JP2006147204A - Light emitting device and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、発光デバイス及びその製造方法に関し、特にEL素子およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a light emitting device and a manufacturing method thereof, and more particularly to an EL element and a manufacturing method thereof.
近年、携帯電話をはじめとするモバイル機器の用途や壁掛けテレビをはじめとする据え置き機器の用途で、様々な発光機構を有するディスプレイデバイスの開発研究が進められている。それらディスプレイのなかでも、EL素子は薄膜化、高輝度化、省エネルギー化が高いという期待からその実用化が積極的に進められている。 In recent years, research and development of display devices having various light-emitting mechanisms have been promoted in applications for mobile devices such as mobile phones and stationary devices such as wall-mounted televisions. Among these displays, EL devices have been actively put into practical use with the expectation that thinning, high brightness, and energy saving will be high.
たとえば、上記の具体的な検討の例としては、基板の光取り出し側をレンズ構造にすることにより、光取り出し効率の増加を計った発光デバイスが提案され(特許文献1)、他の検討の例としては、光取り出し効率の向上を計った例が提案されている(特許文献2)。
しかしながら、本発明者らは、上述した特許文献1、及び、特許文献2をはじめとする従来の発光デバイスでは、実用に見合う十分な光取り出し効率を未だ得られておらず、改善の余地があることを見いだした。
However, the present inventors have not yet obtained a sufficient light extraction efficiency suitable for practical use in the conventional light emitting devices including
本発明は、上記従来技術の有する課題を鑑みて為されたものであり、光取り出し効率の減少を改善した発光デバイス及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a light-emitting device and a method for manufacturing the same, in which a decrease in light extraction efficiency is improved.
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、透明電極と発光層との間に、発光層から放出される光の集光を意図したレンズを含む層(光取り出し層)を設けることが上述した本発明の目的を達成する上で極めて有効であることを見出し、本発明に到達した。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention have a layer (light extraction layer) including a lens intended to condense light emitted from the light emitting layer between the transparent electrode and the light emitting layer. ) Was found to be extremely effective in achieving the above-described object of the present invention, and the present invention was achieved.
すなわち、本発明は、透明電極と、前記透明電極に対向配置される対極と、前記透明電極と前記対極との間に配置される発光層と、を少なくとも有する発光デバイスであって、前記対極と前記発光層との間に、第1の光取り出し層が更に配置されており、前記第1の光取り出し層中に、前記発光層から放出される光を屈折させるための少なくとも1つのレンズが埋設されていること、を特徴とする発光デバイスを提供する。 That is, the present invention is a light emitting device having at least a transparent electrode, a counter electrode disposed opposite to the transparent electrode, and a light emitting layer disposed between the transparent electrode and the counter electrode, wherein the counter electrode and A first light extraction layer is further disposed between the light emitting layer and at least one lens for refracting light emitted from the light emitting layer is embedded in the first light extraction layer. A light-emitting device characterized by the above.
第1の光取り出し層を対極と発光層との間に配置させた構成とし、更に、上述のように第1の光取り出し層中に少なくとも1つのレンズを設けることにより、発光層から放出される光(全方向へ放出される光)を屈折させて集光することができる。そのため、透明電極の上面(発光層からの光を放出する側の面)における、発光層から放出される光(全方向へ放出される光)の全反射の発生を従来の発光デバイスに比較して十分に低減できる。これにより、従来の発光デバイスに比較して発光層から放出される光を効率よく透明電極の上面からその外側に向けて放出させることができる。すなわち、本発明の発光デバイスでは、十分な光取り出し効率を得ることが可能となる。 The first light extraction layer is configured to be disposed between the counter electrode and the light emitting layer, and at least one lens is provided in the first light extraction layer as described above, whereby the light is emitted from the light emitting layer. Light (light emitted in all directions) can be refracted and collected. Therefore, compared with the conventional light emitting device, the total reflection of the light emitted from the light emitting layer (light emitted in all directions) on the upper surface of the transparent electrode (the surface on the side emitting light from the light emitting layer) is compared. Can be sufficiently reduced. Thereby, the light emitted from the light emitting layer can be efficiently emitted from the upper surface of the transparent electrode to the outside as compared with the conventional light emitting device. That is, in the light emitting device of the present invention, it is possible to obtain sufficient light extraction efficiency.
ここで、本発明において、透明電極とは、電気伝導性及び発光層から放出される光に対する光透過性を有する層(たとえば、インジウム錫酸化物合金(ITO))のみからなる1層の構造からなる電極であってもよく、この層が発光層から放出される光に対する光透過性を有する透明基板(たとえばガラス基板)上に形成された積層体のような2層以上の積層体からなる電極であってもよい。 Here, in the present invention, the transparent electrode has a single-layer structure composed only of a layer (for example, indium tin oxide alloy (ITO)) having electrical conductivity and light transmittance with respect to light emitted from the light emitting layer. An electrode made of a laminate of two or more layers, such as a laminate formed on a transparent substrate (for example, a glass substrate) having light transmittance for light emitted from the light emitting layer. It may be.
本発明では、透明電極が上記2層以上の積層体の場合であっても、上記の透明電極の上面における光の全反射、及び、各層間の界面における光の全反射を従来の発光デバイスに比較して十分に低減できるので、この場合であっても十分な光取り出し効率を得ることが可能となる。 In the present invention, even when the transparent electrode is a laminate of two or more layers, the conventional light-emitting device performs total reflection of light on the upper surface of the transparent electrode and total reflection of light at the interface between the layers. Since it can be sufficiently reduced in comparison, it is possible to obtain sufficient light extraction efficiency even in this case.
一方、光取り出し層が設けられていないEL素子等の従来の発光デバイスの場合、例えば、ガラス基板上にITOからなる層を形成した構成の透明電極とその対極との間に配置された発光層を有するEL素子の場合には、以下のように、光の全反射による光損失の影響が大きくなっていたことを本発明者らは見出した。より詳しくは、上記従来のEL素子の場合、透明電極の各層を形成する材料が異なるために透明電極の各層の屈折率も異なっており、特に、ITO層とガラス基板との界面における光の全反射、並びに、ガラス基板の上面での光の全反射の発生が十分に低減されておらず、光取り出し効率は20〜30%にまで低下していることを本発明者らは見出した。 On the other hand, in the case of a conventional light emitting device such as an EL element not provided with a light extraction layer, for example, a light emitting layer disposed between a transparent electrode having a layer made of ITO on a glass substrate and its counter electrode The present inventors have found that the effect of light loss due to total reflection of light is large in the case of an EL element having the following. More specifically, in the case of the above-described conventional EL element, since the material forming each layer of the transparent electrode is different, the refractive index of each layer of the transparent electrode is also different. In particular, the total light at the interface between the ITO layer and the glass substrate is different. The present inventors have found that the occurrence of reflection and the total reflection of light on the upper surface of the glass substrate has not been sufficiently reduced, and the light extraction efficiency has decreased to 20 to 30%.
ここで、本発明において、レンズにおける光の集光を可能とするためには、レンズの屈折率、レンズの形状、レンズの数、レンズの大きさ、レンズの位置、更に、これらレンズの状態のばらつき、またレンズを埋包する周囲の物質の物性(特に屈折率)の関係を調節してデバイスを設計することにより行うことができる。 Here, in the present invention, in order to make it possible to collect light in the lens, the refractive index of the lens, the shape of the lens, the number of lenses, the size of the lens, the position of the lens, and the state of these lenses. This can be done by designing the device by adjusting the variation and the relationship between the physical properties (especially the refractive index) of the surrounding material embedding the lens.
また、先に述べた本発明の効果をより確実に得る観点から、本発明においては、少なくとも1つのレンズは、発光層から放出され当該少なくとも1つのレンズを介して透明電極に向けて進行する光が透明電極の下面に対して略垂直に入射可能なように形成されていることが好ましい。 In addition, from the viewpoint of obtaining the above-described effect of the present invention more reliably, in the present invention, at least one lens is emitted from the light emitting layer and travels toward the transparent electrode through the at least one lens. Is preferably formed so that it can be incident substantially perpendicular to the lower surface of the transparent electrode.
このように発光層から放出される全方向への発光光を透明電極の下面に対して略垂直に照射することにより、先に述べた透明電極の上面における光の全反射をより確実に防止することができる。更に、透明電極が上記2層以上の積層体の場合であっても、このように構成することにより、透明電極の上面における光の全反射とともに、各層間の界面における光の全反射もより確実に防止することができる。 By irradiating the emitted light emitted from the light emitting layer in all directions substantially perpendicularly to the lower surface of the transparent electrode, the total reflection of light on the upper surface of the transparent electrode described above can be more reliably prevented. be able to. Furthermore, even when the transparent electrode is a laminate of two or more layers, this configuration ensures more total reflection of light at the interface between the layers as well as total reflection of light on the upper surface of the transparent electrode. Can be prevented.
本発明は、第1の光取り出し層と前記発光層との間に、更に、電荷発生層が配置されていること、を特徴とする請求項1に記載の発光デバイスであり、第1の光取り出し層が絶縁性の場合において、電荷発生層を第1の光取り出し層と前記発光層との間に設けることで、透明電極から発生する正孔の数量と同等の正孔が電荷発生層の下面に発生するため発光層での発光量が電荷発生層を設けない場合に比べて増加する。
The light-emitting device according to
本発明は、前記第1の光取り出し層には、該第1の光取り出し層中における前記少なくとも1つのレンズの位置を固定するための枠体が、該第1の光取り出し層の上面、及び、下面のうちの何れか一方の面に接して一体化された状態で形成されていることを特徴とする発光デバイスであり、枠体でレンズを所定の位置に配置することにより、発光層から放出される光を均一に透明電極の上面に取り出すことが出来、光取り出し効率を向上することが出来る。 According to the present invention, the first light extraction layer has a frame for fixing the position of the at least one lens in the first light extraction layer, the upper surface of the first light extraction layer, and The light emitting device is formed in a state of being in contact with and integrated with any one of the lower surfaces, and by disposing the lens at a predetermined position on the frame body, The emitted light can be extracted uniformly on the upper surface of the transparent electrode, and the light extraction efficiency can be improved.
本発明は、前記枠体が単分子膜からなり、前記単分子膜は、有機分子を用いて形成されており、かつ、前記第1の光取り出し層の上面に接する面、及び、前記第1の光取り出し層の下面に接する面のうちの何れか一方の面に共有結合で固定されていることを特徴とする発光デバイスであり、枠体が単分子膜で形成されていることにより枠体をナノメートルの厚みで形成することができ、発光層と透明電極との間に第1の光取り出し層を容易に構成することが出来る。 In the present invention, the frame body is formed of a monomolecular film, the monomolecular film is formed using an organic molecule, and the surface is in contact with the upper surface of the first light extraction layer. The light emitting device is characterized in that it is fixed to any one of the surfaces in contact with the lower surface of the light extraction layer by a covalent bond, and the frame is formed of a monomolecular film. The first light extraction layer can be easily formed between the light emitting layer and the transparent electrode.
本発明は、前記枠体が前記単分子膜と前記少なくとも1つのレンズと前記単分子膜により構成される凹凸面を平坦にするための平坦化層からなり、前記単分子膜は、有機分子を用いて形成されており、かつ、前記第1の光取り出し層の上面に接する面、及び、前記第1の光取り出し層の下面に接する面のうちの何れか一方の面に共有結合により固定されていること、を特徴とする発光デバイスであり、平坦化層を形成することにより発光デバイスの積層化を容易にすることが出来る。 In the present invention, the frame includes a planarizing layer for flattening an uneven surface constituted by the monomolecular film, the at least one lens, and the monomolecular film, and the monomolecular film contains organic molecules. And is fixed to one of a surface in contact with the upper surface of the first light extraction layer and a surface in contact with the lower surface of the first light extraction layer by a covalent bond. The light-emitting device is characterized in that the light-emitting device can be easily stacked by forming a planarization layer.
本発明は、前記発光層と前記対極との間に、第2の光取り出し層がさらに配置されており、前記第2の光取り出し層中に、前記発光層から放出される光を屈折させるための少なくとも1つのレンズが埋設されていることを特徴とする発光デバイスであり、第2の光取り出し層を設けることで透明電極の上面における光取り出し効率を向上することが出来る。 According to the present invention, a second light extraction layer is further disposed between the light emitting layer and the counter electrode, and the light emitted from the light emitting layer is refracted into the second light extraction layer. The light emitting device is characterized in that at least one lens is embedded, and the light extraction efficiency on the upper surface of the transparent electrode can be improved by providing the second light extraction layer.
ここで、本発明において、「下面」とは、1つの層が有する6つの面のうちの発光層と対峙しあう2つの面であって、対極により近い側の面を指す。 Here, in the present invention, the “lower surface” refers to two surfaces that face the light emitting layer among the six surfaces of one layer and that are closer to the counter electrode.
また、ここで、本発明において、「上面」とは、前記「下面」で規定した2つの面であって、対極より遠い側の面を指す。 Here, in the present invention, the “upper surface” refers to the two surfaces defined by the “lower surface” and the surfaces farther from the counter electrode.
また、ここで、本発明において、「透明電極」とは、発光層で正孔と電子との再結合により発生する光に対する光透過性を有する電極をいう。 Here, in the present invention, the “transparent electrode” refers to an electrode having optical transparency to light generated by recombination of holes and electrons in the light emitting layer.
また、ここで、本発明において、「枠体」とは、発光層で正孔と電子との再結合により発生する光に対する光透過性を有するものである。また、光取り出し層の下面、及び上面のうちの何れか一方の面に接して一体化された状態で形成されるものである。 Here, in the present invention, the “frame body” has light transmittance with respect to light generated by recombination of holes and electrons in the light emitting layer. In addition, the light extraction layer is formed in an integrated state in contact with one of the lower surface and the upper surface.
また、ここで、本発明において、「電荷発生層」とは、電気絶縁性を有し、且つ正孔と電子対を発生する機能を有する層をいう。 Here, in the present invention, the “charge generation layer” refers to a layer having electrical insulating properties and a function of generating holes and electron pairs.
また、ここで、本発明において「上方」とは、上記「上面」に対して、対極から遠ざかる方向を指す。 Here, in the present invention, “upward” refers to a direction away from the counter electrode with respect to the “upper surface”.
本発明によれば、高い光取り出し効率の発光デバイスを形成することが出来る。従来に比べてデバイスの光量を増加させることが出来るとともに、追加の効果として、従来と同等の光量を維持するのであれば、その駆動電力を下げることが可能になる。また、駆動電力により発光材料の劣化が著しい材料を用いた発光デバイスの場合は、その寿命を延ばすことも可能になる。 According to the present invention, a light-emitting device with high light extraction efficiency can be formed. The amount of light of the device can be increased as compared with the conventional case, and as an additional effect, if the same amount of light as that of the conventional case is maintained, the driving power can be reduced. In addition, in the case of a light emitting device using a material in which the light emitting material is significantly deteriorated by driving power, the lifetime can be extended.
以下、図面を参照しながら本発明の発光デバイスの好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明では、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
(実施の形態1)
本発明の一実施の形態について図1を用いて説明する。
Hereinafter, preferred embodiments of the light-emitting device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(Embodiment 1)
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
図1は、本発明の発光デバイスの実施の形態1の基本構成を示す模式断面図である。図1に示す発光デバイス10は、透明電極11と対極12と発光層13と第1の光取り出し層21と、から構成されている。この当該第1の光取り出し層21はレンズ15が埋設されている。更に、当該レンズ15は前記発光層13から放出される光を屈折させる機能を有している。更に、前記透明電極11と当該光取り出し層21は発光層13から発光する光を透過する機能を有している。更に、前記対極12は前記発光層13から発光される光を反射するか、あるいは透過する機能のうち何れか1つの機能を有している。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the basic configuration of a light emitting device according to
前記発光デバイス10は前記透明電極11と前記対極12により構成されるが、陽極と陰極という構成でもある。前記透明電極11は陽極、陰極の何れか一方を為しており、前記対極12は前記透明電極11の対極の極を為す。
The
陰極材料としては、仕事関数の小さな金属、及び当該金属を含む合金、酸化物が使用される。その具体的な代表例としては、ナトリウム、リチウムなどのアルカリ金属単体、又はその合金(たとえば、アルミニウム−リチウム合金)である。また、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属単体、又はその合金(たとえば、マグネシウム−インジウム合金)である。合金はアルミニウム、銀、インジウムなどと為される。また、ガリウム、インジウムなど一部の第3族金属を用いることも可能である。
As the cathode material, a metal having a small work function and an alloy or oxide containing the metal are used. A specific representative example is a simple alkali metal such as sodium or lithium, or an alloy thereof (for example, an aluminum-lithium alloy). Moreover, it is an alkaline-earth metal simple substance, such as calcium and magnesium, or its alloy (for example, magnesium-indium alloy). The alloy is made of aluminum, silver, indium or the like. It is also possible to use some
陽極材料としては、仕事関数の大きな金属や合金が使用可能である。インジウム錫酸化物合金(ITO)、インジウム亜鉛酸化物合金(IZO)、インジウム酸化物、スズ酸化物、金、ヨウ化銅、及びその派生材料がその代表例である。 As the anode material, a metal or alloy having a large work function can be used. Typical examples thereof include indium tin oxide alloy (ITO), indium zinc oxide alloy (IZO), indium oxide, tin oxide, gold, copper iodide, and derivatives thereof.
なお、透明電極が透明基板と電気伝導層とから構成される場合は、上記透明電極は電気伝導層を指す。 In addition, when a transparent electrode is comprised from a transparent substrate and an electrically conductive layer, the said transparent electrode points out an electrically conductive layer.
前記発光層13は、低分子有機化合物、デンドリマー、高分子化合物が使用可能で、その代表例としては、アルミニウム−キノリノール錯体、ベリリウム−ベンゾキノリノール錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、キナクリドン誘導体、ペリレン系化合物、ジフェニルテトラセン、ルブレン、ユーロピウム錯体、白金ポルフィリン錯体、イリジウム錯体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリチオフェン類、ポリフルオレン類、ジスチルビフェニル誘導体、ジフェニルエチレン誘導体、ジアミノカルバゾール誘導体、クマリン系化合物、ナフタレン系化合物、ビススチリル系化合物、ピラジン系化合物、ポリベンゾカルバゾール類がある。
The
更に、アルミニウム−キノリノール錯体の具体例としては、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(略号:Alq3)、また、ベリリウム−ベンゾキノリノール錯体の具体例としては、ビス(ベンゾキノリノラト)ベリリウム錯体、また、ユーロピウム錯体の具体例としては、トリ(ジベンゾイルメチル)フェナントロリンユーロピウム錯体、また、ジフェニルエチレン誘導体の具体例としては、ジトルイルビニルビフェニル、ポリパラフェニレンビニレン誘導体の具体例としては、ポリ(2−メトキシ−5−(2‘−エチルヘキシルオキシ)−1,4−(1−シアノビニレン)フェニレン)が挙げられる。 Further, specific examples of the aluminum-quinolinol complex include tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (abbreviation: Alq3), and specific examples of the beryllium-benzoquinolinol complex include bis (benzoquinolinolato) beryllium complex, Specific examples of europium complexes include tri (dibenzoylmethyl) phenanthroline europium complexes, and specific examples of diphenylethylene derivatives include di (toluylvinylbiphenyl) and polyparaphenylenevinylene derivatives. -Methoxy-5- (2'-ethylhexyloxy) -1,4- (1-cyanovinylene) phenylene).
前記第1の光取り出し層21は前記対極12と前記発光層13の間に設けられており、前記第1の光取り出し層21には前記レンズ15が配置され、前記発光層13で発光した光を屈折又は回折の作用を経て、当該光を前記透明電極11に入射される。この操作で当該透明電極11に入射する光の入射角が変更され、前記透明電極11の上面で起こる全反射の割合を減少することが出来るようになる。
The first
次に、実施の形態1の変形を図2に示す。当該第1の光取り出し層21の上面に接して電荷発生層17が設けられている。当該電荷発生層17は電気絶縁性を有し、且つ正孔と電子の対を発生する層である。
Next, a modification of the first embodiment is shown in FIG. The
図2において、前記透明電極11が陽極、且つ前記対極12が陰極の場合は、当該電荷発生層17の下面には正孔が発生する。
In FIG. 2, when the
前記電荷発生層17を構成する材料としては、アリールアミン系化合物が好ましく、より具体的には4,4‘−ビス(N−(2−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(α−NPD)、(スピロ−NPB)、2,2,7,7−テトラ−(3−メチルジフェニルアミノ)−9,9−スピロビフルオレン(スピロ−TAD)、4,4’,4’’−トリス−[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−トリフェニルアミン(2−TNATA)、五酸化バナジウム、ITOが例示出来る。
The material constituting the
なお、有機ELハンドブック、リアライズ理工センター発行、監修筒井哲夫、編集委員長城戸淳二のp.263〜p.274に記載の電荷発生層の材料を使用することも出来る。 In addition, the material of the charge generation layer described in p.263 to p.274 of the organic EL handbook, issued by Realize Science and Technology Center, supervised by Tetsuo Tsutsui, and editor-in-chief Keiji Kido can also be used.
次に、実施の形態1の変形を図3に示す。 Next, a modification of the first embodiment is shown in FIG.
当該第1の光取り出し層21には枠体16が設けられている。当該枠体16は前記レンズ15を区分けする目的で設けられるものである。区分けは前記レンズ15の形状、位置、大きさを決定するために設けられ、本願の発光デバイスに係る光に対して透明性を有している必要がある。
A
次に、実施の形態1の変形を図4に示す。 Next, a modification of the first embodiment is shown in FIG.
当該第1の光取り出し層21には枠体として、前記単分子膜18が設けられており、さらに平坦化膜19が設けられている。
In the first
当該単分子膜18は、前記レンズ15を区分けするために設けられる膜である。当該平坦化膜19は、少なくとも1つの前記レンズ15と前記単分子膜18により構成される凹凸面を平坦にするために設けられるものである。
The
前記単分子膜18を構成する有機分子としては、前記レンズ15を構成する材料を分離する機能を有していればよく特に限定するものではない。
The organic molecule constituting the
そして、分離する機能は前記単分子膜18を構成する有機分子の全体に有する必要はなく、少なくとも前記区分けの作用を及ぼす部分にあればよい。
The separating function does not need to be present in the whole organic molecule constituting the
前記区分けの作用を及ぼす機能として例えば、疎水性、撥油性、非粘着性、非親和性が挙げられる。これは前記レンズ15を構成する材料との相関関係を示す性質であり、特定することは出来ない。前述の諸性質の列挙は常識的な見地から挙げたものである。これら諸性質を示すと考えられる具体的例としては、炭化水素基、フッ化炭素基が挙げられる。
Examples of the function that exerts the function of classification include hydrophobicity, oil repellency, non-adhesiveness, and non-affinity. This is a property showing a correlation with the material constituting the
但し、前記レンズ15を構成する材料との相関関係によっては逆の作用を及ぼすこともある。
However, depending on the correlation with the material constituting the
また、前記単分子膜18は前記下地との共有結合により固定される。
The
図4において、前記下地は前記発光層13になるが、前記下地はこれに定まるものではない。固定を呈する共有結合の形態は前記単分子膜18を構成する有機分子と前記下地との組合せにより決定されるものである。
In FIG. 4, the base is the
代表的な共有結合の形態として、製造の容易さの観点から、−Z−O−、−Z−N−、及び、−Z−S−からなる群より選択される少なくとも1種の構造が含まれている結合であることが好ましい。ここで、Zは、Si、Ti、Alからなる群から選択される原子である。 Typical forms of covalent bonding include at least one structure selected from the group consisting of —Z—O—, —Z—N—, and —Z—S— from the viewpoint of ease of production. It is preferable that it is a bond. Here, Z is an atom selected from the group consisting of Si, Ti, and Al.
代表的な共有結合の形態を供するために必要な前記単分子膜18を構成する有機分子の官能基としては一般式(1)で表される特性を有していることが好ましい。
−Z−Dq ・・・(1)
|
Er
ここで、式(1)中のDは、F、Cl、Br、I、−OH、−SCN、−NCO、及び、炭素数が1〜5のアルコキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の原子又は原子団を示す。Eは、H、及び、炭素数が1〜3のアルキル基からなる群より選択される少なくとも1種の原子又は原子団を示す。qは1〜3の整数を示し、q+rは3である。ZはSi、Ti、Alからなる群から選択される原子である。
It is preferable that the functional group of the organic molecule constituting the
-ZD q (1)
|
E r
Here, D in the formula (1) is at least one selected from the group consisting of F, Cl, Br, I, —OH, —SCN, —NCO, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Or an atomic group. E represents at least one atom or atomic group selected from the group consisting of H and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. q represents an integer of 1 to 3, and q + r is 3. Z is an atom selected from the group consisting of Si, Ti, and Al.
より具体的な前記単分子膜18を構成する有機分子は一般式(2)で表される。
CFxHy-(CF2)m-(CH2)n-ZDqEr ・・・(2)
ここで、xは1〜3の範囲の整数で、かつ、yは0〜2の範囲の整数で、かつ、x+yは3を満たす数である。また、mは0〜18の整数で、かつ、nは0〜18の整数で、かつ、m+nは3以上で24未満である数である。ZはSi、Ti、Alからなる群から選択される原子である。Dは、F、Cl、Br、I、−OH、−SCN、−NCO、及び、炭素数が1〜5のアルコキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の原子又は原子団を示す。Eは、H、及び、炭素数が1〜3のアルキル基からなる群より選択される少なくとも1種の原子、又は原子団を示す。qは1〜3の整数を示し、q+rは3である。
More specific organic molecules constituting the
CF x H y - (CF 2 ) m - (CH 2) n -ZD q E r ··· (2)
Here, x is an integer in the range of 1 to 3, y is an integer in the range of 0 to 2, and x + y is a number satisfying 3. M is an integer of 0 to 18, n is an integer of 0 to 18, and m + n is a number that is 3 or more and less than 24. Z is an atom selected from the group consisting of Si, Ti, and Al. D represents at least one atom or atomic group selected from the group consisting of F, Cl, Br, I, —OH, —SCN, —NCO, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. E represents at least one atom or atomic group selected from the group consisting of H and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. q represents an integer of 1 to 3, and q + r is 3.
さらに、一般的に分子配向性のよい単分子膜を形成するためには、その構成する有機分子は直鎖状であることが好ましく、その分子鎖長も直鎖部分の構成原子数で10以上あることが好ましい。 Furthermore, in general, in order to form a monomolecular film having good molecular orientation, the organic molecule constituting the molecule is preferably linear, and the molecular chain length is 10 or more in terms of the number of constituent atoms of the linear part. Preferably there is.
さらに前記単分子膜18を構成するための有機分子としては、溶剤可溶性が必要となり、その観点から鎖長が長くなれば、不溶性となるために不適となる。官能基の種類や数などにより溶解性は変化するが、一般的に前記構成原子数の表記方法で22以下であることが好ましい。
Furthermore, the organic molecules for constituting the
一般式(1)で表される有機分子の中では、単分子膜の均一性を十分に確保する観点及び単分子膜を形成する際に配列される有機分子の分子密度を十分に確保する観点から、下記(101)〜(127)で表される有機分子が好ましい。
CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3 ・・・(101)
CF3(CH2)9SiCl3 ・・・(102)
CH2F(CH2)9SiCl3 ・・・(103)
CF3(CF2)4(CH2)2SiCl3 ・・・(104)
CF3(CF2)6SiCl3 ・・・(105)
CH3(CH2)9SiCl3 ・・・(106)
CH3(CH2)5SiCl3 ・・・(107)
CH3(CH2)6SiCl3 ・・・(108)
CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3 ・・・(109)
CH3(CH2)9Si(OCH3)3 ・・・(110)
CF3(CF2)6Si(OCH3)3 ・・・(111)
CF3(CF2)7(CH2)2SiBr3 ・・・(112)
CH3(CH2)9SiBr3 ・・・(113)
CF3(CF2)6SiBr3 ・・・(114)
CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCN)3 ・・・(115)
CH3(CH2)9SiH2Cl ・・・(116)
CF3(CF2)6SiH2Cl ・・・(117)
CF3(CF2)7(CH2)2SiH2Cl ・・・(118)
CH3(CH2)9SiH2Cl ・・・(119)
CF3(CF2)6SiH2Cl ・・・(120)
CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)2(OCH3) ・・・(121)
CH3(CH2)9Si(CH3)2(OCH3) ・・・(122)
CF3(CF2)6Si(CH3)2(OCH3) ・・・(123)
CF3(CF2)2(CH2)2Al(OC2H5)3・・・(124)
CH3(CH2)4SnCl(C3H7)2 ・・・(125)
CF2H(CF2)2(CH2)2SiH2Cl・・・(126)
CF3(CF2)7(CH2)2TiCl(CH3)2・・・(127)
上記のような有機分子としては、例えば信越化学工業株式会社製のシランカップリング剤、ジーイー東芝シリコーン株式会社製のシランカップリング剤、チッソ株式会社製の有機シリコン、東レ・ダウコーニング株式会社製のシランカップリング剤、アズマックス株式会社製の特殊化学品などを挙げることができる。
Among the organic molecules represented by the general formula (1), a viewpoint of sufficiently ensuring the uniformity of the monomolecular film and a viewpoint of sufficiently ensuring the molecular density of the organic molecules arranged when forming the monomolecular film. Therefore, organic molecules represented by the following (101) to (127) are preferable.
CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 SiCl 3 (101)
CF 3 (CH 2 ) 9 SiCl 3 (102)
CH 2 F (CH 2 ) 9 SiCl 3 (103)
CF 3 (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 2 SiCl 3 (104)
CF 3 (CF 2 ) 6 SiCl 3 (105)
CH 3 (CH 2 ) 9 SiCl 3 (106)
CH 3 (CH 2 ) 5 SiCl 3 (107)
CH 3 (CH 2 ) 6 SiCl 3 (108)
CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 (109)
CH 3 (CH 2 ) 9 Si (OCH 3 ) 3 (110)
CF 3 (CF 2 ) 6 Si (OCH 3 ) 3 (111)
CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 SiBr 3 (112)
CH 3 (CH 2 ) 9 SiBr 3 (113)
CF 3 (CF 2 ) 6 SiBr 3 (114)
CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCN) 3 (115)
CH 3 (CH 2 ) 9 SiH 2 Cl (116)
CF 3 (CF 2 ) 6 SiH 2 Cl (117)
CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 SiH 2 Cl (118)
CH 3 (CH 2 ) 9 SiH 2 Cl (119)
CF 3 (CF 2 ) 6 SiH 2 Cl (120)
CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) 2 (OCH 3 ) (121)
CH 3 (CH 2 ) 9 Si (CH 3 ) 2 (OCH 3 ) (122)
CF 3 (CF 2 ) 6 Si (CH 3 ) 2 (OCH 3 ) (123)
CF 3 (CF 2 ) 2 (CH 2 ) 2 Al (OC 2 H 5 ) 3 (124)
CH 3 (CH 2 ) 4 SnCl (C 3 H 7 ) 2 (125)
CF 2 H (CF 2 ) 2 (CH 2 ) 2 SiH 2 Cl (126)
CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 TiCl (CH 3 ) 2 (127)
Examples of the organic molecules as described above include, for example, a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., a silane coupling agent manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd., an organic silicon manufactured by Chisso Corporation, and a product manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. Examples include silane coupling agents and special chemicals manufactured by Asmax Co., Ltd.
また、1層の単分子膜の膜厚で好ましい値を示すと、5.0×10-10m〜3.4×10-9mの範囲となる。また、単分子膜を積み重ねることも可能で、多層の場合の膜厚の好ましい値を示すと、1×10-9m〜3×10-8mの範囲となる。このように単分子膜を構成する当該有機分子を積み重ねることにより、単分子膜の膜厚を増やすことも可能であるが、一般的に単分子膜18を積み重ねることにより分子配向性は崩れる可能性が多くなる。したがって、1層の単分子膜、単分子膜の多層に関わらず、より好ましい膜厚は、1.2×10-9m〜2.0×10-9mの範囲である。
Moreover, when showing a preferable value by the film thickness of one monolayer, it will be the range of 5.0 * 10 < -10 > m-3.4 * 10 < -9 > m. Monolayers can also be stacked, and a preferable value of the film thickness in the case of multiple layers is in the range of 1 × 10 −9 m to 3 × 10 −8 m. It is possible to increase the film thickness of the monomolecular film by stacking the organic molecules constituting the monomolecular film in this way, but in general, the molecular orientation may be lost by stacking the
前記下地の構成は、前記単分子膜18と共有結合を形成することから、前記単分子膜18を構成する有機分子と縮合反応可能な活性水素を有していることが好ましい。
Since the base structure forms a covalent bond with the
有機分子と縮合反応可能な活性水素を有する特性基としては、前記の縮合反応により有機分子と結合する側の末端部分に、−OH、−NH2、=N−H、及び、−SHからなる群より選択される少なくとも1種の構造を少なくとも有するものであることがより好ましい。前記以外の特性基で、有機分子と縮合反応可能な活性水素を有する特性基としては、−SO3H、−SO2H、−PO3H、−PO3H2、及び、−CO2Hからなる群より選択される少なくとも1種の構造を少なくとも有していることがより好ましい。
The characteristic group having active hydrogen capable of condensation reaction with an organic molecule is composed of —OH, —NH 2 , ═N—H, and —SH at the terminal portion bonded to the organic molecule by the condensation reaction. It is more preferable to have at least one structure selected from the group. A characteristic group other than the Examples of the characteristic group having an organic molecule and a condensation reactive active hydrogen, -SO 3 H, -SO 2 H , -PO 3 H, -PO 3
なお、有機分子と縮合反応可能な活性水素を有する特性基は、全体が下地面から露出した状態だけでなく、活性水素のみ、又は活性水素を含む−OH、−SH、=N−H、−NH2の部分のみ下地面から露出した状態であり活性水素以外の部分が下地の内部に含まれている状態であってもよい。 Note that the characteristic group having active hydrogen capable of undergoing a condensation reaction with an organic molecule is not only the state in which the whole is exposed from the base surface, but also only active hydrogen or -OH, -SH, = N-H,- Only the NH 2 portion may be exposed from the base surface, and a portion other than active hydrogen may be included in the base.
例えば、活性水素以外の部分が下地の内部に含まれている場合、活性水素以外の部分が下地の構成元素と結合していてもよい。 For example, when a portion other than active hydrogen is included in the base, the portion other than active hydrogen may be bonded to the constituent element of the base.
より具体的には、例えば、下地の面近傍が光透過性を有する金属酸化物を構成材料として構成されている場合であって、特性基が−PO3Hの場合、−PO3H全体が下地面から露出していてもよく、−PO3Hのうちの−OHのみ露出しており、−PO2−の部分が下地内部に含まれていてもよい。下地内部に含まれる−PO2−の部分は−PO2−の状態のままでもよく、Pに結合した酸素が金属酸化物バルク中の金属原子(金属イオン)Mと結合して、例えば、−P−O−M−のような構造を有した状態となっていてもよい。 More specifically, for example, when the vicinity of the base surface is made of a light-transmitting metal oxide as a constituent material and the characteristic group is -PO 3 H, the entire -PO 3 H is may be exposed from the underlying surface is exposed only -OH of -PO 3 H, -PO 2 - portion of the may also be contained within the base. -PO 2 contained within the base - part of -PO 2 - may remain in the state, the oxygen bonded to P is bonded to a metal atom (metal ions) M of the metal oxides in bulk, for example, - It may be in a state having a structure such as POM.
また、前記下地が樹脂材料の場合であっても前記特性基を有しておれば使用可能である。さらに、前記下地が樹脂材料であり、且つ前記特性基を有していない場合でも、物理的手法、化学的手法により前記下地の表面に前記特性基を形成出来るならば、当該下地は使用可能である。 Even if the base is a resin material, it can be used if it has the characteristic group. Furthermore, even if the base is a resin material and does not have the characteristic group, the base can be used if the characteristic group can be formed on the surface of the base by a physical method or a chemical method. is there.
物理的手法の代表事例としてはプラズマ酸化処理、コロナ放電処理、オゾン酸化処理がある。また、化学的手法の代表事例としては、酸化剤(過マンガン酸カリウム)による酸化反応処理がある。 Typical examples of physical methods include plasma oxidation treatment, corona discharge treatment, and ozone oxidation treatment. As a typical example of the chemical method, there is an oxidation reaction treatment with an oxidizing agent (potassium permanganate).
さらに、樹脂製の前記下地の表面をメッキ、蒸着、CVDの方法により前記活性水素又は活性水素を含む特性基を有する層を新たに設ける手法もある。 Furthermore, there is a method of newly providing a layer having the active hydrogen or a characteristic group containing active hydrogen on the surface of the resin base by plating, vapor deposition, or CVD.
なお、当然のことながら下地の透明性を必要とする場合は新たに設ける層も透明性を必要とする。新たな層の代表的例として酸化ケイ素からなる層がある。 As a matter of course, when the transparency of the base is required, the newly provided layer also needs transparency. A typical example of the new layer is a layer made of silicon oxide.
前記レンズ15は対象となる光に対して光学的な効果を有する必要があり、少なくとも屈折率と透明性が求められる。屈折率は本発明要素の基材を含む各種の光学部品を総合的に光学設計して導出されるものであり、一概に規定することは出来ないが、通常1.3から1.7の範囲になる。
The
ただし、無機材料(高屈折率無機微粒子)を有機材料に複合させることにより、より高い屈折率にすることも可能である。 However, a higher refractive index can be obtained by combining an inorganic material (high refractive index inorganic fine particles) with an organic material.
また、透明性であることは当然であるが、透明度の最低値は各種の光学部品との関連で定まるものであり、透光性の最低値を規定することが出来ないが、通常80%以上が求められる。 Of course, it is transparent, but the minimum value of transparency is determined in relation to various optical components, and the minimum value of translucency cannot be defined, but usually 80% or more. Is required.
なお、当該レンズ15が電気伝導性を必要とする場合には、電気伝導性の材料をレンズ形成材料内に含有させる複合材料の形態を採る場合とレンズ形成材料自身が電気伝導性を有する場合に分けられる。
In addition, when the said
また、当該レンズ15が電気伝導性を必要としない場合は、レンズそのものが電荷発生の機能を有するか、または、電荷発生層を別途に設ける必要がある。
When the
さらに、前記レンズ15を構成する材料は熱硬化性またはエネルギー線硬化性を有している必要がある。ここで、エネルギー線とは紫外線、可視光線、電子線、エックス線で代表される活性放射線である。また、前記材料の主剤が高分子材料である場合と低分子材料(モノマー材料、オリゴマー材料)である場合の双方とも有効である。
Furthermore, the material constituting the
高分子材料の代表例としては、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネイト、ポリメチルメタクリレート、メチルフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ジエチレングリコール、ビスアリルカーボネイト、アクリロニトリル、スチレン共重合体、メチルメタクリレート・スチレン共重合体、ポリプロピレンが挙げられる。また、低分子材料の代表例としては、ポリアミドオリゴマー、アクリルモノマー、不飽和ポリエステルオリゴマー、ポリアクリルオリゴマー、エンチオールモノマー、アルキルポリシロキサンオリゴマーが挙げられる。 Typical examples of polymer materials include epoxy resin, urethane resin, polyester resin, polyether resin, silicone resin, polycarbonate, polymethyl methacrylate, methyl phthalate, polyethylene terephthalate, polystyrene, diethylene glycol, bisallyl carbonate, acrylonitrile, styrene copolymer Examples include coalesce, methyl methacrylate / styrene copolymer, and polypropylene. Representative examples of low molecular weight materials include polyamide oligomers, acrylic monomers, unsaturated polyester oligomers, polyacryl oligomers, enethiol monomers, and alkylpolysiloxane oligomers.
前記のレンズ材料は一般的に電気伝導性ではないため、電気伝導性を必要とする場合には、電気伝導性物質を新たに含有させる必要がある。 Since the lens material is generally not electrically conductive, it is necessary to newly contain an electrically conductive substance when electrical conductivity is required.
このような電気伝導物質としては、前出のITO、前出のIZO、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウムが金属無機化合物の代表例に挙げられ、形状としては微粉末、フィラーであることが望ましい。 As such an electrically conductive material, the above-mentioned ITO, the above-mentioned IZO, zinc oxide, tin oxide, and indium oxide are listed as typical examples of the metal inorganic compound, and the shape is preferably a fine powder or a filler. .
また、前記材料の透明性を減少させる可能性はあるもののカーボンブラック、銅、銅合金、銀、銀合金、ハンダ、ニッケルが電気伝導性物質の代表例として挙げられる。これら材料は透明性および光学的なレンズ効果を損なわず、且つ電気伝導性を維持できる微粉末、フィラー形状が有効である。 Carbon black, copper, copper alloy, silver, silver alloy, solder, and nickel are typical examples of the electrically conductive substance although there is a possibility of reducing the transparency of the material. These materials are effective in the form of fine powder and filler that can maintain electrical conductivity without impairing transparency and optical lens effect.
また、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリチオフェンに代表される導電性ポリマー粒子も有効である。 In addition, conductive polymer particles represented by polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, and polythiophene are also effective.
さらに粒状ポリマーやフィラー状ポリマーの周囲を金などの金属でコーティングした材料も有効である。前記電気伝導性物質を前記レンズ材料に含有させる濃度は、当該発光デバイスの構成によって一概に決定することは出来ない。 Further, a material obtained by coating the periphery of a granular polymer or filler polymer with a metal such as gold is also effective. The concentration at which the electroconductive substance is contained in the lens material cannot be generally determined by the configuration of the light emitting device.
また、前記レンズ15を構成する材料として、無機材料も使用可能である。いわゆるゾル−ゲル法が適用出来る材料であればよく、金属有機化合物の金属アルコキシド(一般式M(OR)nで表される。ここで、Mは金属元素、Rはアルキル基、nは金属元素の酸化数である。代表例としては、テトラエトキシシラン、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムブトキシド、シリコンテトラエトキシド、チタンイソプロポキシド)、金属アセチルアセテート(代表例としては、インジウムアセチルアセテート、亜鉛アセチルアセテート)、金属カルボキシレート(金属有機塩酸)(代表例としては、シュウ酸バリウム、ステアリン酸イットリウム)が使用可能である。
Further, an inorganic material can also be used as the material constituting the
これらレンズ形成材料の金属無機化合物、または金属有機化合物の酸化物固体は非晶質セラミック、または結晶質セラミックのいずれの形態であっても適用可能である。 These metal-inorganic compound or metal-organic compound oxide solid of the lens-forming material can be applied in any form of amorphous ceramic or crystalline ceramic.
レンズ形成は、前述の無機材料をアルコールと水の混合溶液(ゾル)を作成する。必要に応じて加温することもある。このゾルを前記下地のレンズを載置する場所に設け、その後、加熱してガラス化を行うことでレンズを形成することが出来る。有機材料によりレンズ形成するときも注意が必要であるが、特に前述の無機材料を本製法でレンズ形成した場合は体積の減少が生じることを十分に考慮することが必要である。これら前記無機材料は、一般的に電気伝導性が乏しく、電気伝導性材料を含有させる必要がある場合の候補としては、前述の電気導電性材料が挙げられる。 For lens formation, a mixed solution (sol) of the above-described inorganic material with alcohol and water is prepared. May be warmed as needed. A lens can be formed by providing this sol at a place where the underlying lens is placed and then heating to vitrify it. Care must also be taken when forming a lens with an organic material, but it is necessary to fully consider that volume reduction occurs particularly when the above-described inorganic material is formed with a lens by this manufacturing method. These inorganic materials generally have poor electrical conductivity, and the above-mentioned electrically conductive materials can be cited as candidates when it is necessary to contain the electrically conductive material.
前記以外に、レンズそのものが電気伝導性を保持する材料も有効である。代表例としてポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体が挙げられる。 In addition to the above, a material in which the lens itself retains electrical conductivity is also effective. Typical examples include polypyrrole, polythiophene, polyaniline, polypyrrole derivatives, polythiophene derivatives, and polyaniline derivatives.
前記レンズ15を構成するレンズ材料は前記下地の表面を前記単分子膜18で被覆していない箇所に設けられる。前記レンズ材料が載置される前記基材表面と前記単分子膜18から形成される窪みの体積は5×10-25m3〜2×10-16m3の範囲であることが好ましい。さらに、6×10-22m3〜1×10-19m3の範囲であることがより好ましい。
The lens material constituting the
前記レンズ15は球面レンズ形状あるいは曲面レンズ形状まで様々な形状を採ることが可能であり、そのレンズ材料の嵩は3×10-24m3〜3×10-13m3であることが好ましい。さらに、1×10-19m3〜3×10-16m3であることがより好ましい。
The
前記下地の上に前記レンズ15を載置するために前記単分子膜18のパターニングを行う手法としては、下地全面を単分子膜で被覆した後にレンズを載置する箇所の単分子膜を除去する手法と、予めレンズ15を載置する箇所をレジスト膜でカバーした後に単分子膜18を形成し、その後に前記レジスト膜を取り除く手法がある。
As a method of patterning the
前者としては、単分子膜18を残す部分をレジストまたは金属マスクなどで保護し、酸素雰囲気の下での紫外線照射でオゾンによる有機分子の酸化分解を行う。また、前記カバーを行わずに紫外線や電子線など高エネルギー線の直接パターン照射で有機分子の分解などが適用可能である。
As the former, the portion where the
前述の方法以外でも、例えば、印刷法、転写法、スクリーン法、吐液法、インクジェット法、スタンプ法等の方法を採用することができる。 In addition to the methods described above, for example, methods such as a printing method, a transfer method, a screen method, a liquid discharge method, an ink jet method, and a stamp method can be employed.
また、前記下地の上に半導体プロセスによるフォトレジストパターンを形成し、レジストパターンを残したままで単分子膜を形成し、その後にフォトレジストパターンを有機溶剤により除去する手法も適用可能である。除去可能であれば下地の上に形成するパターンの材質は金属であってもよい。 Further, a method of forming a photoresist pattern by a semiconductor process on the base, forming a monomolecular film while leaving the resist pattern, and then removing the photoresist pattern with an organic solvent is also applicable. As long as it can be removed, the material of the pattern formed on the base may be metal.
レンズ材料を前記下地の上に載置する場合、前記下地をレンズ材料の液中にディッピングし、前記下地を当該液から引き上げることで、前記下地の上のレンズを載置する場所にレンズ材料を配置することが出来る。 When the lens material is placed on the base, the lens material is placed at a place where the lens is placed on the base by dipping the base into the liquid of the lens material and pulling up the base from the liquid. Can be placed.
但し、当該液の粘度、単分子膜のレンズ材料の非親和性の具合により適切な載置が出来ない場合がある。 However, proper placement may not be possible depending on the viscosity of the liquid and the non-affinity of the monomolecular lens material.
その場合はレンズ材料を適量だけ吐出する方式によりレンズ形成が出来る。適量だけ吐出する具体的な手法は、スポイトによるレンズ材料の滴下、ディスペンサーによるレンズ材料の滴下、インクジェット法によるレンズ材料の滴下が例示出来る。 In that case, the lens can be formed by a system in which an appropriate amount of lens material is discharged. Specific methods for discharging an appropriate amount can include dropping the lens material with a dropper, dropping the lens material with a dispenser, and dropping the lens material with an inkjet method.
なお、インクジェット法などの手法によりレンズ材料の載置量を定めることが出来ると、レンズ載置面上に半球面以上のレンズ材料量の載置や半球面レンズ未満のレンズ材料量を載置が可能となりレンズ形状は半球面状レンズ以外の形状を採ることが出来るようになる。 If the amount of lens material to be placed can be determined by a method such as an ink jet method, a lens material amount of hemispherical or higher or a lens material amount of less than a hemispherical lens can be placed on the lens mounting surface. It becomes possible to adopt a shape other than a hemispherical lens.
したがって、同方法を本願に適用することによりマイクロレンズの適用範囲が拡大することは明白である。 Therefore, it is obvious that the application range of the microlens is expanded by applying this method to the present application.
図1〜図4に示すレンズ15は底面の形状は特に示していないが、レンズ15を形成する箇所の形状は、単分子膜18で被覆しない箇所の形状で決定されるため、正方形、長方形、多角形(六角形、八角形)などであってもよい。
The
また、図1〜図4に示すように、前記レンズ15は複数のレンズからなるレンズアレイの形態を構成することが可能である。個々のレンズは前記単分子膜18により区分けされるが、個々のレンズの間隔は、前記単分子膜18のパターン形状によって決定される。
Moreover, as shown in FIGS. 1-4, the said
レンズアレイを形成するにふさわしい前記単分子膜18の個々のレンズ間の最小パターン寸法は5×10-8mであり、その最大パターン寸法はいくらでも大きく採ることが可能である。
The minimum pattern size between individual lenses of the
レンズアレイの構成の常識的な値としては5×10-1mであろう。ただし、レンズアレイを必要とする箇所がデバイス中に島状に複数箇所あり、その島状箇所間の間隔をレンズパターン間隔とするならば、最大パターン寸法は前記値よりも大きくなる場合があることは自明である。 A common sense value for the configuration of the lens array would be 5 × 10 −1 m. However, if there are multiple locations that require lens arrays in the shape of islands in the device, and the interval between the island locations is the lens pattern interval, the maximum pattern size may be larger than the above value. Is self-explanatory.
さらに最小寸法のより好適値としては1×10-7mであることが好ましい。
但し、前述の最小パターン寸法は現在の半導体プロセス技術によるパターン形成の限界値により変化するものであり、今後、最小のパターン寸法は更に小さくすることも単分子膜においては可能である。
Further, a more preferable value of the minimum dimension is preferably 1 × 10 −7 m.
However, the above-mentioned minimum pattern dimension changes depending on the limit value of pattern formation by the current semiconductor process technology, and in the future, the minimum pattern dimension can be further reduced in the monomolecular film.
レンズアレイのレンズ密度はその適用するデバイスに応じて臨機に適合させることが出来るが、本願レンズの構成、材料、製法などから好適値が定まり、最大1×1014個/m2が可能である。 The lens density of the lens array can be adapted to the device according to the device to which it is applied, but a suitable value is determined by the configuration, material, manufacturing method, etc. of the lens of the present application, and a maximum of 1 × 10 14 pieces / m 2 is possible. .
さらに最大値2×1012個/m2が好ましく、より好ましくは最大値2×1011個/m2である。 Further, a maximum value of 2 × 10 12 pieces / m 2 is preferable, and a maximum value of 2 × 10 11 pieces / m 2 is more preferable.
一方、密度の最小値はレンズ1個の場合まで可能であるので、数値にすることは出来ない。 On the other hand, the minimum value of the density is possible up to the case of one lens and cannot be a numerical value.
但し、当該最大値は、現在の半導体プロセス技術によるパターン形成の限界値により変化するものであり、今後、技術の進展により当該最大値は更に増やすことも単分子膜においては可能である。 However, the maximum value changes depending on the limit value of pattern formation by the current semiconductor process technology, and it is possible for the monomolecular film to further increase the maximum value as technology advances.
当該レンズアレイの形状は、常に一定にする必要はなく、状況に応じてレンズ底面の面積に傾斜を設けること、レンズ底面の形状を変化させる、また、全くアトランダムなレンズ形状を配置することも十分に可能である。 The shape of the lens array does not always need to be constant, and it is possible to change the shape of the lens bottom surface according to the situation, to change the shape of the lens bottom surface, or to arrange a totally at random lens shape. It is possible enough.
前記平坦化膜19は、本願で扱われる光に対して透光性が要求される。前記平坦化膜19を構成する材料は有機材料が主として用いられる。また、前記平坦化膜19はウエットプロセスにより形成される方法(たとえば、回転塗工法)がより望ましく、具体的な例示としては、メタクリレート系化合物、アクリレート系化合物、シリコーン系化合物、ウレタン系化合物、アクリルシリコン系化合物、オルガノアルコキシシラン系化合物材料が使用される。また、無機材料としては、ケイ酸塩系化合物、アルコキシシラン系化合物材料が使用される。 より具体的な材料の例示としては、アクリレート系化合物として、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートが例示される。また、オルガノアルコキシシラン系化合物としては、グリシドキシプロピルトリメトキシシランが例示される。
The
これらの材料は、前記レンズ15などの前記第1の光取り出し層21の構成、その前後の前記透明電極11、発光層13などの光学的な構成によって選択される。
These materials are selected depending on the configuration of the first
当該平坦化膜19は電気伝導性を有していることが望ましい場合がある。しかし、前記平坦化膜19の形成材料は、一般的に電気伝導性は乏しいため、別途に前記平坦化膜19の形成材料に電気伝導性を付与する必要がある。
In some cases, the
電気伝導性付与物質としては、前記レンズ材料に対する電気伝導性材料が使用可能である。 As the electrical conductivity imparting substance, an electrical conductive material for the lens material can be used.
また、前記平坦化膜19の材料に電気伝導性材料を使用することも出来る。その候補としては、レンズ材料の説明で使用した材料を活用することが出来る。但し、前記平坦化膜19の形成材料の選択として、レンズの光学的効果を妨げることがない材料を選ぶことは尤もである。
なお、実施の形態1およびその他の形態では、図1〜図4に示すように図面上で上に向かって凸型のレンズを例示したが、発光デバイスの構成、プロセスに応じて、図面上で下に向かって凸型のレンズを形成する場合もあるが、その光学的な効果には変化はなく、より簡便な形態を採ればよい。
Also, an electrically conductive material can be used for the material of the
In
ここで、本発明の発光デバイスの製造工程について図11(a)〜(c)を参照しながら説明する。 Here, the manufacturing process of the light-emitting device of the present invention will be described with reference to FIGS.
まず、図11(a)に示すように特に図示しないが、基材として例えばSi板などの鏡面上に対極12を形成する材料としてアルミリチュウム合金(Li:15%含有)を蒸発源として用いて、真空蒸着法により50nmの膜厚になるように対極12を形成する。
First, as shown in FIG. 11A, although not particularly illustrated, an aluminum alloy (Li: 15%) is used as an evaporation source as a material for forming the
ここで真空蒸着機のチャンバー圧力は5×10-5Paとし、蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒になるように制御した。 Here, the chamber pressure of the vacuum vapor deposition machine was 5 × 10 −5 Pa, and the vapor deposition rate was controlled to be 0.1 to 0.2 nm / second.
この対極12の上面に光取り出し層21を形成する。
A
この光取り出し層はレンズ形成の工程と枠体形成の工程で形成されている。
さらに、この枠体形成の工程は、単分子膜形成の工程と平坦化膜形成の工程で形成されている。
This light extraction layer is formed by a lens forming step and a frame forming step.
Further, the frame forming process is formed by a monomolecular film forming process and a planarizing film forming process.
まず、枠体19を形成するために単分子膜を対極12の上面に形成する。前記対極12の表面に発光デバイスに必要なレンズ15を配置するために汎用の半導体レジストプロセスにより単分子膜のパターンを形成する。具体的には、前記対極12の表面にフォトレジストを塗布し、所定のフォトマスクにより紫外線を照射してフォトレジストをパターン形成する。
First, a monomolecular film is formed on the upper surface of the
次に、前記フォトレジストのパターンを残したままで単分子膜を形成する。
この単分子膜の形成材料は(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル)トリクロロシラン(信越化学工業株式会社製)のフッ素系液体(商品名:HFE−7100、住友スリーエム株式会社製)からなる溶液(濃度:1wt%)を調製したものである。この調製は、乾燥雰囲気下(乾燥窒素ガス雰囲気下、供給の窒素ガスの露点氷点下55度)で行う。
Next, a monomolecular film is formed with the photoresist pattern remaining.
The material for forming this monomolecular film is a fluorine-based liquid (trade name: HFE-7100, Sumitomo 3M Co., Ltd.) of (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) A solution (concentration: 1 wt%) made of a company) was prepared. This preparation is performed in a dry atmosphere (in a dry nitrogen gas atmosphere, 55 ° C. below the dew point of the supplied nitrogen gas).
単分子膜形成は、前記の乾燥雰囲気下(乾燥窒素ガス雰囲気下、供給の窒素ガスの露点氷点下55度)のグローブボックス内で行う。単分子膜は前記単分子膜の形成材料を単分子膜を設ける前記対極12の表面に接することにより形成することが出来る。
The monomolecular film is formed in the glove box under the above-mentioned dry atmosphere (in a dry nitrogen gas atmosphere and 55 ° C. below the dew point freezing point of the supplied nitrogen gas). The monomolecular film can be formed by bringing the material for forming the monomolecular film into contact with the surface of the
一般的には単分子膜を形成する基材を前記溶液に浸漬することで形成される。
浸漬時間は5分から60分の間で行う。浸漬して前記対極12の表面に単分子膜の形成を行った後、前記溶媒と同じ有機溶剤により洗浄し、表面が乾いた後に前記グローブボックスから取り出す。
Generally, it is formed by immersing a base material for forming a monomolecular film in the solution.
The immersion time is between 5 minutes and 60 minutes. After immersing to form a monomolecular film on the surface of the
次に、レジスト膜をアセトン等の有機溶媒で除去し、最終的にレンズ15を配置するためにパターン化された単分子膜18を形成する。
Next, the resist film is removed with an organic solvent such as acetone, and finally, a patterned
次に電気伝導性を保持したレンズ15の形成の方法を示す。
レンズ15の形成材料として、微粉末のITOを分散したポリエステル樹脂溶液を前記単分子膜の抜きの部分にマイクロディスペンサなどを用いて滴下する。もしくは、前記微粉末のITOを分散したポリエステル樹脂溶液に前記単分子膜18が形成された基材を浸漬し、適宜時間後に前記基材を引き上げることで前記単分子膜が形成されていない部分にレンズ形成材料を載置することが出来る。前記レンズ形成材料が載置された状態で加熱操作を行い、レンズ形成材料の熱硬化を行う。
この熱硬化条件は140〜150度の加熱で、時間は10〜30分とし、レンズ材料の完全硬化を行いレンズ15を形成した。
Next, a method for forming the
As a material for forming the
The heat curing conditions were heating at 140 to 150 degrees, and the time was 10 to 30 minutes. The lens material was completely cured to form the
次に、このレンズ15の上面に電気伝導性を保持した平坦化膜19を形成する。
Next, a
平坦化膜19の形成材料として、微粉末のITOを分散したグリシジルメタアクリレートと4'−メタクリロイロオキシカルコンの共重合体のシクロヘキサン溶液を調製した。
As a material for forming the
この溶液を回転塗布装置でレンズ15の上面に塗布し100℃-10分間のベーキングを行う。
This solution is applied to the upper surface of the
そして、紫外線照射を行い、光硬化を行う。硬化条件は360mJ/cm2の紫外線照射である。 And ultraviolet irradiation is performed and photocuring is performed. The curing condition is 360 mJ / cm 2 ultraviolet irradiation.
さらに、120℃で20分間ベーキングを行い、完全に硬化させ、平坦化膜19を形成した。
Further, baking was performed at 120 ° C. for 20 minutes, and the film was completely cured to form a
なお、必要に応じて紫外線キュアを行い、完全に硬化することも可能である。 It is also possible to cure completely by performing ultraviolet curing as necessary.
また、電気伝導性を保持したレンズの形成の別方法を示す。ポリビニルアルコールに塩化第二鉄の水溶液又はアルコール溶液を含浸させ、当該ポリビニルアルコール溶液を前記単分子膜が形成されていない部分にマイクロディスペンサなどを用いて滴下する。もしくは、前記ポリビニルアルコール溶液に前記単分子膜が形成された基材を浸漬し、適宜時間後に前記基材を引き上げることで前記単分子膜が形成されていない部分に前記ポリビニルアルコール溶液を載置することが出来る。次に、ピロールのエタノール溶液を前記ポリビニルアルコールが載置された部分に滴下、もしくは前記ピロール溶液中に前記基材を浸漬し、適宜時間後に引き上げることで、前記基材の単分子膜が形成されていない部分に前記ピロール溶液を載置することが出来る。当該ピロールは、塩化第二鉄の作用により重合され、ポリピロールのレンズが形成される。 In addition, another method for forming a lens having electrical conductivity will be described. Polyvinyl alcohol is impregnated with an aqueous solution or alcohol solution of ferric chloride, and the polyvinyl alcohol solution is dropped into a portion where the monomolecular film is not formed using a microdispenser or the like. Alternatively, the polyvinyl alcohol solution is placed on a portion where the monomolecular film is not formed by immersing the base material on which the monomolecular film is formed in the polyvinyl alcohol solution and pulling up the base material after an appropriate time. I can do it. Next, a monomolecular film of the base material is formed by dropping an ethanol solution of pyrrole onto the portion where the polyvinyl alcohol is placed, or immersing the base material in the pyrrole solution and pulling it up after an appropriate time. The pyrrole solution can be placed on the unexposed portion. The pyrrole is polymerized by the action of ferric chloride to form a polypyrrole lens.
前記ピロールの供給方法以外の供給方法として、前記基材とピロールのエタノール溶液を容器に収めたものを密閉容器に入れ、ピロールの蒸気を発生させて、前記ポリビニルアルコール溶液上でポリピロールを形成する。ピロールの蒸気発生量が乏しい場合は、加熱することで前記蒸気発生量を増やすことは可能である。 As a supply method other than the supply method of the pyrrole, a material containing the substrate and an ethanol solution of pyrrole in a container is put in a sealed container, and vapor of pyrrole is generated to form polypyrrole on the polyvinyl alcohol solution. When the amount of steam generated by pyrrole is poor, it is possible to increase the amount of steam generated by heating.
また、電気伝導性を保持したレンズの形成の別方法を示す。ピロールのエタノール溶液を前記単分子膜を形成していない部分にマイクロディスペンサなどを用いて滴下する。もしくは、前記ピロールのエタノール溶液に前記単分子膜が形成された基材を浸漬し、適宜時間後に前記基材を引き上げることで前記単分子膜が形成されていない部分に前記ピロールのエタノール溶液を載置することが出来る。当該基材を塩化第二鉄の水溶液又はアルコール溶液にさらすことによってポリピロールのレンズを形成することができる。 In addition, another method for forming a lens having electrical conductivity will be described. An ethanol solution of pyrrole is dropped onto a portion where the monomolecular film is not formed using a micro dispenser or the like. Alternatively, the substrate on which the monomolecular film is formed is immersed in the ethanol solution of pyrrole, and the pyrrole ethanol solution is mounted on a portion where the monomolecular film is not formed by lifting the substrate after an appropriate time. Can be placed. Polypyrrole lenses can be formed by exposing the substrate to an aqueous solution or alcoholic solution of ferric chloride.
前記電気伝導性のレンズ15の形成方法は平坦化膜19の形成においても適用可能である。ただし、レンズ15の光学的効果を損なうことはあってはならない。
The method for forming the electrically
次に図11(b)に示すように平坦化層の上面に発光層13を形成する。
Next, as shown in FIG. 11B, the
この発光層13の形成材料としてトリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq3)を蒸発源として用い真空蒸着法により50nmの膜厚になるように形成する。ここで、真空蒸着機のチャンバー圧力は1.33×10-2Paであり、蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒になるように制御することで発光層13を形成した。
As a material for forming the
次に図11(c)に示すように前記発光層13の上面に透明電極11を形成する。
Next, the
この透明電極11の形成はアクリル系ポリマーにITO微粒子を分散させた塗布型の導電性溶液を前記発光層13の上面に塗布し、40℃で10分間プリベークする。次に、120℃のベーキング炉で10分間ポストベークを行い、硬化させて透明電極11を作成した。
The
以上のような工程を経て発光デバイス10を作成した。
The
上記作成した発光デバイスの構造をZEMAX Development Corporation社製ZEMAX(光学評価設計ソフトウェア)により、光取り出し効率のシミュレーションを行った。表1に本発明のレンズ15を構成した発光デバイスとレンズ15を形成していない発光デバイスの外部取り出し光量を測定し前記レンズ15を形成していない発光デバイスの外部取り出し光量を1とした場合の本発明の発光デバイスの外部取り出し光量は2倍になることを確認した結果を示す。
The structure of the light emitting device created above was simulated for light extraction efficiency by ZEMAX (Optical Evaluation Design Software) manufactured by ZEMAX Development Corporation. Table 1 shows the results of measuring the amount of externally extracted light of the light emitting device that constitutes the
(実施の形態2)
本発明の一実施の形態について図5を用いて説明する。
(Embodiment 2)
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
図5は、本発明の発光デバイスの実施の形態2の基本構成を示す模式断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the basic configuration of the light emitting device according to
図5に示す発光デバイス30は、実施の形態1、または実施の形態1に対して、更に、第2の光取り出し層31が設けられている構成である。更に、当該第2の光取り出し層31はレンズ32と枠体33から構成されている。更に、当該レンズ32は前記発光層13から放出される光を屈折させる機能を有している。更に、当該第2の光取り出し層31は前記発光層13から発光する光を透過する機能を有している。
The light-emitting
当該発光デバイス30では、前記発光層13から全方向に放出される光が、前記実施の形態1により、前記透明電極11に入射した後に、更に、前記透明電極11から上方に出射する際の光の全反射の割合を減少することが出来るようになる。
In the
次に、実施の形態2の変形を図6に示す。 Next, a modification of the second embodiment is shown in FIG.
図6において、前記第2の光取り出し層31は、前記レンズ32、単分子膜34、平坦化層35とから構成されている。
In FIG. 6, the second
透明電極とは、電気伝導性及び発光層から放出される光に対する光透過性を有する層(たとえば、インジウム錫酸化物合金(ITO))のみからなる1層の構造からなる電極であってもよく、この層が発光層から放出される光に対する光透過性を有する透明基板(たとえばガラス基板)上に形成された積層体のような2層以上の積層体からなる電極であってもよい。
(実施の形態3)
図7は、本発明の発光デバイスの実施の形態3の基本構成を示す模式断面図である。
The transparent electrode may be an electrode having a single-layer structure made of only a layer (for example, indium tin oxide alloy (ITO)) having electrical conductivity and light permeability to light emitted from the light emitting layer. This layer may be an electrode composed of a laminate of two or more layers such as a laminate formed on a transparent substrate (for example, a glass substrate) having a light transmission property for light emitted from the light emitting layer.
(Embodiment 3)
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing the basic configuration of
図7に示す発光デバイス40は対極12に相対する側に透明基板41を設けた構成である。当該透明基板41は発光層13からの光を透過する機能を有しておれば良く、通常、ガラス板が使用される。また、透明プラスチック板も使用可能であり、これら材質のフィルムであっても良い。
(実施の形態4)
図8は、本発明の発光デバイスの実施の形態4の基本構成を示す模式断面図である。
図8に示す発光デバイス50は前記実施の形態3の前記透明基板41の上面に第3の光取り出し層51が設けられた構成になっている。更に、当該第3の光取り出し層51は、レンズ52と単分子膜53とから構成されている。
The
(Embodiment 4)
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing the basic configuration of the light emitting device according to
The
当該第3の光取り出し層51は、前記透明基板41に入射した前記発光層13からの光が更に前記透明基板41の上面で生じる全反射の割合を軽減し、また前記透明基板41の上面から前面の全方向に出射される光を前記透明基板41の面に垂直な方向に出射されるように指向性を整える役割も為すものである。
(実施の形態5)
図9は、本発明の発光デバイスの実施の形態5の基本構成を示す模式断面図である。
図9に示す発光デバイス60は発光デバイスとして必要な場合がある正孔注入層61、正孔輸送層62、電子阻止層63、正孔阻止層64、電子輸送層65、電子注入層66を構成に含むものである。
The third
(Embodiment 5)
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing the basic configuration of the light emitting device according to
The
図9は当該正孔注入層61、当該正孔輸送層62、当該電子阻止層63、当該正孔阻止層64、当該電子輸送層65、当該電子注入層66をすべて含むものとしているが、これらは必要に応じて設けられるものであり、常時、全てを必要とするものではない。
また、図9は、前記透明電極11を陽極とし、前記対極を陰極とした場合の例示であり、前記透明電極11が陰極であり、且つ、前記対極が陽極の場合は、前記の正孔注入層61、正孔輸送層62、電子阻止層63、正孔阻止層64、電子輸送層65、電子注入層66の配置は逆となる。すなわち、電子注入層66、電子輸送層65、正孔阻止層64、電子阻止層63、正孔輸送層62、正孔注入層61となる。
9 includes all of the
FIG. 9 is an example in which the
当該正孔注入層61は、電極から正孔が注入される効率を向上させるために設けられるもので、材料としては、銅フタロシアニンが代表例としてある。
この正孔注入層61の形成材料として、銅フタロシアニンを蒸着源として、加熱蒸着法により20nmの薄膜を形成し、正孔注入層とする。マスクは正孔輸送層形成用のマスクを併用する。
The
As a material for forming the
当該正孔輸送層62は、注入された正孔を効率良く発光層に輸送するために設けるもので、材料としては、前述のα−NPDが代表例としてある。
The
この正孔輸送層62の形成材料として、4,4‘−ビス(N−(2−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(α−NPD)を蒸発源として用い、真空蒸着法により50nmの膜厚になるように形成する。当該正孔輸送層62は、透明電極パターンが形成された後に形成する。選択的形成には金属マスクを使用する。ここで、真空蒸着機のチャンバー圧力は1.33×10-2Paであり、蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒になるように制御し、正孔輸送層62を作成する。
As a material for forming the
当該電子阻止層63は、前記発光層13を正孔と再結合することなく素通りして陽極に向かって移動する電子の動きを阻止するために設けるもので、材料としては、N、N‘−ビス(3−メチルフェニル)−N、N‘−ジフェニル−(1,1‘―ビフェニル)−4,4’―ジアミン(略号:TPD)が代表例である。この電子阻止層63の形成材料として、前述のTPDを蒸着源とし加熱蒸着法により10nmの薄膜を形成して電子阻止層63を作成する。マスクは正孔輸送層形成用のマスクを併用する。
The
当該正孔阻止層64は、前記発光層13を電子と再結合することなく素通りして陰極に向かって移動する正孔の動きを阻止するために設けるもので、材料としては、バソキュプロイン(略号:BCP)が代表例である。この正孔阻止層64の形成材料として、前述のBCPを蒸着源とし加熱蒸着法により20nmの薄膜を形成して正孔阻止層64を作成する。マスクは正孔輸送層形成用のマスクを併用する。
The
当該電子輸送層65は、注入された電子を効率良く発光層に輸送するために設けるもので、材料としては、前述のAlq3が代表例である。この電子輸送層65の形成材料として前述のオキサゾール誘導体であるジベンゾオキサゾールを蒸着源とし、加熱蒸着法により20nmの薄膜を形成して電子輸送層65を作成する。マスクは正孔輸送層形成用のマスクを併用する。
The
当該電子注入層66は、電極から電子が注入される効率を向上させるために設けられるもので、材料としては、オキサジアゾール誘導体、ビスアセチルアセトナトマグネシウム、有機金属錯体が代表例としてある。この電子注入層66の形成材料として、前述の有機金属錯体であるビス(8−キノリノナト)マグネシウム(II)を蒸着源とし加
熱蒸着法により10nmの薄膜を形成して電子注入層66を形成する。マスクは正孔輸送層形成用のマスクを併用する。
The
なお、これらの層は個々に独立して設けられる場合だけでなく、複数の機能を1つの層で兼ねて形成する場合もある。また、更に発光層の追加の機能として、前記の機能を兼ねる場合もある。 Note that these layers are not only provided independently of each other, but also may be formed by combining a plurality of functions with one layer. In addition, as an additional function of the light emitting layer, the above function may be used.
当該各層並びに前記発光層、前記透明電極、前記対極、前記透明基板の例示は、先行願の特開2000−348859、特開2001−279429、特開2002−100480、特開2004−59555、特開2004−139892、特開2004−171866、特開2004−192961、特開2004−217557、特開2004−217592、及び、American Institute of Physicsの論文Applied Physics Lettersの第81巻、162頁、2002年発行に具体的に明記されている。本発明の発光デバイスとして、前記に記載の材料が、代表例として使用可能である。 Examples of the respective layers, the light emitting layer, the transparent electrode, the counter electrode, and the transparent substrate are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-348859, 2001-279429, 2002-100480, 2004-59555, and JP-A-2004-55555. 2004-139798, JP-A-2004-171866, JP-A-2004-192961, JP-A-2004-217557, JP-A-2004-217492, and American Institute of Physics, Applied Physics Letters, Volume 81, 162, 2002 Is specifically stated in As the light emitting device of the present invention, the materials described above can be used as representative examples.
電気伝導性及び発光層から放出される光に対する光透過性を有する層(たとえば、インジウム錫酸化物合金(ITO))のみからなる1層の構造からなる電極である。 The electrode has a one-layer structure made of only a layer (for example, indium tin oxide alloy (ITO)) having electrical conductivity and light transmittance with respect to light emitted from the light emitting layer.
本発明の発光デバイスの前記実施の形態1から前記実施の形態6の変形形態について、図10を用いて説明する。図10は、前記実施の形態1で使用した図4を基にした発光デバイス70の模式断面図である。但し、図10は例示であって、他の実施の形態2から実施の形態6においても同様の実施が可能である。
Modifications of the first to sixth embodiments of the light-emitting device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of the
本発光デバイス70は、透明電極11と対極12と発光層13と第1の光取り出し層71と、から構成されている。更に、第1の光取り出し層71は、レンズ72、第1の単分子膜73、平坦化膜74、及び、第2の単分子膜75から構成されている。当該透明電極11、当該対極12、当該発光層13、当該第1の光取り出し層71、当該レンズ72、当該第1の単分子膜73、当該平坦化膜74の説明は前述の通りであり、その説明を省略する。
The
第2の単分子膜75はレンズ材料とのぬれ性の高い官能基を有することで、レンズ材料の保持性の向上を図る目的で形成される。したがって、レンズ材料を構成する分子(高分子又は低分子)と同程度の表面エネルギーを有している必要がある。単分子膜の官能基とレンズ材料を構成する分子の主に構成している官能基の表面エネルギーの差が12mN/m以下であることが好ましい。もしくはレンズ材料からなる表面エネルギーと第2の単分子膜75の表面エネルギーの差が12mN/m以下であることが好ましい。レンズ構成材料は実施の形態1に示すように様々な官能基を有しており、その表面エネルギーもいろいろな値を採りうるが、そのレンズを構成する官能基と同種の官能基を持つ有機分子で第2の単分子膜75を形成すればほぼ間違いない。たとえば、ポリウレタン樹脂の表面エネルギーは38mN/m程度であるが、これに適合する単分子膜を構成する有機分子の官能基としては末端にCCl2H基を有する材料が好ましい。この有機分子で形成された単分子膜の表面エネルギーは39mN/m程度になる。ポリアミドの場合の表面エネルギーは42mN/m程度になるが、これに適した第2の単分子膜の有機分子の有する官能基としてはCCl2=CH基がふさわしく、この場合の表面エネルギーは43mN/m程度になる。また、ポリエチレンテレフタレートも表面エネルギーが42mN/m程度となるので、当該第2の単分子膜が使用可能である。 The second monomolecular film 75 has a functional group having high wettability with the lens material, and is formed for the purpose of improving the retention of the lens material. Therefore, it is necessary to have the same surface energy as the molecules (polymer or low molecule) constituting the lens material. The difference in surface energy between the functional group of the monomolecular film and the functional group mainly constituting the molecule constituting the lens material is preferably 12 mN / m or less. Alternatively, the difference between the surface energy made of the lens material and the surface energy of the second monomolecular film 75 is preferably 12 mN / m or less. The lens constituent material has various functional groups as shown in the first embodiment, and the surface energy can take various values. However, the organic molecule has the same functional group as the functional group constituting the lens. If the second monomolecular film 75 is formed, there is almost no doubt. For example, the surface energy of a polyurethane resin is about 38 mN / m, and a material having a CCl2H group at the end is preferable as a functional group of an organic molecule constituting a monomolecular film compatible therewith. The surface energy of the monomolecular film formed with these organic molecules is about 39 mN / m. In the case of polyamide, the surface energy is about 42 mN / m, but the suitable functional group of the organic molecule of the second monomolecular film suitable for this is a CCl2 = CH group. In this case, the surface energy is 43 mN / m. It will be about. In addition, since the surface energy of polyethylene terephthalate is about 42 mN / m, the second monomolecular film can be used.
また、ポリプロピレンの表面エネルギーは29mN/mとなる。このレンズ材料にふさわしい第2の単分子膜75を構成する有機分子としては末端基にCH2基を有する分子が挙げられ、当該単分子膜の表面エネルギーは31mN/mである。以上のようにレンズ材料の表面エネルギーと近い第2の単分子膜75を形成することにより基材と密着したレンズを形成することが出来る。 The surface energy of polypropylene is 29 mN / m. Examples of the organic molecules constituting the second monomolecular film 75 suitable for the lens material include molecules having a CH2 group at the end group, and the surface energy of the monomolecular film is 31 mN / m. As described above, by forming the second monomolecular film 75 close to the surface energy of the lens material, it is possible to form a lens that is in close contact with the substrate.
さらに、第2の単分子膜75とレンズ形成材料とのその界面で化学結合させることも出来る。 Furthermore, chemical bonding can be performed at the interface between the second monomolecular film 75 and the lens forming material.
すなわちレンズ形成材料の重合性基と同じ特性基を第2の単分子膜75に持たせることにより、形成することが出来る。たとえば、第2の単分子膜75を構成する有機分子にエポキシ基を持たせることにより、エポキシ樹脂性のレンズと化学結合を形成することが出来る。 In other words, the second monomolecular film 75 can have the same characteristic group as the polymerizable group of the lens forming material. For example, by giving an epoxy group to the organic molecules constituting the second monomolecular film 75, it is possible to form a chemical bond with an epoxy resin lens.
また、エステル結合、アミド結合、ペプチド結合なども第2の単分子膜75とレンズとの界面で形成することも可能である。この場合は前記ぬれ性の一致による密着性向上だけでなく、化学結合を形成するためより密着性の高いレンズを形成することが出来る。 In addition, an ester bond, an amide bond, a peptide bond, or the like can be formed at the interface between the second monomolecular film 75 and the lens. In this case, it is possible to form a lens with higher adhesion not only by improving the adhesion by matching the wettability but also by forming a chemical bond.
また、上記のような有機分子としては、例えば以下の一般式の有機分子を挙げることができる。
CH2=CH(CH2)qSiCl3・・・(201)
NC(CH2)qSiCl3・・・(202)
Examples of the organic molecule as described above include organic molecules having the following general formula.
CH 2 = CH (CH 2 ) q SiCl 3 (201)
NC (CH 2 ) q SiCl 3 (202)
C6H5(CH2)qSiCl3・・・(204)
[式(201)〜(204)中、qは2〜22の整数を示す]
さらに、上記以外の第2の単分子膜を形成するために用いることができる有機分子としては、以下の有機分子を挙げることができる。
C 6 H 5 (CH 2 ) q SiCl 3 (204)
[In formulas (201) to (204), q represents an integer of 2 to 22]
Furthermore, examples of organic molecules that can be used to form the second monomolecular film other than those described above include the following organic molecules.
H2N(CH2)3Si(OCH3)3・・・(301)
OHC(CH2)3Si(OCH2CH3)3・・・(302)
HOOC(CH2)5Si(OCH3)3・・・(303)
HO(CH2)5Si(OCH3)3・・・(304)
H3COOC(CH2)5Si(OCH2CH3)3・・・(305)
(OH)2OP(CH2)3Si(OCH3)3・・・(306)
HO2S(CH2)3Si(OCH3)3・・・(307)
HS(CH2)3Si(OCH3)3・・・(308)
CH2=CH(CH2)6Si(OCH3)3・・・(309)
CH3C6H4Si(OCH3)3・・・(310)
ClCH2C6H4Si(OCH3)3・・・(311)
上記のような有機分子は、前述の第1の単分子膜を形成する場合に用いられる有機分子と同様に各化合物として入手可能である。
H 2 N (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 (301)
OHC (CH 2 ) 3 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 (302)
HOOC (CH 2 ) 5 Si (OCH 3 ) 3 (303)
HO (CH 2 ) 5 Si (OCH 3 ) 3 (304)
H 3 COOC (CH 2 ) 5 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 (305)
(OH) 2 OP (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 (306)
HO 2 S (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 (307)
HS (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 (308)
CH 2 = CH (CH 2 ) 6 Si (OCH 3 ) 3 (309)
CH 3 C 6 H 4 Si (OCH 3 ) 3 (310)
ClCH 2 C 6 H 4 Si (OCH 3 ) 3 (311)
The organic molecules as described above are available as respective compounds in the same manner as the organic molecules used in the case of forming the first monomolecular film described above.
透明電極とは、電気伝導性及び発光層から放出される光に対する光透過性を有する層(たとえば、インジウム錫酸化物合金(ITO))のみからなる1層の構造からなる電極であってもよく、この層が発光層から放出される光に対する光透過性を有する透明基板(たとえばガラス基板)上に形成された積層体のような2層以上の積層体からなる電極であってもよい。 The transparent electrode may be an electrode having a single-layer structure made of only a layer (for example, indium tin oxide alloy (ITO)) having electrical conductivity and light permeability to light emitted from the light emitting layer. This layer may be an electrode composed of a laminate of two or more layers such as a laminate formed on a transparent substrate (for example, a glass substrate) having a light transmission property for light emitted from the light emitting layer.
なお、当該第2の単分子膜と基材との結合性は、前記第1の単分子膜と基材との結合性と同じである。 The binding property between the second monomolecular film and the substrate is the same as the binding property between the first monomolecular film and the substrate.
また、第2の単分子膜の膜厚は第1の単分子膜の膜厚以下であることが好ましい。 The film thickness of the second monomolecular film is preferably equal to or less than the film thickness of the first monomolecular film.
また、デバイスの構成において、電荷発生層が必要となる場合があり、その形成構成を以下に示す。 Further, in the device configuration, a charge generation layer may be required, and the formation configuration thereof is shown below.
この電荷発生層の形成材料として、五酸化バナジウムを蒸発源として用い、真空蒸着法により10nmの膜厚になるように形成する。当該電荷発生層は、透明電極パターンが形成された後に形成する。選択的形成には金属マスクを使用する。ここで、真空蒸着機のチャンバー圧力は1.33×10-2Paであり、蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒になるように制御した。 As a material for forming the charge generation layer, vanadium pentoxide is used as an evaporation source, and the film is formed to a thickness of 10 nm by a vacuum evaporation method. The charge generation layer is formed after the transparent electrode pattern is formed. A metal mask is used for selective formation. Here, the chamber pressure of the vacuum vapor deposition machine was 1.33 × 10 −2 Pa, and the vapor deposition rate was controlled to be 0.1 to 0.2 nm / second.
さらに、先に示した透明電極の形成の別種の形成構成を以下に示す。 Further, another type of configuration for forming the transparent electrode described above is shown below.
すなわち、1mmの厚さのガラス基板上にスパッタリング法でアルミニウムを70nmの厚さで形成する。次に、紫外線照射による表面クリーニングを行い、透明電極(陽極)を作成する。 That is, aluminum is formed with a thickness of 70 nm on a glass substrate having a thickness of 1 mm by a sputtering method. Next, surface cleaning by ultraviolet irradiation is performed to create a transparent electrode (anode).
以上のいずれの実施の形態及びその変形も、簡単のために発光層が単層である事例でもって説明したが、発光層が複数となる場合においても、本発明の光取り出し層の導入により、各発光層の光取り出し効率を向上できる。 Any of the above-described embodiments and modifications thereof have been described in the case where the light emitting layer is a single layer for the sake of simplicity, but even when there are a plurality of light emitting layers, by introducing the light extraction layer of the present invention, The light extraction efficiency of each light emitting layer can be improved.
10、30、40、50、60、70・・・発光デバイス
11・・・透明電極
12・・・対極
13・・・発光層
21、71・・・第1の光取り出し層
15、32、52、72・・・レンズ
16、33・・・枠体
17・・・電荷発生層
18、34、53・・・単分子膜
19、35、74・・・平坦化膜
31・・・第2の光取り出し層
41・・・透明基板
51・・・第3の光取り出し層
61・・・正孔注入層
62・・・正孔輸送層
63・・・電子阻止層
64・・・正孔阻止層
65・・・電子輸送層
66・・・電子注入層
73・・・第1の単分子膜
75・・・第2の単分子膜
10, 30, 40, 50, 60, 70 ... light emitting
Claims (34)
前記対極と前記発光層との間に、第1の光取り出し層が更に配置されており、
前記第1の光取り出し層中に、前記発光層から放出された光を屈折させる
ための少なくとも1つのレンズが埋設していること、
を特徴とする発光デバイス。 A light emitting device having at least a transparent electrode, a counter electrode disposed opposite to the transparent electrode, and a light emitting layer disposed between the transparent electrode and the counter electrode,
A first light extraction layer is further disposed between the counter electrode and the light emitting layer;
Embedded in the first light extraction layer is at least one lens for refracting the light emitted from the light emitting layer;
A light emitting device characterized by.
を特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。 The first light extraction layer has electrical insulation;
The light-emitting device according to claim 1.
を特徴とする請求項1〜2の何れか1項に記載の発光デバイス。 The at least one lens is formed such that light emitted from the light emitting layer and traveling toward the transparent electrode through the at least one lens can be incident substantially perpendicularly to the lower surface of the transparent electrode. Being
The light-emitting device according to claim 1, wherein:
を特徴とする請求項第1〜3の何れか1項に記載の発光デバイス。 The first light extraction layer has a frame for fixing the position of the at least one lens in the first light extraction layer, a surface in contact with the upper surface of the first light extraction layer, and Formed in an integrated state in contact with any one of the surfaces in contact with the lower surface,
The light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting device is a light-emitting device.
前記単分子膜は、有機分子を用いて形成されており、かつ、
前記第1の光取り出し層の上面に接する面、及び、前記第1の光取り出し層の下面に接する面、のうちの何れか一方の面に共有結合で固定されていること、
を特徴とする請求項4に記載の発光デバイス。 The frame is a monomolecular film;
The monomolecular film is formed using organic molecules, and
It is fixed by covalent bond to any one of a surface in contact with the upper surface of the first light extraction layer and a surface in contact with the lower surface of the first light extraction layer,
The light-emitting device according to claim 4.
前記単分子膜は、
有機分子を用いて形成されており、かつ、
前記第1の光取り出し層の上面に接する面及び前記第1の光取り出し層の下面に接する面のうちの何れか一方の面に共有結合により固定されていること、かつ、
前記平坦化層は、前記単分子膜及び前記レンズを被覆していること、
を特徴とする請求項4に記載の発光デバイス。 The frame body is composed of a flattening layer for flattening an uneven surface constituted by the monomolecular film, the at least one lens, and the monomolecular film,
The monomolecular film is
Formed using organic molecules, and
Fixed to one of the surface in contact with the upper surface of the first light extraction layer and the surface in contact with the lower surface of the first light extraction layer by covalent bonding; and
The planarizing layer covers the monomolecular film and the lens;
The light-emitting device according to claim 4.
前記第2の光取り出し層中に、前記発光層から放出される光を屈折させるための少なくとも1つのレンズが埋設されていること、
を特徴とする請求項1〜7のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 A second light extraction layer is further disposed above the transparent electrode,
At least one lens for refracting light emitted from the light emitting layer is embedded in the second light extraction layer;
The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is a light emitting device.
第2の光取り出し層の上面、及び下面のうちの何れか一方の面に接して一体化された状態で形成されていること、
を特徴とする請求項8に記載の発光デバイス。 The second light extraction layer has a frame for fixing the position of the at least one lens in the second light extraction layer,
It is formed in an integrated state in contact with either one of the upper surface and the lower surface of the second light extraction layer,
The light-emitting device according to claim 8.
前記単分子膜は、有機分子を用いて形成されており、かつ、
第2の光取り出し層の上面、及び下面のうちの何れか一方の面に共有結合により固定されていること、
を特徴とする請求項9に記載の発光デバイス。 The frame is a monomolecular film;
The monomolecular film is formed using organic molecules, and
Being fixed by covalent bond to any one of the upper surface and the lower surface of the second light extraction layer;
The light-emitting device according to claim 9.
前記単分子膜は、
有機分子を用いて形成されており、かつ、
第2の光取り出し層の上面、及び下面のうちの何れか一方の面に共有結合により固定されていること、かつ、
前記平坦化層は、前記単分子膜及び前記レンズを被覆していること、
を特徴とする請求項9に記載の発光デバイス。 The frame body is composed of a monomolecular film, the at least one lens, and a planarizing layer for flattening an uneven surface composed of the monomolecular film,
The monomolecular film is
Formed using organic molecules, and
Fixed to one of the upper surface and the lower surface of the second light extraction layer by a covalent bond; and
The planarizing layer covers the monomolecular film and the lens;
The light-emitting device according to claim 9.
を特徴とする請求項8〜11のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 A transparent substrate is further disposed above the second light extraction layer;
The light emitting device according to claim 8, wherein the light emitting device is a light emitting device.
前記第3の光取り出し層中に、前記発光層から放出される光を屈折させるための少なくとも1つのレンズが埋設されていること、
を特徴とする請求項1〜7及び、請求項12のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 A third light extraction layer is further disposed above the transparent substrate,
At least one lens for refracting the light emitted from the light emitting layer is embedded in the third light extraction layer;
The light-emitting device according to any one of claims 1 to 7 and claim 12.
前記第3の光取り出し層の上面、及び下面のうちの何れか一方の面に接して一体化された状態で形成されていること、
を特徴とする請求項13に記載の発光デバイス。 The third light extraction layer has a frame for fixing the position of the at least one lens in the third light extraction layer,
It is formed in an integrated state in contact with either one of the upper surface and the lower surface of the third light extraction layer,
The light-emitting device according to claim 13.
前記単分子膜は、有機分子を用いて形成されており、かつ、
前記第3の光取り出し層の上面、及び下面のうちの何れか一方の面に共有結合により固定されていること、
を特徴とする請求項14に記載の発光デバイス。 The frame is a monomolecular film;
The monomolecular film is formed using organic molecules, and
Being fixed to one of the upper surface and the lower surface of the third light extraction layer by a covalent bond;
The light-emitting device according to claim 14.
前記単分子膜は、
有機分子を用いて形成されており、かつ、
前記第3の光取り出し層の上面、及び下面のうちの何れか一方の面に共有結合により固定されていること、かつ、
前記平坦化層は、前記単分子膜及び前記レンズを被覆していること、
を特徴とする請求項14〜15のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 The frame body is composed of a monomolecular film, the at least one lens, and a planarizing layer for flattening an uneven surface composed of the monomolecular film,
The monomolecular film is
Formed using organic molecules, and
Fixed to one of the upper surface and the lower surface of the third light extraction layer by a covalent bond; and
The planarizing layer covers the monomolecular film and the lens;
The light-emitting device according to any one of claims 14 to 15.
及び、該正孔注入層、該正孔輸送層、及び、該電子阻止層のうちの少なくとも2つ以上の層が配置される場合は、前記透明電極側から正孔注入層、正孔輸送層、及び、電子阻止層の順序で配置されること、
を特徴とする請求項1〜16のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 At least one of a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron blocking layer is disposed at at least one position between the transparent electrode and the light emitting layer;
And when at least two or more of the hole injection layer, the hole transport layer, and the electron blocking layer are disposed, the hole injection layer, the hole transport layer from the transparent electrode side And being arranged in the order of the electron blocking layer,
The light-emitting device according to any one of claims 1 to 16.
及び、該正孔阻止層、該電子輸送層、及び、該電子注入層のうちの少なくとも2つ以上の層が配置される場合は、前記発光層側から正孔阻止層、電子輸送層、及び、電子注入層の順序で配置されること、
を特徴とする請求項1〜17のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 At least one of a hole blocking layer, an electron transporting layer, and an electron injection layer is disposed at at least one position between the light emitting layer and the counter electrode;
And when at least two or more of the hole blocking layer, the electron transporting layer, and the electron injection layer are disposed, the hole blocking layer, the electron transporting layer, and Being arranged in the order of the electron injection layer,
The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is a light emitting device.
を特徴とする請求項1〜18のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 The lens is an oxide solid composed of any one of a metal organic compound and a metal inorganic compound;
The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is a light emitting device.
を特徴とする請求項21に記載の発光デバイス。 The oxide solid is any one of amorphous ceramics and crystalline ceramics;
The light-emitting device according to claim 21.
を特徴とする請求項19に記載の発光デバイス。 The oxide solid was formed through a sol-gel process;
The light-emitting device according to claim 19.
を特徴とする請求項1〜18のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 The lens is a high molecular compound composed of any one of a thermoplastic monomer, a thermoplastic oligomer, and a thermoplastic polymer;
The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is a light emitting device.
を特徴とする請求項1〜18のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 The lens is a polymer compound composed of any one of a photocurable monomer, a photocurable oligomer, and a photocurable polymer;
The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is a light emitting device.
を特徴とする請求項1〜16、及び請求項22〜23のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。 The lens is a composite of the polymer compound and an inorganic material;
The light emitting device according to any one of claims 1 to 16 and claims 22 to 23.
を特徴とする請求項5〜6、請求項10〜11,及び請求項15〜16のうちの何れか1項に記載の発光デバイス。(ここで、Zは、Si、Ti、Alからなる群から選択される原子である。) The covalent bond is a bond including at least one structure selected from the group consisting of -Z-O-, -ZN-, and -ZS-;
The light-emitting device according to any one of claims 5 to 6, claim 10 to 11, and claim 15 to 16. (Here, Z is an atom selected from the group consisting of Si, Ti, and Al.)
−Z−Dq ・・・(化1)
|
Er
(ここで、Dは、F、Cl、Br、I、−OH、−SCN、−NCO、及び、炭素数が1〜5のアルコキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の原子又は原子団を示す。また、Eは、H、及び、炭素数が1〜3のアルキル基からなる群より選択される少なくとも1種の原子又は原子団を示す。また、qは1〜3の整数を示し、q+rは3である。ZはSi、Ti、Alからなる群から選択される原子である。) It is represented by the general formula (Chemical Formula 1) of the functional group of the organic molecule that constitutes the monomolecular film, among the claims 5 to 6, the claims 10 to 11, and the claims 15 to 16 The light emitting device according to any one of the above.
-ZD q ... (Chemical formula 1)
|
E r
(Where D is at least one atom or atomic group selected from the group consisting of F, Cl, Br, I, -OH, -SCN, -NCO, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. E represents at least one atom or atomic group selected from the group consisting of H and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and q represents an integer of 1 to 3. Q + r is 3. Z is an atom selected from the group consisting of Si, Ti, and Al.)
を特徴とする請求項26に記載の発光デバイス。
CFxHy-(CF2)m-(CH2)n-ZDqEr ・・・(化2)
(ここで、xは1〜3の範囲の整数で、かつ、yは0〜2の範囲の整数で、かつ、x+yは3を満たす数である。また、mは0〜18の整数で、かつ、nは0〜18の整数で、かつ、m+nは3以上で24未満である数である。また、ZはSi、Ti、Alからなる群から選択される原子である。また、Dは、F、Cl、Br、I、−OH、−SCN、−NCO、及び、炭素数が1〜5のアルコキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の原子又は原子団を示す。また、Eは、H、及び、炭素数が1〜3のアルキル基からなる群より選択される少なくとも1種の原子又は原子団を示す。また、qは1〜3の整数を示し、q+rは3である。) The organic molecule constituting the monomolecular film is represented by the general formula (Formula 2),
27. The light emitting device of claim 26.
CF x H y - (CF 2 ) m - (CH 2) n -ZD q E r ··· ( of 2)
(Here, x is an integer in the range of 1 to 3, y is an integer in the range of 0 to 2, and x + y is a number satisfying 3. Also, m is an integer of 0 to 18, N is an integer of 0 to 18, and m + n is a number of 3 or more and less than 24. Z is an atom selected from the group consisting of Si, Ti, and Al. , F, Cl, Br, I, —OH, —SCN, —NCO, and at least one atom or atomic group selected from the group consisting of alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms. Represents at least one atom or atomic group selected from the group consisting of H and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, q represents an integer of 1 to 3, and q + r is 3. .)
を特徴とする発光デバイスの製造方法。 The light emitting device comprises at least a transparent electrode forming step, a light extraction layer forming step, a light emitting layer forming step, a counter electrode forming step,
A method of manufacturing a light emitting device characterized by
を特徴とする請求項28に記載の発光デバイスの製造方法。 The light-emitting device includes a step of forming a charge generation layer in addition to the step of claim 28.
The method for manufacturing a light-emitting device according to claim 28.
を特徴とする請求項28〜29の何れか1項に記載の発光デバイスの製造方法。 The step of forming the first light extraction layer of the light emitting device comprises a step of forming a frame and a step of forming a lens;
30. The method for manufacturing a light-emitting device according to any one of claims 28 to 29.
を特徴とする請求項30に記載の発光デバイスの製造方法。 The step of forming the frame comprises a step of forming a monomolecular film;
The method for manufacturing a light emitting device according to claim 30.
を特徴とする請求項30に記載の発光デバイスの製造方法。 The step of forming the frame includes a step of forming a monomolecular film and a step of forming a planarizing layer,
The method for manufacturing a light emitting device according to claim 30.
を特徴とする請求項28〜29の何れか1項に記載の発光デバイスの製造方法。 In addition to the steps of claims 29 to 30, the light emitting device includes a step of forming a hole transport layer, a step of forming a hole injection layer, a step of forming a hole blocking layer, and a formation of an electron transport layer. Including at least one of the following steps: forming an electron injection layer, forming an electron blocking layer,
30. The method for manufacturing a light-emitting device according to any one of claims 28 to 29.
を特徴とする請求項28〜29の何れか1項に記載の発光デバイスの製造方法。
In addition to the step of forming the light extraction layer, the light emitting device includes at least one of a step of forming a second light extraction layer and a step of forming a third light extraction layer. thing,
30. The method for manufacturing a light-emitting device according to any one of claims 28 to 29.
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