JP2006169117A - Amide compound and use thereof - Google Patents

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JP2006169117A
JP2006169117A JP2004359504A JP2004359504A JP2006169117A JP 2006169117 A JP2006169117 A JP 2006169117A JP 2004359504 A JP2004359504 A JP 2004359504A JP 2004359504 A JP2004359504 A JP 2004359504A JP 2006169117 A JP2006169117 A JP 2006169117A
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hydrogen atom
halogen atom
alkyl
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Yasushi Sakaguchi
裕史 阪口
Takeshi Komori
岳 小森
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new compound having efficacy in controlling plant disease injuries. <P>SOLUTION: The amide compound is represented by formula (1) (wherein, R<SP>1</SP>denotes a hydrogen atom, a halogen atom or the like; R<SP>2</SP>denotes a hydrogen atom, a halogen atom, a 1-6C alkyl group, a 1-6C haloalkyl group, a 2-6C alkenyl group, a 2-6C alkynyl group, a cyano group or a nitro group or R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>together denote a 3-6C alkylene group or the like; R<SP>3</SP>denotes a 1-4C alkyl group, a 1-4C haloalkyl group, a 3-4C alkenyl group, 3-6C alkynyl group or a 2-4C cyanoalkyl group; R<SP>4</SP>denotes a halogen atom, a 1-4C alkyl group, a 1-4C alkoxy group, a 1-4C haloalkoxy group, a 3-4C alkenyloxy group or a 3-4C alkynyloxy group; and R<SP>5</SP>denotes a hydrogen atom, a fluorine atom or a 1-3C alkyl group). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、アミド化合物及びその用途に関する。   The present invention relates to an amide compound and use thereof.

従来より、植物病害を防除するための薬剤の開発が行われ、植物病害に防除活性のある化合物が数多く見出されているが、その効力は必ずしも十分でない場合がある。
また、N−ベンジル−2−フェノキシ酢酸アミドが知られている。(例えば、特許文献1、特許文献2に記載の化合物)
特開昭63−162280 イギリス特許公開明細書 GB117485
Hitherto, drugs for controlling plant diseases have been developed, and many compounds having an activity for controlling plant diseases have been found, but their efficacy may not always be sufficient.
N-benzyl-2-phenoxyacetamide is also known. (For example, compounds described in Patent Document 1 and Patent Document 2)
JP 63-162280 A British Patent Specification GB117485

本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a compound having an excellent plant disease control effect.

本発明者等は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式(1)で示されるアミド化合物が優れた植物病害防除を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式(1)

Figure 2006169117
〔式中、
1は水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシ基、C3−C6アルケニルオキシ基、C3−C6アルキニルオキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、(C1−C6アルコキシ)C1−C6アルキル基、フェノキシC1−C6アルキル基、ヒドロキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルアミノ基、ジ(C1−C6アルキル)アミノ基、ホルミル基、(C1−C6アルキル)カルボニル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基、(C1−C6アルコキシ)イミノC1−C6アルキル基、ベンジルオキシイミノC1−C6アルキル基、フェニル基、フェノキシ基、シアノ基、アミノ基若しくはニトロ基(但し、フェノキシC1−C6アルキル基、フェニル基及びフェノキシ基におけるベンゼン環は、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基及びC1−C3アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよい)を表し、
2は水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6アルキニル基、シアノ基若しくはニトロ基を表すか、
あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基(R50、R51、R52及びR53は独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基、C1−C3アルコキシ基又はC1−C3ハロアルキル基を表す)を表し、
3はC1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C3−C4アルケニル基、C3−C6アルキニル基またはC2−C4シアノアルキル基を表し、
4はハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C3−C4アルケニルオキシ基又はC3−C4アルキニルオキシ基を表し、
5は水素原子、フッ素原子又はC1−C3アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物(以下、本発明化合物と記す。)、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。 As a result of intensive studies to find a compound having an excellent plant disease control effect, the present inventors have found that the amide compound represented by the following formula (1) has an excellent plant disease control and completed the present invention. .
That is, the present invention provides the formula (1)
Figure 2006169117
[Where,
R 1 is a hydrogen atom, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C3-C6 cycloalkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C2-C6 alkenyl group, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group, C2-C6 Haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group, C3-C6 alkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group, C1-C6 haloalkoxy group, (C1-C6 alkoxy) C1-C6 alkyl group, phenoxy C1-C6 alkyl group, Hydroxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylamino group, di (C1-C6 alkyl) amino group, formyl group, (C1-C6 alkyl) carbonyl group, C1-C6 alkoxy) carbonyl group, (C1-C6 alkoxy) imino 1-C6 alkyl group, benzyloxyimino C1-C6 alkyl group, phenyl group, phenoxy group, cyano group, amino group or nitro group (however, the benzene ring in the phenoxy C1-C6 alkyl group, phenyl group and phenoxy group is halogenated) And optionally substituted with a group selected from an atom, a C1-C3 alkyl group and a C1-C3 alkoxy group),
R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a cyano group or a nitro group,
Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or a —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group (R 50 , R 51 , R 52 and R 53 are independently Represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 alkoxy group or a C1-C3 haloalkyl group),
R 3 represents a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C3-C4 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group or a C2-C4 cyanoalkyl group,
R 4 represents a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy group, a C1-C4 haloalkoxy group, a C3-C4 alkenyloxy group or a C3-C4 alkynyloxy group,
R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a C1-C3 alkyl group. ]
A plant disease control agent characterized by containing the compound of the present invention as an active ingredient, and treating the plant or soil with an effective amount of the compound of the present invention. Provided is a method for controlling plant diseases.

本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。   Since the compound of the present invention has an excellent plant disease control effect, it is useful as an active ingredient of a plant disease control agent.

本発明において、
1で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、
C1−C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基のC1−C4アルキル基;ペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4ーメチルペンチル基、ヘキシル等のC5−C6アルキル基が挙げられ,
C3−C6シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロヘキシル基が挙げられ、
C1−C6ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等のC1−C4ハロアルキル基が挙げられ、
C2−C6アルケニル基としては、例えばビニル基、1−メチルビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等のC2−C4アルケニル基;1−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基等のC5−C6アルケニル基が挙げられ、
C2−C6ハロアルケニル基としては、例えば2−フルオロビニル基、2−クロロビニル基、2−ブロモビニル基、2,2−ジフルオロビニル基、2,2−ジクロロビニル基、2,2−ジブロモビニル基、1−メチル−2,2−ジクロロビニル基、1−メチル−2,2−ジブロビニル基が挙げられ、
C2−C6アルキニル基としては、例えばエチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等のC2−C4アルキニル基;3、3−ジメチル−1−ブチニル基、1−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基等のC5−C6アルケニル基が挙げられ、
C2−C6ハロアルキニル基としては、例えばクロルエチニル基、ブロムエチニル基、ヨウドエチニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基が挙げられ、
C1−C6アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基のC1−C4アルコキシ基;ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等のC5−C6アルコキシ基が挙げられ、
C3−C6アルケニルオキシ基としては、例えば2−プロペニルオキシ基、1−メチル−2−プロペニルオキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、5−ヘキセニルオキシ基が挙げられ、
C3−C6アルキニルオキシ基としては、例えば2−プロピニルオキシ基、1−メチル−2−プロピニルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、3−ブチニルオキシ基、3−ペンチニルオキシ基、4−ペンチニルオキシ基、5−ヘキシニルオキシ基が挙げられ、
C1−C6ハロアルコキシ基としては、例えばフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロルメチル基、ジクロルメチル基、トリクロルメチル基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、2−フルオロエトキシ基等のC1−C4ハロアルコキシ基が挙げられ、
(C1−C6アルコキシ)C1−C6アルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロピルオキシメチル基、1−メトキシエチル基、2−メトキシエチル基、2−メトキシプロピル基、2−メトキシイソプロピル基が挙げられ,
In the present invention,
Examples of the halogen atom represented by R 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
C1-C6 alkyl group includes methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group C1-C4 alkyl group; pentyl group, 2-methylpentyl group A C5-C6 alkyl group such as 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, hexyl,
Examples of the C3-C6 cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
Examples of the C1-C6 haloalkyl group include C1-C4 haloalkyl groups such as a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group.
Examples of the C2-C6 alkenyl group include a vinyl group, 1-methylvinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, and 2-butenyl group. C2-C4 alkenyl groups such as 3-butenyl group; C5-C6 alkenyl groups such as 1-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, 5-hexenyl group, and the like.
Examples of the C2-C6 haloalkenyl group include a 2-fluorovinyl group, a 2-chlorovinyl group, a 2-bromovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 2,2-dichlorovinyl group, and a 2,2-dibromovinyl group. 1-methyl-2,2-dichlorovinyl group, 1-methyl-2,2-dibrovinyl group,
Examples of the C2-C6 alkynyl group include C2-C4 such as ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, and 3-butynyl group. Alkynyl group; C5-C6 alkenyl group such as 3,3-dimethyl-1-butynyl group, 1-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexynyl group, 5-hexynyl group, etc.
Examples of the C2-C6 haloalkynyl group include a chloroethynyl group, a bromoethynyl group, an iodoethynyl group, a 2-propynyl group, and a 2-butynyl group.
Examples of the C1-C6 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a C1-C4 alkoxy group of a tert-butoxy group; a pentyloxy group, a hexyloxy group C5-C6 alkoxy groups such as groups,
Examples of the C3-C6 alkenyloxy group include 2-propenyloxy group, 1-methyl-2-propenyloxy group, 2-methyl-2-propenyloxy group, 2-butenyloxy group, 3-butenyloxy group, and 4-pentenyloxy. Group, 5-hexenyloxy group,
Examples of the C3-C6 alkynyloxy group include 2-propynyloxy group, 1-methyl-2-propynyloxy group, 2-butynyloxy group, 3-butynyloxy group, 3-pentynyloxy group, 4-pentynyloxy group, A 5-hexynyloxy group,
Examples of the C1-C6 haloalkoxy group include a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, 1,1,2, C1-C4 haloalkoxy groups such as 2-tetrafluoroethoxy group and 2-fluoroethoxy group are mentioned,
(C1-C6 alkoxy) As C1-C6 alkyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propyloxymethyl group, 1-methoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-methoxyisopropyl group Are mentioned,

ベンゼン環がハロゲン原子、C1−C3アルキル基及びC1−C3アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいフェノキシC1−C6アルキル基としては、フェノキシメチル基、4−クロロフェノキシメチル基、4−メチルフェノキシメチル基、4−メトキシフェノキシメチル基、1−フェノキシエチル基、2−フェノキシエチル基、1−フェノキシプロピル基、3−フェノキシプロピル基、4−フェノキシブチル基が挙げられ、
ヒドロキシC1−C6アルキル基としては、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒロロキシプロピル基、1−ヒドロロキシブチル基が挙げられ、
C1−C6アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基が挙げられ、
C1−C6ハロアルキルチオ基としては、例えばフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基が挙げられ、
C1−C6アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基等のC1−C4アルキルアミノ基;ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基等のC5−C6アルキルアミノ基が挙げられ、
ジ(C1−C6アルキル)アミノ基としては、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基等のC1−C4ジアルキルアミノ基;ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基等のC5−C6ジアルキルアミノ基が挙げられ、
(C1−C6アルキル)カルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基が挙げられ、
(C1−C6アルコキシ)カルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基が挙げられ、
(C1−C6アルコキシ)イミノC1−C6アルキル基としては、メトキシイミノメチル基、1−(メトキシイミノ)エチル基、1−(メトキシイミノ)プロピル基、1−(メトキシイミノ)ブチル基、エトキシイミノメチル基、1−(エトキシイミノ)エチル基、プロポキシイミノメチル基、1−(イソプロポキシイミノ)エチル基、ブトキシイミノメチル基、ペンチルオキシイミノメチル基、1−(ヘキシルオキシイミノ)エチル基が挙げられ、
ベンジルオキシイミノC1−C6アルキル基としては、ベンジルオキシイミノメチル基、1−(ベンジルオキシイミノ)エチル基、2−(ベンジルオキシイミノ)エチル基、1−(ベンジルオキシイミノ)プロピル基、1−(ベンジルオキシイミノ)ブチル基が挙げられ、
ベンゼン環部分がハロゲン原子、C1−C3アルキル基及びC1−C3アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいフェニル基としては、フェニル基、4−クロロフェニル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基が挙げられ、
ベンゼン環部分がハロゲン原子、C1−C3アルキル基及びC1−C3アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいフェノキシ基としては、フェノキシ基、4−クロロフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基が挙げられる。
Examples of the phenoxy C1-C6 alkyl group in which the benzene ring may be substituted with a group selected from a halogen atom, a C1-C3 alkyl group and a C1-C3 alkoxy group include a phenoxymethyl group, a 4-chlorophenoxymethyl group, 4- Methylphenoxymethyl group, 4-methoxyphenoxymethyl group, 1-phenoxyethyl group, 2-phenoxyethyl group, 1-phenoxypropyl group, 3-phenoxypropyl group, 4-phenoxybutyl group,
Examples of the hydroxy C1-C6 alkyl group include a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-hydroxypropyl group, and a 1-hydroxybutyl group.
Examples of the C1-C6 alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, a butylthio group, an isobutylthio group, a sec-butylthio group, a tert-butylthio group, a pentylthio group, and a hexylthio group.
Examples of the C1-C6 haloalkylthio group include a fluoromethylthio group, a difluoromethylthio group, and a trifluoromethylthio group.
Examples of the C1-C6 alkylamino group include a C1-C4 alkylamino group such as a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, and an isopropylamino group; and a C5-C6 alkylamino group such as a pentylamino group and a hexylamino group. Named,
Examples of the di (C1-C6 alkyl) amino group include C1-C4 dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group and dipropylamino group; C5-C6 dialkylamino groups such as dipentylamino group and dihexylamino group. And
Examples of the (C1-C6 alkyl) carbonyl group include a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, and an isopropylcarbonyl group.
Examples of the (C1-C6 alkoxy) carbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and an isopropoxycarbonyl group.
(C1-C6 alkoxy) imino C1-C6 alkyl group includes methoxyiminomethyl group, 1- (methoxyimino) ethyl group, 1- (methoxyimino) propyl group, 1- (methoxyimino) butyl group, ethoxyiminomethyl Group, 1- (ethoxyimino) ethyl group, propoxyiminomethyl group, 1- (isopropoxyimino) ethyl group, butoxyiminomethyl group, pentyloxyiminomethyl group, 1- (hexyloxyimino) ethyl group,
Examples of the benzyloxyimino C1-C6 alkyl group include a benzyloxyiminomethyl group, 1- (benzyloxyimino) ethyl group, 2- (benzyloxyimino) ethyl group, 1- (benzyloxyimino) propyl group, 1- ( Benzyloxyimino) butyl group,
Examples of the phenyl group in which the benzene ring portion may be substituted with a halogen atom, a C1-C3 alkyl group and a C1-C3 alkoxy group include a phenyl group, a 4-chlorophenyl group, a 4-methylphenyl group, 4- A methoxyphenyl group,
Examples of the phenoxy group in which the benzene ring portion may be substituted with a group selected from a halogen atom, a C1-C3 alkyl group and a C1-C3 alkoxy group include a phenoxy group, a 4-chlorophenoxy group, a 4-methylphenoxy group, 4 -A methoxyphenoxy group is mentioned.

2で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、
C1−C6アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基のC1−C4アルキル基;ペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4ーメチルペンチル基、ヘキシル基等のC5−C6アルキル基が挙げられ、
C1−C6ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基が挙げられ、
C2−C6アルケニル基としては、例えばビニル基、1−メチルビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等のC2−C4アルケニル基;1−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基等のC5−C6アルキル基が挙げられ、
C2−C6アルキニル基としては、例えばエチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等のC2−C4アルキニル基;1−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基等のC5−C6アルキニル基が挙げられ;
1とR2とが一緒になったC3−C6アルキレン基としては、例えばトリメチレン基、テトラエチレン基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、ペンタメチレン基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等のC3−C5アルキレン基およびヘキサメチレン基が挙げられる。
50、R51、R52及びR53で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、C1−C3アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられ、C1−C3アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基が挙げられ、C1−C3ハロアルキル基としては、例えばトリフルオロメチル基が挙げられる。
1とR2とが一緒になった−CR50=CR51−CR52=CR53−基としては、−CH=CH−CH=CH−基、−CH=CCl−CH=CH−基、−CH=CCl−CCl=CH−基、−CH=C(CH3)−CH=CH−基、−CH=C(CH3)−C(CH3)=CH−基、−CH=C(OCH3)−CH=CH−基、−CH=C(CF3)−CH=CH−基が挙げられる。
Examples of the halogen atom represented by R 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the C1-C6 alkyl group include a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group C1-C4 alkyl group; pentyl group, 2-methylpentyl group C5-C6 alkyl groups such as a group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, and hexyl group,
Examples of the C1-C6 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group.
Examples of the C2-C6 alkenyl group include a vinyl group, 1-methylvinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, and 2-butenyl group. C2-C4 alkenyl groups such as 3-butenyl group; C5-C6 alkyl groups such as 1-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, 5-hexenyl group, and the like.
Examples of the C2-C6 alkynyl group include C2-C4 such as ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, and 3-butynyl group. Alkynyl groups; C5-C6 alkynyl groups such as 1-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexynyl group, 5-hexynyl group;
Examples of the C3-C6 alkylene group in which R 1 and R 2 are combined include, for example, trimethylene group, tetraethylene group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, pentamethylene group, 2-methylbutane-1,4. -C3-C5 alkylene groups such as diyl groups and hexamethylene groups.
Examples of the halogen atom represented by R 50 , R 51 , R 52 and R 53 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and examples of the C1-C3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group and a propyl group. , An isopropyl group, examples of the C1-C3 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, and an isopropyloxy group, and examples of the C1-C3 haloalkyl group include a trifluoromethyl group.
As —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group in which R 1 and R 2 are combined, —CH═CH—CH═CH— group, —CH═CCl—CH═CH— group, -CH = CCl-CCl = CH- group, -CH = C (CH 3) -CH = CH- group, -CH = C (CH 3) -C (CH 3) = CH- group, -CH = C ( OCH 3 ) —CH═CH— group, —CH═C (CF 3 ) —CH═CH— group.

3で示される
C1−C4アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基が挙げられ、
C1−C4ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、2−フルオロエチル基が挙げられ、
C3−C4アルケニル基としては、例えば2−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基が挙げられ、
C3−C6アルキニル基としては、例えば2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基のC3−C4アルキニル基;1,1−ジメチル−2−プロピニル基、1−メチル−2−ブチニル基、2−ペンチニル基、1−メチル−2−ペンチニル基、4−メチル−2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、2−ヘキシニル基、3−ヘキシニル基等のC5−C6アルキニル基が挙げられ、
C2−C4シアノアルキル基としては、例えばシアノメチル基、シアノエチル基、シアノプロピル基、1−メチルシアノメチル基、1,1−ジメチルシアノメチル基が挙げられる。
Examples of the C1-C4 alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
Examples of the C1-C4 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, and 2-fluoroethyl. Groups,
Examples of the C3-C4 alkenyl group include a 2-propenyl group, a 1-methyl-2-propenyl group, a 2-methyl-2-propenyl group, a 2-butenyl group, and a 3-butenyl group.
Examples of the C3-C6 alkynyl group include 2-propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 2-butynyl group, C3-C4 alkynyl group of 3-butynyl group; 1,1-dimethyl-2-propynyl group, 1-methyl-2-butynyl group, 2-pentynyl group, 1-methyl-2-pentynyl group, 4-methyl-2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 2-hexynyl group, 3-hexynyl C5-C6 alkynyl group such as a group,
Examples of the C2-C4 cyanoalkyl group include a cyanomethyl group, a cyanoethyl group, a cyanopropyl group, a 1-methylcyanomethyl group, and a 1,1-dimethylcyanomethyl group.

4で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、
C1−C4アルキル基としては、メチル基、エチル基のC1−C2アルキル基;プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基のC3−C4アルキル基が挙げられ、
C1−C4アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基のC1−C2アルコキシ基;プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基のC3−C4アルコキシ基が挙げられ、
C1−C4ハロアルコキシ基としては、例えばフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、2−フルオロエトキシ基が挙げられ、
C3−C4アルケニルオキシ基としては、例えば2−プロペニルオキシ基、1−メチル−2−プロペニルオキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基が挙げられ、
C3−C4アルキニルオキシ基としては、例えば2−プロピニルオキシ基、1−メチル−2−プロピニルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、3−ブチニルオキシ基が挙げられ、
5で示される
C1−C3アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基である。
Examples of the halogen atom represented by R 4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the C1-C4 alkyl group include a C1-C2 alkyl group of a methyl group or an ethyl group; a C3-C4 alkyl group of a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group. ,
Examples of the C1-C4 alkoxy group include a C1-C2 alkoxy group of a methoxy group and an ethoxy group; a C3-C4 alkoxy group of a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group. And
Examples of the C1-C4 haloalkoxy group include a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy group, and a 2-fluoro group. An ethoxy group,
Examples of the C3-C4 alkenyloxy group include a 2-propenyloxy group, a 1-methyl-2-propenyloxy group, a 2-methyl-2-propenyloxy group, a 2-butenyloxy group, and a 3-butenyloxy group.
Examples of the C3-C4 alkynyloxy group include a 2-propynyloxy group, a 1-methyl-2-propynyloxy group, a 2-butynyloxy group, and a 3-butynyloxy group.
The C1-C3 alkyl group represented by R 5 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group.

本発明の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。
式(1)において、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
As an aspect of this invention, the following compounds are mention | raise | lifted, for example.
An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound represented by formula (1), wherein R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
An amide compound in which R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 4 is a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 4 is a C1-C4 alkoxy group and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 4 is a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 4 is a methoxy group and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound represented by formula (1), wherein R 3 is a C3-C6 alkynyl group;
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group in the formula (1);
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group in formula (1), R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group in formula (1), R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group and R 4 is a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group and R 4 is a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);

式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group in formula (1), R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group in formula (1), R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group and R 4 is a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound represented by formula (1), wherein R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group and R 4 is a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. Amido compounds wherein CR 52 = CR 53 -group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 — and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 — and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 = CR 53 -and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 — and R 4 is a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 — and R 4 is a methoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 = CR 53 -and R 3 is a C3-C6 alkynyl group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. CR 52 = CR 53 - a group, R 3 is C3-C6 alkynyl group, R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or A C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 taken together are a C3-C6 alkylene group or a —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 5 is a hydrogen atom. An amide compound;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a methoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 — and R 3 is a 2-propynyl group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a 2-propynyl group, and R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であるアミド化合物;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 = CR 53 -group, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom; ;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. CR 52 = CR 53 -group, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or An amide compound in which R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is 2-propynyl, and R 4 is methoxy;
In the formula (1), R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —. An amide compound in which CR 52 ═CR 53 —, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom in formula (1);

式(1)において、R2が水素原子であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom in formula (1), R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom in formula (1), R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and R 4 is a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom in formula (1), R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and R 4 is a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a C3-C6 alkynyl group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
In Formula (1), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom. An amide compound;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom in formula (1), R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound represented by formula (1), wherein R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom in formula (1), R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom in formula (1), R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a methoxy group;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a 2-propynyl group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);

式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
In Formula (1), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom. An amide compound;
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a methoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom in formula (1);
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), and R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group. An amide compound;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group. An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is hydrogen An amide compound that is an atom;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group and R 4 is a C1-C4 alkoxy group in formula (1);
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom. An amide compound;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), and R 4 is a methoxy group;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), and R 3 is a C3-C6 alkynyl group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 5 is a hydrogen atom. An amide compound;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a halogen atom, C1 An amide compound which is a C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a halogen atom, C1 -C4 alkyl or C1-C4 alkoxy groups, amide compounds wherein R 5 is hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a chlorine atom, methyl An amide compound which is a group or a methoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a chlorine atom, methyl An amide compound which is a group or a methoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group. An amide compound as a group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group. An amide compound wherein R 5 is a hydrogen atom;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a methoxy group. An amide compound;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is a methoxy group An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), and R 3 is a 2-propynyl group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 5 is a hydrogen atom Compound;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a halogen atom, C1- An amide compound which is a C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a halogen atom, C1- An amide compound which is a C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group Or an amide compound which is a methoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group Or an amide compound which is a methoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group. An amide compound;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group. An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a methoxy group Compound;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 3 is a 2-propynyl group, R 4 is a methoxy group, An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Or an amide compound in which R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Or an amide compound in which R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or C1- An amide compound which is a C4 alkoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or C1- An amide compound which is a C4 alkoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group. Compound;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Or R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group; An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, an amide compound in which R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is An amide compound which is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Or an amide compound in which R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 4 is a methoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are combined to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 4 is a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom. An amide compound;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, an amide compound in which R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 5 is An amide compound which is a hydrogen atom;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is An amide compound which is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is A halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 are taken together to form a C3- An amide compound having a C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is An amide compound which is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is An amide compound which is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is An amide compound which is a C1-C4 alkoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is An amide compound which is a C1-C4 alkoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is An amide compound which is a methoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, and R 4 is An amide compound which is a methoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Or an amide compound in which R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, and R 3 is a 2-propynyl group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 5 is hydrogen. An amide compound that is an atom;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であるか、あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a halogen atom. An amide compound which is an atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is a halogen atom. An amide compound which is an atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is chlorine. An amide compound which is an atom, a methyl group or a methoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is chlorine. An amide compound which is an atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is C1. An amide compound which is a C4 alkoxy group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is C1. -C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 together, C3-C6 alkylene or -CR 50 = CR 51 An amide compound in which —CR 52 ═CR 53 — and R 5 is a hydrogen atom;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is methoxy. An amide compound as a group;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group, R 3 is a 2-propynyl group, and R 4 is methoxy. An amide compound wherein R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), and R 2 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), R 2 is a hydrogen atom, and R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a halogen atom, C1-C4 alkyl An amide compound which is a group or a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a halogen atom, C1-C4 alkyl An amide compound which is a group or a C1-C4 alkoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group An amide compound as a group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group An amide compound wherein R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group. An amide compound;
In Formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 4 is a C1-C4 alkoxy group. An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;
An amide compound in which R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group in formula (1), R 2 is a hydrogen atom, and R 4 is a methoxy group;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a methoxy group, R 5 An amide compound in which is a hydrogen atom;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound wherein R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound wherein R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound wherein R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound wherein R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound wherein R 4 is a C1-C4 alkoxy group;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound wherein R 4 is a C1-C4 alkoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound in which R 4 is a methoxy group;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a C3-C6 alkynyl group. An amide compound wherein R 4 is a methoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a 2-propynyl group Compound;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom;

式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がハロゲン原子、C1−C4アルキル基又はC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4が塩素原子、メチル基又はメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であるアミド化合物;
式(1)において、R1がハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4アルコキシ基であり、R2が水素原子であり、R3が2−プロピニル基であり、R4がメトキシ基であり、R5が水素原子であるアミド化合物;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a chlorine atom, a methyl group or a methoxy group, and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a C1-C4 alkoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a C1-C4 alkoxy group and R 5 is a hydrogen atom;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a methoxy group;
In the formula (1), R 1 is a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group or a C1-C4 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a 2-propynyl group, An amide compound in which R 4 is a methoxy group and R 5 is a hydrogen atom;

次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の(製造法1)〜(製造法4)により製造することができる。
Next, the manufacturing method of this invention compound is demonstrated.
The compound of the present invention can be produced, for example, by the following (Production Method 1) to (Production Method 4).

(製造法1)
本発明化合物は、式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下、反応させることにより製造することができる。

Figure 2006169117
〔式中、R1、R2、R3、R4及びR5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン(以下、THFと記す場合がある。)、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと記す場合がある。)等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(以下、WSCと記す。)、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
式(2)で示される化合物1モルに対して、式(3)で示される化合物が通常1〜3モルの割合、脱水縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常0〜140℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過した後、濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 1)
The compound of the present invention can be produced by reacting the compound represented by the formula (2) with the compound represented by the formula (3) in the presence of a dehydration condensing agent.
Figure 2006169117
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include tetrahydrofuran (hereinafter sometimes referred to as THF), ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide (hereinafter sometimes referred to as DMF) And acid amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
Examples of the dehydrating condensing agent used in the reaction include carbodiimides such as 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (hereinafter referred to as WSC) and 1,3-dicyclohexylcarbodiimide.
The compound represented by the formula (3) is usually used in a proportion of 1 to 3 mol and the dehydrating condensing agent is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (2).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 140 ° C., and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention can be isolated by performing post-treatment operations such as filtration of the reaction mixture, extraction of the filtrate with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound of the present invention can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(製造法2)
本発明化合物は、式(2)で示される化合物と式(4)で示される化合物とを、塩基の存在下、反応させることにより製造することができる。

Figure 2006169117
〔式中、R1、R2、R3、R4及びR5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等があげられる。
式(2)で示される化合物1モルに対して、式(4)で示される化合物が通常1〜3モルの割合、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 2)
The compound of the present invention can be produced by reacting the compound represented by the formula (2) with the compound represented by the formula (4) in the presence of a base.
Figure 2006169117
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, And halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof. .
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine, and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine. It is done.
The compound represented by the formula (4) is usually used in a proportion of 1 to 3 mol and the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (2).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound of the present invention can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(製造法3)
本発明化合物は、式(5)で示される化合物と式(6)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2006169117
〔式中、R1、R2、R3、R4及びR5は前記と同じ意味を表し、L1は塩素原子、臭素原子を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。該反応は塩基の存在下に反応を行ってもよい。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
式(5)で示される化合物1モルに対して、式(6)で示される化合物が通常1〜2モルの割合であり、塩基が通常1〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 3)
The compound of the present invention can be produced by reacting the compound represented by the formula (5) with the compound represented by the formula (6).
Figure 2006169117
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent the same meaning as described above, and L 1 represents a chlorine atom or a bromine atom. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. The reaction may be performed in the presence of a base.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, etc. Examples thereof include acid amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, water, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate, and alkali metal hydrides such as sodium hydride.
The compound represented by the formula (6) is usually used in a proportion of 1 to 2 mol and the base is usually used in a proportion of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (5).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound of the present invention can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(製造法4)
本発明化合物は、式(7)で示される化合物と式(10)
3−L2 (10)
〔式中、R3は前記と同じ意味を表し、L2は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはメタンスルホニルオキシ基を表す。〕
で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2006169117
〔式中、R1、R2、R3、R4及びR5は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
式(7)で示される化合物1モルに対して、式(10)で示される化合物が通常1〜2モルの割合、塩基が通常1〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production Method 4)
The compound of the present invention includes a compound represented by formula (7) and formula (10)
R 3 -L 2 (10)
[Wherein R 3 represents the same meaning as described above, and L 2 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a methanesulfonyloxy group. ]
It can manufacture by making the compound shown by react.
Figure 2006169117
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, dimethyl Examples thereof include sulfoxides such as sulfoxide, water, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate, and alkali metal hydrides such as sodium hydride.
The compound represented by the formula (10) is usually used in a proportion of 1 to 2 mol and the base is usually used in a proportion of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (7).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound of the present invention can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

本発明化合物の製造に用いる中間体の一部は、市販されているか、公知の文献等に開示のある化合物である。本発明の中間体は例えば下記の方法により製造することができる。
(中間体製造法1)
式(3)で示される化合物及び式(4)で示される化合物は、下記の式に示される方法にて製造することができる。

Figure 2006169117
〔式中、R3、R4及びR5は前記と同じ意味を表し、L4は塩素原子、臭素原子を表す。〕 Some of the intermediates used in the production of the compound of the present invention are commercially available or disclosed in known literatures. The intermediate of the present invention can be produced, for example, by the following method.
(Intermediate production method 1)
The compound represented by the formula (3) and the compound represented by the formula (4) can be produced by the method represented by the following formula.
Figure 2006169117
[Wherein R 3 , R 4 and R 5 represent the same meaning as described above, and L 4 represents a chlorine atom or a bromine atom. ]

(工程1)
式(M2)で示される化合物は、J.Org.Chem. 2003年,68,9116-9118頁に記載の方法に準じて、式(M1)で示される化合物とチオシアン酸ナトリウムとを、臭素と臭化ナトリウムの存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられる。
式(M1)で示される化合物1モルに対して、チオシアン酸ナトリウムが通常1〜5モルの割合、臭素が通常1〜2モルの割合、臭化ナトリウムが通常1〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜30℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(M2)で示される化合物を単離することができる。単離された式(M2)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Process 1)
In accordance with the method described in J. Org. It can be produced by reacting in the presence of sodium bromide.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used for the reaction include alcohols such as methanol and ethanol.
Sodium thiocyanate is usually used in a proportion of 1 to 5 mol, bromine is usually used in a proportion of 1 to 2 mol, and sodium bromide is usually used in a proportion of 1 to 2 mol relative to 1 mol of the compound represented by the formula (M1). .
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 30 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (M2) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (M2) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(工程2)
式(M3)で示される化合物は、式(M2)で示される化合物を水素化リチウムアルミニウムと反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
式(M2)で示される化合物1モルに対して、水素化リチウムアルミニウが通常0.5〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜50℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(M3)で示される化合物を単離することができる。単離された式(M3)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Process 2)
The compound represented by the formula (M3) can be produced by reacting the compound represented by the formula (M2) with lithium aluminum hydride.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and mixtures thereof.
Lithium aluminum hydride is usually used at a ratio of 0.5 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M2).
The reaction temperature is usually in the range of −20 to 50 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (M3) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (M3) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(工程3)
式(M4)で示される化合物は、式(M3)で示される化合物と式(M3−1)で示される化合物を、塩基の存在下、反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
式(M3)で示される化合物1モルに対して、式(M3−1)で示される化合物が通常1〜2モルの割合、塩基が通常1〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(M4)で示される化合物を単離することができる。単離された式(M4)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Process 3)
The compound represented by the formula (M4) can be produced by reacting the compound represented by the formula (M3) and the compound represented by the formula (M3-1) in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, dimethyl Examples thereof include sulfoxides such as sulfoxide, water, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydrides such as sodium hydride.
The compound represented by the formula (M3-1) is usually used at a ratio of 1 to 2 mol and the base is usually used at a ratio of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M3).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (M4) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (M4) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(工程4)
式(M5)で示される化合物は、式(M4)で示される化合物と式(M4−1)
3−L2 (M4−1)
〔式中、R3及びL2は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物とを、塩基の存在下、反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
式(M4)で示される化合物1モルに対して、式(M4−1)で示される化合物が通常1〜2モルの割合、塩基が通常1〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(M5)で示される化合物を単離することができる。単離された式(M5)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Process 4)
The compound represented by the formula (M5) includes the compound represented by the formula (M4) and the formula (M4-1).
R 3 -L 2 (M4-1)
[Wherein R 3 and L 2 represent the same meaning as described above. ]
It can manufacture by making it react with the compound shown by presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, dimethyl Examples thereof include sulfoxides such as sulfoxide, water, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydrides such as sodium hydride.
The compound represented by the formula (M4-1) is usually used in a proportion of 1 to 2 mol and the base is usually used in a proportion of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M4).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (M5) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (M5) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(工程5)
式(3)で示される化合物は、式(M5)で示される化合物と水とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類等があげられる。
式(M5)で示される化合物1モルに対して、水が通常1モル〜大過剰の割合、塩基が通常1〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常0〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(3)で示される化合物を単離することができる。単離された式(3)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Process 5)
The compound represented by the formula (3) can be produced by reacting the compound represented by the formula (M5) with water in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, alcohols such as methanol and ethanol, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, potassium hydroxide and sodium hydroxide.
Water is usually used in a proportion of 1 mol to a large excess and a base is usually used in a proportion of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by formula (M5).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (3) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (3) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(工程6)
式(4)で示される化合物は、式(3)で示される化合物と塩化チオニルとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
式(3)で示される化合物1モルに対して、塩化チオニルが通常1モル〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常20〜150℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(4)で示される化合物を単離することができる。単離された式(4)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Step 6)
The compound represented by the formula (4) can be produced by reacting the compound represented by the formula (3) with thionyl chloride.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, and mixtures thereof.
Thionyl chloride is usually used in a ratio of 1 mol to 10 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (3).
The reaction temperature is usually in the range of 20 to 150 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (4) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (4) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(中間体製造法2)

Figure 2006169117
〔式中、L1、R1、R2、R4及びR5は前記と同じ意味を表す。〕 (Intermediate production method 2)
Figure 2006169117
[Wherein, L 1 , R 1 , R 2 , R 4 and R 5 represent the same meaning as described above. ]

(工程1)
式(5)で示される化合物は、式(M9)で示される化合物とカルボジイミド化合物との反応物に、更に式(M8)で示される化合物を反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられるカルボジイミド化合物としては、WSCがあげられる。
式(M9)で示される化合物1モルに対して、式(M8)で示される化合物が通常0.5〜1モルの割合、カルボジイミド化合物が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜80℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことで、式(5)で示される化合物を単離することができる。単離された式(5)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Process 1)
The compound represented by the formula (5) can be produced by further reacting the compound represented by the formula (M8) with the reaction product of the compound represented by the formula (M9) and the carbodiimide compound.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and the like. These mixtures can be mentioned.
Examples of the carbodiimide compound used for the reaction include WSC.
The compound represented by the formula (M8) is usually used in a proportion of 0.5 to 1 mol and the carbodiimide compound is usually used in a proportion of 1 to 5 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M9).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 80 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (5) can be isolated by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can. The isolated compound represented by the formula (5) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(工程2)
式(7)で示される化合物は、式(5)で示される化合物と式(M10)で示れる化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。該反応は塩基の存在下に反応を行ってもよい。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いてもよい塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
式(5)で示される化合物1モルに対して、式(M10)で示される化合物が通常1〜5モルの割合、塩基が通常1〜2モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常30〜150℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことで、式(7)で示される化合物を単離することができる。単離された式(7)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(Process 2)
The compound represented by the formula (7) can be produced by reacting the compound represented by the formula (5) with the compound represented by the formula (M10).
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. The reaction may be performed in the presence of a base.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, etc. Examples thereof include acid amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, water, and mixtures thereof.
Examples of the base that may be used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydrides such as sodium hydride.
The compound represented by the formula (M10) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol and the base is usually used in a proportion of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (5).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 30 to 150 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (7) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (7) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

(中間体製造法3)
式(2)で示される化合物は、例えば式(M20)で示される化合物と還元剤とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2006169117
[式中、R1及びR2は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド等の金属水素化物が挙げられる。
式(M20)で示される化合物1モルに対して、還元剤は通常0.5〜5モルの割合で用いられるが、還元剤の種類により適宜変更することができる。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて塩基性水(水酸化ナトリウム水溶液等)で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(2)で示される化合物を単離することができる。単離された式(2)で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。 (Intermediate production method 3)
The compound represented by the formula (2) can be produced, for example, by reacting the compound represented by the formula (M20) with a reducing agent.
Figure 2006169117
[Wherein, R 1 and R 2 represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and aromatics such as toluene and xylene. Group hydrocarbons and mixtures thereof.
Examples of the reducing agent used in the reaction include metal hydrides such as lithium aluminum hydride and diisobutylaluminum hydride.
The reducing agent is usually used in a proportion of 0.5 to 5 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M20), but can be appropriately changed depending on the kind of the reducing agent.
After completion of the reaction, the reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent, and the organic layer is washed with basic water (sodium hydroxide aqueous solution, etc.) as necessary, and then dried and concentrated. By performing the operation, the compound represented by the formula (2) can be isolated. The isolated compound represented by the formula (2) can be further purified by operations such as distillation and chromatography.

(中間体製造法4)
式(2)で示される化合物は、例えば下記式で示される方法にて製造することができる。

Figure 2006169117
[式中、R1、R2及びL1は前記と同じ意味を表す。] (Intermediate production method 4)
The compound represented by the formula (2) can be produced, for example, by the method represented by the following formula.
Figure 2006169117
[Wherein R 1 , R 2 and L 1 represent the same meaning as described above. ]

(工程1)
式(M22)で示される化合物は,式(M21)で示される化合物とフタルイミドカリウムとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
式(M21)で示される化合物1モルに対して、フタルイミドカリウムは通常1〜3モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加してから有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより式(M22)で示される化合物を単離することができる。単離された式(M22)で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
(Process 1)
The compound represented by the formula (M22) can be produced by reacting the compound represented by the formula (M21) with potassium phthalimide.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Solvents used for the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and aromatics such as toluene and xylene. Hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and butyronitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, Water and mixtures thereof are mentioned.
Potassium phthalimide is usually used at a ratio of 1 to 3 moles with respect to 1 mole of the compound represented by the formula (M21).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (M22) can be isolated by performing post-treatment operations such as pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can. The isolated compound represented by the formula (M22) can be further purified by operations such as chromatography, recrystallization and the like.

(工程2)
式(2)で示される化合物は、式(M22)で示される化合物とヒドラジンとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるヒドラジンは、水和物でもよい。式(M22)で示される化合物1モルに対して、ヒドラジンは通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常0〜150℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液に水を加えて有機溶媒抽出して、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(2)で示される化合物を単離することができる。単離された式(2)で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。
(Process 2)
The compound represented by the formula (2) can be produced by reacting the compound represented by the formula (M22) with hydrazine.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol and propanol, water, and mixtures thereof.
Hydrazine used in the reaction may be a hydrate. Hydrazine is usually used in a proportion of 1 to 10 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M22).
The reaction temperature is usually in the range of 0 to 150 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (2) is simply obtained by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, adding water to the filtrate, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. Can be separated. The isolated compound represented by the formula (2) can be further purified by operations such as distillation and chromatography.

(中間体製造法5)
式(2)で示される化合物は、例えば式(M23)で示される化合物とホルムアミドとを、蟻酸の存在下に反応させることにより製造することができる。

Figure 2006169117
[式中、R1及びR2は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、溶媒の存在下に行ってもよく、該溶媒としては、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
式(M23)で示される化合物1モルに対して、ホルムアミドは通常1〜15モルの割合、蟻酸は通常0.1〜2モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて塩基性水(水酸化ナトリウム水溶液等)で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(2)で示される化合物を単離することができる。単離された式(2)で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。 (Intermediate production method 5)
The compound represented by the formula (2) can be produced, for example, by reacting the compound represented by the formula (M23) with formamide in the presence of formic acid.
Figure 2006169117
[Wherein, R 1 and R 2 represent the same meaning as described above. ]
The reaction may be performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, and fats such as hexane, heptane, and octane. Aromatic hydrocarbons such as aromatic hydrocarbons, toluene and xylene, and mixtures thereof.
Formamide is usually used in a proportion of 1 to 15 mol and formic acid is usually used in a proportion of 0.1 to 2 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M23).
After completion of the reaction, the reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent, and the organic layer is washed with basic water (sodium hydroxide aqueous solution, etc.) as necessary, and then dried and concentrated. By performing the operation, the compound represented by the formula (2) can be isolated. The isolated compound represented by the formula (2) can be further purified by operations such as distillation and chromatography.

(中間体製造法6)
式(2)で示される化合物は、例えば下記式で示される方法にて製造することができる。

Figure 2006169117
[式中、R1及びR2は前記と同じ意味を表す。] (Intermediate production method 6)
The compound represented by the formula (2) can be produced, for example, by the method represented by the following formula.
Figure 2006169117
[Wherein, R 1 and R 2 represent the same meaning as described above. ]

(工程1)
式(M25)で示される化合物は,式(M24)で示される化合物とヒドロキシルアミンとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
式(M24)で示される化合物1モルに対して、ヒドロキシルアミンは通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常0〜150℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加してから有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより式(M25)で示される化合物を単離することができる。単離された式(M25)で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
(Process 1)
The compound represented by the formula (M25) can be produced by reacting the compound represented by the formula (M24) with hydroxylamine.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Solvents used for the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, and aromatics such as toluene and xylene. Hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and butyronitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, Examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and isopropanol, water, and mixtures thereof.
Hydroxylamine is usually used at a ratio of 1 to 5 moles with respect to 1 mole of the compound represented by the formula (M24).
The reaction temperature is usually in the range of 0 to 150 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (M25) can be isolated by performing post-treatment operations such as pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can. The isolated compound represented by the formula (M25) can be further purified by operations such as chromatography, recrystallization and the like.

(工程2)
式(2)で示される化合物は、水素化触媒の存在下、式(M25)で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
式(M25)で示される化合物1モルに対して、水素は通常2モル、水素化触媒は通常0.001〜0.5モルの割合で用いられる。
該反応は、通常1〜100気圧の水素雰囲気下で行われる。必要に応じて酸(塩酸等)を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られる有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(2)で示される化合物を単離することができる。単離された式(2)で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
(Process 2)
The compound represented by the formula (2) can be produced by reacting the compound represented by the formula (M25) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst.
The reaction is carried out under a hydrogen atmosphere, usually in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol and propanol, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane, and mixtures thereof.
Examples of the hydrogenation catalyst used in the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, Raney nickel, and platinum oxide.
Hydrogen is usually used in a proportion of 2 mol and the hydrogenation catalyst is usually used in a proportion of 0.001 to 0.5 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (M25).
The reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm. An acid (hydrochloric acid etc.) can also be added as needed.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (2) is isolated by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer. be able to. The isolated compound represented by the formula (2) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.

次に、本発明化合物の具体例を以下に示す。
・式(A)で示される化合物

Figure 2006169117
上記式(A)において、R1、R2、R3及びR4の各置換基は、(表1)〜(表12)に記載された組み合わせである。 Next, specific examples of the compound of the present invention are shown below.
-Compound represented by formula (A)
Figure 2006169117
In said formula (A), each substituent of R < 1 >, R < 2 >, R < 3 > and R < 4 > is the combination described in (Table 1)-(Table 12).

Figure 2006169117
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Figure 2006169117
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・式(B)で示される化合物

Figure 2006169117
上記式(B)におけるR1、R2、R3及びR4の各置換基は、上記の(表1)〜(表12)に記載された組合わせである。 -Compound represented by formula (B)
Figure 2006169117
Each substituent of R < 1 >, R < 2 >, R < 3 > and R < 4 > in the above formula (B) is a combination described in the above (Table 1) to (Table 12).

本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病(Peronospora brassicae)、ホウレンソウのべと病(Peronospora spinaciae)、タバコのべと病(Peronospora tabacina)、ウリ類のべと病(Pseudoperonospora cubensis)、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病(Phytophthora cactorum)、トマト、キュウリの灰色疫病(Photosphere capsici)、パイナップルの疫病(Phytophthora cinnamomi)、ジャガイモ、トマトの疫病(Phytophthora infestans)、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病(Phytophthora nicotianae var. nicotianae)、ホウレンソウの立枯病(Pythium sp.)、キュウリ苗立枯病(Pythium aphanidermatum)、コムギ褐色雪腐病(Pythium sp.)、タバコ苗立枯病(Pythium debaryanum)、ダイズのPythium rot(Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum)。
Examples of plant diseases that the compounds of the present invention have a controlling effect include plant diseases caused by algae, and specific examples include the following diseases.
Sugar beet, downy mildew (Peronospora brassicae), spinach downy mildew (Peronospora spinaciae), tobacco downy mildew (Peronospora tabacina), downy mildew downy mildew (Pseudoperonospora cubensis), grape downy mildew ( Plasmopara viticola), apple, strawberry, garlic (Phytophthora cactorum), tomato, cucumber gray plague (Photosphere capsici), pineapple plague (Phytophthora cinnamomi), potato, tomato plague (Phytophthora infestans), tobacco, broad bean , Leek plague (Phytophthora nicotianae var. Nicotianae), spinach blight (Pythium sp.), Cucumber seedling blight (Pythium aphanidermatum), wheat brown snow rot (Pythium sp.), Tobacco seedling blight ( Pythium debaryanum), soybean Pythium rot (Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum).

本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常0.1〜90重量%含有する。   The plant disease control agent of the present invention may be the compound of the present invention itself, but usually mixed with a solid carrier, a liquid carrier, a surfactant or other formulation adjuvants to give an emulsion, a wettable powder, a granular wettable powder. It is formulated into flowables, powders, granules and the like. These preparations usually contain 0.1 to 90% by weight of the compound of the present invention.

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、2−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水があげられる。   Examples of solid carriers used in the formulation include kaolin clay, attapulgite clay, bentonite, montmorillonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite, corn cob flour, walnut shell powder, etc. Natural organic materials, synthetic organic materials such as urea, salts such as calcium carbonate and ammonium sulfate, fine powders or granular materials made of synthetic inorganic materials such as synthetic hydrous hydroxide, etc., and liquid carriers include, for example, xylene, alkylbenzene, methyl Aromatic hydrocarbons such as naphthalene, alcohols such as 2-propanol, ethylene glycol, propylene glycol and cellosolve, ketones such as acetone, cyclohexanone and isophorone, vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil, and petroleum aliphatic hydrocarbons , Esters, dimethyls Sulfoxide, acetonitrile, water and the like.

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤があげられる。   Examples of surfactants include anionic interfaces such as alkyl sulfate esters, alkylaryl sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, polyoxyethylene alkylaryl ether phosphate esters, lignin sulfonates, naphthalene sulfonate formaldehyde polycondensates, and the like. Nonionic surfactants such as activators and polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl polyoxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters and the like.

その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、CMC(カルボキシメチルセルロ−ス)、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、PAP(酸性リン酸イソプロピル)、BHT等の安定化剤があげられる。   Examples of other adjuvants for preparation include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone, gum arabic, alginic acid and salts thereof, polysaccharides such as CMC (carboxymethylcellulose) and xanthan gum, aluminum magnesium silicate, alumina sol And stabilizers such as inorganic substances such as preservatives, colorants, PAP (isopropyl acid phosphate) and BHT.

本発明の植物病害防除剤は、例えば植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。   The plant disease control agent of the present invention is used to protect the plant from plant diseases, for example, by treating the plant body, and also protects plants growing in the soil from plant diseases by treating the soil. Used for.

本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、10000m2あたり本発明化合物として通常1〜5000g、好ましくは5〜1000gである。 When the plant disease control agent of the present invention is used by treating the plant body with foliage treatment or by treating it with soil, the treatment amount depends on the type of crop, the type of disease to be controlled, and the control type. Although it can be changed depending on the degree of occurrence of the target disease, preparation form, treatment time, weather conditions, etc., it is usually 1 to 5000 g, preferably 5 to 1000 g as the compound of the present invention per 10,000 m 2 .

乳剤、水和剤、フロアブル剤等は、通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常0.0001〜3重量%、好ましくは0.0005〜1重量%の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。   Emulsions, wettable powders, flowables and the like are usually treated by diluting with water and spraying. In this case, the concentration of the compound of the present invention is usually 0.0001 to 3% by weight, preferably 0.0005 to 1% by weight. Powders, granules, etc. are usually processed without dilution.

また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば本発明化合物の濃度が1〜1000ppmとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が1〜1000ppmの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。   Moreover, the plant disease control agent of this invention can also be used by processing methods, such as seed disinfection. As the method, for example, a method of immersing a plant seed in the plant disease control agent of the present invention prepared so that the concentration of the compound of the present invention is 1-1000 ppm, the concentration of the compound of the present invention is 1-1000 ppm in the plant seed. And the method of spraying or smearing the plant disease control agent of the present invention and the method of dressing the plant disease control agent of the present invention on plant seeds.

本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び/又は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。   In the plant disease control method of the present invention, the effective amount of the plant disease control agent of the present invention is usually treated to the plant where the occurrence of the disease is predicted or the soil where the plant grows, and / or the occurrence of the disease is confirmed. It is carried out by treating the plant or the soil where the plant grows.

本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
本発明の植物病害防除剤は他の植物病害防除剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び/又は肥料と共に用いることもできる。
The plant disease control agent of the present invention is usually used as a plant disease control agent for agricultural and horticultural use, that is, a plant disease control agent for controlling plant diseases such as upland, paddy fields, orchards, tea gardens, pastures, and lawns.
The plant disease control agent of the present invention can be used together with other plant disease control agents, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators and / or fertilizers.

かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Al、環状イミド誘導体(キャプタン、キャプタホール、フォルペット等)、ジチオカーバメート誘導体(マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等)、無機もしくは有機の銅誘導体(塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等)、アシルアラニン誘導体(メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等)、ストロビルリン系化合物(クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等)、アニリノピリミジン誘導体(シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等)、フェニルピロール誘導体(フェンピクロニル、フルジオキソニル等)、イミド誘導体(プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等)、ベンズイミダゾール誘導体(カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等)、アミン誘導体(フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等)、アゾール誘導体(プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等)、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ボスカリド、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ、フルオピコリド及びアシベンゾラールSメチルがあげられる。   Examples of active ingredients of such plant disease control agents include, Ziram, dineb, propineb, etc.), inorganic or organic copper derivatives (basic copper sulfate, basic copper chloride, copper hydroxide, oxine copper, etc.), acylalanine derivatives (metalaxyl, furaxyl, off race, cyprofuran, benalaxyl, oxadixyl) ), Strobilurin compounds (cresoxime methyl, azoxystrobin, trifloxystrobin, picoxystrobin, pyraclostrobin, dimoxystrobin, etc.), anilinopyrimidine derivatives (cyprodinil, pyrimethanil, mepa) Pyrim, etc.), phenylpyrrole derivatives (phenpiclonyl, fludioxonil, etc.), imide derivatives (procymidone, iprodione, vinclozoline, etc.), benzimidazole derivatives (carbendazim, benomyl, thiabendazole, thiophanatemethyl, etc.), amine derivatives (fenpropimorph, tridemorph, phen) Propidine, spiroxamine, etc.), azole derivatives (propiconazole, triadimenol, prochloraz, penconazole, tebuconazole, flusilazole, diniconazole, bromconazole, epoxiconazole, difenoconazole, cyproconazole, metconazole, triflumizole, tetraco Nazole, Microbutanyl, Fenbuconazole, Hexaconazole, Fluquinconazole, Tritico Sol, viteltanol, imazalyl, flutriahol, etc.), simoxanil, dimethomorph, famoxadone, fenamidone, iprovaricarb, benchavaricarb, cyazofamide, zoxamide, ethaboxam, boscalid, fenhexamide, quinoxyphene, dietofencarb, fluopicolide, and fluopicolide Lar S-methyl.

以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例1
アセトニトリル20mlに4−メルカプト−2−メチルフェノール0.30g、N−(4−メチルベンジル)−2−ブロモ酢酸アミド0.54g及び炭酸セシウム0.70gを加え、混合物を1時間攪拌した。該混合物に、2−ブロモプロピン0.26g及び炭酸セシウム0.70gを加え、これを室温で30分間、還流条件下で1時間攪拌した。反応混合物をセライトろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(4−メチルベンジル)−2−(3−メチル−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物1と記す。)0.25gを得た。
本発明化合物1

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm): 2.16(3H,s)、2.33(3H,s)、2.51(1H,t,J=2.4Hz)、3.59(2H,s)、4.39(2H,d,J=6.0Hz)、4.70(2H,d,J=2.4Hz)、6.85(1H,d,J=8.4Hz)、7.01−7.14(7H,m) Hereinafter, although this invention is demonstrated in more detail by a manufacture example, a formulation example, a test example, etc., this invention is not limited only to these examples.
First, the manufacture example of this invention compound is shown.
Production Example 1
To 20 ml of acetonitrile, 0.30 g of 4-mercapto-2-methylphenol, 0.54 g of N- (4-methylbenzyl) -2-bromoacetamide and 0.70 g of cesium carbonate were added, and the mixture was stirred for 1 hour. To the mixture, 0.26 g of 2-bromopropyne and 0.70 g of cesium carbonate were added, and this was stirred at room temperature for 30 minutes and under reflux conditions for 1 hour. The reaction mixture was filtered through celite, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, and N- (4-methylbenzyl) -2- (3-methyl-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 1). .) 0.25 g was obtained.
Compound 1 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.16 (3H, s), 2.33 (3H, s), 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz); 59 (2H, s), 4.39 (2H, d, J = 6.0 Hz), 4.70 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.85 (1H, d, J = 8.4 Hz) ), 7.01-7.14 (7H, m)

製造例2
DMF4mlにピリジン2ml、4−クロロベンジルアミン0.28g、2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸0.50g及びWSC0.49gを加え、混合物を80℃で30分間、室温で6時間攪拌した。反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(4−クロロベンジル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物2と記す。)0.34gを得た。
本発明化合物2

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.54(1H,t,J=2.4Hz)、2.63(2H,s)、3.77(3H,s)、4.39(2H,d,J=9.9Hz)、4.75(2H,d,J=2.4Hz)、6.80−6.84(2H,m)、6.91−6.95(1H,m)、7.02(2H,d,J=8.3Hz)、7.08(1H,br)、7.22(2H,d,J=8.3Hz) Production Example 2
To 4 ml of DMF were added 2 ml of pyridine, 0.28 g of 4-chlorobenzylamine, 0.50 g of 2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid and 0.49 g of WSC, and the mixture was heated at 80 ° C. for 30 minutes. Stir at room temperature for 6 hours. Dilute hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, and N- (4-chlorobenzyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 2). .) 0.34 g was obtained.
Compound 2 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.54 (1H, t, J = 2.4 Hz), 2.63 (2H, s), 3.77 (3H, s), 4. 39 (2H, d, J = 9.9 Hz), 4.75 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.80-6.84 (2H, m), 6.91-6.95 (1H M), 7.02 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.08 (1H, br), 7.22 (2H, d, J = 8.3 Hz)

製造例3
DMF2mlにベンジルアミン0.11g、2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸0.20g及びWSC0.20gを加え、混合物を30℃で5時間攪拌し、室温で一夜静置した。反応混合物に水10mlを加え、酢酸エチル8mlで抽出した。有機層を食塩水11mlで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−ベンジル−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物3と記す。)0.07gを得た。
本発明化合物3

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.52(1H,t,J=2.4Hz)、3.65(2H,s)、3.76(3H,s)、4.44(2H,d,J=6.0Hz)、4.75(2H,d,J=2.4Hz)、6.82−6.87(2H,m)、6.93−6.96(1H,m)、7.03(1H,br)、7.10−7.13(2H,m)、7.18−7.30(3H,m) Production Example 3
To 2 ml of DMF were added 0.11 g of benzylamine, 0.20 g of 2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid and 0.20 g of WSC, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 5 hours and allowed to stand at room temperature overnight. I put it. 10 ml of water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with 8 ml of ethyl acetate. The organic layer was washed with 11 ml of brine, dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, and 0.07 g of N-benzyl-2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 3). Got.
Compound 3 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.52 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.65 (2H, s), 3.76 (3H, s), 4. 44 (2H, d, J = 6.0 Hz), 4.75 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.82-6.87 (2H, m), 6.93-6.96 (1H M), 7.03 (1H, br), 7.10-7.13 (2H, m), 7.18-7.30 (3H, m)

製造例4
ベンジルアミンに代えて、4−ブロモベンジルアミンを用いて、製造例3と同様にして、N−(4−ブロモベンジル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物4と記す。)0.10gを得た。
本発明化合物4

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.54(1H,t,J=2.4Hz)、3.65(2H,s)、3.78(3H,s)、4.38(2H,d,J=6.0Hz)、4.76(2H,d,J=2.4Hz)、6.81−6.84(2H,m)、6.96(2H,d,J=8.4Hz)、7.04(1H,br)、7.26(1H,s)、7.38(2H,d,J=8.4Hz) Production Example 4
N- (4-Bromobenzyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid was used in the same manner as in Production Example 3, except that 4-bromobenzylamine was used instead of benzylamine. 0.10 g of an amide (hereinafter referred to as the present compound 4) was obtained.
Compound 4 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.54 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.65 (2H, s), 3.78 (3H, s), 4. 38 (2H, d, J = 6.0 Hz), 4.76 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.81-6.84 (2H, m), 6.96 (2H, d, J = 8.4 Hz), 7.04 (1 H, br), 7.26 (1 H, s), 7.38 (2 H, d, J = 8.4 Hz)

製造例5
ベンジルアミンに代えて、4−メチルベンジルアミンを用いて、製造例3と同様にして、N−(4−メチルベンジル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物5と記す。)0.12gを得た。
本発明化合物5

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.32(3H,s)、2.51(1H,t,J=2.4Hz)、3.63(2H,s)、3.76(3H,s)、4.39(2H,d,J=4.0Hz)、4.74(2H,d,J=2.4Hz)、6.82−6.87(2H,m)、6.93−6.97(2H,m)、7.01(2H,d,J=8.4Hz)、7.08(2H,d,J=8.4Hz) Production Example 5
N- (4-Methylbenzyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid was used in the same manner as in Production Example 3, using 4-methylbenzylamine instead of benzylamine. 0.12 g of amide (hereinafter referred to as the present compound 5) was obtained.
Compound 5 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.32 (3H, s), 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.63 (2H, s), 3. 76 (3H, s), 4.39 (2H, d, J = 4.0 Hz), 4.74 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.82-6.87 (2H, m), 6.93-6.97 (2H, m), 7.01 (2H, d, J = 8.4 Hz), 7.08 (2H, d, J = 8.4 Hz)

製造例6
ベンジルアミンに代えて、3,4−ジクロロベンジルアミンを用いて、製造例3と同様にして、N−(3,4−ジクロロベンジル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物6と記す。)0.19gを得た。
本発明化合物6

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.52(1H,t,J=2.4Hz)、3.65(2H,s)、3.80(3H,s)、4.39(2H,d,J=6.0Hz)、4.75(2H,d,J=2.4Hz)、6.81−6.84(2H,m)、6.90−6.97(2H,m)、7.10(1H,br)、7.23(1H,d,J=2.0Hz)、7.32(1H,d,J=8.4Hz) Production Example 6
Instead of benzylamine, N- (3,4-dichlorobenzyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) was used in the same manner as in Production Example 3, using 3,4-dichlorobenzylamine. 0.19 g of phenylthio) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 6) was obtained.
Compound 6 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.52 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.65 (2H, s), 3.80 (3H, s), 4. 39 (2H, d, J = 6.0 Hz), 4.75 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.81-6.84 (2H, m), 6.90-6.97 (2H M), 7.10 (1H, br), 7.23 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.32 (1H, d, J = 8.4 Hz)

製造例7
DMF2mlに5−インダニルメチルアミン塩酸塩0.19g、2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸0.20g、WSC0.20g及びトリエチルアミン0.3mlを加え、混合物を30℃で5時間攪拌し、室温で一夜静置した。反応混合物に水10mlを加え、酢酸エチル8mlで抽出した。有機層を食塩水11mlで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(5−インダニルメチル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物7と記す。)0.09gを得た。
本発明化合物7

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.02−2.10(2H,m)、2.51(1H,t,J=2.4Hz)、2.82−2.89(4H,m)、3.63(2H,s)、3.76(3H,s)、4.39(2H,d,J=5.6Hz)、4.74(2H,d,J=2.4Hz)、6.82−7.00(6H,m)、7.12(1H,d,J=7.6Hz) Production Example 7
To 2 ml of DMF is added 0.19 g of 5-indanylmethylamine hydrochloride, 0.20 g of 2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid, 0.20 g of WSC and 0.3 ml of triethylamine, and the mixture is mixed with 30 ml. The mixture was stirred at 0 ° C. for 5 hours and allowed to stand overnight at room temperature. 10 ml of water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with 8 ml of ethyl acetate. The organic layer was washed with 11 ml of brine, dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, and N- (5-indanylmethyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 7). 0.09 g was obtained.
Compound 7 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.02-2.10 (2H, m), 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz), 2.82-2.89 (4H, m), 3.63 (2H, s), 3.76 (3H, s), 4.39 (2H, d, J = 5.6 Hz), 4.74 (2H, d, J = 2) .4 Hz), 6.82-7.00 (6 H, m), 7.12 (1 H, d, J = 7.6 Hz)

製造例8
ベンジルアミンに代えて、(5,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフチル)メチルアミンを用いて、製造例3と同様にして、N−(5,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフチル)メチル−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物8と記す。)0.08gを得た。
本発明化合物8

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):1.76−1.79(4H,m)、2.51(1H,t,J=2.4Hz)、2.68−2.73(4H,m)、3.63(2H,s)、3.76(3H,s)、4.36(2H,d,J=5.6Hz)、4.74(2H,d,J=2.4Hz)、6.82−6.88(4H,m)、6.94−6.99(3H,m) Production Example 8
In place of benzylamine, N- (5,6,7,8-tetrahydro-2-methylamine was used in the same manner as in Production Example 3, using (5,6,7,8-tetrahydro-2-naphthyl) methylamine. 0.08 g of naphthyl) methyl-2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 8) was obtained.
Compound 8 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 1.76-1.79 (4H, m), 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz), 2.68-2.73 (4H, m), 3.63 (2H, s), 3.76 (3H, s), 4.36 (2H, d, J = 5.6 Hz), 4.74 (2H, d, J = 2) .4 Hz), 6.82-6.88 (4H, m), 6.94-6.99 (3H, m)

製造例9
ベンジルアミンに代えて、2−ナフチルメチルアミンを用いて、製造例3と同様にして、N−(2−ナフチルメチル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物9と記す。)0.07gを得た。
本発明化合物9

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.49(1H,t,J=2.4Hz)、3.67(2H,s)、3.68(3H,s)、4.60(2H,d,J=6.0Hz)、4.69(2H,d,J=2.4Hz)、6.81−6.89(3H,m)、7.13(1H,br)、7.22(1H,dd,J=8.0Hz,2.0Hz)、7.44−7.50(2H,m)、7.57(1H,s)、7.70−7.82(3H,m) Production Example 9
N- (2-naphthylmethyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid was used in the same manner as in Production Example 3, using 2-naphthylmethylamine instead of benzylamine. 0.07 g of amide (hereinafter referred to as the present compound 9) was obtained.
Compound 9 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.49 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.67 (2H, s), 3.68 (3H, s), 4. 60 (2H, d, J = 6.0 Hz), 4.69 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.81-6.89 (3H, m), 7.13 (1H, br), 7.22 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 2.0 Hz), 7.44-7.50 (2H, m), 7.57 (1H, s), 7.70-7.82 (3H , M)

製造例10
ベンジルアミンに代えて、4−トリフルオロメチルベンジルアミンを用いて、製造例3と同様にして、N−(4−トリフロロメチルベンジル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物10と記す。)0.20gを得た。
本発明化合物10

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.51(1H,t,J=2.4Hz)、3.67(2H,s)、3.77(3H,s)、4.49(2H,d,J=6.4Hz)、4.75(2H,d,J=2.4Hz)、6.83−6.86(2H,m)、6.95(1H,d,J=8.4Hz)、7.12(1H,br)、7.19(2H,d,J=8.0Hz)、7.52(2H,d,J=8.0Hz) Production Example 10
Instead of benzylamine, N- (4-trifluoromethylbenzyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) was used in the same manner as in Production Example 3, using 4-trifluoromethylbenzylamine. ) Phenylthio) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 10) 0.20 g was obtained.
Compound 10 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.67 (2H, s), 3.77 (3H, s), 4. 49 (2H, d, J = 6.4 Hz), 4.75 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.83-6.86 (2H, m), 6.95 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.12 (1H, br), 7.19 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.52 (2H, d, J = 8.0 Hz)

製造例11
ベンジルアミンに代えて、4−メトキシベンジルアミンを用いて、製造例3と同様にして、N−(4−メトキシベンジル)−2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸アミド(以下、本発明化合物11と記す。)0.14gを得た。
本発明化合物11

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.53(1H,t,J=2.4Hz)、3.62(2H,s)、3.76(3H,s)、3.80(3H,s)、4.36(2H,d,J=5.6Hz)、4.74(2H,d,J=2.4Hz)、6.78−6.85(4H,m)、6.93(1H,d,J=8.4Hz)、6.96(1H,br)、7.04(2H,d,J=8.8Hz) Production Example 11
Using 4-methoxybenzylamine instead of benzylamine, N- (4-methoxybenzyl) -2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid in the same manner as in Production Example 3. 0.14 g of amide (hereinafter referred to as the present compound 11) was obtained.
Compound 11 of the present invention
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.62 (2H, s), 3.76 (3H, s), 3. 80 (3H, s), 4.36 (2H, d, J = 5.6 Hz), 4.74 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.78-6.85 (4H, m), 6.93 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.96 (1H, br), 7.04 (2H, d, J = 8.8 Hz)

次に、本発明化合物の製造中間体の製造例を示す。
参考製造例1
メタノール70mlにo−クレゾール10.8g及びチオシアン酸ナトリウム26gを加え、臭素5.3ml、臭化ナトリウム10.3g及びメタノール120mlの混合物を0℃で滴下し、これを室温で7時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−メチル−4−チオシアナトフェノール12gを得た。

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.24(3H,s)、5.62(1H,br)、6.79(1H,d,J=8.3Hz)、7.26(1H,dd,J=2.4Hz,8.3Hz)、7.33(1H,d,J=2.4Hz) Next, production examples of production intermediates of the compound of the present invention are shown.
Reference production example 1
10.8 g of o-cresol and 26 g of sodium thiocyanate were added to 70 ml of methanol, and a mixture of 5.3 ml of bromine, 10.3 g of sodium bromide and 120 ml of methanol was added dropwise at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 12 g of 2-methyl-4-thiocyanatophenol.
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.24 (3H, s), 5.62 (1H, br), 6.79 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7. 26 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 8.3 Hz), 7.33 (1H, d, J = 2.4 Hz)

THF200mlに水素化リチウムナトリウム1.4gを加え、更に2−メチル−4−チオシアナトフェノール6.0g及びTHF100mlの混合物を0℃で滴下し、これを室温で3時間攪拌した。反応混合物に水、希塩酸を順次加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−メルカプト−2−メチルフェノール4.6gを得た。

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.19(3H,s)、3.24(1H,s)、4.87(1H,m)、6.65(1H,d,J=8.4Hz)、7.03(1H,dd,J=2.0Hz,8.0Hz)、7.11(1H,d,J=2.0Hz) Lithium sodium hydride (1.4 g) was added to THF (200 ml), and a mixture of 2-methyl-4-thiocyanatophenol (6.0 g) and THF (100 ml) was added dropwise at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Water and dilute hydrochloric acid were sequentially added to the reaction mixture, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 4.6 g of 4-mercapto-2-methylphenol.
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.19 (3H, s), 3.24 (1H, s), 4.87 (1H, m), 6.65 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.03 (1H, dd, J = 2.0 Hz, 8.0 Hz), 7.11 (1H, d, J = 2.0 Hz)

参考製造例2
メタノール100mlにo−メトキシフェノール24g及びチオシアン酸ナトリウム47gを加えた溶液に、臭素9.9ml、臭化ナトリウム20g及びメタノール300mlの混合物を0℃で滴下し、これを室温で3時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。得られた固体をヘキサンで洗浄し、2−メトキシ−4−チオシアナトフェノール12gを得た。

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):3.94(3H,s)、5.85(1H,s)、6.95(1H,d,J=8.4Hz)、7.06(1H,d,J=1.6Hz)、7.11(1H,dd,J=1.6Hz,8.4Hz) Reference production example 2
To a solution obtained by adding 24 g of o-methoxyphenol and 47 g of sodium thiocyanate to 100 ml of methanol, a mixture of 9.9 ml of bromine, 20 g of sodium bromide and 300 ml of methanol was added dropwise at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained solid was washed with hexane to obtain 12 g of 2-methoxy-4-thiocyanatophenol.
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 3.94 (3H, s), 5.85 (1H, s), 6.95 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7. 06 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 1.6 Hz, 8.4 Hz)

THF300mlに水素化リチウムナトリウム6.0gを加え、これに2−メトキシ−4−チオシアナトフェノール23g及びTHF200mlの混合物を−5〜0℃で滴下し、これを室温で2時間攪拌した。反応混合物に水、希塩酸を順次加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−メルカプト−2−メトキシフェノール18gを得た。

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):3.41(1H,s)、3.85(3H,s)、5.59(1H,s)、6.78−7.89(3H,m) To 300 ml of THF was added 6.0 g of lithium sodium hydride, and a mixture of 23 g of 2-methoxy-4-thiocyanatophenol and 200 ml of THF was added dropwise at -5 to 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Water and dilute hydrochloric acid were sequentially added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 18 g of 4-mercapto-2-methoxyphenol.
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 3.41 (1H, s), 3.85 (3H, s), 5.59 (1H, s), 6.78-7.89 ( 3H, m)

アセトニトリル100mlに4−メルカプト−2−メトキシフェノール5.0g、ブロモ酢酸メチル4.9g及び炭酸セシウム10.5gを加え、混合物を1.5時間還流条件下に攪拌した。反応混合物にプロパルギルブロミド3.8g及び炭酸セシウム10.5gを加え、これを2時間還流条件下に攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、セライトろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸メチル9.3gを得た。

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.52(1H,t,J=2.0Hz)、3.58(2H,s)、3.71(3H,s)、3.87(3H,s)、4.75(2H,d,J=2.0Hz)、6.95−7.05(3H,m) To 100 ml of acetonitrile, 5.0 g of 4-mercapto-2-methoxyphenol, 4.9 g of methyl bromoacetate and 10.5 g of cesium carbonate were added, and the mixture was stirred under reflux conditions for 1.5 hours. To the reaction mixture, 3.8 g of propargyl bromide and 10.5 g of cesium carbonate were added, and the mixture was stirred for 2 hours under reflux conditions. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, the mixture was filtered through celite, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 9.3 g of methyl 2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetate.
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.52 (1H, t, J = 2.0 Hz), 3.58 (2H, s), 3.71 (3H, s); 87 (3H, s), 4.75 (2H, d, J = 2.0 Hz), 6.95-7.05 (3H, m)

THF100mlと水50mlの混合溶液に、2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸メチル9.3g及び水酸化リチウム一水和物3.0gを加え、これを50℃で4時間攪拌した。反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。得られた固体をヘキサン、MTBEで順次洗浄し、2−(3−メトキシ−4−(2−プロピニルオキシ)フェニルチオ)酢酸7.6gを得た。

Figure 2006169117
1H−NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.52(1H,t,J=2.0Hz)、3.60(2H,s)、3.86(3H,s)、4.75(2H,d,J=2.0Hz)、6.96−7.07(3H,m) To a mixed solution of 100 ml of THF and 50 ml of water were added 9.3 g of methyl 2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetate and 3.0 g of lithium hydroxide monohydrate. Stir for 4 hours. Dilute hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained solid was washed successively with hexane and MTBE to obtain 7.6 g of 2- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenylthio) acetic acid.
Figure 2006169117
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.52 (1H, t, J = 2.0 Hz), 3.60 (2H, s), 3.86 (3H, s), 4. 75 (2H, d, J = 2.0 Hz), 6.96-7.07 (3H, m)

次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
製剤例1
本発明化合物1〜11各50部、リグニンスルホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸マグネシウム2部及び合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
Next, formulation examples are shown. In addition, a part represents a weight part.
Formulation Example 1
Each wettable powder is obtained by thoroughly crushing and mixing 50 parts of each of the compounds 1 to 11 of the present invention, 3 parts of calcium lignin sulfonate, 2 parts of magnesium lauryl sulfate and 45 parts of synthetic silicon hydroxide.

製剤例2
本発明化合物1〜11各20部とソルビタントリオレエ−ト1.5部とを、ポリビニルアルコール2部を含む水溶液28.5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケート0.1部を含む水溶液40部を加え、さらにプロピレングリコール10部を加えて攪拌混合し、各々のフロアブル製剤を得る。
Formulation Example 2
20 parts of each of the compounds 1 to 11 of the present invention and 1.5 parts of sorbitan trioleate were mixed with 28.5 parts of an aqueous solution containing 2 parts of polyvinyl alcohol and finely pulverized by a wet pulverization method. 40 parts of an aqueous solution containing 0.05 part of xanthan gum and 0.1 part of aluminum magnesium silicate is added, and further 10 parts of propylene glycol is added and stirred to obtain each flowable preparation.

製剤例3
本発明化合物1〜11各2部、カオリンクレー88部及びタルク10部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
Formulation Example 3
Each powder agent is obtained by thoroughly pulverizing and mixing 2 parts of each of the compounds 1 to 11 of the present invention, 88 parts of kaolin clay and 10 parts of talc.

製剤例4
本発明化合物1〜11各5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部及びキシレン75部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
Formulation Example 4
Each emulsion is obtained by thoroughly mixing 5 parts of each of the compounds 1 to 11 of the present invention, 14 parts of polyoxyethylene styryl phenyl ether, 6 parts of calcium dodecylbenzenesulfonate and 75 parts of xylene.

製剤例5
本発明化合物1〜11各2部、合成含水酸化珪素1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部及びカオリンクレー65部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
Formulation Example 5
2 parts of each of the compounds 1 to 11 of the present invention, 1 part of synthetic hydrous silicon oxide, 2 parts of calcium lignin sulfonate, 30 parts of bentonite and 65 parts of kaolin clay, and then kneaded well with water, granulated and dried Thus, each granule is obtained.

製剤例6
本発明化合物1〜11各10部;ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカーボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。
Formulation Example 6
10 parts of each of the compounds 1 to 11 of the present invention; 35 parts of white carbon containing 50 parts of polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt; .

次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
Next, test examples show that the compounds of the present invention are useful for controlling plant diseases.
The control effect is obtained by visually observing the area of the lesion on the test plant at the time of the survey, and comparing the area of the lesion on the plant treated with the compound of the present invention and the area of the lesion on the untreated plant. evaluated.

試験例1
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト(品種:ポンテローザ)を播種し、温室内で20日間生育させた。本発明化合物1〜11の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が500ppmとなるように希釈して試験用薬液を調製した。この試験用薬液を上記のトマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の水懸濁液(約10000個/ml)を噴霧(植物1個体あたり約2mlの割合)した。その後、このトマト苗を23℃、相対湿度90%以上の条件下で1日間栽培し、さらに昼間24℃、夜間20℃の温室に移して4日間栽培した後、植物上の病斑面積を調査した。本発明化合物1〜11を処理した植物上の病斑面積は、無処理の植物の病斑面積の10%以下であった。
Test example 1
A plastic pot was filled with sandy loam, seeded with tomato (variety: Ponterosa), and grown in a greenhouse for 20 days. Each of the compounds 1 to 11 of the present invention was made into a flowable formulation according to Formulation Example 6, and then diluted with water so that the concentration of the compound of the present invention was 500 ppm to prepare a test drug solution. This test chemical solution was sprayed on the foliage so that it sufficiently adhered to the leaf surface of the tomato seedling. After spraying, the diluted solution on the leaf surface was air-dried to the extent that it was dried, and sprayed with a water suspension (about 10000 / ml) of tomato epidemic zoospores (a rate of about 2 ml per plant). After that, this tomato seedling was cultivated for 1 day under conditions of 23 ° C and relative humidity of 90% or more, and further transferred to a greenhouse at 24 ° C in the daytime and 20 ° C in the nighttime for 4 days. did. The lesion area on the plant which processed this invention compounds 1-11 was 10% or less of the lesion area of an unprocessed plant.

試験例2
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ(品種:ベリーA)を播種し、温室内で40日間生育させた。本発明化合物1〜11の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で500ppmの濃度に希釈し、希釈液を調製した。該希釈液を前記のブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢の水懸濁液(約10000個/ml)を噴霧(植物1個体あたり約2mlの割合)した。その後、このブドウ苗を23℃、相対湿度90%以上の条件下で1日間栽培し、さらに昼間24℃、夜間20℃の温室に移して6日間栽培後、植物上の病斑面積を調査した。本発明化合物1〜11を処理した植物の病斑面積は、無処理の植物の病斑面積の10%以下であった。

Test example 2
A plastic pot was filled with sand loam, sown with grapes (variety: Berry A), and grown in a greenhouse for 40 days. Each of the compounds 1 to 11 of the present invention was made into a flowable formulation according to Formulation Example 6, and then diluted with water to a concentration of 500 ppm to prepare a diluted solution. The diluted solution was sprayed on the foliage so as to adhere well to the grape leaf surface. After spraying, the diluted solution on the leaf surface was air-dried to the extent that it was dried, and sprayed with a water suspension (about 10000 / ml) of zoosporangium of grape mildew (approx. 2 ml per plant). . After that, the grape seedlings were cultivated for 1 day under conditions of 23 ° C. and relative humidity of 90% or more, further transferred to a greenhouse at 24 ° C. in the daytime and 20 ° C. at night, and cultivated for 6 days. . The lesion area of the plant which processed this invention compounds 1-11 was 10% or less of the lesion area of an unprocessed plant.

Claims (4)

式(1)
Figure 2006169117
〔式中、
1は水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシ基、C3−C6アルケニルオキシ基、C3−C6アルキニルオキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、(C1−C6アルコキシ)C1−C6アルキル基、フェノキシC1−C6アルキル基、ヒドロキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルアミノ基、ジ(C1−C6アルキル)アミノ基、ホルミル基、(C1−C6アルキル)カルボニル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基、(C1−C6アルコキシ)イミノC1−C6アルキル基、ベンジルオキシイミノC1−C6アルキル基、フェニル基、フェノキシ基、シアノ基、アミノ基若しくはニトロ基(但し、フェノキシC1−C6アルキル基、フェニル基及びフェノキシ基におけるベンゼン環が、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基及びC1−C3アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよい)を表し、
2は水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6アルキニル基、シアノ基若しくはニトロ基を表すか、
あるいはR1とR2とが一緒になって、C3−C6アルキレン基若しくは−CR50=CR51−CR52=CR53−基(R50、R51、R52及びR53は独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基、C1−C3アルコキシ基又はC1−C3ハロアルキル基を表す)を表し、
3はC1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C3−C4アルケニル基、C3−C6アルキニル基またはC2−C4シアノアルキル基を表し、
4はハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C3−C4アルケニルオキシ基又はC3−C4アルキニルオキシ基を表し、
5は水素原子、フッ素原子又はC1−C3アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
Formula (1)
Figure 2006169117
[Where,
R 1 is a hydrogen atom, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C3-C6 cycloalkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C2-C6 alkenyl group, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group, C2-C6 Haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group, C3-C6 alkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group, C1-C6 haloalkoxy group, (C1-C6 alkoxy) C1-C6 alkyl group, phenoxy C1-C6 alkyl group, Hydroxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylamino group, di (C1-C6 alkyl) amino group, formyl group, (C1-C6 alkyl) carbonyl group, C1-C6 alkoxy) carbonyl group, (C1-C6 alkoxy) imino 1-C6 alkyl group, benzyloxyimino C1-C6 alkyl group, phenyl group, phenoxy group, cyano group, amino group or nitro group (provided that the benzene ring in the phenoxy C1-C6 alkyl group, phenyl group and phenoxy group is halogenated) And optionally substituted with a group selected from an atom, a C1-C3 alkyl group and a C1-C3 alkoxy group),
R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a cyano group or a nitro group,
Alternatively, R 1 and R 2 are taken together to form a C3-C6 alkylene group or a —CR 50 ═CR 51 —CR 52 ═CR 53 — group (R 50 , R 51 , R 52 and R 53 are independently Represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 alkoxy group or a C1-C3 haloalkyl group),
R 3 represents a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C3-C4 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group or a C2-C4 cyanoalkyl group,
R 4 represents a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy group, a C1-C4 haloalkoxy group, a C3-C4 alkenyloxy group or a C3-C4 alkynyloxy group,
R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a C1-C3 alkyl group. ]
An amide compound represented by
1がハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基またはC1−C6アルコキシ基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子またはC1−C6アルキル基であり、あるいはR1とR2とが一緒になってC3−C6アルキレン基または−CH=CH−CH=CH−基であり、R3がC3−C6アルキニル基であり、R4がC1−C4アルコキシ基であり、R5が水素原子である請求項1記載のアミド化合物。 R 1 is a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group or a C1-C6 alkoxy group, R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, or R 1 and R 2 Together are a C3-C6 alkylene group or a —CH═CH—CH═CH— group, R 3 is a C3-C6 alkynyl group, R 4 is a C1-C4 alkoxy group, and R 5 is hydrogen. The amide compound according to claim 1, which is an atom. 請求項1または2記載のアミド化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。   A plant disease control agent comprising the amide compound according to claim 1 as an active ingredient. 請求項1または2記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。   A plant disease control method comprising treating an effective amount of the amide compound according to claim 1 or 2 to a plant or soil.
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