JP2006114864A - Two-sided tape for loc and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a two-sided tape for LOC which satisfies both the adhesive characteristics with a metallic lead frame and characteristics with a semiconductor chip insulating film made of a plastic material and enables low-temperature bonding process, and to provide a manufacturing method therefor. <P>SOLUTION: A two-sided tape for LOC consists of a polyimide base film having a glass transition temperature of 300°C or higher and a thickness of 5 to 150 μm, an adhesive layer formed by applying a composition for a polyimide-base adhesive containing an acid end group to one side of the polyimide base film, and an adhesive layer formed by applying a composition for a polyimide-base adhesive containing an amine end group to the other side of the polyimide base film. The adhesive power, between the polyimide base film and each of the adhesive layers, is 0.8 kgf/cm<SP>2</SP>or larger. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、LOC用両面テープおよびその製造方法に係り、より詳しくは、ポリイミド基材フィルムの両面に、相異なる接着成分を有する接着剤層を積層し、それぞれの付着面、すなわち金属材質のリードフレームおよびプラスチック材質の半導体チップ絶縁膜に対して同時に優れた接着特性を有するLOC用両面テープおよびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a double-sided tape for LOC and a method for manufacturing the same, and more specifically, an adhesive layer having different adhesive components is laminated on both sides of a polyimide base film, and each adhesion surface, that is, a metallic lead. The present invention relates to a double-sided tape for LOC having excellent adhesive properties simultaneously to a frame and a plastic semiconductor chip insulating film, and a method for manufacturing the same.

一般に、半導体パッケージにおいて、基材フィルムの両面に接着剤をコートして製造した複合フィルムは、半導体チップとリードフレームを接着させるLOC(lead on chip)、COL(chip on lead)、Window−tubなどに用いられる。   In general, in a semiconductor package, a composite film manufactured by coating an adhesive on both sides of a base film is a LOC (lead on chip), COL (chip on lead), window-tube, etc. for bonding a semiconductor chip and a lead frame. Used for.

特に、LOC半導体パッケージ工程において、半導体チップの高容量化および微細回路化に伴って接着工程の低温化が要求され、リードフレームおよび半導体チップとの接着温度を低めるほど、半導体パッケージ後の収率および信頼性の面で有利な結果を得ることができる。   In particular, in the LOC semiconductor package process, it is required to lower the bonding process in accordance with the increase in capacity and miniaturization of the semiconductor chip. The lower the bonding temperature between the lead frame and the semiconductor chip, the lower the yield after the semiconductor package. An advantageous result in terms of reliability can be obtained.

従来のLOCパッケージ用途のLOC用両面テープは、ポリイミド基材フィルムの両面に、主にポリイミドから作られる可塑性接着剤成分が同一の接着剤として製造されて使用されている。ところが、前記LOC用両面テープが貼り付けられる基材面としてのリードフレームと半導体チップは相異なる材質、すなわちそれぞれ金属材質とプラスチック材質からなっているので、一方の基材の接着特性を満足させると、他方の基材の接着特性が低下するという問題が発生する。   In a conventional LOC double-sided tape for LOC package use, a plastic adhesive component mainly made of polyimide is used as the same adhesive on both sides of a polyimide base film. However, since the lead frame and the semiconductor chip as the base material surface on which the double-sided tape for LOC is affixed are made of different materials, that is, a metal material and a plastic material, respectively, the adhesive properties of one base material are satisfied. The problem arises that the adhesive properties of the other substrate deteriorate.

したがって、金属材質のリードフレームとの接着特性およびプラスチック材質の半導体チップ絶縁膜との接着特性を同時に満足させるために接着工程温度をより低温に設定するのには限界があり、これにより高温接着工程による半導体パッケージの収率低下やパッケージの信頼性低下といった問題が生ずる。   Therefore, there is a limit to setting the bonding process temperature to a lower temperature in order to satisfy the bonding characteristics with the metal lead frame and the bonding characteristics with the plastic semiconductor chip insulating film at the same time. This causes problems such as a decrease in the yield of the semiconductor package and a decrease in the reliability of the package.

そこで、本発明者らは、ポリイミド基材フィルムの両面に、相異なる接着成分を有する接着剤層を積層し、金属材質のリードフレームおよびプラスチック材質の半導体チップ絶縁膜に対して同時に優れた接着特性を有するLOC用両面テープを製造し、その物性を確認することにより、本発明の完成に至った。   Therefore, the present inventors have laminated adhesive layers having different adhesive components on both sides of the polyimide base film, and at the same time have excellent adhesive properties for metal lead frames and plastic semiconductor chip insulating films. The present invention has been completed by manufacturing a double-sided tape for LOC having the above and confirming its physical properties.

本発明の目的は、ポリイミド基材フィルムと、ポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層と、前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層とからなる、LOC用両面テープを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a polyimide base film, an adhesive layer formed by applying an acid end group-containing polyimide adhesive composition on one surface of the polyimide base film, and the polyimide base film. An object of the present invention is to provide a double-sided tape for LOC comprising an adhesive layer formed by applying an amine terminal group-containing polyimide adhesive composition on the surface.

本発明の他の目的は、金属材質のリードフレームとの接着特性およびプラスチック材質の半導体チップ絶縁膜との接着特性を同時に満足させるとともに、低温接着工程を行うことが可能なLOC用両面テープを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a LOC double-sided tape capable of simultaneously satisfying the adhesive property with a metal lead frame and the adhesive property with a plastic semiconductor chip insulating film and capable of performing a low-temperature adhesive process. There is to do.

本発明の別の目的は、前記LOC用両面テープの製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method for producing the double-sided tape for LOC.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、ガラス転移温度300℃以上、厚さ5〜150μmのポリイミド基材フィルムと、前記ポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層と、前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層とから構成され、前記ポリイミド基材フィルムと前記それぞれの接着剤層との接着力が0.8kgf/cm2以上であることを特徴とする、LOC用両面テープを提供する。 In order to solve the above-mentioned problems, according to an aspect of the present invention, a polyimide base film having a glass transition temperature of 300 ° C. or higher and a thickness of 5 to 150 μm, and an acid end group-containing polyimide on one surface of the polyimide base film An adhesive layer formed by applying a composition for an adhesive based on an adhesive, an adhesive layer formed by applying an amine terminal group-containing composition for an polyimide based adhesive on the other surface of the polyimide base film, and The LOC double-sided tape is characterized in that the adhesive strength between the polyimide base film and the respective adhesive layers is 0.8 kgf / cm 2 or more.

また、前記ポリイミド系接着剤用組成物は、1)ジアンヒドリド、2)ジアミン、3)ポリアミノ化合物、及び4)シロキサン構造を含むジアミン、トリアミンまたはテトラアミンから選択されたいずれか一つからなる。   The polyimide adhesive composition is composed of any one selected from 1) dianhydride, 2) diamine, 3) polyamino compound, and 4) diamine containing siloxane structure, triamine, or tetraamine.

また、前記ポリイミド系接着剤用組成物は、エポキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂およびゴム樹脂からなる群より選択された1種以上をさらに含むもので、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂のハイブリッド型であることを特徴とする。   The polyimide adhesive composition further includes at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, a bismaleimide resin and a rubber resin, and is a hybrid type of a thermoplastic resin and a thermosetting resin. It is characterized by that.

また、前記酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物は、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.501:0.499〜0.524:0.476であり、ジアンヒドリドが過量添加されて重合されたものである。この際、酸価は0.03〜10である。   The acid end group-containing polyimide adhesive composition has a dianhydride and diamine molar fraction of 0.501: 0.499 to 0.524: 0.476, and an excessive amount of dianhydride is added. Is polymerized. At this time, the acid value is 0.03 to 10.

また、前記アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物は、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.499:0.501〜0.476:0.524であり、ジアミンが過量添加されて重合されたものである。この際、アミン価は0.03〜10である。   In addition, the amine terminal group-containing polyimide adhesive composition has a dianhydride and diamine molar fraction of 0.499: 0.501 to 0.476: 0.524, and an excessive amount of diamine is added. It has been polymerized. At this time, the amine value is 0.03 to 10.

酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物が塗布された接着剤層は金属材質のリードフレームを付着させ、アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物が塗布された接着剤層はプラスチック材質の半導体チップ絶縁膜に付着させることを特徴とする。   The adhesive layer coated with the acid-end group-containing polyimide adhesive composition has a metal lead frame attached thereto, and the amine end-group-containing polyimide adhesive composition-coated adhesive layer is a plastic. It is made to adhere to the semiconductor chip insulating film of a material.

また、本発明の他の観点によれば、ガラス転移温度300℃以上、厚さ5〜150μmのポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成する段階と、前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成する段階と、前記ポリイミド基材フィルムに前記それぞれの接着剤層を150〜350℃の高温下で0.001〜1秒の間に付着させる段階とを含む、LOC用両面テープの製造方法を提供する。   According to another aspect of the present invention, an adhesive is obtained by applying a polyimide adhesive composition containing an acid end group to one surface of a polyimide base film having a glass transition temperature of 300 ° C. or higher and a thickness of 5 to 150 μm. Forming a layer, applying an amine terminal group-containing polyimide adhesive composition on the other surface of the polyimide base film to form an adhesive layer, and applying the polyimide base film to the polyimide base film Applying the adhesive layer at a high temperature of 150 to 350 ° C. for 0.001 to 1 second.

本発明のLOC用両面テープは、ポリイミド基材フィルム上に、相異なる接着剤成分を有する接着剤層を積層し、金属材質のリードフレームとの接着特性およびプラスチック材質の半導体チップ絶縁膜との接着特性を同時に満足させることができる。   The double-sided tape for LOC of the present invention is obtained by laminating an adhesive layer having different adhesive components on a polyimide base film, adhesion characteristics with a metal lead frame, and adhesion with a plastic semiconductor chip insulating film. The characteristics can be satisfied at the same time.

また、本発明のLOC用両面テープは、高温接着工程の温度を相対的に低温工程の温度に低めることにより、半導体パッケージの信頼性および収率の増大を図ることができる。   The double-sided tape for LOC of the present invention can increase the reliability and yield of the semiconductor package by lowering the temperature of the high temperature bonding process to the temperature of the relatively low temperature process.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明のLOC用両面テープは、ガラス転移温度300℃以上、厚さ5〜150μmのポリイミド基材フィルムと、前記ポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層と、前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層とから構成される。   The double-sided tape for LOC of the present invention is a polyimide base film having a glass transition temperature of 300 ° C. or higher and a thickness of 5 to 150 μm, and a polyimide adhesive composition containing acid end groups on one surface of the polyimide base film. And an adhesive layer formed by applying an amine terminal group-containing polyimide adhesive composition to the other surface of the polyimide base film.

前記ポリイミド系接着剤用組成物は、1)ジアンヒドリド、2)ジアミン、3)ポリアミノ化合物、及び4)シロキサン構造を含むジアミン、トリアミンまたはテトラアミンから選択されたいずれか一つからなる。   The polyimide adhesive composition is composed of any one selected from 1) dianhydride, 2) diamine, 3) polyamino compound, and 4) diamine having a siloxane structure, triamine, or tetraamine.

本発明のLOC用両面テープは、ポリイミド基材フィルムの両面に、相異なる接着成分を有する接着剤層が積層されたことが特徴であり、各接着剤層に付着する付着面との接着特性に優れる。   The double-sided tape for LOC of the present invention is characterized in that an adhesive layer having different adhesive components is laminated on both sides of a polyimide base film, and has an adhesive property with an adhesive surface attached to each adhesive layer. Excellent.

本発明のLOC用両面テープは、ガラス転移温度300℃以上、厚さ5〜150μmのポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成し、前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成し、前記ポリイミド基材フィルムに前記それぞれの接着剤層を150〜350℃の高温下で0.001〜1秒の間に付着させて製造する。こうして製造されたLOC用両面テープは、前記ポリイミド基材フィルムとそれぞれの接着剤層との接着力が0.8kgf/cm2以上である。 The double-sided tape for LOC of the present invention forms an adhesive layer by applying an acid terminal group-containing polyimide adhesive composition on one surface of a polyimide base film having a glass transition temperature of 300 ° C. or higher and a thickness of 5 to 150 μm. Then, an amine end group-containing polyimide adhesive composition is applied to the other surface of the polyimide base film to form an adhesive layer, and each of the adhesive layers is applied to the polyimide base film at 150 to 350. It is made to adhere for 0.001-1 second under high temperature of ° C. The double-sided tape for LOC manufactured in this way has an adhesive force between the polyimide base film and each adhesive layer of 0.8 kgf / cm 2 or more.

前記接着剤層の主成分は、150℃〜350℃のガラス転移温度を有する耐熱性の熱可塑性樹脂であり、さらに好ましくはポリイミドである。この際、前記ポリイミドは、単純なポリイミドだけでなく、ポリアマイドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミドなどイミド結合を持つ樹脂を含む。   The main component of the adhesive layer is a heat-resistant thermoplastic resin having a glass transition temperature of 150 ° C. to 350 ° C., and more preferably polyimide. In this case, the polyimide includes not only a simple polyimide but also a resin having an imide bond such as a polyamideimide, a polyesterimide, or a polyetherimide.

本発明のポリイミド系接着剤用組成物は、1)ジアンヒドリド、2)ジアミン、3)ポリアミノ化合物、及び4)シロキサン構造を含むジアミン、トリアミンまたはテトラアミンから選択されたいずれか一つからなる。   The composition for polyimide adhesives of the present invention comprises any one selected from 1) dianhydride, 2) diamine, 3) polyamino compound, and 4) diamine containing siloxane structure, triamine or tetraamine.

通常のポリイミド系接着剤は、ジアンヒドリドとジアンとの反応による重合物から製造されるもので、ジアンヒドリドまたはジアミンの一方の反応物が過量添加されることにより、重合体の末端基が酸またはアミンの形で残る。   A normal polyimide-based adhesive is produced from a polymer obtained by a reaction between dianhydride and dian. When one of the reactants of dianhydride or diamine is added in an excessive amount, an end group of the polymer is acid or Remains in the form of an amine.

したがって、本発明のLOC用両面テープは、ポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成し、前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成して製造されることにより、相異なる接着成分の接着層を持つため、各付着面との接着特性に優れる。   Therefore, the LOC double-sided tape of the present invention forms an adhesive layer by applying an acid terminal group-containing polyimide adhesive composition on one surface of a polyimide base film, and on the other surface of the polyimide base film. By producing an adhesive layer by applying an amine terminal group-containing polyimide adhesive composition, it has an adhesive layer with different adhesive components, and thus has excellent adhesive properties with each adhesion surface.

すなわち、酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物が塗布された接着剤層は、プラスチック材質の基質との接着特性に劣るが、銅(copper)、銅合金(copper alloys)、ニッケル鉄合金(iron-nickel alloys、いわゆる「Alloy 42」と呼ばれる)、不変鋼(invar、鋼鉄ニッケル合金)などを含む金属材質のリードフレームとの接着特性には優れる。   That is, the adhesive layer to which the acid-end group-containing polyimide adhesive composition is applied is inferior in adhesive properties with a plastic substrate, but copper, copper alloys, nickel iron alloys (Iron-nickel alloys, so-called “Alloy 42”), excellent adhesion properties to lead frames made of metallic materials including invariant steel (invar, steel nickel alloy).

また、アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物が塗布された接着剤層は、金属との接着工程温度が相対的に高くなり、末端基が酸の形である場合に比べて、金属との接着特性には劣るが、プラスチック材質の半導体チップ絶縁膜との接着特性には優れる。   In addition, the adhesive layer coated with the amine end group-containing polyimide adhesive composition has a relatively high adhesion process temperature with the metal, and the end group is in the acid form, compared to the metal. It is inferior in the adhesive property to the semiconductor chip insulating film made of plastic material.

前記酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物は、ポリイミド重合の際にジアンヒドリドが過量添加されて重合されたもので、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.501:0.499〜0.524:0.476であり、より好ましくは0.502:0.498〜0.520:0.480であり、最も好ましくは0.503:0.497〜0.517:0.483の範囲である。この際、ジアンヒドリドとジアミのモル分率が0.501:0.499の範囲より小さければ、ジアンヒドリドの過量添加の効果が微々であって、金属との接着力の増大に大きい効果を示すことができず、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.524:0.476の範囲より大きければ、モル比があまり大きい差を示すので、ポリイミドの分子量、機械的物性および耐吸湿性が低下するという問題点が発生する。   The acid-end group-containing polyimide adhesive composition is polymerized by adding an excessive amount of dianhydride during polyimide polymerization, and the molar fraction of dianhydride and diamine is 0.501: 0.499- 0.524: 0.476, more preferably 0.502: 0.498 to 0.520: 0.480, and most preferably 0.503: 0.497 to 0.517: 0.483. It is a range. At this time, if the molar fraction of dianhydride and diamy is smaller than the range of 0.501: 0.499, the effect of excessive addition of dianhydride is insignificant and shows a great effect in increasing the adhesive strength with metal. If the molar fraction of dianhydride and diamine is larger than the range of 0.524: 0.476, the molar ratio shows a very large difference, so that the molecular weight, mechanical properties and moisture absorption resistance of the polyimide are lowered. Problem occurs.

前記酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物の酸価(Acid Value)は、0.03〜10の範囲が好ましく、より好ましくは0.05〜7.0の範囲である。この際、前記組成物の酸価が0.03より小さければ、末端基のカルボキシル基が少なくて金属との接着特性が良くなく、酸価が10より大きければ、材料の耐吸湿特性が低下する。   The acid value of the acid terminal group-containing polyimide adhesive composition is preferably in the range of 0.03 to 10, more preferably in the range of 0.05 to 7.0. At this time, if the acid value of the composition is smaller than 0.03, the carboxyl group of the terminal group is small and the adhesion property with the metal is not good, and if the acid value is larger than 10, the moisture absorption resistance of the material is lowered. .

前記において、酸価とは、樹脂1g中に含有されたカルボキシル基の中和に必要なアルカリのミリグラム数を意味するもので、ポリイミド試料2gにDMSOを50mL加えて溶解させた後、0.1%のチモールブルーおよびフェノールレッドからなる混合指示薬を2〜3滴り添加し、その後0.1N KOHのブトキシエタノール混合溶液で滴定して当量の水酸化カリウムのmgで表示した。   In the above, the acid value means the number of milligrams of alkali necessary for neutralizing the carboxyl group contained in 1 g of resin. After dissolving 50 mL of DMSO in 2 g of polyimide sample, 0.1 Two to three drops of mixed indicator consisting of% thymol blue and phenol red were added, followed by titration with a 0.1 N KOH butoxyethanol mixed solution, and expressed in mg of equivalent potassium hydroxide.

これに対し、前記アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物は、ポリイミド重合の際にジアミンが過量添加されて重合されたもので、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.499:0.501〜0.476:0.524であり、より好ましくは0.498:0.502〜0.480:0.520の範囲であり、最も好ましくは0.497:0.503〜0.483:0.517の範囲である。   On the other hand, the amine terminal group-containing polyimide adhesive composition was polymerized by adding an excessive amount of diamine during polyimide polymerization, and the molar fraction of dianhydride and diamine was 0.499: 0. .501 to 0.476: 0.524, more preferably 0.498: 0.502 to 0.480: 0.520, and most preferably 0.497: 0.503 to 0.483. : It is the range of 0.517.

この際、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.499:0.501の範囲より小さければ、ジアミンの過量程度の効果が微々であって、プラスチックとの接着力の増大に大きい効果を示すことができず、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.476:0.524の範囲より大きければ、モル比があまり大きい差を示すので、ポリイミドの分子量、機械的物性および耐吸湿性が低下するという問題点が発生する。   At this time, if the molar fraction of dianhydride and diamine is smaller than the range of 0.499: 0.501, the effect of the excessive amount of diamine is insignificant and shows a great effect in increasing the adhesive strength with plastic. When the molar fraction of dianhydride and diamine is larger than the range of 0.476: 0.524, the molar ratio is so large that the molecular weight, mechanical properties and moisture absorption resistance of the polyimide are lowered. The problem occurs.

前記アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物のアミン価は、0.03〜10の範囲が好ましく、より好ましくは0.05〜8.0の範囲である。アミン価が0.03より小さければ、末端基のアミン基が少なくてチップ絶縁高分子膜との接着特性が低下し、アミン価が10より大きければ、接着剤の絶縁特性が低下するという問題が発生する。   The amine value of the amine terminal group-containing polyimide adhesive composition is preferably in the range of 0.03 to 10, more preferably in the range of 0.05 to 8.0. If the amine value is smaller than 0.03, there are few amine groups in the terminal group and the adhesive property with the chip insulating polymer film is lowered. If the amine value is larger than 10, the insulating property of the adhesive is lowered. appear.

前記アミン価は、ポリイミド試料2gにDMSOを50mL添加して溶解させた後、ブロムクレゾールグリーンの0.1%溶液を用い、0.1N塩酸を滴定液として用いて当量の水酸化カリウムのmgで表示した。   The amine value was determined by adding 50 mL of DMSO to 2 g of a polyimide sample, dissolving it, using a 0.1% solution of bromcresol green, and 0.1 mg hydrochloric acid as a titrant, in mg of equivalent potassium hydroxide. displayed.

この他に、本発明のポリイミド系接着剤用組成物は、3)ポリアミノ化合物および4)シロキサン構造を含有するジアミン、トリアミンまたはテトラアミンから選択されたいずれか一つを含んで重合する。   In addition, the polyimide adhesive composition of the present invention is polymerized by containing any one selected from 3) a polyamino compound and 4) a diamine, a triamine or a tetraamine containing a siloxane structure.

本発明で使用された3)ポリアミノ化合物は、下記化学式1で表わされるトリアミノ化合物または下記化学式2で表わされるテトラアミノ化合物を使用することが好ましく、本発明のポリイミド合成に使用されたポリアミノ化合物の場合にはポリイミドの3次元ネットワーク構造を形成し、線形構造のポリイミドの構造に比べて主鎖間の分子単位の自由体積(Free Volume)を増大させて高温工程時の流動性を増大させる役割をすると同時に、耐熱特性を改善させて高温工程性および信頼性を向上させる役割をする。   As the 3) polyamino compound used in the present invention, a triamino compound represented by the following chemical formula 1 or a tetraamino compound represented by the following chemical formula 2 is preferably used. In the case of the polyamino compound used in the polyimide synthesis of the present invention, Has a role to increase the fluidity during high temperature process by forming a three-dimensional network structure of polyimide and increasing the free volume of molecular units between main chains compared to the structure of polyimide with a linear structure. At the same time, it plays a role of improving high temperature processability and reliability by improving heat resistance characteristics.

本発明の重合に使用された芳香族ジアンヒドリドに対し、前記ポリアミノ化合物は0.01〜5モル%使用することが好ましい。前記ポリアミノ化合物を0.01モル%未満使用すると、3次元ネットワーク特性を期待し難く、前記ポリアミノ化合物を5モル%超過使用すると、重合の際にゲル化による問題が発生し易く、却ってゲル化によって接着剤の高温流れ特性と接着力が低下する。   The polyamino compound is preferably used in an amount of 0.01 to 5 mol% based on the aromatic dianhydride used in the polymerization of the present invention. If the polyamino compound is used in an amount of less than 0.01 mol%, it is difficult to expect three-dimensional network characteristics. If the polyamino compound is used in an amount of more than 5 mol%, a problem due to gelation tends to occur during polymerization. The high temperature flow characteristics and adhesive strength of the adhesive are reduced.

Figure 2006114864
Figure 2006114864

Figure 2006114864
式中、A1は3価の作用基、A2は4価の作用基、n1は0または1〜3の整数、n2は0または1〜4の整数、Xは酸、qは酸の塩基数をそれぞれ示す。
Figure 2006114864
In the formula, A1 is a trivalent functional group, A2 is a tetravalent functional group, n1 is an integer of 0 or 1-3, n2 is an integer of 0 or 1-4, X is an acid, and q is the number of bases of the acid. Each is shown.

A1の一例としては下記化学式3の化合物から選択して使用することが好ましい。   As an example of A1, it is preferable to select and use from the compound of the following chemical formula 3.

Figure 2006114864
A2の一例としては下記化学式4の化合物から選択して使用することが好ましい。
Figure 2006114864
As an example of A2, it is preferable to select and use from the compound of the following chemical formula 4.

Figure 2006114864
式中、Rは−O−、−CH2−、−CO−または−SO2−を示し、n3は0または1を示す。
本発明で使用される多官能ポリアミノの具体的な化合物の一例としては、3,3',4,4'−テトラアミノジフェニルエーテル、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルメタン、3,3’,4,4’−テトラアミノベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルスルホン、3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニル、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン、3,3’,4−トリアミノジフェニル、3,3’,4−トリアミノジフェニルメタン、3,3’,4−トリアミノベンゾフェノン、3,3’,4−トリアミノジフェニルスルホン、3,3’,4−トリアミノジビフェニルおよび1,2,4−トリアミノベンゼンからなる化合物、または前記化合物のモノ−、ジ−、トリ−またはテトラ−酸塩である3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテルテトラヒドロクロライド、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルメタンテトラヒドロクロライド、3,3’,4,4’−テトラアミノベンゾフェノンテトラヒドロクロライド、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルスルホンテトラヒドロクロライド、3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニルテトラヒドロクロライド、1,2,4,5−テトラアミノベンゼンテトラヒドロクロライド、3,3’,4−トリアミノジフェニルトリヒドロクロライド、3,3’,4−トリアミノジフェニルメタントリヒドロクロライド、3,3’,4−トリアミノベンゾフェノントリヒドロクロライド、3,3’,4−トリアミノジフェニルスルホントリヒドロクロライド、3,3’,4−トリアミノジビフェニルトリヒドロクロライドおよび1,2,4−トリアミノベンゼンジヒドロクロライドからなる群より選択されたいずれか1種または2種以上の混合物を使用することが好ましい。さらに好ましくは、前記多官能ポリアミノ化合物の中でも、塩添加物の形になっていない化合物を使用する。この場合、反応の際にゲル化を形成する速度が短縮されるので、3次元ネットワーク構造を形成させるとき、ゲル化の速度調節に応じて塩添加物タイプの化合物を併用して割合を調節することができる。この際、3次元ネットワーク構造を形成すると、ポリイミド主鎖間の結合を成して耐熱性が増大する。
Figure 2006114864
In the formula, R represents —O—, —CH 2 —, —CO— or —SO 2 —, and n3 represents 0 or 1.
Examples of specific compounds of polyfunctional polyamino used in the present invention include 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl ether, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenylmethane, 3,3 ', 4,4'-tetraaminobenzophenone, 3,3', 4,4'-tetraaminodiphenyl sulfone, 3,3 ', 4,4'-tetraaminobiphenyl, 1,2,4,5-tetraamino Benzene, 3,3 ′, 4-triaminodiphenyl, 3,3 ′, 4-triaminodiphenylmethane, 3,3 ′, 4-triaminobenzophenone, 3,3 ′, 4-triaminodiphenylsulfone, 3,3 3,3 ', 4,4' which is a compound consisting of ', 4-triaminodibiphenyl and 1,2,4-triaminobenzene or a mono-, di-, tri- or tetra-acid salt of said compound -Tetra Minodiphenyl ether tetrahydrochloride, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenylmethane tetrahydrochloride, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobenzophenone tetrahydrochloride, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl Sulfonetetrahydrochloride, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyltetrahydrochloride, 1,2,4,5-tetraaminobenzenetetrahydrochloride, 3,3 ′, 4-triaminodiphenyltrihydrochloride, 3, 3 ', 4-triaminodiphenylmethane trihydrochloride, 3,3', 4-triaminobenzophenone trihydrochloride, 3,3 ', 4-triaminodiphenylsulfone trihydrochloride, 3,3', 4-triamino Dibiphenyl trihydrochlora It is preferred to use any one or a mixture of two or more selected from the De and 1,2,4-triaminobenzene dihydrochloride group consisting ride. More preferably, among the polyfunctional polyamino compounds, compounds not in the form of salt additives are used. In this case, the rate at which gelation is formed during the reaction is shortened. Therefore, when a three-dimensional network structure is formed, the ratio is adjusted by using a salt additive type compound in combination according to the gelation rate adjustment. be able to. At this time, if a three-dimensional network structure is formed, bonds between polyimide main chains are formed and heat resistance is increased.

本発明で使用された4)シロキサン構造を含有するジアミン、トリアミンまたはテトラアミンから選択されたいずれか1種を使用することができ、好ましくは下記化学式5のシロキサン構造を含むジアミンを使用する。   4) Any one selected from diamines containing a siloxane structure, triamines or tetraamines used in the present invention can be used, and preferably a diamine containing a siloxane structure of the following chemical formula 5 is used.

Figure 2006114864
式中、R4は炭素数1〜20のアルキル基を含有するアミンを示し、n’は1〜20の整数を示す。
Figure 2006114864
In the formula, R4 represents an amine containing an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n ′ represents an integer of 1 to 20.

本発明のポリイミド系接着剤用組成物のうち、シロキサン構造を含むジアミンは、ポリイミドの剛直な構造に柔軟性を与え、ゲル化による3次元ワットワーク分子構造で高分子の柔軟性が足りなくなるという欠点を補完し、3次元構造ポリイミドの機械的物性の低下を防ぐ役割をする。また、ポリイミドに溶解可溶特性を増大させてポリアミド酸重合の際に有機溶媒に対する反応物の含量を増大させることができるうえ、接着剤の用途で使用するときにいろいろの基材との接着力を増大させる役割をする。特に、電子材料の用途として適用するとき、シリコンチップ、チップ絶縁膜、リードフレームなどの基質との接着特性が改善されるという効果がある。   Among the polyimide adhesive compositions of the present invention, a diamine containing a siloxane structure gives flexibility to the rigid structure of the polyimide, and the flexibility of the polymer is insufficient due to the three-dimensional whatwork molecular structure by gelation. It complements the drawbacks and prevents the deterioration of the mechanical properties of the three-dimensional structure polyimide. In addition, the solubility in polyimide can be increased to increase the content of reactants in the organic solvent during polyamic acid polymerization, and the adhesive strength to various substrates when used in adhesive applications. It plays a role to increase. In particular, when applied as a use of electronic materials, there is an effect that the adhesive properties with a substrate such as a silicon chip, a chip insulating film, and a lead frame are improved.

本発明で使用されるシロキサン構造を含むジアミンの具体的な化合物の一例としては、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(GAPD、n=1)、ビス(γ−アミノプロピル)ポリジメチルジシロキサン(PSX−4、n=4)、ビス(γ−アミノプロピル)ポリジメチルジシロキサン(PSX−8、n=8)などがあり、シロキサン構造を含むジアミンは1種または2種以上の混合物を使用することができる。   As an example of a specific compound of a diamine containing a siloxane structure used in the present invention, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane (GAPD, n = 1), bis (γ-aminopropyl) polydimethyldi There are siloxane (PSX-4, n = 4), bis (γ-aminopropyl) polydimethyldisiloxane (PSX-8, n = 8), etc., and the diamine containing a siloxane structure is one kind or a mixture of two or more kinds. Can be used.

また、本発明のポリイミド系接着剤用組成物は、ポリイミド重合の際にエポキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂およびゴム樹脂からなる群より選択された1種以上をさらに含むもので、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂のハイブリッド型であることを特徴とする。   The polyimide adhesive composition of the present invention further includes at least one selected from the group consisting of epoxy resin, bismaleimide resin and rubber resin during polyimide polymerization. It is characterized by being a hybrid type of functional resin.

エポキシ樹脂として使用できる一例としては、ビスフェノールA、F型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型などがあり、ポリイミド100重量部に対し、エポキシ樹脂の含量は0.5〜50重量部の範囲が好ましく、さらに好ましくは1〜10重量部である。   As an example that can be used as an epoxy resin, there are bisphenol A, F type, phenol novolac type, cresol novolac type, etc., and the content of epoxy resin is preferably in the range of 0.5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyimide. More preferably, it is 1-10 weight part.

ビスマレイミド樹脂の好適な一例としては、4,4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ジフェニルエーテル、4,4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ジフェニルスルホン、2,2’−ビス(p−マレイミドフェノキシフェニル)プロパン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジエチルフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジプロピルフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジイソプロピルフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジブチルフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2−メチル−5−エチルフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジメトキシフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジエトキシフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジプロポキシフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジイソプロポキシフェニル)メタン、ビス(4−マレイミド−2,5−ジブトキシフェニル)メタンおよびビス(4−マレイミド−2−メトキシ−5−エトキシフェニル)メタンからなる群より選択されたいずれか1種または2種以上の混合物を使用することができる。この際、ポリイミド100重量部に対し、ビスマレイミド樹脂の含量は3〜3000重量部の範囲が好ましく、さらに好ましくは1〜300重量部である。   As preferable examples of the bismaleimide resin, 4,4′-bis (3-maleimidophenoxy) diphenyl ether, 4,4′-bis (3-maleimidophenoxy) benzophenone, 4,4′-bis (3-maleimidophenoxy) Diphenyl sulfide, 4,4′-bis (3-maleimidophenoxy) diphenylsulfone, 2,2′-bis (p-maleimidophenoxyphenyl) propane, bis (4-maleimido-2,5-dimethylphenyl) methane, bis ( 4-maleimido-2,5-diethylphenyl) methane, bis (4-maleimido-2,5-dipropylphenyl) methane, bis (4-maleimido-2,5-diisopropylphenyl) methane, bis (4-maleimido- 2,5-dibutylphenyl) methane, bis (4-maleimido-2-methyl) 5-ethylphenyl) methane, bis (4-maleimido-2,5-dimethoxyphenyl) methane, bis (4-maleimido-2,5-diethoxyphenyl) methane, bis (4-maleimido-2,5-dipropoxy) Phenyl) methane, bis (4-maleimido-2,5-diisopropoxyphenyl) methane, bis (4-maleimido-2,5-dibutoxyphenyl) methane and bis (4-maleimido-2-methoxy-5-ethoxy) Any one or a mixture of two or more selected from the group consisting of (phenyl) methane can be used. In this case, the content of the bismaleimide resin is preferably in the range of 3 to 3000 parts by weight, and more preferably 1 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyimide.

また、ゴム樹脂としては、アクリロニトリルブタジエンゴムを使用することができ、ポリイミド100重量部に対するゴム樹脂の含量は、0.5〜30重量部の範囲が好ましく、さらに好ましくは1〜5重量部である。   As the rubber resin, acrylonitrile butadiene rubber can be used, and the content of the rubber resin with respect to 100 parts by weight of polyimide is preferably in the range of 0.5 to 30 parts by weight, and more preferably 1 to 5 parts by weight. .

この他に、ポリイミド重合の際に使用できる添加剤を追加して添加することができる。前記添加剤は、重合に要求される好適な温度条件、水分率、反応物および反応溶剤の純度および反応時間によって選択でき、その一例としてエポキシ樹脂硬化剤、硬化促進剤、フィラー、シランカップリング剤および界面活性剤を使用することができる。   In addition to this, an additive that can be used in polyimide polymerization can be additionally added. The additive can be selected according to suitable temperature conditions, moisture content, purity of reactants and reaction solvent and reaction time required for polymerization. Examples thereof include an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, a filler, and a silane coupling agent. And surfactants can be used.

エポキシ樹脂硬化剤の一例としては、フェノール硬化剤、フェノキシ樹脂またはアミン硬化剤などを使用することができ、ポリイミド100重量部に対するエポキシ樹脂硬化剤の含量は0.5〜30重量部が好ましく、さらに好ましくは1〜7重量部である。   As an example of the epoxy resin curing agent, a phenol curing agent, a phenoxy resin, or an amine curing agent can be used, and the content of the epoxy resin curing agent with respect to 100 parts by weight of polyimide is preferably 0.5 to 30 parts by weight. Preferably it is 1-7 weight part.

また、他の添加剤として、硬化時間を短縮させて用途による硬化システムを調節するために硬化促進剤を使用することができ、好適な一例としてはイミダゾール、3次アミンなどを使用することができる。好適な使用量は、接着剤の経時安定性が低下するという問題が発生しない範囲で選択できる。   Further, as other additives, a curing accelerator can be used to shorten the curing time and adjust the curing system according to the application, and as a suitable example, imidazole, tertiary amine and the like can be used. . A suitable use amount can be selected within a range that does not cause a problem that the temporal stability of the adhesive is lowered.

フィラーは、粒径3μm以下のものが好ましく、具体的にはセラミックパウダー、ガラスパウダー、シルバーパウダー、銅パウダー、樹脂パウダーおよびガムパウダーからなる群より選択して使用し、全体固形分の1〜50重量部を使用する。   The filler preferably has a particle size of 3 μm or less. Specifically, the filler is selected from the group consisting of ceramic powder, glass powder, silver powder, copper powder, resin powder and gum powder. Use parts by weight.

また、シランカップリング剤は、接着剤と他の界面間の接着特性の増大のために混合することができ、その一例としては、ビニールシラン、ビニールトリエトキシシラン、ビニールトリメトキシシラン、Y−メタクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、エポキシシラン、Y−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、Y−グリシドオキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、アミノシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、メルカプトシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどがあり、その他にチタネート、アルミニムキレート、ジルコアルミネートなどを使用することができる。   Silane coupling agents can also be mixed to increase the adhesive properties between the adhesive and other interfaces, examples of which include vinyl silane, vinyl triethoxy silane, vinyl trimethoxy silane, Y-methacrylate. Rooxypropyltrimethoxysilane, epoxysilane, Y-glycidoxypropyltrimethoxysilane, Y-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, aminosilane, γ- There are aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, mercaptosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc., as well as titanate, aluminum chelate, zircoaluminum. Nate etc. can be used.

この他に、ポリイミド樹脂と他の樹脂間の相溶性を増大させるために通常の界面活性剤を追加することができる。   In addition, a normal surfactant can be added to increase the compatibility between the polyimide resin and the other resin.

本発明のポリイミド系接着剤組成物を製造するために、特にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含んでいるハイブリッド型の場合、硬化温度以下で乾燥可能な低沸点溶媒が好ましい。この際、低沸点溶媒としてはテトラヒドロフラン(THF)、メチルエチルケトン(MEK)およびトルエン(Toluene)が好ましい。もし溶媒の沸点が硬化温度以上の場合、溶媒を除去するために乾燥温度を高めるにつれて接着層が硬化し、経時安定性を始めとした諸般物性が変わるという問題が生ずる。   In order to produce the polyimide-based adhesive composition of the present invention, a low-boiling solvent that can be dried at a temperature lower than the curing temperature is particularly preferred in the case of a hybrid type containing a thermosetting resin such as an epoxy resin. At this time, tetrahydrofuran (THF), methyl ethyl ketone (MEK) and toluene (Toluene) are preferable as the low boiling point solvent. If the boiling point of the solvent is equal to or higher than the curing temperature, the adhesive layer cures as the drying temperature is increased in order to remove the solvent, causing a problem that various physical properties such as stability with time change.

本発明のポリイミド系接着剤組成物は、基材フィルム上へのコーティング工程後、耐熱性接着剤の前駆体であるポリアミド酸になり、熱処理によってポリイミドに転換される。   The polyimide-based adhesive composition of the present invention becomes a polyamic acid that is a precursor of a heat-resistant adhesive after the coating process on the base film, and is converted into polyimide by heat treatment.

この際、接着剤としてポリアミド酸前駆体溶液が適用される場合の熱処理温度は、熱的イミド化のためにポリイミドのガラス転移温度より低くてはならず、接着剤としてポリイミド溶液が適用される場合の熱処理温度は単に溶剤を除去することが可能な程度の温度であればよい。   In this case, the heat treatment temperature when the polyamic acid precursor solution is applied as an adhesive must be lower than the glass transition temperature of the polyimide for thermal imidization, and the polyimide solution is applied as an adhesive. The heat treatment temperature may be a temperature at which the solvent can be simply removed.

また、基材フィルム上に接着剤層が形成された後、基材フィルムと接着剤層間の界面密着性を増大させるために250℃以上で1〜30分間熱処理することが好ましい。この際、接着剤層の厚さは5〜50μmが好ましく、10〜30μmがさらに好ましい。   Moreover, after an adhesive bond layer is formed on a base film, it is preferable to heat-process at 250 degreeC or more for 1 to 30 minutes in order to increase the interface adhesiveness between a base film and an adhesive bond layer. At this time, the thickness of the adhesive layer is preferably 5 to 50 μm, and more preferably 10 to 30 μm.

本発明で使用される基材フィルムとしては、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリエーテルスルホンなどの耐熱性エンジニアリングプラスチックフィルムであれば特に制限されず使用できるが、さらに好ましくはポリイミドフィルムを使用する。   The base film used in the present invention is not particularly limited as long as it is a heat-resistant engineering plastic film such as polyimide, polyamide, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, polyethersulfone, and more preferably a polyimide film. Is used.

ポリイミドフィルムとしては、Regulus(Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.)、Kapton(Du Pont Co.)、Upilex(Ube Industries, Ltd.)、Apical AH、NPI、HP(Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.)などを使用することができ、好ましい厚さは5〜150μmであり、より好ましくは20〜125μmである。   Examples of polyimide films include Regulus (Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.), Kapton (Du Pont Co.), Upilex (Ube Industries, Ltd.), Apical AH, NPI, HP (Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.), etc. A preferred thickness is 5 to 150 μm, and more preferably 20 to 125 μm.

基材フィルムのガラス転移温度は、本発明で使用される接着剤層のガラス転移温度より高いことが好ましく、さらに好ましくは150℃以上である。また、基材フィルムの水分率は3%以下が好ましく、さらに好ましくは2%以下である。   It is preferable that the glass transition temperature of a base film is higher than the glass transition temperature of the adhesive layer used by this invention, More preferably, it is 150 degreeC or more. Further, the moisture content of the base film is preferably 3% or less, and more preferably 2% or less.

したがって、本発明に適した好適な基材フィルムは、ガラス転移温度が高く、水分率が低く、熱膨張係数が低いことが要求され、特にガラス転移温度は300℃より高く、水分率は2%以下であり、熱膨張係数は3×10-5/℃以下であることが好ましい。 Therefore, a suitable base film suitable for the present invention is required to have a high glass transition temperature, a low moisture content, and a low coefficient of thermal expansion. Particularly, the glass transition temperature is higher than 300 ° C. and the moisture content is 2%. The coefficient of thermal expansion is preferably 3 × 10 −5 / ° C. or less.

また、本発明は、ガラス転移温度300℃以上、厚さ5〜150μmのポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成し、前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成し、前記ポリイミド基材フィルムに前記それぞれの接着剤層を150〜350℃の高温下で0.001〜1秒の間に付着させてLOC用両面テープを製造する方法を提供する。   In the present invention, an adhesive layer is formed by applying an acid terminal group-containing polyimide adhesive composition on one surface of a polyimide base film having a glass transition temperature of 300 ° C. or more and a thickness of 5 to 150 μm, A polyimide adhesive composition containing an amine end group is applied to the other surface of the polyimide base film to form an adhesive layer, and each of the adhesive layers is applied to the polyimide base film at a high temperature of 150 to 350 ° C. A method of manufacturing a double-sided tape for LOC by depositing between 0.001 and 1 second is provided.

基材フィルムと接着剤層間の接着力を増大させるために、基材フィルムを表面処理することも好ましい。このため、表面処理方法は公知の方法を使用することができ、その一例としては、アルカリ処理またはシランカップリング処理の化学的表面処理方法と、サンドブラスティング(Sand blasting)、プラズマ、コロナー処理などの物理的表面処理方法から選択して使用することができ、必要に応じて1つ以上の方法を適用することができる。より好ましくは化学的処理またはプラズマ処理方法を使用する。   In order to increase the adhesive force between the base film and the adhesive layer, it is also preferable to surface-treat the base film. For this reason, a known method can be used as the surface treatment method, and examples thereof include a chemical surface treatment method of alkali treatment or silane coupling treatment, sand blasting, plasma, corona treatment, etc. The physical surface treatment method can be selected and used, and one or more methods can be applied as necessary. More preferably, chemical treatment or plasma treatment methods are used.

基材フィルムに接着層を形成する方法も特に限定されないが、その一例としては、基材フィルムに接着溶液を塗布した後、溶剤を除去するために乾燥させる方法が挙げられる。この他に、ドクタブレード(Doctor blade)、ナイフコーター(Knife coater)、ドライコーター(Dry coater)などを使用し、あるいは基材フィルムを接着溶液に浸漬させる方法を使用することができる。   The method for forming the adhesive layer on the base film is not particularly limited, and an example thereof is a method of applying an adhesive solution to the base film and then drying it to remove the solvent. In addition, a doctor blade, a knife coater, a dry coater, or the like, or a method of immersing a base film in an adhesive solution can be used.

以下、本発明を実施例によってより詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

下記の実施例は本発明をより具体的に説明するためのもので、本発明の範囲を限定するものではない。   The following examples are provided to illustrate the present invention more specifically and are not intended to limit the scope of the present invention.

<実施例1>ポリイミド複合フィルムの製造1
段階1:ジアンヒドリド(dianhydride)を過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物(2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride)、3,4’−オキシジアニリン(3,4-oxydianiline)、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethyldisiloxane]、および3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテル(3,3',4,4'-tetraaminodiphenylether)を50.5モル%:44.6モル%:3.7モル%:1.2モル%で添加して激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 1> Production 1 of polyimide composite film
Step 1: Polyimide liquid polymerized by adding an excess amount of dianhydride A N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Then, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride (2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride) was added to the container. 3,4′-oxydianiline, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, and 3,3 ′, 4,4′-tetraamino Diphenyl ether (3,3 ', 4,4'-tetraaminodiphenylether) was added at 50.5 mol%: 44.6 mol%: 3.7 mol%: 1.2 mol% and stirred vigorously, concentration 20 weight A solution containing% polyamic acid was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約5,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 5,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、3,4’−オキシジアニリン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテルを49.5モル%:44.6モル%:4.7モル%:1.2モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 3,4'-oxydianiline, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, And 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl ether at 49.5 mol%: 44.6 mol%: 4.7 mol%: 1.2 mol% and stirred vigorously to a concentration of 20 wt% A solution containing the polyamic acid was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルム上にナイフコーターを用いて、前記段階1でジアンヒドリドを過量添加して製造されたポリイミド液を塗布した後、100℃で3分、130℃で4分、150℃で5分および200℃で5分間それぞれ予備乾燥させて溶媒を除去した後、最終的に300℃で5分間熱処理し、厚さ12.5μmの熱可塑性ポリイミド接着層を製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape After applying the polyimide solution prepared by adding an excessive amount of dianhydride in Step 1 on a polyimide film having a thickness of 25 μm, 130 ° C. for 3 minutes at 100 ° C. 4 minutes at 150 ° C, 5 minutes at 150 ° C and 5 minutes at 200 ° C to remove the solvent, and finally heat treatment at 300 ° C for 5 minutes to produce a 12.5 µm thick thermoplastic polyimide adhesive layer did.

前記ポリイミドフィルムの反対面にナイフコーターを用いて、前記段階2でジアミンを過量添加して製造されたポリイミド液を塗布した後、100℃で3分、130℃で4分、150℃で5分および200℃で5分間それぞれ予備乾燥させて溶媒を除去した後、最終的に300℃で5分間熱処理し、厚さ12.5μmの熱可塑性ポリイミド接着層を形成して、ポリイミド複合フィルムを製造した。   Using a knife coater on the opposite side of the polyimide film, after applying a polyimide solution prepared by adding an excessive amount of diamine in the step 2, it is 3 minutes at 100 ° C, 4 minutes at 130 ° C, and 5 minutes at 150 ° C. And after pre-drying at 200 ° C. for 5 minutes to remove the solvent and finally heat-treating at 300 ° C. for 5 minutes to form a 12.5 μm-thick thermoplastic polyimide adhesive layer to produce a polyimide composite film .

<実施例2>ポリイミド複合フィルムの製造2
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物(2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride)、2,2−ビス(4−[3−アミノフェノキシ]フェニル)スルホン[2,2-bis(4-[3-aminophenoxy]phenyl)sulfone]、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethyldisiloxane]、および3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテル(3,3',4,4'-tetraaminodiphenylether)を50.1モル%:43.9モル%:5.0モル%:1.0モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 2> Production 2 of polyimide composite film
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Then, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride (2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride) was added to the container. 2,2-bis (4- [3-aminophenoxy] phenyl) sulfone [2,2-bis (4- [3-aminophenoxy] phenyl) sulfone], bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane [Bis ( γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane], and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenylether (5,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenylether) 50.1 mol%: 43.9 mol%: 5.0 Mol%: 1.0 mol% was charged and stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、2,2−ビス(4−[3−アミノフェノキシ]フェニル)スルホン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテルを49.9モル%:43.9モル%:5.2モル%:1.0モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 2,2-bis (4- [3-aminophenoxy] phenyl) sulfone, bis (γ -Aminopropyl) tetramethyldisiloxane and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl ether were charged at 49.9 mol%: 43.9 mol%: 5.2 mol%: 1.0 mol%. The solution was vigorously stirred to produce a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 3,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<実施例3>ポリイミド複合フィルムの製造3
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物(2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride)、ビス(4−[4−アミノフェノキシ]フェニル)エーテル[Bis(4-[4-aminophenoxy]phenyl)ether]、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethyldisiloxane]、および3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテル(3,3',4,4'-tetraaminodiphenylether)を51.5モル%:41.3モル%:6.3モル%:0.9モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 3> Production 3 of polyimide composite film
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Then, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride (2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride) was added to the container. Bis (4- [4-aminophenoxy] phenyl) ether [Bis (4- [4-aminophenoxy] phenyl) ether], bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane [Bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane], and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl ether (3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenylether) 51.5 mol%: 41.3 mol%: 6.3 mol%: 0.9 mol% And stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、ビス(4−[4−アミノフェノキシ]フェニル)エーテル、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテルを48.5モル%:42.7モル%:7.8モル%:1.0モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, bis (4- [4-aminophenoxy] phenyl) ether, bis (γ-aminopropyl) was added to the container. Tetramethyldisiloxane and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl ether were charged at 48.5 mol%: 42.7 mol%: 7.8 mol%: 1.0 mol% and stirred vigorously. A solution containing a polyamic acid with a concentration of 20% by weight was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 3,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<比較例1>
厚さ25μmのポリイミドフィルムの両面に、前記実施例1の段階1で製造されたジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド接着剤液をコーテイングし、それぞれ12.5μmの厚さに接着剤層が積層されたポリイミド複合フィルムを製造した。
<Comparative Example 1>
A polyimide adhesive solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of the dianhydride prepared in Step 1 of Example 1 above is coated on both sides of a polyimide film having a thickness of 25 μm, and each adhesive has a thickness of 12.5 μm. A polyimide composite film in which layers were laminated was produced.

<比較例2>
厚さ25μmのポリイミドフィルムの両面に、前記実施例1の段階2で製造されたジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド接着剤液をコーテイングし、それぞれ12.5μmの厚さに接着剤層が積層されたポリイミド複合フィルムを製造した。
<Comparative example 2>
A polyimide adhesive solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of the diamine prepared in Step 2 of Example 1 was coated on both surfaces of a polyimide film having a thickness of 25 μm, and each adhesive layer was formed to a thickness of 12.5 μm. A polyimide composite film was manufactured.

<比較例3>
厚さ25μmのポリイミドフィルムの両面に、前記実施例2の段階2で製造されたジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド接着剤液をコーテイングし、それぞれ12.5μmの厚さに接着剤層が積層されたポリイミド複合フィルムを製造した。
<Comparative Example 3>
A polyimide adhesive solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of the diamine prepared in Step 2 of Example 2 above is coated on both sides of a polyimide film having a thickness of 25 μm, and each adhesive layer has a thickness of 12.5 μm. A polyimide composite film was manufactured.

<実験例1>
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド複合フィルムの物性を下記のように測定した。
<Experimental example 1>
The physical properties of the polyimide composite films produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were measured as follows.

1.ガラス転移温度
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド複合フィルムに対してDSC(Differential Scanning Calorimetry)を用いてガラス転移温度を測定した。この際、昇温速度は10℃/min、50〜300℃の温度範囲で測定してそれぞれ下記表に示した。
1. Glass transition temperature The glass transition temperature was measured using DSC (Differential Scanning Calorimetry) for the polyimide composite films produced in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3. At this time, the heating rate was measured in the temperature range of 10 ° C./min and 50 to 300 ° C. and shown in the following table.

2.5%熱分解温度
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド複合フィルムに対してTGA(Thermogravimetry Analysis)を用いて5%熱分解温度を測定した。この際、昇温速度は10℃/min、50〜900℃の温度範囲で測定してそれぞれ下記表に示した。5%熱分解温度はもともと質量を100%基準として重量が相対的に5%だけ減少する時点の温度を示す。
2.5% Pyrolysis Temperature The polyimide composite films produced in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3 were measured for 5% pyrolysis temperature using TGA (Thermogravimetry Analysis). At this time, the heating rate was measured in the temperature range of 10 ° C./min and 50 to 900 ° C., and the results were shown in the following tables. The 5% pyrolysis temperature originally indicates the temperature at which the weight is relatively decreased by 5% with respect to the mass as 100%.

3.弾性モジュラス
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド複合フィルムに対してDMTA(Dynamic Mechanical Thermal Analysis)を用いて弾性モジュラスを測定した。この際、1Hz、昇温速度5℃/minの条件で、50〜250℃の温度範囲で測定して25℃と190℃における弾性モジュラス値を各表に示した。
3. Elastic Modulus The elastic modulus was measured using DMTA (Dynamic Mechanical Thermal Analysis) for the polyimide composite films produced in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3. Under the present circumstances, the elastic modulus value in 25 degreeC and 190 degreeC was shown in each table | surface as measured in the temperature range of 50-250 degreeC on the conditions of 1 Hz and the temperature increase rate of 5 degreeC / min.

4.吸湿率
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド接着剤液を剥離処理されたガラス板上に乾燥後の厚さが60μmとなるように塗布し、熱風循環型乾燥器内で100℃、130℃、150℃、180℃、210℃、250℃で各温度別に5分間乾燥させて接着シートを製造した後、ガラス板から接着層を分離させて接着剤層の吸湿率評価試料として使用した。5cm×5cmの前記吸湿率評価試料を準備して恒温および恒湿オーブンを用いて温度121℃、湿度100%RHおよび時間24時間の条件下で吸湿率評価実験を行った。この際、吸湿率は下記数式1から算出された。
4). Moisture absorption rate The polyimide adhesive solutions produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were applied to a peeled glass plate so that the thickness after drying was 60 μm, and a hot-air circulating drier After producing an adhesive sheet by drying at 100 ° C., 130 ° C., 150 ° C., 180 ° C., 210 ° C., 250 ° C. for 5 minutes for each temperature, the adhesive layer is separated from the glass plate, and the moisture absorption rate of the adhesive layer Used as an evaluation sample. The moisture absorption rate evaluation sample of 5 cm × 5 cm was prepared, and a moisture absorption rate evaluation experiment was performed using a constant temperature and humidity oven at a temperature of 121 ° C., a humidity of 100% RH, and a time of 24 hours. Under the present circumstances, the moisture absorption rate was computed from following Numerical formula 1.

(数式1)
吸湿率(%)=[(吸湿後の試料重量−吸湿前の試料重量)/吸湿前の試料重量]×100
(Formula 1)
Moisture absorption rate (%) = [(sample weight after moisture absorption−sample weight before moisture absorption) / sample weight before moisture absorption] × 100

5.電気的信頼性
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド接着剤液を剥離処理されたガラス板上に乾燥後の厚さが25μmとなるように塗布し、熱風循環型乾燥器内で100℃、130℃、150℃、180℃、210℃、250℃で各温度別に5分間乾燥させて接着シートを製造した後、ガラス板から接着層を分離させて接着剤層の電気的信頼性評価試料として使用した。
5. Electrical reliability The polyimide adhesive solutions produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were applied onto a glass plate that had been subjected to a release treatment so that the thickness after drying was 25 μm, and the hot air circulation type After producing an adhesive sheet by drying at 100 ° C., 130 ° C., 150 ° C., 180 ° C., 210 ° C., 250 ° C. for 5 minutes for each temperature in the dryer, the adhesive layer is separated from the glass plate, and the adhesive layer It was used as an electrical reliability evaluation sample.

一方、ニッケル−鉄合金材質のAlloy42物質からなる金属リードフレームを、導体/導体間の距離が50μm/50μmである櫛状の回路を製作した。前記接着シートを準備された回路上に接着圧着して電気的信頼性評価用試料を準備した。   On the other hand, a comb-like circuit having a conductor / conductor distance of 50 μm / 50 μm was manufactured from a metal lead frame made of an alloy 42 material made of nickel-iron alloy. The adhesive sheet was adhesively bonded onto the prepared circuit to prepare an electrical reliability evaluation sample.

この際、評価試料を温度130℃、湿度85%RHに調整された恒温および恒湿オーブンで櫛状の回路に直流電圧5Vを印加しながら300時間載置した。その後、櫛状の回路状態を評価した。その結果を各表に示した。表において、×は櫛状の回路(銅箔部分)にマイグレーションが発生した場合、○はマイグレーションが発生していない場合をそれぞれ示す。   At this time, the evaluation sample was placed for 300 hours while applying a DC voltage of 5 V to the comb-like circuit in a constant temperature and humidity oven adjusted to a temperature of 130 ° C. and a humidity of 85% RH. Thereafter, the comb-like circuit state was evaluated. The results are shown in each table. In the table, “x” indicates a case where migration occurs in the comb-like circuit (copper foil portion), and “◯” indicates a case where migration does not occur.

6.接着力
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド複合フィルムを、それぞれ300℃と350℃で圧力5kg/cm2の条件でニッケル鉄合金板またはPIX−3000溶液(日立ケミカル)がコーテイングされた板上に接着させた後、常温で50mm/minの速度でT−Peelテストを行って接着力を評価し、その結果を下記表に示した。
6). Adhesive strength The polyimide composite films produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were either a nickel iron alloy plate or a PIX-3000 solution (Hitachi Chemical Co., Ltd.) at 300 ° C. and 350 ° C. under a pressure of 5 kg / cm 2. ) Was adhered on the coated plate, and then the T-Peel test was conducted at room temperature at a speed of 50 mm / min to evaluate the adhesive force. The results are shown in the following table.

7.熱サイクルテスト
前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド接着剤液を厚さ50μmのポリイミドフィルムの両面にコーテイングして接着剤層の厚さがそれぞれ25μmとなるように積層された構造の接着テープを製造した。
7). Thermal cycle test The polyimide adhesive solutions prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were coated on both sides of a polyimide film having a thickness of 50 μm so that the thickness of each adhesive layer was 25 μm. An adhesive tape having the structure described above was manufactured.

その後、接着テープの一面を厚さ200μm、大きさ2.5cm×2.5cmのニッケル鉄合金板に温度300℃および圧力5kg/cm2の条件で熱圧着した。次に、両面接着テープの反対面を2.5cm×2.5cmのPIX−3000溶液(日立ケミカル)がコーテイングされたガラスチップに温度300℃および圧力5kg/cm2の条件下で熱圧着し、熱サイクルテスト用試料として使用した。 Thereafter, one surface of the adhesive tape was thermocompression bonded to a nickel iron alloy plate having a thickness of 200 μm and a size of 2.5 cm × 2.5 cm at a temperature of 300 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 . Next, the opposite surface of the double-sided adhesive tape was thermocompression bonded to a glass chip coated with a 2.5 cm × 2.5 cm PIX-3000 solution (Hitachi Chemical) at a temperature of 300 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 . Used as a sample for thermal cycle test.

評価試料を用いて−65℃〜150℃の熱サイクルテストを行った。この際、熱サイクルテストは150℃及び−65℃でそれぞれ30分間温度履歴を経ることを1サイクルとし、1000サイクルの条件で実施した。熱サイクルテスト後、剥離および発泡の有無を観察してその結果を下記各表に記載した。   A thermal cycle test of −65 ° C. to 150 ° C. was performed using the evaluation sample. At this time, the thermal cycle test was performed under the conditions of 1000 cycles, with each cycle of 30 minutes at 150 ° C. and −65 ° C. as one cycle. After the thermal cycle test, the presence or absence of peeling and foaming was observed, and the results are shown in the following tables.

下記表1は前記実施例1〜3および比較例1〜3で製造されたポリイミド複合フィルムに対する物性値の結果を示す。   Table 1 below shows the results of physical properties for the polyimide composite films produced in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3.

Figure 2006114864
Figure 2006114864

前記表1から分かるように、実施例1〜3で製造されたポリイミド複合フィルムの接着特性がニッケル鉄合金の金属類とPIX絶縁膜のプラスチックに対して同時に接着特性に優れた結果を示し、これに対し、比較例1の複合フィルムの場合にはニッケル鉄合金の金属類との接着特性には優れるが、PIX絶縁膜のプラスチック類との接着特性は良くない結果を示し、比較例2〜3の複合フィルムはPIX絶縁膜のプラスチックとの接着特性には優れるが、ニッケル鉄合金の金属類との接着特性には良くない結果を示した。   As can be seen from Table 1, the adhesion characteristics of the polyimide composite films produced in Examples 1 to 3 showed excellent adhesion characteristics at the same time for nickel iron alloy metals and PIX insulating film plastics. On the other hand, in the case of the composite film of Comparative Example 1, the adhesion characteristics with the nickel-iron alloy metals were excellent, but the adhesion characteristics with the PIX insulating film plastics were not good. Although this composite film was excellent in the adhesive properties of the PIX insulating film with the plastic, it showed poor results in the adhesive properties of the nickel iron alloy with metals.

<実施例4>ポリイミド複合フィルムの製造4
段階1:ジアンヒドリド(dianhydride)を過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]スルホン二無水物(2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]sulfone dianhydride)、3,4’−オキシジアニリン(3,4-oxydianiline)、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethyldisiloxane]、および3,3’,4−トリアミノジフェニル(3,3',4-triaminodiphenyl)を50.5モル%:44.6モル%:4.2モル%:0.7モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 4> Production 4 of polyimide composite film
Step 1: Polyimide liquid polymerized by adding an excess amount of dianhydride A N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] sulfone dianhydride (2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] sulfone dianhydride) was added to the container. 3,4′-oxydianiline, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, and 3,3 ′, 4-triaminodiphenyl (3 , 3 ', 4-triaminodiphenyl) at 50.5 mol%: 44.6 mol%: 4.2 mol%: 0.7 mol% and stirred vigorously, containing polyamic acid with a concentration of 20 wt% A solution was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]スルホン二無水物、3,4’−オキシジアニリン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4−トリアミノジフェニルを49.5モル%:45.0モル%:4.7モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] sulfone dianhydride, 3,4'-oxydianiline, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, And 3,3 ′, 4-triaminodiphenyl at 49.5 mol%: 45.0 mol%: 4.7 mol%: 0.8 mol% and stirred vigorously to a polyamic acid having a concentration of 20 wt% A solution containing was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution was precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which was further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 3,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<実施例5>ポリイミド複合フィルムの製造5
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]スルホン二無水物、2,2−ビス(4−[3−アミノフェノキシ]フェニル)スルホン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4−トリアミノジフェニルを51.3モル%:41.4モル%:6.8モル%:0.5モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 5> Production 5 of polyimide composite film
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] sulfone dianhydride, 2,2-bis (4- [3-aminophenoxy] phenyl) sulfone, bis (γ -Aminopropyl) tetramethyldisiloxane and 3,3 ', 4-triaminodiphenyl were charged at 51.3 mol%: 41.4 mol%: 6.8 mol%: 0.5 mol% and stirred vigorously. Thus, a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight was produced. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 3,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]スルホン二無水物、2,2−ビス(4−[3−アミノフェノキシ]フェニル)スルホン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4−トリアミノジフェニルを48.6モル%:43.1モル%:7.8モル%:0.5モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reaction vessel equipped with a polyimide liquid stirrer and a nitrogen gas inlet produced by adding an excessive amount of diamine. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] sulfone dianhydride, 2,2-bis (4- [3-aminophenoxy] phenyl) sulfone, bis (γ -Aminopropyl) tetramethyldisiloxane and 3,3 ', 4-triaminodiphenyl were charged at 48.6 mol%: 43.1 mol%: 7.8 mol%: 0.5 mol% and stirred vigorously. Thus, a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight was produced. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution was precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which was further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 3,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<実施例6>ポリイミド複合フィルムの製造6
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]スルホン二無水物、ビス(4−[4−アミノフェノキシ]フェニル)エーテル、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4−トリアミノジフェニルを50.2モル%:46.3モル%:2.7モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 6> Production of polyimide composite film 6
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] sulfone dianhydride, bis (4- [4-aminophenoxy] phenyl) ether, bis (γ-aminopropyl) was added to the container. Tetramethyldisiloxane and 3,3 ′, 4-triaminodiphenyl were charged at 50.2 mol%: 46.3 mol%: 2.7 mol%: 0.8 mol% and stirred vigorously to obtain a concentration of 20 A solution containing wt% polyamic acid was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 3,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器に2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]スルホン二無水物、ビス(4−[4−アミノフェノキシ]フェニル)エーテル、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4−トリアミノジフェニルを49.8モル%:46.7モル%:2.7モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] sulfone dianhydride, bis (4- [4-aminophenoxy] phenyl) ether, bis (γ-aminopropyl) was added to the container. Tetramethyldisiloxane and 3,3 ′, 4-triaminodiphenyl were charged at 49.8 mol%: 46.7 mol%: 2.7 mol%: 0.8 mol% and stirred vigorously to obtain a concentration of 20 A solution containing wt% polyamic acid was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 3,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<比較例4>
厚さ25μmのポリイミドフィルムの両面に、前記実施例4の段階1で製造されたジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド接着剤液をコーテイングし、それぞれ12.5μmの厚さに接着剤層が積層されたポリイミド複合フィルムを製造した。
<Comparative example 4>
The polyimide adhesive solution prepared by polymerizing the dianhydride prepared in Step 1 of Example 4 on both sides of the polyimide film having a thickness of 25 μm was coated, and each adhesive was coated to a thickness of 12.5 μm. A polyimide composite film in which layers were laminated was produced.

<比較例5>
厚さ25μmのポリイミドフィルムの両面に、前記実施例4の段階2で製造されたジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド接着剤液をコーテイングし、それぞれ12.5μmの厚さに接着剤層が積層されたポリイミド複合フィルムを製造した。
<Comparative Example 5>
A polyimide adhesive solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of the diamine prepared in Step 2 of Example 4 was coated on both surfaces of a polyimide film having a thickness of 25 μm, and each adhesive layer was formed to a thickness of 12.5 μm. A polyimide composite film was manufactured.

<比較例6>
厚さ25μmのポリイミドフィルムの両面に、前記実施例5の段階2で製造されたジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド接着液をコーテイングし、それぞれ12.5μmの厚さに接着剤層が積層されたポリイミド複合フィルムを製造した。
<Comparative Example 6>
A polyimide adhesive solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of the diamine prepared in Step 2 of Example 5 was coated on both sides of a polyimide film having a thickness of 25 μm, and an adhesive layer was formed to a thickness of 12.5 μm. A laminated polyimide composite film was produced.

下記表2は前記実施例4〜6および比較例4〜6で製造されたポリイミド複合フィルムに対する物性値の結果を示す。   Table 2 below shows the physical property values for the polyimide composite films produced in Examples 4-6 and Comparative Examples 4-6.

Figure 2006114864
Figure 2006114864

前記表2から分かるように、実施例4〜6で製造されたポリイミド複合フィルムは、ニッケル鉄合金の金属類とPIX絶縁膜のプラスチック類に対して同時に優れた接着特性を示したが、これに対し、比較例4の複合フィルムは、ニッケル鉄合金の金属類との接着特性には優れるが、PIX絶縁膜のプラスチック類との接着特性には劣り、比較例5〜6の複合フィルムは、PIX絶縁膜のプラスチック類との接着特性には優れるが、ニッケル鉄合金の金属類との接着特性には良くない結果を示した。   As can be seen from Table 2, the polyimide composite films produced in Examples 4 to 6 showed excellent adhesion properties to nickel iron alloy metals and PIX insulating film plastics simultaneously. On the other hand, the composite film of Comparative Example 4 is excellent in adhesion properties with nickel-iron alloy metals, but is inferior in adhesion properties with PIX insulating film plastics, and the composite films of Comparative Examples 5-6 are PIX. Although the adhesive properties of the insulating film with plastics were excellent, the results showed that the adhesive properties of nickel iron alloy with metals were not good.

<実施例7>ポリイミド複合フィルムの製造7
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)(Ethylene glycol bis(anhydrotrimellitate), 4,4−ジアミノジフェニルスルホン(4,4-diaminodiphenylsulfone)、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethydisiloxane]、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニル(3,3',4,4'-tetraaminobiphenyl)を50.2モル%:42.3モル%:7.0モル%:0.5モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 7> Production of polyimide composite film 7
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4-diaminodiphenylsulfone, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane [ Bis (γ-aminopropyl) tetramethydisiloxane] and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl (3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl) in 50.2 mol%: 42.3 mol%: 7 0.0 mol%: 0.5 mol% was charged and stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20 wt%, and then 2 wt% of p-toluenesulfonic acid was added to the solution. The polymerization temperature was raised to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to produce an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約5,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 5,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、4,4−ジアミノジフェニルスルホン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニルを49.9モル%:42.4モル%:7.2モル%:0.5モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4-diaminodiphenyl sulfone, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl are added to the container. Of 49.9 mol%: 42.4 mol%: 7.2 mol%: 0.5 mol% and stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20 wt%. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約5,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 5,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<実施例8>ポリイミド複合フィルム製造8
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)(Ethylene glycol bis(anhydrotrimellitate)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane)、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethydisiloxane]、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニル(3,3',4,4'-tetraaminobiphenyl)を50.6モル%:44.4モル%:4.2モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 8> Polyimide composite film production 8
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (2,2-bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] propane), bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane [Bis (γ-aminopropyl) tetramethydisiloxane], and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl (3,3 ′, 4,4'-tetraaminobiphenyl) at 50.6 mol%: 44.4 mol%: 4.2 mol%: 0.8 mol% and stirred vigorously, and containing a polyamic acid with a concentration of 20 wt% Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニルを49.4モル%:45.4モル%:4.4モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, and 3,3 ', 4,4'-tetraaminobiphenyl was charged at 49.4 mol%: 45.4 mol%: 4.4 mol%: 0.8 mol% and stirred vigorously to obtain a polyamic acid having a concentration of 20 wt%. A containing solution was prepared. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<実施例9>ポリイミド複合フィルムの製造9
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)(Ethylene glycol bis(anhydrotrimellitate), 4,4−ジアミノジフェニルメタン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethydisiloxane]、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニル(3,3',4,4'-tetraaminobiphenyl)を51.2モル%:42.9モル%:5.1モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 9> Production 9 of polyimide composite film
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4-diaminodiphenylmethane, bis (γ-aminopropyl) tetramethyly disiloxane [Bis (γ-aminopropyl) tetramethydisiloxane] , And 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl (3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl) 51.2 mol%: 42.9 mol%: 5.1 mol%: 0.8 A solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight was prepared by charging at a mol% and vigorously stirring, and then 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. For about 8 hours to produce an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、4,4−ジアミノジフェニルメタン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニルを48.8モル%:44.9モル%:5.6モル%:0.7モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4-diaminodiphenylmethane, bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl are added to the container. 48.8 mol%: 44.9 mol%: 5.6 mol%: 0.7 mol% was charged and stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20 wt%. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<実施例10>ポリイミド複合フィルムの製造10
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)(Ethylene glycol bis(anhydrotrimellitate)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane)、4,4’−ジアミノジフェニルメタン(4,4-diaminodiphenylmethane)、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethydisiloxane]、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニル(3,3',4,4'-tetraaminobiphenyl)を51.6モル%:24.2モル%:19.4モル%:4.1モル%:0.7モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Example 10> Production of polyimide composite film 10
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (2,2-bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] propane), 4,4'-diaminodiphenylmethane, Bis (γ-aminopropyl) tetramethylydisiloxane, and 3,3 ' , 4,4′-tetraaminobiphenyl (3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl) 51.6 mol%: 24.2 mol%: 19.4 mol%: 4.1 mol%: 0.7 A solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight was prepared by charging at a mol% and vigorously stirring, and then 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. For about 8 hours to produce an imide solution It was.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4−ジアミノジフェニルメタン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、および3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニルを48.5モル%:25.7モル%:20.4モル%:4.6モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4-diaminodiphenylmethane, bis (γ-aminopropyl) tetramethyl are added to the container. Disiloxane and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl were charged at 48.5 mol%: 25.7 mol%: 20.4 mol%: 4.6 mol%: 0.8 mol%. The solution was vigorously stirred to produce a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 3,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

下記表3は前記実施例7〜10で製造されたポリイミド複合フィルムに対する物性値の結果を示す。   Table 3 below shows the results of physical property values for the polyimide composite films produced in Examples 7-10.

Figure 2006114864
Figure 2006114864

<比較例7>
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)(Ethylene glycol bis(anhydrotrimellitate)、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(4,4-diaminodiphenylsulfone)、およびビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン[Bis(γ-aminopropyl)tetramethydisiloxane]を50.2モル%:42.3モル%:7.5モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Comparative Example 7>
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4′-diaminodiphenylsulfone, and bis (γ-aminopropyl) tetramethyldiethylene are added to the container. Siloxane [Bis (γ-aminopropyl) tetramethydisiloxane] was charged at 50.2 mol%: 42.3 mol%: 7.5 mol% and stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20 wt%. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、4,4−ジアミノジフェニルスルホンおよびビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンを49.8モル%:42.5モル%:7.7モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 49.8 mol%: 42.5 mol%: 7. 6 of ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4-diaminodiphenylsulfone and bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane were added to the container. The solution was charged at 7 mol% and stirred vigorously to produce a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約4,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 4,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<比較例8>
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパンおよびビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンを50.6モル%:44.4モル%:5.0モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Comparative Example 8>
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 50.6 mol of ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane were added to the container. %: 44.4 mol%: 5.0 mol% was charged and stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20 wt%. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 3,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパンおよびビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンを49.4モル%:45.6モル%:5.0モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, 49.4 mol of ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane were added to the container. %: 45.6 mol%: 5.0 mol% was charged and stirred vigorously to prepare a solution containing polyamic acid having a concentration of 20 wt%. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 3,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<比較例9>
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、4,4’−ジアミノジフェニルメタンおよび3,3’,4,4’−テトラアミノフェニルを51.2モル%:48.0モル%:0.8モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Comparative Example 9>
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4′-diaminodiphenylmethane and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminophenyl were added to the container in 51.2 mol%: 48.0 mol%: A solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight was prepared by charging at 0.8 mol% and stirring vigorously. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 3,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、4,4’−ジアミノジフェニルメタンおよび3,3’,4,4’−テトラアミノフェニルを48.8モル%:50.5モル%:0.7モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 4,4′-diaminodiphenylmethane and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminophenyl were added to the container in 48.8 mol%: 50.5 mol%: A solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight was prepared by charging at 0.7 mol% and stirring vigorously. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約3,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and has a viscosity of about 3,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

<比較例10>
段階1:ジアンヒドリドを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンおよび3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニルを52.8モル%:23.6モル%:18.9モル%:4.0モル%:0.7モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
<Comparative Example 10>
Step 1: Polyimide solution prepared by adding dianhydride in excess amount N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, bis (γ-aminopropyl) tetra Methyldisiloxane and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl were charged at 52.8 mol%: 23.6 mol%: 18.9 mol%: 4.0 mol%: 0.7 mol%. The solution was vigorously stirred to produce a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、20重量%の濃度および25℃で粘度が約2,000ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution was precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which was further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone and had a viscosity of about 2,000 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階2:ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド液
攪拌器および窒素気体入り口付きの反応容器にN−メチル−2−ピロリドンを添加した。その後、前記容器にエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリタート)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンおよび3,3’,4,4’−テトラアミノビフェニルを47.2モル%:27.4モル%:20.3モル%:4.4モル%:0.7モル%で仕込んで激烈に攪拌し、濃度20重量%のポリアミド酸を含有する溶液を製造した。その後、前記溶液にp−トルエンスルホン酸2重量%を添加して重合温度を180℃まで上昇させ、約8時間イミド化してイミド溶液を製造した。
Step 2: Polyimide solution prepared by polymerization by adding an excessive amount of diamine N-methyl-2-pyrrolidone was added to a reactor equipped with a stirrer and a nitrogen gas inlet. Thereafter, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, bis (γ-aminopropyl) tetra Methyldisiloxane and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminobiphenyl were charged at 47.2 mol%: 27.4 mol%: 20.3 mol%: 4.4 mol%: 0.7 mol%. The solution was vigorously stirred to produce a solution containing polyamic acid having a concentration of 20% by weight. Thereafter, 2% by weight of p-toluenesulfonic acid was added to the solution to raise the polymerization temperature to 180 ° C. and imidized for about 8 hours to prepare an imide solution.

前記イミド溶液をメタノールに沈澱させた後乾燥させてイミド固形分を得、これをさらにN−メチル−2−ピロリドンに溶解させて20重量%の濃度および25℃で粘度が約1,500ポアズを示す粘性液状のポリイミド溶液を製造した。   The imide solution is precipitated in methanol and dried to obtain an imide solid, which is further dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone to give a viscosity of about 1,500 poise at a concentration of 20% by weight and 25 ° C. The viscous liquid polyimide solution shown was produced.

段階3:両面テープの製造
厚さ25μmのポリイミドフィルムの各面に、前記段階1および前記段階2で製造されたポリイミド接着剤液を用いて塗布する以外は、前記実施例1と同様に行ってポリイミド複合フィルムを製造した。
Step 3: Manufacture of double-sided tape The same procedure as in Example 1 was performed except that the polyimide adhesive solution prepared in Step 1 and Step 2 was applied to each surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm. A polyimide composite film was produced.

下記表4は前記比較例7〜10で製造されたポリイミド複合フィルムに対する物性値の結果を示す。   Table 4 below shows the results of physical property values for the polyimide composite films produced in Comparative Examples 7-10.

Figure 2006114864
Figure 2006114864

前記表3および表4から分かるように、実施例7〜10で製造されたポリイミド複合フィルムは、表裏面に相異なる接着剤層が形成されることにより、ニッケル鉄合金の金属類とPIX絶縁膜のプラスチック類に対して同時に優れた接着特性を有しかつ同時に優れた電気的信頼性と熱サイクル信頼性を有する結果を示した。   As can be seen from Table 3 and Table 4, the polyimide composite films produced in Examples 7 to 10 were formed by forming different adhesive layers on the front and back surfaces, so that the nickel iron alloy metals and the PIX insulating film The results show that it has excellent adhesive properties at the same time and excellent electrical reliability and thermal cycle reliability at the same time.

これに対し、比較例7〜8で製造された複合フィルムは、相異なる接着剤層からなり、ニッケル鉄合金の金属とPIX絶縁膜のプラスチックに対して優れた接着特性を有するが、190℃におけるモジュラス値が相対的に低く、熱サイクル評価における信頼性が確保されていない。また、比較例9で製造された複合フィルムは、ジアミンを過量添加して重合製造されたポリイミド接着剤液を用いた場合であって、ニッケル鉄合金の金属類およびPIX絶縁膜のいずれに対しても接着力が良くない結果を示し、熱サイクル評価における信頼性も確保されていない。   In contrast, the composite films produced in Comparative Examples 7 to 8 are composed of different adhesive layers and have excellent adhesive properties with respect to the nickel iron alloy metal and the PIX insulating film plastic, but at 190 ° C. The modulus value is relatively low, and the reliability in thermal cycle evaluation is not ensured. Moreover, the composite film manufactured in Comparative Example 9 is a case where a polyimide adhesive liquid polymerized and manufactured by adding an excessive amount of diamine is used, which is based on any of the nickel iron alloy metals and the PIX insulating film. Shows a result of poor adhesion, and reliability in thermal cycle evaluation is not ensured.

比較例10で製造された複合フィルムは、相異なる接着剤層からなり、ニッケル鉄合金の金属とPIX絶縁膜のプラスチックに対して優れた接着特性を有するが、水分に対する吸湿率が0.6%以上と高く、190℃におけるモジュラス値が相対的に低く、熱サイクル評価における信頼性が確保されておらず、ジアミンを過量添加して製造された接着剤液を用いた場合、電気的信頼性の面でも良くない結果を示した。   The composite film manufactured in Comparative Example 10 is composed of different adhesive layers and has excellent adhesive properties with respect to nickel-iron alloy metal and PIX insulating film plastic, but has a moisture absorption rate of 0.6% against moisture. As mentioned above, the modulus value at 190 ° C. is relatively low, the reliability in thermal cycle evaluation is not ensured, and when an adhesive solution manufactured by adding an excessive amount of diamine is used, the electrical reliability is The result was also not good.

以上、本発明の具体例についてのみ詳細に説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although only the specific example of this invention was demonstrated in detail, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

Claims (10)

ガラス転移温度300℃以上、厚さ5〜150μmのポリイミド基材フィルムと;
前記ポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層と;
前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して形成された接着剤層と;から構成され、
前記ポリイミド基材フィルムと前記それぞれの接着剤層との接着力が0.8kgf/cm2以上であることを特徴とするLOC用両面テープ。
A polyimide base film having a glass transition temperature of 300 ° C. or higher and a thickness of 5 to 150 μm;
An adhesive layer formed by applying an acid terminal group-containing polyimide adhesive composition on one surface of the polyimide base film;
An adhesive layer formed by applying an amine terminal group-containing polyimide adhesive composition to the other surface of the polyimide base film; and
The double-sided tape for LOC, wherein the adhesive force between the polyimide base film and the respective adhesive layers is 0.8 kgf / cm 2 or more.
前記ポリイミド系接着剤用組成物は、1)ジアンヒドリド、2)ジアミン、3)ポリアミノ化合物、及び4)シロキサン構造を含むジアミン、トリアミンまたはテトラアミンから選択されたいずれか一つからなることを特徴とする請求項1記載のLOC用両面テープ。   The polyimide adhesive composition comprises any one selected from 1) dianhydride, 2) diamine, 3) polyamino compound, and 4) diamine containing siloxane structure, triamine, or tetraamine. The LOC double-sided tape according to claim 1. 前記ポリイミド系接着剤用組成物は、エポキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂およびゴム樹脂からなる群より選択された1種以上をさらに含む熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂のハイブリッド型であることを特徴とする請求項2記載のLOC用両面テープ。   The polyimide adhesive composition is a hybrid type of a thermoplastic resin and a thermosetting resin further including at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, a bismaleimide resin, and a rubber resin. The LOC double-sided tape according to claim 2. 前記酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物は、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.501:0.499〜0.524:0.476であり、ジアンヒドリドが過量添加されて重合されたものであることを特徴とする請求項1記載のLOC用両面テープ。   The acid terminal group-containing polyimide adhesive composition has a molar ratio of dianhydride and diamine of 0.501: 0.499 to 0.524: 0.476, and is polymerized by adding an excessive amount of dianhydride. The LOC double-sided tape according to claim 1, wherein the double-sided tape is for LOC. 前記アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物は、ジアンヒドリドとジアミンのモル分率が0.499:0.501〜0.476:0.524であり、ジアミンが過量添加されて重合されたものであることを特徴とする請求項1記載のLOC用両面テープ。   The amine terminal group-containing polyimide adhesive composition has a dianhydride and diamine molar fraction of 0.499: 0.501 to 0.476: 0.524, and is polymerized by adding an excessive amount of diamine. 2. The double-sided tape for LOC according to claim 1, wherein the double-sided tape is for LOC. 前記酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物の酸価は0.03〜10であることを特徴とする請求項1記載のLOC用両面テープ。   2. The LOC double-sided tape according to claim 1, wherein the acid end group-containing polyimide adhesive composition has an acid value of 0.03 to 10. 3. 前記アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物のアミン価は0.03〜10であることを特徴とする請求項1記載のLOC用両面テープ。   2. The LOC double-sided tape according to claim 1, wherein the amine end group-containing polyimide adhesive composition has an amine value of 0.03 to 10. 3. 前記酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物が塗布された接着剤層は金属材質のリードフレームに付着させることを特徴とする請求項1記載のLOC用両面テープ。   2. The LOC double-sided tape according to claim 1, wherein the adhesive layer coated with the acid terminal group-containing polyimide adhesive composition is attached to a metal lead frame. 前記アミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物が塗布された接着剤層はプラスチック材質の半導体チップ絶縁膜に付着させることを特徴とする請求項1記載のLOC用両面テープ。   2. The LOC double-sided tape according to claim 1, wherein the adhesive layer coated with the amine terminal group-containing polyimide adhesive composition is adhered to a plastic semiconductor chip insulating film. ガラス転移温度300℃以上、厚さ5〜150μmのポリイミド基材フィルムの一面に酸末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成する段階と、
前記ポリイミド基材フィルムの他面にアミン末端基含有のポリイミド系接着剤用組成物を塗布して接着剤層を形成する段階と、
前記ポリイミド基材フィルムに前記それぞれの接着剤層を150〜350℃の高温下で0.001〜1秒の間に付着させる段階とを含むことを特徴とするLOC用両面テープの製造方法。
A step of applying an acid terminal group-containing polyimide adhesive composition on one surface of a polyimide base film having a glass transition temperature of 300 ° C. or more and a thickness of 5 to 150 μm to form an adhesive layer;
Applying an amine terminal group-containing polyimide adhesive composition to the other surface of the polyimide base film to form an adhesive layer;
And a step of adhering each of the adhesive layers to the polyimide base film at a high temperature of 150 to 350 ° C. for 0.001 to 1 second.
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