JP2006130777A - Original lithographic printing plate and lithographic printing method using this original plate - Google Patents

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Manabu Kumada
学 熊田
Hiroshi Matsuoka
浩 松岡
Akifumi Kimura
明文 木村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original lithographic printing plate which can facilitate image exposure by laser and also an aboard-the-machine development process, and can ensure the compatibility of high sensitivity with white light safety. <P>SOLUTION: This original lithographic printing plate has an image recording layer which contains (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound and can be removed by a printing ink and/or a damping water, formed on a support. In addition, the original plate has a sensitivity more than 100 times the sensitivity under an atmosphere of 20 vol% oxygen concentration, when it comes to the sensitivity under the atmosphere of 0.05 vol% oxygen concentration, and can record an image using a laser light with 250 to 420 nm wavelength under the atmosphere of not more than 0.05 vol% oxygen concentration. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、レーザー光による画像記録および機上現像可能な平版印刷版原版およびそれを用いた平版印刷方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of image recording by laser light and on-machine development, and a lithographic printing method using the same.

近年、平版印刷分野では、リスフィルムを介することなく直接平版印刷版原版に、コンピュータ等のデジタルデータに基づいてレーザー露光して製版するコンピュータ・トゥ・プレート技術が開発され、それに用いる高感度レーザー記録方式の平版印刷版が開発されてきた。   In recent years, in the field of lithographic printing, computer-to-plate technology has been developed in which lithographic printing plate precursors are directly exposed to laser on the basis of digital data such as computers without using a lithographic film. A lithographic printing plate of the type has been developed.

しかしながら、従来のArレーザーやFD−YAGレーザー対応の高感度平版印刷版原版は、段ボール包装から版を取り出したり、プレートセッターのカセットに装填したり、時には手動でプレートセッターに版を挿入する事があり、すべて暗い赤灯下で作業しなければならず作業性が著しく悪かった。それに比べ従来のジアゾ型印刷版は、黄灯下またはUVカット白色灯下で取り扱えて作業性が良いので、高感度レーザー記録平版印刷版のセーフライト適性の向上は、作業性の観点からの市場の大きな要求であった。   However, conventional high-sensitivity lithographic printing plate precursors compatible with Ar lasers and FD-YAG lasers can remove plates from cardboard packaging, load them into platesetter cassettes, and sometimes manually insert plates into platesetters. They all had to work under a dark red light, and the workability was extremely bad. In contrast, conventional diazo type printing plates can be handled under yellow light or UV-cut white light, and workability is good. Therefore, the improvement in safelight suitability of high-sensitivity laser recording planographic printing plates is a market from the viewpoint of workability. It was a big request.

これに対して、特許文献1には、付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物、光重合開始剤系、及び有機高分子重合体を含有する光重合性感光層と酸素遮断性保護層を有する平版印刷版原版を、紫外から可視光領域(360〜450nm)の半導体レーザー光を用いたインナードラム型のプレートセッターで露光することを特徴とする平版印刷版の製版方法が記載されており、この製版方法によれば、黄灯下での取り扱いが可能である。   In contrast, Patent Document 1 discloses a photopolymerizable photosensitive layer and an oxygen barrier protective layer containing a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization, a photopolymerization initiator system, and an organic polymer. A method for making a lithographic printing plate is described, in which a lithographic printing plate precursor having a surface is exposed with an inner drum type plate setter using semiconductor laser light in the ultraviolet to visible light region (360 to 450 nm). According to this plate making method, handling under a yellow light is possible.

一方、従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、画像記録層の不要部分を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、近年、このような付加的に行われる湿式処理を不要化または簡易化することが課題の一つに挙げられている。
これに応える簡易な製版方法の一つとして、例えば、印刷インキおよび/または湿し水に溶解または分散できる画像記録層を有する平版印刷版原版を用いて、印刷機に装着された露光済みの版に印刷インキおよび/または湿し水を供給して画像記録層の未露光部を除去し平版印刷版を得る機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
On the other hand, in the plate making process of the conventional lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing unnecessary portions of the image recording layer with a developer or the like is necessary after exposure. In recent years, such additional wet processing is performed. One of the problems is to make the processing unnecessary or simplified.
As one of the simple plate making methods that respond to this, for example, an exposed plate mounted on a printing machine using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in printing ink and / or fountain solution A method called on-press development has been proposed in which printing ink and / or dampening water is supplied to remove unexposed portions of the image recording layer to obtain a lithographic printing plate.

しかしながら、このような現像液による現像処理が不要な無処理刷版に紫外から可視領域の光を利用する画像記録方式を用いた場合は、画像記録層が定着せず、露光後も室内光に対して感光性を有するため、平版印刷版原版を包装から出した後、機上現像が完了するまでの間、完全に遮光状態にするか、セーフライトの環境下での取り扱いが必要であった。そうでない場合、例えば露光後、白灯下で取り扱うと、画像記録層の不要部分がかぶりを生じて残膜してしまうため、印刷汚れの原因となる。従って、従来はセーフライトを必要としない印刷機作業までセーフライトの環境下にする必要があり、色調整などの印刷作業に支障があった。そのため、白灯下で作業できる現像処理が不要な刷版システムが要望されている。
特開2000−35673号公報
However, when an image recording method using light in the ultraviolet to visible region is used for an unprocessed printing plate that does not require development processing with such a developer, the image recording layer is not fixed, and is exposed to room light after exposure. Because it has photosensitivity, it must be completely shielded from light after the lithographic printing plate precursor is taken out of the package until development on the machine is completed, or it must be handled in a safelight environment. . In other cases, for example, if it is handled under a white light after exposure, unnecessary portions of the image recording layer are fogged and a remaining film is formed, which causes printing stains. Therefore, conventionally, it has been necessary to make the environment of a safe light up to a printing press work that does not require a safe light, and there has been a problem in printing work such as color adjustment. Therefore, there is a demand for a printing plate system that does not require development processing that can be operated under white light.
JP 2000-35673 A

本発明は、上記要望に応えるものである。すなわち、本発明の目的は、レーザーによる画像露光、および機上現像が可能であり、高感度と白灯安全性が両立した平版印刷版原版およびそれを用いた平版印刷方法を提供することにある。   The present invention meets the above needs. That is, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor capable of image exposure with a laser and on-press development, having both high sensitivity and white light safety, and a lithographic printing method using the same. .

本発明は以下の通りである。
1.支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有し、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下において100倍以上の感度を有し、酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気下において波長250〜420nmのレーザー光で画像記録が可能な平版印刷版原版。
The present invention is as follows.
1. A lithographic printing plate precursor comprising an image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound and removable by printing ink and / or dampening water on a support, and having an oxygen concentration of 20 Laser light having a wavelength of 250 to 420 nm in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05 vol% or less and having a sensitivity of 100 times or more in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05 vol% with respect to the sensitivity in a volume% atmosphere. A lithographic printing plate precursor that can be used for image recording.

2.前記重合開始剤が、スルホニウム化合物、ヨードニウム化合物およびオキシムエステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記1記載の平版印刷版原版。   2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the polymerization initiator is at least one selected from the group consisting of a sulfonium compound, an iodonium compound and an oxime ester compound.

3.前記画像記録層がオキサジアゾール化合物およびクマリン化合物の少なくともいずれか1種の増感剤をさらに含有することを特徴とする前記1または2に記載の平版印刷版原版。   3. 3. The lithographic printing plate precursor as described in 1 or 2 above, wherein the image recording layer further contains at least one sensitizer selected from an oxadiazole compound and a coumarin compound.

4.前記画像記録層がカルボン酸基を有する化合物をさらに含有することを特徴とする前記1〜3のいずれかに記載の平版印刷版原版。   4). 4. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 3 above, wherein the image recording layer further contains a compound having a carboxylic acid group.

5.前記重合開始剤の添加量が画像記録層の全質量に対して1〜10質量%の範囲であることを特徴とする前記1〜4のいずれかに記載の平版印刷版原版。   5. 5. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 4 above, wherein the addition amount of the polymerization initiator is in the range of 1 to 10% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

6.画像記録層の上に、保護層を有さないか、または塗布質量が0.3g/m2以下である保護層を有することを特徴とする前記1〜5のいずれかに記載の平版印刷版原版。 6). The lithographic printing plate as described in any one of 1 to 5 above, which has no protective layer on the image recording layer or has a protective layer having a coating weight of 0.3 g / m 2 or less. Original edition.

7.前記1〜6のいずれかに記載の平版印刷版原版を、酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気で露光することを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。   7. A lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 6 above, wherein the lithographic printing plate precursor is exposed in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05% by volume or less.

8.支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有する画像記録層を有し、酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下において100倍以上の感度を有する平版印刷版原版を、250〜420nmの波長を有する光源を用い、酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気下で画像様に露光した後、現像処理工程を経ることなく、印刷インキと湿し水を供給して印刷することを特徴とする平版印刷方法。   8). An image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound is provided on the support, and the oxygen concentration is 0.05 vol% with respect to the sensitivity in an atmosphere having an oxygen concentration of 20 vol%. A lithographic printing plate precursor having a sensitivity of 100 times or more in an atmosphere is exposed imagewise in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05% by volume or less using a light source having a wavelength of 250 to 420 nm, and then a development processing step is performed. A lithographic printing method characterized by supplying printing ink and fountain solution without printing.

本発明は、次の考え方に基づいて鋭意研究した結果、成されたものである。
紫外線露光による光重合を利用した平版印刷版原版における白灯安全性は、露光時以外は画像記録層が大気に曝されていて酸素が画像記録層内へ速やかに拡散すれば重合反応が抑制されるため、容易に確保できる。一方、画像記録の感度は、画像露光を酸素遮断状態にして行えば十分に得られる。この考え方で感度と白灯安全性の両立させるには、酸素遮断の有無での感度差が大きいこと、すなわち、酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下において100倍以上であることが必要であるが、本発明者は、特定の開始剤種あるいは特定の増感剤種の場合に、酸素遮断の有無での感度差が大きなり、感度と両立できることを見出した。
The present invention has been made as a result of earnest research based on the following concept.
The white light safety of lithographic printing plate precursors using photopolymerization by UV exposure is that the polymerization reaction is suppressed if the image recording layer is exposed to the atmosphere except during exposure and oxygen diffuses quickly into the image recording layer. Therefore, it can be secured easily. On the other hand, the sensitivity of image recording can be sufficiently obtained if image exposure is performed in an oxygen-blocked state. To achieve both sensitivity and white light safety with this concept, the sensitivity difference between the presence and absence of oxygen interruption is large, that is, the oxygen concentration is 0.05 vol% with respect to the sensitivity in an atmosphere having an oxygen concentration of 20 vol%. In the case of a specific initiator species or a specific sensitizer species, the present inventor has a large sensitivity difference with or without oxygen blocking, And found that it can be compatible with.

本発明によれば、レーザーによる画像露光、および機上現像が可能であり、高感度と白灯安全性が両立した平版印刷版原版を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the image exposure by a laser and on-machine image development are possible, and the lithographic printing plate precursor which can make high sensitivity and white lamp safety compatible can be provided.

以下、本発明の平版印刷版原版を構成する要素および成分について詳細に説明する。   Hereinafter, the elements and components constituting the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.

〔画像記録層〕
本発明の画像記録層は、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有し、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能である。また、本発明の画像記録層によって、酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下において100倍以上の感度を有し、酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気下において波長250〜420nmのレーザー光で画像記録可能な平版印刷版原版が得られる。
(Image recording layer)
The image recording layer of the present invention contains (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound, and can be removed by printing ink and / or fountain solution. In addition, the image recording layer of the present invention has a sensitivity of 100 times or more in an atmosphere with an oxygen concentration of 0.05 vol%, and an oxygen concentration of 0.05 vol with respect to the sensitivity in an atmosphere with an oxygen concentration of 20 vol%. %, A lithographic printing plate precursor capable of recording an image with a laser beam having a wavelength of 250 to 420 nm is obtained.

<(A)重合開始剤>
本発明に用いられる重合開始剤は、光エネルギーによりラジカルを発生し、重合性不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物であり、特に、重合開始剤単独または重合開始剤と後述の増感剤との組み合わせで、250nm〜420nmの光を吸収してラジカルを発生する化合物である。このような光ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。
なお、白灯の発光スペクトル強度は400nm超の可視領域で強く、その領域に十分な感光性を有する重合開始剤では、白灯下でかぶりを生じやすくなるため、開始剤および増感剤の吸収極大は400nm以下にすることが好ましい。
<(A) Polymerization initiator>
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that generates radicals by light energy and initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. In particular, the polymerization initiator alone or the polymerization initiator and It is a compound that generates radicals by absorbing light of 250 nm to 420 nm in combination with a sensitizer. As such a photo radical generator, a known polymerization initiator, a compound having a bond having a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used.
The emission spectrum intensity of white light is strong in the visible region exceeding 400 nm, and a polymerization initiator having sufficient photosensitivity in that region is likely to cause fogging under white light. Therefore, absorption of the initiator and the sensitizer is difficult. The maximum is preferably 400 nm or less.

酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下において100倍以上の感度を有する重合開始剤としては、例えば、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator having a sensitivity of 100 times or more in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05% by volume with respect to the sensitivity in an atmosphere having an oxygen concentration of 20% by volume include, for example, carbonyl compounds, organic peroxides, and azo series. Examples thereof include compounds, azide compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4'−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ系化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3',4,4'−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ − Tra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyl And di (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate).

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号の明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、2,2'−ビス(o−クロロフ
ェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ブ
ロモフェニル))4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(
o,p−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラ(m−メトキシフェニル
)ビイジダゾール、2,2'−ビス(o,o'−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−メチルフェニル)−4,4'
,5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
Examples of the hexaarylbiimidazole compound include the specifications of JP-B-6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (
o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (m-methoxyphenyl) ) Bididazole, 2,2′-bis (o, o′-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′ , 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 '
, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の公報、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz,Martin"Rad Tech'98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が挙げられる。   Examples of the organoboron compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A 2000-. No. 131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. The organic borate described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, or organic boron oxosulfonium complex, JP-A-6-175554 No. 6, JP-A-6-17555 Organoboron iodonium complex described in JP-A-9-188, organoboron phosphonium complex described in JP-A-9-188710, JP-A-6-34811, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, Examples thereof include organoboron transition metal coordination complexes such as Kaihei 7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号公報、特開2003−328465号公報等記載される化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物、具体的には、下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. Compounds, compounds described in JP-A No. 2000-80068, specifically, compounds represented by the following structural formulas may be mentioned.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同第4,069,056号の明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同第390,214号、同第233,567号、同第297,443号、同第297,442号、米国特許第4,933,377号、同第161,811号、同第410,201号、同第339,049号、同第4,760,013号、同第4,734,444号、同第2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同第3,604,580号、同第3,604,581号の明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055, 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104,143, US Pat. Nos. 339,049, 410,201, JP -150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, and 297 442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013 No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,604,580, No. 3,604,581 Or a sulfonium salt described in J. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。
In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.
The onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2006130777
Figure 2006130777

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 21 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。 In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.

Figure 2006130777
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Figure 2006130777
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Figure 2006130777
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Figure 2006130777
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Figure 2006130777
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重合開始剤としては、上記の重合開始剤が有用であるが、特に反応性、安定性の面から、オキシムエステル化合物、ヨードニウム塩、およびスルホニウム塩がより好ましい。   As the polymerization initiator, the above-mentioned polymerization initiators are useful, but oxime ester compounds, iodonium salts, and sulfonium salts are more preferable from the viewpoints of reactivity and stability.

これらのオキシムエステル、ヨードニウム、およびスルホニウム系の重合開始剤は、増感剤(分光増感剤とも呼ばれる。)と組み合わせて用いることが好ましい。増感剤と組み合わせて用いることにより、光重合速度を増大させることができ、且つ、酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下における感度が高くなる。   These oxime ester, iodonium, and sulfonium-based polymerization initiators are preferably used in combination with a sensitizer (also called a spectral sensitizer). By using in combination with a sensitizer, the photopolymerization rate can be increased, and the sensitivity in an atmosphere with an oxygen concentration of 0.05 vol% is higher than the sensitivity in an atmosphere with an oxygen concentration of 20 vol%. Become.

本発明の開始系に、増感剤を組み合わせる場合には、光重合開始剤との併用により光重合速度を増大させる増感剤が選択される。このような増感剤の具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9,10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンジルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアントロンなどを挙げることができる。   When a sensitizer is combined with the initiator system of the present invention, a sensitizer that increases the photopolymerization rate when used in combination with the photopolymerization initiator is selected. Specific examples of such a sensitizer include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 9-anthrone, 2-bromo-9-anthrone, and 2-ethyl-9. Anthrone, 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone, xanthone, 2-methylxanthone, 2-methoxyxanthone, thioxanthone, benzyl, dibenzylacetone, p- (dimethylamino) phenyl styryl ketone, p- (dimethylamino) phenyl p-methylstyryl ketone, benzophenone, p- (dimethylamino) benzophenone (or Michler's ketone), p- (Diethyla Roh) benzophenone, such as benzanthrone can be mentioned.

さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公昭51−48516号公報に記載されている一般式(1)で表される化合物が挙げられる。   Furthermore, preferred sensitizers in the present invention include compounds represented by the general formula (1) described in JP-B-51-48516.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

式中、R1はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表す。R2はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表す。
1は通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核を形成するのに必要な非金属原子群、例えばベンゾチアゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチアゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾールなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メトキシベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾールなど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール、β−ナフトオキサゾールなど)を表す。
In the formula, R 1 is an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.) or a substituted alkyl group (for example, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group) Etc.). R 2 represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, etc.) or an aryl group (eg, phenyl group, p-hydroxyphenyl group, naphthyl group, thienyl group, etc.).
Z 1 is a group of non-metallic atoms necessary for forming a nitrogen-containing heterocyclic nucleus usually used in cyanine dyes, such as benzothiazoles (benzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, etc.), naphtho Thiazoles (α-naphthothiazole, β-naphthothiazole, etc.), benzoselenazoles (benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 6-methoxybenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (α-naphthoselenazole) , Β-naphthselenazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, etc.) and naphthoxazoles (α-naphthoxazole, β-naphthoxazole, etc.).

一般式(1)で表される化合物の具体例としては、これらZ1、R1およびR2を組み合わせた化学構造を有するものであり、多くのものが公知物質として存在する。したがって、これらの公知のものから適宜選択して使用することができる。さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公平5−47095号公報、特開2000−147763号公報に記載のメロシアニン色素も挙げることができる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) are those having a chemical structure combining these Z 1 , R 1 and R 2 , and many exist as known substances. Therefore, it can be used by appropriately selecting from these known ones. Furthermore, preferred sensitizers in the present invention also include merocyanine dyes described in JP-B-5-47095 and JP-A-2000-147663.

さらに本発明における好ましい増感剤としては、下記一般式(2)に示されるオキサジアゾール化合物が挙げられる。   Furthermore, as a preferable sensitizer in this invention, the oxadiazole compound shown by following General formula (2) is mentioned.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

式中、R3およびR4は、それぞれアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基など)、置換アルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、p−アミノフェニル基、ビフェニル基など)を表す。 In the formula, R 3 and R 4 are each an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), a substituted alkyl group (for example, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, carboxymethyl group, 2 -Carboxyethyl group, etc.) or an aryl group (for example, phenyl group, p-hydroxyphenyl group, naphthyl group, p-aminophenyl group, biphenyl group, etc.).

また本発明における好ましい増感剤としては、下記一般式(3)に示されるクマリン化合物も挙げられる。   Moreover, as a preferable sensitizer in this invention, the coumarin compound shown by following General formula (3) is also mentioned.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

(式中、=Yは、カルボニル基、チオカルボニル基、イミノ基又は上記部分構造式(1)で表されるアルキリデン基を表し、X1、X2はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団であり、X1、X2は互いに結合して色素の酸性核を形成してもよい。R5からR10はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。) (In the formula, Y represents a carbonyl group, a thiocarbonyl group, an imino group or an alkylidene group represented by the partial structural formula (1), and X 1 and X 2 are each independently a monovalent nonmetallic atom. And X 1 and X 2 may combine with each other to form an acidic nucleus of the dye. R 5 to R 10 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group.)

一般式(3)における、X1からX2、R5からR10で表される一価の非金属原子団の好ましい例としては、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等)、ヘテロアリール基(例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等)、アルケニル基(例えばビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等)、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスホナト基と称す)、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスホナト基と称す)、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスホナト基と称す)、ホスホノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す)、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、以上の置換基のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。 Preferred examples of the monovalent nonmetallic atomic group represented by X 1 to X 2 and R 5 to R 10 in the general formula (3) include a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group). Group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl Group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, Allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N -Phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl Group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- Sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N- Methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphono Hexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl Group, allyl group, 1-propeni Rumethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group) , Tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group , Methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N Phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, etc.), heteroaryl group (for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, Chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoyl, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, sinoline, pteridine , Carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthroline, phthalazine, phenazazine, phenoxazine, furazane, phenoxadi Etc.), alkenyl groups (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, etc.), alkynyl groups (for example, ethynyl group, 1-propynyl group, 1- Butynyl group, trimethylsilylethynyl group, etc.), halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group , Amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N -Alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarba Moyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacyl Amino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-arylureido group, N', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido Group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group Group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl -N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N -Aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcal Moil group, N- arylcarbamoyl group, N, N- di arylcarbamoyl group, N- alkyl -N- arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H ) And its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfina Moyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfuric group Famoyl group, N, N-diaryls Rufamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonato group), dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), Diarylphosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and conjugation thereof A base group (hereinafter referred to as an alkylphosphonate group), a monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as an arylphosphonate group), a phosphonooxy group (—OPO 3 H) 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonatoxy group), dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphono An oxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), a monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as an alkylphosphonatoxy group), a monoarylphosphono Examples thereof include an oxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy group), a cyano group, a nitro group, etc. Among these substituents, a hydrogen atom, an alkyl Particularly preferred are groups, aryl groups, halogen atoms, alkoxy groups and acyl groups.

以下にオキサジアゾール化合物およびクマリン化合物の具体的な例を挙げるが、本発明に用いることのできる増感剤はこれに限定されるものではない。   Specific examples of the oxadiazole compound and the coumarin compound are given below, but the sensitizer that can be used in the present invention is not limited thereto.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

増感剤としてはまた、特開2000−147763号公報に記載のメロシアニン系色素も使用できる。具体的には、下記化合物を挙げることができる。   As the sensitizer, merocyanine dyes described in JP-A No. 2000-147763 can also be used. Specifically, the following compounds can be mentioned.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

これらの重合開始剤および増感剤は、各々、画像記録層を構成する全固形分に対し1〜10質量%が好ましく、より好ましくは1〜5質量%の割合で添加することができる。この範囲内で、感度とはくと安全性の両立が可能となる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。   These polymerization initiators and sensitizers are each preferably added in an amount of 1 to 10 mass%, more preferably 1 to 5 mass%, based on the total solid content constituting the image recording layer. Within this range, both sensitivity and safety can be achieved. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

<(B)重合性化合物>
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
<(B) Polymerizable compound>
The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. It is. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(4)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1
分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
In addition, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. 1 to which a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (4) was added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups.
Examples thereof include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in the molecule.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (4)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (4)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238. Can obtain a photopolymerizable composition having an excellent photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include reacting polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで
、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the selection and use method of the polymerized compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the image recording layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). The compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.

重合性化合物は、画像記録層を構成する全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲内で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

<カルボン酸基を有する化合物>
本発明の画像記録層には、重合の促進および機上現像性向上のため、カルボン酸基を有する化合物を含有することが好ましい。
本発明に用いられるカルボン酸基を有する化合物としては限定無く従来公知の化合物のいずれを用いてもよい。また、国際公開第00/048836号パンフレットや国際公開第97/12759号パンフレットに記載されているカルボン酸化合物、ポリカルボン酸化合物も好ましく挙げられる。
また、好ましい態様の一つとして、下記一般式(5)で表されるモノカルボン酸化合物が挙げられる。
<Compound having a carboxylic acid group>
The image recording layer of the present invention preferably contains a compound having a carboxylic acid group in order to accelerate polymerization and improve on-press developability.
The compound having a carboxylic acid group used in the present invention is not limited and any conventionally known compound may be used. Further, carboxylic acid compounds and polycarboxylic acid compounds described in International Publication No. 00/048836 and International Publication No. 97/12759 are also preferred.
Moreover, the monocarboxylic acid compound represented by following General formula (5) is mentioned as one of the preferable aspects.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

一般式(5)中、Aは芳香族基または複素環基を表す。R1およびR2はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。なお、R1とR2、R1およびR2のいずれかとX、R1およびR2のいずれかとA、AとXは互いに結合して環構造を形成していてもよい。Xは、−O−、−S−、−SO2−、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−及び−C(R4)(R5)−から選択される2価の連結基を表し、R3、R4またはR5はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。 In general formula (5), A represents an aromatic group or a heterocyclic group. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. R 1 and R 2 , R 1 and R 2 and X, R 1 and R 2 and A, A and X may be bonded to each other to form a ring structure. X is —O—, —S—, —SO 2 —, —NH—, —N (R 3 ) —, —CH 2 —, —CH (R 4 ) — and —C (R 4 ) (R 5 )-Represents a divalent linking group selected from R, R 3 , R 4 or R 5 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.

ここで、一般式(5)中、Aで表される芳香族基としては、ベンゼン環、2個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものなどが挙げられる。具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
また、芳香族基は置換基を有していてもよく、そのような置換基を有する芳香族基としては、後述の置換アリール基が挙げられる。なお、ここで導入される好ましい置換基の例
としては後述のアルキル基、置換アルキル基、及び、置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
Here, in the general formula (5), the aromatic group represented by A includes a benzene ring, two to three benzene rings forming a condensed ring, and a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring condensed. Examples thereof include those having a ring formed. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.
The aromatic group may have a substituent, and examples of the aromatic group having such a substituent include a substituted aryl group described later. In addition, as an example of the preferable substituent introduce | transduced here, what was shown as a substituent in the below-mentioned alkyl group, substituted alkyl group, and substituted alkyl group can be mentioned.

Aで表される複素環基としては、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ベンゾピロール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、イソチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイソキサゾール環基、ベンゾイソチアゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、アシリジン環基、フェナントリジン環基、カルバゾール環基、プリン環基、ピラン環基、ピペリジン環基、ピペラジン環基、モルホリン環基、インドール環基、インドリジン環基、クロメン環基、シンノリン環基、アクリジン環基、フェノチアジン環基、テトラゾール環基、トリアジン環基、等が挙げられる。
また、複素環基は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、後述の置換アリール基の置換基が挙げられる。好ましい置換基の例としては後述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
As the heterocyclic group represented by A, a pyrrole ring group, a furan ring group, a thiophene ring group, a benzopyrrole ring group, a benzofuran ring group, a benzothiophene ring group, a pyrazole ring group, an isoxazole ring group, an isothiazole ring group, Indazole ring group, benzisoxazole ring group, benzoisothiazole ring group, imidazole ring group, oxazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzoxazole ring group, benzothiazole ring group, pyridine ring group, quinoline ring Group, isoquinoline ring group, pyridazine ring group, pyrimidine ring group, pyrazine ring group, phthalazine ring group, quinazoline ring group, quinoxaline ring group, acylidene ring group, phenanthridine ring group, carbazole ring group, purine ring group, pyran ring Group, piperidine ring group, piperazine ring group, morpholine ring group, indole ring group, Ndorijin ring group, a chromene ring group, a cinnoline ring group, an acridine ring group, a phenothiazine ring group, a tetrazole ring group, a triazine ring group, and the like.
Further, the heterocyclic group may have a substituent, and examples of such a substituent include a substituent of a substituted aryl group described later. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups described below, and those shown as substituents in the substituted alkyl group.

次に、一般式(5)中、R1およびR2で表される一価の置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有しても良いアミノ基、アルコキシカルボニル基、水酸基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基などが挙げられる。 Next, as the monovalent substituent represented by R 1 and R 2 in the general formula (5), a halogen atom, an amino group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, an ether group, Examples include a thiol group, a thioether group, a silyl group, a nitro group, and a cyano group, and an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and a heterocyclic group, each of which may have a substituent.

そのようなアルキル基としては炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。   Examples of such an alkyl group include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t Examples include -butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

このようなアルキル基が有することのできる置換基としては、水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキルウレイド基、N'−アリールウレイド基、N',N'−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アリール−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)およびその共役塩基基(スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ基(−PO32)およびその共役塩基基(ホスホナト基と称す)、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)「alkyl=アルキル基、以下同」、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)「aryl=アリール基、以下同」、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナト基と称す)、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナト基と称す)、ホスホノオキシ基(−OPO32)およびその共役塩基基(ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナトオキシ基と称す)、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基等が挙げられる。 As the substituent that such an alkyl group may have, a group consisting of a monovalent non-metallic atomic group excluding a hydrogen atom is used, and preferable examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-aryl Amino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarba Ileoxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl Ureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N -Alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N -Alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl -N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl Group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N -Arylcarbamoyl group, alkyl Rusulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N— Alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group (a phosphonato group Be), dialkylphosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) "alkyl = alkyl group, hereinafter the" diarylphosphono group (-PO 3 (aryl) 2) "aryl = aryl group, hereinafter the" alkyl An arylphosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), a monoalkylphosphono group (—PO 3 (alkyl)) and its conjugate base group (referred to as an alkylphosphonato group), a monoarylphosphono group (— PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (referred to as phosphonatoxy group), dialkylphosphonooxy group (—OPO) 3 H (alkyl) 2), diaryl phosphono group (-OPO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphites flames key Group (-OPO 3 (alkyl) (aryl)), (referred to as alkylphosphonato group) monoalkyl phosphono group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group, monoarylphosphono group ( -OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphite Hona preparative group), a cyano group, a nitro group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a heterocyclic group, a silyl group, and the like.

これら置換基におけるアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、上記置換基におけるアリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group in the substituent include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, Cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, Methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl , It can be exemplified cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, a phosphate Hona preparative phenyl group.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
アシル基(R01CO−)のR01としては、水素原子、ならびに上記のアルキル基、アリ
ール基を挙げることができる。これらの置換基の内、さらにより好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
ヘテロ環基としてはピリジル基、ピペリジニル基等が挙げられる。シリル基としてはトリメチルシリル基等が挙げられる。
Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like.
The R 01 of the acyl group (R 01 CO-), include hydrogen atom, and the above-described alkyl group, an aryl group. Among these substituents, halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N are more preferable. -Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa group Moyl group, N-arylsulfur Amoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonato group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, monoalkylphosphono group, alkylphosphonato group, monoarylphosphono group, arylphospho Examples thereof include a nato group, a phosphonooxy group, a phosphonatooxy group, an aryl group, and an alkenyl group.
Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group and a piperidinyl group. Examples of the silyl group include a trimethylsilyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。このような置換基とアルキレン基を組み合わせることで得られる置換アルキル基の、好ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、s−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、N−アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. Preferable specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining such a substituent and an alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, and an isopropoxymethyl group. , Butoxymethyl group, s-butoxybutyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, pyridylmethyl group, tetramethylpiperidinylmethyl group, N-acetyltetra Methylpiperidinylmethyl group, trimethylsilylmethyl group, methoxyethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl Group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chloro Phenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, Sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonov Nyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl Group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1- Examples thereof include a propenylmethyl group, a 2-butenyl group, a 2-methylallyl group, a 2-methylpropenylmethyl group, a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, and a 3-butynyl group.

アリール基としては、ベンゼン環、2個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
置換アリール基としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
Examples of the aryl group include a benzene ring, a ring in which 2 to 3 benzene rings form a condensed ring, and a group in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include: Examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.
As the substituted aryl group, those having a group consisting of a monovalent non-metallic atomic group other than a hydrogen atom as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group are used. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group.

このような、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフェニル基、1−プロペニルメチルフェニル基、2−ブテニルフェニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。   Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, cal Xiphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl Methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonophenyl group, allylphenyl group, 1-propenylmethylphenyl group, 2-butenylphenyl group, 2-methylallylphenyl group, A 2-methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, a 3-butynylphenyl group, and the like can be given.

アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、ならびに置換アルキニル基(−C(R02)=C(R03)(R04)、ならびに−C≡C(R05))としては、R02、R03、R04、R05が一価の非金属原子団からなる基のものが使用できる。好ましいR02、R03、R04、R05の例としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基を挙げることができる。これらの具体例としては、前述の例として示したものを挙げることができる。R02、R03、R04、R0のより好ましい基としては、水素原子、ハロゲン原子ならびに炭素原子数1から10までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることができる。 An alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, and a substituted alkynyl group (—C (R 02 ) ═C (R 03 ) (R 04 ) and —C≡C (R 05 )) include R 02 , R 03 , R 04 , and R 05 can be a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group. Preferable examples of R 02 , R 03 , R 04 and R 05 include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group and a substituted aryl group. Specific examples thereof include those shown as the above examples. More preferable groups of R 02 , R 03 , R 04 , and R 0 include a hydrogen atom, a halogen atom, and a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

このようなアルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基の好ましい具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、1−オクテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1−ブテニル基、2−フェニル−1−エテニル基、2−クロロ−1−エテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、フェニルエチニル基を挙げることができる。
ヘテロ環基としては、置換アルキル基の置換基として例示したピリジル基等が挙げられる。
Preferable specific examples of such alkenyl group, substituted alkenyl group, alkynyl group and substituted alkynyl group include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group and 1-octenyl group. 1-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 2-phenyl-1-ethenyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, ethynyl group, 1 -A propynyl group, 1-butynyl group, and phenylethynyl group can be mentioned.
Examples of the heterocyclic group include the pyridyl group exemplified as the substituent of the substituted alkyl group.

上記置換オキシ基(R06O−)としては、R06が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモ
イルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基(R07CO−)としては、R07が、先の例として挙げたアルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを挙げることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基がより好ましい。好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等が挙げられる。
As the substituted oxy group (R 06 O—), those in which R 06 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group excluding a hydrogen atom can be used. Preferred substituted oxy groups include alkoxy groups, aryloxy groups, acyloxy groups, carbamoyloxy groups, N-alkylcarbamoyloxy groups, N-arylcarbamoyloxy groups, N, N-dialkylcarbamoyloxy groups, N, N-diarylcarbamoyloxy groups. Groups, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy groups, alkylsulfoxy groups, arylsulfoxy groups, phosphonooxy groups, and phosphonatoxy groups. Examples of the alkyl group and aryl group in these include the alkyl groups, substituted alkyl groups, aryl groups, and substituted aryl groups described above. Examples of the acyl group (R 07 CO—) in the acyloxy group include those in which R 07 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group mentioned as the previous example. Among these substituents, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, and an arylsulfoxy group are more preferable. Specific examples of preferred substituted oxy groups include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, pentyloxy, hexyloxy, dodecyloxy, benzyloxy, allyloxy, phenethyloxy, Carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, allyloxyethoxyethoxy group, Phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, mesityloxy group, cumenyloxy group, methoxyphenyloxy group, ethoxyphenyloxy group, chlorophenyl Alkoxy group, bromophenyl group, acetyloxy group, benzoyloxy group, naphthyloxy group, a phenylsulfonyloxy group, a phosphonooxy group, phosphonatoxy group, and the like.

アミド基も含む置換アミノ基(R08NH−、(R09)(R010)N−)としては、R08、R09、R010が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。なおR09とR010とは結合して環を形成してもよい。置換アミノ基の好ましい例としては、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキルウレイド基、N'−アリールウレイド基、N',N'−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N'−アリールウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキル−N'−アリールウレイド基、N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アリール−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基おけるアシル基(R07CO−)のR07は前述のとおりである。これらの内、より好ましいものとしては、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、アシルアミノ基が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げられる。 The substituted amino group (R 08 NH—, (R 09 ) (R 010 ) N—) including an amide group is a group in which R 08 , R 09 , and R 010 are monovalent nonmetallic atomic groups excluding hydrogen atoms Can be used. R 09 and R 010 may combine to form a ring. Preferred examples of the substituted amino group include an N-alkylamino group, an N, N-dialkylamino group, an N-arylamino group, an N, N-diarylamino group, an N-alkyl-N-arylamino group, an acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, '-Dialkyl-N'-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N', N'-diaryl-N-alkylureido group, N ', N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxy A carbonylamino group, an N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, an N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, an N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, and an N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group. Can be mentioned. Examples of the alkyl group and aryl group include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group, such as acylamino group, N-alkylacylamino group, and N-arylacylamino. R 07 groups definitive acyl group (R 07 CO-) are as described above. Of these, more preferred are an N-alkylamino group, an N, N-dialkylamino group, an N-arylamino group, and an acylamino group. Specific examples of preferred substituted amino groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, morpholino group, piperidino group, pyrrolidino group, phenylamino group, benzoylamino group, acetylamino group and the like.

置換スルホニル基(R011−SO2−)としては、R011が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。このような、置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。 As the substituted sulfonyl group (R 011 —SO 2 —), those in which R 011 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group can be used. More preferable examples include an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Specific examples of such a substituted sulfonyl group include a butylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group, a chlorophenylsulfonyl group, and the like.

スルホナト基(−SO3−)は前述のとおり、スルホ基(−SO3H)の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンとともに使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類(アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等)、ならびに金属イオン類(Na+、K+、Ca2+、Zn2+等)が挙げられる。 As described above, the sulfonate group (—SO 3 —) means a conjugate base anion group of the sulfo group (—SO 3 H), and is usually preferably used together with a counter cation. Examples of such counter cations include those generally known, that is, various oniums (ammonium compounds, sulfonium compounds, phosphonium compounds, iodonium compounds, azinium compounds, etc.), and metal ions (Na + , K + , Ca). 2+ , Zn 2+, etc.).

置換カルボニル基(R013−CO−)としては、R013が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。置換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N'−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい置換カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基が挙げられ、さらにより好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノフェニルエテニルカルボニル基、メトキシカルボニルメトキシカルボニル基、N−メチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。 As the substituted carbonyl group (R 013 —CO—), those in which R 013 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferred examples of the substituted carbonyl group include formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N′-arylcarbamoyl group may be mentioned. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Among these, more preferred substituted carbonyl groups include formyl, acyl, carboxyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, carbamoyl, N-alkylcarbamoyl, N, N-dialkylcarbamoyl, N-ary. A rucarbamoyl group can be mentioned, and even more preferred are a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group. Specific examples of preferred substituted carbonyl groups include formyl group, acetyl group, benzoyl group, carboxyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, dimethylaminophenylethenylcarbonyl group, methoxycarbonylmethoxycarbonyl group, N -Methylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group and the like.

置換スルフィニル基(R014−SO−)としてはR014が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基が挙げられる。このような置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙げられる。 As the substituted sulfinyl group (R 014 —SO—), those in which R 014 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferable examples include alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl. Group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Of these, more preferred examples include an alkylsulfinyl group and an arylsulfinyl group. Specific examples of such a substituted sulfinyl group include a hexylsulfinyl group, a benzylsulfinyl group, and a tolylsulfinyl group.

置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換されたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキルホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ましい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙げられる。   The substituted phosphono group means a group in which one or two hydroxyl groups on the phosphono group are substituted with other organic oxo groups, and preferred examples thereof include the above-mentioned dialkylphosphono group, diarylphosphono group, alkylarylphospho group. Group, monoalkylphosphono group and monoarylphosphono group. Of these, dialkylphosphono groups and diarylphosphono groups are more preferred. Specific examples thereof include a diethyl phosphono group, a dibutyl phosphono group, a diphenyl phosphono group, and the like.

ホスホナト基(−PO32−、−PO3H−)とは前述のとおり、ホスホノ基(−PO32)の、酸第一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオン基を意味する。 通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類(アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類、等)、ならびに金属イオン類(Na+、K+、Ca2+、Zn2+等)が挙げられる。 Phosphonato group (-PO 3 H 2 -, - PO 3 H-) as described above and, phosphono group (-PO 3 H 2), acid first dissociation or conjugate base anion derived from the second dissociation acid Means group. Usually, it is preferable to use it with a counter cation. Such counter cations include those generally known, that is, various oniums (ammonium, sulfonium, phosphonium, iodonium, azinium, etc.) and metal ions (Na + , K + , Ca 2+ , Zn 2+ etc.).

置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))の共役塩基が挙げられる。 The substituted phosphonato group is a conjugated base anion group obtained by substituting one organic oxo group in the above-described substituted phosphono group. As a specific example, the above-described monoalkylphosphono group (—PO 3 H ( alkyl)), and a conjugate base of a monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)).

次に、前記一般式(5)におけるXについて説明する。Xは、−O−、−S−、−SO2−、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−及び−C(R4)(R5)−から選択される2価の連結基を表し、中でも、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−、−C(R4)(R5)−が感度の点から好ましく、−NH−、−N(R3)−であることがより好ましく、−N(R3)−であることが感度および保存安定性の観点から最も好ましい。 Next, X in the general formula (5) will be described. X is —O—, —S—, —SO 2 —, —NH—, —N (R 3 ) —, —CH 2 —, —CH (R 4 ) — and —C (R 4 ) (R 5 ) - represents a divalent linking group selected from, among others, -NH -, - N (R 3) -, - CH 2 -, - CH (R 4) -, - C (R 4) (R 5 ) - preferably from the viewpoint of sensitivity, -NH -, - N (R 3) - , more preferably, -N (R 3) - is most preferable in terms of sensitivity and storage stability is.

ここで、上記XにおけるR3、R4およびR5はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表し、そのような一価の置換基としては、前記一般式(5)におけるR1、R2と同義である。
特に、R3としては、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基であることが好ましい。また、R3は、その構造内に、−CO2−および−CON(R8)−の少なくともいずれかを1つ以上有することが好ましく、R3の最も好ましい構造は、下記式で表されるものである。
Here, R 3 , R 4 and R 5 in X each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Examples of such a monovalent substituent include R 1 in the general formula (5). , R 2 is synonymous.
In particular, R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, each of which may have a substituent. R 3 preferably has at least one of —CO 2 — and —CON (R 8 ) — in its structure, and the most preferable structure of R 3 is represented by the following formula. Is.

Figure 2006130777
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上記式中、R6、R7およびR8はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表し、Zは、一価の置換基を表す。そのような一価の置換基としては、前記一般式(5)におけるR1またはR2と同義である。 In the above formula, R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent, and Z represents a monovalent substituent. Such a monovalent substituent has the same meaning as R 1 or R 2 in the general formula (5).

また、上記XにおけるR4およびR5で表される一価の置換基としては、前記一般式(5)におけるR1またはR2と同義である。 Further, the monovalent substituent represented by R 4 and R 5 in X is the same as R 1 or R 2 in the general formula (5).

以下、一般式(5)で表されるモノカルボン酸化合物の具体例(A−1)〜(A−87)を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the specific example (A-1)-(A-87) of the monocarboxylic acid compound represented by General formula (5) is given, this invention is not limited to these.

Figure 2006130777
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以上に説明した本発明に係るカルボン酸基を有する化合物は、1種のみを用いても良く、2種以上を併用して用いても良い。これらのカルボン酸基を有する化合物の添加量としては、画像記録層を構成する全固形分中、0.1〜70質量%、好ましくは0.5〜50質量%、さらに好ましくは1〜30質量%の割合で添加することができる。添加量が0.1質量%以上で、感度向上効果が十分となり、また、添加量が70質量%以下で、機上現像性が良好となり、硬化前、硬化後の画像記録層の膜物性も良好となる。   The compound having a carboxylic acid group according to the present invention described above may be used alone or in combination of two or more. The amount of the compound having a carboxylic acid group added is 0.1 to 70% by mass, preferably 0.5 to 50% by mass, more preferably 1 to 30% by mass in the total solid content constituting the image recording layer. % Can be added. When the addition amount is 0.1% by mass or more, the effect of improving the sensitivity is sufficient, and when the addition amount is 70% by mass or less, the on-press developability is improved, and the film properties of the image recording layer before and after curing are also improved. It becomes good.

<バインダーポリマー>
本発明では、画像記録層の膜強度や皮膜性の向上、および機上現像性の向上のために、バインダーポリマーを用いることができる。バインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが好ましい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等
の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
<Binder polymer>
In the present invention, a binder polymer can be used for improving the film strength and film property of the image recording layer and improving the on-press developability. A conventionally well-known thing can be used as a binder polymer without a restriction | limiting, The linear organic polymer which has film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.
The binder polymer preferably has crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2 n CR1 =CR2 3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n −O−CO−CR1 =CR2 3 および−(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 および−CH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadienyl. Represents a residue).
Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and - CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲内で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、画像記録層未露光部の機上現像性の観点から、バインダーポリマーは、インキおよび/又湿し水に対する溶解性または分散性が高いことが好ましい。
インキに対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。
Further, from the viewpoint of on-press developability of the image recording layer unexposed portion, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.
In order to improve the solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably lipophilic, and in order to improve the solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物を用いることができる。
The binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.
As the radical polymerization initiator used for synthesizing the binder polymer, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、10〜90質量%であるのが好ましく、20〜80質量%がより好ましく、30〜70質量%がさらに好ましい。この範囲内で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、(B)重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で1/9〜7/3となる量で用いるのが好ましい。
A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.
The content of the binder polymer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and still more preferably 30 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use (B) polymeric compound and binder polymer in the quantity used as 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

<その他の画像記録層成分>
本発明の画像記録層には、さらに、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物などの添加剤を、必要に応じて含有させることができる。以下、それらについて説明する。
<Other image recording layer components>
In the image recording layer of the present invention, additives such as a surfactant, a colorant, a print-out agent, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic fine particles, and a low molecular weight hydrophilic compound are added as necessary. Can be contained. These will be described below.

<界面活性剤>
本発明において、画像記録層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the image recording layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohols Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオ
ロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。
More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Also preferred are the fluorosurfactants described in JP-A-62-170950, JP-A-62-226143 and JP-A-60-168144.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<着色剤>
本発明では、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
<Colorant>
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in Japanese Patent No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合が好ましい。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

<焼き出し剤>
本発明の画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<Bakeout agent>
In the image recording layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added to produce a printout image. As such a compound, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、画像記録層固形分に対して0.01〜15質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by acid or radical is 0.01 to 15% by mass relative to the solid content of the image recording layer.

<重合禁止剤>
本発明の画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中において(C)ラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
<Polymerization inhibitor>
In order to prevent unnecessary thermal polymerization of the (C) radical polymerizable compound during production or storage of the image recording layer, it is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to the image recording layer of the present invention.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<高級脂肪酸誘導体等>
本発明の画像記録層には、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<Higher fatty acid derivatives, etc.>
A higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like may be added to the image recording layer of the present invention so that it is unevenly distributed on the surface of the image recording layer in the course of drying after coating. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<可塑剤>
本発明の画像記録層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
<Plasticizer>
The image recording layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

<無機微粒子>
本発明の画像記録層は、画像部の硬化皮膜強度向上および非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲内であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
<Inorganic fine particles>
The image recording layer of the present invention may contain inorganic fine particles for the purpose of improving the strength of the cured film in the image area and improving the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing. .
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

<低分子親水性化合物>
本発明の画像記録層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、テトラエチルアンモニウムクロリド等のアンモニウム塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が上げられる。
<Low molecular hydrophilic compound>
The image recording layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of hydrophilic low molecular weight compounds include water-soluble organic compounds such as glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, ammonium salts such as tetraethylammonium chloride, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, phenyl Organic phosphonic acids such as phosphonic acid and salts thereof, organic carboxylic acids such as tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and The salt and the like.

<画像記録層の形成>
本発明においては、上記の画像記録層構成成分を画像記録層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型画像記録層である。もう一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001
−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。より良好な機上現像性を得るためには、画像記録層は、マイクロカプセル型画像記録層であることが好ましい。
<Formation of image recording layer>
In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned image recording layer constituents into the image recording layer. One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. Another aspect is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-277740 and 2001.
As described in JP-A-277742, a microcapsule type image recording layer in which all or part of the constituent components are encapsulated in a microcapsule and contained in the image recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. In order to obtain better on-press developability, the image recording layer is preferably a microcapsule type image recording layer.

上記の画像記録層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号の明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号の明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   As a method of microencapsulating the above-mentioned image recording layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation as described in the specifications of U.S. Pat. Nos. 2,800,047 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, and 42. -46 method by interfacial polymerization, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304, by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol wall A method using a material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, a urea-formaldehyde system or a urea found in US Pat. Nos. 4001140, 4087376, and 4089802 Formaldehyde-resorcinol system A method using a forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and a monomer polymerization as shown in Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079 In situ method, British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407 spray drying method, British Patent No. 952807, US Pat. No. 967074 specification, etc. It is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記のバインダーポリマーに導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into said binder polymer.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、または溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
The image recording layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer of the present invention can also be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布質量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Further, the coating mass (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image recording layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. d m 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, it contains a micropore enlargement treatment, a micropore sealing treatment, and a hydrophilic compound described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-253181 and 2001-322365. A surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution can be selected as appropriate.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸せき処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   The hydrophilization treatment is described in the specifications of US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in the specification of No. 272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。   When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion with the image recording layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

〔下塗層〕
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に重合性基を含有する化合物の下塗層を設けることが好ましい。下塗層が用いられるときは、画像記録層は下塗層の上に設けられる。下塗層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着性を強化し、また、未露光部においては、画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。
下塗層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。また、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基とを有する化合物も好ましい。さらにこの化合物にエチレンオキシ基などの親水性付与基を加えた化合物も好適である。
下塗層の塗布質量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。
[Undercoat layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide an undercoat layer of a compound containing a polymerizable group on a support. When an undercoat layer is used, the image recording layer is provided on the undercoat layer. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area, and in the unexposed area, the image recording layer is easily peeled off from the support. Will improve.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. Preferable examples include phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group described in the publication. A compound having a polymerizable group such as a methacryl group or an allyl group and a support adsorbing group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group or a phosphoric acid ester is also preferred. Furthermore, a compound obtained by adding a hydrophilicity-imparting group such as an ethyleneoxy group to this compound is also suitable.
Coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版においては、白灯安全性を向上させるため、酸素遮断を目的とする保護層は含まない方が好ましいが、画像記録層における傷等の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のために、必要に応じて、画像記録層の上に保護層を設けることができる。
[Protective layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, in order to improve white light safety, it is preferable not to include a protective layer for the purpose of blocking oxygen. In order to prevent ablation, a protective layer can be provided on the image recording layer as necessary.

保護層に用いられる材料としては、水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等の水溶性ポリマーが挙げられる。
ポリビニルアルコールは、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルまたはアセタールで置換されていてもよく、一部が他の共重合成分を有していてもよい。
ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲内のものが好適に挙げられる。具体的には、例えば、(株)クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8が挙げられる。
Examples of the material used for the protective layer include water-soluble polymer compounds. Specific examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid.
As long as the polyvinyl alcohol contains an unsubstituted vinyl alcohol unit, a part thereof may be substituted with an ester, an ether or an acetal, and a part may have other copolymerization components.
Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, for example, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd. -HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405 , PVA-420, PVA-613, and L-8.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加すること
ができる。
As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.

また、保護層の画像部との密着性、耐傷性等も平版印刷版原版の取り扱い上、極めて重要である。すなわち、水溶性高分子化合物を含有するため親水性である保護層を、親油性である画像記録層に積層すると、接着力不足による保護層のはく離が生じやすい。これに対して、画像記録層と保護層との間の接着性を改良すべく、種々の提案がなされている。 例えば、特開昭49−70702号公報および英国特許出願公開第1303578号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、画像記録層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。   In addition, adhesion of the protective layer to the image area, scratch resistance, and the like are extremely important in handling the lithographic printing plate precursor. That is, when a hydrophilic protective layer containing a water-soluble polymer compound is laminated on an oleophilic image recording layer, the protective layer is likely to be peeled off due to insufficient adhesion. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between the image recording layer and the protective layer. For example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 disclose an acrylic emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, etc. in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on an image recording layer. Any of these known techniques can be used in the present invention.

更に、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる光の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of light used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

本発明における保護層の塗布量は、0〜0.3g/m2が適当であり、特に0〜0.1g/m2が好適である。
保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
The coating amount of the protective layer in the present invention, 0~0.3g / m 2 are suitable, in particular 0~0.1g / m 2 are preferred.
The method for applying the protective layer is described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

〔平版印刷方法〕
本発明の平版印刷版原版は、波長250nm〜420nmの光を放射するレーザーで画像露光される。このようなレーザーの具体例としては、ガスレーザーとして、Arイオンレーザー(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレーザー(356nm、351nm、10mW〜1W)、He−Cdレーザー(325nm、1mW〜100mW)、固体レーザーとして、YAG、YVO4などの1064nm発振モードロック固体レーザーの4倍波(266nm、20〜100mW)、導波型波長変換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組み合わせ(380nm〜400nm、5mW〜100mW)、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、AlGaInN(350nm〜470nm、5mW〜100mW)、その他、パルスレーザーとしてN2レーザー(337nm、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)、YAG、YVO4などの1064nm発振モードロック固体レーザーの3倍波(355nm、1〜4W)、などを挙げることができる。
[Lithographic printing method]
The planographic printing plate precursor of the present invention is image-exposed with a laser that emits light having a wavelength of 250 nm to 420 nm. Specific examples of such a laser include an Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), a Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), and a He—Cd laser (325 nm, 1 mW to 100 mW). ), As a solid-state laser, a quadruple wave (266 nm, 20 to 100 mW) of a 1064 nm oscillation mode-locked solid-state laser such as YAG, YVO 4, etc. 100 mW), a combination of a waveguide wavelength conversion element and AlGaInP, an AlGaAs semiconductor (300 nm to 350 nm, 5 mW to 100 mW), AlGaInN (350 nm to 470 nm, 5 mW to 100 mW), and others, a pulse laser As N 2 laser (337 nm, pulse 0.1~10mJ), XeF (351nm, pulse 10~250mJ), YAG, 3 harmonic (355nm, 1~4W) of 1064nm oscillation mode-locked solid-state laser such as YVO 4, etc. Can be mentioned.

特に、この中で好適なレーザーは、重合速度を高速化できる高照度短時間露光が可能な観点および、コスト面で、AlGaInN半導体レーザー(市販InGaN系半導体レーザー375nmまたは405nm、5〜100mW)、生産性の面で高出力な355nmレーザー、波長適性の面で、最も白色蛍光灯の発光スペクトル重なりが小さく、高感度化可能な266nmレーザーである。   In particular, a suitable laser among these is an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN-based semiconductor laser 375 nm or 405 nm, 5 to 100 mW), in terms of cost and high light intensity capable of increasing the polymerization rate and production. This is a 355 nm laser with high output in terms of the characteristics, and a 266 nm laser that has the smallest emission spectrum overlap of the white fluorescent lamp in terms of wavelength suitability and can be highly sensitive.

これらのレーザーを用いる場合は、画素滞留時間は、酸素との競争反応を最小限に抑えるため、短いほど好ましく、1ミリ秒以下が好ましい。より好ましくは500μ秒以下である。エネルギー量は0.1〜10mJ/cm2であることが好ましい。 When these lasers are used, the pixel residence time is preferably as short as possible in order to minimize the competitive reaction with oxygen, and is preferably 1 millisecond or less. More preferably, it is 500 microseconds or less. The amount of energy is preferably 0.1 to 10 mJ / cm 2 .

本発明の酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気下における露光は、図1および図3〜7に示すような印刷版露光装置で行うことができる。
以下、それらの印刷版露光装置について詳細に説明する。
The exposure in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05% by volume or less according to the present invention can be performed with a printing plate exposure apparatus as shown in FIG. 1 and FIGS.
Hereinafter, these printing plate exposure apparatuses will be described in detail.

図1は、本発明の一実施形態に係る印刷版露光装置の要部構成を示す側面図である。
本実施形態に係る印刷版露光装置100は、平版印刷版原版(以下、感材ともいう)収容部102と、この感材収容部102内の空気を不活性ガスで置換するための無酸素状態実現部104と、感材122に所定の露光を行う感材露光手段106から主に構成される。
FIG. 1 is a side view showing a main configuration of a printing plate exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
A printing plate exposure apparatus 100 according to the present embodiment includes a planographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as a light-sensitive material) containing portion 102 and an oxygen-free state for replacing the air in the light-sensitive material containing portion 102 with an inert gas. It is mainly comprised of the realization part 104 and the photosensitive material exposure means 106 which performs predetermined exposure to the photosensitive material 122. FIG.

感材収容部102は、ガラス等で構成される平板状の透明保持部材108と、図示されていない移動機構により往復移動(矢印A方向)して、この透明保持部材108に押圧・隔離(押圧解除)される剛質材料で構成される押さえ部材110と、この両者の周囲を囲むように配置され、当該感材収容部102を密閉・密閉解除するように往復回動(矢印B方向)する側壁部材112から主に構成される。なお、側壁の他の2面(図の紙面に平行な2面)は、固定的に設置されているものとする。   The photosensitive material container 102 is moved back and forth (in the direction of arrow A) by a flat transparent holding member 108 made of glass or the like and a moving mechanism (not shown), and is pressed and isolated (pressed) on the transparent holding member 108. The holding member 110 made of a rigid material to be released is disposed so as to surround both of them, and reciprocally rotates (in the direction of the arrow B) so as to seal and release the sensitive material housing portion 102. The side wall member 112 is mainly configured. Note that the other two surfaces of the side wall (two surfaces parallel to the paper surface in the figure) are fixedly installed.

なお、図1(a)は、側壁部材112が前記透明保持部材108,押さえ部材110それぞれの間を隔離した感材122の装填・排出時に対応する状態を示しており、同(b)は、側壁部材112が透明保持部材108,押さえ部材110それぞれの間を閉じた感材122の露光時に対応する状態(感材収容部102密閉状態)を示している。   FIG. 1A shows a state in which the side wall member 112 corresponds to the loading and discharging of the photosensitive material 122 in which the transparent holding member 108 and the pressing member 110 are separated from each other, and FIG. The side wall member 112 shows a state corresponding to the time of exposure of the photosensitive material 122 in which the space between the transparent holding member 108 and the pressing member 110 is closed (the photosensitive material accommodating portion 102 is sealed).

無酸素状態実現部104は、窒素等の不活性ガスボンベ(または、その発生装置、以下ではボンベで代表させる)114と、不活性ガスボンベ114の動作を制御する酸素遮断時間制御手段116と、前記不活性ガスボンベ114から供給される不活性ガスを前記感材収容部102内に送り込むためのガス噴出ノズル118と、露光終了後にガスをこの前記感材収容部102から排出するための排気ノズル120とから構成される。   The oxygen-free state realization unit 104 includes an inert gas cylinder such as nitrogen (or a generation device thereof, represented by a cylinder below) 114, an oxygen cutoff time control unit 116 that controls the operation of the inert gas cylinder 114, and the inert gas cylinder 114. From a gas ejection nozzle 118 for sending an inert gas supplied from an active gas cylinder 114 into the light-sensitive material storage unit 102, and an exhaust nozzle 120 for discharging the gas from the light-sensitive material storage unit 102 after the exposure is completed. Composed.

ここで、不活性ガスを前記感材収容部102内に送り込むためのガス噴出ノズル118については、感材収容部102内の空気のガス置換を迅速に行うために、例えば感材の幅方向(図の紙面に垂直な方向)に複数個配列する等の配慮をすることが好ましい。また、排気ノズル120については、置換後の不活性ガスの流失を防止する意味で、必要最小限の断面サイズとすることが好ましい。   Here, with respect to the gas ejection nozzle 118 for feeding the inert gas into the photosensitive material accommodating portion 102, for example, in order to quickly replace the air in the photosensitive material accommodating portion 102, the width direction of the sensitive material ( It is preferable to consider such as arranging a plurality in a direction perpendicular to the drawing sheet. In addition, the exhaust nozzle 120 is preferably set to the minimum necessary cross-sectional size in order to prevent the inert gas from being lost after the replacement.

感材露光手段106は、前記感材収容部102内に装填された感材122の画像記録層(感材122の図中上面)124に所定の露光を行うための、一般的な公知の走査ビーム型の露光装置であり、ここでは、平板状の感材122の画像記録層124を2次元的に走査して、記録すべき画像データに基づいて変調されたレーザビームにより露光する方式のものを用いているが、本発明はこれに限定されるものではない。   The photosensitive material exposure means 106 is a general known scan for performing predetermined exposure on the image recording layer (the upper surface in the drawing of the photosensitive material 122) 124 of the photosensitive material 122 loaded in the photosensitive material container 102. This is a beam type exposure apparatus, in which an image recording layer 124 of a plate-shaped photosensitive material 122 is two-dimensionally scanned and exposed by a laser beam modulated based on image data to be recorded. However, the present invention is not limited to this.

本実施形態に係る印刷版露光装置100においては、まず、前記透明保持部材108,押さえ部材110の間を開き、側壁部材112を開放状態にして、前記感材収容部102内に露光すべき感材122を装填した後、前記透明保持部材108,押さえ部材110の間を閉じ、側壁部材112を回動させて、パッキン112aにより前記感材収容部102を密閉状態にする。その後に、予め設定された不活性ガスの供給パターン(詳細については、後述する)に従って、酸素遮断時間制御手段116の制御の下、前記不活性ガスボンベ114から不活性ガスを供給して、前記感材収容部102内の空気の不活性ガス置換を行う。   In the printing plate exposure apparatus 100 according to the present embodiment, first, the space between the transparent holding member 108 and the pressing member 110 is opened, and the side wall member 112 is opened, so that the sensation to be exposed in the light-sensitive material container 102 is exposed. After the material 122 is loaded, the space between the transparent holding member 108 and the pressing member 110 is closed, the side wall member 112 is rotated, and the photosensitive material container 102 is sealed by the packing 112a. Thereafter, in accordance with a preset inert gas supply pattern (details will be described later), the inert gas is supplied from the inert gas cylinder 114 under the control of the oxygen shut-off time control means 116, and the sensitivity is increased. Inert gas replacement of the air in the material container 102 is performed.

所定時間が経過して、不活性ガス置換が終了したら、前記感材露光手段106により、前記感材収容部102内に装填された感材122に所定の走査ビーム露光を行う。なお、ここでは、この露光中も、酸素遮断時間制御手段116の制御の下、不活性ガスボンベ114からの不活性ガスの供給を継続させるものとする。また、露光終了後、さらに所定時間が経過した後、これも酸素遮断時間制御手段116の制御の下、不活性ガスの供給を停止するとともに、前記透明保持部材108,押さえ部材110の間を開き、側壁部材112を開放状態にして、前記感材収容部102内を通常の空気雰囲気に戻す。   When the inert gas replacement is completed after the elapse of a predetermined time, the photosensitive material exposure unit 106 performs a predetermined scanning beam exposure on the photosensitive material 122 loaded in the photosensitive material accommodating portion 102. Here, even during this exposure, the supply of the inert gas from the inert gas cylinder 114 is continued under the control of the oxygen cutoff time control means 116. Further, after a predetermined time has passed after the exposure is completed, the supply of the inert gas is also stopped under the control of the oxygen cutoff time control means 116, and the gap between the transparent holding member 108 and the pressing member 110 is opened. Then, the side wall member 112 is opened, and the inside of the light-sensitive material accommodating portion 102 is returned to a normal air atmosphere.

以上が、一実施形態に係る印刷版露光装置100の要部構成並びに動作概要である。
以下では、このような印刷版露光装置100を用いて行われる、本発明に係る印刷版の作製方法について、その一実施例を説明する。
The above is the main configuration and operation outline of the printing plate exposure apparatus 100 according to the embodiment.
Hereinafter, an example of a method for producing a printing plate according to the present invention performed using such a printing plate exposure apparatus 100 will be described.

図2は、上記実施形態に係る印刷版露光装置100を用いる、印刷版の作製方法の概要を示す動作フロー図である。以下に説明する印刷版の作製方法においては、図2に示すように、まず、前記透明保持部材108,押さえ部材110の間を開き、前記側壁部材112を開放状態にし、感材収容部102内に露光すべき感材122を、その画像記録層124が上面となるように装填する(ステップ202、この状況は、図1中の矢印Cにより示されている)。   FIG. 2 is an operation flowchart showing an outline of a printing plate manufacturing method using the printing plate exposure apparatus 100 according to the embodiment. In the printing plate manufacturing method described below, as shown in FIG. 2, first, the space between the transparent holding member 108 and the pressing member 110 is opened, the side wall member 112 is opened, and the inside of the photosensitive material container 102 is opened. The photosensitive material 122 to be exposed is loaded so that the image recording layer 124 is the upper surface (step 202, this situation is indicated by the arrow C in FIG. 1).

次に、前記透明保持部材108,押さえ部材110の間を閉じ、前記側壁部材112を密閉状態にして、前記感材収容部102内の空気の不活性ガスによる置換を開始する(ステップ204、この状況は、図1中の矢印Dにより示されている)。この動作は、全て、酸素遮断時間制御手段116の制御の下で行われる。
すなわち、酸素遮断時間制御手段116には、感材122への露光の前後における酸素遮断時間のデータが予め設定されており、それに基づいて、ここでは、まず、前記感材収容部102内の空気の不活性ガスによる置換が開始されるということである。
Next, the space between the transparent holding member 108 and the pressing member 110 is closed, the side wall member 112 is sealed, and the replacement of the air in the light-sensitive material accommodating portion 102 with an inert gas is started (step 204, this The situation is indicated by the arrow D in FIG. This operation is all performed under the control of the oxygen cutoff time control means 116.
In other words, the oxygen cutoff time control means 116 is preset with oxygen cutoff time data before and after the exposure to the photosensitive material 122. Based on this data, first, here, the air in the photosensitive material accommodating portion 102 is first set. That is, the replacement with the inert gas is started.

前記感材収容部102内の空気の不活性ガスによる置換が開始されてから予め設定された所定時間が経過すると、不活性ガスによる置換が実質的に終了したものとして、前記感材露光手段106による、前記感材122(実際には、その画像記録層124)への所定の走査ビーム露光が行われる(ステップ206)。いうまでもなく、ここで行われる露光は、印刷版を作製するための画像データに基づく、いわゆる像様露光である。   When the preset predetermined time elapses after the replacement of the air in the photosensitive material container 102 with the inert gas has started, it is assumed that the replacement with the inert gas has substantially ended, and the photosensitive material exposure unit 106 Thus, a predetermined scanning beam exposure is performed on the photosensitive material 122 (actually, the image recording layer 124) (step 206). Needless to say, the exposure performed here is so-called imagewise exposure based on image data for producing a printing plate.

上述のステップ206における露光が終了した後、さらに、前記酸素遮断時間制御手段116内に予め設定されている露光終了後における酸素遮断継続時間に基づいて、不活性ガスボンベ114からの不活性ガスの供給が継続され、この所定時間が経過した(ステップ208)時点で、ガスボンベ114からの不活性ガスの供給が停止されるとともに、側壁部材112が開放状態に戻されて、感材収容部102の密閉状態が開放される(ステップ210)。   After the exposure in the above step 206 is completed, the supply of the inert gas from the inert gas cylinder 114 is further performed based on the oxygen interruption duration time after the completion of the exposure set in the oxygen interruption time control means 116 in advance. When the predetermined time has elapsed (step 208), the supply of the inert gas from the gas cylinder 114 is stopped, the side wall member 112 is returned to the open state, and the photosensitive material container 102 is sealed. The state is released (step 210).

このように、感材収容部102の密閉状態が開放されることにより、感材収容部102内に装填されている露光済みの感材122は、その画像記録層124中に酸素が存在し得る状態となることから、実質的にこれ以上の感光能を失うことになり、以後は、明室内での取り扱いが可能な状態となる。そこで、オペレータは、この状態になった感材122を機上現像すべく、所定の印刷機にセットする(ステップ212)。   In this way, the exposed state of the photosensitive material 122 loaded in the photosensitive material accommodating portion 102 can contain oxygen in the image recording layer 124 by releasing the sealed state of the photosensitive material accommodating portion 102. Therefore, the photosensitivity beyond this level is substantially lost, and after that, it becomes possible to handle in the bright room. Therefore, the operator sets the photosensitive material 122 in this state on a predetermined printing machine in order to develop it on the machine (step 212).

ステップ212の機上現像ステップにおいては、従来から行われているような、印刷機にセットされた感材122に、例えばインキと湿し水とを同時に供給して印刷機を動作させて通常の印刷動作と同じ動作を行わせることにより、いわゆる機上現像が行われ、この時点で印刷版の作製が終了する。   In the on-press development step of Step 212, for example, ink and dampening water are simultaneously supplied to the photosensitive material 122 set in the printing machine, as is conventionally performed, and the printing machine is operated to perform a normal operation. By performing the same operation as the printing operation, so-called on-press development is performed, and the production of the printing plate is completed at this point.

上記実施例に示した印刷版の作製方法によれば、酸素遮断層を有さず、光重合により潜像形成を行い、印刷機上で現像を行う印刷版原版を用いる際にも、プロセスの全体が明室で行えるような印刷版原版からの印刷版の作製方法が実現できる。
そして、前記実施形態に示した印刷版露光装置100は、この方法を実現するために好適に用い得る印刷版露光装置である。
According to the method for preparing a printing plate shown in the above examples, even when using a printing plate precursor that does not have an oxygen blocking layer, forms a latent image by photopolymerization, and develops on a printing machine, A printing plate preparation method from a printing plate precursor that can be entirely performed in a bright room can be realized.
And the printing plate exposure apparatus 100 shown to the said embodiment is a printing plate exposure apparatus which can be used suitably in order to implement | achieve this method.

ここで、上に示した印刷版の作製方法の変形例について説明しておく。
上述の実施例に示した印刷版の作製方法においては、感材122への露光開始より前記感材収容部102内の空気の不活性ガスによる置換が実質的に終了するに要する時間だけ前に酸素遮断動作を開始し、露光終了後も、感材122の画像記録層124内への酸素の浸透に要する時間に略相当する時間だけ、不活性ガスによる置換動作を継続するようにしているが、感材122から酸素を遮断することが真に必要とされるのは、感材への露光中、すなわち、感材中で発生する光重合のためのラジカルの存在する期間である。
Here, a modification of the printing plate manufacturing method shown above will be described.
In the printing plate manufacturing method shown in the above-described embodiments, the time required for the replacement of the air in the light-sensitive material container 102 with the inert gas substantially before the exposure of the light-sensitive material 122 starts. The oxygen blocking operation is started, and the replacement operation with the inert gas is continued for a time substantially corresponding to the time required for the oxygen to penetrate into the image recording layer 124 of the photosensitive material 122 even after the exposure is completed. It is really necessary to block oxygen from the light-sensitive material 122 during exposure of the light-sensitive material, that is, a period in which radicals for photopolymerization generated in the light-sensitive material exist.

従って、露光開始前の酸素遮断動作、もしくは露光終了後の酸素遮断動作については、いずれもその一部または全部を省略することも可能である。但し、この場合における、省略可否の判定は、詳細な実験その他による検討結果に基づいて行うことが好ましいことはいうまでもない。   Therefore, any or all of the oxygen blocking operation before the start of exposure or the oxygen blocking operation after the end of exposure can be omitted. In this case, however, it is needless to say that the determination as to whether or not omission is possible is preferably made based on the results of studies by detailed experiments and the like.

また、上に示した印刷版の作製方法においては、酸素遮断動作を、前記感材収容部102内の空気の不活性ガスによる置換により実現した例を示したが、これは、前記感材収容部102内の空気(実際には、酸素であるが)を実質的に全て除去することによっても実現することが可能であることもいうまでもない。
また、酸素遮断動作を、まず、前記感材収容部102内の空気を実質的に全て除去する第1のステップと、空気を除去した後に不活性ガスを導入する第2のステップとの2段式にする方法も利用することができる。
Further, in the printing plate manufacturing method shown above, an example in which the oxygen shut-off operation is realized by replacing the air in the light-sensitive material container 102 with an inert gas is shown. Needless to say, this can also be realized by removing substantially all of the air in the unit 102 (actually, oxygen).
In addition, the oxygen blocking operation is first performed in two stages: a first step of removing substantially all of the air in the light-sensitive material container 102 and a second step of introducing an inert gas after removing the air. A method of formulating can also be used.

以下では、印刷版露光装置100に代えて用い得る印刷版露光装置の他の実施形態を幾つか説明する。
なお、これらの印刷版露光装置は、いずれも、操作が簡便で、ランニングコストの上昇を招くことのない、前述のようなダイレクト製版に好適に用い得る印刷版露光装置を実現するものである。
Hereinafter, some other embodiments of the printing plate exposure apparatus that can be used in place of the printing plate exposure apparatus 100 will be described.
Each of these printing plate exposure apparatuses realizes a printing plate exposure apparatus that can be suitably used for the direct plate making as described above, which is easy to operate and does not cause an increase in running cost.

図3は、本発明の他の実施形態に係る印刷版露光装置300の要部構成を示す側面図である。本実施形態に係る印刷版露光装置300は、図1に示した印刷版露光装置100の改良版ともいうべき構成を有するものである。図1に示した印刷版露光装置100とに相違点は、感材収容部302の押さえ部材310を、剛質の材料上にゴムやゲル等の柔軟な材料による緩衝層310aを持たせたものとする点にある。   FIG. 3 is a side view showing a main configuration of a printing plate exposure apparatus 300 according to another embodiment of the present invention. The printing plate exposure apparatus 300 according to the present embodiment has a configuration that can be called an improved version of the printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. The printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. 1 is different from the printing plate exposure apparatus 100 in that the pressing member 310 of the photosensitive material container 302 is provided with a buffer layer 310a made of a flexible material such as rubber or gel on a rigid material. It is in the point to.

本実施形態に係る印刷版露光装置300は、押さえ部材310に上述のような緩衝層310aを持たせたことにより、押さえ部材310を感材322に押圧した際に生ずる感材周囲の隙間の容積を小さくすることができるので、空気の除去、あるいは不活性ガスとの置換をより確実にできるようになるという効果が得られる。
なお、図3中においては、図1に示した印刷版露光装置100と同じ構成要素については200を加えた関連番号を付することによりそれを示しており、詳細な説明は省略している。
In the printing plate exposure apparatus 300 according to the present embodiment, since the holding member 310 is provided with the buffer layer 310a as described above, the volume of the gap around the photosensitive material generated when the pressing member 310 is pressed against the photosensitive material 322. As a result, the effect of removing air or replacing with an inert gas can be obtained more reliably.
In FIG. 3, the same constituent elements as those of the printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. 1 are denoted by the related numbers to which 200 is added, and detailed description thereof is omitted.

図4は、本発明のさらに他の実施形態に係る印刷版露光装置400の要部構成を示す側面図である。本実施形態に係る印刷版露光装置400は、図1に示した印刷版露光装置100の変形例ともいうべき構成を有するものである。すなわち、図1に示した印刷版露光装置100との相違点は、不活性ガスによる空気置換に代えて、感材収容部402内の空気を実質的に全て除去するようにした点にある。   FIG. 4 is a side view showing the main configuration of a printing plate exposure apparatus 400 according to still another embodiment of the present invention. The printing plate exposure apparatus 400 according to the present embodiment has a configuration that can be called a modification of the printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. That is, the difference from the printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. 1 is that substantially all of the air in the photosensitive material accommodating portion 402 is removed instead of air replacement with an inert gas.

すなわち、本実施形態に係る印刷版露光装置400は、図1に示した印刷版露光装置100が、不活性ガスボンベ114とその動作を制御する酸素遮断時間制御手段116等から構成される無酸素状態実現部104を有して、感材収容部102内の空気を不活性ガスにより置換しているのに対して、不活性ガス噴出ノズル418を真空ポンプ426による脱気口として用いるように構成したものである。   That is, the printing plate exposure apparatus 400 according to the present embodiment is an oxygen-free state in which the printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. 1 includes an inert gas cylinder 114 and an oxygen cutoff time control means 116 that controls the operation thereof. The realization unit 104 is provided to replace the air in the light-sensitive material accommodation unit 102 with an inert gas, whereas the inert gas ejection nozzle 418 is used as a degassing port by the vacuum pump 426. Is.

これにより、本実施形態に係る印刷版露光装置400においては、感材収容部402内の空気を除去するという方法で、比較的低コストで酸素遮断雰囲気を形成することが可能になるという効果が得られる。
なお、図4中においては、図1に示した印刷版露光装置100と同じ構成要素については300を加えた関連番号を付することによりそれを示しており、詳細な説明は省略している。
Thereby, in the printing plate exposure apparatus 400 according to the present embodiment, there is an effect that it is possible to form an oxygen-blocking atmosphere at a relatively low cost by the method of removing the air in the photosensitive material container 402. can get.
In FIG. 4, the same components as those of the printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. 1 are denoted by the related numbers with 300 added thereto, and detailed description thereof is omitted.

図5は、図4に示した実施形態に係る印刷版露光装置400の変形例を示す側面図である。本実施形態に係る印刷版露光装置500は、図4に示した印刷版露光装置400の押さえ部材410に代えて、ゴム等の弾性体からなるローラ510aを備えた押さえ部材510を用いるようにした点を特徴とするものである。   FIG. 5 is a side view showing a modification of the printing plate exposure apparatus 400 according to the embodiment shown in FIG. The printing plate exposure apparatus 500 according to the present embodiment uses a pressing member 510 provided with a roller 510a made of an elastic body such as rubber, instead of the pressing member 410 of the printing plate exposure apparatus 400 shown in FIG. It is characterized by a point.

これにより、本実施形態に係る印刷版露光装置500においては、感材収容部502内に装填される感材522の装填・排出がよりスムーズに行えるようになるとともに、感材522の装填・排出時における感材収容部502の押さえ部材510の開口度を小さくできるため、感材交換の所要時間を短縮できるという効果が得られる。
なお、図5中においては、図4に示した印刷版露光装置400と同じ構成要素については100を加えた関連番号を付することによりそれを示しており、詳細な説明は省略している。
As a result, in the printing plate exposure apparatus 500 according to the present embodiment, the photosensitive material 522 loaded in the photosensitive material storage unit 502 can be loaded and discharged more smoothly, and the photosensitive material 522 is loaded and discharged. Since the degree of opening of the pressing member 510 of the photosensitive material accommodating portion 502 at that time can be reduced, an effect that the time required for the photosensitive material replacement can be shortened can be obtained.
In FIG. 5, the same components as those of the printing plate exposure apparatus 400 shown in FIG. 4 are indicated by adding related numbers to which 100 is added, and detailed description thereof is omitted.

これまでは、感材を平板上にセットする、いわゆるフラットベッド型の印刷版露光装置の例を挙げてきたが、以下では、ドラム型の感材保持部を有するいわゆるドラム型の印刷版露光装置の例を挙げる。なお、周知のように、ドラム型の印刷版露光装置としては、インナードラムタイプ(ドラム内面から露光する方式)とアウタードラムタイプ(ドラム外面から露光する方式)があるが、ここでは、その両方の例を挙げることにする。   Up to now, an example of a so-called flat-bed type printing plate exposure apparatus in which a photosensitive material is set on a flat plate has been described, but in the following, a so-called drum-type printing plate exposure apparatus having a drum-type photosensitive material holding unit Give an example. As is well known, drum-type printing plate exposure apparatuses include an inner drum type (method of exposing from the inner surface of the drum) and an outer drum type (method of exposing from the outer surface of the drum). Take an example.

図6(a)〜(d)は、インナードラムタイプの印刷版露光装置の実施例を示すものであり、ドラム型の感材保持部をその中心軸に直交する平面で切断した状態の断面図で示している。また、図6(a)〜(d)は、それぞれ感材装填前(a),感材装填中(b),感材装填後の脱気準備時(c),脱気中(d)の状況を示している。   FIGS. 6A to 6D show an embodiment of an inner drum type printing plate exposure apparatus, and are sectional views in a state where a drum type photosensitive material holding section is cut along a plane perpendicular to the central axis thereof. Is shown. 6 (a) to 6 (d) respectively show before (a) loading of the photosensitive material, during loading of the photosensitive material (b), during preparation for degassing after loading of the photosensitive material (c), and during degassing (d). Indicates the situation.

本実施形態に係る印刷版露光装置600は、一部が切り欠かれたガラス円筒から構成される透明保持部材608と、この透明保持部材608の外側に配置される可撓性の押さえ部材610の送り出し・巻取り機構と、この両者により形成される密閉空間(詳細は後述する)内の空気を除去するための排気機構(真空ポンプ626)、並びに前記透明保持部材608の内側に配置される回転ミラー(スピナーミラー)を用いるレーザビーム走査露光手段606から主に構成される。   The printing plate exposure apparatus 600 according to the present embodiment includes a transparent holding member 608 formed of a glass cylinder with a part cut away, and a flexible pressing member 610 disposed outside the transparent holding member 608. A feed / winding mechanism, an exhaust mechanism (vacuum pump 626) for removing air in a sealed space (details will be described later) formed by both, and a rotation disposed inside the transparent holding member 608 It is mainly composed of laser beam scanning exposure means 606 using a mirror (spinner mirror).

押さえ部材610の送り出し・巻取り機構は、押さえ部材610をその両端部の間の任意の位置で送り出し・巻取り可能に構成されており、また、互いに同方向、もしくは互いに異なる方向に駆動可能に構成されている。これにより、この押さえ部材610の送り出し・巻取り機構は、装填される感材622を受け取って所定の位置まで搬送し、さらに、その位置で排気機構との協働作用により、感材622を透明保持部材608との間の密閉空間内に保持することが可能である。   The feeding / winding mechanism of the pressing member 610 is configured so that the pressing member 610 can be fed and wound at an arbitrary position between both ends thereof, and can be driven in the same direction or in different directions. It is configured. As a result, the feeding / winding mechanism of the pressing member 610 receives the loaded photosensitive material 622 and conveys it to a predetermined position, and further, at that position, the photosensitive material 622 is made transparent by cooperation with the exhaust mechanism. It can be held in a sealed space between the holding member 608.

本実施形態に係る印刷版露光装置600においては、その画像記録層624を透明保持部材608側(すなわち、内面側)にして供給された感材622を、押さえ部材610の送り出し・巻取り機構を矢印方向に駆動して受け取り(図6(a))走査露光手段606による露光に適した所定位置まで、矢印E,Fで示されるように搬送し(同(b)〜(d))、この状態で感材622を保持した透明保持部材608との間に形成される空間(密閉空間)内を、前記排気機構との協働作用により真空引きする。   In the printing plate exposure apparatus 600 according to the present embodiment, the photosensitive material 622 supplied with the image recording layer 624 on the transparent holding member 608 side (that is, the inner surface side) is provided with a feeding / winding mechanism for the pressing member 610. Received by driving in the direction of the arrow (FIG. 6 (a)), transported as indicated by arrows E and F to a predetermined position suitable for exposure by the scanning exposure means 606 ((b) to (d)). The space (sealed space) formed between the transparent holding member 608 holding the photosensitive material 622 in a state is evacuated by the cooperative action with the exhaust mechanism.

このようにして、所定位置に装填された感材622の周囲の空気が実質的に全て排気された後で、前記走査露光手段606により、感材622に対し一般的なレーザビーム走査露光が行われる。前述のような、この密閉空間内の真空引き状態(すなわち、酸素遮断状態)は露光が終了するまで、さらには、露光が終了してからも所定時間後まで、持続されることが好ましい。   Thus, after the air around the photosensitive material 622 loaded at a predetermined position is substantially exhausted, the scanning exposure means 606 performs general laser beam scanning exposure on the photosensitive material 622. Is called. It is preferable that the evacuated state (that is, the oxygen-blocked state) in the sealed space as described above is maintained until the exposure is completed, and further until a predetermined time after the exposure is completed.

これにより、本実施形態に係る印刷版露光装置600においては、ドラム型の透明保持部材608を用いる場合においても、感材収容部602内の空気を実質的に全て除去することが可能になり、装填される感材622の酸素遮断環境下での露光が確実・容易に実施可能となるという効果が得られる。
なお、図6中においても、図1に示した印刷版露光装置100と同じ構成要素については500を加えた関連番号を付することによりそれを示しており、詳細な説明は省略している。
Thereby, in the printing plate exposure apparatus 600 according to the present embodiment, even when the drum-type transparent holding member 608 is used, it is possible to remove substantially all of the air in the light-sensitive material storage unit 602. The effect that the exposure of the loaded photosensitive material 622 in an oxygen-blocking environment can be performed reliably and easily is obtained.
In FIG. 6, the same components as those of the printing plate exposure apparatus 100 shown in FIG. 1 are denoted by the related numbers added with 500, and detailed description thereof is omitted.

次に、図7(a),(b)は、アウタードラムタイプの印刷版露光装置の実施例を示すものであり、(a)はドラム型の感材保持部をその中心軸に直交する平面で切断した状態の断面図、(b)は同中心軸を通る平面で切断した状態の断面図で示している。また、図7(a),(b)は、それぞれ、感材装填状況を示す模式斜視図(a),感材装填後における脱気操作を説明する図(b)である。   Next, FIGS. 7A and 7B show an embodiment of an outer drum type printing plate exposure apparatus, and FIG. 7A is a plane perpendicular to the central axis of the drum type photosensitive material holding part. Sectional drawing of the state cut | disconnected by (4), (b) has shown in sectional drawing of the state cut | disconnected by the plane which passes along the same central axis. 7 (a) and 7 (b) are a schematic perspective view (a) showing a photosensitive material loading state and a diagram (b) for explaining a deaeration operation after loading the photosensitive material, respectively.

本実施形態に係る印刷版露光装置700は、ガラス円筒から構成される透明保持部材708と、この透明保持部材708の内側に配置される内筒状の可撓性の押さえ部材710と、この両者により形成される密閉空間(詳細は後述する)内の空気を除去するための排気機構(図示されていない真空ポンプを有する)、並びに前記透明保持部材708の外側に配置されるレーザビーム走査露光手段706から主に構成される。   The printing plate exposure apparatus 700 according to the present embodiment includes a transparent holding member 708 formed of a glass cylinder, an inner cylindrical flexible pressing member 710 disposed inside the transparent holding member 708, and both An exhaust mechanism (having a vacuum pump not shown) for removing air in a sealed space (details will be described later) formed by the laser beam, and laser beam scanning exposure means arranged outside the transparent holding member 708 706 is mainly composed.

ここで、上述の透明保持部材708の両端部は、キャップ状の閉塞部材728a,728bにより閉塞されており、このうちの一方、例えば728bは、透明保持部材708と上述の押さえ部材710との間に形成されている円周状の隙間730内の空気を除去する際に用いる排気口732aを備え、この排気口は、前述の真空ポンプに接続されている。また、この閉塞部材728bには、押さえ部材710の内部を大気圧に維持するための導通口732bが設けられている。   Here, both end portions of the transparent holding member 708 are closed by cap-like closing members 728a and 728b, and one of them, for example, 728b, is between the transparent holding member 708 and the holding member 710 described above. An exhaust port 732a used for removing the air in the circumferential gap 730 formed in is provided, and this exhaust port is connected to the aforementioned vacuum pump. The closing member 728b is provided with a conduction port 732b for maintaining the inside of the pressing member 710 at atmospheric pressure.

このように構成したことにより、本実施形態に係る印刷版露光装置700においては、感材722を前記隙間730内に装填し(矢印G方向)、上述の真空ポンプにより前記排気口732aから前記隙間730内の空気を除去すると、押さえ部材710が、前記導通口732bを介してその内側に加わっている大気圧により感材722を透明保持部材708方向に押圧し、感材722を確実に保持するとともに、その周囲の真空状態を確実に維持することが可能になる。   With this configuration, in the printing plate exposure apparatus 700 according to the present embodiment, the photosensitive material 722 is loaded into the gap 730 (in the direction of arrow G), and the gap is released from the exhaust port 732a by the vacuum pump described above. When the air in 730 is removed, the pressing member 710 presses the photosensitive material 722 in the direction of the transparent holding member 708 by the atmospheric pressure applied to the inside thereof through the conduction port 732b, and securely holds the photosensitive material 722. At the same time, the surrounding vacuum state can be reliably maintained.

このように、感材722の周囲の空気が実質的に全て排気された後で、前記走査露光手段706により、感材722に対しレーザビーム走査露光が行われる。前述のように、こ
の密閉空間(隙間730)内の真空引き状態(酸素遮断状態)は露光が終了するまで、さらには、露光が終了してからも所定時間後まで、持続されることが好ましい。
As described above, after substantially all the air around the photosensitive material 722 is exhausted, the scanning exposure means 706 performs laser beam scanning exposure on the photosensitive material 722. As described above, it is preferable that the evacuated state (oxygen-blocked state) in the sealed space (gap 730) is maintained until the exposure is completed, and further, until a predetermined time after the exposure is completed. .

これにより、本実施形態に係る印刷版露光装置700においては、ドラム型の透明保持部材708を用いる場合においても、感材収容部702内の空気を実質的に全て除去することが可能になり、装填される感材722の酸素遮断環境下での露光が確実・容易に実施可能となるという効果が得られる。   Thereby, in the printing plate exposure apparatus 700 according to the present embodiment, even when the drum-type transparent holding member 708 is used, it is possible to remove substantially all of the air in the photosensitive material accommodating portion 702, An effect is obtained that exposure of the loaded photosensitive material 722 in an oxygen-blocked environment can be performed reliably and easily.

なお、上記実施形態に示した印刷版露光装置600,同700は、排気機構を不活性ガスによる感材収容部702内の空気の置換機構に置き換えることも可能であり、この場合には、同様の構成により、より確実な酸素遮断環境を実現することができることはいうまでもない。   In the printing plate exposure apparatuses 600 and 700 shown in the above embodiment, the exhaust mechanism can be replaced with an air replacement mechanism in the light-sensitive material container 702 using an inert gas. It goes without saying that a more reliable oxygen-blocking environment can be realized with this configuration.

なお、上記各実施形態は、いずれも本発明の一例を示したものであり、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更や改良を行ってもよいことはいうまでもない。   Each of the above embodiments is merely an example of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and changes can be made without departing from the spirit of the present invention. Needless to say, improvements may be made.

例えば、先に示した実施形態に係る酸素遮断方式による印刷版露光装置において、感材を支持する透明保持部材を不透明部材で構成し、逆に、感材を支持部材に押圧する押さえ部材を傷の発生しにくい透明シート等で構成して、これらの間の空気を除去することにより、酸素遮断環境下における露光を可能とすることも可能である。   For example, in the printing plate exposure apparatus using the oxygen-blocking method according to the above-described embodiment, the transparent holding member that supports the photosensitive material is configured by an opaque member, and conversely, the pressing member that presses the photosensitive material against the supporting member is damaged. It is possible to make exposure in an oxygen-blocking environment by using a transparent sheet or the like that is less likely to generate and removing the air between them.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

〔実施例1〕
(1)支持体の作製
Al:99.5質量%以上、Fe:0.30質量%、Si:0.10質量%、Ti:0.02質量%、Cu:0.013質量%を含有し、残部は不可避不純物のJIS A1050アルミニウム合金の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理としては、溶湯中の水素等の不要なガスを除去するために脱ガス処理し、更に、セラミックチューブフィルタ処理を行った。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊の表面を10mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質化処理を行った。ついで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中、500℃で60秒間、中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、厚さ0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均粗さRa を0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。得られたアルミニウム板を、以下に示す表面処理に供した。
[Example 1]
(1) Production of support Al: 99.5% by mass or more, Fe: 0.30% by mass, Si: 0.10% by mass, Ti: 0.02% by mass, Cu: 0.013% by mass The remainder was cast by subjecting a molten JIS A1050 aluminum alloy, which is an inevitable impurity, to cleaning treatment. As the cleaning treatment, degassing treatment was performed to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, and further ceramic tube filter treatment was performed. The casting method was a DC casting method. The surface of the ingot having a thickness of 500 mm was chamfered by 10 mm, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so that the intermetallic compound would not become coarse. Subsequently, it was hot-rolled at 400 ° C., subjected to intermediate annealing at 500 ° C. for 60 seconds in a continuous annealing furnace, and then cold-rolled to obtain an aluminum rolled plate having a thickness of 0.30 mm. By controlling the roughness of the rolling roll, to control the center line average roughness R a after cold rolling to 0.2 [mu] m. Then, it applied to the tension leveler in order to improve planarity. The obtained aluminum plate was subjected to the following surface treatment.

上記アルミニウム板の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。 In order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, after degreasing at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, three bundled nylon brushes having a bristle diameter of 0.3 mm and the median The aluminum surface was grained using a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a diameter of 25 μm and thoroughly washed with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温5
0℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time is a 1% by mass aqueous solution of nitric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions), a liquid temperature of 5
It was 0 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying.

この板を15%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、さらに、ケイ酸ナトリウム2.5質量%水溶液にて30℃で10秒処理した。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。 The plate was provided with a direct current anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water, dried, Then, it was treated with an aqueous 2.5 mass% sodium silicate solution at 30 ° C for 10 seconds. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

(2)平版印刷版原版の作製
上記支持体上に、下記組成の下塗層塗布液(1)を、液量7.5ml/m2となるバーを用いて塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥した。その上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布質量1.0g/m2の画像記録層を形成して平版印刷版原版(1)を得た。
(2) Preparation of lithographic printing plate precursor An undercoat layer coating solution (1) having the following composition was coated on the support using a bar having a liquid volume of 7.5 ml / m 2 , Oven dried in seconds. On top of that, an image recording layer coating solution (1) having the following composition was bar coated, followed by oven drying at 70 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating mass of 1.0 g / m 2 and lithographic printing. An original plate (1) was obtained.

<下塗層塗布液(1)>
・水 300g
・メタノール 2700g
・下記の化合物C−1 1.45g
<Undercoat layer coating solution (1)>
・ 300 g of water
・ Methanol 2700g
-The following compound C-1 1.45g

<画像記録層塗布液(1)>
・下記重合開始剤(1) 0.3g
・下記バインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 6.0g
・重合性化合物 12.4g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亜合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 70.0g
<Image recording layer coating solution (1)>
・ The following polymerization initiator (1) 0.3 g
・ The following binder polymer (1) (average molecular weight 80,000) 6.0 g
・ Polymerizable compound 12.4g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g of tetraethylammonium chloride
・ 0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 70.0g

Figure 2006130777
Figure 2006130777

Figure 2006130777
Figure 2006130777

Figure 2006130777
Figure 2006130777

Figure 2006130777
Figure 2006130777

〔実施例2〕
上記画像記録層塗布液(1)を下記組成の画像記録層塗布液(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(2)を得た。
[Example 2]
A lithographic printing plate precursor (2) is obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (1) except that the image recording layer coating solution (1) is changed to an image recording layer coating solution (2) having the following composition. It was.

<画像記録層塗布液(2)>
・下記重合開始剤(1) 0.3g
・下記増感剤(1) 0.45g
・下記バインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 6.0g
・重合性化合物 12.4g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亜合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 70.0g
<Image recording layer coating solution (2)>
・ The following polymerization initiator (1) 0.3 g
・ The following sensitizer (1) 0.45 g
・ The following binder polymer (1) (average molecular weight 80,000) 6.0 g
・ Polymerizable compound 12.4g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g of tetraethylammonium chloride
・ 0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 70.0g

Figure 2006130777
Figure 2006130777

〔実施例3〕
上記重合開始剤(1)を下記重合開始剤(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(3)を得た。
Example 3
A lithographic printing plate precursor (3) was obtained in the same manner as the preparation of the lithographic printing plate precursor (2) except that the polymerization initiator (1) was changed to the polymerization initiator (2) shown below.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

〔実施例4〕
上記重合開始剤(1)を下記重合開始剤(3)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(4)を得た。
Example 4
A lithographic printing plate precursor (4) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (2) except that the polymerization initiator (1) was changed to the following polymerization initiator (3).

Figure 2006130777
Figure 2006130777

〔実施例5〕
上記増感剤(1)を下記増感剤(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(5)を得た。
Example 5
A lithographic printing plate precursor (5) was obtained in the same manner as the preparation of the lithographic printing plate precursor (2) except that the sensitizer (1) was changed to the following sensitizer (2).

Figure 2006130777
Figure 2006130777

〔実施例6〕
上記重合開始剤(1)を上記重合開始剤(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(5)の作製と同様にして、平版印刷版原版(6)を得た。
Example 6
A lithographic printing plate precursor (6) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (5) except that the polymerization initiator (1) was changed to the polymerization initiator (2).

〔実施例7〕
上記重合開始剤(1)を上記重合開始剤(3)に変更した以外は、平版印刷版原版(5)の作製と同様にして、平版印刷版原版(7)を得た。
Example 7
A lithographic printing plate precursor (7) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (5) except that the polymerization initiator (1) was changed to the polymerization initiator (3).

〔実施例8〕
上記画像記録層塗布液(2)を下記組成の画像記録層塗布液(3)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(8)を得た。
Example 8
A lithographic printing plate precursor (8) is obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (2) except that the image recording layer coating solution (2) is changed to an image recording layer coating solution (3) having the following composition. It was.

<画像記録層塗布液(3)>
・上記重合開始剤(2) 0.3g
・上記増感剤(1) 0.45g
・カルボン酸基を有する化合物(A−85) 0.3g
・下記バインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 6.0g
・重合性化合物 12.4g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亜合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 70.0g
<Image recording layer coating solution (3)>
・ The above polymerization initiator (2) 0.3 g
-0.45 g of the above sensitizer (1)
-Compound (A-85) having a carboxylic acid group 0.3 g
・ The following binder polymer (1) (average molecular weight 80,000) 6.0 g
・ Polymerizable compound 12.4g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g of tetraethylammonium chloride
・ 0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 70.0g

〔実施例9〕
上記画像記録層塗布液(2)を下記組成の画像記録層塗布液(4)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(9)を得た。
Example 9
A lithographic printing plate precursor (9) is obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (2) except that the image recording layer coating solution (2) is changed to an image recording layer coating solution (4) having the following composition. It was.

<画像記録層塗布液(4)>
・上記重合開始剤(1) 0.3g
・上記増感剤(1) 0.45g
・上記バインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 3.0g
・重合性化合物 6.2g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亜合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・下記のマイクロカプセル(1)(固形分換算で) 10.0g
・メチルエチルケトン 35.0g
・1−メトキシー2−プロパノール 35.0g
・水 10.0g
<Image recording layer coating solution (4)>
・ 0.3 g of the above polymerization initiator (1)
-0.45 g of the above sensitizer (1)
・ Binder polymer (1) (average molecular weight 80,000) 3.0 g
-Polymerizable compound 6.2g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g of tetraethylammonium chloride
・ 0.1 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ The following microcapsule (1) (in terms of solid content) 10.0 g
・ Methyl ethyl ketone 35.0g
・ 3-methoxy-2-propanol 35.0 g
・ Water 10.0g

(マイクロカプセル(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン(山本化成(株)製ODB)1g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液(1)の固形分濃度を、20質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.24μmであった。
(Synthesis of microcapsule (1))
As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, 1 g of 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane (ODB manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.) and 0.1 g of Pionin A-41C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) Dissolved in 17 g. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid (1) thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. The average particle size was 0.24 μm.

〔実施例10〕
上記重合開始剤(1)を上記重合開始剤(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(9)の作製と同様にして、平版印刷版原版(10)を得た。
Example 10
A lithographic printing plate precursor (10) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (9) except that the polymerization initiator (1) was changed to the polymerization initiator (2).

〔実施例11〕
上記重合開始剤(1)を上記重合開始剤(3)に変更した以外は、平版印刷版原版(9)の作製と同様にして、平版印刷版原版(11)を得た。
Example 11
A lithographic printing plate precursor (11) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (9) except that the polymerization initiator (1) was changed to the polymerization initiator (3).

〔比較例1〕
平版印刷版原版(1)の作製に用いた重合開始剤(1)を下記重合開始剤(4)に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(12)を得た。
[Comparative Example 1]
The lithographic printing plate precursor is the same as the production of the lithographic printing plate precursor (1) except that the polymerization initiator (1) used for the production of the lithographic printing plate precursor (1) is changed to the following polymerization initiator (4). (12) was obtained.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

〔比較例2〕
平版印刷版原版(9)の作製に用いた重合開始剤(1)を上記重合開始剤(4)に変更した以外は、平版印刷版原版(9)の作製と同様にして、平版印刷版原版(13)を得た。
[Comparative Example 2]
A lithographic printing plate precursor is prepared in the same manner as the production of the lithographic printing plate precursor (9) except that the polymerization initiator (1) used for the production of the lithographic printing plate precursor (9) is changed to the polymerization initiator (4). (13) was obtained.

〔比較例3〕
平版印刷版原版(2)の上から、下記保護層塗布液(1)を乾燥塗布質量が1.0g/m2となるように塗布し、120℃で1分間乾燥して平版印刷版用原板(14)を得た。
[Comparative Example 3]
The following protective layer coating solution (1) is applied from above the lithographic printing plate precursor (2) so that the dry coating mass is 1.0 g / m 2, and dried at 120 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor. (14) was obtained.

<保護層塗布液(1)>
ポリビニルアルコール(ケン化度95モル%、重合度800) 40g
ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 5g
水 950g
<Protective layer coating solution (1)>
Polyvinyl alcohol (saponification degree 95 mol%, polymerization degree 800) 40 g
Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 5g
Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight 75,5 g
950g of water

〔比較例4〕
平版印刷版原版(9)の上から、上記保護層塗布液(1)を乾燥塗布質量が1.0g/m2となるように塗布し、120℃で1分間乾燥して平版印刷版原版(15)を得た。
[Comparative Example 4]
From the top of the lithographic printing plate precursor (9), the protective layer coating solution (1) is applied so that the dry coating weight is 1.0 g / m 2, and dried at 120 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor ( 15) was obtained.

〔平版印刷版原版の評価〕
<感度>
得られた平版印刷版原版を図1記載の印刷版作製装置に取り付け、感材収容部102内の空気を不活性ガスで置換した。酸素濃度が0.05体積%に到達したことを確認した後に、375nm半導体レーザーにて、出力2mW、周長900mmの外面ドラム、ドラム回転数800rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。露光後30秒後に、不活性ガス置換を止めた。得られた露光済み原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(体積比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。100枚印刷を行って、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物において、画像部のインキ濃度にムラがない露光量を感度として計測した。
別途、図1の装置で不活性ガスによる置換を行わずに同様の評価を行った。結果を合わせて表1に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
<Sensitivity>
The obtained lithographic printing plate precursor was attached to the printing plate preparation apparatus shown in FIG. After confirming that the oxygen concentration reached 0.05% by volume, exposure was performed with a 375 nm semiconductor laser under the conditions of an output of 2 mW, an outer drum with a peripheral length of 900 mm, a drum rotation speed of 800 rpm, and a resolution of 2400 dpi. Inert gas replacement was stopped 30 seconds after exposure. The exposed exposed original plate was attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing, and dampening water (EU-3 (Etchi solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1 / 89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) were used for printing at a printing speed of 6000 sheets per hour. After 100 sheets were printed and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were continuously printed. In the total 600th printed matter, the exposure amount with no unevenness in the ink density in the image area was measured as sensitivity.
Separately, the same evaluation was performed without replacing with an inert gas in the apparatus of FIG. The results are shown in Table 1.

<白灯安全性>
露光されていない平版印刷版原版を、白色蛍光灯下に置き、平版印刷版原版の表面で400luxの光量になる条件下に設置し、曝光を行った。これら白灯下に曝した平版印刷版原版を、現像処理が必要なものは現像処理を行った後、上記同様、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、100枚の印刷を行った後、インキ汚れが生じない白色蛍光灯下での曝光時間を計測した。この結果を表1に示す。この時間が長いほど、白灯安全性が良好であるといえる。
<Safety of white light>
An unexposed lithographic printing plate precursor was placed under a white fluorescent lamp and placed under conditions where the light amount of 400 lux was obtained on the surface of the lithographic printing plate precursor, and exposure was performed. These lithographic printing plate precursors exposed to white light were subjected to development processing for those requiring development processing, and then attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and printed 100 sheets as described above. Thereafter, the exposure time was measured under a white fluorescent lamp where no ink smear occurred. The results are shown in Table 1. The longer this time, the better the white light safety.

Figure 2006130777
Figure 2006130777

上記の結果から明らかなように、本発明の画像形成方法および平版印刷方法(実施例1〜11)は、感度と白灯安全性が両立することがわかる。   As is clear from the above results, it can be seen that the image forming method and the lithographic printing method (Examples 1 to 11) of the present invention have both sensitivity and white light safety.

(a),(b)は、一実施形態に係る印刷版露光装置の概略構成を示す側面図である。(A), (b) is a side view which shows schematic structure of the printing plate exposure apparatus which concerns on one Embodiment. 一実施例に係る印刷版の作製方法の概要を示す動作フロー図である。It is an operation | movement flowchart which shows the outline | summary of the manufacturing method of the printing plate which concerns on one Example. 他の実施形態に係る印刷版露光装置の概略構成を示す側面図である。It is a side view which shows schematic structure of the printing plate exposure apparatus which concerns on other embodiment. (a),(b)は、他の実施形態に係る印刷版露光装置の概略構成を示す側面図である。(A), (b) is a side view which shows schematic structure of the printing plate exposure apparatus which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る印刷版露光装置の概略構成を示す側面図である。It is a side view which shows schematic structure of the printing plate exposure apparatus which concerns on other embodiment. (a)〜(d)は、さらに他の実施形態に係る印刷版露光装置の概略構成を示す断面図である。(A)-(d) is sectional drawing which shows schematic structure of the printing plate exposure apparatus which concerns on other embodiment. さらに他の実施形態に係る印刷版露光装置の概略構成を示す断面図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the printing plate exposure apparatus which concerns on other embodiment, (a) is a perspective view, (b) is sectional drawing.

符号の説明Explanation of symbols

100,300,400,500,600,700 印刷版露光装置
102,302,402,502 感材収容部
104,304 無酸素状態実現部
106,306,406,606,706 露光手段
108,308,408,508,608,708 透明保持部材
110,310,410,510,610、710 押さえ部材
112,312,412,512 側壁部材
112a,312a,412a,512a パッキン
114,314 不活性ガスボンベ
116,316 酸素遮断時間制御手段
118,318 ガス噴出ノズル
120,320 排気ノズル
122,322,422,522,622,722 感材(平版印刷版原版)
124,324,424,524,624,724 (感材の)画像記録層
202〜212 処理ステップ
310a (押さえ部材の)緩衝層
426,526,626 真空ポンプ
510a (押さえ部材の)ローラ
728a,728b 閉塞部材
730 隙間
732a 排気口
732b 導通口
A 押さえ部材移動方向
B 側壁部材回動方向
C,E,F,G 感材装填方向
D 不活性ガス供給方向
100, 300, 400, 500, 600, 700 Printing plate exposure apparatus 102, 302, 402, 502 Sensitive material container 104, 304 Oxygen-free state realizing unit 106, 306, 406, 606, 706 Exposure means 108, 308, 408 , 508, 608, 708 Transparent holding member 110, 310, 410, 510, 610, 710 Pressing member 112, 312, 412, 512 Side wall member 112a, 312a, 412a, 512a Packing 114, 314 Inert gas cylinder 116, 316 Oxygen shut-off Time control means 118,318 Gas ejection nozzle 120,320 Exhaust nozzle 122,322,422,522,622,722 Photosensitive material (lithographic printing plate precursor)
124, 324, 424, 524, 624, 724 (sensitive material) image recording layer 202 to 212 Processing step 310a (pressing member) buffer layer 426, 526, 626 Vacuum pump 510a (pressing member) roller 728a, 728b Blocking Member 730 Crevice 732a Exhaust port 732b Conduction port A Holding member moving direction B Side wall member rotating direction C, E, F, G Sensitive material loading direction D Inert gas supply direction

Claims (8)

支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有し、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下において100倍以上の感度を有し、酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気下において波長250〜420nmのレーザー光で画像記録が可能な平版印刷版原版。   A lithographic printing plate precursor comprising an image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound and removable by printing ink and / or dampening water on a support, and having an oxygen concentration of 20 Laser light having a wavelength of 250 to 420 nm in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05 vol% or less and having a sensitivity of 100 times or more in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05 vol% with respect to the sensitivity in a volume% atmosphere. A lithographic printing plate precursor that can be used for image recording. 前記重合開始剤が、スルホニウム化合物、ヨードニウム化合物およびオキシムエステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the polymerization initiator is at least one selected from the group consisting of a sulfonium compound, an iodonium compound, and an oxime ester compound. 前記画像記録層がオキサジアゾール化合物およびクマリン化合物の少なくともいずれか1種の増感剤をさらに含有することを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein the image recording layer further contains at least one sensitizer selected from an oxadiazole compound and a coumarin compound. 前記画像記録層がカルボン酸基を有する化合物をさらに含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, wherein the image recording layer further contains a compound having a carboxylic acid group. 前記重合開始剤の添加量が画像記録層の全質量に対して1〜10質量%の範囲であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the addition amount of the polymerization initiator is in the range of 1 to 10 mass% with respect to the total mass of the image recording layer. 画像記録層の上に、保護層を有さないか、または塗布質量が0.3g/m2以下である保護層を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing according to any one of claims 1 to 5, which has no protective layer on the image recording layer or has a protective layer having a coating mass of 0.3 g / m 2 or less. Version original edition. 請求項1〜6のいずれかに記載の平版印刷版原版を、酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気で露光することを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。   A lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6, wherein the lithographic printing plate precursor is exposed in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05 vol% or less. 支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有する画像記録層を有し、酸素濃度20体積%の雰囲気下における感度に対して、酸素濃度0.05体積%の雰囲気下において100倍以上の感度を有する平版印刷版原版を、250〜420nmの波長を有する光源を用い、酸素濃度0.05体積%以下の雰囲気下で画像様に露光した後、現像処理工程を経ることなく、印刷インキと湿し水を供給して印刷することを特徴とする平版印刷方法。   An image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound is provided on the support, and the oxygen concentration is 0.05 vol% with respect to the sensitivity in an atmosphere having an oxygen concentration of 20 vol%. A lithographic printing plate precursor having a sensitivity of 100 times or more in an atmosphere is exposed imagewise in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.05% by volume or less using a light source having a wavelength of 250 to 420 nm, and then a development processing step is performed. A lithographic printing method characterized by supplying printing ink and fountain solution without printing.
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