JP2006053407A - Optical element, and optical module - Google Patents

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和子 井上
Katsusuke Shimazaki
勝輔 島▲崎▼
Masashi Yoshihiro
昌史 吉弘
Masaki Sekine
正樹 関根
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify a structure of an optical element, to heighten its reliability and to downsize it by eliminating its mechanical driving part in switching between optical paths. <P>SOLUTION: In the optical element, a photonic crystal structure 10 in which media with mutually different light refractive indexes are periodically aligned, a line defect waveguide 13 arranged on a part of the periodical alignment in the photonic crystal structure 10, an electro-optic material 14, aligned on first and second output side line defect waveguides 13b, 13c branched from the line defect waveguide 13, of which the optical state is controllable and first and second electrodes 24, 25 to vary optical characteristics of the electro-optic material 14 are provided. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光伝送通信システム等に用いられる光学素子等に係り、より詳しくは、光の経路を切り替える光学素子等に関する。   The present invention relates to an optical element or the like used in an optical transmission communication system or the like, and more particularly to an optical element or the like that switches a light path.

近年、本格的なブロードバンドネットワーク時代に突入し、情報伝送の大容量化、高速化が著しく進展している。そして、伝送容量の飛躍的拡大のために、大容量伝送が可能な光通信技術が急速に発展している。これまで、主に大都市間を結ぶ基幹伝送系に導入されていた光ファイバを用いた通信網は、今後数年以内に一般家庭(所謂FTTH(Fiber to the home)にまで広がる勢いを見せている。また同時に、通信容量は飛躍的に増加しており、数百Tb/sec以上に達するものと予想されている。   In recent years, the full-scale broadband network era has entered, and the capacity and speed of information transmission have been remarkably advanced. In order to dramatically increase the transmission capacity, optical communication technology capable of large-capacity transmission has been rapidly developed. Until now, communication networks using optical fibers, which have been mainly introduced in backbone transmission systems connecting large cities, have shown momentum to expand to ordinary homes (so-called FTTH (Fiber to the home)) within the next few years. At the same time, the communication capacity is dramatically increasing and is expected to reach several hundred Tb / sec or more.

このような光通信ネットワークにおける情報の分離統合を有機的かつ機能的に管理、運営するために、ネットワークノードにおける光スイッチは欠かすことのできない機能の1つである。光スイッチに要求されている性能は、低挿入損失、高速切り替え、高消光比、低ストローク、波長および偏波無依存性、小型、低消費電力、高信頼性、低コスト等であり、光ネットワークが拡大するにつれて基本性能は勿論のこと、加入者系に近い領域では、特にコスト低減が重要な課題となる。   In order to organically and functionally manage and operate such separation and integration of information in an optical communication network, an optical switch in a network node is one of the indispensable functions. The performance required for optical switches is low insertion loss, high-speed switching, high extinction ratio, low stroke, wavelength and polarization independence, small size, low power consumption, high reliability, low cost, etc. In the area close to the subscriber system as well as the basic performance, cost reduction becomes an important issue especially in the area of expansion.

また今後は、常時接続可能な高速情報通信ネットワークインフラが増加するものと考えられ、光パケット通信などの新しい通信技術を用いた所謂全光ネットワークの確立が期待されている。全光ネットワークでは、現状の光通信システムにおいて光信号を電気信号に変換した後に行っている信号処理を、光の状態で直接的に行うことができるので、ピコ秒〜ナノ秒オーダの高速応答が可能な光スイッチや光波長可変フィルタが必要であると言われている。
かかる光通信システムに用いられる光スイッチとしては、プリズム、ミラー、光ファイバなどの機械的移動を利用した機械式(機械制御型)の光スイッチ、半導体製造技術を用いて作成した数100μm程度の微小なミラーを機械的に駆動する微小電気機械システム(MEMS:Micro Electro Mechanical System)を採用したミラー式の光スイッチ、光伝送媒質の熱光学効果による屈折率変化を利用して光を偏向する熱式(熱制御型)の光スイッチなどが提案されている。
In the future, it is considered that the high-speed information communication network infrastructure that can be always connected will increase, and the establishment of a so-called all-optical network using a new communication technology such as optical packet communication is expected. In an all-optical network, signal processing that is performed after converting an optical signal into an electrical signal in a current optical communication system can be performed directly in an optical state, so that a high-speed response in the order of picoseconds to nanoseconds is achieved. It is said that a possible optical switch and an optical wavelength tunable filter are necessary.
As an optical switch used in such an optical communication system, a mechanical (mechanical control type) optical switch using mechanical movement of a prism, a mirror, an optical fiber, etc., a micrometer of about several hundreds μm created by using a semiconductor manufacturing technology. Mirror type optical switch using micro electro mechanical system (MEMS) that mechanically drives a simple mirror, thermal type that deflects light using refractive index change due to thermo-optic effect of optical transmission medium (Thermal control type) optical switches have been proposed.

従来の光スイッチで機械的に切り替えを行う方式の例としては、入力チャンネルを構成する例えば2本の入力用光ファイバに入力された光を、出力チャンネルを構成する例えば2本の出力用光ファイバにそのまままたは入れ換えて出力するために、入力光と出力光との交点の4箇所に光路切換用ミラーを設け、この光路切換用ミラーを駆動機構によって移動することで、光路中に出し入れし、出力先を制御している。また、例えば2つの光路切換用ミラーの角度をアナログ的に変えることで、出力先光ファイバの何れにも入力可能とする技術が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   As an example of a method of mechanically switching with a conventional optical switch, for example, light input to, for example, two input optical fibers that constitute an input channel, and, for example, two output optical fibers that constitute an output channel In order to output the light as it is or in place, optical path switching mirrors are provided at the four intersections of the input light and the output light, and this optical path switching mirror is moved by the drive mechanism so that it can be taken in and out of the optical path and output. The destination is controlled. In addition, for example, a technique has been proposed in which the angle of two optical path switching mirrors is changed in an analog manner so that it can be input to any of the output destination optical fibers (see, for example, Patent Document 1).

また、従来の光スイッチで機械的ではない方法で切り替えを行う例としては、入力側の光導波路と出力側の光導波路との間にスイッチ要素を備え、そのスイッチ要素は、フォトニック結晶とそのフォトニック結晶を挟むように形成された一対の電極を備えており、この電極に印加する電圧を制御することで、特定波長の光の透過をオン/オフする技術が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。   In addition, as an example of switching by a conventional optical switch in a non-mechanical manner, a switch element is provided between an input-side optical waveguide and an output-side optical waveguide, and the switch element includes a photonic crystal and its switch A technology is disclosed that includes a pair of electrodes formed so as to sandwich a photonic crystal, and controls the voltage applied to the electrodes to turn on and off the transmission of light of a specific wavelength (for example, (See Patent Document 2).

特開2000−162520号公報(第3〜5頁、図4)JP 2000-162520 A (pages 3 to 5, FIG. 4) 特開2003−215646号公報(第4〜5頁、図1)Japanese Patent Laying-Open No. 2003-215646 (pages 4-5, FIG. 1)

しかしながら、特許文献1に記載のように、機械的に切り替えを行う場合には、ミラーおよび駆動素子が必要となることから、素子数が多く構造が複雑となり、また大型になり易い。更に、光学部品を機械的に移動・回転させることから、サーボ機構等を用いて光路切換用ミラーの角度を厳密に制御する必要があるために、駆動機構が複雑となって小型化が困難になるだけではなく、長期的な特性維持も難しく、長期信頼性が要求される光通信システムに採用するには問題があった。また、機械式スイッチ以外に、熱光学効果や液晶を利用したものにおいては、何れも応答速度がミリ秒オーダと遅いことから、要求される高速性を満足することはできなかった。また更に、特許文献2の技術は、特定波長の光を透過可能とする状態と阻止する状態との2つの状態をとることは可能であるが、経路の切り替えを行う方法は開示されていない。   However, as described in Patent Document 1, when switching mechanically, a mirror and a drive element are required, so that the number of elements is large, the structure is complicated, and the size tends to be large. Furthermore, since the optical components are moved and rotated mechanically, it is necessary to strictly control the angle of the optical path switching mirror using a servo mechanism or the like, which complicates the drive mechanism and makes it difficult to reduce the size. In addition, it is difficult to maintain long-term characteristics, and there is a problem in adopting it in an optical communication system that requires long-term reliability. Further, in addition to the mechanical switch, the one using the thermo-optic effect or liquid crystal cannot satisfy the required high speed because the response speed is slow on the order of milliseconds. Furthermore, although the technique of Patent Document 2 can take two states, a state in which light of a specific wavelength can be transmitted and a state in which light of a specific wavelength is blocked, a method for switching paths is not disclosed.

本発明は、以上のような技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、光の経路を切り替える際に、機械的な駆動部分を無くして構造を単純化し、信頼性を高め小型化を可能とする光学素子を提供することにある。
また他の目的は、応答速度が高速化された光学素子を提供することにある。
The present invention has been made to solve the technical problems as described above, and the object of the present invention is to simplify the structure by eliminating the mechanical drive part when switching the light path. Another object of the present invention is to provide an optical element that increases the reliability and enables downsizing.
Another object is to provide an optical element with a high response speed.

かかる目的のもと、本発明が適用される光学素子は、第1の光学媒質の中に、それとは異なる屈折率を持つ第2の光学媒質を周期的に配列したフォトニック結晶構造と、このフォトニック結晶構造における周期的配列の一部に設けられる線欠陥導波路と、この線欠陥導波路に接続して配置され、光学的状態が制御可能な構成媒質を含むスイッチ導波路と、このスイッチ導波路の構成媒質における光学的特性を変化させる制御手段とを含む。   For this purpose, an optical element to which the present invention is applied includes a photonic crystal structure in which a second optical medium having a different refractive index is periodically arranged in a first optical medium, A line defect waveguide provided in a part of a periodic arrangement in a photonic crystal structure, a switch waveguide including a constituent medium arranged in connection with the line defect waveguide and capable of controlling an optical state, and the switch Control means for changing the optical characteristics of the constituent medium of the waveguide.

ここで、このスイッチ導波路の構成媒質は電気光学効果を有する物質であり、制御手段による電圧制御によって屈折率が変化することを特徴とすることができる。また、このスイッチ導波路の構成媒質は、線欠陥導波路の中にて分岐された複数の導波路の各々に設けられ、制御手段は、分岐された複数の導波路に設けられたスイッチ導波路の構成媒質の何れかの光学的状態を変化させることで伝播する光の経路を切り替えることを特徴とすることができる。更に、このスイッチ導波路の構成媒質は、分岐された複数の導波路の全体に設けられる場合の他、分岐点に設けられることを特徴とすることができる。   Here, the constituent medium of this switch waveguide is a substance having an electro-optic effect, and the refractive index can be changed by voltage control by the control means. Further, the constituent medium of the switch waveguide is provided in each of the plurality of waveguides branched in the line defect waveguide, and the control means is a switch waveguide provided in the plurality of branched waveguides. The path of the propagating light can be switched by changing the optical state of any one of the constituent media. Further, the constituent medium of the switch waveguide may be provided at a branch point in addition to the case where it is provided in the whole of the plurality of branched waveguides.

また、この制御手段は、スイッチ導波路の構成媒質の光学的状態を変化させ、線欠陥導波路を伝播して出力される光を、フォトニック結晶構造に隣接して設けられる複数の出力用光ファイバの何れか1つに対して出力することを特徴とすることができる。また、この制御手段は、スイッチ導波路の構成媒質の光学的状態を変化させ、線欠陥導波路を伝播して出力される光を遅延させることも可能である。   In addition, the control means changes the optical state of the constituent medium of the switch waveguide, and outputs the light output by propagating through the line defect waveguide to a plurality of output lights provided adjacent to the photonic crystal structure. It can be characterized by outputting to any one of the fibers. The control means can also change the optical state of the constituent medium of the switch waveguide and delay the light that is propagated through the line defect waveguide and output.

一方、本発明を光学モジュールとして捉えると、本発明が適用される光学モジュールは、第1の光学媒質の中に、それとは異なる屈折率を持つ第2の光学媒質が周期的に配列されこの配列の一部に線欠陥導波路が設けられると共に、線欠陥導波路を構成する分岐された複数の出力側線欠陥導波路であるスイッチ導波路に光学的状態を制御可能な構成媒質が設けられるフォトニック結晶構造と、このフォトニック結晶構造の線欠陥導波路に光を入射する入力用光ファイバと、フォトニック結晶構造の複数の出力側線欠陥導波路に対して各々伝播される光を受ける複数の出力用光ファイバと、フォトニック結晶構造の複数の出力側線欠陥導波路であるスイッチ導波路に設けられる構成媒質の光学的特性を、複数の出力側線欠陥導波路の単位で各々変化させる制御部とを含む。
ここで、このフォトニック結晶構造の複数の出力側線欠陥導波路に各々設けられるスイッチ導波路の構成媒質は電気光学効果を有する物質であり、制御部による電圧制御によって屈折率が変化することを特徴とすることができる。
On the other hand, when the present invention is regarded as an optical module, the optical module to which the present invention is applied is such that a second optical medium having a different refractive index is periodically arranged in the first optical medium. A line defect waveguide is provided in a part of the optical waveguide, and a switch medium which is a plurality of branched output side line defect waveguides constituting the line defect waveguide is provided with a constituent medium capable of controlling an optical state A crystal structure, an input optical fiber for entering light into a line defect waveguide of this photonic crystal structure, and a plurality of outputs receiving light propagated respectively to a plurality of output side line defect waveguides of the photonic crystal structure Optical characteristics of the constituent medium provided in the optical fiber and the switch waveguide, which is a plurality of output-side line defect waveguides of a photonic crystal structure, in units of a plurality of output-side line defect waveguides, respectively. And a control unit for reduction.
Here, the constituent medium of the switch waveguide provided in each of the plurality of output-side line defect waveguides of this photonic crystal structure is a substance having an electro-optic effect, and the refractive index is changed by voltage control by the control unit. It can be.

本発明によれば、光の経路を切り替える際に、機械的な駆動部分を無くして構造を単純化し、信頼性を高め小型化を可能とする光学素子を得ることが可能となる。   According to the present invention, it is possible to obtain an optical element that simplifies the structure by eliminating the mechanical drive portion when switching the light path, increases the reliability, and enables downsizing.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
[実施の形態1]
図1および図2は、本実施の形態が適用されるフォトニック結晶を使った光スイッチによる光学素子の構成を示した説明図である。図1は全体構成を示し、図2は出射側の線欠陥導波路部分の断面を示している。図1および図2に示すように本実施の形態が適用される光学素子は、フォトニック結晶構造10と、第1の電極24および第2の電極25とを備えている。また、図1および/または図2には、フォトニック結晶構造10に対して光ビームを出射する入力用光ファイバ21、フォトニック結晶構造10を通過した光を入射する第1の出力用光ファイバ22および第2の出力用光ファイバ23が示されている。このフォトニック結晶構造10、第1の電極24および第2の電極25、および入力用光ファイバ21と第1の出力用光ファイバ22および第2の出力用光ファイバ23とを含めて、光スイッチとして機能する光学モジュールとして把握することができる。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
[Embodiment 1]
FIG. 1 and FIG. 2 are explanatory diagrams showing the configuration of an optical element by an optical switch using a photonic crystal to which the present embodiment is applied. FIG. 1 shows the overall configuration, and FIG. 2 shows a cross section of the line defect waveguide portion on the emission side. As shown in FIGS. 1 and 2, the optical element to which this exemplary embodiment is applied includes a photonic crystal structure 10, a first electrode 24, and a second electrode 25. 1 and / or 2, an input optical fiber 21 that emits a light beam to the photonic crystal structure 10 and a first output optical fiber that enters the light that has passed through the photonic crystal structure 10 are shown. 22 and a second output optical fiber 23 are shown. The optical switch includes the photonic crystal structure 10, the first electrode 24 and the second electrode 25, and the input optical fiber 21, the first output optical fiber 22, and the second output optical fiber 23. As an optical module that functions as

フォトニック結晶構造10は、第1の光学媒質(物質)として例えば高屈折率である構造物11と、第2の光学媒質として例えば低屈折率である周期性構造物12とを備えている。この周期性構造物12は、第1の光学媒質である構造物11の中に周期的に配列されている。本実施の形態では、第2の光学媒質として、円柱状の誘電体を正方格子型に配列した。ここで、第1の光学媒質の中に周期性構造物12が周期的に配列された領域は、フォトニックバンドギャップ領域であり、入力された光が伝搬不可能な領域である。図示するフォトニック結晶構造10には、フォトニックバンドギャップ領域中に、第2の光学媒質が存在しない領域を線状に形成した。この領域のみ入力された光が伝搬可能であり、これを線欠陥導波路13と呼ぶ。この線欠陥導波路13は、例えば本例のようにT字型に形成され、出力側にて分岐されている。この線欠陥導波路13は、入力用ファイバ21から入力された光を導く入力側線欠陥導波路13aと、分岐された出力側として、第1の出力用光ファイバ22へ光を導く第1の出力側線欠陥導波路13bおよび第2の出力用光ファイバ23へ光を導く第2の出力側線欠陥導波路13cとで構成されている。第1の出力側線欠陥導波路13bおよび第2の出力側線欠陥導波路13cには、例えば、周期性構造物12と同様な周期構造によって、1列に電気光学物質14が形成されている。本実施の形態では、予め屈折率の変化させたい領域だけに電気光学物質14が配置されている。この電気光学物質14は、電圧が印加された場合に、例えば構造物11と同様な高屈折率となり、伝導可能な導波路を形成する。また、この電気光学物質14は、電圧が印加されていない場合に例えば周期性構造物12と同様な低屈折率となり、フォトニックバンドギャップ領域を形成する。   The photonic crystal structure 10 includes a structure 11 having a high refractive index, for example, as a first optical medium (material), and a periodic structure 12 having, for example, a low refractive index, as a second optical medium. The periodic structure 12 is periodically arranged in the structure 11 that is the first optical medium. In the present embodiment, cylindrical dielectrics are arranged in a square lattice type as the second optical medium. Here, the region in which the periodic structures 12 are periodically arranged in the first optical medium is a photonic band gap region, and is a region where the input light cannot propagate. In the photonic crystal structure 10 shown in the figure, a region where the second optical medium does not exist is formed linearly in the photonic band gap region. The light input only in this region can propagate, and this is called a line defect waveguide 13. The line defect waveguide 13 is formed in a T-shape as in this example, for example, and is branched on the output side. The line defect waveguide 13 includes an input side line defect waveguide 13a that guides light input from the input fiber 21 and a first output that guides light to the first output optical fiber 22 as a branched output side. The side line defect waveguide 13b and the second output side line defect waveguide 13c for guiding light to the second output optical fiber 23 are included. In the first output-side line defect waveguide 13b and the second output-side line defect waveguide 13c, for example, the electro-optic material 14 is formed in one row by a periodic structure similar to the periodic structure 12. In the present embodiment, the electro-optical material 14 is disposed only in a region where the refractive index is desired to be changed in advance. When a voltage is applied, the electro-optical material 14 has a high refractive index similar to that of the structure 11, for example, and forms a conductive waveguide. In addition, when no voltage is applied, the electro-optical material 14 has a low refractive index similar to that of the periodic structure 12, for example, and forms a photonic band gap region.

また、図1および図2に示すように、光スイッチの制御手段として、第1の出力側線欠陥導波路13b上に配列される電気光学物質14を挟むようにして上下に形成された一対の電極からなる第1の電極24と、第2の出力側線欠陥導波路13c上に配列される電気光学物質14を挟むようにして上下に形成された一対の電極からなる第2の電極25とを備えている。また、第1の電極24および第2の電極25に対する電圧印加を制御する制御部26を備えている。更に、第1の電極24および第2の電極25に対する電圧を供給する電圧発生源27を備え、制御部26は、入力される切り替え信号により、この電圧発生源27からの電圧印加を制御している。このように、本実施の形態が適用される光スイッチは、第1の出力側線欠陥導波路13bと第2の出力側線欠陥導波路13cとにスイッチするスイッチ要素を備えており、このスイッチ要素の状態を制御部26によって電気的に変化させている。尚、出力側の線欠陥導波路をスイッチ導波路とも称する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the optical switch control means includes a pair of electrodes formed vertically so as to sandwich the electro-optic material 14 arranged on the first output-side line defect waveguide 13b. A first electrode 24 and a second electrode 25 composed of a pair of electrodes formed vertically so as to sandwich the electro-optic material 14 arranged on the second output-side line defect waveguide 13c are provided. In addition, a control unit 26 that controls voltage application to the first electrode 24 and the second electrode 25 is provided. Furthermore, a voltage generation source 27 that supplies voltages to the first electrode 24 and the second electrode 25 is provided, and the control unit 26 controls voltage application from the voltage generation source 27 by an input switching signal. Yes. As described above, the optical switch to which this embodiment is applied includes a switch element that switches to the first output-side line defect waveguide 13b and the second output-side line defect waveguide 13c. The state is electrically changed by the control unit 26. The line defect waveguide on the output side is also referred to as a switch waveguide.

フォトニック結晶構造10では、光波は、2次元平面内における線欠陥導波路13以外のフォトニック結晶領域について、エネルギー構造により伝搬モードが存在しない。即ち、入射光のエネルギーは、2次元平面内では線欠陥導波路13の外側、即ちフォトニックバンドギャップ領域には光は伝搬できないために、線欠陥導波路13に強く閉じ込められる。従って、格子ピッチの大きさであるサブミクロン程度の微小な導波路が実現可能となる。   In the photonic crystal structure 10, the light wave has no propagation mode due to the energy structure in the photonic crystal region other than the line defect waveguide 13 in the two-dimensional plane. That is, the energy of incident light is strongly confined in the line defect waveguide 13 because light cannot propagate outside the line defect waveguide 13 in the two-dimensional plane, that is, in the photonic band gap region. Therefore, it is possible to realize a minute waveguide having a size of the submicron which is the size of the grating pitch.

本実施の形態では、線欠陥導波路13上に形成された第1の電極24および第2の電極25の何れか一方に電圧を印加することにより、第1の出力側線欠陥導波路13bおよび第2の出力側線欠陥導波路13cの何れか一方の電気光学物質14の屈折率を変化させ、電圧が印加された線欠陥導波路13の方向に光路を変化させる。例えば制御部26からの制御によって第1の電極24に電圧が印加された場合に、入力用光ファイバ21から出射した光は、入力側線欠陥導波路13aから第1の出力側線欠陥導波路13bを経て、第1の出力用光ファイバ22に導かれる。このとき、第2の出力側線欠陥導波路13cはオフ状態となる。また、例えば制御部26からの制御によって第2の電極25に電圧が印加された場合に、入力用光ファイバ21から出射した光は、入力側線欠陥導波路13aから第2の出力側線欠陥導波路13cを経て、第2の出力用光ファイバ23に導かれる。このとき、第1の出力側線欠陥導波路13bはオフ状態となる。図の点線矢印は、切り替えられて光が伝搬される2つの経路を示している。制御部26の電界制御によって、光を透過可能(伝達可能)とするオン状態と光を阻止するオフ状態とを、第1の出力側線欠陥導波路13bおよび第2の出力側線欠陥導波路13cとで互いに切り替えることで、出射光の向きを切り替えることが可能となる。   In the present embodiment, by applying a voltage to one of the first electrode 24 and the second electrode 25 formed on the line defect waveguide 13, the first output side line defect waveguide 13b and the first electrode The refractive index of the electro-optical material 14 of any one of the two output-side line defect waveguides 13c is changed, and the optical path is changed in the direction of the line defect waveguide 13 to which a voltage is applied. For example, when a voltage is applied to the first electrode 24 under the control of the control unit 26, the light emitted from the input optical fiber 21 passes through the first output-side line defect waveguide 13b from the input-side line defect waveguide 13a. Then, the light is guided to the first output optical fiber 22. At this time, the second output side line defect waveguide 13c is turned off. For example, when a voltage is applied to the second electrode 25 under the control of the control unit 26, the light emitted from the input optical fiber 21 is transmitted from the input side line defect waveguide 13 a to the second output side line defect waveguide. The light is guided to the second output optical fiber 23 through 13c. At this time, the first output-side line defect waveguide 13b is turned off. The dotted arrows in the figure indicate two paths through which light is switched and propagated. The first output-side line defect waveguide 13b and the second output-side line defect waveguide 13c are switched between an on state in which light can be transmitted (transmitted) and an off state in which light is blocked by the electric field control of the control unit 26. By switching to each other, the direction of the emitted light can be switched.

このように、フォトニック結晶構造10は、光学基板である第1の光学媒質としての構造物11に、この光学基板とは屈折率の異なる周期性構造物12が光学媒質として周期的に配列されている。ここで、光学基板としては、Siや石英、ガラスをはじめとする各種酸化物基板、あるいは各種有機材料基板等、多くのものを利用でき、用途に応じて選択すればよい。
また、周期性構造物12等の光学媒質を光学基板中に配列させる場合には、半導体プロセス技術を用いて形成するほかに、光学媒質として球状体を用いて、それを配列させる方法など、任意の方法を採用することができる。
As described above, the photonic crystal structure 10 is periodically arranged in the structure 11 as the first optical medium, which is an optical substrate, and the periodic structure 12 having a refractive index different from that of the optical substrate as the optical medium. ing. Here, many optical substrates such as Si, quartz, various oxide substrates including glass, or various organic material substrates can be used, and may be selected according to the application.
In addition, when the optical medium such as the periodic structure 12 is arranged in the optical substrate, in addition to the formation using the semiconductor process technique, a method of arranging the spherical body as the optical medium, etc. This method can be adopted.

ここで、本実施の形態では、フォトニック液晶として正方格子型の配列を用いたが、その他に、2次元三角格子、正六角形格子等の他の2次元フォトニック結晶、あるいはダイヤモンド構造等の3次元フォトニック結晶を基本的な構造として構成することも可能である。
また、屈折率を変化させる手段として、第1の電極24および第2の電極25による電圧印加を例に挙げたが、同様の効果があるものであればこれにとらわれない。
Here, in this embodiment, a square lattice type array is used as the photonic liquid crystal, but other two-dimensional photonic crystals such as a two-dimensional triangular lattice and a regular hexagonal lattice, or a diamond structure 3 It is also possible to construct a dimensional photonic crystal as a basic structure.
Further, although voltage application by the first electrode 24 and the second electrode 25 has been described as an example of means for changing the refractive index, it is not limited to this as long as the same effect is obtained.

図3は、図1に示す光スイッチの変形例を示した図である。図3に示す例では、電気光学物質14を線欠陥導波路13上の一部である切り替え部分(分岐点)だけに設け、電気光学物質14が導波路上を専有する範囲を少なくしている点に特徴がある。そのために、図3では、入力側線欠陥導波路13aと第1の出力側線欠陥導波路13bとの分岐点、および入力側線欠陥導波路13aと第2の出力側線欠陥導波路13cとの分岐点に、それぞれ電気光学物質14を設け、分岐点から離れる第1の出力側線欠陥導波路13bおよび第2の出力側線欠陥導波路13cには電気光学物質14を設けていない。また、図1に示す例では、第1の出力側線欠陥導波路13bの全体をカバーする第1の電極24と、第2の出力側線欠陥導波路13cの全体をカバーする第2の電極25とが設けられていたが、図3に示す例では、分岐点に置かれた電気光学物質14の部分に第1の電極31および第2の電極32が設けられている。図2に示す制御部26は、前述と同様、導波路の切り替えに際して、第1の電極31または第2の電極32に電圧を印加し、電界制御によって、光を透過させる側の電気光学物質14について光を透過可能(伝達可能)な状態とする。これによって、光の経路を簡易に切り替えることが可能となる。このように、図3に示す例では、スイッチ要素を入力側の光導波路(入力側線欠陥導波路13a)と、各々の出力側の導波路(第1の出力側線欠陥導波路13bおよび第2の出力側線欠陥導波路13c)との間の伝搬経路に挿入されている。尚、図3に示す例では、電気光学物質14を導波路(第1の出力側線欠陥導波路13bおよび第2の出力側線欠陥導波路13c)の全体に及ぼす必要がなく、また、電極も分岐点近傍だけに設ければ足りる点で優れている。   FIG. 3 is a view showing a modification of the optical switch shown in FIG. In the example shown in FIG. 3, the electro-optical material 14 is provided only at a switching portion (branch point) that is a part of the line defect waveguide 13 to reduce the range in which the electro-optical material 14 occupies the waveguide. There is a feature in the point. Therefore, in FIG. 3, at the branch point between the input-side line defect waveguide 13a and the first output-side line defect waveguide 13b and at the branch point between the input-side line defect waveguide 13a and the second output-side line defect waveguide 13c. The electro-optic material 14 is provided, and the electro-optic material 14 is not provided in the first output-side line defect waveguide 13b and the second output-side line defect waveguide 13c that are separated from the branch point. In the example shown in FIG. 1, the first electrode 24 covering the entire first output side line defect waveguide 13b, and the second electrode 25 covering the entire second output side line defect waveguide 13c, However, in the example shown in FIG. 3, the first electrode 31 and the second electrode 32 are provided in the portion of the electro-optical material 14 placed at the branch point. The control unit 26 shown in FIG. 2 applies a voltage to the first electrode 31 or the second electrode 32 when switching the waveguide, and controls the electro-optical material 14 on the side that transmits light by electric field control, as described above. The light can be transmitted (transmitted). This makes it possible to easily switch the light path. As described above, in the example shown in FIG. 3, the switch elements include the input-side optical waveguide (input-side line defect waveguide 13a) and the respective output-side waveguides (first output-side line defect waveguide 13b and second waveguide). It is inserted in the propagation path between the output side line defect waveguide 13c). In the example shown in FIG. 3, the electro-optic material 14 does not need to affect the entire waveguide (the first output-side line defect waveguide 13b and the second output-side line defect waveguide 13c), and the electrode also branches. It is excellent in that it is sufficient if it is provided only in the vicinity of the point.

図4は、出力用光ファイバへの出力を切り替える光スイッチの他の変形例を示した図である。図4に示すフォトニック結晶構造10の例では、第1の出力用光ファイバ51、第2の出力用光ファイバ52、第3の出力用光ファイバ53の3つの出力用光ファイバが設けられている。また、線欠陥導波路13は、入力側線欠陥導波路13aの他、第1の出力側線欠陥導波路13d、第2の出力側線欠陥導波路13e、および第3の出力欠陥導波路13fに分かれている。また、切り替え経路として、第1の切り替え導波路13g、第2の切り替え導波路13hを備えている。各導波路の切り替えに用いられるスイッチ要素として電気光学物質14を用いる点は図1に示す例と同様である。更に図4に示す例では、スイッチ要素として、電気光学物質14に対して電界を付与する5つの電極が設けられている。この5つの電極としては、第1の出力側線欠陥導波路13dに対してオン状態(光の透過可能状態)またはオフ状態(光の阻止状態)を切り替える第1の電極41、第2の出力側線欠陥導波路13eに対してオン状態またはオフ状態を切り替える第2の電極42、第3の出力欠陥導波路13fに対してオン状態またはオフ状態を切り替える第3の電極43を備えている。また、第1の切り替え導波路13gのオン状態またはオフ状態を切り替える第4の電極44、第2の切り替え導波路13hのオン状態またはオフ状態を切り替える第5の電極45を備えている。   FIG. 4 is a view showing another modification of the optical switch for switching the output to the output optical fiber. In the example of the photonic crystal structure 10 shown in FIG. 4, three output optical fibers, a first output optical fiber 51, a second output optical fiber 52, and a third output optical fiber 53, are provided. Yes. The line defect waveguide 13 is divided into a first output side line defect waveguide 13d, a second output side line defect waveguide 13e, and a third output defect waveguide 13f in addition to the input side line defect waveguide 13a. Yes. In addition, a first switching waveguide 13g and a second switching waveguide 13h are provided as switching paths. The electro-optic material 14 is used as a switch element used for switching each waveguide, as in the example shown in FIG. Further, in the example shown in FIG. 4, five electrodes for applying an electric field to the electro-optical material 14 are provided as switch elements. The five electrodes include a first electrode 41 that switches between an on state (light transmissive state) and an off state (light blocking state) with respect to the first output side line defect waveguide 13d, and a second output side line. A second electrode 42 that switches an on state or an off state with respect to the defect waveguide 13e and a third electrode 43 that switches an on state or an off state with respect to the third output defect waveguide 13f are provided. In addition, a fourth electrode 44 that switches an on state or an off state of the first switching waveguide 13g and a fifth electrode 45 that switches an on state or an off state of the second switching waveguide 13h are provided.

図4に示す光学素子において、入力用光ファイバ21から入力された光を第1の出力用光ファイバ51に出力する際には、例えば図2に示す制御部26の制御により、第1の電極41により第1の出力側線欠陥導波路13d部分をオン状態(光の透過可能状態)にし、第4の電極44により第1の切り替え導波路13gをオフ状態(光の阻止状態)にする。これによって、入力された光は、入力側線欠陥導波路13aおよび第1の出力側線欠陥導波路13dを伝播し、第1の出力用光ファイバ51に出力される。
また、入力用光ファイバ21から入力された光を第2の出力用光ファイバ52に出力する際には、第1の電極41により第1の出力側線欠陥導波路13d部分をオフ状態、第5の電極45により第2の切り替え導波路13hをオフ状態にし、第4の電極44により第1の切り替え導波路13gをオン状態、第2の電極42により第2の出力側線欠陥導波路13eをオン状態にする。これによって、入力された光は、入力側線欠陥導波路13a、第1の切り替え導波路13gおよび第2の出力側線欠陥導波路13eを伝播し、第2の出力用光ファイバ52に出力される。
更に、入力用光ファイバ21から入力された光を第3の出力用光ファイバ53に出力する際には、第1の電極41により第1の出力側線欠陥導波路13d部分をオフ状態、第2の電極42により第2の出力側線欠陥導波路13eをオフ状態にし、第4の電極44により第1の切り替え導波路13gをオン状態、第5の電極45により第2の切り替え導波路13hをオン状態、第3の電極43により第3の出力側線欠陥導波路13fをオン状態にする。これによって、入力された光は、入力側線欠陥導波路13a、第1の切り替え導波路13g、第2の切り替え導波路13h、および第3の出力側線欠陥導波路13fを伝搬して、第3の出力用光ファイバ53に出力される。
In the optical element shown in FIG. 4, when the light input from the input optical fiber 21 is output to the first output optical fiber 51, the first electrode is controlled by the control unit 26 shown in FIG. 41, the first output-side line defect waveguide 13d portion is turned on (light transmissive state), and the fourth electrode 44 is used to turn the first switching waveguide 13g off (light blocking state). As a result, the input light propagates through the input-side line defect waveguide 13a and the first output-side line defect waveguide 13d, and is output to the first output optical fiber 51.
When the light input from the input optical fiber 21 is output to the second output optical fiber 52, the first output side line defect waveguide 13d portion is turned off by the first electrode 41, and the fifth The second switching waveguide 13h is turned off by the electrode 45, the first switching waveguide 13g is turned on by the fourth electrode 44, and the second output-side line defect waveguide 13e is turned on by the second electrode 42. Put it in a state. As a result, the input light propagates through the input-side line defect waveguide 13a, the first switching waveguide 13g, and the second output-side line defect waveguide 13e, and is output to the second output optical fiber 52.
Furthermore, when the light input from the input optical fiber 21 is output to the third output optical fiber 53, the first output side line defect waveguide 13d portion is turned off by the first electrode 41, The second output-side line defect waveguide 13e is turned off by the electrode 42, the first switching waveguide 13g is turned on by the fourth electrode 44, and the second switching waveguide 13h is turned on by the fifth electrode 45. In this state, the third output-side line defect waveguide 13 f is turned on by the third electrode 43. As a result, the input light propagates through the input-side line defect waveguide 13a, the first switching waveguide 13g, the second switching waveguide 13h, and the third output-side line defect waveguide 13f. It is output to the output optical fiber 53.

以上のように、本実施の形態によれば、入力側の光導波路と出力側の光導波路との間にスイッチ要素を挿入することで、光スイッチとして利用することが可能となる。このスイッチ要素は、光路中に配置された電気光学物質14の素子に電圧を印加して屈折率を変化させ、光の進行方向を変化させる。このとき、図1や図3に示すように、2つの出力を切り替える場合の他、図4に示すように出射側の線欠陥導波路を3本以上の複数本設け、多数のスイッチを切り替えるように構成することもできる。かかる構成は、多チャンネルの光スイッチを構成し、制御する際に有効である。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to use as an optical switch by inserting a switch element between an input-side optical waveguide and an output-side optical waveguide. This switch element changes the refractive index by applying a voltage to the element of the electro-optical material 14 disposed in the optical path, and changes the traveling direction of light. At this time, as shown in FIG. 1 and FIG. 3, in addition to the case of switching two outputs, as shown in FIG. 4, a plurality of output side line defect waveguides are provided, and a plurality of switches are switched. It can also be configured. Such a configuration is effective when configuring and controlling a multi-channel optical switch.

[実施の形態2]
実施の形態1では、光の経路を切り替えて、異なった出力用光ファイバへ出射する光スイッチの例について説明した。実施の形態2では、光の経路を切り替えることで遅延回路として用いられる光スイッチについて説明する。
尚、実施の形態1と同様の機能については同様の符号を用い、その詳細な説明については省略する。
[Embodiment 2]
In the first embodiment, an example of an optical switch that switches light paths and emits light to different output optical fibers has been described. In the second embodiment, an optical switch used as a delay circuit by switching light paths will be described.
The same functions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図5は、遅延回路として光の伝播する経路を変えるフォトニック結晶構造10を示した図である。図5では、入力用光ファイバ21から出力されフォトニック結晶構造10を通過した光を入射する出力用光ファイバ71が設けられている。フォトニック結晶構造10にて光が伝播される線欠陥導波路13は、入力側線欠陥導波路13a、出力側線欠陥導波路13i、および直進導波路13j、迂回導波路13kを有している。直進導波路13jおよび迂回導波路13kには、スイッチ要素として電気光学物質14が設けられると共に、この電気光学物質14に電界を与えるために、図2と同様に結晶構造を挟み込む位置に第1の電極61および第2の電極62が配置される。   FIG. 5 is a diagram showing a photonic crystal structure 10 that changes a light propagation path as a delay circuit. In FIG. 5, an output optical fiber 71 is provided for receiving light output from the input optical fiber 21 and passing through the photonic crystal structure 10. The line defect waveguide 13 through which light propagates in the photonic crystal structure 10 has an input side line defect waveguide 13a, an output side line defect waveguide 13i, a straight waveguide 13j, and a detour waveguide 13k. The straight waveguide 13j and the detour waveguide 13k are provided with an electro-optical material 14 as a switch element, and in order to apply an electric field to the electro-optical material 14, the first structure is sandwiched between the first and second crystal waveguides as shown in FIG. An electrode 61 and a second electrode 62 are disposed.

図5に示す例にて、まず光を迂回させずに出力用光ファイバ71に伝播する場合には、例えば制御部26の制御により、直進導波路13jに設けられる電気光学物質14を第1の電極61によりオン状態(光の透過可能状態)にし、迂回導波路13kに設けられる電気光学物質14を第2の電極62によりオフ状態(光の阻止状態)にする。これによって、入力用光ファイバ21によって線欠陥導波路13に入力された光は、入力側線欠陥導波路13a、直進導波路13j、および出力側線欠陥導波路13iを伝播し、出力用光ファイバ71に出射される。
一方、遅延させる場合には、直進導波路13jに設けられる電気光学物質14を第1の電極61によりオフ状態にし、迂回導波路13kに設けられる電気光学物質14を第2の電極62によりオン状態にする。入力用光ファイバ21によって線欠陥導波路13に入力された光は、入力側線欠陥導波路13aから迂回導波路13kに迂回し、出力側線欠陥導波路13iを経由して出力用光ファイバ71に出射される。これによって、フォトニック結晶を用いた光スイッチを遅延回路に利用することが可能となる。
In the example shown in FIG. 5, when the light is first propagated to the output optical fiber 71 without detouring, the electro-optic material 14 provided in the straight waveguide 13j is controlled by the control unit 26, for example. The electrode 61 is turned on (light transmissive state), and the electro-optic substance 14 provided in the bypass waveguide 13k is turned off (light blocking state) by the second electrode 62. As a result, the light input to the line defect waveguide 13 by the input optical fiber 21 propagates through the input side line defect waveguide 13 a, the straight waveguide 13 j, and the output side line defect waveguide 13 i, and enters the output optical fiber 71. Emitted.
On the other hand, when delaying, the electro-optic material 14 provided in the straight waveguide 13j is turned off by the first electrode 61, and the electro-optic material 14 provided in the detour waveguide 13k is turned on by the second electrode 62. To. The light input to the line defect waveguide 13 by the input optical fiber 21 is diverted from the input side line defect waveguide 13a to the detour waveguide 13k, and emitted to the output optical fiber 71 via the output side line defect waveguide 13i. Is done. As a result, an optical switch using a photonic crystal can be used for the delay circuit.

図6は、図5に示す遅延回路の変形例を示した図である。図6では、図5と同様に、光が伝播される線欠陥導波路13として、入力側線欠陥導波路13a、出力側線欠陥導波路13i、および直進導波路13j、迂回導波路13kを有している。但し、スイッチ要素として電気光学物質14の配置が図5とは異なる。図6に示す例では、電気光学物質14は、直進導波路13jの分岐点であるIN側とOUT側、迂回導波路13kの分岐点であるIN側とOUT側に設けられており、それ以外の導波路は、構造物11だけで構成されている。また、図6に示す例では、直進導波路13jの電気光学物質14に電界を与えるように第1の電極63が設けられ、迂回導波路13kの電気光学物質14に電界を与えるように第2の電極64が設けられている。   FIG. 6 is a diagram showing a modification of the delay circuit shown in FIG. In FIG. 6, as in FIG. 5, the line defect waveguide 13 through which light is propagated includes an input side line defect waveguide 13a, an output side line defect waveguide 13i, a straight waveguide 13j, and a detour waveguide 13k. Yes. However, the arrangement of the electro-optical material 14 as a switch element is different from that in FIG. In the example shown in FIG. 6, the electro-optical material 14 is provided on the IN side and the OUT side that are the branch points of the straight waveguide 13j, and on the IN side and the OUT side that are the branch points of the detour waveguide 13k. The waveguide is composed of the structure 11 alone. In the example shown in FIG. 6, the first electrode 63 is provided so as to apply an electric field to the electro-optical material 14 of the straight waveguide 13j, and the second electrode 63 is applied to apply the electric field to the electro-optical material 14 of the detour waveguide 13k. The electrode 64 is provided.

図6に示す例にて、まず光を迂回させずに出力用光ファイバ71に伝播する場合には、例えば制御部26の制御により、直進導波路13jに設けられる電気光学物質14を第1の電極63によりオン状態(光の透過可能状態)にし、迂回導波路13kのIN側とOUT側とに設けられる電気光学物質14を第2の電極64によりオフ状態(光の阻止状態)にする。これによって、入力用光ファイバ21によって線欠陥導波路13に入力された光は、入力側線欠陥導波路13a、直進導波路13j、および出力側線欠陥導波路13iを伝播し、出力用光ファイバ71に出射される。
一方、遅延させる場合には、直進導波路13jのIN側とOUT側とに設けられる電気光学物質14を第1の電極63によりオフ状態にし、迂回導波路13kに設けられる電気光学物質14を第2の電極64によりオン状態にする。入力用光ファイバ21によって線欠陥導波路13に入力された光は、入力側線欠陥導波路13aから迂回導波路13kに迂回し、出力側線欠陥導波路13iを経由して出力用光ファイバ71に出射される。これによって、フォトニック結晶を用いた光スイッチを遅延回路に利用することが可能となる。また、伝搬光の位相を切り替え、制御する回路として用いることができる。
In the example shown in FIG. 6, when the light is first propagated to the output optical fiber 71 without detouring, the electro-optic material 14 provided in the straight waveguide 13j is controlled by the control unit 26, for example. The electrode 63 is turned on (light transmissive state), and the electro-optic substance 14 provided on the IN side and OUT side of the bypass waveguide 13k is turned off (light blocking state) by the second electrode 64. As a result, the light input to the line defect waveguide 13 by the input optical fiber 21 propagates through the input side line defect waveguide 13 a, the straight waveguide 13 j, and the output side line defect waveguide 13 i, and enters the output optical fiber 71. Emitted.
On the other hand, when delaying, the electro-optic material 14 provided on the IN side and the OUT side of the straight waveguide 13j is turned off by the first electrode 63, and the electro-optic material 14 provided in the detour waveguide 13k is turned on. The second electrode 64 is turned on. The light input to the line defect waveguide 13 by the input optical fiber 21 is diverted from the input side line defect waveguide 13a to the detour waveguide 13k, and emitted to the output optical fiber 71 via the output side line defect waveguide 13i. Is done. As a result, an optical switch using a photonic crystal can be used for the delay circuit. Further, it can be used as a circuit for switching and controlling the phase of propagating light.

以上、詳述したように、本実施の形態(実施の形態1および実施の形態2)は、光の伝搬経路を遮断もしくは切り替える光スイッチであって、フォトニック結晶よりなり、光の伝搬経路に挿入されて状態変化によって光の伝搬経路を遮断もしくは切り替えるスイッチ要素と、このスイッチ要素の状態を変化させるように、スイッチ要素の構成物質の屈折率を電気的に変化させる制御手段とを備えた。この構成により、素子の小型化を図ることができる。
また、本実施の形態では、1つの光スイッチで複数のチャンネルへの切り替えが可能なマルチチャンネル切り替え光スイッチを実現し、マルチチャンネルスイッチのコンパクト化を実現した。
As described above in detail, the present embodiment (Embodiment 1 and Embodiment 2) is an optical switch that cuts off or switches a light propagation path, is made of a photonic crystal, and is used as a light propagation path. A switch element that is inserted and cuts off or switches a light propagation path according to a state change, and a control unit that electrically changes a refractive index of a constituent material of the switch element so as to change the state of the switch element. With this configuration, the element can be reduced in size.
In the present embodiment, a multi-channel switching optical switch that can be switched to a plurality of channels with one optical switch is realized, and the multi-channel switch is made compact.

尚、一般にフォトニック結晶は、屈折率n1を有する第1の光学媒質中に、屈折率n2を有する第2の光学媒質が周期的構造物として配列された構造になっている。この構造によって信号光の伝播が不可能な領域を形成する。これをフォトニックバンドギャップ領域(PBG領域)と呼ぶ。このフォトニックバンドギャップ領域は、例えば第1の光学媒質を形成する基板中に、入射光の波長の2分の1程度の光学長周期間隔で第2の光学媒質である構造体を2次元アレイ状に配列する。この第2の光学媒質である構造体は、例えば円柱形状で構成する。角柱や球状の構造体を用いることも可能である。また、周期構造は、図1に示したような正方格子に限らず、三角格子、長方格子、斜方格子等、種々の2次元周期構造あるいは3次元周期構造をとることも可能である。   In general, the photonic crystal has a structure in which a second optical medium having a refractive index n2 is arranged as a periodic structure in a first optical medium having a refractive index n1. This structure forms a region where signal light cannot be propagated. This is called a photonic band gap region (PBG region). This photonic band gap region is a two-dimensional array of structures that are second optical media, for example, in a substrate forming the first optical medium, with an optical long period interval of about one-half of the wavelength of incident light. Arranged in a shape. The structure that is the second optical medium is formed in a cylindrical shape, for example. It is also possible to use a prism or a spherical structure. Further, the periodic structure is not limited to the square lattice as shown in FIG. 1, and various two-dimensional periodic structures or three-dimensional periodic structures such as a triangular lattice, a rectangular lattice, and an orthorhombic lattice can be employed.

このような構造を有するフォトニックバンドギャップ領域において、第2の光学媒質の存在しない領域(第1の光学媒質のみ存在する領域)を一部、たとえば線状に形成すると、その領域は信号光の伝播が可能な領域となる。この領域の端部に信号光が入射すると、その光は選択的にこの領域を伝播することになる。この領域は線欠陥導波路と呼ばれる。本実施の形態(実施の形態1および実施の形態2)のフォトニック結晶において、フォトニックバンドギャップ領域および線欠陥導波路は、上述と同様の構造である。その製造方法について、以下に説明する。   In the photonic band gap region having such a structure, when a region where the second optical medium does not exist (a region where only the first optical medium exists) is formed in a part, for example, a linear shape, the region is formed of signal light. This is an area where propagation is possible. When signal light enters the end of this region, the light selectively propagates through this region. This region is called a line defect waveguide. In the photonic crystal of the present embodiment (Embodiment 1 and Embodiment 2), the photonic band gap region and the line defect waveguide have the same structure as described above. The manufacturing method will be described below.

まず、屈折率n1を有する第1の光学媒質となる材料を基板とする。その基板に、リソグラフィ法、エッチング法などによって円柱状の穴などの周期的な構造を形成する。そこに屈折率n2を有する第2の光学媒質を埋め込む。基板となる第1の光学媒質には、例えばSiなどを用いることができる。また、動作波長において透明な、例えばGaN、GaAsなどの材料を用いても作製可能である。また、第2の光学媒質には、例えばSiO、Al、Ta、TiOなどの誘電体物質を用いることができる。また、物質を充填せず、すなわち空気を第二の光学媒質として使用することも可能である。あるいは、これとは逆に基板エッチングによって第2の光学媒質を例えば円柱の配列のように残し、第1の光学媒質を空気として構成することも可能である。このように屈折率の異なる2つの光学媒質のうち、一方には空気、液体または真空を用いることも可能である。 First, a material to be a first optical medium having a refractive index n1 is used as a substrate. A periodic structure such as a cylindrical hole is formed on the substrate by lithography or etching. A second optical medium having a refractive index n2 is embedded therein. For example, Si or the like can be used for the first optical medium serving as the substrate. It can also be produced using a material such as GaN or GaAs that is transparent at the operating wavelength. For the second optical medium, a dielectric material such as SiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , or TiO 2 can be used. It is also possible to use no material, that is, air as the second optical medium. Alternatively, on the contrary, it is possible to leave the second optical medium in the form of a cylinder, for example, by etching the substrate, and to configure the first optical medium as air. As described above, air, liquid, or vacuum can be used for one of the two optical media having different refractive indexes.

そして、出力経路としてスイッチされる2本の出力側線欠陥導波路部(スイッチ導波路)に形成された円柱状の空孔部には、電界の印加によって屈折率が変化する材料、すなわち電気光学効果を有する物質を充填する。この物質として、例えばKHPO:(KDP)、BaTiO、LiNbO、LiTaO、BiSiO、GaAs、Pb(Zr、Ti)O:(PZT)、(Pb、La)(Zr、Ti)O:(PLZT)、PbNb、(Sr、Ba)Nb、BaNaNb15、Fe-Bi-PbTiOなどを用いることができる。
これらの電気光学物質を、Si基板に形成された円柱状の空孔部に充填する方法としては、材料の微粒子を空孔部に充填し、酸素雰囲気中で加圧または常圧で焼成する方法(固相反応法)がある。また、アルコキシド化合物などの液体材料を出発原料として、化学反応法により合成することが可能である。
A cylindrical hole formed in the two output-side line defect waveguide portions (switch waveguides) that are switched as output paths has a material whose refractive index changes due to application of an electric field, that is, an electro-optic effect. Filled with a substance having As this substance, for example, KH 2 PO 4 : (KDP), BaTiO 3 , LiNbO 3 , LiTaO 3 , BiSiO, GaAs, Pb (Zr, Ti) O 3 : (PZT), (Pb, La) (Zr, Ti) O 3 : (PLZT), PbNb 2 O 6 , (Sr, Ba) Nb 2 O 6 , Ba 2 NaNb 5 O 15 , Fe 2 O 3 —Bi 2 O 3 —PbTiO 3, or the like can be used.
As a method for filling these electro-optical materials into the cylindrical hole portion formed in the Si substrate, a method of filling fine particles of the material into the hole portion and firing it under pressure or normal pressure in an oxygen atmosphere (Solid-phase reaction method). It can also be synthesized by a chemical reaction method using a liquid material such as an alkoxide compound as a starting material.

次に、本件の一実施例として、具体的な構成例を示す。ここでは、波長1.55μmの光を入射し、その出力される光路を切り替える光スイッチを構成した。
まず、Si基板上に、厚さ約5μmのSiOを積層した。そして、その上に厚さ2μmのSi層を積層した。これはSOI(Silicon On Insulator)基板と呼ばれるものである。SiO層が下層のクラッド層となりSi層がコア層となる。フォトニック結晶は、SOI基板の表面のSi層をリソグラフィ技術およびエッチング技術を利用して加工することによって形成した。すなわち、このSOI基板上に、所望の形状にパターニングしたレジストマスクを形成した後、ドライエッチング装置によって第2の光学媒質に対応する部位が除去されるようにSi層をエッチングした。そして、ここでは、反応性イオンエッチングによって、このSi層に正方格子状に直径が0.3μm、配列周期が0.4μmの円柱状の空孔部を形成した。そしてそのフォトニックバンドギャップ領域には、円柱状の空孔部にSiOを充填した。
Next, a specific configuration example will be shown as an example of the present case. Here, an optical switch is configured to enter light having a wavelength of 1.55 μm and switch the output optical path.
First, SiO 2 having a thickness of about 5 μm was laminated on a Si substrate. Then, a 2 μm thick Si layer was laminated thereon. This is called an SOI (Silicon On Insulator) substrate. The SiO 2 layer becomes the lower cladding layer and the Si layer becomes the core layer. The photonic crystal was formed by processing the Si layer on the surface of the SOI substrate using a lithography technique and an etching technique. That is, after forming a resist mask patterned into a desired shape on this SOI substrate, the Si layer was etched so that the portion corresponding to the second optical medium was removed by a dry etching apparatus. In this case, a columnar hole having a diameter of 0.3 μm and an arrangement period of 0.4 μm was formed in a square lattice pattern in the Si layer by reactive ion etching. The photonic band gap region was filled with SiO 2 in cylindrical holes.

そして、電気光学物質としてランタン添加チタン酸ジルコン酸鉛(PLZT)を用いた。PLZTは、ぺロブスカイト型結晶のPb(Zr、Ti)OのPbをLaに置換したものである。一般的に次の組成式で表される。
(Pb1−x、La)(Zr、Ti)1−x/4O
この(x,y,z)の組を用いてPLZTの組成を表すものとする。この中で、ここでは、PLZT(9/65/35)なる組成比の物質を用いた。この物質は、この組成において本実施の形態で用いられる信号波長である1.55μm付近の光線を透過する。この材料は2次の電気光学効果を示す。このPLZTの平均直径約5nmの微粒子を、スイッチ導波路に形成された空孔部に充填し、酸素雰囲気中にて200kg/cmの圧力をかけて800℃で10時間などの焼成プロセスを施した。
このようにPBG領域、線欠陥導波路、スイッチ導波路が形成された基板の全面にSiOを2.5μm積層してクラッド層とした。
そして、それぞれのスイッチ導波路の下部と上部に、電気光学物質を覆う形でそれぞれの電極をCuで形成した。
Then, lanthanum-doped lead zirconate titanate (PLZT) was used as an electro-optical material. PLZT is obtained by substituting Pb of Pb (Zr, Ti) O 3 in the perovskite crystal with La. Generally, it is represented by the following composition formula.
(Pb 1-x, La x ) (Zr y, Ti z) 1-x / 4O 3
It is assumed that the composition of PLZT is expressed using the set of (x, y, z). Among them, a substance having a composition ratio of PLZT (9/65/35) was used here. This material transmits light having a wavelength of about 1.55 μm, which is the signal wavelength used in this embodiment in this composition. This material exhibits a secondary electro-optic effect. The PLZT fine particles having an average diameter of about 5 nm are filled in the holes formed in the switch waveguide, and subjected to a baking process such as 10 hours at 800 ° C. under a pressure of 200 kg / cm 2 in an oxygen atmosphere. did.
Thus, 2.5 μm of SiO 2 was laminated on the entire surface of the substrate on which the PBG region, the line defect waveguide, and the switch waveguide were formed to form a cladding layer.
Then, the respective electrodes were formed of Cu so as to cover the electro-optic material at the lower and upper portions of the respective switch waveguides.

以上のように構成したフォトニック結晶光スイッチにおいて、切り替え動作を確認した。
入力側の線欠陥導波路および2本の出力側線欠陥導波路(スイッチ導波路)に、図1に模式的に示すように光ファイバを接続し、入力側線形導波路へ波長1.55μmの信号光を入射した。電圧を印加しない状態においては、スイッチ導波路に埋め込まれた電気光学物質の屈折率は第1光学媒質である基板のそれに近い値を有するため、入射光の伝播が許容される状態にある。そして、この電気光学物質PLZTは、電圧を印加すると屈折率が低下する。よって、電極を通じてスイッチ導波路に電圧を印加すると、このスイッチ導波路はPBG状態となり、入射光の伝播ができない状態にすることができる。本実施形態のフォトニック結晶光スイッチにおいては、300Vの電圧を第1の電極または第2の電極の片側に印加することにより、電圧を印加していない側への伝播のみ許容されるスイッチ動作が行えることを確認した。
また、電気光学物質において、1次の電気光学効果を有する材料は印加電圧に対する電気分極の変化がヒステリシスを持つ。本実施形態において、この性質を有する物質であるPLZT(8/65/35)を用いてスイッチ導波路を構成した。このデバイスにおいては、電圧を印加して導波路を切り替えた後、電圧の印加を停止しても、その選択された光路はそのまま保存することができた。
The switching operation was confirmed in the photonic crystal optical switch configured as described above.
As shown schematically in FIG. 1, an optical fiber is connected to the input side line defect waveguide and the two output side line defect waveguides (switch waveguides), and a signal having a wavelength of 1.55 μm is input to the input side linear waveguide. Incident light. In a state where no voltage is applied, the refractive index of the electro-optic material embedded in the switch waveguide has a value close to that of the substrate that is the first optical medium, and thus the propagation of incident light is allowed. The refractive index of the electro-optical material PLZT decreases when a voltage is applied. Therefore, when a voltage is applied to the switch waveguide through the electrode, the switch waveguide enters the PBG state, and the incident light cannot be propagated. In the photonic crystal optical switch of the present embodiment, by applying a voltage of 300 V to one side of the first electrode or the second electrode, a switch operation that allows only propagation to the side to which no voltage is applied is performed. I confirmed that I can do it.
In addition, in an electro-optic material, a material having a first-order electro-optic effect has a hysteresis in a change in electric polarization with respect to an applied voltage. In this embodiment, the switch waveguide is configured using PLZT (8/65/35) which is a substance having this property. In this device, even if the voltage application is stopped after the waveguide is switched by applying a voltage, the selected optical path can be preserved as it is.

尚、各光学媒質の材料や周期、間隔などを適宜設計することで、フォトニック結晶のフォトニックバンドギャップ領域を任意の波長帯に設計することが可能であり、任意の波長の光スイッチとして使用することができる。また、印加電圧に応じてスイッチ導波路のフォトニックバンドギャップ領域のシフト量(変化量)を調整できるので、光波長可変フィルタとしても使用可能である。
また、本実施形態のフォトニック結晶では、入力側、出力側のそれぞれに光ファイバを用いたが、その代わりに、フォトニック結晶と同一基板上に形成した光導波路をもって構成することも可能である。かかる構成によれば、信号の入力・出力の経路とフォトニック結晶の結合が容易となる。
In addition, it is possible to design the photonic band gap region of the photonic crystal to an arbitrary wavelength band by appropriately designing the material, period, interval, etc. of each optical medium, and can be used as an optical switch of an arbitrary wavelength. can do. Further, since the shift amount (change amount) of the photonic band gap region of the switch waveguide can be adjusted according to the applied voltage, it can also be used as an optical wavelength variable filter.
In the photonic crystal of the present embodiment, optical fibers are used for both the input side and the output side, but instead, it may be configured with an optical waveguide formed on the same substrate as the photonic crystal. . According to this configuration, the signal input / output path and the photonic crystal can be easily coupled.

本発明の活用例としては、光伝送通信システムや、光伝送通信システムに用いられる光学素子、光学モジュール等への活用がある。   Examples of utilization of the present invention include utilization in optical transmission communication systems, optical elements and optical modules used in optical transmission communication systems.

本実施の形態が適用されるフォトニック結晶を使った光スイッチによる光学素子の全体構成を示した図である。It is the figure which showed the whole structure of the optical element by the optical switch using the photonic crystal to which this Embodiment is applied. 本実施の形態が適用されるフォトニック結晶を使った光学素子の出射側の線欠陥導波路部分の断面を示した図である。It is the figure which showed the cross section of the line defect waveguide part of the output side of the optical element using the photonic crystal to which this Embodiment is applied. 図1に示す光スイッチの変形例を示した図である。It is the figure which showed the modification of the optical switch shown in FIG. 出力用光ファイバへの出力を切り替える光スイッチの他の変形例を示した図である。It is the figure which showed the other modification of the optical switch which switches the output to the optical fiber for output. 遅延回路として光の伝播する経路を変えるフォトニック結晶構造を示した図である。It is the figure which showed the photonic crystal structure which changes the path | route which light propagates as a delay circuit. 図5に示す遅延回路の変形例を示した図である。FIG. 6 is a diagram showing a modification of the delay circuit shown in FIG. 5.

符号の説明Explanation of symbols

10…フォトニック結晶構造、11…構造物、12…周期性構造物、13…線欠陥導波路、14…電気光学物質、21…入力用光ファイバ、22…第1の出力用光ファイバ、23…第2の出力用光ファイバ、24…第1の電極、25…第2の電極、31…第1の電極、32…第2の電極、41…第1の電極、42…第2の電極、43…第3の電極、44…第4の電極、45…第5の電極、51…第1の出力用光ファイバ、52…第2の出力用光ファイバ、53…第3の出力用光ファイバ、61…第1の電極、62…第2の電極、63…第1の電極、64…第2の電極、71…出力用光ファイバ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Photonic crystal structure, 11 ... Structure, 12 ... Periodic structure, 13 ... Line defect waveguide, 14 ... Electro-optic substance, 21 ... Input optical fiber, 22 ... 1st output optical fiber, 23 2nd output optical fiber, 24 ... 1st electrode, 25 ... 2nd electrode, 31 ... 1st electrode, 32 ... 2nd electrode, 41 ... 1st electrode, 42 ... 2nd electrode , 43 ... third electrode, 44 ... fourth electrode, 45 ... fifth electrode, 51 ... first output optical fiber, 52 ... second output optical fiber, 53 ... third output light. Fibers 61 ... first electrode 62 ... second electrode 63 ... first electrode 64 ... second electrode 71 ... output optical fiber

Claims (8)

第1の光学媒質の中に、それとは異なる屈折率を持つ第2の光学媒質を周期的に配列したフォトニック結晶構造と、
前記フォトニック結晶構造における周期的配列の一部に設けられる線欠陥導波路と、
前記線欠陥導波路に接続して配置され、光学的状態が制御可能な構成媒質を含むスイッチ導波路と、
前記スイッチ導波路の前記構成媒質における光学的特性を変化させる制御手段と
を含む光学素子。
A photonic crystal structure in which a second optical medium having a different refractive index is periodically arranged in the first optical medium;
A line defect waveguide provided in a part of a periodic array in the photonic crystal structure;
A switch waveguide including a constituent medium disposed in connection with the line defect waveguide and capable of controlling an optical state;
An optical element comprising: control means for changing an optical characteristic in the constituent medium of the switch waveguide.
前記スイッチ導波路の前記構成媒質は電気光学効果を有する物質であり、前記制御手段による電圧制御によって屈折率が変化することを特徴とする請求項1記載の光学素子。   2. The optical element according to claim 1, wherein the constituent medium of the switch waveguide is a substance having an electro-optic effect, and a refractive index is changed by voltage control by the control means. 前記スイッチ導波路の前記構成媒質は、前記線欠陥導波路の中にて分岐された複数の導波路の各々に設けられ、
前記制御手段は、分岐された当該複数の導波路に設けられた前記スイッチ導波路の前記構成媒質の何れかの光学的状態を変化させることで伝播する光の経路を切り替えることを特徴とする請求項1記載の光学素子。
The constituent medium of the switch waveguide is provided in each of a plurality of waveguides branched in the line defect waveguide,
The control means switches a path of light to propagate by changing an optical state of any one of the constituent media of the switch waveguide provided in the plurality of branched waveguides. Item 5. The optical element according to Item 1.
前記スイッチ導波路の前記構成媒質は、分岐された前記複数の導波路の分岐点に設けられることを特徴とする請求項3記載の光学素子。   4. The optical element according to claim 3, wherein the constituent medium of the switch waveguide is provided at a branch point of the plurality of branched waveguides. 前記制御手段は、前記スイッチ導波路の前記構成媒質における前記光学的状態を変化させ、前記線欠陥導波路を伝播して出力される光を、前記フォトニック結晶構造に隣接して設けられる複数の出力用光ファイバの何れか1つに対して出力することを特徴とする請求項3記載の光学素子。   The control means is configured to change the optical state in the constituent medium of the switch waveguide, and to output light that propagates through the line defect waveguide and is adjacent to the photonic crystal structure. 4. The optical element according to claim 3, wherein the optical element is output to any one of the output optical fibers. 前記制御手段は、前記スイッチ導波路の前記構成媒質の前記光学的状態を変化させ、前記線欠陥導波路を伝播して出力される光を遅延させることを特徴とする請求項3記載の光学素子。   4. The optical element according to claim 3, wherein the control means changes the optical state of the constituent medium of the switch waveguide and delays the light that is propagated through the line defect waveguide and output. . 第1の光学媒質の中に、それとは異なる屈折率を持つ第2の光学媒質が周期的に配列され当該配列の一部に線欠陥導波路が設けられると共に、当該線欠陥導波路を構成する分岐された複数の出力側線欠陥導波路であるスイッチ導波路に光学的状態を制御可能な構成媒質が設けられるフォトニック結晶構造と、
前記フォトニック結晶構造の前記線欠陥導波路に光を入射する入力用光ファイバと、
前記フォトニック結晶構造の前記複数の出力側線欠陥導波路に対して各々伝播される光を受ける複数の出力用光ファイバと、
前記フォトニック結晶構造の前記複数の出力側線欠陥導波路であるスイッチ導波路に設けられる前記構成媒質の光学的特性を、当該複数の出力側線欠陥導波路の単位で各々変化させる制御部と
を含む光学モジュール。
A second optical medium having a different refractive index is periodically arranged in the first optical medium, and a line defect waveguide is provided in a part of the arrangement, and the line defect waveguide is configured. A photonic crystal structure in which a constituent medium capable of controlling an optical state is provided in a switch waveguide that is a plurality of branched output-side line defect waveguides;
An input optical fiber for entering light into the line defect waveguide of the photonic crystal structure;
A plurality of output optical fibers each receiving light propagated to the plurality of output-side line defect waveguides of the photonic crystal structure;
A control unit that changes optical characteristics of the constituent medium provided in the switch waveguide that is the plurality of output-side line defect waveguides of the photonic crystal structure in units of the plurality of output-side line defect waveguides, respectively. Optical module.
前記フォトニック結晶構造の前記複数の出力側線欠陥導波路に各々設けられるスイッチ導波路の前記構成媒質は電気光学効果を有する物質であり、前記制御部による電圧制御によって屈折率が変化することを特徴とする請求項7記載の光学モジュール。   The constituent medium of the switch waveguide provided in each of the plurality of output-side line defect waveguides of the photonic crystal structure is a substance having an electro-optic effect, and a refractive index is changed by voltage control by the control unit. The optical module according to claim 7.
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