JP2006140548A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

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JP2006140548A JP2004325823A JP2004325823A JP2006140548A JP 2006140548 A JP2006140548 A JP 2006140548A JP 2004325823 A JP2004325823 A JP 2004325823A JP 2004325823 A JP2004325823 A JP 2004325823A JP 2006140548 A JP2006140548 A JP 2006140548A
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創 佐藤
Hiroaki Nanbu
博昭 南部
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit device capable of performing a variety of signal output operations including data transfer at a high frequency while simplifying the circuitry. <P>SOLUTION: For an output circuit capable of setting a plurality of output impedances through combination of a plurality of output MOSFETs, an output signal is formed with a first output impedance lower than the characteristic impedance of a transmission line based on a first control signal in correspondence with the variation timing of an input signal. Upon elapsing a first time later than the variation timing of input signal, an output signal is formed with a second output impedance matched to the characteristic impedance of a second control signal. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、半導体集積回路装置に関し、システム上での高い周波数でのデータ転送を可能にした半導体集積回路装置に利用して好適な回路技術に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and relates to a circuit technique suitable for use in a semiconductor integrated circuit device that enables data transfer at a high frequency on a system.

半導体集積回路装置に形成される出力回路の出力インピーダンスを調整可能とした例として、特開2002−152032公報と、特開2002−325019公報がある。
特開2002−152032公報 特開2002―325019公報
As examples in which the output impedance of an output circuit formed in a semiconductor integrated circuit device can be adjusted, there are JP-A-2002-152032 and JP-A-2002-325019.
JP 2002-152032 A JP 2002-325019 A

上記特許文献1においては、出力容量を小さく抑えたまま小さな出力インピーダンスが得られるインピーダンス制御可能な出力回路を提供している。すなわち、同公報図1に示されているように、各々インピーダンス値が異なりドレインが出力端子OUTに接続された複数のPMOSQp0〜Qp7と、対応するPMOSQp0〜Qp7を制御する信号を生成する複数の論理ゲート10〜17からなる第1の制御信号生成手段と、各々インピーダンス値が異なりドレインが出力端子OUTに接続された複数のNMOSQn0〜Qn7と、対応するNMOSQn0〜Qn7を制御する信号を生成する複数の論理ゲート20〜27からなる第2の制御信号生成手段とを備え、各論理ゲート10〜17,20〜27の一方の入力端子には、それぞれ共通にされた出力制御用の信号が入力され、他方の入力端子には選択信号UP0〜UP7,DN0〜DN7がそれぞれ入力され、信号出力可能な状態に選択された論理ゲートから出力制御用の信号が対応するNチャネルMOSFETおよびPチャネルMOSFETに出力されるように構成された出力回路である。上記選択信号によって動作するNチャネルMOSFETとPチャネルMOSFETとを選択し、それにより出力回路の出力インピーダンスを増減することが出来るので、例えばプロセスばらつき或いは温度や電源電圧の変化により出力インピーダンスが規定値からズレそうな場合でも、インピーダンスを制御して規定値に収まるように調整することが出来る。   In the above-mentioned Patent Document 1, an output circuit capable of impedance control that provides a small output impedance while keeping the output capacitance small is provided. That is, as shown in FIG. 1, a plurality of PMOS Qp0 to Qp7 having different impedance values and drains connected to the output terminal OUT and a plurality of logics for generating signals for controlling the corresponding PMOS Qp0 to Qp7. First control signal generating means comprising gates 10 to 17, a plurality of NMOSs Qn0 to Qn7 each having a different impedance value and having a drain connected to the output terminal OUT, and a plurality of signals for controlling the corresponding NMOSs Qn0 to Qn7 A second control signal generation means comprising logic gates 20 to 27, and a common output control signal is input to one input terminal of each of the logic gates 10 to 17 and 20 to 27, The selection signals UP0 to UP7 and DN0 to DN7 are input to the other input terminals, respectively, so that signals can be output. An output circuit configured to signal for the output control from the selected logic gates are output to the corresponding N-channel MOSFET and P-channel MOSFET. The output impedance of the output circuit can be increased or decreased by selecting an N-channel MOSFET and a P-channel MOSFET that operate in accordance with the selection signal. For example, the output impedance is changed from a specified value due to process variations or changes in temperature or power supply voltage. Even in such a case, the impedance can be controlled and adjusted so as to be within a specified value.

上記特許文献2においては、同公報図5に示されているように、ドライバ(140)とプリドライバ(120)から構成され、信号伝送媒体(148)の伝送線路の特性インピーダンスに整合する出力インピーダンスを備える。プリドライバ(120)はドライバに電気的に並列に結合され、制御信号(115)に応答して、信号を受信し、増幅するように構成される。すなわち、制御信号が加えられると、プリドライバが、ドライバの信号入力に加えられる信号(105)の遷移に応じてクロック・サイクルの一部においてオンになる。プリドライバは、クロック・サイクルの一部において、伝送線路に高周波成分を注入することができるように構成された制御信号によって制御される。同公報図6は、そのような制御信号のタイミング図を示している。制御信号(300)は、プリドライバが、ドライバからのデータ信号(200)の遷移とほぼ同時に「オン」になり、プリドライバとその下流構成要素(すなわち、伝送線路及び受信機)とのインピーダンス不整合によって生じる反射信号が並列ドライバの出力に現れる前に、「オフ」になるように構成されている。   In the above-mentioned Patent Document 2, as shown in FIG. 5, the output impedance is composed of a driver (140) and a pre-driver (120) and matches the characteristic impedance of the transmission line of the signal transmission medium (148). Is provided. The pre-driver (120) is electrically coupled to the driver in parallel and is configured to receive and amplify the signal in response to the control signal (115). That is, when a control signal is applied, the pre-driver is turned on during a portion of the clock cycle in response to the transition of the signal (105) applied to the driver's signal input. The predriver is controlled by a control signal configured to inject a high frequency component into the transmission line during a portion of the clock cycle. FIG. 6 of the publication shows a timing diagram of such a control signal. The control signal (300) causes the pre-driver to be “on” at about the same time as the transition of the data signal (200) from the driver, and the impedance of the pre-driver and its downstream components (ie, transmission lines and receivers). It is configured to be “off” before the reflected signal resulting from the matching appears at the output of the parallel driver.

メモリLSI(大規模集積回路)とMPU(マイクロプロセッサ)間等のデータ転送を高速(高周波数)に行うためには、伝送系のインピーダンス整合をとり、反射による転送波形の歪みを抑える必要がある。上記特許文献1に記載された技術では、単に出力インピーダンスを伝送線路のインピーダンスと整合するように設定するだけであり、Gbpsクラスのデータ伝送系において、伝送線路上の誘電正接(誘電損)・表皮効果(抵抗損)などにより高周波減衰が発生して有効なデータが出現している期間(データウィンド)が減少するという点については何等配慮されていない。上記特許文献2に記載された技術では、ドライバとプリドライバのように比較的面積の大きな2つのドライバが必要なため、その分回路の面積が増加してチップサイズが大きくなるという点については配慮されていない。また、例えばプロセスばらつき或いは温度や電源電圧の変化があった場合に、出力インピーダンスが規定値からずれてしまうという点についても配慮されていない。   In order to transfer data between a memory LSI (large scale integrated circuit) and an MPU (microprocessor) at high speed (high frequency), it is necessary to perform impedance matching of the transmission system and suppress distortion of the transfer waveform due to reflection. . In the technique described in Patent Document 1, the output impedance is simply set so as to match the impedance of the transmission line. In the Gbps class data transmission system, the dielectric loss tangent (dielectric loss) / skin on the transmission line No consideration is given to the fact that the period (data window) in which valid data appears due to the occurrence of high-frequency attenuation due to the effect (resistance loss) or the like decreases. The technique described in Patent Document 2 requires two drivers having a relatively large area such as a driver and a pre-driver, so that consideration is given to the fact that the circuit area increases and the chip size increases accordingly. It has not been. Also, no consideration is given to the fact that the output impedance deviates from the specified value when there is a process variation or a change in temperature or power supply voltage, for example.

データ転送レートがGbps(Giga-bit/s)クラスの伝送系においては、伝送線路上の誘電正接(誘電損)・表皮効果(抵抗損)などにより、有効なデータが出現している期間(データウィンド)の減少が深刻になっている。シミュレーションによると、1Gbps程度の現開発製品では辛うじてスペックを満足するものの、1.5Gbps以上が要求される次世代製品では前記のような出力インピーダンスを調整するような手法ではスペックを満足できないことが明らかになった。そこで、かかる伝送線路上の誘電正接(誘電損)・表皮効果(抵抗損)によるデータウィンドの対策を簡単な回路で実現することの検討を行った。   In transmission systems with a data transfer rate of Gbps (Giga-bit / s) class, the period during which valid data appears due to the dielectric loss tangent (dielectric loss) and skin effect (resistance loss) on the transmission line (data The decrease in wind is getting serious. According to the simulation, it is clear that the current development product of about 1 Gbps barely satisfies the specification, but the next generation product that requires 1.5 Gbps or more cannot satisfy the specification by adjusting the output impedance as described above. became. Therefore, a study was made to realize a countermeasure against data window due to the dielectric loss tangent (dielectric loss) and skin effect (resistance loss) on the transmission line with a simple circuit.

この発明の目的は、回路の簡素化を図りつつ、高い周波数でのデータ転送を含んだ多様な信号出力動作を可能にした半導体集積回路装置を提供することにある。この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device which enables various signal output operations including data transfer at a high frequency while simplifying the circuit. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。複数の出力MOSFETの組み合わせによって複数通りの出力インピーダンスの設定が可能とされる出力回路に対して、入力信号の信号変化タイミングに対応して第1制御信号に基づいて伝送線路の特性インピーダンスよりも小さな第1出力インピーダンスにより出力信号を形成し、上記入力信号の信号変化タイミングにより遅れた第1時間経過後に第2制御信号に基づいて特性インピーダンスに整合された第2出力インピーダンスにより出力信号を形成するようにする。   The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. For an output circuit in which a plurality of output impedances can be set by a combination of a plurality of output MOSFETs, it is smaller than the characteristic impedance of the transmission line based on the first control signal corresponding to the signal change timing of the input signal. An output signal is formed by the first output impedance, and an output signal is formed by the second output impedance matched to the characteristic impedance based on the second control signal after a lapse of a first time delayed by the signal change timing of the input signal. To.

複数の出力MOSFETの組み合わせによって複数通りの出力インピーダンスの設定が可能とされる回路機能を有効利用して、その信号出力動作中の出力インピーダンスが変化させることにより、高い周波数でのデータ転送を含んだ多様な信号出力動作を実現することができる。   Data transfer at high frequency is included by changing the output impedance during the signal output operation by effectively using the circuit function that enables the setting of multiple output impedances by combining multiple output MOSFETs Various signal output operations can be realized.

図1には、この発明に係る半導体集積回路装置に搭載される出力回路の一実施例のブロック図が示されている。同図において、INは出力回路へのデータ入力信号、OUTは出力回路からのデータ出力信号、CTRLは出力イネーブル信号である。また、UP1<0:n>は(nは0以上の整数)、データ出力信号OUTがハイレベルの時の出力インピーダンスを制御する制御信号である。DN1<0:n>は、データ出力信号OUTがロウレベルの時の出力インピーダンスを制御する制御信号である。これらの制御信号UP1<0:n>及びDN1<0:n>は、上記出力信号が伝えられる伝送線路の特性インピーダンスと整合するような出力インピーダンスとなるような制御信号とされる。   FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of an output circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. In the figure, IN is a data input signal to the output circuit, OUT is a data output signal from the output circuit, and CTRL is an output enable signal. UP1 <0: n> (n is an integer of 0 or more) is a control signal for controlling the output impedance when the data output signal OUT is at a high level. DN1 <0: n> is a control signal for controlling the output impedance when the data output signal OUT is at a low level. These control signals UP1 <0: n> and DN1 <0: n> are control signals that have an output impedance that matches the characteristic impedance of the transmission line through which the output signal is transmitted.

この実施例では、上記制御信号UP1<0:n>及びDN1<0:n>とは別に、制御信号UP2<0:n>とDN2<0:n>とが追加される。UP2<0:n>は、データ出力信号OUTがロウレベルからハイレベルへ遷移する時の出力インピーダンスを制御する制御信号である。DN2<0:n>は、データ出力信号OUTがハイレベルからロウレベルへ遷移する時の出力インピーダンスを制御する制御信号である。   In this embodiment, in addition to the control signals UP1 <0: n> and DN1 <0: n>, control signals UP2 <0: n> and DN2 <0: n> are added. UP2 <0: n> is a control signal for controlling the output impedance when the data output signal OUT changes from the low level to the high level. DN2 <0: n> is a control signal for controlling the output impedance when the data output signal OUT transits from a high level to a low level.

上記データ入力信号INと出力イネーブル信号CTRLは、ナンド(NAND)ゲート回路G2を通してプルダウン用の入力信号IIZNとされる。上記データ入力信号INは、上記出力イネーブル信号CTRLがインバータ回路INV1によって反転された信号は、ノア(NOR)ゲート回路G1を通してプルアップ用の入力信号IIZPとされる。DLP、DLNは遅延回路であり、上記入力信号IIZPとIIPNの遅延信号IPDEL、INDELをそれぞれ形成する。SEL1は制御信号UP1<0:n>またはUP2<0:n>のいずれか一方を選択する選択回路であり、SEL2は制御信号DN1<0:n>またはDN2<0:n>のいずれか一方を選択する選択回路である。MOSFET1は制御信号UP1<0:n>またはUP2<0:n>によってインピーダンスが可変とされるプルアップ回路、MOSFET2は制御信号DN1<0:n>またはDN2<0:n>によってインピーダンスが可変とされるプルダウン回路である。   The data input signal IN and the output enable signal CTRL are used as a pull-down input signal IIZN through a NAND gate circuit G2. As the data input signal IN, a signal obtained by inverting the output enable signal CTRL by the inverter circuit INV1 is used as a pull-up input signal IIZP through a NOR gate circuit G1. DLP and DLN are delay circuits, which form the delay signals IPDEL and INDEL of the input signals IIZP and IIPN, respectively. SEL1 is a selection circuit that selects one of the control signals UP1 <0: n> or UP2 <0: n>, and SEL2 is one of the control signals DN1 <0: n> or DN2 <0: n>. Is a selection circuit for selecting. MOSFET 1 has a pull-up circuit whose impedance is variable by control signal UP1 <0: n> or UP2 <0: n>, and MOSFET2 has a variable impedance by control signal DN1 <0: n> or DN2 <0: n>. Pull-down circuit.

図1において、例えば出力信号OUTがロウレベルからハイレベルに遷移する場合、データ信号INが上記ゲート回路G1を通過し、信号IIZPとして選択回路SEL1に入力されると、MOSFET1のインピーダンスは制御信号UP2<0:n>によって制御される。その後データ信号INが遅延回路DLPを通過し、信号IPDELとして選択回路SEL1に入力されると、MOSFET1のインピーダンスは制御信号UP1<0:n>によって制御されるように切り換わる。また、出力信号OUTがハイレベルからロウレベルに遷移する場合は、MOSFET2のインピーダンスは、上記信号IIZNに対応し、選択回路SEL2によって選択された制御信号DN2<0:n>によって制御され、その後に発生される遅延信号INDELに対応し、選択回路SEL2により選択された制御信号DN1<0:n>によって制御される。   In FIG. 1, for example, when the output signal OUT transitions from a low level to a high level, when the data signal IN passes through the gate circuit G1 and is input to the selection circuit SEL1 as the signal IIZP, the impedance of the MOSFET 1 is controlled by the control signal UP2 < 0: controlled by n>. After that, when the data signal IN passes through the delay circuit DLP and is input to the selection circuit SEL1 as the signal IPDEL, the impedance of the MOSFET 1 is switched to be controlled by the control signal UP1 <0: n>. Further, when the output signal OUT transits from the high level to the low level, the impedance of the MOSFET 2 corresponds to the signal IIZN, is controlled by the control signal DN2 <0: n> selected by the selection circuit SEL2, and is generated thereafter. Corresponding to the delayed signal INDEL to be controlled by the control signal DN1 <0: n> selected by the selection circuit SEL2.

上記制御信号UP1<0:n>及びDN1<0:n>を、出力インピーダンスが上記伝送線路の特性インピーダンスと整合する所定値になるように発生し、制御信号UP2<0:n>及びDN2<0:n>を出力インピーダンスが上記所定値より小さくなるように発生すると、上記信号IIZP又はIIZNに対応して出力信号波形が遷移する時に出力インピーダンスは所定のインピーダンスよりも低くなるので、伝送線路に高周波成分を注入することができ、データウィンドが減少するのを防止することができる。つまり、伝送線路上の誘電正接(誘電損)・表皮効果(抵抗損)を見込んで、高周波成分を注入するこというプリエンファシスを実施することにより受信側での高周波成分の低下を補うようにすることができる。   The control signals UP1 <0: n> and DN1 <0: n> are generated so that the output impedance becomes a predetermined value matching the characteristic impedance of the transmission line, and the control signals UP2 <0: n> and DN2 < If 0: n> is generated so that the output impedance is smaller than the predetermined value, the output impedance becomes lower than the predetermined impedance when the output signal waveform transitions in response to the signal IIZP or IIZN. High frequency components can be injected, and the data window can be prevented from decreasing. In other words, in anticipation of dielectric loss tangent (dielectric loss) and skin effect (resistance loss) on the transmission line, pre-emphasis of injecting high-frequency components is performed to compensate for the reduction of high-frequency components on the receiving side. be able to.

上記出力回路は1つのプルアップ回路(MOSFET1)と1つのプルダウン回路(MOSFET2)で構成できるので、前記出力時の出力インピーダンスを変化させる特許文献2に比べて回路の面積を小さくでき、その分チップサイズを小さくできる。つまり、半導体集積回路装置に設けられる出力回路は、出力データ幅、つまりは出力ビット数に対応した複数個から構成される。例えば16ビットバス幅に対応した出力回路では、16個の出力回路が設けられ、32ビットバス幅に対応した出力回路では32個が設けられることになるとともに、比較的大きな負荷を駆動するために比較的大きな素子サイズのMOSFETが用いられる。このため、2通りのインピーダンスを設定するために2つの回路を組み合わせるようにした特許文献2に対して、本願出力回路においては、その約半分の回路規模とすることができるものとなる。   Since the output circuit can be composed of one pull-up circuit (MOSFET 1) and one pull-down circuit (MOSFET 2), the circuit area can be reduced as compared with Patent Document 2 in which the output impedance at the time of output is changed. The size can be reduced. That is, the output circuit provided in the semiconductor integrated circuit device is constituted by a plurality corresponding to the output data width, that is, the number of output bits. For example, in an output circuit corresponding to a 16-bit bus width, 16 output circuits are provided, and in an output circuit corresponding to a 32-bit bus width, 32 are provided, and in order to drive a relatively large load A MOSFET having a relatively large element size is used. For this reason, compared with Patent Document 2 in which two circuits are combined to set two impedances, the output circuit of the present application can be about half the circuit scale.

さらに、この実施例では、インピーダンス制御信号UP1<0:n>及びDN1<0:n>により出力インピーダンスを制御可能になっているので、例えばプロセスばらつき或いは温度や電源電圧の変化により出力インピーダンスが規定値からズレそうな場合でも、制御信号UP1<0:n>及びDN1<0:n>によりインピーダンスを制御して規定値に収まるように調整することが出来る。   Further, in this embodiment, since the output impedance can be controlled by the impedance control signals UP1 <0: n> and DN1 <0: n>, the output impedance is defined by, for example, process variations or changes in temperature or power supply voltage. Even if the values are likely to deviate from the values, the impedance can be controlled by the control signals UP1 <0: n> and DN1 <0: n> so as to be within a specified value.

この実施例では、上記のように2通りの出力インピーダンス制御用信号をUP1<0:n>及びUP2<0:n>(DN1<0:n>及びDN2<0:n>)を形成しておき、それを入力信号INに対応したIIZP又はIPDEL(IIZN又はINDEL)により選択するという単純な構成で出力インピーダンスの切り替えを行うものであるために、上記UP1<0:n>(DN1<0:n>)等をプロセスばらつき或いは温度や電源電圧の変化に対応させて変化させることにより簡単に実現できる。   In this embodiment, UP1 <0: n> and UP2 <0: n> (DN1 <0: n> and DN2 <0: n>) are formed as two output impedance control signals as described above. Since the output impedance is switched with a simple configuration in which it is selected by IIZP or IPDEL (IIZN or INDEL) corresponding to the input signal IN, UP1 <0: n> (DN1 <0: n>) and the like can be easily realized by changing in accordance with process variations or changes in temperature or power supply voltage.

上記制御信号UP1<0:n>及びDN1<0:n>は、一般的には、前記実施例のように上記出力回路が駆動する伝送線路の特性インピーダンスに概ね等しくするのが望ましいが、これに限定されるものではなく、該半導体集積回路装置が実装される状況によっては、伝送線路の特性インピーダンスと異なる値にしてもよい。   In general, the control signals UP1 <0: n> and DN1 <0: n> are desirably substantially equal to the characteristic impedance of the transmission line driven by the output circuit as in the above-described embodiment. However, the value may be different from the characteristic impedance of the transmission line depending on the situation where the semiconductor integrated circuit device is mounted.

図2には、図1の出力回路の動作の一例を概念的に説明するためのタイミング波形図が示されている。同図では、入力信号INと出力信号OUTの関係を判り易くするために、入力信号は反転信号/INとして示されている。出力イネーブル信号CTRLがハイレベル(論理1)のときに、入力信号/INがハイレベル(入力信号INがロウレベル)になると、それに対応して信号IIZPはロウレベルからハイレベルに変化する。この変化タイミングに対応して選択回路SEL1により選択されている制御信号UP2<i>(iは0からnの整数)に対応して出力インピーダンスを特性インピーダンスよりも小さくする。これにより、出力信号OUTをVPEだけ大きな信号レベルとして出力させる。遅延回路DLPによって遅延信号IPDELが遅れてロウレベルからハイレベルに変化すると、それに対応して選択回路SEL1は、制御信号UP1<i>の選択に切り替えて、出力インピーダンスを特性インピーダンスに対応したインピーダンスにする。これにより、出力信号OUTは通常の上記インピーダンス整合状態に対応した出力レベルVOに対応したレベルに戻される。   FIG. 2 is a timing waveform diagram conceptually illustrating an example of the operation of the output circuit of FIG. In the figure, in order to make the relationship between the input signal IN and the output signal OUT easy to understand, the input signal is shown as an inverted signal / IN. When the output enable signal CTRL is at a high level (logic 1) and the input signal / IN is at a high level (the input signal IN is at a low level), the signal IIZP changes from the low level to the high level accordingly. Corresponding to this change timing, the output impedance is made smaller than the characteristic impedance corresponding to the control signal UP2 <i> (i is an integer from 0 to n) selected by the selection circuit SEL1. As a result, the output signal OUT is outputted as a signal level that is larger by VPE. When the delay signal IPDEL is delayed from the low level to the high level by the delay circuit DLP, the selection circuit SEL1 switches to the selection of the control signal UP1 <i> and changes the output impedance to the impedance corresponding to the characteristic impedance. . As a result, the output signal OUT is returned to the level corresponding to the output level VO corresponding to the normal impedance matching state.

入力信号/INがロウレベル(入力信号INはハイレベル)になると、それに対応して信号IIZNはハイレベルからロウレベルに変化する。この変化タイミングに対応して選択回路SEL2により選択されている制御信号DN2<i>に対応して出力インピーダンスを特性インピーダンスよりも小さくする。これにより、出力信号OUTをVPEだけ小さな信号レベルとして出力させる。遅延回路DLNによって遅延信号INDELが遅れてハイレベルからロウレベルに変化すると、それに対応して選択回路SEL2は、制御信号DN1<i>の選択に切り替えて、出力インピーダンスを特性インピーダンスに対応したインピーダンスにする。これにより、出力信号OUTは通常の上記インピーダンス整合状態に対応した出力レベルVOに対応したレベルに戻される。   When the input signal / IN becomes low level (the input signal IN is high level), the signal IIZN changes from high level to low level correspondingly. Corresponding to this change timing, the output impedance is made smaller than the characteristic impedance corresponding to the control signal DN2 <i> selected by the selection circuit SEL2. As a result, the output signal OUT is outputted as a signal level smaller by VPE. When the delay signal INDEL is delayed from the high level to the low level by the delay circuit DLN, the selection circuit SEL2 switches to the selection of the control signal DN1 <i> and changes the output impedance to the impedance corresponding to the characteristic impedance. . As a result, the output signal OUT is returned to the level corresponding to the output level VO corresponding to the normal impedance matching state.

この実施例では、遅延信号IPDELがロウレベルときに信号UP2<i>を選択し、遅延信号IPDELがハイレベルときに信号UP1<i>を選択する。逆に、遅延信号INDELがハイレベルのときに信号DN2<i>を選択し、遅延信号INDELがロウレベルのときに信号DN1<i>を選択する。そして、選択された信号UP0<i>及びDN0<i>は、入力信号INに対応した信号IIZP、IIZNのレベルに対応してハイレベル/ロウレベルとされる。したがって、出力信号OUTがロウレベルからハイレベル変化するとき、ロウレベルからハイレベルに変化する信号IIZNによって、信号DN1<i>に対応してオン状態であったMOSFET2は全てオフ状態にされ、出力信号OUTがハイレベルからロウレベル変化するときは、ハイレベルからロウレベルに変化する信号IIZPによって、信号UP1<i>に対応してオン状態であったMOSFET1は全てオフ状態にされるものである。   In this embodiment, the signal UP2 <i> is selected when the delay signal IPDEL is low level, and the signal UP1 <i> is selected when the delay signal IPDEL is high level. Conversely, the signal DN2 <i> is selected when the delay signal INDEL is at a high level, and the signal DN1 <i> is selected when the delay signal INDEL is at a low level. The selected signals UP0 <i> and DN0 <i> are set to the high level / low level corresponding to the levels of the signals IIZP and IIZN corresponding to the input signal IN. Therefore, when the output signal OUT changes from the low level to the high level, the MOSFET II that has been turned on in response to the signal DN1 <i> is turned off by the signal IIZN that changes from the low level to the high level, and the output signal OUT Is changed from the high level to the low level, the signal IIZP changing from the high level to the low level causes all the MOSFETs 1 that have been turned on in response to the signal UP1 <i> to be turned off.

図3には、図1の選択回路SEL1、SEL2及びプルアップ回路MOSFET1、プルダウン回路MOSFET2の具体的一実施例の構成図が示されている。同図の信号IIZP、その遅延信号IPDEL及び信号IIZN及びその遅延信号INDELは、図1、図2のものに対応している。プルアップ回路MOSFET1は、N+2個の並列形態にされた複数のPチャネルMOSFETから構成される。プルダウン回路MOSFET2は、N+2個の並列形態にされた複数のNチャネルMOSFETから構成される。   FIG. 3 shows a configuration diagram of a specific example of the selection circuits SEL1, SEL2, the pull-up circuit MOSFET1, and the pull-down circuit MOSFET2 in FIG. The signal IIZP, the delayed signal IPDEL, the signal IIZN, and the delayed signal INDEL in the same figure correspond to those in FIGS. The pull-up circuit MOSFET1 is composed of a plurality of N + 2 parallel P-channel MOSFETs. The pull-down circuit MOSFET2 is composed of a plurality of N + 2 parallel N-channel MOSFETs.

上記N+2個のプルアップ回路MOSFET1のうち、1つのPチャネルMOSFETのゲートには信号IIZPがインバータ回路INV2を通して供給され、残りN+1個のPチャネルMOSFETのゲートにはそれぞれ選択回路SEL1を通して制御信号UP1<0>〜UP1<N>又はUP2<0>〜UP2<N>のいずれかが信号IPDELのハイレベル/ロウレベルにより選択され、信号IIZPに対応して出力される。上記N+2個のプルダウン回路MOSFET2のうち、1つのNチャネルMOSFETのゲートには信号IIZNがインバータ回路INV3を通して供給され、残りN+1個のNチャネルMOSFETのゲートにはそれぞれ選択回路SEL2を通して制御信号DN1<0>〜DN1<N>又はDN2<0>〜DN2<N>が信号INDELのハイレベル/ロウレベルにより選択され、信号IIZNに対応して出力される。上記1つのMOSFETは、上記プルアップ回路及びプルダウン回路の最大出力インピーダンスを設定するものである。   Among the N + 2 pull-up circuit MOSFET1, the signal IIZP is supplied to the gate of one P-channel MOSFET through the inverter circuit INV2, and the control signal UP1 <is supplied to the remaining N + 1 P-channel MOSFET gates through the selection circuit SEL1. Any one of 0> to UP1 <N> or UP2 <0> to UP2 <N> is selected according to the high level / low level of the signal IPDEL, and is output corresponding to the signal IIZP. Of the N + 2 pull-down circuit MOSFET2, the signal IIZN is supplied to the gate of one N-channel MOSFET through the inverter circuit INV3, and the control signal DN1 <0 is supplied to the remaining N + 1 N-channel MOSFET gates through the selection circuit SEL2. > To DN1 <N> or DN2 <0> to DN2 <N> are selected according to the high level / low level of the signal INDEL and output in response to the signal IIZN. The one MOSFET sets the maximum output impedance of the pull-up circuit and pull-down circuit.

上記複数の並列形態のMOSFETのうちオン状態にされもののオン抵抗の組み合わせにより、可変抵抗回路としての動作を行わせるものである。例えば4個の抵抗R1〜R4の抵抗比を8:4:2:1の様に比例させた並列接続とし、オン状態にさせるMOSFETの組み合わせの選択を行うことことにより、R1、R1/2、R1/3からR1/15までの15通りのインピーダンス調整が可能となる。2倍ごとに比例させたインピーダンスとすること、言い換えるならば、2進の重みを持たせた抵抗比とすることで、R1〜R4の選択を4ビットのバイナリコードで制御することができる。   An operation as a variable resistance circuit is performed by a combination of on-resistances of the plurality of parallel MOSFETs which are turned on. For example, by selecting a combination of MOSFETs to be turned on in parallel connection in which the resistance ratio of the four resistors R1 to R4 is proportional to 8: 4: 2: 1, R1, R1 / 2, Fifteen types of impedance adjustment from R1 / 3 to R1 / 15 are possible. By making the impedance proportional to every two times, in other words, by using a resistance ratio with a binary weight, the selection of R1 to R4 can be controlled by a 4-bit binary code.

図4には、この発明に用いられる選択回路の一実施例の回路図が示されている。同図(a)にはプルアップ回路MOSFET1に対応した選択回路SEL1の回路図が示され、(b)にはプルダウン回路MOSFET2に対応した選択回路SEL2の回路図が示されている。図4(a)の選択回路SEL1においては、複数ビットからなる制御信号UP1<0:N>のうちの任意の1ビットの制御信号UP1{i}は、PチャネルMOSFETQ1とNチャネルMOSFETQ3からなるCMOSスイッチを通してナンドゲート回路G3の一方の入力に伝えられる。複数ビットからなる制御信号UP2<0:N>のうちの任意の1ビットの制御信号UP2{i}も、PチャネルMOSFETQ2とNチャネルMOSFETQ4からなるCMOSスイッチを通して上記ナンドゲート回路G3の上記一方の入力に伝えられる。上記ゲート回路G3の他方の入力には、信号IIZPが供給される。そして、かかるゲート回路G3からプルアップ回路の1つのMOSFETのゲートに伝えられる信号UP0{i}が出力される。   FIG. 4 shows a circuit diagram of an embodiment of the selection circuit used in the present invention. FIG. 2A shows a circuit diagram of the selection circuit SEL1 corresponding to the pull-up circuit MOSFET1, and FIG. 2B shows a circuit diagram of the selection circuit SEL2 corresponding to the pull-down circuit MOSFET2. In the selection circuit SEL1 in FIG. 4A, an arbitrary 1-bit control signal UP1 {i} of the control signals UP1 <0: N> consisting of a plurality of bits is generated by a CMOS comprising a P-channel MOSFET Q1 and an N-channel MOSFET Q3. The signal is transmitted to one input of the NAND gate circuit G3 through the switch. An arbitrary 1-bit control signal UP2 {i} of the control signals UP2 <0: N> composed of a plurality of bits is also input to the one input of the NAND gate circuit G3 through a CMOS switch composed of a P-channel MOSFET Q2 and an N-channel MOSFET Q4. Reportedly. A signal IIZP is supplied to the other input of the gate circuit G3. Then, a signal UP0 {i} transmitted from the gate circuit G3 to the gate of one MOSFET of the pull-up circuit is output.

図4(b)の選択回路SEL2においては、複数ビットからなる制御信号DN1<0:N>のうちの任意の1ビットの制御信号DN1{i}は、PチャネルMOSFETQ5とNチャネルMOSFETQ6からなるCMOSスイッチを通してノアゲート回路G4の一方の入力に伝えられる。複数ビットからなる制御信号DN2<0:N>のうちの任意の1ビットの制御信号DN2{i}も、PチャネルMOSFETQ6とNチャネルMOSFETQ8からなるCMOSスイッチを通して上記ナンドゲート回路G4の上記一方の入力に伝えられる。上記ゲート回路G4の他方の入力には、信号IIZNが供給される。そして、かかるゲート回路G4からプルダウン回路の1つのMOSFETのゲートに伝えられる信号DN0{i}が出力される。   In the selection circuit SEL2 in FIG. 4B, an arbitrary 1-bit control signal DN1 {i} among the control signals DN1 <0: N> consisting of a plurality of bits is a CMOS including a P-channel MOSFET Q5 and an N-channel MOSFET Q6. The signal is transmitted to one input of the NOR gate circuit G4 through the switch. An arbitrary 1-bit control signal DN2 {i} of the control signals DN2 <0: N> composed of a plurality of bits is also input to the one input of the NAND gate circuit G4 through a CMOS switch composed of a P-channel MOSFET Q6 and an N-channel MOSFET Q8. Reportedly. A signal IIZN is supplied to the other input of the gate circuit G4. The signal DN0 {i} transmitted from the gate circuit G4 to the gate of one MOSFET of the pull-down circuit is output.

図4(a)において、上記選択回路SEL1を構成する2つのCMOSスイッチのMOSFETQ1とQ3及びQ2とQ4は、遅延信号IPDELのハイレベル/ロウレベルにより相補的にオン/オフ状態にされる。遅延信号IPDELは、NチャネルMOSFETQ3とPチャネルMOSFETQ2のゲートに供給され、インバータ回路INV4を通してPチャネルMOSFETQ1とNチャネルMOSFETQ4のゲートに供給される。例えば、遅延信号IPDELがロウレベルのときには、PチャネルMOSFETQ2とNチャネルMOSFETQ4がオン状態にされて信号UP2{i}が選択されてゲート回路G3の一方の入力に伝えられる。そして、遅延信号IPDELがハイレベルにされると、上記PチャネルMOSFETQ2とNチャネルMOSFETQ4がオフ状態にされ、PチャネルMOSFETQ1とNチャネルMOSFETQ3がオン状態にされて信号UP1{i}が選択されてゲート回路G3の一方の入力に伝えられる。   In FIG. 4A, MOSFETs Q1 and Q3 and Q2 and Q4 of the two CMOS switches constituting the selection circuit SEL1 are turned on / off complementarily by the high level / low level of the delay signal IPDEL. The delay signal IPDEL is supplied to the gates of the N-channel MOSFET Q3 and the P-channel MOSFET Q2, and is supplied to the gates of the P-channel MOSFET Q1 and the N-channel MOSFET Q4 through the inverter circuit INV4. For example, when the delay signal IPDEL is at a low level, the P-channel MOSFET Q2 and the N-channel MOSFET Q4 are turned on, and the signal UP2 {i} is selected and transmitted to one input of the gate circuit G3. When the delay signal IPDEL is set to the high level, the P channel MOSFET Q2 and the N channel MOSFET Q4 are turned off, the P channel MOSFET Q1 and the N channel MOSFET Q3 are turned on, and the signal UP1 {i} is selected and gated. It is transmitted to one input of the circuit G3.

そして、ゲート回路G3の他方の入力に供給される信号IIZPがハイレベルに変化すると、ゲート回路G3はハイレベルとされた信号UP2{i}に対応したものの出力信号がロウレベルとなり、プルアップ回路MOSFET1を構成するPチャネルMOSFETをオン状態にする。つまり、信号UP2<0:N>のうち、ハイレベルにされているものに対応した複数のPチャネルMOSFETがオン状態となって、前記のような出力インピーダンスにより出力信号OUTをロウレベルからハイレベルに立ち上げる。そして、遅延信号IPDELがハイレベルにされると、選択回路SEL1により信号UP1{i}が選択されるので、信号UP1<0:N>のうちハイレベルにされているものに対応した複数のPチャネルMOSFETがオン状態となって前記のような伝送線路に整合された出力インピーダンスにより出力信号OUTのハイレベルを維持する。   When the signal IIZP supplied to the other input of the gate circuit G3 changes to a high level, the output signal of the gate circuit G3 corresponding to the signal UP2 {i} set to the high level becomes a low level, and the pull-up circuit MOSFET1. Is turned on. That is, a plurality of P-channel MOSFETs corresponding to the signal UP2 <0: N> that is set to the high level are turned on, and the output signal OUT is changed from the low level to the high level by the output impedance as described above. Launch. When the delay signal IPDEL is set to the high level, the selection circuit SEL1 selects the signal UP1 {i}, so that a plurality of Ps corresponding to the signals UP1 <0: N> that are set to the high level. The channel MOSFET is turned on, and the high level of the output signal OUT is maintained by the output impedance matched to the transmission line as described above.

図4(b)において、上記選択回路SEL2を構成する2つのCMOSスイッチのMOSFETQ5とQ6及びQ7とQ8は、遅延信号INDELのハイレベル/ロウレベルにより相補的にオン/オフ状態にされる。遅延信号INDELは、PチャネルMOSFETQ5とNチャネルMOSFETQ8のゲートに供給され、インバータ回路INV5を通してNチャネルMOSFETQ7とPチャネルMOSFETQ6のゲートに供給される。例えば、遅延信号INDELがハイレベルのときには、PチャネルMOSFETQ6とNチャネルMOSFETQ8がオン状態にされて信号DN2{i}が選択されてゲート回路G4の一方の入力に伝えられる。そして、遅延信号INDELがロウレベルにされると、PチャネルMOSFETQ6とNチャネルMOSFETQ8がオフ状態にされ、PチャネルMOSFETQ5とNチャネルMOSFETQ7がオン状態にされて信号DN1{i}が選択されてゲート回路G4の一方の入力に伝えられる。   In FIG. 4B, the MOSFETs Q5 and Q6 and Q7 and Q8 of the two CMOS switches constituting the selection circuit SEL2 are complementarily turned on / off by the high level / low level of the delay signal INDEL. The delay signal INDEL is supplied to the gates of the P-channel MOSFET Q5 and the N-channel MOSFET Q8, and is supplied to the gates of the N-channel MOSFET Q7 and the P-channel MOSFET Q6 through the inverter circuit INV5. For example, when the delay signal INDEL is at a high level, the P-channel MOSFET Q6 and the N-channel MOSFET Q8 are turned on, and the signal DN2 {i} is selected and transmitted to one input of the gate circuit G4. When the delay signal INDEL is set to the low level, the P-channel MOSFET Q6 and the N-channel MOSFET Q8 are turned off, the P-channel MOSFET Q5 and the N-channel MOSFET Q7 are turned on, and the signal DN1 {i} is selected and the gate circuit G4 To one of the inputs.

そして、ゲート回路G4の他方の入力に供給される信号IIZNがロウレベルに変化すると、ゲート回路G4はロウレベルとされた信号DN2{i}に対応したものの出力信号がハイレベルとなり、プルダウン回路MOSFET2を構成するNチャネルMOSFETをオン状態にする。つまり、信号DN2<0:N>のうち、ロウレベルにされているものに対応した複数のNチャネルMOSFETがオン状態となって、前記のような出力インピーダンスにより出力信号OUTをハイレベルからロウレベルに立ち下げる。そして、遅延信号INDELがロウレベルにされると、選択回路SEL2により信号DN1{i}が選択されるので、信号DN1<0:N>のうちロウレベルにされているものに対応した複数のNチャネルMOSFETがオン状態となって前記のような伝送線路に整合された出力インピーダンスにより出力信号OUTのロウレベルを維持する。   When the signal IIZN supplied to the other input of the gate circuit G4 changes to the low level, the output signal corresponding to the signal DN2 {i} which is set to the low level in the gate circuit G4 becomes the high level, and the pull-down circuit MOSFET2 is configured. The N channel MOSFET to be turned on is turned on. That is, a plurality of N-channel MOSFETs corresponding to the low level signal DN2 <0: N> are turned on, and the output signal OUT is changed from the high level to the low level by the output impedance as described above. Lower. When the delay signal INDEL is set to the low level, the selection circuit SEL2 selects the signal DN1 {i}, so that a plurality of N-channel MOSFETs corresponding to the signals DN1 <0: N> that are set to the low level. Is turned on to maintain the low level of the output signal OUT by the output impedance matched to the transmission line as described above.

図5には、この発明に用いられる選択回路の他の一実施例の回路図が示されている。同図(a)にはプルアップ回路MOSFET1に対応した選択回路SEL1の回路図が示され、(b)にはプルダウン回路MOSFET2に対応した選択回路SEL2の回路図が示されている。図5(a)の実施例においては、図4(a)の選択回路SEL1にノアゲート回路G5が追加される。このようなノアゲート回路G5の追加に対応して、遅延信号IPDELが反転されるため、CMOSスイッチを前記図4(a)と同様に制御するため、すべて前記図4(a)とは逆に接続される。つまり、インバータ回路INV4を通した信号はMOSFETQ3とQ2のゲートに供給される。ノアゲート回路G5の追加によって、信号ISEL1をハイレベルに固定すると、信号IPDELが無効にされて、ゲート回路G5の出力信号がロウレベルに固定されてMOSFETQ1とQ3が定常的にオン状態となり、出力インピーダンスを信号UP1{i}に対応した一定とされる。これは、例えば伝送すべき入力信号INが比較的低い周波数信号のとき、あるいは伝送線路の配線長が短くて、前記誘電正接(誘電損)・表皮効果(抵抗損)などにより高周波減衰が問題にならないようなシステムに搭載されるときに、上記高周波数成分のプリエンファシス機能を停止させるために利用される。   FIG. 5 shows a circuit diagram of another embodiment of the selection circuit used in the present invention. FIG. 2A shows a circuit diagram of the selection circuit SEL1 corresponding to the pull-up circuit MOSFET1, and FIG. 2B shows a circuit diagram of the selection circuit SEL2 corresponding to the pull-down circuit MOSFET2. In the embodiment of FIG. 5A, a NOR gate circuit G5 is added to the selection circuit SEL1 of FIG. Corresponding to the addition of the NOR gate circuit G5, since the delay signal IPDEL is inverted, the CMOS switches are controlled in the same manner as in FIG. 4A. Is done. That is, the signal passing through the inverter circuit INV4 is supplied to the gates of the MOSFETs Q3 and Q2. If the signal ISEL1 is fixed at a high level by adding the NOR gate circuit G5, the signal IPDEL is invalidated, the output signal of the gate circuit G5 is fixed at a low level, and the MOSFETs Q1 and Q3 are steadily turned on, and the output impedance is reduced. It is constant corresponding to the signal UP1 {i}. This is because, for example, when the input signal IN to be transmitted is a relatively low frequency signal, or the wiring length of the transmission line is short, high frequency attenuation becomes a problem due to the dielectric loss tangent (dielectric loss), skin effect (resistance loss), or the like. It is used to stop the pre-emphasis function of the high frequency component when mounted on a system that does not become necessary.

図5(b)の実施例においては、図4(b)の選択回路SEL2にナンドゲート回路G6が追加される。このようなナンドゲート回路G6の追加に対応して、遅延信号INDELが反転されるため、CMOSスイッチを前記図4(b)と同様に制御するため、すべて前記図4(b)とは逆に接続される。つまり、インバータ回路INV5を通した信号はMOSFETQ5とQ8のゲートに供給される。ノアゲート回路G6の追加によって、信号ISEL2をロウレベルに固定すると、信号INDELが無効にされて、ゲート回路G6の出力信号がハイレベルに固定されてMOSFETQ5とQ7が定常的にオン状態となり、出力インピーダンスを信号DN1{i}に対応した一定とされる。これは、例えば前記同様に伝送すべき入力信号INが比較的低い周波数信号のとき、あるいは伝送線路の配線長が短くて、前記誘電正接(誘電損)・表皮効果(抵抗損)などにより高周波減衰が問題にならないようなシステムに搭載されるときに、上記高周波数成分のプリエンファシス機能を停止させるために利用される。   In the embodiment of FIG. 5B, a NAND gate circuit G6 is added to the selection circuit SEL2 of FIG. Corresponding to the addition of the NAND gate circuit G6, the delay signal INDEL is inverted, so that the CMOS switch is controlled in the same manner as in FIG. Is done. That is, the signal that has passed through the inverter circuit INV5 is supplied to the gates of the MOSFETs Q5 and Q8. If the signal ISEL2 is fixed to the low level by adding the NOR gate circuit G6, the signal INDEL is invalidated, the output signal of the gate circuit G6 is fixed to the high level, and the MOSFETs Q5 and Q7 are steadily turned on, and the output impedance is reduced. It is constant corresponding to the signal DN1 {i}. This is because, for example, when the input signal IN to be transmitted is a relatively low frequency signal, or the transmission line has a short wiring length, the high frequency attenuation is caused by the dielectric loss tangent (dielectric loss), skin effect (resistance loss), etc. Is used to stop the high-frequency component pre-emphasis function when installed in a system where the problem does not become a problem.

図5の実施例のような選択回路を用いることにより、上記出力回路を備えた半導体集積回路装置の汎用性を高くすることができる。例えば、半導体集積回路装置の出荷前にそれが搭載される用途が判明していれば、半導体集積回路装置のメーカー側で製造時にボンディングワイヤ又はヒューズの切断等によって上記信号ISEL1、2のレベルを設定すればよい。また、システム実装時に上記出力回路の機能を設定するようにするためには、外部端子からの信号により設定するようにすればよい。この場合、電気的に書き込む可能な記憶素子を用いると、1回限りの設定によって上記出力回路の機能を選択することができる。このように、図5の実施例では、信号ISEL1及びISEL2を追加し、これらの信号をヒューズ信号又は外部端子からの制御信号等を入力することにより、高周波補償を行うか行わないかを選択できる。   By using the selection circuit as in the embodiment of FIG. 5, the versatility of the semiconductor integrated circuit device including the output circuit can be increased. For example, if the purpose of mounting the semiconductor integrated circuit device is known before shipment, the level of the signals ISEL1 and 2 is set by cutting the bonding wire or the fuse at the time of manufacture by the manufacturer of the semiconductor integrated circuit device. do it. In order to set the function of the output circuit when the system is mounted, the function may be set by a signal from an external terminal. In this case, when an electrically writable storage element is used, the function of the output circuit can be selected by a one-time setting. As described above, in the embodiment of FIG. 5, the signals ISEL1 and ISEL2 are added, and it is possible to select whether or not to perform high frequency compensation by inputting these signals into the fuse signal or the control signal from the external terminal. .

図6には、図1の遅延回路DLPまたはDLNの一実施例の構成図が示されている。この実施例では、遅延回路の遅延時間が可変にされる。遅延回路の遅延時間は前記出力回路が駆動する伝送線路の遅延時間の概ね2倍の時間より小さくするのが望ましい。このようにすると、出力回路から出力された信号の受信装置からの反射波は、送端側で所定のインピーダンスで終端されることになるため、インピーダンス不整合が発生せずにそこでの再反射が発生せず、伝送される信号品質の低下を防止することができる。一方、出力回路が駆動する伝送線路の特性は、半導体集積回路装置が実装されるシステムの伝送線路の長さ等の状況によって異なってくる。従って、遅延回路の遅延時間は、システムに適合すべく可変にして最適に制御できるようになっていることが望ましい。   FIG. 6 shows a block diagram of an embodiment of the delay circuit DLP or DLN of FIG. In this embodiment, the delay time of the delay circuit is made variable. It is desirable that the delay time of the delay circuit be shorter than approximately twice the delay time of the transmission line driven by the output circuit. In this case, the reflected wave from the receiving device of the signal output from the output circuit is terminated with a predetermined impedance on the transmitting end side, so that there is no impedance mismatch and re-reflection there occurs. It is possible to prevent the quality of the transmitted signal from being deteriorated without being generated. On the other hand, the characteristics of the transmission line driven by the output circuit vary depending on the situation such as the length of the transmission line of the system in which the semiconductor integrated circuit device is mounted. Therefore, it is desirable that the delay time of the delay circuit can be varied and optimally controlled to suit the system.

図6(a)の実施例では、制御信号φi、/φi(iは1〜nの整数)により、n個のスイッチのうちどのスイッチをオンさせるか選択し、n通りの遅延時間を形成する遅延回路DL1〜DLnを構成するインバータの段数を切り換えて、1つの遅延時間を選択できるようにしている。図6(b)の実施例では、制御信号Vp及びVnの電位レベルを制御することにより、PチャネルMOSFETQP及びNチャネルMOSFETQNに流れる電流をリニアに制御して、インバータINV10とINV11の等価インピーダンスを切り換えて遅延時間を制御できるようにしている。   In the embodiment of FIG. 6A, the control signals φi, / φi (i is an integer from 1 to n) are used to select which one of the n switches is turned on, and n delay times are formed. One delay time can be selected by switching the number of inverter stages constituting the delay circuits DL1 to DLn. In the embodiment of FIG. 6B, by controlling the potential levels of the control signals Vp and Vn, the current flowing through the P-channel MOSFET QP and the N-channel MOSFET QN is linearly controlled, and the equivalent impedances of the inverters INV10 and INV11 are switched. The delay time can be controlled.

この実施例では、上記MOSFETQPとQNによりインバータ回路INV10とINV11にそれぞれ流れる負荷駆動電流を制御して、そこでの遅延時間を制御するものである。インバータ回路INV10は、出力信号がロウレベルからハイレベルに変化するときの遅延時間をPチャネルMOSFETQPに流れる電流によって制御し、インバータ回路INV11は、出力信号がハイレベルからロウレベルに変化するときの遅延時間をNチャネルMOSFETQNに流れる電流によって制御する。つまり、図6(b)の遅延回路では、信号IIZP(IIZN)がハイレベルからロウレベルに変化するときの遅延時間が電圧VpとVnによって制御される。これに対して、信号IIZP(IIZN)がロウレベルからハイレベルに変化するときは上記電圧VpとVnには無関係に比較的高速に変化する。   In this embodiment, the load driving currents flowing in the inverter circuits INV10 and INV11 are controlled by the MOSFETs QP and QN, respectively, and the delay time is controlled there. The inverter circuit INV10 controls the delay time when the output signal changes from low level to high level by the current flowing through the P-channel MOSFET QP, and the inverter circuit INV11 determines the delay time when the output signal changes from high level to low level. It is controlled by the current flowing through the N-channel MOSFET QN. That is, in the delay circuit of FIG. 6B, the delay time when the signal IIZP (IIZN) changes from the high level to the low level is controlled by the voltages Vp and Vn. On the other hand, when the signal IIZP (IIZN) changes from the low level to the high level, it changes at a relatively high speed regardless of the voltages Vp and Vn.

図7には、図1の遅延回路DLPまたはDLNの他の一実施例の回路図が示されている。この実施例では、制御信号DLCTRL0〜DLCTRL2により、遅延回路を構成する縦列接続のインバータ回路INV12とINV13の負荷容量を切り換えて、遅延時間を制御できるようにしている。つまり、制御信号DLCTRL0〜DLCTRL2に対応したスイッチのオン状態により、容量C0、C1及びC2が選択的に負荷容量として加えられて遅延時間が長くされる。この実施例では、信号IIZP(IIZN)がロウレベルからハイレベルに変化するときと、ハイレベルからロウレベルに変化するときで制御信号DLCTRL0〜DLCTRL2に対応した同じ遅延時間にされる。   FIG. 7 shows a circuit diagram of another embodiment of the delay circuit DLP or DLN of FIG. In this embodiment, the delay time can be controlled by switching the load capacitances of the cascade-connected inverter circuits INV12 and INV13 constituting the delay circuit by the control signals DLCTRL0 to DLCTRL2. In other words, the capacitors C0, C1, and C2 are selectively added as load capacitors according to the ON state of the switches corresponding to the control signals DLCTRL0 to DLCTRL2, and the delay time is lengthened. In this embodiment, the same delay time corresponding to the control signals DLCTRL0 to DLCTRL2 is set when the signal IIZP (IIZN) changes from the low level to the high level and when the signal IIZP (IIZN) changes from the high level to the low level.

図8には、この発明に係る出力回路に用いられる制御信号の生成回路の一実施例のブロック図が示されている。上記制御信号UP2{i}またはDN2{i}(iは0〜nの整数)は、加算(減算)回路により生成される。図8(a)においては、上記制御信号UP1{i}またはDN1{i}に、固定の一定値を加算または減算してUP2{i}またはDN2{i}を発生している。このように制御信号UP2{i}またはDN2{i}を発生すると、出力信号波形が遷移する時に出力インピーダンスの逆数(コンダクタンス)を所定のインピーダンスの逆数(コンダクタンス)よりも一定値だけ大きくできる。すなわちインピーダンスを小さくできる。   FIG. 8 is a block diagram showing an embodiment of a control signal generation circuit used in the output circuit according to the present invention. The control signal UP2 {i} or DN2 {i} (i is an integer from 0 to n) is generated by an addition (subtraction) circuit. In FIG. 8A, UP2 {i} or DN2 {i} is generated by adding or subtracting a fixed constant value to the control signal UP1 {i} or DN1 {i}. When the control signal UP2 {i} or DN2 {i} is generated in this way, the reciprocal of the output impedance (conductance) can be made larger than the reciprocal of the predetermined impedance (conductance) by a certain value when the output signal waveform changes. That is, the impedance can be reduced.

図8(b)は、加算または減算する一定値を制御できるように構成した例が示されている。つまり、上記制御信号UP1{i}またはDN1{i}に、加算(減算)量調整により指定された所定値を加算または減算してUP2{i}またはDN2{i}を発生している。このようにすると、半導体集積回路装置が実装される状況によって、ヒューズ信号またはその他の制御信号により加算(減算)量調整により指定することにより、出力信号波形が遷移する時の出力インピーダンスを制御することが可能になる。   FIG. 8B shows an example in which a constant value to be added or subtracted can be controlled. That is, UP2 {i} or DN2 {i} is generated by adding or subtracting a predetermined value designated by the addition (subtraction) amount adjustment to the control signal UP1 {i} or DN1 {i}. In this way, the output impedance when the output signal waveform transitions can be controlled by specifying the amount of addition (subtraction) with a fuse signal or other control signal depending on the situation in which the semiconductor integrated circuit device is mounted. Is possible.

図9には、この発明に係る出力回路に用いられる制御信号の生成回路の他の一実施例のブロック図が示されている。上記制御信号UP2{i}またはDN2{i}は、乗算(除算)回路により生成される。図9(a)においては、上記制御信号UP1{i}またはDN1{i}に、固定の一定値を乗算または除算してUP2{i}またはDN2{i}を発生している。つまり、前記図8の実施例では、制御信号UP1{i}またはDN1{i}に対して一定の差分を持つよう制御信号UP2{i}またはDN2{i}を生成するのに対して、図9の実施例では、制御信号UP1{i}またはDN1{i}に対して一定の比率を持つよう制御信号UP2{i}またはDN2{i}を生成する。このように制御信号UP2{i}またはDN2{i}を発生すると、出力信号波形が遷移する時の出力インピーダンスを所定のインピーダンスよりも一定の比で小さくできる。   FIG. 9 is a block diagram showing another embodiment of the control signal generation circuit used in the output circuit according to the present invention. The control signal UP2 {i} or DN2 {i} is generated by a multiplication (division) circuit. In FIG. 9A, UP2 {i} or DN2 {i} is generated by multiplying or dividing the control signal UP1 {i} or DN1 {i} by a fixed constant value. That is, in the embodiment of FIG. 8, the control signal UP2 {i} or DN2 {i} is generated so as to have a certain difference with respect to the control signal UP1 {i} or DN1 {i}. In the ninth embodiment, the control signal UP2 {i} or DN2 {i} is generated so as to have a constant ratio to the control signal UP1 {i} or DN1 {i}. When the control signal UP2 {i} or DN2 {i} is generated in this way, the output impedance when the output signal waveform transitions can be made smaller than the predetermined impedance at a constant ratio.

図9(b)においては、乗算または除算する比率を制御できるように構成した例が示されている。つまり、上記制御信号UP1{i}またはDN1{i}に、乗算(除算)量調整により指定された所定値を乗算または除算してUP2{i}またはDN2{i}を発生している。このようにすると、半導体集積回路装置が実装される状況によって、ヒューズ信号またはその他の制御信号により乗算(除算)量調整により指定することにより、出力信号波形が遷移する時の出力インピーダンスを制御することが可能になる。   FIG. 9B shows an example in which the ratio for multiplication or division can be controlled. That is, UP2 {i} or DN2 {i} is generated by multiplying or dividing the control signal UP1 {i} or DN1 {i} by a predetermined value specified by adjusting the multiplication (division) amount. In this way, the output impedance when the output signal waveform transitions can be controlled by specifying by the adjustment of the multiplication (division) amount by the fuse signal or other control signal depending on the situation where the semiconductor integrated circuit device is mounted. Is possible.

図10には、この発明に用いられる選択回路の他の一実施例の回路図が示されている。この実施例は、プルアップ回路MOSFET1に対応した選択回路SEL1の変形例が示されている。この実施例の選択回路SEL1においては、前記図4(a)の実施例回路に対してスルーレート制御回路が付加される。この実施例では、スルーレート制御信号でイネーブルになるゲート回路G10〜G12の個数を切り換えて、選択回路の出力信号の立ち上り時間を制御し、出力スルーレートを調整できるようにしている。   FIG. 10 is a circuit diagram showing another embodiment of the selection circuit used in the present invention. In this embodiment, a modification of the selection circuit SEL1 corresponding to the pull-up circuit MOSFET1 is shown. In the selection circuit SEL1 of this embodiment, a slew rate control circuit is added to the embodiment circuit of FIG. In this embodiment, the number of gate circuits G10 to G12 enabled by the slew rate control signal is switched to control the rise time of the output signal of the selection circuit so that the output slew rate can be adjusted.

図11には、この発明に用いられる選択回路の他の一実施例の回路図が示されている。この実施例は、プルダウン回路MOSFET2に対応した選択回路SEL2の変形例が示されている。この実施例の選択回路SEL2においては、前記図4(b)の実施例回路に対してスルーレート制御回路が付加される。この実施例では、スルーレート制御信号でイネーブルになるゲート回路G14〜G16の個数を切り換えて、選択回路の出力信号の立ち下がり時間を制御し、出力スルーレートを調整できるようにしている。   FIG. 11 shows a circuit diagram of another embodiment of the selection circuit used in the present invention. In this embodiment, a modification of the selection circuit SEL2 corresponding to the pull-down circuit MOSFET2 is shown. In the selection circuit SEL2 of this embodiment, a slew rate control circuit is added to the embodiment circuit of FIG. 4B. In this embodiment, the number of gate circuits G14 to G16 enabled by the slew rate control signal is switched to control the fall time of the output signal of the selection circuit so that the output slew rate can be adjusted.

出力回路においては、伝送されるデータ出力時の遷移時間(立ち上り/立ち下り)についても、パッケージ内での信号反射、パッケージインダクタによる同時出力切り替えノイズの発生(リンギングによる波形の乱れ等)を抑えるために、伝送周波数の限界まで長くするのが望ましい。このため、データ転送時のデータウィンド幅が最も大きくなるように、出力遷移時間(スルーレート)を調整することも重要である。例えば、高速シンクロナスSRAM製品においては、スルーレート調整は出力ドライバで行わず、LSI実装ボード上の負荷調整等により調整されるものである。図10及び図11の実施例では、上記スルーレートの調整も出力回路で行わせることができ、LSI実装ボード上の負荷調整等を省略することができる。   In the output circuit, the transition time (rising / falling) at the time of output of the transmitted data also suppresses signal reflection in the package and generation of simultaneous output switching noise due to the package inductor (waveform disturbance due to ringing, etc.). In addition, it is desirable to extend the transmission frequency to the limit. For this reason, it is also important to adjust the output transition time (slew rate) so that the data window width at the time of data transfer becomes the largest. For example, in a high-speed synchronous SRAM product, slew rate adjustment is not performed by an output driver, but is adjusted by load adjustment on an LSI mounting board. 10 and 11, the slew rate can be adjusted by the output circuit, and load adjustment on the LSI mounting board can be omitted.

図12には、図10のスルーレート制御回路を含んだ選択回路SEL1の一実施例の回路図が示されている。同図において、IIZPはデータ入力端子、UP0{i}は出力端子であり、プルアップ回路MOSFET1の1つのMOSFETのゲートに接続される。UP1{i}とUP2{i}は前記インピーダンス調整コード入力端子であり、SR<0>、SR<1>、SR<2>はスルーレート調整コード端子である。   FIG. 12 shows a circuit diagram of an embodiment of the selection circuit SEL1 including the slew rate control circuit of FIG. In the figure, IIZP is a data input terminal, UP0 {i} is an output terminal, and is connected to the gate of one MOSFET of the pull-up circuit MOSFET1. UP1 {i} and UP2 {i} are the impedance adjustment code input terminals, and SR <0>, SR <1>, SR <2> are slew rate adjustment code terminals.

NチャネルMOSFET40〜42が並列形態にされ、共通接続されたドレインは、出力端子UP0{i}に接続される。上記NチャネルMOSFET40〜42の共通接続されたソースには、データ入力端子IIZPから供給される出力すべきデータを受けるNチャネルMOSFETQ43によって回路の接地電位VSSが供給される。上記出力端子UP0{i}と電源電圧VDDとの間には、PチャネルMOSFETQ53が設けられ、上記データ入力端子IIZPから供給される出力すべきデータによってスイッチ制御される。   N-channel MOSFETs 40 to 42 are arranged in parallel, and the commonly connected drains are connected to the output terminal UP0 {i}. The ground potential VSS of the circuit is supplied to the commonly connected sources of the N-channel MOSFETs 40 to 42 by the N-channel MOSFET Q43 that receives data to be output supplied from the data input terminal IIZP. A P-channel MOSFET Q53 is provided between the output terminal UP0 {i} and the power supply voltage VDD, and is switch-controlled by data to be output supplied from the data input terminal IIZP.

上記出力端子UP0{i}と電源電圧VDDとの間には、PチャネルMOSFET50〜52が直列形態に設けられる。上記NチャネルMOSFET40〜42とPチャネルMOSFET50〜52のそれぞれのゲートが共通化されてアンド(AND)ゲート回路60、61、62の出力信号が伝えられる。上記アンドゲート回路60〜62の一方の入力には、前記CMOSスイッチを通したインピーダンス調整コードUP1{i}又はUP2{i}が供給される。上記アンドゲート回路60〜62の他方の入力には、上記入力端子SR<0>、SR<1>、SR<2>からスルーレート調整コードが供給される。   P-channel MOSFETs 50 to 52 are provided in series between the output terminal UP0 {i} and the power supply voltage VDD. The gates of the N-channel MOSFETs 40 to 42 and the P-channel MOSFETs 50 to 52 are shared, and output signals of AND gate circuits 60, 61, 62 are transmitted. An impedance adjustment code UP1 {i} or UP2 {i} through the CMOS switch is supplied to one input of the AND gate circuits 60-62. A slew rate adjustment code is supplied to the other inputs of the AND gate circuits 60 to 62 from the input terminals SR <0>, SR <1>, SR <2>.

この実施例のスルーレート制御回路は、インピーダンス調整コード入力端子UP1{i}又はUP2{i}により上記プルアップ回路MOSFET1の1つのMOSFETの選択または非選択が設定され、スルーレート調整コードSR<0>、SR<1>、SR<2>のいずれかでNチャネルMOSFET40〜42の中でオン状態する組み合わせを選択し、負荷駆動力(オン抵抗)を変化させる。つまり、プルアップ回路MOSFET1の1つのMOSFETのゲートに伝えられる駆動信号の立ち下り時間の調整を行うようにされる。   In the slew rate control circuit of this embodiment, selection or non-selection of one MOSFET of the pull-up circuit MOSFET1 is set by the impedance adjustment code input terminal UP1 {i} or UP2 {i}, and the slew rate adjustment code SR <0. >, SR <1>, or SR <2> is selected from among the N-channel MOSFETs 40 to 42, and the load driving force (ON resistance) is changed. That is, the fall time of the drive signal transmitted to the gate of one MOSFET of the pull-up circuit MOSFET 1 is adjusted.

図13には、図11のスルーレート制御回路を含んだ選択回路SEL2の一実施例の回路図が示されている。同図において、IIZNはデータ入力端子、DN0{i}は出力端子であり、プルダウン回路MOSFET2の1つのMOSFETのゲートに接続される。DN1{i}とDN2{i}は前記インピーダンス調整コード入力端子であり、SR<0>、SR<1>、SR<2>はスルーレート調整コード端子である。   FIG. 13 shows a circuit diagram of an embodiment of the selection circuit SEL2 including the slew rate control circuit of FIG. In the figure, IIZN is a data input terminal, DN0 {i} is an output terminal, and is connected to the gate of one MOSFET of the pull-down circuit MOSFET2. DN1 {i} and DN2 {i} are the impedance adjustment code input terminals, and SR <0>, SR <1>, SR <2> are slew rate adjustment code terminals.

この実施例の選択回路は、前記図12のNチャネルMOSFETとPチャネルMOSFETとの接続関係を入れ替えられた構成となっている。つまり、Nチャネル型の出力MOSFETをオン状態にするための駆動信号を並列形態にされたPチャネルMOSFET70〜72で形成し、それに電源電圧VDDを供給するためのスイッチとしては、データ入力信号IIZNを受けるPチャネルMOSFET73が用いられる。上記データ入力信号IIZNに対応して出力端子DN0{i}をロウレベルにリセットするMOSFETは、NチャネルMOSFET83とされる。そして、NチャネルMOSFET80〜82が直列形態とされて出力端子と回路の接地電位VSSとの間に設けられる。また、インピーダンス調整コードDN1{i}又はDN2{i}とスルーレート調整コードSR<0>、SR<1>、SR<2>を受けるゲート回路90〜92は、アンドゲートに代えてナンドゲートとされる。   The selection circuit of this embodiment has a configuration in which the connection relationship between the N-channel MOSFET and the P-channel MOSFET in FIG. 12 is switched. That is, a drive signal for turning on the N-channel type output MOSFET is formed by the P-channel MOSFETs 70 to 72 arranged in parallel, and the data input signal IIZN is used as a switch for supplying the power supply voltage VDD thereto. A receiving P-channel MOSFET 73 is used. A MOSFET that resets the output terminal DN0 {i} to a low level in response to the data input signal IIZN is an N-channel MOSFET 83. N-channel MOSFETs 80 to 82 are arranged in series and are provided between the output terminal and the ground potential VSS of the circuit. Gate circuits 90 to 92 that receive impedance adjustment code DN1 {i} or DN2 {i} and slew rate adjustment codes SR <0>, SR <1>, SR <2> are NAND gates instead of AND gates. The

図14には、図10のスルーレート制御回路を含んだ選択回路SEL1の他の一実施例の回路図が示されている。同図において、前記図12と同様にIIZPはデータ入力端子、UP0{i}は出力端子であり、プルアップ回路MOSFET1の1つのMOSFETのゲートに接続される。UP1{i}とUP2{i}は前記インピーダンス調整コード入力端子であり、SR<0>、SR<1>、SR<2>はスルーレート調整コード端子である。   FIG. 14 shows a circuit diagram of another embodiment of the selection circuit SEL1 including the slew rate control circuit of FIG. 12, IIZP is a data input terminal, UP0 {i} is an output terminal, and is connected to the gate of one MOSFET of the pull-up circuit MOSFET1. UP1 {i} and UP2 {i} are the impedance adjustment code input terminals, and SR <0>, SR <1>, SR <2> are slew rate adjustment code terminals.

この実施例のスルーレート制御回路は、インピーダンス調整コードIIZPにより選択または非選択が指定される。スルーレート調整コードSR<0>、SR<1>、SR<2>でPチャネルMOSFET100〜102とNチャネルMOSFET110〜112によるCMOSスイッチの中でオンするPMOS/NMOSの組み合わせを選択し、PチャネルMOSFET103のドレインノード(出力端子UP0{i})に抵抗RSを介して接続される容量の組み合わせをC10〜C12の中から選択する。このようにして、出力端子UP0{i}の時定数を変化させる。つまり、容量値を大きくすると出力端子UP0{i}の立ち下がり遅くなり、それにより駆動されるPチャネル型の出力MOSFETでのスルーレートが小さくされる。   In the slew rate control circuit of this embodiment, selection or non-selection is designated by the impedance adjustment code IIZP. A PMOS / NMOS combination which is turned on in the CMOS switch by the P-channel MOSFETs 100 to 102 and the N-channel MOSFETs 110 to 112 is selected by the slew rate adjustment codes SR <0>, SR <1> and SR <2>, and the P-channel MOSFET 103 is selected. A combination of capacitors connected to the drain node (output terminal UP0 {i}) via the resistor RS is selected from C10 to C12. In this way, the time constant of the output terminal UP0 {i} is changed. That is, when the capacitance value is increased, the output terminal UP0 {i} falls late, and the slew rate in the P-channel output MOSFET driven thereby is reduced.

図15には、図11のスルーレート制御回路を含んだ選択回路SEL2の他の一実施例の回路図が示されている。同図において、前記図13と同様にIIZNはデータ入力端子、DN0{i}は出力端子であり、プルダウン回路MOSFET2の1つのMOSFETのゲートに接続される。DN1{i}とDN2{i}は前記インピーダンス調整コード入力端子であり、SR<0>、SR<1>、SR<2>はスルーレート調整コード端子である。   FIG. 15 shows a circuit diagram of another embodiment of the selection circuit SEL2 including the slew rate control circuit of FIG. In the same figure, IIZN is a data input terminal, DN0 {i} is an output terminal, and is connected to the gate of one MOSFET of the pull-down circuit MOSFET2, as in FIG. DN1 {i} and DN2 {i} are the impedance adjustment code input terminals, and SR <0>, SR <1>, SR <2> are slew rate adjustment code terminals.

この実施例のスルーレート制御回路は、インピーダンス調整コードIIZPにより選択または非選択が指定される。スルーレート調整コードSR<0>、SR<1>、SR<2>でPチャネルMOSFET120〜122とNチャネルMOSFET130〜132によるCMOSスイッチの中でオンするPMOS/NMOSの組み合わせを選択し、NチャネルMOSFET133のドレインノード(出力端子DN0{i})に抵抗RSを介して接続される容量の組み合わせをC20〜C22の中から選択する。このようにして、出力端子DN0{i}の時定数を変化させる。つまり、容量値を大きくすると出力端子DN0{i}の立ち上りが遅くなり、それにより駆動されるNチャネル型の出力MOSFETでのスルーレートが小さくされる。   In the slew rate control circuit of this embodiment, selection or non-selection is designated by the impedance adjustment code IIZP. A PMOS / NMOS combination which is turned on in the CMOS switch by the P-channel MOSFETs 120 to 122 and the N-channel MOSFETs 130 to 132 is selected by the slew rate adjustment codes SR <0>, SR <1>, SR <2>, and the N-channel MOSFET 133 A combination of capacitors connected to the drain node (output terminal DN0 {i}) via the resistor RS is selected from C20 to C22. In this way, the time constant of the output terminal DN0 {i} is changed. That is, when the capacitance value is increased, the rise of the output terminal DN0 {i} is delayed, and the slew rate in the N-channel output MOSFET driven thereby is reduced.

図16には、この発明に係る出力回路の他の一実施例の構成図が示されている。この実施例では、制御信号UP2{i}またはDN2{i}をハイレベル(VDD)またはロウレベル(VSS)に固定し、並列形態のMOSFETのすべてがオン状態になるようにして出力信号波形が遷移する時の出力インピーダンスが最小のインピーダンスとなるようにしている。このようにすると、インピーダンス制御信号UP2{i}またはDN2{i}を発生する回路が不要となるためレイアウト面積を大幅に低減でき、その分チップサイズを小さくできる。例えば、UP2{i}を形成するためのヒューズ手段や、前記図8、図9の実施例のような加算(減算)回路や乗算(除算)回路が不要となる。   FIG. 16 is a block diagram showing another embodiment of the output circuit according to the present invention. In this embodiment, the control signal UP2 {i} or DN2 {i} is fixed to the high level (VDD) or the low level (VSS), and the output signal waveform is changed so that all of the parallel MOSFETs are turned on. The output impedance when doing so is the minimum impedance. This eliminates the need for a circuit for generating the impedance control signal UP2 {i} or DN2 {i}, so that the layout area can be greatly reduced, and the chip size can be reduced accordingly. For example, the fuse means for forming UP2 {i}, and the addition (subtraction) circuit and multiplication (division) circuit as in the embodiments of FIGS. 8 and 9 are not required.

さらに、選択回路SEL1またはSEL2が制御信号をUP2{i}またはDN2{i}からUP1{i}またはDN1{i}へ切り換える際に、オフ状態からオン状態に切り換わる出力MOSを無くすことができるので、制御信号のタイミングスキューによる異常なインピーダンスの発生を防止することができる。また、本実施例に出力スルーレート制御回路(図10〜図15)を組み合わせることにより、必要以上のオーバーシュート(高周波成分の過剰注入による波形乱れ)を発生させることなく、低レイアウト面積のプリエンファシス出力回路を構成することができる。   Furthermore, when the selection circuit SEL1 or SEL2 switches the control signal from UP2 {i} or DN2 {i} to UP1 {i} or DN1 {i}, the output MOS that switches from the off state to the on state can be eliminated. Therefore, the generation of abnormal impedance due to the control signal timing skew can be prevented. Also, by combining the output slew rate control circuit (FIGS. 10 to 15) with this embodiment, pre-emphasis with a low layout area can be achieved without causing overshoot (waveform disturbance due to excessive injection of high frequency components) more than necessary. An output circuit can be configured.

図17には、この発明に係る出力回路の更に他の一実施例の構成図が示されている。この実施例では、図16の実施例の変形例であり、出力端子にダイオードD1、D2及び抵抗ROを付加している。このようにすると静電破壊を防止でき、出力MOSFETの抵抗特性の非直線性を改善させる等の効果がある。また、電源電圧VDDQを用いている。この電源電圧VDDQは、出力回路に向けた独立した電源端子であり、半導体集積回路装置の内部回路に出力回路の動作時に電源端子に発生するノイズが内部回路に伝わりにくくする上で有効である。このような電源端子VDDQは、前記他の実施例にも同様に適用することができる。これと同様に、回路の接地端子VSSも、内部回路の接地端子とは独立した接地端子VSSQとされる。   FIG. 17 is a block diagram showing still another embodiment of the output circuit according to the present invention. This embodiment is a modification of the embodiment of FIG. 16, and diodes D1 and D2 and a resistor RO are added to the output terminal. In this way, electrostatic breakdown can be prevented, and the non-linearity of the resistance characteristics of the output MOSFET can be improved. Further, the power supply voltage VDDQ is used. This power supply voltage VDDQ is an independent power supply terminal directed to the output circuit, and is effective in making it difficult for noise generated at the power supply terminal to be transmitted to the internal circuit in the internal circuit of the semiconductor integrated circuit device. Such a power supply terminal VDDQ can be similarly applied to the other embodiments. Similarly, the ground terminal VSS of the circuit is also a ground terminal VSSQ independent of the ground terminal of the internal circuit.

図18には、この発明に係る出力回路を構成するプルアップ回路とプルダウン回路の一実施例の構成図が示されている。同図(a)には、レイアウト構造が示され、同図(b)にはそれに対応した等価回路が示されている。この実施例では、出力ピン(PAD)は、ESD(静電破壊)保護ダイオード(p+ダイオード、n+ダイオード)、抵抗素子、NMOS(NチャネルMOSFET)、PMOS(PチャネルMOSFET)の順に配置して直線的な一本の配線で接続したレイアウトを基本構成としている。この基本構成の出力バッファを、上記をインピーダンス調整、及びスルーレート調整に必要な個数分だけ、上記直線的な配線と直交する方向に平行に並べてストライプ状に配置することで一つの出力回路を構成することができる。   FIG. 18 is a block diagram showing an embodiment of a pull-up circuit and a pull-down circuit constituting the output circuit according to the present invention. FIG. 2A shows a layout structure, and FIG. 2B shows an equivalent circuit corresponding thereto. In this embodiment, the output pin (PAD) is arranged in the order of an ESD (electrostatic breakdown) protection diode (p + diode, n + diode), a resistance element, NMOS (N-channel MOSFET), and PMOS (P-channel MOSFET). The basic configuration is a layout connected by a single wiring. A single output circuit is configured by arranging the output buffers of this basic configuration in stripes in parallel to the direction perpendicular to the linear wiring, as many as necessary for impedance adjustment and slew rate adjustment. can do.

図19には、この発明に係る出力回路の一実施例のレイアウト図が示されている。この実施例では、等比分割された出力バッファセル(R/2、R、2R、4R)をバイナリ(2進)のインピーダンスコードで選択することによりインピーダンスを制御するようにしている。また、インピーダンスの小さいストライプ単位(R/2,R)は、MOSFETのサイズ(W)を大きく抵抗サイズを小さくする。一方、インピーダンスの大きなストライプ単位(2R,4R)は、MOSサイズを小さく、抵抗サイズを大きくするように構成している。   FIG. 19 shows a layout diagram of an embodiment of an output circuit according to the present invention. In this embodiment, the impedance is controlled by selecting the output buffer cells (R / 2, R, 2R, 4R) that are divided into equal ratios with binary (binary) impedance codes. Further, the stripe unit (R / 2, R) having a small impedance increases the size (W) of the MOSFET and decreases the resistance size. On the other hand, the stripe unit (2R, 4R) having a large impedance is configured to have a small MOS size and a large resistance size.

すなわち、MOSFETのオン抵抗値はゲートサイズ(W)に反比例し、抵抗素子の抵抗値はレイアウトサイズに比例するため、出力バッファのオン抵抗値と抵抗素子の抵抗値の比率を同じとし、セル内のレイアウトの形状を調整することによって、セル高さ(上記配線方向の長さ)を変えずにインピーダンスを変えるレイアウトとしている。従って、ストライプ単位セルの高さを各インピーダンス分割セルで同じにしても、無駄なスペースを作らずに済むために高集積化を図ることができるという効果が得られる。   That is, since the on-resistance value of the MOSFET is inversely proportional to the gate size (W) and the resistance value of the resistance element is proportional to the layout size, the ratio of the on-resistance value of the output buffer and the resistance element is the same, By adjusting the shape of the layout, the impedance is changed without changing the cell height (the length in the wiring direction). Therefore, even if the height of the stripe unit cell is the same in each impedance division cell, there is an effect that it is possible to achieve high integration because it is not necessary to create a useless space.

図20には、この発明が適用される半導体メモリの一実施例のブロック図が示されている。同図において、XADRは行アドレス信号、YADRは列アドレス信号、DINはデータ入力信号、CTRLはメモリ制御信号であり、DOUTはデータ出力信号である。また、XDECは行アドレスデコーダ、XDRは行アドレスに対応するワード線に選択パルス電圧を印加するワード線ドライバ、MCAは複数のメモリセルがマトリクス状に配置されたメモリセルアレーである。またYDECは列アドレスデコーダ、YSWは列アドレスに対応するビット線対を選択する列選択回路、DIOはメモリ制御信号CTRLに基づいて、データ入力信号DINを選択セルへ書き込む、または、選択セルの情報を増幅してデータ出力信号DOUTを出力するデータ入出力回路である。上述した出力バッファはデータ入出力回路DIO内に含まれる。   FIG. 20 is a block diagram showing one embodiment of a semiconductor memory to which the present invention is applied. In the figure, XADR is a row address signal, YADR is a column address signal, DIN is a data input signal, CTRL is a memory control signal, and DOUT is a data output signal. XDEC is a row address decoder, XDR is a word line driver that applies a selection pulse voltage to a word line corresponding to the row address, and MCA is a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix. YDEC is a column address decoder, YSW is a column selection circuit for selecting a bit line pair corresponding to the column address, and DIO writes a data input signal DIN to the selected cell based on the memory control signal CTRL, or information on the selected cell Is a data input / output circuit that outputs a data output signal DOUT. The output buffer described above is included in the data input / output circuit DIO.

図21には、図20のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の一実施例のブロック図が示されている。同図において、DINはデータ入力信号、DOUTはデータ出力信号である。また、DIBはデータ入力回路、DQBはデータ出力回路である。RTEはデータ入力信号を受信する端子の入力インピーダンスを調整するための抵抗であり、この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTTが端子ZTに接続された抵抗RTの抵抗値に基づいてRTEの抵抗値を調整するようにしている。RQEはデータ出力信号を送信する端子の出力インピーダンスを調整するための抵抗であり、例えば上記実施例における出力回路の出力インピーダンスに相当する。この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTQが端子ZQに接続された抵抗RQの抵抗値に基づいてRQEを所定のインピーダンスに制御しており、さらに、出力信号波形が遷移する時にRQEを上記所定のインピーダンスよりも低くなるように制御し、その後一定時間後に出力インピーダンスを上記所定のインピーダンスに戻すようにしている。   FIG. 21 is a block diagram showing an embodiment of the circuit configuration of the portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. In the figure, DIN is a data input signal, and DOUT is a data output signal. DIB is a data input circuit, and DQB is a data output circuit. RTE is a resistor for adjusting the input impedance of the terminal that receives the data input signal. In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTT adjusts the resistance value of the RTE based on the resistance value of the resistor RT connected to the terminal ZT. Like to do. RQE is a resistor for adjusting the output impedance of the terminal that transmits the data output signal, and corresponds to, for example, the output impedance of the output circuit in the above embodiment. In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTQ controls the RQE to a predetermined impedance based on the resistance value of the resistor RQ connected to the terminal ZQ. Further, when the output signal waveform transitions, the RQE is changed from the predetermined impedance. The output impedance is returned to the predetermined impedance after a certain time.

この実施例では、ヒューズ回路FUSECTを付加し、上記プリエンファシス機能の停止信号、上記出力遷移時の出力インピーダンスの低下量または上記インピーダンスを元に戻す時間(前記遅延時間)をヒューズ信号で制御できるようにしている。つまり、前記図5の制御信号ISEL1とISEL2、図6の制御信号φiと/φiまたは図7の制御信号DLCTRL0〜DLCTRL2が上記ヒューズ回路FUSECTにより設定され、前記図8や図9の実施例における加算(減算)量調整、乗算(除算)量調整が上記ヒューズ回路FUSECTにより設定される。   In this embodiment, a fuse circuit FUSECT is added so that the stop signal of the pre-emphasis function, the amount of decrease in the output impedance at the time of the output transition, or the time for returning the impedance (the delay time) can be controlled by the fuse signal. I have to. That is, the control signals ISEL1 and ISEL2 in FIG. 5, the control signals φi and / φi in FIG. 6 or the control signals DLCTRL0 to DLCTRL2 in FIG. 7 are set by the fuse circuit FUSECT, and the addition in the embodiments of FIGS. The (subtraction) amount adjustment and the multiplication (division) amount adjustment are set by the fuse circuit FUSECT.

図22には、図20のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の他の一実施例のブロック図が示されている。同図において、DINはデータ入力信号、DOUTはデータ出力信号である。また、DIBはデータ入力回路、DQBはデータ出力回路である。RTEはデータ入力信号を受信する端子の入力インピーダンスを調整するための抵抗であり、この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTTが端子ZTに接続された抵抗RTの抵抗値に基づいてRTEの抵抗値を調整するようにしている。   FIG. 22 is a block diagram showing another embodiment of the circuit configuration of the portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. In the figure, DIN is a data input signal, and DOUT is a data output signal. DIB is a data input circuit, and DQB is a data output circuit. RTE is a resistor for adjusting the input impedance of the terminal that receives the data input signal. In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTT adjusts the resistance value of the RTE based on the resistance value of the resistor RT connected to the terminal ZT. Like to do.

RQEはデータ出力信号を送信する端子の出力インピーダンスを調整するための抵抗であり、例えば上記実施例における出力回路の出力インピーダンスに相当する。この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTQが端子ZQに接続された抵抗RQの抵抗値に基づいてRQEを所定のインピーダンスに制御しており、さらに、出力信号波形が遷移する時にRQEを上記所定のインピーダンスよりも低くなるように制御し、その後一定時間後に出力インピーダンスを上記所定のインピーダンスに戻すようにしている。   RQE is a resistor for adjusting the output impedance of the terminal that transmits the data output signal, and corresponds to, for example, the output impedance of the output circuit in the above embodiment. In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTQ controls the RQE to a predetermined impedance based on the resistance value of the resistor RQ connected to the terminal ZQ. Further, when the output signal waveform transitions, the RQE is changed from the predetermined impedance. The output impedance is returned to the predetermined impedance after a certain time.

この実施例では、JTAG(Joint Test Action Groupが提案したIEEE規格1149.1)を利用した制御回路JTRCNTがJTAG入力信号(TCK,TMS,TDI)に基づいて、上記のプリエンファシス機能の停止信号、上記出力インピーダンスの低下量または上記インピーダンスを元に戻す時間を制御できるようにしている。つまり、前記図21のヒューズ回路FUSECTに代えて、上記制御回路JTRCNTがそれと同様な制御を行うようにされる。   In this embodiment, the control circuit JTRCNT using JTAG (IEEE standard 1149.1 proposed by Joint Test Action Group) is based on the JTAG input signals (TCK, TMS, TDI), and the pre-emphasis function stop signal and the output The amount of decrease in impedance or the time for restoring the impedance can be controlled. That is, the control circuit JTRCNT performs the same control instead of the fuse circuit FUSECT shown in FIG.

図23には、図20のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の更に他の一実施例のブロック図が示されている。同図においては、DINはデータ入力信号、DOUTはデータ出力信号である。また、DIBはデータ入力回路、DQBはデータ出力回路である。RTEはデータ入力信号を受信する端子の入力インピーダンスを調整するための抵抗であり、本実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTTが端子ZTに接続された抵抗RTの抵抗値に基づいてRTEの抵抗値を調整するようにしている。RQEはデータ出力信号を送信する端子の出力インピーダンスを調整するための抵抗であり、例えば上記例における出力回路の出力インピーダンスに相当する。   FIG. 23 is a block diagram showing still another embodiment of the circuit configuration of the portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. In the figure, DIN is a data input signal and DOUT is a data output signal. DIB is a data input circuit, and DQB is a data output circuit. RTE is a resistor for adjusting the input impedance of the terminal that receives the data input signal. In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTT adjusts the resistance value of the RTE based on the resistance value of the resistor RT connected to the terminal ZT. Like to do. RQE is a resistor for adjusting the output impedance of the terminal that transmits the data output signal, and corresponds to, for example, the output impedance of the output circuit in the above example.

本実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTQが端子ZQに接続された抵抗RQの抵抗値に基づいてRQEを所定のインピーダンスに制御しており、出力信号波形が遷移する時にRQEを上記所定のインピーダンスよりも低くなるように制御し、その後一定時間後に出力インピーダンスを上記所定のインピーダンスに戻すようにしている。そして、本実施例では制御回路IMCNTPを付加し、IMCNTPが端子ZPに接続された抵抗RPの抵抗値に基づいて、上記の出力インピーダンスの低下量を制御できるようにしている。この場合、前記図8、図9のような信号生成回路を用いるもの他、上記出力信号波形が遷移する時の低下された出力インピーダンスを上記抵抗RPにより直接に設定されてもよい。   In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTQ controls the RQE to a predetermined impedance based on the resistance value of the resistor RQ connected to the terminal ZQ, and the RQE is lower than the predetermined impedance when the output signal waveform changes. Then, the output impedance is returned to the predetermined impedance after a predetermined time. In this embodiment, a control circuit IMCNTP is added so that the amount of decrease in the output impedance can be controlled based on the resistance value of the resistor RP in which IMCNTP is connected to the terminal ZP. In this case, in addition to those using the signal generation circuit as shown in FIGS. 8 and 9, the output impedance lowered when the output signal waveform transitions may be directly set by the resistor RP.

図24には、この発明が適用される半導体メモリの他の実施例のブロック図が示されている。この実施例において、前記図20の実施例と同様にXADRは行アドレス信号、YADRは列アドレス信号、CTRLはメモリ制御信号であり、DQはデータ入出力信号である。この実施例が、前記図20の実施例と異なるのは、図20の実施例ではデータ入力端子DINとデータ出力端子DOUTとが分離されていたのに対し、この実施例では、両端子がデータ入出力端子DQとして共通化されている点である。   FIG. 24 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor memory to which the present invention is applied. In this embodiment, as in the embodiment of FIG. 20, XADR is a row address signal, YADR is a column address signal, CTRL is a memory control signal, and DQ is a data input / output signal. This embodiment is different from the embodiment of FIG. 20 in that the data input terminal DIN and the data output terminal DOUT are separated in the embodiment of FIG. This is common to the input / output terminal DQ.

この実施例でXDECは行アドレスデコーダ、XDRは行アドレスに対応するワード線に選択パルス電圧を印加するワード線ドライバ、MCAは複数のメモリセルがマトリクス状に配置されたメモリセルアレーである。またYDECは列アドレスデコーダ、YSWは列アドレスに対応するビット線対を選択する列選択回路、DIOはメモリ制御信号CTRLに基づいて、データ入出力信号DQを選択セルへ書き込む、または、選択セルの情報を増幅してデータ入出力信号DQを出力するデータ入出力回路である。前述した出力回路はデータ入出力回路DIO内に含まれる。   In this embodiment, XDEC is a row address decoder, XDR is a word line driver that applies a selection pulse voltage to a word line corresponding to a row address, and MCA is a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix. YDEC is a column address decoder, YSW is a column selection circuit that selects a bit line pair corresponding to the column address, DIO writes a data input / output signal DQ to a selected cell based on a memory control signal CTRL, or A data input / output circuit that amplifies information and outputs a data input / output signal DQ. The aforementioned output circuit is included in the data input / output circuit DIO.

図25には、図24のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の一実施例のブロック図が示されている。同図において、DQはデータ入出力信号である。また、DIBはデータ入力回路、DQBはデータ出力回路である。RTEはデータ入出力信号を送受信する端子の入力インピーダンスを調整するための抵抗であり、この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTTが端子ZTに接続された抵抗RTの抵抗値に基づいてRTEの抵抗値を調整するようにしている。RQEはデータ入出力信号を送受信する端子の出力インピーダンスを調整するための抵抗であり、例えば前記実施例における出力回路の出力インピーダンスに相当する。   FIG. 25 is a block diagram showing an embodiment of a circuit configuration of a portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. In the figure, DQ is a data input / output signal. DIB is a data input circuit, and DQB is a data output circuit. RTE is a resistor for adjusting the input impedance of the terminal for transmitting and receiving data input / output signals. In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTT determines the resistance value of RTE based on the resistance value of the resistor RT connected to the terminal ZT. I try to adjust it. RQE is a resistor for adjusting the output impedance of a terminal that transmits and receives data input / output signals, and corresponds to, for example, the output impedance of the output circuit in the embodiment.

この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTQが端子ZQに接続された抵抗RQの抵抗値に基づいてRQEを所定のインピーダンスに制御しており、さらに、出力信号波形が遷移する時にRQEを上記所定のインピーダンスよりも低くなるように制御し、その後一定時間後に出力インピーダンスを上記所定のインピーダンスに戻すようにしている。さらに、この実施例ではヒューズ回路FUSECTを付加し、上記の出力インピーダンスの低下量または上記インピーダンスを元に戻す時間をヒューズ信号で制御できるようにしている。   In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTQ controls the RQE to a predetermined impedance based on the resistance value of the resistor RQ connected to the terminal ZQ. Further, when the output signal waveform transitions, the RQE is changed from the predetermined impedance. The output impedance is returned to the predetermined impedance after a certain time. Further, in this embodiment, a fuse circuit FUSECT is added so that the amount of decrease in the output impedance or the time for returning the impedance can be controlled by the fuse signal.

図26には、図24のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の他の一実施例のブロック図が示されている。同図において、DQはデータ入出力信号である。また、DIBはデータ入力回路、DQBはデータ出力回路である。RTEはデータ入出力信号を送受信する端子の入力インピーダンスを調整するための抵抗であり、この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTTが端子ZTに接続された抵抗RTの抵抗値に基づいてRTEの抵抗値を調整するようにしている。RQEはデータ入出力信号を送受信する端子の出力インピーダンスを調整するための抵抗であり、例えば前記実施例における出力回路の出力インピーダンスに相当する。この実施例では、さらに抵抗RCを追加している。この抵抗RCは、データ入力時とデータ出力時の両方に動作するため、入力インピーダンスと出力インピーダンスの調整に共通に使用することができる。このように共通化すると、その分入出力回路のレイアウト面積を低減できるという効果がある。   FIG. 26 is a block diagram showing another embodiment of the circuit configuration of the portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. In the figure, DQ is a data input / output signal. DIB is a data input circuit, and DQB is a data output circuit. RTE is a resistor for adjusting the input impedance of a terminal that transmits and receives data input / output signals. In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTT determines the resistance value of the RTE based on the resistance value of the resistor RT connected to the terminal ZT. I try to adjust it. RQE is a resistor for adjusting the output impedance of a terminal that transmits and receives data input / output signals, and corresponds to, for example, the output impedance of the output circuit in the embodiment. In this embodiment, a resistor RC is further added. Since this resistor RC operates both when data is input and when data is output, it can be used in common for adjusting the input impedance and the output impedance. Sharing in this way has the effect of reducing the layout area of the input / output circuit accordingly.

この実施例ではインピーダンス制御回路IMCNTQが端子ZQに接続された抵抗RQの抵抗値に基づいてRQE及びRCを所定のインピーダンスに制御しており、さらに、出力信号波形が遷移する時にRQEまたはRCの少なくとも一方を上記所定のインピーダンスよりも低くなるように制御し、その後一定時間後にインピーダンスを上記所定のインピーダンスに戻すようにしている。そして、この実施例ではヒューズ回路FUSECTを付加し、前記図21と同様に上記のインピーダンスの低下量または上記インピーダンスを元に戻す時間をヒューズ信号で制御できるようにしている。   In this embodiment, the impedance control circuit IMCNTQ controls RQE and RC to a predetermined impedance based on the resistance value of the resistor RQ connected to the terminal ZQ, and further, at least of RQE or RC when the output signal waveform transitions. One is controlled so as to be lower than the predetermined impedance, and then the impedance is returned to the predetermined impedance after a certain time. In this embodiment, a fuse circuit FUSECT is added so that the amount of decrease in the impedance or the time for restoring the impedance can be controlled by a fuse signal as in FIG.

図27には、この発明に用いられるインピーダンス制御回路の一実施例のブロック図が示されている。この実施例のインピーダンス制御回路IMCNTは、LSI外部端子ZPとグランド(回路の接地電位VSS)との間につないだ抵抗素子RPの抵抗値とLSI内のレプリカMOSFET1のオン抵抗値が等しくなるように、言い換えるならば、外部端子ZP電圧が電源電圧VDDの1/2と等しくなるように、参照電圧をVDD/2とするコンパレータVC1とカウンタCNT1(UP/DOWN:アップ/ダウン)、及びそれにより制御されるプルアップレプリカMOSFET1にてフィードバックループを構成し、上記カウンタCNT1をレジスタREG1に伝えてプルアップ回路のインピーダンス調整コードUP2<0:n>を生成する。つまり、上記フィードバックループより、上記インピーダンス制御端子ZPの電圧が、VDDの1/2に最も近くなるように上記カウンタ回路CNT1の計数値が設定される。   FIG. 27 is a block diagram showing an embodiment of the impedance control circuit used in the present invention. In the impedance control circuit IMCNT of this embodiment, the resistance value of the resistance element RP connected between the LSI external terminal ZP and the ground (the ground potential VSS of the circuit) is equal to the on-resistance value of the replica MOSFET 1 in the LSI. In other words, the comparator VC1 and the counter CNT1 (UP / DOWN: up / down) that control the reference voltage to VDD / 2 so that the external terminal ZP voltage becomes equal to 1/2 of the power supply voltage VDD, and the control is thereby performed. The pull-up replica MOSFET 1 is used to form a feedback loop, and the counter CNT1 is transmitted to the register REG1 to generate the impedance adjustment code UP2 <0: n> for the pull-up circuit. That is, the count value of the counter circuit CNT1 is set by the feedback loop so that the voltage of the impedance control terminal ZP is closest to 1/2 of VDD.

プルダウン回路のインピーダンス調整コードDN2<0:n>も同様な方法で生成される。つまり、上記プルアップレプリカ回路MOSFET1と同じ構成のプルアップレプリカ回路MOSFET1’とプルダウンレプリカ回路MOSFET2により電源電圧VDDの分圧回路を構成し、その分圧電圧が電源電圧VDDの1/2になるように参照電圧をVDD/2とするコンパレータVC2、カウンタ回路CNT2(UP/DOWN:アップ/ダウン)、及びそれにより制御されるプルダウンレプリカ回路MOSFET2にてフィードバックループを構成して、レジスタREG2からプルダウン回路のインピーダンス調整コードDN2<0:n>が生成される。   The impedance adjustment code DN2 <0: n> for the pull-down circuit is generated in the same manner. In other words, a voltage dividing circuit for the power supply voltage VDD is configured by the pull-up replica circuit MOSFET 1 ′ and the pull-down replica circuit MOSFET 2 having the same configuration as the pull-up replica circuit MOSFET 1 so that the divided voltage becomes 1/2 of the power supply voltage VDD. A feedback loop is configured by a comparator VC2 having a reference voltage of VDD / 2, a counter circuit CNT2 (UP / DOWN: up / down), and a pull-down replica circuit MOSFET 2 controlled thereby, and the pull-down circuit of the pull-down circuit is controlled from the register REG2. Impedance adjustment code DN2 <0: n> is generated.

上記のようにコンパレータVC1の参照電圧は電源電圧VDDの1/2としてある。これは、プルダウン側のインピーダンスコードを生成する際、外付け抵抗RPの代わりにプルアップレプリカ回路MOSFET1のコピーとなるレプリカ回路MOSFET1’を用いることが出来、回路構成を簡単にできる利点がある。なお、生成されたインピーダンスコードは、必要ならコードシフト回路において任意ビット数だけシフトさせる。シフト量は制御信号にて設定される。これは、MOSFETのオン抵抗の非線形性により、入力電位がVDD/2からずれてくるに従い、終端抵抗値が高めにずれていってしまうという問題があるなら、例えば2ビットシフトによるコードシフトによる補正を入れて解決するようにしてもよい。   As described above, the reference voltage of the comparator VC1 is ½ of the power supply voltage VDD. This is advantageous in that the replica circuit MOSFET 1 'serving as a copy of the pull-up replica circuit MOSFET 1 can be used instead of the external resistor RP when generating the impedance code on the pull-down side, and the circuit configuration can be simplified. The generated impedance code is shifted by an arbitrary number of bits in a code shift circuit if necessary. The shift amount is set by a control signal. If there is a problem that the termination resistance value shifts higher as the input potential shifts from VDD / 2 due to the nonlinearity of the on-resistance of the MOSFET, for example, correction by code shift by 2-bit shift You may make it solve by putting.

同図のインピーダンス制御回路IMCNTは、前記図21〜図23等のインピーダンス制御回路IMCNTQ、IMCNTT、IMCNTPに利用することができる。上記インピーダンス制御回路IMCNTPにより、信号遷移時の出力インピーダンスを直接に設定する場合、言い換えるならば、前記制御信号DN2<0:N>を生成する場合、外部端子ZPに接続する抵抗RPの抵抗値を上記出力インピーダンスに設定する。この場合、レプリカ部分のMOSサイズは出力バッファのMOSサイズのM倍であり(Mは正の実数)、出力インピーダンスは外付け抵抗の抵抗値の1/Mの値となるように構成されている。   The impedance control circuit IMCNT shown in the figure can be used for the impedance control circuits IMCNTQ, IMCNTT, and IMCNTP shown in FIGS. When the output impedance at the time of signal transition is set directly by the impedance control circuit IMCNTP, in other words, when the control signal DN2 <0: N> is generated, the resistance value of the resistor RP connected to the external terminal ZP is set to Set to the above output impedance. In this case, the MOS size of the replica portion is M times the MOS size of the output buffer (M is a positive real number), and the output impedance is configured to be 1 / M of the resistance value of the external resistor. .

この実施例のインピーダンス制御回路では、Qサイクル毎(Qは正の実数)に制御信号をアップデートし、プロセスばらつき或いは温度や電源電圧の変化があった際にも自動的に(システム動作状態で)、インピーダンスが規定値に収まるように調整している。このようにすると、半導体集積回路装置LSIが実装されるシステム状況によって、抵抗RPの抵抗値で、出力インピーダンス、入力インピーダンス及び出力信号波形が遷移する時の出力インピーダンス等を制御することが可能になる。さらに、プロセスばらつき或いは温度や電源電圧の変化があった場合でもこれらのインピーダンスを規定値に収めることが出来る。   In the impedance control circuit of this embodiment, the control signal is updated every Q cycles (Q is a positive real number), and automatically (when the system is operating) even when there are process variations or changes in temperature or power supply voltage. The impedance is adjusted to be within the specified value. This makes it possible to control the output impedance, the input impedance, the output impedance when the output signal waveform transitions, and the like by the resistance value of the resistor RP depending on the system situation in which the semiconductor integrated circuit device LSI is mounted. . Furthermore, even when there are process variations or changes in temperature or power supply voltage, these impedances can be kept within specified values.

図28には、この発明に係る半導体集積回路装置の一実施例のブロック図が示されている。この実施例では、複数の出力回路を備えており、これら複数の出力回路に対して、共通に設けられた制御信号生成回路で形成されたインピーダンス制御信号UP1<0:n>、UP2<0:n>、DN1<0:n>、DN2<0:n>は、分配系回路を通して複数の出力回路に伝えられる。出力回路は、上記インピーダンス制御信号UP1<0:n>、UP2<0:n>、DN1<0:n>、DN2<0:n>に従い、出力制御系回路で形成された出力データ信号INとイネーブル信号CTRLに対応して出力動作を行う。この実施例インピーダンス制御信号発生回路及び制御信号選択回路を全出力回路または一部の出力回路(例えばバイト毎の出力回路)で共通に備えるように構成している。このようにすると、インピーダンス制御信号発生回路及び制御信号選択回路のレイアウト面積を大幅に低減することができ、その分チップサイズを小さくできる。   FIG. 28 is a block diagram showing one embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. In this embodiment, a plurality of output circuits are provided, and impedance control signals UP1 <0: n> and UP2 <0: formed by control signal generation circuits provided in common to the plurality of output circuits. n>, DN1 <0: n>, and DN2 <0: n> are transmitted to a plurality of output circuits through the distribution system circuit. The output circuit outputs the output data signal IN formed by the output control system circuit in accordance with the impedance control signals UP1 <0: n>, UP2 <0: n>, DN1 <0: n>, DN2 <0: n>. An output operation is performed in response to the enable signal CTRL. In this embodiment, the impedance control signal generation circuit and the control signal selection circuit are configured to be shared by all output circuits or a part of output circuits (for example, output circuits for each byte). In this way, the layout area of the impedance control signal generation circuit and the control signal selection circuit can be greatly reduced, and the chip size can be reduced accordingly.

図29には、この発明に係る半導体集積回路装置の他の一実施例のブロック図が示されている。この実施例では、各出力バイト毎、または特定出力ピン毎に制御信号UP2<0:n>、DN2<0:n>を発生できるようにしている。このようにすると、半導体集積装置が実装される状況によって、各出力バイト毎、または特定出力ピン毎に異なる伝送特性を持つ伝送線路に接続されても、それぞれの特性に合わせて独立にインピーダンスを制御することができる。例えば、高い周波数信号を比較的長い伝送線路に出力させるものと、短い伝送線路に出力させるもの、あるいは比較的低い周波数信号を出力させるもの等に対応させることができる。   FIG. 29 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. In this embodiment, the control signals UP2 <0: n> and DN2 <0: n> can be generated for each output byte or for each specific output pin. In this way, depending on the situation where the semiconductor integrated device is mounted, even if it is connected to a transmission line having different transmission characteristics for each output byte or for each specific output pin, the impedance is controlled independently according to each characteristic. can do. For example, it is possible to correspond to one that outputs a high frequency signal to a relatively long transmission line, one that outputs to a short transmission line, or one that outputs a relatively low frequency signal.

図30には、この発明が適用される半導体メモリの一実施例のチップレイアウト図が示されている。同図において、MUL0〜MUL7、MUR0〜MUR7、MLL0〜MLL7、MLR0〜MLR7は、メモリセルがアレー状に配置されたセルアレーであり、MWDはメインワードドライバである。また、CK/ADR/CNTLはクロック信号、アドレス信号、メモリ制御信号等の入力回路、DI/DQはデータ入出力回路、I/Oはモード切り換え信号、テスト信号、DC信号等の入出力回路である。   FIG. 30 shows a chip layout of an embodiment of a semiconductor memory to which the present invention is applied. In the figure, MUL0 to MUL7, MUR0 to MUR7, MLL0 to MLL7, and MLR0 to MLR7 are cell arrays in which memory cells are arranged in an array, and MWD is a main word driver. CK / ADR / CNTL is an input circuit for clock signals, address signals, memory control signals, etc. DI / DQ is a data input / output circuit, I / O is an input / output circuit for mode switching signals, test signals, DC signals, etc. is there.

この実施例の半導体メモリは、センタパッド方式の例を示しており、このためCK/ADR/CNTL回路、DI/DQ回路及びI/O回路もチップの中央に位置している。また、REG/PDECはプリデコーダ等であり、DLLCはクロックの同期化回路であり、JTAG/TAPはテスト回路であり、VGは内部電源電圧発生回路である。Fuse はヒューズ回路であり、メモリアレー欠陥救済等に用いられる。VREFは入力信号を取り込むための参照電圧等を発生する。ここで、本発明に係る出力回路は、データ入出力回路DI/DQ部またはその近傍に配置される。   The semiconductor memory of this embodiment shows an example of the center pad type, and therefore the CK / ADR / CNTL circuit, DI / DQ circuit, and I / O circuit are also located in the center of the chip. REG / PDEC is a predecoder, DLLL is a clock synchronization circuit, JTAG / TAP is a test circuit, and VG is an internal power supply voltage generation circuit. Fuse is a fuse circuit, and is used for memory array defect relief or the like. VREF generates a reference voltage for capturing an input signal. Here, the output circuit according to the present invention is arranged at or near the data input / output circuit DI / DQ.

図31には、この発明が適用される半導体集積回路装置の一実施例のブロック図が示されている。同図において、MPUは演算部であり、MEMはメモリ部、I/Oは入出力部を示している。上述した出力回路はI/O部に適用される。上記演算部MPUとメモリ部MEMと本発明を適用した入出力回路I/Oを同一の半導体基板上に形成すると、演算部MPUはある処理に対してメモリ部MEMと入出力回路I/Oと高速にデータをやりとりしながら演算を実行できるので、トータルの処理性能を向上できるという効果がある。   FIG. 31 is a block diagram showing one embodiment of a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied. In the figure, MPU is an arithmetic unit, MEM is a memory unit, and I / O is an input / output unit. The output circuit described above is applied to the I / O unit. When the arithmetic unit MPU, the memory unit MEM, and the input / output circuit I / O to which the present invention is applied are formed on the same semiconductor substrate, the arithmetic unit MPU performs the memory unit MEM and the input / output circuit I / O for a certain process. Since operations can be performed while exchanging data at high speed, there is an effect that the total processing performance can be improved.

図32には、この発明が適用される半導体集積回路装置を備えたシステムの一実施例の構成図が示されている。半導体集積回路装置は、マザーボード(実装基板)に形成されたプリント配線等を伝送線路として半導体集積回路装置で構成されたマスタとスレーブとが接続される。このため、上記プリント配線等の特性インピーダンスに整合するように上記出力回路の出力インピーダンスが設定され、信号遷移時には一時的に特性インピーダンスよりも小さく制御されることによって、高速な信号伝送を高品質で行うようにすることができる。   FIG. 32 shows a block diagram of an embodiment of a system including a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied. In a semiconductor integrated circuit device, a master and a slave configured by the semiconductor integrated circuit device are connected by using a printed wiring formed on a mother board (mounting substrate) as a transmission line. For this reason, the output impedance of the output circuit is set so as to match the characteristic impedance of the printed wiring or the like, and is temporarily controlled to be smaller than the characteristic impedance at the time of signal transition, thereby enabling high-speed signal transmission with high quality. Can be done.

図33には、この発明が適用される半導体集積回路装置を備えたシステムの他の一実施例の構成図が示されている。半導体集積回路装置は、マザーボード(実装基板)に形成されたプリント配線等を伝送線路の一部として半導体集積回路装置で構成されたマスタ(又はスレーブ)が搭載される。そして、上記マザーボードのプリント配線は1ないし複数のコネクタに接続され、かかる1ないし複数コネクタを介して1ないし複数のDIMM構成の半導体集積回路装置スレーブが接続される。この実施例でも、その伝送線路に適合するよう出力回路の出力動作に合わせて出力インピーダンスの制御が行われる。   FIG. 33 is a block diagram showing another embodiment of a system including a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied. A semiconductor integrated circuit device is mounted with a master (or slave) composed of a semiconductor integrated circuit device using a printed wiring formed on a mother board (mounting substrate) as a part of a transmission line. The printed wiring of the motherboard is connected to one or more connectors, and one or more DIMM integrated semiconductor integrated circuit device slaves are connected via the one or more connectors. Also in this embodiment, the output impedance is controlled in accordance with the output operation of the output circuit so as to be adapted to the transmission line.

図34には、この発明が適用された出力回路に対応した入力回路側の受信信号の波形図が示されている。前記のように伝送線路上の誘電正接(誘電損)・表皮効果(抵抗損)を見込んで、高周波成分を注入するこというプリエンファシスを実施することにより受信側での高周波成分の低下を補うようにすることができるので、データウィンドを大きくすることができる。図35には、同じ条件で上記プリエンファシスを実施しない場合の波形図が比較のために示されている。図34と図35の比較から、本願発明の適用によってデータウィンドを著しく拡大できることがわかる。   FIG. 34 shows a waveform diagram of a received signal on the input circuit side corresponding to the output circuit to which the present invention is applied. As described above, by taking into account the dielectric loss tangent (dielectric loss) and skin effect (resistance loss) on the transmission line, pre-emphasis of injecting high frequency components is performed to compensate for the reduction of the high frequency components on the receiving side. The data window can be enlarged. FIG. 35 shows a waveform diagram for comparison when the pre-emphasis is not performed under the same conditions. From the comparison between FIG. 34 and FIG. 35, it can be seen that the data window can be significantly enlarged by applying the present invention.

以上本発明者よりなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、制御信号UP1<0:n>、DN1<0:n>、UP2<0:n>、DN2<0:n>を生成する回路は、種々の実施形態をとることができるものである。この発明は、汎用メモリとしてのSRAMのような高速動作を行うものの他、システムLSI等のような半導体集積回路装置に混載されるSRAM等のような回路を備えたものに広く適用することができる。   The invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments. However, the invention of the present application is not limited to the embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Nor. For example, a circuit that generates the control signals UP1 <0: n>, DN1 <0: n>, UP2 <0: n>, DN2 <0: n> can take various embodiments. The present invention can be widely applied to not only those that perform high-speed operations such as SRAM as a general-purpose memory, but also those that include a circuit such as an SRAM embedded in a semiconductor integrated circuit device such as a system LSI. .

この発明に係る半導体集積回路装置に搭載される出力回路の一実施例を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an embodiment of an output circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. 図1の出力回路の動作の一例を概念的に説明するためのタイミング波形図である。FIG. 2 is a timing waveform diagram for conceptually explaining an example of the operation of the output circuit of FIG. 1. 図1の選択回路及びプルアップ回路、プルダウン回路の具体的一実施例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a specific example of a selection circuit, a pull-up circuit, and a pull-down circuit in FIG. 1. この発明に用いられる選択回路の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one Example of the selection circuit used for this invention. この発明に用いられる選択回路の他の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows another Example of the selection circuit used for this invention. 図1の遅延回路の一実施例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram illustrating an example of the delay circuit of FIG. 1. 図1の遅延回路の他の一実施例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing another embodiment of the delay circuit of FIG. 1. この発明に係る出力回路に用いられる制御信号の生成回路の一実施例を示すブロックである。3 is a block diagram showing an embodiment of a control signal generation circuit used in the output circuit according to the present invention. この発明に係る出力回路に用いられる制御信号の生成回路の他の一実施例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows another Example of the production | generation circuit of the control signal used for the output circuit which concerns on this invention. この発明に用いられる選択回路の他の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows another Example of the selection circuit used for this invention. この発明に用いられる選択回路の他の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows another Example of the selection circuit used for this invention. 図10のスルーレート制御回路を含んだ選択回路の一実施例を示す回路図である。FIG. 11 is a circuit diagram showing an embodiment of a selection circuit including the slew rate control circuit of FIG. 10. 図11のスルーレート制御回路を含んだ選択回路の一実施例を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing an embodiment of a selection circuit including the slew rate control circuit of FIG. 11. 図10のスルーレート制御回路を含んだ選択回路の他の一実施例を示す回路図である。FIG. 11 is a circuit diagram showing another embodiment of a selection circuit including the slew rate control circuit of FIG. 10. 図11のスルーレート制御回路を含んだ選択回路の他の一実施例を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram illustrating another embodiment of a selection circuit including the slew rate control circuit of FIG. 11. この発明に係る出力回路の他の一実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows another Example of the output circuit based on this invention. この発明に係る出力回路の更に他の一実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows another one Example of the output circuit based on this invention. この発明に係る出力回路を構成するプルアップ回路とプルダウン回路の一実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows one Example of the pull-up circuit and pull-down circuit which comprise the output circuit based on this invention. この発明に係る出力回路の一実施例を示すレイアウト図である。1 is a layout diagram showing an embodiment of an output circuit according to the present invention. この発明が適用される半導体メモリの一実施例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one Example of the semiconductor memory to which this invention is applied. 図20のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の一実施例を示すブロック図である。FIG. 21 is a block diagram showing an embodiment of a circuit configuration of a portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. 20. 図20のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の他の一実施例を示すブロック図である。FIG. 21 is a block diagram showing another embodiment of the circuit configuration of the portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. 20. 図20のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の更に他の一実施例を示すブロック図である。FIG. 21 is a block diagram showing still another embodiment of a circuit configuration of a portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. 20. この発明が適用される半導体メモリの他の実施例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the other Example of the semiconductor memory to which this invention is applied. 図24のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の一実施例を示すブロック図である。FIG. 25 is a block diagram showing an embodiment of a circuit configuration of a portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. 24. 図24のデータ入出力回路DIO内の本発明に係わる部分の回路構成の他の一実施例を示すブロック図である。FIG. 25 is a block diagram showing another embodiment of the circuit configuration of the portion related to the present invention in the data input / output circuit DIO of FIG. 24. この発明に用いられるインピーダンス制御回路の一実施例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one Example of the impedance control circuit used for this invention. この発明に係る半導体集積回路装置の一実施例を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. この発明に係る半導体集積回路装置の他の一実施例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows another Example of the semiconductor integrated circuit device based on this invention. この発明が適用される半導体メモリの一実施例を示すチップレイアウト図である。1 is a chip layout diagram showing an embodiment of a semiconductor memory to which the present invention is applied; この発明が適用される半導体集積回路装置の一実施例を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied. この発明が適用される半導体集積回路装置を備えたシステムの一実施例を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing an embodiment of a system including a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied. この発明が適用される半導体集積回路装置を備えたシステムの他の一実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows another Example of the system provided with the semiconductor integrated circuit device with which this invention is applied. この発明が適用された出力回路に対応した入力回路側の受信信号の波形図である。It is a wave form diagram of the received signal by the side of the input circuit corresponding to the output circuit to which this invention was applied. この発明が適用されない出力回路に対応した入力回路側の受信信号の波形図である。It is a wave form diagram of the received signal by the side of the input circuit corresponding to the output circuit to which this invention is not applied.

符号の説明Explanation of symbols

MOSFET1…プルアップ回路、MOSFET2…プルダンウ回路、SEL1,SEL2…選択回路、DLP,DLN…遅延回路、G1〜G17…ゲート回路、C0〜C2…容量、RS,RO…抵抗、Q1〜Q8,QP,QN…MOSFET、INV1〜INV13…インバータ回路、IMCNT,IMCTQ,IMCNTT,IMCNTP…インピーダンス制御回路、DIB…入力回路、DOQ…出力回路、FUSECT…ヒューズ回路、INCKT…内部回路、CNT1,CNT2…カウンタ回路、VC1,VC2…電圧比較回路、REG1,REG2…レジスタ、LSI…半導体集積回路装置、
XADR…行アドレス信号、YADR…列アドレス信号、XDEC…行アドレスデコーダ、XDR…ワード線ドライバ、MCA…メモリセルアレー、YDEC…列アドレスデコーダ、YSW…列選択回路、DIO…データ入出力回路、INCKT…内部回路、DIB…データ入力バッファ、DQPB…出力プリバッファ、DQO…出力バッファ、IMCNTT…インピーダンス制御回路、IMCNTQ…インピーダンス制御回路、JTRCNT…スルーレート制御回路、
MUL0〜MUL7、MUR0〜MUR7、MLL0〜MLL7、MLR0〜MLR7…セルアレー、MWD…メインワードドライバ、CK/ADR/CNTL…入力回路、DI/DQ…データ入出力回路、I/O…入出力回路、REG/PDEC…プリデコーダ等、DLLC…同期化回路、JTAG/TAP…テスト回路、VG…内部電源電圧発生回路、Fuse …ヒューズ回路、VREF…参照電圧発生回路。
MOSFET1 ... pull-up circuit, MOSFET2 ... pull-down circuit, SEL1, SEL2 ... selection circuit, DLP, DLN ... delay circuit, G1-G17 ... gate circuit, C0-C2 ... capacitance, RS, RO ... resistor, Q1-Q8, QP, QN ... MOSFET, INV1 to INV13 ... Inverter circuit, IMCNT, IMCTQ, IMCNTT, IMCNTP ... impedance control circuit, DIB ... input circuit, DOQ ... output circuit, FUSECT ... fuse circuit, INCKT ... internal circuit, CNT1, CNT2 ... counter circuit, VC1, VC2 ... voltage comparison circuit, REG1, REG2 ... register, LSI ... semiconductor integrated circuit device,
XADR ... row address signal, YADR ... column address signal, XDEC ... row address decoder, XDR ... word line driver, MCA ... memory cell array, YDEC ... column address decoder, YSW ... column selection circuit, DIO ... data input / output circuit, INCKT ... Internal circuit, DIB ... Data input buffer, DQPB ... Output prebuffer, DQO ... Output buffer, IMCNTT ... Impedance control circuit, IMCNTQ ... Impedance control circuit, JTRCNT ... Slew rate control circuit,
MUL0 to MUL7, MUR0 to MUR7, MLL0 to MLL7, MLR0 to MLR7 ... Cell array, MWD ... Main word driver, CK / ADR / CNTL ... Input circuit, DI / DQ ... Data input / output circuit, I / O ... Input / output circuit, REG / PDEC: Predecoder, etc. DLLC: Synchronization circuit, JTAG / TAP: Test circuit, VG: Internal power supply voltage generation circuit, Fuse: Fuse circuit, VREF: Reference voltage generation circuit

Claims (14)

複数の出力MOSFETの組み合わせによって複数通りの出力インピーダンスが設定される出力回路を備え、
上記出力回路の出力インピーダンスを第1出力インピーダンスとする上記複数の出力MOSFETの組み合わせを指定する第1制御信号及び上記出力インピーダンスを上記第1出力インピーダンスとは異なる第2出力インピーダンスとする上記複数の出力MOSFETの組み合わせを指定する第2制御信号とを形成し、
上記出力回路に入力される入力信号の信号変化タイミングに対応して上記第1制御信号に基づいて設定された上記第1出力インピーダンスにより出力信号を形成し、上記入力信号の信号変化タイミングにより遅れた第1時間経過後に上記第2制御信号に基づいて設定された第2出力インピーダンスにより出力信号を形成するようにしてなることを特徴とする半導体集積回路装置。
Provided with an output circuit in which a plurality of output impedances are set by a combination of a plurality of output MOSFETs,
A first control signal for specifying a combination of the plurality of output MOSFETs having an output impedance of the output circuit as a first output impedance; and the plurality of outputs having a second output impedance different from the first output impedance. Forming a second control signal designating a combination of MOSFETs;
The output signal is formed by the first output impedance set based on the first control signal corresponding to the signal change timing of the input signal input to the output circuit, and delayed by the signal change timing of the input signal A semiconductor integrated circuit device characterized in that an output signal is formed by a second output impedance set based on the second control signal after the first time has elapsed.
請求項1において、
上記第2出力インピーダンスは、上記出力信号が伝えられる伝送線路の特性インピーダンスに整合するように設定され、
上記第1出力インピーダンスは、上記第2出力インピーダンスよりも小さくなるように設定されてなることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 1,
The second output impedance is set to match the characteristic impedance of the transmission line through which the output signal is transmitted,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the first output impedance is set to be smaller than the second output impedance.
請求項2において、
上記第1時間は、上記伝送線路の遅延時間の2倍の時間より小さく設定してなることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 2,
The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first time is set to be smaller than twice the delay time of the transmission line.
請求項3において、
上記第1時間は、半導体集積回路装置の外部から入力された制御信号により設定可能とされてなることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the first time can be set by a control signal input from the outside of the semiconductor integrated circuit device.
請求項3において、
上記第1時間は、書き込み可能とされた記憶素子により形成された制御信号により設定可能とされてなることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first time is settable by a control signal formed by a storage element which can be written.
請求項3において、
上記第1制御信号は、上記第2制御信号に対して一定差分とする演算回路により形成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the first control signal is formed by an arithmetic circuit having a constant difference with respect to the second control signal.
請求項3において、
上記第1制御信号は、上記第2制御信号に対して一定比率とする演算回路により形成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the first control signal is formed by an arithmetic circuit having a constant ratio with respect to the second control signal.
請求項3において、
上記一定差分または一定比率を、半導体集積回路装置の外部から入力された制御信号または書き込み可能とされた記憶素子に形成された制御信号により設定可能とされてなることを特徴とする半導体集積装置。
In claim 3,
The semiconductor integrated device, wherein the constant difference or the constant ratio can be set by a control signal input from the outside of the semiconductor integrated circuit device or a control signal formed in a writable memory element.
請求項3において、
上記第1制御信号は、複数通りの出力インピーダンスのうち最小値に対応したものとされることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first control signal corresponds to a minimum value among a plurality of output impedances.
請求項3において、
上記第1制御信号に対応してオン状態にされる上記出力MOSFETのゲートに伝えられる駆動信号の変化量の調整により出力信号のスルーレートの調整を行うスルーレート制御回路を更に備えてなることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
And a slew rate control circuit for adjusting a slew rate of the output signal by adjusting a change amount of the drive signal transmitted to the gate of the output MOSFET which is turned on in response to the first control signal. A semiconductor integrated circuit device.
請求項3において、
上記第2出力インピーダンスは、外部端子に接続された抵抗素子の抵抗値に基づいて内部回路で形成された第2制御信号により設定されるものであることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the second output impedance is set by a second control signal formed by an internal circuit based on a resistance value of a resistance element connected to an external terminal.
請求項3において、
上記第1出力インピーダンスは、外部端子に接続された抵抗素子の抵抗値に基づいて内部回路で形成された第1制御信号により設定されるものであることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first output impedance is set by a first control signal formed in an internal circuit based on a resistance value of a resistance element connected to an external terminal.
請求項3において、
上記出力回路は、複数個から構成され、
上記第1制御信号及び第2制御信号は、全ての出力回路に対して共通に用いられることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
The output circuit is composed of a plurality of
The semiconductor integrated circuit device, wherein the first control signal and the second control signal are commonly used for all output circuits.
請求項3において、
上記出力回路は、複数個が複数のブロックに分けられてなり、
上記各ブロック毎に上記第1制御信号及び第2制御信号が形成されてなることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 3,
The output circuit is divided into a plurality of blocks.
A semiconductor integrated circuit device, wherein the first control signal and the second control signal are formed for each block.
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