JP2006104085A - Method for suppressing decomposition of ketal or acetal - Google Patents

Method for suppressing decomposition of ketal or acetal Download PDF

Info

Publication number
JP2006104085A
JP2006104085A JP2004290139A JP2004290139A JP2006104085A JP 2006104085 A JP2006104085 A JP 2006104085A JP 2004290139 A JP2004290139 A JP 2004290139A JP 2004290139 A JP2004290139 A JP 2004290139A JP 2006104085 A JP2006104085 A JP 2006104085A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acetal
ketal
groups
ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2004290139A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Sato
靖 佐藤
Keizo Inoue
慶三 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP2004290139A priority Critical patent/JP2006104085A/en
Publication of JP2006104085A publication Critical patent/JP2006104085A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for suppressing decomposition of a ketal or an acetal and a method for manufacturing the ketal or the acetal while suppressing decomposition thereof. <P>SOLUTION: The decomposition of the ketal or the acetal derived from an α-hydroxyketone compound or an α-hydroxyaldehyde compound is suppressed by causing a base to be present. In the manufacture of the ketal or the acetal derived from the α-hydroxyketone compound or the α-hydroxyaldehyde compound, a post-treatment step after the reaction is carried out in the presence of the base. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ケタール又はアセタールの分解を抑制する方法、及びケタール又はアセタールの分解を抑制しつつケタール又はアセタールを製造する方法に関し、詳しくはα-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールの分解抑制方法、又は分解を抑制しながら製造する方法に関するものである。ケタール類又はアセタール類は医薬、農薬、機能性材料などの有機化合物及びその合成中間体として有用な化合物である。   The present invention relates to a method for suppressing the decomposition of a ketal or an acetal, and a method for producing a ketal or an acetal while suppressing the decomposition of the ketal or an acetal, and more specifically derived from α-hydroxyketones or α-hydroxyaldehydes. The present invention relates to a method for inhibiting the decomposition of ketal or acetal, or a method for producing it while inhibiting decomposition. Ketals or acetals are useful compounds as organic compounds such as pharmaceuticals, agricultural chemicals and functional materials, and synthetic intermediates thereof.

α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類のケタール又はアセタールはその製造例は少なく(例えば非特許文献1〜3)、加えてその安定性に関する知見は殆ど知られていない。ここでα-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールは、分解すると原料であるα-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類となるが、これらがさらに分解すると酢酸などの酸性物質となるため、微量のアセタール又はケタールの分解が起こると悪循環的に分解が促進されてしまう。また、原料となるα-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類は(1,2−)ジオールの部分酸化、例えばα−ヒドロキシアセトンはプロピレングリコールの気相酸化により製造されているが、その製造工程においてカルボン酸などの副生物が生成し、これがケタール又はアセタールの製造工程において分離されないまま残存するため、ケタール又はアセタールの分解を促進する不具合があった。さらに、α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類が目的物であるケタールやアセタールとさらなる反応を行い、高沸点生成物を形成する不具合があった。
Tetrahedron Lett.,Vol37.3881(1996) Bull.Chem.Soc.Jpn.,Vol.70.2561(1997) J.Fluorine.Chem.,Vol.112.109(2001)
There are few production examples of ketals or acetals of α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes (for example, Non-Patent Documents 1 to 3), and in addition, little knowledge about their stability is known. Here, ketals or acetals derived from α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes, when decomposed, become raw α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes. Since it becomes an acidic substance, when a trace amount of acetal or ketal is decomposed, the decomposition is accelerated in a vicious manner. In addition, α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes as raw materials are produced by partial oxidation of (1,2-) diol, for example, α-hydroxyacetone is produced by gas phase oxidation of propylene glycol. In this process, by-products such as carboxylic acid are produced and remain unseparated in the ketal or acetal production process, so that there is a problem of promoting the decomposition of the ketal or acetal. Furthermore, there is a problem that α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes further react with the target ketal or acetal to form a high-boiling product.
Tetrahedron Lett. , Vol 37.3881 (1996) Bull. Chem. Soc. Jpn. , Vol. 70.561 (1997) J. et al. Fluorine. Chem. , Vol. 112.109 (2001)

従って本発明の目的は、α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアセトン類から誘導されるケタール又はアセタールの分解を抑制する方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for suppressing the decomposition of ketals or acetals derived from α-hydroxyketones or α-hydroxyacetones.

本発明のさらに他の目的は、α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールの製造において、該ケタール又はアセタールの分解を抑制しながら製造する方法を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a method for producing a ketal or acetal derived from α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes while suppressing the decomposition of the ketal or acetal. .

本発明者らは前記目的を達成するために鋭意研究を行った結果、塩基の添加を行うことで特定の構造を有するケタール又はアセタールの分解が抑制されること、及び、該ケタール又はアセタールの分解を抑制しながら製造が行えることを見出し、本発明を完成したものである。
即ち、本発明は、α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールに塩基の存在下で分解を抑制する方法を提供する。
さらに本発明は、α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールの製造において、ケタール化又はアセタール化後の後処理工程を塩基の存在下で行うケタール又はアセタールの製造方法を提供する。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have suppressed the decomposition of a ketal or acetal having a specific structure by adding a base, and the decomposition of the ketal or acetal. The present invention has been completed by finding that the production can be carried out while suppressing the above.
That is, the present invention provides a method for inhibiting degradation of a ketal or acetal derived from α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes in the presence of a base.
Furthermore, the present invention relates to a method for producing a ketal or acetal in which a post-treatment step after ketalization or acetalization is carried out in the presence of a base in the production of a ketal or acetal derived from an α-hydroxyketone or α-hydroxyaldehyde. I will provide a.

本発明によれば、不安定な構造を有するケタール又はアセタールである、α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されたケタール又はアセタールの分解を抑制することができる。さらに本発明では、該ケタール又はアセタールの分解を抑制しながら製造することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, decomposition | disassembly of the ketal or acetal derived from (alpha) -hydroxy ketones or (alpha) -hydroxy aldehydes which are ketals or acetals which have an unstable structure can be suppressed. Furthermore, in this invention, it can manufacture, suppressing decomposition | disassembly of this ketal or acetal.

〔ケタール又はアセタール〕
本発明の対象となるα-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールは、下記式(1)
[Ketal or Acetal]
The ketal or acetal derived from α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes that are the subject of the present invention is represented by the following formula (1):

Figure 2006104085
で表される骨格を1つまたは複数個有するものであればよい。式(1)で表される骨格を1つ有するアセタール又はケタールとしては、例えば下記式(2)又は(3)
Figure 2006104085
Any one having one or more skeletons represented by As an acetal or ketal having one skeleton represented by the formula (1), for example, the following formula (2) or (3)

Figure 2006104085
(式中R、Rは同一又は異なって有機基を示し、R〜Rは同一又は異なって水素原子、有機基を示す)で表される。
Figure 2006104085
(Wherein R and R are the same or different and each represents an organic group, and R to R are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group).

式(2)中R1又はR2で表される有機基としては、炭化水素基や複素環式基などが挙げられる。
式(2)又は(3)中R3〜R9で表される有機基としては、例えば、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子)、炭化水素基、複素環式基、置換オキシカルボニル基(アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基など)、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基(ハロスルホニル基、トリハロメタンスルホニル基を含む)、硫黄酸エステル基、アシル基(アセチル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基等の芳香族アシル基など)、置換オキシ基(メトキシ基、エトキシ基等のC1-6アルコキシ基などのアルコキシ基;ビニルオキシ基、アリルオキシ基等のC2-6アルケニルオキシ基などのアルケニルオキシ基;シクロヘキシルオキシ基などのシクロアルキルオキシ基;フェノキシ基などのアリールオキシ基;ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基;アセトキシ基などのアシルオキシ基など)、ヒドロキシル基、置換又は無置換アミノ基(アミノ基;N−メチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基などのモノ又はジC1-6アルキル置換アミノ基;1−ピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホリノ基などの環状アミノ基)など、及びこれらが2以上結合した基などが挙げられる。前記ヒドロキシル基、アミノ基などは有機合成の分野で公知乃至慣用の保護基で保護されていてもよく、金属で置換されていてもよい。
Examples of the organic group represented by R 1 or R 2 in Formula (2) include a hydrocarbon group and a heterocyclic group.
Examples of the organic group represented by R 3 to R 9 in the formula (2) or (3) include a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine atom), a hydrocarbon group, a heterocyclic group, and a substituted oxycarbonyl. Groups (alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, aralkyloxycarbonyl groups, cycloalkyloxycarbonyl groups, etc.), substituted or unsubstituted carbamoyl groups, cyano groups, nitro groups, sulfonyl groups (including halosulfonyl groups and trihalomethanesulfonyl groups) , Sulfur acid ester groups, acyl groups (aliphatic acyl groups such as acetyl groups; aromatic acyl groups such as benzoyl groups), substituted oxy groups (alkoxy groups such as C 1-6 alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups) ; vinyloxy group, alkenyloxy groups such as C 2-6 alkenyloxy groups such as allyloxy group; cyclohexyl Cycloalkyloxy groups such as xy groups; aryloxy groups such as phenoxy groups; aralkyloxy groups such as benzyloxy groups; acyloxy groups such as acetoxy groups), hydroxyl groups, substituted or unsubstituted amino groups (amino groups; N- Mono- or di-C 1-6 alkyl-substituted amino groups such as methylamino group and N, N-dimethylamino group; cyclic amino groups such as 1-pyrrolidinyl group, piperidino group and morpholino group), etc. Groups and the like. The hydroxyl group, amino group and the like may be protected with a protective group known or commonly used in the field of organic synthesis, and may be substituted with a metal.

前記炭化水素基には、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらの結合した基が含まれる。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ドデシル基などの炭素数1〜20(好ましくは1〜10、さらに好ましくは1〜3)程度のアルキル基;ビニル、アリル、1−ブテニル基などの炭素数2〜20(好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜3)程度のアルケニル基;エチニル、プロピニル基などの炭素数2〜20(好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜3)程度のアルキニル基などが挙げられる。   The hydrocarbon group includes an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group in which these are bonded. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include 1 to 20 carbon atoms (preferably 1 to 1) such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, decyl, and dodecyl groups. 10, more preferably an alkyl group of about 1 to 3); an alkenyl group of about 2 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10, more preferably 2 to 3) such as vinyl, allyl, 1-butenyl group; Examples thereof include alkynyl groups having about 2 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10, more preferably 2 to 3) such as propynyl groups.

脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル基などの3〜20員(好ましくは3〜15員、さらに好ましくは5〜8員)程度のシクロアルキル基;シクロペンテニル、シクロへキセニル基などの3〜20員(好ましくは3〜15員、さらに好ましくは5〜8員)程度のシクロアルケニル基;パーヒドロナフタレン−1−イル基、ノルボルニル、アダマンチル、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン−3−イル基などの橋かけ環式炭化水素基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチル基などの炭素数6〜14(好ましくは6〜10)程度の芳香族炭化水素基が挙げられる。 As the alicyclic hydrocarbon group, a cycloalkyl group having about 3 to 20 members (preferably 3 to 15 members, more preferably 5 to 8 members) such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and cyclooctyl groups; Cycloalkenyl groups of about 3 to 20 members (preferably 3 to 15 members, more preferably 5 to 8 members) such as pentenyl and cyclohexenyl groups; perhydronaphthalen-1-yl group, norbornyl, adamantyl, tetracyclo [4 4.0.1, 2,5 . 1 7,10 ] bridged cyclic hydrocarbon groups such as dodecan-3-yl groups. Examples of the aromatic hydrocarbon group include aromatic hydrocarbon groups having about 6 to 14 (preferably 6 to 10) carbon atoms such as phenyl and naphthyl groups.

脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが結合した炭化水素基には、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル基などのシクロアルキル−アルキル基(例えば、C3-20シクロアルキル−C1-4アルキル基など)などが含まれる。また、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した炭化水素基には、アラルキル基(例えば、C7-18アラルキル基など)、アルキル置換アリール基(例えば、1〜4個程度のC1-4アルキル基が置換したフェニル基又はナフチル基など)などが含まれる。 The hydrocarbon group in which an aliphatic hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group are bonded includes a cycloalkyl-alkyl group such as cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl group (for example, C 3-20 cycloalkyl- C 1-4 alkyl group and the like). The hydrocarbon group in which an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group are bonded to each other includes an aralkyl group (for example, a C 7-18 aralkyl group) and an alkyl-substituted aryl group (for example, about 1 to about 4). A phenyl group substituted with a C 1-4 alkyl group or a naphthyl group).

好ましい炭化水素基には、C1-10アルキル基、C2-10アルケニル基、C2-10アルキニル基、C3-15シクロアルキル基、C6-10芳香族炭化水素基、C3-15シクロアルキル−C1-4アルキル基、C7-14アラルキル基等が含まれる。 Preferred hydrocarbon groups include C 1-10 alkyl groups, C 2-10 alkenyl groups, C 2-10 alkynyl groups, C 3-15 cycloalkyl groups, C 6-10 aromatic hydrocarbon groups, C 3-15 A cycloalkyl-C 1-4 alkyl group, a C 7-14 aralkyl group and the like are included.

R1〜R9で表される有機基が炭化水素基である場合には、炭化水素基は種々の置換基を有しても良く、置換基としては例えば、ハロゲン原子、ハロアルキル基、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基(例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基など)、置換オキシカルボニル基(アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基など)、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基、スルホニル基(ハロスルホニル基、トリハロアルキルスルホニル基を含む)、複素環式基などが挙げられる。ヒドロキシル基は有機合成の分野で慣用の保護基で保護されていてもよい。また、脂環式炭化水素基や芳香族炭化水素基の環には芳香族性又は非芳香属性の複素環が縮合していてもよい。   When the organic group represented by R1 to R9 is a hydrocarbon group, the hydrocarbon group may have various substituents. Examples of the substituent include a halogen atom, a haloalkyl group, an oxo group, a hydroxyl group. Group, substituted oxy group (eg, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyloxy group), substituted oxycarbonyl group (alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, etc.), substituted or unsubstituted carbamoyl Group, cyano group, nitro group, substituted or unsubstituted amino group, sulfonyl group (including halosulfonyl group and trihaloalkylsulfonyl group), heterocyclic group and the like. The hydroxyl group may be protected with a protecting group conventionally used in the field of organic synthesis. In addition, an aromatic or non-aromatic heterocycle may be condensed with the ring of the alicyclic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group.

前記R1等における複素環式基を構成する複素環には、芳香族性複素環及び非芳香族性複素環が含まれる。このような複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環(例えば、フラン、テトラヒドロフラン、オキサゾール、イソオキサゾール、γ−ブチロラクトン環などの5員環、4−オキソ−4H−ピラン、テトラヒドロピラン、モルホリン環などの6員環、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、4−オキソ−4H−クロメン、クロマン、イソクロマン環などの縮合環、3−オキサトリシクロ[4.3.1.14,8]ウンデカン−2−オン環、3−オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−2−オン環などの橋かけ環)、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環(例えば、チオフェン、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール環などの5員環、4−オキソ−4H−チオピラン環などの6員環、ベンゾチオフェン環などの縮合環など)、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環(例えば、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール環などの5員環、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジン環などの6員環、インドール、インドリン、キノリン、アクリジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリン環などの縮合環など)などが挙げられる。上記複素環式基には、前記炭化水素基が有していてもよい置換基のほか、アルキル基(例えば、メチル、エチル基などのC1-4アルキル基など)、シクロアルキル基、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル基など)などの置換基を有していてもよい。 The heterocyclic ring constituting the heterocyclic group in R 1 and the like includes an aromatic heterocyclic ring and a non-aromatic heterocyclic ring. Examples of such a heterocyclic ring include a heterocyclic ring containing an oxygen atom as a hetero atom (for example, 5-membered ring such as furan, tetrahydrofuran, oxazole, isoxazole, and γ-butyrolactone ring, 4-oxo-4H-pyran, tetrahydro 6-membered ring such as pyran, morpholine ring, condensed ring such as benzofuran, isobenzofuran, 4-oxo-4H-chromene, chroman, isochroman ring, 3-oxatricyclo [4.3.1.1 4,8 ] undecane 2-one ring, a bridged ring such as 3-oxatricyclo [4.2.1.0 4,8 ] nonan-2-one ring), a heterocycle containing a sulfur atom as a hetero atom (for example, thiophene, 5-membered ring such as thiazole, isothiazole, thiadiazole ring, 6-membered ring such as 4-oxo-4H-thiopyran ring, benzothiophene ring Any condensed ring), heterocycles containing nitrogen atoms as heteroatoms (eg, 5-membered rings such as pyrrole, pyrrolidine, pyrazole, imidazole, and triazole rings, 6-membered rings such as pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, piperidine, and piperazine rings) Ring, indole, indoline, quinoline, acridine, naphthyridine, quinazoline, a condensed ring such as a purine ring, etc.). In addition to the substituents that the hydrocarbon group may have, the heterocyclic group includes an alkyl group (eg, a C 1-4 alkyl group such as a methyl or ethyl group), a cycloalkyl group, an aryl group It may have a substituent such as (for example, phenyl, naphthyl group).

式(2)又は(3)においては、R1及びR2、R3からR5、又はR6からR9は互いに結合を形成して環を形成してもよい。このような環として、炭化水素環及び複素環が挙げられる。炭化水素環としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環などの3〜20員程度のシクロアルカン環;シクロペンテン環、シクロヘキセン環などの3〜20員程度のシクロアルケン環;アダマンタン環、ノルボルナン環、ノルボルネン環などの橋かけ炭化水素環などが例示される。複素環としては、ペルヒドロアゾール環、ペルヒドロアジン環、ペルヒドロアゼピン環、オキソラン環、オキサン環、オキセパン環、チオラン環、チアン環、チエパン環などの4〜20員程度の複素環(窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択された少なくとも1つのヘテロ原子を含む複素環)が挙げられる。 In the formula (2) or (3), R 1 and R 2 , R 3 to R 5 , or R 6 to R 9 may form a bond with each other to form a ring. Examples of such a ring include a hydrocarbon ring and a heterocyclic ring. Examples of the hydrocarbon ring include cyclopropane rings, cyclobutane rings, cyclopentane rings, cyclohexane rings, cycloheptane rings, cyclooctane rings, cyclodecane rings, cyclododecane rings and the like, and cyclopentene rings. And a cycloalkene ring having about 3 to 20 members such as a cyclohexene ring; a bridged hydrocarbon ring such as an adamantane ring, a norbornane ring and a norbornene ring. Examples of the heterocycle include a perhydroazole ring, a perhydroazine ring, a perhydroazepine ring, an oxolane ring, an oxane ring, an oxepane ring, a thiolane ring, a thiane ring, and a thiepan ring. Heterocycles containing at least one heteroatom selected from atoms and sulfur atoms).

本発明が適用される具体的化合物としては、例えば下記式(4)〜(16)などが例示される。   Specific examples to which the present invention is applied include the following formulas (4) to (16).

Figure 2006104085
本発明に用いられるケタール又はアセタールは、骨格内に水酸基を有するために、水との親和性の高い物質が多く、水との親和性の高いこともケタール又はアセタールの分解(すなわち加水分解)を促進する1つの要因となる場合がある。とりわけ、Frdrosの方法による溶解度パラメーター(以下、SP値として表示する)が21.8以上のケタール又はアセタールは加水分解されやすい場合が多く、本発明の方法の使用に適している。SP値が21.8以上の化合物としては、例えば、上記例示の化合物のうち(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(12)、(13)、(15)、(16)などが挙げられる。なお、SP値の算出は、塗装技術1987年3月号および、ポリマーハンドブック第4版VII/675記載の方法に従った。
Figure 2006104085
Since the ketal or acetal used in the present invention has a hydroxyl group in the skeleton, there are many substances having a high affinity for water, and the high affinity for water also indicates the decomposition (ie, hydrolysis) of the ketal or acetal. It may be one factor that promotes. In particular, a ketal or acetal having a solubility parameter (hereinafter referred to as SP value) of 21.8 or more by the Frdros method is often easily hydrolyzed and is suitable for use in the method of the present invention. Examples of the compound having an SP value of 21.8 or more include (4), (5), (6), (7), (8), (12), (13), (15) among the compounds exemplified above. ), (16) and the like. The SP value was calculated according to the method described in the March 1987 issue of the coating technology and the polymer handbook 4th edition VII / 675.

本発明に用いられるケタール又はアセタールは、酸触媒の存在下、対応するアルコール類と対応するヒドロキシケトン類又はヒドロキシアルデヒド類とを反応させることで合成することができ、例えば前記化合物(5)は下記合成経路により合成可能である。   The ketal or acetal used in the present invention can be synthesized by reacting a corresponding alcohol with a corresponding hydroxyketone or hydroxyaldehyde in the presence of an acid catalyst. For example, the compound (5) can be synthesized as follows: It can be synthesized by a synthetic route.

Figure 2006104085
〔塩基〕
本発明で用いられる塩基は、ケタール又はアセタールの分解抑制効果が得られる限り特に限定されないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムカルシウム、炭酸アンモニウム等の炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素マグネシウムカリウム、炭酸水素アンモニウム等の炭酸水素塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化アンモニウム等の水酸化物、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム等のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水素化物等の無機塩基、塩基性イオン交換樹脂等の担体に塩基を担持したもの、酸吸着剤(例えばハイドロタルサイト系の酸吸着剤など)、又はメチルアミン、エチルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、ピリジン、メチルピリジン、ジメチルピリジン、トリメチルピリジン等の有機アミンなどが例示される。これら塩基は単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。無機塩基を使用する場合、固体のまま用いても水溶液として用いてもよい。ケタール又はアセタール骨格中に塩基により加水分解される置換基(例えばハロゲン基、エステル基、ハロスルホニル基など)を有する場合には、上記塩基のうち、一般に弱塩基とされるものが好ましく、特に炭酸塩や炭酸水素塩などが好ましく、また、酸吸着剤のうちアニオンとカチオンを同時に除去できるもの[例えば商品名「キョーワード2000」、協和化学工業株式会社製など]を用いるのも好適である。
Figure 2006104085
〔base〕
The base used in the present invention is not particularly limited as long as the effect of inhibiting the decomposition of ketal or acetal is obtained, but carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, magnesium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, hydrogen carbonate Hydrogen carbonate such as potassium, calcium hydrogen carbonate, magnesium potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, ammonium hydroxide, sodium hydride, hydrogen Inorganic bases such as alkali metal or alkaline earth metal hydrides such as lithium hydride and potassium hydride, bases supported on basic ion exchange resins, acid adsorbents (eg hydrotalcite-based acid adsorption) Agent), or methylamine, ethylamino And organic amines such as isopropylamine, butylamine, dimethylamine, diethylamine, diisopropylamine, trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N-methylpiperidine, N-methylpyrrolidine, pyridine, methylpyridine, dimethylpyridine, trimethylpyridine, etc. . These bases may be used alone or in combination of two or more. When an inorganic base is used, it may be used as a solid or as an aqueous solution. When the ketal or acetal skeleton has a substituent that is hydrolyzed by a base (for example, a halogen group, an ester group, a halosulfonyl group, etc.), among the above bases, those generally regarded as weak bases are preferred. Salts and hydrogen carbonates are preferred, and it is also suitable to use acid adsorbents that can remove anions and cations at the same time (for example, trade name “KYOWARD 2000”, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.).

塩基の使用量は、特に限定されないが、ケタール又はアセタール100重量部に対して0.01〜50重量部で効果がある。好ましくは0.1〜10重量部でよりこのましくは0.5〜5重量部である。塩基量が0.01重量部より少ないと、微量混在不純酸成分が残存している場合に中和により塩基が消費されてしまい、安定化効果が持続せず好ましくはない。また50重量部より多い場合は取扱い上煩雑になり、また、安定剤である塩基の除去の際にケタール、アセタールがロスしてしまうため好ましくない。
〔後処理工程〕
本発明では、α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールの製造において、ケタール化又はアセタール化後の後処理工程を塩基の存在下で行うことで分解を抑制しつつ該ケタール又はアセタールを製造することができるが、ここでいう後処理工程とは、ケタール化又はアセタール化後に中和により反応を停止させ、反応粗液から汎用溶媒により該ケタール又はアセタールを抽出した後の、濃縮工程や精製工程等をいう。
Although the usage-amount of a base is not specifically limited, It is effective in 0.01-50 weight part with respect to 100 weight part of ketal or acetal. Preferably it is 0.1-10 weight part, More preferably, it is 0.5-5 weight part. When the amount of the base is less than 0.01 parts by weight, the base is consumed by neutralization when a trace amount of impure acid component remains, which is not preferable because the stabilizing effect is not sustained. On the other hand, when the amount is more than 50 parts by weight, the handling becomes complicated, and the ketal and acetal are lost when the base as a stabilizer is removed, which is not preferable.
[Post-treatment process]
In the present invention, in the production of ketals or acetals derived from α-hydroxyketones or α-hydroxyaldehydes, the decomposition is suppressed by performing the post-treatment step after ketalization or acetalization in the presence of a base. The ketal or acetal can be produced, and the post-treatment step here refers to the step of stopping the reaction by neutralization after ketalization or acetalization, and extracting the ketal or acetal from the reaction crude liquid with a general-purpose solvent. The concentration process, the purification process, and the like.

中和は前記にて例示した塩基を用いて行うことができる。特にケタール又はアセタール骨格中に塩基により加水分解される置換基(例えばハロゲン基、エステル基、ハロスルホニル基など)を有する場合には、一般に弱塩基とされるものが好ましい。中和をpH値にて制御する際には、反応の停止を行うことができかつ目的物を分解しない範囲であればよいが、例えばpH5からpH11、好ましくはpH6からpH9程度である。   Neutralization can be performed using the bases exemplified above. In particular, when the ketal or acetal skeleton has a substituent that is hydrolyzed by a base (for example, a halogen group, an ester group, a halosulfonyl group, etc.), a weak base is generally preferred. When neutralization is controlled by the pH value, it may be in a range where the reaction can be stopped and the target product is not decomposed, but it is, for example, about pH 5 to pH 11, preferably about pH 6 to pH 9.

抽出は汎用の溶媒を用いて行うことが出来るが、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、ノルマル又はイソプロパノール、第3級ブタノール、アミルアルコール、シクロヘキサノール等)、多価アルコール類(エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、鎖状又は環状エーテル類(エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、オクタン等)、脂環式炭化水素類(シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等)、ニトロメタン、ニトロエタンなどのニトロ化合物、リン化合物(リン酸エステル等)、ハロゲン化炭化水素(クロロホルム、ジクロロメタン、二塩化エチレン等)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン等)が例示される。抽出溶媒は目的物との親和性を考慮して選定すればよい。   Extraction can be performed using a general-purpose solvent. For example, alcohols (methanol, ethanol, normal or isopropanol, tertiary butanol, amyl alcohol, cyclohexanol, etc.), polyhydric alcohols (ethylene glycol, propylene glycol) , Glycerin, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), chain or cyclic ethers (ethyl ether, isopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons ( Hexane, octane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, etc.), nitro compounds such as nitromethane, nitroethane, phosphorus compounds (phosphate esters, etc.), halogenated hydrocarbons (chloroform) Dichloromethane, ethylene dichloride and the like), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene and the like) are exemplified. The extraction solvent may be selected in consideration of the affinity with the target product.

中和後の抽出工程により目的物が分配された溶媒層に塩基が同時に分配されることがあるが、この際に、同時に分配された塩基の量がケタール又はアセタールの分配抑制に十分であれば、そのまま濃縮工程又は精製工程を、塩基の量が不十分であればさらに塩基を添加して濃縮工程又は精製工程を行えばよい。
〔保存工程〕
後処理工程により得られたケタール又はアセタールは、保存工程においても分解する場合があり、塩基存在下で保存すると長期間安定して保存することができる。なお、後処理工程の塩基が残存しており、塩基の添加が不必要であれば、そのまま保存することができ、塩基が不十分であれば更なる塩基の添加にて保存することが好ましい。
The base may be simultaneously distributed to the solvent layer to which the target product has been distributed in the extraction step after neutralization. At this time, if the amount of the simultaneously distributed base is sufficient to suppress the distribution of ketal or acetal. If the amount of the base is insufficient, the concentration step or purification step may be carried out as it is, and then the base may be further added to carry out the concentration step or purification step.
[Preservation process]
The ketal or acetal obtained in the post-treatment process may be decomposed even in the storage process, and can be stably stored for a long time when stored in the presence of a base. In addition, if the base of the post-treatment step remains and the addition of the base is unnecessary, it can be stored as it is, and if the base is insufficient, it is preferably stored by the addition of a further base.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、化合物の定量はガスクロマトグラフィー(GC)による内部標準法により行った。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The compound was quantified by an internal standard method using gas chromatography (GC).

実施例1
2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール50.7g、プロピレングリコール0.5g、及びヒドロキシアセトン1.0gの塩化メチレン300ml溶液に、塩基として2.5gの炭酸ナトリウムをスラリーの状態で添加し、ロータリーエバポレーターにて温度40℃、200torrの条件下、塩化メチレンを1時間かけて留去した。濃縮された残渣をガスクロマトグラフィーにより分析した結果、2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール、プロピレングリコール、及びヒドロキシアセトンのいずれも分解が全く起こっていないことを確認した。
実施例2
塩基を炭酸水素ナトリウムに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、分解が全く起こっていないことを確認した。
実施例3
塩基をトリエチルアミンに代えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、分解が全く起こっていないことを確認した。
Example 1
A slurry of 2.5 g of sodium carbonate as a base in a solution of 50.7 g of 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol, 0.5 g of propylene glycol and 1.0 g of hydroxyacetone in 300 ml of methylene chloride And methylene chloride was distilled off over 1 hour using a rotary evaporator under the conditions of a temperature of 40 ° C. and 200 torr. As a result of analyzing the concentrated residue by gas chromatography, it was confirmed that no decomposition occurred in any of 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol, propylene glycol, and hydroxyacetone.
Example 2
The same operation as in Example 1 was performed except that the base was replaced with sodium bicarbonate. As a result, it was confirmed that no decomposition occurred.
Example 3
The same operation as in Example 1 was carried out except that the base was changed to triethylamine. As a result, it was confirmed that no decomposition occurred.

比較例1
2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール48.0g、プロピレングリコール0.9g、及びヒドロキシアセトン1.5gの塩化メチレン300ml溶液に、塩基を添加せずに、ロータリーエバポレーターにて温度40℃、200torrの条件下、塩化メチレンを1時間かけて留去した。濃縮された残渣をガスクロマトグラフィーにより分析した結果、2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール44.3g、プロピレングリコール2.3g、及びヒドロキシアセトン2.0gが定量され、さらに高沸点側に複数のピークが確認された。これらの高沸点物質は、2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノールとヒドロキシアセトンがアセタール化したものであった。
Comparative Example 1
To a solution of 48.0 g of 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol, 0.9 g of propylene glycol, and 1.5 g of hydroxyacetone in 300 ml of methylene chloride, the temperature was measured with a rotary evaporator without adding a base. Methylene chloride was distilled off over 1 hour under the conditions of 40 ° C. and 200 torr. As a result of analyzing the concentrated residue by gas chromatography, 44.3 g of 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol, 2.3 g of propylene glycol, and 2.0 g of hydroxyacetone were quantified. Multiple peaks were confirmed on the boiling side. These high-boiling substances were acetalized 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol and hydroxyacetone.

実施例4
2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール97.1wt%、プロピレングリコール0.7wt%、及びヒドロキシアセトン0.2wt%が含有する混合物に、塩基として炭酸ナトリウムを2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノールに対して5重量部添加し、25℃、窒素雰囲気下で3ヶ月間保存した。保存後の混合物をガスクロマトグラフィーで分析した結果、2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール、プロピレングリコール、及びヒドロキシアセトンのいずれも分解が全く起こっていないことを確認した。
Example 4
2,4-Dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol 97.1 wt%, propylene glycol 0.7 wt%, and hydroxyacetone 0.2 wt% were mixed with sodium carbonate as a base. 5 parts by weight was added to -1,3-dioxolane-2-methanol, and the mixture was stored at 25 ° C. in a nitrogen atmosphere for 3 months. As a result of analyzing the mixture after storage by gas chromatography, it was confirmed that no decomposition occurred in any of 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol, propylene glycol, and hydroxyacetone.

実施例5
塩基を炭酸水素ナトリウムに代えた以外は実施例4と同様の操作を行った。その結果、分解が全く起こっていないことを確認した。
Example 5
The same operation as in Example 4 was performed except that the base was replaced with sodium bicarbonate. As a result, it was confirmed that no decomposition occurred.

実施例6
塩基をトリエチルアミンに代えた以外は実施例4と同様の操作を行った。その結果、分解が全く起こっていないことを確認した。
Example 6
The same operation as in Example 4 was carried out except that the base was changed to triethylamine. As a result, it was confirmed that no decomposition occurred.

比較例2
2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール97.1wt%、プロピレングリコール0.7wt%、及びヒドロキシアセトン0.2wt%が含有する混合物に、塩基を添加せずに、25℃、窒素雰囲気下で3ヶ月間保存した。保存後の混合物をガスクロマトグラフィーで分析した結果、2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノール84.1wt%、プロピレングリコール4.5wt%、及びヒドロキシアセトン0.9wt%が定量され、さらに高沸点側に複数のピークが確認された。これらの高沸点物質は、2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−メタノールとヒドロキシアセトンがアセタール化したものであった。
Comparative Example 2
To a mixture containing 97.1 wt% 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol, 0.7 wt% propylene glycol, and 0.2 wt% hydroxyacetone, at 25 ° C. without adding a base, It was stored for 3 months under a nitrogen atmosphere. As a result of analyzing the mixture after storage by gas chromatography, 84.1 wt% of 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol, 4.5 wt% of propylene glycol, and 0.9 wt% of hydroxyacetone were quantified. Furthermore, a plurality of peaks were confirmed on the higher boiling point side. These high-boiling substances were acetalized 2,4-dimethyl-1,3-dioxolane-2-methanol and hydroxyacetone.

実施例7〜12、比較例3〜7
実施例1の操作に従って数種の化合物について実験を行った結果を表1に示す。なお、表1中の保持率とは、濃縮前のアセタールを100%とした時の、濃縮後のアセタールの割合を示す。また、塩基の重量部はアセタール100重量部に対する数値を示す。
Examples 7-12, Comparative Examples 3-7
Table 1 shows the results of experiments conducted on several compounds according to the procedure of Example 1. In addition, the retention rate in Table 1 shows the ratio of the acetal after concentration when the acetal before concentration is 100%. Moreover, the weight part of a base shows the numerical value with respect to 100 weight part of acetal.

Figure 2006104085
Figure 2006104085

Claims (5)

α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールを塩基の存在下で分解を抑制する方法。   A method for inhibiting the decomposition of a ketal or acetal derived from α-hydroxy ketones or α-hydroxy aldehydes in the presence of a base. α-ヒドロキシケトン類又はα-ヒドロキシアルデヒド類から誘導されるケタール又はアセタールの製造において、ケタール化又はアセタール化後の後処理工程を塩基の存在下で行うケタール又はアセタールの製造方法。 In the production of ketals or acetals derived from α-hydroxyketones or α-hydroxyaldehydes, a method for producing ketals or acetals in which a post-treatment step after ketalization or acetalization is carried out in the presence of a base. ケタール又はアセタールが下記式(1)
Figure 2006104085
で表される骨格を1つまたは複数個有するケタール又はアセタールである請求項1又は2記載の方法。
Ketal or acetal is represented by the following formula (1)
Figure 2006104085
The method according to claim 1, which is a ketal or acetal having one or more skeletons represented by the formula:
ケタール又はアセタールが下記式(2)又は(3)
Figure 2006104085
(式中R1、R2は同一又は異なって有機基を示し、R3〜R9は同一又は異なって水素原子、有機基を示す)である請求項3記載の方法。
Ketal or acetal is represented by the following formula (2) or (3)
Figure 2006104085
The method according to claim 3, wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represents an organic group, and R 3 to R 9 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group.
ケタール又はアセタールが、Fedorosの方法による溶解度パラメーターが21.8以上である請求項3又は4記載の方法。   The method according to claim 3 or 4, wherein the ketal or acetal has a solubility parameter of 21.8 or more according to the method of Fedoros.
JP2004290139A 2004-10-01 2004-10-01 Method for suppressing decomposition of ketal or acetal Withdrawn JP2006104085A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004290139A JP2006104085A (en) 2004-10-01 2004-10-01 Method for suppressing decomposition of ketal or acetal

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004290139A JP2006104085A (en) 2004-10-01 2004-10-01 Method for suppressing decomposition of ketal or acetal

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006104085A true JP2006104085A (en) 2006-04-20

Family

ID=36374218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004290139A Withdrawn JP2006104085A (en) 2004-10-01 2004-10-01 Method for suppressing decomposition of ketal or acetal

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006104085A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016017318A1 (en) * 2014-07-30 2016-02-04 セントラル硝子株式会社 Method for improving preservation stability of 2,2-difluoroacetoaldehyde

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016017318A1 (en) * 2014-07-30 2016-02-04 セントラル硝子株式会社 Method for improving preservation stability of 2,2-difluoroacetoaldehyde
JP2016033114A (en) * 2014-07-30 2016-03-10 セントラル硝子株式会社 Method for improving storage stability of 2,2-difluoroacetaldehyde
CN106536469A (en) * 2014-07-30 2017-03-22 中央硝子株式会社 Method for improving preservation stability of 2,2-difluoroacetoaldehyde
US9845278B2 (en) 2014-07-30 2017-12-19 Central Glass Company, Limited Method for improving preservation stability of 2,2-difluoroacetaldehyde

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Seebach et al. [3+ 3]-Carbocyclizations of nitroallylic esters and enamines with stereoselective formation of up to six new stereogenic centers
BRPI0817909B1 (en) Methods of obtaining and preparing a diastereomerically pure composition, compounds, and method of producing said compounds
Borovika et al. Chiral brønsted acid-catalyzed enantioselective ionic [2+ 4] cycloadditions
Zhang et al. Applications of zirconium (IV) compounds in organic synthesis
Bounar et al. Silver-catalyzed cascade reaction of tosylmethyl isocyanide (TosMIC) with propargylic alcohols to (E)-vinyl sulfones: dual roles of TosMIC
JP4648340B2 (en) Method for producing 15-keto prostaglandin E derivative
WO2003070714A1 (en) Fluorous acetylation
Griesbeck et al. Functionalized polar 1, 2, 4-trioxanes as building blocks by singlet oxygenation of 4-hydroxy tiglic acid using the solvent deuterium isotope trick
JP5108383B2 (en) Process for producing optically active monosulfonate compound
EP2048139A1 (en) PROCESS FOR PRODUCTION OF (±)-3a,6,6,9a TETRAMETHYLDECAHYDRONAPHTHO[2,1-b]FURAN-2(1H)-ONE
JP2006104085A (en) Method for suppressing decomposition of ketal or acetal
JP4278220B2 (en) Method for producing aldehyde
EP3564226B1 (en) Method for producing glyceric acid ester
JP5192856B2 (en) Process for producing oseltamivir and its related compounds
Pasetto et al. A Mitsunobu route to C-glycosides
JP2012025669A (en) Method for producing acetal
JP4111756B2 (en) Method for producing 3,3,3-trifluoro-2-hydroxypropionic acid and derivatives thereof
EP1286981B1 (en) Method for the production of 2- coumarone and substituted 2-coumarones
JP6055293B2 (en) Ether compound production method
JP2020033326A (en) Deodorant
Kamimura et al. Total synthesis of ent-calystegine B4 via nitro-Michael/aldol reaction
JP4562992B2 (en) Method for producing organic compound using iridium compound catalyst, etc.
JP4911528B2 (en) Process for producing optically active hydroxymethylated compounds and catalyst therefor
JP7117968B2 (en) A method for producing a hydroxy acid.
Khosropour et al. Efficient and convenient procedure for protection of hydroxyl groups to the THP, THF and TMS ethers and oxidation of these ethers to their aldehydes or ketones in [BPy] FeCl4 as a low cost room temperature ionic liquid

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070926

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20091029