JP2006042502A - Drift control unit for stage - Google Patents
Drift control unit for stage Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006042502A JP2006042502A JP2004219220A JP2004219220A JP2006042502A JP 2006042502 A JP2006042502 A JP 2006042502A JP 2004219220 A JP2004219220 A JP 2004219220A JP 2004219220 A JP2004219220 A JP 2004219220A JP 2006042502 A JP2006042502 A JP 2006042502A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- contact member
- drift control
- signal
- piezoelectric element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Abstract
Description
本発明は、精密加工機械、精密測定装置、半導体製造装置、測長SEM(走査型電子顕微鏡)などにおける一次元運動体(以下「ステージ」という)の停止位置において発生するドリフト量を制御するステージのドリフト制御装置に関するものである。 The present invention relates to a stage for controlling a drift amount generated at a stop position of a one-dimensional moving body (hereinafter referred to as “stage”) in a precision processing machine, a precision measuring apparatus, a semiconductor manufacturing apparatus, a length measuring SEM (scanning electron microscope), and the like. The present invention relates to a drift control device.
基台にクロスローラガイドのようなガイド部材を備え、このガイド部材の上に直線的に往復運動することのできるステージを設置した構造において、前記ステージを移動させるための駆動源として、超音波モータ(USM)が用いられる。
超音波モータは、振動体に圧電素子を取り付けて、この振動体の一部をステージの側面に加圧しながら接触させて、圧電素子に交流電圧を印加して振動体を運動させる。この運動が、摩擦力でステージに伝わり、ステージを一次元方向に動かす。ステージが所定の位置まで動くと、超音波モータの駆動をオフして、ステージを止める。
In a structure in which a guide member such as a cross roller guide is provided on the base and a stage that can linearly reciprocate is installed on the guide member, an ultrasonic motor is used as a drive source for moving the stage. (USM) is used.
In the ultrasonic motor, a piezoelectric element is attached to a vibrating body, a part of the vibrating body is brought into contact with the side surface of the stage while being pressed, and an alternating voltage is applied to the piezoelectric element to move the vibrating body. This motion is transmitted to the stage with frictional force, and moves the stage in a one-dimensional direction. When the stage moves to a predetermined position, the driving of the ultrasonic motor is turned off to stop the stage.
図8は、超音波モータの構造を示す平面図である。超音波モータは、基台に固定された3つの固定部4,5,6を備えている。正面の固定部4には、平行ヒンジ7を介して振動体8が取り付けられる。前記平行ヒンジ7は、そのたわみにより、振動体8が左右に振動することができる程度の弾性のある部材で形成されている。
前記振動体8の先端部には、ステージ2の移動方向Aに垂直な方向に振動を発生される第1の圧電素子部9が設けられる。また、振動体8の左右側面と、前記左右固定部5,6との間には、ステージ2の移動方向Aに平行な方向に移動を発生させる第2及び第3の圧電素子部10,11が設けられている。そして、第1の圧電素子部9の先端には基材9aが接合され、基材9aの先端面には、ステージ2と接触しながら、摩擦力でステージ2を移動させるための接触部材3が取り付けられている。
FIG. 8 is a plan view showing the structure of the ultrasonic motor. The ultrasonic motor includes three
A first piezoelectric element portion 9 that generates vibration in a direction perpendicular to the moving direction A of the
前記第2及び第3の圧電素子部10,11に互いに逆位相の交流振動を印加し、かつ、前記第1の圧電素子部9に、前記第2及び第3の圧電素子部10,11に与えられる交流信号と90度位相の遅れた又は進んだ交流信号を印加することにより、前記接触部材を楕円振動させる。ここで「逆位相」とは第2の圧電素子部10を一方向に動かせば、第3の圧電素子部11も同方向に動くような位相関係をいう。前記楕円振動は、接触部材3とステージ2との摩擦力によりステージ2に伝わり、これにより、ステージ2を任意の方向に移動させることができる。
AC vibrations having opposite phases are applied to the second and third
ステージ2を停止させるときは、各圧電素子部9,10,11への電圧の印加を停止する。電圧の印加を停止することにより、前記振動体8には前記第2及び第3の圧電素子部10,11からの力がかからなくなり、前記振動体8は、前記平行ヒンジ7の復元力により、正面固定部4に対して所定の位置関係を保って静止する。また、振動体8内の第1の圧電素子部9も電圧の印加が停止されるので、第1の圧電素子部9及びその先端に固定された接触部材3も、振動体8に対して所定の位置関係を保ったまま静止する。この結果、接触部材3は、基台1に対して所定の位置を保持しながら静止することとなる。接触部材3とステージ2との間には、両者の接触により静止摩擦力が働いているので、その摩擦力によりステージ2を基台1の所定位置に停止させることができる。
When the
なお、実際には、ステージ2の移動量の制御あるいは停止位置の決定は、ステージ2の移動量をリニアスケール及びレーザ干渉計で測定し、その測定結果を、超音波モータの駆動装置にフィードバック制御することにより行っている。
このような超音波モータは、制御可能な最小移動量がナノメートルのオーダーになり、精密なステージの位置制御ができるという特長がある。
Actually, the movement amount of the
Such an ultrasonic motor has the feature that the minimum controllable amount of movement is on the order of nanometers, and the position of the stage can be precisely controlled.
そこで、最近では、精密加工機械、精密測定装置、半導体製造装置などの一次元運動系の駆動装置として好適に用いられている。
前記超音波モータを使ったステージの移動制御系では、ステージを位置決めした後、温度の変化、駆動力伝達手段の弾性変化などで、位置決め後の停止位置が、時間の経過とともに変動することがある。これを「ドリフト」という。
図9は、ステージ2を停止させた後に発生するドリフト量を示したグラフである。横軸に時間を縦軸にドリフト量をとっている。ドリフト量の計測は、前述したレーザ干渉計により行っている。このグラフに示されるように、発生するドリフト量は、数十秒経過すれば、10nmあるいはそれ以上となる。
In the stage movement control system using the ultrasonic motor, after the stage is positioned, the stop position after positioning may fluctuate with time due to a change in temperature, a change in elasticity of the driving force transmission means, or the like. . This is called “drift”.
FIG. 9 is a graph showing the amount of drift that occurs after the
最近、精密機械の精度や半導体回路の集積度が上がって、1ナノメートルのオーダーの精度が必要とされている。そこで、この程度のドリフトでも、発生を抑えたいという要望がある。
前述したリニアスケール及びレーザ干渉計を用いて、ステージの停止位置を精密に制御することも考えられるが、制御装置全体が重く、大きく、かつ高価になる。
Recently, the precision of precision machines and the degree of integration of semiconductor circuits have increased, and the precision of the order of 1 nanometer is required. Therefore, there is a desire to suppress the occurrence of such a drift.
Although it is conceivable to precisely control the stop position of the stage using the linear scale and the laser interferometer described above, the entire control device is heavy, large, and expensive.
そこで、本発明は、簡単な構成で、ステージのドリフト量を抑えることのできるステージのドリフト制御装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a stage drift control device that can suppress the drift amount of the stage with a simple configuration.
本発明のステージのドリフト制御装置は、1次元方向に動くステージと、前記ステージに接触可能な接触部材と、前記接触部材を動かす駆動手段と、前記接触部材又はそれに連結された基材を一つの電極として、前記一次元方向の前又は後の位置に他の固定電極を対向させて形成されたコンデンサと、前記コンデンサに交流電圧を印加して、当該コンデンサの静電容量の変化に基づく信号を取り出す信号処理部と、前記信号処理部から出力される信号に基づいて、所定の停止位置に前記ステージを停止させるように、前記駆動手段を制御する停止位置制御手段とを備えるものである。 The stage drift control apparatus according to the present invention includes a stage that moves in a one-dimensional direction, a contact member that can contact the stage, a drive unit that moves the contact member, and the contact member or a substrate connected thereto. As electrodes, a capacitor formed by facing another fixed electrode at a position before or after the one-dimensional direction, and an AC voltage is applied to the capacitor to generate a signal based on a change in capacitance of the capacitor. A signal processing unit to be extracted and a stop position control unit that controls the driving unit to stop the stage at a predetermined stop position based on a signal output from the signal processing unit.
この構成によれば、ステージに接触する部材又はそれに連結された基材を一つの電極として、前記一次元方向の前又は後の位置に他の固定電極を対向させてコンデンサを形成し、当該コンデンサの静電容量の変化に基づく信号を取り出して、この信号に基づき所定の停止位置に前記ステージを停止させるように停止位置制御することができる。したがって、簡単な構成で、ステージのドリフト量を正確に制御することができる。 According to this configuration, a member that contacts the stage or a substrate connected thereto is used as one electrode, and a capacitor is formed with another fixed electrode facing the front or rear position in the one-dimensional direction. It is possible to take out a signal based on the change in the electrostatic capacity and control the stop position so as to stop the stage at a predetermined stop position based on this signal. Therefore, the drift amount of the stage can be accurately controlled with a simple configuration.
前記接触部材は、前記ステージに接触して運動することにより、前記ステージを1次元方向に移動させる部材である場合は、ステージの移動とステージを停止位置制御とを、同一部材を使って実施することができる。したがって、レーザ干渉計などの測定系を別に用意しなくても、コンパクトな構造でステージの停止位置制御を行うことができる。
前記コンデンサは、1つの静電容量で構成してもよいが、前記接触部材又はそれに連結された基材を一つの電極として、前記一次元方向の前及び後の位置にそれぞれ他の電極を固定した2つの静電容量で形成すれば、両静電容量の静電容量の差動信号を取り出すことができるので、位置検出の感度を上げることができる。
When the contact member is a member that moves in a one-dimensional direction by moving in contact with the stage, the stage is moved and the stop position of the stage is controlled using the same member. be able to. Therefore, it is possible to control the stop position of the stage with a compact structure without separately preparing a measurement system such as a laser interferometer.
The capacitor may be composed of a single capacitance, but the contact member or the base material connected to the contact member is used as one electrode, and other electrodes are respectively fixed at the front and rear positions in the one-dimensional direction. If the two capacitances are formed, the differential signal of the capacitances of both capacitances can be taken out, so that the sensitivity of position detection can be increased.
前記接触部材は、前記ステージに接触した摩擦力で、前記ステージを移動させるものであってもよい。
前記ステージの駆動は、超音波モータで行ってもよい。この場合は、前記駆動手段は圧電素子になり、前記接触部材はこの圧電素子に装着され、運動しながら前記ステージに接触した摩擦力でステージを移動させる構造になる。
The contact member may move the stage by a frictional force that contacts the stage.
The stage may be driven by an ultrasonic motor. In this case, the driving means is a piezoelectric element, and the contact member is attached to the piezoelectric element, and the stage is moved by a frictional force that contacts the stage while moving.
以下、本発明の実施の形態を、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明の静電容量を利用してステージの停止位置制御を行うドリフト制御装置の全体構成を示すブロック図である。このドリフト制御装置は、精密加工機械、精密測定装置、半導体製造装置などにおける、ステージの移動制御を行うステージ移動装置の一部として設けられる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a drift control device that performs stage stop position control using the capacitance of the present invention. This drift control device is provided as a part of a stage moving device that controls the movement of the stage in a precision processing machine, a precision measuring device, a semiconductor manufacturing device, or the like.
このドリフト制御装置には、ステージを移動させるための超音波モータMが設けられている。
図2は、超音波モータMの構造を示す平面図である。
超音波モータMは、ステージ2を1次元方向(x方向とする)に移動可能に設置した基台1上に配置されている。超音波モータMのステージ2に接触する部位には、接触部材3が介在されている。この接触部材3と反対側のステージ2の背後、並びにステージ移動方向の前である上流側及びステージ移動方向の後である下流側に、合計3つの固定部が備えられている。これらの固定部を背後固定部4、左固定部5、右固定部6という。各固定部4,5,6は、それぞれ基台1に固定されている。
This drift control device is provided with an ultrasonic motor M for moving the stage.
FIG. 2 is a plan view showing the structure of the ultrasonic motor M.
The ultrasonic motor M is disposed on a
背後固定部4には、平行ヒンジ7を介して振動体8が取り付けられている。前記平行ヒンジ7は、そのたわみにより、振動体8がx方向に振動することができる程度の弾性を持つような形状に形成されている。
振動体8には、有底状の凹部が形成されており、この凹部の底面に前記x方向に垂直なy方向に沿った振動を発生する第1の圧電素子部9が固定されている。また、振動体8の左右側面と、前記左右固定部5,6との間には、x方向に沿った振動を発生させる第2及び第3の圧電素子部10,11が固定されている。
A vibrating
The vibrating
また、第1の圧電素子部9の先端部には銅などの材質からなる円柱基材9aが結合されており、この円柱基材9aの先端面には、ステージ2と接触しながら、摩擦力でステージ2を移動させる前記接触部材3が取り付けられている。前記接触部材3は、アルミナやジルコニア、あるいはアルミナと炭化チタンとの複合材料であるアルティック等により形成されている。
In addition, a
前記圧電素子部9,10,11を構成する圧電材料は、PZT、チタン酸バリウムなどが用いられる。
ステージ移動装置(図示せず)から、前記第2及び第3の圧電素子部10,11に互いに逆位相の交流信号を印加し、かつ、前記第1の圧電素子部9に、前記第2及び第3の圧電素子部10,11に与える交流信号と90度位相の遅れた、又は進んだ交流信号を印加することにより、前記接触部材3をx−y平面内で楕円振動させる。これにより、ステージ2を、接触部材3との摩擦力を用いて+x方向又は−x方向に移動させることができる。ステージ2の移動速度は、交流信号の周波数を調整することにより任意に設定できる。
PZT, barium titanate or the like is used as the piezoelectric material constituting the
An AC signal having an opposite phase is applied to the second and third
以下、本発明の特徴となるコンデンサの構造を説明する。
前記円柱基材9aの側面は、窒化チタン又は炭化チタンなどの金属膜でコーティングされている。なお、円柱基材9aそのものを金属材質で形成してもよい。
そして、前記円柱基材9aの周囲を取り囲む状態で、固定電極体12が基台1に固定されている。この固定電極体12には、図3に示すように、円筒状に繰り抜かれた孔12aが形成されている。
The structure of the capacitor, which is a feature of the present invention, will be described below.
The side surface of the
And the fixed
前記固定電極体12は、セラミックスや合成樹脂などの絶縁体で形成されているが、繰り抜いて形成された孔12aの内部は、左右2極に分離された状態で窒化チタン又は炭化チタンなどの金属膜でコーティングされている。これらの金属膜コーティングを、図3に、"13,14"で示す。
なお、金属膜コーティングするのではなく、固定電極体12の本体を左右分離された2つの金属部材で形成することも可能である。この場合、左右分離された金属部材がそれぞれコンデンサの電極を構成する。
The fixed
Instead of coating the metal film, it is also possible to form the main body of the fixed
前記円柱基材9aは、固定電極体12の繰り抜き孔12aを貫通している。固定電極体12の繰り抜き孔12aの内径は、前記円柱基材9aの円柱の半径よりもわずかに大きく、このため円柱基材9aと金属膜13,14との間には、隙間が存在する。この隙間によって、静電容量を形成する。
このようにして、前記円柱基材9aと、前記固定電極体12との間に2つのコンデンサが形成される。ここで、前記円柱基材9aとその+x側にある固定電極体12の金属膜13との静電容量をC1、前記円柱基材9aとその−x側にある固定電極体12の金属膜14との静電容量をC2と表記する。
The
In this way, two capacitors are formed between the
その静電容量の差(C1−C2)は、前記第1の圧電素子部9の円柱基材9aの+x方向又は−x方向への移動量に比例する。すなわち静電容量の差(C1−C2)は、前記第1の圧電素子部9が+x方向に動けば正の方向に増大し、前記第1の圧電素子部9が−x方向に動けば、負の方向に増大する。
本発明のドリフト制御装置は、図1に示すように、前記静電容量C1,C2と、基板20に搭載したチップコンデンサなどの容量固定コンデンサの静電容量C3,C4とによってブリッジ回路を構成している。このブリッジ回路には発振器21から高周波信号が印加され、ブリッジ回路から前記静電容量C1,C2の差(C1−C2)に応じた差分信号が取り出される。
The difference in capacitance (C1−C2) is proportional to the amount of movement of the
As shown in FIG. 1, the drift control device of the present invention forms a bridge circuit by the capacitances C1 and C2 and the capacitances C3 and C4 of a fixed capacitor such as a chip capacitor mounted on the
この差分信号は、差動増幅器22、増幅器23を通して、ローパスフィルタ24に入力される。ローパスフィルタ24は、電源ラインなどから制御回路に入ってくる高周波ノイズや、空気中を伝わる誘導ノイズ、あるいは半導体回路で発生するノイズを除去する。この結果、ローパスフィルタ24から、ノイズのない差分信号が出力される。
このローパスフィルタ24から出力された差分信号は、加算器25に入力される。一方、この加算器25には、静電容量差分目標値が入力される。これらの差信号は、アナログPID器26に入力されてアナログ信号処理される。そして、両信号の差に比例した信号が出力され、直流ドライバ27において、超音波モータMの駆動信号が生成される。
This differential signal is input to the low-
The difference signal output from the low-
なお、以上の説明では、静電容量C1,C2と容量固定コンデンサの静電容量C3,C4とによってブリッジ回路を構成し、静電容量C1,C2の差(C1−C2)に応じた差分信号を取り出しているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、前記円柱基材9aと前記固定電極体12の片側とで単一の容量可変コンデンサを形成し、その他基板20に搭載した3つの容量固定コンデンサとでブリッジ回路を構成しても、コンデンサの静電容量の変化に基づく信号を取り出すことができる。
In the above description, a bridge circuit is formed by the capacitances C1 and C2 and the capacitances C3 and C4 of the fixed capacitors, and a difference signal corresponding to the difference between the capacitances C1 and C2 (C1−C2). However, the present invention is not limited to this. For example, even if a single variable capacitance capacitor is formed by the
次に、この超音波モータMの駆動信号に基づいて、前記第2及び第3の圧電素子部10,11に互いに逆符号の電圧Vが印加される。この印加により、前記接触部材を+x方向又は−x方向に移動させる。このx方向への移動量は、ステージ移動装置がステージ2を所定の停止位置まで移動させるときの移動量よりもはるかに微小なものである。この移動によって、停止しようとするステージ2の停止位置を微調整して、ステージ2を所望の位置に精度よく停止させることができる。
Next, based on the drive signal of the ultrasonic motor M, voltages V having opposite signs are applied to the second and third
なお、「前記第2及び第3の圧電素子部10,11に互いに逆符号の電圧Vが印加される」と説明したが、この電圧Vは、ステージ2のドリフト量を補正できればよいので、その波形はなんら限定されない。具体的には、図4(a)に示すように短時間持続する矩形パルスであってもよい。あるいは、矩形でなく、図4(b)のように滑らかな形のパルスでもよい。パルスの個数も1つに限定されない。また、前記第2及び第3の圧電素子部10,11の移動量は、電圧Vを時間積分した積分値に応じて決まるので、電圧Vは必ずしも直流でなくてもよい。図4(c)のように1又は複数サイクル連続した減衰する交流信号であってもよい。
It has been described that “the voltages V having opposite signs are applied to the second and third
図5は、今まで述べてきたドリフト制御装置における停止位置制御を含む、ステージの移動制御の全体を説明するためのフローチャートである。
まず、ステージ2が停止した状態で(ステップS1)、ステージ移動装置が、精密加工機械、精密測定装置、半導体製造装置などの親制御装置からステージ移動指示を受ける(ステップS2)。ステージ移動装置は、前記楕円振動を実施して、レーザ干渉計を使いながら、ステージ2を移動させ、目標値への位置決め制御を開始する(ステップS3)。ステージ2が所定の位置まで移動したと判定すると(ステップS4のOK)、ドリフト制御装置は、ステージ移動装置からドリフト制御の開始指示を待つ(ステップS5)。
FIG. 5 is a flowchart for explaining the entire stage movement control including the stop position control in the drift control apparatus described so far.
First, with the
ドリフト制御装置は、ドリフト制御の指示信号を受けると(ステップS6)、ドリフト制御を開始する(ステップS7)。
ドリフト制御装置は、所定時間にわたって前述したドリフト制御を行う。これにより、ステージ停止位置と、前記静電容量差分目標値との差が所定の範囲に入るようになる。ドリフト制御装置は、ステージ移動装置から本発明のドリフト制御終了指示を受信すれば(ステップS8)、ドリフト制御を終了させる(ステップS9)。
When the drift control device receives an instruction signal for drift control (step S6), the drift control device starts drift control (step S7).
The drift control device performs the above-described drift control over a predetermined time. As a result, the difference between the stage stop position and the capacitance difference target value falls within a predetermined range. If the drift control device receives the drift control end instruction of the present invention from the stage moving device (step S8), the drift control device ends the drift control (step S9).
以上の手順により、停止しようとするステージの停止位置を微調整して、ステージ2を所望の位置に停止させることができる。
以上で、本発明の実施の形態を説明したが、本発明の実施は、前記の形態に限定されるものではない。例えば、前記円柱基材9aと、その周囲を取り囲む固定電極体12の形状は、円筒状でなくてもよく、円柱基材9aと固定電極体12の間に、静電容量が形成可能な形状であれば、どのような形状でもよい。また、この静電容量は、円柱基材9aとその両側の金属膜13,14とで2個形成する場合に限らない。前述したように、円柱基材9aとその片側の金属膜13又は14とで1個のみ形成してもよい。また、静電容量を形成する1つの電極を円柱基材9aにより形成していたが、これに限定されず、円柱基材9aに連結する接触部材3で電極を形成してもよい。この場合は、接触部材3の材質として耐磨耗性の導電性材料、例えばサーメット、超硬、高炭素クロム鋼、マルテンサイトを用いればよい。その他、本発明の範囲内で種々の変更を施すことが可能である。
With the above procedure, the
Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments. For example, the shape of the
ステージ2を一次元方向に移動させることができる基台1を製作した。ステージ2の重量は15kg、ガイドはクロスローラガイドを用いた。ステージ2の移動距離は、波長633nmのレーザ干渉計を設置して測定した。測定の分解能は、0.6nmである。
ステージ2の移動距離は100mm、移動速度は最大値で200mm/秒である。
ステージ2の停止位置の制御には、静電容量の差を計測する図1のドリフト制御装置を採用した。ドリフト制御装置における発振器21の発振周波数は500kHz、チップコンデンサの容量C3,C4はそれぞれ100pF、ローパスフィルタ24の遮断周波数は2.5kHzとした。
A
The moving distance of the
For controlling the stop position of the
図6は、ステージ2の移動中における時間ごとの位置変化を示すグラフである。
図7は、ステージ2停止時のドリフト量を示す拡大図である。図7における縦軸のステージ2の位置の測定は、前記レーザ干渉計を用いている。
図7によれば、ステージ2が停止直後には、3nmほどのオーバーシュートが見られたが、その後のステージ2の停止位置のドリフトは1nm未満に収まっている。したがって、ドリフトはほぼ完全に収束したといえる。
FIG. 6 is a graph showing the position change for each time during the movement of the
FIG. 7 is an enlarged view showing the drift amount when the
According to FIG. 7, an overshoot of about 3 nm was observed immediately after the
1 基台
2 ステージ
3 接触部材
4 背後固定部
5 左固定部
6 右固定部
7 平行ヒンジ
8 振動体
9 第1の圧電素子部
9a 円柱基材
10 第2の圧電素子部
11 第3の圧電素子部
12 固定電極体
12a 孔
13,14 金属膜コーティング
20 基板
21 発振器
22 差動増幅器
23 増幅器
24 ローパスフィルタ
25 加算器
26 アナログPID器
27 直流ドライバ
M 超音波モータ
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記ステージに接触可能な接触部材と、
前記接触部材を動かす駆動手段と、
前記接触部材又はそれに連結された基材を一つの電極として、前記一次元方向の前又は後の位置に他の固定電極を対向させて形成したコンデンサと、
前記コンデンサに交流電圧を印加して、当該コンデンサの静電容量の変化に基づく信号を取り出す信号処理部と、
前記信号処理部から出力される信号に基づいて、所定の停止位置に前記ステージを停止させるように、前記駆動手段を制御する停止位置制御手段とを備えることを特徴とするステージのドリフト制御装置。 A stage that moves in one dimension,
A contact member capable of contacting the stage;
Drive means for moving the contact member;
Capacitor formed by using the contact member or the substrate connected thereto as one electrode, and facing another fixed electrode at the front or rear position in the one-dimensional direction,
A signal processing unit that applies an AC voltage to the capacitor and extracts a signal based on a change in capacitance of the capacitor;
A stage drift control device comprising: a stop position control means for controlling the drive means so as to stop the stage at a predetermined stop position based on a signal output from the signal processing section.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004219220A JP4607512B2 (en) | 2004-07-27 | 2004-07-27 | Stage drift controller |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004219220A JP4607512B2 (en) | 2004-07-27 | 2004-07-27 | Stage drift controller |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006042502A true JP2006042502A (en) | 2006-02-09 |
JP4607512B2 JP4607512B2 (en) | 2011-01-05 |
Family
ID=35906871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004219220A Expired - Fee Related JP4607512B2 (en) | 2004-07-27 | 2004-07-27 | Stage drift controller |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4607512B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009053183A (en) * | 2007-07-31 | 2009-03-12 | Kyocera Corp | Device for detecting location variation of stage and transporting device equipped with the same |
CN105835030A (en) * | 2016-06-22 | 2016-08-10 | 江西师范大学 | Dangerous area multifunctional detection vehicle based on wireless control and video transmission |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07298656A (en) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Minolta Co Ltd | Driver and driving method thereof |
JPH10332738A (en) * | 1997-05-29 | 1998-12-18 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | Electrostatic torquer type accelerometer |
JP2002015985A (en) * | 1999-12-21 | 2002-01-18 | Asm Lithography Bv | Balanced positioning system for use in lithographic projection apparatus |
JP2002345270A (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Fujitsu Ltd | Linear stage device |
-
2004
- 2004-07-27 JP JP2004219220A patent/JP4607512B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07298656A (en) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Minolta Co Ltd | Driver and driving method thereof |
JPH10332738A (en) * | 1997-05-29 | 1998-12-18 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | Electrostatic torquer type accelerometer |
JP2002015985A (en) * | 1999-12-21 | 2002-01-18 | Asm Lithography Bv | Balanced positioning system for use in lithographic projection apparatus |
JP2002345270A (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Fujitsu Ltd | Linear stage device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009053183A (en) * | 2007-07-31 | 2009-03-12 | Kyocera Corp | Device for detecting location variation of stage and transporting device equipped with the same |
CN105835030A (en) * | 2016-06-22 | 2016-08-10 | 江西师范大学 | Dangerous area multifunctional detection vehicle based on wireless control and video transmission |
CN105835030B (en) * | 2016-06-22 | 2023-06-09 | 江西师范大学 | Dangerous region multifunctional detection vehicle based on wireless control and video transmission |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4607512B2 (en) | 2011-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102177597B (en) | Semi-resonant driving systems and methods thereof | |
JP6579778B2 (en) | Vibration type driving device, replacement lens including vibration type driving device, imaging device, and method of manufacturing vibration type driving device | |
US9823547B2 (en) | Drive device for vibrating member, vibration type actuator using the same, and imaging apparatus | |
US11336209B2 (en) | Control apparatus, control method, and driving apparatus for vibration-type actuator, and electronic apparatus equipped with vibration-type actuator | |
JP2006503529A (en) | High resolution piezoelectric motor | |
JP2006503529A5 (en) | ||
JP2017022942A (en) | Controller of vibration type actuator, control method of the same, drive unit, imaging apparatus, and automatic stage | |
CN103840702B (en) | The driving means of vibration-type actuator, the driving control method of vibration-type actuator and image pick-up device | |
CN107005177B (en) | Method and apparatus for controlling a piezoelectric motor | |
CN110959254B (en) | Method for closed-loop motion control of ultrasonic motor | |
JP2008125229A (en) | Inertia driving actuator | |
JP2017022943A (en) | Controller of vibration type actuator, control method of the same, drive unit, imaging apparatus, and automatic stage | |
Lee et al. | Ultraprecision XY stage using a hybrid bolt-clamped Langevin-type ultrasonic linear motor for continuous motion | |
JP2009027865A (en) | Micromotion mechanism and microscope device equipped with the same | |
US9665108B2 (en) | Vibration reduction apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article | |
JP4607512B2 (en) | Stage drift controller | |
JP5179918B2 (en) | Ultrasonic motor device | |
JP6448406B2 (en) | Vibrating actuator, control method therefor, and optical instrument | |
JPH01122375A (en) | Controlling method for piezoelectric motor | |
JP4522055B2 (en) | Driving method and driving apparatus for ultrasonic motor | |
JP2005261025A (en) | Ultrasonic motor, moving device and its driving method | |
JP7016906B2 (en) | Vibration type actuator control device, drive device, replacement lens, image pickup device, automatic stage, and vibration type actuator control method | |
JPH10307001A (en) | Method and device for measuring fine-surface shape | |
JPH11237403A (en) | External force detecting sensor and its offset voltage regulating method | |
JP2004282816A (en) | Drive method of ultrasonic motor and drive gear thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070618 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100218 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100916 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101007 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |