JP2006135193A - Layout of pass transistor logic circuit and semiconductor device equipped therewith - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、パストランジスタ論理回路のレイアウト、及びパストランジスタ論理回路を備えた半導体装置に関するものである。 The present invention relates to a layout of a pass transistor logic circuit and a semiconductor device including the pass transistor logic circuit.
従来、半導体装置に構築された論理回路の一形態として、MOSトランジスタを入力信号の選択スイッチとして用いて論理を構成するパストランジスタ論理回路が知られている(例えば、特許文献1参照。)。 2. Description of the Related Art Conventionally, as one form of a logic circuit constructed in a semiconductor device, a pass transistor logic circuit that configures logic using a MOS transistor as an input signal selection switch is known (see, for example, Patent Document 1).
特に、このパストランジスタ論理回路では、選択スイッチとしてn型MOSトランジスタを用いることによって、CMOS論理と比較してより少数のトランジスタで同機能の論理回路を実現可能であることが知られており、トランジスタの数の削減にともなって論理回路のレイアウト面積や消費電力の低減、及び動作速度の向上が図れることが期待されている。 In particular, in this pass transistor logic circuit, it is known that by using an n-type MOS transistor as a selection switch, a logic circuit having the same function can be realized with a smaller number of transistors compared to CMOS logic. It is expected that the layout area and power consumption of the logic circuit can be reduced and the operation speed can be improved with the reduction in the number of logic circuits.
このようなパストランジスタ論理回路では、基本的な回路としてn型MOSトランジスタをツリー構造となるように接続した回路を多用している。 In such a pass transistor logic circuit, a circuit in which n-type MOS transistors are connected in a tree structure is often used as a basic circuit.
ツリー構造とは、1つのn型MOSトランジスタのソースに、他の2つのn型MOSトランジスタのドレインを接続した構造であり、特に、6つのn型MOSトランジスタをツリー構造となるように接続した論理回路が基本回路として用いられることが多い。 The tree structure is a structure in which the drains of two other n-type MOS transistors are connected to the source of one n-type MOS transistor, and in particular, a logic in which six n-type MOS transistors are connected in a tree structure. Circuits are often used as basic circuits.
すなわち、基本回路では、図2に示すように、1つの出力端に第1n型MOSトランジスタ100のドレインと、第2n型MOSトランジスタ200のドレインとを接続し、第1n型MOSトランジスタ100のソースに第3n型MOSトランジスタ300のドレインと第4n型MOSトランジスタ400のドレインとを接続するとともに、第2n型MOSトランジスタ200のソースに第5n型MOSトランジスタ500のドレインと第6n型MOSトランジスタ600のドレインとを接続し、第3〜6n型MOSトランジスタ300,400,500,600のソース側を入力端として、4入力1出力とした基本回路を構成していた。
That is, in the basic circuit, as shown in FIG. 2, the drain of the first n-
このように4入力1出力とした基本回路を構成する場合には、6つのn型MOSトランジスタを素子分離構造によって個別に分離しながらそれぞれ所定位置に設け、各n型MOSトランジスタのソースとドレインとを接続する接続配線の配置を調整することによりツリー構造となるように接続していた。
しかしながら、上記したように基本回路を構成する各MOSトランジスタの間に素子分離構造を設けた場合には、MOSトランジスタ間の間隔寸法が比較的大きくなることによって、CMOS論理による同等の論理回路と比較してレイアウト面積が大きくなるという問題があり、パストランジスタ論理回路において期待されていたレイアウト面積の低減効果がスポイルされていた。 However, when the element isolation structure is provided between the MOS transistors constituting the basic circuit as described above, the distance between the MOS transistors is relatively large, so that it is compared with an equivalent logic circuit based on CMOS logic. As a result, there is a problem that the layout area becomes large, and the effect of reducing the layout area expected in the pass transistor logic circuit is spoiled.
本発明者はこのような現状に鑑み、6つのMOSトランジスタを用いて構築する基本回路をよりコンパクトに形成可能なレイアウトを研究開発し、本発明を成すに至ったものである。 In view of this situation, the present inventor has researched and developed a layout capable of forming a basic circuit constructed using six MOS transistors in a more compact manner, and has achieved the present invention.
本発明では、第1境界線と、第2境界線と、第3境界線と、第4境界線とで囲まれた略矩形状の拡散層を設け、この拡散層の略中央部に出力端子を設け、この出力端子の第2境界線側に、第1境界線を横断するとともに第3境界線を横断する第1ゲートを設け、出力端子の第4境界線側に、第1境界線を横断するとともに第3境界線を横断する第2ゲートを設け、第1ゲートと第2境界線との間において第1境界線を横断するとともに第2境界線を横断する第3ゲートを設け、第1ゲートと第2境界線との間において第3境界線を横断するとともに第2境界線を横断する第4ゲートを設け、第2ゲートと第4境界線との間において第1境界線を横断するとともに第4境界線を横断する第5ゲートを設け、第2ゲートと第4境界線との間において第3境界線を横断するとともに第4境界線を横断する第6ゲートを設け、第1境界線と第2境界線と第3ゲートによって囲まれた領域に第1入力端子を設け、第3境界線と第2境界線と第4ゲートによって囲まれた領域に第2入力端子を設け、第3境界線と第4境界線と第6ゲートによって囲まれた領域に第3入力端子を設け、第1境界線と第4境界線と第5ゲートによって囲まれた領域に第4入力端子を設けたパストランジスタ論理回路のレイアウトとした。 In the present invention, a substantially rectangular diffusion layer surrounded by the first boundary line, the second boundary line, the third boundary line, and the fourth boundary line is provided, and an output terminal is provided at a substantially central portion of the diffusion layer. And a first gate that crosses the first boundary line and the third boundary line is provided on the second boundary line side of the output terminal, and the first boundary line is provided on the fourth boundary line side of the output terminal. A second gate that crosses and crosses the third boundary line, a third gate that crosses the first boundary line and crosses the second boundary line between the first gate and the second boundary line, and A fourth gate that crosses the third boundary line and crosses the second boundary line between the first gate and the second boundary line is provided, and the first boundary line is crossed between the second gate and the fourth boundary line. And a fifth gate that crosses the fourth boundary line is provided, and is interposed between the second gate and the fourth boundary line. A sixth gate that crosses the third boundary line and crosses the fourth boundary line is provided, a first input terminal is provided in a region surrounded by the first boundary line, the second boundary line, and the third gate, and the third boundary A second input terminal is provided in a region surrounded by the line, the second boundary line, and the fourth gate; a third input terminal is provided in a region surrounded by the third boundary line, the fourth boundary line, and the sixth gate; The layout of the pass transistor logic circuit is such that the fourth input terminal is provided in a region surrounded by the first boundary line, the fourth boundary line, and the fifth gate.
また、このレイアウトとしたパストランジスタ論理回路を備えた半導体装置とした。 In addition, a semiconductor device including the pass transistor logic circuit having this layout was obtained.
本発明によれば、第1境界線と、第2境界線と、第3境界線と、第4境界線とで囲まれた略矩形状の拡散層を設け、この拡散層の略中央部に出力端子を設け、この出力端子の第2境界線側に、第1境界線を横断するとともに第3境界線を横断する第1ゲートを設け、出力端子の第4境界線側に、第1境界線を横断するとともに第3境界線を横断する第2ゲートを設け、第1ゲートと第2境界線との間において第1境界線を横断するとともに第2境界線を横断する第3ゲートを設け、第1ゲートと第2境界線との間において第3境界線を横断するとともに第2境界線を横断する第4ゲートを設け、第2ゲートと第4境界線との間において第1境界線を横断するとともに第4境界線を横断する第5ゲートを設け、第2ゲートと第4境界線との間において第3境界線を横断するとともに第4境界線を横断する第6ゲートを設け、第1境界線と第2境界線と第3ゲートによって囲まれた領域に第1入力端子を設け、第3境界線と第2境界線と第4ゲートによって囲まれた領域に第2入力端子を設け、第3境界線と第4境界線と第6ゲートによって囲まれた領域に第3入力端子を設け、第1境界線と第4境界線と第5ゲートによって囲まれた領域に第4入力端子を設けたレイアウトのパストランジスタ論理回路とすることにより、パストランジスタ論理回路をよりコンパクトに形成可能とすることができ、論理回路のレイアウト面積を大きく削減できる。 According to the present invention, the substantially rectangular diffusion layer surrounded by the first boundary line, the second boundary line, the third boundary line, and the fourth boundary line is provided, and the diffusion layer has a substantially central portion. An output terminal is provided, a first gate that crosses the first boundary line and crosses the third boundary line is provided on the second boundary side of the output terminal, and a first boundary is provided on the fourth boundary side of the output terminal. A second gate that crosses the line and crosses the third boundary line is provided, and a third gate that crosses the first boundary line and crosses the second boundary line is provided between the first gate and the second boundary line. A fourth gate is provided that crosses the third boundary line between the first gate and the second boundary line and crosses the second boundary line, and the first boundary line is provided between the second gate and the fourth boundary line. And a fifth gate that crosses the fourth boundary line and between the second gate and the fourth boundary line. A sixth gate that crosses the third boundary line and the fourth boundary line is provided, a first input terminal is provided in a region surrounded by the first boundary line, the second boundary line, and the third gate; A second input terminal is provided in a region surrounded by the boundary line, the second boundary line, and the fourth gate, and a third input terminal is provided in a region surrounded by the third boundary line, the fourth boundary line, and the sixth gate, By forming a pass transistor logic circuit having a layout in which a fourth input terminal is provided in a region surrounded by the first boundary line, the fourth boundary line, and the fifth gate, the pass transistor logic circuit can be formed more compactly. The layout area of the logic circuit can be greatly reduced.
さらにこのようなレイアウトとしたパストランジスタ論理回路を備えた半導体装置とすることによって、パストランジスタ論理回路が有している論理回路のレイアウト面積や消費電力の低減、及び動作速度の向上といった効果が阻害されることを抑制でき、レイアウト面積や消費電力を低減させ、動作速度を向上させた半導体装置を提供できる。 Furthermore, the semiconductor device including the pass transistor logic circuit having such a layout obstructs the effects of reducing the layout area, power consumption, and operating speed of the logic circuit included in the pass transistor logic circuit. Thus, it is possible to provide a semiconductor device in which the layout area and power consumption are reduced and the operation speed is improved.
本発明のパストランジスタ論理回路のレイアウト、及びこのパストランジスタ論理回路を備えた半導体装置では、6つのMOSトランジスタで論理回路を構成しているものであって、6つのMOSトランジスタの各拡散層を一体的に構成しているものである。 In the layout of the pass transistor logic circuit of the present invention and the semiconductor device provided with this pass transistor logic circuit, the logic circuit is composed of six MOS transistors, and each diffusion layer of the six MOS transistors is integrated. It is what constitutes.
すなわち、半導体基板の所要の位置に第1境界線と、第2境界線と、第3境界線と、第4境界線とで囲まれた略矩形状の拡散層を設け、この拡散層の略中央部に出力端子を設けるとともに、四隅部分にそれぞれ第1〜4入力端子を設け、出力端子の第2境界線側に第1ゲートを、出力端子の第4境界線側に第2ゲートを設け、第1ゲートと第1入力端子との間に第3ゲートを設け、第1ゲートと第2入力端子との間に第4ゲートを設け、第2ゲートと第3入力端子との間に第6ゲートを設け、第2ゲートと第4入力端子との間に第5ゲートを設けて6つのMOSトランジスタを構成している。 That is, a substantially rectangular diffusion layer surrounded by the first boundary line, the second boundary line, the third boundary line, and the fourth boundary line is provided at a required position of the semiconductor substrate. An output terminal is provided at the center, first to fourth input terminals are provided at the four corners, a first gate is provided on the second boundary side of the output terminal, and a second gate is provided on the fourth boundary side of the output terminal. A third gate is provided between the first gate and the first input terminal, a fourth gate is provided between the first gate and the second input terminal, and a second gate is provided between the second gate and the third input terminal. Six gates are provided, and a fifth gate is provided between the second gate and the fourth input terminal to constitute six MOS transistors.
このように構成することによって、パストランジスタ論理回路の基本回路をコンパクトに構成することができる。しかも、パストランジスタ論理回路が有している論理回路のレイアウト面積や消費電力の低減、及び動作速度の向上といった効果が阻害されることを抑制でき、レイアウト面積や消費電力を低減させ、動作速度を向上させた半導体装置を提供できる。 With this configuration, the basic circuit of the pass transistor logic circuit can be configured in a compact manner. In addition, the effects of reducing the layout area and power consumption of the pass transistor logic circuit and improving the operation speed can be suppressed, reducing the layout area and power consumption, and reducing the operation speed. An improved semiconductor device can be provided.
以下において、図面に基づいて本発明の実施形態を詳説する。図1は、本実施形態の半導体装置に設けたパストランジスタ論理回路の単位回路部であって、この単位回路部は6つのMOSトランジスタで構成しており、図2に示す回路図のレイアウトを示している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a unit circuit portion of a pass transistor logic circuit provided in the semiconductor device of the present embodiment. This unit circuit portion is composed of six MOS transistors, and shows a layout of the circuit diagram shown in FIG. ing.
特に本実施形態では、6つのMOSトランジスタはそれぞれn型MOSトランジスタであって、半導体基板10にそれぞれの拡散層20を一体的に構成している。
In particular, in the present embodiment, the six MOS transistors are n-type MOS transistors, and the
すなわち、拡散層20は、半導体基板10の上面に矩形状に開口したレジストマスク(図示せず)を設けてp型不純物を注入することによりp型ウエル構造として形成しており、互いに略直交する4本の第1境界線21と、第2境界線22と、第3境界線23と、第4境界線24とで囲まれた略矩形状としている。
That is, the
このように形成した略矩形状の拡散層20の略中央部には出力端子30を設けるとともに、拡散層20の四隅にはそれぞれ第1入力端子31と、第2入力端子32と、第3入力端子33と、第4入力端子34とを設けている。
An
出力端子30及び第1〜4入力端子31〜34は、拡散層20の所定位置にそれぞれn型不純物を注入して形成している。
The
そして、出力端子30の第2境界線22側における拡散層20の上面には、第1境界線21を横断するとともに第3境界線23を横断する帯状の第1ゲート41を設け、さらに、出力端子30の第4境界線24側における拡散層20の上面には、第1境界線21を横断するとともに第3境界線23を横断する帯状の第2ゲート42を設けている。すなわち、出力端子30は、第1ゲート41と、第2ゲート42と、第1境界線21と、第3境界線23とで囲まれた形状としている。
A strip-shaped first gate 41 is provided on the upper surface of the
なお、第1ゲート41及び第2ゲート42は必ずしも直線状となっている必要はなく、適宜の曲線形状となっていてもよい。
The first gate 41 and the
さらに、第1ゲート41と第2境界線22との間における拡散層20の上面には、第1境界線21を横断するとともに第2境界線22を横断する帯状の第3ゲート43を設け、第1入力端子31は、第1境界線21と第2境界線22と第3ゲート43によって囲まれた領域に設けるようにしている。
Further, on the upper surface of the
また、第1ゲート41と第2境界線22との間における拡散層20の上面には、第3境界線23を横断するとともに第2境界線22を横断する帯状の第4ゲート44を設け、第2入力端子32は、第3境界線23と第2境界線22と第4ゲート44によって囲まれた領域に設けるようにしている。
Further, on the upper surface of the
また、第2ゲート42と第4境界線24との間における拡散層20の上面には、第1境界線21を横断するとともに第4境界線24を横断する帯状の第5ゲート45を設け、第4入力端子34は、第1境界線21と第4境界線24と第5ゲート45によって囲まれた領域に設けるようにしている。
In addition, on the upper surface of the
また、第2ゲート42と第4境界線24との間における拡散層20の上面には、第3境界線23を横断するとともに第4境界線24を横断する帯状の第6ゲート46を設け、第3入力端子33は、第3境界線23と第4境界線24と第6ゲート46によって囲まれた領域に設けるようにしている。
Further, on the upper surface of the
本実施形態では、第3〜6ゲート43〜46はそれぞれ円弧状としているが必ずしも円弧状である必要はなく、適宜の形状としてよい。なお、当然ながら、第3ゲート43と第4ゲート44とは互いに交差しないようにしており、第5ゲート45と第6ゲート46も互いに交差しないようにしている。
In the present embodiment, each of the third to
第1ゲート41、第2ゲート42、第3ゲート43、第4ゲート44、第5ゲート45、第6ゲート46のいずれか一方の端部には配線接続用の第1接続端子41a、第2接続端子42a、第3接続端子43a、第4接続端子44a、第5接続端子45a、第6接続端子46aをそれぞれ設けている。
One end of any of the first gate 41, the
上記したように第1〜6ゲート41〜46を設けるとともに、出力端子30及び第1〜4入力端子31〜34を設けることによって、6つのn型MOSトランジスタの各拡散層を一体的に構成することができ、パストランジスタ論理回路をコンパクトに構成することができる。
As described above, the first to sixth gates 41 to 46 are provided, and the
したがって、このようなレイアウトのパストランジスタ論理回路を半導体基板に形成して半導体装置を形成することにより、パストランジスタ論理回路が有している論理回路のレイアウト面積や消費電力の低減、及び動作速度の向上といった効果を阻害することを防止でき、レイアウト面積や消費電力を低減させ、動作速度を向上させた半導体装置を提供できる。 Therefore, by forming a pass transistor logic circuit having such a layout on a semiconductor substrate to form a semiconductor device, the layout area and power consumption of the logic circuit included in the pass transistor logic circuit can be reduced, and the operation speed can be reduced. It is possible to provide a semiconductor device that can prevent the improvement effect from being hindered, reduce the layout area and power consumption, and improve the operation speed.
上記した実施形態では、拡散層20を略矩形形状としているが、必ずしも矩形形状に限定するものではなく、略中央部に出力端子30を設け、この出力端子30の周囲に第1〜4入力端子31〜34をそれぞれ配置して、出力端子30と第1入力端子31との間に第1ゲート41と第3ゲート43とを設け、出力端子30と第2入力端子32との間に第1ゲート41と第4ゲート44とを設け、出力端子30と第3入力端子33との間に第2ゲート42と第6ゲート46とを設け、出力端子30と第4入力端子34との間に第2ゲート42と第5ゲート45とを設けた構造となっていれば、拡散層20を例えば円形状に形成してもよい。
In the above-described embodiment, the
また、出力端子30は必ずしも拡散層20の略中央部に設ける場合だけでなく、略中央部から偏倚した場所に設けてもよい。ただし、出力端子30から第1入力端子31までの距離と、出力端子30から第2入力端子32までの距離と、出力端子30から第3入力端子33までの距離と、出力端子30から第4入力端子34までの距離はそれぞれ略一致させて形成することが望ましい。
Further, the
また、上記した実施形態では、パストランジスタ論理回路をn型MOSトランジスタで構成しているが、p型MOSトランジスタで構成してもよく、その場合、拡散層20をn型とし、出力端子30及び第1〜4入力端子31〜34をp型とすればよい。
In the above-described embodiment, the pass transistor logic circuit is configured by an n-type MOS transistor, but may be configured by a p-type MOS transistor. In this case, the
10 半導体基板
20 拡散層
21 第1境界線
22 第2境界線
23 第3境界線
24 第4境界線
30 出力端子
31 第1入力端子
32 第2入力端子
33 第3入力端子
34 第4入力端子
41 第1ゲート
42 第2ゲート
43 第3ゲート
44 第4ゲート
45 第5ゲート
46 第6ゲート
10 Semiconductor substrate
20 Diffusion layer
21 First boundary line
22 Second boundary line
23 Third boundary
24 Fourth boundary line
30 output terminals
31 1st input terminal
32 2nd input terminal
33 3rd input terminal
34 4th input terminal
41 Gate 1
42 Gate 2
43 Gate 3
44 Gate 4
45 Gate 5
46 Gate 6
Claims (2)
この拡散層の略中央部に出力端子を設け、
この出力端子の前記第2境界線側に、前記第1境界線を横断するとともに前記第3境界線を横断する第1ゲートを設け、
前記出力端子の前記第4境界線側に、前記第1境界線を横断するとともに前記第3境界線を横断する第2ゲートを設け、
前記第1ゲートと前記第2境界線との間において前記第1境界線を横断するとともに前記第2境界線を横断する第3ゲートを設け、
前記第1ゲートと前記第2境界線との間において前記第3境界線を横断するとともに前記第2境界線を横断する第4ゲートを設け、
前記第2ゲートと前記第4境界線との間において前記第1境界線を横断するとともに前記第4境界線を横断する第5ゲートを設け、
前記第2ゲートと前記第4境界線との間において前記第3境界線を横断するとともに前記第4境界線を横断する第6ゲートを設け、
前記第1境界線と前記第2境界線と前記第3ゲートによって囲まれた領域に第1入力端子を設け、
前記第3境界線と前記第2境界線と前記第4ゲートによって囲まれた領域に第2入力端子を設け、
前記第3境界線と前記第4境界線と前記第6ゲートによって囲まれた領域に第3入力端子を設け、
前記第1境界線と前記第4境界線と前記第5ゲートによって囲まれた領域に第4入力端子を設けたパストランジスタ論理回路のレイアウト。 A substantially rectangular diffusion layer surrounded by the first boundary line, the second boundary line, the third boundary line, and the fourth boundary line;
An output terminal is provided at substantially the center of this diffusion layer,
A first gate that crosses the first boundary line and the third boundary line is provided on the second boundary line side of the output terminal,
A second gate that crosses the first boundary line and crosses the third boundary line on the fourth boundary line side of the output terminal;
Providing a third gate that crosses the first boundary line and the second boundary line between the first gate and the second boundary line;
Providing a fourth gate that crosses the third boundary line and the second boundary line between the first gate and the second boundary line;
A fifth gate is provided between the second gate and the fourth boundary line so as to cross the first boundary line and the fourth boundary line;
Providing a sixth gate that crosses the third boundary line and the fourth boundary line between the second gate and the fourth boundary line;
A first input terminal is provided in a region surrounded by the first boundary line, the second boundary line, and the third gate;
A second input terminal is provided in a region surrounded by the third boundary line, the second boundary line, and the fourth gate;
Providing a third input terminal in a region surrounded by the third boundary line, the fourth boundary line and the sixth gate;
A layout of a pass transistor logic circuit in which a fourth input terminal is provided in a region surrounded by the first boundary line, the fourth boundary line, and the fifth gate.
この拡散層の略中央部に設けた出力端子と、
この出力端子の前記第2境界線側に、前記第1境界線を横断させるとともに前記第3境界線を横断させて設けた第1ゲートと、
前記出力端子の前記第4境界線側に、前記第1境界線を横断させるとともに前記第3境界線を横断させて設けた第2ゲートと、
前記第1ゲートと前記第2境界線との間において前記第1境界線を横断させるとともに前記第2境界線を横断させて設けた第3ゲートと、
前記第1ゲートと前記第2境界線との間において前記第3境界線を横断させるとともに前記第2境界線を横断させて設けた第4ゲートと、
前記第2ゲートと前記第4境界線との間において前記第1境界線を横断させるとともに前記第4境界線を横断させて設けた第5ゲートと、
前記第2ゲートと前記第4境界線との間において前記第3境界線を横断させるとともに前記第4境界線を横断させて設けた第6ゲートと、
前記第1境界線と前記第2境界線と前記第3ゲートによって囲まれた領域に設けた第1入力端子と、
前記第3境界線と前記第2境界線と前記第4ゲートによって囲まれた領域に設けた第2入力端子と、
前記第3境界線と前記第4境界線と前記第6ゲートによって囲まれた領域に設けた第3入力端子と、
前記第1境界線と前記第4境界線と前記第5ゲートによって囲まれた領域に設けた第4入力端子と
を有するパストランジスタ論理回路を備えた半導体装置。 A substantially rectangular diffusion layer surrounded by the first boundary line, the second boundary line, the third boundary line, and the fourth boundary line;
An output terminal provided at a substantially central portion of the diffusion layer;
A first gate provided across the first boundary line and across the third boundary line on the second boundary side of the output terminal;
A second gate provided across the first boundary line and across the third boundary line on the side of the fourth boundary line of the output terminal;
A third gate provided across the first boundary line and across the second boundary line between the first gate and the second boundary line;
A fourth gate provided across the third boundary line and across the second boundary line between the first gate and the second boundary line;
A fifth gate provided across the first boundary line and across the fourth boundary line between the second gate and the fourth boundary line;
A sixth gate provided across the third boundary line and across the fourth boundary line between the second gate and the fourth boundary line;
A first input terminal provided in a region surrounded by the first boundary line, the second boundary line, and the third gate;
A second input terminal provided in a region surrounded by the third boundary line, the second boundary line, and the fourth gate;
A third input terminal provided in a region surrounded by the third boundary line, the fourth boundary line, and the sixth gate;
A semiconductor device comprising a pass transistor logic circuit having a fourth input terminal provided in a region surrounded by the first boundary line, the fourth boundary line, and the fifth gate.
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