JP2006056956A - Method for producing polyimide film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ポリイミドフィルムの製法に関する。詳しくは、従来知られている通常のポリアミック酸を経由するポリイミドの調整において、より温和な条件でイミド化反応からポリイミドを製造する際に用いた有機溶媒ならびに触媒化合物の残存量の少ないポリイミドフィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a polyimide film. Specifically, in the preparation of polyimide via a conventional polyamic acid known in the past, the organic solvent used in producing the polyimide from the imidization reaction under milder conditions and the polyimide film with a small residual amount of the catalyst compound It relates to a manufacturing method.
多くの一般的なポリイミドは溶媒不溶性のため、溶媒可溶性のポリアミック酸の状態で加工、例えば基板上に流延し、加熱してフィルム状のポリイミドとするが、通常、その加工温度は最終的には得られるポリイミドのガラス転移温度(Tg)以上に加熱しないと完全にイミド化することはできない。そのために耐熱性の優れた高いTgのポリイミドを得ようとするほど、より高温のイミド化条件が必要となる。
例えば、半導体用途などの溶液で用いる高Tgの耐熱性の必要なパッシベーション膜、遮蔽膜等の用途においては、前駆体であるポリアミック酸からなる溶液を塗布し、300℃以上の高温での加熱処理によりポリイミドに変換している。
しかし、300℃以上という高温での熱処理が必要なため、他の部分へのダメージが発生しやすく、適用用途が限定され、より低温でイミド化が完結する材料が望まれていた。
この比較的低温でポリアミック酸をイミド化する方法としては、ポリアミック酸溶液にイミド化促進剤4−ヒドロキシピリジンやイミダゾールなどの添加剤をいれることで、低温でイミド化が完結することが報告されている(特開平9−302225、特開2004−115813)。しかしこれらの手法では、イミド化促進剤をポリアミック酸のカルボン酸に対し、等量以上添加しなければならず、さらにポリイミド膜中にイミド化促進剤が残存してしまうという問題があった。また数10μmを超えるポリイミドフィルムを低温でイミド化させて作製しようとした場合、イミド化促進剤のみならず、製膜に用いている溶媒が残存してしまうという問題があった
For example, in applications such as passivation films and shielding films that require high Tg heat resistance used in solutions for semiconductor applications, etc., a solution made of polyamic acid as a precursor is applied, and heat treatment is performed at a high temperature of 300 ° C. or higher. Is converted to polyimide.
However, since a heat treatment at a high temperature of 300 ° C. or higher is necessary, damage to other portions is likely to occur, a material for which imidization is completed at a lower temperature has been desired because of limited applications.
As a method for imidizing polyamic acid at a relatively low temperature, it has been reported that imidization is completed at low temperature by adding an additive such as an imidization accelerator 4-hydroxypyridine or imidazole to a polyamic acid solution. (JP-A-9-302225, JP-A-2004-115813). However, in these methods, there is a problem that the imidization accelerator must be added in an equal amount or more with respect to the carboxylic acid of the polyamic acid, and the imidization accelerator remains in the polyimide film. In addition, when trying to produce a polyimide film exceeding several tens of μm by imidizing at a low temperature, there is a problem that not only the imidization accelerator but also the solvent used for film formation remains.
本発明は、前記従来技術を背景になされたものであり、従来よりも低温でイミド化を行い、かつ得られるポリイミドフィルム中に触媒成分や溶媒成分が残存しないポリイミドフィルムを得るものである。 The present invention has been made against the background of the prior art, and provides a polyimide film in which imidization is performed at a lower temperature than in the prior art and no catalyst component or solvent component remains in the resulting polyimide film.
下記一般式(A)で表される繰返し単位を有する重合体(以下、「ポリアミック酸」という)を、前記のポリアミック酸と酸塩基相互作用可能な触媒化合物からなる溶液を用い流延法により製膜し、得られたフィルムを、前記触媒化合物や製膜溶媒が可溶である溶液に浸漬した後、フィルムを乾燥することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法を提供するものである。 A polymer having a repeating unit represented by the following general formula (A) (hereinafter referred to as “polyamic acid”) is produced by a casting method using a solution comprising a catalyst compound capable of acid-base interaction with the polyamic acid. The present invention provides a method for producing a polyimide film, wherein the film is dipped in a solution in which the catalyst compound or the film-forming solvent is soluble, and then the film is dried.
{一般式(A)において、Xは四価の有機基であり、Yは二価の有機基を示す。}
{In General Formula (A), X represents a tetravalent organic group, and Y represents a divalent organic group. }
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明で使用する触媒化合物の中で含窒素系の塩基性化合物は、その共役酸の酸解離常数であるpKa(水中25℃)が0〜13の範囲にあり、好ましくは2〜13、さらに好ましくは2.5〜13である化合物であり、ポリアミック酸のカルボキシル基と酸塩基相互作用可能な化合物である。
具体例としては、n−ブチルアミン、n−アミルアミン、tert−ブチルアミン、エチレンジアミン,ベンジルアミン等の脂肪族アミンおよびそのアルキル置換体ならびにその誘導体、
イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、ベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、インダゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、イミダゾリン、ピラゾリン、ピリジン、キノリン、イソキノリン、ジピリジル、ジキノリル、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、フタラジン、キノキサアリン、キナゾリン、シンノリン、ナフチリジン、アクリジン、フェナントリジン、ベンゾキノリン、ベンゾイソキノリン、ベンゾシンノリン、ベンゾフタラジン、ベンゾキノキサリン、ベンゾキナゾリン、フェナントロリン、フェナジン、カルボリン、ペリミジン、トリアジン、テトラジン、プテリジン、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、イソオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、オキサジアゾール、チジアソール、ピロールジオン、インドールジオン、ピロリジンジオン、ベンゾイソキノリジン、ヘキサメチレンテトラミン、ピロリジン、1,2−ジメチルピロリジン、n−メチルピロリジン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルシクロヘキシルアミン、ピペラジン、2,5−ジメチルピペラジン、ピペリジン、1,2−ジメチルピペリジン、2,5−ジアザビシクロ[2,2,1]ヘプタン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン、4−アミノピリジン、4−メチルアミノピリジン、4−ヒドロキシピリジン等の窒素含有複素環化合物およびそのアルキル置換体ならびにその誘導体等が挙げられる。
The present invention is described in detail below.
Among the catalyst compounds used in the present invention, the nitrogen-containing basic compound has a pKa (25 ° C. in water) which is an acid dissociation constant of its conjugate acid in the range of 0 to 13, preferably 2 to 13, and The compound is preferably 2.5 to 13, and is a compound capable of acid-base interaction with the carboxyl group of the polyamic acid.
Specific examples include aliphatic amines such as n-butylamine, n-amylamine, tert-butylamine, ethylenediamine, and benzylamine, and alkyl-substituted products thereof and derivatives thereof.
Imidazole, pyrazole, triazole, tetrazole, benzimidazole, naphthimidazole, indazole, benzotriazole, purine, imidazoline, pyrazoline, pyridine, quinoline, isoquinoline, dipyridyl, diquinolyl, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, phthalazine, quinoxaarine, quinazoline, cinnoline, naphthyridine , Acridine, phenanthridine, benzoquinoline, benzoisoquinoline, benzocinnoline, benzophthalazine, benzoquinoxaline, benzoquinazoline, phenanthroline, phenazine, carboline, perimidine, triazine, tetrazine, pteridine, oxazole, benzoxazole, isoxazole, benzoisoxazole , Thiazole, benzothiazole, oxadia , Thiazole, pyrroledione, indoledione, pyrrolidinedione, benzoisoquinolidine, hexamethylenetetramine, pyrrolidine, 1,2-dimethylpyrrolidine, n-methylpyrrolidine, cyclohexylamine, n-butylcyclohexylamine, piperazine, 2, 5-dimethylpiperazine, piperidine, 1,2-dimethylpiperidine, 2,5-diazabicyclo [2,2,1] heptane, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene, 1,4- Nitrogen-containing heterocyclic compounds such as diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene, 4-aminopyridine, 4-methylaminopyridine, 4-hydroxypyridine and the like; Examples thereof include alkyl-substituted products and derivatives thereof.
次に触媒化合物として用いられる置換もしくは非置換のアミノ酸化合物としては、特に限定されないが、例えば、グリシン、サルコキシン、フェニルグリシン、グルタミン酸、ロイシン等の非置換アミノ酸化合物やこれらのアミノ基を置換した化合物などが挙げられる。
続いて、触媒化合物として用いられる分子量1000以下の少なくとも2個以上のヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物又は芳香族複素環化合物からなる化合物について説明する。前記化合物に関しては特に限定されないが、分子量が1000を超えてしまうと、気化点(沸点、昇華点、分解点)が高くなりすぎるため膜中に大量に残存してしまうため好ましくない。
本発明において、これら触媒化合物は単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
Next, the substituted or unsubstituted amino acid compound used as the catalyst compound is not particularly limited, but examples thereof include unsubstituted amino acid compounds such as glycine, sarcoxin, phenylglycine, glutamic acid, and leucine, and compounds in which these amino groups are substituted. Is mentioned.
Then, the compound which consists of an aromatic hydrocarbon compound or an aromatic heterocyclic compound which has at least 2 or more hydroxyl groups of molecular weight 1000 or less used as a catalyst compound is demonstrated. The compound is not particularly limited, but if the molecular weight exceeds 1000, the vaporization point (boiling point, sublimation point, decomposition point) becomes too high, and it remains undesirably in the film.
In the present invention, these catalyst compounds may be used alone or in combination of two or more.
本発明に用いられる触媒化合物は、用いる触媒化合物にもよるが、ポリアミック酸のカルボキシル基に対して、4当量以下、好ましくは2.5〜0.01当量である。
触媒化合物の量が少なすぎると低温の熱処理ではイミド化が不十分であり、多すぎるとワニスの貯蔵安定性の悪化やポリイミドフィルムの膜特性の悪化につながる。
Although the catalyst compound used for this invention is based also on the catalyst compound to be used, it is 4 equivalents or less with respect to the carboxyl group of polyamic acid, Preferably it is 2.5-0.01 equivalent.
If the amount of the catalyst compound is too small, imidization is insufficient with low-temperature heat treatment, and if too large, the storage stability of the varnish is deteriorated and the film properties of the polyimide film are deteriorated.
本発明に用いられるポリアミック酸は、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物を反応させて得られる。ここで、使用されるジアミンおよびテトラカルボン酸二無水物の例示は下記のとおりである。 The polyamic acid used in the present invention is obtained by reacting diamine and tetracarboxylic dianhydride. Here, examples of the diamine and tetracarboxylic dianhydride used are as follows.
(ジアミン)
具体例としては、4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、3,3′−ジアミノジフェニルプロパン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノベンズアニリド、3,3′−ジアミノベンズアニリド、4,4′−ジアミノ−2,2′−トリフルオロメチルビフェニル、3,3′−ジアミノ−2,2′−トリフルオロメチルビフェニル、1,1−メタキシリレンジアミン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,5−ジアミノ−1−[(4−トリフルオロメチル)フェノキシフェニル]ベンズアミド、1−[2,2−ビス(トリフルオロメチル)−3,3,4,4,5,5,5,−ヘプタフルオロペンチル]−3,5−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノアントラキノン、1,5−ジアミノアントラキノン、1,5−ジアミノナフタリン、ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェノキシ)フルオレン、9,9−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(2−アミノフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(3−アミノ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(3−アミノ−6−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(2−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(2−アミノ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(2−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン、9,9−ビス〔4−(2−アミノ−6−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレンなどや、これらの芳香環の低級アルキル、アリール、アラルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、もしくはハロゲン化アリール基の置換体などの芳香族ジアミン、
1,3−ビス(4−アミノフェニル)アダマンタン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]アダマンタン、1,6−ビス(4−アミノフェニル)ジアマンタン、1,6−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ジアマンタン、4,9−ビス(4−アミノフェニル)ジアマンタン、4,9−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ジアマンタン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、5−アミノ−1,3,3,−トリメチルシクロヘキサンメチルアミン(別名:イソホロンジアミン)、1,4−シクロヘキサンジアミン、4,4‘−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、およびその3,3’−ジメチル置換体、ビス(アミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、1,3−ジアミノアダマンタン、3,3‘−-ジアミノ−1,1’−ビアダマンチル、4,4‘−ヘキサフルオロイソプロピリデンビス(シクロヘキシルアミン)4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンビス(シクロヘキシルアミン))
1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノヘプタメチレンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6,2,1,02.7]−ウンデシレンジメチルジアミンなどの脂肪族および脂環式ジアミン;
下記式(III)で示されるモノ置換フェニレンジアミン類;下記式(IV)で示されるジアミノオルガノシロキサン;
(Diamine)
Specific examples include 4,4'-diaminodiphenylpropane, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 3,3'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, and benzidine. 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3'-diaminobenzanilide, 4,4'-diamino-2,2'-trifluoromethylbiphenyl, 3,3'-diamino-2,2'- Trifluoromethylbiphenyl, 1,1-metaxylylene diene Amine, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1 , 1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3,5-diamino-1-[(4-trifluoromethyl) phenoxyphenyl] benzamide, 1- [ 2,2-bis (trifluoromethyl) -3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyl] -3,5-diaminobenzene, 1,4-diaminoanthraquinone, 1,5-diamino Anthraquinone, 1,5-diaminonaphthalene, bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenoxy) fluorene, 9,9-bis [4- (4-aminophenoxy) fur Enyl] fluorene, 9,9-bis [4- (4-aminophenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (3-aminophenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9-bis [4- (2-aminophenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9, 9-bis [4- (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (3-amino-4-trifluoromethylphenoxy) -3-phenyl Phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9, -Bis [4- (3-amino-6-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-amino-3-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylphenyl Fluorene, 9,9-bis [4- (2-amino-4-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-amino-5-trifluoromethylphenoxy) ) -3-phenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-amino-6-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene and the like, and lower alkyl, aryl and aralkyl of these aromatic rings , Aromatic diamines such as halogen, alkyl halide, or substituted aryl halide groups,
1,3-bis (4-aminophenyl) adamantane, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] adamantane, 1,6-bis (4-aminophenyl) diamantane, 1,6-bis [ 4- (4-aminophenoxy) phenyl] diamantane, 4,9-bis (4-aminophenyl) diamantane, 4,9-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] diamantane, tetrahydrodicyclopentadienylene Amine, hexahydro-4,7-methanoin danylene dimethylenediamine, 5-amino-1,3,3, -trimethylcyclohexanemethylamine (also known as isophoronediamine), 1,4-cyclohexanediamine, 4,4′-methylenebis (Cyclohexylamine) and its 3,3′-dimethyl substituted bis (aminomethyl) bicyclo [2.2 1] Heptane, 1,3-diaminoadamantane, 3,3′-diamino-1,1′-biadamantyl, 4,4′-hexafluoroisopropylidenebis (cyclohexylamine) 4,4′-hexafluoroisopropylidene Bis (cyclohexylamine))
1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, 4,4-diaminoheptamethylenediamine, tetrahydrodicyclopentadienylenediamine, hexahydro Aliphatic and cycloaliphatic diamines such as -4,7-methanoin danylene dimethylene diamine, tricyclo [6,2,1,0 2.7 ] -undecylenedimethyl diamine;
Mono-substituted phenylenediamines represented by the following formula (III); diaminoorganosiloxanes represented by the following formula (IV);
下記式(9)〜(13)で示される化合物などを挙げることができる。
Examples include compounds represented by the following formulas (9) to (13).
上記式(III)で表される化合物の例としては下記式(14)〜(19)で表される化合物も挙げることができる。 Examples of the compound represented by the above formula (III) also include compounds represented by the following formulas (14) to (19).
(テトラカルボン酸二無水物)
テトラカルボン酸二無水物としては、下記のような化合物が挙げられる。
ピロメリット酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、
3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン二無水物、
9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕フルオレン二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−3−フェニルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−2−フェニルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−2−フェニルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−3−メチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−3−メチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−2−メチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−2−メチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−3−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−3−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−2−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−2−エチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−3−プロピルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−3−プロピルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−2−プロピルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−2−プロピルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−3−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−3−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−2−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−2−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−3−t−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−3−t−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−2−t−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−2−t−ブチルフェニル〕フルオレン二無水物 等の芳香族テトラカルボン酸二無水物、
ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジクロロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5,8−ジメチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、下記式(I)および(II)で示される化合物などの脂肪族および脂環式テトラカルボン酸二無水物;
(Tetracarboxylic dianhydride)
Examples of the tetracarboxylic dianhydride include the following compounds.
Pyromellitic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3 ′ -Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis ( 2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 2,2-bis (3 , 4-Dicarbo Cyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexa Fluoropropane dianhydride,
3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetra Carboxylic dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfone dianhydride, 4, 4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ', 4,4'-perfluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride P-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenyl ether Anhydride, bis (triphenyl phthalic acid) -4,4'-diphenylmethane dianhydride,
9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) phenyl] fluorene dianhydride, 2, 3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 9,9- Bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -3-phenylphenyl] fluorene dianhydride 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -2-phenylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -2- Enylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -3-methylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-di Carboxyphenoxy) -3-methylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -2-methylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -2-methylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -3-ethylphenyl] fluorene dianhydride, 9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -3-ethylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -2-ethyl Enyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -2-ethylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxy) Phenoxy) -3-propylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -3-propylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- ( 3,4-dicarboxyphenoxy) -2-propylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -2-propylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9 -Bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -3-butylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -3-butylphenol Enyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -2-butylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxy) Phenoxy) -2-butylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -3-t-butylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4 -(2,3-dicarboxyphenoxy) -3-t-butylphenyl] fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) -2-t-butylphenyl] fluorene di Anhydrous, aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as 9,9-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) -2-t-butylphenyl] fluorene dianhydride,
Butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3- Dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dichloro-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl -1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3,5,6-tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2 , 3,4,5-Tetrahydrofurantetracarbo Acid dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione 1,3,3a, 4,5,9b-Hexahydro-5-methyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione 1,3,3a, 4,5,9b-Hexahydro-5-ethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione 1,3,3a, 4,5,9b-Hexahydro-7-methyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-7-ethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -na [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl)- Naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-ethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl)- Naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5,8-dimethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl ) -Naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride, Bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, represented by the following formula (I) and And aliphatic and alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as compounds represented by (II);
エチレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、プロピレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,4−ブタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,6−ヘキサンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,8−オクタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−ビス(アンヒドロトリメリテート)、下記式(1)〜(4)で表される化合物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
Ethylene glycol-bis (anhydro trimellitate), propylene glycol-bis (anhydro trimellitate), 1,4-butanediol-bis (anhydro trimellitate), 1,6-hexanediol-bis (am Hydrotrimellitate), 1,8-octanediol-bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane-bis (anhydrotrimellitate), the following formulas (1) to Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as compounds represented by (4) can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
上記式(I)で表される化合物としては、例えば、下記式(5)〜(7)で表される化合物が、上記式(II)で表される化合物としては、例えば、下記式(8)で表される化合物が挙げられる。 Examples of the compound represented by the formula (I) include compounds represented by the following formulas (5) to (7), and examples of the compound represented by the formula (II) include the following formula (8). ).
(溶媒)
ポリアミック酸の合成に用いられる有機溶媒としては、テトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物および反応で生成するポリアミック酸を溶解し得るものであれば特に制限はなく、例えばγ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホリルトリアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどの非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙げることができる。
有機溶媒の使用量(A)は、反応原料であるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との総量(B)が反応溶液の全量(A+B)に対して0.1〜30重量%になるような量であることが好ましい。
なお、上記有機溶媒には、ポリアミック酸の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類などを、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用することができる。かかる貧溶媒の具体例としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プレピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブタノール、3−エチル−3−メトキシブタノール、2−メチル−2−メトキシブタノール、2−エチル−2−メトキシブタノール、3−メチル−3−エトキシブタノール、3−エチル−3−エトキシブタノール、2−メチル−2−エトキシブタノール、2−エチル−2−エトキシブタノール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げることができる。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
(solvent)
The organic solvent used for the synthesis of the polyamic acid is not particularly limited as long as it can dissolve the tetracarboxylic dianhydride, the diamine compound, and the polyamic acid generated by the reaction. For example, γ-butyrolactone, N-methyl- Aprotic polar solvents such as 2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, tetramethylurea, hexamethylphosphoryltriamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone; Mention may be made of phenolic solvents such as m-cresol, xylenol, phenol and halogenated phenol.
The amount (A) of the organic solvent used is such that the total amount (B) of the tetracarboxylic dianhydride as the reaction raw material and the diamine compound is 0.1 to 30% by weight based on the total amount (A + B) of the reaction solution. It is preferable that the amount is small.
In addition, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, etc., which are poor solvents for polyamic acid, are used in combination with the organic solvent as long as the resulting polyamic acid does not precipitate. be able to. Specific examples of such poor solvents include, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, triethylene glycol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetic acid. Methyl, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl oxalate, diethyl malonate, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Diethylene glycol monomethyl ester Ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol ethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol ethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether , Dipropylene glycol diethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl lactate, methyl lactate, butyl lactate, ethyl ethoxy acetate, ethyl hydroxy acetate, 2 -Methyl hydroxy-3-methylbutanoate, 3-metho Methyl cypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutanol, 3-ethyl-3-methoxybutanol, 2-methyl-2-methoxybutanol, 2-ethyl- 2-methoxybutanol, 3-methyl-3-ethoxybutanol, 3-ethyl-3-ethoxybutanol, 2-methyl-2-ethoxybutanol, 2-ethyl-2-ethoxybutanol, tetrahydrofuran, dichloromethane, 1,2-dichloroethane Examples thereof include 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
イミド化反応条件は通常は得られるポリイミドのガラス転移温度に依存するが、温度範囲としては80℃以上250℃、好ましくは100℃から220℃の範囲である。80℃以下であれば、溶媒や触媒の残留が多すぎて好ましくない。
処理時間は5分から360分の間。好ましくは10分から240分の範囲である。5分以下であれば、溶媒や触媒の残留が多すぎて好ましくない。
The imidation reaction conditions usually depend on the glass transition temperature of the resulting polyimide, but the temperature range is from 80 ° C. to 250 ° C., preferably from 100 ° C. to 220 ° C. If it is 80 degrees C or less, there are too many residues of a solvent and a catalyst and it is not preferable.
Processing time is between 5 minutes and 360 minutes. The range is preferably 10 minutes to 240 minutes. If it is 5 minutes or less, there is too much residual solvent or catalyst, which is not preferable.
本発明において、ポリイミドフィルムは、ポリアミック酸および触媒化合物を含む溶液をキャスティングにより、基体に流延し、フィルム状に成形するキャスティング法などにより形成することができる。ここで、上記基体としては、通常の溶液キャスティング法に用いられる基体であれば特に限定されず、例えば、プラスチック製、ガラス製、金属製などの基体が用いられる。
また、本発明を適用することのできるポリイミドフィルムの厚さは、通常、5〜300μm程度である。
In the present invention, the polyimide film can be formed by, for example, a casting method in which a solution containing a polyamic acid and a catalyst compound is cast on a substrate by casting, and is formed into a film. Here, the substrate is not particularly limited as long as it is a substrate used in an ordinary solution casting method, and for example, a substrate made of plastic, glass, metal or the like is used.
Moreover, the thickness of the polyimide film to which the present invention can be applied is usually about 5 to 300 μm.
上記のようにして作製したポリイミドフィルムは、用いた触媒化合物と製膜溶媒を溶解させる液に浸漬することで、フィルム中に残存している触媒化合物や溶媒を除去できる。
前記用いた触媒化合物と製膜溶媒を溶解させる溶液としては、形成したポリイミドフィルムは溶解せずに、用いた触媒化合物と製膜溶媒のみを溶解する溶液であれば、特に限定されない。好ましくは、触媒や製膜溶媒を除去した後、ポリイミドフィルムを乾燥するときに120℃以下の低温で乾燥できることが望ましい。例えば、水や、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶剤、アセトン、アセトニトリル等の低沸点溶剤、あるいはこれらの水溶液を用いることができる。
触媒化合物や製膜溶媒が残存しているポリイミドフィルムを浸漬する際は、ポリイミドフィルム1重量部に対し、触媒化合物や製膜溶媒を溶解する液を10重量部以上、好ましくは30重量部以上の接触比となるようにすることがよい。ポリイミドフィルム中の残存触媒化合物や溶媒量をできるだけ少なくするためには、できるだけ大きな接触比維持するのが良い。また浸漬する溶液を交換したり、オーバーフローさせたりすることも、残存量を低減するためには有効である。浸漬している液を攪拌すること有効である。
浸漬温度としては、用いる溶液の沸点にもよるが、5℃〜100℃の範囲が好ましい。100℃を超えてしまうと、浸漬する液が蒸発してしまうので好ましくない。
浸漬時間としては、残存している触媒化合物や製膜溶媒の量や接触比、処理温度にもよるが、通常10分〜240時間の範囲である。好ましくは30分〜100時間の範囲である。
上記のように浸漬処理を行った後、ポリイミドフィルムを取り出し、30〜120℃、好ましくは50〜100℃で、10分〜180分、好ましくは15〜60分乾燥してポリイミドフィルムを得ることができる。
The polyimide film produced as described above can be removed from the catalyst compound and the solvent remaining in the film by immersing in a liquid in which the used catalyst compound and the film-forming solvent are dissolved.
The solution for dissolving the used catalyst compound and the film-forming solvent is not particularly limited as long as it is a solution that dissolves only the used catalyst compound and the film-forming solvent without dissolving the formed polyimide film. Preferably, after removing the catalyst and the film-forming solvent, it is desirable that the polyimide film can be dried at a low temperature of 120 ° C. or lower. For example, water, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, low-boiling solvents such as acetone and acetonitrile, or aqueous solutions thereof can be used.
When immersing the polyimide film in which the catalyst compound or the film-forming solvent remains, the liquid dissolving the catalyst compound or the film-forming solvent is 10 parts by weight or more, preferably 30 parts by weight or more with respect to 1 part by weight of the polyimide film. It is preferable to have a contact ratio. In order to minimize the amount of residual catalyst compound and solvent in the polyimide film, it is preferable to maintain a contact ratio as large as possible. In addition, it is effective to reduce the remaining amount by exchanging the solution to be immersed or causing the solution to overflow. It is effective to stir the immersed liquid.
The immersion temperature is preferably in the range of 5 ° C to 100 ° C, although it depends on the boiling point of the solution used. If it exceeds 100 ° C., the liquid to be immersed will evaporate, which is not preferable.
The immersion time is usually in the range of 10 minutes to 240 hours, although it depends on the amount of catalyst compound and film-forming solvent remaining, the contact ratio, and the treatment temperature. Preferably, it is in the range of 30 minutes to 100 hours.
After performing the immersion treatment as described above, the polyimide film is taken out and dried at 30 to 120 ° C., preferably 50 to 100 ° C., for 10 to 180 minutes, preferably 15 to 60 minutes to obtain a polyimide film. it can.
実施例
以下に本発明の実施例を示す。
測定方法
(1)ポリアミック酸溶液の粘度測定
ηinhは、ポリマー濃度0.5g/dL、30℃、DMFc中でウベローデ粘度計で測定した。0.32dL/gηinhは0.32dL/g(濃度0.5g/L、30℃、DMFc)、30℃、DMFc)
(2)イミド化率の測定
ガラス基盤上にキャストしたフィルムについて加熱処理を行い、ダイヤモンドATR法を用い、処理前後の赤外吸収スペクトルの吸収ピーク比からイミド化率を算出した。ピロメリット酸二無水物と4,4‘−ジアミノジフェニルエーテルから得られるカプトンタイプポリイミドの場合、ポリアミック酸およびポリイミド状態での影響を受けないフェニルエーテル部位のC−O伸縮(b:1235cm−1)とイミド環生成に伴って生じるC−N伸縮(a:1375cm−1)の吸収ピーク強度に着目し、下記計算式からイミド化率を求めた。
イミド化率(%)={a/b[sample] a/b[initial]}/{a/b[imide reference] a/b[initial]} × 100
a/b:1375cm−1/1235cm−1の吸収ピーク比
[initial]:未処理サンプル
[sample]:熱処理サンプル
[imide reference]:350℃で6時間熱処理した100%イミド化サンプル
(3)フィルム中の残存触媒量ならびに残存溶媒量の測定
添加した化合物のフィルム中の残存量は、キャストしたフィルムのTDS(Thermal Desorption Spectrometor)測定により行った。初期減圧度1E−10で室温から300℃まで1℃/分の昇温条件で測定し、化合物に由来するマスナンバーのシグナルから残存触媒ならびに残存溶媒の有無を確認した。
Examples Examples of the present invention are shown below.
Measurement method (1) Viscosity measurement ηinh of polyamic acid solution was measured with a Ubbelohde viscometer in a polymer concentration of 0.5 g / dL, 30 ° C. and DMFc. 0.32 dL / gηinh is 0.32 dL / g (concentration 0.5 g / L, 30 ° C., DMFc), 30 ° C., DMFc)
(2) Measurement of imidization rate The film cast on the glass substrate was subjected to heat treatment, and the imidization rate was calculated from the absorption peak ratios of the infrared absorption spectra before and after the diamond ATR method. In the case of a kapton type polyimide obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether, a C—O stretch (b: 1235 cm −1) of the phenyl ether portion not affected by the polyamic acid and the polyimide state Paying attention to the absorption peak intensity of CN stretching (a: 1375 cm −1) generated along with imide ring formation, the imidization rate was determined from the following calculation formula.
Imidation rate (%) = {a / b [sample] a / b [initial]} / {a / b [imide reference] a / b [initial]} × 100
a / b: Absorption peak ratio of 1375 cm −1 / 1235 cm −1
[initial]: Unprocessed sample
[sample]: Heat treatment sample
[Imide reference]: 100% imidized sample heat-treated at 350 ° C. for 6 hours (3) Measurement of residual catalyst amount and residual solvent amount in film The amount of added compound in the film was determined by the TDS (Thermal of the cast film). The measurement was performed by Desorption Spectrometer measurement. The measurement was performed under an initial pressure reduction degree of 1E-10 from room temperature to 300 ° C. under a temperature rising condition of 1 ° C./min, and the presence or absence of the residual catalyst and the residual solvent was confirmed from the mass number signal derived from the compound.
ポリアミック酸の製造
合成例1
攪拌機および窒素ガス導入管を備えた容器に窒素ガスを流して、容器内を窒素ガスで十分置換し、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)119gを入れたのち、4,4‘−ジアミノジフェニルエーテル10.012g(50ミリモル)を加えて、室温で十分溶解した。次いで、ピロメリット酸二無水物10.906g(50ミリモル)を加えた。モノマー濃度は15重量%であった。重合反応は室温で20時間攪拌して行い、対応するポリアミック酸の溶液を得た。得られたポリアミック酸の粘度はηinhは0.74dL/gであった。
Production synthesis example 1 of polyamic acid
Nitrogen gas is allowed to flow through a vessel equipped with a stirrer and a nitrogen gas introduction tube, and the inside of the vessel is sufficiently replaced with nitrogen gas. After 119 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) is added, 4,4′-diaminodiphenyl ether 10 0.012 g (50 mmol) was added and dissolved sufficiently at room temperature. Then, 10.906 g (50 mmol) of pyromellitic dianhydride was added. The monomer concentration was 15% by weight. The polymerization reaction was stirred at room temperature for 20 hours to obtain a corresponding polyamic acid solution. The resulting polyamic acid had a viscosity ηinh of 0.74 dL / g.
合成例2
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物11.209g(50ミリモル)用いた他は合成例1と同様にして、ポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸の粘度はηinhは0.82dL/gであった。
Synthesis example 2
A polyamic acid solution was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 11.209 g (50 mmol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride was used as tetracarboxylic dianhydride. The resulting polyamic acid had a viscosity ηinh of 0.82 dL / g.
実施例1
合成例1で調製したポリアミック酸溶液(ポリアミック酸濃度15重量%)10gに1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテン0.075g(Fw=112.17、ポリマーに対して5重量%、生成可能なイミド環に対して0.093当量)を添加し、室温で十分溶解させたポリアミック酸溶液を、ガラス基板およびシリコンウエハーにキャストし、ホットプレートで75℃1時間、100℃1時間で溶媒を除去し、200℃1時間加熱処理して膜厚50μmのポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムを10cm角にカットし1Lの水に室温で24時間浸漬した後、取り出して80℃の熱風循環式オーブンで1時間乾燥した。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は100%であった。TDS測定からは1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンやDMAcに由来するマスナンバーのシグナルが観測されなかった。
Example 1
0.075 g of 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene (Fw = 112.17, 5% by weight with respect to the polymer) in 10 g of the polyamic acid solution (polyamic acid concentration of 15% by weight) prepared in Synthesis Example 1 A polyamic acid solution sufficiently dissolved at room temperature is cast on a glass substrate and a silicon wafer, and heated on a hot plate at 75 ° C. for 1 hour and 100 ° C. for 1 hour. The solvent was removed and heat treatment was performed at 200 ° C. for 1 hour to obtain a polyimide film having a thickness of 50 μm. The obtained film was cut into 10 cm square and immersed in 1 L of water at room temperature for 24 hours, then taken out and dried in a hot air circulation oven at 80 ° C. for 1 hour.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 100%. From the TDS measurement, mass number signals derived from 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene and DMAc were not observed.
実施例2
実施例1において、合成例1で製造したポリアミック酸のかわりに合成例2で製造したポリアミック酸を用いた以外は、実施例1と同様に1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンを添加し操作を実施しポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムを10cm角にカットし1Lの水に室温で24時間浸漬した後、取り出して80℃の熱風循環式オーブンで1時間乾燥した。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は100%であった。TDS測定からは1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンやDMAcに由来するマスナンバーのシグナルは観測されなかった。
また得られたポリイミドは、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)やDMAc等の有機溶媒に可溶であった。
Example 2
In Example 1, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene was changed in the same manner as in Example 1 except that the polyamic acid produced in Synthesis Example 2 was used instead of the polyamic acid produced in Synthesis Example 1. Addition and operation were performed to obtain a polyimide film. The obtained film was cut into 10 cm square and immersed in 1 L of water at room temperature for 24 hours, then taken out and dried in a hot air circulation oven at 80 ° C. for 1 hour.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 100%. From the TDS measurement, mass number signals derived from 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene and DMAc were not observed.
The obtained polyimide was soluble in organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and DMAc.
実施例3
実施例1において1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンのかわりに、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン0.075g(Fw=152.24、ポリマーに対して5重量%、生成可能なイミド環に対して0.069当量)使用、他の操作は同様に実施しポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムを10cm角にカットし1Lの水に室温で24時間浸漬した後、取り出して80℃の熱風循環式オーブンで1時間乾燥した。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は100%であった。TDS測定からは1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセンやDMAcに由来するマスナンバーのシグナルが観測されなかった。
Example 3
Instead of 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene in Example 1, 0.075 g of 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (Fw = 152.24, based on polymer) 5 wt%, 0.069 equivalents based on the imide ring that can be formed), and other operations were carried out in the same manner to obtain a polyimide film. The obtained film was cut into 10 cm square and immersed in 1 L of water at room temperature for 24 hours, then taken out and dried in a hot air circulation oven at 80 ° C. for 1 hour.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 100%. From the TDS measurement, signals of mass numbers derived from 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene and DMAc were not observed.
実施例4
実施例1において、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンのかわりに、4−ヒドロキシピリジン0.375g(Fw=95.10、生成可能なイミド環に対して0.545当量)を用いた以外は実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムを10cm角にカットし1Lの水に室温で24時間浸漬した後、取り出して80℃の熱風循環式オーブンで1時間乾燥した。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は98%であった。TDS測定からは4−ヒドロキシピリジンならびにDMAcに由来するマスナンバーのシグナルが観測されなかった。認められなかった。
Example 4
In Example 1, instead of 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene, 0.375 g of 4-hydroxypyridine (Fw = 95.10, 0.545 equivalent to the imide ring that can be produced) was added. A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used. The obtained film was cut into 10 cm square and immersed in 1 L of water at room temperature for 24 hours, then taken out and dried in a hot air circulation oven at 80 ° C. for 1 hour.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 98%. From the TDS measurement, no mass number signals derived from 4-hydroxypyridine and DMAc were observed. I was not able to admit.
実施例5
実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムを10cm角にカットし1Lのメタノールに室温で24時間浸漬した後、取り出して60℃の熱風循環式オーブンで1時間乾燥した。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は100%であった。TDS測定からは1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンやDMAcに由来するマスナンバーのシグナルが観測されなかった。
Example 5
A polyimide film was obtained in the same manner as Example 1. The obtained film was cut into 10 cm square and immersed in 1 L of methanol at room temperature for 24 hours, then taken out and dried in a hot air circulation oven at 60 ° C. for 1 hour.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 100%. From the TDS measurement, mass number signals derived from 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene and DMAc were not observed.
実施例6
実施例4でと同様にしてポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムを10cm角にカットし1Lの30重量%メタノール水溶液に室温で24時間浸漬した後、取り出して80℃の熱風循環式オーブンで1時間乾燥した。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は100%であった。TDS測定からは4−ヒドロキシピリジンならびにDMAcに由来するマスナンバーのシグナルが観測されなかった。認められなかった。
Example 6
A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 4. The obtained film was cut into 10 cm square and immersed in 1 L of 30 wt% methanol aqueous solution at room temperature for 24 hours, then taken out and dried in a hot air circulation oven at 80 ° C. for 1 hour.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 100%. From the TDS measurement, no mass number signals derived from 4-hydroxypyridine and DMAc were observed. I was not able to admit.
比較例1
実施例1で調製したポリアミック酸溶液(ポリアミック酸濃度15重量%)を、ガラス基板にキャストし、ポットプレートで75℃1時間、100℃1時間で溶媒を除去し、200℃1時間加熱処理して膜厚50μmのポリイミドフィルムを得た。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は100%であったが、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンとDMAcに由来するマスナンバーのシグナルが観測された。
Comparative Example 1
The polyamic acid solution (polyamic acid concentration 15% by weight) prepared in Example 1 was cast on a glass substrate, the solvent was removed at 75 ° C. for 1 hour and 100 ° C. for 1 hour using a pot plate, and heat treatment was performed at 200 ° C. for 1 hour. Thus, a polyimide film having a thickness of 50 μm was obtained.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 100%, but signals of mass numbers derived from 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene and DMAc were observed.
比較例2
実施例2で調製したポリアミック酸溶液(ポリアミック酸濃度15重量%)を、ガラス基板にキャストし、ポットプレートで75℃1時間、100℃1時間で溶媒を除去し、200℃1時間加熱処理して膜厚50μmのポリイミドフィルムを得た。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は100%であったが、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクテンとDMAcに由来するマスナンバーのシグナルが観測された。
Comparative Example 2
The polyamic acid solution (polyamic acid concentration 15% by weight) prepared in Example 2 was cast on a glass substrate, the solvent was removed at 75 ° C. for 1 hour and 100 ° C. for 1 hour using a pot plate, and heat treated at 200 ° C. for 1 hour. Thus, a polyimide film having a thickness of 50 μm was obtained.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 100%, but signals of mass numbers derived from 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octene and DMAc were observed.
比較例3
実施例4で調製したポリアミック酸溶液(ポリアミック酸濃度15重量%)、ガラス基板にキャストし、ホットプレートで75℃1時間、100℃1時間で溶媒を除去し、200℃1時間加熱処理して膜厚50μmのポリイミドフィルムを得た。
赤外吸収スペクトルから算出したイミド化率は98%であった。TDS測定からは4−ヒドロキシピリジンとDMAcに由来するはマスナンバーのシグナルが観測された。
Comparative Example 3
The polyamic acid solution (polyamic acid concentration 15% by weight) prepared in Example 4 was cast on a glass substrate, the solvent was removed on a hot plate at 75 ° C. for 1 hour, 100 ° C. for 1 hour, and heat treated at 200 ° C. for 1 hour. A polyimide film having a thickness of 50 μm was obtained.
The imidation ratio calculated from the infrared absorption spectrum was 98%. From the TDS measurement, a mass number signal derived from 4-hydroxypyridine and DMAc was observed.
Claims (4)
・・・一般式(A)
{一般式(A)において、Xは四価の有機基を示し、Yは二価の有機基を示す。} A film obtained by casting using a solution comprising a polyamic acid having a repeating unit represented by the following general formula (A) and a catalyst compound capable of acid-base interaction with the polyamic acid, and the resulting film, A method for producing a polyimide film, wherein the film is dried after being immersed in a solution in which the catalyst compound and the film-forming solvent in the solution are soluble.
... General formula (A)
{In General Formula (A), X represents a tetravalent organic group, and Y represents a divalent organic group. }
The catalyst compound is a group comprising a nitrogen-containing basic compound, a substituted or unsubstituted amino acid compound, an aromatic hydrocarbon compound having at least two hydroxyl groups having a molecular weight of 1000 or less, or an aromatic heterocyclic compound. The method for producing a polyimide film according to claim 1, wherein the method is at least one kind of compound selected from the above.
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