JP2006195073A - Method of manufacturing lens with built-in hologram element - Google Patents

Method of manufacturing lens with built-in hologram element Download PDF

Info

Publication number
JP2006195073A
JP2006195073A JP2005005356A JP2005005356A JP2006195073A JP 2006195073 A JP2006195073 A JP 2006195073A JP 2005005356 A JP2005005356 A JP 2005005356A JP 2005005356 A JP2005005356 A JP 2005005356A JP 2006195073 A JP2006195073 A JP 2006195073A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
lens
hologram element
built
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005005356A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigekazu Sakai
繁一 坂井
Osamu Shibazaki
理 柴崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Photo Imaging Inc
Original Assignee
Konica Minolta Photo Imaging Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Photo Imaging Inc filed Critical Konica Minolta Photo Imaging Inc
Priority to JP2005005356A priority Critical patent/JP2006195073A/en
Publication of JP2006195073A publication Critical patent/JP2006195073A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a lens with built-in hologram element by which an adhesive swelled out of a joint part between a hologram optical base material having a hologram element and an optical base material is easily removed in a short period of time without causing flaws. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the lens with built-in hologram element comprises: a coating layer forming process that forms coating layers 104a, 107a on a peripheral part of a joint surface 102a of the hologram optical base material L100 and a peripheral part of a joint surface 105a of the optical base material L2; an adhesive applying process that applies the adhesive AD on the joint surface of at least one side of the hologram optical base material L100 or the optical base material L2; a lens joining process that joins the joint surface 102a of the hologram optical base material L100 to the joint surface 105a of the optical base material L2 and swells out the adhesive AD to the upper surfaces of the coating layers 104a, 107a; and an adhesive removal process that hardens the adhesive and, thereafter, removes the hardened adhesive. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ホログラム素子内蔵レンズの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.

近年、ハンドフリーによる作業性向上や情報検索、弱視者の視力補正、各種アミューズメント体験、などを目的とした眼鏡型ウエラブルディスプレイ(以下、WDとする。)やヘッドマウント型ディスプレイ(以下、HMDとする。)などの開発が行われている。
WDやHMDのレンズには表示ユニットからの映像を光学的に目に導くための光学基材が設けられている。この光学基材には、眼前にLCDや有機ELなどの映像を反射させて前景に重ねて映像を表示するための反射膜としてホログラム素子が設けられている。
In recent years, eyeglass-type wearable displays (hereinafter referred to as WD) and head-mounted displays (hereinafter referred to as HMD) for the purpose of improving workability by hand-free and information retrieval, visual acuity correction for low-sighted people, various amusement experiences, and the like. ) Is being developed.
An WD or HMD lens is provided with an optical substrate for optically guiding the image from the display unit to the eyes. This optical base material is provided with a hologram element as a reflective film for reflecting an image such as an LCD or an organic EL in front of the eyes and displaying the image superimposed on the foreground.

ホログラム素子を用いたWDやHMDでは、ホログラム素子を用いないものよりも軽量で消費電力も少なく長時間の使用に耐えることができる。さらに、プリズムを利用して前方の視界を遮らず、現実の風景の実像とホログラム映像の虚像とが同時に見ることができるシースルータイプにすることも可能である。   A WD or HMD that uses a hologram element is lighter and consumes less power than a hologram element that does not use a hologram element, and can withstand long-term use. Furthermore, it is possible to use a see-through type in which a real image of a real landscape and a virtual image of a hologram image can be seen at the same time without using a prism to block the front view.

そして、ホログラム素子が貼り付けられた光学基材(以下、ホログラム光学基材という。)を光学基材に接着剤等を用いて接着して組み合わせて一体化することにより、ホログラム素子内蔵レンズを形成する。この接着工程において、接合部に十分に接着剤が充填されていないと、ホログラム素子内蔵レンズに外力が加わった場合、接着剤の充填が不十分な部分に応力集中が起こり、接着強度の低下を招く怖れや、またホログラム光学基材及び光学基材と接合部との屈折率が異なるという問題があり、更に美観的に劣ってしまう。従って、接合部には十分な量の接着剤を充填した後、圧接し、余剰分をはみ出させ、はみ出された接着剤を除去する作業が必要となっている。   Then, a hologram element built-in lens is formed by adhering and combining an optical base material (hereinafter referred to as a “hologram optical base material”) to which the hologram element is attached to the optical base material using an adhesive or the like. To do. In this bonding process, if the bonding part is not sufficiently filled with adhesive, when external force is applied to the hologram element built-in lens, stress concentration occurs in the insufficiently filled part of the adhesive, resulting in a decrease in adhesive strength. There is a fear of inviting, and there is a problem that the refractive index of the hologram optical base material and the optical base material is different from that of the joint portion, which is further inferior in appearance. Therefore, it is necessary to fill the joint with a sufficient amount of adhesive and then press-contact it so as to protrude the excess and remove the protruded adhesive.

はみ出された接着剤を除去する方策としては、例えば、第1板材の端縁を第2板材より外方に突出させ、接合時に接合部間からはみ出す接着剤を硬化させたのち、第1板材の突出部を接着剤のはみ出し部分と共に切削除去する合成樹脂板材の交差接合方法(特許文献1参照)や、接着面に対して光を照射し、接着剤を硬化させて両アレイを仮固定し、次に接着面の外縁からはみ出している接着剤を拭き取り、その後接着面に対して光を照射して接着剤を硬化させて両アレイを本固定するX線CTスキャナ用検出器の製造方法(特許文献2参照)が開示されている。
特開平5−84832号公報 特開平6−308249号公報
As a measure for removing the protruding adhesive, for example, the edge of the first plate protrudes outward from the second plate, and the adhesive protruding from between the joints at the time of bonding is cured, and then the first plate Synthetic resin plate cross-joining method (see Patent Document 1) that cuts and removes the protruding portion together with the protruding portion of the adhesive, light is applied to the bonding surface, the adhesive is cured, and both arrays are temporarily fixed, Next, a method of manufacturing a detector for an X-ray CT scanner in which the adhesive protruding from the outer edge of the adhesive surface is wiped off and then the adhesive surface is irradiated with light to cure the adhesive and permanently fix both arrays. Reference 2) is disclosed.
JP-A-5-84832 JP-A-6-308249

しかしながら、特許文献1のようにはみ出し部分を切削除去する方策をホログラム光学基材と光学基材の接着工程後の接着剤を除去する方策に用いた場合、硬化した接着剤とホログラム光学基材及び光学基材との硬度に差があると、軟らかい方に工具の刃が喰い込み傷を付ける場合があり、レンズとして使用することができなくなってしまうという問題がある。また、特許文献2のようにはみ出し部分を拭き取る方策では、拭き取る作業中でも硬化が進むため、完全に拭き取ることは困難を要し、作業効率及び生産効率の低下を招くものである。   However, when the method of cutting and removing the protruding portion as in Patent Document 1 is used for the method of removing the adhesive after the bonding process between the hologram optical substrate and the optical substrate, the cured adhesive, the hologram optical substrate, and If there is a difference in hardness from the optical base material, there is a problem that the blade of the tool may bite into a softer one and cause scratches, which makes it impossible to use as a lens. Further, in the method of wiping off the protruding portion as in Patent Document 2, since the curing proceeds even during the wiping operation, it is difficult to completely wipe off, and the work efficiency and the production efficiency are reduced.

本発明の課題は、ホログラム素子を有するホログラム光学基材と光学基材との接合部からはみ出した接着剤を、傷等を付けることなく、容易かつ短時間に除去するホログラム素子内蔵レンズの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a hologram element-containing lens manufacturing method that easily and quickly removes an adhesive protruding from a joint between a hologram optical substrate having a hologram element and the optical substrate without scratching the adhesive. Is to provide.

請求項1に記載の発明は、第1光学基材の接合面にホログラム素子を形成し、当該ホログラム素子が第2光学基材の接合面との間に挟まれるように前記第1光学基材と第2光学基材とを接合することによりホログラム素子内蔵レンズを製造するホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記第1光学基材と前記第2光学基材とを接合する前に、両者の接合面近傍における前記第1光学基材及び前記第2光学基材の外表面上に被膜層を形成する被膜層形成工程と、前記被膜層が形成された第1光学基材と第2光学基材との接合面の少なくともいずれか一方に、前記第1光学基材と前記第2光学基材とを接合したとき接合面からはみ出る量の接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、前記接着剤が硬化した後、前記第1光学基材と前記第2光学基材との接合面端面から前記被膜層上にはみ出た接着剤を除去する接着剤除去工程と、を含むことを特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法であること、を特徴としている。   According to the first aspect of the present invention, a hologram element is formed on the bonding surface of the first optical substrate, and the first optical substrate is sandwiched between the hologram element and the bonding surface of the second optical substrate. In the method of manufacturing a hologram element built-in lens for manufacturing a lens with a built-in hologram element by bonding the second optical substrate and the second optical substrate, before bonding the first optical substrate and the second optical substrate, A coating layer forming step of forming a coating layer on the outer surfaces of the first optical substrate and the second optical substrate in the vicinity of the bonding surface, and the first optical substrate and the second optical substrate on which the coating layer is formed An adhesive application step of applying an amount of adhesive that protrudes from the joint surface when the first optical base material and the second optical base material are joined to at least one of the joint surfaces with the material; After the curing, the first optical substrate and the second optical It cemented surface the end surface of the wood is a manufacturing method of the hologram elements incorporated lens characterized by comprising a bonding agent removing step of removing the adhesive protruding on the coating layer, it is characterized in.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記被膜層形成工程は、前記被膜層を液状若しくは半液状であって洗浄により除去可能な性状物を塗布することにより形成すること、を特徴としている。   According to a second aspect of the present invention, in the method of manufacturing a hologram element built-in lens according to the first aspect, in the coating layer forming step, the coating layer is in a liquid or semi-liquid state and can be removed by washing. It is characterized by being formed by coating.

請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記性状物はシリコーン剤であること、を特徴としている。   The invention described in claim 3 is the method for manufacturing a hologram element built-in lens according to claim 2, wherein the property is a silicone agent.

請求項4に記載の発明は、請求項1から3のいずれか一項に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記接着剤塗布工程の後に、前記接合面から前記被膜層上にはみ出た接着剤に、当該はみ出た接着剤の除去時の手掛かり部材として剥離片を接着する剥離片接着工程を含むこと、を特徴としている。   Invention of Claim 4 protruded on the said coating layer from the said joint surface in the manufacturing method of the hologram element built-in lens as described in any one of Claim 1 to 3 after the said adhesive agent coating process. The adhesive includes a peeling piece bonding step of bonding the peeling piece as a clue member when removing the protruding adhesive.

請求項5に記載の発明は、請求項4に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記接着剤除去工程は、前記剥離片を手掛かりとして前記被膜層上にはみ出た接着剤を引き剥がすことにより当該はみ出た接着剤を除去すること、を特徴としている。   According to a fifth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a hologram element built-in lens according to the fourth aspect, in the adhesive removing step, the adhesive protruding on the coating layer is peeled off using the release piece as a clue. To remove the protruding adhesive.

請求項6に記載の発明は、請求項2から5のいずれか一項に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記接着剤除去工程の後に、前記被膜層である性状物を洗浄により除去すること、を特徴としている。   According to a sixth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a hologram element built-in lens according to any one of the second to fifth aspects, the property as the coating layer is removed by washing after the adhesive removing step. It is characterized by.

請求項7に記載の発明は、請求項1に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記被膜層形成工程は、前記被膜層を前記第1光学基材及び前記第2光学基材の外表面上にフィルム状のシート材を貼付することにより形成すること、を特徴としている。   According to a seventh aspect of the present invention, in the method for manufacturing a hologram element built-in lens according to the first aspect, in the coating layer forming step, the coating layer is disposed outside the first optical substrate and the second optical substrate. It is characterized by being formed by sticking a film-like sheet material on the surface.

請求項8に記載の発明は、請求項7に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記接着剤塗布工程の後に、前記接合面から前記被膜層上にはみ出た接着剤に、当該はみ出た接着剤の除去時の手掛かり部材として剥離片を接着する剥離片接着工程を含むこと、を特徴としている。   According to an eighth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a hologram element built-in lens according to the seventh aspect, after the adhesive application step, the adhesive protruded from the joint surface onto the coating layer. It is characterized by including a peeling piece bonding step of bonding the peeling piece as a clue member at the time of removing the adhesive.

請求項9に記載の発明は、請求項7に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記被膜層形成工程の前に、前記第1光学基材と前記第2光学基材の接合面近傍における外表面上かつ前記被膜層の下部に当該はみ出た接着剤の除去時の手掛かり部材として剥離片を設ける剥離片設置工程を含むこと、を特徴としている。   According to a ninth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a hologram element built-in lens according to the seventh aspect, before the coating layer forming step, in the vicinity of the joint surface between the first optical base material and the second optical base material And a peeling piece installation step of providing a peeling piece as a clue member at the time of removing the protruding adhesive on the outer surface and below the coating layer.

請求項10載の発明は、請求項8又は9に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、前記接着剤除去工程は、前記剥離片を手掛かりとして前記被膜層を引き剥がすことにより当該被膜層と共に前記はみ出た接着剤を除去すること、を特徴としている。   According to a tenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a hologram element built-in lens according to the eighth or ninth aspect, the adhesive removing step is performed together with the coating layer by peeling off the coating layer with the peeling piece as a clue. The protruding adhesive is removed.

請求項1に記載の発明によれば、第1光学基材の接合面及び第2光学基材の接合面近傍における外表面上の被膜層の上面に、接着剤をはみ出させ硬化させることにより、接着剤を容易に除去することができるため、第1光学基材及び第2光学基材の接合面近傍における外表面上に直接接着剤が付着され硬化されることを防ぐことができ、傷等を付けることなく、容易かつ短時間に除去するホログラム素子内蔵レンズの製造方法を提供することができる。   According to the first aspect of the present invention, the adhesive protrudes from the upper surface of the coating layer on the outer surface in the vicinity of the bonding surface of the first optical substrate and the bonding surface of the second optical substrate, and is cured. Since the adhesive can be easily removed, it is possible to prevent the adhesive from being directly attached and cured on the outer surface in the vicinity of the bonding surface of the first optical base and the second optical base, scratches, etc. It is possible to provide a method of manufacturing a lens with a built-in hologram element that can be removed easily and in a short period of time without adding a mark.

請求項2に記載の発明によれば、請求項1と同様の効果を得られるのは勿論のこと、被膜層を液状若しくは半液状であって洗浄により除去可能な性状物を塗布することにより形成することができる。   According to the second aspect of the present invention, the effect similar to that of the first aspect can be obtained, and the coating layer is formed by applying a liquid or semi-liquid film which can be removed by washing. can do.

請求項3に記載の発明によれば、請求項2と同様の効果を得られるのは勿論のこと、性状物としてシリコーン剤を用いることができ、容易に被膜層を形成することができる。   According to the third aspect of the present invention, the effect similar to that of the second aspect can be obtained, and a silicone agent can be used as a property, and a coating layer can be easily formed.

請求項4に記載の発明によれば、請求項1から3のいずれか一項と同様の効果を得られるのは勿論のこと、剥離片を接着することにより容易にはみ出た接着剤を除去するための手掛かりを得ることができる。   According to the invention described in claim 4, it is possible to obtain the same effect as in any one of claims 1 to 3, as well as to remove the adhesive that has easily protruded by bonding the peeling piece. A clue can be obtained.

請求項5に記載の発明によれば、請求項4と同様の効果を得られるのは勿論のこと、剥離片を手掛かりとして被膜層上にはみ出た接着剤を引き剥がすことにより容易にはみ出た接着剤を除去することができる。   According to the fifth aspect of the invention, it is possible to obtain the same effect as that of the fourth aspect of the invention, as well as adhesion that easily protrudes by peeling off the adhesive that protrudes from the coating layer using the release piece as a clue. The agent can be removed.

請求項6に記載の発明によれば、請求項2から5のいずれか一項と同様の効果を得られるのは勿論のこと、接着剤除去工程の後に、被膜層である性状物を洗浄により除去することにより、ホログラム光学基材及び第2光学基材の表面を傷付けることなく、接着剤を除去することができる。   According to the sixth aspect of the invention, the same effect as in any one of the second to fifth aspects can be obtained, and after the adhesive removing step, the property as the coating layer is washed. By removing, the adhesive can be removed without damaging the surfaces of the hologram optical substrate and the second optical substrate.

請求項7に記載の発明によれば、請求項1と同様の効果を得られるのは勿論のこと、被膜層を第1光学基材及び第2光学基材の外表面上にフィルム状のシート材を貼付することにより形成することができる。   According to the seventh aspect of the invention, the same effect as in the first aspect can be obtained, and the film layer is formed on the outer surfaces of the first optical base and the second optical base. It can be formed by sticking a material.

請求項8に記載の発明によれば、請求項7と同様の効果を得られるのは勿論のこと、接合面から被膜層上にはみ出た接着剤に剥離片を接着することにより、容易にはみ出た接着剤を除去するための手掛かりを得ることができる。   According to the eighth aspect of the invention, the same effect as that of the seventh aspect can be obtained, and the exfoliation can be easily carried out by adhering the peeling piece to the adhesive protruding from the joint surface onto the coating layer. A clue for removing the adhesive can be obtained.

請求項9に記載の発明によれば、請求項7と同様の効果を得られるのは勿論のこと、第1光学基材と第2光学基材の接合面近傍における外表面上かつ被膜層の下部に剥離片を設けることにより、容易にはみ出た接着剤を除去するための手掛かりを得ることができる。   According to the ninth aspect of the invention, it is possible to obtain the same effect as that of the seventh aspect, but also on the outer surface in the vicinity of the bonding surface of the first optical base material and the second optical base material and of the coating layer. By providing the peeling piece at the lower part, a clue for removing the adhesive that has easily protruded can be obtained.

請求項10に記載の発明によれば、請求項8又は9と同様の効果を得られるのは勿論のこと、被膜層の上面にはみ出た接着剤と被膜層とを一度に共に除去することができるため、作業効率の向上を図ることができる。   According to the tenth aspect of the present invention, it is possible to remove both the adhesive and the coating layer protruding from the upper surface of the coating layer at the same time, as well as to obtain the same effect as the eighth or ninth aspect. Therefore, the work efficiency can be improved.

以下、図1から図9を参照しながら、本発明に係るホログラム素子内蔵レンズの製造方法を説明する。
ホログラム光学レンズであるホログラム素子内蔵レンズ200の製造方法は、第1光学基材としての光学基材L1及び第2光学基材としての光学基材L2を所定の形状に形成し、光学基材L1の一端に傾斜面を形成する光学基材形成工程(1)と、光学基材L1の一端に形成された傾斜面にホログラム素子100を形成することにより接眼光学ユニットであるホログラム光学基材L100を形成するホログラム光学基材形成工程(2)と、ホログラム光学基材L100を第2光学基材である光学基材L2に一体化させる一体化工程(3)と、を含む。ただし、発明の範囲は図示例に限定されない。
Hereinafter, a method for manufacturing a hologram element built-in lens according to the present invention will be described with reference to FIGS.
The manufacturing method of the hologram element built-in lens 200, which is a hologram optical lens, forms an optical substrate L1 as a first optical substrate and an optical substrate L2 as a second optical substrate in a predetermined shape, and the optical substrate L1. An optical base material forming step (1) for forming an inclined surface at one end of the optical base material, and forming a hologram element 100 on the inclined surface formed at one end of the optical base material L1, thereby forming a hologram optical base material L100 as an eyepiece optical unit. A hologram optical base material forming step (2) to be formed and an integration step (3) for integrating the hologram optical base material L100 with the optical base material L2 as the second optical base material are included. However, the scope of the invention is not limited to the illustrated examples.

(1)光学基材形成工程
図1に光学基材L1及び光学基材L2の形状の一例を示す。ここで、光学レンズを眼鏡フレームに装着し、ヒトが装着する際の瞳がある方向を背面方向、見える像がある方向を正面方向という。
光学基材形成工程は、射出成形金型工程、射出圧縮成形工程、切削り工程、研磨工程などから構成されている。射出成形金型工程などの光学基材形成工程は、光学基材L1及び光学基材L2を所定の形状に形成する。このとき、光学基材L1の一端に、ホログラム感材を貼付けてホログラム素子に形成する傾斜面を形成する。また、光学基材L2の形状を光学基材L1の外形形状に対応して形成する。
(1) Optical base material formation process An example of the shape of the optical base material L1 and the optical base material L2 is shown in FIG. Here, the direction in which an optical lens is attached to a spectacle frame and a pupil when a human wears it is referred to as a back direction, and the direction in which a visible image is present is referred to as a front direction.
The optical substrate forming process includes an injection mold process, an injection compression molding process, a cutting process, a polishing process, and the like. In the optical base material forming process such as an injection mold process, the optical base material L1 and the optical base material L2 are formed in a predetermined shape. At this time, an inclined surface to be formed on the hologram element is formed by attaching the hologram sensitive material to one end of the optical substrate L1. Moreover, the shape of the optical base material L2 is formed corresponding to the external shape of the optical base material L1.

光学基材L1の外形形状の一端に形成されるホログラム感材の島状部19が貼り付けられる傾斜面101は、ホログラム素子内蔵レンズ200がWDやHMDなどとして装着された際に、ヒトの瞳にホログラム映像を導くことができる傾斜角度であるように形成されている。
光学基材L1の形成は、ホログラム光学基材形成工程の貼付工程前までに形成されていることが好ましい。
The inclined surface 101 to which the island-shaped portion 19 of the hologram sensitive material formed at one end of the outer shape of the optical base material L1 is attached is a human pupil when the hologram element built-in lens 200 is mounted as WD, HMD or the like. It is formed so as to have an inclination angle capable of guiding a hologram image.
The optical base material L1 is preferably formed before the attaching step of the hologram optical base material forming step.

また、図1に示すように凹欠部を有する第2光学基材である光学基材L2を形成する際は、光学基材L1の外形形状に対応して凹欠部を形成する凹欠部形成工程が含まれることが好ましい。ピックアンドプレースなどによって光学基材L1と光学基材L2とを一体化する際に、光学基材L1の外形形状と光学基材L2の凹欠部とが嵌合しやすく、また略円形状のホログラム素子内蔵レンズを形成し、ユーザのニーズに対応した形状のホログラム素子内蔵レンズ200を切削によって形成することができるためである。また、光学基材L2の形成は、一体化工程の接着工程前までに形成されていることが好ましい。   Moreover, when forming the optical base material L2 which is a 2nd optical base material which has a recessed part as shown in FIG. 1, the recessed part which forms a recessed part corresponding to the external shape of the optical base material L1 Preferably a forming step is included. When integrating the optical base material L1 and the optical base material L2 by pick-and-place or the like, the outer shape of the optical base material L1 and the recessed portion of the optical base material L2 can be easily fitted, and the substantially circular shape can be obtained. This is because the hologram element built-in lens can be formed, and the hologram element built-in lens 200 having a shape corresponding to the needs of the user can be formed by cutting. Moreover, it is preferable that formation of the optical base material L2 is formed before the adhesion process of an integration process.

図1に示す凹欠部形成工程によって形成される光学基材L1及び光学基材L2について説明する。
光学基材L1の外部形状の下方向及び両側面方向の面には、光学基材L2の凹欠部に嵌合する際に接合する接合面102が形成されている。この外部形状の接合面102は、下方向の接合面102aと、正面方向の右側面方向の接合面102bと、正面方向の左側面方向の接合面102cとからなる。
光学基材L2の中央部には、光学基材L1の外形形状の接合面102に対応する凹欠部が形成されている。この凹欠部には、接合面102a、接合面102b及び接合面102cがそれぞれ接合できるように対応する接合面105a、105b及び105cからなる。
The optical base material L1 and the optical base material L2 which are formed by the recess formation process shown in FIG. 1 will be described.
On the surface of the optical base material L1 in the downward direction and the both side surface directions, a joint surface 102 is formed that is joined when the optical base material L1 is fitted into the recessed portion of the optical base material L2. This externally shaped joining surface 102 is composed of a joining surface 102a in the downward direction, a joining surface 102b in the right side direction in the front direction, and a joining surface 102c in the left side direction in the front direction.
A concave portion corresponding to the outer shape joining surface 102 of the optical base material L1 is formed at the center of the optical base material L2. The concave portion includes corresponding joint surfaces 105a, 105b, and 105c so that the joint surface 102a, the joint surface 102b, and the joint surface 102c can be joined.

なお、図2(a)及び図2(b)に第1光学基材及び第2光学基材の接合面102,105の形状の例示を示す。光学基材形成工程で接合面102,105に、凹部110、微小凹部、梨粒状100eを形成してもよい。また、凹部110は、光学基材の接合面にいずれか一方若しくは両面に外部に連通するように形成してもよい。凹部110を形成する個数は特に限定されない。また、凹部の形状は特に限定されないが、多角及び/又は半円形状であることが好ましい。このことによって、光学基材同士の接着力を強化することができる。また、接合面102,105の全面に均一に接着剤が浸透することができる。また、レンズ表面にはみ出す接着剤を少なくすることができる。   2A and 2B illustrate examples of the shapes of the joining surfaces 102 and 105 of the first optical base material and the second optical base material. You may form the recessed part 110, a micro recessed part, and the pear grain 100e in the joint surfaces 102 and 105 at an optical base material formation process. Moreover, you may form the recessed part 110 so that it may communicate with the exterior to either one or both surfaces at the joint surface of an optical base material. The number of recesses 110 to be formed is not particularly limited. The shape of the recess is not particularly limited, but is preferably a polygonal and / or semicircular shape. By this, the adhesive force of optical base materials can be strengthened. Further, the adhesive can uniformly penetrate the entire joining surfaces 102 and 105. Further, it is possible to reduce the adhesive that protrudes from the lens surface.

(2)ホログラム光学基材形成工程
ホログラム光学基材形成工程は、(a)積層シート形成工程、(b)切断工程、(c)第1剥離工程、(d)貼付工程、(e)第2剥離工程、(f)露光工程及び(g)現像工程からなり、光学基材L1の傾斜面101に貼り付けたホログラム感材の島状部19をホログラム素子100に形成し、ホログラム光学基材L100を形成する。
(2) Hologram optical substrate forming step The hologram optical substrate forming step includes (a) a laminated sheet forming step, (b) a cutting step, (c) a first peeling step, (d) a pasting step, and (e) a second. The hologram optical material L100 is formed by forming the island-like portion 19 of the hologram sensitive material pasted on the inclined surface 101 of the optical substrate L1 on the hologram element 100, comprising the peeling step, (f) exposure step, and (g) development step. Form.

(a)積層シート形成工程は、一対の保護シートの間にホログラム感材シートが互いに剥離可能に接着されて断面サンドイッチ状に形成された積層シートを形成する。(b)切断工程は、保護シートのいずれか一方の外面側から積層シートの厚さ方向に少なくともホログラム感材シートを切断する深さまで切込みを入れ、ホログラム感材シートに島状部19を形成するように半切断を行う。(c)第1剥離工程は、一方の保護シートをホログラム感材シートから剥離する。(d)貼付工程は、ホログラム感材の島状部19を他方の保護シートに付着させたままの状態で第1光学基材である光学基材L1の傾斜面101に貼り付ける。(e)第2剥離工程は、ホログラム感材の島状部19のみを第1光学基材である光学基材L1の傾斜面101に残存ざせた状態で、他方の保護シートと共にホログラム感材の梯子状部を剥離する。(f)露光工程は、第2剥離工程の後、第1光学基材である光学基材L1の傾斜面101に貼り付けられたホログラム感材の島状部19にレーザ光を露光する。(g)現像工程は、露光された島状部19を現像する。   (A) In the laminated sheet forming step, the hologram sensitive material sheet is detachably bonded between the pair of protective sheets to form a laminated sheet formed in a cross-sectional sandwich shape. (B) In the cutting step, an incision is made from the outer surface side of any one of the protective sheets to the depth at which the hologram sensitive material sheet is cut at least in the thickness direction of the laminated sheet, and the island-shaped portions 19 are formed in the hologram sensitive material sheet. Make a half cut as follows. (C) A 1st peeling process peels one protective sheet from a hologram photosensitive material sheet. (D) In the attaching step, the island-shaped portion 19 of the hologram sensitive material is attached to the inclined surface 101 of the optical substrate L1 that is the first optical substrate with the island-like portion 19 attached to the other protective sheet. (E) In the second peeling step, only the island-shaped portion 19 of the hologram photosensitive material is left on the inclined surface 101 of the optical substrate L1 that is the first optical substrate, and the hologram photosensitive material together with the other protective sheet is left. Peel the ladder. (F) An exposure process exposes a laser beam to the island-shaped part 19 of the hologram sensitive material affixed on the inclined surface 101 of the optical base material L1 which is a 1st optical base material after a 2nd peeling process. (G) In the developing step, the exposed island portions 19 are developed.

(3)一体化工程
以下、ホログラム光学基材L100を光学基材L2に組み合わせて一体化する一体化工程について説明する。
(3) Integration Step Hereinafter, an integration step for combining the hologram optical base material L100 with the optical base material L2 for integration will be described.

一体化工程は、第1光学基材である光学基材L1の外形形状に対応するように第2光学基材である光学基材L2に形成する光学基材形成工程、光学基材L2にホログラム光学基材L100を接着する接着工程などから構成されている。   The integration step includes an optical base material forming step for forming the optical base material L2 as the second optical base material so as to correspond to the outer shape of the optical base material L1 as the first optical base material, and a hologram on the optical base material L2. It is comprised from the adhesion | attachment process etc. which adhere | attach the optical base material L100.

光学基材形成工程は、上記の(1)光学基材形成工程に述べている。
接着工程は、ホログラム光学基材L100のホログラム素子100の表面に接着されているバリアシート3を剥離する第3剥離工程、ホログラム光学基材L100と光学基材L2とを接合する前に両者の接合面近傍における外表面上に被膜層を形成する被膜層形成工程、被膜層が形成されたホログラム光学基材L100と光学基材L2との接合面の少なくともいずれか一方にホログラム光学基材L100と光学基材L2とを接合したとき接合面からはみ出る量の接着剤を塗布する接着剤塗布工程、ホログラム光学基材L100の接合面102と光学基材L2の接合面105とを接合させ被膜層の上面に接着剤をはみ出させるレンズ接合工程、接着剤を硬化させる接着剤硬化工程、被膜層上にはみ出て硬化された接着剤を除去する接着剤除去工程と、接着剤塗布工程後に被膜層上にはみ出た接着剤に剥離片を接着する剥離片接着工程又は、被膜層形成工程前にホログラム光学基材L100と光学基材L2の接合面近傍における外表面上かつ形成される被膜層の下部に剥離片を設ける剥離片設置工程のいずれかを含む各種工程から構成されている。
The optical substrate forming step is described in the above (1) Optical substrate forming step.
The bonding step is a third peeling step for peeling the barrier sheet 3 bonded to the surface of the hologram element 100 of the hologram optical substrate L100, and bonding the two before joining the hologram optical substrate L100 and the optical substrate L2. A coating layer forming step of forming a coating layer on the outer surface in the vicinity of the surface, and at least one of the bonding surface between the hologram optical substrate L100 and the optical substrate L2 on which the coating layer is formed, and the hologram optical substrate L100 and optical An adhesive application step of applying an amount of adhesive that protrudes from the joint surface when the base material L2 is joined, the joint surface 102 of the hologram optical base material L100 and the joint surface 105 of the optical base material L2 are joined, and the upper surface of the coating layer The lens bonding process that causes the adhesive to protrude, the adhesive curing process that cures the adhesive, and the adhesive removal work that removes the cured adhesive that protrudes onto the coating layer And an outer surface in the vicinity of the bonding surface between the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 before the stripping piece bonding step or the coating layer forming step. It consists of various processes including any of the peeling piece installation process which provides a peeling piece on the upper part and the lower part of the coating layer formed.

被膜層は、液状若しくは半液状であって洗浄により除去可能な性状物を塗布することにより形成される場合と、フィルム状のシート材が貼付されることによって形成される場合とによって形成される。   The coating layer is formed depending on whether it is formed by applying a liquid or semi-liquid and removable property that can be removed by washing, and when it is formed by applying a film-like sheet material.

(a)被膜層が液状若しくは半液状であって洗浄により除去可能な性状物を塗布することにより形成される場合における、接着工程について図3から図5を参照して説明する。   (A) An adhesion process in the case where the coating layer is formed by applying a liquid or semi-liquid film and can be removed by washing will be described with reference to FIGS.

図3は、レンズ接合工程前のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図、図4は、レンズ接合工程後のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図、図5は、接着工程の各工程における図4のA−A断面図を示す。   3 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 before the lens joining step, FIG. 4 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 after the lens joining step, and FIG. The AA sectional view of Drawing 4 in each process of an adhesion process is shown.

まず、被膜層形成工程を行う。
被膜工程は、図3、図5(a)に示すように、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105近傍における外表面上の周縁部103,106に液状若しくは半液状であって洗浄により除去可能な性状物であるシリコーン剤をスプレー又は刷毛を用いて塗布してシリコーン被膜加工を施し、周縁部103及び106上にシリコーン剤の被膜層104a、107aを形成させる。なお、不要箇所への誤塗布を防止する方策として、マスキングしてからシリコーン剤を塗布することが好ましい。
First, a coating layer forming process is performed.
As shown in FIGS. 3 and 5A, the coating process is performed in a liquid or semi-liquid manner on the peripheral portions 103 and 106 on the outer surface in the vicinity of the joining surfaces 102 and 105 of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2. A silicone agent, which is a property that can be removed by washing, is applied by spraying or brushing to apply a silicone coating, and coating layers 104 a and 107 a of the silicone agent are formed on the peripheral portions 103 and 106. In addition, it is preferable to apply a silicone agent after masking as a measure for preventing erroneous application to unnecessary portions.

形成される被膜層の特性としては、離型性、非接着性を有するものであり、界面での分子間力が小さく、接着剤の剥離時に接着剤の接着力を低減させる特性を有することが好ましい。   As a characteristic of the formed coating layer, it has releasability and non-adhesiveness, has a small intermolecular force at the interface, and has a characteristic of reducing the adhesive strength of the adhesive when the adhesive is peeled off. preferable.

シリコーン剤としては、例えば、シリコーンオイルを用いることができる。シリコーンオイルとしては、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基して結合したストレートシリコーンオイルと、ストレートシリコーンオイルの側鎖、末端に置換機が導入された構成部分をもつ変性シリコーンオイルが挙げられるが、変性シリコーンオイルが離型性を向上させるために好ましい。変性シリコーンオイルとしては、非反応性と反応性とに分類されるが、反応性の置換基を有する反応性シリコーンオイルが更に好ましい。反応性シリコーンオイルとしては、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、アルコール変性シリコーンオイルが最も好ましい。   As the silicone agent, for example, silicone oil can be used. Examples of silicone oil include straight silicone oil bonded with a methyl group, a phenyl group, and a hydrogen atom as a substituent, and modified silicone oil having a component in which a substitution machine is introduced at the side chain and terminal of straight silicone oil. However, a modified silicone oil is preferable in order to improve releasability. The modified silicone oil is classified into non-reactive and reactive, and a reactive silicone oil having a reactive substituent is more preferable. As the reactive silicone oil, amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, carboxyl-modified silicone oil, and alcohol-modified silicone oil are most preferable.

このように、被膜層104a、107aがシリコーン被膜加工によって形成されるため、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105の外表面上の周縁部103,106に直接的に接着剤ADが付着され硬化されることを容易に防ぐことができる。   As described above, since the coating layers 104a and 107a are formed by the silicone coating process, the coating layers 104a and 107a are directly bonded to the peripheral portions 103 and 106 on the outer surfaces of the joining surfaces 102 and 105 of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2. It is possible to easily prevent the agent AD from being attached and cured.

次に、接着剤塗布工程が行われる。
接着剤塗布工程は、図5(b)に示すように、ホログラム光学基材L100と光学基材L2との接合面の少なくともいずれか一方にホログラム光学基材L100と光学基材L2とが接合されたときに接合面からはみ出る量の接着剤ADを塗布する。図5(b)に示す例では、光学基材L2の接合面105aに接着剤ADが塗布された場合を示している。
Next, an adhesive application process is performed.
In the adhesive application step, as shown in FIG. 5B, the hologram optical substrate L100 and the optical substrate L2 are bonded to at least one of the bonding surfaces of the hologram optical substrate L100 and the optical substrate L2. The amount of adhesive AD that protrudes from the joint surface when applied is applied. In the example shown in FIG. 5B, a case where the adhesive AD is applied to the bonding surface 105a of the optical substrate L2 is shown.

接着剤ADとしては、硬化したときに光学基材の光屈折率と同じ屈折率を示すものであればよい。この中で光硬化型接着剤、特に紫外線硬化型接着剤が好ましい。紫外線などの光エネルギ−を照射することによって硬化するとともに、光学基材L1及び光学基材L2の光屈折率の範囲のものを選択することができるためである。また、紫外線硬化型接着剤は、光学基材L1及び光学基材L2の表面を侵食しにくいため好ましい。特に、アクリル系のPMMA、ポリカーボネイトのPCが光学基材L1及び光学基材L2の屈折率の範囲に含まれるため好ましい。例えば、Norland社製品NOAシリーズ又はEMI社製品OPTOCAST3400シリーズなどが挙げられる。   The adhesive AD may be any adhesive that exhibits the same refractive index as the optical refractive index of the optical substrate when cured. Among these, a photocurable adhesive, particularly an ultraviolet curable adhesive is preferable. This is because curing can be performed by irradiating light energy such as ultraviolet rays, and the optical base material L1 and the optical base material L2 in the range of the optical refractive index can be selected. Further, the ultraviolet curable adhesive is preferable because it hardly erodes the surfaces of the optical substrate L1 and the optical substrate L2. In particular, acrylic PMMA and polycarbonate PC are preferable because they are included in the refractive index range of the optical substrate L1 and the optical substrate L2. For example, Norland product NOA series or EMI product OPTOCAST3400 series.

接着剤塗布工程後、レンズ接合工程が行われる。
レンズ接合工程は、図3、図4、図5(c)に示すように、ホログラム光学基材L100又は光学基材L2の少なくとも一方を正面方向又は背面方向に移動させ、ホログラム光学基材L100の接合面102と光学基材L2の接合面105とを組み合わせて嵌合させ、接合させる。この接合時において、接合面102と接合面105とが密着するように圧接させることにより、被膜層104a、107aの上面に余剰接着剤AD1がはみ出される。
After the adhesive application step, a lens bonding step is performed.
In the lens bonding step, as shown in FIGS. 3, 4, and 5 (c), at least one of the hologram optical base material L <b> 100 and the optical base material L <b> 2 is moved in the front direction or the back direction, The joint surface 102 and the joint surface 105 of the optical base material L2 are fitted in combination and joined. At the time of joining, the excess adhesive AD1 protrudes from the upper surfaces of the coating layers 104a and 107a by press-contacting so that the joining surface 102 and the joining surface 105 are in close contact with each other.

レンズ接合工程後、剥離片接着工程が行われる。
剥離片接着工程は、図4、図5(d)に示すように、レンズ接合工程後、接着剤ADが硬化するまでの間に、被膜層の上面にはみ出された余剰接着剤AD1に剥離片を接着する。
After the lens bonding step, a peeling piece bonding step is performed.
As shown in FIGS. 4 and 5 (d), the peeling piece bonding process is performed by removing the peeling piece on the surplus adhesive AD1 protruding from the upper surface of the coating layer before the adhesive AD is cured after the lens bonding process. Glue.

剥離片は、余剰接着剤AD1の除去時の手掛かり部材であり、曲げや延び強度が高く、しなやかで薄い材質から構成されることが好ましく、例えば、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)から成るフィルムや、ステンレス(SUS)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)等から成る厚手の金属箔を挙げることができる。   The release piece is a clue member for removing the excess adhesive AD1, and is preferably made of a flexible and thin material having high bending and elongation strength. For example, polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), polypropylene Examples thereof include a film made of (PP) and polystyrene (PS), and a thick metal foil made of stainless steel (SUS), aluminum (Al), copper (Cu), and the like.

また、剥離片を設ける位置としては、図4に示す位置に限らず、2つの接合面が交わる辺と交わる周縁部付近に設けることが余剰接着剤AD1の除去効率を向上させるためにも好ましい。   In addition, the position where the peeling piece is provided is not limited to the position shown in FIG. 4, and it is preferable to provide the peeling piece in the vicinity of the peripheral edge where the two joining surfaces intersect with each other in order to improve the removal efficiency of the excess adhesive AD1.

剥離片接着工程後、接着剤硬化工程が行われる。
接着剤硬化工程は、一定時間及び一定量の光を接着剤ADが塗布されている嵌合した接合面に照射し、接着剤を硬化させる。接着剤ADとして紫外線硬化型接着剤が用いられている場合、紫外線を照射させて硬化させる。
After the peeling piece bonding step, an adhesive curing step is performed.
The adhesive curing step irradiates the fitted joint surface to which the adhesive AD is applied with a certain amount of time and a certain amount of light to cure the adhesive. When an ultraviolet curable adhesive is used as the adhesive AD, it is cured by irradiating with ultraviolet rays.

接着剤硬化機構(図示せず)には、ホログラム光学基材L100が嵌合した光学基材L2を固定する光学レンズ支持部、接着剤を硬化させるための接着剤硬化照射部、温度制御部、これらを制御する制御部などが設けられている。
接着剤硬化照射部には、ホログラム光学基材L100が嵌合した光学基材L2の上方又は/及び下方に光源が配置されている。この光源として、低圧又は高圧水銀灯、紫外線ランプ、ブラックライト、蛍光灯、自然光などが挙げられる。また、温度制御部には、ベイク処理するための恒温器などが挙げられ、この恒温器内には、接着剤硬化照射部が配置されている。制御部、光源の照射時間、照射量、照射強度、加温時間、温度範囲などを制御することによって接着剤の硬化を調整している。
An adhesive curing mechanism (not shown) includes an optical lens support unit for fixing the optical substrate L2 fitted with the hologram optical substrate L100, an adhesive curing irradiation unit for curing the adhesive, a temperature control unit, A control unit or the like for controlling these is provided.
In the adhesive curing irradiation section, a light source is disposed above and / or below the optical substrate L2 into which the hologram optical substrate L100 is fitted. Examples of the light source include a low-pressure or high-pressure mercury lamp, an ultraviolet lamp, a black light, a fluorescent lamp, and natural light. The temperature control unit includes a thermostat for baking, and an adhesive curing irradiation unit is disposed in the thermostat. The curing of the adhesive is adjusted by controlling the control unit, the irradiation time of the light source, the irradiation amount, the irradiation intensity, the heating time, the temperature range, and the like.

接着剤硬化工程後、接着剤除去工程が行われる。
接着剤除去工程は、被膜層104a、107aの上面にはみ出されて硬化した余剰接着剤AD1を剥離する接着剤剥離工程と、接着剤剥離工程後、被膜層104a、107aを除去する被膜層除去工程とを含む。
After the adhesive curing step, an adhesive removing step is performed.
The adhesive removing step includes an adhesive peeling step of peeling off the excess adhesive AD1 that has been protruded and cured on the upper surfaces of the coating layers 104a and 107a, and a coating layer removing step of removing the coating layers 104a and 107a after the adhesive peeling step. Including.

接着剤剥離工程は、図5(e)に示すように、剥離片Pをホログラム光学基材L100及び光学基材L2の外表面上から引き剥がすことにより、剥離片Pが接着され硬化された余剰接着剤AD1が、剥離片Pの移動と共に被膜層104a、107aから剥がされる。   In the adhesive peeling step, as shown in FIG. 5 (e), the peeling piece P is peeled off from the outer surfaces of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2, whereby the peeling piece P is adhered and cured. The adhesive AD1 is peeled off from the coating layers 104a and 107a as the peeling piece P moves.

被膜層除去工程は、図5(f)に示すように、周縁部103、106上に形成された被膜層104a、107aを溶解させる溶剤を塗布させて洗浄させる方法や、洗剤を用いて洗浄させる方法により除去する工程である。作業効率上、溶剤を用いることが好ましい。   In the coating layer removal step, as shown in FIG. 5 (f), a method of applying and cleaning a solvent that dissolves the coating layers 104a and 107a formed on the peripheral portions 103 and 106, or cleaning with a detergent is used. It is the process of removing by a method. In view of working efficiency, it is preferable to use a solvent.

シリコーン剤を用いた被膜層104a、107aを溶解させる溶剤としては、光学基材に影響を与えず被膜層のみを溶解させることが好ましい。
例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ガソリン、ケロシン、ミネラルスピリット、ナフサ、ジイソプロピルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の溶剤が挙げられる。
As a solvent for dissolving the coating layers 104a and 107a using the silicone agent, it is preferable to dissolve only the coating layer without affecting the optical substrate.
Examples thereof include solvents such as toluene, xylene, cyclohexane, gasoline, kerosene, mineral spirit, naphtha, diisopropyl ether, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

このような接着工程によって、嵌合されたホログラム光学基材L100の接合面102及び光学基材L2の接合面105が接着剤を介して接着することによって、図9に示すようなホログラム素子内蔵レンズ200が形成される。   The bonding element 102 of the hologram optical base material L100 and the bonding surface 105 of the optical base material L2 that are fitted together are bonded through an adhesive by such an adhesion process, so that the hologram element built-in lens as shown in FIG. 200 is formed.

このように、被膜層104a,107aの上面に、接着剤ADをはみ出させ硬化させることにより、余剰接着剤AD1を容易に除去することができるため、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105近傍における外表面上の周縁部103,106に直接余剰接着剤AD1が付着され硬化されることを防ぐことができ、傷等を付けることなく、容易かつ短時間に除去するホログラム素子内蔵レンズの製造方法を提供することができる。
また、余剰接着剤AD1に剥離片Pを接着することにより、接着剤ADの硬化と共に剥離片Pと余剰接着剤AD1とが強固に接着されるため、剥離片Pを引き剥がすことにより余剰接着剤AD1がホログラム光学基材L100の接合面102の被膜層104aと光学基材L2の接合面105の被膜層107aとの上面から剥離されるため、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の表面を傷付けることなく、余剰接着剤AD1を除去することができる。
As described above, since the adhesive AD is protruded from the upper surfaces of the coating layers 104a and 107a and cured, the excess adhesive AD1 can be easily removed, so that the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 are joined. Hologram element that can prevent excess adhesive AD1 from being directly adhered to and cured on peripheral portions 103 and 106 on the outer surface in the vicinity of surfaces 102 and 105, and can be easily and quickly removed without scratching or the like. A method for manufacturing a built-in lens can be provided.
Further, by bonding the release piece P to the excess adhesive AD1, the release piece P and the excess adhesive AD1 are firmly bonded together with the curing of the adhesive AD. Therefore, the excess adhesive is removed by peeling off the release piece P. Since AD1 is peeled off from the upper surfaces of the coating layer 104a of the bonding surface 102 of the hologram optical substrate L100 and the coating layer 107a of the bonding surface 105 of the optical substrate L2, the surfaces of the hologram optical substrate L100 and the optical substrate L2 are removed. The excess adhesive AD1 can be removed without being damaged.

(b)被膜層がフィルム状のシート材を貼付することによって形成される場合における、接着工程について図6から図8を参照して説明する。   (B) The adhesion process in the case where the coating layer is formed by sticking a film-like sheet material will be described with reference to FIGS.

図6は、レンズ接合工程前のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図、図7は、レンズ接合工程後のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図、図8は、接着工程の各工程における図7のB−B断面図を示す。   6 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 before the lens joining step, FIG. 7 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 after the lens joining step, and FIG. The BB sectional view of Drawing 7 in each process of an adhesion process is shown.

なお、被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における接着工程に含まれる工程と同様の工程の説明は省略する。   In addition, description of the process similar to the process included in the adhesion | attachment process in the case where a film layer is formed by carrying out a silicone film process is abbreviate | omitted.

まず、剥離片設置工程が行われる。
剥離片設置工程は、図6、図7、図8(a)に示すように、被膜層形成工程前に、被膜層が形成されたとき、後述する被膜層とホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105近傍における外表面上の周縁部103,106かつ形成される被膜層の下部に剥離片を設置する。
First, a peeling piece installation process is performed.
As shown in FIGS. 6, 7, and 8 (a), the peeling piece installation step is performed when the coating layer is formed before the coating layer forming step, and the coating layer, the hologram optical base material L <b> 100, and the optical base described later. Separation pieces are placed under the peripheral portions 103 and 106 on the outer surface in the vicinity of the joining surfaces 102 and 105 of the material L2 and the lower part of the formed coating layer.

剥離片の特性や材料構成、設けられる位置は、被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における接着工程(a)に含まれる剥離片接着工程に用いられる剥離片と同様の特性、材料構成、位置であるため、説明は省略する。   The properties and the material configuration of the release piece, the position to be provided are the same characteristics as the release piece used in the release piece adhesion step included in the adhesion step (a) when the coating layer is formed by being processed with a silicone film, The description is omitted because of the material configuration and position.

なお、剥離片設置工程において、剥離片は、後述するフィルム状のシート材とホログラム光学基材L100又光学基材L2の少なくとも一方との間に設けられることに限らず、フィルム状のシート材に接着されて設けられてもよく、フィルム状のシート材の一部として予め設けられていてもよい。   In the peeling piece installation step, the peeling piece is not limited to be provided between a film-like sheet material, which will be described later, and at least one of the hologram optical base material L100 or the optical base material L2. It may be provided by bonding, or may be provided in advance as part of a film-like sheet material.

次に、被膜層形成工程を行う。
被膜工程は、図6、図8(b)に示すように、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105近傍の外表面上の周縁部103,106(一部は剥離片の上部)にフィルム状のシート材を貼布させることにより被膜層104b、107bを形成させる。
Next, a coating layer forming step is performed.
As shown in FIGS. 6 and 8 (b), the coating process is performed by using peripheral portions 103 and 106 (partially peeled pieces) on the outer surface in the vicinity of the joint surfaces 102 and 105 of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2. The film layers 104b and 107b are formed by applying a film-like sheet material to the upper part of the film.

形成される被膜層の特性としては、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の周縁部103,106との接着力を有しつつも剥離性を有するものであり、接着剤との高い接着力を有することが好ましい。   As a characteristic of the coating layer to be formed, it has peelability while having adhesive strength with the peripheral portions 103 and 106 of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2, and has high adhesive strength with an adhesive. It is preferable to have.

フィルム状のシート材の材料としては、エチレン酢酸コポリマー(EVA)、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)を挙げることができる。   Examples of the material for the film-like sheet material include ethylene acetate copolymer (EVA), polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), and polystyrene (PS).

このように、フィルム状のシート材が貼付されることよって被膜層104b、107bが形成されるため、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105近傍の外表面上の周縁部103,106に直接接着剤ADが付着され硬化されることを防ぐことができる。   As described above, since the coating layers 104b and 107b are formed by applying the film-like sheet material, the peripheral portion on the outer surface in the vicinity of the joining surfaces 102 and 105 of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2. It is possible to prevent the adhesive AD from being directly adhered to the 103 and 106 and cured.

次に、接着剤塗布工程が行われる。
接着剤塗布工程を、図8(c)に示す。接着剤塗布工程は、被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における接着工程(a)に含まれる接着剤塗布工程と同様の工程であるため、説明は省略する。
Next, an adhesive application process is performed.
The adhesive application process is shown in FIG. The adhesive application step is the same as the adhesive application step included in the adhesion step (a) in the case where the coating layer is formed by being processed with a silicone coating, and thus description thereof is omitted.

接着剤塗布工程後、レンズ接合工程が行われる。
レンズ接合工程を、図6、図7、図8(d)に示す。レンズ接合工程は、被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における接着工程(a)に含まれるレンズ接合工程と同様の工程であるため、説明は省略する。
After the adhesive application step, a lens bonding step is performed.
The lens bonding process is shown in FIGS. 6, 7, and 8D. The lens bonding step is the same as the lens bonding step included in the bonding step (a) in the case where the coating layer is formed by being processed with a silicone coating, and thus description thereof is omitted.

レンズ接合工程後、接着剤硬化工程が行われる。接着剤硬化工程は、被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における接着工程(a)に含まれる接着剤硬化工程と同様の工程であるため、説明は省略する。   After the lens bonding step, an adhesive curing step is performed. Since the adhesive curing step is the same as the adhesive curing step included in the adhesion step (a) when the coating layer is formed by being processed with a silicone coating, the description thereof is omitted.

接着剤硬化工程後、接着剤除去工程が行われる。
接着剤除去工程は、図8(f)に示すように、被膜層104b、107bの上面にはみ出されて硬化した余剰接着剤AD1を被膜層104b、107b及び剥離片と共に除去する工程である。
After the adhesive curing step, an adhesive removing step is performed.
As shown in FIG. 8 (f), the adhesive removing step is a step of removing the surplus adhesive AD1 that has protruded and hardened on the upper surfaces of the coating layers 104b and 107b together with the coating layers 104b and 107b and the peeled pieces.

剥離片Pをホログラム光学基材L100及び光学基材L2の外表面から引き剥がすと、剥離片Pと共に被膜層104b、107bが剥離片Pの移動と共に周縁部103、106(ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の表面)から剥がされ、また、被膜層104b、107b上で硬化した余剰接着剤AD1が除去される。   When the peeling piece P is peeled off from the outer surfaces of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2, the coating layers 104b and 107b together with the peeling piece P move to the peripheral portions 103 and 106 (hologram optical base material L100 and The excess adhesive AD1 peeled off from the surface of the optical substrate L2 and cured on the coating layers 104b and 107b is removed.

このような接着工程によって、嵌合されたホログラム光学基材L100の接合面102及び光学基材L2の接合面105が接着剤を介して接着することによって、図9に示すようなホログラム素子内蔵レンズ200が形成される。   The bonding element 102 of the hologram optical base material L100 and the bonding surface 105 of the optical base material L2 that are fitted together are bonded through an adhesive by such an adhesion process, so that the hologram element built-in lens as shown in FIG. 200 is formed.

このように、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105の被膜層104b,107bの上面に、接着剤ADをはみ出させ硬化させることにより、余剰接着剤AD1を容易に除去することができるため、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105の周縁部103,106に直接余剰接着剤AD1が付着され硬化されることを防ぐことができ、傷等を付けることなく、容易かつ短時間に除去するホログラム素子内蔵レンズの製造方法を提供することができる。
また、剥離片Pを被膜層104b、107bと剥離片Pとが接着されるよう設けるため、剥離片Pを引き剥がすことにより、剥離片Pと共に被膜層104b、107bがホログラム光学基材L100及び光学基材L2の接合面102,105の周縁部103,106の上面から剥離されるため、ホログラム光学基材L100及び光学基材L2の表面を傷付けることなく、被膜層104b、107bの上面の余剰接着剤AD1と被膜層104b、107bとを一度に共に除去することができるため、作業効率の向上を図ることができる。
Thus, the excess adhesive AD1 is easily removed by protruding the adhesive AD on the upper surfaces of the coating layers 104b and 107b of the joining surfaces 102 and 105 of the hologram optical base L100 and the optical base L2, thereby curing the adhesive AD. Therefore, it is possible to prevent the excess adhesive AD1 from being directly attached to the peripheral portions 103 and 106 of the joining surfaces 102 and 105 of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2, and to be scratched. Therefore, it is possible to provide a method for manufacturing a hologram element built-in lens that can be easily and quickly removed.
Further, since the peeling piece P is provided so that the coating layers 104b and 107b and the peeling piece P are bonded, the peeling pieces P are peeled off so that the coating layers 104b and 107b together with the peeling piece P become the hologram optical base material L100 and the optical piece. Since it peels from the upper surfaces of the peripheral portions 103 and 106 of the bonding surfaces 102 and 105 of the base material L2, excessive adhesion of the upper surfaces of the coating layers 104b and 107b without damaging the surfaces of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2. Since the agent AD1 and the coating layers 104b and 107b can be removed together, the working efficiency can be improved.

なお、被膜層がフィルム状のシート材を貼布することによって形成される場合は、剥離片設置工程に替えて、前述した剥離片接着工程としてもよい。   In addition, when a coating layer is formed by sticking a film-like sheet material, it may be the above-described peeling piece adhesion step instead of the peeling piece installation step.

また、本発明は、上記実施の形態の内容に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。   Further, the present invention is not limited to the contents of the above embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention.

本発明を適用した実施の形態における光学基材L1及び光学基材L2の形状の外観図である。It is an external view of the shape of the optical base material L1 and the optical base material L2 in embodiment to which this invention is applied. 光学基材L1及び光学基材L2の接合面102,105の形状の外観図である。It is an external view of the shape of the joint surfaces 102 and 105 of the optical base material L1 and the optical base material L2. 被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における、接着工程において、レンズ接合工程前のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図である。FIG. 3 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 before the lens joining step in the adhesion step when the coating layer is formed by being processed with a silicone coating. 被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における、接着工程において、レンズ接合工程後のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図である。FIG. 5 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 after the lens joining step in the adhesion step when the coating layer is formed by being processed with a silicone coating. 被膜層がシリコーン被膜加工されることによって形成される場合における、接着工程において、接着工程の各工程における図4のA−A断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 4 in each step of the bonding step in the bonding step when the coating layer is formed by being processed with a silicone coating. 被膜層がフィルム状のシート材を前記基材に貼付することによって形成される場合における、接着工程において、レンズ接合工程前のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図である。FIG. 5 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 before the lens joining step in the adhesion step when the coating layer is formed by sticking a film-like sheet material to the base material. 被膜層がフィルム状のシート材を前記基材に貼付することによって形成される場合における、接着工程において、レンズ接合工程後のホログラム光学基材L100と光学基材L2の外観図である。FIG. 4 is an external view of the hologram optical base material L100 and the optical base material L2 after the lens joining step in the adhesion step when the coating layer is formed by sticking a film-like sheet material to the base material. 被膜層がフィルム状のシート材を前記基材に貼付することによって形成される場合における、接着工程において、接着工程の各工程における図7のB−B断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. 7 in each step of the bonding step in the bonding step when the coating layer is formed by sticking a film-like sheet material to the substrate. 本実施の形態におけるホログラム素子内蔵レンズ200である。It is the hologram element built-in lens 200 in the present embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

19 島状部
100 ホログラム素子
101 傾斜面
102a、102b、102c 接合面
103 周縁部
104a、104b 被膜層
105a、105b、105c 接合面
106 周縁部
107a、107b 被膜層
AD 接着剤
AD1 余剰接着罪
L1 光学基材(第1光学基材)
L2 光学基材(第2光学基材)
P 剥離片
19 Island-shaped part 100 Hologram element 101 Inclined surfaces 102a, 102b, 102c Joining surface 103 Peripheral parts 104a, 104b Coating layers 105a, 105b, 105c Joining surface 106 Peripheral parts 107a, 107b Coating layer AD Adhesive AD1 Surplus adhesion crime L1 Optical base Material (first optical substrate)
L2 optical substrate (second optical substrate)
P Peeling piece

Claims (10)

第1光学基材の接合面にホログラム素子を形成し、当該ホログラム素子が第2光学基材の接合面との間に挟まれるように前記第1光学基材と第2光学基材とを接合することによりホログラム素子内蔵レンズを製造するホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記第1光学基材と前記第2光学基材とを接合する前に、両者の接合面近傍における前記第1光学基材及び前記第2光学基材の外表面上に被膜層を形成する被膜層形成工程と、
前記被膜層が形成された第1光学基材と第2光学基材との接合面の少なくともいずれか一方に、前記第1光学基材と前記第2光学基材とを接合したとき接合面からはみ出る量の接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、
前記接着剤が硬化した後、前記第1光学基材と前記第2光学基材との接合面端面から前記被膜層上にはみ出た接着剤を除去する接着剤除去工程と、
を含むことを特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
A hologram element is formed on the bonding surface of the first optical substrate, and the first optical substrate and the second optical substrate are bonded so that the hologram element is sandwiched between the bonding surface of the second optical substrate. In the manufacturing method of the hologram element built-in lens to produce the hologram element built-in lens,
Before the first optical substrate and the second optical substrate are bonded, the coating film forms a coating layer on the outer surfaces of the first optical substrate and the second optical substrate in the vicinity of the bonding surfaces of the two. A layer forming step;
When the first optical substrate and the second optical substrate are bonded to at least one of the bonding surfaces of the first optical substrate and the second optical substrate on which the coating layer is formed, from the bonding surface An adhesive application process for applying an amount of adhesive that protrudes;
After the adhesive is cured, an adhesive removal step of removing the adhesive protruding on the coating layer from the joining surface end surface of the first optical base and the second optical base;
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element, comprising:
請求項1に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記被膜層形成工程は、前記被膜層を液状若しくは半液状であって洗浄により除去可能な性状物を塗布することにより形成すること、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the lens with a built-in hologram element according to claim 1,
In the coating layer forming step, the coating layer is formed by applying a property that is liquid or semi-liquid and can be removed by washing,
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項2に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記性状物はシリコーン剤であること、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the hologram element built-in lens according to claim 2,
The property is a silicone agent;
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項1から3のいずれか一項に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記接着剤塗布工程の後に、前記接合面から前記被膜層上にはみ出た接着剤に、当該はみ出た接着剤の除去時の手掛かり部材として剥離片を接着する剥離片接着工程を含むこと、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the hologram element built-in lens according to any one of claims 1 to 3,
After the adhesive application step, including an exfoliation piece adhesion step of adhering an exfoliation piece as a clue member at the time of removing the overhanging adhesive to the adhesive that protrudes from the joint surface onto the coating layer,
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項4に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記接着剤除去工程は、前記剥離片を手掛かりとして前記被膜層上にはみ出た接着剤を引き剥がすことにより当該はみ出た接着剤を除去すること、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the hologram element built-in lens according to claim 4,
The adhesive removing step is to remove the protruding adhesive by peeling off the adhesive protruding on the coating layer using the release piece as a clue;
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項2から5のいずれか一項に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記接着剤除去工程の後に、前記被膜層である性状物を洗浄により除去すること、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the hologram element built-in lens according to any one of claims 2 to 5,
After the adhesive removing step, removing the property as the coating layer by washing,
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項1に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記被膜層形成工程は、前記被膜層を前記第1光学基材及び前記第2光学基材の外表面上にフィルム状のシート材を貼付することにより形成すること、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the lens with a built-in hologram element according to claim 1,
In the coating layer forming step, the coating layer is formed by sticking a film-like sheet material on the outer surfaces of the first optical substrate and the second optical substrate,
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項7に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記接着剤塗布工程の後に、前記接合面から前記被膜層上にはみ出た接着剤に、当該はみ出た接着剤の除去時の手掛かり部材として剥離片を接着する剥離片接着工程を含むこと、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the lens with a built-in hologram element according to claim 7,
After the adhesive application step, including an exfoliation piece adhesion step of adhering an exfoliation piece as a clue member at the time of removing the overhanging adhesive to the adhesive that protrudes from the joint surface onto the coating layer,
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項7に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記被膜層形成工程の前に、前記第1光学基材と前記第2光学基材の接合面近傍における外表面上かつ前記被膜層の下部に当該はみ出た接着剤の除去時の手掛かり部材として剥離片を設ける剥離片設置工程を含むこと、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the lens with a built-in hologram element according to claim 7,
Before the coating layer forming step, it is peeled off as a clue member when removing the protruding adhesive on the outer surface in the vicinity of the bonding surface between the first optical substrate and the second optical substrate and below the coating layer. Including a stripping piece installation step of providing a piece,
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
請求項8又は9に記載のホログラム素子内蔵レンズの製造方法において、
前記接着剤除去工程は、前記剥離片を手掛かりとして前記被膜層を引き剥がすことにより当該被膜層と共に前記はみ出た接着剤を除去すること、
を特徴とするホログラム素子内蔵レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the lens with a built-in hologram element according to claim 8 or 9,
The adhesive removing step is to remove the protruding adhesive together with the coating layer by peeling off the coating layer with the release piece as a clue;
A method for manufacturing a lens with a built-in hologram element.
JP2005005356A 2005-01-12 2005-01-12 Method of manufacturing lens with built-in hologram element Pending JP2006195073A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005005356A JP2006195073A (en) 2005-01-12 2005-01-12 Method of manufacturing lens with built-in hologram element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005005356A JP2006195073A (en) 2005-01-12 2005-01-12 Method of manufacturing lens with built-in hologram element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006195073A true JP2006195073A (en) 2006-07-27

Family

ID=36801213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005005356A Pending JP2006195073A (en) 2005-01-12 2005-01-12 Method of manufacturing lens with built-in hologram element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006195073A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008268873A (en) * 2007-03-28 2008-11-06 Konica Minolta Holdings Inc Joined optical member, image display apparatus, and head-mounted display
JP2009303485A (en) * 2009-10-01 2009-12-24 Mitsui High Tec Inc Resin sealing method for laminated iron core of rotor
JP2010158164A (en) * 2010-04-09 2010-07-15 Mitsui High Tec Inc Resin-sealing method for rotor laminated iron core
US7826113B2 (en) 2007-03-28 2010-11-02 Konica Minolta Holdings, Inc. Joined optical member, image display apparatus, and head-mounted display

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008268873A (en) * 2007-03-28 2008-11-06 Konica Minolta Holdings Inc Joined optical member, image display apparatus, and head-mounted display
US7826113B2 (en) 2007-03-28 2010-11-02 Konica Minolta Holdings, Inc. Joined optical member, image display apparatus, and head-mounted display
JP2009303485A (en) * 2009-10-01 2009-12-24 Mitsui High Tec Inc Resin sealing method for laminated iron core of rotor
JP4688950B2 (en) * 2009-10-01 2011-05-25 株式会社三井ハイテック Resin sealing method for rotor laminated core
JP2010158164A (en) * 2010-04-09 2010-07-15 Mitsui High Tec Inc Resin-sealing method for rotor laminated iron core

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6750188B2 (en) Nanostructured film with master film and manufacturing method thereof
JP5256488B2 (en) Method for manufacturing bonded optical member
TWI437068B (en) Enhanced liquid crystal display system and methods
US20110174431A1 (en) Method of transferring a portion of a functional film
JP5759484B2 (en) Lens manufacturing method for providing an optical display
EP1715391A3 (en) Image forming method and image forming apparatus for forming an image on a transparent substrate
JP2008536707A (en) How to make high quality optical components by casting
JP6878225B2 (en) Manufacturing method of transparent panel, manufacturing method of optical device
JP2006195073A (en) Method of manufacturing lens with built-in hologram element
EP2653910A1 (en) Method for manufacturing semi-finished blank for variable-focus lens
JP6488904B2 (en) Cover glass, display device with cover glass, and method of manufacturing cover glass
JP4491609B2 (en) Optical device, video display device, and head mounted display
JP2012230304A (en) Method for manufacturing protective sheet for liquid crystal display, protective sheet for liquid crystal display, method for manufacturing liquid crystal display device and liquid crystal display device
CN109946866A (en) Transparent facestock and display device with adhesive layer
TWI566929B (en) Integrated optical film and its diffuser
JP2007171514A (en) Prism unit and manufacturing method of prism unit
JP2006276181A (en) Lens with built-in hologram element and its manufacturing method
JP2007293143A (en) Method of manufacturing liquid crystal panel and liquid crystal panel
JP2006162793A (en) Optical device, image display apparatus and head-mounted display
CN112706433B (en) Method for automatically forming special-shaped optical cement on surface of flexible element
TWI838346B (en) Method of manufacturing transparent panel and method of manufacturing optical device
KR20160128590A (en) Film Composite, Display Apparatus having the same and Method of Manufacturing the Display Apparatus
JP2007078964A (en) Lens manufacturing method
WO2006067997A1 (en) Method for manufacturing lens with built-in hologram device
JP2019179712A (en) Method for manufacturing light guide plate