JP2006139971A - Display device and manufacturing method of the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an EL thin film panel obtaining a good sealing property by using a cheap flat-plate shaped opposed base plate for sealing. <P>SOLUTION: A glass base plate 1 on which, a thin film EL light emitting element 10 is formed and a flat-plate shaped opposed base plate for sealing 11 for sealing the thin film EL light emitting element 10 are stuck to each other, and a third base plate 15 having a concave part capable of communicating with a sealing space 18 formed between the glass base plate 1 and the flat-plate shaped opposed base plate for sealing 11 through a through hole 14 is stuck on the flat-plate shaped opposed base plate for sealing 11. The volume of an internal space can be enlarged by the concave part of the third base plate 15 and a sealing space 18 even by using the flat-plate shaped opposed base plate for sealing 11. An absorbent 17 is arranged in the concave part of the third base plate 15, and relative humidity of the sealing space 18 communicated with inside of the concave part can be reduced. Further, the area of the third base plate 15 may be small comparing with the case of forming a concave part on the opposed base plate for sealing 11. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、例えば発光素子として無機EL(Electro luminescence;エレクトロ・ルミネッセンス)素子および有機EL素子などのEL素子や、その他の発光素子を用いた発光型の表示装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a light emitting display device using an EL element such as an inorganic EL (Electro Luminescence) element and an organic EL element as a light emitting element, and other light emitting elements, and a method for manufacturing the same.

従来、上述したEL素子を用いたEL表示装置には、発光層が無機材料からなる無機EL素子を用いた無機ELパネルと、発光層が有機材料からなる有機EL素子を用いた有機ELパネルとが存在する。これらの無機EL素子および有機EL素子はいずれも、湿気により劣化するため、EL表示装置では、防湿のために発光素子部を封止することが不可欠になっている。   Conventionally, in an EL display device using the above-described EL element, an inorganic EL panel using an inorganic EL element whose light emitting layer is made of an inorganic material, and an organic EL panel using an organic EL element whose light emitting layer is made of an organic material, Exists. Since both of these inorganic EL elements and organic EL elements are deteriorated by moisture, it is indispensable for the EL display device to seal the light emitting element portion for moisture prevention.

以下に、従来のEL表示装置の発光素子部の封止方法について、図16に示す薄膜ELパネルを一例に挙げて説明する。   Hereinafter, a method for sealing a light emitting element portion of a conventional EL display device will be described using the thin film EL panel shown in FIG. 16 as an example.

図16に示すように、薄膜ELパネル50は、ガラス基板51上に、第1電極52、第1絶縁層53、発光層54、第2絶縁層55および第2電極56が順次積層されて、発光素子としての薄膜EL素子を構成している。   As shown in FIG. 16, the thin film EL panel 50 includes a first electrode 52, a first insulating layer 53, a light emitting layer 54, a second insulating layer 55, and a second electrode 56 that are sequentially stacked on a glass substrate 51. A thin film EL element as a light emitting element is formed.

これらの第1電極52および第2電極56はそれぞれ短冊状の複数本が互いに平行かつ、第1電極52と第2電極56とが直交する方向に形成されており、第1電極52と第2電極56間に電圧を印加することによって、発光素子部として、両電極間に挟まれた発光層54が選択的に発光して文字・図形などを表示可能になる。   Each of the first electrode 52 and the second electrode 56 is formed in a direction in which a plurality of strips are parallel to each other and the first electrode 52 and the second electrode 56 are orthogonal to each other. By applying a voltage between the electrodes 56, the light emitting layer 54 sandwiched between the two electrodes can selectively emit light as a light emitting element portion to display characters and figures.

この発光素子部を封止するために、ガラス基板31の発光素子部側と、この発光素子部が収容可能な対向基板(封止板)61の凹部側とが対向するように接着材62によって貼り合わされている。この接着材62を通して外部から、ガラス基板31と対向基板61間の封止空間に水分が浸入してしまうと相対湿度が高くなって、発光素子の劣化が加速される。   In order to seal the light emitting element part, an adhesive 62 is used so that the light emitting element part side of the glass substrate 31 faces the concave side of the counter substrate (sealing plate) 61 that can accommodate the light emitting element part. It is pasted together. If moisture enters the sealed space between the glass substrate 31 and the counter substrate 61 from the outside through the adhesive 62, the relative humidity increases and the deterioration of the light emitting element is accelerated.

よって、封止空間の体積を大きくするべく対向基板61に凹部を設ける方法、封止空間に充填材として飽和水分量が高い材料を充填する方法、および封止空間に吸湿材を配置する方法などの各種対策が施される。   Therefore, a method of providing a concave portion in the counter substrate 61 to increase the volume of the sealing space, a method of filling the sealing space with a material having a high saturated water content as a filler, a method of arranging a hygroscopic material in the sealing space, and the like Various measures are taken.

図16の事例では、対向基板61に凹部が形成されており、封止空間の体積が大きくとられている。   In the example of FIG. 16, the counter substrate 61 is formed with a recess, and the volume of the sealing space is large.

また、図16の事例では、両基板間に、充填材として、吸湿材63を混入したシリコンオイル64が充填されている。この充填材は、対向基板61に設けられた貫通孔65から封止空間に充填され、この貫通孔65は封止金属66および接着材67によって貼り合わされた封止ガラス68によって密閉されて封止されている。   In the case of FIG. 16, silicon oil 64 mixed with a hygroscopic material 63 is filled as a filler between both the substrates. This filler is filled into a sealing space from a through hole 65 provided in the counter substrate 61, and this through hole 65 is sealed and sealed by a sealing glass 68 bonded by a sealing metal 66 and an adhesive 67. Has been.

上記充填材としては、例えば特許文献1および特許文献2に記載されているように、絶縁オイル、シリコンオイル、吸湿材を混入したシリコンオイルまたは弗素化合物絶縁油などを用いることができる。特に、吸湿材63が混入されたシリコンオイル64を用いると、耐湿寿命が非常に優れていることから、FA(Factory Automation;ファクトリオートメイション)用など、高信頼性が要求される用途にも適している。   As the filler, for example, as described in Patent Document 1 and Patent Document 2, insulating oil, silicon oil, silicon oil mixed with a hygroscopic material, fluorine compound insulating oil, or the like can be used. In particular, the use of silicon oil 64 mixed with a hygroscopic material 63 has a very excellent moisture resistance life, so it is also suitable for applications that require high reliability such as for FA (Factory Automation). ing.

その他にも、無機EL素子の封止方法として、例えば特許文献3には、封止空間の体積を大きくするために平板状の対向基板(封止板)と環状のガラス層とを組み合わせる方法が記載されている。また、特許文献4には、平板状の対向基板とビーズ形状のスペーサとを組み合わせる方法が記載されている。さらに、特許文献5には、平板状の対向基板と短冊状のスペーサとを組み合わせる方法が記載されている。   In addition, as a sealing method of the inorganic EL element, for example, Patent Document 3 discloses a method of combining a flat counter substrate (sealing plate) and an annular glass layer in order to increase the volume of the sealing space. Are listed. Patent Document 4 describes a method of combining a flat counter substrate and a bead-shaped spacer. Further, Patent Document 5 describes a method of combining a flat counter substrate and a strip spacer.

また、有機EL素子の封止方法として、例えば特許文献6には、有機EL素子が形成された基板と絞り加工により凹部が形成された金属製対向基板とを貼り合わせた後、両基板の間に不活性ガスを充填する方法が記載されている。また、特許文献7には、有機EL素子が形成された基板と凹部に吸湿材が配置された金属製対向基板とを貼り合わせた後、両基板の間に不活性ガスを充填する方法が記載されている。さらに、特許文献8および特許文献9には、有機EL素子が形成された基板と掘り込み加工により凹部が形成されたガラス製対向基板とを貼り合わせた後、乾燥材と不活性ガスとを封入する方法が記載されている。さらに、特許文献10には、有機EL素子が形成された基板と平板状のガラス製対向基板とをスペーサ材を混合したシール材によって貼り合せる方法が記載されている。さらに、特許文献11には、有機EL素子が形成された基板と平板状のガラス製対向基板とを貼り合せた後、オイルを充填する方法が記載されている。さらに、特許文献12には、長期間に亘って吸着性能が維持される吸着材成型体を、ハウジング(封止容器)内部に形成する方法が記載されている。
特許公報−昭59−8039号公報 特開平10−134959号公報 実開平2−137796号公報 特開昭63−252391号公報 特開平10−3988号公報 特開平4−249092号公報 特開平3−261091号公報 特開2001−185349号公報 特開2001−57287号公報 特開平11−214152号公報 特開平10−74582号公報 特開2003−320215号公報
Moreover, as a sealing method of an organic EL element, for example, in Patent Document 6, a substrate on which an organic EL element is formed and a metal counter substrate on which a concave portion is formed by drawing are bonded together, and then between the two substrates. Describes a method of filling with an inert gas. Patent Document 7 describes a method in which a substrate on which an organic EL element is formed and a metal counter substrate in which a hygroscopic material is disposed in a recess are bonded together, and then an inert gas is filled between the substrates. Has been. Further, in Patent Document 8 and Patent Document 9, a substrate on which an organic EL element is formed and a glass counter substrate in which a recess is formed by digging are bonded together, and then a desiccant and an inert gas are enclosed. How to do is described. Further, Patent Document 10 describes a method in which a substrate on which an organic EL element is formed and a flat glass counter substrate are bonded together with a sealing material mixed with a spacer material. Furthermore, Patent Document 11 describes a method in which oil is filled after a substrate on which an organic EL element is formed and a flat glass counter substrate are bonded together. Furthermore, Patent Document 12 describes a method of forming an adsorbent molded body that maintains adsorption performance for a long period of time within a housing (sealing container).
Patent Publication-Sho 59-8039 Japanese Patent Laid-Open No. 10-134959 Japanese Utility Model Publication No. 2-13779 JP-A-63-252391 Japanese Patent Laid-Open No. 10-3988 JP-A-4-249092 Japanese Patent Laid-Open No. 3-261091 JP 2001-185349 A JP 2001-57287 A JP 11-214152 A Japanese Patent Laid-Open No. 10-74582 JP 2003-320215 A

上述したように、上記従来のEL素子の封止方法として、各種方法が考案・実用化されている。しかしながら、これらの方法にはいずれも、コスト、性能および製造工程などに問題がある。   As described above, various methods have been devised and put into practical use as the conventional EL element sealing method. However, all of these methods have problems in cost, performance, manufacturing process, and the like.

例えば、発光素子部が形成された発光素子部形成基板と、この発光素子部を封止するためのガラス製または金属製の封止用対向基板とは、樹脂製接着材により貼り合せられているため、接着材部を通して外部から封止空間に水分が浸入する。発光素子の劣化は、封止空間の相対湿度が高くなると加速されるため、上記従来の構成では、内部の体積を大きくすること、内部の充填材として飽和水分量が高い材料を使用すること、および吸湿材を配置することなどの対策が取られている。また、封止空間への水分の侵入を抑えるために、接着幅(シール幅)を広くすること、接着厚(発光素子部形成基板−封止用対向基板間隔)を薄くすること、透湿度が小さい接着材を用いること、発光素子部形成基板または封止用対向基板と接着材との密着性を向上させる方法などが用いられている。   For example, a light emitting element part forming substrate on which a light emitting element part is formed and a glass or metal sealing counter substrate for sealing the light emitting element part are bonded together by a resin adhesive. Therefore, moisture enters the sealed space from the outside through the adhesive portion. Since the deterioration of the light emitting element is accelerated when the relative humidity of the sealed space increases, in the conventional configuration, the internal volume is increased, and a material having a high saturated water content is used as an internal filler. Measures such as placing hygroscopic materials are also taken. Further, in order to suppress the intrusion of moisture into the sealing space, the bonding width (seal width) is widened, the bonding thickness (light emitting element portion forming substrate-sealing counter substrate interval) is thinned, and the moisture permeability is low. A method of improving the adhesion between the light emitting element portion forming substrate or the sealing counter substrate and the adhesive is used.

ここで、発光素子部の封止に用いられる封止用対向基板としては、凹部を有するものと、平板状のものとが挙げられる。   Here, examples of the counter substrate for sealing used for sealing the light emitting element portion include a substrate having a recess and a plate-like substrate.

凹部を有する封止用対向基板を用いることにより、封止空間の体積を大きくすると共に、吸湿材を配置するスペースを確保することができる。したがって、封止用対向基板に凹部を形成することにより、優れた封止性能が得られると考えられるが、この封止用対向基板への凹部加工が必要になるためコストが高くなる。   By using the sealing counter substrate having the recesses, it is possible to increase the volume of the sealing space and secure a space for arranging the hygroscopic material. Therefore, it is considered that excellent sealing performance can be obtained by forming a recess in the sealing counter substrate. However, since the recess processing on the sealing counter substrate is required, the cost increases.

一方、平板状の封止用対向基板を用いる場合には、充分な封止性能が得られないと考えられる。例えば、下記表1を用いて説明する。下記表1には、標準的な構成で凹部が形成された封止用対向基板を用いた封止方法と、平板状の封止用対向基板とを用いた封止方法とについて、接着材厚さと封止空間の基板間距離との例を示している。   On the other hand, when a flat plate-shaped counter substrate for sealing is used, it is considered that sufficient sealing performance cannot be obtained. For example, it demonstrates using Table 1 below. Table 1 below shows the adhesive thickness for a sealing method using a sealing counter substrate in which concave portions are formed with a standard configuration and a sealing method using a flat sealing counter substrate. And an example of the distance between the substrates in the sealing space.

Figure 2006139971
上記表1に示すように、平板状の対向基板を用いた封止方法では、接着材厚さと封止空間の基板間距離とが同じになり、封止空間の体積と接着材厚の比とを大きく設定することはできない。なお、封止空間の体積/接着材厚(封止空間の体積と接着材厚の比)は、大きい程、封止空間の相対湿度を低く設定することができるため、封止性能を向上させることができる。
Figure 2006139971
As shown in Table 1, in the sealing method using a flat counter substrate, the adhesive material thickness and the inter-substrate distance in the sealing space are the same, and the ratio of the sealing space volume to the adhesive material thickness Cannot be set large. In addition, since the relative humidity of the sealing space can be set lower as the volume of the sealing space / the adhesive material thickness (ratio of the volume of the sealing space to the adhesive material thickness) is larger, the sealing performance is improved. be able to.

これに対して、凹部を有する封止用対向基板を用いた封止方法では、接着材厚さと封止空間の基板間距離とを自由に設定することができるため、封止部内部の体積と接着材厚の比とを大きく設定して、封止性能を向上させることができる。   On the other hand, in the sealing method using the sealing counter substrate having the recesses, the adhesive material thickness and the inter-substrate distance in the sealing space can be freely set. The sealing performance can be improved by setting a large ratio of the adhesive thickness.

さらに、封止空間に吸湿材を配置する方法と、封止空間に吸湿材を配置しない方法とがある。ここで、吸湿材を配置することは、封止空間の体積を大きく設定することに比べて、封止性能を向上させる効果が大きい。特に、酸化カルシウムのように、非可逆的であり、低湿度の領域から強力な吸湿性を示す吸湿材は、接着材を通して封止空間に侵入した水分が吸湿材に吸着されるため、封止空間の体積が大きくない場合であっても、優れた封止性能を示す。   Furthermore, there are a method of arranging a hygroscopic material in the sealed space and a method of not arranging the hygroscopic material in the sealed space. Here, the arrangement of the hygroscopic material has a greater effect of improving the sealing performance than setting the volume of the sealing space to be large. In particular, a hygroscopic material that is irreversible and has strong hygroscopicity from a low humidity region, such as calcium oxide, is sealed because moisture that has entered the sealed space through the adhesive is absorbed by the hygroscopic material. Even when the volume of the space is not large, excellent sealing performance is exhibited.

凹部を有する封止用対向基板を用いる場合には凹部全体に吸湿材を配置することができ、さらに特許文献12のように封止容器が比較的大きい場合には吸着材成型体を形成して封止容器内部に配置することもできるが、封止用対向基板が平板状の場合には吸湿材を配置可能なスペースを確保することが困難である。   When using a sealing counter substrate having a recess, a hygroscopic material can be disposed over the entire recess, and when the sealing container is relatively large as in Patent Document 12, an adsorbent molded body is formed. Although it can also arrange | position inside a sealing container, when the opposing board | substrate for sealing is flat form, it is difficult to ensure the space which can arrange | position a hygroscopic material.

本発明は、上記従来の問題を解決するもので、凹部加工が不要で低コストな平板状の対向基板を用いても充分な封止性能を得ることができる表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-described conventional problems, and provides a display device capable of obtaining sufficient sealing performance even when a low-cost flat counter substrate that does not require recess processing is used and a method for manufacturing the same. For the purpose.

本発明の表示装置は、表面上に発光素子が形成された第1基板と平板状の第2基板とが互いに対向して、両基板間の封止空間内に該発光素子を有するように固定され、
凹部を有する第3基板が、該凹部を内側にして該第1基板および該第2基板のうち少なくともいずれかの外側表面上に該凹部内を封止するように固定され、
該第3基板が固定された片方の基板側または当該基板の端面側に、該封止空間と該凹部内とを連通させる連通空間が設けられており、そのことにより上記目的が達成される。
In the display device of the present invention, the first substrate having the light emitting element formed on the surface and the flat plate-like second substrate are opposed to each other, and the light emitting element is fixed in the sealed space between the two substrates. And
A third substrate having a recess is fixed to seal the inside of the recess on the outer surface of at least one of the first substrate and the second substrate with the recess as an inside;
A communication space for communicating the sealing space with the inside of the concave portion is provided on one substrate side to which the third substrate is fixed or on an end surface side of the substrate, thereby achieving the above object.

また、好ましくは、本発明の表示装置における連通空間は、前記第3基板が固定された片方の基板側に形成された貫通孔である。   Preferably, the communication space in the display device of the present invention is a through hole formed on one substrate side to which the third substrate is fixed.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第1基板および前記第2基板の一方上でかつその他方の前記基板端面側に固定された第4基板を更に有し、該第4基板の端面に切り欠き部が設けられ、該切り欠き部と該基板端面側間、および該第1基板と該第2基板間の一部に前記連通空間が設けられている。   Further preferably, the display device of the present invention further includes a fourth substrate fixed on one of the first substrate and the second substrate and on the other side of the substrate end surface, and on the end surface of the fourth substrate. A notch portion is provided, and the communication space is provided between the notch portion and the substrate end face side and a part between the first substrate and the second substrate.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板は前記第1基板および該第2基板の外側表面上に固定され、前記連通空間は、該第1基板および該第2基板の一方の端面側と該第3基板の凹部間、および該第1基板と該第2基板間の一部に設けられている。   Further preferably, in the display device of the present invention, the third substrate is fixed on the outer surfaces of the first substrate and the second substrate, and the communication space is one end surface of the first substrate and the second substrate. Between the side and the recess of the third substrate and between the first substrate and the second substrate.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板は、ガラス、金属、金属層を積層した樹脂フィルムのいずれかである。   Further preferably, the third substrate in the display device of the present invention is any one of glass, metal, and a resin film in which a metal layer is laminated.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における金属および、金属層を積層した樹脂フィルムのいずれかは絞り加工が施されて前記凹部が形成されている。   Further preferably, any one of the metal and the resin film in which the metal layer is laminated in the display device of the present invention is subjected to drawing processing to form the concave portion.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における発光素子は、無機薄膜EL(Electro luminescence)素子、有機薄膜EL素子、有機/無機ハイブリッド型EL素子または厚膜/薄膜ハイブリッド型EL素子である。   Further preferably, the light emitting element in the display device of the present invention is an inorganic thin film EL (Electro Luminescence) element, an organic thin film EL element, an organic / inorganic hybrid EL element, or a thick film / thin film hybrid EL element.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板の凹部内に、特定物質を吸着する吸着物質が配置されている。   Further preferably, an adsorbing substance that adsorbs the specific substance is disposed in the recess of the third substrate in the display device of the present invention.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における吸着物質は、前記特定物質として水分および酸素のうち少なくとも水分を吸着する材料である。   Further preferably, the adsorbing substance in the display device of the present invention is a material that adsorbs at least water out of water and oxygen as the specific substance.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における吸着物質は、吸湿材または乾燥材である。   Further preferably, the adsorbing substance in the display device of the present invention is a hygroscopic material or a desiccant.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における吸着物質は、シリカゲル、ゼオライト、活性アルミナ、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化マグネシウムの少なくともいずれかである。   Further preferably, the adsorbing substance in the display device of the present invention is at least one of silica gel, zeolite, activated alumina, calcium oxide, strontium oxide and magnesium oxide.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第1基板と前記第2基板とは、径が1μm以上20μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている。   Further preferably, in the display device of the present invention, the first substrate and the second substrate are bonded to each other with an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 1 μm to 20 μm.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第1基板と前記第2基板とは、径が3μm以上10μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている。   Further preferably, in the display device of the present invention, the first substrate and the second substrate are bonded together by an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 3 μm or more and 10 μm or less.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板と前記第1基板または前記第2基板とは、径が1μm以上20μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている。   Further preferably, in the display device of the present invention, the third substrate and the first substrate or the second substrate are bonded together by an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 1 μm or more and 20 μm or less.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板と前記第1基板または前記第2基板とは、径が3μm以上10μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている。   Further preferably, in the display device of the present invention, the third substrate and the first substrate or the second substrate are bonded to each other with an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 3 μm to 10 μm.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置におけるスペーサがビーズ形状である。   Further preferably, the spacer in the display device of the present invention has a bead shape.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板と前記第1基板または前記第2基板とが、UV(紫外線)硬化型接着材によって貼り合わされている。   Further preferably, the third substrate and the first substrate or the second substrate in the display device of the present invention are bonded together by a UV (ultraviolet) curable adhesive.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における接着材はエポキシ系接着材である。   Further preferably, the adhesive in the display device of the present invention is an epoxy adhesive.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板の凹部の深さが0.05mm以上1.00mm以下に設定されている。   Further preferably, the depth of the concave portion of the third substrate in the display device of the present invention is set to 0.05 mm or more and 1.00 mm or less.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板の凹部の深さが0.1mm以上1.00mm以下に設定されている。   Further preferably, the depth of the concave portion of the third substrate in the display device of the present invention is set to 0.1 mm or more and 1.00 mm or less.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第1基板および前記第2基板が湾曲して表示部が曲面である。   Further preferably, in the display device of the present invention, the first substrate and the second substrate are curved and the display portion is a curved surface.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第3基板は、前記第1基板または前記第2基板の端部の表面上に固定され、該第1基板および第2基板は該第3基板が配置されていない部分で湾曲されている。   Further preferably, in the display device of the present invention, the third substrate is fixed on the surface of the end portion of the first substrate or the second substrate, and the third substrate is disposed on the first substrate and the second substrate. It is curved at the part that is not.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第1基板および第2基板の厚みが0.01mm以上0.3mm以下に設定されている。   Further preferably, the thickness of the first substrate and the second substrate in the display device of the present invention is set to 0.01 mm or more and 0.3 mm or less.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第1基板および第2基板の厚みが0.05mm以上0.2mm以下に設定されている。   Further, preferably, the thickness of the first substrate and the second substrate in the display device of the present invention is set to 0.05 mm or more and 0.2 mm or less.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における第1基板と第2基板間の封止空間内に特定ガスが充填されている。   Further, preferably, a specific gas is filled in a sealed space between the first substrate and the second substrate in the display device of the present invention.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置における特定ガスは、乾燥空気、窒素ガスおよび不活性ガスの少なくともいずれかである。   Further preferably, the specific gas in the display device of the present invention is at least one of dry air, nitrogen gas and inert gas.

本発明の表示装置の製造方法は、第1基板上に発光素子を形成する工程と、第2基板または該第1基板に貫通孔を形成し、該第2基板と該第1基板とを、両基板間の封止空間内に該発光素子を有するように貼り合せる工程と、前記凹部を有する第3基板と該第1基板または該第2基板とを、該凹部内が該貫通孔を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有し、そのことにより上記目的が達成される。   The method for manufacturing a display device of the present invention includes a step of forming a light emitting element on a first substrate, a through hole is formed in the second substrate or the first substrate, the second substrate and the first substrate, A step of bonding the light emitting element in the sealed space between the two substrates, the third substrate having the concave portion, and the first substrate or the second substrate, and the inside of the concave portion through the through hole And a third substrate laminating step for laminating the sealing space so as to communicate and seal, thereby achieving the above object.

本発明の表示装置の製造方法は、第1基板上に前記発光素子を形成する工程と、両基板間の封止空間内に該発光素子を有するように第2基板と該第1基板とを貼り合せる工程と、 該第1基板および該第2基板を薄板化する薄板化工程と、薄板化した第1基板または第2基板に貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記凹部を有する第3基板と薄板化した第1基板または第2基板とを、該凹部内が該貫通孔を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有し、そのことにより上記目的が達成される。   In the method for manufacturing a display device according to the present invention, the step of forming the light emitting element on the first substrate, and the second substrate and the first substrate so as to have the light emitting element in the sealed space between the two substrates. A bonding step; a thinning step of thinning the first substrate and the second substrate; a through hole forming step of forming a through hole in the thinned first substrate or the second substrate; A third substrate laminating step of laminating the three substrates and the thinned first substrate or the second substrate so that the inside of the recess communicates with and seals the sealed space through the through hole; This achieves the above object.

本発明の表示装置の製造方法は、第1基板上に発光素子を形成する工程と、端面に切り欠き部が設けられた第4基板および平板状の第2基板と該第1基板とを、該切り欠き部と該第2基板の端面とを対向させかつ、該第2基板と該第1基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該切り欠き部と該第2基板の端面間の空間を該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、前記凹部を有する第3基板と、該第1基板または該第2基板、および該第4基板とを、該凹部内が、該切り欠き部と該第2基板の端面間の連通空間、および該第1基板と該第2基板間の一部の連通空間をそれぞれ通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有し、そのことにより上記目的が達成される。   The method for manufacturing a display device of the present invention includes a step of forming a light emitting element on a first substrate, a fourth substrate having a notch on the end surface, a flat second substrate, and the first substrate. The notch and the end surface of the second substrate are opposed to each other, the light emitting element is included in a sealing space between the second substrate and the first substrate, and the notch and the second substrate A step of bonding so as to leave a communication space for communicating a space between the end surfaces in the sealing space, a third substrate having the recess, the first substrate or the second substrate, and the fourth substrate. The concave portion communicates with the sealing space through the communication space between the notch and the end surface of the second substrate and the partial communication space between the first substrate and the second substrate. And a third substrate laminating step for laminating and sealing so that the above object is achieved.

本発明の表示装置の製造方法は、第1基板上に前記発光素子を形成する工程と、端面に切り欠き部が設けられた第4基板および平板状の第2基板と該第1基板とを、該切り欠き部と該第2基板の端面とを対向させかつ、該第2基板と該第1基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該切り欠き部と該第2基板の端面間の空間を該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、該第1基板、該第2基板および該第4基板を薄板化する薄板化工程と、前記凹部を有する第3基板と、薄板化した第1基板または第2基板、および薄板化した第4基板とを、該凹部内が、該切り欠き部と該第2基板の端面間の連通空間、および該第1基板と該第2基板間の一部の連通空間を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有し、そのことにより上記目的が達成される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a display device comprising: forming the light emitting element on a first substrate; a fourth substrate having a notch on an end surface; a flat second substrate; and the first substrate. The notch and the end surface of the second substrate are opposed to each other, and the light emitting element is included in a sealed space between the second substrate and the first substrate, and the notch and the second substrate. A step of bonding so as to leave a communication space that allows the space between the end faces to communicate with the inside of the sealing space, a step of reducing the thickness of the first substrate, the second substrate, and the fourth substrate; A first substrate or second substrate having a reduced thickness, and a fourth substrate having a reduced thickness, wherein the recess has a communication space between the notch and the end surface of the second substrate, and So as to communicate and seal in the sealing space through a part of the communication space between the first substrate and the second substrate. Ri aligned and a third substrate bonding step, the objects can be achieved.

本発明の表示装置の製造方法は、第1基板上に発光素子を形成する工程と、平板状の第2基板と該第1基板とを、両基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、前記凹部を有する第3基板と該第1基板および該第2基板とを、該凹部内が該連通空間を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有し、そのことにより上記目的が達成される。   The manufacturing method of the display device of the present invention includes a step of forming a light emitting element on a first substrate, a flat plate-like second substrate, and the first substrate, and the light emitting element is placed in a sealed space between both the substrates. And a step of bonding so as to leave a communication space communicating with the sealed space, a third substrate having the recess, the first substrate, and the second substrate, and the interior of the recess through the communication space. A third substrate laminating step for laminating the sealed space so as to communicate and seal, thereby achieving the above object.

本発明の表示装置の製造方法は、第1基板上に前記発光素子を形成する工程と、
平板状の第2基板と該第1基板とを、両基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、該第1基板および該第2基板を薄板化する薄板化工程と、前記凹部を有する第3基板と、薄板化した第1基板または第2基板とを、該凹部内が該連通空間を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有し、そのことにより上記目的が達成される。
The display device manufacturing method of the present invention includes a step of forming the light emitting element on a first substrate,
Bonding the flat plate-like second substrate and the first substrate so as to have the light emitting element in the sealing space between the two substrates and leave a communication space communicating with the sealing space; A step of thinning the first substrate and the second substrate, the third substrate having the recess, and the first substrate or the second substrate having the recess are sealed in the recess through the communication space. And a third substrate bonding step for bonding so as to communicate and seal in the space, thereby achieving the above object.

また、好ましくは、本発明の表示装置の製造方法における第3基板貼り合せ工程後に、前記第1基板および前記第2基板を所定の曲面に湾曲させる工程を更に有する。   Preferably, the method further includes a step of bending the first substrate and the second substrate into a predetermined curved surface after the third substrate bonding step in the method for manufacturing a display device of the present invention.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置の製造方法における薄板化工程は、化学的エッチングにより前記第1基板および前記第2基板を薄板化する。   Further preferably, in the thinning step in the method for manufacturing a display device of the present invention, the first substrate and the second substrate are thinned by chemical etching.

さらに、好ましくは、本発明の表示装置の製造方法における貫通孔形成工程は、レーザ照射により前記第1基板または前記第2基板の所定位置に貫通孔を形成する。   Still preferably, in the method for manufacturing a display device according to the present invention, the through hole forming step forms a through hole at a predetermined position of the first substrate or the second substrate by laser irradiation.

上記構成により、以下に、本発明の作用を説明する。   The operation of the present invention will be described below with the above configuration.

本発明にあっては、発光素子が形成された第1基板と、平板状の第2基板(対向基板)とが貼り合わされ、第1基板または第2基板に凹部を有する第3基板が貼り合わされている。第1基板または第2基板の、凹部内に対応する部分に貫通孔が設けられており、平板状の第2基板を用いても、第3基板の凹部内の体積分だけ、これに連通する封止空間の体積に含めることで内部体積を大きくして相対湿度を低くすることが可能となる。第3基板は、第2基板よりも大幅に小面積でよいため、より低コストで凹部を形成することが可能となる。   In the present invention, the first substrate on which the light emitting element is formed and the flat plate-like second substrate (counter substrate) are bonded together, and the first substrate or the third substrate having a recess is bonded to the second substrate. ing. A through hole is provided in a portion of the first substrate or the second substrate corresponding to the inside of the recess, and even if a flat plate-like second substrate is used, only the volume in the recess of the third substrate communicates therewith. Inclusion in the volume of the sealed space can increase the internal volume and reduce the relative humidity. Since the third substrate may have a significantly smaller area than the second substrate, the concave portion can be formed at a lower cost.

また、第3基板の凹部には、吸湿材や乾燥材などのように水分や酸素を吸着する吸着物質が配置されており、平板状の第2基板を用いても吸着物質の配置スペースを確保することが可能となる。   In addition, an adsorbing substance that adsorbs moisture and oxygen, such as a hygroscopic material and a desiccant, is disposed in the concave portion of the third substrate, so that a space for arranging the adsorbing substance is secured even if a flat second substrate is used. It becomes possible to do.

さらに、第1基板と第2基板と、および第3基板と第1基板または第2基板とを、接着材の強度が低下しない範囲の厚みで薄く貼り合せることによって、接着材を通して封止空間に水分が侵入することを抑制することが可能となる。接着材の厚みは、例えば径が1μm以上20μm以下、好ましくは3μm以上10μm以下のスペーサを混合することによって調整することが可能となる。   Further, the first substrate and the second substrate, and the third substrate and the first substrate or the second substrate are thinly bonded to each other with a thickness within a range in which the strength of the adhesive does not decrease, so that the adhesive space is passed through the adhesive. It becomes possible to suppress intrusion of moisture. The thickness of the adhesive can be adjusted, for example, by mixing spacers having a diameter of 1 μm to 20 μm, preferably 3 μm to 10 μm.

さらに、第1基板と第2基板とを貼り合せる接着材、および第1基板または第2基板と第3基板とを貼り合せる接着材として、透湿度が低いエポキシ系接着材を用いることによって、接着材を通して封止空間に水分が侵入することを抑制することが可能となる。   Further, by using an epoxy adhesive having a low moisture permeability as an adhesive for bonding the first substrate and the second substrate, and an adhesive for bonding the first substrate or the second substrate and the third substrate, adhesion is achieved. It becomes possible to suppress moisture from entering the sealed space through the material.

第1基板または第2基板と第3基板とを貼り合せる接着材として、UV(紫外線)硬化型接着材を用いることによって、UV照射により容易に貼り合わせを行うことが可能となる。   By using a UV (ultraviolet) curable adhesive as an adhesive for bonding the first substrate or the second substrate to the third substrate, it becomes possible to perform bonding easily by UV irradiation.

接着材に混入されるスペーサとしてビーズ形状のものを用いることによって、所定の接着材厚に容易に設定可能である。   By using a bead-shaped spacer as a spacer mixed in the adhesive, it can be easily set to a predetermined adhesive thickness.

さらに、第1基板および第2基板を化学的エッチングなどにより薄板化して湾曲させることにより、曲面状の表示部を形成することが可能となる。この場合、第3基板を第1基板または第2基板の端部に貼り合せて、第1基板および第2基板を第3基板が配置されていない部分で湾曲させることが可能となる。   Furthermore, it is possible to form a curved display portion by thinning and bending the first substrate and the second substrate by chemical etching or the like. In this case, the third substrate can be bonded to the end of the first substrate or the second substrate, and the first substrate and the second substrate can be curved at a portion where the third substrate is not disposed.

さらに、第1基板と第2基板とが貼り合わされた空間(封止空間)に、乾燥空気、窒素ガスまたは不活性ガスなどを充填することによって、封止空間への水分混入や吸着材への水分吸着を抑制することができる。   Furthermore, by filling the space (sealing space) where the first substrate and the second substrate are bonded together with dry air, nitrogen gas, inert gas, or the like, moisture is mixed into the sealing space or adsorbent is adsorbed. Moisture adsorption can be suppressed.

さらに、第3基板と第1基板または第2基板とを貼り合わせる接着材に混合されたスペーサの径が1μm以上20μm以下、より好ましくは、3μm以上10μm以下である理由について説明する。即ち、接着材、特に透湿が少ないエポキシ系接着材は、接着剤厚(スペーサ径で決まる)が薄くなると接着強度が低下することが知られている。実験の結果、3μm以下で接着強度の低下が見られ、1μm未満で著しく接着強度が低下した。また、接着材厚が厚くなると、接着強度が低下することに加え、接着材を介して進入する水分が比例して増加する。実験の結果、20μmを超える場合、で接着強度の低下と大幅な水分の浸入、すなわち封止特性の低下が見られた。10μmを超え20μm以下の場合、接着強度の低下は認められなかったものの、水分の浸入、すなわち封止特性の低下が大きいことが確認された。これより、接着材に混合するスペーサ材の適正範囲を決定することができる。   Furthermore, the reason why the diameter of the spacer mixed with the adhesive for bonding the third substrate and the first substrate or the second substrate is 1 μm or more and 20 μm or less, more preferably 3 μm or more and 10 μm or less will be described. That is, it is known that the adhesive strength of an adhesive, particularly an epoxy adhesive with low moisture permeability, decreases as the adhesive thickness (determined by the spacer diameter) decreases. As a result of the experiment, a decrease in the adhesive strength was observed at 3 μm or less, and the adhesive strength was significantly decreased at less than 1 μm. Moreover, when the thickness of the adhesive is increased, not only the adhesive strength is lowered, but also the moisture entering through the adhesive is proportionally increased. As a result of the experiment, when the thickness exceeds 20 μm, a decrease in adhesive strength and a significant intrusion of water, that is, a decrease in sealing properties were observed. When the thickness was more than 10 μm and not more than 20 μm, no decrease in the adhesive strength was observed, but it was confirmed that the ingress of moisture, that is, the decrease in the sealing characteristics was large. From this, the appropriate range of the spacer material mixed with the adhesive can be determined.

第3基板の凹部の深さは、例えば0.05mm以上1.00mm以下、好ましくは0.1mm以上1.00mm以下に設定する。下限値は吸着物質のスペースを確保するのに充分な厚み、上限値は浅い方が凹部の形成が容易なためである。   The depth of the concave portion of the third substrate is set to, for example, 0.05 mm or more and 1.00 mm or less, preferably 0.1 mm or more and 1.00 mm or less. This is because the lower limit is a sufficient thickness to secure a space for the adsorbed material, and the shallower the upper limit, the easier it is to form recesses.

即ち、第3基板の凹部に配置する吸湿材は、吸湿材粉末を混合した樹脂をフィルム状にしたものが使用されることが多い。この厚さは0.2mm程度のものが多く使われている。凹部の深さが、0.05mm以下の場合、充填できる吸湿材の量が極めて少なくなり望ましくない。望ましくは、吸湿材を混合した樹脂フィルムが形成しやすい0.1mm以上が望ましい。また、凹部の厚さが1mmを超えると第3の基板の厚さも1mm超えることになり、表示装置としての厚さが厚くなるため、望ましくない。また、凹部の形成も難しくなる。   That is, as the hygroscopic material disposed in the concave portion of the third substrate, a resin obtained by mixing a hygroscopic material powder in the form of a film is often used. A thickness of about 0.2 mm is often used. When the depth of the recess is 0.05 mm or less, the amount of the moisture absorbent material that can be filled is extremely small, which is not desirable. Desirably, the thickness is preferably 0.1 mm or more where a resin film mixed with a hygroscopic material is easily formed. In addition, if the thickness of the recess exceeds 1 mm, the thickness of the third substrate also exceeds 1 mm, which is not desirable because the thickness of the display device increases. In addition, it becomes difficult to form the recess.

第1基板および第2基板の厚みを0.01mm以上0.3mm以下、より好ましくは、0.05mm以上0.2mm以下に設定する理由について説明する。即ち、基板の厚みが0.01mm以下になると強度が極めて低くなり望ましくない。0.01mmから0.05mmの間は、基板の強度を補う手段が必要となり望ましくない。0.05mm以上であれば、製造上一定レベルの強度が確保され望ましい。また、0.3mm以上になると基板の湾曲が困難であり望ましくない。0.2〜0.3mmの場合、湾曲は可能であるが、その程度が小さく湾曲化の効果がほとんど認められない。0.2mm以下の場合、R300mm程度以下の湾曲化の効果が認められる湾曲が得られ望ましい。   The reason why the thicknesses of the first substrate and the second substrate are set to 0.01 mm to 0.3 mm, more preferably 0.05 mm to 0.2 mm will be described. That is, when the thickness of the substrate is 0.01 mm or less, the strength is extremely low, which is not desirable. A thickness between 0.01 mm and 0.05 mm is not desirable because a means for supplementing the strength of the substrate is required. If it is 0.05 mm or more, a certain level of strength is ensured in production. On the other hand, if it is 0.3 mm or more, it is difficult to curve the substrate, which is not desirable. In the case of 0.2 to 0.3 mm, the bending is possible, but the degree is small and the effect of bending is hardly recognized. In the case of 0.2 mm or less, it is desirable that a curve with an effect of curving of about R300 mm or less is obtained.

なお、特許文献12にも、吸湿材を部分的にまとめて配置する方法が記載されているが、この従来技術では発光素子が形成された基板と凹部を有する対向基板とが貼り合せられて構成される封止容器内部に吸湿材が配置されている。本発明では、発光素子が形成された基板と平板状の対向基板とが貼り合せられて構成される封止容器の外部に、第2基板よりも小面積の第3基板によって凹部を形成し、その凹部内に吸湿材が配置されているため、凹部加工を施しても、第2基板の場合に比べて低価格で容易に加工を行うことが可能となる。   Note that Patent Document 12 also describes a method of arranging hygroscopic materials partially together, but in this prior art, a structure in which a substrate on which a light emitting element is formed and a counter substrate having a recess are bonded together. A hygroscopic material is disposed inside the sealed container. In the present invention, a recess is formed by a third substrate having a smaller area than the second substrate, outside the sealing container formed by laminating the substrate on which the light emitting element is formed and the flat counter substrate, Since the hygroscopic material is disposed in the concave portion, even if the concave portion is processed, the processing can be easily performed at a lower price than the case of the second substrate.

以上のように、本発明によれば、平板状の第2基板を用いても、第3基板の凹部によって、封止空間の体積を大きくすると共に、吸湿材などの吸着部材を配置するためのスペースを容易に確保することができる。接着材を通って封止空間に侵入した水分は、例えば第2基板の貫通孔を通して第3基板の凹部内の吸着材に吸着されるため、封止空間の相対湿度を十分に低く保って、発光素子の劣化を防ぐことができる。また、接着材の厚みを十分に薄くすることによって、封止空間の体積はそれほど大きくなくても、接着材を通って侵入する水分量を少なくして、封止空間をより低湿度に保つことができる。さらに、第3基板は第2基板よりも小面積であるため、凹部加工を施しても、低価格で加工を行うことができる。したがって、封止性能に優れた表示装置を低コストで容易に実現することができる。   As described above, according to the present invention, even when a flat second substrate is used, the recessed portion of the third substrate increases the volume of the sealing space and arranges the adsorbing member such as the hygroscopic material. Space can be secured easily. Moisture that has entered the sealing space through the adhesive is adsorbed to the adsorbent in the recess of the third substrate through, for example, the through hole of the second substrate, so that the relative humidity of the sealing space is kept sufficiently low, Deterioration of the light emitting element can be prevented. In addition, by reducing the thickness of the adhesive sufficiently, even if the volume of the sealed space is not so large, the amount of moisture entering through the adhesive is reduced and the sealed space is kept at a lower humidity. Can do. Furthermore, since the third substrate has a smaller area than the second substrate, the third substrate can be processed at a low cost even if the recess processing is performed. Therefore, a display device having excellent sealing performance can be easily realized at low cost.

また、表示部を透明として背景が透けて見える透明表示装置を構成する場合、対向基板の凹部に吸湿材を配置することはできない。また、機械研磨、ブラスト加工またはケミカル処理により凹部の加工を行う場合に、凹部の掘り込み部の表面状態を均一にすることは極めて困難であり、従来のように第2基板に凹部を形成する場合には、表示部の透明度を確保することが困難であった。これに対して、第2基板に平板を使用する本発明では、十分な透明度を確保して良好な表示状態を得ることができる。したがって、封止性能に優れ、低コストの透明表示装置を実現することができる。   In the case where a transparent display device in which the display portion is transparent and the background can be seen through is formed, a hygroscopic material cannot be disposed in the concave portion of the counter substrate. In addition, when the recess is processed by mechanical polishing, blasting, or chemical treatment, it is extremely difficult to make the surface state of the recess digging portion uniform, and the recess is formed on the second substrate as in the past. In some cases, it was difficult to ensure the transparency of the display unit. On the other hand, in the present invention using a flat plate for the second substrate, it is possible to secure a sufficient transparency and obtain a good display state. Therefore, a transparent display device having excellent sealing performance and low cost can be realized.

さらに、発光素子が形成された第1基板と、第2基板とを薄板加工して表示部を湾曲させることにより、曲面表示装置を実現することができる。   Furthermore, a curved display device can be realized by processing a thin plate of the first substrate on which the light emitting element is formed and the second substrate to curve the display portion.

以下に、本発明の表示装置およびその製造方法の実施形態1〜3を薄膜EL素子を用いた薄膜ELパネル(EL表示装置)に適用した場合について、図面を参照しながら詳細に説明する。
(実施形態1)
図1は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1の構成例を示す要部断面図であり、図2は図1の発光素子部の構成例を示す要部断面図である。
Hereinafter, a case where the display device of the present invention and Embodiments 1 to 3 of the manufacturing method thereof are applied to a thin film EL panel (EL display device) using a thin film EL element will be described in detail with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part showing a configuration example of Embodiment 1 of a thin film EL panel according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing a configuration example of the light emitting element part of FIG.

図1に示すように、薄膜ELパネル20は、第1基板としてのガラス基板1上に発光素子部としての無機薄膜EL素子10が形成されており、その発光素子形成側表面上に、第2基板としての平板状の封止用対向基板11が対向配置されている。無機薄膜EL素子10と封止用対向基板11との間にはスペーサ材12が散布されており、その外周部はスペーサ材12が混合された接着材13によって、無機薄膜EL素子10と封止用対向基板11とが貼り合せられている。封止用対向基板11の端部には、その外側表面部から、無機薄膜EL素子10と封止用対向基板11間の封止空間18まで達する貫通孔14が形成されている。   As shown in FIG. 1, the thin-film EL panel 20 has an inorganic thin-film EL element 10 as a light-emitting element portion formed on a glass substrate 1 as a first substrate. A flat plate-shaped sealing counter substrate 11 as a substrate is disposed to face the substrate. A spacer material 12 is dispersed between the inorganic thin film EL element 10 and the sealing counter substrate 11, and the outer peripheral portion thereof is sealed with the inorganic thin film EL element 10 by an adhesive 13 mixed with the spacer material 12. The counter substrate 11 for use is bonded. A through-hole 14 is formed at the end of the sealing counter substrate 11 from the outer surface portion to the sealing space 18 between the inorganic thin film EL element 10 and the sealing counter substrate 11.

封止用対向基板11の外周端部の外側表面部には、凹部を有する第3基板15がスペーサ材15が混合された接着材13によって、その凹部が内側になるように貼り合せられている。この第3基板15の凹部内には、水分や酸素を吸着する吸着物質として吸湿材(または乾燥材)17が凹部底面に配置されている。この第3基板15の凹部内と封止空間18とは貫通孔14により連通されており、封止空間18の水分もこの吸着物質によって吸着されるようになっている。   A third substrate 15 having a recess is bonded to the outer surface portion of the outer peripheral end portion of the sealing counter substrate 11 with an adhesive 13 mixed with the spacer material 15 so that the recess is on the inner side. . In the recess of the third substrate 15, a hygroscopic material (or a drying material) 17 is disposed on the bottom surface of the recess as an adsorbent that adsorbs moisture and oxygen. The inside of the concave portion of the third substrate 15 and the sealing space 18 are communicated with each other through the through-hole 14, and moisture in the sealing space 18 is also adsorbed by the adsorbing substance.

無機薄膜EL素子10は、図2に示すように、ガラス基板1上に、第1透明導電パターン電極2と、第1絶縁層3と、無機材料からなる発光層4と、第2絶縁層5と、第2透明導電体パターン電極6とが順次積層されて構成されている。第1透明導電体パターン電極2および第2透明導電体パターン電極6は、それぞれ短冊状の複数本が互いに平行でかつ、第1透明導電体パターン電極2と第2透明導電体パターン電極6とが交差(または直交)する方向に形成されており、交流電圧源7と電気的に接続されている。第1透明導電体パターン電極2および第2透明導電体パターン電極6に選択的に交流電圧源7から所定電圧を印加することによって、選択された導電体パターン電極2,6に挟まれた発光層4に絶縁層3および5を介して所定電圧が印加され、その発光層4の部分が画素として選択的に発光して文字・図形などがドットマトリックス表示されるようになっている。   As shown in FIG. 2, the inorganic thin film EL element 10 includes a first transparent conductive pattern electrode 2, a first insulating layer 3, a light emitting layer 4 made of an inorganic material, and a second insulating layer 5 on a glass substrate 1. And the second transparent conductor pattern electrode 6 are sequentially laminated. Each of the first transparent conductor pattern electrode 2 and the second transparent conductor pattern electrode 6 has a plurality of strips parallel to each other, and the first transparent conductor pattern electrode 2 and the second transparent conductor pattern electrode 6 are It is formed in a crossing (or orthogonal) direction and is electrically connected to the AC voltage source 7. A light emitting layer sandwiched between the selected conductor pattern electrodes 2 and 6 by selectively applying a predetermined voltage from the AC voltage source 7 to the first transparent conductor pattern electrode 2 and the second transparent conductor pattern electrode 6 A predetermined voltage is applied to 4 through the insulating layers 3 and 5, and the portion of the light emitting layer 4 selectively emits light as a pixel so that characters, figures and the like are displayed in a dot matrix.

以下に、本実施形態1の薄膜ELパネル20の製造方法について説明する。   Below, the manufacturing method of the thin film EL panel 20 of this Embodiment 1 is demonstrated.

まず、ガラス基板1上に無機薄膜EL素子10を形成する。   First, the inorganic thin film EL element 10 is formed on the glass substrate 1.

この工程では、図2に示すように、ガラス基板1上にITOからなる第1透明導電パターン電極2を形成し、その上にSiO、Si、SiON、Y、Al、Taなどからなる第1絶縁層3をスパッタリング法により形成する。 In this step, as shown in FIG. 2, a first transparent conductive pattern electrode 2 made of ITO is formed on a glass substrate 1, and SiO 2 , Si 3 N 4 , SiON, Y 2 O 3 , Al 2 is formed thereon. A first insulating layer 3 made of O 3 , Ta 2 O 5 or the like is formed by a sputtering method.

この第1縁層3上にZnS:Mnなどの無機材料からなる発光層4を形成し、その上に第1絶縁層3と同種の材料からなる第2絶縁層5を形成する。これにより、発光層4が絶縁層3および5で挟持された二重絶縁構造が形成される。   A light emitting layer 4 made of an inorganic material such as ZnS: Mn is formed on the first edge layer 3, and a second insulating layer 5 made of the same material as the first insulating layer 3 is formed thereon. As a result, a double insulating structure in which the light emitting layer 4 is sandwiched between the insulating layers 3 and 5 is formed.

第2絶縁層5上に、ITOからなる短冊状の第2透明導電パターン電極6を、短冊状の第1透明電極パターン電極2と直交するように配置する。図2の事例では、図面(図2)の紙面に平行な方向に短冊状の複数本の第1透明電極パターン電極2が形成され、その紙面に垂直な方向に短冊状の複数本の第2透明電極パターン電極6が形成されている。なお、これらの第1透明電極パターン電極2および第2透明電極パターン電極6はガラス基板1の表面に平行である。   A strip-shaped second transparent conductive pattern electrode 6 made of ITO is disposed on the second insulating layer 5 so as to be orthogonal to the strip-shaped first transparent electrode pattern electrode 2. In the example of FIG. 2, a plurality of strip-shaped first transparent electrode pattern electrodes 2 are formed in a direction parallel to the paper surface of the drawing (FIG. 2), and a plurality of strip-shaped second electrodes are formed in a direction perpendicular to the paper surface. A transparent electrode pattern electrode 6 is formed. The first transparent electrode pattern electrode 2 and the second transparent electrode pattern electrode 6 are parallel to the surface of the glass substrate 1.

次に、以上のようにして発光素子部として薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と封止用対向基板11とを貼り合せてその発光素子部を内部の封止空間18内に封止する。   Next, the glass substrate 1 on which the thin film EL element 10 is formed as the light emitting element portion as described above is bonded to the sealing counter substrate 11 and the light emitting element portion is sealed in the internal sealing space 18. To do.

この工程では、図1に示すように、第3基板15の凹部内に貫通孔14が形成された平板状の封止用対向基板11の外周部分にスペーサ材12が混合された接着材13を塗布し、スペーサ材12が薄膜EL素子10の表面上に散布されたガラス基板1と貼り合せる。   In this step, as shown in FIG. 1, an adhesive material 13 in which a spacer material 12 is mixed with an outer peripheral portion of a flat plate-shaped sealing counter substrate 11 in which a through hole 14 is formed in a recess of a third substrate 15 is applied. The spacer material 12 is applied and bonded to the glass substrate 1 dispersed on the surface of the thin film EL element 10.

なお、接着材13中のスペーサ材12の径と、薄膜EL素子10の表面上に散布されるスペーサ材12とはその径が同じであるか、または近い値であることが好ましく、例えば1μm以上20μm以下、好ましくは3μm以上10μm以下であり、ビーズ形状のスペーサ材を用いることが好ましい。また、接着材13としては、透湿度が低いエポキシ系接着材を用いることが好ましい。さらに、接着材13は薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1側に塗布してもよく、スペーサ材12は平板状の封止用対向基板11側に散布してもよい。さらに、以上のようにして貼り合せられたガラス基板1または封止用対向基板11(本実施形態では封止用対向基板11)に、凹部を内側にして第3基板15を貼り合わせる。   In addition, it is preferable that the diameter of the spacer material 12 in the adhesive material 13 and the spacer material 12 spread on the surface of the thin film EL element 10 are the same or close to each other, for example, 1 μm or more. It is 20 μm or less, preferably 3 μm or more and 10 μm or less, and it is preferable to use a bead-shaped spacer material. Moreover, as the adhesive 13, it is preferable to use an epoxy adhesive having a low moisture permeability. Further, the adhesive material 13 may be applied to the glass substrate 1 side on which the thin film EL element 10 is formed, and the spacer material 12 may be distributed to the flat plate-shaped sealing counter substrate 11 side. Further, the third substrate 15 is bonded to the glass substrate 1 or the sealing counter substrate 11 (in this embodiment, the sealing counter substrate 11) bonded as described above, with the recesses inside.

この工程では、図1に示すように、第3基板15の凹部内に吸着物質としての吸湿材17を配置し、凹部の周囲にスペーサ材16が混合されたUV接着材13を塗布して、対向基板11の貫通孔14に第3基板15の凹部を配置して、第3基板15と封止用対向基板11とを貼り合せることにより、薄膜ELパネル20が作製される。   In this step, as shown in FIG. 1, a hygroscopic material 17 as an adsorbing substance is disposed in the concave portion of the third substrate 15, and a UV adhesive material 13 mixed with a spacer material 16 is applied around the concave portion, The thin film EL panel 20 is manufactured by disposing the concave portion of the third substrate 15 in the through hole 14 of the counter substrate 11 and bonding the third substrate 15 and the sealing counter substrate 11 together.

なお、吸湿材17としては、シリカゲル、ゼオライト、活性アルミナ、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化マグネシウムなどを用いることが可能であるが、本実施形態1では、吸湿特性が優れた酸化カルシウムの粉末を樹脂に分散させた吸湿シートを用いた。第3基板15の凹部の深さは、この吸湿シートを設置するのに十分な0.05mm以上1.00mm以下、好ましくは0.1mm以上1.00mm以下に設定されている。   As the hygroscopic material 17, silica gel, zeolite, activated alumina, calcium oxide, strontium oxide, magnesium oxide, or the like can be used. In the first embodiment, calcium oxide powder having excellent hygroscopic properties is used as the resin. A moisture-absorbing sheet dispersed in was used. The depth of the concave portion of the third substrate 15 is set to 0.05 mm or more and 1.00 mm or less, preferably 0.1 mm or more and 1.00 mm or less, sufficient to install the moisture absorbing sheet.

また、接着材13中のスペーサ材12の径は、例えば1μm以上20μm以下、好ましくは3μm以上10μm以下であり、ビーズ形状のスペーサ材を用いることが好ましい。また、接着材13としては、透湿度が低いエポキシ系UV接着材を用いることが好ましい。   The diameter of the spacer material 12 in the adhesive 13 is, for example, 1 μm or more and 20 μm or less, preferably 3 μm or more and 10 μm or less, and it is preferable to use a bead-shaped spacer material. Moreover, as the adhesive 13, it is preferable to use an epoxy UV adhesive having a low moisture permeability.

さらに、第3基板15と、EL発光素子10が形成されたガラス基板1とを貼り合せてもよい。この場合には、ガラス基板1側に貫通孔14が設けられている。   Further, the third substrate 15 and the glass substrate 1 on which the EL light emitting element 10 is formed may be bonded. In this case, a through hole 14 is provided on the glass substrate 1 side.

さらに、凹部を有する第3基板15を貼り合せる前に、薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と対向基板11とが貼り合された内部空間(封止部内部)に、乾燥空気、窒素ガスまたは不活性ガスなどを充填することが好ましい。例えば、乾燥空気、窒素ガスまたは不活性ガスなどが充填されたグローブボックスまたは装置内において貼り合わせ作業を行うことにより実現することもできる。   Further, before the third substrate 15 having the recesses is bonded, dry air, nitrogen is introduced into the internal space (inside the sealing portion) where the glass substrate 1 on which the thin film EL element 10 is formed and the counter substrate 11 are bonded. It is preferable to fill with a gas or an inert gas. For example, it can also be realized by performing a bonding operation in a glove box or apparatus filled with dry air, nitrogen gas, inert gas, or the like.

以上のように、本実施形態1によれば、薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と平板状の封止用対向基板11とを貼り合わせた後、凹部内に吸湿材17が配置された第3基板15を低水分雰囲気下で装着処理することより、封止空間18への水分混入と吸湿材17の水分吸着とを十分少なく抑えることができる。このため、吸着物質に吸着抑制物質の被覆処理などを行う必要はなかった。さらに、薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と平板状の封止用対向基板11とが貼り合わせられた構造であり、封止空間18に接着材13を通して侵入する水分量が少ないため、比較的吸湿量が少ないシリカゲルから吸湿量が多い酸化カルシウム等の化学的吸着による吸湿材まで、幅広い吸湿材を使用することが可能である。   As described above, according to the first embodiment, the hygroscopic material 17 is disposed in the recess after the glass substrate 1 on which the thin film EL element 10 is formed and the flat plate-shaped sealing counter substrate 11 are bonded together. Further, by performing the mounting process on the third substrate 15 in a low moisture atmosphere, it is possible to sufficiently suppress moisture mixing into the sealed space 18 and moisture adsorption of the moisture absorbent 17. For this reason, it was not necessary to perform the coating treatment of the adsorption inhibiting substance on the adsorbing substance. Further, the glass substrate 1 on which the thin film EL element 10 is formed and the flat plate-shaped sealing counter substrate 11 are bonded together, and the amount of moisture that enters the sealing space 18 through the adhesive 13 is small. A wide range of hygroscopic materials can be used, from silica gel having a relatively low hygroscopic amount to a hygroscopic material by chemical adsorption such as calcium oxide having a high hygroscopic amount.

また、第3基板15に凹部を形成することによって、平板状の対向基板11を用いても接着材13の厚さを十分に薄くすることが可能であり、さらに、第3基板15の凹部内に吸湿材を配置できるため、十分に優れた封止特性を得ることができる。接着材13から封止空間に侵入した水分は、封止用対向基板11の貫通孔12を通して第3基板15の凹部内に配置された吸湿材17に吸着されるため、封止空間の相対湿度を十分に低く保つことが可能となる。   Further, by forming a recess in the third substrate 15, it is possible to sufficiently reduce the thickness of the adhesive 13 even if the flat counter substrate 11 is used. Since a hygroscopic material can be disposed on the surface, sufficiently excellent sealing characteristics can be obtained. Moisture that has entered the sealing space from the adhesive 13 is adsorbed to the hygroscopic material 17 disposed in the recess of the third substrate 15 through the through-hole 12 of the opposing substrate 11 for sealing, and therefore the relative humidity of the sealing space Can be kept sufficiently low.

なお、本実施形態1では、封止用対向基板11よりも遥かに小さい第3基板15に凹部が設けられているため、封止用対向基板11に凹部を設けた従来技術に比べて封止空間18の体積は大きくないが、接着材13の厚さを十分に薄くすることができるため、接着材13の断面を通して封止空間18に侵入する水分量は少ない。また、吸湿材17として、非可逆的で低透湿領域において強力な吸湿特性を示す酸化カルシウム吸湿材を用いることにより、接着材13を通して封止空間に侵入した水分は、ほぼ完全に酸化カルシウム吸湿材に吸着されるため、封止空間18を極めて低湿度に保つことが可能であり、非常に優れた封止特性を実現することができる。また、凹部加工を施した第3基板15を用いているものの、封止用対向基板11に比べて遥かに小面積であるため、低コストで凹部加工を行うことが可能である。したがって、封止性能に優れた表示装置を低コストで実現することができる。   In the first embodiment, since the recess is provided in the third substrate 15 which is much smaller than the counter substrate 11 for sealing, sealing is performed compared to the conventional technique in which the recess is provided in the counter substrate 11 for sealing. Although the volume of the space 18 is not large, since the thickness of the adhesive 13 can be sufficiently reduced, the amount of moisture that enters the sealed space 18 through the cross section of the adhesive 13 is small. In addition, by using a calcium oxide hygroscopic material that is irreversible and exhibits strong moisture absorption characteristics in the low moisture permeability region as the hygroscopic material 17, the moisture that has entered the sealed space through the adhesive 13 is almost completely absorbed by calcium oxide. Since it is adsorbed by the material, it is possible to keep the sealing space 18 at a very low humidity, and it is possible to realize very excellent sealing characteristics. Further, although the third substrate 15 subjected to the recess processing is used, since the area is far smaller than that of the sealing counter substrate 11, the recess processing can be performed at low cost. Therefore, a display device having excellent sealing performance can be realized at low cost.

さらに、表示部を透明として背景が透けて見えるようにした透明表示装置を作製する場合に、封止用対向基板11の凹部内に吸湿材17を配置すると表示部の透明度が得られなくなる。また、凹部の加工のために、機械研磨、ブラスト加工またはケミカル処理を用いても、凹部の掘り込み部の表面状態を均一にすることは極めて困難であり、表示部の透明度を確保することが困難である。これに対して、本実施形態1では平板状の対向基板11を用いており、第3基板15の凹部内に吸湿材17を配置しているため、表示部では十分な透明度を確保することができる。したがって、優れた封止特性を有する透明表示装置を低コストで実現することができる。
(実施形態2)
本実施形態2では、発光素子が形成された第1基板(ガラス基板1)および封止用対向基板11である第2基板が湾曲されて表示部が曲面形状とされた曲面表示装置について説明する。
Further, in the case of manufacturing a transparent display device in which the display portion is transparent and the background can be seen through, if the hygroscopic material 17 is disposed in the concave portion of the sealing counter substrate 11, the transparency of the display portion cannot be obtained. Further, even if mechanical polishing, blasting or chemical treatment is used for processing the recess, it is extremely difficult to make the surface state of the recess digging portion uniform, and the transparency of the display portion can be ensured. Have difficulty. On the other hand, in the first embodiment, the flat counter substrate 11 is used, and the hygroscopic material 17 is disposed in the concave portion of the third substrate 15, so that sufficient transparency can be secured in the display unit. it can. Therefore, a transparent display device having excellent sealing characteristics can be realized at low cost.
(Embodiment 2)
In the second embodiment, a curved display device in which a first substrate (glass substrate 1) on which a light emitting element is formed and a second substrate which is a sealing counter substrate 11 are curved so that a display portion has a curved shape will be described. .

図3は、本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態2の構成例を示す要部断面図であり、図4は、図3の薄膜ELパネルの製造工程において、その第1基板および第2基板の湾曲前の形状を示す要部断面図である。   FIG. 3 is a cross-sectional view of an essential part showing a configuration example of Embodiment 2 of the thin film EL panel according to the present invention. FIG. 4 shows the first substrate and the second substrate in the manufacturing process of the thin film EL panel of FIG. It is principal part sectional drawing which shows the shape before curving.

図3に示すように、薄膜ELパネル20Aは、上記実施形態1の薄膜ELパネル20の場合と同様に、第1基板としてのガラス基板1上に発光素子部分としての無機薄膜EL素子10が形成され、その発光素子形成側表面に、第2基板としての平板状の封止用対向基板11が対向配置されている。   As shown in FIG. 3, in the thin film EL panel 20A, the inorganic thin film EL element 10 as the light emitting element portion is formed on the glass substrate 1 as the first substrate, as in the case of the thin film EL panel 20 of the first embodiment. Then, on the light emitting element forming side surface, a flat plate-shaped sealing counter substrate 11 as a second substrate is arranged to face.

この無機薄膜EL素子10の表面と封止用対向基板11の間にはスペーサ材12が散布されており、その外周部にはスペーサ材12が混合された接着材13によって貼り合されている。封止用対向基板11の端部には、外側表面から封止空間18まで達する貫通孔14が形成されている。   A spacer material 12 is dispersed between the surface of the inorganic thin film EL element 10 and the sealing counter substrate 11, and is bonded to the outer peripheral portion by an adhesive material 13 in which the spacer material 12 is mixed. A through hole 14 extending from the outer surface to the sealing space 18 is formed at the end of the sealing counter substrate 11.

封止用対向基板11の端部には、外側表面に、凹部を有する第3基板15がスペーサ材16を混合した接着材13によって貼り合せられている。この第3基板15の凹部内には、水分や酸素を吸着する吸着物質として吸湿材17(または乾燥材)が配置されている。また、この第3基板15の凹部内は、ガラス基板1と封止用対向基板11間の封止空間18と貫通孔14を通して連通している。   A third substrate 15 having a concave portion is bonded to an end portion of the sealing counter substrate 11 with an adhesive 13 mixed with a spacer material 16 on the outer surface. In the recess of the third substrate 15, a hygroscopic material 17 (or a drying material) is disposed as an adsorbing material that adsorbs moisture and oxygen. In addition, the inside of the recess of the third substrate 15 communicates with the sealing space 18 between the glass substrate 1 and the sealing counter substrate 11 and the through hole 14.

しかも、本実施形態2の薄膜ELパネル20Aでは、図3および図4に示すように、EL発光素子10が形成されたガラス基板1および封止用対向基板11が薄板形状とされており、第3基板15が配置されていない側の面が湾曲して、表示部Aが曲面形状とされている。   Moreover, in the thin film EL panel 20A of the second embodiment, as shown in FIGS. 3 and 4, the glass substrate 1 on which the EL light emitting element 10 is formed and the sealing counter substrate 11 are formed into a thin plate shape. The surface on which the three substrates 15 are not arranged is curved, and the display portion A is curved.

無機薄膜EL素子10は、上記実施形態1の薄膜ELパネル20の場合と同様に、図2に示すように、ガラス基板1上に、第1透明導電パターン電極2と、第1絶縁層3と、無機材料からなる発光層4と、第2絶縁層5と、第2透明導電体パターン電極6とが順次積層されている。第1透明導電体パターン電極2および第2透明導電体パターン電極6はそれぞれ短冊状に複数本が互いに平行かつ、第1透明導電体パターン電極2と第2透明導電体パターン電極6とが交差する方向に形成されており、交流電圧源7と電気的に接続されている。これらの第1透明導電体パターン電極2および第2透明導電体パターン電極6に選択的に交流電圧源7から電圧を印加することによって、選択された両導電体パターン電極で挟まれた発光層4に絶縁層3および5を介して電圧が印加され、その発光層4が画素として選択的に発光して文字・図形などがドットマトリックス表示される。このとき、ガラス基板1および封止用対向基板11が湾曲されて表示部が曲面とされているため、曲面に文字・図形などが表示される。   As in the case of the thin film EL panel 20 of the first embodiment, the inorganic thin film EL element 10 includes a first transparent conductive pattern electrode 2, a first insulating layer 3, and a glass substrate 1, as shown in FIG. The light emitting layer 4 made of an inorganic material, the second insulating layer 5, and the second transparent conductor pattern electrode 6 are sequentially laminated. Each of the first transparent conductor pattern electrode 2 and the second transparent conductor pattern electrode 6 is formed in a strip shape in parallel with each other, and the first transparent conductor pattern electrode 2 and the second transparent conductor pattern electrode 6 intersect each other. It is formed in a direction and is electrically connected to the AC voltage source 7. By selectively applying a voltage from the AC voltage source 7 to the first transparent conductor pattern electrode 2 and the second transparent conductor pattern electrode 6, the light emitting layer 4 sandwiched between the two selected conductor pattern electrodes. A voltage is applied to the first and second layers through the insulating layers 3 and 5, and the light emitting layer 4 selectively emits light as a pixel to display characters, figures, etc. in a dot matrix. At this time, since the glass substrate 1 and the sealing counter substrate 11 are curved and the display portion is curved, characters / graphics are displayed on the curved surface.

以下に、本実施形態2の薄膜ELパネル20Aの製造方法について説明する。   Below, the manufacturing method of 20 A of thin film EL panels of this Embodiment 2 is demonstrated.

まず、ガラス基板1上に無機薄膜EL素子10を形成する。この工程は、上記実施形態1の場合と同様に行って、図2に示すような無機薄膜EL素子10を形成することができる。   First, the inorganic thin film EL element 10 is formed on the glass substrate 1. This step can be performed in the same manner as in Embodiment 1 to form the inorganic thin film EL element 10 as shown in FIG.

次に、発光素子として無機薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と封止用対向基板11とを貼り合せて発光素子部を内部の封止空間18に封止する。   Next, the glass substrate 1 on which the inorganic thin film EL element 10 is formed as a light emitting element is bonded to the sealing counter substrate 11 to seal the light emitting element portion in the internal sealing space 18.

この工程では、図4に示すように、平板状の封止用対向基板11の外周部にスペーサ材12が混合した接着材13を塗布し、これをスペーサ材12が散布されたガラス基板1と貼り合せる。   In this step, as shown in FIG. 4, an adhesive material 13 mixed with a spacer material 12 is applied to the outer peripheral portion of a flat plate-shaped sealing counter substrate 11, and this is applied to the glass substrate 1 on which the spacer material 12 is dispersed. Paste.

なお、接着材13中のスペーサ材12の径と、ガラス基板1上に散布されるスペーサ材12の径とは、同じであるか、または近い径の値であることが好ましく、例えば1μm以上20μm以下、好ましくは3μm以上10μm以下程度の径であり、ビーズ形状のスペーサ材を用いることが好ましい。また、接着材13としては、透湿度が低いエポキシ系接着材を用いることが好ましい。さらに、接着材13は薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1側に塗布してもよく、スペーサ材12は平板状の対向基板11側に散布してもよい。   The diameter of the spacer material 12 in the adhesive 13 and the diameter of the spacer material 12 dispersed on the glass substrate 1 are preferably the same or close to each other, for example, 1 μm or more and 20 μm. The diameter is preferably about 3 μm or more and 10 μm or less, and a bead-shaped spacer material is preferably used. Moreover, as the adhesive 13, it is preferable to use an epoxy adhesive having a low moisture permeability. Further, the adhesive material 13 may be applied to the glass substrate 1 side on which the thin film EL element 10 is formed, and the spacer material 12 may be dispersed to the flat counter substrate 11 side.

次に、無機薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と封止用対向基板11とを薄板化する。   Next, the glass substrate 1 on which the inorganic thin film EL element 10 is formed and the counter substrate 11 for sealing are thinned.

この工程では、貼り合わされた基板の電極部など、必要な部分にマスク処理を行なった後、例えばフッ酸系エッチング液に浸して化学的エッチング処理を行うことにより、ガラス基板1と封止用対向基板11のそれぞれを薄板化する。これにより、薄板化前に例えば厚み0.7mmであった基板1および11が、厚み0.01mm以上〜0.3mm、好ましくは0.05mm以上0.2mm以下程度の板厚に薄板化される。   In this process, after masking a necessary portion such as an electrode portion of the bonded substrate, a chemical etching treatment is performed by immersing in a hydrofluoric acid-based etching solution, for example, so that the glass substrate 1 is opposed to the sealing substrate. Each of the substrates 11 is thinned. Thereby, the substrates 1 and 11 having a thickness of, for example, 0.7 mm before thinning are thinned to a thickness of 0.01 mm to 0.3 mm, preferably 0.05 mm to 0.2 mm. .

次に、薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1または対向基板11に対して、第3基板15の凹部に対応する位置に貫通孔14を形成する。   Next, the through-hole 14 is formed in the position corresponding to the recessed part of the 3rd board | substrate 15 with respect to the glass substrate 1 or counter substrate 11 in which the thin film EL element 10 was formed.

この工程では、本実施形態2では例えば封止用対向基板11にレーザを用いて貫通孔12を形成する。   In this step, in the second embodiment, for example, the through hole 12 is formed in the sealing counter substrate 11 using a laser.

なお、EL発光素子10が形成されたガラス基板1に対して、第3基板15の凹部に対応する位置に貫通孔14を形成するようにしてもよい。   In addition, you may make it form the through-hole 14 in the position corresponding to the recessed part of the 3rd board | substrate 15 with respect to the glass substrate 1 in which EL light emitting element 10 was formed.

次に、以上のようにして貫通孔12が形成されたガラス基板1または対向基板11に、凹部を有する第3基板16を貼り合せる。   Next, the 3rd board | substrate 16 which has a recessed part is bonded to the glass substrate 1 or the counter substrate 11 in which the through-hole 12 was formed as mentioned above.

この工程では、図4に示すように、第3基板15の凹部内に吸湿材17を配置し、凹部の周囲にスペーサ材16が混合されたUV接着材13を塗布して、封止用対向基板11の貫通孔12を含む位置に第3基板15の凹部を配置して、第3基板15と封止用対向基板11とを貼り合せる。   In this step, as shown in FIG. 4, a hygroscopic material 17 is disposed in the concave portion of the third substrate 15, and a UV adhesive material 13 mixed with a spacer material 16 is applied around the concave portion. The recessed part of the 3rd board | substrate 15 is arrange | positioned in the position containing the through-hole 12 of the board | substrate 11, and the 3rd board | substrate 15 and the opposing board | substrate 11 for sealing are bonded together.

なお、吸湿材17としては、シリカゲル、ゼオライト、活性アルミナ、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化マグネシウムなどを用いることが可能であるが、本実施形態2では吸湿特性が優れた酸化カルシウムの粉末を樹脂に分散させた吸湿シートを用いた。第3基板15の凹部の深さは、この吸湿シートを設置するのに十分な0.05mm以上1.00mm以下、好ましくは0.1mm以上1.00mm以下に設定されている。   As the hygroscopic material 17, silica gel, zeolite, activated alumina, calcium oxide, strontium oxide, magnesium oxide, or the like can be used. In the second embodiment, calcium oxide powder having excellent hygroscopic properties is used as the resin. A dispersed moisture absorbing sheet was used. The depth of the concave portion of the third substrate 15 is set to 0.05 mm or more and 1.00 mm or less, preferably 0.1 mm or more and 1.00 mm or less, sufficient to install the moisture absorbing sheet.

また、接着材13中のスペーサ材16の径は、例えば1μm以上20μm以下、好ましくは3μm以上10μm以下程度の径であり、ビーズ形状のスペーサ材を用いることが好ましい。また、接着材13としては、透湿度が低いエポキシ系UV接着材を用いることが好ましい。   The diameter of the spacer material 16 in the adhesive 13 is, for example, about 1 μm to 20 μm, preferably about 3 μm to 10 μm, and it is preferable to use a bead-shaped spacer material. Moreover, as the adhesive 13, it is preferable to use an epoxy UV adhesive having a low moisture permeability.

さらに、第3基板15とEL発光素子10が形成されたガラス基板1とを貼り合せてもよい。この場合には、ガラス基板1の端部側に貫通孔14が設けられ、第3基板15の凹部内が貫通孔14を通して封止空間18に連通されている。   Further, the third substrate 15 and the glass substrate 1 on which the EL light emitting element 10 is formed may be bonded together. In this case, the through hole 14 is provided on the end side of the glass substrate 1, and the inside of the concave portion of the third substrate 15 is communicated with the sealing space 18 through the through hole 14.

さらに、凹部を有する第3基板15を貼り合せる前に、薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と封止用対向基板11とが貼り合せられた封止空間18内に、乾燥空気、窒素ガスまたは不活性ガスなどを充填することが好ましい。例えば、乾燥空気、窒素ガスまたは不活性ガスなどが充填されたグローブボックスまたは装置内において貼り合わせ作業を行うことによりこれを実現することが可能となる。   Further, before the third substrate 15 having the recesses is bonded, the dry air, nitrogen is contained in the sealing space 18 in which the glass substrate 1 on which the thin film EL element 10 is formed and the counter substrate 11 for sealing are bonded. It is preferable to fill with a gas or an inert gas. For example, this can be realized by performing a bonding operation in a glove box or apparatus filled with dry air, nitrogen gas, inert gas, or the like.

その後、薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1および封止用対向基板11を、第3基板15が配置されていない部分で湾曲させる。   Thereafter, the glass substrate 1 on which the thin film EL element 10 is formed and the sealing counter substrate 11 are curved at a portion where the third substrate 15 is not disposed.

この工程では、薄膜ELパネル20Aの電極部に図示しない駆動用ICを接続した後、図3に示すように、封止されたガラス基板1および封止用対向基板11を曲げて曲面状に変形させることにより、曲面形状の表示部Aを有する曲面形状表示装置を作製することができる。   In this step, after connecting a driving IC (not shown) to the electrode portion of the thin-film EL panel 20A, the sealed glass substrate 1 and the sealing counter substrate 11 are bent and deformed into a curved shape as shown in FIG. By doing so, a curved surface display device having a curved surface display portion A can be manufactured.

以上のように、本実施形態2によれば、上記実施形態1の効果に加えて、発光素子としての薄膜EL素子10が形成されたガラス基板1と封止用対向基板11とを薄板加工しているため、表示部Aを湾曲させて、曲面表示装置を実現することができる。   As described above, according to the second embodiment, in addition to the effects of the first embodiment, the glass substrate 1 on which the thin film EL element 10 as the light emitting element is formed and the sealing counter substrate 11 are processed into a thin plate. Therefore, the curved surface display device can be realized by curving the display portion A.

従来の曲面表示装置では、例えばプラスチック基板や薄型ガラス基板に発光素子が形成され、薄膜またはポリマーなどの有機膜によって封止されており、短時間の使用は可能であっても、例えば5000時間以上などの実用的な使用時間には耐えることができなかった。これに対して、本実施形態2の曲面表示装置では、実用に十分耐えることができる使用時間および封止特性を有している。   In a conventional curved display device, for example, a light emitting element is formed on a plastic substrate or a thin glass substrate and sealed with an organic film such as a thin film or a polymer. It was not able to endure practical use time such as. On the other hand, the curved display device of the second embodiment has a use time and a sealing characteristic that can sufficiently withstand practical use.

本実施形態2の曲面表示装置を用いて、例えば車両のインサイドパネルにおける曲面表示や、車両のフロントガラスの曲率に対応させて配置することによる曲面表示、さらに、遊技機において回転体の曲率に対応させて設置することによる回転体上での曲面表示などを実現することができる。
(実施形態3)
本実施形態3では、遊技機において、回転体の曲率に対応させて設置することによる回転体上での曲面表示を可能とする場合について説明する。
Using the curved surface display device of the second embodiment, for example, curved surface display on the inside panel of the vehicle, curved surface display by arranging it corresponding to the curvature of the windshield of the vehicle, and further corresponding to the curvature of the rotating body in the gaming machine It is possible to realize curved surface display on a rotating body by installing them.
(Embodiment 3)
In the third embodiment, a case will be described in which a curved surface can be displayed on a rotating body by installing the gaming machine corresponding to the curvature of the rotating body.

図5は、本実施形態2の曲面表示装置を本実施形態3の遊技機に適用した場合の構成例を示す斜視図である。   FIG. 5 is a perspective view showing a configuration example when the curved display device of the second embodiment is applied to the gaming machine of the third embodiment.

図5に示すように、本実施形態3の遊技機30は、上記実施形態2の薄膜ELパネル20Aが回転体31の曲率に対応させて湾曲されており、薄膜ELパネル20Aが回転体31の上に重なるように配置されている。これにより、薄膜EL素子10による曲面状の表示部Aのドットマトリックス表示と重なって、回転体31の表面上の数字が曲面状の表示部Aから透けて見え、曲面透明表示装置を実現することができる。   As shown in FIG. 5, in the gaming machine 30 of the third embodiment, the thin film EL panel 20 </ b> A of the second embodiment is curved according to the curvature of the rotating body 31, and the thin film EL panel 20 </ b> A is It is arranged so as to overlap. Accordingly, the number on the surface of the rotating body 31 can be seen through the curved display portion A so as to overlap the dot matrix display of the curved display portion A by the thin film EL element 10, thereby realizing a curved transparent display device. Can do.

以上により、本実施形態1〜3によれば、薄膜EL発光素子10が形成されたガラス基板1と、薄膜EL発光素子10を封止するための平板状の封止用対向基板11とが貼り合わされ、封止用対向基板11上に、ガラス基板1と封止用対向基板11間の封止空間18に貫通孔14を通して連通可能とする凹部を有する第3基板15が貼り合わせられる。平板状の封止用対向基板11を用いても、第3基板15の凹部および封止空間18により内部空間の体積をより大きくすることができる。また、第3基板15の凹部内には吸湿材17が配置され、凹部内に連通する封止空間18の相対湿度を低くすることができる。さらに、第3基板15の凹部は、封止用対向基板11に凹部を形成する場合に比べて小面積でよい。これによって、EL薄膜パネル20,20Aにおいて、低コストな平板状の封止用対向基板11を用いて良好な封止性能を得ることができる。   As described above, according to the first to third embodiments, the glass substrate 1 on which the thin film EL light emitting element 10 is formed and the flat plate-shaped sealing counter substrate 11 for sealing the thin film EL light emitting element 10 are attached. The third substrate 15 having a recess that allows the through space 14 to communicate with the sealing space 18 between the glass substrate 1 and the sealing counter substrate 11 is bonded to the sealing counter substrate 11. Even if the flat counter substrate 11 for sealing is used, the volume of the internal space can be increased by the recesses of the third substrate 15 and the sealing space 18. In addition, a hygroscopic material 17 is disposed in the concave portion of the third substrate 15, and the relative humidity of the sealing space 18 communicating with the concave portion can be reduced. Further, the concave portion of the third substrate 15 may have a small area as compared to the case where the concave portion is formed in the sealing counter substrate 11. Thereby, in the EL thin-film panels 20 and 20A, good sealing performance can be obtained using the low-cost flat plate-shaped counter substrate 11 for sealing.

なお、上記実施形態1〜3では、薄膜EL素子10、特に無機薄膜EL素子を用いた例について説明したが、これに限らず、本発明では、有機薄膜EL素子、有機薄膜EL素子と無機薄膜EL素子とを組合わせた有機/無機ハイブリッド型EL素子、厚膜EL素子と薄膜EL素子とを組合わせた厚膜/薄膜ハイブリッド型EL素子などのEL素子、およびその他の発光素子を用いた発光型の表示装置に適用可能である。   In the first to third embodiments, the thin film EL element 10, particularly an example using the inorganic thin film EL element has been described. However, the present invention is not limited thereto, and in the present invention, the organic thin film EL element, the organic thin film EL element, and the inorganic thin film Light emission using an organic EL element such as an organic / inorganic hybrid EL element in combination with an EL element, an EL element such as a thick film / thin film hybrid EL element in which a thick film EL element and a thin film EL element are combined, and other light emitting elements It is applicable to a display device of a type.

また、ここで、上記実施形態1,2の変形例について説明する。   Here, modified examples of the first and second embodiments will be described.

上記実施形態1,2では、貫通孔14を、第1基板1または第2基板11を加工することにより設けたが、これに限らず、貫通孔14に代えて、第1基板1または第2基板11を固定する物質(接着材13)を一部形成しない部分を、第3基板15の凹部と封止空間18とを連通する連通空間とする場合にも本発明を適用できる。   In the first and second embodiments, the through hole 14 is provided by processing the first substrate 1 or the second substrate 11. However, the present invention is not limited to this, and the first substrate 1 or the second substrate 1 can be used instead of the through hole 14. The present invention can also be applied to a case where a portion where the substance (adhesive material 13) for fixing the substrate 11 is not partially formed is a communication space where the recess of the third substrate 15 and the sealing space 18 are communicated.

また、上記実施形態1〜3では、凹部を有する第3基板15の材質については、特に説明しなかったが、ガラス、金属および、少なくとも1層の金属層と少なくとも1層の樹脂層からなるフィルム(ラミネートフイルムまたはラミネートシートという)のいずれかを用い、これを加工して凹部を形成するようにしてもよい。   In the first to third embodiments, the material of the third substrate 15 having the recesses is not particularly described. However, the film is made of glass, metal, and at least one metal layer and at least one resin layer. Any of (laminated film or laminated sheet) may be used and processed to form a recess.

凹部を有する第3基板15は、一般的にガラスを加工したものが考えられるが、その他、金属板を絞り加工して凹部を有する形状としたものや、食品保存用として一般的に使用されている金属層を積層した樹脂フィルムを熱または圧力、その両方により金属板同様に絞り加工をして凹部を有する形状としたものなども考えられる。金属層を積層した樹脂フィルムは、金属層によって水分の遮断性に優れている。   The third substrate 15 having recesses can be generally processed glass, but in addition, a metal plate drawn into a shape having recesses and generally used for food preservation. It is also conceivable that the resin film on which the metal layers are laminated is subjected to drawing processing in the same manner as the metal plate by heat or pressure to form a shape having a recess. The resin film in which the metal layer is laminated has excellent moisture barrier properties due to the metal layer.

例えば第3の基板15を、Aガラス、B金属およびCラミネートフイルム(金属層を積層した樹脂フィルム)のいずれかとし、また、第3基板15の凹部と封止空間18とを連通する連通空間を、次の(ア)〜(ウ)のいずれかとした場合の組み合わせを次の(表2)に示している。
(ア)第1基板1または第2基板11に貫通孔14を加工する方式(穴をあけるなど)であり、連通空間は、第3基板が固定された片方の基板側に形成された貫通孔14である場合である(図6〜図8参照)。
(イ)第1基板1または第2基板11を固定する物質(接着材13)を一部形成しない(基板板厚差を補正する第4基板23を使用する)方式であり、第1基板1および第2基板11の一方上でかつその他方の基板端面側に固定された第4基板23を更に有し、第4基板23の端面に切り欠き部22が設けられ、この切り欠き部22と基板端面側間、および第1基板1と該第2基板11間の一部21に連通空間が設けられている(図9〜図11参照)。
(ウ)第1基板1または第2基板11を固定する物質(接着材13)を一部形成しない(第3基板15G〜15Iとして板厚差を補正した形状に加工)方式であり、第3基板15G〜15Iは第1基板1および第2基板11の外側表面上に固定され、連通空間は、第1基板1および第2基板11の一方の端面側と第3基板15G〜15Iのいずれかの凹部間、および第1基板1と該第2基板11間の一部21に設けられている。
For example, the third substrate 15 is any one of A glass, B metal, and C laminate film (resin film in which metal layers are laminated), and a communication space that communicates the concave portion of the third substrate 15 with the sealing space 18. The following (Table 2) shows combinations in which any one of the following (A) to (U) is used.
(A) A method of processing the through hole 14 in the first substrate 1 or the second substrate 11 (for example, making a hole), and the communication space is a through hole formed on one substrate side to which the third substrate is fixed. 14 (see FIGS. 6 to 8).
(A) A system in which a part of the substance (adhesive 13) for fixing the first substrate 1 or the second substrate 11 is not formed (the fourth substrate 23 for correcting the substrate plate thickness difference is used). And a fourth substrate 23 fixed on one side of the second substrate 11 and on the other substrate end surface side, and a notch 22 is provided on the end surface of the fourth substrate 23. Communication spaces are provided between the substrate end face sides and a part 21 between the first substrate 1 and the second substrate 11 (see FIGS. 9 to 11).
(C) A system in which a part of the substance (adhesive material 13) for fixing the first substrate 1 or the second substrate 11 is not formed (processed into a shape in which the plate thickness difference is corrected as the third substrates 15G to 15I). The substrates 15G to 15I are fixed on the outer surfaces of the first substrate 1 and the second substrate 11, and the communication space is one of the end surfaces of the first substrate 1 and the second substrate 11 and any one of the third substrates 15G to 15I. Between the first and second recesses, and a portion 21 between the first substrate 1 and the second substrate 11.

Figure 2006139971
B金属、Cラミネートフイルムは、外観的にほぼ同じため同じ図としているが、厚さが以下のように異なる。
Figure 2006139971
The B metal and the C laminate film are almost the same in appearance, and therefore the same figure is used, but the thicknesses are different as follows.

B金属は、100〜500μmのステンレス板を、金型を用い圧力を加えることで絞り加工を行い凹部を形成する(厚さが100μm以下だと強度的に弱く、500μ以上だと加工が困難)。   B metal is a stainless steel plate with a thickness of 100 to 500 μm, which is drawn by applying pressure using a die to form a recess (thickness is less than 100 μm, strength is weak, and processing over 500 μm is difficult) .

Cラミネートフイルムは、厚さが10〜100μmのPET樹脂と、厚さが10〜100μmのAL(アルミニウム)、さらに厚さが10〜100μmのPET樹脂を積層した3層構造のフィルムを金型を用い、熱と圧力を加えて絞り加工を行い凹部を形成する(PET樹脂はその厚さが10μm以下だと強度が弱く、100μm以上だと加工が困難、ALはその厚さが10μm以下だと水分の遮断性が悪く、100μm以上だと加工が困難)。   C laminate film is a three-layered film in which a PET resin with a thickness of 10 to 100 μm, AL (aluminum) with a thickness of 10 to 100 μm, and a PET resin with a thickness of 10 to 100 μm are laminated. Use, heat and pressure to draw and form recesses (PET resin is weak when its thickness is 10 μm or less, difficult to process when it is 100 μm or more, AL is 10 μm or less in thickness) The moisture barrier property is poor, and if it is 100 μm or more, processing is difficult).

図7および図8の作成方法は、図6の第3の基板15Aに対して、第3の基板15B,15Cの材質およびその板厚が異なっているだけである。   7 and 8 differ from the third substrate 15A in FIG. 6 only in the materials and thicknesses of the third substrates 15B and 15C.

図9〜図11では、第1基板1と、第2基板11および第4基板23とを固定する物質(貼り合わせに用いる接着材13)を一部形成しない部分21を設け、接着部13を開放型(図6〜図8は密封型)とし、第4基板23は第2基板11と同じ厚さであり、切削部である切り欠き部22を有する第4の基板23をスペーサ12を混合した接着材13を用いて貼り合わせ、この上に第3の基板15D,15Eまたは15Fをその凹部を内側にして貼り合せる。第1基板1と第2基板11の封止空間18は、接着材13を一部形成しない部分21と切り欠き部22からなる連通空間を通して、第3基板15D,15Eまたは15Fの凹部内に連通しかつ密閉する。   9 to 11, a portion 21 that does not partially form a substance (adhesive 13 used for bonding) that fixes the first substrate 1, the second substrate 11, and the fourth substrate 23 is provided. The fourth substrate 23 has the same thickness as the second substrate 11 and is mixed with the spacer 12 in the fourth substrate 23 having the cutout portion 22 as a cutting portion. Then, the third substrate 15D, 15E, or 15F is bonded with the concave portion inside. The sealing space 18 between the first substrate 1 and the second substrate 11 communicates with the recess of the third substrate 15D, 15E, or 15F through a communication space including a portion 21 where the adhesive 13 is not partially formed and a notch 22. And seal.

図12〜図14では、第2基板11の板厚差を考慮した形に成型した第3基板15G,15Hまたは15Iを用い、第1基板1と第2基板11間の封止空間18は、接着材13を一部形成しない部分21を通して、第3の基板15G,15Hまたは15Iの凹部内に連通しかつ密閉する。   12 to 14, the third substrate 15G, 15H, or 15I formed into a shape that takes into account the plate thickness difference of the second substrate 11 is used, and the sealing space 18 between the first substrate 1 and the second substrate 11 is: Through the portion 21 where the adhesive 13 is not partially formed, the third substrate 15G, 15H or 15I is communicated with and sealed in the concave portion of the third substrate 15G, 15H or 15I.

なお、上記各方式のコストは、B金属、Cラミネートフィルムを用いる方式は、金型と成型装置を新たに必要とするため、初期費用が必要となるが、生産量が多い場合には単価が下がる。一方、Aガラスを用いる方式は、比較的生産数量が少ない場合、B金属やCラミネートフィルムよりも価格的に有利となる。また、表2のア、イ、ウの貫通孔14を形成する方式による違いは、各基板の材料価格、歩留り、封止特性がそれぞれ異なるが、表示部の形状、大きさなどにより変動するため、製造する表示装置の特徴に合せて選択すべきである。   Note that the cost of each of the above methods is that the method using B metal and C laminate film requires a new mold and molding equipment, so initial costs are required, but the unit price is high when the production volume is large. Go down. On the other hand, the method using A glass is more advantageous in price than B metal or C laminate film when the production quantity is relatively small. In addition, the difference in the method of forming the through holes 14 of A, B, and C in Table 2 is different depending on the shape and size of the display portion, although the material price, yield, and sealing characteristics of each substrate are different. Should be selected according to the characteristics of the display device to be manufactured.

また、図15は、図1の場合において第3基板15が平面視左手前側に設けられている場合であるが、これに限らず、第3基板15が平面視左手奥側に設けられていてもよく、第3基板15が平面視右手奥側に設けられていてもよく、第3基板15が平面視右手手前側に設けられていてもよく、第3基板15が平面視左手または右手側の前後中間位置に設けられていてもよい。   Further, FIG. 15 shows the case where the third substrate 15 is provided on the left front side in plan view in the case of FIG. 1, but the present invention is not limited to this, and the third substrate 15 is provided on the back left side in plan view. Alternatively, the third substrate 15 may be provided on the back side of the right hand in plan view, the third substrate 15 may be provided on the front side of the right hand in plan view, and the third substrate 15 may be provided on the left or right hand side in plan view. It may be provided at an intermediate position before and after.

上記実施形態1,2の表示装置の製造方法に対する変形例について説明する。   A modification of the method for manufacturing the display device according to the first and second embodiments will be described.

上記実施形態1の表示装置の製造方法(変形例ア)を、
第1基板11上に発光素子10を形成する工程と、第2基板11または第1基板1に貫通孔14を形成し、第2基板11と第1基板1とを、両基板間の封止空間18内に発光素子10を有するように貼り合せる工程と、凹部を有する第3基板15と第1基板1または第2基板11とを、その凹部内が貫通孔14を通して封止空間18内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有するものとする。
The method for manufacturing the display device of the first embodiment (Modification A) is as follows.
A step of forming the light emitting element 10 on the first substrate 11; a through-hole 14 is formed in the second substrate 11 or the first substrate 1; and the second substrate 11 and the first substrate 1 are sealed between the two substrates. The step of bonding so as to have the light emitting element 10 in the space 18, and the third substrate 15 having the recess and the first substrate 1 or the second substrate 11 are placed in the sealed space 18 through the through hole 14 in the recess. And a third substrate bonding step of bonding so as to communicate and seal.

また、上記実施形態2の表示装置の製造方法(変形例ア)を、
第1基板1上に発光素子10を形成する工程と、両基板間の封止空間18内に発光素子10を有するように第2基板11と第1基板1とを貼り合せる工程と、第1基板1および第2基板11を薄板化する薄板化工程と、薄板化した第1基板1または第2基板11に貫通孔14を形成する貫通孔形成工程と、凹部を有する第3基板15と薄板化した第1基板1または第2基板11とを、凹部内が貫通孔14を通して封止空間18内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有するものとする。
Moreover, the manufacturing method (modification example A) of the display device of the second embodiment is as follows.
A step of forming the light emitting element 10 on the first substrate 1, a step of bonding the second substrate 11 and the first substrate 1 so as to have the light emitting element 10 in the sealed space 18 between the two substrates, A thinning step for thinning the substrate 1 and the second substrate 11, a through hole forming step for forming a through hole 14 in the thinned first substrate 1 or the second substrate 11, a third substrate 15 and a thin plate having recesses And a third substrate bonding step of bonding the first substrate 1 or the second substrate 11 thus formed so that the inside of the recess communicates with the sealed space 18 through the through hole 14 and is sealed.

この場合に、上記実施形態1の表示装置の製造方法の変形例イ(図9〜図11)として、
第1基板1上に発光素子10を形成する工程と、端面に切り欠き部22が設けられた第4基板23および平板状の第2基板11と第1基板1とを、切り欠き部22と第2基板11の端面とを対向させかつ、第2基板11と第1基板1間の封止空間18内に発光素子10を有すると共に、切り欠き部22と第2基板11の端面間の空間を封止空間18内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、凹部を有する第3基板15D〜15Fのいずれかと、第1基板1または第2基板11、および第4基板23とを、凹部内が、切り欠き部22と第2基板11の端面間の連通空間、および第1基板1と第2基板11間の一部21の連通空間をそれぞれ通して封止空間18内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する。
In this case, as a modification example (FIGS. 9 to 11) of the method for manufacturing the display device of the first embodiment,
The step of forming the light emitting element 10 on the first substrate 1, the fourth substrate 23 provided with the notch 22 on the end face, the flat second substrate 11 and the first substrate 1, and the notch 22 The end surface of the second substrate 11 is opposed to the light emitting element 10 in the sealing space 18 between the second substrate 11 and the first substrate 1, and the space between the notch 22 and the end surface of the second substrate 11. The step of bonding so as to leave a communication space that allows communication between the first substrate 1 and the second substrate 11, and the fourth substrate 23. The recess communicates with the sealing space 18 through the communication space between the notch 22 and the end surface of the second substrate 11 and the communication space of the part 21 between the first substrate 1 and the second substrate 11. And a third substrate laminating step for laminating and sealing To.

この変形例イ(図9〜図11)を上記実施形態2の変形例イとした場合、第1基板1上に発光素子10を形成する工程と、端面に切り欠き部22が設けられた第4基板23および平板状の第2基板11と第1基板1とを、切り欠き部11と第2基板11の端面とを対向させかつ、第2基板11と第1基板1間の封止空間18内に発光素子10を有すると共に、切り欠き部22と第2基板11の端面間の空間を封止空間18内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、第1基板1、第2基板11および第4基板23を薄板化する薄板化工程と、凹部を有する第3基板15D〜15Fのいずれかと、薄板化した第1基板1または第2基板11、および薄板化した第4基板23とを、凹部内が、切り欠き部22と第2基板11の端面間の連通空間、および第1基板1と第2基板11間の一部21の連通空間を通して封止空間18内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する。   When this modified example (FIGS. 9 to 11) is used as modified example (a) of the second embodiment, a step of forming the light emitting element 10 on the first substrate 1 and a first step in which a notch 22 is provided on the end face are provided. The sealing space between the second substrate 11 and the first substrate 1 with the four substrates 23 and the flat second substrate 11 and the first substrate 1 facing each other with the notch 11 and the end surface of the second substrate 11 facing each other. A step of bonding the first substrate 1, the first substrate 1, the first substrate 1, the first substrate 1, and the second substrate 11. The thinning step of thinning the two substrates 11 and the fourth substrate 23, any of the third substrates 15D to 15F having the recesses, the thinned first substrate 1 or the second substrate 11, and the thinned fourth substrate 23, the inside of the recess is between the notch 22 and the end face of the second substrate 11 And a third substrate bonding step of bonding so that communicates with the sealed space 18 and sealed through the communication space, and part 21 communicating the space between the first substrate 1 and second substrate 11.

また、上記実施形態1の表示装置の製造方法の変形例ウ(図12〜図14)として、
第1基板1上に発光素子10を形成する工程と、平板状の第2基板11と第1基板1とを、両基板間の封止空間18内に発光素子10を有すると共に、この封止空間18内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、凹部を有する第3基板15G〜15Iのいずれかと第1基板1および第2基板11とを、凹部内が連通空間を通して封止空間18内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する。
Further, as a modified example C (FIGS. 12 to 14) of the method of manufacturing the display device of the first embodiment,
The step of forming the light emitting element 10 on the first substrate 1, the flat plate-like second substrate 11 and the first substrate 1, the light emitting element 10 in the sealing space 18 between the two substrates, and this sealing A step of bonding so as to leave a communication space that communicates in the space 18, and any of the third substrates 15 </ b> G to 15 </ b> I having the recesses and the first substrate 1 and the second substrate 11 are sealed in the recesses through the communication space. And a third substrate laminating step for laminating so as to communicate with and be hermetically sealed.

この変形例ウ(図12〜図14)を上記実施形態2の変形例ウとした場合、
第1基板1上に発光素子10を形成する工程と、平板状の第2基板11と第1基板1とを、両基板間の封止空間18内に発光素子10を有すると共に、封止空間18内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、第1基板1および第2基板11を薄板化する薄板化工程と、凹部を有する第3基板15G〜15Iのいずれかと、薄板化した第1基板1または第2基板11とを、凹部内が連通空間を通して封止空間18内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する。
When this modified example C (FIGS. 12 to 14) is a modified example C of the second embodiment,
The step of forming the light emitting element 10 on the first substrate 1, the flat plate-like second substrate 11 and the first substrate 1, the light emitting element 10 in the sealing space 18 between both substrates, and the sealing space 18, the step of pasting so as to leave a communication space that communicates within 18, the thinning step of thinning the first substrate 1 and the second substrate 11, and any of the third substrates 15 </ b> G to 15 </ b> I having recesses, A third substrate bonding step of bonding the first substrate 1 or the second substrate 11 so that the inside of the recess communicates with the sealed space 18 through the communication space and is sealed.

以上のように、本発明の好ましい実施形態1〜3を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態1〜3に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態1〜3の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。   As mentioned above, although this invention has been illustrated using preferable Embodiment 1-3 of this invention, this invention should not be limited and limited to this Embodiment 1-3. It is understood that the scope of the present invention should be construed only by the claims. It is understood that those skilled in the art can implement an equivalent range based on the description of the present invention and the common general technical knowledge from the description of specific preferred embodiments 1 to 3 of the present invention. Patents, patent applications, and documents cited herein should be incorporated by reference in their entirety, as if the contents themselves were specifically described herein. Understood.

本発明は、例えば発光素子として無機EL素子および有機EL素子などのEL素子およびその他の発光素子を用いた発光型の表示装置およびその製造方法の分野において、平板状の封止用対向基板を用いても、第3基板の凹部によって、封止空間の体積を大きくすると共に、凹部内部に吸湿材などの吸着部材を配置して、封止空間の相対湿度を十分に低く保ち、発光素子の劣化を防ぐことができる。   The present invention uses a flat sealing counter substrate in the field of light-emitting display devices using EL elements such as inorganic EL elements and organic EL elements as light-emitting elements and other light-emitting elements and methods for manufacturing the same. However, the concave portion of the third substrate increases the volume of the sealing space, and an adsorbing member such as a hygroscopic material is disposed inside the concave portion to keep the relative humidity of the sealing space sufficiently low, thereby deteriorating the light emitting element. Can be prevented.

また、本発明の薄膜ELパネルにおいて、接着材厚みを十分に薄くすることによって、接着材部を通って侵入する水分量を少なくして、封止空間を低湿度に保つことができる。   Moreover, in the thin film EL panel of the present invention, by sufficiently reducing the thickness of the adhesive material, the amount of moisture entering through the adhesive material portion can be reduced, and the sealed space can be kept at a low humidity.

さらに、本発明の薄膜ELパネルに平面状の封止用対向基板を用いることができるため、封止性能に優れた表示装置を低コストで実現できる。   Furthermore, since a flat sealing counter substrate can be used for the thin film EL panel of the present invention, a display device having excellent sealing performance can be realized at low cost.

さらに、本発明の薄膜ELパネルを透明表示装置や曲面表示装置に適用可能であり、さらに、これらを遊技機に適用することもできる。   Furthermore, the thin film EL panel of the present invention can be applied to a transparent display device or a curved display device, and these can also be applied to a gaming machine.

本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1の構成例を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the structural example of Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. 図1の発光素子部分の構成例を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the structural example of the light emitting element part of FIG. 本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態2の構成例を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the structural example of Embodiment 2 of the thin film EL panel which concerns on this invention. 本発明の実施形態2に係る薄膜ELパネルの製造工程において、図3の第1基板および第2基板の湾曲前の形状を示す要部断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part showing the shapes of the first substrate and the second substrate of FIG. 3 before bending in the manufacturing process of the thin film EL panel according to Embodiment 2 of the present invention. 本実施形態2の曲面表示装置を本実施形態3の遊技機に適用した場合の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example at the time of applying the curved-surface display apparatus of this Embodiment 2 to the game machine of this Embodiment 3. FIG. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例1を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 1 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例2を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 2 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例3を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 3 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例4を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 4 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例5を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 5 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例6を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 6 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例7を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 7 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例8を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 8 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1に対する変形例9を模式的に示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show typically the modification 9 with respect to Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. (a)および(b)は本発明に係る薄膜ELパネルの実施形態1の変形例10を示す平面図および要部断面図である。(A) And (b) is the top view and principal part sectional drawing which show the modification 10 of Embodiment 1 of the thin film EL panel which concerns on this invention. 従来の薄膜ELパネルの要部構成例を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the principal part structural example of the conventional thin film EL panel.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1基板(ガラス基板)
2 第1透明導電パターン電極
3 第1絶縁層
4 発光層
5 第2絶縁層
6 第2透明導電体パターン電極
7 交流電圧源
10 薄膜EL発光素子
11 第2基板(封止用対向基板)
12,16 スペーサ材
13 接着材
14 貫通孔
15,15A〜15I 第3基板
17 吸湿材
18 封止空間
20、20A 薄膜ELパネル
30 遊戯機
31 回転体
21 接着材13を一部形成しない部分
22 切り欠き部
23 第4の基板
1 First substrate (glass substrate)
2 1st transparent conductive pattern electrode 3 1st insulating layer 4 light emitting layer 5 2nd insulating layer 6 2nd transparent conductor pattern electrode 7 AC voltage source 10 thin film EL light emitting element 11 2nd board | substrate (opposite board | substrate for sealing)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 12,16 Spacer material 13 Adhesive material 14 Through-hole 15,15A-15I 3rd board | substrate 17 Hygroscopic material 18 Sealing space 20, 20A Thin film EL panel 30 Game machine 31 Rotating body 21 Portion which does not form one part of adhesive material 22 Cutting Notch 23 Fourth substrate

Claims (35)

表面上に発光素子が形成された第1基板と平板状の第2基板とが互いに対向して、両基板間の封止空間内に該発光素子を有するように固定され、
凹部を有する第3基板が、該凹部を内側にして該第1基板および該第2基板のうち少なくともいずれかの外側表面上に該凹部内を封止するように固定され、
該第3基板が固定された片方の基板側または当該基板の端面側に、該封止空間と該凹部内とを連通させる連通空間が設けられている表示装置。
A first substrate having a light emitting element formed on the surface and a flat plate-like second substrate are opposed to each other and fixed so as to have the light emitting element in a sealed space between the two substrates.
A third substrate having a recess is fixed to seal the inside of the recess on the outer surface of at least one of the first substrate and the second substrate with the recess as an inside;
A display device, wherein a communication space for communicating the sealing space and the inside of the recess is provided on one substrate side to which the third substrate is fixed or on an end surface side of the substrate.
前記連通空間は、前記第3基板が固定された片方の基板側に形成された貫通孔である請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the communication space is a through hole formed on one substrate side to which the third substrate is fixed. 前記第1基板および前記第2基板の一方上でかつその他方の前記基板端面側に固定された第4基板を更に有し、該第4基板の端面に切り欠き部が設けられ、該切り欠き部と該基板端面側間、および該第1基板と該第2基板間の一部に前記連通空間が設けられている請求項1に記載の表示装置。   And further including a fourth substrate fixed on one of the first substrate and the second substrate and on the other side of the substrate end surface, the notch portion being provided on the end surface of the fourth substrate, the notch The display device according to claim 1, wherein the communication space is provided between a portion and the substrate end face side and a part between the first substrate and the second substrate. 前記第3基板は前記第1基板および該第2基板の外側表面上に固定され、前記連通空間は、該第1基板および該第2基板の一方の端面側と該第3基板の凹部間、および該第1基板と該第2基板間の一部に設けられている請求項1に記載の表示装置。   The third substrate is fixed on the outer surfaces of the first substrate and the second substrate, and the communication space is between one end face side of the first substrate and the second substrate and the concave portion of the third substrate, The display device according to claim 1, wherein the display device is provided in a part between the first substrate and the second substrate. 前記第3基板は、ガラス、金属および、金属層を積層した樹脂フィルムのいずれかである請求項1〜4のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the third substrate is one of glass, metal, and a resin film in which a metal layer is laminated. 前記金属および、金属層を積層した樹脂フィルムのいずれかは絞り加工が施されて前記凹部が形成されている請求項5に記載の表示装置。   The display device according to claim 5, wherein either the metal or the resin film on which the metal layer is laminated is subjected to a drawing process to form the concave portion. 前記発光素子は、無機薄膜EL(Electro luminescence)素子、有機薄膜EL素子、有機/無機ハイブリッド型EL素子または厚膜/薄膜ハイブリッド型EL素子である請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the light-emitting element is an inorganic thin film EL (Electro Luminescence) element, an organic thin film EL element, an organic / inorganic hybrid EL element, or a thick film / thin film hybrid EL element. 前記第3基板の凹部内に、特定物質を吸着する吸着物質が配置されている請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein an adsorbing substance that adsorbs the specific substance is disposed in the concave portion of the third substrate. 前記吸着物質は、前記特定物質として水分および酸素のうち少なくとも水分を吸着する材料である請求項8に記載の表示装置。   The display device according to claim 8, wherein the adsorbing substance is a material that adsorbs at least water out of moisture and oxygen as the specific substance. 前記吸着物質は、吸湿材または乾燥材である請求項8または9に記載の表示装置。   The display device according to claim 8, wherein the adsorbing substance is a hygroscopic material or a desiccant. 前記吸着物質は、シリカゲル、ゼオライト、活性アルミナ、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化マグネシウムの少なくともいずれかである請求項8〜10のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to claim 8, wherein the adsorbing substance is at least one of silica gel, zeolite, activated alumina, calcium oxide, strontium oxide, and magnesium oxide. 前記第1基板と前記第2基板とは、径が1μm以上20μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている請求項1に記載の表示装置。   2. The display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are bonded together by an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 1 μm to 20 μm. 前記第1基板と前記第2基板とは、径が3μm以上10μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている請求項1に記載の表示装置。   2. The display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are bonded to each other with an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 3 μm to 10 μm. 前記第3基板と前記第1基板または前記第2基板とは、径が1μm以上20μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the third substrate and the first substrate or the second substrate are bonded to each other with an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 1 μm to 20 μm. 前記第3基板と前記第1基板または前記第2基板とは、径が3μm以上10μm以下のスペーサが混合された接着材によって貼り合わされている請求項1に記載の表示装置。   2. The display device according to claim 1, wherein the third substrate and the first substrate or the second substrate are bonded to each other with an adhesive mixed with a spacer having a diameter of 3 μm to 10 μm. 前記スペーサがビーズ形状である請求項12〜15のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to claim 12, wherein the spacer has a bead shape. 前記第3基板と前記第1基板または前記第2基板とが、UV(紫外線)硬化型接着材によって貼り合わされている請求項1、14および15のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the third substrate and the first substrate or the second substrate are bonded together by a UV (ultraviolet) curable adhesive. 前記接着材はエポキシ系接着材である請求項12〜15および17のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to claim 12, wherein the adhesive is an epoxy adhesive. 前記第3基板の凹部の深さが0.05mm以上1.00mm以下に設定されている請求項1、8、14、15および17のいずれかに記載の表示装置。   18. The display device according to claim 1, wherein the depth of the concave portion of the third substrate is set to 0.05 mm or more and 1.00 mm or less. 前記第3基板の凹部の深さが0.1mm以上1.00mm以下に設定されている請求項1、8、14、15および17のいずれかに記載の表示装置。   18. The display device according to claim 1, wherein a depth of the concave portion of the third substrate is set to 0.1 mm or more and 1.00 mm or less. 前記第1基板および前記第2基板が湾曲して表示部が曲面である請求項1、12〜15および17のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are curved and the display unit is a curved surface. 前記第3基板は、前記第1基板または前記第2基板の端部の表面上に固定され、該第1基板および第2基板は該第3基板が配置されていない部分で湾曲されている請求項21に記載の表示装置。   The third substrate is fixed on a surface of an end portion of the first substrate or the second substrate, and the first substrate and the second substrate are curved at a portion where the third substrate is not disposed. Item 22. The display device according to Item 21. 前記第1基板および前記第2基板の厚みが0.01mm以上0.3mm以下に設定されている請求項1、21および22のいずれかに記載の表示装置。   23. The display device according to claim 1, wherein the thickness of the first substrate and the second substrate is set to 0.01 mm or more and 0.3 mm or less. 前記第1基板および前記第2基板の厚みが0.05mm以上0.2mm以下に設定されている請求項1、21および22のいずれかに記載の表示装置。   23. The display device according to claim 1, wherein the thickness of the first substrate and the second substrate is set to 0.05 mm or more and 0.2 mm or less. 前記第1基板と前記第2基板間の封止空間内に特定ガスが充填されている請求項1、12〜15、17および21〜24のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to any one of claims 1, 12 to 15, 17 and 21 to 24, wherein a specific gas is filled in a sealed space between the first substrate and the second substrate. 前記特定ガスは、乾燥空気、窒素ガスおよび不活性ガスの少なくともいずれかである請求項25に記載の表示装置。   The display device according to claim 25, wherein the specific gas is at least one of dry air, nitrogen gas, and inert gas. 第1基板上に発光素子を形成する工程と、
第2基板または該第1基板に貫通孔を形成し、該第2基板と該第1基板とを、両基板間の封止空間内に該発光素子を有するように貼り合せる工程と、
凹部を有する第3基板と該第1基板または該第2基板とを、該凹部内が該貫通孔を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する表示装置の製造方法。
Forming a light emitting element on the first substrate;
Forming a through hole in the second substrate or the first substrate, and bonding the second substrate and the first substrate so as to have the light emitting element in a sealed space between the substrates;
A third substrate bonding step of bonding a third substrate having a recess and the first substrate or the second substrate so that the inside of the recess communicates with the sealed space through the through hole and is sealed. A method for manufacturing a display device.
第1基板上に前記発光素子を形成する工程と、
両基板間の封止空間内に該発光素子を有するように第2基板と該第1基板とを貼り合せる工程と、
該第1基板および該第2基板を薄板化する薄板化工程と、
薄板化した第1基板または第2基板に貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
凹部を有する第3基板と薄板化した第1基板または第2基板とを、該凹部内が該貫通孔を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する表示装置の製造方法。
Forming the light emitting element on a first substrate;
Bonding the second substrate and the first substrate so as to have the light emitting element in the sealed space between the two substrates;
A thinning step of thinning the first substrate and the second substrate;
A through hole forming step of forming a through hole in the thinned first substrate or the second substrate;
A third substrate bonding step in which the third substrate having the recess and the thinned first substrate or the second substrate are bonded so that the inside of the recess is communicated with and sealed in the sealing space through the through hole; A method for manufacturing a display device.
第1基板上に発光素子を形成する工程と、
端面に切り欠き部が設けられた第4基板および平板状の第2基板と該第1基板とを、該切り欠き部と該第2基板の端面とを対向させかつ、該第2基板と該第1基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該切り欠き部と該第2基板の端面間の空間を該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、
凹部を有する第3基板と、該第1基板または該第2基板、および該第4基板とを、該凹部内が、該切り欠き部と該第2基板の端面間の連通空間、および該第1基板と該第2基板間の一部の連通空間をそれぞれ通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する表示装置の製造方法。
Forming a light emitting element on the first substrate;
A fourth substrate having a notch on the end surface, a flat plate-like second substrate, and the first substrate, the notch and the end surface of the second substrate facing each other, and the second substrate and the second substrate A step of having the light emitting element in the sealed space between the first substrates, and bonding so as to leave a communication space that communicates the space between the notch and the end surface of the second substrate in the sealed space; ,
The third substrate having a recess, the first substrate or the second substrate, and the fourth substrate, the inside of the recess, the communication space between the cutout and the end surface of the second substrate, and the second substrate A method of manufacturing a display device, comprising: a third substrate bonding step in which a part of the communication space between one substrate and the second substrate is passed and bonded so as to communicate with and be sealed in the sealing space.
第1基板上に前記発光素子を形成する工程と、
端面に切り欠き部が設けられた第4基板および平板状の第2基板と該第1基板とを、該切り欠き部と該第2基板の端面とを対向させかつ、該第2基板と該第1基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該切り欠き部と該第2基板の端面間の空間を該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、
該第1基板、該第2基板および該第4基板を薄板化する薄板化工程と、
凹部を有する第3基板と、薄板化した第1基板または第2基板、および薄板化した第4基板とを、該凹部内が、該切り欠き部と該第2基板の端面間の連通空間、および該第1基板と該第2基板間の一部の連通空間を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する表示装置の製造方法。
Forming the light emitting element on a first substrate;
A fourth substrate having a notch on the end surface, a flat plate-like second substrate, and the first substrate, the notch and the end surface of the second substrate facing each other, and the second substrate and the second substrate A step of having the light emitting element in the sealed space between the first substrates, and bonding so as to leave a communication space that communicates the space between the notch and the end surface of the second substrate in the sealed space; ,
A thinning step of thinning the first substrate, the second substrate, and the fourth substrate;
A communication space between the notch and the end surface of the second substrate, the third substrate having a recess, the first or second substrate made thin, and the fourth substrate made thin; And a third substrate bonding step in which the first substrate and the second substrate are bonded to each other through the communication space between the first substrate and the second substrate so as to communicate with and be sealed in the sealed space.
第1基板上に発光素子を形成する工程と、
平板状の第2基板と該第1基板とを、両基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、
凹部を有する第3基板と該第1基板および該第2基板とを、該凹部内が該連通空間を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する表示装置の製造方法。
Forming a light emitting element on the first substrate;
Bonding the flat second substrate and the first substrate so as to have the light emitting element in the sealing space between the two substrates and leave a communication space communicating with the sealing space;
A third substrate bonding step of bonding a third substrate having a recess, the first substrate, and the second substrate so that the inside of the recess communicates and seals with the sealed space through the communication space. A method for manufacturing a display device.
第1基板上に前記発光素子を形成する工程と、
平板状の第2基板と該第1基板とを、両基板間の封止空間内に該発光素子を有すると共に、該封止空間内に連通させる連通空間を残すように貼り合せる工程と、
該第1基板および該第2基板を薄板化する薄板化工程と、
凹部を有する第3基板と、薄板化した第1基板または第2基板とを、該凹部内が該連通空間を通して該封止空間内に連通しかつ密閉するように貼り合せる第3基板貼り合せ工程とを有する表示装置の製造方法。
Forming the light emitting element on a first substrate;
Bonding the flat second substrate and the first substrate so as to have the light emitting element in the sealing space between the two substrates and leave a communication space communicating with the sealing space;
A thinning step of thinning the first substrate and the second substrate;
A third substrate bonding step of bonding the third substrate having a recess and the thinned first substrate or the second substrate so that the inside of the recess communicates and seals with the sealing space through the communication space. A method for manufacturing a display device.
前記第3基板貼り合せ工程後に、前記第1基板および前記第2基板を所定の曲面に湾曲させる工程を更に有する請求項28、30および32のいずれかに記載の表示装置の製造方法。   33. The method for manufacturing a display device according to claim 28, further comprising a step of bending the first substrate and the second substrate into a predetermined curved surface after the third substrate bonding step. 前記薄板化工程は、化学的エッチングにより前記第1基板および前記第2基板を薄板化する請求項28、30および32のいずれかに記載の表示装置の製造方法。   33. The method for manufacturing a display device according to claim 28, wherein the thinning step comprises thinning the first substrate and the second substrate by chemical etching. 前記貫通孔形成工程は、レーザ照射により前記第1基板または前記第2基板の所定位置に貫通孔を形成する請求項27または28に記載の表示装置の製造方法。   29. The method for manufacturing a display device according to claim 27, wherein the through hole forming step forms a through hole at a predetermined position of the first substrate or the second substrate by laser irradiation.
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