JP2006032570A - Spin filter and spinning state separating method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spin filter capable of obtaining a spin deflection angle sufficient for separating the spinning state of different carriers propagating through a semiconductor, and to provide a spinning state separating method. <P>SOLUTION: When a gate insulation layer 12 of different thickness is inserted in the y-axis direction, an effective gate voltage being applied to a two-dimensional electron gas channel 14 has a gradient in the spin filter 10, and the g-factor of the two-dimensional electron gas channel 14 beneath a gate electrode 11 causes spatial gradient in the y-axis direction. When an electron spin propagates through that space in the x-axis direction, spin upward carrier and downward carrier receive a force in reverse direction and being separated spatially. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、半導体中を伝搬するキャリアのスピン状態を分離するスピンフィルタおよびスピン状態分離方法に関する。   The present invention relates to a spin filter and a spin state separation method for separating spin states of carriers propagating in a semiconductor.

従来の半導体デバイスにおいては、電子の有する電荷のみを用いてきた。電子は電荷とともにスピンの自由度を有すが、これまで、電子のもつスピンの性質を積極的に用いたデバイスはなかった。最近、半導体デバイスは、微細化の限界に到達しつつあり、電子の有する「電荷」と「スピン」を同時に利用することにより、従来にない機能を有する新しいデバイスを標榜したスピントロニクスの分野が注目されるようになってきた。半導体中でスピンデバイスを実現するには、(1)スピン偏極したキャリアの生成、(2)スピンの輸送、記憶、演算操作、(2)最終的なスピン状態の検出、という操作手法を確立する必要がある。   In conventional semiconductor devices, only the charge of electrons has been used. Electrons have a spin degree of freedom as well as an electric charge, but until now no device has actively used the spin properties of electrons. Recently, semiconductor devices are reaching the limit of miniaturization, and the field of spintronics has been attracting attention as a new device with an unprecedented function by simultaneously using the "charge" and "spin" possessed by electrons. It has come to be. In order to realize a spin device in a semiconductor, an operation method has been established: (1) generation of spin-polarized carriers, (2) spin transport, storage, arithmetic operation, and (2) final spin state detection. There is a need to.

このうち、半導体中にスピン偏極した電子を生成する最も確立された技術として、円偏光した光により価電子帯から伝導体にスピン偏極した電子を励起する方法がある。しかしながら、この方法の場合、選択則による制限により100%スピン偏極した電子を得るのは不可能であり、電子とともに正孔が対となって生成されるため、電子−正孔再結合によりスピンの緩和時間を充分長くすることができないという問題があった。   Among these, as the most established technique for generating spin-polarized electrons in a semiconductor, there is a method of exciting spin-polarized electrons from a valence band to a conductor with circularly polarized light. However, in this method, it is impossible to obtain 100% spin-polarized electrons due to the restriction by the selection rule, and holes are generated in pairs with electrons. There has been a problem that the relaxation time of cannot be made sufficiently long.

また、強磁性体電極から半導体へのスピン注入は、金属と半導体のコンダクタンスの違いから半導体中で大きなスピン偏極度を得るのは困難であることが理論的に指摘されている。このようなコンダクタンスの違いを克服する方法として、強磁性体と半導体の間にトンネルバリアを挿入する方法が提案されているが、現在のところ依然大きなスピン偏極度は得られていない。   Further, it has been theoretically pointed out that spin injection from a ferromagnetic electrode to a semiconductor makes it difficult to obtain a large degree of spin polarization in the semiconductor due to the difference in conductance between the metal and the semiconductor. As a method for overcoming such a difference in conductance, a method of inserting a tunnel barrier between a ferromagnet and a semiconductor has been proposed, but at present, a large degree of spin polarization has not been obtained.

最近、III族を一部Mnで置換したIII-V族希薄磁性半導体が合成できるようになってきたが、これに関しても、キャリアはp型で、スピン軌道相互作用の影響を受けスピン緩和が早く、また、強磁性転位温度(キュリー温度Tc)が室温以下(Tc=110K)であるという問題がある。   Recently, it has become possible to synthesize III-V dilute magnetic semiconductors in which Group III is partially substituted with Mn, but also in this regard, carriers are p-type and spin relaxation is fast due to the influence of spin-orbit interaction. Also, there is a problem that the ferromagnetic dislocation temperature (Curie temperature Tc) is below room temperature (Tc = 110 K).

このような状況の中、スピン偏極した電子の生成と輸送、スピン状態の検出という観点から、Stern−Gerlach効果(以下、SG効果と呼ぶ)を用いた不均一磁場によるスピンフィルタが提案されている(例えば、非特許文献1参照。)
図8は、SG効果を概念的に示す図である。Stern−Gerlach(1922)は、スピン1/2を持った銀(Ag)の原子をオーブン炉からスリットを介して取り出し、この不均一な磁場勾配を通過させる実験を行うことにより、上向きおよび下向きスピンをそれぞれ有する原子e1およびe2を空間的に分離することに成功した。
Under such circumstances, from the viewpoint of generation and transport of spin-polarized electrons, and detection of the spin state, a spin filter using a non-uniform magnetic field using the Stern-Gerach effect (hereinafter referred to as SG effect) has been proposed. (For example, see Non-Patent Document 1.)
FIG. 8 is a diagram conceptually showing the SG effect. Stern-Gerlach (1922) developed a spin-up and down-spin by conducting an experiment in which silver (Ag) atoms having a spin 1/2 are removed from the oven furnace through a slit and passed through this non-uniform magnetic field gradient. Succeeded in spatially separating atoms e 1 and e 2 each having

尚、非特許文献1においては、このSG効果を用いて、GaAs(ガリウムヒ素)の一次元または二次元電子ガスと不均一磁場を組み合わせたスピンフィルタが提案されている。
J. Wroebel, T. Dietl, K. Fronc, A. Lusakowski, M. Czeczott, G. Grabecki, R. Hey, and K. H. Ploog, Physica E 10, 91 (2001).
Non-Patent Document 1 proposes a spin filter that combines a one-dimensional or two-dimensional electron gas of GaAs (gallium arsenide) and a non-uniform magnetic field using the SG effect.
J. Wroebel, T. Dietl, K. Fronc, A. Lusakowski, M. Czeczott, G. Grabecki, R. Hey, and KH Ploog, Physica E 10, 91 (2001).

しかしながら、上述したSG効果を用いたスピンフィルタは、半導体チャネルでの電子速度が速く、不均一磁場を通過する相互作用時間が短くなるため上向き、下向きスピンの充分な偏向角度が得られないため、実現するのは不可能であった。   However, since the spin filter using the SG effect described above has a high electron velocity in the semiconductor channel and the interaction time passing through the inhomogeneous magnetic field is short, a sufficient deflection angle of the upward and downward spins cannot be obtained. It was impossible to realize.

また、磁性体を用いた不均一磁場は、二次元電子ガスに垂直な成分をゼロにすることは困難であり、この磁場の垂直成分は電子に対するローレンツ力として作用するため、スピン上向き、下向きにかかわらず、一定方向に軌道を曲げる効果として働き、SG効果によるキャリアスピンの空間分離を防げるという問題点があった。   In addition, inhomogeneous magnetic field using a magnetic material, it is difficult to make the component perpendicular to the two-dimensional electron gas zero, and the perpendicular component of this magnetic field acts as Lorentz force on electrons, so spin upwards and downwards. Regardless, there is a problem that it works as an effect of bending the trajectory in a certain direction and prevents the carrier spin space separation due to the SG effect.

元々、SG効果の実験は、上述したように電荷ゼロでスピン1/2を持った銀の原子が用いて行われたため、電荷を持った原子あるいは電子のSG効果については、ローレンツ力を受けることからSG効果の検証は困難であることが、予言されてきた。その理由は、ローレンツ力によりスピンの偏向角度に不確定性が生じることによる。その理由は次の通りである。電磁気学によれば、磁場Bは、磁荷が存在しないため▽・B=0を満たす。

Figure 2006032570
Originally, the SG effect experiment was performed using silver atoms with zero charge and spin 1/2 as described above, and therefore the SG effect of charged atoms or electrons is subject to Lorentz force. Therefore, it has been predicted that it is difficult to verify the SG effect. The reason is that uncertainty is generated in the spin deflection angle due to the Lorentz force. The reason is as follows. According to electromagnetism, the magnetic field B satisfies ▽ · B = 0 because there is no magnetic charge.
Figure 2006032570

ここで、簡単のため、図8の座標系において、∂B/∂x=0を仮定すると、y軸方向の磁場勾配∂By/∂yがゼロでなければ、キャリアの伝搬方向に垂直なz軸方向にもゼロでない磁場勾配∂Bz/∂z=−(∂By/∂y)が存在する(この場合、z方向の磁場成分の大きさ|∂Bz/∂z|は最大となる)。 Here, for the sake of simplicity, assuming that ∂B x / すx = 0 in the coordinate system of FIG. 8, if the magnetic field gradient ∂B y / ∂y in the y-axis direction is not zero, it is perpendicular to the carrier propagation direction. There is also a non-zero magnetic field gradient ∂B z / ∂z = − (∂B y / ∂y) in the z-axis direction (in this case, the magnitude of the magnetic field component in the z direction | ∂B z / ∂z | Maximum).

このz軸方向の磁場勾配∂Bz/∂zの存在により、z軸方向に分布した電子は、異なった力を受け、スピン偏向角度に不確定性ΔφSGが生じることになる。即ち、電荷を持ったキャリアは、ローレンツ力を受けるため、スピン偏向角度に不確定性が生じ、この偏向角度の広がりがSG効果観測の本質的な問題点であることが指摘されている。 Due to the presence of the magnetic field gradient ∂B z / ∂z in the z-axis direction, electrons distributed in the z-axis direction receive different forces, and an uncertainty Δφ SG occurs in the spin deflection angle. That is, it is pointed out that carriers with electric charges are subjected to Lorentz force, and therefore the spin deflection angle is uncertain, and the widening of this deflection angle is an essential problem in the observation of the SG effect.

本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、不均一磁場やを用いなくても、半導体中を伝搬するキャリアの異なるスピン状態を分離するのに充分なスピンの偏向角度を得ることができるスピンフィルタおよびスピン状態分離方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems. A spin deflection angle sufficient to separate different spin states of carriers propagating in a semiconductor can be obtained without using a non-uniform magnetic field. It is an object to provide a spin filter and a spin state separation method that can be obtained.

上記目的を達成するため、請求項1記載の本発明は、半導体中を伝搬するキャリアのスピン状態毎にキャリアを分離するスピンフィルタであって、前記キャリアが伝搬する方向に対して垂直な方向に均一磁場を印加する均一磁場印加手段と、前記キャリアを閉じこめて、前記キャリアを伝搬する半導体チャネルと、前記半導体チャネルにゲート電圧を印加する電圧印加手段と、を有し、前記ゲート電圧によって、前記半導体チャネルのg−因子を、印加された磁場方向と同一方向に空間勾配をもたせて非一様となるように制御することを特徴とする。   In order to achieve the above object, the present invention according to claim 1 is a spin filter for separating carriers for each spin state of carriers propagating in a semiconductor, in a direction perpendicular to a direction in which the carriers propagate. A uniform magnetic field applying means for applying a uniform magnetic field; a semiconductor channel for confining the carrier and propagating the carrier; and a voltage applying means for applying a gate voltage to the semiconductor channel. The g-factor of the semiconductor channel is controlled to be non-uniform with a spatial gradient in the same direction as the applied magnetic field direction.

請求項2記載の本発明は、請求項1記載の発明において、前記スピンフィルタは、前記半導体チャネル上に厚さの異なる層を挿入し、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the spin filter inserts layers having different thicknesses on the semiconductor channel, so that the g-factor of the semiconductor channel has a spatial gradient. Features.

請求項3記載の本発明は、請求項1記載の発明において、前記ゲート電圧印加手段は、印加する電圧が異なる複数のゲート電極を備え、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the gate voltage applying means includes a plurality of gate electrodes to be applied with different voltages, and the g-factor of the semiconductor channel has a spatial gradient. Features.

請求項4記載の本発明は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の発明において、前記半導体チャネルは、弾性散乱体が導入されていることを特徴とする。   The present invention according to claim 4 is the invention according to any one of claims 1 to 3, wherein an elastic scatterer is introduced into the semiconductor channel.

請求項5記載の本発明は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の発明において、磁性材料を用いたスピン検出用の電極を出力側に有することを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to fourth aspects, an electrode for spin detection using a magnetic material is provided on the output side.

請求項6記載の本発明は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発明において、磁性材料を用いたスピン注入用の電極を入力側に有することを特徴とする。   The present invention according to claim 6 is the invention according to any one of claims 1 to 5, wherein an electrode for spin injection using a magnetic material is provided on the input side.

請求項7記載の本発明は、半導体中を伝搬するキャリアのスピン状態毎にキャリアを分離するスピン状態分離方法であって、前記キャリアを閉じこめて、前記キャリアを伝搬させる半導体チャネルに、前記キャリアが伝搬する方向に対して垂直な方向に均一磁場を印加し、前記半導体チャネルにゲート電圧を印加し、前記ゲート電圧によって、前記半導体チャネルのg−因子を、印加された磁場方向と同一方向に空間勾配をもたせて非一様となるように制御することを特徴とする。   The present invention according to claim 7 is a spin state separation method for separating carriers for each spin state of carriers propagating in a semiconductor, wherein the carriers are confined in a semiconductor channel for propagating the carriers. A uniform magnetic field is applied in a direction perpendicular to the propagation direction, a gate voltage is applied to the semiconductor channel, and the g-factor of the semiconductor channel is spaced in the same direction as the applied magnetic field direction by the gate voltage. It is characterized by controlling so as to be non-uniform with a gradient.

請求項8記載の本発明は、請求項7記載の発明において、前記半導体チャネルを備えるスピンフィルタは、前記半導体チャネル上に厚さの異なる層を挿入し、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする。   According to an eighth aspect of the present invention, in the spin filter including the semiconductor channel according to the seventh aspect, a layer having a different thickness is inserted on the semiconductor channel, and a spatial gradient is applied to a g-factor of the semiconductor channel. It is characterized by having.

請求項9記載の本発明は、請求項7記載の発明において、前記ゲート電圧を印加するゲート電圧印加手段は、印加する電圧が異なる複数のゲート電極を備え、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする。   According to a ninth aspect of the present invention, in the seventh aspect of the present invention, the gate voltage applying means for applying the gate voltage includes a plurality of gate electrodes with different voltages to be applied, and a space is provided in the g-factor of the semiconductor channel. It is characterized by having a gradient.

請求項10記載の本発明は、請求項7乃至9のいずれか1項に記載の発明において、前記半導体チャネルは、弾性散乱体が導入されていることを特徴とする。   According to a tenth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the seventh to ninth aspects, an elastic scatterer is introduced into the semiconductor channel.

請求項11記載の本発明は、請求項7乃至10のいずれか1項に記載の発明において、磁性材料を用いた電極を出力側に備えて、前記キャリアのスピン状態を検出することを特徴とする。   The invention according to claim 11 is the invention according to any one of claims 7 to 10, characterized in that an electrode using a magnetic material is provided on the output side to detect the spin state of the carrier. To do.

請求項12記載の本発明は、請求項7乃至11のいずれか1項に記載の発明において、磁性材料を用いた電極を入力側に備えて、スピン偏極したキャリアを注入することを特徴とする。   A twelfth aspect of the present invention is the method according to any one of the seventh to eleventh aspects, wherein an electrode using a magnetic material is provided on the input side, and spin-polarized carriers are injected. To do.

本発明によれば、半導体チャネルのg−因子をゲート電圧により制御可能であるので、g−因子の空間的勾配を利用して、Stern-Gerlach効果を半導体中で実現することができる。   According to the present invention, since the g-factor of the semiconductor channel can be controlled by the gate voltage, the Stern-Gerlach effect can be realized in the semiconductor using the spatial gradient of the g-factor.

この結果、不均一磁場を用いることなく、半導体中を伝搬するキャリアの異なるスピン状態を分離するのに充分なスピンの偏向角度を得ることができる。   As a result, a spin deflection angle sufficient to separate different spin states of carriers propagating in a semiconductor can be obtained without using a non-uniform magnetic field.

以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<基本的事項>
まず、本発明を実施する上での前提となる基本的事項について説明する。以下に説明する基本的事項は、本発明の全ての実施形態に共通である。
<Basic matters>
First, basic matters that are preconditions for carrying out the present invention will be described. The basic matters described below are common to all embodiments of the present invention.

g−因子は半導体のバンド構造と電子のエネルギーに依存し、次式で与えられている(A. A. Kiselev, E. L. Ivchenko, and U. Rossler, Phys. Rev. B58, 16353(1998)を参照)。

Figure 2006032570
The g-factor depends on the semiconductor band structure and electron energy, and is given by the following equation (see AA Kiselev, EL Ivchenko, and U. Rossler, Phys. Rev. B58, 16353 (1998)).
Figure 2006032570

ここで、Eは伝導帯のバンド端からのエネルギーでフェルミエネルギーに対応する。またEgはエネルギーギャップ、goは自由電子のg−因子、Δsoは、価電子帯のスピン軌道相互作用による分離エネルギー、2p2 cv/moは伝導帯と価電子帯のバンド間マトリクスエレメントである。したがって、g−因子は物質固有のパラメータと言える。しかしながら最近、半導体のヘテロ構造を用いて、電子波動関数の異なった物質間の存在確率の割合をゲート電圧によって変えることにより、g−因子の値をゲート電圧によって制御可能であることが実験的に検証されている(G.Salis, Y. Kato, K. Ensslin, D. C. Driscoll, A. C. Gossard, and D. D. Awschalom, Nature 414, 619(2001)、H. W. Jiang and E. Yablonovitch, Phys. Rev. B64, R041307(2001)、J. Nitta, Y. Lin, T. Akazaki, and T. Koga, Appl. Phys. Lett. 83,4565(2003)を参照)。 Here, E is energy from the band edge of the conduction band and corresponds to Fermi energy. The Eg is the energy gap, g o is the free electron g- factor, delta so the separation energy due to spin-orbit interaction in the valence band, the 2p 2 cv / m o interband matrix elements of the conduction band and the valence band It is. Therefore, the g-factor is a substance-specific parameter. However, recently, it has been experimentally shown that the g-factor value can be controlled by the gate voltage by changing the proportion of the existence probability between materials having different electron wave functions using the semiconductor heterostructure. (G. Salis, Y. Kato, K. Ensslin, DC Driscoll, AC Gossard, and DD Awschalom, Nature 414, 619 (2001), HW Jiang and E. Yablonovitch, Phys. Rev. B64, R041307 ( 2001), J. Nitta, Y. Lin, T. Akazaki, and T. Koga, Appl. Phys. Lett. 83,4565 (2003)).

図1は、InAsをInGaAsチャネルに挿入した半導体ヘテロ構造においてコインシデンス法によって求めたg−因子のゲート電圧依存性を示している。図1(a)は、半導体の各レイヤーを示しており、図1(b)は、図1(a)に示す半導体の厚さ方向に対するポテンシャルエネルギー及び電子の存在確立を示している。図1(a)及び図1(b)より、電子はInAsチャネルに局在していることがわかる。また、図1(c)によれば、ゲート電圧Vgを増加するにつれ有効g−因子gは減少し、約4から3程度まで変化することが確認できる。これは、ゲート電圧を増加することにより、もともとg−因子の大きなInAsチャネルに存在していた電子波動関数の存在確率〈ΦInAs〉が減少するとともに、g−因子の小さなInGaAs中に存在する割合〈ΦInGaAs〉が増えることによって、全体のg−因子がゲート電圧によって変化したものである。即ち、
total(E)=gInAs(E)〈ΦInAs〉+gInGaAs(E)〈ΦInGaAs〉 (2)

である。この結果は、半導体のヘテロ構造をうまく設計することにより、波動関数の染み出し効果をゲート電圧によって制御することによりg−因子を電気的に制御することが可能であることを示している。また、この結果は一様な磁場が印加された系において、ゲート電圧によってg−因子に空間的な勾配をつければ、Zeeman効果によるスピン分離エネルギーgμBBが空間的に変化することになる。ここで、gはg−因子、μBはボーア磁子、Bは磁場である。本発明は、このスピン分離エネルギーの空間勾配を利用し、SG効果によりスピンフィルタを構成したものである。磁場は半導体二次元電子ガスに平行な、均一な磁場を印加すればよい。したがって、本発明においては、図8に示すz軸方向の磁場成分は常にゼロとすることが可能であり、ローレンツ力によるキャリアの軌道を曲げる効果を排除できるという特徴がある。
FIG. 1 shows the gate voltage dependence of the g-factor obtained by the coincidence method in a semiconductor heterostructure in which InAs is inserted into an InGaAs channel. FIG. 1A shows each layer of the semiconductor, and FIG. 1B shows the potential energy and the existence establishment of electrons in the thickness direction of the semiconductor shown in FIG. 1A and 1B show that electrons are localized in the InAs channel. Further, according to FIG. 1C, it can be confirmed that the effective g-factor g * decreases as the gate voltage Vg increases, and changes from about 4 to about 3. This is because, by increasing the gate voltage, the existence probability <Φ InAs > of the electron wave function originally present in the InAs channel having a large g-factor decreases, and the ratio existing in InGaAs having a small g-factor. By increasing <Φ InGaAs >, the overall g-factor is changed by the gate voltage. That is,
g total (E) = g InAs (E) <Φ InAs > + g InGaAs (E) <Φ InGaAs > (2)

It is. This result shows that the g-factor can be electrically controlled by controlling the leakage effect of the wave function by the gate voltage by designing the heterostructure of the semiconductor well. Also, as a result, in a system to which a uniform magnetic field is applied, if the g-factor is given a spatial gradient by the gate voltage, the spin separation energy gμ B B due to the Zeeman effect changes spatially. Here, g is a g-factor, μ B is a Bohr magneton, and B is a magnetic field. In the present invention, a spin filter is configured by the SG effect using the spatial gradient of the spin separation energy. The magnetic field may be a uniform magnetic field that is parallel to the semiconductor two-dimensional electron gas. Therefore, the present invention is characterized in that the magnetic field component in the z-axis direction shown in FIG. 8 can always be zero, and the effect of bending the carrier trajectory by the Lorentz force can be eliminated.

ここで、図8に示すSG効果について説明する。Zeeman効果による、ハミルトニアンは、磁場B中において次式で与えられる。   Here, the SG effect shown in FIG. 8 will be described. The Hamiltonian due to the Zeeman effect is given by the following equation in the magnetic field B.

z=sgμBB (3)
ここで、スピンs=±1/2、gはg−因子、μBはボーア磁子、Bが磁場を表す。このZeemanエネルギーの空間変化は、ポテンシャルの空間変化に対応し電子スピンに対する力を及ぼす。例えば、図8に示す磁場Bのy軸成分に空間的勾配を与えると

Figure 2006032570
H z = sgμ B B (3)
Here, spin s = ± 1/2, g is a g-factor, μ B is a Bohr magneton, and B is a magnetic field. This spatial change of Zeeman energy corresponds to the spatial change of potential and exerts a force on electron spin. For example, when a spatial gradient is given to the y-axis component of the magnetic field B shown in FIG.
Figure 2006032570

の力を受けるが、y軸方向に対し上向き、下向きスピンはそれぞれ反対方向に力を受け、スピンがこの空間的な磁場勾配の中を伝搬する際、分離が生じる。このSG効果によるスピンの偏向角度φSGは以下のように与えられる。

Figure 2006032570
However, spins that are upward and downward with respect to the y-axis direction receive forces in opposite directions, and separation occurs when the spin propagates through this spatial magnetic field gradient. The spin deflection angle φ SG due to the SG effect is given as follows.
Figure 2006032570

ここで、Δtは、電子スピンが不均一磁場中を伝搬する時間に対応し、y軸方向に運動量Δpyの変化を生じることに対応している。pは電子スピンのx軸方向の運動量成分、F・Δtは電子スピンがy軸方向に受ける力積である。 Here, Delta] t corresponds to the time the electron spin propagates in nonuniform magnetic field, which corresponds to result in a change in momentum Delta] p y in the y-axis direction. p x is the momentum component of the electron spin in the x-axis direction, and F y · Δt is the impulse that the electron spin receives in the y-axis direction.

本発明の要点は、ゲート電圧によって制御可能なg−因子に空間的な勾配をもたせ、スピン上向き下向きのエネルギー差Δ=±(1/2)gμBBに空間勾配をもたせることによりスピン上向きキャリアと下向きキャリアに逆向きの力を与え、空間分離させるスピンフィルタを構成することにある。これは、上述したSG効果と対比させて考えると、磁場Bの空間勾配の代わりに、g−因子の空間的勾配によりスピン分離エネルギーに空間勾配をもたせたスピンフィルタ機能を実現することに対応する。この場合においては、磁場Bの空間勾配が存在しないため、二次元電子化ガスに垂直なz軸方向の磁場をゼロにし、SG効果の妨げとなるローレンツ効果を排除できる。 The main point of the present invention is that the g-factor that can be controlled by the gate voltage has a spatial gradient, and the spin upward carrier has a spatial gradient in the upward energy difference Δ = ± (1/2) gμ B B. In other words, the spin filter is configured to apply a reverse force to the downward carrier and perform spatial separation. This corresponds to the realization of a spin filter function in which the spin separation energy is given a spatial gradient by the spatial gradient of the g-factor instead of the spatial gradient of the magnetic field B, in comparison with the SG effect described above. . In this case, since there is no spatial gradient of the magnetic field B, the magnetic field in the z-axis direction perpendicular to the two-dimensional digitized gas can be made zero, and the Lorentz effect that hinders the SG effect can be eliminated.

上述したように、従来の強磁性体が作る磁場勾配を用いたスピンフィルタでは、電子がスピンとともに電荷をもっていることから、二次元電子ガス平面(x−y平面)に垂直な磁場成分によりローレンツ力の影響を受け電子スピンの軌道が曲げられる効果を無視できず、スピンフィルタを構成することが困難であった。   As described above, in a conventional spin filter using a magnetic field gradient created by a ferromagnetic material, electrons have a charge together with spin, and therefore, the Lorentz force is generated by a magnetic field component perpendicular to the two-dimensional electron gas plane (xy plane). The effect of bending the electron spin trajectory cannot be ignored, and it is difficult to construct a spin filter.

これに対して、本発明では、ゲート電圧によって制御可能なg−因子の空間勾配によって形成されるスピンが感じるポテンシャルの勾配をもちいるため、不均一磁場は一切必要としない。したがって、ローレンツ力により電子軌道が曲がる効果は全く無視できるものである。SG効果との類推により、g−因子に空間的勾配g(y)を与えると、上向き、下向きスピンは、それぞれ反対方向に力を受け、次式のように表せる。

Figure 2006032570
On the other hand, in the present invention, since the gradient of the potential felt by the spin formed by the spatial gradient of the g-factor that can be controlled by the gate voltage is used, no inhomogeneous magnetic field is required at all. Therefore, the effect of bending the electron trajectory due to the Lorentz force is completely negligible. By analogy with the SG effect, when a spatial gradient g (y) is given to the g-factor, upward and downward spins receive forces in opposite directions, and can be expressed as follows.
Figure 2006032570

SG効果と同様にスピンの空間的分離が可能となる。このSG効果に起因したスピンの偏向角度φSGは、

Figure 2006032570
Similar to the SG effect, spin separation can be achieved. The spin deflection angle φ SG due to the SG effect is
Figure 2006032570

で与えられる。ここで、Δt=L/v、p=mである。尚、Lは半導体チャネルの長さ、vはフェルミ速度、mは電子の有効質量である。InAsの伝導帯端でのg−因子は−15、In0.53Ga0.47Asのg−因子は−4であるが、InとGaの組成比を連続的に変化させたチャネルを形成することにより、ゲート電圧によるg−因子の変化分として|Δg|=10程度まで期待できる。 Given in. Here, Δt = L / v F and p x = m * v F. Note that L is the length of the semiconductor channel, v F is the Fermi velocity, and m * is the effective mass of the electrons. By forming a channel in which the g-factor at the conduction band edge of InAs is −15 and the g-factor of In 0.53 Ga 0.47 As is −4, but the composition ratio of In and Ga is continuously changed. It can be expected that | Δg | = 10 as a change in g-factor due to the gate voltage.

また、最近では、極めてキャリア濃度の低い二次元電子ガスを形成することが可能になってきており、1×1010cm-2以下の低濃度が実現されている(Y.Hirayama, K. Muraki, and T. Saku, Appl. Phys. Lett. 72,1745(1998)参照。)。 Recently, it has become possible to form a two-dimensional electron gas having a very low carrier concentration, and a low concentration of 1 × 10 10 cm −2 or less has been realized (Y. Hirayama, K. Muraki). , and T. Saku, Appl. Phys. Lett. 72, 1745 (1998)).

このような低濃度キャリアによりフェルミ速度vFを小さくすることが可能である。例えば、チャネルの幅Wを1μm、スピン軌道相互作用がy軸方向に空間変化している領域をL=3μm、キャリア濃度をns=1×1010cm-2、有効質量m=0.03とすると、フェルミ速度はvF=96700m/secとなる。均一な外部磁場By=1Tを印加するとして、上の式に代入すると充分な偏向角度φSG=28.5[deg]が得られる。また、g−因子の空間変化する領域Lを長くすることにより、スピンの偏向角度をさらに大きくすることが可能となる。例えば、L=10μmにするとφSG=61.2degとなり充分なスピンの偏向角度が得られる。 The Fermi velocity v F can be reduced by such a low concentration carrier. For example, the channel width W is 1 μm, the region where the spin orbit interaction is spatially changed in the y-axis direction is L = 3 μm, the carrier concentration is n s = 1 × 10 10 cm −2 , the effective mass m * = 0. Assuming 03, the Fermi velocity is v F = 96700 m / sec. If a uniform external magnetic field By = 1T is applied, a sufficient deflection angle φ SG = 28.5 [deg] can be obtained by substituting into the above equation. In addition, it is possible to further increase the spin deflection angle by making the g-factor spatially changing region L longer. For example, when L = 10 μm, φ SG = 61.2 deg and a sufficient spin deflection angle can be obtained.

<スピンフィルタの装置構成>
図2は、上述した基本的事項のもとに構成されたスピンフィルタ1の機能構成の概略を示すブロック図である。図2に示すスピンフィルタ1は、キャリアを閉じこめて、伝搬する半導体チャネル2、半導体チャネルに対して均一な磁場を印加する均一磁場印加部3、半導体チャネル2にゲート電圧を印加するゲート電圧印加部4、印加されたゲート電圧により半導体チャネル2のg因子の空間勾配を生成するg因子空間勾配生成部5を備えている。
<Device configuration of spin filter>
FIG. 2 is a block diagram showing an outline of a functional configuration of the spin filter 1 configured based on the basic items described above. The spin filter 1 shown in FIG. 2 confins carriers and propagates a semiconductor channel 2, a uniform magnetic field application unit 3 that applies a uniform magnetic field to the semiconductor channel, and a gate voltage application unit that applies a gate voltage to the semiconductor channel 2. 4. A g factor spatial gradient generation unit 5 is provided that generates a g factor spatial gradient of the semiconductor channel 2 by the applied gate voltage.

半導体チャネル2は、キャリアの一つの空間次元方向に対する可動領域が他の二つの空間次元方向に対する可動領域に比べて無視できる程度に小さい二次元的な領域を有しており、キャリアはこの領域中で二次元電子ガスとして振舞う(以後、この二次元領域を「二次元電子ガスチャネル」と呼ぶ)。この二次元電子ガスチャネルは、例えば半導体量子井戸構造を形成することによってキャリアを二次元領域に閉じ込めている。このように空間一次元方向に幅の狭い半導体量子井戸構造は、よく知られているように、例えば具体的には、GaAsの薄膜の両面をAl0.3Ga0.7Asで挟んで積層したり、In0.53Ga0.47As薄膜の両面をInPで挟んで積層したりして構成することができる。 The semiconductor channel 2 has a two-dimensional region in which the movable region in one spatial dimension direction of the carrier is so small that it can be ignored as compared with the movable regions in the other two spatial dimension directions. It behaves as a two-dimensional electron gas (hereinafter, this two-dimensional region is referred to as a “two-dimensional electron gas channel”). The two-dimensional electron gas channel confines carriers in a two-dimensional region by forming a semiconductor quantum well structure, for example. As is well known, for example, a semiconductor quantum well structure having a narrow width in the one-dimensional direction of space, for example, can be formed by laminating both surfaces of a GaAs thin film with Al 0.3 Ga 0.7 As, or A 0.53 Ga 0.47 As thin film can be formed by sandwiching and laminating both surfaces of InP.

均一磁場印加部3は、例えば、例えば一又は複数の強磁性体を用いて構成される。   The uniform magnetic field application unit 3 is configured using, for example, one or a plurality of ferromagnetic materials.

ゲート電圧印加部4は、ゲート電極下の半導体チャネル2に有効なゲート電圧を印加するものである。尚、ゲート電極は、トップゲート、バックゲートのいずれであってもよいし、トップゲート及びバックゲートの2つのゲート電極を備えるものであってもよい。   The gate voltage application unit 4 applies an effective gate voltage to the semiconductor channel 2 below the gate electrode. The gate electrode may be either a top gate or a back gate, and may include two gate electrodes, a top gate and a back gate.

g因子空間勾配生成部5は、本発明の特徴的な部位であり、具体的には、後述するように各態様が考えられる。以下、具体的なスピンフィルタの構成について説明する。   The g-factor space gradient generation unit 5 is a characteristic part of the present invention, and specifically, various modes can be considered as described later. Hereinafter, a specific configuration of the spin filter will be described.

図3(a)は、本発明の一実施例に係るスピンフィルタ10をz軸方向から見た概略図であり(上面図)、図3(b)は、図3(a)のA−B断面図である。   3A is a schematic view of the spin filter 10 according to one embodiment of the present invention as viewed from the z-axis direction (top view), and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AB of FIG. It is sectional drawing.

図3(b)に示すように、スピンフィルタ10は、y軸方向に厚さの異なったゲート絶縁層12を挿入することにより、二次元電子ガスチャネル14にかかる有効なゲート電圧の勾配が生じるため、ゲート電極11の下にある二次元電子ガスチャネル14のg−因子はy軸方向に空間的に勾配を生じるようになっている。従って、この空間を電子スピンがx軸方向に伝搬する間に、スピン上向きキャリアと下向きキャリアは逆方向に力を受け、スピンは空間的に分離する。例えば、ゲート電極11で覆われた後方にY型の分岐を設けておけば、端子T1には上向きスピン、端子T2には下向きスピンが流れ込む。尚、図3においては、磁場Bはy軸方向に均一に印加されている。   As shown in FIG. 3B, the spin filter 10 has an effective gate voltage gradient applied to the two-dimensional electron gas channel 14 by inserting the gate insulating layers 12 having different thicknesses in the y-axis direction. Therefore, the g-factor of the two-dimensional electron gas channel 14 below the gate electrode 11 is spatially inclined in the y-axis direction. Accordingly, while electron spin propagates in this space in the x-axis direction, spin-up carriers and spin-down carriers receive forces in opposite directions, and the spins are spatially separated. For example, if a Y-shaped branch is provided behind the gate electrode 11, an upward spin flows into the terminal T1 and a downward spin flows into the terminal T2. In FIG. 3, the magnetic field B is applied uniformly in the y-axis direction.

ここで、図3に示すように二次元電子ガスチャネル14の長さをL、幅をWとすると、Y型分岐で100%スピン偏極した電子を分離するための条件は、
tanφSG>W/L
である。例えば、L=2μmとすると、Wを1μm以下に充分細くすることは可能であり、一例として、φSG=22degであればW=0.8μmで上の条件は満たさせる。
Here, as shown in FIG. 3, if the length of the two-dimensional electron gas channel 14 is L and the width is W, the conditions for separating the 100% spin-polarized electrons in the Y-type branch are as follows:
tanφ SG > W / L
It is. For example, when L = 2 μm, it is possible to sufficiently reduce W to 1 μm or less. For example, if φ SG = 22 deg, W = 0.8 μm and the above condition is satisfied.

尚、スピン検出手段の構成は、上述したY型の分岐に限定されるものではなく、分離したスピン状態を図3のy軸方向に沿って測定することができるものであれば如何なる構成であってもよい。また、ゲート絶縁層12は、必ずしも絶縁体である必要はなく、半導体であってもよいものである。   The configuration of the spin detection means is not limited to the Y-type branch described above, and any configuration is possible as long as the separated spin state can be measured along the y-axis direction in FIG. May be. The gate insulating layer 12 is not necessarily an insulator, and may be a semiconductor.

図4は、本発明の一実施例に係るスピンフィルタ20をz軸方向から見た概略図である。スピンフィルタ10においては、y軸方向に厚さの異なったゲート絶縁層12を挿入することにより、g−因子に空間的な勾配を持たせていたものを、スピンフィルタ20においては、y軸方向に複数の異なるゲート電圧を有するゲート電極21i(i=a,b,…,n;図4においては3つ)を備えることにより、g−因子に空間的な勾配を持たせるようにしたものである。それ以外の構成については、スピンフィルタ10と同様である。尚、本実施例以降においては、実施例1と異なる構成及び機能のみ説明し、その他の構成及び機能に関しては同一部分には同一符号を付して説明を省略する。   FIG. 4 is a schematic view of the spin filter 20 according to one embodiment of the present invention viewed from the z-axis direction. In the spin filter 10, the gate insulating layer 12 having a different thickness in the y-axis direction is inserted to give a spatial gradient to the g-factor. Is provided with a plurality of gate electrodes 21i (i = a, b,..., N; three in FIG. 4) having a different gate voltage so that the g-factor has a spatial gradient. is there. Other configurations are the same as those of the spin filter 10. In the following embodiments, only configurations and functions different from those in the first embodiment will be described, and with regard to other configurations and functions, the same portions are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

図5は、本発明の一実施例に係るスピンフィルタ30をz軸方向から見た概略図である。スピンフィルタ30は、スピンフィルタ10又は20の二次元電子ガスチャネル14にアンチ・ドットや人工的な不純物を導入し、キャリアである電子スピンの伝搬をドリフト速度に減速し、スピンの緩和長を長く保つようにしたものである。   FIG. 5 is a schematic view of the spin filter 30 according to one embodiment of the present invention viewed from the z-axis direction. The spin filter 30 introduces anti-dots or artificial impurities into the two-dimensional electron gas channel 14 of the spin filter 10 or 20, slows the propagation of electron spin, which is a carrier, to a drift velocity, and increases the relaxation length of the spin. It is something to keep.

ここで、半導体チャネル2にアンチ・ドットや人工的な不純物を導入する意義について説明する。   Here, the significance of introducing anti-dots or artificial impurities into the semiconductor channel 2 will be described.

一般的に、g−因子の大きい系では、スピン軌道相互作用も強くなり、スピン緩和によりスピンの情報が長距離に渡って保持されないことが予言されている。しかしながら、最近のMonte Carloシミュレーションの手法をもちいた、スピン軌道相互作用のある2次元電子ガス系でスピンの緩和時間の計算によれば、アンチ・ドットなど人工的な弾性散乱体を導入することにより、電子の運動量緩和時間の1000倍以上までスピン緩和時間が長くなることが示されている。この結果は、スピン緩和機構がD’yakonov−Perel’機構に起因する場合、散乱によりスピンの歳差運動が抑えられ、緩和時間が長くなることに起因する。InGaAs系二次元電子ガスにおいては、スピン緩和にD‘yakonov−Perel’機構が重要な役割を果たしていることを確認しており、チャネルに、人工的なアンチ・ドットや不純物散乱体を導入することによりスピン緩和を長くすることが可能となる(T.Koga, J. Nitta, T. Akazaki, and H. Takayanagi, Phys. Rev. Lett. 89,46801(2002)参照)。   In general, in a system with a large g-factor, spin-orbit interaction is also strong, and it is predicted that spin information is not retained over a long distance due to spin relaxation. However, according to the calculation of spin relaxation time in a two-dimensional electron gas system with spin-orbit interaction using the recent Monte Carlo simulation technique, by introducing artificial elastic scatterers such as anti-dots It has been shown that the spin relaxation time becomes longer to 1000 times or more of the momentum relaxation time of electrons. This result is attributed to the fact that when the spin relaxation mechanism is caused by the D'yakonov-Perel 'mechanism, the spin precession is suppressed by scattering and the relaxation time becomes longer. In InGaAs-based two-dimensional electron gas, the D'yakonov-Perel 'mechanism has been confirmed to play an important role in spin relaxation, and artificial anti-dots and impurity scatterers should be introduced into the channel. This makes it possible to lengthen the spin relaxation (see T. Koga, J. Nitta, T. Akazaki, and H. Takayanagi, Phys. Rev. Lett. 89, 46801 (2002)).

この場合、散乱体により電子スピンは、ドリフト速度vdで非一様g−因子領域を伝搬することになる。すると非一様g−因子領域における滞在時間Δtが長くなり、大きな偏向角度φSGを得ることができる。また、有効的なx軸方向の運動量も〈px〉=mvとなり、vFをvdで置き換えた偏向角度は次式で与えられる。

Figure 2006032570
In this case, the electron spin propagates through the non-uniform g-factor region at the drift velocity v d by the scatterer. Then, the stay time Δt in the non-uniform g-factor region is increased, and a large deflection angle φ SG can be obtained. The effective momentum in the x-axis direction is also <p x > = m * v, and the deflection angle obtained by replacing v F with v d is given by the following equation.
Figure 2006032570

これは、式(7)のフェルミ速度vFがドリフト速度vdで置き換わったことになっており、半導体チャネル2を拡散的な系にすることにより、非一様スピン軌道相互作用領域における滞在時間Δtが長くなり、大きな偏向角度φSGを得るには、都合が良いことを示している。ちなみ、不純物散乱により電子移動度μが、μ=10,000cm2/Vs、x方向に電子を加速するための電界E=1V/cmを印加したとするとドリフト速度vd=100m/secとなり、|Δg|=1,By=1mT、L=1μmとしても大きな偏向角度φSG=86.6degが得られる。ドリフト速度によるキャリアの伝搬が支配的になる場合は、印加する一様磁場の大きさは、1mT以下でも充分であることが示される。 This is because the Fermi velocity v F in equation (7) is replaced by the drift velocity v d , and the residence time in the non-uniform spin-orbit interaction region is obtained by making the semiconductor channel 2 a diffusive system. It shows that Δt is long and it is convenient to obtain a large deflection angle φ SG . Incidentally, if the electron mobility μ is due to impurity scattering and μ = 10,000 cm 2 / Vs, and an electric field E = 1 V / cm for accelerating electrons in the x direction is applied, the drift velocity v d = 100 m / sec. | Δg | = 1, B y = 1mT, large deflection angle as L = 1μm φ SG = 86.6deg is obtained. In the case where carrier propagation due to drift velocity becomes dominant, it is shown that the applied uniform magnetic field is sufficient even if it is 1 mT or less.

図6は、本発明の一実施例に係るスピンフィルタ40をz軸方向から見た概略図である。スピンフィルタ40は、スピンフィルタ10、20又は30の出力側の端子T1及びT2に磁性体電極を用いたもので、各磁性体電極のスピンを逆向きにすることにより、一方の端子のみにキャリアが流れるようにしたものである。例えば、図6においては、端子T1にのみ電流が流れるが、端子T2には電流は流れない。しかし、各磁性体電極に磁場を印加して、それぞれのスピンの向きを反転させると、今度は、端子T2に電流が流れ、端子T1には電流は流れない。   FIG. 6 is a schematic view of the spin filter 40 according to one embodiment of the present invention viewed from the z-axis direction. The spin filter 40 uses magnetic electrodes for the output side terminals T1 and T2 of the spin filter 10, 20, or 30. By rotating the spin of each magnetic electrode in the reverse direction, the carrier is applied to only one terminal. Is to flow. For example, in FIG. 6, a current flows only through the terminal T1, but no current flows through the terminal T2. However, when a magnetic field is applied to each magnetic electrode to reverse the direction of each spin, current flows through the terminal T2 and no current flows through the terminal T1.

このように、スピンフィルタ40においては、出力側の磁性体電極を制御することで、端子間の電流を制御することが可能となっている。   Thus, in the spin filter 40, the current between the terminals can be controlled by controlling the magnetic electrode on the output side.

図7は、本発明の一実施例に係るスピンフィルタ50をz軸方向から見た概略図である。スピンフィルタ50は、スピンフィルタ10、20又は30の入力側の端子T0に磁性体電極を用いたもので、端子T0から注入されたキャリアのスピンの向きにより出力側の端子T1又はT2のいずれか一方の端子のみにキャリアが流れるようにしたものである。例えば、図7においては、端子T1にのみ電流が流れるが、端子T2には電流は流れない。しかし、磁性体電極に磁場を印加して、スピンの向きを反転させると、今度は、端子T2に電流が流れ、端子T1には電流は流れない。   FIG. 7 is a schematic view of the spin filter 50 according to one embodiment of the present invention as viewed from the z-axis direction. The spin filter 50 uses a magnetic electrode for the input-side terminal T0 of the spin filter 10, 20, or 30. Either of the output-side terminals T1 and T2 depending on the spin direction of the carriers injected from the terminal T0. The carrier flows through only one terminal. For example, in FIG. 7, a current flows only through the terminal T1, but no current flows through the terminal T2. However, when a magnetic field is applied to the magnetic electrode to reverse the direction of the spin, a current flows through the terminal T2 and no current flows through the terminal T1.

本発明の実施例について説明してきたが、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、本発明の実施例に対して種々の変形や変更を施すことができる。例えば、上記実施例においては、y軸方向に厚さの異なったゲート絶縁層12を挿入することにより、又は、y軸方向に複数の異なるゲート電圧を有するゲート電極21iを備えることにより、ゲート電極11の下にある二次元電子ガスチャネル14のg−因子はy軸方向に空間的に勾配を生じるが、g−因子の空間的勾配を生成する方法はこれに限定されず、他の方法であってもよい。例えば、二次元電子ガスチャネル14のy軸方向の厚さを不均一にして、g−因子の空間的勾配を生成してもよいものである。   Although the embodiments of the present invention have been described, various modifications and changes can be made to the embodiments of the present invention without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above embodiment, by inserting the gate insulating layers 12 having different thicknesses in the y-axis direction, or by providing the gate electrodes 21i having a plurality of different gate voltages in the y-axis direction, Although the g-factor of the two-dimensional electron gas channel 14 below 11 has a spatial gradient in the y-axis direction, the method for generating the spatial gradient of the g-factor is not limited to this. There may be. For example, the thickness of the two-dimensional electron gas channel 14 in the y-axis direction may be made nonuniform to generate a g-factor spatial gradient.

以上、本発明の実施の形態によれば、半導体チャネルのg−因子をゲート電圧により制御可能であるので、g−因子の空間的勾配を利用して、SG効果を半導体中で実現することができる。   As described above, according to the embodiment of the present invention, since the g-factor of the semiconductor channel can be controlled by the gate voltage, the SG effect can be realized in the semiconductor using the spatial gradient of the g-factor. it can.

この結果、不均一磁場を用いることなく、半導体中を伝搬するキャリアの異なるスピン状態を分離するのに充分なスピンの偏向角度を得ることができる。   As a result, a spin deflection angle sufficient to separate different spin states of carriers propagating in a semiconductor can be obtained without using a non-uniform magnetic field.

また、半導体チャネルに弾性散乱体を導入することにより、スピンの緩和を充分に長くすることができるので、室温においても動作可能となる。   In addition, by introducing an elastic scatterer into the semiconductor channel, spin relaxation can be made sufficiently long, so that it can be operated even at room temperature.

半導体チャネルのg因子とゲート電圧の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the g factor of a semiconductor channel, and gate voltage. 本発明の一実施形態に係るスピンフィルタの機能構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function structure of the spin filter which concerns on one Embodiment of this invention. 図1のスピンフィルタの具体的な実施例1を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a specific example 1 of the spin filter of FIG. 1. 図1のスピンフィルタの具体的な実施例2を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a specific example 2 of the spin filter of FIG. 1. 図1のスピンフィルタの具体的な実施例3を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a specific example 3 of the spin filter of FIG. 1. 図1のスピンフィルタの具体的な実施例4を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a specific example 4 of the spin filter of FIG. 1. 図1のスピンフィルタの具体的な実施例5を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a specific example 5 of the spin filter of FIG. 1. Stern-Gerlachの実験を概念的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the experiment of Stern-Gerlach notionally.

符号の説明Explanation of symbols

1,10,20,30,40,50…スピンフィルタ
2…半導体チャネル
3…均一磁場印加部
4…ゲート電圧印加部
5…g因子空間勾配生成部
11,21i…ゲート電極
12…ゲート絶縁層
14…二次元電子ガスチャネル

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 10, 20, 30, 40, 50 ... Spin filter 2 ... Semiconductor channel 3 ... Uniform magnetic field application part 4 ... Gate voltage application part 5 ... G factor space gradient generation part 11, 21i ... Gate electrode 12 ... Gate insulating layer 14 ... Two-dimensional electron gas channel

Claims (12)

半導体中を伝搬するキャリアのスピン状態毎にキャリアを分離するスピンフィルタであって、
前記キャリアが伝搬する方向に対して垂直な方向に均一磁場を印加する均一磁場印加手段と、
前記キャリアを閉じこめて、前記キャリアを伝搬する半導体チャネルと、
前記半導体チャネルにゲート電圧を印加する電圧印加手段と、
を有し、前記ゲート電圧によって、前記半導体チャネルのg−因子を、印加された磁場方向と同一方向に空間勾配をもたせて非一様となるように制御することを特徴とするスピンフィルタ。
A spin filter for separating carriers for each spin state of carriers propagating in a semiconductor,
Uniform magnetic field application means for applying a uniform magnetic field in a direction perpendicular to the direction in which the carriers propagate;
A semiconductor channel confining the carrier and propagating the carrier;
Voltage applying means for applying a gate voltage to the semiconductor channel;
And a g-factor of the semiconductor channel is controlled by the gate voltage so as to be non-uniform with a spatial gradient in the same direction as the applied magnetic field direction.
前記スピンフィルタは、前記半導体チャネル上に厚さの異なる層を挿入し、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする請求項1記載のスピンフィルタ。   2. The spin filter according to claim 1, wherein layers having different thicknesses are inserted on the semiconductor channel so that a g-factor of the semiconductor channel has a spatial gradient. 前記ゲート電圧印加手段は、印加する電圧が異なる複数のゲート電極を備え、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする請求項1記載のスピンフィルタ。   2. The spin filter according to claim 1, wherein the gate voltage applying means includes a plurality of gate electrodes to which applied voltages are different, and gives a g-factor of the semiconductor channel to a spatial gradient. 前記半導体チャネルは、弾性散乱体が導入されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスピンフィルタ。   4. The spin filter according to claim 1, wherein an elastic scatterer is introduced into the semiconductor channel. 磁性材料を用いたスピン検出用の電極を出力側に有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のスピンフィルタ。   The spin filter according to any one of claims 1 to 4, further comprising an electrode for spin detection using a magnetic material on an output side. 磁性材料を用いたスピン注入用の電極を入力側に有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のスピンフィルタ。   The spin filter according to any one of claims 1 to 5, further comprising an electrode for spin injection using a magnetic material on an input side. 半導体中を伝搬するキャリアのスピン状態毎にキャリアを分離するスピン状態分離方法であって、
前記キャリアを閉じこめて、前記キャリアを伝搬させる半導体チャネルに、前記キャリアが伝搬する方向に対して垂直な方向に均一磁場を印加し、
前記半導体チャネルにゲート電圧を印加し、
前記ゲート電圧によって、前記半導体チャネルのg−因子を、印加された磁場方向と同一方向に空間勾配をもたせて非一様となるように制御することを特徴とするスピン状態分離方法。
A spin state separation method for separating carriers for each spin state of carriers propagating in a semiconductor,
Applying a uniform magnetic field in a direction perpendicular to the direction of propagation of the carrier to the semiconductor channel for confining the carrier and propagating the carrier,
Applying a gate voltage to the semiconductor channel;
A spin state separation method, wherein the g-factor of the semiconductor channel is controlled by the gate voltage to be non-uniform with a spatial gradient in the same direction as the applied magnetic field direction.
前記半導体チャネルを備えるスピンフィルタは、前記半導体チャネル上に厚さの異なる層を挿入し、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする請求項7記載のスピン状態分離方法。   The spin state separation method according to claim 7, wherein the spin filter including the semiconductor channel inserts layers having different thicknesses on the semiconductor channel to give a spatial gradient to the g-factor of the semiconductor channel. 前記ゲート電圧を印加するゲート電圧印加手段は、印加する電圧が異なる複数のゲート電極を備え、前記半導体チャネルのg−因子に空間勾配をもたせることを特徴とする請求項7記載のスピン状態分離方法。   8. The spin state separation method according to claim 7, wherein the gate voltage applying means for applying the gate voltage includes a plurality of gate electrodes with different voltages to be applied, and has a spatial gradient in the g-factor of the semiconductor channel. . 前記半導体チャネルは、弾性散乱体が導入されていることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項に記載のスピン状態分離方法。   10. The spin state separation method according to claim 7, wherein an elastic scatterer is introduced into the semiconductor channel. 磁性材料を用いた電極を出力側に備えて、前記キャリアのスピン状態を検出することを特徴とする請求項7乃至10のいずれか1項に記載のスピン状態分離方法。   The spin state separation method according to any one of claims 7 to 10, wherein an electrode using a magnetic material is provided on an output side to detect the spin state of the carrier. 磁性材料を用いた電極を入力側に備えて、スピン偏極したキャリアを注入することを特徴とする請求項7乃至11のいずれか1項に記載のスピン状態分離方法。


12. The spin state separation method according to claim 7, wherein an electrode using a magnetic material is provided on an input side, and spin-polarized carriers are injected.


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