JP2006063230A - Thermosetting resin composition, and prepreg, metal foil and substrate using the same - Google Patents

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Ryota Uchiyama
良太 内山
Shoji Nishiguchi
将司 西口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-performance thermosetting resin composition excellent in low-cost nature, processability and reliability, wherein the thermosetting resin composition has dielectric properties such as a low dielectric constant and a low dielectric loss suitable for high-frequency applications; when the resin composition is applied to a prepreg or metal foil, the amount of the resin composition can easily be controlled; and dimensional stability can be improved by making it possible to control flow during pressing, and to provide a prepreg, metal foil and a substrate using the same. <P>SOLUTION: The thermosetting resin composition comprises a thermosetting resin composition containing a vinylbenzyl compound as an essential ingredient and 1-30 wt% based on the total resin volume of a thermoplastic resin having a dielectric constant (ε') of 3.0 or less and a dielectric loss tangent (tan δ) of 0.002 or less in the 5 GHz frequency band. There are also provided a prepreg, metal foil and a substrate using the thermosetting resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、熱硬化性樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、金属箔および基板に関し、詳しくは、高周波(ギガヘルツ)帯域での使用に好適である、低比誘電率かつ低誘電損失な電子部品用基板に用いられる熱硬化性樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、金属箔および基板に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition, a prepreg using the same, a metal foil and a substrate, and more particularly, an electronic component having a low relative dielectric constant and a low dielectric loss that is suitable for use in a high frequency (gigahertz) band. The present invention relates to a thermosetting resin composition used for a substrate for use, a prepreg using the same, a metal foil, and a substrate.

近年、通信機器の大容量高速化に伴って、それを構成する電子部品に用いられる基板材料についても小型化、高密度化及び高速化に対応するための要求がなされている。具体的には、ギガヘルツ帯域での使用に対応し得る、低比誘電率で低誘電損失な材料が望まれている。   In recent years, with the increase in capacity and speed of communication devices, there has been a demand for substrate materials used for electronic components constituting the communication devices to cope with downsizing, high density, and high speed. Specifically, a material having a low dielectric constant and a low dielectric loss that can be used in the gigahertz band is desired.

従来、プリント配線用基板においては、銅張り積層板の材料としてエポキシ樹脂を用いたものが一般的に用いられてきた。しかし、エポキシ樹脂を用いた基板は、安価で、かつ、加工性やメッキ性に優れている反面、高周波帯域における誘電特性が悪いという欠点があり、上記要請には対応し得ない。また、基板材料としてフッ素樹脂を用いることも提案されているが、フッ素樹脂は誘電特性に優れる反面、加工性や接着性に劣り、また、非常に高価であることから、特殊用途に使用が限定されているのが現状である。   Conventionally, in a printed wiring board, an epoxy resin has been generally used as a material for a copper-clad laminate. However, a substrate using an epoxy resin is inexpensive and excellent in workability and plating properties, but has a drawback of poor dielectric properties in a high frequency band and cannot meet the above requirements. It has also been proposed to use a fluororesin as a substrate material, but the fluororesin is excellent in dielectric properties, but inferior in workability and adhesiveness, and is very expensive, so its use is limited to special applications. This is the current situation.

現在、これら問題に対応し得る材料として、ポリフェニレンエーテルやBT(ビスマレイミド/トリアジン)レジンが使用されている。しかし、これらの材料は比誘電率(ε’)および誘電正接(tanδ)がフッ素樹脂に比べてかなり大きく、さらにBTレジンについては吸湿性が高く、加工性に劣るため、ギガヘルツ帯、特に5GHz以上の周波数帯域においては誘電特性の面で不十分であった。   Currently, polyphenylene ether and BT (bismaleimide / triazine) resin are used as materials that can cope with these problems. However, since these materials have a relative dielectric constant (ε ′) and dielectric loss tangent (tan δ) that are considerably larger than those of fluororesin, and BT resin has high hygroscopicity and poor workability, the gigahertz band, particularly 5 GHz or more. In this frequency band, the dielectric characteristics were insufficient.

そこで、ポリフェニレンエーテルやBTレジンよりも優れた誘電特性を有する材料として、特許文献1などに、脂環式オレフィン重合体の熱可塑性樹脂に熱硬化性樹脂、具体的にはエポキシ基含有化合物を混合した樹脂組成物が報告されている。また、同様に誘電特性に優れた材料として、特許文献2には、架橋成分としてスチレン基を有する化合物と、熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物が提案されている。さらに、特許文献3には、高周波数用途に特に適した熱硬化性樹脂としてビニルベンジル系化合物が挙げられており、かかる化合物は機械的強度に優れ、揮発性もなく、優れた誘電特性を有することが報告されている。
特開2003−22711号公報(特許請求の範囲等) 特開2003−12710号公報(特許請求の範囲等) 特開2001−181460号公報(特許請求の範囲等)
Therefore, as a material having a dielectric property superior to that of polyphenylene ether or BT resin, Patent Literature 1 and the like mix a thermoplastic resin of an alicyclic olefin polymer with a thermosetting resin, specifically, an epoxy group-containing compound. Resin compositions have been reported. Similarly, as a material excellent in dielectric properties, Patent Document 2 proposes a resin composition containing a compound having a styrene group as a crosslinking component and a thermoplastic resin. Furthermore, Patent Document 3 includes a vinylbenzyl compound as a thermosetting resin particularly suitable for high-frequency applications. Such a compound has excellent mechanical strength, no volatility, and excellent dielectric properties. It has been reported.
JP 2003-22711 A (Claims etc.) JP 2003-12710 A (Claims etc.) JP 2001-181460 A (Claims etc.)

しかしながら、ポリフェニレンエーテルやBTレジンに代わる樹脂としてこれまでに報告されている高周波(ギガヘルツ)帯域用樹脂組成物は、必ずしも満足し得るものではなく、いずれも改良すべき点があった。   However, the resin composition for high frequency (gigahertz) band, which has been reported so far as a resin to replace polyphenylene ether and BT resin, is not always satisfactory, and all have a point to be improved.

例えば、特許文献1に記載されている樹脂組成物のように熱可塑性樹脂を主成分とした場合には誘電特性に優れた性能を発揮するが、耐溶剤性および強度等の面で不十分であり、逆に、熱硬化性樹脂を主成分とした場合には大幅に誘電特性を損なってしまうという問題があった。   For example, when a thermoplastic resin is used as a main component as in the resin composition described in Patent Document 1, it exhibits excellent performance in dielectric properties, but is insufficient in terms of solvent resistance and strength. On the other hand, when the thermosetting resin is a main component, there is a problem that the dielectric characteristics are greatly impaired.

このような問題は、特許文献2に挙げられている樹脂組成物を使用することにより改善されるが、特許文献2に示されるようにスチレン基を有する化合物を架橋成分とした場合、硬化物の強度が低く、特にジビニルベンゼンを使用してプリプレグを作製する場合はジビニルベンゼンの沸点が低いため、プリプレグ中のジビニルベンゼンの量が安定しないという問題があった。   Such a problem is improved by using the resin composition listed in Patent Document 2, but when a compound having a styrene group is used as a crosslinking component as shown in Patent Document 2, the cured product When the prepreg is prepared using divinylbenzene because of its low strength, there is a problem that the amount of divinylbenzene in the prepreg is not stable because the boiling point of divinylbenzene is low.

また、特許文献3に挙げられている、高周波(ギガヘルツ)帯域での使用に適した熱硬化性樹脂であるビニルベンジル系化合物を使用した場合には、上記の利点はあるものの、溶液化すると粘度が低いためにプリプレグ化した際に樹脂量が少なくなるといった問題があった。また、増粘させるために溶液中の樹脂濃度を増加させると反応が促進され、寿命が著しく短くなるという問題があった。さらに、溶解した樹脂自体が低粘度であるため、プリプレグをプレスした際に樹脂が大量に流れ出し、厚さおよび寸法を制御するのが難しいといった問題もあった。   In addition, when a vinylbenzyl compound which is a thermosetting resin suitable for use in a high frequency (gigahertz) band, which is described in Patent Document 3, has the above-mentioned advantages, it has a viscosity when made into a solution. Therefore, there is a problem that the amount of resin is reduced when prepreg is formed. Further, when the resin concentration in the solution is increased in order to increase the viscosity, there is a problem that the reaction is accelerated and the lifetime is remarkably shortened. Further, since the dissolved resin itself has a low viscosity, there is a problem that when the prepreg is pressed, the resin flows out in a large amount, and it is difficult to control the thickness and dimensions.

上述のように、これまでは、高周波帯域において特に優れた誘電特性を示し、かつ、加工性や信頼性、コスト性等の面においても良好な性能を示す基板材料は得られていないのが現状である。   As described above, there has been no substrate material so far that exhibits particularly excellent dielectric properties in the high-frequency band and that also has good performance in terms of workability, reliability, cost, etc. It is.

そこで本発明の目的は、高周波用途に適した低比誘電率かつ低誘電損失な誘電特性を備える熱硬化性樹脂組成物であって、該樹脂組成物をプリプレグまたは金属箔に適用した際、その樹脂組成物の量をコントロールすることが容易であり、かつ、プレス時に流動制御が可能となることにより寸法精度を向上させることができる、低コスト性、加工性および信頼性に優れた高性能の熱硬化性樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、金属箔および基板を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is a thermosetting resin composition having a low dielectric constant and low dielectric loss suitable for high frequency applications, and when the resin composition is applied to a prepreg or a metal foil, The amount of the resin composition is easy to control, and flow control is possible at the time of pressing, so that dimensional accuracy can be improved. Low cost, high workability and high reliability. The object is to provide a thermosetting resin composition, a prepreg, a metal foil and a substrate using the same.

本発明者らは、上記課題を解決すべく、熱硬化性樹脂としてのビニルベンジル系化合物に着目して鋭意検討した結果、このビニルベンジル系化合物に所定の熱可塑性樹脂を添加することにより、上記目的を達成し得る樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied paying attention to a vinylbenzyl compound as a thermosetting resin, and as a result, by adding a predetermined thermoplastic resin to the vinylbenzyl compound, The inventors have found that a resin composition that can achieve the object can be obtained, and have completed the present invention.

即ち、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、ビニルベンジル系化合物を主成分とする熱硬化性樹脂組成物に、5GHzの周波数帯域において比誘電率(ε’)が3.0以下で、かつ誘電正接(tanδ)が0.002以下である熱可塑性樹脂が全樹脂量に対し1〜30重量%含まれていることを特徴とするものである。   That is, the thermosetting resin composition of the present invention is a thermosetting resin composition containing a vinylbenzyl compound as a main component and has a relative dielectric constant (ε ′) of 3.0 or less in a frequency band of 5 GHz, and A thermoplastic resin having a dielectric loss tangent (tan δ) of 0.002 or less is contained in an amount of 1 to 30% by weight based on the total resin amount.

また、本発明のプリプレグは、上記本発明の熱硬化性樹脂組成物がガラスクロスに含浸されてなり、かつ、ガラス成分の占める割合が5〜60重量%であることを特徴とするものである。   The prepreg of the present invention is characterized in that the thermosetting resin composition of the present invention is impregnated into a glass cloth, and the proportion of the glass component is 5 to 60% by weight. .

さらに、本発明の樹脂付き金属箔は、上記本発明の熱硬化性樹脂組成物が塗布されてなることを特徴とするものである。   Furthermore, the metal foil with resin of the present invention is characterized in that the thermosetting resin composition of the present invention is applied.

さらにまた、本発明の基板は、上記本発明のプリプレグと金属箔と、または上記本発明の樹脂付き金属箔が積層されてなることを特徴とするものである。   Furthermore, the substrate of the present invention is characterized in that the prepreg of the present invention and a metal foil or the metal foil with a resin of the present invention is laminated.

本発明によれば、高周波用途に適した低比誘電率かつ低誘電損失な誘電特性を備える熱硬化性樹脂組成物が得られる。また、この樹脂組成物をプリプレグに適用した際には、その樹脂組成物の量をコントロールすることが容易であり、かつ、プリプレグのプレス時に流動制御が可能であることにより寸法精度を向上させることができる。さらに、この樹脂組成物を金属箔に塗布した場合も、プリプレグ同様にプレス時の樹脂流動性が抑制されているため寸法精度に優れた多層基板を提供することができる。その結果、この熱硬化性樹脂組成物は低コスト性に加え、加工性および信頼性にも優れた効果を奏する。また、本発明では、かかる高性能な熱硬化性樹脂組成物を使用することにより、高周波帯域での使用に適した信頼性に優れるプリプレグ、金属箔および回路基板等の電子部品を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a thermosetting resin composition having a dielectric property with a low relative dielectric constant and a low dielectric loss suitable for high frequency applications. In addition, when this resin composition is applied to a prepreg, it is easy to control the amount of the resin composition, and flow control is possible when pressing the prepreg to improve dimensional accuracy. Can do. Furthermore, even when this resin composition is applied to a metal foil, a multilayer substrate having excellent dimensional accuracy can be provided because the resin fluidity during pressing is suppressed as in the case of the prepreg. As a result, this thermosetting resin composition has an effect of being excellent in workability and reliability in addition to low cost. In addition, in the present invention, by using such a high-performance thermosetting resin composition, it is possible to provide electronic components such as a prepreg, a metal foil, and a circuit board that are excellent in reliability suitable for use in a high frequency band. it can.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、ビニルベンジル系化合物のモノマーまたはプレポリマーを主成分とする熱硬化性樹脂組成物に対し所定量の特定熱可塑性樹脂が含まれている。ビニルベンジル系化合物は、熱硬化性樹脂として、高周波帯域における誘電特性に極めて優れており、ガラス転移点も180℃付近と高く、しかも硬化に至るまで揮発せず、組成ずれを起こさないという特長を有している一方で、溶液化すると粘度が低く、プリプレグ化した際に樹脂が流れ出し、厚さや寸法を制御することが困難であるなど、ハンドリングに問題があった。そこで、本発明においては、主成分としてのビニルベンジル系化合物とともに所定量の特定熱可塑性樹脂を配合することで、ビニルベンジル系化合物本来の特性を損なわずにハンドリングを改善したものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The thermosetting resin composition of the present invention contains a predetermined amount of a specific thermoplastic resin with respect to the thermosetting resin composition containing a vinylbenzyl compound monomer or prepolymer as a main component. As a thermosetting resin, vinylbenzyl compounds are extremely excellent in dielectric properties in the high frequency band, have a high glass transition point of around 180 ° C, do not volatilize until curing, and do not cause compositional deviation. On the other hand, when it is made into a solution, the viscosity is low, and when it is made into a prepreg, the resin flows out, and it is difficult to control the thickness and dimensions. Therefore, in the present invention, the handling is improved without impairing the original characteristics of the vinylbenzyl compound by blending a predetermined amount of the specific thermoplastic resin together with the vinylbenzyl compound as the main component.

ビニルベンジル系化合物として、下記一般式(1)、

Figure 2006063230
(式中、R1は炭素数2〜20の2価の有機基を示し、R2は同一であっても異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基若しくはアリール基を示し、xは0〜4の整数を示し、mは0〜20の整数を示す)で示されるビニルベンジル化合物を好適に用いることができる。 As the vinylbenzyl compound, the following general formula (1),
Figure 2006063230
(In the formula, R 1 represents a divalent organic group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 may be the same or different, and is a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, A vinylbenzyl compound represented by thioalkoxy group or aryl group, x represents an integer of 0 to 4, and m represents an integer of 0 to 20) can be preferably used.

上記一般式(1)で示されるビニルベンジル系化合物は、フルオレン化合物を1種または2種以上、ビニルベンジルハライド、および必要に応じて炭素数1〜20のジハロメチル化合物を、アルカリ存在下で反応させることにより得ることができる。本発明に用いられるフルオレン化合物は、フルオレンおよびその芳香環部分が、アルキル基やアルコキシ基、チオアルコキシ基、アリール基で置換されていてもよい。これらは必要に応じて単独または2種以上混合して使用することができる。   In the vinylbenzyl compound represented by the general formula (1), one or more fluorene compounds, a vinylbenzyl halide, and optionally a dihalomethyl compound having 1 to 20 carbon atoms are reacted in the presence of an alkali. Can be obtained. In the fluorene compound used in the present invention, fluorene and its aromatic ring moiety may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, or an aryl group. These may be used alone or in admixture of two or more as required.

また、本発明で用いられるビニルベンジルハライドとしては、m−ビニルベンジルクロライド、p−ビニルベンジルクロライド、m−ビニルベンジルブロマイド、p−ビニルベンジルブロマイド等が挙げられる。これらは単独または2種以上混合して用いてもよく、特に、m−ビニルベンジルクロライド、p−ビニルベンジルクロライドを用いることが好ましい。   Examples of the vinyl benzyl halide used in the present invention include m-vinyl benzyl chloride, p-vinyl benzyl chloride, m-vinyl benzyl bromide, p-vinyl benzyl bromide and the like. These may be used alone or in admixture of two or more, and it is particularly preferable to use m-vinylbenzyl chloride and p-vinylbenzyl chloride.

さらに、本発明で用いるジハロメチル化合物とは、CH22、または分子中に−CH2X基(但し、Xはハロゲン原子を表す)を2つ以上有する化合物であり、炭素数2〜20であることが好ましい。具体的な化合物例としては、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロへプタン等のハロゲン化アルキル、o−キシリレンジクロリド、4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、1,4−ビス(クロロメチル)ナフタレン等が挙げられる。これらは、分子内環化反応が起こらない範囲内で単独、あるいは2種以上混合して使用してもよい。 Furthermore, the dihalomethyl compound used in the present invention is CH 2 X 2 or a compound having two or more —CH 2 X groups (where X represents a halogen atom) in the molecule, and has 2 to 20 carbon atoms. Preferably there is. Specific examples of compounds include alkyl halides such as 1,2-dichloroethane and 1,4-dichloroheptane, o-xylylene dichloride, 4,4'-bis (chloromethyl) biphenyl, 1,4-bis (Chloromethyl) naphthalene and the like can be mentioned. These may be used alone or in admixture of two or more as long as no intramolecular cyclization reaction occurs.

ビニルベンジルハライドとジハロメチル化合物のハロメチル基との当量比は、特にジハロメチル化合物によるゲル化が起こらない範囲で選択することができ、ビニルベンジルハライド/ジハロメチル化合物比は、1.0/0〜0.1/0.9の範囲が好ましい。ビニルベンジルハライドがこの範囲よりも少ないと、硬化性が低下して、硬化物の物性が大幅に低下してしまう。   The equivalent ratio of vinylbenzyl halide to the halomethyl group of the dihalomethyl compound can be selected particularly within the range where gelation by the dihalomethyl compound does not occur, and the vinylbenzyl halide / dihalomethyl compound ratio is 1.0 / 0 to 0.1. A range of /0.9 is preferred. If the vinyl benzyl halide is less than this range, the curability is lowered and the physical properties of the cured product are greatly lowered.

反応溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,3−ジメトキシプロパン、テトラメチレンスルホン、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン等を使用することが好ましい。これらは単独または2種以上混合して用いてもよく、原材料や反応条件に応じて適宜選択される。   Use dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dioxane, acetonitrile, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, 1,3-dimethoxypropane, tetramethylene sulfone, methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, etc. as the reaction solvent. Is preferred. These may be used alone or in combination of two or more, and are appropriately selected according to the raw materials and reaction conditions.

本発明に用いられるアルカリは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のアルコキシド、水素化物、水酸化物であり、具体例としては、ナトリウムエトキシド、水素化ナトリウム、ホウ水素化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が挙げられる。   The alkali used in the present invention is an alkali metal or alkaline earth metal alkoxide, hydride, or hydroxide. Specific examples thereof include sodium ethoxide, sodium hydride, sodium borohydride, potassium hydroxide, water. Sodium oxide etc. are mentioned.

本発明で用いるビニルベンジル系化合物は、相間移動触媒、例えば、第4級アンモニウム塩の存在下で、上記フルオレン化合物、ビニルベンジルハライド、およびジハロメチル化合物を、水/有機溶媒混合液中、アルカリ存在下で反応させることによって得ることができる。   The vinylbenzyl compound used in the present invention is a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt, and the fluorene compound, vinylbenzyl halide, and dihalomethyl compound are mixed in a water / organic solvent mixture in the presence of an alkali. It can obtain by making it react.

本発明に係るビニルベンジル系化合物は、作業性等の面から2種以上を混合して用いることも可能であり、誘電特性を損なわない範囲内で適宜選択される。   The vinyl benzyl compound according to the present invention can be used by mixing two or more kinds from the viewpoint of workability and the like, and is appropriately selected within a range that does not impair dielectric properties.

上記ビニルベンジル系化合物を主成分する熱硬化性樹脂組成物に配合する熱可塑性樹脂は、5GHzの周波数帯域において比誘電率(ε’)が3.0以下で、かつ誘電正接(tanδ)が0.002以下のものであればよく、特に制限されるべきものではないが、好ましくはポリスチレン、ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリベンゾシクロブテン、石油樹脂等を挙げることができる。これらのうち、機械的強度、特には耐熱衝撃性の観点から、ポリフェニレンエーテルが特に好ましい。   The thermoplastic resin blended in the thermosetting resin composition containing the vinylbenzyl compound as a main component has a relative dielectric constant (ε ′) of 3.0 or less and a dielectric loss tangent (tan δ) of 0 in a frequency band of 5 GHz. Although it should just be 0.002 or less and should not be restrict | limited especially, Preferably, a polystyrene, polyphenylene ether (PPE), polybenzocyclobutene, a petroleum resin etc. can be mentioned. Of these, polyphenylene ether is particularly preferable from the viewpoint of mechanical strength, particularly thermal shock resistance.

かかるポリフェニレンエーテルは、次の一般式(2)で表される構造単位を骨格に持つ重合体の総称である。かかる構造単位の一種のみからなる単独重合体であっても、二種以上が組み合わされた共重合体であってもよい。   Such polyphenylene ether is a general term for polymers having a skeleton having a structural unit represented by the following general formula (2). It may be a homopolymer consisting of only one of these structural units or a copolymer in which two or more are combined.

Figure 2006063230
(式中、R3〜R6は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または低級アルキル基を表す)
Figure 2006063230
(In formula, R < 3 > -R < 6 > may mutually be same or different, and represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.)

本発明において使用する熱可塑性樹脂の分子量は、重量平均分子量で10000〜100000であることが好ましい。重量平均分子量が10000未満の場合、硬化物の強度が低下するといった問題があり、一方、100000を超えると硬化後または溶液中で熱可塑性樹脂が分離し易くなるといった問題がある。   The molecular weight of the thermoplastic resin used in the present invention is preferably 10,000 to 100,000 in terms of weight average molecular weight. When the weight average molecular weight is less than 10,000, there is a problem that the strength of the cured product is lowered. On the other hand, when it exceeds 100,000, there is a problem that the thermoplastic resin is easily separated after curing or in a solution.

また、かかる熱可塑性樹脂は、ビニルベンジル系化合物を主成分する熱硬化性樹脂組成物に、全樹脂量に対し1〜30重量%、好ましくは1〜10重量%の割合で配合する。熱可塑性樹脂の配合割合が1重量%未満であると、プリプレグ化した際の樹脂の流動抑制効果が小さく、厚さおよび寸法の制御を容易に行うことができず、一方、30重量%を超えると熱可塑性樹脂の性質が強くなり過ぎ、耐溶剤性および耐熱性の低下が顕著となる。   Moreover, this thermoplastic resin is mix | blended with the ratio of 1-30 weight% with respect to the total resin amount to the thermosetting resin composition which has a vinylbenzyl type compound as a main component, Preferably it is 1-10 weight%. If the blending ratio of the thermoplastic resin is less than 1% by weight, the effect of suppressing the flow of the resin when it is prepreg is small, and the thickness and dimensions cannot be easily controlled, whereas it exceeds 30% by weight. And the properties of the thermoplastic resin become too strong, and the decrease in solvent resistance and heat resistance becomes remarkable.

なお、本発明の熱硬化性樹脂組成物には重合禁止剤を誘電特性を損なわない範囲内で配合することが好ましく、これにより樹脂材料の可使時間を長くすることができる。重合禁止剤は、重合開始剤またはモノマーからできたラジカルと速やかに反応してラジカル種を消失安定化させ、重合反応を停止させる物質として既知のものを使用することができ、特に制限されるべきものではないが、好ましくはヒドロキノン、特にはテトラメチルヒドロキノンの他、2,4−ジニトロフェノール、フェノチアジン等を挙げることができる。かかる重合禁止剤の添加量も特に制限されるべきものではないが、一般には全樹脂量に対して0.01〜1重量%とする。   In addition, it is preferable to mix | blend a polymerization inhibitor with the thermosetting resin composition of this invention in the range which does not impair a dielectric property, and this can lengthen the pot life of a resin material. As the polymerization inhibitor, a known substance can be used as a substance that rapidly reacts with a radical formed from a polymerization initiator or monomer to disappear and stabilize radical species, and stops the polymerization reaction, and should be particularly limited. Although it is not a thing, Preferably it is 2,4-dinitrophenol, a phenothiazine, etc. other than hydroquinone, especially tetramethylhydroquinone. The addition amount of the polymerization inhibitor is not particularly limited, but is generally 0.01 to 1% by weight based on the total resin amount.

さらに、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて難燃剤や可塑剤、劣化防止剤等を、本発明の目的を損なわない範囲内で添加することができる。   Furthermore, a flame retardant, a plasticizer, an anti-degradation agent, etc. can be added to the thermosetting resin composition of the present invention as long as the purpose of the present invention is not impaired.

次に、本発明のプリプレグは、上記熱硬化性樹脂組成物を、ガラスクロスに含浸させてなる。熱硬化性樹脂組成物をガラスクロスに含浸させる際には、ビニルベンジル系化合物のモノマーまたはプレポリマーと、上記熱可塑性樹脂と、必要に応じ重合禁止剤等を、トルエンやキシレン等の非極性の有機溶剤に溶解した溶液として使用する。この際には、溶液中に占める熱硬化性樹脂成分および添加剤の割合が、総計で40〜70重量%となるように調製を行う。この熱硬化性樹脂組成物の溶液は、一般にガラスクロス等に含浸してプリプレグとした後、金属箔等と積層して基板化されるが、溶液濃度が40重量%未満であると、プリプレグに含まれる樹脂成分が少ないために誘電特性が低くなってしまう場合があり、一方、溶液濃度が70重量%を超えると、溶媒に対する溶解性が非常に悪くなり、プリプレグおよびプレス品の厚さバラツキが大きくなってしまう。   Next, the prepreg of the present invention is obtained by impregnating a glass cloth with the thermosetting resin composition. When impregnating a glass cloth with a thermosetting resin composition, a monomer or prepolymer of a vinylbenzyl compound, the thermoplastic resin, and a polymerization inhibitor, if necessary, a nonpolar material such as toluene or xylene. Used as a solution dissolved in an organic solvent. In this case, preparation is performed so that the ratio of the thermosetting resin component and the additive in the solution is 40 to 70% by weight in total. A solution of this thermosetting resin composition is generally impregnated into a glass cloth or the like to form a prepreg, and then laminated with a metal foil or the like to form a substrate. If the solution concentration is less than 40% by weight, Dielectric properties may be lowered due to the small amount of resin components contained, while on the other hand, when the solution concentration exceeds 70% by weight, the solubility in the solvent becomes very poor, and the thickness variation of the prepreg and the pressed product is reduced. It gets bigger.

また、プリプレグに用いるガラスクロスの材質には特に制限はなく、プリント基板において通常使用されるものを用いることができ、例えば、縦糸や緯糸の単位長さ当たりの本数、厚さおよび単位面積当たりの重さが、日本工業規格R−3414またはアメリカ軍用規格(MIL規格)に該当するものが挙げられる。また、これらの規格に該当しない範囲のガラスクロスを用いてもよく、ガラス繊維と炭素繊維またはセラミック繊維などのガラス繊維以外の繊維との混合織物であってもよい。このガラス繊維としては、Eガラス(比誘電率ε’=7、誘電正接tanδ=0.003、1GHz)、Dガラス(ε=4、tanδ=0.0013、1GHz)、Hガラス(ε=11、tanδ=0.003、1GHz)、Cガラス、Sガラス、NEガラス等各種のガラス成分組成を持つものを挙げることができる。コスト性と誘電特性とのバランスの観点から、好適にはEガラスを用いる。   Further, the material of the glass cloth used for the prepreg is not particularly limited, and those usually used in a printed circuit board can be used. For example, the number per unit length of warp and weft, the thickness and the unit area The thing whose weight corresponds to Japanese Industrial Standard R-3414 or the American military standard (MIL standard) is mentioned. Moreover, the glass cloth of the range which does not correspond to these specifications may be used, and the mixed textiles of glass fibers and fibers other than glass fibers, such as a carbon fiber or a ceramic fiber, may be sufficient. As this glass fiber, E glass (relative dielectric constant ε ′ = 7, dielectric loss tangent tan δ = 0.003, 1 GHz), D glass (ε = 4, tan δ = 0.0013, 1 GHz), H glass (ε = 11) Tan δ = 0.003, 1 GHz), C glass, S glass, NE glass, and other glass component compositions. From the viewpoint of balance between cost and dielectric properties, E glass is preferably used.

ガラスクロスの厚みとしては、特に限定されるものではなく、必要に応じて10〜300μm、特には50〜200μm程度、さらには50、100、150、180μmのものを適宜用いることができる。   The thickness of the glass cloth is not particularly limited, and those having a thickness of 10 to 300 [mu] m, particularly about 50 to 200 [mu] m, and further 50, 100, 150, and 180 [mu] m can be used as needed.

また、ガラスクロスには、糸束内部に含浸した樹脂とガラス繊維との接着性を向上するために、あらかじめ表面処理が施されていることが必要である。かかる表面処理に用いる表面処理剤としては、例えば、アミノシラン系化合物、ビニルシラン系化合物、スチレン系シラン化合物、メタクリルシラン系化合物等のシランカップリング剤を挙げることができる。中でも特に、メタクリルシラン系およびビニルシラン系が、ビニルベンジル系化合物との組み合わせにおいて好適である。メタクリルシラン系化合物としては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等を好適に挙げることができる。   Further, the glass cloth needs to be surface-treated in advance in order to improve the adhesion between the resin impregnated in the yarn bundle and the glass fiber. Examples of the surface treatment agent used for the surface treatment include silane coupling agents such as aminosilane compounds, vinylsilane compounds, styrene silane compounds, and methacrylsilane compounds. Of these, methacryl silane and vinyl silane are particularly suitable in combination with vinyl benzyl compounds. Preferred examples of the methacrylic silane compound include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and the like.

ガラスクロスの表面処理に用いるカップリング剤の種類や調合条件およびカップリング剤によるガラスクロスの表面処理方法としては、公知の方法により行うことができる。処理方法としては一般的な浸漬法や噴霧法を使用することができ、超音波を併用した浸漬法(特開昭63−165441号公報)や、ローラジェット脱水機を用いた浸漬法(特開昭63−175165号公報)などを用いることも可能である。   As the surface treatment method of the glass cloth by the coupling agent used in the surface treatment of the glass cloth, the kind and the blending conditions, and the coupling agent can be performed by a known method. As a treatment method, a general dipping method or spraying method can be used. A dipping method using ultrasonic waves (JP-A 63-165441) or a dipping method using a roller jet dehydrator (JP Sho 63-175165) can also be used.

また、本発明のプリプレグにおけるガラス成分の占める割合は5〜60重量%、好ましくは20〜60重量%である。この割合が5重量%未満であるとプリプレグの硬化後の寸法安定性や強度が不十分であり、一方60重量%を超えると誘電特性が劣り、好ましくない。   Moreover, the ratio for which the glass component accounts in the prepreg of this invention is 5 to 60 weight%, Preferably it is 20 to 60 weight%. If this ratio is less than 5% by weight, the dimensional stability and strength after curing of the prepreg are insufficient, while if it exceeds 60% by weight, the dielectric properties are inferior, which is not preferable.

次に、本発明の基板は、上記プリプレグと金属箔とが積層されてなるものであり、加熱プレスにより積層板として形成される。   Next, the board | substrate of this invention is formed by laminating | stacking the said prepreg and metal foil, and is formed as a laminated board with a hot press.

基板に使用する金属箔としては、金、銀、銅、アルミニウム等の導電率の良好な金属のなかから好適なものを選定すればよく、特に制限されない。これらの中でも、価格やグレードの多さの面から、銅箔が好適に用いられる。金属箔は電解法、圧延法のいずれの方法で作製されたものでも構わないが、箔ピール強度をとりたい場合には電解箔を、高周波特性を重視したい場合には、表面凹凸による表皮効果の影響の少ない圧延箔を使用することができる。少なくともプリプレグと接する面については表面処理が施されていることが好ましい。金属箔に対する表面処理としては、凹凸を形成するための粗化処理の他、特許第3295308号公報に例示されているような合金層を金属箔表面に形成したものでもよい。金属箔の厚みは8〜70μmが好ましく、12〜35μmがより一層好ましい。   The metal foil used for the substrate is not particularly limited as long as a suitable metal foil is selected from metals having good conductivity such as gold, silver, copper, and aluminum. Among these, a copper foil is preferably used from the viewpoints of cost and grade. The metal foil may be produced by either electrolytic method or rolling method. However, if foil peel strength is desired, electrolytic foil should be used. A rolled foil with little influence can be used. It is preferable that at least the surface in contact with the prepreg is subjected to a surface treatment. As a surface treatment for the metal foil, in addition to a roughening treatment for forming irregularities, an alloy layer as exemplified in Japanese Patent No. 3295308 may be formed on the surface of the metal foil. The thickness of the metal foil is preferably 8 to 70 μm, and more preferably 12 to 35 μm.

プリプレグおよび金属箔を積層して基板を形成する際の成型および熱硬化については、温度100〜250℃、圧力9.8×105〜7.84×106Pa(10〜80kg/cm2)の条件下で、0.5〜20hrの範囲内で行うことが好ましい。なお、基板の成型は、上記範囲内で複数段階に分けて行ってもよい。 About molding and thermosetting when forming a substrate by laminating prepreg and metal foil, temperature is 100 to 250 ° C., pressure is 9.8 × 10 5 to 7.84 × 10 6 Pa (10 to 80 kg / cm 2 ). It is preferable to carry out within the range of 0.5-20 hr on condition of this. The substrate may be molded in a plurality of stages within the above range.

このようにして得られた本発明の基板は、高周波帯域における誘電特性に優れ、かつ、金属箔、特には銅箔に対して良好な接着性を示す。このような金属箔付き基板にパターニングを施し、コンデンサ、コイル、フィルター等と適宜組み合わせることにより、高性能の高周波用電子部品を得ることができる。   The substrate of the present invention thus obtained has excellent dielectric properties in the high frequency band and exhibits good adhesion to metal foils, particularly copper foils. By patterning such a substrate with metal foil and appropriately combining with a capacitor, coil, filter, etc., a high-performance electronic component for high frequency can be obtained.

また、本発明の樹脂付き金属箔は本発明の熱硬化性樹脂組成物を塗布したものであるが、これをコア基板の上に順次積層して回路を形成することで、高周波帯域での使用に適した多層基板を形成することができる。なお、使用する金属箔としては、前記したものを好適に使用することができる。   In addition, the resin-coated metal foil of the present invention is obtained by applying the thermosetting resin composition of the present invention. By sequentially laminating this on the core substrate to form a circuit, it can be used in a high frequency band. A multilayer substrate suitable for the above can be formed. In addition, as metal foil to be used, what was mentioned above can be used conveniently.

以下、本発明を、実施例および比較例を挙げて具体的に説明する。なお、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例1〜5
前記一般式(1)(R1=−(CH26−、x=0、m=1)で示されるビニルベンジル化合物(以下「VB樹脂」と称する)と、熱可塑性樹脂(PPE、旭化成工業(株)製、商品名:ザイロンS201A、ε’=2.7、tanδ=0.0014)と、フェノチアジン(関東化学(株)製 試薬(重合禁止剤))とを、下記の表1中に示す割合にてトルエン中に溶解して、熱硬化性樹脂溶液を作製した。これら樹脂溶液を、塗工機を用いて、表面処理されたガラスクロス(旭シュエーベル(株)製 Eガラス)に塗布した後、110℃で1時間乾燥して、これをプリプレグとした。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to these examples.
Examples 1-5
A vinylbenzyl compound (hereinafter referred to as “VB resin”) represented by the general formula (1) (R 1 = — (CH 2 ) 6 —, x = 0, m = 1) and a thermoplastic resin (PPE, Asahi Kasei) Industrial Co., Ltd., trade name: Zylon S201A, ε ′ = 2.7, tan δ = 0.014) and phenothiazine (reagent (polymerization inhibitor) manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) are shown in Table 1 below. A thermosetting resin solution was prepared by dissolving in toluene at the ratio shown in FIG. These resin solutions were applied to a surface-treated glass cloth (E glass manufactured by Asahi Schavel Co., Ltd.) using a coating machine, and then dried at 110 ° C. for 1 hour to obtain a prepreg.

また、VB樹脂は、以下のようにして製造した。
温度調節器、攪拌装置、冷却コンデンサー、滴下ロートおよび酸素吹き込み口を備えたフラスコに、1,6−ビス(9−フルオレニル)ヘキサン207g(0.5モル)、トルエン400g、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド14g、ビニルベンジルクロライド(セイミケミカル(株)製、商品名:CMS−AM、m/p異性体:50/50重量%混合物)152.5g(純度91%、1.0モル)およびフェノチアジン0.3gを仕込み、攪拌しながら40℃まで昇温して均一な溶液にした。これに50重量%NaOH水溶液80g(NaOH、1モル)を加えて、その後70℃で8時間反応させた。次に、フラスコ内容物を2N塩酸で中和した後、蒸留水で2回洗浄し、トルエンを減圧留去後、得られたオレンジ色の粘ちょう液体を真空乾燥することにより、分子量Mw=1500(GPC、ポリスチレン換算)のVB樹脂を得た。
The VB resin was produced as follows.
In a flask equipped with a temperature controller, a stirrer, a cooling condenser, a dropping funnel and an oxygen blowing port, 207 g (0.5 mol) of 1,6-bis (9-fluorenyl) hexane, 400 g of toluene, tetra-n-butylammonium 142.5 g of bromide, vinylbenzyl chloride (manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd., trade name: CMS-AM, m / p isomer: 50/50 wt% mixture) 152.5 g (purity 91%, 1.0 mol) and phenothiazine 0 .3 g was added and the temperature was raised to 40 ° C. with stirring to obtain a uniform solution. To this, 80 g of 50 wt% NaOH aqueous solution (NaOH, 1 mol) was added, and then reacted at 70 ° C. for 8 hours. Next, the flask contents were neutralized with 2N hydrochloric acid, washed twice with distilled water, toluene was distilled off under reduced pressure, and the resulting orange viscous liquid was vacuum dried to obtain a molecular weight Mw = 1500. A VB resin (GPC, in terms of polystyrene) was obtained.

次に、このプリプレグを10層積層し、真空熱プレス機にて120℃、150℃、180℃で夫々1時間の条件でステップキュアし、積層板を得た。   Next, 10 layers of this prepreg were laminated and step cured at 120 ° C., 150 ° C., and 180 ° C. for 1 hour using a vacuum hot press machine to obtain a laminated plate.

Figure 2006063230
1)ポリスチレン、商品名:ダイヤレックスHF−55(三菱化学(株)製、ε’=2.4、tanδ=0.0003)
Figure 2006063230
1) Polystyrene, trade name: Dialex HF-55 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, ε ′ = 2.4, tan δ = 0.0003)

比較例1〜6
架橋成分としてのジビニルベンゼン、前記実施例1で用いたVB樹脂またはトリアリルイソシアネート(TAIC)と、熱可塑性樹脂とを、下記の表2中に示す割合にてトルエン中に溶解して、熱硬化性樹脂溶液を作製した。これら樹脂溶液を、塗工機を用いて、表面処理されたガラスクロス(旭シュエーベル(株)製 Eガラス)に塗布した後、110℃で1時間乾燥して、これをプリプレグとした。
Comparative Examples 1-6
Divinylbenzene as a crosslinking component, the VB resin or triallyl isocyanate (TAIC) used in Example 1 and a thermoplastic resin were dissolved in toluene at the ratio shown in Table 2 below, and thermosetting was performed. A conductive resin solution was prepared. These resin solutions were applied to a surface-treated glass cloth (E glass manufactured by Asahi Schavel Co., Ltd.) using a coating machine, and then dried at 110 ° C. for 1 hour to obtain a prepreg.

次に、このプリプレグを10層積層し、真空熱プレス機にて120℃、150℃、180℃で夫々1時間の条件でステップキュアし、積層板を得た。   Next, 10 layers of this prepreg were laminated and step cured at 120 ° C., 150 ° C., and 180 ° C. for 1 hour using a vacuum hot press machine to obtain a laminated plate.

Figure 2006063230
2)ポリメチルメタクリレート、商品名:スミペックスLG6(ε’=2.9、tanδ=0.033)
Figure 2006063230
2) Polymethylmethacrylate, trade name: Sumipex LG6 (ε ′ = 2.9, tan δ = 0.033)

実施例1〜5および比較例1〜6において得られた積層板に対し、以下の評価を行った。
(1)比誘電率および誘電正接
供試積層板を幅1.2mm、長さ100mmに切断し、これを測定サンプルとした。測定は空洞共振器摂動法を用いて5GHzにて行った。
(2)耐溶剤性
供試積層板を10mm×50mm、厚さ1mmに切断し、これを測定サンプルとした。この測定サンプルを25℃、60%RHで24時間以上放置後重量を測定し、その後、トルエンに浸漬した(超音波10分)。このとき目視で外観変化がなく、重量変化が0.3%以下であるものを○、それ以外を×とした。
The following evaluation was performed with respect to the laminates obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6.
(1) Dielectric constant and dielectric loss tangent The test laminate was cut into a width of 1.2 mm and a length of 100 mm, and this was used as a measurement sample. The measurement was performed at 5 GHz using a cavity resonator perturbation method.
(2) Solvent resistance The test laminate was cut into 10 mm x 50 mm and 1 mm thickness and used as a measurement sample. The measurement sample was allowed to stand at 25 ° C. and 60% RH for 24 hours or more, and then the weight was measured. Thereafter, the sample was immersed in toluene (ultrasonic 10 minutes). At this time, the case where there was no visual change and the weight change was 0.3% or less was marked with ◯, and the others were marked with x.

(3)樹脂流動性
また、別途、ガラスクロス重量35〜40%のプリプレグを使用し、プレス前後の重量変化を下記式に従い算出した。
樹脂流れ量(%)=100×(プレス前重量−プレス後重量)/プレス後重量
ここで、プレス後重量とは、プレス後に流れた樹脂をカットしたときの重量である。プレスは、前述と同様に、プリプレグを10層積層し、真空熱プレス機にて120℃、150℃、180℃で夫々1時間の条件でステップキュアすることにより行った。なお、昇温速度は5℃/min、圧力は9.8×105Pa(10kg/cm2)、各ステップの保持時間は1時間にて行った。上記式に従う樹脂流れ量が15%以下のものを○、15%を超えるものを×とした。これらの評価結果を下記の表3に示す。
(3) Resin fluidity Separately, a prepreg having a glass cloth weight of 35 to 40% was used, and the change in weight before and after pressing was calculated according to the following formula.
Resin flow rate (%) = 100 × (weight before pressing−weight after pressing) / weight after pressing Here, the weight after pressing is the weight when the resin flowing after pressing is cut. In the same manner as described above, pressing was performed by laminating 10 layers of prepreg and performing step cure with a vacuum hot press at 120 ° C., 150 ° C., and 180 ° C. for 1 hour. The heating rate was 5 ° C./min, the pressure was 9.8 × 10 5 Pa (10 kg / cm 2 ), and the holding time for each step was 1 hour. A resin flow rate according to the above formula was 15% or less. These evaluation results are shown in Table 3 below.

Figure 2006063230
3)VB樹脂とポリフェニレンエーテルが分離したため、基板を作製することができなかった。
Figure 2006063230
3) Since the VB resin and polyphenylene ether were separated, the substrate could not be produced.

上記の表3から、本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いた積層板は、硬化後において優れた誘電特性および耐溶剤性を示していることが分かる。また、高温下での樹脂流動性も改善されていることが分かる。この結果、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、寸法制御がしやすくなり、高周波帯域での使用に適した信頼性に優れる回路基板等の電子部品を提供することができる。   From Table 3 above, it can be seen that the laminate using the thermosetting resin composition of the present invention exhibits excellent dielectric properties and solvent resistance after curing. Moreover, it turns out that the resin fluidity | liquidity in high temperature is also improved. As a result, the thermosetting resin composition of the present invention can easily provide dimensional control, and can provide an electronic component such as a circuit board excellent in reliability suitable for use in a high frequency band.

また、重合禁止剤の効果を確認するために、実施例1の樹脂組成物の60重量%トルエン溶液と、フェノチアジンを含まない以外は同様にして作製された樹脂組成物の60重量%トルエン溶液とを、夫々25℃の暗所で30日間密栓保管後、溶液の状態変化を確認した。その結果、フェノチアジンを含むものは変化が認められなかったのに対し、フェノチアジンを含まないものはゲル化しているのが確認された。   In order to confirm the effect of the polymerization inhibitor, a 60 wt% toluene solution of the resin composition of Example 1 and a 60 wt% toluene solution of a resin composition prepared in the same manner except that it does not contain phenothiazine; Each was stored sealed in a dark place at 25 ° C. for 30 days, and then the state change of the solution was confirmed. As a result, it was confirmed that those containing phenothiazine did not change, whereas those containing phenothiazine were gelled.

実施例6、比較例7
樹脂付き金属箔の樹脂流動性を確認するため、実施例6として上記実施例2の熱硬化性樹脂溶液を用い、比較例7として上記比較例3の熱硬化性樹脂溶液を用い、樹脂付き金属箔を夫々作製した。なお、金属箔としては厚さが0.018mmの銅箔(日鉱マテリアルズ社製)を用いた。また、銅箔上に樹脂層が70μm形成されるように塗工し、110℃の乾燥機炉で1時間乾燥させることで樹脂付き銅箔を作製した。
Example 6 and Comparative Example 7
In order to confirm the resin fluidity of the metal foil with resin, the thermosetting resin solution of Example 2 was used as Example 6, the thermosetting resin solution of Comparative Example 3 was used as Comparative Example 7, and the metal with resin was used. Each foil was made. As the metal foil, a copper foil (manufactured by Nikko Materials) having a thickness of 0.018 mm was used. Moreover, it coated so that a resin layer might be formed on copper foil so that 70 micrometers might be formed, and the copper foil with resin was produced by making it dry in a 110 degreeC dryer furnace for 1 hour.

得られた樹脂付き銅箔を100mm×100mmに切断し、表面が平滑なフッ素樹脂離型フィルムに挟み、さらにそれをSUS板間に設置した。次に、1.96×106Pa(20kg/cm2)となるように圧力を設定し、5℃/minで120℃まで昇温した後、1時間保持した。樹脂の流れは下記式に従い算出した。
樹脂流れ量(%)=100×(プレス後面積−プレス前面積)/プレス前面積
なお、プレス前面積は100cm2である。
The obtained copper foil with resin was cut into 100 mm × 100 mm, sandwiched between fluororesin release films having a smooth surface, and further placed between SUS plates. Next, the pressure was set to 1.96 × 10 6 Pa (20 kg / cm 2 ), the temperature was raised to 120 ° C. at 5 ° C./min, and then held for 1 hour. The resin flow was calculated according to the following formula.
Resin flow rate (%) = 100 × (area after pressing−area before pressing) / area before pressing The area before pressing is 100 cm 2 .

算出の結果、実施例6は15%であり、比較例7は37%であった。樹脂流れ量が20%以下であれば、実用上問題ないため、本発明の樹脂付き金属箔は、高温下での樹脂流動性も良好であることが分かる。
As a result of the calculation, Example 6 was 15% and Comparative Example 7 was 37%. If the resin flow rate is 20% or less, there is no practical problem, and it can be seen that the resin-attached metal foil of the present invention also has good resin fluidity at high temperatures.

Claims (10)

ビニルベンジル系化合物を主成分とする熱硬化性樹脂組成物に、5GHzの周波数帯域において比誘電率(ε’)が3.0以下で、かつ誘電正接(tanδ)が0.002以下である熱可塑性樹脂が全樹脂量に対し1〜30重量%含まれていることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。   Heat having a relative permittivity (ε ′) of 3.0 or less and a dielectric loss tangent (tan δ) of 0.002 or less in a thermosetting resin composition containing a vinylbenzyl compound as a main component in a frequency band of 5 GHz. A thermosetting resin composition comprising 1 to 30% by weight of a plastic resin based on the total resin amount. 前記熱可塑性樹脂がポリフェニレンエーテルである請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is polyphenylene ether. 前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量が10000〜100000である請求項1または2記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein the thermoplastic resin has a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000. 前記ビニルベンジル系化合物が、下記一般式(1)、
Figure 2006063230
(式中、R1は炭素数2〜20の2価の有機基を示し、R2は同一であっても異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基若しくはアリール基を示し、xは0〜4の整数を示し、mは0〜20の整数を示す)で示されるビニルベンジル化合物である請求項1〜3のうちいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
The vinylbenzyl compound is represented by the following general formula (1),
Figure 2006063230
(In the formula, R 1 represents a divalent organic group having 2 to 20 carbon atoms, R 2 may be the same or different, and is a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, A thioalkoxy group or an aryl group, wherein x represents an integer of 0 to 4 and m represents an integer of 0 to 20). Thermosetting resin composition.
重合禁止剤が添加されている請求項1〜4のうちいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein a polymerization inhibitor is added. 前記重合禁止剤がテトラメチルヒドロキノン、2,4−ジニトロフェノールおよびフェノチアジンからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項5記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 5, wherein the polymerization inhibitor is at least one selected from the group consisting of tetramethylhydroquinone, 2,4-dinitrophenol, and phenothiazine. 請求項1〜6のうちいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物がガラスクロスに含浸されてなり、かつ、ガラス成分の占める割合が5〜60重量%であることを特徴とするプリプレグ。   A prepreg, wherein the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6 is impregnated into a glass cloth, and the proportion of the glass component is 5 to 60% by weight. 請求項7記載のプリプレグと金属箔とが積層されてなることを特徴とする基板。   A substrate comprising the prepreg according to claim 7 and a metal foil laminated. 請求項1〜6のうちいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物が塗布されてなることを特徴とする樹脂付き金属箔。   A metal foil with resin, wherein the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6 is applied. 請求項9記載の樹脂付き金属箔が積層されてなることを特徴とする基板。
A substrate, wherein the resin-coated metal foil according to claim 9 is laminated.
JP2004249098A 2004-08-27 2004-08-27 Thermosetting resin composition, and prepreg, metal foil and substrate using the same Withdrawn JP2006063230A (en)

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