JP2006177702A - Manufacturing equipment of radiographic image conversion panel, and manufacturing method for the radiographic image conversion panel - Google Patents

Manufacturing equipment of radiographic image conversion panel, and manufacturing method for the radiographic image conversion panel Download PDF

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Kuniaki Nakano
中野  邦昭
Yoshitami Kasai
惠民 笠井
Katsuya Kishinami
勝也 岸波
Masashi Kondo
真史 近藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing equipment of radiographic image conversion panel and a manufacturing method for the radiographic image conversion panel for manufacturing a high sharpness radiographic image conversion panel by preventing the deposition of flotage on a support body, before the initiation of evaporation of stimulable phosphor layer. <P>SOLUTION: The equipment comprises a vacuum vessel 3, crucibles 10 and 10, provided in the vacuum vessel 3 and containing the stimulable phosphor to be evaporated onto the support body 2; a support body holder 4 facing the crucibles 10 and 10 and supporting the support body 2; evaporation source shutters 11 and 11, provided with a shutter plate 12 movable from a coating position covering the openings of the crucibles 10 and 10 to a retracting position that cannot disturb the evaporation of the stimulable phosphor from the crucibles 10 and 10; and a support body shutter 9 provided with a shutter plate 7, movable from a coating position covering the surface of the support body 2 supported by the support body holder 4 to a retracting position that does not reach the support body 2. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法に係り、特に、表面に輝尽性蛍光体層が形成された放射線画像変換パネルの製造装置及びこの放射線画像変換パネルの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a radiation image conversion panel manufacturing apparatus and a radiation image conversion panel manufacturing method, and more particularly, to a radiation image conversion panel manufacturing apparatus having a photostimulable phosphor layer formed on a surface thereof, and to the radiation image conversion panel. It relates to a manufacturing method.

従来、銀塩を使用しないで放射線画像を得る方法として、支持体上に輝尽性蛍光体層を形成した放射線画像変換パネルが開発されている。   Conventionally, as a method for obtaining a radiation image without using a silver salt, a radiation image conversion panel in which a photostimulable phosphor layer is formed on a support has been developed.

放射線画像変換パネルは、被写体を透過した放射線を輝尽性蛍光体層に吸収させ、被写体各部の放射線透過密度に対応する放射線エネルギーを蓄積することができる。その後、可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)によって輝尽性蛍光体を時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを輝尽発光光として放出させる。そしてこの光の強弱による信号を、例えば光電変換して電気信号とし、ハロゲン化銀写真感光材料などの記録材料、CRTなどの表示装置上に可視像として再生することができるものである。   The radiation image conversion panel can absorb radiation transmitted through the subject into the stimulable phosphor layer and accumulate radiation energy corresponding to the radiation transmission density of each part of the subject. After that, the stimulable phosphor is excited in time series by electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared rays, so that the radiation energy accumulated in the stimulable phosphor is emitted as stimulated emission light. . The light intensity signal can be converted into an electric signal by photoelectric conversion, for example, and can be reproduced as a visible image on a recording material such as a silver halide photographic material or a display device such as a CRT.

輝尽性蛍光体層が形成された放射線画像変換パネルを高感度かつ高鮮鋭なものとするためには、支持体上に輝尽性蛍光体層を柱状結晶化させることが必要であるが、近年、CsBrなどのハロゲン化アルカリを母体とする輝尽性蛍光体層を蒸着法により形成すると非常に高感度の放射線画像変換パネルが得られることが報告されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to make the radiation image conversion panel on which the stimulable phosphor layer is formed highly sensitive and highly sharp, it is necessary to crystallize the stimulable phosphor layer on the support, In recent years, it has been reported that when a photostimulable phosphor layer based on an alkali halide such as CsBr is formed by vapor deposition, a highly sensitive radiation image conversion panel can be obtained (see, for example, Patent Document 1). .

このように蒸着法により輝尽性蛍光体層を形成して放射線画像変換パネルを製造する製造装置としては、従来より、図4に示すような製造装置が知られている。すなわち、従来の製造装置は、真空容器20を備えており、この真空容器20の内部の上方に支持体21を保持する支持体ホルダ22を設け、真空容器20の内部の底面付近に輝尽性蛍光体を加熱し蒸気を蒸発領域23に発生させる蒸発源24,24を備えている。このような放射線画像変換パネルの製造装置は、支持体ホルダ22を回転させる支持体回転機構25を備えており、この支持体回転機構25によって支持体ホルダ22に支持された支持体21を回転させながら蒸発源24,24から発生した蒸気を支持体21の表面に蒸着させることによって支持体21の上に輝尽性蛍光体層を形成するようになっている。
特開2001−249198号公報
Conventionally, a manufacturing apparatus as shown in FIG. 4 is known as a manufacturing apparatus for manufacturing a radiation image conversion panel by forming a photostimulable phosphor layer by vapor deposition. That is, the conventional manufacturing apparatus includes a vacuum vessel 20, a support holder 22 that holds the support 21 is provided above the inside of the vacuum vessel 20, and the photostimulability is provided near the bottom surface inside the vacuum vessel 20. Evaporation sources 24 and 24 for heating the phosphor and generating vapor in the evaporation region 23 are provided. Such a radiation image conversion panel manufacturing apparatus includes a support rotating mechanism 25 that rotates the support holder 22, and the support 21 supported by the support holder 22 is rotated by the support rotating mechanism 25. However, the stimulable phosphor layer is formed on the support 21 by vapor-depositing the vapor generated from the evaporation sources 24 and 24 on the surface of the support 21.
JP 2001-249198 A

高感度かつ高鮮鋭の放射線画像変換パネルを形成するためには、輝尽性蛍光体を支持体に均一に蒸着させて、支持体上に形成される輝尽性蛍光体の柱状結晶を均一にすることが必要とされる。   In order to form a highly sensitive and sharp radiation image conversion panel, the stimulable phosphor is uniformly deposited on the support, and the columnar crystals of the stimulable phosphor formed on the support are uniformly formed. It is necessary to do.

しかしながら、前記真空容器内にはCsBr:Eu粉塵、各種有機物、繊維状異物等が浮遊しており、輝尽性蛍光体層の蒸着開始前にこうした浮遊物が支持体の上に付着することが起こり得る。そして、支持体上にこのような浮遊物が付着した状態で輝尽性蛍光体層の蒸着を行うと、浮遊物が付着しているところでは輝尽性蛍光体の柱状結晶が付着物の上にその付着物を頂点としてほぼ円錐形状に成長し、その結果支持体の上に形成される輝尽性蛍光体層の表面に突起状の異常成長が発生する。   However, CsBr: Eu dust, various organic substances, fibrous foreign matters, etc. are suspended in the vacuum container, and such suspended substances may adhere to the support before starting the deposition of the stimulable phosphor layer. Can happen. Then, when the photostimulable phosphor layer is vapor-deposited with such a suspended substance on the support, the columnar crystals of the stimulable phosphor are deposited on the adhered substance when the suspended substance is adhered. Then, it grows in a substantially conical shape with the adhering substance as a vertex, and as a result, abnormal growth in the form of protrusions occurs on the surface of the photostimulable phosphor layer formed on the support.

放射線画像変換パネルを用いて放射線画像を得る場合には、放射線画像変換パネルに放射線を曝射した後に輝尽性蛍光体層の表面を半導体レーザ等の輝尽励起光で走査することにより放射線画像を得るが、輝尽性蛍光体層に突起状の異常成長が発生している場合、このような放射線画像変換パネルを放射線画像撮影に用いると、輝尽励起光がこの突起状に異常成長した柱状結晶によって散乱されて、放射線画像上に画像情報を持たない、いわゆる画像欠点が発生する。このような画像欠点がある場合には、放射線画像を用いた診断等を行う際に悪影響を及ぼすという問題がある。   When a radiation image is obtained using a radiation image conversion panel, the radiation image is obtained by scanning the surface of the photostimulable phosphor layer with stimulating excitation light such as a semiconductor laser after exposing the radiation image conversion panel to radiation. However, when the projecting abnormal growth occurs in the photostimulable phosphor layer, when such a radiation image conversion panel is used for radiographic imaging, the stimulating excitation light abnormally grows in the projecting shape. Scattered by the columnar crystals, so-called image defects that do not have image information on the radiation image occur. When there is such an image defect, there is a problem that it has an adverse effect when performing a diagnosis using a radiographic image.

そこで、本発明は以上のような課題を解決すべくなされたものであり、輝尽性蛍光体層の蒸着開始前に浮遊物が支持体上に付着することを防止して、高鮮鋭な放射線画像変換パネルを製造する放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供することを目的とするものである。   Therefore, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and prevents suspended matter from adhering to the support before the start of the deposition of the stimulable phosphor layer, thereby achieving high sharp radiation. An object of the present invention is to provide a radiographic image conversion panel manufacturing apparatus and a radiographic image conversion panel manufacturing method for manufacturing an image conversion panel.

このような問題を解決するため、請求項1に記載されている発明は、真空容器と、
前記真空容器内に設けられ、支持体に蒸着させる蒸発材料を収容する蒸発源と、
前記蒸発源に対向し支持体を支持する支持体ホルダと、
前記蒸発源の開口を覆う被覆位置から前記蒸発源からの前記蒸発材料の蒸発を妨げない退避位置まで移動可能なシャッタ板を備える蒸発源シャッタと、
前記支持体ホルダに支持された前記支持体の表面を覆う被覆位置から前記支持体を露出させる退避位置まで移動可能なシャッタ板を備える支持体シャッタと、
を備えることを特徴としている。
In order to solve such a problem, the invention described in claim 1 includes a vacuum vessel,
An evaporation source provided in the vacuum vessel and containing an evaporation material to be deposited on a support;
A support holder facing the evaporation source and supporting the support;
An evaporation source shutter comprising a shutter plate movable from a covering position covering the opening of the evaporation source to a retracted position that does not prevent evaporation of the evaporation material from the evaporation source;
A support shutter comprising a shutter plate movable from a covering position covering the surface of the support supported by the support holder to a retracted position exposing the support;
It is characterized by having.

このような構成を有する請求項1に記載の発明は、非蒸着時には、蒸発源の開口を蒸発源シャッタのシャッタ板で覆うとともに支持体の表面を支持体シャッタのシャッタ板で覆うようになっており、蒸着時には、両シャッタがともに開となる。これによって、支持体に浮遊物等が付着するのを防止しうるとともに蒸発源から発生し真空容器内に蒸散した蒸発材料を支持体ホルダに支持された支持体の表面に蒸着させ、輝尽性蛍光体層を形成するようになっている。   According to the first aspect of the present invention having such a configuration, the opening of the evaporation source is covered with the shutter plate of the evaporation source shutter and the surface of the support is covered with the shutter plate of the support shutter during non-evaporation. Both the shutters are opened during vapor deposition. As a result, it is possible to prevent the suspended matter from adhering to the support, and the evaporation material generated from the evaporation source and evaporated in the vacuum vessel is deposited on the surface of the support supported by the support holder. A phosphor layer is formed.

また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造装置において、前記支持体シャッタは、前記シャッタ板を巻き取る巻き取り機構を備えたことを特徴としている。   According to a second aspect of the present invention, in the radiological image conversion panel manufacturing apparatus according to the first aspect, the support shutter includes a winding mechanism that winds up the shutter plate.

したがって、請求項2に記載の発明では、巻き取り機構によりシャッタ板を巻き取ることによって、支持体シャッタのシャッタ板が支持体の表面を覆う被覆位置から支持体を露出させる退避位置まで移動できるようになっている。   Therefore, in the second aspect of the invention, the shutter plate of the support shutter can be moved from the covering position covering the surface of the support to the retracted position exposing the support by winding the shutter plate by the winding mechanism. It has become.

さらに、請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造装置において、前記支持体シャッタは、前記シャッタ板を前記支持体の表面を覆う被覆位置から前記支持体を露出させる退避位置まで案内するガイドレールを備えたことを特徴としている。   Furthermore, the invention according to claim 3 is the radiographic image conversion panel manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the support shutter is configured such that the support plate is moved from a covering position that covers the surface of the support plate. It is characterized by having a guide rail that guides to the retracted position to be exposed.

このように、請求項3に記載の発明は、ガイドレールに沿ってシャッタ板が案内されることにより、支持体シャッタのシャッタ板が支持体の表面を覆う被覆位置から支持体を露出させる退避位置まで移動ことができるようになっている。   As described above, the invention according to claim 3 is a retracted position in which the shutter plate of the support shutter is exposed from the covering position where the shutter plate of the support shutter covers the surface of the support by guiding the shutter plate along the guide rail. Can move up to.

請求項4に記載されている発明は、真空容器内において、蒸発源から蒸発する蒸発材料を支持体に蒸着させる蒸着工程と、
蒸発源シャッタのシャッタ板を、前記蒸発源の開口を覆う被覆位置から前記蒸発源からの前記蒸発材料の蒸発を妨げない退避位置まで移動させる蒸発源シャッタ移動工程と、
支持体ホルダのシャッタ板を、前記支持体の表面を覆う被覆位置から前記支持体を露出させる退避位置まで移動させる支持体シャッタ移動工程と、
を備えることを特徴としている。
The invention described in claim 4 is a vapor deposition step of depositing an evaporation material evaporating from an evaporation source on a support in a vacuum vessel;
An evaporation source shutter moving step of moving the shutter plate of the evaporation source shutter from a covering position covering the opening of the evaporation source to a retreat position that does not prevent evaporation of the evaporation material from the evaporation source;
A support shutter moving step of moving the shutter plate of the support holder from a covering position covering the surface of the support to a retracted position exposing the support;
It is characterized by having.

このような構成を有する請求項4に記載の発明は、蒸発源シャッタのシャッタ板を、非蒸着時には前記蒸発源の開口を覆う被覆位置に位置し、蒸着時には退避位置に位置するように移動させるとともに、支持体ホルダのシャッタ板を、非蒸着時には前記支持体の表面を覆う被覆位置に位置し、蒸着時には退避位置に位置するように移動させる。そして、両シャッタがともに開となった状態で蒸発源から蒸発する蒸発材料を支持体に蒸着させ、輝尽性蛍光体層を形成するようになっている。   The invention according to claim 4 having such a configuration moves the shutter plate of the evaporation source shutter so that it is located at a covering position that covers the opening of the evaporation source during non-evaporation and is located at a retreat position during evaporation. At the same time, the shutter plate of the support holder is moved to a covering position that covers the surface of the support when not vapor-deposited and to a retracted position when vapor-depositing. Then, an evaporating material evaporating from the evaporation source is vapor-deposited on the support in a state where both shutters are open, thereby forming a photostimulable phosphor layer.

請求項1に記載された発明によれば、蒸発源の開口を覆う蒸発源シャッタの他に支持体の表面を覆う支持体シャッタを備えているので、るつぼ内の蒸発材料が溶融して蒸着に適した状態になるまで支持体をシャッタで覆っておくことができる。これにより、蒸着前に支持体の上に真空容器内部の浮遊物等が付着するのを防止することができ、付着した浮遊物を核として輝尽性蛍光体の結晶が突起状に異常成長することがない。したがって、画像欠点のない高鮮鋭な放射線画像変換パネルを製造することができるという効果を奏する。   According to the first aspect of the present invention, since the support shutter that covers the surface of the support is provided in addition to the evaporation source shutter that covers the opening of the evaporation source, the evaporation material in the crucible is melted and deposited. The support can be covered with a shutter until it is in a suitable state. As a result, it is possible to prevent the suspended matter inside the vacuum vessel from adhering to the support before vapor deposition, and the photostimulable phosphor crystal grows abnormally in a protruding shape with the attached suspended matter as a nucleus. There is nothing. Therefore, there is an effect that a high-definition radiation image conversion panel without image defects can be manufactured.

請求項2に記載された発明によれば、巻き取り機構によってシャッタ板を巻き取る構成であるため、蒸着前には支持体の上に真空容器内部の浮遊物等が付着するのを防止することができるとともに、蒸着時には場所を取ることなくシャッタ板を退避させることができるという効果を奏する。   According to the second aspect of the present invention, since the shutter plate is wound up by the winding mechanism, it is possible to prevent the floating substance or the like inside the vacuum vessel from adhering to the support before vapor deposition. In addition, there is an effect that the shutter plate can be retracted without taking a place at the time of vapor deposition.

請求項3に記載された発明によれば、ガイドレールに沿ってシャッタ板を移動させるため、簡易な構成によって蒸着前には支持体の上に真空容器内部の浮遊物等が付着するのを防止することができるとともに、蒸着時には場所を取ることなくシャッタ板を退避させることができるという効果を奏する。   According to the third aspect of the present invention, since the shutter plate is moved along the guide rail, it is possible to prevent the floating substance or the like inside the vacuum vessel from adhering to the support before vapor deposition by a simple configuration. In addition, the shutter plate can be retracted without taking up space during vapor deposition.

請求項4に記載された発明によれば、非蒸着時には、蒸発源シャッタによって蒸発源の開口を覆う他、支持体シャッタによって支持体の表面を覆うため、るつぼ内の蒸発材料が溶融して蒸着に適した状態になり蒸着を開始する前において支持体の上に真空容器の内部の浮遊物等が付着するのを防止することができ、付着した浮遊物を核として輝尽性蛍光体の結晶が突起状に異常成長することがない。したがって、画像欠点のない高鮮鋭な放射線画像変換パネルを製造することができるという効果を奏する。   According to the fourth aspect of the present invention, during non-evaporation, the evaporation source in the crucible is melted and evaporated because the evaporation source shutter covers the opening of the evaporation source and the support shutter covers the surface of the support. It is possible to prevent the suspended matter inside the vacuum vessel from adhering to the support before the deposition is started and the crystals of the photostimulable phosphor are used as the nucleus. Does not grow abnormally in the form of protrusions. Therefore, there is an effect that a high-definition radiation image conversion panel without image defects can be manufactured.

以下、図1及び図2を参照しつつ、本発明に係る放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法の一実施形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of a radiological image conversion panel manufacturing apparatus and a radiographic image conversion panel manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

本実施の形態において、放射線画像変換パネルの製造装置1は、シート状の支持体2の表面に真空蒸着によって輝尽性蛍光体層を形成し放射線画像変換パネルを製造するものであり、図1に示すように、真空容器3を備えている。真空容器3には、図示しない真空ポンプが接続されており、この真空ポンプが内部の排気を行うことにより、真空容器3の真空状態が保たれるようになっている。   In the present embodiment, the radiation image conversion panel manufacturing apparatus 1 manufactures a radiation image conversion panel by forming a photostimulable phosphor layer by vacuum deposition on the surface of a sheet-like support 2. As shown in FIG. A vacuum pump (not shown) is connected to the vacuum vessel 3, and the vacuum state of the vacuum vessel 3 is maintained by evacuating the inside of the vacuum pump.

真空容器3の内部の上面付近には、支持体2を保持する支持体ホルダ4が備えられている。   A support holder 4 that holds the support 2 is provided near the upper surface inside the vacuum vessel 3.

支持体2は、その表面に輝尽性蛍光体層を蒸着させるものであり、一般に各種のガラス、高分子材料、金属などが用いられるが、本実施形態においては、特に樹脂などの高分子材料又はアルミニウムシート、鉄シート、銅シートなどの金属シートが好適に適用される。また、支持体2の厚さは一般に80μm〜5000μmであり、取り扱い上の点から80μm〜3000μmであることが好ましい。   The support 2 is for depositing a photostimulable phosphor layer on its surface, and various kinds of glass, polymer materials, metals, etc. are generally used. In this embodiment, in particular, polymer materials such as resins are used. Or metal sheets, such as an aluminum sheet, an iron sheet, and a copper sheet, are applied suitably. The thickness of the support 2 is generally 80 μm to 5000 μm, and preferably 80 μm to 3000 μm from the viewpoint of handling.

支持体ホルダ4には、支持体2を真空容器3の底面に対して水平方向に回転させる支持体回転機構5が設けられている。支持体回転機構5は、支持体ホルダ4を支持すると共に支持体ホルダ4を回転させる回転軸6と、真空容器3の外に配置されて回転軸6の駆動源となるモータ(図示せず)とから構成されている。なお、支持体ホルダ4及びこれに支持された支持体2を回転させる構成はここに例示したものに限定されず、他の構成によって回転するものとしてもよい。   The support holder 4 is provided with a support rotating mechanism 5 that rotates the support 2 horizontally with respect to the bottom surface of the vacuum vessel 3. The support rotation mechanism 5 supports the support holder 4 and rotates the support holder 4, and a motor (not shown) that is disposed outside the vacuum vessel 3 and serves as a drive source for the rotation shaft 6. It consists of and. In addition, the structure which rotates the support body holder 4 and the support body 2 supported by this is not limited to what was illustrated here, It is good also as what rotates by another structure.

なお、支持体ホルダ4には、支持体2を加熱するヒータ等の加熱手段(図示せず)を備えることが好ましい。ヒータ等によって支持体2を加熱することにより、支持体2の支持体ホルダ4に対する密着性を強化したり、輝尽性蛍光体層の膜質調整を行うことが可能となる。また、支持体2の表面の吸着物を離脱・除去し、支持体2の表面と輝尽性蛍光体との間に不純物層が発生することを防止することができる。また、加熱手段はヒータに限定されず、ヒータに替えて温媒又は熱媒を循環させるための機構(図示せず)を有していてもよい。この場合には、蒸着時の基板温度を50〜150℃といった比較的低温に保持して蒸着する場合に適している。   The support holder 4 is preferably provided with heating means (not shown) such as a heater for heating the support 2. By heating the support 2 with a heater or the like, it becomes possible to enhance the adhesion of the support 2 to the support holder 4 or to adjust the film quality of the stimulable phosphor layer. Further, the adsorbate on the surface of the support 2 can be removed and removed, and an impurity layer can be prevented from being generated between the surface of the support 2 and the photostimulable phosphor. The heating means is not limited to the heater, and may have a mechanism (not shown) for circulating a heating medium or a heating medium instead of the heater. In this case, it is suitable for vapor deposition while keeping the substrate temperature at the time of vapor deposition at a relatively low temperature of 50 to 150 ° C.

支持体ホルダ4の下方一端には、例えば、支持体の表面積と同じかそれ以上の表面積を有するシャッタ板7とシャッタ板7を巻き取る巻き取り機構8とを備える支持体シャッタ9が設けられている。シャッタ板7は、例えば、巻き取り機構8の長手方向に沿って延在する複数の短冊状の板状部材(図示せず)からなり、隣り合う短冊状の板状部材が互いにヒンジ結合されたものである。巻き取り機構8は、シャッタ板7の一端が係止される回転軸(図示せず)を備えており、回転軸は図示しない駆動源によって正逆両方向に回転可能となっている。巻き取り機構8の回転軸が回転することにより、シャッタ板7が順次巻き取り機構8の中に巻き取られ、支持体2の表面全体を覆う被覆位置から支持体2を露出させる退避位置まで移動可能となっている。   At the lower end of the support holder 4, for example, a support shutter 9 including a shutter plate 7 having a surface area equal to or larger than the surface area of the support and a winding mechanism 8 for winding the shutter plate 7 is provided. Yes. The shutter plate 7 is composed of, for example, a plurality of strip-shaped plate members (not shown) extending along the longitudinal direction of the winding mechanism 8, and adjacent strip-shaped plate members are hinged to each other. Is. The winding mechanism 8 includes a rotating shaft (not shown) on which one end of the shutter plate 7 is locked, and the rotating shaft can be rotated in both forward and reverse directions by a driving source (not shown). As the rotating shaft of the winding mechanism 8 rotates, the shutter plate 7 is sequentially wound into the winding mechanism 8 and moves from a covering position covering the entire surface of the support 2 to a retracted position where the support 2 is exposed. It is possible.

また、真空容器3の内部の底面付近には、輝尽性蛍光体を蒸気として蒸着させる蒸発源として金属製のるつぼ10が2つ配設されている。このるつぼ10,10には、蒸着により支持体2の表面に輝尽性蛍光体層を形成する蒸発材料として輝尽性蛍光体(図示せず)が収容されており、るつぼ10,10は支持体ホルダ4に支持される支持体2に対向する側に図示しない開口を有している。   Also, two metal crucibles 10 are disposed near the bottom surface inside the vacuum vessel 3 as an evaporation source for depositing the stimulable phosphor as a vapor. In the crucibles 10 and 10, a stimulable phosphor (not shown) is accommodated as an evaporation material for forming a stimulable phosphor layer on the surface of the support 2 by vapor deposition. An opening (not shown) is provided on the side facing the support 2 supported by the body holder 4.

るつぼ10,10は、例えば、アルミナ等によって形成されており、るつぼ10,10の周面にはヒータ(図示せず)が巻きつけられている。るつぼ10,10は、例えば、ヒータが抵抗加熱によって発熱することによって加熱され、これにより、るつぼ10,10の内部の輝尽性蛍光体を溶融させて、真空容器3の内部に蒸気を発生させるようになっている。蒸気は、例えば、図1に示すような蒸発領域13に拡散して支持板2に蒸着するようになっている。なお、るつぼ10,10の構成は、ここに例示したものに限定されず、例えば、るつぼ10,10自体に直接誘導電流を生じさせて加熱することができる高周波発振コイルを設け、高周波誘導加熱方式によりるつぼ10,10内の原料を溶融させるようにしてもよい。また、るつぼ10,10を形成する材料はここに例示したものに限定されない。例えば、高融点金属等を用いてもよい。さらに、蒸発源として、各種形状の真空蒸着用ボートを用いて原料を溶融させるようにしてもよい。   The crucibles 10, 10 are made of alumina or the like, for example, and a heater (not shown) is wound around the peripheral surfaces of the crucibles 10, 10. The crucibles 10, 10 are heated, for example, when a heater generates heat by resistance heating, thereby melting the photostimulable phosphors inside the crucibles 10, 10 and generating vapor inside the vacuum vessel 3. It is like that. For example, the vapor is diffused in the evaporation region 13 as shown in FIG. The structure of the crucibles 10 and 10 is not limited to that illustrated here. For example, the crucibles 10 and 10 themselves are provided with a high-frequency oscillation coil capable of directly generating an induction current and heating the high-frequency induction heating method. Thus, the raw materials in the crucibles 10, 10 may be melted. Moreover, the material which forms the crucibles 10 and 10 is not limited to what was illustrated here. For example, a refractory metal or the like may be used. Furthermore, the raw material may be melted using various types of vacuum evaporation boats as an evaporation source.

なお、支持体2とるつぼ10,10との間隔は、100mm〜1500mmに設置するのが好ましい。   In addition, it is preferable to install the space | interval with the support body 2 and the crucibles 10 and 10 to 100 mm-1500 mm.

各るつぼ10,10の上方には、るつぼ10,10から支持体2に至る空間を遮断するるつぼシャッタ11,11がそれぞれ設けられている。各るつぼシャッタ11,11は、るつぼ10,10の開口よりも広い表面積を有しるつぼ10,10から蒸発する蒸気の蒸発領域13を遮ることのできる大きさに形成されたシャッタ板12,12を備えており、シャッタ板12,12は、例えば、図示しない駆動源により、ガイドレール(図示せず)に沿ってるつぼ10,10から蒸発する蒸気の上昇、拡散を妨げる被覆位置から蒸気の上昇、拡散を妨げない退避位置まで移動可能となっている。このように、るつぼシャッタ11,11を設けることにより、輝尽性蛍光体の表面に付着した目的物以外の物質が蒸着の初期段階で蒸発し、支持体2に付着するのを防ぐことができる。なお、るつぼシャッタ11,11の構成及びるつぼシャッタ11,11を移動させる機構はここに例示したものに限定されない。   Above each of the crucibles 10 and 10, crucible shutters 11 and 11 for blocking the space from the crucibles 10 and 10 to the support 2 are provided. Each of the crucible shutters 11, 11 has a shutter plate 12, 12 formed in a size that can block the evaporation region 13 of the vapor evaporating from the crucible 10, 10 having a larger surface area than the opening of the crucible 10, 10. The shutter plates 12 and 12 include, for example, a rise of steam evaporating from the crucibles 10 and 10 along a guide rail (not shown) by a driving source (not shown), a rise of steam from a covering position that prevents diffusion, It can be moved to a retreat position that does not prevent diffusion. Thus, by providing the crucible shutters 11 and 11, it is possible to prevent substances other than the target substance adhering to the surface of the stimulable phosphor from evaporating at the initial stage of vapor deposition and adhering to the support 2. . The structure of the crucible shutters 11 and 11 and the mechanism for moving the crucible shutters 11 and 11 are not limited to those illustrated here.

ここで、本実施形態に使用される蒸発材料について説明する。本実施形態における蒸発材料は、蛍光体若しくはその原料を含むものであり、下記の一般式(1)で表される輝尽性蛍光体を使用することが好ましい。   Here, the evaporation material used in the present embodiment will be described. The evaporating material in the present embodiment includes a phosphor or a raw material thereof, and it is preferable to use a stimulable phosphor represented by the following general formula (1).

一般式(1)
1X・aM2X'2・bM3X"3:eA
[式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X'、X"はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e<1.0の範囲の数値を表す。]
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ' 2 · bM 3 X " 3 : eA
[Wherein, M 1 is at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs atoms, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu. And at least one divalent metal atom selected from each atom of Ni, and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, At least one trivalent metal atom selected from each atom of Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least selected from each atom of F, Cl, Br and I 1 type of halogen atom, A is Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg. At least one metal atom selected from each atom, and , B, e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e <1.0.]

上記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体において、M1は、Li、Na、K、Rb及びCs等の各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子を表し、中でもRb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ土類金属原子が好ましく、さらに好ましくはCs原子である。 In the photostimulable phosphor represented by the general formula (1), M 1 represents at least one alkali metal atom selected from each atom such as Li, Na, K, Rb and Cs. At least one alkaline earth metal atom selected from each atom of Cs is preferable, and a Cs atom is more preferable.

2は、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNi等の各原子から選ばれる少なくとも1種の二価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのは、Be、Mg、Ca、Sr及びBa等の各原子から選ばれる二価の金属原子である。 M 2 represents at least one divalent metal atom selected from atoms such as Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu, and Ni, and among these, Be, It is a divalent metal atom selected from each atom such as Mg, Ca, Sr and Ba.

3は、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びIn等の各原子から選ばれる少なくとも1種の三価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのはY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びIn等の各原子から選ばれる三価の金属原子である。 M 3 is selected from atoms such as Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, and In. At least one trivalent metal atom is represented, but among them, a trivalent metal atom selected from each atom such as Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In is preferable. It is.

輝尽性蛍光体の輝尽発光輝度向上の観点から、X、X'及びX"はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子を表すが、F、Cl及びBrから選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が好ましく、中でも好ましく用いられるのは、Br原子である。   From the viewpoint of improving the photostimulable emission brightness of the photostimulable phosphor, X, X ′ and X ″ represent at least one halogen atom selected from F, Cl, Br and I atoms. At least one halogen atom selected from Br is preferred, and among these, a Br atom is preferably used.

また、一般式(1)において、a値は0≦a<0.5、b値は0≦b<0.5、e値は0<e≦1.0の範囲の数値を示し、特にbは0≦b≦10-2 の範囲の数値を示すことが好ましい。 In the general formula (1), the value a is 0 ≦ a <0.5, the value b is 0 ≦ b <0.5, and the value e is 0 <e ≦ 1.0. Preferably represents a numerical value in the range of 0 ≦ b ≦ 10 −2 .

また、この中でも特に、下記一般式(2)で表される蛍光体若しくはその原料を含むことが好ましい。   Of these, the phosphor represented by the following general formula (2) or a raw material thereof is particularly preferable.

一般式(2)
CsBr:eEu
General formula (2)
CsBr: eEu

ここで、e値は0.0001<e≦1.0の範囲の数値を示す。   Here, e value shows the numerical value of the range of 0.0001 <e <= 1.0.

ここで、輝尽性蛍光体層は互いに独立した細長い柱状結晶構造を有しており、個々の径及び形状が揃った柱状結晶14であることが好ましい。そして、支持体2の表面が平板である場合には、柱状結晶14がほぼ等しい径及び形状で支持体2の表面全体に均一に成長し、輝尽性蛍光体層の表面は柱状結晶14が整列した概略平面構造となる。しかし、支持体2の表面に付着物15がある場合には、図2に示すように、柱状結晶14はこの付着物15を核とし、付着物15との接点を頂点としてほぼ円錐形状に成長し、最終的に形成された輝尽性蛍光体層の表面において突起状異常成長16として発生する。このような突起状異常成長16が現れている輝尽性蛍光体層からなる放射線画像変換パネルを放射線画像撮影に用いると、輝尽励起光を照射した際、輝尽励起光がこの突起状異常成長16によって散乱されて、放射線画像上に画像情報を持たない、いわゆる画像欠点が発生し、高精度の診断画像を得ることができない。そこで、全体に均一な輝尽性蛍光体層を形成して高精度の診断画像を得ることのできる放射線画像変換パネルを製造するためには、輝尽性蛍光体の蒸気が蒸着する前に支持体2の表面に付着物15が付着しないようにすることが必要となる。   Here, the photostimulable phosphor layer has a long and narrow columnar crystal structure independent of each other, and is preferably a columnar crystal 14 having a uniform diameter and shape. When the surface of the support 2 is a flat plate, the columnar crystals 14 grow uniformly on the entire surface of the support 2 with substantially the same diameter and shape, and the surface of the photostimulable phosphor layer is formed by the columnar crystals 14. It becomes an aligned substantially planar structure. However, when the deposit 15 is present on the surface of the support 2, as shown in FIG. 2, the columnar crystal 14 grows in a substantially conical shape with the deposit 15 as a nucleus and a contact point with the deposit 15 as a vertex. Then, the abnormal growth 16 occurs on the surface of the finally formed photostimulable phosphor layer. When a radiation image conversion panel composed of a photostimulable phosphor layer in which such protrusion-like abnormal growth 16 appears is used for radiographic imaging, when the excitation light is irradiated, the stimulating excitation light causes the protrusion-like abnormality. A so-called image defect is generated which is scattered by the growth 16 and does not have image information on the radiographic image, and a highly accurate diagnostic image cannot be obtained. Therefore, in order to produce a radiation image conversion panel capable of obtaining a highly accurate diagnostic image by forming a uniform photostimulable phosphor layer on the whole, it is supported before vapor deposition of the photostimulable phosphor is deposited. It is necessary to prevent the deposit 15 from adhering to the surface of the body 2.

次に、前記放射線画像変換パネルの製造装置1を用いた本発明に係る放射線画像変換パネルの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the radiographic image conversion panel which concerns on this invention using the manufacturing apparatus 1 of the said radiographic image conversion panel is demonstrated.

前記放射線画像変換パネルの製造装置1を用いて支持体2に輝尽性蛍光体層を形成するには、まず、支持体ホルダ4に支持体2を取付ける。   In order to form the photostimulable phosphor layer on the support 2 using the radiation image conversion panel manufacturing apparatus 1, first, the support 2 is attached to the support holder 4.

そして、まず、るつぼ10,10に輝尽性蛍光体を充填するとともにヒータによってるつぼ10,10を加熱し、るつぼ10,10の内部に収容された輝尽性蛍光体を融点に達するまで加熱する。次に、真空ポンプによって真空容器3の内部を真空排気する。なお、この際、Arガス、Neガス等の不活性ガスを導入してもよい。この間、支持体シャッタ9のシャッタ板7及びるつぼシャッタ11,11のシャッタ板12,12はともに被覆位置に位置し、蒸着に適した状態になる前に支持体2に浮遊物等が付着することがないようになっている。   First, the stimulable phosphors are filled in the crucibles 10 and 10 and the crucibles 10 and 10 are heated by the heater, and the stimulable phosphors housed in the crucibles 10 and 10 are heated until reaching the melting point. . Next, the inside of the vacuum vessel 3 is evacuated by a vacuum pump. At this time, an inert gas such as Ar gas or Ne gas may be introduced. During this time, both the shutter plate 7 of the support shutter 9 and the shutter plates 12 and 12 of the crucible shutters 11 and 11 are located at the coating position, and floating substances and the like adhere to the support 2 before becoming suitable for vapor deposition. There is no such thing.

その後、真空容器3が蒸着可能な真空度に達し、かつ、るつぼ10,10の内部に収容された輝尽性蛍光体が蒸着に適した温度まで加熱されたら、支持体回転機構5により支持体ホルダ4をるつぼ10,10に対して水平方向に回転させる。そして、まず、支持体シャッタ9の巻き取り機構8でシャッタ板7を巻き取ることによってシャッタ板7を支持板2の表面を露出させる所定の退避位置まで移動させ、その直後に、るつぼシャッタ11,11のシャッタ板12,12をるつぼ10,10の開口を露出させる所定の退避位置まで移動する。このように支持体シャッタ9のシャッタ板7が退避位置に移動した直後にるつぼシャッタ11,11のシャッタ板12,12を退避位置に移動させることによって、蒸着開始前に支持体2に浮遊物等が付着することを防止するとともに、るつぼ10,10から発生する蒸気を無駄なく支持体2に蒸着させることができる。   After that, when the degree of vacuum at which the vacuum vessel 3 can be deposited is reached and the photostimulable phosphor accommodated in the crucibles 10 and 10 is heated to a temperature suitable for deposition, the support rotating mechanism 5 supports the support. The holder 4 is rotated in the horizontal direction with respect to the crucibles 10,10. First, the shutter plate 7 is wound up by the winding mechanism 8 of the support shutter 9 to move the shutter plate 7 to a predetermined retreat position where the surface of the support plate 2 is exposed, and immediately after that, the crucible shutter 11, 11 shutter plates 12 and 12 are moved to a predetermined retreat position where the openings of the crucibles 10 and 10 are exposed. In this way, by moving the shutter plates 12 and 12 of the crucible shutters 11 and 11 to the retracted position immediately after the shutter plate 7 of the support shutter 9 has moved to the retracted position, suspended matter or the like on the support 2 before the start of vapor deposition. And the vapor generated from the crucibles 10 and 10 can be deposited on the support 2 without waste.

なお、支持体シャッタ9のシャッタ板7及びるつぼシャッタ11,11のシャッタ板12,12を退避位置にするタイミングは、製造装置1によって自動的に制御されるようにしてもよいし、ユーザ等が真空容器3の真空度、るつぼ10,10内の輝尽性蛍光体の加熱具合等を見ながら手動によりタイミングを合わせて開閉動作を行うようにしてもよい。   The timing at which the shutter plate 7 of the support shutter 9 and the shutter plates 12 and 12 of the crucible shutters 11 and 11 are moved to the retracted position may be automatically controlled by the manufacturing apparatus 1 or may be changed by the user or the like. The opening / closing operation may be performed manually at the same timing while observing the degree of vacuum of the vacuum vessel 3 and the heating condition of the stimulable phosphor in the crucibles 10 and 10.

支持体シャッタ9が退避位置にある状態でるつぼシャッタ11,11を退避位置に移動させることにより、加熱されたるつぼ10,10から輝尽性蛍光体が蒸発し、蒸気が真空容器3の内部の蒸発領域13に拡散して回転する支持体2の表面に均一に蒸着し、輝尽性蛍光体層が形成される。なお、蒸着は、輝尽性蛍光体層が所望の厚さに成長するまで行うが、この輝尽性蛍光体層は、10μm〜2000μmの膜厚に形成されることが好ましく、さらには、50μm〜1000μmの膜厚に形成されることが好ましい。   By moving the crucible shutters 11, 11 to the retracted position with the support shutter 9 in the retracted position, the stimulable phosphor evaporates from the heated crucibles 10, 10, and the vapor is inside the vacuum vessel 3. The photostimulable phosphor layer is formed by uniformly depositing on the surface of the support 2 which is diffused and rotated in the evaporation region 13. The vapor deposition is performed until the stimulable phosphor layer grows to a desired thickness, and this stimulable phosphor layer is preferably formed to a thickness of 10 μm to 2000 μm, and more preferably 50 μm. It is preferable that the film be formed to a thickness of ˜1000 μm.

以上の放射線画像変換パネルの製造装置1又は放射線画像変換パネルの製造方法によれば、るつぼシャッタ11,11の他に支持体2の全面を覆うことのできる支持体シャッタ9を設けて、るつぼシャッタ11,11のシャッタ板12,12が退避位置に移動する直前に前記支持体シャッタ9のシャッタ板7を退避位置に移動させるので、輝尽性蛍光体が蒸着に適した状態になる前に支持体2に浮遊物等が付着することを確実に防止することができる。   According to the radiographic image conversion panel manufacturing apparatus 1 or the radiographic image conversion panel manufacturing method described above, the crucible shutter is provided with the support shutter 9 that can cover the entire surface of the support 2 in addition to the crucible shutters 11 and 11. The shutter plate 7 of the support shutter 9 is moved to the retracted position immediately before the 11 and 11 shutter plates 12 and 12 are moved to the retracted position, so that the photostimulable phosphor is supported before being in a state suitable for vapor deposition. It is possible to reliably prevent the floating body from adhering to the body 2.

したがって、輝尽性蛍光体の柱状結晶14を支持体2の上に均一に成長させることができ、輝度及び鮮鋭性にばらつきのない輝尽性蛍光体層を形成することが可能となる。これにより、画像欠点のない高精度の放射線画像変換パネルを製造することが可能となる。   Therefore, the columnar crystal 14 of the stimulable phosphor can be uniformly grown on the support 2, and a stimulable phosphor layer having no variation in luminance and sharpness can be formed. As a result, it is possible to manufacture a high-accuracy radiation image conversion panel free from image defects.

また、本実施形態においては、支持体シャッタ9は、シャッタ板7とシャッタ板7を巻き取る巻き取り機構8とを備え、巻き取り機構8によってシャッタ板7が被覆位置から退避位置まで移動するものとしたが、支持体シャッタ9の構成はここに例示したものに限定されない。   In the present embodiment, the support shutter 9 includes a shutter plate 7 and a winding mechanism 8 that winds up the shutter plate 7, and the shutter plate 7 is moved from the covering position to the retracted position by the winding mechanism 8. However, the configuration of the support shutter 9 is not limited to that illustrated here.

例えば、図3に示すように、支持体シャッタ17として支持体2の表面積よりも大きく形成されたシャッタ板18と、真空容器3の内側両側壁に設けられシャッタ板18を支持体2と平行する位置から真空容器3の側壁と平行する位置まで案内するガイドレール(図示せず)とを備えるようにしてもよい。この場合、非蒸着時にはシャッタ板18はガイドレールに支持されて支持体2の表面全体を覆う被覆位置に位置し、蒸着時にはシャッタ板18はガイドレールに沿って真空容器3の側壁と平行となる退避位置まで退避することにより支持体2を露出させるようになっている。また、例えば、支持体の表面のほぼ半分を覆う大きさに形成されたシャッタ板を設け、各シャッタ板を回転自在に支持する回転軸を設けて、各シャッタ板が回転軸を支点として水平方向に回転することにより支持体の中央付近で2つのシャッタ板が重なり合い、支持体の表面全体が覆われるようにしてもよい。   For example, as shown in FIG. 3, the shutter plate 18 formed as a support shutter 17 larger than the surface area of the support 2 and the shutter plate 18 provided on both inner side walls of the vacuum vessel 3 are parallel to the support 2. You may make it provide the guide rail (not shown) guided to a position parallel to the side wall of the vacuum vessel 3 from a position. In this case, at the time of non-deposition, the shutter plate 18 is supported by the guide rail and is located at a covering position that covers the entire surface of the support 2, and at the time of evaporation, the shutter plate 18 is parallel to the side wall of the vacuum vessel 3 along the guide rail. The support 2 is exposed by retracting to the retracted position. In addition, for example, a shutter plate that is sized to cover almost half of the surface of the support is provided, a rotation shaft that rotatably supports each shutter plate is provided, and each shutter plate is horizontally oriented with the rotation shaft as a fulcrum. , The two shutter plates may overlap in the vicinity of the center of the support so that the entire surface of the support is covered.

なお、本実施形態では、支持体シャッタ9を開とした直後にるつぼシャッタ11,11を開とするようにしたが、支持体シャッタ9を開とした直後にるつぼシャッタ11,11を開とするタイミングはこれに限定されない。例えば、支持体シャッタ9とるつぼシャッタ11,11とを同時に開としてもよいし、るつぼシャッタ11,11を開としてから支持体シャッタ9を開としてもよい。   In this embodiment, the crucible shutters 11 and 11 are opened immediately after the support shutter 9 is opened. However, the crucible shutters 11 and 11 are opened immediately after the support shutter 9 is opened. The timing is not limited to this. For example, the support shutter 9 and the crucible shutters 11 and 11 may be opened simultaneously, or the support shutter 9 may be opened after the crucible shutters 11 and 11 are opened.

さらに、本実施形態では、製造装置1は蒸発源としてるつぼ10を2つ備えるものとしたが、るつぼ10の数はこれに限定されず、例えば、1個のみとしてもよいし、3個以上設けてもよい。   Further, in the present embodiment, the manufacturing apparatus 1 is provided with two crucibles 10 as evaporation sources, but the number of crucibles 10 is not limited to this. For example, only one or three or more crucibles may be provided. May be.

その他、本発明が上記実施の形態に限らず適宜変更可能であるのは勿論である。   In addition, it is needless to say that the present invention is not limited to the above embodiment and can be modified as appropriate.

次に、本発明にかかる放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法について、実施例を挙げて具体的に説明する。なお、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
[実施例1]
Next, an apparatus for manufacturing a radiation image conversion panel and a method for manufacturing a radiation image conversion panel according to the present invention will be specifically described with reference to examples. The embodiments of the present invention are not limited to these.
[Example 1]

本実施例においては、図1に示す放射線画像変換パネルの製造装置を使用して支持体の片面に輝尽性蛍光体(CsBr:0.0001Eu)を蒸着させ、輝尽性蛍光体層を形成した。なお、蒸発源としては、抵抗加熱式のるつぼを用い、支持体としては0.5mm厚のAl板(100mm×100mm)を使用した。また、支持体とるつぼとの間の距離は60cmとした。また、支持体から2cm離れた下方に、支持体の表面全体を覆うことが可能なシャッタ板とシャッタ板を巻き取る巻き取り機構を備える支持板シャッタを配した。
まず、前記輝尽性蛍光体を蒸着材料として各るつぼに充填するとともに、支持体ホルダに支持体を支持させた。
続いて、製造装置の真空容器の内部を一旦排気し、Arガスを導入して0.1Paに真空度を調整した後、支持体ホルダを回転させながら図示しない加熱ランプによって支持体を加熱し、その温度を100℃に保持した。
次いで、まず各るつぼを加熱して内部に収容されている輝尽性蛍光体を溶融させ、その後、支持体シャッタのシャッタ板を退避位置まで退避させた。
続いて各るつぼに設けられたるつぼシャッタのシャッタ板を退避位置まで退避させて真空容器内の蒸発領域に蒸気を発生させ、蒸着を30分間行った後るつぼシャッタを閉じて各るつぼからの蒸発を終了した。これにより、膜厚400μから成る実施例1の放射線画像変換パネルを製造した。
[実施例2]
In this embodiment, a stimulable phosphor layer is formed by vapor-depositing a stimulable phosphor (CsBr: 0.0001Eu) on one side of a support using the radiation image conversion panel manufacturing apparatus shown in FIG. did. A resistance heating crucible was used as the evaporation source, and a 0.5 mm thick Al plate (100 mm × 100 mm) was used as the support. The distance between the support and the crucible was 60 cm. In addition, a support plate shutter including a shutter plate that can cover the entire surface of the support and a winding mechanism that winds up the shutter plate is disposed below the support by 2 cm.
First, the stimulable phosphor was filled in each crucible as an evaporation material, and the support was supported by the support holder.
Subsequently, after evacuating the inside of the vacuum vessel of the manufacturing apparatus, introducing Ar gas and adjusting the degree of vacuum to 0.1 Pa, the support is heated by a heating lamp (not shown) while rotating the support holder, The temperature was kept at 100 ° C.
Next, each crucible was first heated to melt the stimulable phosphor housed therein, and then the shutter plate of the support shutter was retracted to the retracted position.
Subsequently, the shutter plate of the crucible shutter provided in each crucible is retracted to the retracted position to generate vapor in the evaporation region in the vacuum vessel. finished. Thereby, the radiation image conversion panel of Example 1 having a film thickness of 400 μm was manufactured.
[Example 2]

本実施例においては、図3に示す放射線画像変換パネルの製造装置を使用して支持体の片面に輝尽性蛍光体(CsBr:0.0001Eu)を蒸着させ、輝尽性蛍光体層を形成し、膜厚400μから成る放射線画像変換パネルを製造した。なお、製造装置の構成は、支持体シャッタが巻き取り機構を備えておらずガイドレールに沿って支持体の表面を覆う位置から支持体の表面にかからない退避位置まで退避するシャッタ板を備えていること以外は、実施例1と同様であり、また、その他の各条件についても実施例1と同様である。
なお、本実施例に用いた製造装置は、実施例1に用いた製造装置よりも支持体シャッタのシャッタ板を移動させる機構が単純であるため、シャッタ板の退避時に発生する粉塵等の発生は実施例1よりは少なかった。
[比較例]
In this example, a stimulable phosphor layer was formed by vapor-depositing a stimulable phosphor (CsBr: 0.0001Eu) on one side of a support using the radiation image conversion panel manufacturing apparatus shown in FIG. Thus, a radiation image conversion panel having a thickness of 400 μm was manufactured. Note that the configuration of the manufacturing apparatus includes a shutter plate that is not provided with a take-up mechanism and that is retracted from a position covering the surface of the support along the guide rail to a retreat position that does not cover the surface of the support. Except for this, it is the same as in Example 1, and the other conditions are also the same as in Example 1.
Note that the manufacturing apparatus used in this embodiment has a simpler mechanism for moving the shutter plate of the support shutter than the manufacturing apparatus used in Embodiment 1, so that dust generated when the shutter plate is retracted is not generated. Less than in Example 1.
[Comparative example]

支持体の側にシャッタを設けないこと以外は、実施例1及び実施例2と同様の構成の製造装置を用い、実施例1及び実施例2と同様の条件において膜厚400μから成る放射線画像変換パネルを製造した。   Except that the shutter is not provided on the support side, a radiographic image conversion having a film thickness of 400 μm is used under the same conditions as in the first and second embodiments, using a manufacturing apparatus having the same configuration as in the first and second embodiments. Panels were manufactured.

以上のようにして得られた各放射線画像変換パネルについて、輝尽性蛍光体層の表面に照明光をあてることにより輝尽性蛍光体層の表面に発生した突起状の異常成長物(図2参照)の大きさ、個数の計測を行った。

Figure 2006177702
About each radiation image conversion panel obtained by making it above, the projection-like abnormal growth (FIG. 2) which generate | occur | produced on the surface of the photostimulable phosphor layer by irradiating illumination light on the surface of the photostimulable phosphor layer. Size) and number of pieces were measured.
Figure 2006177702

以上、表1に示すように、支持体側に巻き取り機構を備えた支持体シャッタを設けた実施例1の場合には、輝尽性蛍光体層の表面に発生する50μm以上の大きさの突起状異常成長は1mmあたりに2個計測され、支持体側にガイドの沿って移動可能なシャッタ板を備えた支持体シャッタを設けた実施例2の場合には、輝尽性蛍光体層の表面に発生する50μm以上の大きさの突起状異常成長は1mmあたりに1個計測された。これに対して、比較例のように支持体側にシャッタを設けない場合には、輝尽性蛍光体層の表面に発生する50μm以上の大きさの突起状異常成長は1mmあたりに18個計測された。 As described above, as shown in Table 1, in the case of Example 1 in which a support shutter having a winding mechanism is provided on the support side, a protrusion having a size of 50 μm or more generated on the surface of the photostimulable phosphor layer In the case of Example 2 in which a support shutter having a shutter plate movable along the guide is provided on the support side, two abnormal growths are measured per 1 mm 2 , and the surface of the photostimulable phosphor layer One protrusion abnormal growth having a size of 50 μm or more occurring in 1 was measured per 1 mm 2 . On the other hand, when a shutter is not provided on the support side as in the comparative example, 18 abnormal protrusions with a size of 50 μm or more generated on the surface of the photostimulable phosphor layer are measured per 1 mm 2. It was done.

この結果から、るつぼシャッタを開けて輝尽性蛍光体の蒸着を開始するまでシャッタ板によって支持体を覆った場合には、支持体に浮遊物等が付着することを防止することができ、輝尽性蛍光体層の表面に発生する50μm以上の大きさの突起状異常成長の発生を抑えて高精度の放射線画像変換パネルを製造することができる。   From this result, when the support is covered with the shutter plate until the crucible shutter is opened and the deposition of the stimulable phosphor is started, it is possible to prevent the suspended matter from adhering to the support. A high-accuracy radiation image conversion panel can be produced by suppressing the occurrence of abnormal protrusions having a size of 50 μm or more generated on the surface of the stimulable phosphor layer.

本発明に係る放射線画像変換パネルの製造装置の一実施形態の概略構成を模式的に示した側面図である。It is the side view which showed typically schematic structure of one Embodiment of the manufacturing apparatus of the radiographic image conversion panel which concerns on this invention. 輝尽性蛍光体層の柱状結晶及び輝尽性蛍光体層の表面に発生する突起状異常成長の模式図である。It is a schematic diagram of the columnar crystal of the photostimulable phosphor layer and protrusion-like abnormal growth occurring on the surface of the photostimulable phosphor layer. 本発明に係る放射線画像変換パネルの製造装置の一実施形態の変形例の概略構成を模式的に示した側面図である。It is the side view which showed typically schematic structure of the modification of one Embodiment of the manufacturing apparatus of the radiographic image conversion panel which concerns on this invention. 従来の放射線画像変換パネルの製造装置の一例の概略構成を模式的に示した側面図である。It is the side view which showed typically schematic structure of an example of the manufacturing apparatus of the conventional radiographic image conversion panel.

符号の説明Explanation of symbols

1 放射線画像変換パネルの製造装置
2 支持体
3 真空容器
4 支持体ホルダ
9 支持体シャッタ
10 るつぼ
11 るつぼシャッタ
13 蒸発領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Radiation image conversion panel manufacturing apparatus 2 Support body 3 Vacuum container 4 Support body holder 9 Support body shutter 10 Crucible 11 Crucible shutter 13 Evaporation region

Claims (4)

真空容器と、
前記真空容器内に設けられ、支持体に蒸着させる蒸発材料を収容する蒸発源と、
前記蒸発源に対向し支持体を支持する支持体ホルダと、
前記蒸発源の開口を覆う被覆位置から前記蒸発源からの前記蒸発材料の蒸発を妨げない退避位置まで移動可能なシャッタ板を備える蒸発源シャッタと、
前記支持体ホルダに支持された前記支持体の表面を覆う被覆位置から前記支持体を露出させる退避位置まで移動可能なシャッタ板を備える支持体シャッタと、
を備えることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造装置。
A vacuum vessel;
An evaporation source provided in the vacuum vessel and containing an evaporation material to be deposited on a support;
A support holder facing the evaporation source and supporting the support;
An evaporation source shutter comprising a shutter plate movable from a covering position covering the opening of the evaporation source to a retracted position that does not prevent evaporation of the evaporation material from the evaporation source;
A support shutter comprising a shutter plate movable from a covering position covering the surface of the support supported by the support holder to a retracted position exposing the support;
An apparatus for manufacturing a radiation image conversion panel.
前記支持体シャッタは、前記シャッタ板を巻き取る巻き取り機構を備えたことを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造装置。   The radiographic image conversion panel manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the support shutter includes a winding mechanism that winds up the shutter plate. 前記支持体シャッタは、前記シャッタ板を前記支持体の表面を覆う被覆位置から前記支持体を露出させる退避位置まで案内するガイドレールを備えたことを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造装置。   The radiographic image conversion according to claim 1, wherein the support shutter includes a guide rail that guides the shutter plate from a covering position that covers a surface of the support to a retracted position that exposes the support. Panel manufacturing equipment. 真空容器内において、蒸発源から蒸発する蒸発材料を支持体に蒸着させる蒸着工程と、
蒸発源シャッタのシャッタ板を、前記蒸発源の開口を覆う被覆位置から前記蒸発源からの前記蒸発材料の蒸発を妨げない退避位置まで移動させる蒸発源シャッタ移動工程と、
支持体ホルダのシャッタ板を、前記支持体の表面を覆う被覆位置から前記支持体を露出させる退避位置まで移動させる支持体シャッタ移動工程と、
を備えることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
In a vacuum vessel, a vapor deposition step of depositing an evaporation material that evaporates from an evaporation source on a support,
An evaporation source shutter moving step of moving the shutter plate of the evaporation source shutter from a covering position covering the opening of the evaporation source to a retreat position that does not prevent evaporation of the evaporation material from the evaporation source;
A support shutter moving step of moving the shutter plate of the support holder from a covering position covering the surface of the support to a retracted position exposing the support;
A method for producing a radiation image conversion panel.
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