarbon amino group. , M represents a silicon atom, a germanium atom, a tin atom, or a lead atom, and p represents any of 0, 1, or 2. Specific examples of R 1 and R 2 include a hydrogen atom, a fluorine atom, a chromium atom, a bromine atom, a halogen atom that is an iodine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, t -Butyl group, s-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, s-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, s-hexyl group, s-hexyl group, 1,1-dimethyl-n -Hexyl group, n-heptyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, etc. C1-C20 alkyl group, vinyl group, allyl group, 2-butenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 4-octenyl C2-C20 alkenyl group such as a group, ethynyl group, propargyl group, C2-C20 alkynyl group such as 1-methyl-propynyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclo C3 to C20 alicyclic rings such as nyl, 1-methylcyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-adamantyl, 1-methyladamantyl, 2-adamantyl, 2-methyl-2-adamantyl, norbornyl C6-C20 aromatic hydrocarbon group such as formula hydrocarbon group, phenyl group, 1-naphthyl group, 9-anthracenyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-furanyl group, 2 -Thienyl group, 3-thienyl group, 1-pyrrolo group, 2-oxazolyl group, 3-isoxazolyl group, 2-thiazolyl group, 3-isothiazolyl group, 1-pyrazolyl group, 4-pyrazolyl group, 2-imidazolyl group, 1 , 3,4-oxadiazol-2-yl, 1,2,4-oxadiazol-5-yl, 1,3,4-thiadiazol-2-yl, 1,2,4-thiadiazol-5-yl, 1,3,4-triazol-2-yl, 1,2,3-thiadiazol-5-yl, 1,2,3-triazol-4-yl, 1, 2,3,4-tetrazol-5-yl, pyrimidin-2-yl, pyrimidin-4-yl, pyrazin-2-yl, pyridazin-3-yl, 1,2,4-triazin-6-yl, 1, Heterocyclic groups such as 3,5-triazin-2-yl, 1-pyrrolidinyl group, 1-piperidyl group, 4-morpholinyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, 4-tetrahydropyranyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group A C1-C20 alkoxycarbonyl group such as n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, etc. C1-C20 alkylthiocarbonyl group such as thiocarbonyl group, substituted or unsubstituted carbamoyl group such as N, N-dimethylcarbamoyl group, methylsulfenyl group, phenylsulfenyl group, methylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, methylsulfonyl group , Phenylsulfonyl group, methylsulfuryl group, substituted or unsubstituted sulfamoyl group such as N, N-dimethylsulfamoyl group, dimethylphosphoryl group, bismethylthiophosphonyl group, phosphonyl group such as tetramethylaminophosphonyl group, trimethylsilyl group , T-butyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, trimethylstannyl group, triphenylplanbanyl group, and the like.

また、R3はC1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基を表し、具体的には、R1、R2で例示したのと同様の置換基を例示することができる。
以上のように、示したR1〜R3の置換基各々は、適当な炭素上の位置さらに置換基を有することができる。その置換基としては、フッ素原子、クロ原子、ブロム原子、ヨウ素原子であるハロゲン原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、4−クロロフェニル基、4−メトキシフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基等の置換フェニル基、プロパルギル基、2−ヒドロキシ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル基、2−(エトキシメトキシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル基等の炭化水素基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フェノキシ基、4−クロロフェノキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、t−ブトキシカルボニルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、フェノキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、トリメチルシリルオキシ基、t−ブトキシカルボニルメトキシ基等のアルコキシ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基等のアミノ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、2−ピリジルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基等のアルキル、アリール、もしくはヘテロ環チオ基またはその酸化体、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等のC1〜C20のアルコキシカルボニル基、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、2−ピリジルカルボニル基等のC2〜C20のアシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。
R 3 represents a C1-C20 hydrocarbon group or heterocyclic group, and specific examples thereof include the same substituents as exemplified for R 1 and R 2 .
As described above, each of the substituents represented by R 1 to R 3 can have a substituent at an appropriate carbon position. As the substituent, fluorine atom, chloro atom, bromine atom, halogen atom which is iodine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group , Fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, cyclopropyl group, cyclohexyl group, vinyl group, allyl group, phenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3,4- Substituted phenyl group such as dimethylphenyl group, propargyl group, 2-hydroxy-1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group, 2- (ethoxymethoxy) -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2-propyl group, etc., methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, -Butoxy group, s-butoxy group, isobutoxy group, t-butoxy group, fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, phenoxy group, 4-chlorophenoxy group, benzyloxy group, phenethyloxy group, t-butoxy Alkoxy groups such as carbonyloxy group, tetrahydropyranyloxy group, phenoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, trimethylsilyloxy group, t-butoxycarbonylmethoxy group, amino group, methylamino group, dimethylamino group, t-butoxycarbonylamino group Such as amino group, methylthio group, phenylthio group, 2-pyridylthio group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, etc., alkyl, aryl, or heterocyclic thio group or its oxidized form, methoxycarbonyl group, ethoxycarboni Group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, C1-C20 alkoxycarbonyl group such as t-butoxycarbonyl group, acetyl group, propanoyl group, benzoyl group, 2-pyridylcarbonyl group, etc. Examples include C2-C20 acyl groups, cyano groups, nitro groups and the like.

これら置換基を有するR1〜R3の具体例としては、クロロメチル基、フルオロメチル基、ブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、ジブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル基等のハロアルキル基、テトラフルオロエテニル基、2,2−ジフロロエテニル基等のハロアルケニル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、フェノキシメチル基等のアルコキシアルキル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基等のアルキルチオアルキル基またはアリールチオアルキル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、トリチル基、フェネチル基等のアラルキル基、ベンゾイルメチル基、アセチルメチル基等のアシルアルキル基、シアノメチル基等を例示することができる。 Specific examples of R 1 to R 3 having these substituents include chloromethyl group, fluoromethyl group, bromomethyl group, dichloromethyl group, difluoromethyl group, dibromomethyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, tribromo Methyl group, trichloromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoropropyl group Haloalkyl groups such as tetrafluoroethenyl group, haloalkenyl groups such as 2,2-difluoroethenyl group, alkoxyalkyl groups such as methoxymethyl group, methoxyethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, phenylthiomethyl group, etc. Alkylthioalkyl group or arylthioalkyl group, benzyl group, diphenyl Rumechiru group, trityl group, aralkyl groups such as phenethyl group, benzoyl methyl group, an acyl group such as acetyl group, there can be exemplified a cyanomethyl group.

また、R3として特に、式(II)で表される置換基を好ましく例示することできる。式(II)で表される置換基中、R5は、水素原子、C1〜C20の炭化水素基、酸脱離・分解基もしくは熱脱離・分解基を表し、mは1〜3のいずれかの整数を表し、mが2以上の場合、R5は、同一または相異なっていてもよい。ここで、酸脱離・分解基とは酸により脱離及び/又は分解する基を意味し、熱脱離・分解基とは熱により脱離及び/又は分解する基を意味する。具体的には、メトキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、ビス(2−クロロエトキシ)メチル基、テトラヒドロピラニル基、4−メトキシテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル基、t−ブチルジメチルシリル基、トリメチルシリルメチル基、又は下式に示すような置換基を例示することができる。 In addition, a substituent represented by the formula (II) can be preferably exemplified as R 3 . In the substituent represented by the formula (II), R 5 represents a hydrogen atom, a C1-C20 hydrocarbon group, an acid elimination / decomposition group or a thermal elimination / decomposition group, and m is any one of 1 to 3 When m is 2 or more, R 5 may be the same or different. Here, the acid leaving / decomposing group means a group that can be eliminated and / or decomposed by an acid, and the thermal leaving / decomposing group means a group that can be eliminated and / or decomposed by heat. Specifically, methoxymethyl group, 2-methoxyethoxymethyl group, bis (2-chloroethoxy) methyl group, tetrahydropyranyl group, 4-methoxytetrahydropyranyl group, tetrahydrofuranyl group, triphenylmethyl group, trimethylsilyl group , 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl group, t-butyldimethylsilyl group, trimethylsilylmethyl group, or a substituent as shown in the following formula.

Figure 2006206649
Figure 2006206649

(式中、kは0又は1を表す。)。さらに、下式   (Wherein k represents 0 or 1). Furthermore, the following formula

Figure 2006206649
Figure 2006206649

(式中、R14はC1〜C20の無置換又はアルコキシ置換のアルキル基、C5〜C10のシクロアルキル基、又はC6〜C20の無置換又はアルコキシ置換のアリール基を表し、R15は、水素又はC1〜C3のアルキル基を表し、R16は、水素、C1〜C6のアルキル基、又はC1〜C6のアルコキシ基を表す。)で表される基を例示することができ、このような置換基として具体的には、1−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、1−メトキシプロピル基、1−メチル−1−メトキシエチル基、1−(イソプロポキシ)エチル基等を例示することができる。水酸基、またはアルコキシ基(OR5基)の置換位置は特に制限されないが、メタ位又はパラ位が好ましい。
また、R6は、ハロゲン原子、C1〜C20の炭化水素基を表し、具体的には、R1、R2で例示した置換基のうち該当する例示と同様の置換基を例示することができる。
式(II)で表される置換基として具体的には、4−ヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル基、4−t−ブトキシフェニル基、4−テトラヒドロピラニルオキシフェニル基、4−フェノキシエトキシフェニル基、4−トリメチルシリルオキシフェニル基、4−t−ブトキシカルボニルオキシフェニル基、4−t−ブトキシカルボニルメトキシフェニル基、2,3−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル基、2,3−ジフルオロ−4−t−ブトキシフェニル基、2,6−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル基、2,6−ジフルオロ−4−t−ブトキシフェニル基、3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル基、3,5−ジフルオロ−4−t−ブトキシフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ヒドロキシフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−t−ブトキシフェニル基、2−トリフルオロメチル−4−ヒドロキシフェニル基、2−トリフルオロメチル−4−t−ブトキシフェニル基、2−トリフルオロメチルー6−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル基、2−トリフルオロメチル−6−フルオロ−4−t−ブトキシフェニル基、3−トリフルオロメチル−5−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル基、3−トリフルオロメチル−5−フルオロ−4−t−ブトキシフェニル基、4−(1−エトキシエトキシ)フェニル基、4−(2−ヒドロキシ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル)フェニル基、4−(2−エトキシメトキシ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル)フェニル基等を例示することができる。
また、R3の好ましい態様として例示した式(II)で表される置換基は、さらにR1とR2の置換基としても好ましく例示することができる。
Wherein R 14 represents a C1-C20 unsubstituted or alkoxy-substituted alkyl group, a C5-C10 cycloalkyl group, or a C6-C20 unsubstituted or alkoxy-substituted aryl group, and R 15 represents hydrogen or A C1-C3 alkyl group, and R 16 represents a hydrogen, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 alkoxy group). Specific examples include 1-methoxyethyl group, 1-ethoxyethyl group, 1-methoxypropyl group, 1-methyl-1-methoxyethyl group, 1- (isopropoxy) ethyl group and the like. The substitution position of the hydroxyl group or alkoxy group (OR 5 group) is not particularly limited, but the meta position or para position is preferred.
R 6 represents a halogen atom or a C1-C20 hydrocarbon group. Specifically, among the substituents exemplified for R 1 and R 2 , the same substituents as the corresponding examples can be exemplified. .
Specific examples of the substituent represented by the formula (II) include 4-hydroxyphenyl group, 4-hydroxy-3-methylphenyl group, 4-t-butoxyphenyl group, 4-tetrahydropyranyloxyphenyl group, 4 -Phenoxyethoxyphenyl group, 4-trimethylsilyloxyphenyl group, 4-t-butoxycarbonyloxyphenyl group, 4-t-butoxycarbonylmethoxyphenyl group, 2,3-difluoro-4-hydroxyphenyl group, 2,3-difluoro -4-t-butoxyphenyl group, 2,6-difluoro-4-hydroxyphenyl group, 2,6-difluoro-4-t-butoxyphenyl group, 3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl group, 3,5 -Difluoro-4-t-butoxyphenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-hydroxy Phenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-t-butoxyphenyl group, 2-trifluoromethyl-4-hydroxyphenyl group, 2-trifluoromethyl-4-t-butoxyphenyl group, 2- Trifluoromethyl-6-fluoro-4-hydroxyphenyl group, 2-trifluoromethyl-6-fluoro-4-t-butoxyphenyl group, 3-trifluoromethyl-5-fluoro-4-hydroxyphenyl group, 3-trimethyl Fluoromethyl-5-fluoro-4-t-butoxyphenyl group, 4- (1-ethoxyethoxy) phenyl group, 4- (2-hydroxy-1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2- (Propyl) phenyl group, 4- (2-ethoxymethoxy-1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl) phenyl group, etc. You can.
Further, the substituent represented by the formula (II) exemplified as a preferred embodiment of R 3 can be preferably exemplified as the substituent of R 1 and R 2 .

また、R1〜R3で表される各置換基は、式(I)で表される各繰り返し単位全てにおいて同一である必要はなく、適宜2種以上を混合して用いることができる。例えば、R3の置換基として、p−メトキシフェニル基とp−(1−エトキシエトキシ)フェニル基をモル比で1/99〜99/1の比率で混合して用いることができる。 In addition, the substituents represented by R 1 to R 3 do not have to be the same in all the repeating units represented by the formula (I), and two or more kinds can be appropriately mixed and used. For example, as a substituent for R 3 , a p-methoxyphenyl group and a p- (1-ethoxyethoxy) phenyl group can be mixed at a molar ratio of 1/99 to 99/1.

本発明における式(I)で表される分解性鎖を含有するブロックコポリマーとは、式(I)で表される繰り返し単位のみからなる重合部位および、式(I)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位からなる重合部位からなるブロックコポリマーである。   The block copolymer containing a degradable chain represented by the formula (I) in the present invention is a polymerization site consisting only of a repeating unit represented by the formula (I) and a repeating unit other than the repeating unit represented by the formula (I). It is a block copolymer consisting of polymerization sites consisting of repeating units of

式(I)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、具体的には、式(III)で表される繰り返し単位等を例示することができる。   Specific examples of the repeating unit other than the repeating unit represented by the formula (I) include a repeating unit represented by the formula (III).

Figure 2006206649
Figure 2006206649

式中、R31、R32、R33は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、C1〜C20直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基またはフッ素化されたアルキル基を表し、R34は、水酸基、またはアルコキシ基で置換されていてもよいC6〜C20の芳香族炭化水素基、またはCO235基を表し、R35は、C1〜C20炭化水素基を表す。 In the formula, R 31 , R 32 and R 33 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C20 linear, branched or cyclic alkyl group or a fluorinated alkyl group, and R 34 It represents a hydroxyl group or an aromatic hydrocarbon group having an alkoxy group may be substituted C6~C20 or represents CO 2 R 35 group, R 35,, represents a C1~C20 hydrocarbon group.

この場合、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−エチルシクロヘキシル基、n−オクチル基等を例示でき、特に炭素数1〜12、とりわけ炭素数1〜10のものが好ましい。なお、フッ素化されたアルキル基は、上記アルキル基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたものであり、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル基などが挙げられる。   In this case, the linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms includes methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 2-ethylcyclohexyl group, an n-octyl group and the like can be exemplified, and those having 1 to 12 carbon atoms, particularly 1 to 10 carbon atoms are preferable. The fluorinated alkyl group is one in which part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms, and includes a trifluoromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, 3, Examples include 3,3-trifluoropropyl group and 1,1,2,3,3,3-hexafluoropropyl group.

34は、水酸基、または水素か置換された水素基で置換されていてもよいC6〜C20の芳香族炭化水素基であり、具体的には、下記式(IV)で表される置換基を例示することができる。 R 34 is a hydroxyl group or a C6-C20 aromatic hydrocarbon group which may be substituted with hydrogen or a substituted hydrogen group, specifically, a substituent represented by the following formula (IV): It can be illustrated.

Figure 2006206649
Figure 2006206649

式中、R40は炭素数1〜14の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基を示し、その具体例は、上記R31で例示した具体例と同様の置換基を例示することができ、Xはフッ素原子、R41はC1〜C20の炭化水素基を表す。a、b、c、dはそれぞれ0または1〜5の整数を表し、a+b+c+dは0〜5いずれかである。 In the formula, R 40 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 14 carbon atoms or a fluorinated alkyl group, and specific examples thereof are the same substitutions as the specific examples illustrated for R 31 above. Group may be exemplified, X represents a fluorine atom, and R 41 represents a C1-C20 hydrocarbon group. a, b, c and d each represents 0 or an integer of 1 to 5, and a + b + c + d is 0 to 5.

41中、C1〜C20の炭化水素基としては、R1で例示した置換基と同様の置換基を例示することができる。熱不安定基としては種々選定されるが、具体的には下記式(V)、(VI)、もしくは(VII)で表される基、各アルキル基の炭素数1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜20のオキソアルキル基等を例示することができる。 In R 41 , examples of the C1-C20 hydrocarbon group include the same substituents as those exemplified for R 1 . Various heat labile groups are selected, and specifically, a group represented by the following formula (V), (VI), or (VII), or a trialkylsilyl group having 1 to 6 carbon atoms of each alkyl group And an oxoalkyl group having 4 to 20 carbon atoms.

Figure 2006206649
Figure 2006206649

式(V)、(VI)においてR51、R54は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基等の1価炭化水素基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、フッ素原子等のヘテロ原子を含んでもよい。 In the formulas (V) and (VI), R 51 and R 54 are monovalent hydrocarbon groups such as linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom And may contain a hetero atom such as a fluorine atom.

52、R53は水素原子又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、フッ素原子などのヘテロ原子を含んでもよい。また、R52とR53、R52とR54、R53とR54はそれぞれ結合して環を形成してもよい。aは0または1〜10のいずれかの整数を表す。 R 52 and R 53 are a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may contain a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a fluorine atom. R 52 and R 53 , R 52 and R 54 , and R 53 and R 54 may be bonded to each other to form a ring. a represents 0 or an integer of 1 to 10.

より好ましくは、R51〜R54は下記の基であることがよい。R51は炭素数4〜20、好ましくは4〜15の三級アルキル基、各アルキル基がそれぞれ炭素数1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜20のオキソアルキル基又は上記一般式(VII)で示される基を示し、三級アルキル基として具体的には、tert−ブチル基、tert−アミル基、1,1−ジエチルプロピル基、1−エチルシクロペンチル基、1−ブチルシクロペンチル基、1−エチルシクロヘキシル基、1−ブチルシクロヘキシル基、1−エチル−2−シクロペンテニル基、1−エチル−2−シクロヘキセニル基、2−メチル−2−アダマンチル基等が挙げられ、トリアルキルシリル基として具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチル−tert−ブチルシリル基等が挙げられ、オキソアルキル基として具体的には、3−オキソシクロヘキシル基、4−メチル−2−オキソオキサン−4−イル基、5−メチル−5−オキソオキソラン−4−イル基等が挙げられる。aは0〜6のいずれかの整数である。 More preferably, R 51 to R 54 are the following groups. R 51 is a tertiary alkyl group having 4 to 20 carbon atoms, preferably 4 to 15 carbon atoms, each alkyl group is a trialkylsilyl group having 1 to 6 carbon atoms, an oxoalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, or the above general formula ( VII), and specific examples of the tertiary alkyl group include tert-butyl group, tert-amyl group, 1,1-diethylpropyl group, 1-ethylcyclopentyl group, 1-butylcyclopentyl group, 1 -Ethylcyclohexyl group, 1-butylcyclohexyl group, 1-ethyl-2-cyclopentenyl group, 1-ethyl-2-cyclohexenyl group, 2-methyl-2-adamantyl group, etc. Specifically, a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a dimethyl-tert-butylsilyl group, and the like can be given as an oxoalkyl group. The body, the 3-oxo-cyclohexyl group, 4-methyl-2-oxooxan-4-yl group, and 5-methyl-5-oxo-dioxolane-4-yl group. a is an integer of 0-6.

52、R53は水素原子又は炭素数1〜18、好ましくは1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−エチルシクロヘキシル基、n−オクチル基等を例示できる。R9は炭素数1〜18、好ましくは1〜10の酸素原子等のヘテロ原子を有してもよい一価の炭化水素基を示し、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、これらの水素原子の一部が水酸基、アルコキシ基、オキソ基、アミノ基、アルキルアミノ基等に置換されたものを挙げることができ、具体的には、4−ヒドロキシブチル基、2−ブトキシエチル基、4−ヒドロキシメチル−1−シクロヘキシルメチル基、2−ヒドロキシエトキシ−2−エチル基、6−ヒドロキシヘキシル基、1,3−ジオキソラン−2−オン−4−メチル基等の置換アルキル基等が例示できる。 R 52 and R 53 each represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, specifically a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group. N-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 2-ethylcyclohexyl group, n-octyl group and the like. R 9 represents a monovalent hydrocarbon group which may have a hetero atom such as an oxygen atom having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and is a linear, branched or cyclic alkyl group, Examples include those in which a part of hydrogen atoms are substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group, an oxo group, an amino group, an alkylamino group, and the like. Specifically, a 4-hydroxybutyl group, a 2-butoxyethyl group, 4 Examples thereof include substituted alkyl groups such as -hydroxymethyl-1-cyclohexylmethyl group, 2-hydroxyethoxy-2-ethyl group, 6-hydroxyhexyl group and 1,3-dioxolan-2-one-4-methyl group.

52とR53、R52とR54、R53とR54はそれぞれ結合して環を形成してもよく、環を形成する場合にはR52、R53、R54はそれぞれ炭素数1〜18、好ましくは1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表す。 R 52 and R 53 , R 52 and R 54 , R 53 and R 54 may be combined to form a ring, and in the case of forming a ring, R 52 , R 53 and R 54 each have 1 carbon atom. Represents a linear or branched alkylene group of -18, preferably 1-10.

上記式(V)としては、具体的にはt−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、t−アミロキシカルボニル基、t−アミロキシカルボニルメチル基、1,1−ジエチルプロピルオキシカルボニル基、1,1−ジエチルプロピルオキシカルボニルメチル基、1−エチルシクロペンチルオキシカルボニル基、1−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチル基、1−エチル−2−シクロペンテニルオキシカルボニル基、1−エトキシエトキシカルボニルメチル基、2−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルメチル基、2−テトラヒドロフラニルオキシカルボニルメチル基等が例示できる。   Specific examples of the formula (V) include a t-butoxycarbonyl group, a t-butoxycarbonylmethyl group, a t-amyloxycarbonyl group, a t-amyloxycarbonylmethyl group, a 1,1-diethylpropyloxycarbonyl group, 1,1-diethylpropyloxycarbonylmethyl group, 1-ethylcyclopentyloxycarbonyl group, 1-ethylcyclopentyloxycarbonylmethyl group, 1-ethyl-2-cyclopentenyloxycarbonyl group, 1-ethoxyethoxycarbonylmethyl group, 2- Examples thereof include a tetrahydropyranyloxycarbonylmethyl group and a 2-tetrahydrofuranyloxycarbonylmethyl group.

上記式(VI)で示される熱不安的のうち直鎖状又は分岐状のものとしては、具体的には、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、1−エトキシ−エチル基、1−メトキシ−プロピル基、1−メトキシ−ブチル基、1−エトキシ−プロピル基、1−n−プロポキシ−エチル基、1−n−プロポキシ−プロピル基、1−n−ブトキシ−ブチル基、1−n−プロポキシ−ブチル基、1−シクロペンチルオキシ−エチル基、1−シクロヘキシルオキシ−エチル基、2−メトキシ−2−プロピル基、2−エトキシ−2−プロピル基等を例示することができる。   Specific examples of the linear or branched ones represented by the above formula (VI) include methoxymethyl group, ethoxymethyl group, n-propoxymethyl group, n-butoxymethyl group, 1 -Ethoxy-ethyl group, 1-methoxy-propyl group, 1-methoxy-butyl group, 1-ethoxy-propyl group, 1-n-propoxy-ethyl group, 1-n-propoxy-propyl group, 1-n-butoxy -Butyl group, 1-n-propoxy-butyl group, 1-cyclopentyloxy-ethyl group, 1-cyclohexyloxy-ethyl group, 2-methoxy-2-propyl group, 2-ethoxy-2-propyl group, etc. be able to.

上記式(VI)で示される熱不安定基のうち環状のもとしては、具体的にはテトラヒドロフラン−2−イル基、2−メチルテトラヒドロフラン−2−イル基、テトラヒドロピラン−2−イル基、2−メチルテトラヒドロピラン−2−イル基等が例示できる。式(4)としては1−エトキシ−エチル基、1−n−ブトキシ−エチル基、1−エトキシ−n−プロピル基が好ましい。   Among the thermally labile groups represented by the above formula (VI), specific examples of the cyclic group include tetrahydrofuran-2-yl group, 2-methyltetrahydrofuran-2-yl group, tetrahydropyran-2-yl group, 2 -A methyltetrahydropyran-2-yl group etc. can be illustrated. As the formula (4), a 1-ethoxy-ethyl group, a 1-n-butoxy-ethyl group, and a 1-ethoxy-n-propyl group are preferable.

式(VII)においてR55、R56、R57は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基等の
一価炭化水素基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子、フッ素原子等を含んでもよく、R55とR56、R55とR57、R56とR57とは互いに結合して環を結合してもよい。
In the formula (VII), R 55 , R 56 , and R 57 are monovalent hydrocarbon groups such as a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom. Hetero atoms, fluorine atoms and the like, and R 55 and R 56 , R 55 and R 57 , and R 56 and R 57 may be bonded to each other to form a ring.

式(VII)に示される三級アルキル基としては、t−ブチル基、1,1−ジエチル−n−プロピル基、1−エチルノルボニル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−エチルシクロペンチル基、2−(2−メチル)アダマンチル基、2−(2−エチル)アダマンチル基、tert−アミル基等を挙げることができる。   The tertiary alkyl group represented by the formula (VII) includes a t-butyl group, 1,1-diethyl-n-propyl group, 1-ethylnorbornyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-ethylcyclopentyl group, 2 -(2-Methyl) adamantyl group, 2- (2-ethyl) adamantyl group, tert-amyl group and the like can be mentioned.

また、式(VII)で表される三級アルキル基としては、下記に示す官能基を具体的に例示することができる。   Moreover, as a tertiary alkyl group represented by Formula (VII), the functional group shown below can be illustrated concretely.

Figure 2006206649
Figure 2006206649

ここで、R61、R64は、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基等を例示できる。R62は水素原子、炭素数1〜6のヘテロ原子を介してもよいアルキル基等の一価炭化水素基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子を挙げることができ、―OH、―OR(Rは炭素数1〜20、特に1〜16のアルキル基、以下同じ)、−O−、−S−。−S(=O)−,−NH2、−NHR、−NR2−、−NH−、−NR−として含有又は介在することができる。 Here, R 61 and R 64 represent a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group. , Sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopropyl group, cyclopropylmethyl group and the like. R 62 represents a monovalent hydrocarbon group such as a hydrogen atom or an alkyl group which may be bonded via a hetero atom having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom, and —OH, —OR (R is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly 1 to 16 carbon atoms, the same shall apply hereinafter), —O—, — S-. -S (= O) -, - NH 2, -NHR, -NR 2 -, - NH -, - can contain or intervening as NR-.

63としては、水素原子、又は炭素数1〜20、特に1〜16のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基又はアルコキシアルキル基などを挙げることができ、これらは直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。具体的には、メチル基、ヒドロキシメチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、メトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等を例示できる。 Examples of R 63 include a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly 1 to 16 carbon atoms, a hydroxyalkyl group, an alkoxy group, or an alkoxyalkyl group. These are linear, branched, and cyclic. Either of these may be used. Specifically, methyl group, hydroxymethyl group, ethyl group, hydroxyethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, methoxy group, methoxymethoxy Group, ethoxy group, tert-butoxy group and the like.

また、R41の熱不安定基として用いられる各アルキル基がそれぞれ炭素数1〜6のトリアルキルシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。 Examples of the trialkylsilyl group in which each alkyl group used as the heat labile group for R 41 has 1 to 6 carbon atoms include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, and the like.

炭素数4〜20のオキソアルキル基としては、3−オキソシクロヘキシル基、下記式で示される基が挙げられる。   Examples of the oxoalkyl group having 4 to 20 carbon atoms include a 3-oxocyclohexyl group and a group represented by the following formula.

Figure 2006206649
Figure 2006206649

更に、上記R41の熱不安的基は、下記式(VIII)または(IX)で表されるアセタール架橋基であってもよい。 Further, the heat-insecure group of R 41 may be an acetal bridging group represented by the following formula (VIII) or (IX).

Figure 2006206649
Figure 2006206649

式中、R71、R72は水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基を示す。又は、R71とR72は結合して環を形成していてもよく、環を形成する場合には、R71、R72は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。R73は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、eは1〜7の整数、f、gは0または1〜10の整数である。Aは、(e+1)価の炭素数1〜50の脂肪族もしくは脂環式飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基又はヘテロ環基を示し、これらの基はヘテロ原子を介在してもよく、又はその炭素原子に結合する水素原子の一部が水酸基、カルボキシル基、カルボニル基又はフッ素原子によって置換されていてもよい。Bは−CO−O−、−NHCO−O−又は−NHCONH−を示す。 In formula, R71 , R72 shows a hydrogen atom or a C1-C8 linear, branched, or cyclic alkyl group. Alternatively, R 71 and R 72 may combine to form a ring, and in the case of forming a ring, R 71 and R 72 represent a linear or branched alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. Show. R 73 is a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, e is an integer of 1 to 7, and f and g are 0 or an integer of 1 to 10. A represents an (e + 1) -valent aliphatic or alicyclic saturated hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups may intervene a hetero atom, Alternatively, a part of hydrogen atoms bonded to the carbon atom may be substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, a carbonyl group, or a fluorine atom. B represents —CO—O—, —NHCO—O— or —NHCONH—.

式(VIII)、(IX)に示される架橋形アセタールは、具体的には下記式のものを例示することができる。   Specific examples of the crosslinked acetal represented by the formulas (VIII) and (IX) include the following formulas.

Figure 2006206649
Figure 2006206649

式(IV)で表される官能基を有する繰り返し単位(III)として、具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、1,1−ジフェニルエチレン、スチルベン、4−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、4−ヒドロキシ−3−メチル−スチレン、4−tert−ブトキシ−スチレン、4−テトラヒドロピラニルオキシ−スチレン、4−フェノキシエトキシ−スチレン、4−トリメチルシリルオキシ−スチレン、4−トリメチルシリルオキシ−スチレン、4−t−ブトキシカルボニルオキシ−スチレン、4−t−ブトキシカルボニルメトキシ−スチレン、2,3−ジフルオロ−4−ヒドロキシスチレン、2,3−ジフルオロ−4−t−ブトキシ−スチレン、2,6−ジフルオロ−4−ヒドロキシ−スチレン、2,6−ジフルオロ−4−t−ブトキシ−スチレン、3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシ−スチレン、3,5−ジフルオロ−4−t−ブトキシ−スチレン、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ヒドロキシ−スチレン、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−t−ブトキシ−スチレン、2−トリフルオロメチル−4−ヒドロキシ−スチレン、2−トリフルオロメチル−4−t−ブトキシ−スチレン、2−トリフルオロメチル−6−フルオロ−4−ヒドロキシ−スチレン、2−トリフルオロメチル−6−フルオロ−4−t−ブトキシ−スチレン、3−トリフルオロメチル−5−フルオロ−4−ヒドロキシ−スチレン、3−トリフルオロメチル−5フルオロ−4−t−ブトキシスチレン、4−(1−エトキシエトキシ)−スチレン、4−(2−ヒドロキシ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル)−スチレン、4−(2−エトキシメトキシ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル)−スチレン、2,3−ジフルオロ−4−ヒドロキシスチレン、2,3−ジフルオロ−4−t−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、2,6−ジフルオロ−4−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、2,6−ジフルオロ−4−t−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、3,5−ジフルオロ−4−t−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−t−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、2−トリフルオロメチル−4−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、2−トリフルオロメチル−4−t−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、2−トリフルオロメチル−6−フルオロ−4−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、2−トリフルオロメチル−6−フルオロ−4−t−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、3−トリフルオロメチル−5−フルオロ−4−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、3−トリフルオロメチル−5−フルオロ−4−t−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、4−(1−エトキシエトキシ)−α−メチル−スチレン、4−(2−ヒドロキシ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル)−α−フルオロ−スチレン、4−(2−エトキシメトキシ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル)−α−フルオロ−スチレン等を例示することができる。   Specific examples of the repeating unit (III) having a functional group represented by the formula (IV) include styrene, α-methylstyrene, chlorostyrene, 1,1-diphenylethylene, stilbene, 4-hydroxystyrene, 4- Hydroxy-α-methylstyrene, 4-hydroxy-3-methyl-styrene, 4-tert-butoxy-styrene, 4-tetrahydropyranyloxy-styrene, 4-phenoxyethoxy-styrene, 4-trimethylsilyloxy-styrene, 4- Trimethylsilyloxy-styrene, 4-t-butoxycarbonyloxy-styrene, 4-t-butoxycarbonylmethoxy-styrene, 2,3-difluoro-4-hydroxystyrene, 2,3-difluoro-4-t-butoxy-styrene, 2,6-difluoro-4-hydroxy-styrene 2,6-difluoro-4-t-butoxy-styrene, 3,5-difluoro-4-hydroxy-styrene, 3,5-difluoro-4-t-butoxy-styrene, 2,3,5,6-tetrafluoro -4-hydroxy-styrene, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-t-butoxy-styrene, 2-trifluoromethyl-4-hydroxy-styrene, 2-trifluoromethyl-4-t-butoxy- Styrene, 2-trifluoromethyl-6-fluoro-4-hydroxy-styrene, 2-trifluoromethyl-6-fluoro-4-tert-butoxy-styrene, 3-trifluoromethyl-5-fluoro-4-hydroxy- Styrene, 3-trifluoromethyl-5fluoro-4-t-butoxystyrene, 4- (1-ethoxyethoxy) -styrene, 4- (2 -Hydroxy-1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl) -styrene, 4- (2-ethoxymethoxy-1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2- Propyl) -styrene, 2,3-difluoro-4-hydroxystyrene, 2,3-difluoro-4-tert-butoxy-α-fluoro-styrene, 2,6-difluoro-4-hydroxy-α-fluoro-styrene, 2,6-difluoro-4-t-butoxy-α-fluoro-styrene, 3,5-difluoro-4-hydroxy-α-fluoro-styrene, 3,5-difluoro-4-t-butoxy-α-fluoro- Styrene, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-hydroxy-α-fluoro-styrene, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-tert-butoxy-α-fluoro-styrene, -Trifluoromethyl-4-hydroxy-α-fluoro-styrene, 2-trifluoromethyl-4-t-butoxy-α-fluoro-styrene, 2-trifluoromethyl-6-fluoro-4-hydroxy-α-fluoro -Styrene, 2-trifluoromethyl-6-fluoro-4-t-butoxy-α-fluoro-styrene, 3-trifluoromethyl-5-fluoro-4-hydroxy-α-fluoro-styrene, 3-trifluoromethyl -5-fluoro-4-t-butoxy-α-fluoro-styrene, 4- (1-ethoxyethoxy) -α-methyl-styrene, 4- (2-hydroxy-1,1,1,3,3,3) -Hexafluoro-2-propyl) -α-fluoro-styrene, 4- (2-ethoxymethoxy-1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2- Propyl)-.alpha.-fluoro - can be exemplified styrene.

さらに、R34が、CO235基の場合において、R35は、R4で例示した置換基と同様の置換基を例示することができる。また、この場合、R31〜R33の組み合わせとして、下記式に示すような組み合わせを好ましく用いることができる。(下記化合物を重合したとき得られる繰り返し単位を表す。) Furthermore, when R 34 is a CO 2 R 35 group, R 35 can be exemplified by the same substituents as those exemplified for R 4 . In this case, as a combination of R 31 to R 33, a combination as shown in the following formula can be preferably used. (Represents a repeating unit obtained by polymerizing the following compounds.)

Figure 2006206649
Figure 2006206649

CO235基を有する繰り返し単位として、具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸エチルシクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2,2−ジメチル−3−エトキシプロピルアクリレート、5−エトキシペンチルアクリレート、1−メトキシエチルアクリレート、1−エトキシエチルアクリレート、1−メトキシプロピルアクリレート、1−メチル−1−メトキシエチルアクリレート、1−(イソプロポキシ)エチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等のアクリルエステル類、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、4−メトキシブチルメタクリレート、5−メトキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−エトキシプロピルメタクリレート、1−メトキシエチルメタクリレート、1−メチル−1−メトキシエチルメタクリレート、1−(イソプロポキシ)エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、 As the repeating unit having a CO 2 R 35 group, specifically, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, amyl acrylate, cyclohexyl acrylate, ethyl cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid-t- Octyl, chloroethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2,2-dimethyl-3-ethoxypropyl acrylate, 5-ethoxypentyl acrylate, 1-methoxyethyl acrylate, 1-ethoxyethyl acrylate, 1-methoxypropyl acrylate, 1- Methyl-1-methoxyethyl acrylate, 1- (isopropoxy) ethyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate Acrylic esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 4-methoxybutyl methacrylate, 5 -Methoxypentyl methacrylate, 2,2-dimethyl-3-ethoxypropyl methacrylate, 1-methoxyethyl methacrylate, 1-methyl-1-methoxyethyl methacrylate, 1- (isopropoxy) ethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate Methacrylic acid esters such as

クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸プロピル、クロトン酸アミル、クロトン酸シクロヘキシル、クロトン酸エチルヘキシル、クロトン酸オクチル、クロトン酸−t−オクチル、クロルエチルクロトネート、2−エトキシエチルクロトネート、2,2−ジメチル−3−エトキシプロピルクロトネート、5−エトキシペンチルクロトネート、1−メトキシエチルクロトネート、1−エトキシエチルクロトネート、1−メトキプロピルクロトネート、1−メチル−1−メトキシエチルクロトネート、1−(イソプロポキシ)エチルクロトネート、ベンジルクロトネート、メトキシベンジルクロトネート、フルフリルクロトネート、テトラヒドロフルフリルクロトネート等のクロトン酸エステル類、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジプロピル、イタコン酸ジアミル、イタコン酸ジシクロヘキシル、イタコン酸ビス(エチルヘキシル)、イタコン酸ジオクチル、イタコン酸−ジ−t−オクチル、ビス(クロルエチル)イタコネート、ビス(2−エトキシエチル)イタコネート、ビス(2,2−ジメチル−3−エトキシプロピル)イタコネート、ビス(5−エトキシペンチル)イタコネート、ビス(1−メトキシエチル)イタコネート、ビス(1−エトキシエチル)イタコネート、ビス(1−メトキシプロピル)イタコネート、ビス(1−メチル−1−メトキシエチル)イタコネート、ビス(1−(イソプロポキシ)エチル)イタコネート、ジベンジルイタコネート、ビス(メトキシベンジル)イタコネート、ジフルフリルイタコネート、ジテトラヒドロフルフリルイタコネート等のイタコン酸エステル類等から誘導される繰り返し単位を例示することができる。さらに、下記式で表される繰り返し単位を例示することができる。   Methyl crotonate, ethyl crotonate, propyl crotonate, amyl crotonate, cyclohexyl crotonate, ethyl hexyl crotonate, octyl crotonate, crotonate-t-octyl, chloroethyl crotonate, 2-ethoxyethyl crotonate, 2,2 -Dimethyl-3-ethoxypropyl crotonate, 5-ethoxypentyl crotonate, 1-methoxyethyl crotonate, 1-ethoxyethyl crotonate, 1-methoxypropyl crotonate, 1-methyl-1-methoxyethyl crotonate, 1 -(Isopropoxy) ethyl crotonate, benzyl crotonate, methoxybenzyl crotonate, furfuryl crotonate, tetrahydrofurfuryl crotonate, crotonates, dimethyl itaconate, diitaconate Til, dipropyl itaconate, diamyl itaconate, dicyclohexyl itaconate, bis (ethylhexyl) itaconate, dioctyl itaconate, di-t-octyl itaconate, bis (chloroethyl) itaconate, bis (2-ethoxyethyl) itaconate, bis (2,2-dimethyl-3-ethoxypropyl) itaconate, bis (5-ethoxypentyl) itaconate, bis (1-methoxyethyl) itaconate, bis (1-ethoxyethyl) itaconate, bis (1-methoxypropyl) itaconate, Bis (1-methyl-1-methoxyethyl) itaconate, bis (1- (isopropoxy) ethyl) itaconate, dibenzyl itaconate, bis (methoxybenzyl) itaconate, diflufuriritaconate, ditetrahydro It can be exemplified repeating units derived from Le furyl itaconate itaconic acid esters such like. Furthermore, the repeating unit represented by a following formula can be illustrated.

Figure 2006206649
Figure 2006206649

Figure 2006206649
Figure 2006206649

Figure 2006206649
Figure 2006206649

さらに、式(I)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、式(VII)で表される化合物を例示することができる。   Furthermore, the compound represented by Formula (VII) can be illustrated as repeating units other than the repeating unit represented by Formula (I).

Figure 2006206649
Figure 2006206649

式中、R81、及びR82はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、C(=O)R4基、S(=O)pR4基、P(=O)(R42基、M(R43基を表し、具体的には、R1で例示した置換基と同様の置換基を例示することができる。 In the formula, each of R 81 and R 82 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1 to C20 hydrocarbon group, a heterocyclic group, a cyano group, a nitro group, a C (═O) R 4 group, or S (= O) represents a pR 4 group, a P (═O) (R 4 ) 2 group, and an M (R 4 ) 3 group, and specifically, the same substituents as those exemplified for R 1 may be exemplified. it can.

本発明における式(I)で表される繰り返し単位を有する分解性鎖含有ブロックコポリマーは、先に記載したように、式(I)で表される繰り返し単位のみからなる重合部位、並びに式(I)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位からなる重合体を意味しており、式(I)で表され繰り返し単位とそれ以外の繰り返し単位の結合順は特に限定されず、 また、式(I)で表され繰り返し単位とそれ以外の繰り返し単位の混合比率は、特に限定されず、モル比で99/1〜1/99の範囲で任意に設定することができる。   As described above, the degradable chain-containing block copolymer having a repeating unit represented by the formula (I) in the present invention includes a polymerization site consisting of only the repeating unit represented by the formula (I), and the formula (I ) Is a polymer composed of a repeating unit other than the repeating unit represented by formula (I), and the bonding order of the repeating unit represented by formula (I) and the other repeating unit is not particularly limited. The mixing ratio of the repeating unit represented by the above formula and other repeating units is not particularly limited, and can be arbitrarily set within a range of 99/1 to 1/99 in terms of molar ratio.

式(I)で表される繰り返し単位を有する分解性鎖含有ブロックコポリマーの数平均分子量は、特に制限されないが、分解前、分解後の物性に顕著な差を見出すことを考慮すると、2,000〜900,000の範囲が好ましい。また重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比である分子量分布も、特に制限はされないが、1.01〜3.00の範囲、さらには1.01〜1.50の範囲が好ましい。   The number average molecular weight of the degradable chain-containing block copolymer having a repeating unit represented by the formula (I) is not particularly limited. However, in view of finding a significant difference in physical properties before and after decomposition, 2,000 A range of ˜900,000 is preferred. The molecular weight distribution, which is the ratio of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn), is not particularly limited, but is in the range of 1.01 to 3.00, more preferably in the range of 1.01 to 1.50. preferable.

式(I)で表される繰り返し単位を有する分解性鎖含有ブロックコポリマーの製造方法として、具体的には、下記式(X)で表されるケテンおよび式(XI)で表されるアルデヒドを、アニオン重合開始剤存在下、アニオン重合した後、非分解性ユニットを構成するモノマーを添加し、重合させる方法、あるいは、アニオン重合開始剤存在下、非分解性ユニットを構成するモノマーを重合させた後、下記式(X)で表されるケテンおよび式(XI)で表されるアルデヒドを添加し、重合させる方法を例示することができる。   As a method for producing a degradable chain-containing block copolymer having a repeating unit represented by the formula (I), specifically, a ketene represented by the following formula (X) and an aldehyde represented by the formula (XI), After anionic polymerization in the presence of an anionic polymerization initiator, the monomer constituting the non-degradable unit is added and polymerized, or after the monomer constituting the non-degradable unit is polymerized in the presence of the anionic polymerization initiator Examples of the polymerization method include adding a ketene represented by the following formula (X) and an aldehyde represented by the formula (XI).

Figure 2006206649
Figure 2006206649

式中、R91はR1、R92はR2、R93はR3にそれぞれ対応しており、アニオン重合を行う上で、障害となる置換基、例えば、活性水素原子を有する置換基、アニオン重合開始剤と反応性を有する置換基等を除外した置換基を表す。
アニオン重合に用いられる溶媒は、重合反応に関与せず、かつ重合体と相溶性のある極性溶媒であれば、特に制限されず、具体的には、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、シクロペンタン等の脂環族炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等のエーテル類の他、アニソール、ヘキサメチルホスホルアミド等のアニオン重合において通常使用される有機溶媒を挙げることができる。また、これらの溶媒は、1種単独で、または2種以上の混合溶媒として用いることができる。
In the formula, R 91 corresponds to R 1 , R 92 corresponds to R 2 , and R 93 corresponds to R 3 , respectively, and a substituent that hinders anionic polymerization, such as a substituent having an active hydrogen atom, The substituent which excluded the substituent etc. which are reactive with an anionic polymerization initiator is represented.
The solvent used for anionic polymerization is not particularly limited as long as it is a polar solvent that does not participate in the polymerization reaction and is compatible with the polymer. Specifically, aliphatic solvents such as n-hexane and n-heptane are used. Hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and cyclopentane, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, as well as anisole and hexamethyl phosphor The organic solvent normally used in anionic polymerization, such as amide, can be mentioned. Moreover, these solvent can be used individually by 1 type or as a 2 or more types of mixed solvent.

アニオン重合開始剤として、アルカリ金属又は有機アルカリ金属を例示することができ、アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、ナトリウム−カリウム合金等を例示することができ、有機アルカリ金属としては、上記アルカリ金属のアルキル化物、アリル化物、アリール化物等を使用することができ、具体的には、エチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、エチルナトリウム、リチウムビフェニル、リチウムナフタレン、リチウムトリフェニル、ナトリウムナフタレン、カリウムナフタレン、α−メチルスチレンナトリウムジアニオン、1,1−ジフェニルヘキシルリチウム、1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリチウム、1,1−ジフェニルメチルカリウム、1,4−ジリチオ−2−ブテン、1,6−ジリチオヘキサン、ポリスチリルリチウム、クミルカリウム、クミルセシウム等を挙げることができこれらの化合物は、1種単独で、または2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the anionic polymerization initiator include alkali metals or organic alkali metals. Examples of the alkali metals include lithium, sodium, potassium, cesium, sodium-potassium alloys, and the like. Alkylated products, allylated products, arylated products and the like of the above alkali metals can be used. Specifically, ethyllithium, n-butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium, ethylsodium, lithium biphenyl, lithium Naphthalene, lithium triphenyl, sodium naphthalene, potassium naphthalene, α-methylstyrene sodium dianion, 1,1-diphenylhexyl lithium, 1,1-diphenyl-3-methylpentyl lithium, 1,1-diphenylmethyl potassium 1,4-dilithio-2-butene, 1,6-dilithiohexane, polystyryllithium, cumylpotassium, cumylcesium and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more. Can be used.

反応は、通常、アニオン重合開始剤に、(X)および(XI)で表される化合物を添加し、アニオンリビング重合後、非分解性ユニットを構成する部位の重合を行う、もしくはアニオン重合開始剤に、(X)および(XI)で表される化合物を添加し、アニオンリビング重合後、非分解性ユニットを構成する部位の重合を行う。これらの一連の反応は、アルゴンまたは窒素等の不活性ガス化、もしくは高真空化、−100℃〜0℃、好ましくは、−70℃〜−20℃の範囲で行われる。用いる式(X)で表されるケテンと式(XI)で表されるアルデヒドのモル比は特に制限されないが、99/1〜50/50の範囲で用いるのが好ましい。また、先にも述べたように、式(III)で表されるケテンおよび式(IV)で表されるアルデヒドは、それぞれ一種単独で、または2種以上を混合して用いることができる。   The reaction is usually performed by adding the compounds represented by (X) and (XI) to the anionic polymerization initiator and polymerizing the site constituting the non-degradable unit after the anionic living polymerization, or the anionic polymerization initiator. In addition, the compounds represented by (X) and (XI) are added, and after anionic living polymerization, polymerization of the site constituting the non-degradable unit is performed. These series of reactions are carried out in the range of inert gas such as argon or nitrogen, or high vacuum, -100 ° C to 0 ° C, preferably -70 ° C to -20 ° C. The molar ratio of the ketene represented by the formula (X) to be used and the aldehyde represented by the formula (XI) is not particularly limited, but is preferably in the range of 99/1 to 50/50. In addition, as described above, the ketene represented by the formula (III) and the aldehyde represented by the formula (IV) can be used singly or in combination of two or more.

また、R3が式(II)で表される置換である重合体中は、R5が水素原子である化合物は、水素原子以外の官能基を有する化合物中で重合を行い、その官能基を脱離させることにより得ることができ、その際、反応を制御することにより、前記官能基の一部のみを脱離させることもできる。例えば、酸に対して不安定なフェノール性水酸基の保護基を一部または全部脱離させる反応は、前記重合反応で例示した溶媒の他、メタノール、エタノール類のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の多価アルコール誘導体類、水などの一種単独又は二種以上の混合溶媒の存在下、塩酸、硫酸、塩化水素ガス、臭化水素酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、一般式XHSO4(式中、XはLi、Na、K等のアルカリ金属を表す)で示される重硫酸塩などの酸性試剤を触媒として、通常、室温〜150℃の範囲で行われる。 In the polymer in which R 3 is a substitution represented by the formula (II), the compound in which R 5 is a hydrogen atom is polymerized in a compound having a functional group other than a hydrogen atom, and the functional group is It can be obtained by desorption, and at that time, only a part of the functional group can be desorbed by controlling the reaction. For example, the reaction for removing part or all of the protecting group of the phenolic hydroxyl group that is unstable to acid includes the solvents exemplified in the polymerization reaction, alcohols such as methanol, ethanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. , Polyhydric alcohol derivatives such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, one or more kinds of mixed solvents such as water, hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrogen chloride gas, hydrobromic acid, p-toluenesulfonic acid, Usually, an acid reagent such as bisulfate represented by trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, general formula XHSO 4 (wherein X represents an alkali metal such as Li, Na, K) is used as a catalyst. The reaction is performed in the range of room temperature to 150 ° C.

用いる酸性試剤の量は、触媒量で十分であるが、通常各ユニットのモル分率、各ユニットの分子量よりポリマー全体の平均分子量を求め、ポリマーの全重量、平均分子量、及びモル分率より各ユニットのモル数を求め、アルコキシ基(OR5基)のモル数に対して0.1〜1当量の範囲である。 The amount of the acidic reagent to be used is sufficient as the catalyst amount, but usually the average molecular weight of the whole polymer is obtained from the molar fraction of each unit and the molecular weight of each unit, and each of the total weight, average molecular weight, and molar fraction of each polymer is determined. The number of moles of the unit is determined and is in the range of 0.1 to 1 equivalent with respect to the number of moles of the alkoxy group (OR 5 group).

また、上記のようにして得られた水酸基部分に別の官能基を導入することもできる。前記した操作は、R3の置換基を例としてあげて説明したが、R1、R2上のOR5と同様の置換基においても行うことができる。 Moreover, another functional group can also be introduce | transduced into the hydroxyl part obtained as mentioned above. The above-described operation has been described by taking the substituent of R 3 as an example, but can also be performed on the same substituent as OR 5 on R 1 and R 2 .

式(I)で表される繰り返し単位を有する重合体は、実施例において述べるように熱により容易に主鎖が開裂する性質を有することから、熱分解性鎖として用いることができる。なお本発明の分解性樹脂の分解から生じた成分は、次式(XII)で表される構造である。したがって、分解された成分は二重結合等を利用することができる。   The polymer having a repeating unit represented by the formula (I) can be used as a thermally decomposable chain because the main chain is easily cleaved by heat as described in Examples. The component resulting from the decomposition of the degradable resin of the present invention has a structure represented by the following formula (XII). Therefore, the decomposed component can utilize a double bond or the like.

Figure 2006206649
式中、R101はR1、R102はR2、R103はR3にそれぞれ対応しており、R1、R2、R3で例示したのと同様の置換基を例示することができる。
Figure 2006206649
In the formula, R 101 corresponds to R 1 , R 102 corresponds to R 2 , and R 103 corresponds to R 3 , respectively, and examples thereof are the same as those exemplified for R 1 , R 2 , and R 3. .

本発明の分解性鎖含有ブロックコポリマー組成物で用いられる溶剤としては、式(I)で表される繰り返し単位を有する分解性鎖含有ブロックコポリマー、または、必要に応じて使用される紫外線吸収剤、酸性化合物や界面活性剤等の添加物とを溶解可能なものであれば特に制限されないが、通常は成膜性が良好なものが好ましい。具体的には、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸 2−エトキシエチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシブタン酸エチル、3−ヒドロキシブタン酸エチル、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ―ブチロラクトン、γ―プロピオラクトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、2−ヘプタノン、1,4−ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、トルエン、テトラヒドロフラン等を例示することができ、上記溶剤は通常単独又は2種以上組み合わせて使用される。   As the solvent used in the decomposable chain-containing block copolymer composition of the present invention, a decomposable chain-containing block copolymer having a repeating unit represented by the formula (I), or an ultraviolet absorber used as necessary, Although it will not restrict | limit especially if it can melt | dissolve additives, such as an acidic compound and surfactant, Usually, the thing with favorable film formability is preferable. Specifically, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, methyl lactate, ethyl lactate, 2-ethoxyethyl acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, 3-methoxypropion Acid methyl, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-hydroxybutanoate, ethyl 3-hydroxybutanoate, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, γ-propiolactone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, 2-heptanone, 1,4-dioxane, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene Recall isopropyl ether, toluene, can be exemplified and tetrahydrofuran, the solvent is used in combination usually alone, or two or more kinds.

本発明に係る分解性鎖含有ブロックコポリマー組成物中の溶剤の量としては、該重合体と、酸発生剤及びその他添加物とを溶解した結果、得られるブロックコポリマー組成物を基板上に塗布する際に支障をきたさない量であれば特に限定されないが、通常、該重合体1重量部に対して1〜20重量部、好ましくは1.5〜10重量部である。   The amount of the solvent in the decomposable chain-containing block copolymer composition according to the present invention is such that the block copolymer composition obtained as a result of dissolving the polymer and the acid generator and other additives is coated on the substrate. Although it will not specifically limit if it is the quantity which does not cause trouble on the occasion, Usually, it is 1-20 weight part with respect to 1 weight part of this polymer, Preferably it is 1.5-10 weight part.

本発明のブロックコポリマー組成物は、式(I)で表される繰り返し単位を有する分解性鎖含有ブロックコポリマー及び溶剤を主たる構成成分とするが、この他に、酸発生剤、塩基性化合物、紫外線吸収剤や界面活性剤、可塑剤を使用してもよい。   The block copolymer composition of the present invention comprises a degradable chain-containing block copolymer having a repeating unit represented by formula (I) and a solvent as main components, but in addition to this, an acid generator, a basic compound, an ultraviolet ray Absorbers, surfactants, and plasticizers may be used.

本発明のブロックコポリマー組成物は、溶媒を揮発させ薄膜を形成して用いてもよい。例えば、以下のごとく薄膜を形成することができる。本発明のブロックコポリマーと溶剤からなる組成物を半導体基板上に厚さが0.1〜2μm程度となるように回転塗布し、これを例えばオーブン中で70〜150℃で1〜30分間、若しくはホットプレート上で70〜100℃で1〜2分間プリベークすることにより良好な薄膜が形成される。   The block copolymer composition of the present invention may be used after the solvent is volatilized to form a thin film. For example, a thin film can be formed as follows. A composition comprising the block copolymer of the present invention and a solvent is spin-coated on a semiconductor substrate so as to have a thickness of about 0.1 to 2 μm, and this is applied in an oven at 70 to 150 ° C. for 1 to 30 minutes, or A good thin film is formed by prebaking at 70 to 100 ° C. for 1 to 2 minutes on a hot plate.

本発明のブロックコポリマーのうち式(I)で表される分解性鎖を分解した後は、分解物を現像することにより、もしくは加熱し分解物を揮発させることにより取り除くことができる。   After decomposing the degradable chain represented by the formula (I) in the block copolymer of the present invention, it can be removed by developing the decomposed product or by heating and volatilizing the decomposed product.

上記現像液としては、非分解性ユニットは溶解せず、式(I)で表される分解性鎖が分解して発生する低分子量化合物を溶解するものであれば特に限定されないが、好ましくはNaOH、KOH等の無機アルカリ類を含む水溶液、TMAH、コリン、トリエタノールアミン等の有機アミン類を含む水溶液、アルコール等を例示することができる。   The developer is not particularly limited as long as it does not dissolve the non-degradable unit and dissolves the low molecular weight compound generated by decomposing the degradable chain represented by the formula (I), but it is preferably NaOH. Examples thereof include aqueous solutions containing inorganic alkalis such as KOH, aqueous solutions containing organic amines such as TMAH, choline, and triethanolamine, alcohols, and the like.

本発明の分解性樹脂はそのままで、もしくは、本発明の効果を損なわない範囲において、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリビニルエーテル樹脂等の汎用熱可塑性樹脂と本発明の分解性樹脂と混合して使用することもできる。   As long as the decomposable resin of the present invention is used as it is or does not impair the effects of the present invention, a general-purpose thermoplastic resin such as a polyester resin, an acrylic resin, a vinyl chloride resin, or a polyvinyl ether resin is mixed with the decomposable resin of the present invention. Can also be used.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明の範囲は実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, the scope of the present invention is not limited to an Example.

本発明の実施例に使用した試薬の精製法について以下に述べる。
ケテン類は、酸クロライドにトリエチルアミンをTHF中室温で反応後、減圧下で蒸留した。アルデヒド類は、CaH2を添加後、減圧下で蒸留した。
n−ブチルリチウム(n−BuLi)は、市販のn−BuLiヘキサン溶液(1.6mol/l)をそのまま用いた。テトラヒドロフランは、市販の脱水溶媒を使用した。
The method for purifying the reagents used in the examples of the present invention will be described below.
Ketenes were distilled under reduced pressure after reacting acid chloride with triethylamine in THF at room temperature. Aldehydes were distilled under reduced pressure after adding CaH 2 .
As n-butyllithium (n-BuLi), a commercially available n-BuLi hexane solution (1.6 mol / l) was used as it was. For tetrahydrofuran, a commercially available dehydrated solvent was used.

合成例1 (エチルフェニルケテン(EPK)の合成)
窒素雰囲気下において、トリエチルアミン 91g (0.9モル) のテトラヒドロフラン (THF) 混合液に、2−フェニルブチリルクロライド55g (0.3モル) のTHF溶液を滴下した。一時間後析出したトリエチルアミン・塩酸塩をろ別除去した後、ろ液を減圧蒸留して、EPKを得た (60〜70℃/4mmHg) 。収量 30g (収率70%)。
Synthesis Example 1 (Synthesis of ethyl phenyl ketene (EPK))
Under a nitrogen atmosphere, a THF solution of 55 g (0.3 mol) of 2-phenylbutyryl chloride was dropped into a mixed solution of 91 g (0.9 mol) of triethylamine in tetrahydrofuran (THF). One hour later, the precipitated triethylamine hydrochloride was removed by filtration, and the filtrate was distilled under reduced pressure to obtain EPK (60 to 70 ° C./4 mmHg). Yield 30 g (70% yield).

合成例2 (4−(1’−エトキシエトキシ)ベンズアルデヒド (EEBA) の合成)
窒素雰囲気下において、4−ヒドロキシベンズアルデヒド 100g (0.82モル) をTHF (500ml) に溶解後、ビニルエチルエーテル 236g (3.3モル) 、4M HClジオキサン溶液 4ml (16mmol) を加え、室温で一夜攪拌した。Na2CO3水溶液を加え中和後、分液し、上層をpH=7になるまで水洗した。有機層をMgSO4で脱水濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣を減圧蒸留しEEBA (83〜85℃、0.04mmHg) を無色油状物質として得た。収量 129g (収率81%)。
実施例1
Synthesis Example 2 (Synthesis of 4- (1′-ethoxyethoxy) benzaldehyde (EEBA))
In a nitrogen atmosphere, 100 g (0.82 mol) of 4-hydroxybenzaldehyde was dissolved in THF (500 ml), and then 236 g (3.3 mol) of vinyl ethyl ether and 4 ml (16 mmol) of 4M HCl dioxane solution were added overnight at room temperature. Stir. After neutralization by adding an aqueous Na 2 CO 3 solution, the solution was separated, and the upper layer was washed with water until pH = 7. The organic layer was dehydrated and filtered with MgSO 4 and then concentrated under reduced pressure. The obtained residue was distilled under reduced pressure to obtain EEBA (83 to 85 ° C., 0.04 mmHg) as a colorless oily substance. Yield 129 g (81% yield).
Example 1

(ポリスチレン−b−p(EEBA/EPK)の合成)
窒素雰囲気下において、スチレン 18.73g (0.18mol) をTHF 148g に溶解後、−40℃まで冷却した。n−ブチルリチウムを添加し重合を進行させた。10分間攪拌した後、EEBA 5.7g (29.3mmol)、EPK 4.17g (28.5mmol)、および塩化リチウム 0.78g (18.41mmol)をTHF 37.86g に溶解し、この溶液を反応液に3分かけて滴下した。−40℃で10分攪拌後、メタノール2mlを加え、反応を失活させた。反応液が中性になるまで水洗したのち、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を、THF (60g)に溶解し、水 (1L)に滴下し、再沈精製した。GPC分析の結果、Mn=12600、Mw/Mn=1.3のブロック共重合体を無色固体として得た。
(Synthesis of polystyrene-bp (EEBA / EPK))
Under a nitrogen atmosphere, 18.73 g (0.18 mol) of styrene was dissolved in 148 g of THF, and then cooled to −40 ° C. n-Butyllithium was added to proceed the polymerization. After stirring for 10 minutes, EEBA 5.7 g (29.3 mmol), EPK 4.17 g (28.5 mmol), and lithium chloride 0.78 g (18.41 mmol) were dissolved in THF 37.86 g, and this solution was reacted. The solution was added dropwise over 3 minutes. After stirring at −40 ° C. for 10 minutes, 2 ml of methanol was added to inactivate the reaction. After washing with water until the reaction solution became neutral, the organic layer was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in THF (60 g), added dropwise to water (1 L), and purified by reprecipitation. As a result of GPC analysis, a block copolymer having Mn = 12600 and Mw / Mn = 1.3 was obtained as a colorless solid.

本発明の熱分解性ブロックコポリマーは、ナノメートルオーダーの微細構造を有する成形体を形成できる。すなわち、本発明の熱分解性ブロックコポリマーは、ブロックコポリマーのミクロ相分離を利用して、ミクロ相分離構造の特定の1相を選択的に除去して、繊維状構造、薄膜状構造、多孔質構造を有する成形体を形成したり、基板上に成膜したミクロ相分離膜の1相を選択的に除去して多孔質膜やアレイ状に配列したドットとして、この多孔質膜やドットアレイをエッチングマスクとして基板の微細加工などを行うことができる。また、安定性を有するものの、熱により主鎖が切断し、低分子量まで分解して容易に除去可能で操作性に優れるので、解体性接着剤として使用すれば製品のリサイクルに好都合であり、また、これを混ぜ込んで熱分解させ、樹脂を取り除き、目的のものを製造する(多孔質膜、セラミック焼成、プラズマディスプレイパネル用途)、熱分解性樹脂を層にして熱分解させ、樹脂を取り除く、熱分解性樹脂を分解させ、発泡させることにも利用できる。

The thermally decomposable block copolymer of the present invention can form a molded article having a microstructure on the order of nanometers. That is, the thermally decomposable block copolymer of the present invention uses a microphase separation of the block copolymer to selectively remove one specific phase of the microphase separation structure, thereby forming a fibrous structure, a thin film structure, a porous structure. The porous film or dot array is formed as dots formed in a porous film or array by forming a molded body having a structure or selectively removing one phase of the microphase separation film formed on the substrate. The substrate can be finely processed as an etching mask. In addition, although it has stability, the main chain is cleaved by heat, it can be easily removed by decomposing to low molecular weight, and it is excellent in operability. , This is mixed and pyrolyzed, the resin is removed, and the desired product is manufactured (for porous film, ceramic firing, plasma display panel use), the thermal decomposable resin is layered and thermally decomposed to remove the resin, It can also be used to decompose and foam a thermally decomposable resin.

Claims (7)

ブロックコポリマーの少なくとも1相が、熱により分解可能な構造からなる分解性鎖を含有する熱分解性ブロックコポリマー。 A thermally decomposable block copolymer in which at least one phase of the block copolymer contains a degradable chain composed of a thermally decomposable structure. 請求項1に記載の熱により分解可能な構造からなる分解性鎖として、式(I)
Figure 2006206649
(式中、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、C(=O)R4基、S(0)p4基、P(=O)(R42基、M(R43基を表し、R3はC1〜C20の炭化水素基、ヘテロ環基を表し、R4はC1〜C20の炭化水素オキシ基、C1〜C20の炭化水素基、C1〜C20の炭化水素チオ基、モノもしくはジC1〜C20の炭化水素アミノ基を表し、Mは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子を表し、pは0、1、または2のいずれかを表す。)で表される繰り返し単位を有することを特徴とする請求項1に記載の熱分解性ブロックコポリマー。
The decomposable chain having a heat-decomposable structure according to claim 1,
Figure 2006206649
(In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C20 hydrocarbon group, a heterocyclic group, a cyano group, a nitro group, a C (═O) R 4 group, S (0 ) P R 4 group, P (═O) (R 4 ) 2 group, M (R 4 ) 3 group, R 3 represents a C1-C20 hydrocarbon group or heterocyclic group, and R 4 represents C1— C20 represents a hydrocarbon oxy group, C1 to C20 hydrocarbon group, C1 to C20 hydrocarbon thio group, mono or di C1 to C20 hydrocarbon amino group, and M represents a silicon atom, a germanium atom, a tin atom, 2. The thermally decomposable block copolymer according to claim 1, wherein the thermally decomposable block copolymer has a repeating unit represented by a lead atom, and p represents 0, 1, or 2.
式(I)で表される化合物中、R3が、式(II)
Figure 2006206649
(式中、Xは、酸素原子、硫黄原子を表し、R5は、水素原子、C1〜C20の炭化水素基、または熱で分解・脱離する基を表し、R6は、ハロゲン原子、C1〜C20の炭化水素基を表し、mは1〜3のいずれかの整数を表し、nは0または1〜3のいずれかの整数を表し、m+n≦5を表し、mが2以上の場合、R5は同一または相異なっていてもよく、nが2以上の場合、R6は同一または相異なっていてもよい。)で表される置換基であることを特徴とする請求項2に記載の熱分解性ブロックコポリマー。
In the compound represented by the formula (I), R 3 represents the formula (II)
Figure 2006206649
(In the formula, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 5 represents a hydrogen atom, a C1 to C20 hydrocarbon group, or a group that decomposes and desorbs by heat, R 6 represents a halogen atom, C1 C represents a hydrocarbon group of C20, m represents an integer of 1 to 3, n represents an integer of 0 or 1 to 3, m + n ≦ 5, and when m is 2 or more, R 5 may be the same or different, and when n is 2 or more, R 6 may be the same or different. Thermally decomposable block copolymer.
重合体の数平均分子量が、2,000〜900,000であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の熱分解性ブロックコポリマー。 The heat-decomposable block copolymer according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer has a number average molecular weight of 2,000 to 900,000. 重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が、1.01〜3.00の範囲であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の熱分解性ブロックコポリマー。 5. The heat according to claim 1, wherein the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is in the range of 1.01 to 3.00. Degradable block copolymer. ブロックコポリマーがグラフトコポリマーであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の熱分解性ブロックコポリマー。 The thermally decomposable block copolymer according to any one of claims 1 to 5, wherein the block copolymer is a graft copolymer. 請求項1〜6記載の熱分解性ブロックコポリマーを含有する樹脂組成物を、酸非存在下で加熱して分解性ことを特徴とする樹脂組成物の分解方法。 A method for decomposing a resin composition, wherein the resin composition containing the thermally decomposable block copolymer according to claim 1 is decomposable by heating in the absence of an acid.
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