JP2006087646A - Laser therapeutic apparatus and its usage - Google Patents

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勇 新田
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明宏 菅野
Kimio Komata
公夫 小俣
Yoshiyasu Ito
嘉恭 伊藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser therapeutic apparatus and its usage precisely and uniformly irradiating a treatment site alone with beams and capable of improving the energy density of an irradiation spot even with less irradiation volume. <P>SOLUTION: This laser therapeutic apparatus is provided with a laser oscillator generating the laser beams, a laser scanning means scanning the laser beams across a predetermined area, a scanning lens system forming a spot image by concentrating the laser beams to be scanned with the laser scanning means, and a spot diameter control means controlling the diameter of the spot image formed with the scanning lens system. The laser scanning means is so constituted as to scan at an arbitrary pattern and pinpointedly irradiate a subject with the laser beams. The scanning region is irradiated with the pinpoint laser beam to effectively and uniformly irradiate the necessary volume to the treatment site alone with the beams of required amount. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、生体組織の特にニキビ，アザ，シミ，シワなどの組織に対してレーザ光を照射させて治療を行うレーザ治療装置およびその使用方法に関する。   The present invention relates to a laser treatment apparatus that performs treatment by irradiating a living tissue with a laser beam on tissues such as acne, aza, spots, and wrinkles, and a method of using the same.

近年、ニキビ，シワ，腫瘍などの治療法として、光線力学療法（ＰＤＴ）が注目されている。   In recent years, photodynamic therapy (PDT) has attracted attention as a treatment method for acne, wrinkles, tumors and the like.

光線力学療法とは、光と薬剤の相互作用で患部を治療するものである。具体的には、光感受性の薬剤を服用し、該薬剤あるいは体内代謝によって生成された物質を患部に選択的に集積させる。この集積された部分に特定波長の光を照射することにより光化学反応を生起させ、活性酸素を生成し、この活性酸素により患部の細胞を死滅させる療法である。   Photodynamic therapy treats the affected area by the interaction of light and drugs. Specifically, a photosensitive drug is taken, and the drug or a substance generated by metabolism in the body is selectively accumulated in the affected area. This is a therapy in which a photochemical reaction is caused by irradiating light of a specific wavelength to the integrated portion, generating active oxygen, and killing the cells in the affected area by this active oxygen.

従来の癌又は腫瘍等のためのＰＤＴ装置として、例えば特許文献１には、特定波長域内に比較的大きな吸収係数を持つ感光剤の吸収波長に適合した波長の光を放射する放電ランプと、該放電ランプからの放射光を集光するミラーと、上記感光剤を集積させた治療対象物に対し一定の照射時間となるように任意に時分割する手段とを具備したことを特徴とする光線力学的治療用光照射装置が開示されている。また、特許文献２には、可視光線を含む広波長帯域の光線を放射する光源と、該光源からの光線を面照射させる光学手段と、前記光源から放射される光線のうちの特定の波長帯域の光線を選択的に透過する光学フィルタと、該光学フィルタを前記光源の光路中に挿脱するフィルタ装着手段とを備える面照射型光線力学的診断・治療用光線装置が開示されている。なお、広波長帯域の光線を放射する光源として、紫外線ランプ、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ及び白色ＬＥＤが用いられている。
特開２００３−１４４５６２号公報 特開２００１−２９９９３９号公報 As a conventional PDT device for cancer or tumor, for example, Patent Document 1 discloses a discharge lamp that emits light having a wavelength suitable for the absorption wavelength of a photosensitive agent having a relatively large absorption coefficient in a specific wavelength range, Photodynamics comprising: a mirror for condensing the radiated light from the discharge lamp; and means for arbitrarily time-dividing the treatment object on which the photosensitive agent is integrated so as to have a fixed irradiation time. An optical irradiation device for therapeutic treatment is disclosed. Patent Document 2 discloses a light source that emits light in a wide wavelength band including visible light, optical means for irradiating the light from the light source, and a specific wavelength band among the light emitted from the light source. A surface-irradiation type photodynamic diagnosis / treatment beam device comprising an optical filter that selectively transmits the light beam and filter mounting means for inserting and removing the optical filter into and from the optical path of the light source is disclosed. An ultraviolet lamp, a halogen lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and a white LED are used as a light source that emits light in a wide wavelength band.
JP 2003-144562 A JP 2001-299939 A

しかしながら、ＰＤＴ装置の光源としてランプを用いた装置では、広範囲の組織を一括照射するため被照射部位の中心部は照射強度が強いものの、中心部から離れていくにしたがって照射強度が減少し、照射量にムラが発生していた。また、照射範囲が広いため、照射する必要のない正常組織にも照射することとなり、正常細胞への熱障害等の副作用が懸念され、さらには照射エネルギー損失が大きくなるといった問題があった。また、エネルギー出力が大きいので装置が大型化し、価格も高くなるといった問題があった。さらに、長時間の照射が必要となり患者に多大な負担をかけるといった問題があった。   However, in an apparatus using a lamp as a light source of a PDT apparatus, the irradiation intensity decreases at a distance from the center while the irradiation intensity decreases at the central part of the irradiated part because the irradiation of a wide range of tissues is performed at once. The amount was uneven. Further, since the irradiation range is wide, irradiation is performed even on normal tissues that do not need to be irradiated, and there are concerns about side effects such as heat damage to normal cells, and there is a problem that irradiation energy loss increases. Further, since the energy output is large, there is a problem that the apparatus becomes large and the price is high. Furthermore, there is a problem that a long time of irradiation is required and a great burden is placed on the patient.

そこで、本発明は、治療部位にのみ正確に、かつ均一に光を照射でき、さらに少ない照射量であっても照射スポットのエネルギー密度を高くできるレーザ治療装置を提供することを目的とする。さらに、該レーザ治療装置の使用方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a laser treatment apparatus that can irradiate light accurately and uniformly only on a treatment site and can increase the energy density of an irradiation spot even with a smaller dose. Furthermore, it aims at providing the usage method of this laser treatment apparatus.

本発明の請求項１記載のレーザ治療装置は、レーザ光を発生するレーザ発振器と、前記レーザ光を所定の領域にわたり走査するレーザ走査手段と、前記レーザ走査手段により走査されるレーザ光を集光させることによりスポット像を形成する走査レンズ系と、前記走査レンズ系により形成されたスポット像の径を制御するスポット径制御手段とを備えたレーザ治療装置であって、前記レーザ走査手段は、任意のパターンで走査し、レーザ光を被検体上にピンポイントで照射するように構成されたことを特徴とする。   The laser treatment apparatus according to claim 1 of the present invention is a laser oscillator that generates laser light, laser scanning means that scans the laser light over a predetermined area, and condenses the laser light that is scanned by the laser scanning means. A laser treatment apparatus comprising: a scanning lens system that forms a spot image by controlling the spot lens; and a spot diameter control unit that controls a diameter of the spot image formed by the scanning lens system. And a laser beam is irradiated on the subject at a pinpoint.

本発明の請求項２記載のレーザ治療装置は、請求項１において、前記レーザ発振器は、半導体レーザであることを特徴とする。   The laser treatment apparatus according to claim 2 of the present invention is characterized in that, in claim 1, the laser oscillator is a semiconductor laser.

本発明の請求項３記載のレーザ治療装置は、請求項１又は２において、前記レーザ走査手段は、走査ミラーであることを特徴とする。   The laser treatment apparatus according to claim 3 of the present invention is characterized in that in claim 1 or 2, the laser scanning means is a scanning mirror.

本発明の請求項４記載のレーザ治療装置は、請求項１〜３のいずれか１項において、前記スポット径制御手段は、ビームエキスパンダであることを特徴とする。   A laser treatment apparatus according to a fourth aspect of the present invention is the laser treatment apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the spot diameter control means is a beam expander.

本発明の請求項５記載のレーザ治療装置の使用方法は、請求項１〜４のいずれかに記載のレーザ治療装置の使用方法であって、ニキビにより引き起こされた皮膚損傷部位に存在するポルフィリン系の光感受性物質に可視光線を照射することを特徴とする。   A method of using the laser treatment device according to claim 5 of the present invention is the method of using the laser treatment device according to any one of claims 1 to 4, wherein the porphyrin system is present at a site of skin damage caused by acne. It is characterized by irradiating visible light to the photosensitive material.

本発明の請求項１記載のレーザ治療装置によれば、ピンポイントで照射することにより治療部位にのみに正確に、かつ均一に必要量を照射することが可能である。さらに、スポット径が小さなピンポイント照射を行えるため、少ない照射量であっても照射スポットのエネルギー密度を高めることが可能であり、装置を小型化でき低コストでの作製が可能である。また、正常細胞への熱傷害等の副作用がなく、治療部位にはスポット径制御手段で絞られたレーザ光を照射することで、患者に与える負担を大幅に軽減することができる。さらに、レーザを任意のパターンで走査することにより、任意の位置に所望の時間レーザを照射できる。   According to the laser treatment apparatus of the first aspect of the present invention, it is possible to accurately and uniformly irradiate only a treatment site with a necessary amount by irradiating with a pinpoint. Furthermore, since pinpoint irradiation with a small spot diameter can be performed, the energy density of the irradiation spot can be increased even with a small irradiation amount, and the apparatus can be miniaturized and manufactured at low cost. Further, there is no side effect such as heat injury to normal cells, and the burden on the patient can be greatly reduced by irradiating the treatment site with the laser light focused by the spot diameter control means. Furthermore, by scanning the laser with an arbitrary pattern, the laser can be irradiated to an arbitrary position for a desired time.

本発明の請求項２記載のレーザ治療装置によれば、装置を小型化でき低コストでの作製が可能である。   According to the laser treatment apparatus of the second aspect of the present invention, the apparatus can be miniaturized and can be manufactured at low cost.

本発明の請求項３記載のレーザ治療装置によれば、治療領域においてレーザ光を走査することにより治療部位にのみに効果的にレーザの必要量を照射することが可能である。   According to the laser treatment apparatus of the third aspect of the present invention, it is possible to effectively irradiate only the treatment site with the necessary amount of laser by scanning the laser beam in the treatment area.

本発明の請求項４記載のレーザ治療装置によれば、レーザの照射密度を適切に変えることが可能である。   According to the laser treatment apparatus of the fourth aspect of the present invention, it is possible to appropriately change the irradiation density of the laser.

本発明の請求項５記載のレーザ治療装置の使用方法によれば、光感受性物質であるポルフィリンに、ポルフィリンの励起波長である可視光線を照射する光線力学的治療を行うことで、ニキビの原因菌であるアクネ菌などの細菌を死滅させ、ニキビの改善および予防を行うことができる。   According to the method of using the laser treatment apparatus of claim 5 of the present invention, acne-causing bacteria can be obtained by performing photodynamic treatment of irradiating porphyrin, which is a photosensitive substance, with visible light, which is the excitation wavelength of porphyrin. Bacteria such as acne can be killed and acne can be improved and prevented.

以下、本発明に係るレーザ治療装置の実施形態を図面に基づいて説明する。図１はレーザ治療装置の外観略図であり、図２はレーザ治療装置の要部構成を示すブロック図である。   Hereinafter, embodiments of a laser treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic external view of a laser treatment apparatus, and FIG. 2 is a block diagram showing a main configuration of the laser treatment apparatus.

レーザ治療装置１は、レーザ光30を発生するレーザ発振器２と、レーザ光30を所定の走査領域Ｙにわたり走査するレーザ走査手段４としてのガルバノミラー４と、レーザ走査手段４により走査されるレーザ光30を集光させることによりスポット像を形成する走査レンズ系５と、走査レンズ系５により形成されたスポット像の径を制御するスポット径制御手段３としてのビームエキスパンダ３等を備えている。レーザ発振器２、スポット径制御手段３、およびレーザ走査手段４は、制御部６により制御されるようになっている。   The laser treatment apparatus 1 includes a laser oscillator 2 that generates a laser beam 30, a galvano mirror 4 as a laser scanning unit 4 that scans the laser beam 30 over a predetermined scanning region Y, and a laser beam that is scanned by the laser scanning unit 4. A scanning lens system 5 for forming a spot image by condensing 30 and a beam expander 3 as a spot diameter control means 3 for controlling the diameter of the spot image formed by the scanning lens system 5 are provided. The laser oscillator 2, spot diameter control means 3, and laser scanning means 4 are controlled by a control unit 6.

10はレーザ発振器２等を収納するボックスである。ボックス10の一端にはスポット径制御手段３が備えられ、スポット径制御手段３に接続してレーザ走査手段４を収納した走査本体11、走査レンズ系５を内側に設けた走査レンズ鏡筒12、およびレンズフード13が備えられている。また、ボックス10の側面にはレーザ発振器本体に電源を供給するためとレーザの光量および点灯と消灯を制御するためのケーブル14が設けられている。また、ケーブル14の先端には制御部６たるコントローラが設けてある。   A box 10 accommodates the laser oscillator 2 and the like. A spot diameter control means 3 is provided at one end of the box 10, a scanning main body 11 which is connected to the spot diameter control means 3 and accommodates the laser scanning means 4, a scanning lens barrel 12 provided with a scanning lens system 5 inside, And a lens hood 13 are provided. Further, a cable 14 is provided on the side of the box 10 for supplying power to the laser oscillator main body and for controlling the light quantity of the laser and turning on and off. In addition, a controller as a control unit 6 is provided at the tip of the cable 14.

以上のように構成されたレーザ治療装置について、その動作を説明する。まず、レーザ治療装置１の制御部６よりレーザ発振器２に電流と制御信号とが供給されると、レーザ発振器２からレーザ光30が出射する。そして、レーザ光30は、スポット径制御手段たるビームエキスパンダ３により平行光束の径が変化させられる。最適な径になったレーザ光30はレーザ走査手段４によって走査され、次いで走査レンズ系５によって集光され、約５ｍｍ以下のスポット像を形成し被検体Ｘに照射される。また、走査レンズ系５によって被検体Ｘの患部に対して垂直に近い角度で照射される。   The operation of the laser treatment apparatus configured as described above will be described. First, when a current and a control signal are supplied from the control unit 6 of the laser treatment apparatus 1 to the laser oscillator 2, a laser beam 30 is emitted from the laser oscillator 2. The diameter of the parallel light beam of the laser beam 30 is changed by the beam expander 3 serving as a spot diameter control means. The laser beam 30 having the optimum diameter is scanned by the laser scanning unit 4 and then condensed by the scanning lens system 5 to form a spot image of about 5 mm or less and irradiated onto the subject X. Further, the scanning lens system 5 irradiates the affected part of the subject X at an angle close to the vertical.

レーザの走査パターンについては、任意のパターン形状で走査可能であり、例えば、円形パターン，正方形パターン，長方形パターン，或いは市松模様パターンと種々の走査が挙げられるが、特に限定されるものではない。また、直線状にレーザを走査する際、各スポットが部分的或いは多重に重なっていてもよく、またレーザのスポットの間隔は、規則的でもランダムよい。レーザ走査方向は縦や横方向に走査してもよく、任意の角度だけ傾けて走査してもよい。   The laser scanning pattern can be scanned in an arbitrary pattern shape, and examples thereof include a circular pattern, a square pattern, a rectangular pattern, and a checkered pattern, but are not particularly limited. Further, when the laser is scanned linearly, each spot may be partially or multiply overlapped, and the interval between the laser spots may be regular or random. The laser scanning direction may be scanned in the vertical and horizontal directions, or may be scanned at an arbitrary angle.

また、レーザ光の走査領域Ｙは、好ましくは５０ｍｍ四方以下、さらに好ましくは３０ｍｍ四方以下であり、スポット径は、好ましくは５ｍｍ以下である。   The laser light scanning region Y is preferably 50 mm square or less, more preferably 30 mm square or less, and the spot diameter is preferably 5 mm or less.

以上の本発明のレーザ治療装置において、ガルバノミラー４により直交２軸方向へレーザ光を走査し、ピンポイントで照射することにより治療部位にのみに正確に、かつ均一に必要量を照射することが可能である。さらに、スポット径が小さなピンポイント照射を行えるため、少ない照射量であっても照射スポットのエネルギー密度を高めることが可能であり、装置を小型化できる。また、正常細胞への副作用がなく、治療部位にはスポット径制御手段３で絞られたレーザ光を照射することで放熱効果を高めることが可能となり、患者に与える負担を大幅に軽減することができる。さらに、レーザを任意のパターンで走査することにより、任意の位置に所望の時間レーザを照射できる。   In the laser treatment apparatus of the present invention described above, the laser beam is scanned in two orthogonal directions by the galvanometer mirror 4 and irradiated at a pinpoint, so that the necessary amount can be irradiated accurately and uniformly only to the treatment site. Is possible. Furthermore, since pinpoint irradiation with a small spot diameter can be performed, the energy density of the irradiation spot can be increased even with a small irradiation amount, and the apparatus can be miniaturized. In addition, there is no side effect on normal cells, and it is possible to enhance the heat dissipation effect by irradiating the treatment site with the laser light focused by the spot diameter control means 3, which can greatly reduce the burden on the patient. it can. Furthermore, by scanning the laser with an arbitrary pattern, the laser can be irradiated to an arbitrary position for a desired time.

また、本発明のレーザ治療装置は、例えばニキビ，ニキビ跡，アザ，シミ，シワなどに適用することができる。   The laser treatment apparatus of the present invention can be applied to acne, acne scars, aza, spots, wrinkles, and the like.

上述のように構成された本発明のレーザ治療装置の使用方法としては、光線力学療法に使用してもよく、特にニキビにより引き起こされた皮膚損傷部位に存在するポルフィリン系の光感受性物質に可視光線を照射するために使用することができる。   As a method of using the laser treatment apparatus of the present invention configured as described above, it may be used for photodynamic therapy, and in particular, visible light is applied to a porphyrin-based photosensitive substance present at a site of skin damage caused by acne. Can be used for irradiation.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々の変形実施が可能であり、例えばレーザ発振器２としては、半導体レーザ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光源、ＣＯ2レーザ光源など、様々なレーザ光源を使用できる。さらに、レーザ発振器２を複数設置してもよい。また、スポット径サイズを適宜変更してもよい。また、瞬間的なレーザ照射を行うために、音響光学素子等を用いてレーザ光を高速にオン・オフしてもよい。また、レーザ走査手段４としては、例えばポリゴンミラーや音響光学素子などを使用できる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention. For example, as the laser oscillator 2, a semiconductor laser, an Nd: YAG laser light source, a CO Various laser light sources such as two laser light sources can be used. Further, a plurality of laser oscillators 2 may be installed. Further, the spot diameter size may be changed as appropriate. Further, in order to perform instantaneous laser irradiation, laser light may be turned on / off at high speed using an acousto-optic element or the like. Further, as the laser scanning means 4, for example, a polygon mirror or an acousto-optic element can be used.

図３は、本発明の第１実施例のレーザ治療装置の要部構成を示すブロック図であり、上記実施形態と同一部分に同一符号を付し、その詳細な説明を省略して詳述する。なお、ここでは光線力学的療法において、特にニキビ治療に使用されるレーザ治療装置について説明する。   FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of the main part of the laser treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention. The same reference numerals are given to the same parts as those in the above embodiment, and detailed description thereof will be omitted. . Here, in the photodynamic therapy, a laser treatment apparatus used particularly for acne treatment will be described.

本実施形態のレーザ治療装置１は、可視光線のレーザ光を出射するレーザ発振器としての第１の半導体レーザ発振器２と、第１の半導体レーザ発振器２と平行に配置された第２の半導体レーザ発振器２’と、第１の半導体レーザ発振器２からのレーザ光30を平行光にするための第１のコリメータレンズ20と、第１のコリメータレンズ20と平行に配置され、第２の半導体レーザ発振器２’からのレーザ光30を平行光にするための第２のコリメータレンズ20’と、第２のコリメータレンズ20’からのレーザ光30の方向を転換する反射ミラー21と、反射ミラー21からのレーザ光30と第１のコリメータレンズ20からのレーザ光30とをスポット径制御手段３に入射する偏光ビームスプリッタ22と、偏光ビームスプリッタ22からのビーム光30の光束径を変化させるスポット径制御手段としてのビームエキスパンダ３と、スポット径制御手段３からのレーザ光30を所定の走査領域Ｙにわたり走査するレーザ走査手段４としての走査ミラー４と、レーザ走査手段４により走査されるレーザ光30を集光させることによりスポット像を形成する走査レンズ系５とを備えている。なお、本発明のレーザ治療装置における可視光線の波長は、４００ｎｍ〜７００ｎｍ、さらに好ましくは６２０ｎｍ〜６５０ｎｍである。   The laser treatment apparatus 1 of the present embodiment includes a first semiconductor laser oscillator 2 as a laser oscillator that emits visible laser light, and a second semiconductor laser oscillator arranged in parallel with the first semiconductor laser oscillator 2. 2 ′, a first collimator lens 20 for making the laser beam 30 from the first semiconductor laser oscillator 2 parallel light, and the first collimator lens 20 are arranged in parallel, and the second semiconductor laser oscillator 2 A second collimator lens 20 ′ for making the laser beam 30 from the collimated beam, a reflection mirror 21 for changing the direction of the laser beam 30 from the second collimator lens 20 ′, and a laser from the reflection mirror 21 A polarizing beam splitter 22 that makes the light 30 and the laser light 30 from the first collimator lens 20 incident on the spot diameter control means 3, and a beam that changes the beam diameter of the light beam 30 from the polarizing beam splitter 22. A beam expander 3 serving as a spot diameter control means, a scanning mirror 4 serving as a laser scanning means 4 for scanning the laser beam 30 from the spot diameter control means 3 over a predetermined scanning region Y, and a laser scanning means 4 are scanned. And a scanning lens system 5 that forms a spot image by condensing the laser beam 30. The wavelength of visible light in the laser treatment apparatus of the present invention is 400 nm to 700 nm, more preferably 620 nm to 650 nm.

反射ミラー21にはレーザ光をほぼ１００％反射するコーティングがされている。反射ミラー21の傾き・方向の微調整は反射ミラーホルダー等（図示せず）によって行うことができる。   The reflection mirror 21 has a coating that reflects almost 100% of the laser light. Fine adjustment of the tilt and direction of the reflection mirror 21 can be performed by a reflection mirror holder or the like (not shown).

レーザ光を走査するためのガルバノミラー４の最大回転角は例えば約±２０°で、回転角はパソコン等で制御されるようになっている。なお、回転可能な２枚のガルバノミラー４は２つのガルバノメータによって駆動され、１枚目のガルバノミラー４を回転させることによってレーザ光をＸ軸方向に走査し、２枚目のガルバノミラー４を回転させることによってレーザ光をＹ軸方向に走査するようになっている。従って、２枚目のガルバノミラー４を同時に制御することによって、Ｘ−Ｙ平面に対してレーザを走査することが可能となっている。   The maximum rotation angle of the galvanometer mirror 4 for scanning the laser beam is about ± 20 °, for example, and the rotation angle is controlled by a personal computer or the like. The two rotatable galvanometer mirrors 4 are driven by two galvanometers. By rotating the first galvanometer mirror 4, the laser light is scanned in the X-axis direction, and the second galvanometer mirror 4 is rotated. By doing so, the laser beam is scanned in the Y-axis direction. Therefore, the laser can be scanned with respect to the XY plane by simultaneously controlling the second galvanometer mirror 4.

走査レンズ５系は、レーザ走査手段４により走査されるレーザ光30を集光し、スポット像を形成する。走査レンズ系５としては、１枚又は複数のレンズから構成され、そのレンズを収納する鏡筒とを備えている。   The scanning lens 5 system condenses the laser beam 30 scanned by the laser scanning unit 4 to form a spot image. The scanning lens system 5 includes one lens or a plurality of lenses, and includes a lens barrel that houses the lenses.

以上のように構成されたレーザ治療装置について、その動作を参照しながら説明する。まず、第１の半導体レーザ発振器２から出射されたレーザ光30は、第１のコリメータレンズ20を通過し、平行光になる。そして、第１のコリメータレンズ20を通過したレーザ光30は、偏光ビームスプリッタ22内に入射される。一方、第２の半導体レーザ発振器２’から出射されたレーザ光30は、第２のコリメータレンズ20’を通過し、平行光になる。そして、第２のコリメータレンズ20’を通過したレーザ光30は反射ミラー21を経て偏光ビームスプリッタ22内に入射される。次いで、偏光ビームスプリッタ22で合成されたレーザ光30は、スポット径制御手段３たるビームエキスパンダ３に入射され、ビームエキスパンダ３により平行光束の径を変化させられ、小さなスポットに集光される。このビームエキスパンダ３によりスポット径を制御することができる。そして、最適な径の平行光になったレーザ光30はレーザ走査手段４によって任意のパターンで走査され、走査レンズ系５によって集光されて、約５ｍｍ以下のスポット像を形成し被検体Ｘに照射される。なお、本実施例では、出力が３５ｍＷの第１の半導体レーザ発振器２および第２の半導体レーザ発振器２’を使用し、このときのスポット径と照射エネルギー密度の関係は光学系効率を１００％とした場合、スポット径１ｍｍで４４５６ｍＷ／ｃｍ2、スポット径３ｍｍで４９５．１ｍＷ／ｃｍ2、スポット径１ｍｍで１７８．３ｍＷ／ｃｍ2である。 The laser treatment apparatus configured as described above will be described with reference to the operation thereof. First, the laser light 30 emitted from the first semiconductor laser oscillator 2 passes through the first collimator lens 20 and becomes parallel light. Then, the laser light 30 that has passed through the first collimator lens 20 enters the polarization beam splitter 22. On the other hand, the laser light 30 emitted from the second semiconductor laser oscillator 2 ′ passes through the second collimator lens 20 ′ and becomes parallel light. Then, the laser beam 30 that has passed through the second collimator lens 20 ′ is incident on the polarization beam splitter 22 through the reflection mirror 21. Next, the laser beam 30 synthesized by the polarization beam splitter 22 is incident on the beam expander 3 serving as the spot diameter control means 3, the diameter of the parallel light flux is changed by the beam expander 3, and the light is condensed into a small spot. . The beam expander 3 can control the spot diameter. Then, the laser beam 30 which has become the parallel light of the optimum diameter is scanned in an arbitrary pattern by the laser scanning means 4 and condensed by the scanning lens system 5 to form a spot image of about 5 mm or less on the subject X. Irradiated. In this embodiment, the first semiconductor laser oscillator 2 and the second semiconductor laser oscillator 2 ′ having an output of 35 mW are used, and the relationship between the spot diameter and the irradiation energy density at this time is that the optical system efficiency is 100%. If you, 4456mW / cm 2 with a spot diameter 1mm, 495.1mW / cm 2 with a spot size of 3 mm, a 178.3mW / cm 2 with a spot size 1 mm.

また、上述のように構成された本実施例のニキビ治療に使用されるレーザ治療装置の使用方法について以下に説明する。まず、ニキビにより引き起こされた皮膚損傷部位を有する患者に、デルタアミノレヴリン酸（ＡＬＡ）を内服させる。体内に入ったＡＬＡは、選択的に強い親和性を持つ皮脂腺に取り込まれて、ポルフィリンを蓄積する。また、アクネ菌が存在するとアクネ菌に含まれるポルフィリン量がさらに増強される。ここでポルフィリンに反応する可視光線（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）のレーザ光を、本発明のレーザ治療装置を用いて暴露させる。その結果、アクネ菌によるニキビの場合は、まずアクネ菌が自らの増強したポルフィリンによる活性酸素により死滅する。また皮脂腺に蓄積したポルフィリンも活性酸素が生じ、皮脂腺を一時的に破壊する。アクネ菌以外のニキビの場合は、皮脂線内で生じた活性酸素によって、あらゆる細菌が死滅する。すなわち本発明のレーザ治療装置はすべての細菌によるニキビの治療に有効である。   A method of using the laser treatment apparatus used for acne treatment according to the present embodiment configured as described above will be described below. First, patients who have a site of skin damage caused by acne are given deltaaminolevulinic acid (ALA). ALA entered the body is selectively taken up into sebaceous glands having strong affinity and accumulates porphyrin. In addition, the presence of acne bacteria further enhances the amount of porphyrin contained in acne bacteria. Here, visible laser light (400 nm to 700 nm) that reacts with porphyrin is exposed using the laser treatment apparatus of the present invention. As a result, in the case of acne due to acne, first acne is killed by active oxygen due to its enhanced porphyrin. Porphyrin accumulated in the sebaceous glands also generates active oxygen, which temporarily destroys the sebaceous glands. In the case of acne other than acne, all bacteria are killed by active oxygen generated in the sebum line. That is, the laser treatment apparatus of the present invention is effective in treating acne caused by all bacteria.

このように本実施例では、レーザ光30を発生するレーザ発振器２と、レーザ光30を所定の領域にわたり走査するレーザ走査手段４と、レーザ走査手段４により走査されるレーザ光30を集光させることによりスポット像を形成する走査レンズ系５と、走査レンズ系５により形成されたスポット像の径を制御するスポット径制御手段３とを備えたレーザ治療装置１であって、レーザ走査手段４は、任意のパターンで走査し、レーザ光30を被検体上にピンポイントで照射するように構成したので、ピンポイントで照射することにより治療部位にのみに正確に、かつ均一に必要量を照射することが可能である。さらに、スポット径が小さなピンポイント照射を行えるため、少ない照射量であっても照射スポットのエネルギー密度を高めることが可能であり、装置を小型化できる。また、正常細胞への副作用がなく、治療部位にはスポット径制御手段３で絞られたレーザ光を照射することで放熱効果を高めることが可能となり、患者に与える負担を大幅に軽減することができる。さらに、レーザを任意のパターンで走査することにより、任意の位置に所望の時間レーザを照射できる。   As described above, in this embodiment, the laser oscillator 2 that generates the laser beam 30, the laser scanning unit 4 that scans the laser beam 30 over a predetermined region, and the laser beam 30 that is scanned by the laser scanning unit 4 are condensed. Thus, the laser treatment apparatus 1 includes a scanning lens system 5 that forms a spot image and a spot diameter control unit 3 that controls the diameter of the spot image formed by the scanning lens system 5. Since it is configured to scan with an arbitrary pattern and irradiate laser light 30 onto the subject at a pinpoint, the necessary amount is irradiated accurately and uniformly only to the treatment site by irradiating at the pinpoint. It is possible. Furthermore, since pinpoint irradiation with a small spot diameter can be performed, the energy density of the irradiation spot can be increased even with a small irradiation amount, and the apparatus can be miniaturized. In addition, there is no side effect on normal cells, and it is possible to enhance the heat dissipation effect by irradiating the treatment site with the laser light focused by the spot diameter control means 3, which can greatly reduce the burden on the patient. it can. Furthermore, by scanning the laser with an arbitrary pattern, the laser can be irradiated to an arbitrary position for a desired time.

さらに、このように本実施例では、レーザ発振器は半導体レーザであるので、装置を小型化でき低コストでの作製が可能である。   Further, in this embodiment, since the laser oscillator is a semiconductor laser, the apparatus can be miniaturized and can be manufactured at low cost.

また、このように本実施例では、レーザ走査手段は走査ミラーであるので、走査領域Ｙにおいてレーザ光を照射することにより治療部位にのみに効果的にレーザの必要量を照射することが可能である。   Further, in this embodiment, since the laser scanning means is a scanning mirror as described above, it is possible to effectively irradiate only the treatment site with the necessary amount of laser by irradiating the scanning region Y with the laser light. is there.

さらに、このように本実施例では、スポット径制御手段はビームエキスパンダであるので、レーザの照射密度を適切に変えることが可能である。   Furthermore, in this embodiment, since the spot diameter control means is a beam expander, it is possible to appropriately change the laser irradiation density.

さらに、このように本実施例では、レーザ治療装置の使用方法において、ニキビにより引き起こされた皮膚損傷部位に存在するポルフィリン系の光感受性物質に可視光線を照射するので、ニキビの原因菌であるアクネ菌などの細菌を死滅させ、ニキビの改善および予防を行うことができる。   Further, in this embodiment, in the method of using the laser treatment apparatus, since the porphyrin-based photosensitive substance existing at the site of skin damage caused by acne is irradiated with visible light, acne that is the cause of acne is acne. Bacteria such as bacteria can be killed and acne can be improved and prevented.

本発明の一実施形態におけるレーザ治療装置の外観略図である。1 is a schematic external view of a laser treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるレーザ治療装置の要部構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the principal part structure of the laser treatment apparatus in one Embodiment of this invention. 本発明の第１実施例におけるレーザ治療装置の要部構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the principal part structure of the laser treatment apparatus in 1st Example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１ レーザ治療装置
２ レーザ発振器
３ スポット径制御手段
４ レーザ走査手段
５ 走査レンズ系
30 レーザ光 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser treatment apparatus 2 Laser oscillator 3 Spot diameter control means 4 Laser scanning means 5 Scanning lens system
30 Laser light

Claims (5)

レーザ光を発生するレーザ発振器と、前記レーザ光を所定の領域にわたり走査するレーザ走査手段と、前記レーザ走査手段により走査されるレーザ光を集光させることによりスポット像を形成する走査レンズ系と、前記走査レンズ系により形成されたスポット像の径を制御するスポット径制御手段とを備えたレーザ治療装置であって、前記レーザ走査手段は、任意のパターンで走査し、レーザ光を被検体上にピンポイントで照射するように構成されたことを特徴とするレーザ治療装置。   A laser oscillator that generates laser light, laser scanning means that scans the laser light over a predetermined region, a scanning lens system that forms a spot image by condensing the laser light scanned by the laser scanning means, A laser treatment apparatus including spot diameter control means for controlling a diameter of a spot image formed by the scanning lens system, wherein the laser scanning means scans in an arbitrary pattern and applies laser light onto the subject. A laser treatment apparatus configured to irradiate at a pinpoint. 前記レーザ発振器は、半導体レーザであることを特徴とする請求項１のレーザ治療装置。   The laser treatment apparatus according to claim 1, wherein the laser oscillator is a semiconductor laser. 前記レーザ走査手段は、走査ミラーであることを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ治療装置。   The laser treatment apparatus according to claim 1, wherein the laser scanning unit is a scanning mirror. 前記スポット径制御手段は、ビームエキスパンダであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のレーザ治療装置。   The laser treatment apparatus according to claim 1, wherein the spot diameter control means is a beam expander. 請求項１〜４のいずれかに記載のレーザ治療装置の使用方法であって、ニキビにより引き起こされた皮膚損傷部位に存在するポルフィリン系の光感受性物質に可視光線を照射することを特徴とするレーザ治療装置の使用方法。   A laser using the laser treatment apparatus according to any one of claims 1 to 4, characterized in that visible light is irradiated to a porphyrin-based photosensitive substance present at a site of skin damage caused by acne. How to use the treatment device.
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