JP2006130864A - The molding method of solid molded object by liquid discharge method - Google Patents

The molding method of solid molded object by liquid discharge method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molding method which can easily form a predetermined solid molded object on a substrate by discharging a liquid object by a liquid discharging method. <P>SOLUTION: The molding method of the solid molded object of this invention comprises: a 1st-layer formation process which discharges a liquid object 12 having a gelatinizer added in a columnar shape from the nozzle 25 of a discharging head 20 and impacts it on a substrate W to form the 1st layer 13; and a laminating process which laminates a 2nd layer 14 and subsequent ones by making the liquid object 12 impact repeatedly in a same way at the position corresponding to the 1st layer 13. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液体吐出方式により液状体を吐出させ基板上に立体造形物を形成する造形方法に関する。   The present invention relates to a modeling method for forming a three-dimensional object on a substrate by discharging a liquid material by a liquid discharge method.

立体造形物を形成する造形方法として、特許文献1に開示された3次元造形装置を用いて、光硬化性の未硬化樹脂をノズルから吐出すると共に、ノズル近傍の該未硬化樹脂に光を照射することにより該未硬化樹脂を硬化させて所定の立体形状の造形物を形成する方法が知られている。   As a modeling method for forming a three-dimensional modeled object, a three-dimensional modeling apparatus disclosed in Patent Document 1 is used to discharge a photocurable uncured resin from a nozzle and irradiate the uncured resin near the nozzle with light. By doing this, a method is known in which the uncured resin is cured to form a three-dimensional shaped object.

またディスペンサのノズルからカチオン型紫外線硬化性組成物を落下させ、紫外線光源ランプから発射された紫外線によって、落下している組成物に全周囲から紫外線照射しつつ型に注入し、所定時間経過後、型から硬化物を取り出し三次元物体を得る製造方法が特許文献2に開示されている。   Moreover, the cationic ultraviolet curable composition is dropped from the nozzle of the dispenser, and injected into the mold while irradiating the falling composition with ultraviolet rays from the entire periphery by the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet light source lamp. Patent Document 2 discloses a manufacturing method in which a cured product is taken out from a mold to obtain a three-dimensional object.

特開平8−230048号公報JP-A-8-230048 特開2001−96630号公報JP 2001-96630 A

上記従来の造形方法では、光硬化性物質を用いて立体造形物を形成しており未硬化物質を硬化させるための光照射装置が必要であるため、装置の構成が複雑になるという課題を有している。   The conventional modeling method has a problem that the configuration of the apparatus becomes complicated because a three-dimensional model is formed using a photocurable substance and a light irradiation apparatus for curing the uncured substance is necessary. is doing.

本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、液体吐出方式により液状体を吐出させ基板上に所定の立体造形物を容易に形成することができる造形方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above-described problems, and an object thereof is to provide a modeling method capable of easily forming a predetermined three-dimensional modeled object on a substrate by discharging a liquid material by a liquid discharge method. To do.

本発明の造形方法は、吐出ヘッドのノズルから液状体を基板に向けて柱状に吐出させ基板上に立体造形物を形成する造形方法であって、液状体は、ノズルから吐出された後に固化するように原料が調合されたものであり、吐出ヘッドのノズルから液状体を柱状に吐出させ基板上に着弾させて第1層を形成する第1層形成工程と、第1層に対応する位置で吐出ヘッドのノズルから繰り返し液状体を柱状に吐出させ、第1層上に第2層以降の層を積層する積層工程とを備えたことを特徴とする。   The modeling method of the present invention is a modeling method for forming a three-dimensional modeled object on a substrate by discharging a liquid material from a nozzle of a discharge head in a columnar shape toward the substrate, and the liquid material is solidified after being discharged from the nozzle. The first layer forming step of forming the first layer by discharging the liquid material from the nozzles of the discharge head in a columnar shape and landing on the substrate, and the position corresponding to the first layer And a laminating step of repeatedly ejecting a liquid material in a columnar shape from a nozzle of an ejection head and laminating the second and subsequent layers on the first layer.

この方法によれば、液状体は、ノズルから吐出された後に固化するように原料が調合されたものであるため、第1層形成工程で吐出ヘッドのノズルから液状体を柱状に吐出させ基板上に着弾させて第1層を形成し、積層工程で第1層の上に第2層以降が積層されるように第1層に対応する位置で吐出ヘッドのノズルから繰り返し液状体を柱状に吐出すれば、第1層上に固化して柱状に積層された立体造形物を容易に造形することができる。また光硬化性物質からなる液状体を吐出ヘッドから吐出させると共に吐出された液状体に光照射装置から光を照射して硬化させて立体造形物を造形する方法に比べて、光硬化性物質に対応した光照射装置が不要となり装置の構成を簡略化することができる。   According to this method, since the liquid material is prepared such that the liquid material is solidified after being discharged from the nozzle, the liquid material is discharged in a columnar shape from the nozzle of the discharge head in the first layer forming step. The first layer is formed by landing on the first layer, and the liquid material is repeatedly ejected from the nozzle of the ejection head in a columnar shape at a position corresponding to the first layer so that the second and subsequent layers are laminated on the first layer in the laminating step. If it does so, the solid modeling thing solidified on the 1st layer and laminated | stacked in columnar shape can be modeled easily. Compared to the method of forming a three-dimensional model by discharging a liquid material made of a photocurable material from a discharge head and irradiating the discharged liquid material with light from a light irradiation device to cure the photocurable material. A corresponding light irradiation device is not required, and the configuration of the device can be simplified.

上記液状体は、ゲル化剤が添加されたものであることを特徴とする。   The liquid is characterized in that a gelling agent is added.

この方法によれば、液状体にはゲル化剤が添加されているため、吐出ヘッドのノズルから液状体が吐出され基板上に着弾すると溶媒が蒸発することによってゲル化が促進される。したがって、第1層形成工程で形成された第1層上に積層工程で第2層以降が着弾してもゲル化によって形状が崩れにくく、容易に柱状の立体造形物を造形することができる。   According to this method, since the gelling agent is added to the liquid, gelation is promoted by evaporating the solvent when the liquid is discharged from the nozzle of the discharge head and landed on the substrate. Therefore, even if the second and subsequent layers land on the first layer formed in the first layer forming step, the shape is not easily lost due to gelation, and a columnar three-dimensional object can be easily formed.

また上記液状体は、吐出ヘッドのノズルから吐出され基板上に着弾したときにゲル化するようにゲル化剤の分子量および液状体の総量に対するゲル化剤の添加濃度が調整されていることが好ましい。   In addition, the molecular weight of the gelling agent and the addition concentration of the gelling agent with respect to the total amount of the liquid are preferably adjusted so that the liquid is gelled when discharged from the nozzle of the discharge head and landed on the substrate. .

ゲル化剤はその種類によって分子量が異なり液状体の総量に対する添加濃度が同じでもゲル化後の弾性率や動的表面張力が異なる。液状体を吐出ヘッドから安定して柱状に吐出させるには適度の弾性率と動的表面張力を有することが必要であり、例えば弾性率が高く動的表面張力が小さい方が長く柱状に液状体を吐出することができる。このような物性値を制御することにより液状体の着弾後の塗布量が制御される。この方法によれば、液状体は吐出ヘッドのノズルから吐出され基板上に着弾したときにゲル化するようにゲル化剤の分子量および液状体の総量に対するゲル化剤の添加濃度が調整されているため、液状体は安定した長さで柱状に吐出されると共に着弾後にゲル化する液状体の塗布量を安定化することができる。したがって、第1層がゲル化した後に素早く第2層以降を積層することができ、積層工程では吐出ヘッドのノズルから繰り返し液状体を柱状に吐出させて形状が安定した柱状の立体造形物を造形することができる。   Gelling agents have different molecular weights depending on the type, and even after the same concentration of addition to the total amount of liquid, the elastic modulus and dynamic surface tension after gelation are different. In order to stably discharge a liquid material from a discharge head in a columnar shape, it is necessary to have an appropriate elastic modulus and dynamic surface tension. For example, a liquid material having a higher elastic modulus and a smaller dynamic surface tension is longer in a columnar shape. Can be discharged. By controlling such physical property values, the coating amount after landing of the liquid material is controlled. According to this method, the molecular weight of the gelling agent and the concentration of the gelling agent with respect to the total amount of the liquid are adjusted so that the liquid is gelled when discharged from the nozzle of the discharge head and landed on the substrate. Therefore, the liquid can be discharged in a column shape with a stable length, and the coating amount of the liquid that gels after landing can be stabilized. Therefore, after the first layer is gelled, the second and subsequent layers can be quickly stacked, and in the stacking process, a liquid body is repeatedly discharged from the nozzle of the discharge head into a columnar shape to form a columnar three-dimensional structure that has a stable shape. can do.

また上記液状体は、主成分が水からなる溶媒に機能性材料を溶解または分散させたものであり、添加されるゲル化剤は水溶性の高分子材料からなることを特徴とする。   The liquid material is obtained by dissolving or dispersing a functional material in a solvent whose main component is water, and the gelling agent to be added is made of a water-soluble polymer material.

この方法によれば、液状体は、主成分が水からなる溶媒に機能性材料を溶解または分散させたものにゲル化剤として水溶性の高分子材料を添加したものであるため、溶媒として有機溶剤を用いる場合に比べて、吐出ヘッドの構造や材質を溶媒に対応するように変更しなくても従来(公知)のインクジェットヘッドを用いて機能性材料からなる柱状の立体造形物を造形することができる。   According to this method, the liquid material is obtained by adding a water-soluble polymer material as a gelling agent to a solution in which a functional material is dissolved or dispersed in a solvent whose main component is water. Compared to the case of using a solvent, a columnar three-dimensional object made of a functional material can be formed using a conventional (known) ink jet head without changing the structure and material of the discharge head so as to correspond to the solvent. Can do.

また上記液状体は、Au、Pt、Ag、Cu、Ni、Cr、Rh、Pd、Zn、Co、Mo、Ru、W、Os、Ir、Fe、Mn、Ge、Sn、Sb、GaおよびInから選ばれた1種以上からなる金属、合金、金属酸化物からなる微粒子分散液または溶液であることを特徴とする。   The liquid is composed of Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Sb, Ga, and In. It is a fine particle dispersion or solution composed of one or more selected metals, alloys, and metal oxides.

この方法によれば、液状体は、Au、Pt、Ag、Cu、Ni、Cr、Rh、Pd、Zn、Co、Mo、Ru、W、Os、Ir、Fe、Mn、Ge、Sn、Sb、GaおよびInから選ばれた1種以上からなる金属、合金、金属酸化物からなる微粒子分散液または溶液であるため、第1層形成工程と積層工程とにおいて、該液状体を吐出ヘッドのノズルから柱状に吐出して基板上に造形された柱状の立体造形物を加熱して焼成すれば、溶媒成分が除去され微粒子が焼結した導電性を有する立体造形物を造形することができる。   According to this method, the liquid is Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Sb, Since it is a fine particle dispersion or solution composed of one or more metals, alloys, and metal oxides selected from Ga and In, the liquid material is discharged from the nozzle of the ejection head in the first layer forming step and the laminating step. By heating and firing the columnar three-dimensional object formed on the substrate by discharging it in a columnar shape, a three-dimensional object having conductivity in which the solvent component is removed and the fine particles are sintered can be formed.

また本発明の造形方法において、第1層形成工程と積層工程は、基板上に着弾した液状体をゲル化させるゲル化工程を含むことを特徴とする。   In the modeling method of the present invention, the first layer forming step and the laminating step include a gelling step of gelling the liquid material that has landed on the substrate.

この方法によれば、第1層形成工程と積層工程は、基板上に着弾した液状体をゲル化させるゲル化工程を含んでいるため、着弾後の液状体の溶媒の自然蒸発を待たずにゲル化が促進されることにより、基板上に効率的に柱状の立体造形物を造形することができる。   According to this method, since the first layer forming step and the laminating step include a gelling step of gelling the liquid material that has landed on the substrate, it is possible to wait for the natural evaporation of the solvent of the liquid material after landing. By promoting the gelation, a columnar three-dimensional model can be efficiently modeled on the substrate.

上記ゲル化工程では、基板上に着弾した液状体を乾燥させることによりゲル化させることを特徴とする。この方法によれば、着弾後の液状体を乾燥させることにより溶媒の蒸発を促進し素早くゲル化させて基板上により効率的に柱状の立体造形物を造形することができる。   In the gelation step, the liquid material that has landed on the substrate is dried to be gelled. According to this method, by evaporating the solvent by drying the liquid after landing, the liquid can be quickly gelled and a columnar three-dimensional modeled object can be modeled more efficiently on the substrate.

また上記ゲル化工程では、吐出ヘッドと基板との間に気体を流すことによって基板上に着弾した液状体を乾燥させてゲル化させることが好ましい。吐出ヘッドの複数のノズルから液状体を柱状に吐出させ複数の立体造形物を同時に造形しようとする場合、基板上の着弾範囲の周辺に着弾した液状体からの溶媒の蒸発速度が速くなる傾向があるため、この方法によれば、吐出ヘッドと基板との間に気体を流すことによって溶媒の蒸発速度を均衡化して造形された複数の立体造形物間の大きさにバラツキが生じることを低減することができる。   In the gelation step, it is preferable to dry and gel the liquid material that has landed on the substrate by flowing a gas between the ejection head and the substrate. When a liquid material is ejected in a columnar shape from a plurality of nozzles of a discharge head to attempt to form a plurality of three-dimensional objects at the same time, the evaporation rate of the solvent from the liquid material that has landed around the landing range on the substrate tends to increase. Therefore, according to this method, it is possible to reduce the occurrence of variations in the size between a plurality of three-dimensional objects formed by balancing the evaporation rate of the solvent by flowing a gas between the discharge head and the substrate. be able to.

また上記ゲル化工程では、基板を加温することによって基板上に着弾した液状体を乾燥させてゲル化させてもよい。この方法によれば、基板を加温することによって着弾した液状体を乾燥させてゲル化させるため、基板上のいずれの表面部位に着弾した液状体も加温されて溶媒が蒸発し素早くゲル化させることができる。また基板を加温することによって積極的に着弾した液状体を乾燥させるため、少ないゲル化剤の添加濃度でもゲル化させることができる。   In the gelation step, the liquid that has landed on the substrate may be dried and gelled by heating the substrate. According to this method, since the liquid that has landed by heating the substrate is dried and gelled, the liquid that has landed on any surface portion of the substrate is heated and the solvent evaporates to quickly gel. Can be made. In addition, since the liquid that has landed positively by heating the substrate is dried, it can be gelated even with a small concentration of gelling agent.

また上記ゲル工程では、吐出ヘッドと基板との間に気体を流すと共に基板を加温することによって基板上に着弾した液状体を乾燥させてゲル化させてもよい。この方法によれば、吐出ヘッドの複数のノズルから液状体を柱状に吐出させ複数の立体造形物を同時に造形しようとする場合、吐出ヘッドと基板との間に気体を流すと共に基板を加温することによって基板上に着弾した液状体を乾燥させてゲル化させるため、大きさにバラツキが少なくかつ素早く複数の立体造形物を造形することができる。   Further, in the gel step, the liquid material that has landed on the substrate may be dried and gelled by flowing a gas between the ejection head and the substrate and heating the substrate. According to this method, when a liquid material is ejected in a columnar shape from a plurality of nozzles of a discharge head to attempt to form a plurality of three-dimensional objects at the same time, a gas is allowed to flow between the discharge head and the substrate and the substrate is heated. Thus, since the liquid material that has landed on the substrate is dried and gelled, a plurality of three-dimensional models can be quickly modeled with little variation in size.

本発明の造形方法において、積層工程では、基板上の第1層上に液状体を着弾させて第2層以降の層を積層する際に、吐出ヘッドと基板との間のギャップを徐々に大きくして吐出ヘッドのノズルから液状体を柱状に吐出させて着弾させることを特徴とする。   In the modeling method of the present invention, in the stacking step, when the liquid material is landed on the first layer on the substrate and the second and subsequent layers are stacked, the gap between the ejection head and the substrate is gradually increased. Then, the liquid material is ejected from the nozzle of the ejection head in a columnar shape and landed.

吐出ヘッドと基板との間のギャップを一定の間隔で保持して同じ液状体の吐出条件で吐出させて積層すると、積層後の造形物と吐出ヘッドの間のギャップが短くなってゆくため、第2層以降の層に着弾する液状体の量が増えてしまう。これをさけるために積層工程で液状体の吐出の度に吐出条件を変えることは吐出制御が複雑になる。この方法によれば、積層工程では、吐出ヘッドと基板との間のギャップを徐々に大きくして基板上の第1層上に液状体を着弾させ第2層以降の層を積層させるため、液状体の吐出条件を変えずに一定の長さで柱状に吐出させて第1層上に第2層以降の層を安定した液状体の量で積層することができる。よって形状がより安定した柱状の立体造形物を造形することができる。   If the gap between the discharge head and the substrate is held at a constant interval and discharged under the same liquid discharge conditions, the gap between the molded object and the discharge head after stacking becomes shorter. The amount of liquid material that lands on the second and subsequent layers increases. In order to avoid this, changing the discharge conditions each time the liquid material is discharged in the stacking process complicates the discharge control. According to this method, in the laminating step, the gap between the ejection head and the substrate is gradually increased so that the liquid material is landed on the first layer on the substrate and the second and subsequent layers are laminated. The second and subsequent layers can be stacked on the first layer in a stable amount of liquid material by discharging in a columnar shape with a fixed length without changing the body discharge conditions. Therefore, it is possible to model a columnar three-dimensional model having a more stable shape.

また本発明の造形方法において、基板には、液状体が着弾する面側に液状体に対して撥液性を有するように表面処理が施されていることを特徴とする。   Further, in the modeling method of the present invention, the substrate is subjected to a surface treatment so as to have liquid repellency with respect to the liquid material on a surface side on which the liquid material lands.

この方法によれば、基板には液状体に対して撥液性を有するように表面処理が施されているため、着弾した液状体は基板上に濡れ広がらずに液状体の量と表面張力に応じた大きさの範囲で形状が安定する。よってより小さな着弾径で液状体を基板に着弾させることができる。すなわち平面視でより小さな径の第1層を有する立体造形物を造形することができる。   According to this method, since the substrate is surface-treated so as to have liquid repellency with respect to the liquid material, the landed liquid material does not wet and spread on the substrate, and the amount and surface tension of the liquid material are reduced. The shape is stable within the range of the corresponding size. Therefore, the liquid material can be landed on the substrate with a smaller landing diameter. That is, it is possible to model a three-dimensional model having a first layer with a smaller diameter in plan view.

また本発明の造形方法において、基板には、液状体が着弾する面側に液状体に対して親液性を有するように表面処理が施されていることを特徴とする。   In the modeling method of the present invention, the substrate is subjected to a surface treatment so that the surface on which the liquid material lands is lyophilic with respect to the liquid material.

この方法によれば、基板には、液状体に対して親液性を有するように表面処理が施されているため、着弾した液状体は基板上に濡れ広がり液状体の量と表面張力に応じた大きさの範囲で形状が安定する。よって第1層をより広範囲に着弾させた状態でその上に第2層以降を積層することができる。すなわち平面視でより大きな径の第1層を有する立体造形物を造形することができる。   According to this method, since the substrate is subjected to surface treatment so as to have lyophilicity with respect to the liquid material, the landed liquid material spreads on the substrate and spreads according to the amount and surface tension of the liquid material. The shape is stable within the range of the size. Therefore, the second and subsequent layers can be stacked on the first layer in a state where the first layer is landed in a wider range. That is, it is possible to model a three-dimensional model having a first layer with a larger diameter in plan view.

(第1の実施形態)
本発明の実施形態は、立体造形物を基板上に造形する造形方法であり、機能性材料としての導電物質を溶媒に分散させゲル化剤が添加された液状体を用い、基板上に導電性を有する立体造形物を造形する造形方法および造形装置としての液体吐出装置を例に説明する。
(First embodiment)
An embodiment of the present invention is a modeling method for modeling a three-dimensional modeled object on a substrate, and uses a liquid material in which a conductive material as a functional material is dispersed in a solvent and a gelling agent is added, and the substrate is conductive. An example of a modeling method for modeling a three-dimensional modeled object and a liquid discharge apparatus as a modeling apparatus will be described.

まず立体造形物を造形する際に用いる液体吐出装置について説明する。図1は、液体吐出装置を示す概略斜視図である。図1に示すように液体吐出装置10は、基板Wに液状体を吐出する液体吐出部としての複数の吐出ヘッド20(図2参照)を有するヘッドユニット1と、基板Wが載置されるステージ7とを備えている。またヘッドユニット1を副走査方向(X方向)に駆動するためのX方向ガイド軸4と、ステージ7を主走査方向(Y方向)に駆動するためのY方向ガイド軸5と、X方向ガイド軸4を回転させるX方向駆動モータ2と、Y方向ガイド軸5を回転させるY方向駆動モータ3とを備えている。X方向ガイド軸4およびY方向ガイド軸5は基台9の上部に配設され、基台9の下部には制御部6が備えられている。さらに液体吐出装置10は、ヘッドユニット1をクリーニングするためのクリーニング機構8および吐出された液状体を加熱し溶媒を蒸発・乾燥させて焼成するためのヒータ11とを備えている。   First, a liquid ejection device used when modeling a three-dimensional model will be described. FIG. 1 is a schematic perspective view showing a liquid ejection apparatus. As shown in FIG. 1, a liquid ejection apparatus 10 includes a head unit 1 having a plurality of ejection heads 20 (see FIG. 2) as liquid ejection units that eject a liquid material onto a substrate W, and a stage on which the substrate W is placed. 7. An X-direction guide shaft 4 for driving the head unit 1 in the sub-scanning direction (X direction), a Y-direction guide shaft 5 for driving the stage 7 in the main scanning direction (Y direction), and an X-direction guide shaft. An X-direction drive motor 2 that rotates 4 and a Y-direction drive motor 3 that rotates a Y-direction guide shaft 5 are provided. The X-direction guide shaft 4 and the Y-direction guide shaft 5 are disposed on the upper portion of the base 9, and a control unit 6 is provided on the lower portion of the base 9. Further, the liquid ejection device 10 includes a cleaning mechanism 8 for cleaning the head unit 1 and a heater 11 for heating the ejected liquid material to evaporate and dry the solvent, and to fire it.

ヘッドユニット1の複数の吐出ヘッド20は、制御部6から供給される吐出電圧に応じてノズル毎個別に液状体を吐出できるようになっている。この吐出ヘッド20については後述する。   The plurality of ejection heads 20 of the head unit 1 can eject the liquid material individually for each nozzle according to the ejection voltage supplied from the control unit 6. The discharge head 20 will be described later.

X方向駆動モータ2は、これに限定されるものではないが例えばステッピングモータ等であり、制御部6からX軸方向の駆動パルス信号が供給されると、X方向ガイド軸4を回転させ、X方向ガイド軸4に係合したヘッドユニット1をX方向に移動させる。   The X direction drive motor 2 is not limited to this, but is, for example, a stepping motor. When a drive pulse signal in the X axis direction is supplied from the control unit 6, the X direction guide shaft 4 is rotated to The head unit 1 engaged with the direction guide shaft 4 is moved in the X direction.

同様にY方向駆動モータ3,18は、これに限定されるものではないが例えばステッピングモータ等であり、制御部6からY軸方向の駆動パルス信号が供給されると、Y方向ガイド軸5を回転させ、Y方向ガイド軸5に係合したステージ7およびクリーニング機構8をY軸方向に移動させる。   Similarly, the Y-direction drive motors 3 and 18 are not limited to this, but are stepping motors, for example. When a drive pulse signal in the Y-axis direction is supplied from the control unit 6, the Y-direction guide shaft 5 is moved. The stage 7 and the cleaning mechanism 8 that are rotated and engaged with the Y-direction guide shaft 5 are moved in the Y-axis direction.

クリーニング機構8は、ヘッドユニット1をクリーニングする際には、ヘッドユニット1を臨む位置に移動し、吐出ヘッド20のノズル面に密着して不要な液状体を吸引するキャッピング動作や液状体が付着したノズル面26(図2参照)を拭き取るワイピング動作を行う。クリーニング機構8の詳細は省略する。   When cleaning the head unit 1, the cleaning mechanism 8 moves to a position facing the head unit 1, and adheres to the nozzle surface of the ejection head 20 so that an unnecessary liquid material is sucked and a liquid material is attached. A wiping operation for wiping the nozzle surface 26 (see FIG. 2) is performed. Details of the cleaning mechanism 8 are omitted.

ヒータ11は、例えばランプアニールにより基板Wを熱処理する手段であり、基板W上に吐出された液状体の蒸発・乾燥を行ない固化させるための熱処理を行うようになっている。このヒータ11の電源の投入及び遮断も制御部6によって制御される。尚、ステージ7の内部にも基板Wを加温可能な発熱体からなるヒータ19(図8(b)参照)を備えている。ヒータ11,19の構成は、これに限定されるものではない。   The heater 11 is means for heat-treating the substrate W by, for example, lamp annealing, and performs heat treatment for evaporating and drying the liquid material discharged onto the substrate W to solidify it. The controller 6 also controls the turning on and off of the heater 11. In addition, a heater 19 (see FIG. 8B) made of a heating element capable of heating the substrate W is also provided inside the stage 7. The configuration of the heaters 11 and 19 is not limited to this.

液体吐出装置10の動作は、制御部6から所定の駆動パルス信号をX方向駆動モータ2およびY方向駆動モータ3とに送り、ヘッドユニット1を副走査方向(X方向)に、ステージ7を主走査方向(Y方向)に相対移動させる。そして、制御部6から吐出電圧を供給しヘッドユニット1から基板Wの所定の位置に液状体を吐出させる。複数の吐出ヘッド20は、複数のノズル25(図2参照)の配列方向が主走査方向であるY軸方向に一定の間隔で並列するようにヘッドユニット1に支持されている。尚、ヘッドユニット1の角度を調整し、Y軸方向(主走査方向)に対して複数のノズル25の配列方向を交差させるようにしてもよい。このようにすれば、吐出ヘッド20のノズル間のピッチを基板Wに対して相対的に調節することが出来る。また、ヘッドユニット1は吐出ヘッド20をZ方向に上下させるアクチュエータ27(図2参照)を備え、基板Wとノズル面26との距離を所定の範囲で任意に設定することができる。   The operation of the liquid ejection apparatus 10 is performed by sending a predetermined drive pulse signal from the control unit 6 to the X direction drive motor 2 and the Y direction drive motor 3, moving the head unit 1 in the sub-scanning direction (X direction), and moving the stage 7 to the main. Relative movement in the scanning direction (Y direction). Then, a discharge voltage is supplied from the control unit 6 to discharge the liquid material from the head unit 1 to a predetermined position of the substrate W. The plurality of ejection heads 20 are supported by the head unit 1 so that the arrangement direction of the plurality of nozzles 25 (see FIG. 2) is arranged in parallel at a constant interval in the Y-axis direction that is the main scanning direction. The angle of the head unit 1 may be adjusted so that the arrangement direction of the plurality of nozzles 25 intersects the Y axis direction (main scanning direction). In this way, the pitch between the nozzles of the ejection head 20 can be adjusted relative to the substrate W. Further, the head unit 1 includes an actuator 27 (see FIG. 2) for moving the ejection head 20 up and down in the Z direction, and the distance between the substrate W and the nozzle surface 26 can be arbitrarily set within a predetermined range.

図2は、吐出ヘッドを含む液状体の吐出機構を示す概略図である。図2に示すように吐出ヘッド20は、ノズル25に連通した液体室21と、液体室21に充填された液状体12を加圧するピエゾ素子22とによって構成されている。液体室21には、液状体12を収容する材料タンクを含む液状体供給系23から液状体12が供給される。ピエゾ素子22は制御部6に備えられた駆動回路24に電気的に接続されており、この駆動回路24からピエゾ素子22に駆動電圧(吐出電圧)を印加してピエゾ素子22を変形させることにより、液体室21が変形しノズル25から液状体12が吐出される。この場合、駆動電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み量が制御される。また、駆動電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み速度が制御される。吐出ヘッド20から柱状に吐出される液状体12の吐出量および長さは、駆動回路24からピエゾ素子22に供給される駆動電圧(吐出電圧)や周波数によって調整することができる。ピエゾ方式による吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。   FIG. 2 is a schematic view showing a liquid material discharge mechanism including a discharge head. As shown in FIG. 2, the ejection head 20 includes a liquid chamber 21 that communicates with the nozzle 25 and a piezo element 22 that pressurizes the liquid 12 filled in the liquid chamber 21. The liquid material 12 is supplied to the liquid chamber 21 from a liquid material supply system 23 including a material tank that stores the liquid material 12. The piezo element 22 is electrically connected to a drive circuit 24 provided in the control unit 6, and a drive voltage (discharge voltage) is applied from the drive circuit 24 to the piezo element 22 to deform the piezo element 22. The liquid chamber 21 is deformed and the liquid material 12 is discharged from the nozzle 25. In this case, the amount of distortion of the piezo element 22 is controlled by changing the value of the drive voltage. Further, the distortion speed of the piezo element 22 is controlled by changing the frequency of the drive voltage. The discharge amount and length of the liquid material 12 discharged from the discharge head 20 in a columnar shape can be adjusted by the drive voltage (discharge voltage) and the frequency supplied from the drive circuit 24 to the piezo element 22. Since ejection by the piezo method does not apply heat to the material, it has an advantage of hardly affecting the composition of the material.

図3は、吐出ヘッドのピエゾ素子に与える駆動電圧の波形を示すグラフである。図3に示すように、この場合の駆動電圧の波形は、勾配を有する台形波であり、印加時間およそ8μsec、最大電圧30V、周波数1kHzである。   FIG. 3 is a graph showing the waveform of the drive voltage applied to the piezo element of the ejection head. As shown in FIG. 3, the waveform of the drive voltage in this case is a trapezoidal wave having a gradient, the application time is about 8 μsec, the maximum voltage is 30 V, and the frequency is 1 kHz.

次に上記液体吐出装置10を用いた本発明の一実施形態である立体造形物の造形方法について図を参照しながら説明する。   Next, a method for forming a three-dimensional object that is one embodiment of the present invention using the liquid ejection device 10 will be described with reference to the drawings.

図4は、立体造形物の造形方法を示すフローチャートである。図4のフローチャートに示すように本実施形態の造形方法は、吐出ヘッド20のノズル25から液状体12を柱状に吐出させ基板W上に着弾させて第1層を形成する第1層形成工程と、第1層に対応する位置で吐出ヘッド20のノズル25から繰り返し液状体12を柱状に吐出させ、第1層上に第2層以降の層を積層する積層工程と、積層された液状体12からなる層を加熱して焼成する焼成工程とを備えている。また基板W上に着弾した液状体12をゲル化させるゲル化工程を備えている。尚、図4のフローチャートでは、ゲル化工程を分けて表示したが基本的には第1層形成工程と積層工程とに含まれるものである。   FIG. 4 is a flowchart showing a method for modeling a three-dimensional model. As shown in the flowchart of FIG. 4, the modeling method of the present embodiment includes a first layer forming step of forming the first layer by discharging the liquid material 12 in a columnar shape from the nozzles 25 of the discharge head 20 and landing on the substrate W. The liquid material 12 is repeatedly ejected in a columnar shape from the nozzle 25 of the ejection head 20 at a position corresponding to the first layer, and the second and subsequent layers are laminated on the first layer, and the laminated liquid material 12 And a baking step of heating and baking the layer made of In addition, a gelation step is included in which the liquid 12 that has landed on the substrate W is gelled. In the flowchart of FIG. 4, the gelation process is shown separately, but is basically included in the first layer formation process and the lamination process.

液状体12は、ノズル25から吐出された後にゲル化(固化)するように原料が調合されたものであって、主溶媒としての水に機能性材料としてATO(Antimony Tin Oxide;アンチモンスズ酸化物)をおよそ1wt%に分散させ、ゲル化剤として水溶性の高分子材料であるポリジメチルアクリルアミドを液状体12の総量に対して添加濃度0.7wt%となるように添加したものを用いた。ポリジメチルアクリルアミドの分子量は、およそ380000であり200000〜500000程度が望ましい。これにより液状体12は適度の弾性率と動的表面張力を有し吐出ヘッド20に所定の駆動電圧(吐出電圧)を与えるとノズル25から柱状に吐出され基板Wに着弾したときにゲル化する。ゲル化のメカニズムは、溶媒中に存在する長分子のゲル化剤が溶媒の蒸発や加熱等により長分子同士が絡み合うあるいは網目状となって成長することによるものである。   The liquid 12 is prepared by mixing raw materials so as to be gelled (solidified) after being discharged from the nozzle 25, and is composed of water as a main solvent and ATO (Antimony Tin Oxide) as a functional material. ) Was dispersed in about 1 wt%, and a water-soluble polymer material polydimethylacrylamide was added as a gelling agent so as to have an addition concentration of 0.7 wt% with respect to the total amount of the liquid material 12. The molecular weight of polydimethylacrylamide is about 380000, and preferably about 200000 to 500000. As a result, the liquid 12 has an appropriate elastic modulus and dynamic surface tension, and when a predetermined drive voltage (discharge voltage) is applied to the discharge head 20, the liquid 12 is discharged in a columnar shape from the nozzle 25 and gels when landed on the substrate W. . The mechanism of gelation is due to the fact that the long-molecule gelling agent present in the solvent grows in such a way that the long molecules are entangled or networked by evaporation or heating of the solvent.

尚、液状体12は、特にAu、Ag、Cu、Ni、Mnの金属やこれらの金属の合金、あるいは金属酸化物としてのATO、ITO(Indium Tin Oxide)を機能性材料とした微粒子分散液または溶液が好ましい。   In addition, the liquid 12 is a fine particle dispersion or a functional material made of a metal such as Au, Ag, Cu, Ni, Mn, alloys of these metals, or ATO or ITO (Indium Tin Oxide) as a metal oxide. A solution is preferred.

図5(a)〜(c)は、第1層形成工程の状態を示す概略図である。同図(a)に示すようにステップS1の第1層形成工程では、吐出ヘッド20はステージ7に載置された基板Wに対して所定の間隔L0(本例ではおよそ200μm)で対向配置されている。図3に示した駆動電圧をピエゾ素子22に与えると駆動電圧が正勾配にあるときにピエゾ素子22が収縮して液体室21が拡張することにより液状体12は液状体供給系23から液体室21に流入する。続いて駆動電圧が負勾配にあるときにピエゾ素子22が元の状態に戻ろうとして液体室21を加圧してノズル25から充填された液状体12が吐出される。液状体12は、添加されたゲル化剤としての高分子材料によって適度の粘度を有し柱状に吐出される。   FIGS. 5A to 5C are schematic views showing the state of the first layer forming step. As shown in FIG. 5A, in the first layer forming process of step S1, the ejection head 20 is disposed to face the substrate W placed on the stage 7 at a predetermined interval L0 (in this example, approximately 200 μm). ing. When the drive voltage shown in FIG. 3 is applied to the piezo element 22, the piezo element 22 contracts and the liquid chamber 21 expands when the drive voltage is in a positive gradient, so that the liquid 12 is supplied from the liquid supply system 23 to the liquid chamber. 21. Subsequently, when the driving voltage has a negative gradient, the liquid element 12 is discharged from the nozzle 25 by pressurizing the liquid chamber 21 so that the piezo element 22 returns to the original state. The liquid 12 has an appropriate viscosity and is discharged in a columnar shape by the added polymer material as a gelling agent.

同図(b)に示すように柱状に吐出された液状体12は、その先端部が基板Wに着弾して基板Wの表面処理状態に応じて濡れ広がる。   As shown in FIG. 4B, the liquid material 12 ejected in a columnar shape has its tip landed on the substrate W and spreads in a wet state according to the surface treatment state of the substrate W.

同図(c)に示すように、ピエゾ素子22への駆動電圧印加が終了すると、液状体12はその弾性力によりノズル25内に戻ろうとする。このとき柱状の液状体12はその動的表面張力、密度、粘度およびノズル25の径等によって波長が左右されるレイリー波の節によって引きちぎられ切断される。引きちぎられた液状体12の一方はノズル25内に戻り、他方は基板Wに着弾して濡れ広がる。   As shown in FIG. 3C, when the application of the driving voltage to the piezo element 22 is completed, the liquid material 12 tries to return into the nozzle 25 by its elastic force. At this time, the columnar liquid body 12 is torn and cut by a Rayleigh wave node whose wavelength depends on the dynamic surface tension, density, viscosity, diameter of the nozzle 25 and the like. One of the torn liquids 12 returns into the nozzle 25, and the other reaches the substrate W and spreads wet.

次にステップS2のゲル化工程では、着弾して基板W上に濡れ広がった液状体12は、その溶媒成分が蒸発しゲル化が促進されて固まり図5(c)に示すように第1層13が形成される。ゲル化工程の詳細については後述する。そしてステップS3へ進む。   Next, in the gelation process of step S2, the liquid material 12 which has landed and wetted and spread on the substrate W is solidified by evaporating the solvent component and promoting gelation, as shown in FIG. 5C. 13 is formed. Details of the gelation step will be described later. Then, the process proceeds to step S3.

図6(a)〜(c)は、積層工程の状態を示す概略図である。図6(a)に示すようにステップS3の積層工程では、吐出ヘッド20は基板Wに対して間隔L0よりもやや大きめの間隔L1で対向配置されている。第1層13に対応する位置で吐出ヘッド20のノズル25から液状体12を柱状に吐出して第1層13に着弾させる。着弾した液状体12はステップS1と同様に引きちぎられる。引きちぎられた液状体12の一方はノズル25内に戻り、他方は第1層13に積層される。そしてステップS4へ進む。   FIGS. 6A to 6C are schematic views showing the state of the lamination process. As shown in FIG. 6A, in the stacking process of step S3, the ejection head 20 is disposed to face the substrate W at a distance L1 that is slightly larger than the distance L0. The liquid material 12 is discharged in a column shape from the nozzle 25 of the discharge head 20 at a position corresponding to the first layer 13 and is landed on the first layer 13. The landed liquid material 12 is torn off in the same manner as in step S1. One of the torn liquid bodies 12 returns into the nozzle 25, and the other is laminated on the first layer 13. Then, the process proceeds to step S4.

ステップS4のゲル化工程では、積層された液状体12はゲル化し第2層14が形成される。そしてステップS5へ進む。   In the gelation process of step S4, the laminated liquid body 12 is gelled to form the second layer. Then, the process proceeds to step S5.

ステップS5は、所定の吐出回数で液状体12が積層されたか否か判定する工程である。所定の吐出回数で積層されていなければ再びステップS3に戻って積層を繰り返す。   Step S5 is a step of determining whether or not the liquid material 12 has been laminated by a predetermined number of ejections. If it is not laminated by the predetermined number of discharges, the process returns to step S3 again and the lamination is repeated.

再びステップS3に戻って積層を繰り返す場合は、図6(b)に示すように、吐出ヘッド20と基板Wとを間隔L2(L2>L1)としてノズル25から液状体12を第2層14に向かって柱状に吐出させる。第2層14に着弾した液状体12は、引きちぎられゲル化して第3層15が積層された立体造形物15aが形成される。   When returning to step S3 again and repeating the lamination, as shown in FIG. 6B, the liquid material 12 is transferred from the nozzle 25 to the second layer 14 with the discharge head 20 and the substrate W being set at an interval L2 (L2> L1). Discharge in a columnar shape. The liquid body 12 that has landed on the second layer 14 is torn and gelled to form a three-dimensional structure 15a in which the third layer 15 is laminated.

さらにステップS3〜ステップS4の積層工程を繰り返す場合は、図6(c)に示すように、吐出ヘッド20と基板Wとを間隔L3(L3>L2)としてノズル25から液状体12を第3層15が積層された立体造形物15aに向かって柱状に吐出させる。立体造形物15aに着弾した液状体12は、引きちぎられゲル化して第4層16が積層された立体造形物16aが形成される。以上のように積層工程では、吐出ヘッド20と基板Wとの間のギャップ(間隔)を徐々に大きくして第1層13上に液状体12を繰り返し着弾させて第2層14以降の層を積層する。尚、積層工程における液状体12の吐出回数は、制御部6によってカウントされ制御される。   Furthermore, when repeating the lamination process of step S3-step S4, as shown in FIG.6 (c), the liquid body 12 is made into the 3rd layer from the nozzle 25 by making the discharge head 20 and the board | substrate W into the space | interval L3 (L3> L2). It is discharged in a columnar shape toward the three-dimensional structure 15a on which 15 is laminated. The liquid body 12 that has landed on the three-dimensional structure 15a is torn and gelled to form a three-dimensional structure 16a in which the fourth layer 16 is laminated. As described above, in the laminating process, the gap (interval) between the ejection head 20 and the substrate W is gradually increased, and the liquid material 12 is repeatedly landed on the first layer 13 so that the layers after the second layer 14 are formed. Laminate. The number of discharges of the liquid material 12 in the stacking process is counted and controlled by the control unit 6.

次にステップS5で所定の吐出回数で液状体12が積層されたと制御部6が判定すると、このようにして造形された立体造形物16aは、ステップS6の焼成工程において液体吐出装置10に設けられたヒータ11によって加熱処理されることにより溶媒が蒸発して焼成され導電性を有する立体造形物16aとなる。尚、ヒータ11を焼成炉等の別装置としてそこへ立体造形物16aが形成された基板Wを投入して焼成してもよい。   Next, when the control unit 6 determines that the liquid body 12 has been laminated at a predetermined number of discharges in step S5, the three-dimensional structure 16a formed in this way is provided in the liquid discharge device 10 in the firing step of step S6. When the heat treatment is performed by the heater 11, the solvent is evaporated and baked to obtain a three-dimensional structure 16 a having conductivity. Alternatively, the heater 11 may be used as another apparatus such as a firing furnace, and the substrate W on which the three-dimensional structure 16a is formed may be charged and fired.

図7は、基板の表面処理状態による着弾状態を示す概略図である。同図(a)は基板表面を撥液処理した場合の着弾状態を示す概略図、同図(b)は基板表面を親液処理した場合の着弾状態を示す概略図である。   FIG. 7 is a schematic view showing a landing state according to the surface treatment state of the substrate. FIG. 4A is a schematic diagram showing a landing state when the substrate surface is subjected to a liquid repellent treatment, and FIG. 4B is a schematic diagram showing a landing state when the substrate surface is subjected to a lyophilic treatment.

図7(a)に示すように本実施形態では、基板Wは表面17に撥液処理を施して撥液処理面17aが形成されている。撥液処理の方法としては、例えば基板Wの表面17に含フッ素アルキルシラン化合物等の有機薄膜を形成する方法、処理ガスとしてフルオロカーボン系化合物等を用いたプラズマ処理法、撥液性の高分子化合物(例えば含フッ素ポリイミド樹脂等)を塗布する方法等が挙げられる。   As shown in FIG. 7A, in this embodiment, the substrate W is subjected to a liquid repellent treatment on the surface 17 to form a liquid repellent treatment surface 17a. Examples of the liquid repellent treatment include a method of forming an organic thin film such as a fluorine-containing alkylsilane compound on the surface 17 of the substrate W, a plasma treatment using a fluorocarbon compound as a treatment gas, and a liquid repellent polymer compound. The method etc. which apply | coat (for example, fluorine-containing polyimide resin etc.) are mentioned.

このように基板Wの表面17を撥液処理することにより、着弾した液状体12は基板Wの表面17に濡れ広がりにくく着弾径をより小径とすることができる。したがって、基板W上に高密度に柱状の立体造形物を造形しようとする場合は、表面17を液状体12に対して撥液性を有するように表面処理することが望ましい。   Thus, by performing the liquid repellent treatment on the surface 17 of the substrate W, the landed liquid body 12 is difficult to spread on the surface 17 of the substrate W, and the landing diameter can be made smaller. Therefore, when it is intended to form a columnar three-dimensionally shaped object on the substrate W at a high density, it is desirable to perform a surface treatment so that the surface 17 has liquid repellency with respect to the liquid body 12.

一方で図7(b)に示すように基板Wの表面17を親液処理して親液処理面17bを形成することも有効な手段となる。基板Wの表面17を親液処理することにより、着弾した液状体12は基板Wの表面17に濡れ広がり着弾径をより大径とすることができる。例えば第1層同士を繋げた状態でその上に第2層以降が形成された複数の立体造形物を造形しようとする場合は、表面17を液状体12に対して親液性を有するように表面処理することが望ましい。   On the other hand, as shown in FIG. 7B, it is also effective to form a lyophilic treatment surface 17b by subjecting the surface 17 of the substrate W to lyophilic treatment. By subjecting the surface 17 of the substrate W to lyophilic treatment, the landed liquid 12 is wetted and spreads on the surface 17 of the substrate W so that the landing diameter can be made larger. For example, when trying to model a plurality of three-dimensional objects with the second and subsequent layers formed in a state where the first layers are connected, the surface 17 is lyophilic with respect to the liquid body 12. Surface treatment is desirable.

親液処理の方法としては、例えば酸化チタン等の光触媒を表面17に塗布した後に紫外線を照射して親液性を持たせる方法、処理ガスとして酸素(O2)をもちいてプラズマ処理する方法等が挙げられる。 As a method of lyophilic treatment, for example, a method of applying a photocatalyst such as titanium oxide to the surface 17 and then irradiating with ultraviolet rays to make it lyophilic, a method of performing plasma treatment using oxygen (O 2 ) as a treatment gas, etc. Is mentioned.

次に第1層形成工程と積層工程に含まれるゲル化工程について説明する。図8は、ゲル化工程の状態を示す概略図である。同図(a)は自然乾燥によるゲル化の状態を示す概略図、同図(b)は積極的な乾燥によるゲル化の状態を示す概略図である。   Next, the gelation step included in the first layer formation step and the lamination step will be described. FIG. 8 is a schematic view showing the state of the gelation process. FIG. 4A is a schematic diagram showing a state of gelation by natural drying, and FIG. 4B is a schematic diagram showing a state of gelation by aggressive drying.

図8(a)に示すように第1層形成工程で吐出ヘッド20の複数のノズル25から液状体12を吐出させ基板Wに着弾させて第1層13を形成し、積層工程で同様にして複数のノズル25から液状体12を吐出させて第2層を積層し自然乾燥させた場合、着弾位置によって液状体12の溶媒である水の蒸発速度が異なってしまう。特に複数の液状体12の着弾領域の周辺域の蒸発速度が速くなるためゲル化速度も同様に速くなって周辺域の第2層14bに比べ内側の第2層14aの高さが低くなる。すなわち柱状の立体造形物の造形速度が着弾領域の中央部に行くほど遅くなってしまう。   As shown in FIG. 8A, the liquid material 12 is ejected from the plurality of nozzles 25 of the ejection head 20 in the first layer forming process and landed on the substrate W to form the first layer 13, and the same process is performed in the laminating process. When the liquid material 12 is discharged from the plurality of nozzles 25 and the second layer is stacked and naturally dried, the evaporation rate of water that is the solvent of the liquid material 12 varies depending on the landing position. In particular, since the evaporation speed in the peripheral area of the landing area of the plurality of liquid bodies 12 is increased, the gelation speed is similarly increased, and the height of the inner second layer 14a is lower than that of the second layer 14b in the peripheral area. That is, the modeling speed of the columnar three-dimensional model becomes slower as it goes to the center of the landing area.

本実施形態ではこのような造形速度のバラツキを改善するために、図8(b)に示すように送風機28を用いて吐出ヘッド20と基板Wとの間に気体としての空気をおよそ1m/secで一定方向に流すようにしている。またステージ7に設けられたヒータ19により基板Wをおよそ100℃に加温している。尚、液状体12の材料構成により溶媒の蒸発速度やゲル化速度が変化することが考えられるため着弾した液状体12をゲル化するゲル化工程では、上記の乾燥方法のいずれかを選択して採用してもよい。尚、送風機28に限らず、一定方向に空気が流れるように吐出ヘッド20と基板Wとの間に対応する位置で排気してもよい。   In the present embodiment, in order to improve such a variation in modeling speed, air as a gas is about 1 m / sec between the discharge head 20 and the substrate W using the blower 28 as shown in FIG. 8B. To make it flow in a certain direction. Further, the substrate W is heated to approximately 100 ° C. by the heater 19 provided on the stage 7. In addition, since it is considered that the evaporation rate and gelation rate of the solvent change depending on the material configuration of the liquid material 12, in the gelation step of gelling the landed liquid material 12, one of the above drying methods is selected. It may be adopted. In addition to the blower 28, the air may be exhausted at a position corresponding to between the ejection head 20 and the substrate W so that air flows in a certain direction.

本実施形態では、積層工程でおよそ10000回に渡って液状体12を第1層13に着弾させ積層してゲル化させたところ、高さおよそ100μm、直径およそ25〜40μmのATOからなる柱状の立体造形物が造形された。   In this embodiment, when the liquid material 12 is landed on the first layer 13 and laminated and gelled approximately 10,000 times in the laminating step, a columnar shape made of ATO having a height of approximately 100 μm and a diameter of approximately 25 to 40 μm. A three-dimensional model was created.

第1の実施形態の効果は、以下のとおりである。   The effects of the first embodiment are as follows.

(1)本実施形態の立体造形物の造形方法は、液状体12にゲル化剤として水溶性の高分子材料であるポリジメチルアクリルアミドが添加されており、第1層形成工程では吐出ヘッド20のノズル25から液状体12を柱状に吐出させ基板W上に着弾させて第1層13を形成し、積層工程では第1層13の上に第2層14以降が積層されるように第1層13に対応する位置で繰り返し液状体12が柱状に吐出される。したがって、第1層13上にゲル化して柱状に積層された立体造形物16aを基板W上に容易に造形することができる。また光硬化性物質からなる液状体を吐出ヘッド20から吐出させると共に吐出された液状体に光照射装置から光を照射して硬化させて立体造形物を造形する方法に比べて、光硬化性物質に対応した光照射装置が不要となり装置の構成を簡略化することが可能である。   (1) In the method for modeling a three-dimensional object according to the present embodiment, polydimethylacrylamide, which is a water-soluble polymer material, is added to the liquid 12 as a gelling agent. The liquid body 12 is ejected in a columnar shape from the nozzle 25 and landed on the substrate W to form the first layer 13. In the laminating step, the first layer is so formed that the second layer 14 and subsequent layers are laminated on the first layer 13. The liquid material 12 is repeatedly discharged in a columnar shape at a position corresponding to 13. Therefore, it is possible to easily form the three-dimensional structure 16a that is gelled on the first layer 13 and stacked in a columnar shape on the substrate W. Compared to a method of forming a three-dimensional structure by discharging a liquid material made of a photocurable material from the discharge head 20 and irradiating the discharged liquid material with light from a light irradiation device to cure the photocurable material. The light irradiation device corresponding to the above is not required, and the configuration of the device can be simplified.

(2)液状体12は主溶媒としての水に機能性材料としてのATOを分散させると共にゲル化剤としてポリジメチルアクリルアミドが添加されているため、基板W上に着弾したときに溶媒が蒸発することによってゲル化が促進される。したがって、第1層13がゲル化した後に素早く第2層14以降を積層することができ、積層工程で形状が崩れにくく、容易に柱状の立体造形物16aを造形することができる。   (2) Since the liquid 12 has ATO as a functional material dispersed in water as a main solvent and polydimethylacrylamide is added as a gelling agent, the solvent evaporates when landing on the substrate W. Promotes gelation. Therefore, after the 1st layer 13 gelatinizes, the 2nd layer 14 or later can be laminated | stacked quickly, a shape does not collapse easily in a lamination | stacking process, and the columnar three-dimensional molded item 16a can be modeled easily.

(3)液状体12は基板W上に着弾したときにゲル化するようにゲル化剤としてのポリジメチルアクリルアミドの分子量をおよそ380000とし、添加濃度をおよそ0.7wt%に調整されているため、液状体12は安定した長さで柱状に吐出されると共に着弾後にゲル化する液状体12の塗布量を安定化することができる。また着弾後直ちにゲル化するので少ない吐出回数でより高い柱状の立体造形物16aを形成することができる。   (3) Since the liquid 12 has a molecular weight of about 380000 polydimethylacrylamide as a gelling agent and is adjusted to an addition concentration of about 0.7 wt% so that the liquid 12 gels upon landing on the substrate W. The liquid body 12 is discharged in a column shape with a stable length, and can stabilize the coating amount of the liquid body 12 that gels after landing. Further, since gelation occurs immediately after landing, a higher columnar three-dimensional structure 16a can be formed with a small number of discharges.

(4)液状体12は、溶媒として有機溶剤を用いた場合は、吐出ヘッド20を構成する材料および表面処理等が有機溶媒によって侵食されないようにその構造や材質を変更する必要があるが、この場合、主成分が水からなる溶媒に機能性材料としてのATOを分散させ、ゲル化剤として水溶性の高分子材料であるポリジメチルアクリルアミドが添加されているため、吐出ヘッド20を構成する材料および表面処理等を変更しなくても記録用のインクを吐出するインクジェットヘッドを用いてATOからなる柱状の立体造形物16aを造形することができる。   (4) When an organic solvent is used as the solvent, the liquid body 12 needs to be changed in structure and material so that the material and surface treatment of the discharge head 20 are not eroded by the organic solvent. In this case, since ATO as a functional material is dispersed in a solvent whose main component is water and polydimethylacrylamide, which is a water-soluble polymer material, is added as a gelling agent, the material constituting the discharge head 20 and Even if the surface treatment or the like is not changed, the columnar three-dimensional structure 16a made of ATO can be formed using an ink jet head that discharges recording ink.

(5)第1層形成工程と積層工程に含まれるゲル化工程では、吐出ヘッド20と基板Wとの間に気体としての空気を一定方向に流すと共に基板Wをおよそ100℃に加温することによって基板W上に着弾した液状体12を乾燥させてゲル化させるため、基板W上に一度に複数の液状体12を着弾させても、その着弾位置間の大きさのバラツキを少なくして素早く複数の立体造形物16aを造形することができる。   (5) In the gelation step included in the first layer forming step and the laminating step, air as a gas is allowed to flow between the ejection head 20 and the substrate W in a certain direction and the substrate W is heated to approximately 100 ° C. Since the liquid material 12 that has landed on the substrate W is dried and gelled by the above, even if a plurality of liquid materials 12 are landed on the substrate W at once, the variation in size between the landing positions can be reduced quickly. A plurality of three-dimensional models 16a can be modeled.

(6)積層工程では、吐出ヘッド20と基板Wとの間のギャップ(間隔)を徐々に大きくして基板W上の第1層13上に液状体12を着弾させ第2層14以降の層を積層させるため、液状体12の吐出条件を変えずに一定の長さで柱状に吐出させて第1層13上に第2層14以降の層を安定した液状体12の塗布量で積層することができる。よって形状がより安定した柱状の立体造形物16aを造形することができる。また吐出された液状体12がちぎれずに吐出ヘッド20のノズル25に繋がったままゲル化する事態を防ぐこともできる。   (6) In the stacking step, the gap (interval) between the ejection head 20 and the substrate W is gradually increased, and the liquid material 12 is landed on the first layer 13 on the substrate W, and the layers after the second layer 14. Therefore, the second and subsequent layers 14 are stacked on the first layer 13 with a stable coating amount of the liquid material 12 without changing the discharge conditions of the liquid material 12. be able to. Therefore, the columnar three-dimensional model 16a having a more stable shape can be modeled. Further, it is possible to prevent the discharged liquid material 12 from being gelled while being connected to the nozzle 25 of the discharge head 20 without being broken.

(7)基板Wの表面17に液状体12に対して撥液性を有するように撥液処理を施した場合、着弾した液状体12は基板W上に濡れ広がらずに液状体12の量と表面張力に応じた大きさの範囲で形状が安定する。よってより小さな着弾径で液状体12を基板Wに着弾させることができる。すなわち平面視でより小さな径の第1層13を有する立体造形物16aを造形することができる。   (7) When the surface 17 of the substrate W is subjected to a liquid repellent treatment so as to have liquid repellency with respect to the liquid 12, the landed liquid 12 does not wet and spread on the substrate W, and the amount of the liquid 12 The shape is stable in the range of the size according to the surface tension. Therefore, the liquid 12 can be landed on the substrate W with a smaller landing diameter. That is, the three-dimensional structure 16a having the first layer 13 having a smaller diameter in plan view can be formed.

(8)基板Wの表面17に液状体12に対して親液性を有するように親液処理を施した場合、着弾した液状体12は基板W上に濡れ広がって液状体12の量と表面張力に応じた大きさの範囲で形状が安定する。よってより大きな着弾径で液状体12を基板Wに着弾させることができる。すなわち平面視でより大きな径の第1層13を有する立体造形物16aを造形することができる。   (8) When the surface 17 of the substrate W is subjected to a lyophilic treatment so as to have lyophilicity with respect to the liquid material 12, the landed liquid material 12 spreads wet on the substrate W and the amount and surface of the liquid material 12 The shape is stable in the range of the size according to the tension. Therefore, the liquid 12 can be landed on the substrate W with a larger landing diameter. That is, it is possible to model the three-dimensional model 16a having the first layer 13 having a larger diameter in plan view.

(第2の実施形態)
本実施形態は、基板W上に複数層の金属配線を形成し、複数層の金属配線間を導通させる層間導通部を第1の実施形態に示した造形方法を用いて形成する多層配線基板の製造方法を示すものである。
(Second Embodiment)
The present embodiment is a multilayer wiring board in which a plurality of layers of metal wiring are formed on a substrate W, and an interlayer conductive portion that conducts between the plurality of layers of metal wiring is formed using the modeling method shown in the first embodiment. A manufacturing method is shown.

この場合、液状体は、主溶媒としての水に機能性材料としてAg粒子を分散させ、ゲル化剤としてポリジメチルアクリルアミドを添加濃度0.7wt%で添加した導電性液状体30を用いている。   In this case, as the liquid, a conductive liquid 30 is used in which Ag particles are dispersed as a functional material in water as a main solvent and polydimethylacrylamide is added as a gelling agent at an addition concentration of 0.7 wt%.

また基板Wはガラス基板を用い、あらかじめ表面処理として金属配線が形成される部位を親液処理し他の部位を撥液処理している。親液処理および撥液処理は第1の実施形態で前述した方法が用いられる。   In addition, a glass substrate is used as the substrate W, and a portion where the metal wiring is formed as a surface treatment is subjected to a lyophilic treatment and another portion is subjected to a liquid repellent treatment. For the lyophilic treatment and the liquid repellent treatment, the methods described above in the first embodiment are used.

図9(a)〜(g)は、多層配線基板の製造方法を示す概略断面図である。まず同図(a)に示すように吐出ヘッド20のノズル25から導電性液状体30を柱状に吐出させ基板W上の金属配線が形成される部位に着弾させる。   9A to 9G are schematic cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a multilayer wiring board. First, as shown in FIG. 2A, the conductive liquid 30 is ejected in a columnar shape from the nozzles 25 of the ejection head 20 and landed on the portion where the metal wiring on the substrate W is formed.

同図(b)に示すように着弾した導電性液状体30は引きちぎられて親液処理された部位に沿って濡れ広がりゲル化して第1層31が形成される。導電性液状体30の着弾位置は、当然のことながら金属配線の配線方向に沿う位置となる。   As shown in FIG. 4B, the landed conductive liquid 30 is torn and spreads and gels along the lyophilic portion to form the first layer 31. As a matter of course, the landing position of the conductive liquid 30 is a position along the wiring direction of the metal wiring.

尚、基板Wの表面を撥液処理し、小径に着弾させた導電性液状体30を繋ぎ合わせる位置で再び着弾させて第1層31を形成してもよい。着弾した導電性液状体30の乾燥速度を調整しゲル化速度を遅くすれば先の着弾と後の着弾とをレベリングさせて所定の膜厚を有する第1層31の形成が可能である。   Alternatively, the surface of the substrate W may be subjected to a liquid repellent treatment, and the first layer 31 may be formed by landing again at a position where the conductive liquid bodies 30 landed on a small diameter are joined. If the drying speed of the landed conductive liquid 30 is adjusted to reduce the gelation speed, the first layer 31 having a predetermined film thickness can be formed by leveling the previous landing and the subsequent landing.

次に同図(c)に示すように金属配線を形成しようとする部位に同様に導電性液状体30を繰り返し着弾させ第1層31を形成してゆくことにより金属配線層32を完成させる。   Next, as shown in FIG. 3C, the conductive liquid 30 is repeatedly landed on the portion where the metal wiring is to be formed, thereby forming the first layer 31, thereby completing the metal wiring layer 32.

次に同図(d)に示すように以降に形成される金属配線層に対応して導通が必要な位置に導電性液状体30を着弾させてそれぞれ必要な高さとなるように積層する。これにより層間導通部33,34,35が金属配線層32上に形成される。これらの層間導通部33,34,35、金属配線層32は導通性を持たせるために所定の温度に基板Wを加熱して焼成される。そして層間導通部33,34,35を形成した後に表面全体をO2プラズマ処理して親液性を持たせ、層間絶縁層40としてポリイミド樹脂等の絶縁材料を全面に塗布する。塗布方法としてはスプレーコート、スピンコート等の方法を用いればよい。層間絶縁層40の膜厚は、この場合、層間導通部33,34が層間絶縁層40をわずかに突き抜ける程度とする。基板Wに乾燥を施すことにより塗布された層間絶縁層40は溶媒成分が除去され成膜される。 Next, as shown in FIG. 4D, the conductive liquid 30 is deposited at positions where conduction is required corresponding to the metal wiring layers to be formed later, and laminated so as to have the required height. Thereby, interlayer conductive portions 33, 34, and 35 are formed on the metal wiring layer 32. These interlayer conductive portions 33, 34, 35 and the metal wiring layer 32 are baked by heating the substrate W to a predetermined temperature in order to provide conductivity. Then, after forming the interlayer conductive portions 33, 34, 35, the entire surface is treated with O 2 plasma to make it lyophilic, and an insulating material such as a polyimide resin is applied to the entire surface as the interlayer insulating layer 40. As a coating method, a method such as spray coating or spin coating may be used. In this case, the thickness of the interlayer insulating layer 40 is set such that the interlayer conductive portions 33 and 34 penetrate the interlayer insulating layer 40 slightly. The interlayer insulating layer 40 applied by drying the substrate W is formed by removing the solvent component.

次に同図(e)に示すように層間絶縁層40の上に2層目の金属配線層36を形成する。この場合、層間絶縁層40の表面は撥液性を有しているため先に述べたように導電性液状体30を繋ぎ合わせるように着弾させて金属配線層36を形成する。金属配線層36は、層間導通部33,34で1層目の金属配線層32と導通するように形成する。   Next, a second metal wiring layer 36 is formed on the interlayer insulating layer 40 as shown in FIG. In this case, since the surface of the interlayer insulating layer 40 has liquid repellency, the metal wiring layer 36 is formed by landing so as to join the conductive liquid 30 as described above. The metal wiring layer 36 is formed so as to be electrically connected to the first metal wiring layer 32 at the interlayer conductive portions 33 and 34.

次に同図(f)に示すように金属配線層36が形成された面に先に形成した層間絶縁層40と同様にして層間絶縁層41を形成する。このとき層間導通部35が層間絶縁層41よりもわずかに突き抜けるように絶縁材料を塗布して乾燥させ層間絶縁層41を成膜する。   Next, as shown in FIG. 6F, an interlayer insulating layer 41 is formed in the same manner as the interlayer insulating layer 40 previously formed on the surface on which the metal wiring layer 36 is formed. At this time, an insulating material is applied and dried so that the interlayer conductive portion 35 penetrates slightly from the interlayer insulating layer 41, and the interlayer insulating layer 41 is formed.

次に同図(g)に示すように層間絶縁層41の上に2層目の金属配線層36と同様にして3層目の金属配線層37を形成する。金属配線層37は、層間導通部35で1層目の金属配線層32と導通するように形成する。   Next, a third metal wiring layer 37 is formed on the interlayer insulating layer 41 in the same manner as the second metal wiring layer 36 as shown in FIG. The metal wiring layer 37 is formed so as to be electrically connected to the first metal wiring layer 32 at the interlayer conductive portion 35.

以上のようにして1層目の金属配線層32が2層目の金属配線層36および3層目の金属配線層37と所定の位置で導通した多層配線基板が完成する。なおさらに金属配線層を積層して4層以上の多層配線基板とすることも可能である。   As described above, a multilayer wiring substrate is completed in which the first metal wiring layer 32 is electrically connected to the second metal wiring layer 36 and the third metal wiring layer 37 at a predetermined position. Furthermore, it is possible to form a multilayer wiring board having four or more layers by laminating metal wiring layers.

第2の実施形態の効果は、以下のとおりである。   The effects of the second embodiment are as follows.

(1)第2の実施形態の多層配線基板の製造方法は、金属配線層32,36,37間を繋ぐ層間導通部33,34,35を1層目の金属配線層32の上に吐出ヘッド20のノズル25から導電性液状体30を柱状に吐出させ積層して形成するため、例えば各層間絶縁層40,41の形成の度に層間導通部を形成する箇所をマスキングや穴あけ等の方法で開口させ、その開口部に導電材料を配設させるような製造工程を削減することができる。   (1) In the method of manufacturing the multilayer wiring board according to the second embodiment, the interlayer conduction portions 33, 34, 35 that connect the metal wiring layers 32, 36, 37 are disposed on the first metal wiring layer 32. Since the conductive liquid material 30 is ejected from the 20 nozzles 25 in a columnar shape and stacked, for example, each time the interlayer insulating layers 40 and 41 are formed, the portion where the interlayer conductive portion is formed is masked or drilled. It is possible to reduce a manufacturing process in which the opening is made and the conductive material is disposed in the opening.

(2)層間導通部33,34,35は、吐出ヘッド20のノズル25から導電性液状体30を柱状に吐出させ積層して形成されるため、各層間絶縁層40,41の層間導通部位をマスキングや穴あけ等の方法で形成する場合に比べて細密な金属配線層32の上に容易に層間導通部33,34,35を形成することができる。   (2) Since the interlayer conductive portions 33, 34, and 35 are formed by laminating the conductive liquid 30 from the nozzles 25 of the discharge head 20 in a columnar shape, the interlayer conductive portions 33, 34, and 35 are formed as interlayer conductive portions of the interlayer insulating layers 40 and 41. Interlayer conduction parts 33, 34, and 35 can be easily formed on the fine metal wiring layer 32 as compared with the case where it is formed by a method such as masking or drilling.

(3)導電性液状体30は、基板Wに着弾したときにゲル化するようにゲル化剤の分子量や添加量が調整されているため、安定した形状を有する立体造形物としての層間導通部33,34,35を形成することができる。   (3) Since the conductive liquid 30 is adjusted in molecular weight and addition amount of the gelling agent so as to be gelled when landed on the substrate W, the interlayer conduction part as a three-dimensional structure having a stable shape 33, 34, 35 can be formed.

(第3の実施形態)
本実施形態は、Spindt型FED(Field Emission Display)の電子放出部の製造方法を示すものである。
(Third embodiment)
This embodiment shows a manufacturing method of an electron emission part of a Spindt type FED (Field Emission Display).

まずSpindt型FEDについて簡単に説明する。図10は、代表的なSpindt型FEDの構造を示す概略断面図である。   First, the Spindt type FED will be briefly described. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a typical Spindt type FED.

図10(a)に示すようにSpindt型FED50は、蛍光体52と蛍光体52を覆うように形成されたアノード電極53を有するガラス基板51と、カソード電極55とカソード電極55上に形成された電子放出部としてのエミッタ電極58とゲート電極57を有するガラス基板54とによって構成されている。ガラス基板51とガラス基板54は対向配置され真空状態として密閉されている。   As shown in FIG. 10A, the Spindt-type FED 50 is formed on the phosphor 52 and the glass substrate 51 having the anode 53 formed so as to cover the phosphor 52, the cathode 55, and the cathode 55. A glass substrate 54 having an emitter electrode 58 as an electron emitting portion and a gate electrode 57 is formed. The glass substrate 51 and the glass substrate 54 are disposed to face each other and are sealed in a vacuum state.

図10(b)は同図(a)のA部を拡大した概略断面図である。同図(b)に示すように電子放出部としてのエミッタ電極58は、微小な円錐状の金属または半導体から形成されている。ゲート電極57はカソード電極55上に形成された絶縁層56上に形成され、電子が放出されるエミッタ電極58の先端部を取り巻くように形成されている。   FIG. 10B is an enlarged schematic cross-sectional view of a portion A in FIG. As shown in FIG. 4B, the emitter electrode 58 as an electron emission portion is formed of a minute conical metal or semiconductor. The gate electrode 57 is formed on the insulating layer 56 formed on the cathode electrode 55, and is formed so as to surround the tip of the emitter electrode 58 from which electrons are emitted.

Spindt型FED50の動作は、カソード電極55とゲート電極57との間にゲート電圧Vdを印加し、ゲート電極57とアノード電極53との間に加速電圧Vaを印加すると、エミッタ電極58の先端部からトンネル現象によって真空中に放出される電子(e-)は、アノード電極53に向かって加速される。電子は蛍光体52と衝突してこれを励起し発光させる。蛍光体52を画素としてガラス基板51上に配置することによって自発光型のディスプレーとして機能する。 The Spindt-type FED 50 operates by applying a gate voltage Vd between the cathode electrode 55 and the gate electrode 57 and applying an accelerating voltage Va between the gate electrode 57 and the anode electrode 53. Electrons (e ) emitted into the vacuum by the tunnel phenomenon are accelerated toward the anode electrode 53. The electrons collide with the phosphor 52 to excite and emit light. By arranging the phosphor 52 as a pixel on the glass substrate 51, it functions as a self-luminous display.

図11(a)〜(d)は電子放出部の製造方法を示す概略断面図である。まず同図(a)に示すようにガラス基板54上にカソード電極55、絶縁層56、ゲート電極57を順に真空蒸着法あるいはスパッタ法でそれぞれ該当する公知の材料を用いて成膜して積層する。   11A to 11D are schematic cross-sectional views illustrating a method for manufacturing an electron emission portion. First, as shown in FIG. 3A, a cathode electrode 55, an insulating layer 56, and a gate electrode 57 are sequentially formed on a glass substrate 54 by using a known material corresponding to each other by vacuum deposition or sputtering. .

次に同図(b)に示すようにエミッタ電極58に対応する位置でゲート電極57をエッチングして開口部57aを形成する。これにより絶縁層56の表面56aが開口部57aに露出する。   Next, as shown in FIG. 5B, the gate electrode 57 is etched at a position corresponding to the emitter electrode 58 to form an opening 57a. Thereby, the surface 56a of the insulating layer 56 is exposed to the opening 57a.

次に同図(c)に示すようにゲート電極57の開口部57a以外をレジストで覆って絶縁層56を表面56aからエッチングする。これによりカソード電極55の表面55aを露出させる。   Next, as shown in FIG. 5C, the insulating layer 56 is etched from the surface 56a while covering the portions other than the opening 57a of the gate electrode 57 with a resist. Thereby, the surface 55a of the cathode electrode 55 is exposed.

次に同図(d)に示すように吐出ヘッド20のノズル25から金属液状体60を柱状に吐出させカソード電極55の表面55aに着弾させて第1層61を形成する。続いて第1層61の上に繰り返し金属液状体60を柱状に吐出させ積層することによって先端部が略円錐状の立体造形物62を形成する。この場合、金属液状体60は、主溶媒としての水に金属材料としてMo(モリブデン)微粒子を分散させゲル化剤を添加したものを用いる。ガラス基板54を所定の温度に加熱して第1層61と立体造形物62を焼成し導通性を持たせることによって電子放出部としてのエミッタ電極58とすることができる。   Next, as shown in FIG. 4D, the liquid metal 60 is ejected from the nozzles 25 of the ejection head 20 in a columnar shape and landed on the surface 55a of the cathode electrode 55 to form the first layer 61. Subsequently, the metal liquid body 60 is repeatedly ejected in a columnar shape on the first layer 61 and laminated to form a three-dimensional shaped object 62 having a substantially conical tip. In this case, the metal liquid 60 is obtained by dispersing Mo (molybdenum) fine particles as a metal material in water as a main solvent and adding a gelling agent. By heating the glass substrate 54 to a predetermined temperature and firing the first layer 61 and the three-dimensional model 62 to impart conductivity, the emitter electrode 58 as an electron emission portion can be obtained.

第3の実施形態の効果は、以下のとおりである。   The effects of the third embodiment are as follows.

(1)第3の実施形態の電子放出部の製造方法は、吐出ヘッド20のノズル25から金属液状体60を柱状に吐出させカソード電極55の表面55aに着弾させて積層し電子放出部としての立体造形物62を形成するため、エミッタ電極58を斜め蒸着法で形成し後にゲート電極57上に膜付けされた犠牲膜を剥離する方法に比べて真空蒸着工程、エッチング工程等の工程を省いて電子放出部を形成することができる。   (1) In the method of manufacturing the electron emission portion according to the third embodiment, the metal liquid 60 is ejected in a columnar shape from the nozzle 25 of the ejection head 20 and landed on the surface 55a of the cathode electrode 55 and stacked. In order to form the three-dimensional structure 62, the steps such as the vacuum deposition process and the etching process are omitted as compared with the method in which the emitter electrode 58 is formed by the oblique deposition method and then the sacrificial film formed on the gate electrode 57 is peeled off. An electron emission portion can be formed.

上記実施形態以外の変形例は、以下のとおりである。   Modifications other than the above embodiment are as follows.

(変形例1)吐出ヘッド20において液状体12を加圧する手段はピエゾ素子22に限定されない。例えばノズル25に連通する液体室21の一面を振動板部とし、この振動板部に対向配置された電極との間に電圧を印加して静電気力により振動板部を変位させて液状体12を加圧する静電方式としてもよい。これによればピエゾ素子22と同様に液状体12を加熱することなくノズル25から吐出することができる。   (Modification 1) The means for pressurizing the liquid 12 in the ejection head 20 is not limited to the piezo element 22. For example, one surface of the liquid chamber 21 that communicates with the nozzle 25 is used as a vibration plate portion, and a voltage is applied between the electrodes disposed opposite to the vibration plate portion to displace the vibration plate portion by electrostatic force, so that the liquid material 12 is formed. It is good also as an electrostatic system to pressurize. According to this, similarly to the piezoelectric element 22, the liquid 12 can be discharged from the nozzle 25 without heating.

(変形例2)水溶性の高分子材料からなるゲル化剤は、ポリジメチルアクリルアミドに限定されない。例えば合成高分子のポリアクリルアミド、カルボキシビニルポリマー、天然高分子では寒天、ゼラチン、カラギーナン、ペクチン、グルコマンナン等の有機物質を用いる。そして分子量、添加濃度を液状体12が着弾した後に柱状が崩れる前にゲル化するように決めればよい。   (Modification 2) The gelling agent made of a water-soluble polymer material is not limited to polydimethylacrylamide. For example, organic substances such as synthetic polymer polyacrylamide, carboxyvinyl polymer, and natural polymer such as agar, gelatin, carrageenan, pectin, and glucomannan are used. Then, the molecular weight and the added concentration may be determined so that the gel is formed before the columnar shape collapses after the liquid 12 has landed.

(変形例3)第1の実施形態において、液状体12は着弾後しばらくしてからゲル化してもよい。基板Wの表面17が撥液処理されていれば着弾した液状体12は球状になって高さを有る程度かせぐことができ、次層を積層する液状体12の吐出時には前層がゲル化して次層を乾燥なしにすぐに積層することができる。   (Modification 3) In the first embodiment, the liquid 12 may be gelated after a while after landing. If the surface 17 of the substrate W has been subjected to a liquid repellent treatment, the landed liquid body 12 can be made spherical and have a height, and the previous layer is gelled when the liquid body 12 to be laminated on the next layer is discharged. The next layer can be laminated immediately without drying.

(変形例4)第1の実施形態において、吐出ヘッド20のピエゾ素子22に印加される駆動電圧波形は、正電圧の台形波に限定されない。例えば極性の異なる波形の組み合わせとしてもよい。これによれば正方向の電圧に対して負方向の電圧をピエゾ素子22に与えることによりピエゾ素子22の残留震動を抑制することができる。これによれば負方向の電圧を与えるとピエゾ素子22は拡張するので柱状に吐出された液状体12に余計な震動を与えずに強制的に引き込んで効率よく引きちぎることができる。   (Modification 4) In the first embodiment, the drive voltage waveform applied to the piezo element 22 of the ejection head 20 is not limited to a positive trapezoidal wave. For example, a combination of waveforms having different polarities may be used. According to this, the residual vibration of the piezoelectric element 22 can be suppressed by applying a negative voltage to the piezoelectric element 22 with respect to the positive voltage. According to this, when a voltage in the negative direction is applied, the piezo element 22 expands, so that the liquid material 12 ejected in a columnar shape can be forcibly drawn without causing excessive vibration and can be efficiently torn off.

(変形例5)第1の実施形態において、吐出ヘッド20と基板Wとは所定の間隔で対向配置させたが、積層工程で吐出ヘッド20と基板Wとがどちらか一方に対して傾きを持つように配置すれば、ノズル25から液状体12を柱状に吐出させ第1層13上に着弾させて第2層14以降を傾斜させて積層することも可能である。   (Modification 5) In the first embodiment, the ejection head 20 and the substrate W are arranged to face each other at a predetermined interval. However, the ejection head 20 and the substrate W are inclined with respect to one of them in the stacking process. If arranged in this manner, the liquid material 12 can be ejected in a columnar shape from the nozzle 25 and landed on the first layer 13 so that the second layer 14 and subsequent layers are inclined and stacked.

(変形例6)第1の実施形態において、基板Wの液状体12が着弾する面側を撥液処理したが、基板Wとして用いられる材料自体が撥液性を有する場合は、撥液処理を施こさなくてもよい。   (Modification 6) In the first embodiment, the surface of the substrate W on which the liquid material 12 lands is subjected to liquid repellency. However, when the material used as the substrate W has liquid repellency, the liquid repellency treatment is performed. It does not have to be applied.

(変形例7)第2の実施形態において、導電性液状体30の機能性材料は、Agに限定されない。例えばAu、Al、Cu、Ni等の金属やこれらの合金を用いることもできる。   (Modification 7) In the second embodiment, the functional material of the conductive liquid 30 is not limited to Ag. For example, metals such as Au, Al, Cu, Ni, and alloys thereof can be used.

(変形例8)第2の実施形態において、基板Wはガラス基板に限定されない。例えばセラミックス基板、ガラスエポキシ等の樹脂基板、ポリイミド等の耐熱性樹脂フィルムを用いてもよい。   (Modification 8) In the second embodiment, the substrate W is not limited to a glass substrate. For example, a ceramic substrate, a resin substrate such as glass epoxy, or a heat resistant resin film such as polyimide may be used.

(変形例9)第3の実施形態において、金属液状体60の機能性材料は、Mo(モリブデン)に限定されない。例えばSi、Ti、W等の高融点金属を用いることもできる。   (Modification 9) In the third embodiment, the functional material of the metal liquid 60 is not limited to Mo (molybdenum). For example, a refractory metal such as Si, Ti, or W can be used.

(変形例10)ゲル化剤以外に液状体12に柱状吐出を可能にするための粘性を付与するために他の樹脂を添加してもよい。   (Modification 10) In addition to the gelling agent, another resin may be added in order to give the liquid 12 a viscosity for enabling columnar discharge.

(変形例11)液状体12には、必ずしもゲル化剤を添加しなくてもよい。例えば液状体12の組成として嫌気性硬化型の樹脂成分を含むようにすれば、ノズル25から吐出される液状体12を空気に触れて硬化させることができる。   (Modification 11) It is not always necessary to add a gelling agent to the liquid 12. For example, if an anaerobic curable resin component is included as the composition of the liquid body 12, the liquid body 12 discharged from the nozzle 25 can be cured by touching air.

液体吐出装置を示す概略斜視図。FIG. 2 is a schematic perspective view showing a liquid ejection device. 吐出ヘッドを含む液状体の吐出機構を示す概略図。Schematic which shows the discharge mechanism of the liquid body containing a discharge head. 吐出ヘッドのピエゾ素子に与える駆動電圧の波形を示すグラフ。The graph which shows the waveform of the drive voltage given to the piezo element of an ejection head. 立体造形物の造形方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the modeling method of a three-dimensional molded item. (a)〜(c)第1層形成工程の状態を示す概略図。(A)-(c) Schematic which shows the state of a 1st layer formation process. (a)〜(c)積層工程の状態を示す概略図。(A)-(c) Schematic which shows the state of a lamination process. 基板の表面処理状態による着弾状態を示す概略図。Schematic which shows the landing state by the surface treatment state of a board | substrate. ゲル化工程の状態を示す概略図。Schematic which shows the state of a gelatinization process. (a)〜(g)多層配線基板の製造方法を示す概略断面図。(A)-(g) The schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of a multilayer wiring board. 代表的なSpindt型FEDの構造を示す概略断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing a structure of a typical Spindt type FED. (a)〜(d)電子放出部の製造方法を示す概略断面図。(A)-(d) The schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of an electron emission part.

符号の説明Explanation of symbols

10…液体吐出装置、12…液状体、13…第1層、14…第2層、17…液状体が着弾する面としての表面、20…吐出ヘッド、25…ノズル、30…液状体としての導電性液状体、60…液状体としての金属液状体、L0〜L3…ギャップとしての間隔、W…基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Liquid discharge apparatus, 12 ... Liquid body, 13 ... 1st layer, 14 ... 2nd layer, 17 ... Surface as a surface which a liquid body lands, 20 ... Discharge head, 25 ... Nozzle, 30 ... As liquid body Conductive liquid, 60 ... metal liquid as liquid, L0 to L3 ... interval as gap, W ... substrate.

Claims (13)

吐出ヘッドのノズルから液状体を基板に向けて柱状に吐出させ前記基板上に立体造形物を形成する造形方法であって、
前記液状体は、前記ノズルから吐出された後に固化するように原料が調合されたものであり、
前記吐出ヘッドの前記ノズルから前記液状体を柱状に吐出させ前記基板上に着弾させて第1層を形成する第1層形成工程と、
前記第1層に対応する位置で前記吐出ヘッドの前記ノズルから繰り返し前記液状体を柱状に吐出させ、前記第1層上に第2層以降の層を積層する積層工程とを備えたことを特徴とする造形方法。
A modeling method for forming a three-dimensional object on the substrate by discharging a liquid material from a nozzle of an ejection head toward a substrate in a columnar shape,
The liquid material is prepared by mixing raw materials so as to solidify after being discharged from the nozzle,
A first layer forming step of forming the first layer by discharging the liquid from the nozzle of the discharge head in a columnar shape and landing on the substrate;
And a laminating step of repeatedly ejecting the liquid material from the nozzles of the ejection head in a columnar shape at a position corresponding to the first layer, and laminating the second and subsequent layers on the first layer. Modeling method.
前記液状体は、ゲル化剤が添加されたものであることを特徴とする請求項1に記載の造形方法。   The modeling method according to claim 1, wherein the liquid is a gel to which a gelling agent is added. 前記液状体は、前記吐出ヘッドの前記ノズルから吐出され前記基板上に着弾したときにゲル化するように前記ゲル化剤の分子量および前記液状体の総量に対する前記ゲル化剤の添加濃度が調整されていることを特徴とする請求項2に記載の造形方法。   The molecular weight of the gelling agent and the concentration of the gelling agent with respect to the total amount of the liquid are adjusted so that the liquid is gelled when discharged from the nozzle of the discharge head and landed on the substrate. The modeling method according to claim 2, wherein: 前記液状体は、主成分が水からなる溶媒に機能性材料を溶解または分散させたものであり、添加される前記ゲル化剤は、水溶性の高分子材料からなることを特徴とする請求項2または3に記載の造形方法。   The liquid material is obtained by dissolving or dispersing a functional material in a solvent whose main component is water, and the gelling agent to be added is made of a water-soluble polymer material. The modeling method according to 2 or 3. 前記液状体は、Au、Pt、Ag、Cu、Ni、Cr、Rh、Pd、Zn、Co、Mo、Ru、W、Os、Ir、Fe、Mn、Ge、Sn、Sb、GaおよびInから選ばれた1種以上からなる金属、合金、金属酸化物からなる微粒子分散液または溶液であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の造形方法。   The liquid is selected from Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Sb, Ga, and In. The modeling method according to any one of claims 1 to 4, wherein the molding method is a fine particle dispersion or solution composed of one or more kinds of metals, alloys, and metal oxides. 前記第1層形成工程と前記積層工程は、前記基板上に着弾した前記液状体をゲル化させるゲル化工程を含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の造形方法。   The modeling method according to claim 1, wherein the first layer forming step and the laminating step include a gelling step of gelling the liquid material that has landed on the substrate. . 前記ゲル化工程では、前記基板上に着弾した前記液状体を乾燥させることによりゲル化させることを特徴とする請求項6に記載の造形方法。   The modeling method according to claim 6, wherein in the gelation step, the liquid material that has landed on the substrate is dried to be gelled. 前記ゲル化工程では、前記吐出ヘッドと前記基板との間に気体を流すことによって前記基板上に着弾した前記液状体を乾燥させてゲル化させることを特徴とする請求項7に記載の造形方法。   The modeling method according to claim 7, wherein, in the gelling step, the liquid material that has landed on the substrate is dried and gelled by flowing a gas between the discharge head and the substrate. . 前記ゲル化工程では、前記基板を加温することによって前記基板上に着弾した前記液状体を乾燥させてゲル化させることを特徴とする請求項7に記載の造形方法。   The modeling method according to claim 7, wherein in the gelation step, the liquid material that has landed on the substrate is dried to be gelled by heating the substrate. 前記ゲル化工程では、前記吐出ヘッドと前記基板との間に気体を流すと共に前記基板を加温することによって前記基板上に着弾した前記液状体を乾燥させてゲル化させることを特徴とする請求項7に記載の造形方法。   The gelling step is characterized in that the liquid material landed on the substrate is dried and gelled by flowing a gas between the discharge head and the substrate and heating the substrate. Item 8. The modeling method according to Item 7. 前記積層工程では、前記基板上の前記第1層上に前記液状体を着弾させて前記第2層以降の層を積層する際に、前記吐出ヘッドと前記基板との間のギャップを徐々に大きくして前記吐出ヘッドの前記ノズルから前記液状体を柱状に吐出させて着弾させることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一項に記載の造形方法。   In the stacking step, when the liquid material is landed on the first layer on the substrate to stack the second and subsequent layers, the gap between the ejection head and the substrate is gradually increased. The modeling method according to claim 1, wherein the liquid material is ejected in a columnar shape from the nozzle of the ejection head and landed. 前記基板には、前記液状体が着弾する面側に前記液状体に対して撥液性を有するように表面処理が施されていることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか一項に記載の造形方法。   12. The substrate according to any one of claims 1 to 11, wherein the substrate is subjected to a surface treatment so that the surface on which the liquid material lands has liquid repellency with respect to the liquid material. The modeling method described. 前記基板には、前記液状体が着弾する面側に前記液状体に対して親液性を有するように表面処理が施されていることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか一項に記載の造形方法。
12. The substrate according to any one of claims 1 to 11, wherein the substrate is surface-treated so that the surface on which the liquid material lands is lyophilic with respect to the liquid material. The modeling method described.
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