JP2006096992A - Epoxy resin composition, cured product thereof, new epoxy resin, new polyhydroxy compound, and methods for producing them - Google Patents

Epoxy resin composition, cured product thereof, new epoxy resin, new polyhydroxy compound, and methods for producing them Download PDF

Info

Publication number
JP2006096992A
JP2006096992A JP2005247544A JP2005247544A JP2006096992A JP 2006096992 A JP2006096992 A JP 2006096992A JP 2005247544 A JP2005247544 A JP 2005247544A JP 2005247544 A JP2005247544 A JP 2005247544A JP 2006096992 A JP2006096992 A JP 2006096992A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
group
resin composition
carbon atoms
flame retardant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005247544A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5240485B2 (en
Inventor
Ichiro Ogura
一郎 小椋
Yoshiyuki Takahashi
芳行 高橋
Kazuo Arita
和郎 有田
Kunihiro Morinaga
邦裕 森永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP2005247544A priority Critical patent/JP5240485B2/en
Publication of JP2006096992A publication Critical patent/JP2006096992A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5240485B2 publication Critical patent/JP5240485B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition giving a cured product of high flame retardancy that is obtained even by using no halogen-based flame retardant, high in heat resistance, and suitably usable for semiconductor sealing materials or the like, to provide the cured product, to provide an epoxy resin suitably usable for the composition, to provide a polyhydroxy compound suitable as an intermediate and/or curing agent for the epoxy resin, and to provide methods for producing them respectively. <P>SOLUTION: The epoxy resin composition comprises (A) an epoxy resin and (B) a curing agent, wherein the epoxy resin has such a structure that two or more aromatic rings each having as substituent(s) on the aromatic ring (substituted) glycidyloxy group(s) and having alkyl groups on the 2, 4 and 6-sites of the glycidyloxy group are linked via two methylene groups bound to the respective aromatic rings of the biphenyl at the mutual meta-sites of the glycidyloxy group(s). The cured product of this composition, the new epoxy resin to be used for the composition, the intermediate for the new epoxy resin, and the new polyhydroxy compound as a curing agent for the epoxy resin, are also provided respectively. Further, the methods for producing them are also provided respectively. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は硬化性に優れ、かつ得られる硬化物の難燃性、耐熱性等に優れ、電気電子分野、特に半導体封止材料等に用いることが出来るエポキシ樹脂組成物、その硬化物、これに好適に用いることが出来る新規エポキシ樹脂、その中間体及び/または硬化剤として適する新規多価ヒドロキシ化合物及びそれらの製造方法に関する。   The present invention is excellent in curability and excellent in flame retardancy, heat resistance, etc. of the resulting cured product, and can be used in the electrical and electronic fields, particularly in semiconductor sealing materials, and the cured product thereof. The present invention relates to a novel epoxy resin which can be suitably used, an intermediate and / or a novel polyvalent hydroxy compound suitable as a curing agent, and a method for producing them.

エポキシ樹脂は種々の硬化剤で硬化させることにより、一般的に硬化時の低収縮性(寸法安定性)、電気絶縁性、耐薬品性などに優れた硬化物となるが、最近のエレクトロニクス分野や高機能塗料分野などの技術革新やダイオキシン問題を代表とする環境問題に対応するために、従来よりも優れた難燃性、耐熱性、耐湿性、硬化性などの特性が強く求められている。   Epoxy resins can be cured with various curing agents, resulting in cured products that are generally excellent in low shrinkage (dimensional stability), electrical insulation, and chemical resistance during curing. In order to deal with technological innovations in the field of high-performance paints and environmental problems such as the dioxin problem, characteristics such as flame retardancy, heat resistance, moisture resistance, and curability that are superior to conventional ones are strongly demanded.

それらの要求に対応するための手段として、耐湿性などの向上を目的として,フェノールアラルキル樹脂やそれをエポキシ化して得られるエポキシ樹脂が多く提案されてきた(特許例 特開昭63−238122、特開平6−25392、特開平8−143648等)。しかしながら,それらの化合物を用いたエポキシ樹脂硬化物でも、現在の厳しい要求に適用できるに十分な性能はもたない。またこれらの特許明細書中には、使用するフェノール類の例として,漠然とトリアルキルフェノール類が挙げられている。しかし、トリアルキルフェノール類を用いることによる効果等の具体的な内容は何ら記載されていない。
一方、耐水性に優れる硬化物を与えるノボラック型樹脂、エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂組成物として、トリメチルフェノール類を原料に用いたフェノールアラルキル樹脂やそれをエポキシ化して得られるエポキシ樹脂が提案されている(特許文献1)。しかしながら、このものは耐水性には優れるものの、十分な難燃性が得られず、耐熱性にも劣るものであり、上記の技術課題を解決できるものではなかった。また使用するフェノール類として、2,3,6−トリメチルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノール,3,4,5−トリメチルフェノールの具体的な記載はあるが、2,4,6−トリアルキルフェノール類の例示は一切なく、本願発明を具体的に開示するものではない。
As means for meeting these demands, many phenol aralkyl resins and epoxy resins obtained by epoxidizing them have been proposed for the purpose of improving moisture resistance (Patent Example JP-A-63-238122). Kaihei 6-25392, JP-A-8-143648, etc.). However, even epoxy resin cured products using these compounds do not have sufficient performance to be applicable to current strict requirements. In these patent specifications, trialkylphenols are vaguely cited as examples of phenols to be used. However, there is no description of specific contents such as effects by using trialkylphenols.
On the other hand, as novolak-type resins, epoxy resins and epoxy resin compositions that give cured products with excellent water resistance, phenol aralkyl resins using trimethylphenols as raw materials and epoxy resins obtained by epoxidizing them have been proposed ( Patent Document 1). However, although this product is excellent in water resistance, sufficient flame retardancy cannot be obtained and heat resistance is also inferior, and the above technical problem cannot be solved. As phenols to be used, there are specific descriptions of 2,3,6-trimethylphenol, 2,3,5-trimethylphenol, 3,4,5-trimethylphenol, but 2,4,6-trialkylphenol. There is no example of the kind, and the present invention is not specifically disclosed.

また、フェノール類がアルデヒド類や後述する一般式(3)及び一般式(4)及び一般式(5)で表されるビフェニル骨格を有するキシリレン系縮合剤と反応する場合のフェノール類の反応位置に関しては、オルソ位とパラ位が、メタ位に対して圧倒的に優先することが周知である。従って,2個のメタ位しか空位でない2,4,6−トリアルキルフェノール類を、反応の原料として使用しようする発想は、通常、当業者は持ちえなかった。そのことも上述のフェノールアラルキル樹脂の使用原料として、トリアルキルフェノール類が一切、具体的に記載されていない技術的背景となっていた。   Regarding the reaction position of phenols when phenols react with aldehydes and xylylene-based condensing agents having a biphenyl skeleton represented by general formula (3), general formula (4) and general formula (5) described later. It is well known that ortho and para positions have overwhelming priority over meta positions. Therefore, the idea of using 2,4,6-trialkylphenols having only two meta positions as vacancies as a raw material for the reaction cannot usually be possessed by those skilled in the art. This is also a technical background in which trialkylphenols are not specifically described as raw materials for the above-mentioned phenol aralkyl resin.

特開平10−251362JP-A-10-251362

また、製造法においては、2,4,6−トリメチルフェノール以外のトリメチルフェノールを用いた場合、一般式(3)及び一般式(4)及び一般式(5)で表されるビフェニル骨格と縮合させて得られる化合物は、非常に結晶性が強く、溶剤溶解性が低いため、用いた触媒を完全に除去するためには縮合反応後に濾過等の煩雑な操作を必要とし、かつ収率が低下するため工業的に不利であった。溶剤溶解性だけの問題なら、2,4,6−トリメチルフェノール以外のトリメチルフェノールを用いた場合でも、一般式(3)或いは(4)或いは(5)に対するトリメチルフェノールのモル量を減少させ、生成するn=0体を減少させることで、結晶性が低下し、溶解性は向上するが、得られる多価ヒドロキシ化合物とエピハロヒドリン類を反応させたエポキシ樹脂の粘度が大きく上昇するため好ましくない。   In the production method, when trimethylphenol other than 2,4,6-trimethylphenol is used, it is condensed with a biphenyl skeleton represented by general formula (3), general formula (4) and general formula (5). The resulting compound has very strong crystallinity and low solvent solubility. Therefore, in order to completely remove the catalyst used, a complicated operation such as filtration is required after the condensation reaction, and the yield decreases. Therefore, it was industrially disadvantageous. If the problem is only solvent solubility, even if trimethylphenol other than 2,4,6-trimethylphenol is used, the molar amount of trimethylphenol with respect to general formula (3) or (4) or (5) is reduced By reducing the n = 0 form, the crystallinity is lowered and the solubility is improved, but the viscosity of the epoxy resin obtained by reacting the obtained polyvalent hydroxy compound and epihalohydrin is greatly increased, which is not preferable.

従って、本発明の課題は、優れた硬化性およびハロゲン系難燃剤を使用しなくても得られる硬化物の難燃性に優れ、且つ、高耐熱性であり、半導体封止材料用等に好適に用いることが出来るエポキシ樹脂組成物、その硬化物、これに好適に用いることが出来る新規エポキシ樹脂、その中間体及び/または硬化剤として適する新規多価ヒドロキシ化合物及びそれらを効率的に得られる製造方法を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is excellent in curability and flame retardancy of a cured product obtained without using a halogen-based flame retardant, and has high heat resistance, and is suitable for use in semiconductor sealing materials and the like. Epoxy resin composition that can be used in the present invention, cured products thereof, novel epoxy resins that can be suitably used in the composition, novel polyhydric hydroxy compounds suitable as intermediates and / or curing agents, and production that can efficiently obtain them It is to provide a method.

本発明者らは、前記の課題を解決するため、前記の特性に優れるエポキシ樹脂組成物を求めて鋭意研究した結果、置換基を有していてもよいグリシジルオキシ基を芳香環上の置換基として有し、且つ該グリシジルオキシ基の2,4,6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基を有する芳香環の2個以上がグリシジルオキシ基のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基を介して連結された構造を含むエポキシ樹脂、及び/又は、芳香族性水酸基を有し、且つ該水酸基の2,4,6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基を有する芳香環の2個以上が芳香族性水酸基のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基を介して連結された構造を含む多価ヒドロキシ化合物を用いて得られる硬化物は、前記特許文献1に提案されたエポキシ樹脂を用いて得られる硬化物と比較して、メチル基の置換位置が異なるだけの構造上の違いしかないにもかかわらず、当業者の予想を遥かに越えた卓越した難燃性と耐熱性を兼備し、特にハロゲン系難燃剤を用いなくてもUL−94 V−0クラスの高い難燃性を発現することを見出し、本発明を完成した。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied for an epoxy resin composition excellent in the above-mentioned properties. As a result, the glycidyloxy group which may have a substituent is substituted with a substituent on the aromatic ring. And two or more aromatic rings having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be the same or different at the 2, 4, 6 positions of the glycidyloxy group are meta positions of the glycidyloxy group, An epoxy resin having a structure linked via two methylene groups which may have a substituent, and / or an aromatic hydroxyl group bonded to each aromatic ring of biphenyl, and the hydroxyl group 2 or more of the aromatic rings having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be the same or different at the 2, 4 and 6 positions are bonded to each aromatic ring of biphenyl at the meta positions of the aromatic hydroxyl group. Have two substituents The cured product obtained by using a polyvalent hydroxy compound containing a structure linked via a methylene group may be methylated in comparison with the cured product obtained by using the epoxy resin proposed in Patent Document 1. Despite structural differences that differ only in the substitution position of the group, it has excellent flame resistance and heat resistance far beyond the expectations of those skilled in the art, and even without the use of halogen flame retardants. The inventors found that the flame retardancy of the UL-94 V-0 class was exhibited, and completed the present invention.

即ち、本発明は、置換基を有してもよいグリシジルオキシ基(a1)を芳香環上の置換基として有し、且つ該グリシジルオキシ基の2、4、6位に同一でも異なってもよい炭素数1〜4のアルキル基(a2)を有する芳香環の2個以上がグリシジルオキシ基(a1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基(a3)を介して連結された構造を含むエポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物を提供する。   That is, the present invention has an optionally substituted glycidyloxy group (a1) as a substituent on the aromatic ring, and may be the same or different at the 2, 4, 6 position of the glycidyloxy group. Two or more of the aromatic rings having an alkyl group (a2) having 1 to 4 carbon atoms have two substituents bonded to each aromatic ring of biphenyl at the meta positions of the glycidyloxy group (a1). An epoxy resin composition comprising an epoxy resin (A) including a structure linked via an optional methylene group (a3) and a curing agent (B) is provided.

また、本発明は、芳香族性水酸基(c1)を有し、且つ該水酸基の2、4、6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基(c2)を有する芳香環の2個以上が芳香族性水酸基(c1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基(a3)を介して連結された構造を含む多価ヒドロキシ化合物(C)とエポキシ樹脂(D)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物をも提供する。   The present invention also provides an aromatic ring having an aromatic hydroxyl group (c1) and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (c2) which may be the same or different at positions 2, 4, and 6 of the hydroxyl group. Are linked to each other via the methylene group (a3) which may have a substituent at the meta position of the aromatic hydroxyl group (c1) and bonded to each aromatic ring of biphenyl. An epoxy resin composition comprising a polyvalent hydroxy compound (C) having a structure and an epoxy resin (D) is also provided.

また、本発明は、下記一般式(1)   Further, the present invention provides the following general formula (1)

Figure 2006096992
(式中、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜4のアルキル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子またはメチル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、nは平均値で0〜10を示す。)で表されるエポキシ樹脂をも提供する。
Figure 2006096992
Wherein R 1 is the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is the same or different hydrogen atom or methyl group, and R 3 is the same or different hydrogen. An epoxy resin represented by an atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an average value of 0 to 10) is also provided.

また、本発明は、下記一般式(2)   Further, the present invention provides the following general formula (2)

Figure 2006096992
(但し、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜4のアルキル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子またはメチル基、nは平均値で0〜10を示す。)で表される多価ヒドロキシ化合物をも提供する。
Figure 2006096992
(However, R 1 is the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is the same or different hydrogen atom or methyl group, and n is an average value of 0 to 10.) The polyvalent hydroxy compound represented by these is also provided.

また、本発明は、2,4,6位に炭素数1〜4のアルキル基を置換基として有するトリアルキルフェノール類(x1)と下記一般式(3)、(4)及び(5)で表される化合物からなる群から選ばれる1種以上のビフェニル化合物(x2)とを反応させることを特徴とする多価ヒドロキシ化合物の製造方法、これらの多価ヒドロキシ化合物とエピハロヒドリンとを反応することを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法をも提供する。(式中のXはハロゲン原子を、Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。) Further, the present invention is represented by trialkylphenols (x1) having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as substituents at positions 2, 4, 6 and the following general formulas (3), (4) and (5). A method for producing a polyvalent hydroxy compound, comprising reacting at least one biphenyl compound (x2) selected from the group consisting of the following compounds, and reacting these polyvalent hydroxy compounds with epihalohydrin: An epoxy resin manufacturing method is also provided. (X in the formula represents a halogen atom, and R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

Figure 2006096992
Figure 2006096992

本発明によれば、ハロゲン系難燃剤を使用しなくても得られる硬化物の難燃性が良好であり、耐熱性にも優れるエポキシ樹脂組成物を得る事が出来、さらに、該エポキシ樹脂組成物に適した新規エポキシ樹脂、硬化剤として適し、且つ前記エポキシ樹脂の原料ともなる新規多価ヒドロキシ化合物及びそれらの製造法、並びにこれらを用いた硬化物を提供することができる。これらは、環境・安全問題に対応した半導体封止材料やプリント配線基板などの電子材料分野のエポキシ樹脂材料として極めて有用である。   According to the present invention, it is possible to obtain an epoxy resin composition having good flame retardancy of a cured product obtained without using a halogen-based flame retardant, and excellent in heat resistance. It is possible to provide a novel epoxy resin suitable for a product, a novel polyvalent hydroxy compound suitable as a curing agent and a raw material for the epoxy resin, a production method thereof, and a cured product using them. These are extremely useful as epoxy resin materials in the field of electronic materials such as semiconductor encapsulating materials and printed wiring boards that meet environmental and safety problems.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の第一の発明におけるエポキシ樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂(A)は、置換基を有していてもよいグリシジルオキシ基(a1)を芳香環上の置換基として有し、且つ該グリシジルオキシ基の2,4,6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基(a2)を有する芳香環の2個以上がグリシジルオキシ基(a1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基を介して連結された構造を有するものである。得られる硬化物の難燃性に優れる点からは、芳香環上の炭素数1〜4のアルキル基(a2)が全てメチル基である事が好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The epoxy resin (A) used in the epoxy resin composition according to the first aspect of the present invention has a glycidyloxy group (a1) which may have a substituent as a substituent on the aromatic ring, and the glycidyl Two or more aromatic rings having an alkyl group (a2) having 1 to 4 carbon atoms which may be the same or different at the 2,4,6 position of the oxy group are meta positions of the glycidyloxy group (a1), and biphenyl It has the structure connected via the methylene group which may have a substituent of two couple | bonded with each aromatic ring. From the viewpoint of excellent flame retardancy of the resulting cured product, it is preferable that all of the alkyl groups (a2) having 1 to 4 carbon atoms on the aromatic ring are methyl groups.

前記ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基としては、例えば、下記の構造のものが挙げられる。尚、下記構造式中の*印の位置で、前記の芳香環のメタ位と結合していることを示す。   Examples of the two methylene groups optionally having a substituent bonded to each aromatic ring of the biphenyl include those having the following structures. In addition, it shows having couple | bonded with the meta position of the said aromatic ring in the position of * mark in the following structural formula.

Figure 2006096992
Figure 2006096992

これらの具体例としては、構造の具体例としては、下記の構造が挙げられる。   Specific examples of these structures include the following structures.

Figure 2006096992
Figure 2006096992

Figure 2006096992
Figure 2006096992

これらの中でも、エポキシ樹脂組成物の硬化性に優れる点から、グリシジルオキシ基(a1)には、置換基を有しない構造であることが好ましく、エポキシ樹脂の工業的製造法が容易である点からは連結基が置換基を有しないメチレン基(前記構造式(x))である事が好ましい。   Among these, from the viewpoint of excellent curability of the epoxy resin composition, the glycidyloxy group (a1) preferably has a structure having no substituent, and the industrial production method of the epoxy resin is easy. The linking group is preferably a methylene group having no substituent (the above structural formula (x)).

本発明のエポキシ樹脂組成物におけるエポキシ樹脂(A)としては、前記構造をその繰り返し単位として含有するものであるが、該エポキシ樹脂中には、他の構造を含んでいても良く、また、他の構造を有するその他のエポキシ樹脂と併用して用いても良い。また、エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量としては、特に限定されるものではないが、得られる硬化物の難燃性、耐熱性、耐湿性等の性能バランスに優れる点から300〜700g/eqであることが好ましい。   The epoxy resin (A) in the epoxy resin composition of the present invention contains the above structure as its repeating unit, but the epoxy resin may contain other structures. You may use together with the other epoxy resin which has the structure of. Moreover, it is although it does not specifically limit as an epoxy equivalent of an epoxy resin (A), It is 300-700 g / eq from the point which is excellent in performance balance, such as a flame retardance of a hardened | cured material obtained, heat resistance, and moisture resistance. Preferably there is.

ここでエポキシ樹脂(A)を得る方法としては、例えば、2,4,6位に炭素数1〜4のアルキル基を置換基として有するトリアルキルフェノール類(x2)と前記一般式(3)、(4)及び(5)で表される化合物からなる群から選ばれる1種以上のビフェニル化合物(x2)とを反応して、得られた多価ヒドロキシ化合物をエピハロヒドリンと反応させる方法が挙げられる。   Here, as a method for obtaining the epoxy resin (A), for example, trialkylphenols (x2) having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as substituents at the 2, 4, 6 positions and the general formula (3), ( Examples thereof include a method of reacting one or more biphenyl compounds (x2) selected from the group consisting of the compounds represented by 4) and (5) and reacting the resulting polyvalent hydroxy compound with epihalohydrin.

前記2,4,6位に炭素数1〜4のアルキル基を置換基として有するトリアルキルフェノール類(a)の具体例としては、2,4,6−トリメチルフェノール、2,4,6−トリエチルフェノール、2,4−ジメチル−6−エチルフェノール、2,4,6−トリプロピルフェノール等が挙げられる。なかでも2,4,6−トリメチルフェノールを用いた場合、難燃性と耐熱性および硬化性のバランスが良好となるため好ましい。   Specific examples of the trialkylphenols (a) having a C 1-4 alkyl group as a substituent at the 2,4,6 positions include 2,4,6-trimethylphenol and 2,4,6-triethylphenol. 2,4-dimethyl-6-ethylphenol, 2,4,6-tripropylphenol and the like. Of these, 2,4,6-trimethylphenol is preferred because the balance between flame retardancy, heat resistance and curability is improved.

また、前記一般式(3)、(4)又は(5)で表される化合物としては、ビス(クロロメチル)ビフェニル、ビス(ブロムメチル)ビフェニル、ビス(ジメチロール)ビフェニル、ビス(メトキシメチル)ビフェニル、ビス(エトキシメチル)ビフェニル、ビス(イソプロポキシ)メチルビフェニル、ビス(ヒドロキシエチル)ビフェニル、ビス(1−メトキシ−1−エチル)ビフェニル、ビス(1−イソプロポキシ−1−エチル)ビフェニル、ビス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニル、ビス(2−メトキシ−2−プロピル)ビフェニル、ビス(2−イソプロポキシ−2−プロピル)ビフェニル、ビス(ビニル)ビフェニル等が挙げられる。これらのなかでもビス(クロロメチル)ビフェニル或いはビス(メトキシメチル)ビフェニルを用いた場合、難燃性と耐熱性および硬化性のバランスが良好となるため好ましい。また、これらの一般式(3)、(4)又は(5)で表される化合物は1種類のみを用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。なお、一般式(3)及び一般式(4)及び一般式(5)で表されるビフェニル骨格を有するキシリレン系縮合剤を表す。   Examples of the compound represented by the general formula (3), (4) or (5) include bis (chloromethyl) biphenyl, bis (bromomethyl) biphenyl, bis (dimethylol) biphenyl, bis (methoxymethyl) biphenyl, Bis (ethoxymethyl) biphenyl, bis (isopropoxy) methylbiphenyl, bis (hydroxyethyl) biphenyl, bis (1-methoxy-1-ethyl) biphenyl, bis (1-isopropoxy-1-ethyl) biphenyl, bis (2 -Hydroxy-2-propyl) biphenyl, bis (2-methoxy-2-propyl) biphenyl, bis (2-isopropoxy-2-propyl) biphenyl, bis (vinyl) biphenyl and the like. Among these, bis (chloromethyl) biphenyl or bis (methoxymethyl) biphenyl is preferable because the balance between flame retardancy, heat resistance and curability is improved. Moreover, only 1 type may be used for the compound represented by these general formula (3), (4) or (5), and it may use it in combination of 2 or more types. In addition, the xylylene-type condensing agent which has a biphenyl skeleton represented by General formula (3), General formula (4), and General formula (5) is represented.

この多価ヒドロキシ化合物を得る反応としては、酸触媒を用いる事が好ましい。該酸触媒としては、種々の無機酸、有機酸より適宜選択することができる。例えば、塩酸、硫酸、燐酸などの鉱酸や、蟻酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素などのルイス酸あるいは、活性白土、シリカ−アルミナ、ゼオライトなどの固体酸などが挙げられる。これらの中でも高核体数の反応生成物が得られやすいことから、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸が好ましい。即ち、2,4,6−トリメチルフェノールと前記ビフェニル類とをメタンスルホン酸及び/又はパラトルエンスルホン酸存在下で反応させる事が最も好ましい。これら触媒の使用量は特に限定されるものではないが、一般式(3)〜(5)で表される化合物の0.1〜30重量%用いるのが好ましい。これら触媒の形態も特に限定されず、水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用しても構わない。   As a reaction for obtaining this polyvalent hydroxy compound, it is preferable to use an acid catalyst. The acid catalyst can be appropriately selected from various inorganic acids and organic acids. For example, mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, organic acids such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, paratoluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, zinc chloride, aluminum chloride, iron chloride, boron trifluoride, etc. Or a solid acid such as activated clay, silica-alumina or zeolite. Among these, methanesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid are preferable because a reaction product having a high number of nuclei is easily obtained. That is, it is most preferable to react 2,4,6-trimethylphenol and the biphenyl in the presence of methanesulfonic acid and / or paratoluenesulfonic acid. Although the usage-amount of these catalysts is not specifically limited, It is preferable to use 0.1-30 weight% of the compound represented by General formula (3)-(5). The form of these catalysts is not particularly limited, and the catalyst may be used in the form of an aqueous solution or in the form of a solid.

また、前記トリアルキルフェノール類(x1)と、カルボニル基含有化合物(x2)とを反応させる際に、トリアルキルフェノール類(x1)100重量部に対し、更に、フェノール、炭素数1〜4のモノアルキルフェノール類及び炭素数1〜4のジアルキルフェノール類のなかから選ばれる少なくとも1種類以上のアルキルフェノール類(x3)を5〜30重量部用いてカルボニル基含有化合物(x2)と反応させることもできる。前記アルキルフェノール類(x3)を併用することで、得られる硬化物の難燃性が向上し、また、反応生成物の相溶性が高まり、高核体数の多価ヒドロキシ化合物を容易に得ることができる。   Moreover, when making the said trialkylphenol (x1) and a carbonyl group containing compound (x2) react, with respect to 100 weight part of trialkylphenols (x1), phenol and a C1-C4 monoalkylphenol are further provided. And 5 to 30 parts by weight of at least one alkylphenol (x3) selected from dialkylphenols having 1 to 4 carbon atoms can be reacted with the carbonyl group-containing compound (x2). By using the alkylphenols (x3) in combination, the flame retardancy of the resulting cured product is improved, the compatibility of the reaction product is increased, and a polynuclear hydroxy compound having a high nucleus number can be easily obtained. it can.

また、前記トリアルキルフェノール類(x1)と、ビフェニル化合物(x2)とを反応させる際に、トリアルキルフェノール類(x1)100重量部に対し、更に、フェノール、炭素数1〜4のモノアルキルフェノール類及び炭素数1〜4のジアルキルフェノール類のなかから選ばれる少なくとも1種類以上のアルキルフェノール類(x3)を5〜30重量部用いてカルボニル基含有化合物(x2)と反応させることもできる。前記アルキルフェノール類(x3)を併用することで、得られる硬化物の難燃性が向上し、また、反応生成物の相溶性が高まり、高核体数の多価ヒドロキシ化合物を容易に得ることができる。   Moreover, when making the said trialkylphenol (x1) and biphenyl compound (x2) react, with respect to 100 weight part of trialkylphenols (x1), phenol, a C1-C4 monoalkylphenol, and carbon are further added. The carbonyl group-containing compound (x2) can be reacted with 5 to 30 parts by weight of at least one alkylphenol (x3) selected from dialkylphenols having 1 to 4 formulas. By using the alkylphenols (x3) in combination, the flame retardancy of the resulting cured product is improved, the compatibility of the reaction product is increased, and a polynuclear hydroxy compound having a high nucleus number can be easily obtained. it can.

前記アルキルフェノール類(x3)としては、得られる硬化物の難燃性の向上効果に優れることから、ο−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾールなどのメチルフェノール類、2,4−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、3,4−ジメチルフェノール類などのジメチルフェノール類が好ましく、特に2,4−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノールを用いる事が好ましい。   Since the alkylphenols (x3) are excellent in the effect of improving the flame retardancy of the resulting cured product, methylphenols such as o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,4-dimethylphenol, 2 Dimethylphenols such as 2,6-dimethylphenol, 2,5-dimethylphenol and 3,4-dimethylphenols are preferred, especially 2,4-dimethylphenol, 2,6-dimethylphenol and 2,5-dimethylphenol. It is preferable to use it.

上記反応を行う場合、トリアルキルフェノール類(x1)とアルキルフェノール類(x3)との合計モル数とカルボニル基含有化合物(x2)のモル数との比[(x1)+(x3)]:(x2)が5:0.1〜1:1(モル比)であることが好ましい。この際、過剰に用いたトリアルキルフェノール類(x1)は、硬化物としたときの耐熱性を阻害するために、減圧加熱下で留去しておくことが好ましい。   When performing the above reaction, the ratio of the total number of moles of trialkylphenols (x1) and alkylphenols (x3) to the number of moles of the carbonyl group-containing compound (x2) [(x1) + (x3)]: (x2) Is preferably 5: 0.1 to 1: 1 (molar ratio). At this time, it is preferable to distill off the excessively used trialkylphenols (x1) under reduced pressure heating in order to inhibit the heat resistance of the cured product.

上記縮合反応は無溶剤下で、あるいは有機溶剤の存在下で行うことができる。用いうる有機溶剤の具体例としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。有機溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して通常50〜300重量%、好ましくは100〜250重量%である。反応温度は通常40〜180℃、反応時間は通常1〜10時間である。これらの有機溶剤は単独で、あるいは数種類を混合して用いることが出来る。また、反応中に生成する水或はアルコール類などを系外に分留管などを用いて留去することは、反応を速やかに行う上で好ましい。   The condensation reaction can be performed in the absence of a solvent or in the presence of an organic solvent. Specific examples of the organic solvent that can be used include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, xylene, and methyl isobutyl ketone. The amount of the organic solvent used is usually 50 to 300% by weight, preferably 100 to 250% by weight, based on the total weight of the charged raw materials. The reaction temperature is usually 40 to 180 ° C., and the reaction time is usually 1 to 10 hours. These organic solvents can be used alone or in combination of several kinds. In addition, it is preferable to distill off water or alcohols generated during the reaction out of the system using a fractionating tube or the like in order to carry out the reaction quickly.

また、得られる一般式(1)の化合物の着色が大きい場合は、それを抑制するために、酸化防止剤や還元剤を添加しても良い。酸化防止剤としては特に限定されないが、例えば2,6−ジアルキルフェノール誘導体などのヒンダードフェノール系化合物や2価のイオウ系化合物や3価のリン原子を含む亜リン酸エステル系化合物などを挙げることができる。還元剤としては特に限定されないが、例えば次亜リン酸、亜リン酸、チオ硫酸、亜硫酸、ハイドロサルファイトまたはこれら塩などが挙げられる。   Moreover, when the coloring of the compound of General formula (1) obtained is large, in order to suppress it, you may add antioxidant and a reducing agent. Although it does not specifically limit as antioxidant, For example, a hindered phenol type compound, such as a 2, 6- dialkylphenol derivative, a bivalent sulfur type compound, a phosphite type compound containing a trivalent phosphorus atom, etc. are mentioned. Can do. The reducing agent is not particularly limited, and examples thereof include hypophosphorous acid, phosphorous acid, thiosulfuric acid, sulfurous acid, hydrosulfite, and salts thereof.

反応終了後、反応混合物のpH値が3〜7、好ましくは5〜7になるまで中和あるいは水洗処理を行う。中和処理や水洗処理は常法にしたがって行えばよい。例えば酸性触媒を用いた場合は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、トリエチレンテトラミン、アニリン等の塩基性物質を、塩基性触媒を用いた場合は塩酸、第一リン酸水素ナトリウム、蓚酸等の酸性物質を中和剤として用いることができる。次いで、中和あるいは水洗処理を行った後、減圧加熱下で溶剤及び未反応物を留去し生成物の濃縮を行い、前記多価フェノール化合物を得ることが出来る。   After completion of the reaction, the reaction mixture is neutralized or washed with water until the pH value of the reaction mixture becomes 3 to 7, preferably 5 to 7. What is necessary is just to perform a neutralization process and a water washing process in accordance with a conventional method. For example, when an acidic catalyst is used, basic substances such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, triethylenetetramine, aniline are used, and when a basic catalyst is used, hydrochloric acid, sodium monohydrogen phosphate, An acidic substance such as succinic acid can be used as a neutralizing agent. Subsequently, after neutralizing or washing with water, the solvent and unreacted substances are distilled off under heating under reduced pressure to concentrate the product, whereby the polyhydric phenol compound can be obtained.

次いで、前記多価フェノール化合物とエピハロヒドリンとを反応させ、エポキシ樹脂を得ることができる。前記エポキシ樹脂化反応を行う条件としては種々の方法で行うことが出来る。例えば、前記多価フェノール化合物のフェノール性水酸基1モルに対し、エピハロヒドリン2〜10モルを添加し、この混合物に、一般式(1)の化合物のフェノール性水酸基1モルに対し0.9〜2.0モルの塩基性触媒を一括添加または徐々に添加しながら20〜120℃の温度で0.5〜10時間反応させる。この塩基性触媒は固形でもその水溶液を使用してもよく、水溶液を使用する場合は、連続的に添加すると共に、反応混合物中から減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリン類を留出せしめ、更に分液して水は除去しエピハロヒドリン類は反応混合物中に連続的に戻す方法でもよい。   Next, the polyhydric phenol compound and epihalohydrin can be reacted to obtain an epoxy resin. The conditions for carrying out the epoxy resin reaction can be carried out by various methods. For example, 2-10 mol of epihalohydrin is added to 1 mol of phenolic hydroxyl group of the polyhydric phenol compound, and 0.9-2. The reaction is carried out at a temperature of 20 to 120 ° C. for 0.5 to 10 hours while adding or gradually adding 0 mol of a basic catalyst. The basic catalyst may be solid or an aqueous solution thereof. When an aqueous solution is used, it is continuously added and water and epihalohydrins are continuously distilled from the reaction mixture under reduced pressure or normal pressure. The solution may be taken out and further separated to remove water and the epihalohydrins are continuously returned to the reaction mixture.

なお、工業生産を行う際は、エポキシ樹脂生産の初バッチでは仕込みエピハロヒドリンの全てを新しいものを使用するが、次バッチ以降は、粗反応生成物から回収されたエピハロヒドリンと、反応で消費される分及で消失する分に相当する新しいエピハロヒドリンとを併用することが好ましい。この時、使用するエピハロヒドリンは特に限定されないが、例えばエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が挙げられる。なかでも入手が容易なことからエピクロルヒドリンが好ましい。   When industrial production is performed, the first batch of epoxy resin production uses all of the prepared epihalohydrin, but after the next batch, the epihalohydrin recovered from the crude reaction product and the amount consumed in the reaction. It is preferable to use in combination with a new epihalohydrin corresponding to the amount disappeared. At this time, the epihalohydrin used is not particularly limited, and examples thereof include epichlorohydrin and epibromohydrin. Of these, epichlorohydrin is preferable because it is easily available.

また、塩基性触媒も特に限定されないが、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物等が挙げられる。特にエポキシ樹脂合成反応の触媒活性に優れる点からアルカリ金属水酸化物が好ましく、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。使用に際しては、これらのアルカリ金属水酸化物を10〜55質量%程度の水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用しても構わない。また、有機溶媒を併用することにより、エポキシ樹脂の合成における反応速度を高めることができる。このような有機溶媒としては特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキサン、1、3−ジオキサン、ジエトキシエタン等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で使用してもよいし、また、極性を調整するために適宜二種以上を併用してもよい。   The basic catalyst is not particularly limited, and examples thereof include alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkali metal hydroxides. In particular, alkali metal hydroxides are preferred from the viewpoint of excellent catalytic activity for the epoxy resin synthesis reaction, and examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide. In use, these alkali metal hydroxides may be used in the form of an aqueous solution of about 10 to 55% by mass or in the form of a solid. Moreover, the reaction rate in the synthesis | combination of an epoxy resin can be raised by using an organic solvent together. Examples of such organic solvents include, but are not limited to, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, 1-butanol, secondary butanol, and tertiary butanol, methyl Examples include cellosolves such as cellosolve and ethyl cellosolve, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane and diethoxyethane, and aprotic polar solvents such as acetonitrile, dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more as appropriate in order to adjust the polarity.

これらのエポキシ化反応の反応物を水洗後、加熱減圧下、蒸留によって未反応のエピハロヒドリンや併用する有機溶媒を留去する。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、得られたエポキシ樹脂を再びトルエン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどの有機溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えてさらに反応を行うこともできる。この際、反応速度の向上を目的として、4級アンモニウム塩やクラウンエーテル等の相関移動触媒を存在させてもよい。相関移動触媒を使用する場合のその使用量としては、用いるエポキシ樹脂に対して0.1〜3.0重量%の範囲が好ましい。反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に、加熱減圧下トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去することにより高純度のエポキシ樹脂を得ることができる。   After washing the reaction product of these epoxidation reactions, unreacted epihalohydrin and the organic solvent to be used in combination are distilled off by distillation under heating and reduced pressure. Further, in order to obtain an epoxy resin with less hydrolyzable halogen, the obtained epoxy resin is again dissolved in an organic solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Further reaction can be carried out by adding an aqueous solution of the product. At this time, a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt or crown ether may be present for the purpose of improving the reaction rate. When the phase transfer catalyst is used, the amount used is preferably in the range of 0.1 to 3.0% by weight based on the epoxy resin used. After completion of the reaction, the generated salt is removed by filtration, washing with water, and a high-purity epoxy resin can be obtained by distilling off a solvent such as toluene and methyl isobutyl ketone under heating and reduced pressure.

第一の発明に用いる硬化剤(B)としては、特に限定されるものではなく、前記エポキシ樹脂(A)中のエポキシ基と硬化反応する事が出来るものであれば、種々のものを使用する事が出来る。例えば、アミン系化合物、アミド系化合物、酸無水物系化合物、フェノール系化合物などの種々の硬化剤を用いることができる。例えば、アミン系化合物としてはジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾール、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられ、アミド系化合物としては、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられ、酸無水物系化合物としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられ、フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂(通称、ザイロック樹脂)、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミンやベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール化合物)等の多価フェノール化合物、及びこれらの変性物等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。 The curing agent (B) used in the first invention is not particularly limited, and various curing agents can be used as long as they can undergo a curing reaction with the epoxy group in the epoxy resin (A). I can do it. For example, various curing agents such as amine compounds, amide compounds, acid anhydride compounds, and phenol compounds can be used. Examples of amine compounds include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, BF 3 -amine complexes, guanidine derivatives, and the like. Examples of amide compounds include dicyandiamide and linolenic acid. Examples of the acid anhydride compound include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and methyltetrahydroanhydride. Examples thereof include phthalic acid, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, etc. Examples of phenolic compounds include phenol novolac resins, cresol novolac resins, and aromatic compounds. Aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin, dicyclopentadiene phenol addition type resin, phenol aralkyl resin (commonly known as zylock resin), naphthol aralkyl resin, trimethylol methane resin, tetraphenylol ethane resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol Condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolak resin, biphenyl-modified phenol resin (polyhydric phenol compound in which phenol nucleus is linked by bismethylene group), biphenyl-modified naphthol resin (polyvalent naphthol compound in which phenol nucleus is linked by bismethylene group) ), Polyphenol compounds such as aminotriazine-modified phenol resins (polyphenol compounds in which phenol nuclei are linked with melamine, benzoguanamine, etc.), and Examples of these modified products include, but are not limited to, these. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、得られる硬化物の難燃性に優れる点からフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂が好ましく、特に芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂等の水酸基を有さない芳香環を含む連結基によって水酸基を有する芳香環が連結された構造を含有する多価芳香族化合物であることが好ましい。また、後述する芳香族性水酸基(c1)を有し、且つ該水酸基の2、4、6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基(c2)を有する芳香環の2個以上が芳香族性水酸基(c1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基(a3)を介して連結された構造を含む多価ヒドロキシ化合物(C)特に好ましくは、下記一般式(2)   Among these, phenol novolak resin, cresol novolak resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol co-polymer are used because the cured product obtained has excellent flame retardancy. A condensed novolak resin, a naphthol-cresol co-condensed novolak resin, a biphenyl-modified phenol resin, a biphenyl-modified naphthol resin, and an aminotriazine-modified phenol resin are preferable. Linkages containing aromatic rings that do not have hydroxyl groups, such as modified phenolic resins, biphenyl-modified naphthol resins, and aminotriazine-modified phenolic resins Is preferably polyvalent aromatic compound containing an aromatic ring are linked structure having a hydroxyl group by. In addition, aromatic ring 2 having an aromatic hydroxyl group (c1), which will be described later, and having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (c2) which may be the same or different at positions 2, 4, and 6 of the hydroxyl group. A structure in which two or more meta groups of the aromatic hydroxyl group (c1) are linked via two methylene groups (a3) which may have a substituent, bonded to each aromatic ring of biphenyl. The polyvalent hydroxy compound (C) containing is particularly preferably the following general formula (2)

Figure 2006096992
(但し、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜4のアルキル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子またはメチル基、nは平均値で0〜10を示す。)で表される多価ヒドロキシ化合物を用いることも好ましい。
Figure 2006096992
(However, R 1 is the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is the same or different hydrogen atom or methyl group, and n is an average value of 0 to 10.) It is also preferable to use a polyvalent hydroxy compound represented by

前記硬化剤(B)の配合量としては、特に制限されるものではないが、得られる硬化物の機械的物性等が良好である点から、エポキシ樹脂組成物中のエポキシ基1当量に対して、硬化剤中の活性基が0.7〜1.5当量になる量が好ましい。   Although it does not restrict | limit especially as a compounding quantity of the said hardening | curing agent (B), From the point that the mechanical physical property etc. of the hardened | cured material obtained are favorable, with respect to 1 equivalent of epoxy groups in an epoxy resin composition. The amount of the active group in the curing agent is preferably 0.7 to 1.5 equivalents.

本発明の第二の発明におけるエポキシ樹脂組成物は、芳香族性水酸基(c1)を有し、且つ該水酸基の2、4、6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基(c2)を有する芳香環の2個以上が芳香族性水酸基(c1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基(a3)を介して連結された構造を含む多価ヒドロキシ化合物(C)とエポキシ樹脂(D)とを含有することを特徴とする。   The epoxy resin composition according to the second invention of the present invention has an aromatic hydroxyl group (c1) and may be the same or different at the 2, 4, 6 position of the hydroxyl group. Two or more methylene groups which may have a substituent, in which two or more of the aromatic rings having the group (c2) are at the meta positions of the aromatic hydroxyl group (c1) and bonded to each aromatic ring of biphenyl It contains a polyvalent hydroxy compound (C) having a structure linked via a3) and an epoxy resin (D).

前記多価ヒドロキシ化合物(C)の具体的な構造としては、以下のものが挙げられる。尚、下記構造式中の芳香環より引き出した線分は他の構造との結合を示すものである。   Specific examples of the structure of the polyvalent hydroxy compound (C) include the following. In addition, the line segment drawn from the aromatic ring in the following structural formula indicates a bond with another structure.

Figure 2006096992
Figure 2006096992

また、前記エポキシ樹脂(D)としては、特に制限されるものではなく、種々のエポキシ樹脂を用いることができるが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。またこれらのエポキシ樹脂は単独で用いてもよく、2種以上を混合してもよい。これらのエポキシ樹脂の中でも、特に低粘度である点では、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂が好ましく、得られる硬化物の難燃性に優れる点では、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂が好ましい。更に、得られる硬化物の難燃性と耐熱性を高いレベルで兼備できるという点から、前述のエポキシ樹脂(A)を用いる事が好ましい。   The epoxy resin (D) is not particularly limited, and various epoxy resins can be used. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetra Methylbiphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol Novolac epoxy resin, naphthol aralkyl epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolac epoxy resin, naphthol-cresol co-condensed novolac epoxy resin, aromatic hydrocarbon Formaldehyde resin-modified phenol resin type epoxy resin, biphenyl-modified novolak type epoxy resins are not limited thereto. Moreover, these epoxy resins may be used independently and may mix 2 or more types. Among these epoxy resins, bisphenol F-type epoxy resins, biphenyl-type epoxy resins, and tetramethylbiphenyl-type epoxy resins are preferable in terms of particularly low viscosity, and phenol aralkyl is preferable in terms of excellent flame retardancy of the resulting cured product. Type epoxy resin is preferred. Furthermore, it is preferable to use the above-mentioned epoxy resin (A) from the viewpoint that the obtained cured product can have both flame retardancy and heat resistance at a high level.

また、前記多価フェノール樹脂(C)の配合量としては、特に制限されるものではないが、得られる硬化物の機械的物性等が良好である点から、エポキシ樹脂組成物中のエポキシ基1当量に対して、硬化剤中の活性基が0.7〜1.5当量になる量が好ましい。   Further, the blending amount of the polyhydric phenol resin (C) is not particularly limited, but the epoxy group 1 in the epoxy resin composition is preferable because the obtained cured product has good mechanical properties. The amount by which the active group in the curing agent is 0.7 to 1.5 equivalents relative to the equivalent is preferred.

本発明の第一、第二のエポキシ樹脂組成物では、前記以外に、必要に応じて更に硬化促進剤を適宜併用することもできる。前記硬化促進剤としては種々のものが使用できるが、例えば、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。特に半導体封止材料用途として使用する場合には、硬化性、耐熱性、電気特性、耐湿信頼性等に優れる点から、リン系化合物ではトリフェニルフォスフィン、第3級アミンでは1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−ウンデセン(DBU)が好ましい。   In the first and second epoxy resin compositions of the present invention, in addition to the above, a curing accelerator may be used in combination as necessary. Various curing accelerators can be used, and examples thereof include phosphorus compounds, tertiary amines, imidazoles, organic acid metal salts, Lewis acids, and amine complex salts. In particular, when used as a semiconductor encapsulating material, it is excellent in curability, heat resistance, electrical characteristics, moisture resistance reliability, etc., so that triphenylphosphine is used for phosphorus compounds and 1,8-diazabicyclo is used for tertiary amines. -[5,4,0] -undecene (DBU) is preferred.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、樹脂自身の難燃性が高く、難燃剤を併用しなくても難燃性を有する硬化物を得る事が出来るが、特に電気電子分野で使用する等の高いレベルでの難燃性を要求される用途では、更に難燃剤を配合する事が好ましい。この時、一般的に難燃性効果が高いハロゲン系の難燃剤を使用しなくても十分に実用レベルに達することから、環境・安全面に対応できる非ハロゲン系難燃剤(E)を使用する事が好ましい。   The epoxy resin composition of the present invention has high flame retardancy of the resin itself, and a cured product having flame retardancy can be obtained without using a flame retardant, but it is particularly high in use in the electrical and electronic fields. In applications where flame retardancy at the level is required, it is preferable to further add a flame retardant. At this time, the non-halogen flame retardant (E), which can cope with the environment and safety, is used because it reaches a practical level without using a halogen flame retardant having a generally high flame retardant effect. Things are preferable.

前記非ハロゲン系難燃剤(E)としては、難燃性を付与するために樹脂組成物等に配合されるもので、実質的にハロゲン原子を含有しないものであれば、何等制限なく使用することが可能である。   The non-halogen flame retardant (E) is blended in a resin composition or the like to impart flame retardancy, and can be used without any limitation as long as it does not substantially contain a halogen atom. Is possible.

実質的にハロゲン原子を含有しないということは、難燃性付与の目的でハロゲン系の化合物を配合しないことを意味するものであり、エポキシ樹脂に含まれるエピハロヒドリン由来の5000ppm以下程度の微量不純物ハロゲンは含まれていても良い。   The fact that it does not substantially contain a halogen atom means that a halogen-based compound is not blended for the purpose of imparting flame retardancy, and a trace impurity halogen of about 5000 ppm or less derived from epihalohydrin contained in an epoxy resin is not contained. It may be included.

前記非ハロゲン系難燃剤(E)としては、塩素や臭素などのハロゲン原子を実質的に含有しない化合物であって、難燃剤、或いは難燃助剤としての機能を有するものであれば、何等制限されるものではなく、例えば、リン系難燃剤(e1)、窒素系難燃剤(e2)、シリコーン系難燃剤(e3)、無機系難燃剤(e4)、有機金属塩系難燃剤(e5)等が挙げられ、それらの使用に際しても何等制限されるものではなく、単独で使用しても、同一系の難燃剤を複数用いても良く、また、異なる系の難燃剤を組み合わせて用いることも可能である。   The non-halogen flame retardant (E) is a compound that does not substantially contain a halogen atom such as chlorine or bromine and has a function as a flame retardant or a flame retardant aid. For example, phosphorus flame retardant (e1), nitrogen flame retardant (e2), silicone flame retardant (e3), inorganic flame retardant (e4), organometallic salt flame retardant (e5), etc. There are no restrictions on the use of these, and they may be used alone or in combination with a plurality of flame retardants of the same system, or a combination of flame retardants of different systems may be used. It is.

前記リン系難燃剤(e1)としては、燐原子を含有する化合物であれば、無機系、有機系のいずれも使用することができる。無機系化合物としては、例えば、加水分解等の防止を目的として表面処理が施されていてもよい赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム類、リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物が挙げられる。   As the phosphorus flame retardant (e1), both inorganic and organic compounds can be used as long as they are compounds containing phosphorus atoms. Examples of inorganic compounds include phosphoric acids such as red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, and ammonium polyphosphate, which may be subjected to surface treatment for the purpose of preventing hydrolysis and the like. Examples thereof include inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as ammonium and phosphoric acid amide.

前記赤リンの表面処理方法としては、例えば、(1)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン、酸化ビスマス、水酸化ビスマス、硝酸ビスマス又はこれらの混合物等の無機化合物で被覆処理する方法、(2)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物、及びフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂の混合物で被覆処理する方法、(3)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物の被膜の上にフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂で二重に被覆処理する方法等があり、(1)〜(3)の何れの方法で処理されたものも使用できる。   Examples of the surface treatment method of red phosphorus include (1) coating with an inorganic compound such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide, titanium hydroxide, bismuth oxide, bismuth hydroxide, bismuth nitrate, or a mixture thereof. A method of treating, (2) a method of coating with a mixture of an inorganic compound such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide and titanium hydroxide, and a thermosetting resin such as a phenol resin, and (3) magnesium hydroxide. There is a method of doubly coating with a thermosetting resin such as a phenol resin on a coating of an inorganic compound such as aluminum hydroxide, zinc hydroxide or titanium hydroxide, and any of (1) to (3) What was processed by the method of can also be used.

前記有機リン系化合物としては、例えば、リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物等が挙げられる。   Examples of the organic phosphorus compounds include phosphate ester compounds, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phospholane compounds, and organic nitrogen-containing phosphorus compounds.

前記リン酸エステル化合物としての具体例としては、トリフェニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジ−2,6−キシレノールホスフェート)、ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、ビスフェノールAビス(ジクレジルホスフェート)、レゾルシニルジフェニルホスフェート等が挙げられる。   Specific examples of the phosphoric ester compound include triphenyl phosphate, resorcinol bis (diphenyl phosphate), resorcinol bis (di-2,6-xylenol phosphate), bisphenol A bis (diphenyl phosphate), bisphenol A bis (dicresyl). Phosphate), resorcinyl diphenyl phosphate, and the like.

前記ホスホン酸化合物の具体例としては、フェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、特開2000−226499号公報に記載のホスホン酸金属塩等が挙げられる。   Specific examples of the phosphonic acid compound include phenylphosphonic acid, methylphosphonic acid, ethylphosphonic acid, and phosphonic acid metal salts described in JP-A No. 2000-226499.

前記ホスフィン酸化合物の具体例としては、ジフェニルホスフィン酸、メチルエチルホスフィン酸、特開2001―55484号公報に記載の化合物、9,10−ジヒドロ−9−オキサー10−ホスファフェナントレン=10−オキシド、10−(2,5―ジヒドロオキシフェニル)―10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン=10−オキシド、10―(2,7−ジヒドロオキシナフチル)−10H−9−オキサー10−ホスファフェナントレン=10−オキシド等の環状有機リン化合物、及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等が挙げられる。   Specific examples of the phosphinic acid compound include diphenylphosphinic acid, methylethylphosphinic acid, a compound described in JP-A-2001-55484, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, 10- (2,5-dihydrooxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, 10- (2,7-dihydrooxynaphthyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = Cyclic organophosphorus compounds such as 10-oxide, and derivatives obtained by reacting them with compounds such as epoxy resins and phenol resins.

前記ホスフィンオキシド化合物の具体例としては、トリフェニルホスフィンオキシド、トリス(3−ヒドロキシプロピル)ホスフィンオキシド、ジフェニルホスフィニルハイドロキノン、特開2000−186186号公報、特開2002−080484号公報、特開2002−097248号公報等に記載の化合物等が挙げられる。   Specific examples of the phosphine oxide compound include triphenylphosphine oxide, tris (3-hydroxypropyl) phosphine oxide, diphenylphosphinyl hydroquinone, JP-A No. 2000-186186, JP-A No. 2002-080484, JP-A No. 2002. -097248 gazette etc. are mentioned.

前記ホスホラン化合物の具体例としては、特開2000−281871号公報記載の化合物等が挙げられる。   Specific examples of the phosphorane compound include compounds described in JP-A No. 2000-281871.

有機系窒素含有リン化合物としては、特開2002−60720号公報、特開2001−354686号公報、特開2001−261792号公報、特開2001−335703号公報、特開2000−103939号公報等に記載のホスファゼン化合物類等が挙げられる。   Examples of organic nitrogen-containing phosphorus compounds include JP 2002-60720, JP 2001-354686, JP 2001-261792, JP 2001-335703, JP 2000-103939, and the like. And the phosphazene compounds described.

それらの配合量としては、リン系難燃剤(e1)の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100重量部中、赤リンを使用する場合は0.1〜2.0重量部の範囲で配合することが好ましく、有機リン化合物を使用する場合は同様に0.1〜10.0重量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.5〜6.0重量部の範囲で配合することが好ましい。   The blending amount thereof is appropriately selected depending on the type of the phosphorus-based flame retardant (e1), the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. In 100 parts by weight of the epoxy resin composition containing all of the flame retardant and other fillers and additives, when using red phosphorus, it is preferably blended in the range of 0.1 to 2.0 parts by weight, Similarly, when an organophosphorus compound is used, it is preferably blended in the range of 0.1 to 10.0 parts by weight, particularly preferably in the range of 0.5 to 6.0 parts by weight.

また前記リン系難燃剤(e1)を使用する方法としても特に制限されるものではなく、例えば、特開2002−080566号公報、特開2002−053734号公報、特開2000−248156号公報、特開平9−235449号公報等に記載のハイドロタルサイトの併用、特開2001−329147号公報等に記載の水酸化マグネシウムの併用、特開2002−23989号公報、特開平2001−323134号公報等に記載のホウ化合物の併用、特開平2002−069271号公報等に記載の酸化ジルコニウムの併用、特開2001−123047号公報等に記載の黒色染料の併用、特開2000−281873号公報等に記載の炭酸カルシウムの併用、特開2000−281873号公報等に記載のゼオライトの併用、特開2000−248155号公報等に記載のモリブデン酸亜鉛の併用、特開2000−212392号公報等に記載の活性炭の併用、特開2002−348440号公報、特開2002−265758号公報、特開2002−180053号公報、特開2001−329147号公報、特開2001−226564号公報、特開平11−269345号公報等に記載の表面処理方法等が適用できる。   Further, the method of using the phosphorus-based flame retardant (e1) is not particularly limited. For example, JP-A-2002-08056, JP-A-2002-053734, JP-A-2000-248156, The combined use of hydrotalcite described in Kaihei 9-235449, the combined use of magnesium hydroxide described in JP-A-2001-329147, etc., JP-A-2002-23989, JP-A-2001-323134, etc. A combination of the above described boron compounds, a combination of zirconium oxide described in JP-A No. 2002-069271, etc., a combination of black dyes described in JP-A No. 2001-123047, etc., and JP-A No. 2000-281873 Combined use of calcium carbonate, combined use of zeolite described in JP 2000-281873 A, etc. Combined use of zinc molybdate as described in JP 2000-248155 A, etc., combined use of activated carbon as described in JP 2000-212392 A, JP 2002-348440 A, JP 2002-265758 A, 2002 The surface treatment methods described in JP-A No. 180053, JP-A No. 2001-329147, JP-A No. 2001-226564, JP-A No. 11-269345 and the like can be applied.

前記窒素系難燃剤(e2)としては、窒素原子を含有する化合物であれば特に制限されるものではなく、例えば、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等が挙げられ、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物が好ましい。   The nitrogen-based flame retardant (e2) is not particularly limited as long as it is a compound containing a nitrogen atom, and examples thereof include triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, phenothiazines, and the like, triazine compounds, A cyanuric acid compound and an isocyanuric acid compound are preferable.

前記トリアジン化合物の具体例としては、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、メロン、メラム、サクシノグアナミン、エチレンジメラミン、ポリリン酸メラミン、トリグアナミン等、及びその誘導体が挙げられ、前記誘導体としては、例えば、(1)硫酸グアニルメラミン、硫酸メレム、硫酸メラムなどの硫酸アミノトリアジン化合物、(2)フェノール、クレゾール、キシレノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール類と、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン、ホルムグアナミン等のメラミン類およびホルムアルデヒドとの共縮合物、(3)前記(2)の共縮合物とフェノールホルムアルデヒド縮合物等のフェノール樹脂類との混合物、(4)前記(2)、(3)を更に桐油、異性化アマニ油等で変性したもの等が挙げられる。   Specific examples of the triazine compound include, for example, melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melon, melam, succinoguanamine, ethylene dimelamine, melamine polyphosphate, triguanamine, and derivatives thereof. For example, (1) aminotriazine sulfate compounds such as guanylmelamine sulfate, melem sulfate, melam sulfate, (2) phenols such as phenol, cresol, xylenol, butylphenol, nonylphenol, and melamine, benzoguanamine, acetoguanamine, formguanamine, etc. A co-condensate of melamines and formaldehyde, (3) a mixture of the co-condensate of (2) and a phenol resin such as a phenol formaldehyde condensate, (4) said (2) and (3) are further paulownia oil, Opposite sex Such as those modified with linseed oil, and the like.

前記シアヌル酸化合物の具体例としては、例えば、シアヌル酸、シアヌル酸メラミン、ジアリルモノグリシジルイソシアヌル酸、モノアリルジグリシジルイソシアヌル酸等を挙げることができる。   Specific examples of the cyanuric acid compound include cyanuric acid, melamine cyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanuric acid, monoallyl diglycidyl isocyanuric acid, and the like.

前記イソシアヌル酸化合物の具体例としては、例えば、トリス(β―シアノエチル)イソシアヌレート等を挙げることができる。   Specific examples of the isocyanuric acid compound include tris (β-cyanoethyl) isocyanurate.

また前記窒素原子を含有する化合物に、―OH、−NH、−NCO、−COOH、−CHO、−SH、メチロール、アクリレート、メタクリレート、シリル、グリシジル基又はエポキシ基等の官能基を有していてもよい。 Further, the compound containing a nitrogen atom has a functional group such as —OH, —NH 2 , —NCO, —COOH, —CHO, —SH, methylol, acrylate, methacrylate, silyl, glycidyl group or epoxy group. May be.

前記窒素系難燃剤(e2)の配合量としては、窒素系難燃剤(e2)の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100重量部中、0.05〜10重量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.1〜5重量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the nitrogen-based flame retardant (e2) is appropriately selected depending on the type of the nitrogen-based flame retardant (e2), other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, it is preferable to mix in the range of 0.05 to 10 parts by weight in 100 parts by weight of the epoxy resin composition containing all of the epoxy resin, curing agent, flame retardant, and other fillers and additives. It is preferable to mix | blend in the range of 0.1-5 weight part.

また前記窒素系難燃剤(e2)を使用する方法としても特に制限されるものではなく、例えば、特開2001−234036号公報等に記載の金属水酸化物の併用、特開2002−003577号公報、特開2001−098144号公報等に記載のモリブデン化合物の併用等が適用できる。   Further, the method of using the nitrogen-based flame retardant (e2) is not particularly limited. For example, a combination of metal hydroxides described in JP 2001-234036 A, JP 2002-003577 A, and the like. The combined use of molybdenum compounds described in JP-A-2001-098144 and the like can be applied.

前記シリコーン系難燃剤(e3)としては、ケイ素原子を含有する有機化合物であれば特に制限がなく使用でき、例えば、シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等が挙げられる。   The silicone flame retardant (e3) is not particularly limited as long as it is an organic compound containing a silicon atom, and examples thereof include silicone oil, silicone rubber, and silicone resin.

前記シリコーンオイルの具体例としては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジエンシリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル等を挙げることができる。   Specific examples of the silicone oil include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, polyether-modified silicone oil, and the like.

前記シリコーンゴムの具体例としては、例えば、メチルシリコーンゴム、メチルフェニルシリコーンゴム等を挙げることができる。   Specific examples of the silicone rubber include methyl silicone rubber and methylphenyl silicone rubber.

前記シリコーン樹脂の具体例としては、例えば、メチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、フェニルシリコーン等を挙げることができる。   Specific examples of the silicone resin include methyl silicone, methyl phenyl silicone, and phenyl silicone.

また前記ケイ素原子を含有する有機化合物としては、―OH、−NH、−NCO、−COOH、−CHO、−SH、メチロール、アクリレート、メタクリレート、シリル、グリシジル基又はエポキシ基等の官能基を有していてもよい。 The organic compound containing a silicon atom has a functional group such as —OH, —NH 2 , —NCO, —COOH, —CHO, —SH, methylol, acrylate, methacrylate, silyl, glycidyl group or epoxy group. You may do it.

前記シリコーン系難燃剤(e3)の配合量としては、シリコーン系難燃剤(e3)の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100重量部中、0.05〜20重量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the silicone flame retardant (e3) is appropriately selected according to the type of the silicone flame retardant (e3), the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, it is preferable to mix in the range of 0.05 to 20 parts by weight in 100 parts by weight of the epoxy resin composition containing all of the epoxy resin, curing agent, flame retardant and other fillers and additives.

また前記シリコーン系難燃剤(e3)を使用する方法としても特に制限されるものではなく、例えば、特開2001−011288号公報等に記載のモリブデン化合物の併用、特開平10−182941号公報等に記載のアルミナの併用等、従来の方法が適用できる。   Further, the method of using the silicone-based flame retardant (e3) is not particularly limited. For example, a combination of molybdenum compounds described in JP-A-2001-011288, JP-A-10-182941, etc. Conventional methods such as the combined use of the described alumina can be applied.

前記無機系難燃剤(e4)としては、例えば、金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等が挙げられる。   Examples of the inorganic flame retardant (e4) include metal hydroxide, metal oxide, metal carbonate compound, metal powder, boron compound, and low-melting glass.

前記金属水酸化物の具体例としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ドロマイト、ハイドロタルサイト、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ジルコニウム、特開2002−212391号公報、特開2001−335681号公報、特開2001−323050号公報等に記載の複合金属水酸化物等を挙げることができる。   Specific examples of the metal hydroxide include, for example, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, dolomite, hydrotalcite, calcium hydroxide, barium hydroxide, zirconium hydroxide, JP 2002-212391 A, and JP 2001. Examples thereof include composite metal hydroxides described in JP-A No. 335681 and JP-A No. 2001-32050.

前記金属酸化物の具体例としては、例えば、モリブデン酸亜鉛、三酸化モリブデン、スズ酸亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化コバルト、酸化ビスマス、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化タングステン等を挙げることができる。   Specific examples of the metal oxide include, for example, zinc molybdate, molybdenum trioxide, zinc stannate, tin oxide, aluminum oxide, iron oxide, titanium oxide, manganese oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, and cobalt oxide. Bismuth oxide, chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, tungsten oxide and the like.

前記金属炭酸塩化合物の具体例としては、例えば、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸アルミニウム、炭酸鉄、炭酸コバルト、炭酸チタン等を挙げることができる。   Specific examples of the metal carbonate compound include zinc carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, basic magnesium carbonate, aluminum carbonate, iron carbonate, cobalt carbonate, and titanium carbonate.

前記金属粉の具体例としては、例えば、アルミニウム、鉄、チタン、マンガン、亜鉛、モリブデン、コバルト、ビスマス、クロム、ニッケル、銅、タングステン、スズ等を挙げることができる。   Specific examples of the metal powder include aluminum, iron, titanium, manganese, zinc, molybdenum, cobalt, bismuth, chromium, nickel, copper, tungsten, and tin.

前記ホウ素化合物の具体例としては、例えば、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸、ホウ砂等を挙げることができる。   Specific examples of the boron compound include zinc borate, zinc metaborate, barium metaborate, boric acid, and borax.

前記低融点ガラスの具体例としては、例えば、シープリー(ボクスイ・ブラウン社)、水和ガラスSiO−MgO−HO、PbO−B系、ZnO−P−MgO系、P−B−PbO−MgO系、P−Sn−O−F系、PbO−V−TeO系、Al−HO系、ホウ珪酸鉛系等のガラス状化合物を挙げることができる。 Specific examples of the low-melting-point glass include, for example, Ceeley (Bokusui Brown), hydrated glass SiO 2 —MgO—H 2 O, PbO—B 2 O 3 system, ZnO—P 2 O 5 —MgO system, P 2 O 5 —B 2 O 3 —PbO—MgO, P—Sn—O—F, PbO—V 2 O 5 —TeO 2 , Al 2 O 3 —H 2 O, lead borosilicate, etc. The glassy compound can be mentioned.

前記無機系難燃剤(e4)の配合量としては、無機系難燃剤(e4)の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100重量部中、0.05〜20重量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.5〜15重量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the inorganic flame retardant (e4) is appropriately selected depending on the type of the inorganic flame retardant (e4), the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, it is preferable to mix in the range of 0.05 to 20 parts by weight in 100 parts by weight of the epoxy resin composition containing all of the epoxy resin, curing agent, flame retardant and other fillers and additives. It is preferable to mix in the range of 5 to 15 parts by weight.

また前記無機難燃剤(e4)を使用する方法としても特に制限されるものではなく、例えば、特開2001−226564号公報等に記載の比表面積を制御する方法、特開2000−195995号公報、特開2000−191886号公報、特開2000−109647号公報、特開2000−053876号公報等に記載の形状や粒径、粒度分布を制御する方法、特開2001−323050号公報、特開2000−095956号公報、特開平10−279813号公報、特開平10−251486号公報等に記載の表面処理を行う方法、特開2002−030200号公報、特開2001−279063号公報等に記載の硝酸金属塩の併用、特開2001−049084号公報等に記載のホウ酸亜鉛の併用、特開2000−195994号公報等に記載の無機粉末の併用、特開2000−156437号公報等に記載のブタジェンゴムの併用、特開2000−053875号公報等に記載の高酸価ポリエチレンワックス及び長鎖アルキルリン酸エステル系化合物の併用等が適用できる。   Further, the method of using the inorganic flame retardant (e4) is not particularly limited. For example, a method for controlling the specific surface area described in JP-A No. 2001-226564, JP-A No. 2000-19595, JP-A-2000-191886, JP-A-2000-109647, JP-A-2000-038776, etc., methods for controlling the shape, particle size and particle size distribution, JP-A-2001-32050, JP-A-2000 No. 095956, JP-A-10-279813, JP-A-10-251486, etc., surface treatment, nitric acid described in JP-A-2002-030200, JP-A-2001-279063, etc. Combined use of metal salts, combined use of zinc borate described in JP 2001-049084 A, JP 2000-1959 In combination with inorganic powders described in No. 4 etc., in combination with butadiene rubber described in JP 2000-156437 A, etc., high acid value polyethylene wax and long chain alkyl phosphates described in JP 2000-053875 A, etc. A combination of a series compound can be applied.

前記有機金属塩系難燃剤(e5)としては、例えば、フェロセン、アセチルアセトナート金属錯体、有機金属カルボニル化合物、有機コバルト塩化合物、有機スルホン酸金属塩、金属原子と芳香族化合物又は複素環化合物がイオン結合又は配位結合した化合物等が挙げられる。   Examples of the organometallic salt flame retardant (e5) include ferrocene, acetylacetonate metal complex, organometallic carbonyl compound, organocobalt salt compound, organosulfonic acid metal salt, metal atom and aromatic compound or heterocyclic compound. Examples thereof include an ionic bond or a coordinate bond compound.

前記アセチルアセトナート金属錯体の具体例としては、例えば、特開2002−265760号公報に記載の化合物を挙げることができる。   Specific examples of the acetylacetonate metal complex include compounds described in JP-A No. 2002-265760.

前記有機金属カルボニル化合物の具体例としては、例えば、特開2002−371169号公報に記載の化合物を挙げることができる。   Specific examples of the organometallic carbonyl compound include compounds described in JP-A No. 2002-371169.

前記有機コバルト塩化合物の具体例としては、例えば、コバルトナフテン酸錯体、コバルトエチレンジアミン錯体、コバルトアセトアセトナート錯体、コバルトピペリジン錯体、コバルトシクロヘキサンジアミン錯体、コバルトテトラアザシクロテトラドデカン錯体、コバルトエチレンジアミン四酢酸錯体、コバルトテトラエチレングリコール錯体、コバルトアミノエタノール錯体、コバルトシクロヘキサジアミン錯体、コバルトグリシン錯体、コバルトトリグリシン錯体、コバルトナフチジリン錯体、コバルトフェナントロリン錯体、コバルトペンタンジアミン錯体、コバルトピリジン錯体、コバルトサリチル酸錯体、コバルトサリチルアルデヒド錯体、コバルトサリチリデンアミン錯体、コバルト錯体ポリフィリン、コバルトチオ尿素錯体等を挙げることができる。   Specific examples of the organic cobalt salt compound include, for example, a cobalt naphthenic acid complex, a cobalt ethylenediamine complex, a cobalt acetoacetonate complex, a cobalt piperidine complex, a cobalt cyclohexanediamine complex, a cobalt tetraazacyclotetradodecane complex, and a cobalt ethylenediaminetetraacetic acid complex. , Cobalt tetraethylene glycol complex, cobalt aminoethanol complex, cobalt cyclohexadiamine complex, cobalt glycine complex, cobalt triglycine complex, cobalt naphthidirine complex, cobalt phenanthroline complex, cobalt pentanediamine complex, cobalt pyridine complex, cobalt salicylic acid complex, cobalt Salicylaldehyde complex, cobalt salicylideneamine complex, cobalt complex porphyrin, cobalt thiourea complex And the like can be given.

前記有機スルホン酸金属塩の具体例としては、例えば、ジフェニルスルホン−3−スルホン酸カリウム等を挙げることができる。   Specific examples of the organic sulfonic acid metal salt include potassium diphenylsulfone-3-sulfonate.

前記金属原子と芳香族化合物又は複素環化合物がイオン結合又は配位結合した化合物の具体例としては、例えば、特開2002−226678号公報に記載の化合物を挙げることができる。   Specific examples of the compound in which the metal atom and the aromatic compound or heterocyclic compound are ion-bonded or coordinate-bonded include compounds described in JP-A-2002-226678.

前記有機金属塩系難燃剤(e5)の配合量としては、有機金属塩系難燃剤(e5)の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100重量部中、0.005〜10重量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the organic metal salt flame retardant (e5) is appropriately selected depending on the type of the organic metal salt flame retardant (e5), the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. However, for example, in 100 parts by weight of an epoxy resin composition containing all of an epoxy resin, a curing agent, a flame retardant, and other fillers and additives, it may be blended in the range of 0.005 to 10 parts by weight. preferable.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤、イオントラップ剤、離型剤、顔料等の種々の配合剤を添加することができる。   Various compounding agents, such as a silane coupling agent, an ion trap agent, a mold release agent, and a pigment, can be added to the epoxy resin composition of the present invention as necessary.

本発明のエポキシ樹脂組成物の使用用途としては、半導体封止材料、積層板や電子回路基板等に用いられる樹脂組成物、樹脂注型材料、接着剤、ビルドアップ基板用層間絶縁材料、絶縁塗料等のコーティング材料、レジストインキ、導電性ペースト等が挙げられ、これらの中でも、半導体封止材料に好適に用いることができる。   Applications of the epoxy resin composition of the present invention include semiconductor sealing materials, resin compositions used for laminates and electronic circuit boards, resin casting materials, adhesives, interlayer insulation materials for build-up substrates, insulation paints And coating materials such as resist ink, conductive paste, and the like. Among these, it can be suitably used as a semiconductor sealing material.

本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止材材料として用いる場合には、前述のエポキシ樹脂、硬化剤及び非ハロゲン系難燃剤(E)に、更に無機充填材(F)を配合し、必要に応じその他の成分を添加し、押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて均一になるまで充分に混合することによって得る方法が挙げられる。こうして得られる半導体封止材料は非ハロゲン系難燃性樹脂組成物であり、環境・安全対応型であり好ましいものである。   When using the epoxy resin composition of the present invention as a semiconductor encapsulant material, an inorganic filler (F) is further blended with the above-described epoxy resin, curing agent and non-halogen flame retardant (E). Accordingly, there may be mentioned a method obtained by adding other components and thoroughly mixing until uniform using an extruder, kneader, roll or the like. The semiconductor encapsulating material thus obtained is a non-halogen flame retardant resin composition, which is environmentally friendly and safe.

前記無機充填材(F)としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。該充填材(F)の配合量を特に大きくする場合は溶融シリカを用いるのが好ましく、溶融シリカとしては破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、配合量を高め且つ成形材料の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いる方が特に好ましい。更に球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調製し、平均粒径が5〜30μmにすることが好ましい。その充填率は得られる硬化物の難燃性が良好となる点から、エポキシ樹脂組成物の全体量に対して65〜95重量%が特に好ましい。また導電ペーストなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることもできる。   Examples of the inorganic filler (F) include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, and aluminum hydroxide. When the blending amount of the filler (F) is particularly large, it is preferable to use fused silica. As the fused silica, either crushed or spherical shape can be used, but the blending amount is increased and the melt viscosity of the molding material is increased. In order to suppress the increase in the amount, it is particularly preferable to use mainly spherical ones. In order to further increase the blending amount of the spherical silica, it is preferable that the particle size distribution of the spherical silica is appropriately adjusted so that the average particle size is 5 to 30 μm. The filling rate is particularly preferably 65 to 95% by weight with respect to the total amount of the epoxy resin composition, from the viewpoint of good flame retardancy of the resulting cured product. Moreover, when using for uses, such as an electrically conductive paste, electroconductive fillers, such as silver powder and copper powder, can also be used.

本発明の樹脂組成物を用いて、半導体素子等の電子部品を封止し、半導体装置を製造するには、注型、又はトランスファーモールド、コンプレッションモールド、インジェクションモールド等の種々の成形方法で硬化成形させればよく、また必要に応じて、さらに80〜200℃で2〜10時間加熱することができる。   The resin composition of the present invention is used to encapsulate electronic components such as semiconductor elements and manufacture a semiconductor device by molding by various methods such as casting, transfer molding, compression molding, injection molding, etc. In addition, it may be further heated at 80 to 200 ° C. for 2 to 10 hours as necessary.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物を電子回路基板用樹脂組成物として用いる場合には、本発明のエポキシ樹脂組成物をトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解させることにより製造することができる。この際の溶剤の使用量としては、前記電子回路基板用樹脂組成物中、通常10〜70重量%であり、好ましくは15〜65重量%、特に好ましくは35〜65重量%なる範囲である。また、その成形硬化物を得る方法としては、前記電子回路基板用樹脂組成物をガラス繊維、カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含浸させ加熱乾燥してプリプレグを得て積層した後、それを熱プレス成形する方法が挙げられる。なお、前記電子回路基板は、具体的には、プリント配線基板、プリント回路板、フレキシブルプリント配線板、ビルドアップ配線板等が挙げられる。   When the epoxy resin composition of the present invention is used as a resin composition for electronic circuit boards, the epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, or methyl isobutyl ketone. Can be manufactured. The amount of the solvent used at this time is usually 10 to 70% by weight, preferably 15 to 65% by weight, particularly preferably 35 to 65% by weight in the resin composition for electronic circuit boards. In addition, as a method of obtaining the molded cured product, the resin composition for an electronic circuit board is impregnated into a substrate such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. and dried by heating. After obtaining and laminating, a method of hot press molding it can be mentioned. Specific examples of the electronic circuit board include a printed wiring board, a printed circuit board, a flexible printed wiring board, and a build-up wiring board.

本発明のエポキシ樹脂組成物をレジストインキとして使用する場合には、例えば特開平5−186567号公報に記載の方法に準じて、レジストインキ用組成物とした後、スクリーン印刷方式にてプリント基板上に塗布し、レジストインキ硬化物とする方法が挙げられる。   When the epoxy resin composition of the present invention is used as a resist ink, for example, according to the method described in JP-A No. 5-186567, a resist ink composition is prepared and then printed on a printed circuit board by a screen printing method. The method of apply | coating to a resist ink hardened | cured material is mentioned.

本発明のエポキシ樹脂組成物を導電ペーストとして使用する場合には、例えば、特開平3−46707号公報に記載の微細導電性粒子を該樹脂組成物中に分散させ異方性導電膜用組成物とする方法、特開昭62−40183号公報、特開昭62−76215号公報、特開昭62−176139号公報などに開示されているような室温で液状である回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とする方法が挙げられる。   When using the epoxy resin composition of the present invention as a conductive paste, for example, fine conductive particles described in JP-A-3-46707 are dispersed in the resin composition, and the composition for anisotropic conductive film is used. And a paste resin composition for circuit connection which is liquid at room temperature as disclosed in JP-A-62-240183, JP-A-62-276215, JP-A-62-176139, etc. And an anisotropic conductive adhesive.

本発明のエポキシ樹脂組成物からビルドアップ基板用層間絶縁材料を得る方法としては特に限定されないが、例えば特公平4−6116号公報、特開平7−304931号公報、特開平8−64960号公報、特開平9−71762号公報、特開平9−298369号公報などに記載の各種方法を採用できる。より具体的には、ゴム、フィラーなどを適宜配合した当該硬化性樹脂組成物を、回路を形成した配線基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる。その後、必要に応じて所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって、凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する。前記めっき方法としては、無電解めっき、電解めっき処理が好ましく、また前記粗化剤としては酸化剤、アルカリ、有機溶剤等が挙げられる。このような操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップして形成することにより、ビルドアップ基盤を得ることができる。但し、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行う。また、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170〜250℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。   Although it does not specifically limit as a method of obtaining the interlayer insulation material for buildup boards from the epoxy resin composition of the present invention, for example, Japanese Patent Publication No. 4-6116, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-304931, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-64960, Various methods described in JP-A-9-71762, JP-A-9-298369 and the like can be employed. More specifically, the curable resin composition appropriately blended with rubber, filler, and the like is applied to a wiring board on which a circuit is formed using a spray coating method, a curtain coating method, or the like, and then cured. Then, after drilling a predetermined through-hole part etc. as needed, it treats with a roughening agent, forms the unevenness | corrugation by washing the surface with hot water, and metal-treats, such as copper. As the plating method, electroless plating or electrolytic plating treatment is preferable, and examples of the roughening agent include an oxidizing agent, an alkali, and an organic solvent. Such operations are sequentially repeated as desired, and a build-up base can be obtained by alternately building up and forming the resin insulating layer and the conductor layer having a predetermined circuit pattern. However, the through-hole portion is formed after the outermost resin insulating layer is formed. In addition, a resin-coated copper foil obtained by semi-curing the resin composition on the copper foil is thermocompression-bonded at 170 to 250 ° C. on a circuit board on which a circuit is formed, thereby forming a roughened surface and plating treatment. It is also possible to produce a build-up substrate by omitting the process.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物を接着剤や塗料等のコーティング材料として使用する場合は、該組成物を溶融してコーティングしても良いし、該組成物を前記溶剤に溶解したものを通常の方法でコーティングした後、溶剤を乾燥除去させ硬化させても良い。この際、必要に応じて、前記硬化触媒を使用してもよい。また、前記の無機フィラー等を混合しても良い。   When the epoxy resin composition of the present invention is used as a coating material such as an adhesive or paint, the composition may be melted and coated, or a solution obtained by dissolving the composition in the solvent is usually used. After coating by this method, the solvent may be removed by drying and cured. At this time, the curing catalyst may be used as necessary. Moreover, you may mix the said inorganic filler etc.

本発明の硬化物は、前述の本発明のエポキシ樹脂組成物を成形硬化させて得られるものであり、積層物、注型物、接着剤、塗膜、フィルム等として使用できる。その硬化方法としては特に制限されるものではなく、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、必要に応じて配合されるその他の硬化剤、各種配合剤等を均一に混合した後、室温または80〜200℃で加熱硬化する方法を挙げることができる。また、前述の各種用途に応じて調製されたエポキシ樹脂組成物は、適応する用途に応じた硬化方法を適宜採用することが好ましい。   The cured product of the present invention is obtained by molding and curing the above-described epoxy resin composition of the present invention, and can be used as a laminate, a cast product, an adhesive, a coating film, a film and the like. The curing method is not particularly limited. For example, after uniformly mixing an epoxy resin, a curing agent, other curing agents blended as necessary, various compounding agents, etc., room temperature or 80 to 200 ° C. The method of heat-curing can be mentioned. Moreover, it is preferable to employ | adopt suitably the hardening method according to the use to which the epoxy resin composition prepared according to the above-mentioned various uses.

本発明のエポキシ樹脂下記一般式(1)   Epoxy resin of the present invention represented by the following general formula (1)

Figure 2006096992
(式中、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜4のアルキル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子またはメチル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、nは平均値で0〜10を示す。)で表されるエポキシ樹脂である。
Figure 2006096992
Wherein R 1 is the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is the same or different hydrogen atom or methyl group, and R 3 is the same or different hydrogen. An atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an average value of 0 to 10).

これらの中でも、前記一般式(1)中のR、Rがメチル基であることが、得られる硬化物の難燃性に優れる点から好ましい。 Among these, it is preferable from the point which is excellent in the flame retardance of the cured | curing material that R < 1 >, R < 3 > in the said General formula (1) is a methyl group.

更に、これらの中でも、前記構造式(x)、(y)、(z)を骨格に有するものが好ましく、特に前記構造式(6a1)、(7a1)、(8a1)、(9a1)を有するものが好ましい。   Among these, those having the structural formulas (x), (y), and (z) in the skeleton are preferable, and those having the structural formulas (6a1), (7a1), (8a1), and (9a1) are particularly preferable. Is preferred.

前記エポキシ樹脂の溶融粘度(ICI粘度計法,150℃)は、5dPa・s以下であることが好ましく、またエポキシ当量としては、特に限定されるものではないが、得られる硬化物の難燃性、耐熱性、耐湿性等の性能バランスに優れる点から300〜700g/eqであることが好ましい。   The melt viscosity (ICI viscometer method, 150 ° C.) of the epoxy resin is preferably 5 dPa · s or less, and the epoxy equivalent is not particularly limited. In view of excellent performance balance such as heat resistance and moisture resistance, it is preferably 300 to 700 g / eq.

本発明の多価ヒドロキシ化合物(C)は、下記一般式(2)   The polyvalent hydroxy compound (C) of the present invention has the following general formula (2)

Figure 2006096992
Figure 2006096992

(但し、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜4のアルキル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子またはメチル基、nは平均値で0〜10を示す。)で表される。 (However, R 1 is the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is the same or different hydrogen atom or methyl group, and n is an average value of 0 to 10.) It is represented by

これらの中でも、前記一般式(2)中のR、Rがメチル基であることが、得られる硬化物の難燃性に優れる点から好ましい。 Among these, it is preferable from the point which is excellent in the flame retardance of the cured | curing material that R < 1 >, R < 3 > in the said General formula (2) is a methyl group.

更に、これらの中でも、前記構造式(x)、(y)、(z)を骨格に有するものが好ましく、特に前記構造式(6−1)、(7−1)、(8−1)、(9−1)を有するものが好ましい。   Further, among these, those having the structural formulas (x), (y), (z) in the skeleton are preferable, and the structural formulas (6-1), (7-1), (8-1), Those having (9-1) are preferred.

前記多価ヒドロキシ化合物の水酸基当量としては、特に限定されるものではないが、得られる硬化物の難燃性、耐熱性、耐湿性等の性能バランスに優れる点から200〜700g/eqであることが好ましい。   The hydroxyl equivalent of the polyvalent hydroxy compound is not particularly limited, but is 200 to 700 g / eq from the viewpoint of excellent performance balance such as flame retardancy, heat resistance and moisture resistance of the obtained cured product. Is preferred.

次に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、以下において「部」及び「%」は特に断わりのない限り重量基準である。尚、150℃における溶融粘度及びGPC測定は以下の条件にて測定した。   Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified. The melt viscosity and GPC measurement at 150 ° C. were measured under the following conditions.

150℃における溶融粘度:ASTM D4287に準拠
GPC:
装置 東ソー株式会社製 HLC−8220 GPC
カラム:東ソー株式会社製 TSK−GEL G2000HXL+G2000HXL+G3000HXL+G4000HXL
溶媒 :テトラヒドロフラン
流速 :1ml/min
検出器:RI
Melt viscosity at 150 ° C .: Conforms to ASTM D4287 GPC:
Equipment Tosoh Corporation HLC-8220 GPC
Column: Tosoh Corporation TSK-GEL G2000HXL + G2000HXL + G3000HXL + G4000HXL
Solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1 ml / min
Detector: RI

実施例1 〔多価ヒドロキシ化合物(A−1)の合成〕
実施例1温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、下記式(10)
Example 1 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound (A-1)]
Example 1 To a flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a condenser tube, a fractionating tube, and a stirrer, the following formula (10)

Figure 2006096992
で表される化合物242部、2,4,6−トリメチルフェノール952部を仕込み、室温下、窒素を吹き込みながら撹拌した。メタンスルホン酸9部を発熱に注意しながら液温が80℃を超えないようにゆっくり添加した。その後油浴中で150℃まで加熱し、分留管を用いて生成するメタノールを抜き出した後、更に5時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン1400部を加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から溶媒及び未反応の2,4,6−トリメチルフェノールを加熱減圧下に除去し、下記式(11)
Figure 2006096992
242 parts of a compound represented by the formula, and 952 parts of 2,4,6-trimethylphenol were charged and stirred at room temperature while blowing nitrogen. 9 parts of methanesulfonic acid was slowly added so as not to exceed 80 ° C. while paying attention to heat generation. Thereafter, the mixture was heated to 150 ° C. in an oil bath, and methanol produced was extracted using a fractionating tube, followed by further reaction for 5 hours. After completion of the reaction, 1400 parts of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Then, after washing with water until the washing water shows neutrality, the solvent and unreacted 2,4,6-trimethylphenol are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following formula (11)

Figure 2006096992
(式中、nの平均値は0.2である。)で表される本発明の多価ヒドロキシ化合物(A−1)437部を得た。得られた多価ヒドロキシ化合物の融点は212℃(DSC法)、水酸基当量は240g/eqであった。C13−NMRチャート(図1)からその構造を確認した。に示す。
Figure 2006096992
(In the formula, the average value of n is 0.2.) 437 parts of the polyvalent hydroxy compound (A-1) of the present invention represented by the following formula was obtained. The obtained polyvalent hydroxy compound had a melting point of 212 ° C. (DSC method) and a hydroxyl group equivalent of 240 g / eq. The structure was confirmed from the C 13 -NMR chart (FIG. 1). Shown in

実施例2 〔エポキシ樹脂(B−1)の合成〕
温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌機を取り付けたフラスコに、窒素ガスパージを施しながら、実施例1で得られた多価ヒドロキシ化合物(A−1)240部、エピクロルヒドリン463g(5.0モル)、n−ブタノール139g、テトラエチルベンジルアンモニウムクロライド2gを仕込み溶解させた。65℃に昇温した後、共沸する圧力まで減圧して、49%水酸化ナトリウム水溶液90g(1.1モル)を5時間かけて滴下した。その後、同条件で0.5時間撹拌を続けた。この間、共沸によって留出してきた留出分をディーンスタークトラップで分離し、水層を除去し、油層を反応系内に戻しながら、反応を行った。その後、未反応のエピクロルヒドリンを減圧蒸留によって留去させた。それで得られた粗エポキシ樹脂にメチルイソブチルケトン590gとn−ブタノール177gとを加え溶解した。更にこの溶液に10%水酸化ナトリウム水溶液10gを添加して80℃で2時間反応させた後に洗浄液のPHが中性となるまで水150gで水洗を3回繰り返した。次いで共沸によって系内を脱水し、精密濾過を経た後に、溶媒を減圧下で留去して、下記式(12)
Example 2 [Synthesis of Epoxy Resin (B-1)]
A flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a condenser tube, and a stirrer was purged with nitrogen gas, while 240 parts of the polyhydroxy compound (A-1) obtained in Example 1 and 463 g of epichlorohydrin (5.0 mol) were obtained. 139 g of n-butanol and 2 g of tetraethylbenzylammonium chloride were charged and dissolved. After raising the temperature to 65 ° C., the pressure was reduced to an azeotropic pressure, and 90 g (1.1 mol) of a 49% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 5 hours. Thereafter, stirring was continued for 0.5 hours under the same conditions. During this time, the distillate distilled by azeotropic distillation was separated with a Dean-Stark trap, the water layer was removed, and the reaction was carried out while returning the oil layer to the reaction system. Thereafter, unreacted epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure. 590 g of methyl isobutyl ketone and 177 g of n-butanol were added to the crude epoxy resin thus obtained and dissolved. Further, 10 g of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added to this solution and reacted at 80 ° C. for 2 hours, and then washing with water 150 g was repeated three times until the pH of the washing solution became neutral. Next, the system was dehydrated by azeotropic distillation, and after microfiltration, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following formula (12)

Figure 2006096992
(式中、nの平均値は0.3である。)で表される本発明のエポキシ樹脂(B−1)280部を得た。得られたエポキシ樹脂の軟化点は80℃、150℃の溶融粘度は4.8dPa・s、エポキシ当量は321g/eqであった。C13−NMRチャート(図2)からその構造を確認した。
Figure 2006096992
In the formula, 280 parts of the epoxy resin (B-1) of the present invention represented by the following formula was obtained. The resulting epoxy resin had a softening point of 80 ° C., a melt viscosity at 150 ° C. of 4.8 dPa · s, and an epoxy equivalent of 321 g / eq. The structure was confirmed from the C 13 -NMR chart (FIG. 2).

実施例3 〔多価ヒドロキシ化合物(A−2)の合成〕
実施例1において、2,4,6−トリメチルフェノールの代わりに2,4,6−トリメチルフェノール100重量部に対し、11重量部の2,4−ジメチルフェノールと、5重量部の2,6−ジメチルフェノールが含まれるものを用いる以外は実施例1と同様にして、本発明の多価ヒドロキシ化合物(A−1)440部を得た。得られた多価ヒドロキシ化合物の軟化点は80℃(ボール&リング法)、水酸基当量は239g/eqであった。C13−NMRチャート(図3)からその構造を確認した。。
Example 3 Synthesis of polyvalent hydroxy compound (A-2)
In Example 1, instead of 2,4,6-trimethylphenol, 11 parts by weight of 2,4-dimethylphenol and 5 parts by weight of 2,6-trimethylphenol were added to 100 parts by weight of 2,4,6-trimethylphenol. 440 parts of the polyvalent hydroxy compound (A-1) of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that dimethylphenol was used. The obtained polyvalent hydroxy compound had a softening point of 80 ° C. (ball and ring method) and a hydroxyl group equivalent of 239 g / eq. The structure was confirmed from the C 13 -NMR chart (FIG. 3). .

実施例4 〔エポキシ樹脂(B−2)の合成〕
実施例2において、多価ヒドロキシ化合物(A−1)の代わりに多価ヒドロキシ化合物(A−2)を用いる以外は実施例2と同様にして、本発明のエポキシ樹脂(B−1)291部を得た。得られたエポキシ樹脂の軟化点は72℃、150℃の溶融粘度は2.7dPa・s、エポキシ当量は331g/eqであった。C13−NMRチャート(図4)からその構造を確認した。
Example 4 [Synthesis of Epoxy Resin (B-2)]
In Example 2, 291 parts of the epoxy resin (B-1) of the present invention was used in the same manner as in Example 2 except that the polyvalent hydroxy compound (A-2) was used instead of the polyvalent hydroxy compound (A-1). Got. The resulting epoxy resin had a softening point of 72 ° C., a melt viscosity at 150 ° C. of 2.7 dPa · s, and an epoxy equivalent of 331 g / eq. The structure was confirmed from the C 13 -NMR chart (FIG. 4).

比較例1 〔多価ヒドロキシ化合物(C)の合成〕
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、下記式(10)
Comparative Example 1 [Synthesis of Multivalent Hydroxy Compound (C)]
In a flask equipped with a thermometer, dropping funnel, condenser, fractionator, and stirrer, the following formula (10)

Figure 2006096992
で表される化合物242部、2,3,6−トリメチルフェノール952部を仕込み、室温下、窒素を吹き込みながら撹拌した。メタンスルホン酸9部を発熱に注意しながら液温が80℃を超えないようにゆっくり添加した。その後油浴中で150℃まで加熱し、分留管を用いて生成するメタノールを抜き出した後、更に5時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン1400部を加え、不溶解成分を濾過にて除去し、濾過液を分液ロートに移し洗浄水が中性となるまで水洗した。一方、濾過にて除去した不溶解成分も洗浄水が中性となるまで水洗し、これを水洗後の濾過液に加え分散させた。不溶解物を分散させた濾過液から溶媒及び未反応の2,3,6−トリメチルフェノールを加熱減圧下に除去し、下記式(13)
Figure 2006096992
242 parts of a compound represented by the formula and 952 parts of 2,3,6-trimethylphenol were added and stirred at room temperature while blowing nitrogen. 9 parts of methanesulfonic acid was slowly added so as not to exceed 80 ° C. while paying attention to heat generation. Thereafter, the mixture was heated to 150 ° C. in an oil bath, and methanol produced was extracted using a fractionating tube, followed by further reaction for 5 hours. After completion of the reaction, 1400 parts of methyl isobutyl ketone was further added, insoluble components were removed by filtration, the filtrate was transferred to a separatory funnel and washed with water until the washing water became neutral. On the other hand, insoluble components removed by filtration were also washed with water until the washing water became neutral, and this was added to the filtrate after washing and dispersed. The solvent and unreacted 2,3,6-trimethylphenol were removed from the filtrate with the insoluble material dispersed under heating and reduced pressure, and the following formula (13)

Figure 2006096992
(式中、nの平均値は0.2である。)で表される多価ヒドロキシ化合物(C)402部を得た。得られた多価ヒドロキシ化合物の融点は225℃(DSC法)、水酸基当量は243g/eqであった。
Figure 2006096992
(In the formula, the average value of n is 0.2.) 402 parts of a polyvalent hydroxy compound (C) represented by the following formula was obtained. The obtained polyvalent hydroxy compound had a melting point of 225 ° C. (DSC method) and a hydroxyl group equivalent of 243 g / eq.

比較例2 〔エポキシ樹脂(D)の合成〕
実施例2において、多価ヒドロキシ化合物(A−1)の代わりに多価ヒドロキシ化合物(C)243gを用いる以外は実施例2と同様にして、下記式(14)
Comparative Example 2 [Synthesis of Epoxy Resin (D)]
In Example 2, in the same manner as in Example 2 except that 243 g of the polyvalent hydroxy compound (C) is used instead of the polyvalent hydroxy compound (A-1), the following formula (14)

Figure 2006096992
(式中、nの平均値は0.3である。)で表されるエポキシ樹脂(D)273部を得た。得られたエポキシ樹脂の軟化点は83℃(ボール&リング法)、150℃の溶融粘度は5.2dPa・s、エポキシ当量は327g/eqであった。
Figure 2006096992
(In the formula, the average value of n is 0.3.) 273 parts of an epoxy resin (D) represented by the following formula was obtained. The resulting epoxy resin had a softening point of 83 ° C. (ball and ring method), a melt viscosity at 150 ° C. of 5.2 dPa · s, and an epoxy equivalent of 327 g / eq.

比較例3 〔多価ヒドロキシ化合物(E)の合成〕
比較例1において、2,3,6−トリメチルフェノールの代わりに2,3、5−トリメチルフェノールを用いる以外は比較例1と同様にして、下記式(15)
Comparative Example 3 [Synthesis of Multivalent Hydroxy Compound (E)]
In Comparative Example 1, in the same manner as in Comparative Example 1 except that 2,3,5-trimethylphenol is used instead of 2,3,6-trimethylphenol, the following formula (15)

Figure 2006096992
(式中、nの平均値は0.2である。)で表される多価ヒドロキシ化合物(E)405部を得た。得られた多価ヒドロキシ化合物の融点は219℃(DSC法)、水酸基当量は242g/eqであった。
Figure 2006096992
(In the formula, the average value of n is 0.2.) 405 parts of a polyvalent hydroxy compound (E) represented by the following formula was obtained. The obtained polyvalent hydroxy compound had a melting point of 219 ° C. (DSC method) and a hydroxyl group equivalent of 242 g / eq.

比較例4 〔エポキシ樹脂(F)の合成〕
実施例2において、多価ヒドロキシ化合物(A−1)の代わりに多価ヒドロキシ化合物(E)242gを用いる以外は実施例2と同様にして、下記式(16)
Comparative Example 4 [Synthesis of Epoxy Resin (F)]
In Example 2, in the same manner as in Example 2 except that 242 g of the polyvalent hydroxy compound (E) is used instead of the polyvalent hydroxy compound (A-1), the following formula (16)

Figure 2006096992
Figure 2006096992

(式中、nの平均値は0.3である。)で表されるエポキシ樹脂(F)275部を得た。得られたエポキシ樹脂の軟化点は80℃、150℃の溶融粘度は4.9dPa・s、エポキシ当量は328g/eqであった。 (In the formula, the average value of n is 0.3.) 275 parts of an epoxy resin (F) represented by the following formula was obtained. The resulting epoxy resin had a softening point of 80 ° C., a melt viscosity at 150 ° C. of 4.9 dPa · s, and an epoxy equivalent of 328 g / eq.

比較例5 〔多価ヒドロキシ化合物(G)の合成〕
比較例1において、2,3,6−トリメチルフェノールの代わりに3,4、5−トリメチルフェノールを用いる以外は比較例1と同様にして、下記式(17)
Comparative Example 5 [Synthesis of Multivalent Hydroxy Compound (G)]
In Comparative Example 1, in the same manner as in Comparative Example 1 except that 3,4,5-trimethylphenol is used instead of 2,3,6-trimethylphenol, the following formula (17)

Figure 2006096992
Figure 2006096992

(式中、nの平均値は0.2である。)で表される多価ヒドロキシ化合物(G)402部を得た。得られた多価ヒドロキシ化合物の融点は231℃(DSC法)、水酸基当量は245g/eqであった。 (In the formula, the average value of n is 0.2.) 402 parts of a polyvalent hydroxy compound (G) represented by the following formula was obtained. The obtained polyvalent hydroxy compound had a melting point of 231 ° C. (DSC method) and a hydroxyl group equivalent of 245 g / eq.

比較例6 〔エポキシ樹脂(H)の合成〕
実施例2において、多価ヒドロキシ化合物(A−1)の代わりに多価ヒドロキシ化合物(G)245gを用いる以外は実施例2と同様にして、下記式(18)
Comparative Example 6 [Synthesis of Epoxy Resin (H)]
In Example 2, in the same manner as in Example 2 except that 245 g of the polyvalent hydroxy compound (G) is used instead of the polyvalent hydroxy compound (A-1), the following formula (18)

Figure 2006096992
(式中、nの平均値は0.3である。)で表されるエポキシ樹脂(H)270部を得た。得られたエポキシ樹脂の軟化点は85℃、150℃の溶融粘度は5.8dPa・s、エポキシ当量は332g/eqであった。
Figure 2006096992
In the formula, 270 parts of an epoxy resin (H) represented by the following formula was obtained. The resulting epoxy resin had a softening point of 85 ° C., a melt viscosity at 150 ° C. of 5.8 dPa · s, and an epoxy equivalent of 332 g / eq.

実施例5〜10と比較例7〜15
表1〜5に示す各種の素材を用い、表1〜5に示す配合に従い、2本ロールを用いて100℃の温度で10分間溶融混練して目的の組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物について、下記手法によりゲルタイムを測定し、硬化性を試験した。また、これを180℃で10分間プレス成形し、その後180℃で5時間さらに硬化せしめた後に、UL−94試験法に準拠した厚さ1.6mmの試験片を作成し、下記方法により、硬化物の物性を確認した。
Examples 5-10 and Comparative Examples 7-15
Various materials shown in Tables 1 to 5 were used, and in accordance with the formulations shown in Tables 1 to 5, melt-kneading was performed for 10 minutes at a temperature of 100 ° C. using two rolls to obtain the desired composition. About the obtained epoxy resin composition, gel time was measured with the following method and sclerosis | hardenability was tested. In addition, this was press-molded at 180 ° C. for 10 minutes, and then further cured at 180 ° C. for 5 hours. Then, a test piece having a thickness of 1.6 mm in accordance with the UL-94 test method was prepared and cured by the following method. The physical properties of the material were confirmed.

ゲルタイム: エポキシ樹脂組成物0.15gを175℃に加熱したキュアプレート(THERMO ELECTRIC社製)上に載せ、ストップウォッチで計時を開始する。棒の先端にて試料を均一に攪拌し、糸状に試料が切れてプレートに残るようになった時、ストップウォッチを止める。この試料が切れてプレートに残るようになるまでの時間をゲルタイムとした。   Gel time: 0.15 g of the epoxy resin composition is placed on a cure plate heated to 175 ° C. (manufactured by THERMO ELECTRIC), and time measurement is started with a stopwatch. Stir the sample evenly with the tip of the rod and stop the stopwatch when the sample breaks into a string and remains on the plate. The time until this sample was cut and remained on the plate was defined as the gel time.

ガラス転移温度:粘弾性測定装置(レオメトリック社製 固体粘弾性測定装置RSAII、二重カレンチレバー法;周波数1Hz、昇温速度3℃/min)を用いて測定した。
難燃性:UL−94試験法に準拠し、厚さ1.6mmの試験片5本を用いて、燃焼試験を行った。
Glass transition temperature: Measured using a viscoelasticity measuring device (solid viscoelasticity measuring device RSAII manufactured by Rheometric Co., Ltd., double currant lever method; frequency 1 Hz, temperature rising rate 3 ° C./min).
Flame retardancy: Based on the UL-94 test method, a flame test was performed using five test pieces having a thickness of 1.6 mm.

Figure 2006096992
Figure 2006096992

Figure 2006096992
Figure 2006096992

Figure 2006096992
Figure 2006096992

Figure 2006096992
Figure 2006096992

Figure 2006096992
Figure 2006096992

なお、表中の*1〜*3は、下記を意味する。
*1:結晶化のため配合物得られず。
*2:ゲル化せず。
*3:硬化せず試験片得られず。
In addition, * 1- * 3 in a table | surface means the following.
* 1: No formulation was obtained due to crystallization.
* 2: Not gelled.
* 3: The specimen was not cured and could not be obtained.

本発明のエポキシ樹脂硬化剤およびエポキシ樹脂である実施例1〜4は、比較例1〜6のような2,4,6−トリアルキルフェノール以外のトリアルキルフェノールを原料とした同類化合物と比較して、必要以上の濾過等の煩雑な操作を必要とせず、高収率で製造することができる。一方、本発明のエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物を用いた実施例5〜8は、比較例7〜12のような2,4,6−トリアルキルフェノール以外のトリアルキルフェノールを原料とした同類化合物と比較して、難燃性、耐熱性、硬化性に優れる。一方、本発明のエポキシ樹脂硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物を用いた実施例9〜10は、比較例13〜15のような2,4,6−トリアルキルフェノール以外のトリアルキルフェノールを原料とした同類化合物と比較して、硬化物が作成できないなどの問題もなく、難燃性、耐熱性、硬化性に優れる。   Examples 1-4 which are the epoxy resin curing agent and epoxy resin of the present invention are compared with similar compounds made from trialkylphenol other than 2,4,6-trialkylphenol as in Comparative Examples 1-6, It can be produced in a high yield without requiring complicated operations such as unnecessary filtration. On the other hand, Examples 5-8 using the epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention are similar compounds using trialkylphenol as a raw material other than 2,4,6-trialkylphenol as in Comparative Examples 7-12. Compared to, it is excellent in flame retardancy, heat resistance and curability. On the other hand, Examples 9 to 10 using the epoxy resin composition containing the epoxy resin curing agent of the present invention were prepared using trialkylphenol as a raw material other than 2,4,6-trialkylphenol as in Comparative Examples 13 to 15. Compared to similar compounds, there is no problem that a cured product cannot be produced, and the flame retardancy, heat resistance, and curability are excellent.

実施例1で得られた多価ヒドロキシ化合物の13C−NMRスペクトルである。3 is a 13 C-NMR spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 1. FIG. 実施例2で得られた多価ヒドロキシ化合物の13C−NMRスペクトルである。3 is a 13 C-NMR spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 2. FIG. 実施例3で得られた多価ヒドロキシ化合物の13C−NMRスペクトルである。3 is a 13 C-NMR spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 3. FIG. 実施例4で得られた多価ヒドロキシ化合物の13C−NMRスペクトルである。3 is a 13 C-NMR spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 4.

Claims (19)

置換基を有してもよいグリシジルオキシ基(a1)を芳香環上の置換基として有し、且つ該グリシジルオキシ基の2、4、6位に同一でも異なってもよい炭素数1〜4のアルキル基(a2)を有する芳香環の2個以上がグリシジルオキシ基(a1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基(a3)を介して連結された構造を含むエポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 The glycidyloxy group (a1) which may have a substituent has 1 to 4 carbon atoms which may be the same or different at the 2, 4 and 6 positions of the glycidyloxy group as a substituent on the aromatic ring. Two or more methylene groups which may have a substituent, in which two or more of the aromatic rings having an alkyl group (a2) are in the meta positions of the glycidyloxy group (a1) and bonded to each aromatic ring of biphenyl ( An epoxy resin composition comprising an epoxy resin (A) having a structure linked through a3) and a curing agent (B). 炭素数1〜4のアルキル基(a2)がメチル基である請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the alkyl group (a2) having 1 to 4 carbon atoms is a methyl group. 芳香族性水酸基(c1)を有し、且つ該水酸基の2、4、6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基(c2)を有する芳香環の2個以上が芳香族性水酸基(c1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の、置換基を有してもよいメチレン基(a3)を介して連結された構造を含む多価ヒドロキシ化合物(C)とエポキシ樹脂(D)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 Two or more aromatic rings having an aromatic hydroxyl group (c1) and having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (c2) which may be the same or different at positions 2, 4, and 6 of the hydroxyl group are aromatic. A polyvalent hydroxy group having a structure in which two meta groups of the aliphatic hydroxyl group (c1) are linked to each aromatic ring of biphenyl and linked via a methylene group (a3) which may have a substituent. An epoxy resin composition comprising a compound (C) and an epoxy resin (D). 炭素数1〜4のアルキル基(c2)がメチル基である請求項3記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 3, wherein the alkyl group (c2) having 1 to 4 carbon atoms is a methyl group. エポキシ樹脂(D)が、置換基を有していてもよいグリシジルオキシ基(a1)を芳香環上の置換基として有し、且つ該グリシジルオキシ基の2、4、6位に同一でも異なっていても良い炭素数1〜4のアルキル基(a2)を有する芳香環の2個以上がグリシジルオキシ基(a1)のメタ位同士で、ビフェニルのそれぞれの芳香環に結合した2個の置換基を有してもよいメチレン基(a3)を介して連結された構造を含むエポキシ樹脂(A)である請求項4記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin (D) has a glycidyloxy group (a1) which may have a substituent as a substituent on the aromatic ring, and is the same or different at the 2, 4 and 6 positions of the glycidyloxy group. Two or more of the aromatic rings having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (a2) may be meta-positions of the glycidyloxy group (a1), and two substituents bonded to each aromatic ring of biphenyl. The epoxy resin composition according to claim 4, which is an epoxy resin (A) comprising a structure linked through a methylene group (a3) which may have. 下記一般式(1)
Figure 2006096992
(式中、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜4のアルキル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子またはメチル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、nは平均値で0〜10を示す。)で表されるエポキシ樹脂。
The following general formula (1)
Figure 2006096992
Wherein R 1 is the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is the same or different hydrogen atom or methyl group, and R 3 is the same or different hydrogen. An epoxy resin represented by an atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an average value of 0 to 10.
前記一般式(1)中のRがメチル基である請求項6記載のエポキシ樹脂。 The epoxy resin according to claim 6, wherein R 1 in the general formula (1) is a methyl group. 溶融粘度(ICI粘度計法,150℃)が5dPa・s以下であることを特徴とする請求項6記載のエポキシ樹脂。 7. The epoxy resin according to claim 6, having a melt viscosity (ICI viscometer method, 150 ° C.) of 5 dPa · s or less. 下記一般式(2)
Figure 2006096992
(但し、Rは同一でも異なっていてもよい炭素数1〜4のアルキル基、Rは同一でも異なっていてもよい水素原子またはメチル基、nは平均値で0〜10を示す。)で表される多価ヒドロキシ化合物。
The following general formula (2)
Figure 2006096992
(However, R 1 is the same or different alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is the same or different hydrogen atom or methyl group, and n is an average value of 0 to 10.) The polyvalent hydroxy compound represented by these.
がメチル基である請求項9記載の多価ヒドロキシ化合物。 The polyvalent hydroxy compound according to claim 9, wherein R 1 is a methyl group. 2,4,6位に炭素数1〜4のアルキル基を置換基として有するトリアルキルフェノール類(x1)と下記一般式(3)、(4)及び(5)で表される化合物からなる群から選ばれる1種以上のビフェニル化合物(x2)とを反応させることを特徴とする多価ヒドロキシ化合物の製造方法。
Figure 2006096992
(式中のXはハロゲン原子を、Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。)
From the group consisting of trialkylphenols (x1) having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as substituents at positions 2, 4, 6 and compounds represented by the following general formulas (3), (4) and (5) A method for producing a polyvalent hydroxy compound, comprising reacting one or more selected biphenyl compounds (x2).
Figure 2006096992
(X in the formula represents a halogen atom, and R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
前記2,4,6位に炭素数1〜4のアルキル基を置換基として有するトリアルキルフェノール類(x1)100重量部に対し、更にフェノール、炭素数1〜4のモノアルキルフェノール類及び炭素数1〜4のジアルキルフェノール類から選ばれる1種以上のアルキルフェノール類(x3)を5〜30重量部用いて、前記ビフェニル化合物(x2)とを反応させる請求項10記載の多価ヒドロキシ化合物の製造方法。 In addition to 100 parts by weight of trialkylphenols (x1) having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as substituents at the 2,4,6 positions, phenol, monoalkylphenols having 1 to 4 carbon atoms and 1 to 1 carbon atoms The method for producing a polyvalent hydroxy compound according to claim 10, wherein 5 to 30 parts by weight of one or more alkylphenols (x3) selected from 4 dialkylphenols are reacted with the biphenyl compound (x2). トリアルキルフェノール類(x1)とアルキルフェノール類(x3)との合計モル数とビフェニル化合物(x2)のモル数との比〔[(x1)+(x3)]/(x2)〕が5:0.1〜1:1(モル比)である請求項10、11又は12記載の多価ヒドロキシ化合物の製造方法。 The ratio [[(x1) + (x3)] / (x2)] of the total number of moles of trialkylphenols (x1) and alkylphenols (x3) to the number of moles of biphenyl compound (x2) is 5: 0.1 The method for producing a polyvalent hydroxy compound according to claim 10, 11 or 12, which is ˜1: 1 (molar ratio). 請求項9または10に記載の多価ヒドロキシ化合物とエピハロヒドリン類とを反応させることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法。 The manufacturing method of the epoxy resin characterized by making the polyhydric hydroxy compound and epihalohydrin of Claim 9 or 10 react. 更に非ハロゲン系難燃剤(E)を含有する請求項1〜5の何れか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising a non-halogen flame retardant (E). 前記非ハロゲン系難燃剤(E)が、リン系難燃剤(e1)、窒素系難燃剤(e2)、シリコーン系難燃剤(e3)、無機系難燃剤(e4)及び有機金属塩系難燃剤(e5)からなる群から選ばれる1種以上の難燃剤である請求項15記載のエポキシ樹脂組成物。 The non-halogen flame retardant (E) is a phosphorus flame retardant (e1), a nitrogen flame retardant (e2), a silicone flame retardant (e3), an inorganic flame retardant (e4), and an organic metal salt flame retardant ( The epoxy resin composition according to claim 15, which is one or more flame retardants selected from the group consisting of e5). 半導体封止材料である請求項15または請求項16記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 15 or 16, which is a semiconductor sealing material. 非ハロゲン系難燃性樹脂組成物である請求項17記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 17, which is a non-halogen flame retardant resin composition. 請求項1〜5、15〜18の何れか1項記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物。

Hardened | cured material which hardened the epoxy resin composition of any one of Claims 1-5, 15-18.

JP2005247544A 2004-09-06 2005-08-29 Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof. Active JP5240485B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005247544A JP5240485B2 (en) 2004-09-06 2005-08-29 Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof.

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004258239 2004-09-06
JP2004258239 2004-09-06
JP2005247544A JP5240485B2 (en) 2004-09-06 2005-08-29 Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006096992A true JP2006096992A (en) 2006-04-13
JP5240485B2 JP5240485B2 (en) 2013-07-17

Family

ID=36237105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005247544A Active JP5240485B2 (en) 2004-09-06 2005-08-29 Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof.

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5240485B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017105891A (en) * 2015-12-07 2017-06-15 群栄化学工業株式会社 Phenol aralkyl resin, manufacturing method therefor, epoxy resin, and thermosetting molding material
KR20180071139A (en) * 2016-12-19 2018-06-27 삼성에스디아이 주식회사 Film-type semiconductor encapsulation member, semiconductor package prepared by using the same and method for manufacturing thereof
JP2019080059A (en) * 2017-10-20 2019-05-23 住友ベークライト株式会社 Exterior member forming resin composition and structure
JP2019080058A (en) * 2017-10-20 2019-05-23 住友ベークライト株式会社 Magnetic core forming resin composition and structure
CN112236477A (en) * 2018-09-21 2021-01-15 Dic株式会社 Resin composition, cured product, and laminate

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5061493A (en) * 1973-10-03 1975-05-27
JPS62255445A (en) * 1986-04-28 1987-11-07 Kuraray Co Ltd Method for purifying 2,4,6-trimethylphenol
JPH10251362A (en) * 1997-03-11 1998-09-22 Nippon Kayaku Co Ltd Novolak type resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2002003425A (en) * 2000-04-20 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd Method for alkylating aromatic nucleus of phenols

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5061493A (en) * 1973-10-03 1975-05-27
JPS62255445A (en) * 1986-04-28 1987-11-07 Kuraray Co Ltd Method for purifying 2,4,6-trimethylphenol
JPH10251362A (en) * 1997-03-11 1998-09-22 Nippon Kayaku Co Ltd Novolak type resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2002003425A (en) * 2000-04-20 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd Method for alkylating aromatic nucleus of phenols

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017105891A (en) * 2015-12-07 2017-06-15 群栄化学工業株式会社 Phenol aralkyl resin, manufacturing method therefor, epoxy resin, and thermosetting molding material
KR20180071139A (en) * 2016-12-19 2018-06-27 삼성에스디아이 주식회사 Film-type semiconductor encapsulation member, semiconductor package prepared by using the same and method for manufacturing thereof
WO2018117373A1 (en) * 2016-12-19 2018-06-28 삼성에스디아이 주식회사 Film-type semiconductor sealing member, semiconductor package manufactured using same, and method for manufacturing same
KR102040296B1 (en) 2016-12-19 2019-11-04 삼성에스디아이 주식회사 Film-type semiconductor encapsulation member, semiconductor package prepared by using the same and method for manufacturing thereof
JP2019080059A (en) * 2017-10-20 2019-05-23 住友ベークライト株式会社 Exterior member forming resin composition and structure
JP2019080058A (en) * 2017-10-20 2019-05-23 住友ベークライト株式会社 Magnetic core forming resin composition and structure
CN112236477A (en) * 2018-09-21 2021-01-15 Dic株式会社 Resin composition, cured product, and laminate

Also Published As

Publication number Publication date
JP5240485B2 (en) 2013-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4285491B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, novel phenol resin, and semiconductor sealing material
JP4259536B2 (en) Method for producing phenol resin and method for producing epoxy resin
JP5245199B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, production method thereof, and novel phenol resin
WO2006093203A1 (en) Epoxy resin composition, cured object obtained therefrom, semiconductor-encapsulating material, novel phenolic resin, and novel epoxy resin
JP5002897B2 (en) Polyhydric hydroxy compound, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP5136729B2 (en) Curable resin composition, cured product thereof, phenol resin, epoxy resin, and semiconductor sealing material
JP4706904B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin and production method thereof
JP4661033B2 (en) Epoxy resin composition, semiconductor sealing material, and semiconductor device
JP5380763B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, semiconductor encapsulating material, novel phenol resin, novel epoxy resin, novel phenol resin production method, and novel epoxy resin production method
JP2005097352A (en) Epoxy resin composition, semiconductor sealing material, and semiconductor device
JP5246481B2 (en) Curable resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, and production method thereof
JP5708306B2 (en) Epoxy resin, curable resin composition, cured product thereof, semiconductor sealing material, and printed wiring board
JP5240485B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof.
JP5233858B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, and semiconductor device
JP4984451B2 (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
JP6584515B2 (en) Epoxy resin composition, curable composition, and semiconductor sealing material
JP4706905B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof
JP5011683B2 (en) Polyvalent hydroxy compound, epoxy resin, and production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP4961663B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin and production method thereof
JP4962751B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel dihydric phenol compound and production method thereof
JP5024604B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin and production method thereof
JP5035604B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, and novel epoxy resin
JP5082492B2 (en) Bifunctional hydroxy compound, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition, cured product thereof, and semiconductor sealing material
JP5035602B2 (en) Epoxy resin composition and novel phenol resin
JP4984432B2 (en) Polyvalent hydroxy compound, epoxy resin, and production method thereof, epoxy resin composition and cured product

Legal Events

Date Code Title Description
AA64 Notification of invalidation of claim of internal priority (with term)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A241764

Effective date: 20050922

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051021

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080828

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110329

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110823

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120508

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120614

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130307

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130320

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5240485

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250