JP2006133429A - Fixing device and image forming apparatus - Google Patents

Fixing device and image forming apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2006133429A
JP2006133429A JP2004321325A JP2004321325A JP2006133429A JP 2006133429 A JP2006133429 A JP 2006133429A JP 2004321325 A JP2004321325 A JP 2004321325A JP 2004321325 A JP2004321325 A JP 2004321325A JP 2006133429 A JP2006133429 A JP 2006133429A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
peeling member
surface roughness
coating
fixing
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004321325A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Isshiki
鉄也 一色
Masanao Kunugi
正尚 功刀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2004321325A priority Critical patent/JP2006133429A/en
Publication of JP2006133429A publication Critical patent/JP2006133429A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fixing device capable of increasing the durability of a peeling member and improving the image quality of a fixed image, and to provide an image forming apparatus equipped with the fixing device. <P>SOLUTION: The fixing device is equipped with a fixing roller 21 having a heat source, a pressure roller 22 to be brought into press-contact with the fixing roller, and the peeling member 31 disposed close to the fixing roller in the shaft direction of the fixing roller and on the downstream side of a fixing nip part in a recording medium conveying direction. The peeling member has base material on the surface, of which fine ruggedness is provided and a coating film provided on the surface side of the base material, and is set so that its surface roughness Ra is 0.04 to 1.3 μm and its surface roughness Rz is 0.7 to 14 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、定着装置および画像形成装置に関するものである。   The present invention relates to a fixing device and an image forming apparatus.

電子写真法を用いる画像形成装置においては、紙等の記録媒体上に転写されたトナー像を定着させる定着装置として、定着ローラと加圧ローラとからなる一対のローラのニップ部に、トナー像が転写された用紙を通過させて、定着ローラによる加熱と二つのローラによる加圧とによりトナー像を用紙に融着させる定着装置が広く用いられている。
一般に、この定着装置においては、記録媒体に融着したトナー像が定着ローラに接触するので定着ローラとしては離型性のよいフッ素系樹脂を表面に形成したローラが使用されている。しかし、このような定着ローラを使用しても、溶融したトナーは軟らかくかつ粘性が高いため定着ローラ表面に付着し易く用紙(記録媒体)が定着ローラに巻き付いてしまう恐れがある。
In an image forming apparatus using an electrophotographic method, as a fixing device for fixing a toner image transferred on a recording medium such as paper, a toner image is formed at a nip portion of a pair of rollers including a fixing roller and a pressure roller. 2. Description of the Related Art A fixing device that passes a transferred sheet and fuses a toner image to the sheet by heating by a fixing roller and pressurization by two rollers is widely used.
In general, in this fixing device, a toner image fused to a recording medium comes into contact with the fixing roller. Therefore, a roller having a fluorine resin having a good releasability on the surface is used as the fixing roller. However, even when such a fixing roller is used, the melted toner is soft and has a high viscosity, so that it easily adheres to the surface of the fixing roller and the paper (recording medium) may be wound around the fixing roller.

上記のような問題点を解決する目的で、樹脂シートまたは金属シートを基材とし、該基材表面および定着ローラに接触する端縁にフッ素系樹脂層を塗装或いは貼付けにより形成した剥離部材を、定着ローラの回転方向下流側に定着ローラに接触するように配置する提案がなされている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、上記のような定着装置においては、剥離部材を定着ローラに接触させているために、硬質のフッ素系樹脂層により定着ローラを傷つけてしまうという問題を有している。
For the purpose of solving the above-mentioned problems, a release member formed by coating or pasting a fluororesin layer on the base material surface and the edge in contact with the fixing roller using a resin sheet or a metal sheet as a base material, A proposal has been made to dispose the fixing roller in contact with the fixing roller at the downstream side in the rotation direction (see, for example, Patent Document 1).
However, the fixing device as described above has a problem that the fixing roller is damaged by the hard fluororesin layer because the peeling member is in contact with the fixing roller.

また、フッ素系樹脂は、耐摩耗性に劣るため、比較的短期間でフッ素系樹脂層が摩耗し、基材が露出してしまい、トナーが固着したり、画像すじが発生してしまうという問題を有している。特に、フッ素系樹脂層が塗装により形成されたものである場合、フッ素系樹脂層中に気泡や異物が含まれ易く、これにより、印字不良が発生し易くなるという問題点があった。   In addition, since the fluororesin is inferior in abrasion resistance, the fluororesin layer is worn out in a relatively short period of time, the base material is exposed, and the toner is fixed or image streaks occur. have. In particular, when the fluororesin layer is formed by coating, there is a problem in that bubbles and foreign substances are easily contained in the fluororesin layer, thereby causing poor printing.

また、従来においては、定着ローラと加圧ローラとが上下にかつ縦方向に配置されるのが一般的であり、両者のニップ部から排出される記録媒体は重力により定着ローラから離れる方向に力が作用するため、記録媒体が剥離部材によって剥離される度合いは少ない。しかしながら、定着ローラと加圧ローラを略水平状態に配置する場合には、記録媒体は定着ローラ側に巻きつき易くなり、記録媒体は必ず剥離部材に当接されることになり、その使用頻度が増大するため、剥離部材の耐久性をいかにして向上させるかが課題となる。   Conventionally, the fixing roller and the pressure roller are generally arranged vertically and vertically, and the recording medium ejected from the nip portion of the both is forced away from the fixing roller by gravity. Therefore, the degree to which the recording medium is peeled off by the peeling member is small. However, when the fixing roller and the pressure roller are arranged in a substantially horizontal state, the recording medium is easily wound around the fixing roller, and the recording medium is always brought into contact with the peeling member. Since it increases, it becomes a subject how to improve the durability of a peeling member.

特に、フルカラー画像の定着においては、白黒画像の定着時よりも多量のトナーが重ねて転写されたトナー像を定着しなければならず、剥離時に大きな剥離力が必要であり、剥離部材の耐久性が課題となっている。また、光沢のあるカラー画像の場合には、定着後のトナー画像表面の平滑性をだすことが要求され、そのためにはトナーを十分に加熱溶融して低粘度化させた後に、画像表面を平らにならすことが必要であり、ますます大きな剥離力を必要とするとともに、剥離部材に画像表面を平らにならす機能を保持させることが課題となっている。   In particular, in fixing a full-color image, a toner image to which a large amount of toner is transferred in a superimposed manner must be fixed compared to fixing a black-and-white image. Has become an issue. In addition, in the case of a glossy color image, it is required to provide smoothness on the surface of the toner image after fixing, and for this purpose, the toner is sufficiently heated and melted to reduce the viscosity, and then the image surface is flattened. Therefore, it is necessary to make the peeling member have the function of flattening the image surface.

特開平11−184300号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-184300

本発明の目的は、剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供すること、また、該定着装置を備えた画像形成装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a fixing device capable of increasing the durability of a peeling member and improving the image quality of a fixed image, and to provide an image forming apparatus including the fixing device. .

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の定着装置は、熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、前記定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、前記定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備え、
前記剥離部材は、その表面粗さRaが0.04〜1.3μmであり、かつ、その表面粗さRzが0.7〜14μmであることを特徴とする。
これにより、剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The fixing device according to the present invention includes a fixing roller having a heat source, a pressure roller pressed against the fixing roller, an axial direction of the fixing roller and a downstream side of the fixing nip portion in the recording medium conveyance direction and close to the fixing roller. And a peeling member disposed as
The peeling member has a surface roughness Ra of 0.04 to 1.3 μm and a surface roughness Rz of 0.7 to 14 μm.
Accordingly, it is possible to provide a fixing device capable of increasing the durability of the peeling member and improving the image quality of the fixed image.

本発明の定着装置では、前記加圧ローラに近接して配設される剥離部材を備えていることが好ましい。
これにより、加圧ローラ等への記録媒体の巻き付き等を効果的に防止することができる。
本発明の定着装置では、前記加圧ローラ側の剥離部材の先端は、定着ローラ側の剥離部材の先端よりも記録媒体搬送方向下流側に配置されていることが好ましい。
これにより、加圧ローラ側の剥離部材の先端と、加圧ローラ表面との間のギャップをより確実に常時一定にすることができる。
The fixing device according to the present invention preferably includes a peeling member disposed in the vicinity of the pressure roller.
This effectively prevents the recording medium from being wound around the pressure roller or the like.
In the fixing device of the present invention, it is preferable that the tip of the release member on the pressure roller side is disposed downstream of the tip of the release member on the fixing roller side in the recording medium conveyance direction.
Thereby, the gap between the tip of the peeling member on the pressure roller side and the surface of the pressure roller can be made constant more reliably.

本発明の定着装置では、前記加圧ローラ側の剥離部材は、その表面粗さRaが0.04〜1.3μmであり、かつ、その表面粗さRzが0.7〜14μmであることが好ましい。
これにより、加圧ローラに溶融したトナーが付着するのを防止し、紙等の記録媒体が加圧ローラに巻き付くのを効果的に防止することができるとともに、記録媒体に形成された印刷部に悪影響を与えるのを効果的に防止することができる。また、剥離部材の耐久性を向上させることができる。
In the fixing device of the present invention, the pressure roller side peeling member has a surface roughness Ra of 0.04 to 1.3 μm and a surface roughness Rz of 0.7 to 14 μm. preferable.
Accordingly, it is possible to prevent the melted toner from adhering to the pressure roller, and effectively prevent the recording medium such as paper from being wound around the pressure roller, and the printing unit formed on the recording medium. Can be effectively prevented from being adversely affected. Further, the durability of the peeling member can be improved.

本発明の定着装置では、前記定着ローラと前記加圧ローラとが略水平状態で配設されていることが好ましい。
これにより、紙等の記録媒体の搬送経路を短縮でき、省スペース化が可能となる。
本発明の画像形成装置は、本発明の定着装置を備えたことを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた画質の画像を形成することができる画像形成装置を提供することができる。
In the fixing device of the present invention, it is preferable that the fixing roller and the pressure roller are disposed in a substantially horizontal state.
As a result, the conveyance path of the recording medium such as paper can be shortened, and the space can be saved.
The image forming apparatus of the present invention includes the fixing device of the present invention.
Accordingly, it is possible to provide an image forming apparatus capable of forming an image with excellent image quality over a long period of time.

以下、本発明の定着装置および画像形成装置の好適な実施形態を添付図面に基づいて説明する。
[画像形成装置]
まず、本発明の画像形成装置の構成について説明する。
図1は、本発明の定着装置を備えた本発明の画像形成装置の全体構成図である。
画像形成装置1の装置本体2内には、感光体ドラムで構成される像担持体3が配設されている。この像担持体3は、図示しない駆動手段によって図示矢印方向に回転駆動される。像担持体3の周囲には、その回転方向に沿って、像担持体3を一様に帯電するための帯電装置4と、像担持体3上に静電潜像を形成するための露光装置5と、静電潜像を現像するためのロータリー現像装置6と、像担持体3上に形成された単色のトナー像を一次転写するための中間転写装置7とが配設されている。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a fixing device and an image forming apparatus according to the invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[Image forming apparatus]
First, the configuration of the image forming apparatus of the present invention will be described.
FIG. 1 is an overall configuration diagram of an image forming apparatus of the present invention provided with a fixing device of the present invention.
In the apparatus main body 2 of the image forming apparatus 1, an image carrier 3 composed of a photosensitive drum is disposed. The image carrier 3 is rotationally driven in the direction of the arrow shown by a driving unit (not shown). Around the image carrier 3, a charging device 4 for uniformly charging the image carrier 3 along its rotation direction, and an exposure device for forming an electrostatic latent image on the image carrier 3 5, a rotary developing device 6 for developing an electrostatic latent image, and an intermediate transfer device 7 for primary transfer of a monochromatic toner image formed on the image carrier 3.

ロータリー現像装置6は、イエロー用現像装置6Y、マゼンタ用現像装置6M、シアン用現像装置6Cおよびブラック用現像装置6Kが支持フレーム8に装着され、支持フレーム8は図示しない駆動モータにより回転駆動される構成になっている。これらの複数の現像装置6Y、6C、6M、6Kは、像担持体3の1回転毎に選択的に一つの現像装置の現像ローラ6aが像担持体3に対向するように回転移動するようにされている。なお、各現像装置6Y、6C、6M、6Kには各色のトナーが収納されたトナー収納部が形成されている。   In the rotary developing device 6, a yellow developing device 6Y, a magenta developing device 6M, a cyan developing device 6C, and a black developing device 6K are mounted on a support frame 8, and the support frame 8 is rotationally driven by a drive motor (not shown). It is configured. The plurality of developing devices 6Y, 6C, 6M, and 6K are selectively rotated so that the developing roller 6a of one developing device faces the image carrier 3 every rotation of the image carrier 3. Has been. Each of the developing devices 6Y, 6C, 6M, and 6K has a toner storage portion that stores toner of each color.

中間転写装置7は、駆動ローラ9および従動ローラ10と、両ローラにより図示矢印方向に駆動される中間転写ベルト11と、中間転写ベルト11の裏面で像担持体3に対向して配設された一次転写ローラ12と、中間転写ベルト11上の残留トナーを除去する転写ベルトクリーナ13と、駆動ローラ9に対向して配設され、中間転写ベルト11に形成された4色フルカラー像を記録媒体(紙等)上に転写するための二次転写ローラ14とを有している。
装置本体2の底部には給紙カセット15が配設され、給紙カセット15内の記録媒体は、ピックアップローラ16、記録媒体搬送路17、二次転写ローラ14、定着装置19を経て排紙トレイ20に搬送されるように構成されている。
The intermediate transfer device 7 is disposed so as to face the image carrier 3 on the back surface of the intermediate transfer belt 11, the driving roller 9 and the driven roller 10, the intermediate transfer belt 11 driven in the direction of the arrow by the two rollers. A primary transfer roller 12, a transfer belt cleaner 13 for removing residual toner on the intermediate transfer belt 11, and a drive roller 9 are arranged to face the four-color full-color image formed on the intermediate transfer belt 11 as a recording medium ( And a secondary transfer roller 14 for transferring onto paper or the like.
A paper feeding cassette 15 is disposed at the bottom of the apparatus main body 2, and a recording medium in the paper feeding cassette 15 passes through a pickup roller 16, a recording medium conveyance path 17, a secondary transfer roller 14, and a fixing device 19. It is comprised so that it may be conveyed to 20.

次に、上記のような構成の画像形成装置の作用について説明する。
図示しないコンピュータからの画像形成信号が入力されると、像担持体3、現像装置6の現像ローラ6aおよび中間転写ベルト11が回転駆動し、先ず、像担持体3の外周面が帯電装置4によって一様に帯電され、一様に帯電された像担持体3の外周面に、露光装置5によって第1色目(例えばイエロー)の画像情報に応じた選択的な露光がなされ、イエローの静電潜像が形成される。
Next, the operation of the image forming apparatus configured as described above will be described.
When an image forming signal is input from a computer (not shown), the image carrier 3, the developing roller 6 a of the developing device 6 and the intermediate transfer belt 11 are rotationally driven. First, the outer peripheral surface of the image carrier 3 is charged by the charging device 4. The exposure device 5 selectively exposes the outer peripheral surface of the uniformly charged image carrier 3 according to the image information of the first color (for example, yellow) so that the electrostatic latent image of yellow An image is formed.

像担持体3上に形成された潜像位置には、イエロー用現像装置6Yが回動してその現像ローラ6aが当接し、これによってイエローの静電潜像のトナー像が像担持体3上に形成され、次に、像担持体3上に形成されたトナー像は一次転写ローラ12により中間転写ベルト11上に転写される。このとき、二次転写ローラ14は中間転写ベルト11から離間されている。
上記の処理が画像形成信号の第2色目、第3色目、第4色目に対応して、像担持体3と中間転写ベルト11の1回転による潜像形成、現像、転写が繰り返され、画像形成信号の内容に応じた4色のトナー像が中間転写ベルト11上において重ねられて転写される。そして、このフルカラー画像が二次転写ローラ14に達するタイミングで、記録媒体が搬送路17から二次転写ローラ14に供給され、このとき、二次転写ローラ14が中間転写ベルト11に押圧されるとともに二次転写電圧が印加され、中間転写ベルト11上のフルカラートナー像が記録媒体上に転写される。そして、この記録媒体上に転写されたトナー像は定着装置19により加熱加圧され定着される。中間転写ベルト11上に残留しているトナーは転写ベルトクリーナ13によって除去される。
At the position of the latent image formed on the image carrier 3, the yellow developing device 6 </ b> Y rotates and the developing roller 6 a comes into contact therewith, whereby the yellow electrostatic latent image toner image is formed on the image carrier 3. Next, the toner image formed on the image carrier 3 is transferred onto the intermediate transfer belt 11 by the primary transfer roller 12. At this time, the secondary transfer roller 14 is separated from the intermediate transfer belt 11.
In accordance with the second color, the third color, and the fourth color of the image formation signal, the above processing is repeated to form a latent image, develop, and transfer by one rotation of the image carrier 3 and the intermediate transfer belt 11, thereby forming an image. Four color toner images corresponding to the contents of the signals are superimposed and transferred on the intermediate transfer belt 11. Then, at the timing when this full-color image reaches the secondary transfer roller 14, the recording medium is supplied from the conveyance path 17 to the secondary transfer roller 14, and at this time, the secondary transfer roller 14 is pressed against the intermediate transfer belt 11. A secondary transfer voltage is applied, and the full color toner image on the intermediate transfer belt 11 is transferred onto the recording medium. The toner image transferred onto the recording medium is fixed by being heated and pressed by the fixing device 19. The toner remaining on the intermediate transfer belt 11 is removed by the transfer belt cleaner 13.

なお、両面印刷の場合には、定着装置19を出た記録媒体は、その後端が先端となるようにスイッチバックされ、両面印刷用搬送路23を経て、二次転写ローラ14に供給され、中間転写ベルト11上のフルカラートナー像が記録媒体上に転写され、再び定着装置19により加熱加圧され定着される。
定着装置19は、熱源を有する定着ローラ21とこれに圧接される加圧ローラ22とを有し、定着ローラ21と加圧ローラ22の軸を結ぶ線は水平線からθの角度を有するように配置されている。なお、0°≦θ≦30°である。
In the case of double-sided printing, the recording medium exiting the fixing device 19 is switched back so that the trailing edge is the leading edge, and is supplied to the secondary transfer roller 14 via the double-sided printing conveyance path 23, and the intermediate medium. The full color toner image on the transfer belt 11 is transferred onto the recording medium, and is again heated and pressed by the fixing device 19 to be fixed.
The fixing device 19 includes a fixing roller 21 having a heat source and a pressure roller 22 pressed against the fixing roller 21, and a line connecting the axes of the fixing roller 21 and the pressure roller 22 has an angle θ from a horizontal line. Has been. Note that 0 ° ≦ θ ≦ 30 °.

[定着装置]
以下、本発明の定着装置について、詳細に説明する。
図2〜図7は、図1の定着装置19の詳細を示し、図2は、図1に示す定着装置の一部破断面を示す斜視図であり、図3は、図2の要部断面図であり、図4は、図2に示す剥離部材の斜視図であり、図5は、剥離部材の取付状態を示す側面図であり、図6は、図2の定着装置を上面から見た正面図であり、図7は、剥離部材の断面図である。
[Fixing device]
Hereinafter, the fixing device of the present invention will be described in detail.
2 to 7 show details of the fixing device 19 shown in FIG. 1, FIG. 2 is a perspective view showing a partially broken section of the fixing device shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a perspective view of the peeling member shown in FIG. 2, FIG. 5 is a side view showing a mounting state of the peeling member, and FIG. 6 is a top view of the fixing device of FIG. It is a front view and FIG. 7 is sectional drawing of a peeling member.

図2および図6において、ハウジング24内には定着ローラ21が回動自在に装着され、定着ローラ21の一端には駆動ギヤ28が連結されている。そして、定着ローラ21に対向して加圧ローラ22が回動自在に装着されている。加圧ローラ22の軸方向長さは定着ローラ21のそれよりも短く、その空いたスペースに軸受25が設けられ、加圧ローラ22の両端は軸受25により支持されている。軸受25には加圧レバー26が回動可能に設けられ、加圧レバー26の一端とハウジング24間には加圧スプリング27が配設され、これにより加圧ローラ22と定着ローラ21が加圧されるように構成されている。   2 and 6, the fixing roller 21 is rotatably mounted in the housing 24, and a driving gear 28 is connected to one end of the fixing roller 21. A pressure roller 22 is rotatably mounted facing the fixing roller 21. The axial length of the pressure roller 22 is shorter than that of the fixing roller 21, and a bearing 25 is provided in the empty space, and both ends of the pressure roller 22 are supported by the bearing 25. A pressure lever 26 is rotatably provided on the bearing 25, and a pressure spring 27 is disposed between one end of the pressure lever 26 and the housing 24, whereby the pressure roller 22 and the fixing roller 21 are pressurized. It is configured to be.

図3に示すように、定着ローラ21は、内部にハロゲンランプ等の熱源21aを有する金属製の筒体21bと、筒体21bの外周に設けられたシリコンゴム等で構成された弾性層21cと、弾性層21cの表面に被覆されたフッ素ゴム、フッ素樹脂(例えばパーテトラフロロエチレン(PTFE))等の材料で構成された表層(図示せず)と、筒体21bに固定された回転軸21dとを有している。
加圧ローラ22は、金属製の筒体22bと、筒体22bに固定された回転軸22dと、回転軸22dを軸支持する軸受25と、筒体22bの外周に設けられたシリコンゴム等で構成された弾性層22cと、弾性層22cの表面に被覆されたフッ素ゴム、フッ素樹脂(例えばパーテトラフロロエチレン(PTFE))等の材料で構成された表層(図示せず)とを有している。定着ローラ21の弾性層21cの厚みは、加圧ローラ22の弾性層22cの厚みより極端に小さくし、これにより加圧ローラ22側が凹状にへこむようなニップ部Nが形成されている。
As shown in FIG. 3, the fixing roller 21 includes a metal cylinder 21b having a heat source 21a such as a halogen lamp therein, and an elastic layer 21c made of silicon rubber or the like provided on the outer periphery of the cylinder 21b. A surface layer (not shown) made of a material such as fluoro rubber or fluoro resin (for example, pertetrafluoroethylene (PTFE)) coated on the surface of the elastic layer 21c, and a rotating shaft 21d fixed to the cylindrical body 21b. And have.
The pressure roller 22 is made of a metal cylinder 22b, a rotating shaft 22d fixed to the cylinder 22b, a bearing 25 for supporting the rotating shaft 22d, silicon rubber provided on the outer periphery of the cylinder 22b, and the like. The elastic layer 22c is configured, and a surface layer (not shown) made of a material such as fluororubber or fluororesin (eg, pertetrafluoroethylene (PTFE)) coated on the surface of the elastic layer 22c. Yes. The thickness of the elastic layer 21 c of the fixing roller 21 is extremely smaller than the thickness of the elastic layer 22 c of the pressure roller 22, thereby forming a nip portion N where the pressure roller 22 side is recessed in a concave shape.

図2および図3に示すように、ハウジング24の両側面には、支持軸29、30が設けられており、この支持軸29、30にそれぞれ定着ローラ21側の剥離部材31と加圧ローラ22側の剥離部材32が回動自在に装着されている。これにより、定着ローラ21と加圧ローラ22の軸方向でニップ部の記録媒体搬送方向下流側に剥離部材31、32が配設されることになる。
定着ローラ21側の剥離部材31は、図4および図5に示すように、プレート状の剥離部31aと、剥離部31aの後方で定着ローラ21側にL字状に折曲された折曲部31bと、剥離部31aの両側端で下方向に折曲された支持片31cと、支持片31cに形成された嵌合穴31dと、剥離部31aの両側端前方に延設されたガイド部31eとを有している。
As shown in FIGS. 2 and 3, support shafts 29 and 30 are provided on both side surfaces of the housing 24. The support shafts 29 and 30 are respectively provided with a peeling member 31 and a pressure roller 22 on the fixing roller 21 side. The side peeling member 32 is rotatably mounted. Accordingly, the peeling members 31 and 32 are disposed on the downstream side of the nip portion in the recording medium conveyance direction in the axial direction of the fixing roller 21 and the pressure roller 22.
As shown in FIGS. 4 and 5, the peeling member 31 on the fixing roller 21 side includes a plate-like peeling portion 31a and a bent portion that is bent in an L shape on the fixing roller 21 side behind the peeling portion 31a. 31b, a support piece 31c bent downward at both side ends of the peeling portion 31a, a fitting hole 31d formed in the support piece 31c, and a guide portion 31e extending in front of both side ends of the peeling portion 31a And have.

剥離部31aは、ニップ部Nの出口に向けて傾斜するように配置され、剥離部31aの先端は定着ローラ21に非接触でかつ近接されている。支持片31cの嵌合穴31dには、図3で説明した支持軸29が嵌合されている。ガイド部31eは、スプリング33によりハウジング24に付勢され、これによりガイド部31eの先端は定着ローラ21に当接されており、その結果、剥離部31aの先端と定着ローラ21表面との間のギャップが常時一定になるようにされている。   The peeling portion 31 a is disposed so as to incline toward the exit of the nip portion N, and the tip of the peeling portion 31 a is in non-contact with and close to the fixing roller 21. The support shaft 29 described in FIG. 3 is fitted in the fitting hole 31d of the support piece 31c. The guide portion 31e is urged against the housing 24 by the spring 33, whereby the tip of the guide portion 31e is in contact with the fixing roller 21, and as a result, between the tip of the peeling portion 31a and the surface of the fixing roller 21. The gap is always constant.

加圧ローラ22側の剥離部材32は、定着ローラ21側の剥離部材と同様の形状であるが、図2および図3に示すように、剥離部32aの先端は剥離部31aの先端よりも記録媒体搬送方向下流側に配置されている。また、ガイド部32eの先端は加圧ローラ22の軸受25の周面にP点で当接されており、これにより、剥離部32aの先端と加圧ローラ22表面との間のギャップが常時一定になるようにされている。
ところで、従来の定着ローラ21と加圧ローラ22の配置は、定着ローラ21と加圧ローラ22が上下にかつ縦方向に配置されるのが一般的であり、両者のニップ部から排出される記録媒体は重力により定着ローラ21から離れる方向に力が作用するため、記録媒体が剥離部材によって剥離される度合いは少ない。しかし、図1に示すように、定着ローラ21と加圧ローラ22を略水平状態に配置すると、記録媒体は定着ローラ21側に巻きつき易くなり、ニップ部Nから排出される記録媒体は必ず剥離部材31に当接されることになり、その使用頻度が従来方式と比較して極めて高いという特徴を有している。そのため、剥離部材の耐久性をいかにして向上させるかが課題となっている。特に、フルカラー画像の定着においては、白黒画像の定着時よりも多量のトナーが重ねて転写されたトナー像を定着しなければならず、剥離時に大きな剥離力が必要であり、また、定着後のトナー画像表面の平滑性をだすことが要求され、そのためにはトナーを十分に加熱溶融して低粘度化させた後に、画像表面を平らにならすことが必要であり、ますます大きな剥離力を必要とするとともに、剥離部材に画像表面を平らにならす機能を保持させることが求められており、剥離部材の耐久性が非常に大きな課題となっている。
The peeling member 32 on the pressure roller 22 side has the same shape as the peeling member on the fixing roller 21 side, but as shown in FIGS. 2 and 3, the tip of the peeling portion 32a is recorded more than the tip of the peeling portion 31a. It is arranged on the downstream side in the medium conveyance direction. The tip of the guide portion 32e is in contact with the peripheral surface of the bearing 25 of the pressure roller 22 at the point P, so that the gap between the tip of the peeling portion 32a and the surface of the pressure roller 22 is always constant. To be.
By the way, the conventional arrangement of the fixing roller 21 and the pressure roller 22 is generally such that the fixing roller 21 and the pressure roller 22 are vertically arranged in the vertical direction. Since the force acts on the medium in a direction away from the fixing roller 21 due to gravity, the degree to which the recording medium is peeled off by the peeling member is small. However, as shown in FIG. 1, when the fixing roller 21 and the pressure roller 22 are arranged in a substantially horizontal state, the recording medium is easily wound around the fixing roller 21 side, and the recording medium discharged from the nip portion N is always peeled off. The member 31 is brought into contact with the member 31 and has a feature that its use frequency is extremely high as compared with the conventional method. Therefore, how to improve the durability of the peeling member is a problem. In particular, in fixing a full-color image, it is necessary to fix a toner image onto which a large amount of toner is superimposed and transferred compared to fixing a black-and-white image, and a large peeling force is required at the time of peeling. The smoothness of the toner image surface is required, and for that purpose, it is necessary to heat and melt the toner sufficiently to lower the viscosity, and then to flatten the image surface, and an even greater peeling force is required. In addition, the peeling member is required to have a function of flattening the image surface, and the durability of the peeling member is a very big problem.

そこで、本発明者は、上記のような問題を解決する目的で鋭意研究を行った結果、剥離部材として、所定の表面粗さを有するもの、より詳しくは、表面粗さRaが0.04〜1.3μmであり、かつ、表面粗さRzが0.7〜14μmであるものを用いることにより優れた結果が得られることを見出した。
より具体的には、このような剥離部材は、定着ローラに溶融したトナーが付着するのを防止し、紙等の記録媒体が定着ローラに巻き付くのを効果的に防止することができるとともに、耐摩耗性にも優れ、長期間にわたって安定した特性を発揮することができる(耐久性に優れる)。また、上記のような剥離部材は、優れた潤滑性(摺動性)を有しているため、記録媒体に定着されたトナー(高温状態のトナー)と接触した場合においても、記録媒体に形成された印刷部に悪影響を与えることが効果的に防止されている。また、万が一、剥離部材が定着ローラの周面等の周面に接触した場合であっても、定着ローラ等に傷が付くこと等が効果的に防止されている。また、剥離部材が、上記のように所定の表面粗さを有することにより、万が一、トナーの付着が起きた場合でも、クリーニングにより容易にトナーを除去する事ができる。
Therefore, as a result of intensive studies for the purpose of solving the above-mentioned problems, the present inventor has a predetermined surface roughness as the peeling member, more specifically, the surface roughness Ra is 0.04 to 0.04. It has been found that excellent results can be obtained by using a material having a surface roughness Rz of 0.7 to 14 μm and a thickness of 1.3 μm.
More specifically, such a peeling member can prevent the molten toner from adhering to the fixing roller, and can effectively prevent a recording medium such as paper from being wound around the fixing roller. It also has excellent wear resistance and can exhibit stable characteristics over a long period of time (excellent durability). Further, since the peeling member as described above has excellent lubricity (slidability), it is formed on the recording medium even when it comes into contact with the toner fixed on the recording medium (toner in a high temperature state). An adverse effect on the printed portion is effectively prevented. Further, even if the peeling member comes into contact with a peripheral surface such as the peripheral surface of the fixing roller, the fixing roller or the like is effectively prevented from being damaged. In addition, since the peeling member has a predetermined surface roughness as described above, even if the toner adheres, the toner can be easily removed by cleaning.

上述したように、剥離部材の表面粗さRaは、0.04〜1.3μmであるが、0.05〜1.0μmであるのが好ましく、0.08〜0.6μmであるのがより好ましく、0.1〜0.4μmであるのがさらに好ましい。表面粗さRaが前記範囲内の値であると、上述したような効果がさらに顕著に発揮される。
また、上述したように、剥離部材の表面粗さRzは、0.7〜14μmであるが、1〜10μmであるのが好ましく、2.5〜8.5μmであるのがより好ましく、4〜7μmであるのがさらに好ましい。表面粗さRaが前記範囲内の値であると、上述したような効果がさらに顕著に発揮される。
As described above, the surface roughness Ra of the peeling member is 0.04 to 1.3 μm, preferably 0.05 to 1.0 μm, and more preferably 0.08 to 0.6 μm. Preferably, it is 0.1-0.4 micrometer. When the surface roughness Ra is a value within the above range, the effects as described above are more remarkably exhibited.
Further, as described above, the surface roughness Rz of the peeling member is 0.7 to 14 μm, preferably 1 to 10 μm, more preferably 2.5 to 8.5 μm, and 4 to 4 μm. More preferably, it is 7 μm. When the surface roughness Ra is a value within the above range, the effects as described above are more remarkably exhibited.

本発明において、剥離部材は、上記のような所定の表面粗さを有するものであれば、いかなるものであってもよいが、剥離部材は、基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであるのが好ましい。このような構成を有することにより、剥離部材の成形性(製造のし易さ)を十分に優れたものとしつつ、剥離部材の機械的安定性(形状の安定性)を優れたものとすることができる。以下の説明では、剥離部材が、基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものとして説明する。また、以下の説明では、定着ローラ21側の剥離部材31が上述したような構成、すなわち、剥離部材31が、基材311と、被膜313とを有するものとして説明するが、加圧ローラ22側の剥離部材32も同様な構成を有していてもよい。これにより、上述した効果は更に顕著なものとして発揮される。
剥離部材が、基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものである場合、被膜は、以下の(1)、(2)、(3)に示す材料で構成されたものであるのが好ましい。
In the present invention, the release member may be any member as long as it has the predetermined surface roughness as described above. However, the release member is provided on the substrate and the surface side of the substrate. It is preferable to have a coated film. By having such a configuration, the moldability (ease of manufacturing) of the peeling member is sufficiently excellent, and the mechanical stability (shape stability) of the peeling member is excellent. Can do. In the following description, the peeling member will be described as having a base material and a coating provided on the surface side of the base material. In the following description, the peeling member 31 on the fixing roller 21 side will be described as having the above-described configuration, that is, the peeling member 31 includes the base material 311 and the coating 313. The peeling member 32 may have a similar configuration. Thereby, the effect mentioned above is exhibited as a more remarkable thing.
When the peeling member has a base material and a coating provided on the surface side of the base material, the coating was composed of the materials shown in the following (1), (2), and (3). It is preferable.

(1)下記式(I)で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料。 (1) A material containing a hydrolytic condensate of a silicon-containing compound represented by the following formula (I).

Figure 2006133429
(ただし、式(I)中、Zは、式:−(C2k)O−(前記式中、kは1〜6の整数である)で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する2価の基であり、R、R’は、それぞれ独立に炭素原子数1〜8の一価炭化水素基であり、X、Yは、それぞれ独立に加水分解性基またはハロゲン原子であり、l、pは、ぞれぞれ独立に1〜5の整数であり、m、nは、それぞれ独立に0〜2の整数であり、a、bは、それぞれ独立に2または3である。)
Figure 2006133429
(In the formula (I), Z includes a unit represented by the formula: — (C k F 2k ) O— (wherein k is an integer of 1 to 6) and has no branch. It is a divalent group having a linear perfluoropolyalkylene ether structure, R and R ′ are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and X and Y are each independently Are hydrolyzable groups or halogen atoms, l and p are each independently an integer of 1 to 5, m and n are each independently an integer of 0 to 2, and a and b are , Each independently 2 or 3.)

(2)下記式(II)で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料。 (2) A material containing a hydrolytic condensate of a silicon-containing compound represented by the following formula (II).

Figure 2006133429
(ただし、式(II)中、Rは、パーフルオロアルキル基を表し、R’は、水素または1価の炭化水素基を表し、Xは、水酸基または加水分解可能な置換基を表し、Yは、水素、臭素またはヨウ素を表し、Zは、水素または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Qは、フッ素またはトリフルオロメチル基を表し、a、b、c、d、eは、それぞれ独立して、0または1以上の整数であり、a+b+c+d+eは、少なくとも1以上の整数であり、a、b、c、d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されず、lは、0、1または2を表し、mは、1、2または3を表し、nは、1以上の整数を表す。)
Figure 2006133429
(In the formula (II), R represents a perfluoroalkyl group, R ′ represents hydrogen or a monovalent hydrocarbon group, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable substituent, and Y represents , Hydrogen, bromine or iodine, Z represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Q represents fluorine or a trifluoromethyl group, and a, b, c, d and e are each independently In the formula, a + b + c + d + e is an integer of at least 1 and the order of presence of each repeating unit delimited by a, b, c, d, e is not limited in the formula , L represents 0, 1 or 2, m represents 1, 2 or 3, and n represents an integer of 1 or more.)

(3)ダイヤモンド様炭素(DLC)、水素化アモルファス炭素、ダイヤモンド等の炭素系硬質材料。
被膜が上記のような材料で構成されたものであると、上述したような効果をさらに顕著なものとして発揮させることができるとともに、被膜の耐摩耗性、(基材との)密着性にも優れ、より長期間にわたって安定した特性を発揮することができる(耐久性に優れる)。また、上記のような材料で構成された被膜は、優れた潤滑性(摺動性)を有しているため、記録媒体に定着されたトナー(高温状態のトナー)と接触した場合においても、記録媒体に形成された印刷部に悪影響を与えるのをより効果的に防止することができる。また、万が一、剥離部材が定着ローラの周面等の周面に接触した場合であっても、定着ローラ等に傷が付くこと等がより効果的に防止される。
(3) Carbon-based hard materials such as diamond-like carbon (DLC), hydrogenated amorphous carbon, and diamond.
When the coating is composed of the material as described above, the above-described effects can be exerted more remarkably, and also the wear resistance of the coating and the adhesion (to the substrate) Excellent and stable characteristics can be exhibited over a longer period (excellent durability). In addition, since the coating film made of the material as described above has excellent lubricity (sliding property), even when it comes into contact with the toner (high temperature toner) fixed on the recording medium, It is possible to more effectively prevent an adverse effect on the printing unit formed on the recording medium. In addition, even if the peeling member comes into contact with the peripheral surface such as the peripheral surface of the fixing roller, the fixing roller or the like is more effectively prevented from being damaged.

ところで、一般に、潤滑性(摺動性)に優れる物質は、表面エネルギーが小さく、基材(ワーク)上に成膜しようとしても、基材との密着性を十分に高めるのが困難であるが、本発明では、上記のような含ケイ素化合物((1)、(2)に示す加水分解縮合物の前駆体としての含ケイ素化合物)を付与した後に加水分解縮合反応を行うことにより、基材の密着性を優れたものとしつつ、潤滑性(摺動性)も優れたものとすることができる。また、このような加水分解縮合反応により生成される加水分解縮合物は、前記Xの加水分解および縮合反応(特に、(2)に示す材料で、前記Yが臭素またはヨウ素である場合には、前記Xの加水分解及び縮合反応に加えて、前記Yが関与するラジカル反応)によって生じる3次元構造の硬化物であり、また、式(I)で示される含ケイ素化合物は両末端に加水分解性の官能基またはハロゲン原子を有し、式(II)で示される含ケイ素化合物は加水分解性の官能基または水酸基(さらには、前記Yとしての臭素またはヨウ素)を有しているため、被膜が、(1)、(2)に示す材料で構成されたものである場合、基材との密着性(特に、本実施形態では、中間層を介した基材との密着性)は特に優れたものとなる。   By the way, in general, a substance excellent in lubricity (slidability) has a small surface energy, and even when trying to form a film on a substrate (work), it is difficult to sufficiently improve the adhesion to the substrate. In the present invention, the base material is obtained by performing a hydrolysis-condensation reaction after providing the silicon-containing compound as described above (silicon-containing compound as a precursor of the hydrolysis-condensation product shown in (1), (2)). It is possible to improve the lubricity (slidability) while improving the adhesion of the resin. Further, the hydrolysis condensate produced by such a hydrolysis-condensation reaction is a hydrolysis and condensation reaction of X (especially in the case of the material shown in (2), where Y is bromine or iodine, It is a cured product having a three-dimensional structure generated by the radical reaction involving Y in addition to the hydrolysis and condensation reaction of X, and the silicon-containing compound represented by the formula (I) is hydrolyzable at both ends. Since the silicon-containing compound represented by the formula (II) has a hydrolyzable functional group or a hydroxyl group (further, bromine or iodine as Y), , (1), in the case where it is composed of the material shown in (2), the adhesion to the substrate (particularly, in this embodiment, the adhesion to the substrate via the intermediate layer) is particularly excellent. It will be a thing.

以下、(1)の材料について詳細に説明する。
上述したように、式(I)中のZ(Z基)は、式:−(C2kO)−(式中、kは1〜6、好ましくは1〜4の整数である)で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する2価の基であるが、式(I)中のm、nがいずれも0である場合、前記式(I)中のO(酸素原子)に結合するZ基の末端は、酸素原子ではない。
このZ基としては、例えば、下記式(III)、(IV)で示されるものが挙げられる。Z基がこれらの式で表されるものである場合、前述したような効果はさらに顕著なものとして発揮される。ただし、Z基は、これらに限定されるものではない。
Hereinafter, the material (1) will be described in detail.
As described above, Z in formula (I) (Z group) of the formula :-( C k F 2k O) - in (where, k is 1 to 6, preferably an integer of 1 to 4) A divalent group having a linear perfluoropolyalkylene ether structure containing a unit and having no branch, but when m and n in the formula (I) are both 0, The terminal of Z group couple | bonded with O (oxygen atom) in (I) is not an oxygen atom.
Examples of the Z group include those represented by the following formulas (III) and (IV). In the case where the Z group is represented by these formulas, the effects as described above are more remarkable. However, the Z group is not limited to these.

Figure 2006133429
(ただし、式(III)中、qは1以上、好ましくは1〜50、より好ましくは10〜40の整数である。)
Figure 2006133429
(However, in formula (III), q is 1 or more, preferably 1 to 50, more preferably an integer of 10 to 40.)

Figure 2006133429
(式(IV)中、r、sは、それぞれ独立に1以上、好ましくは1〜50、より好ましくは10〜40の整数であり、かつr+sは、10〜100、好ましくは20〜90、より好ましくは40〜80の整数であり、該式中の繰り返し単位(OC)および(OCF)の配列はランダムである)
Figure 2006133429
(In the formula (IV), r and s are each independently 1 or more, preferably 1 to 50, more preferably an integer of 10 to 40, and r + s is 10 to 100, preferably 20 to 90. Preferably, it is an integer of 40 to 80, and the sequence of the repeating units (OC 2 F 4 ) and (OCF 2 ) in the formula is random)

また、上述したように、X、Yは、それぞれ独立に加水分解性基またはハロゲン原子である。
前記加水分解性基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、アリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基、ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−ブチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基、N−メチルアセトアミド基、N−エチルアセトアミド基、N−メチルベンズアミド基等のアミド基、N,N−ジメチルアミノオキシ基、N,N−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基等を挙げることができる。
As described above, X and Y are each independently a hydrolyzable group or a halogen atom.
Examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, and butoxy group, alkoxyalkoxy groups such as methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, and ethoxyethoxy group, and alkenyl groups such as allyloxy group and isopropenoxy group. Ketoximes such as oxy group, acetoxy group, propionyloxy group, butylcarbonyloxy group, benzoyloxy group and other acyloxy groups, dimethyl ketoxime group, methyl ethyl ketoxime group, diethyl ketoxime group, cyclopentanoxime group and cyclohexanoxime group Groups, N-methylamino groups, N-ethylamino groups, N-propylamino groups, N-butylamino groups, N, N-dimethylamino groups, N, N-diethylamino groups, N-cyclohexylamino groups, and other amino groups N-methyla Toamido group, N- ethyl acetamide group, an amido group such as N- methylbenzamide group, N, N- dimethylamino group, N, can be mentioned an amino group, such as N- diethylamino group.

また、前記ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
これらの中でも、上記X、Yとしては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基および塩素原子よりなる群から選択されるものであるのが好ましい。これにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして発揮される。
Moreover, as said halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example.
Among these, X and Y are preferably selected from the group consisting of a methoxy group, an ethoxy group, an isopropenoxy group, and a chlorine atom. As a result, the effects as described above are further prominent.

上記Rは、炭素原子数1〜8、好ましくは1〜3の一価炭化水素基である。上記Rとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基等が挙げられる。これらの中でもメチル基が好ましい。これにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして発揮される。   R is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples of R include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group and other alkyl groups, cyclopentyl group, cyclohexyl group and other cycloalkyl groups, phenyl group, and tolyl. Group, aryl groups such as xylyl group, aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group, alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group and hexenyl group. Among these, a methyl group is preferable. As a result, the effects as described above are further prominent.

また、前述したように、前記m、nは、それぞれ独立に0〜2の整数であるが、好ましくは1である。また、前記l、pは、それぞれ独立に1〜5の整数であるが、好ましくは、3である。
前記aおよびbは、それぞれ独立に2または3であるが、加水分解および縮合反応性、被膜(表面層)313の密着性の観点から、3であることが好ましい。
Further, as described above, m and n are each independently an integer of 0 to 2, but preferably 1. The l and p are each independently an integer of 1 to 5, preferably 3.
The above a and b are each independently 2 or 3, but are preferably 3 from the viewpoints of hydrolysis and condensation reactivity and adhesion of the coating film (surface layer) 313.

また、上記含ケイ素化合物(式(I)で示される含ケイ素化合物)の分子量は、特に制限されないが、安定性、取扱い易さ等の点から、重量平均分子量で500〜20,000であるのが好ましく、1000〜10,000であるのがより好ましい。
なお、式(I)で示される含ケイ素化合物は、1種単独で用いられるものであってもよいし、異なる構造を有する2種以上(異なる構造を有する2種以上の式(I)で示される含ケイ素化合物)を組み合わせても用いてもよい。
The molecular weight of the silicon-containing compound (silicon-containing compound represented by the formula (I)) is not particularly limited, but is 500 to 20,000 in terms of weight average molecular weight from the viewpoints of stability and ease of handling. Is preferable, and it is more preferable that it is 1000-10,000.
In addition, the silicon-containing compound represented by the formula (I) may be used alone, or two or more types having different structures (two or more types having different structures (I)). Or a silicon-containing compound) may be used in combination.

以下、(2)の材料について詳細に説明する。
上述したように、式(II)中のRは、パーフルオロアルキル基であれば特に限定されないが、例えば、炭素数1〜16の直鎖状または分岐状のものを挙げることができ、中でも、CF−、C−、C−が好ましい。
また、上述したように、式(II)中のR’は、水素または1価の炭化水素基を表す。このような1価の炭化水素基は、特に限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。また、R’で表される炭化水素基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
Hereinafter, the material (2) will be described in detail.
As described above, R in the formula (II) is not particularly limited as long as it is a perfluoroalkyl group, and examples thereof include linear or branched ones having 1 to 16 carbon atoms. CF 3- , C 2 F 5- , and C 3 F 7 -are preferred.
As described above, R ′ in the formula (II) represents hydrogen or a monovalent hydrocarbon group. Such a monovalent hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group or the like. Further, the hydrocarbon group represented by R ′ may be linear or branched.

また、式(II)中のa、b、c、d、eは、含ケイ素化合物の主骨格を構成するパーフルオロポリエーテル鎖の繰り返し単位数を表し、それぞれ独立に、0またまたは1以上の整数であり、かつ、a+b+c+d+eが1以上であれば特に限定されないが、a、b、c、d、eは、それぞれ独立して、0〜200であるのが好ましく、0〜50であるのがより好ましい。また、a+b+c+d+eは、1〜100であるのが好ましい。なお、a、b、c、d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順序は、便宜上、式(I)中においては上記の順に記載したが、これらの各繰り返し単位の結合順序は、この順に限定されるものではない。   A, b, c, d and e in the formula (II) represent the number of repeating units of the perfluoropolyether chain constituting the main skeleton of the silicon-containing compound, and each independently represents 0 or 1 or more. Although it is an integer and is not particularly limited as long as a + b + c + d + e is 1 or more, a, b, c, d and e are each independently preferably 0 to 200, and preferably 0 to 50. More preferred. Moreover, it is preferable that a + b + c + d + e is 1-100. The order of existence of each repeating unit delimited by a, b, c, d, and e is described in the above order in the formula (I) for convenience, but the bonding order of these repeating units is The order is not limited.

また、式(II)中のlは、パーフルオロポリエーテル鎖を構成する炭素とこれに結合するケイ素との間に存在するアルキレン基の炭素数を表し、0、1または2であるが、より好ましくは、0である。
また、式(II)中のXは、水酸基または加水分解可能な置換基を表す。加水分解可能な置換基としては、特に限定されないが、ハロゲン、−OR、−OCOR、−OC(R)=C(R、−ON=C(R、−ON=CR(ただし、式中、Rは、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、Rは、水素または炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表し、Rは、炭素数3〜6の2価の脂肪族炭化水素基を表す。)等が好ましく、塩素、−OCH、−OCがより好ましい。
In the formula (II), l represents the number of carbon atoms of an alkylene group present between the carbon constituting the perfluoropolyether chain and the silicon bonded thereto, and is 0, 1 or 2, Preferably, it is 0.
X in the formula (II) represents a hydroxyl group or a hydrolyzable substituent. The hydrolyzable substituent groups include, but are not limited to, halogen, -OR 1, -OCOR 1, -OC (R 1) = C (R 2) 2, -ON = C (R 1) 2, -ON = CR 3 (wherein, R 1 represents an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, R 2 represents hydrogen or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and R 3 represents Represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms, and the like, and chlorine, —OCH 3 , and —OC 2 H 5 are more preferable.

また、式(II)中のmは、ケイ素に結合する置換基Xの結合数を表し、1、2または3である。置換基Xが結合していない部分には、当該ケイ素にはR’が結合する。
また、式(II)のYは、水素、臭素またはヨウ素を表す。特に、Yが臭素またはヨウ素である場合には、含ケイ素化合物のラジカル反応性が高くなり、基材との密着性(中間層を介しての密着性を含む)を特に優れたものとすることができる。
M in the formula (II) represents the number of bonds of the substituent X bonded to silicon and is 1, 2 or 3. R ′ is bonded to the silicon at the portion where the substituent X is not bonded.
Y in the formula (II) represents hydrogen, bromine or iodine. In particular, when Y is bromine or iodine, the radical reactivity of the silicon-containing compound is increased, and the adhesion with the substrate (including adhesion through the intermediate layer) is particularly excellent. Can do.

また、式(II)中のZは、水素または炭素数1〜4のアルキル基を表す。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。また、Zで示されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
また、式(II)中のQは、フッ素でもよいしトリフルオロメチル基でもよい。
また、式(II)中のnは、1以上の整数であるが、1〜10の整数であるのが好ましい。nは、式(II)中においては整数を表すが、本発明での含ケイ素化合物は、このような整数nを有する一般式(II)で表される複数種のポリマーの混合物であってもよい。このような混合物としての含ケイ素化合物を用いる場合、上記nは、当該混合物中において平均値として表すことができ、nの平均値は、1.3〜3であるのが好ましく、1.5〜2.5であるのがより好ましい。
含ケイ素化合物の重量平均分子量は、特に限定されないが、5×10〜1×10であるのが好ましく、1×10〜1×10であるのがより好ましい。
上記含ケイ素化合物の好ましいものとしては、例えば、下記一般式(V)で表されるもの等を挙げることができる。
Z in formula (II) represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of such an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Moreover, the alkyl group represented by Z may be linear or branched.
Further, Q in the formula (II) may be fluorine or a trifluoromethyl group.
Further, n in the formula (II) is an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 10. Although n represents an integer in the formula (II), the silicon-containing compound in the present invention may be a mixture of a plurality of types of polymers represented by the general formula (II) having such an integer n. Good. In the case of using such a silicon-containing compound as a mixture, n can be expressed as an average value in the mixture, and the average value of n is preferably 1.3 to 3, preferably 1.5 to More preferably, it is 2.5.
The weight average molecular weight of the silicon-containing compound is not particularly limited, 5 × is preferably from 10 2 ~1 × 10 5, and more preferably 1 × 10 3 ~1 × 10 4 .
As a preferable thing of the said silicon-containing compound, what is represented by the following general formula (V) etc. can be mentioned, for example.

Figure 2006133429
Figure 2006133429

ただし、式(V)中、R’、X、Y、Z、l、m、nは、前記と同様であり、pは、1以上の整数を表す。式(V)中のpは、1以上の整数であれば特に限定されないが、1〜200であるのが好ましく、1〜50であるのがより好ましい。
含ケイ素化合物が上記式(V)で示されるものである場合、その重量平均分子量は、5×10〜1×10であるのが好ましく、1×10〜1×10であるのがより好ましい。
However, in the formula (V), R ′, X, Y, Z, 1, m, and n are the same as described above, and p represents an integer of 1 or more. Although p in Formula (V) will not be specifically limited if it is an integer greater than or equal to 1, It is preferable that it is 1-200, and it is more preferable that it is 1-50.
When the silicon-containing compound is represented by the above formula (V), the weight average molecular weight is preferably 5 × 10 2 to 1 × 10 5 , and is preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 4 . Is more preferable.

以下、(3)の材料について詳細に説明する。
前述したように、炭素系硬質材料としては、例えば、ダイヤモンド様炭素(DLC)、水素化アモルファス炭素、ダイヤモンド等が挙げられる。これらの炭素系硬質材料は、各種材料の中でも、特に優れた硬度、耐摩耗性を有している。したがって、被膜313がこのような材料で構成されたものであると、剥離部材31の耐久性は特に優れたものとなる。
Hereinafter, the material (3) will be described in detail.
As described above, examples of the carbon-based hard material include diamond-like carbon (DLC), hydrogenated amorphous carbon, diamond, and the like. These carbon-based hard materials have particularly excellent hardness and wear resistance among various materials. Accordingly, when the coating 313 is made of such a material, the durability of the peeling member 31 is particularly excellent.

また、このような炭素系硬質材料(特に、ダイヤモンド様炭素(DLC)、水素化アモルファス炭素)で構成された被膜313は、通常の使用条件では優れた安定性を有するものでありながらも、所定の方法により、容易に基材311上から除去することができる。このため、必要時(例えば、被膜313の一部にカケ等を生じてしまった場合等)には、基材311上から被膜313を一端除去し、再度、被膜313を好適に形成することができる。すなわち、剥離部材31の再利用(リサイクル)を好適に行うことができ、省資源の点からも好ましく、環境にも優しい。
なお、被膜313は、上記のような材料で構成されたものに限らず、いかなる材料で構成されたものであってもよい。
Further, the coating 313 made of such a carbon-based hard material (particularly diamond-like carbon (DLC) or hydrogenated amorphous carbon) has excellent stability under normal use conditions, but has a predetermined value. By this method, the substrate 311 can be easily removed. For this reason, when necessary (for example, when a chip or the like is formed on a part of the coating 313), the coating 313 is removed once from the substrate 311, and the coating 313 is preferably formed again. it can. That is, the reuse (recycling) of the peeling member 31 can be suitably performed, which is preferable from the viewpoint of resource saving and friendly to the environment.
Note that the coating 313 is not limited to one made of the material as described above, and may be made of any material.

上記のような被膜313(特に、上記(1)〜(3)で示した材料で構成された被膜313)の厚さは、特に限定されないが、0.1nm〜5μmであるのが好ましく、1〜100nmであるのがより好ましい。被膜313の厚さが前記範囲内の値であると、前述したような効果はさらに顕著なものとして発揮される。また、被膜313の厚さが前記範囲内の値であると、より確実に、被膜313の表面粗さ、すなわち、剥離部材31の表面粗さ(表面粗さRa、表面粗さRz)を前述したような範囲内の値とすることができ、剥離部材へのトナーの付着等をより確実に防止することができる。これに対し、被膜313の厚さが前記下限値未満であると、被膜313を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、被膜313の厚さが前記上限値を超えると、被膜313の密着性が低下し、界面剥離等が生じ易くなる傾向を示す。   The thickness of the coating 313 as described above (particularly, the coating 313 made of the materials shown in the above (1) to (3)) is not particularly limited, but is preferably 0.1 nm to 5 μm. More preferably, it is ˜100 nm. When the thickness of the coating 313 is a value within the above range, the above-described effect is exhibited more significantly. Further, when the thickness of the coating 313 is within the above range, the surface roughness of the coating 313, that is, the surface roughness (surface roughness Ra, surface roughness Rz) of the peeling member 31 is more reliably described above. Thus, the toner can be more reliably prevented from adhering to the peeling member. On the other hand, if the thickness of the coating 313 is less than the lower limit, the effect of providing the coating 313 may not be sufficiently exhibited. On the other hand, when the thickness of the coating 313 exceeds the upper limit, the adhesion of the coating 313 is lowered, and interface peeling or the like tends to occur.

上記のような被膜313は、基材311の表面側に設けられている。
基材311の構成材料は、特に限定されないが、例えば、ニッケル、アルミニウム、鉄、銅等の金属やこれらのうち少なくとも1種を含む合金(例えば、ステンレス鋼)、ポリエステル、ポリイミド等の樹脂等が挙げられる。この中でも、ステンレス鋼を用いた場合には、十分な成形性を確保しつつ、剥離部材の機械的安定性(形状の安定性)を特に優れたものとすることができる。
The coating 313 as described above is provided on the surface side of the base material 311.
Although the constituent material of the base material 311 is not particularly limited, for example, a metal such as nickel, aluminum, iron, or copper, an alloy containing at least one of these (for example, stainless steel), a resin such as polyester or polyimide, or the like. Can be mentioned. Among these, when stainless steel is used, the mechanical stability (shape stability) of the peeling member can be made particularly excellent while ensuring sufficient formability.

また、基材311の表面粗さRaは、0.1〜2.0μmであるのが好ましく、0.11〜1.5μmであるのがより好ましく、0.12〜1.4μmであるのがさらに好ましい。基材311の表面粗さRaが前記範囲内の値であると、被膜313の表面粗さ(剥離部材の表面粗さ)を、より確実に、前述したような範囲内の値とすることができ、剥離部材へのトナーの付着等をより確実に防止することができる。また、基材311の表面粗さRaが前記範囲内の値であると、例えば、前述した含ケイ素化合物の加水分解および縮合反応による硬化物を3次元構造のものとして効率良く形成することができ、その結果、基材311と被膜313との密着性(中間層312を介しての密着性)を特に優れたものとすることができる。   The surface roughness Ra of the base material 311 is preferably 0.1 to 2.0 μm, more preferably 0.11 to 1.5 μm, and preferably 0.12 to 1.4 μm. Further preferred. When the surface roughness Ra of the substrate 311 is a value within the above range, the surface roughness of the coating 313 (the surface roughness of the peeling member) can be more reliably set to a value within the above range. This can more reliably prevent toner from adhering to the peeling member. Further, when the surface roughness Ra of the substrate 311 is a value within the above range, for example, a cured product obtained by hydrolysis and condensation reaction of the silicon-containing compound described above can be efficiently formed as a three-dimensional structure. As a result, the adhesion between the substrate 311 and the coating 313 (adhesion via the intermediate layer 312) can be made particularly excellent.

また、基材311の表面粗さRzは、1.0〜17μmであるのが好ましく、1.2〜16μmであるのがより好ましく、4.0〜15μmであるのがさらに好ましい。基材311の表面粗さRzが前記範囲内の値であると、被膜313の表面粗さ(剥離部材の表面粗さ)を、より確実に、前述したような範囲内の値とすることができ、剥離部材へのトナーの付着等をより確実に防止することができる。また、基材311の表面粗さRzが前記範囲内の値であると、例えば、前述した含ケイ素化合物の加水分解および縮合反応による硬化物を3次元構造のものとして効率良く形成することができ、その結果、基材311と被膜313との密着性(中間層312を介しての密着性)を特に優れたものとすることができる。   In addition, the surface roughness Rz of the base material 311 is preferably 1.0 to 17 μm, more preferably 1.2 to 16 μm, and further preferably 4.0 to 15 μm. When the surface roughness Rz of the substrate 311 is a value within the above range, the surface roughness of the coating 313 (the surface roughness of the peeling member) can be more reliably set to a value within the above range. This can more reliably prevent toner from adhering to the peeling member. Further, when the surface roughness Rz of the substrate 311 is a value within the above range, for example, a cured product obtained by hydrolysis and condensation reaction of the silicon-containing compound described above can be efficiently formed as a three-dimensional structure. As a result, the adhesion between the substrate 311 and the coating 313 (adhesion via the intermediate layer 312) can be made particularly excellent.

特に、基材311が、表面粗さRa、表面粗さRzの条件をともに満足することにより、上述したような効果はさらに顕著なものとして発揮される。
また、本実施形態では、被膜313は、中間層312を介して、基材311上に設けられている。すなわち、本実施形態では、基材311と被膜313との間に中間層312が設けられている。このような中間層312を設けることにより、例えば、被膜313の密着性を特に優れたものとすることができる。
In particular, when the base material 311 satisfies both the conditions of the surface roughness Ra and the surface roughness Rz, the effects as described above are exhibited more significantly.
In the present embodiment, the coating 313 is provided on the base material 311 via the intermediate layer 312. That is, in the present embodiment, the intermediate layer 312 is provided between the base material 311 and the coating 313. By providing such an intermediate layer 312, for example, the adhesion of the coating 313 can be made particularly excellent.

中間層312は、いかなる材料で構成されたものであってもよく、基材311、被膜313の構成材料により、好ましい材料は異なるが、被膜313が上記の(1)、(2)で示したような材料で構成されたものである場合、主としてSiO、ZrO、Al、Y、TiO等の無機系酸化物で構成されたものであるのが好ましく、主として二酸化ケイ素で構成されたものであるのがより好ましい。これにより、基材311、被膜313との密着性を特に優れたものとすることができる。 The intermediate layer 312 may be made of any material, and the preferred material differs depending on the constituent materials of the base material 311 and the coating 313, but the coating 313 is shown in the above (1) and (2). In the case of being composed of such a material, it is preferably composed mainly of inorganic oxides such as SiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , TiO 2 , More preferably, it is composed of silicon. Thereby, especially adhesiveness with the base material 311 and the film 313 can be made excellent.

また、被膜313が上記の(3)で示したような材料で構成されたものである場合、中間層312は、主として、Si、B、Zr、Hf、Nb、Ta、Mo、Cu、Cr、Au、Si、Ag、W、Ti、Al、Ni、SnおよびVからなる群(以下、これらの元素をまとめて、Mで示す)から選択される少なくとも1種、または、前記Mの酸化物、炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物、炭酸窒化物、ホウ窒化物から選択される1種または2種以上で構成されたものであるのが好ましく、主としてCu、Cr、Au、Ag、W、Ti、Al、Ni、Sn、Vから選択される1種または2種以上で構成されたものであるのがより好ましい。これにより、基材311、被膜313との密着性を特に優れたものとすることができる。   Further, when the coating 313 is made of a material as shown in (3) above, the intermediate layer 312 is mainly made of Si, B, Zr, Hf, Nb, Ta, Mo, Cu, Cr, At least one selected from the group consisting of Au, Si, Ag, W, Ti, Al, Ni, Sn, and V (hereinafter, these elements are collectively represented by M), or the M oxide, It is preferably composed of one or more selected from carbide, nitride, carbonitride, carbonate, carbonitride, boronitride, and mainly Cu, Cr, Au, Ag, W , Ti, Al, Ni, Sn, and V, more preferably one or more selected from the group consisting of Thereby, especially adhesiveness with the base material 311 and the film 313 can be made excellent.

中間層312の厚さは、特に限定されないが、10〜500nmであるのが好ましく、50〜200nmであるのがより好ましい。中間層312の厚さが前記下限値未満であると、中間層312を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、中間層312の厚さが前記上限値を超えると、被膜との密着性を十分に高めるのが困難になる可能性がある。また、中間層312の厚さが前記上限値を超えると、剥離部材31の表面粗さを前述したような範囲内の値とするのが困難になる可能性がある。   Although the thickness of the intermediate | middle layer 312 is not specifically limited, It is preferable that it is 10-500 nm, and it is more preferable that it is 50-200 nm. If the thickness of the intermediate layer 312 is less than the lower limit, the effect of providing the intermediate layer 312 may not be sufficiently exhibited. Further, if the thickness of the intermediate layer 312 exceeds the upper limit, it may be difficult to sufficiently improve the adhesion with the coating film. If the thickness of the intermediate layer 312 exceeds the upper limit, it may be difficult to set the surface roughness of the peeling member 31 to a value within the above-described range.

また、図7(A)に示すように、本実施形態においては、基材311は、先端部にエッジ(角部)Eを有するものであり、その表面側に、中間層312、被膜313が積層されている。このような構成により、万が一、図7(B)に示すように、被膜313が摩耗してしまった場合等であっても、記録媒体はエッジEで線接触するだけのため、トナーの固着や画像すじの発生を防ぐことができ、その分だけ剥離部材31の耐久性を向上させることができる。このようなエッジEは、機械的研磨、電解研磨、エッチング等の精密仕上げ加工を施すことにより、容易かつ確実に形成することができる。   Further, as shown in FIG. 7A, in this embodiment, the base material 311 has an edge (corner) E at the tip, and the intermediate layer 312 and the coating 313 are formed on the surface side. Are stacked. With such a configuration, as shown in FIG. 7B, even if the coating 313 is worn, the recording medium is only in line contact with the edge E, so that the toner can be fixed. The generation of image streaks can be prevented, and the durability of the peeling member 31 can be improved accordingly. Such an edge E can be easily and reliably formed by performing precision finishing such as mechanical polishing, electrolytic polishing, and etching.

[剥離部材の製造方法]
次に、剥離部材の製造方法について説明する。
まず、剥離部材の形状に対応する形状の基材311を用意する。
このような基材311は、例えば、板材に対して、折り曲げ、孔開け等の加工を施すことにより得られたものであってもよいし、例えば、各種成形方法(例えば、金属材料の場合には、鋳造、鍛造等、樹脂材料の場合には、圧縮成形、射出成形等)により、直接所望の形状となるように成形されたものであってもよい。なお、このような場合であっても、研磨等の仕上げ加工を施してもよい。
[Method for Manufacturing Peeling Member]
Next, the manufacturing method of a peeling member is demonstrated.
First, a base material 311 having a shape corresponding to the shape of the peeling member is prepared.
Such a base material 311 may be obtained, for example, by subjecting a plate material to bending, punching, or the like. For example, in the case of a metal material, In the case of a resin material such as casting or forging, it may be molded directly into a desired shape by compression molding, injection molding or the like. Even in such a case, finishing such as polishing may be performed.

用意される基材311は、上述したような表面粗さを有するものである。
上記のような表面粗さは、例えば、必要に応じて研磨等の処理が施した基材311に対し、ショットブラスト、サンドブラスト、液体ブラスト等のブラスト処理等を施すことにより、容易かつ確実に実現することができる。
次に、基材311の表面に中間層312を形成する。
The prepared base material 311 has the surface roughness as described above.
The surface roughness as described above can be easily and reliably realized, for example, by performing blasting such as shot blasting, sand blasting, or liquid blasting on the base material 311 that has been subjected to processing such as polishing as necessary. can do.
Next, the intermediate layer 312 is formed on the surface of the substrate 311.

中間層312の形成方法は、特に限定されないが、例えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法(ウェットプロセス)、熱CVD、プラズマCVD(マイクロ波プラズマCVD法、直流プラズマCVD、高周波プラズマCVD、有磁場マイクロ波プラズマCVD、レーザープラズマCVD、熱フィラメントCVD法等を含む)、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着(イオンビーム蒸着、レーザー蒸着等を含む)、スパッタリング(イオンビーム・スパッタ法、プラズマ・スパッタ法、反応性プラズマ・スパッタ法等を含む)、イオンプレーティング、イオン注入法、イオンビーム・ミキシング法、クラスター・イオンビーム法、アーク放電法、プラズマジェット法(DC、RF)、燃焼炎法等の乾式めっき法(ドライプロセス)、溶射、スピンコート、カーテンフローコート、ロールコート、スプレーコート、流し塗り、刷毛塗り、ディッピング、静電塗装、電着塗装等の各種塗布法等が挙げられる。特に、中間層312が無機酸化物で構成されるものである場合、真空蒸着が好ましい。これにより、比較的膜厚の小さな中間層312を均一な厚さで形成することができる。   The method for forming the intermediate layer 312 is not particularly limited, but for example, wet plating methods (wet process) such as electrolytic plating, immersion plating, and electroless plating, thermal CVD, plasma CVD (microwave plasma CVD method, direct current plasma CVD, (Including high frequency plasma CVD, magnetic field microwave plasma CVD, laser plasma CVD, hot filament CVD, etc.), chemical vapor deposition (CVD) such as laser CVD, vacuum deposition (including ion beam deposition, laser deposition, etc.), sputtering (Including ion beam sputtering, plasma sputtering, reactive plasma sputtering, etc.), ion plating, ion implantation, ion beam mixing, cluster ion beam, arc discharge, plasma jet (DC, RF), dry flames such as combustion flame method Can process (dry process), spraying, spin coating, curtain flow coating, roll coating, spray coating, flow coating, brush coating, dipping, electrostatic coating, electrodeposition coating of various application methods such as and the like. In particular, when the intermediate layer 312 is made of an inorganic oxide, vacuum deposition is preferable. Thus, the intermediate layer 312 having a relatively small thickness can be formed with a uniform thickness.

なお、中間層312の形成に先立ち、基材311に対しては、アルカリ洗浄、酸洗浄、水洗、有機溶剤洗浄等の洗浄処理、ボンバード処理、エッチング処理等の処理を施してもよい。これにより、例えば、基材311と中間層312との密着性の向上などを図ることができる。
次に、被膜313を形成する。
Prior to the formation of the intermediate layer 312, the base material 311 may be subjected to a cleaning process such as alkali cleaning, acid cleaning, water cleaning, or organic solvent cleaning, a bombarding process, an etching process, or the like. Thereby, for example, the adhesion between the base material 311 and the intermediate layer 312 can be improved.
Next, a coating 313 is formed.

被膜313の形成方法は、特に限定されないが、被膜313が上述した(1)、(2)を含むような材料で構成されるものである場合、例えば、中間層312上に、含ケイ素化合物を含むコーティング剤を塗布した後に加水分解および縮合させる方法(方法A)、直接中間層312上に含ケイ素化合物を用いた真空蒸着を行う方法(方法B)等が挙げられる。方法Aを採用した場合、容易かつ確実に被膜313を形成することができる。また、膜厚の比較的大きい被膜313であっても、容易に形成することができ、剥離部材の耐久性を特に高いものとすることができる。また、方法Bを採用した場合、膜厚の均一性の高い被膜313を容易かつ確実に形成することができる。また、方法Bでは、膜厚の比較的小さい被膜313でも十分均一に形成することができる。その結果、基材311の特性をより効果的に発揮させつつ、被膜313を有することによる効果を得ることができる。なお、方法Bを採用した場合、通常、真空蒸着を行う際に、含ケイ素化合物の加水分解および縮合反応を進行させることができるため、成膜後、別途、加水分解反応、縮合反応を行うための処理を省略または簡略化することができる。
特に、含ケイ素化合物を含む塗布剤を塗布する方法(方法A)の場合、含ケイ素化合物が流体であればそのまま使用してもよいが、適当な液性媒体(例えば、溶媒、分散媒等)に希釈、分散して用いてもよい。液性媒体を用いる場合、1種単独でも2種以上の混合物であってもよい。
A method for forming the film 313 is not particularly limited, but when the film 313 is formed of a material including the above-described (1) and (2), for example, a silicon-containing compound is formed on the intermediate layer 312. Examples thereof include a method (Method A) in which hydrolysis and condensation are performed after the coating agent is applied, and a method in which vacuum deposition using a silicon-containing compound is directly performed on the intermediate layer 312 (Method B). When Method A is employed, the coating 313 can be formed easily and reliably. Moreover, even the coating 313 having a relatively large thickness can be easily formed, and the durability of the peeling member can be made particularly high. Further, when the method B is employed, the coating 313 having a high film thickness uniformity can be easily and reliably formed. In Method B, a coating 313 having a relatively small thickness can be formed sufficiently uniformly. As a result, the effect of having the coating 313 can be obtained while exhibiting the characteristics of the substrate 311 more effectively. In the case of adopting method B, since the hydrolysis and condensation reaction of the silicon-containing compound can usually proceed during vacuum deposition, the hydrolysis reaction and the condensation reaction are separately performed after film formation. This process can be omitted or simplified.
In particular, in the method of applying a coating agent containing a silicon-containing compound (Method A), if the silicon-containing compound is a fluid, it may be used as it is, but an appropriate liquid medium (for example, solvent, dispersion medium, etc.) It may be used after diluting and dispersing. When using a liquid medium, 1 type may be individual, or 2 or more types of mixtures may be sufficient.

使用できる液性媒体としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−1,3―ジメチルシクロヘキサン、HCFC225(CFCFCHClとCClFCFCHClFとの混合物)等のフッ素変性脂肪族炭化水素系物質、1,3−ジ(トリフルオロメチル)ベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等のフッ素変性芳香族炭化水素系物質、メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)等のフッ素変性エーテル系物質、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミン等のフッ素変性アルキルアミン系物質、石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、ヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系物質、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系物質、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系化合物、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系化合物、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエチレン、ブロモベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、含ケイ素化合物の溶解性、塗布対象面の濡れ性等の点で、フッ素変性された物質が好ましく、特に、1,3−ジ(トリフルオロメチル)ベンゼン、パーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)、パーフルオロトリブチルアミンが好ましい。特に、上記のように、基材311が所定の表面粗さに調節されている場合、このようなコーティング液を好適に付与することができる。より詳しく説明すると、基材311が所定の表面粗さに調節されている場合、コーティング液をより均一に付与(塗布)することでき、より確実に均一な厚さの被膜313を形成することができる。また、基材311と被膜313との密着性を特に優れたものとすることができる。 Examples of the liquid medium that can be used include perfluorohexane, perfluoroheptane, perfluorooctane, perfluoromethylcyclohexane, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane, HCFC225 (CF 3 CF 2 CHCl 2 and CClF 2 CF 2 Fluorine-modified aliphatic hydrocarbon materials such as CHClF), fluorine-modified aromatic hydrocarbon materials such as 1,3-di (trifluoromethyl) benzene, trifluoromethylbenzene, methyl perfluorobutyl ether, perfluoro Fluorine-modified ether materials such as (2-butyltetrahydrofuran), fluorine-modified alkylamine materials such as perfluorotributylamine and perfluorotripentylamine, petroleum benzine, mineral spirits, hexane, cyclohexa , Hydrocarbons such as isooctane, benzene, toluene, xylene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethers such as diethyl ether and diisopropyl ether, esters such as ethyl acetate and butyl acetate Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as compounds, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, trichloroethylene, bromobenzene, and the like, and one or more selected from these can be used in combination. Among these, fluorine-modified substances are preferable in terms of the solubility of the silicon-containing compound and the wettability of the surface to be coated, and in particular, 1,3-di (trifluoromethyl) benzene, perfluoro (2-butyl Tetrahydrofuran) and perfluorotributylamine. In particular, as described above, when the substrate 311 is adjusted to a predetermined surface roughness, such a coating liquid can be suitably applied. More specifically, when the substrate 311 is adjusted to a predetermined surface roughness, the coating liquid can be applied (applied) more uniformly, and the coating 313 having a uniform thickness can be more reliably formed. it can. In addition, the adhesion between the base material 311 and the coating 313 can be made particularly excellent.

塗布方法としては、例えば、刷毛塗り、ディッピング、スピンコート、カーテンフローコート、ロールコート、グラビアコート、スプレーコート、流し塗り、静電塗装、電着塗装等の各種塗布法を採用することができる。処理方法によって最適な処理温度は異なるが、例えば、刷毛塗り、ディッピングの場合は、20〜120℃の範囲で行うのが好ましい。処理湿度条件としては、加湿下で行うことが加水分解および縮合反応を促進する上で好ましいが、使用する含ケイ素化合物の種類、添加剤の使用等によって処理条件は異なるため、その都度最適な条件とすることが好ましい。なお、例えば、方法Bのように、含ケイ素化合物を真空蒸着した場合についても、必要に応じて、上記と同様にして、加水分解および縮合反応を進行させるための処理を施してもよい。   As the coating method, for example, various coating methods such as brush coating, dipping, spin coating, curtain flow coating, roll coating, gravure coating, spray coating, flow coating, electrostatic coating, and electrodeposition coating can be employed. Although the optimum processing temperature differs depending on the processing method, for example, in the case of brush coating and dipping, it is preferably performed in the range of 20 to 120 ° C. As the treatment humidity conditions, it is preferable to perform the treatment under humidification in order to accelerate the hydrolysis and condensation reaction. However, the treatment conditions differ depending on the type of silicon-containing compound used, the use of additives, etc. It is preferable that In addition, for example, when the silicon-containing compound is vacuum-deposited as in Method B, a treatment for advancing the hydrolysis and condensation reaction may be performed in the same manner as described above, if necessary.

また、上記塗布により形成された塗膜は、(液性媒体を用いた場合には、液性媒体の蒸発後に)大気中の水分により、加水分解されて本発明の被膜を形成するが、必要に応じて、コーティング剤に、加水分解性の官能基またはハロゲン原子の加水分解反応を促進するため、触媒を添加してもよい。前記触媒としては、例えば、ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫等の有機錫化合物、テトラn−ブチルチタネート等のチタン含有有機化合物、酢酸、メタンスルホン酸等の有機酸、硫酸等の無機酸等が挙げられ、これら空選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、特に、酢酸、テトラn−ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫が好ましい。前記触媒を添加する場合、その添加量は、特に制限されないが、含ケイ素化合物100重量部に対して0.01〜5重量部であるのが好ましく、0.1〜1重量部であるのがより好ましい。このような割合で触媒を含むことにより、優れた特性の被膜をより効率良く形成することができる。
また、コーティング剤中には、例えば、前記含ケイ素化合物の部分加水分解縮合物が含まれていてもよい。
In addition, the coating film formed by the above application is hydrolyzed by moisture in the atmosphere (after evaporation of the liquid medium when a liquid medium is used) to form the coating film of the present invention. Accordingly, a catalyst may be added to the coating agent in order to accelerate the hydrolysis reaction of the hydrolyzable functional group or halogen atom. Examples of the catalyst include organic tin compounds such as dibutyltin dimethoxide and dibutyltin dilaurate, titanium-containing organic compounds such as tetra n-butyl titanate, organic acids such as acetic acid and methanesulfonic acid, and inorganic acids such as sulfuric acid. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, acetic acid, tetra n-butyl titanate, and dibutyltin dilaurate are particularly preferable. When the catalyst is added, the amount added is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the silicon-containing compound. More preferred. By including the catalyst at such a ratio, a film having excellent characteristics can be formed more efficiently.
Moreover, in the coating agent, the partial hydrolysis-condensation product of the said silicon-containing compound may be contained, for example.

また、被膜313が上述した(3)を含むような材料で構成されるものである場合、被膜313は、例えば、熱CVD、プラズマCVD(マイクロ波プラズマCVD法、直流プラズマCVD、高周波プラズマCVD、有磁場マイクロ波プラズマCVD、レーザープラズマCVD、熱フィラメントCVD法等を含む)、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着(イオンビーム蒸着、レーザー蒸着等を含む)、スパッタリング(イオンビーム・スパッタ法、プラズマ・スパッタ法、反応性プラズマ・スパッタ法等を含む)、イオンプレーティング、イオン注入法、イオンビーム・ミキシング法、クラスター・イオンビーム法、アーク放電法、プラズマジェット法(DC、RF)、燃焼炎法等の乾式めっき法(ドライプロセス)により好適に形成することができる。特に、被膜313がダイヤモンド様炭素(DLC)、水素化アモルファス炭素で構成されるものである場合、マイクロ波プラズマCVD、直流プラズマCVD、高周波プラズマCVD、有磁場マイクロ波プラズマCVD、レーザープラズマCVD等の化学蒸着法(CVD)、反応性プラズマ・スパッタ法、イオンビーム・スパッタ法、イオンビーム蒸着、イオンプレーティング、イオン注入法等により好適に形成することができる。このとき用いる原料ガスとしては、例えば、含炭素ガスであるメタン、エタン、プロパン、エチレン、ベンゼン、アセチレン等の炭化水素、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエタン等ハロゲン化炭化水素、メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類、(CHCO、(CCO等のケトン類、CO、CO等のガスや、これらにN、H、O、HO、Ar等のガスを混合したもの等が挙げられる。また、固体炭素源としては、例えば、高純度のグラファイトやガラス状炭素等を用いることができる。また、アシスト・イオンビームを用いる場合には、通常、前述の材料の他に、He、N、H、O、HO、Ar、Ne、Kr、Xe等のガスを用いる。また、被膜313がダイヤモンドで構成されるものである場合、マイクロ波プラズマCVD、直流プラズマCVD、高周波プラズマCVD、有磁場マイクロ波プラズマCVD、レーザープラズマCVD等の化学蒸着法(CVD)、反応性プラズマ・スパッタ法、イオンビーム・スパッタ法、イオンビーム蒸着、プラズマジェット法(DC、RF)、燃焼炎法等により好適に形成することができる。このときの原料としては、例えば、前述の気体あるいは固体源等を用いることができる。 When the coating 313 is made of a material including the above (3), the coating 313 is formed by, for example, thermal CVD, plasma CVD (microwave plasma CVD, direct current plasma CVD, high frequency plasma CVD, (Including magnetic field microwave plasma CVD, laser plasma CVD, hot filament CVD method), chemical vapor deposition (CVD) such as laser CVD, vacuum deposition (including ion beam deposition, laser deposition, etc.), sputtering (ion beam, (Including sputtering, plasma / sputtering, reactive plasma / sputtering, etc.), ion plating, ion implantation, ion beam mixing, cluster ion beam, arc discharge, plasma jet (DC, RF) ), By dry plating methods such as the combustion flame method It can be formed to apply. In particular, when the coating 313 is composed of diamond-like carbon (DLC) or hydrogenated amorphous carbon, microwave plasma CVD, direct current plasma CVD, high frequency plasma CVD, magnetic field microwave plasma CVD, laser plasma CVD, etc. It can be suitably formed by chemical vapor deposition (CVD), reactive plasma sputtering, ion beam sputtering, ion beam vapor deposition, ion plating, ion implantation, or the like. Examples of the raw material gas used here include hydrocarbons such as methane, ethane, propane, ethylene, benzene, and acetylene, which are carbon-containing gases, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, and trichloroethane, methyl alcohol , Alcohols such as ethyl alcohol, ketones such as (CH 3 ) 2 CO, (C 6 H 5 ) 2 CO, gases such as CO and CO 2 , and N 2 , H 2 , O 2 and H 2 What mixed gas, such as O and Ar, etc. are mentioned. Moreover, as a solid carbon source, high purity graphite, glassy carbon, etc. can be used, for example. When an assist ion beam is used, a gas such as He, N 2 , H 2 , O 2 , H 2 O, Ar, Ne, Kr, or Xe is usually used in addition to the above materials. When the coating 313 is made of diamond, chemical vapor deposition (CVD) such as microwave plasma CVD, direct current plasma CVD, high frequency plasma CVD, magnetic field microwave plasma CVD, laser plasma CVD, or reactive plasma. It can be suitably formed by sputtering, ion beam sputtering, ion beam evaporation, plasma jet (DC, RF), combustion flame method, or the like. As the raw material at this time, for example, the aforementioned gas or solid source can be used.

以上、本発明の定着装置および画像形成装置について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、定着装置、画像形成装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、剥離部材は、基材と、中間層と、被膜とを有するものとして説明したが、このような被膜や、中間層はなくてもよい。また、基材と被膜との間には、2層以上の中間層が設けられていてもよい。
While the fixing device and the image forming apparatus of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, the present invention is not limited to these.
For example, each unit constituting the fixing device and the image forming apparatus can be replaced with an arbitrary configuration that can exhibit the same function.
In the above-described embodiment, the peeling member has been described as having a base material, an intermediate layer, and a coating, but such a coating or intermediate layer may not be provided. Two or more intermediate layers may be provided between the substrate and the coating.

また、剥離部材の表面には、保護層等が設けられていてもよい。これにより、例えば、剥離部材の保管時等に、剥離部材の構成材料が劣化したり、傷ついたりするのを効果的に防止することができる。なお、保護層は、このような機能を有するものに限定されない。また、このような保護層は、定着装置の使用時(組み立て時)に、除去されるものであってもそうでなくてもよい。   Further, a protective layer or the like may be provided on the surface of the peeling member. Thereby, for example, when the peeling member is stored, the constituent material of the peeling member can be effectively prevented from being deteriorated or damaged. In addition, a protective layer is not limited to what has such a function. Further, such a protective layer may or may not be removed when the fixing device is used (assembled).

また、前述した実施形態で説明したような剥離部材の構成(基材と被膜とを有する構成、更には、基材と被膜との間に中間層を有する構成)は、例えば、他の部材に対しても好適に適用することができる。例えば、前述したような剥離部材の構成は、定着ローラの表面を構成する離型層、定着ローラのリング部、シャフト部、現像ローラの表面層等にも好適に適用することができる。   In addition, the configuration of the peeling member as described in the above-described embodiment (the configuration having a base material and a coating, and the configuration having an intermediate layer between the base material and the coating) can be applied to other members, for example. The present invention can also be suitably applied. For example, the configuration of the peeling member as described above can be suitably applied to a release layer that forms the surface of the fixing roller, a ring portion of the fixing roller, a shaft portion, a surface layer of the developing roller, and the like.

また、本発明では、定着装置を構成する剥離部材のうち少なくとも1つが上述したような構成を有するものであれば良く、加圧ローラ側の剥離部材のみが上述したような構成を有していてもよい。このように、定着装置が複数の剥離部材を有する場合、定着ローラ側の剥離部材、加熱ローラ側の剥離部材のうち少なくとも一方が、前述したような構成(基材と被膜とを有する構成)を有するものであればよいが、少なくとも、定着ローラ側の剥離部材が前述したような構成を有しているのが好ましい。これにより、本発明による効果が、より確実に発揮される。   In the present invention, at least one of the peeling members constituting the fixing device may have the above-described configuration, and only the pressure roller-side peeling member has the above-described configuration. Also good. As described above, when the fixing device includes a plurality of peeling members, at least one of the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the heating roller side has the configuration as described above (configuration including the base material and the coating film). However, at least the peeling member on the fixing roller side preferably has the above-described configuration. Thereby, the effect by this invention is exhibited more reliably.

(実施例1)
まず、図4に示すような形状を有するステンレス鋼(SUS301)製の基材を用意した。
次に、この基材の表面に、電解研磨による鏡面加工を施した。その後、鏡面加工が施された表面に、液体ブラストにより微小な凹凸を形成した。液体ブラストは、ローラ搬送機により搬送されてくる基材に対して、エメリー粉を水に分散して得られたスラリー状の物質を、高圧で噴射することにより行った。その後、十分な洗浄を行うことにより、研削粉を除去し、さらに、乾燥を行った。上記のような処理が施された基材は、表面粗さRaが1.4μmであり、表面粗さRzが15μmであった。
Example 1
First, a stainless steel (SUS301) base material having a shape as shown in FIG. 4 was prepared.
Next, the surface of this base material was mirror-finished by electrolytic polishing. After that, minute irregularities were formed by liquid blasting on the mirror-finished surface. Liquid blasting was performed by injecting a slurry-like substance obtained by dispersing emery powder in water onto a substrate conveyed by a roller conveyor at high pressure. Then, by performing sufficient cleaning, the grinding powder was removed and further dried. The base material subjected to the above treatment had a surface roughness Ra of 1.4 μm and a surface roughness Rz of 15 μm.

次に、この基材の表面に、二酸化ケイ素で構成される中間層を形成した。中間層の形成は、真空蒸着により行った。このようにして形成された中間層の厚さは、100nmであった。また、中間層は、その表面粗さRaが0.7μmであり、表面粗さRzが8μmであった。
次に、中間層の表面に、下記式(VI)で示される含ケイ素化合物を用いた真空蒸着を行い、当該願ケイ素化合物の加水分解縮合物で構成された被膜を形成することにより、剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を得た。なお、この含ケイ素化合物の重量平均分子量は、3500であった。
Next, an intermediate layer made of silicon dioxide was formed on the surface of the substrate. The intermediate layer was formed by vacuum deposition. The thickness of the intermediate layer thus formed was 100 nm. The intermediate layer had a surface roughness Ra of 0.7 μm and a surface roughness Rz of 8 μm.
Next, a vacuum release using a silicon-containing compound represented by the following formula (VI) is performed on the surface of the intermediate layer to form a film composed of a hydrolyzed condensate of the desired silicon compound. (Peeling member on the fixing roller side) was obtained. The silicon-containing compound had a weight average molecular weight of 3500.

Figure 2006133429
(ただし、式(VI)中、qは10〜40の整数である。)
Figure 2006133429
(However, q is an integer of 10-40 in Formula (VI).)

このようにして形成された被膜は、その厚さが10nmであり、表面粗さRaが0.4μmであり、表面粗さRzが7μmであった。
また、上記と同様にして加圧ローラ側の剥離部材を作製し、これらを用いて、図2、3、5、6に示すような定着装置を製造し、更に、この定着装置を用いて、図1に示すような画像形成装置を製造した。
The film thus formed had a thickness of 10 nm, a surface roughness Ra of 0.4 μm, and a surface roughness Rz of 7 μm.
In addition, a peeling member on the pressure roller side is prepared in the same manner as described above, and a fixing device as shown in FIGS. 2, 3, 5, and 6 is manufactured using these members. Further, using this fixing device, An image forming apparatus as shown in FIG. 1 was manufactured.

なお、定着ローラは、その直径が30mmで、シリコンゴム(硬度JISA5°)で構成された厚さ1mmの弾性層と、PFAで構成された厚さ40μmの表層とを備えるものであり、加圧ローラは、その直径が35mmであり、シリコンゴム(硬度JISA10°)で構成された厚さ6mmの弾性層と、PFAで構成された厚さ40μmの表層とを備えるものであった。定着ニップ出口と剥離部31a先端の距離を6.5mm、定着ニップ幅を8mm、定着温度を175℃、紙搬送速度を215mm/秒、ローラ圧接加重を31kgfに設定した。   The fixing roller has a diameter of 30 mm, a 1 mm thick elastic layer made of silicon rubber (hardness JIS A 5 °), and a 40 μm thick surface layer made of PFA. The roller had a diameter of 35 mm, and provided with a 6 mm thick elastic layer made of silicon rubber (hardness JISA 10 °) and a 40 μm thick surface layer made of PFA. The distance between the fixing nip outlet and the tip of the peeling portion 31a was set to 6.5 mm, the fixing nip width was set to 8 mm, the fixing temperature was set to 175 ° C., the paper conveyance speed was set to 215 mm / second, and the roller pressure contact load was set to 31 kgf.

(実施例2)
被膜の形成に用いる含ケイ素化合物として、下記式(VII)で示されるものを用い、基材上への含ケイ素化合物の付与を、含ケイ素化合物を含むコーティング剤を塗布することにより行った以外は、前記実施例1と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を製造した。
(Example 2)
Except that the silicon-containing compound used for forming the coating is represented by the following formula (VII), and the silicon-containing compound is applied to the substrate by applying a coating agent containing the silicon-containing compound. In the same manner as in Example 1, peeling members (fixing roller side peeling member and pressure roller side peeling member) were produced.

Figure 2006133429
(ただし、式(VII)中、r、sは、それぞれ独立に20〜30の整数であり、かつr+sは、40〜60の整数であり、該式中の繰り返し単位(OC)および(OCF)の配列はランダムである)
Figure 2006133429
(In the formula (VII), r and s are each independently an integer of 20 to 30, and r + s is an integer of 40 to 60, and the repeating unit (OC 2 F 4 ) in the formula and The sequence of (OCF 2 ) is random)

なお、この含ケイ素化合物の重量平均分子量は、5000であった。
コーティング剤としては、含ケイ素化合物:100重量部、酢酸:0.5重量部、1,3−ジ(トリフルオロメチル)ベンゼン:500重量部の混合物を用いた。
また、コーティング剤の塗布は、ディッピングにより行った。また、ディッピング時における基材およびコーティング液の温度は、25℃であった。
The silicon-containing compound had a weight average molecular weight of 5000.
As the coating agent, a mixture of silicon-containing compound: 100 parts by weight, acetic acid: 0.5 parts by weight, 1,3-di (trifluoromethyl) benzene: 500 parts by weight was used.
The coating agent was applied by dipping. Moreover, the temperature of the base material and the coating liquid at the time of dipping was 25 degreeC.

その後、減圧加熱環境下で1,3−ジ(トリフルオロメチル)ベンゼンの除去を行い、更に、80%RH、80℃の雰囲気中で90分放置することにより、含ケイ素化合物の加水分解縮合反応を進行させ、上記含ケイ素化合物の加水分解縮合物で構成された被膜を形成した。このようにして形成された被膜は、その厚さが10nmであり、表面粗さRaが0.35mであり、表面粗さRzが6.5μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例1と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
Thereafter, 1,3-di (trifluoromethyl) benzene is removed under a reduced pressure heating environment, and the mixture is allowed to stand in an atmosphere of 80% RH and 80 ° C. for 90 minutes, thereby hydrolyzing and condensing the silicon-containing compound. To form a film composed of the hydrolysis-condensation product of the silicon-containing compound. The film thus formed had a thickness of 10 nm, a surface roughness Ra of 0.35 m, and a surface roughness Rz of 6.5 μm.
In addition, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 1 using the peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side) obtained as described above.

(実施例3)
まず、図4に示すような形状を有するステンレス鋼(SUS301)製の基材を用意した。
次に、この基材の表面に、電解研磨による鏡面加工を施した。その後、鏡面加工が施された表面に、液体ブラストにより微小な凹凸を形成した。液体ブラストは、ローラ搬送機により搬送されてくる基材に対して、エメリー粉を水に分散して得られたスラリー状の物質を、高圧で噴射することにより行った。その後、十分な洗浄を行うことにより、研削粉を除去し、さらに、乾燥を行った。上記のような処理が施された基材は、表面粗さRaが1.4μmであり、表面粗さRzが15μmであった。
(Example 3)
First, a stainless steel (SUS301) base material having a shape as shown in FIG. 4 was prepared.
Next, the surface of this base material was mirror-finished by electrolytic polishing. After that, minute irregularities were formed by liquid blasting on the mirror-finished surface. Liquid blasting was performed by injecting a slurry-like substance obtained by dispersing emery powder in water onto a substrate conveyed by a roller conveyor at high pressure. Then, by performing sufficient cleaning, the grinding powder was removed and further dried. The base material subjected to the above treatment had a surface roughness Ra of 1.4 μm and a surface roughness Rz of 15 μm.

次に、この基材の表面に、二酸化ケイ素で構成される中間層を形成した。中間層の形成は、真空蒸着により行った。このようにして形成された中間層の厚さは、120nmであった。また、中間層は、その表面粗さRaが0.65mであり、表面粗さRzが7.5μmであった。
次に、中間層の表面に、下記式(VIII)で示される含ケイ素化合物を用いた真空蒸着を行い、当該願ケイ素化合物の加水分解縮合物で構成された被膜を形成することにより、剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を得た。なお、この含ケイ素化合物の重量平均分子量は、22000であった。
Next, an intermediate layer made of silicon dioxide was formed on the surface of the substrate. The intermediate layer was formed by vacuum deposition. The thickness of the intermediate layer thus formed was 120 nm. The intermediate layer had a surface roughness Ra of 0.65 m and a surface roughness Rz of 7.5 μm.
Next, a vacuum release using a silicon-containing compound represented by the following formula (VIII) is performed on the surface of the intermediate layer to form a film composed of a hydrolyzed condensate of the desired silicon compound, whereby a peeling member (Peeling member on the fixing roller side) was obtained. The silicon-containing compound had a weight average molecular weight of 22,000.

Figure 2006133429
(ただし、式(VIII)中、pは、100〜150の整数であり、nは、3〜7の整数である。)
Figure 2006133429
(However, in Formula (VIII), p is an integer of 100-150, and n is an integer of 3-7.)

このようにして形成された被膜は、その厚さが10nmであり、表面粗さRaが0.45mであり、表面粗さRzが7μmであった。
また、上記と同様にして加圧ローラ側の剥離部材を作製した。
その後、これらの剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例1と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
The film thus formed had a thickness of 10 nm, a surface roughness Ra of 0.45 m, and a surface roughness Rz of 7 μm.
Further, a peeling member on the pressure roller side was produced in the same manner as above.
Thereafter, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 1 using these peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side).

(実施例4)
被膜の形成に用いる含ケイ素化合物として、下記式(IX)で示されるものを用い、基材上への含ケイ素化合物の付与を、含ケイ素化合物を含むコーティング剤を塗布することにより行った以外は、前記実施例1と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を製造した。
Example 4
Except that the silicon-containing compound used for forming the coating is represented by the following formula (IX), and the silicon-containing compound is applied onto the substrate by applying a coating agent containing the silicon-containing compound. In the same manner as in Example 1, peeling members (fixing roller side peeling member and pressure roller side peeling member) were produced.

Figure 2006133429
(ただし、式(IX)中、pは、100〜150の整数であり、nは、3〜7の整数である。)
Figure 2006133429
(However, in Formula (IX), p is an integer of 100-150, and n is an integer of 3-7.)

なお、この含ケイ素化合物の重量平均分子量は、23000であった。
コーティング剤としては、含ケイ素化合物:100重量部、酢酸:0.5重量部、1,3−ジ(トリフルオロメチル)ベンゼン:500重量部の混合物を用いた。
また、コーティング剤の塗布は、ディッピングにより行った。また、ディッピング時における基材およびコーティング液の温度は、25℃であった。
The silicon-containing compound had a weight average molecular weight of 23,000.
As the coating agent, a mixture of silicon-containing compound: 100 parts by weight, acetic acid: 0.5 parts by weight, 1,3-di (trifluoromethyl) benzene: 500 parts by weight was used.
The coating agent was applied by dipping. Moreover, the temperature of the base material and the coating liquid at the time of dipping was 25 degreeC.

その後、減圧加熱環境下で1,3−ジ(トリフルオロメチル)ベンゼンの除去を行い、更に、70%RH、25℃の雰囲気中で90分間放置することにより、含ケイ素化合物の加水分解縮合反応、ラジカル反応を進行させ、上記含ケイ素化合物の加水分解縮合物で構成された被膜を形成した。このようにして形成された被膜は、その厚さが12nmであり、表面粗さRaが0.3mであり、表面粗さRzが6μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例1と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
Thereafter, 1,3-di (trifluoromethyl) benzene is removed under a reduced pressure heating environment, and the mixture is further left to stand in an atmosphere of 70% RH and 25 ° C. for 90 minutes to hydrolyze and condense the silicon-containing compound. Then, the radical reaction was advanced to form a film composed of the hydrolyzed condensate of the silicon-containing compound. The film thus formed had a thickness of 12 nm, a surface roughness Ra of 0.3 m, and a surface roughness Rz of 6 μm.
In addition, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 1 using the peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side) obtained as described above.

(実施例5)
液体ブラストの条件を変更することにより、基材の表面粗さを変更した以外は、前記実施例1と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を製造した。なお、液体ブラストによる処理が施された基材は、その表面粗さRaが0.1μmであり、表面粗さRzが2.6μmであった。また、中間層は、その表面粗さRaが0.07mであり、表面粗さRzが2.0μmであった。また、被膜は、その表面粗さRaが0.05mであり、表面粗さRzが1.4μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例1と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
(Example 5)
A peeling member (a peeling member on the fixing roller side and a peeling member on the pressure roller side) is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the surface roughness of the base material is changed by changing the liquid blasting conditions. did. In addition, the base material to which the process by the liquid blast was performed had the surface roughness Ra of 0.1 micrometer, and the surface roughness Rz was 2.6 micrometers. Further, the intermediate layer had a surface roughness Ra of 0.07 m and a surface roughness Rz of 2.0 μm. Moreover, the film had a surface roughness Ra of 0.05 m and a surface roughness Rz of 1.4 μm.
In addition, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 1 using the peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side) obtained as described above.

(実施例6)
液体ブラストの条件を変更することにより、基材の表面粗さを変更した以外は、前記実施例2と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を製造した。なお、液体ブラストによる処理が施された基材は、その表面粗さRaが2.4μm、表面粗さRzが21μmであった。また、中間層は、その表面粗さRaが1.8μmであり、表面粗さRzが17μmであった。また、被膜は、その表面粗さRaが1.3μmであり、表面粗さRzが14μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例2と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
(Example 6)
A peeling member (a peeling member on the fixing roller side and a peeling member on the pressure roller side) is manufactured in the same manner as in Example 2 except that the surface roughness of the substrate is changed by changing the liquid blasting conditions. did. In addition, the base material processed by liquid blasting had a surface roughness Ra of 2.4 μm and a surface roughness Rz of 21 μm. The intermediate layer had a surface roughness Ra of 1.8 μm and a surface roughness Rz of 17 μm. Further, the film had a surface roughness Ra of 1.3 μm and a surface roughness Rz of 14 μm.
In addition, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 2 using the peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side) obtained as described above.

(実施例7)
被膜の形成に用いる含ケイ素化合物として、下記式(X)で示されるものを用いた以外は、前記実施例2と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を製造した。
(Example 7)
A peeling member (peeling member on the fixing roller side) was produced in the same manner as in Example 2 except that the silicon-containing compound used for forming the coating was the one represented by the following formula (X).

Figure 2006133429
(ただし、式(X)中、qは40〜50の整数である。)
Figure 2006133429
(However, in Formula (X), q is an integer of 40-50.)

なお、この含ケイ素化合物の重量平均分子量は、8000であった。
また、形成された被膜は、その厚さが20nmあり、表面粗さRaが0.5μmであり、表面粗さRzが7μmであった。
また、加圧ローラ側の剥離部材として、ステンレス鋼(SUS301)で構成され、表面粗さRaが1.4μmであり、表面粗さRzが15μmであるものを用意した。
また、上記のようにして得られた定着ローラ側の剥離部材と、加圧ローラ側の剥離部材とを用いて、前記実施例1と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
The silicon-containing compound had a weight average molecular weight of 8,000.
The formed film had a thickness of 20 nm, a surface roughness Ra of 0.5 μm, and a surface roughness Rz of 7 μm.
Moreover, as the peeling member on the pressure roller side, a member made of stainless steel (SUS301) having a surface roughness Ra of 1.4 μm and a surface roughness Rz of 15 μm was prepared.
Further, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 1 by using the fixing roller side peeling member and the pressure roller side peeling member obtained as described above.

(実施例8)
被膜の形成に先立ち、中間層を形成しなかった以外は、前記実施例7と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を製造し、この剥離部材を用いて、前記実施例7と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。なお、被膜についての表面粗さRaは1.3μmであり、表面粗さRzは14μmであった。
(Example 8)
Prior to the formation of the coating film, a peeling member (a peeling member on the fixing roller side) was manufactured in the same manner as in Example 7 except that the intermediate layer was not formed. Similarly, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured. The surface roughness Ra of the coating was 1.3 μm, and the surface roughness Rz was 14 μm.

(実施例9)
液体ブラストの条件を変更することにより、基材の表面粗さを変更した以外は、前記実施例3と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を製造した。なお、液体ブラストによる処理が施された基材は、その表面粗さRaが0.1μmであり、表面粗さRzが1.1μmであった。また、中間層は、その表面粗さRaが0.08μmであり、表面粗さRzが0.9μmであった。また、被膜は、その表面粗さRaが0.06μmであり、表面粗さRzが0.7μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例3と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
Example 9
A peeling member (a peeling member on the fixing roller side and a peeling member on the pressure roller side) is manufactured in the same manner as in Example 3 except that the surface roughness of the base material is changed by changing the liquid blasting conditions. did. In addition, the base material processed by liquid blasting had a surface roughness Ra of 0.1 μm and a surface roughness Rz of 1.1 μm. The intermediate layer had a surface roughness Ra of 0.08 μm and a surface roughness Rz of 0.9 μm. Further, the film had a surface roughness Ra of 0.06 μm and a surface roughness Rz of 0.7 μm.
Further, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 3 using the peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side) obtained as described above.

(実施例10)
液体ブラストの条件を変更することにより、基材の表面粗さを変更した以外は、前記実施例4と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を製造した。なお、液体ブラストによる処理が施された基材は、その表面粗さRaが1.8μmであり、表面粗さRzが20μmであった。また、中間層は、その表面粗さRaが1.6μmであり、表面粗さRzが18μmであった。また、被膜は、その表面粗さRaが1.3μmであり、表面粗さRzが14μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例4と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
(実施例11)
被膜の形成に用いる含ケイ素化合物として、下記式(XI)で示されるものを用いた以外は、前記実施例4と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を製造した。
(Example 10)
A peeling member (a peeling member on the fixing roller side and a peeling member on the pressure roller side) is manufactured in the same manner as in Example 4 except that the surface roughness of the base material is changed by changing the liquid blasting conditions. did. In addition, the base material to which the process by the liquid blast was performed had a surface roughness Ra of 1.8 μm and a surface roughness Rz of 20 μm. The intermediate layer had a surface roughness Ra of 1.6 μm and a surface roughness Rz of 18 μm. Further, the film had a surface roughness Ra of 1.3 μm and a surface roughness Rz of 14 μm.
Further, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 4 using the peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side) obtained as described above.
(Example 11)
A release member (peeling member on the fixing roller side) was produced in the same manner as in Example 4 except that the silicon-containing compound used for forming the coating was the one represented by the following formula (XI).

Figure 2006133429
(ただし、式(XI)中、bは、30〜40の整数であり、cは、30〜40の整数であり、dは、30〜40の整数であり、eは、30〜40の整数であり、b+c+d+eは、120〜160の整数であり、nは、3〜7の整数である。)
Figure 2006133429
(In the formula (XI), b is an integer of 30 to 40, c is an integer of 30 to 40, d is an integer of 30 to 40, and e is an integer of 30 to 40) And b + c + d + e is an integer of 120 to 160, and n is an integer of 3 to 7.)

なお、この含ケイ素化合物の重量平均分子量は、15000であった。
また、形成された被膜は、その厚さが8nmであり、表面粗さRaが0.6μmであり、表面粗さRzが7μmであった。
また、加圧ローラ側の剥離部材として、ステンレス鋼(SUS301)で構成され、表面粗さRaが1.4μmであり、表面粗さRzが15μmであるものを用意した。
また、上記のようにして得られた定着ローラ側の剥離部材と、加圧ローラ側の剥離部材とを用いて、前記実施例3と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
The silicon-containing compound had a weight average molecular weight of 15000.
The formed film had a thickness of 8 nm, a surface roughness Ra of 0.6 μm, and a surface roughness Rz of 7 μm.
Moreover, as the peeling member on the pressure roller side, a member made of stainless steel (SUS301) having a surface roughness Ra of 1.4 μm and a surface roughness Rz of 15 μm was prepared.
Further, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 3 by using the fixing roller side peeling member and the pressure roller side peeling member obtained as described above.

(実施例12)
被膜の形成に先立ち、中間層を形成しなかった以外は、前記実施例11と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を製造し、この剥離部材を用いて、前記実施例11と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。なお、被膜についての表面粗さRaは1.2μmであり、表面粗さRzは12μmであった。
(Example 12)
Prior to the formation of the coating film, a peeling member (fixing roller-side peeling member) was produced in the same manner as in Example 11 except that the intermediate layer was not formed. Similarly, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured. Note that the surface roughness Ra of the coating was 1.2 μm, and the surface roughness Rz was 12 μm.

(比較例1)
中間層および被膜の形成を行わなかった以外は、前記実施例1と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を製造した。
また、上記のようにして得られた剥離部材(定着ローラ側の剥離部材および加圧ローラ側の剥離部材)を用いて、前記実施例1と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
(Comparative Example 1)
Except for not forming the intermediate layer and the coating film, a release member (a release member on the fixing roller side and a release member on the pressure roller side) was manufactured in the same manner as in Example 1.
In addition, a fixing device and an image forming apparatus were manufactured in the same manner as in Example 1 using the peeling members (the peeling member on the fixing roller side and the peeling member on the pressure roller side) obtained as described above.

(比較例2)
基材の表面に、フッ素系樹脂(ポリテトラフルオロエチレン)で構成される表面層を形成した以外は、前記比較例1と同様にして剥離部材を製造した。
なお、表面層の形成は、ポリテトラフルオロエチレンを含む塗料(ダイキン工業製、商品名「ポリフロン」)をエアスプレーにて膜厚が約40μmになるように塗装し、90℃で赤外線乾燥した後、380℃で焼成することにより行った。また、形成された表面層の厚さは、30μmであった。なお、表面層についての表面粗さRaは0.02μmであり、表面粗さRzは0.5μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材を用いて、前記実施例1と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
(Comparative Example 2)
A release member was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that a surface layer composed of a fluororesin (polytetrafluoroethylene) was formed on the surface of the substrate.
The surface layer is formed by applying a paint containing polytetrafluoroethylene (made by Daikin Industries, trade name “Polyflon”) with an air spray so that the film thickness is about 40 μm, and drying at 90 ° C. by infrared rays. This was performed by baking at 380 ° C. Further, the thickness of the formed surface layer was 30 μm. The surface roughness Ra of the surface layer was 0.02 μm, and the surface roughness Rz was 0.5 μm.
Further, using the release member obtained as described above, a fixing device and an image forming apparatus were produced in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
バフ研磨による鏡面加工を施した基材の表面に、被膜を形成した以外は、前記実施例12と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を製造した。なお、鏡面加工が施された基材は、その表面粗さRaが0.08μmであり、表面粗さRzが1.0μmであった。また、被膜(剥離部材)は、その表面粗さRaが0.03μmであり、表面粗さRzが0.7μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材を用いて、前記実施例12と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
(Comparative Example 3)
A peeling member (peeling member on the fixing roller side) was produced in the same manner as in Example 12 except that a film was formed on the surface of the base material that had been mirror-finished by buffing. In addition, the base material on which the mirror finishing was performed had a surface roughness Ra of 0.08 μm and a surface roughness Rz of 1.0 μm. Further, the coating film (peeling member) had a surface roughness Ra of 0.03 μm and a surface roughness Rz of 0.7 μm.
Further, using the release member obtained as described above, a fixing device and an image forming apparatus were produced in the same manner as in Example 12.

(比較例4)
液体ブラストの条件を変更することにより、基材の表面粗さを変更した以外は、前記実施例12と同様にして剥離部材(定着ローラ側の剥離部材)を製造した。なお、液体ブラストによる処理が施された基材は、その表面粗さRaが1.9μmであり、表面粗さRzが21μmであった。また、被膜(剥離部材)は、その表面粗さRaが1.7μmであり、表面粗さRzが19μmであった。
また、上記のようにして得られた剥離部材を用いて、前記実施例12と同様にして定着装置、画像形成装置を製造した。
定着ローラ側の剥離部材の構成を表1にまとめて示す。
(Comparative Example 4)
A peeling member (peeling member on the fixing roller side) was produced in the same manner as in Example 12 except that the surface roughness of the substrate was changed by changing the liquid blasting conditions. In addition, the base material processed by liquid blasting had a surface roughness Ra of 1.9 μm and a surface roughness Rz of 21 μm. Further, the coating film (peeling member) had a surface roughness Ra of 1.7 μm and a surface roughness Rz of 19 μm.
Further, using the release member obtained as described above, a fixing device and an image forming apparatus were produced in the same manner as in Example 12.
Table 1 summarizes the configuration of the fixing member on the fixing roller side.

Figure 2006133429
Figure 2006133429

[評価]
[1]画像すじ(初期および耐久印字(8万枚印字)後)
前記各実施例および各比較例の画像形成装置を用いて、全面ベタ画像を印字し、剥離部での擦り跡である「すじ」について、目視による観察を行い、以下の4段階の基準に従い評価した。
◎:すじの発生が全く認められない。
○:すじの発生がほとんど認められない。
△:すじの発生がわずかに認められる。
×:すじの発生が顕著に認められる。
[Evaluation]
[1] Image streak (after initial and durable printing (80,000 prints))
Using the image forming apparatus of each of the examples and comparative examples, a solid image was printed on the entire surface, and “streaks”, which are rubbing marks at the peeled portion, were visually observed and evaluated according to the following four criteria. did.
A: No streak is observed at all.
○: Almost no streak is observed.
(Triangle | delta): Generation | occurrence | production of a stripe is recognized slightly.
X: Generation | occurrence | production of a streak is recognized notably.

[2]耐摩耗性、耐剥離性
前記各実施例および各比較例の画像形成装置について、耐久印字(8万枚印字)後の剥離部を顕微鏡で観察し、被膜(表面層)の摩耗状態、剥離状態、基材の摩耗状態を以下の4段階の基準に従い評価した。
◎:被膜の摩耗および剥離が全く認められない。
○:被膜の摩耗および剥離がほとんど認められない。
△:被膜の摩耗がわずかに認められるが、中間層、基材の露出は認められない。
×:被膜の摩耗または剥離がはっきりと認められ、中間層、基材の露出が認められる。
または、基材の摩耗が認められる。
[2] Abrasion Resistance, Peel Resistance For the image forming apparatuses of each of the above examples and comparative examples, the peeled portion after durable printing (printing 80,000 sheets) was observed with a microscope, and the coating (surface layer) was worn. The peeled state and the worn state of the substrate were evaluated according to the following four criteria.
(Double-circle): Wear and peeling of a film are not recognized at all.
○: Abrasion and peeling of the film are hardly observed.
Δ: Slight abrasion of the film is observed, but exposure of the intermediate layer and the substrate is not observed.
X: Wear or peeling of the film is clearly recognized, and exposure of the intermediate layer and the substrate is recognized.
Or abrasion of a base material is recognized.

[3]トナー固着(耐久印字後)
前記各実施例および各比較例の画像形成装置について、耐久印字(8万枚印字)後の剥離部材を目視で観察し、ナーの固着状態を以下の4段階の基準に従い評価した。
◎:トナーの固着が全く認められない。
○:トナーの固着がほとんど認められない。
△:トナーの固着がわずかに認められる。
×:トナーの固着が顕著に認められる。
これらの結果を表2にまとめて示す。
[3] Toner fixing (after durable printing)
About the image forming apparatus of each said Example and each comparative example, the peeling member after durable printing (80,000 sheet printing) was observed visually, and the sticking state of the knurled was evaluated according to the following four steps criteria.
A: No toner sticking is observed.
○: The toner is hardly fixed.
Δ: Slight adhesion of toner is observed.
X: Toner sticking is remarkably recognized.
These results are summarized in Table 2.

Figure 2006133429
Figure 2006133429

表2から明らかなように、本発明では、剥離部材の耐摩耗性に優れ、耐久印字後においても、剥離部材等へのトナーの固着や印字された記録媒体でのすじ等は、認められなかった。これらの結果から、本発明では、優れた耐久性が得られることが分かる。
これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。すなわち、各比較例では、いずれも、印字された記録媒体においてすじが発生しており、剥離部材へのトナーの固着も認められた。また、フッ素系樹脂で構成された表面層を有する比較例2においては、耐久印字後における表面層の摩耗が顕著で耐久性に劣っていた。
As is apparent from Table 2, in the present invention, the abrasion resistance of the peeling member is excellent, and even after durable printing, toner sticking to the peeling member etc., streaks on the printed recording medium, etc. are not recognized. It was. From these results, it can be seen that excellent durability is obtained in the present invention.
On the other hand, in the comparative example, a satisfactory result was not obtained. That is, in each of the comparative examples, streaks occurred in the printed recording medium, and the toner adhered to the release member. Further, in Comparative Example 2 having a surface layer made of a fluororesin, the wear of the surface layer after durable printing was remarkable and inferior in durability.

本発明の定着装置を備えた本発明の画像形成装置の全体構成図である。1 is an overall configuration diagram of an image forming apparatus of the present invention including a fixing device of the present invention. 図1に示す定着装置の一部破断面を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a partially broken section of the fixing device shown in FIG. 1. 図2の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of FIG. 図2に示す剥離部材の斜視図である。It is a perspective view of the peeling member shown in FIG. 図2に示す剥離部材の取付状態を示す側面図である。It is a side view which shows the attachment state of the peeling member shown in FIG. 図2の定着装置を上面から見た正面図である。FIG. 3 is a front view of the fixing device of FIG. 2 as viewed from above. 剥離部材の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of a peeling member.

符号の説明Explanation of symbols

1…画像形成装置 2…装置本体 3…像担持体 4…帯電装置 5…露光装置 6…ロータリー現像装置 6Y…イエロー用現像装置 6M…マゼンタ用現像装置 6C…シアン用現像装置 6K…ブラック用現像装置 6a…現像ローラ 7…中間転写装置 8…支持フレーム 9…駆動ローラ 10…従動ローラ 11…中間転写ベルト 12…一次転写ローラ 13…転写ベルトクリーナ 14…二次転写ローラ 15…給紙カセット 16…ピックアップローラ 17…記録媒体搬送路 19…定着装置 20…排紙トレイ 21…定着ローラ 21a…熱源 21b…筒体 21c…弾性層 21d…回転軸 22…加圧ローラ 22b…筒体 22c…弾性層 22d…回転軸 23…両面印刷用搬送路 24…ハウジング 25…軸受 26…加圧レバー 27…加圧スプリング 28…駆動ギヤ 29、30…支持軸 31…剥離部材 31a…剥離部 31b…折曲部 31c…支持片 31d…嵌合穴 31e…ガイド部 311…基材 312…中間層 313…被膜(表面層) 32…剥離部材 32a…剥離部3 32e…ガイド部 33…スプリング N…ニップ部(定着ニップ部) E…エッジ   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Image forming apparatus 2 ... Apparatus main body 3 ... Image carrier 4 ... Charging apparatus 5 ... Exposure apparatus 6 ... Rotary developing apparatus 6Y ... Yellow developing apparatus 6M ... Magenta developing apparatus 6C ... Cyan developing apparatus 6K ... Black developing Device 6a ... Developing roller 7 ... Intermediate transfer device 8 ... Support frame 9 ... Drive roller 10 ... Drive roller 11 ... Intermediate transfer belt 12 ... Primary transfer roller 13 ... Transfer belt cleaner 14 ... Secondary transfer roller 15 ... Feed cassette 16 ... Pickup roller 17 ... Recording medium conveyance path 19 ... Fixing device 20 ... Discharge tray 21 ... Fixing roller 21a ... Heat source 21b ... Cylinder 21c ... Elastic layer 21d ... Rotating shaft 22 ... Pressure roller 22b ... Cylinder 22c ... Elastic layer 22d ... Rotary shaft 23 ... Conveying path for double-sided printing 24 ... Housing 25 ... Bearing 26 ... Pressure level -27 ... Pressure spring 28 ... Drive gear 29, 30 ... Support shaft 31 ... Peeling member 31a ... Peeling part 31b ... Bending part 31c ... Supporting piece 31d ... Fitting hole 31e ... Guide part 311 ... Base material 312 ... Intermediate layer 313 ... Coating (surface layer) 32 ... Peeling member 32a ... Peeling part 3 32e ... Guide part 33 ... Spring N ... Nip part (fixing nip part) E ... Edge

Claims (6)

熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、前記定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、前記定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備え、
前記剥離部材は、その表面粗さRaが0.04〜1.3μmであり、かつ、その表面粗さRzが0.7〜14μmであることを特徴とする定着装置。
A fixing roller having a heat source, a pressure roller pressed against the fixing roller, and a peeling disposed in the vicinity of the fixing roller in the axial direction of the fixing roller and downstream of the fixing nip portion in the recording medium conveyance direction. With members,
The peeling member has a surface roughness Ra of 0.04 to 1.3 [mu] m and a surface roughness Rz of 0.7 to 14 [mu] m.
前記加圧ローラに近接して配設される剥離部材を備えている請求項1に記載の定着装置。   The fixing device according to claim 1, further comprising a peeling member disposed in proximity to the pressure roller. 前記加圧ローラ側の剥離部材の先端は、定着ローラ側の剥離部材の先端よりも記録媒体搬送方向下流側に配置されている請求項2に記載の定着装置。   The fixing device according to claim 2, wherein a leading end of the peeling member on the pressure roller side is disposed downstream of a leading end of the peeling member on the fixing roller side in the recording medium conveyance direction. 前記加圧ローラ側の剥離部材は、その表面粗さRaが0.04〜1.3μmであり、かつ、その表面粗さRzが0.7〜14μmである請求項2または3に記載の定着装置。   4. The fixing according to claim 2, wherein the pressure roller side peeling member has a surface roughness Ra of 0.04 to 1.3 [mu] m and a surface roughness Rz of 0.7 to 14 [mu] m. apparatus. 前記定着ローラと前記加圧ローラとが略水平状態で配設されている請求項1ないし4のいずれかに記載の定着装置。   The fixing device according to claim 1, wherein the fixing roller and the pressure roller are arranged in a substantially horizontal state. 請求項1ないし5のいずれかに記載の定着装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising the fixing device according to claim 1.
JP2004321325A 2004-11-04 2004-11-04 Fixing device and image forming apparatus Pending JP2006133429A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004321325A JP2006133429A (en) 2004-11-04 2004-11-04 Fixing device and image forming apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004321325A JP2006133429A (en) 2004-11-04 2004-11-04 Fixing device and image forming apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006133429A true JP2006133429A (en) 2006-05-25

Family

ID=36727040

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004321325A Pending JP2006133429A (en) 2004-11-04 2004-11-04 Fixing device and image forming apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006133429A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2592492A1 (en) * 2011-11-14 2013-05-15 Ricoh Company, Ltd. Media stripper mechanism

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2592492A1 (en) * 2011-11-14 2013-05-15 Ricoh Company, Ltd. Media stripper mechanism
US8903290B2 (en) 2011-11-14 2014-12-02 Ricoh Company, Ltd. Media stripper mechanism

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6029336B2 (en) Developing roller, process cartridge, and electrophotographic apparatus
CN102356359B (en) Intermediate transcriptional body
US7389078B2 (en) Fixing method, fixing apparatus using the same, and image forming apparatus
US20100158583A1 (en) Intermediate transfer member
JP2006133430A (en) Fixing device and image forming apparatus
JP2008158447A (en) Fixing member, fixing device, and image forming apparatus
JP2006113134A (en) Fixing device and image forming apparatus
JP2006133429A (en) Fixing device and image forming apparatus
JP2006259581A (en) Transport belt and image forming apparatus using the same
JP2018004898A (en) Rotating member, fixing device, and image forming apparatus
JP2006113133A (en) Fixing device and image forming apparatus
JP2006113132A (en) Fixing device and image forming apparatus
JP4826385B2 (en) Cleaning method
JP4514882B2 (en) Cleaning blade
JP2006133428A (en) Fixing device and image forming apparatus
JP2022177698A (en) Image forming apparatus, image forming method, and intermediate transfer unit
JP2006313280A (en) Peeling member, fixing apparatus and image forming apparatus
JP2008134353A (en) Fixing member, its manufacturing method, fixing device, and image forming apparatus
JP4712477B2 (en) Image reading apparatus and recording apparatus with image reading apparatus
JP7371464B2 (en) Cleaning blades, cleaning devices, process cartridges, and image forming devices
JP2006242352A (en) Image forming device
US11892785B2 (en) Inorganic compound particle supply member, transfer device, and image forming apparatus
JP6448335B2 (en) Image forming apparatus and transfer unit
JP5755049B2 (en) Conductive roller
JP3985141B2 (en) Fixing device