JP2006028154A - Method for producing optically active compound - Google Patents

Method for producing optically active compound Download PDF

Info

Publication number
JP2006028154A
JP2006028154A JP2005073123A JP2005073123A JP2006028154A JP 2006028154 A JP2006028154 A JP 2006028154A JP 2005073123 A JP2005073123 A JP 2005073123A JP 2005073123 A JP2005073123 A JP 2005073123A JP 2006028154 A JP2006028154 A JP 2006028154A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
optically active
general formula
carbon
atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005073123A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kozo Matsui
浩三 松井
Hiroshi Maeda
ひろし 前田
Nobushige Itaya
信重 板谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2005073123A priority Critical patent/JP2006028154A/en
Priority to PCT/JP2005/011190 priority patent/WO2005121117A1/en
Publication of JP2006028154A publication Critical patent/JP2006028154A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C231/00Preparation of carboxylic acid amides
    • C07C231/02Preparation of carboxylic acid amides from carboxylic acids or from esters, anhydrides, or halides thereof by reaction with ammonia or amines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B2200/00Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
    • C07B2200/07Optical isomers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optically active amide compound or an optically active carboxylic acid compound efficiently in a good yield by widely extending the application range of an epimerizing crystallization method compared with those of conventional methods. <P>SOLUTION: The subject method for producing the optically active compound (Ia) or (Ib) comprises a process (epimerizing crystallization process) of crystallizing the optically active compound (Ia) or (Ib) in a same reaction system while performing an equilibrium epimerization of a carbon atom at the α-position of a carbonyl group of a diastereomeric mixture (I) [wherein, R<SB>1</SB>, R<SB>2</SB>are each an organic group; and R<SB>3</SB>, R<SB>4</SB>are each a group bonded with the carbon atom at the α-position of the carbonyl group by a carbon-carbon bond, and stable in the presence of a base, and provided that each of the R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>or R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>does not mean the same group at the same time] of an amide compound obtained by performing the reaction of a carboxylic acid ester compound with an optically active primary amine, in the presence of a base. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光学活性アミド化合物または光学活性カルボン酸化合物などの光学活性化合物を効率的に収率よく製造する方法に関する。本発明の目的化合物である光学活性化合物は医薬、農薬などの種々の生物活性化合物として、または生物活性化合物の合成中間体として有用である。   The present invention relates to a method for efficiently and efficiently producing an optically active compound such as an optically active amide compound or an optically active carboxylic acid compound. The optically active compound which is the target compound of the present invention is useful as various biologically active compounds such as pharmaceuticals and agricultural chemicals, or as a synthetic intermediate for biologically active compounds.

光学活性化合物を実用的に得る方法としては、(1)入手容易な光学活性な原料(例えば、天然物)から誘導していく方法、(2)不斉合成法、(3)光学分割法などが挙げられる。このうち(1)は、入手可能な光学活性化合物が限られるため、目的化合物に導くために複雑な工程を要する場合が多々ある。また、不斉合成法は、工業的に適用可能な反応は未だ限られている。したがって、確実に光学活性化合物が得られる光学分割法が、最も広く利用されているのが現状である。   Methods for obtaining optically active compounds practically include (1) a method of deriving from readily available optically active raw materials (for example, natural products), (2) an asymmetric synthesis method, (3) an optical resolution method, etc. Is mentioned. Of these, (1) has a limited number of available optically active compounds, and thus often requires a complicated process to lead to the target compound. In addition, asymmetric synthesis methods still have limited industrially applicable reactions. Therefore, at present, the optical resolution method capable of reliably obtaining an optically active compound is most widely used.

光学分割法としては、ラセミ体を光学活性化合物と処理することによりジアステレオマーの混合物とし、分別再結晶等により所望のジアステレオマーのみを得た後に、分解して所望の光学活性体のみを得る、いわゆるジアステレオマー法が一般的に行われている。この方法では、ラセミ体には所望の光学活性体は半分しか含まれておらず、原料からの収率は最大でも50%までしか得ることができないため、アトムエコノミーが低く、無駄が多くなるという問題がある。したがって、アトムエコノミーを向上させるため、回収される不要の立体異性体を異性化して、再利用することが必要となる。   In the optical resolution method, a racemate is treated with an optically active compound to form a mixture of diastereomers, and only the desired diastereomer is obtained by fractional recrystallization or the like, and then decomposed to obtain only the desired optically active substance. The so-called diastereomeric method obtained is generally carried out. In this method, the racemic body contains only half of the desired optically active substance, and since the yield from the raw material can be obtained only up to 50%, the atom economy is low and waste is increased. There's a problem. Therefore, in order to improve the atom economy, it is necessary to isomerize and recover the unnecessary stereoisomers to be recovered.

不要の立体異性体を再利用するためには、異性化(ラセミ化、平衡エピメリ化等)と結晶化の工程がさらに必要となり、工業的に実施するには相当の労力と時間を要するものとなり、この際に化合物として化学的に変化させる工程(例えば、加水分解等)を要する場合は、さらに労力は大きいものとなる。さらにこの回収操作を1サイクル行ったとしても、分割収率は理論的に最大150%(ラセミ体からの収率75%)までしか達成できず、さらにアトムエコノミーを向上させるためには回収操作を繰り返さなければならない。   In order to reuse unnecessary stereoisomers, further isomerization (racemization, equilibrium epimerization, etc.) and crystallization steps are required, which requires considerable labor and time to implement industrially. In this case, when a step of chemically changing the compound as a compound (for example, hydrolysis or the like) is required, the labor is further increased. Furthermore, even if this recovery operation is carried out for one cycle, the resolution yield can only be theoretically achieved up to a maximum of 150% (yield 75% from the racemate). In order to further improve the atom economy, the recovery operation is performed. Must be repeated.

このような問題点を解決するために、平衡エピメリ化と結晶化を同一反応系内で組み合わせる方法(本明細書において、「エピ化晶出法」という。)が報告されている(例えば、非特許文献1〜5および特許文献1参照)。この方法は、ジアステレオマー混合物を平衡エピメリ化させながら、所望のジアステレオマーのみを晶出させることにより、理論的にラセミ体から100%の収率で光学活性体を得ようとするものであり、一工程で分割効率100%以上(ラセミ体からの収率50%以上)が達成できるため、非常に実用性が高い方法である。   In order to solve such a problem, a method of combining equilibrium epimerization and crystallization in the same reaction system (referred to as “epi-crystallization method” in this specification) has been reported (for example, non Patent Documents 1 to 5 and Patent Document 1). This method theoretically attempts to obtain an optically active substance in a yield of 100% from a racemate by crystallizing only the desired diastereomer while allowing the diastereomeric mixture to undergo equilibrium epimerization. In addition, since it is possible to achieve a resolution efficiency of 100% or more (yield from racemic product of 50% or more) in one step, it is a highly practical method.

従来のエピ化晶出法は、目的化合物の特異性として、緩やかな条件で平衡エピメリ化が達成できるものを利用した例がほとんどであった。例えば、ジアステレオマー塩混合物で平衡エピメリ化を行うような場合は、塩が解離しない比較的狭いpH領域や緩和な反応条件で平衡エピメリ化を行わなければならないため、適用可能な例は限られたものであった(非特許文献1〜3および特許文献1参照)。   Most of the conventional epicrystallization methods use an object that can achieve equilibrium epimerization under moderate conditions as the specificity of the target compound. For example, when equilibrium epimerization is performed using a mixture of diastereomeric salts, the equilibrium epimerization must be performed in a relatively narrow pH range where the salt does not dissociate or under mild reaction conditions. (See Non-Patent Documents 1 to 3 and Patent Document 1).

一方、カルボン酸化合物と光学活性一級アミンとのアミド化合物のジアステレオマー混合物を利用したエピ化晶出法として、N−(S)−(1−フェニルエチル)−α−クロロ−α−フェニルアセトアミドを有機溶媒中、アンモニア水と室温で処理する方法が報告されており(非特許文献5参照)、カルボニル基α位の炭素原子に電子吸引性のフェニル基とハロゲン原子が結合して、カルボニル基α位の水素原子の酸性が非常に強くなっているため、アンモニア水のような弱塩基でも平衡エピメリ化が進行していると考えられる。
「ジャーナルオブザケミカルソサイアティーパーキントランスアクションズ1(Journal of the Chemical Society, Perkin Transactions 1)」,(英国),1976年,p.475 「ケミストリーレターズ(Chemistry Letters)」,1983年,p.661 「ジャーナルオブオルガニックケミストリー(Journal of OrganicChemistry)」,2002年,第67巻,p.7741−7749 「ケミカルソサイアティーレビューズ(Chemical Society Reviews)」,1996年,第25巻,p.447−456 「シンレット(Synlett)」,2001年,p.1941−1943 特開昭58−52254号公報
On the other hand, N- (S)-(1-phenylethyl) -α-chloro-α-phenylacetamide is used as an epicrystallization method using a diastereomer mixture of an amide compound of a carboxylic acid compound and an optically active primary amine. Has been reported (see Non-Patent Document 5), in which an electron-withdrawing phenyl group and a halogen atom are bonded to a carbon atom at the carbonyl group α-position. Since the acidity of the α-position hydrogen atom is very strong, it is considered that equilibrium epimerization is proceeding even with a weak base such as aqueous ammonia.
“Journal of the Chemical Society, Perkin Transactions 1” (UK), 1976, p. 475 “Chemistry Letters”, 1983, p. 661 “Journal of Organic Chemistry”, 2002, Vol. 67, p. 7741-7749 “Chemical Society Reviews”, 1996, Vol. 25, p. 447-456 “Synlett”, 2001, p. 1941-1943 JP 58-52254 A

N−(S)−(1−フェニルエチル)−α−クロロ−α−フェニルアセトアミドにおいては、カルボニル基α位に結合するハロゲン原子は非常に反応性が高く、比較的強い塩基の存在下では副反応が起こるため、アンモニア水等の緩和な条件で平衡エピメリ化が可能である態様に限定されると考えられる。
また、アミド化合物のN−Hの酸性度は比較的高く、カルボニル基α位水素原子の酸性度の方が低い場合は、平衡エピメリ化が起こりにくいと考えられるため、N−(S)−(1−フェニルエチル)−α−クロロ−α−フェニルアセトアミドのようにカルボニル基α位の水素原子の酸性が非常に高い態様のみが試みられていたものと想定される。
In N- (S)-(1-phenylethyl) -α-chloro-α-phenylacetamide, the halogen atom bonded to the carbonyl group α-position is very reactive and in the presence of a relatively strong base, Since the reaction occurs, it is considered that the reaction is limited to an embodiment in which equilibrium epimerization is possible under mild conditions such as aqueous ammonia.
In addition, when the acidity of NH of the amide compound is relatively high and the acidity of the hydrogen atom at the carbonyl group α is lower, it is considered that equilibrium epimerization is unlikely to occur, and therefore N— (S) — ( It is assumed that only an embodiment in which the acidity of the hydrogen atom at the carbonyl group α-position was very high, such as 1-phenylethyl) -α-chloro-α-phenylacetamide, was attempted.

本発明は、アミド化合物全般にエピ化晶出法を適用することを可能とすることにより、エピ化晶出法の適用範囲を従来より大きく広げ、効率的かつ高収率に光学活性アミド化合物またはその光学活性カルボン酸化合物を得る方法を提供することを目的とする。   The present invention makes it possible to apply the epicrystallization method to all amide compounds, thereby broadening the scope of application of the epicrystallization method, compared with the conventional method, in an efficient and high yield. It aims at providing the method of obtaining the optically active carboxylic acid compound.

本発明者らはかかる目的を達成するために、鋭意検討を行ったところ、カルボニル基α位の水素原子の酸性が低いアミド化合物であっても、比較的強い塩基の存在下であれば、一級アミンのアミド化合物のカルボニル基α位水素原子を平衡エピメリ化できること、すなわち、アミド化合物全般にエピ化晶出法を適用できることを見出した。また、当該エピ化晶出法と原料のジアステレオマー混合物を得る工程において、当該エピ化晶出に使用される比較的強い塩基がカルボン酸エステル化合物と光学活性一級アミンとのアミド化反応を促進することを見出して、当該アミド化反応とエピ化晶出を合わせてワンポット反応で行うことができることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は以下のとおりである。
(1)一般式(II):
The inventors of the present invention have made extensive studies in order to achieve such an object. As a result, even in the case of an amide compound having a low acidity of the hydrogen atom at the carbonyl group α-position, if the presence of a relatively strong base is present, the primary It has been found that the carbonyl group α-position hydrogen atom of an amide compound of an amine can be equilibrium epimerized, that is, the epicrystallization method can be applied to all amide compounds. Also, in the process of obtaining the epicrystallization method and the raw material diastereomer mixture, the relatively strong base used for the epicrystallization process promotes the amidation reaction between the carboxylic acid ester compound and the optically active primary amine. As a result, it has been found that the amidation reaction and the epicrystallization can be performed in a one-pot reaction, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
(1) General formula (II):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

[式中、Rは低級アルキル基を示し、Rはカルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基を示し、Rはカルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合または炭素−ヘテロ原子結合(但し、炭素−ハロゲン原子結合を除く。)でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基を示し、RおよびRはつながって、結合する炭素原子と一緒に環を形成してもよい(但し、RとRが同時に同じ基を意味することはない。)。]で表される化合物(以下、化合物(II)ともいう。)を塩基の存在下に、一般式(III): [Wherein R 5 represents a lower alkyl group, R 3 represents a group which is connected to the carbon atom at the α-position of the carbonyl group by a carbon-carbon bond and is stable in the presence of a base, and R 4 represents a carbonyl group. a group that is connected to a carbon atom at the α-position by a carbon-carbon bond or a carbon-heteroatom bond (excluding a carbon-halogen atom bond) and is stable in the presence of a base; and R 3 and R 4 May be linked to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded (provided that R 3 and R 4 do not mean the same group at the same time). ] (Hereinafter also referred to as compound (II)) in the presence of a base, general formula (III):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、RおよびRはそれぞれ独立して有機基を示す。但し、RとRが同時に同じ基を意味することはない。)で表される化合物(以下、化合物(III)ともいう。)と反応させて、一般式(I): (Wherein R 1 and R 2 each independently represents an organic group, provided that R 1 and R 2 do not mean the same group at the same time) (hereinafter referred to as compound (III)) And the general formula (I):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表されるジアステレオマー混合物(以下、ジアステレオマー混合物(I)ともいう。)を得る工程と、該ジアステレオマー混合物(I)を塩基の存在下にカルボニル基α位の炭素原子上の水素原子を平衡エピメリ化させながら、同一反応系内で一般式(Ia): (Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a diastereomeric mixture (hereinafter also referred to as diastereomeric mixture (I)), and the diastereomeric mixture (I). In the presence of a base, the hydrogen atom on the carbon atom at the α-position of the carbonyl group is subjected to equilibrium epimerization while the general formula (Ia):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(Ia)ともいう。)または一般式(Ib): (Wherein each symbol is as defined above) or an optically active compound (hereinafter also referred to as optically active compound (Ia)) or general formula (Ib):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(Ib)ともいう。)を結晶化させる工程を包含することを特徴とする、光学活性化合物(Ia)または光学活性化合物(Ib)の製造方法あるいはジアステレオマー混合物(I)からの光学活性化合物(Ia)または光学活性化合物(Ib)の分離方法。
(2)ワンポット反応で行うことを特徴とする、上記(1)記載の製造方法または分離方法。
(3)上記(1)または(2)記載の製造方法または分離方法により得られる光学活性化合物(Ia)または光学活性化合物(Ib)を酸性条件下に加水分解することを特徴とする、一般式(IVa):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above), which includes a step of crystallizing an optically active compound (hereinafter also referred to as optically active compound (Ib)). A process for producing compound (Ia) or optically active compound (Ib) or a process for separating optically active compound (Ia) or optically active compound (Ib) from diastereomeric mixture (I).
(2) The production method or the separation method according to the above (1), which is carried out by a one-pot reaction.
(3) The optically active compound (Ia) or the optically active compound (Ib) obtained by the production method or separation method described in (1) or (2) above is hydrolyzed under acidic conditions. (IVa):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(IVa)ともいう。)または一般式(IVb): (Wherein each symbol is as defined above) or an optically active compound (hereinafter also referred to as optically active compound (IVa)) or general formula (IVb):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(IVb)ともいう。)の製造方法。
(4)RおよびRが結合する炭素原子と一緒に、一般式(V):
(In the formula, each symbol has the same meaning as described above.) A process for producing an optically active compound (hereinafter also referred to as optically active compound (IVb)).
(4) Along with the carbon atom to which R 3 and R 4 are bonded, general formula (V):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を示し、Rは低級アルキル基を示す。)で表される複素環(以下、複素環(V)ともいう。)を形成する、上記(1)または(2)記載の製造方法または分離方法。
(5)RおよびRが、R’(R’は低級アルキル基を示す。)である上記(4)記載の製造方法または分離方法。
(6)一般式(VI):
(Wherein, X represents a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, and R 6 represents a lower alkyl group) is formed (hereinafter also referred to as a heterocycle (V)). The production method or separation method according to the above (1) or (2).
(5) The production method or separation method according to the above (4), wherein R 5 and R 6 are R 6 ′ (R 6 ′ represents a lower alkyl group).
(6) General formula (VI):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、Xは前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VI)ともいう。)を酸の存在下に、一般式(VII): (Wherein X is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (VI)) in the presence of an acid, general formula (VII):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、Rは水素原子または低級アルキル基を示し、R’は前記と同義を示す。)で表されるオルソエステル(以下、オルソエステル(VII)ともいう。)と反応させて、一般式(II’): (In the formula, R 7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and R 6 ′ has the same meaning as described above), and is reacted with an ortho ester (hereinafter also referred to as ortho ester (VII)). General formula (II '):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、XおよびR’は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(II’)ともいう。)を得る工程を包含することを特徴とする、化合物(II’)の製造方法。
(7)上記(6)記載の工程をさらに包含する、上記(5)記載の製造方法または分離方法。
(8)R’がメチル基またはエチル基である、上記(5)〜(7)のいずれかに記載の製造方法または分離方法。
(9)上記(4)、(5)、(7)および(8)のいずれかに記載の製造方法または分離方法によって得られる一般式(Ia’):
(Wherein X and R 6 ′ have the same meanings as described above), which includes a step of obtaining a compound represented by the following formula (II ′): ) Manufacturing method.
(7) The production method or separation method according to (5), further including the step according to (6).
(8) The production method or separation method according to any one of (5) to (7), wherein R 6 ′ is a methyl group or an ethyl group.
(9) General formula (Ia ′) obtained by the production method or separation method according to any one of (4), (5), (7) and (8) above:

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(Ia’)ともいう。)または一般式(Ib’): (Wherein each symbol is as defined above) or an optically active compound (hereinafter also referred to as optically active compound (Ia ′)) or general formula (Ib ′):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(Ib’)ともいう。)を、酸性条件下で脱保護および加水分解することを特徴とする、一般式(IVa’): (Wherein each symbol is as defined above), wherein the optically active compound (hereinafter also referred to as optically active compound (Ib ′)) is deprotected and hydrolyzed under acidic conditions. And general formula (IVa ′):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、Xは前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(IVa’)ともいう。)または一般式(IVb’): Wherein X is as defined above (hereinafter also referred to as optically active compound (IVa ′)) or general formula (IVb ′):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、Xは前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物(以下、光学活性化合物(IVb’)ともいう。)の製造方法。
(10)Xがフッ素原子であり、Rがフェニル基であり、かつRがメチル基である上記(4)、(5)および(7)〜(9)のいずれかに記載の製造方法。
(11)一般式(II’):
(Wherein X is as defined above), a method for producing an optically active compound (hereinafter also referred to as optically active compound (IVb ′)).
(10) The production method according to any one of (4), (5) and (7) to (9), wherein X is a fluorine atom, R 1 is a phenyl group, and R 2 is a methyl group. .
(11) General formula (II ′):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を示し、R’は低級アルキル基を示す。)で表される化合物。
(12)Xがフッ素原子であり、かつR’がメチル基である上記(11)記載の化合物。
(13)Rが窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1〜2個含み、置換基を有してもよい5〜8員の飽和複素環基または5〜6員の不飽和複素環基もしくはその縮合環基である、上記(1)もしくは(2)記載の製造方法または分離方法あるいは上記(3)記載の製造方法。
(14)Rが一般式(VIII):
(Wherein X represents a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, and R 6 ′ represents a lower alkyl group).
(12) The compound according to (11) above, wherein X is a fluorine atom, and R 6 ′ is a methyl group.
(13) R 4 contains 1 to 2 heteroatoms selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and may have a substituent, a 5- to 8-membered saturated heterocyclic group or a 5- to 6-membered non-cyclic group. The production method or separation method according to the above (1) or (2), which is a saturated heterocyclic group or a condensed ring group thereof, or the production method according to the above (3).
(14) R 4 is represented by the general formula (VIII):

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、Yはそれぞれ独立して水素原子、水酸基、オキソ、低級アルコキシ基または低級アルキル基を示し、mおよびnはそれぞれ独立して1〜3の整数を示す。)で表される複素環基(以下、複素環基(VIII)ともいう。)である、上記(13)記載の製造方法または分離方法。
(15)Rが置換基を有していてもよい低級アルキル基である、上記(14)記載の製造方法または分離方法。
(16)Yが水素原子であり、Rがエチル基であり、かつmが1である、上記(14)または(15)記載の製造方法または分離方法。
(Wherein Y is independently a hydrogen atom, hydroxyl group, oxo, lower alkoxy group or lower alkyl group, and m and n are each independently an integer of 1 to 3). The production method or separation method according to the above (13), which is a group (hereinafter also referred to as a heterocyclic group (VIII)).
(15) The production method or separation method according to the above (14), wherein R 3 is a lower alkyl group which may have a substituent.
(16) The production method or separation method according to the above (14) or (15), wherein Y is a hydrogen atom, R 3 is an ethyl group, and m is 1.

本発明によれば、従来、平衡エピメリ化が困難であると考えられたカルボニル基α位の水素原子の酸性度が比較的低い一級アミンのジアステレオマーアミド混合物を平衡エピメリ化することができ、すなわち、一級アミンのアミド化合物全般をエピ化晶出法に用いることを可能にした。その結果、エピ化晶出法の応用範囲を従来法では適用困難であると考えられたカルボン酸化合物にまで広げることができるので、実用的なメリットが大きい。   According to the present invention, a mixture of diastereomeric amides of a primary amine having a relatively low acidity of the hydrogen atom at the carbonyl group α position, which has been conventionally considered to be difficult to equilibrate, can be subjected to equilibrium epimerization, That is, it has become possible to use all primary amine amide compounds in the epicrystallization process. As a result, the application range of the epicrystallization method can be extended to carboxylic acid compounds that are considered to be difficult to apply by conventional methods, so that there is a great practical merit.

さらに本発明の方法は、原料のジアステレオマー混合物を製造する段階からワンポット反応で行い得るので、製造に要する労力(工程数、時間等)、収率およびコストの面において極めて優れた方法である。   Furthermore, since the method of the present invention can be carried out in a one-pot reaction from the stage of producing the raw diastereomeric mixture, it is an extremely excellent method in terms of labor (number of steps, time, etc.) required for production, yield and cost. .

以下、本発明について詳細に説明する。
Xで示される「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、好ましくはフッ素原子である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The “halogen atom” represented by X is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a fluorine atom.

X、Y、R、R、R’およびRで示される「低級アルキル基」としては、炭素数1〜4、好ましくは炭素数1〜2の直鎖または分枝のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基等が挙げられ、好ましくはメチル基またはエチル基である。 The “lower alkyl group” represented by X, Y, R 5 , R 6 , R 6 ′ and R 7 is a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably 1 to 2 carbon atoms, For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group and the like can be mentioned, and a methyl group or an ethyl group is preferable.

およびRで示される「有機基」としては、例えば置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基等が挙げられる。但し、RおよびRが結合する炭素原子は不斉炭素である必要があるため、RとRが同時に同じ基を意味することはない。 Examples of the “organic group” represented by R 1 and R 2 include a lower alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and an aralkyl group which may have a substituent. Etc. However, since the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded needs to be an asymmetric carbon, R 1 and R 2 do not mean the same group at the same time.

当該「置換基を有してもよい低級アルキル基」の「低級アルキル基」としては、上記で定義された低級アルキル基と同じものが挙げられ、置換基としては、水酸基、オキソ、上記と同じ低級アルキル基を有する低級アルコキシ基等が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、同一または異なっていてもよい。なお、Yで示される「低級アルコキシ基」においても同じものが挙げられる。   Examples of the “lower alkyl group” of the “lower alkyl group optionally having substituent (s)” include the same as the lower alkyl group defined above, and the substituents are the same as those described above for hydroxyl, oxo and the above. And a lower alkoxy group having a lower alkyl group. Examples of the lower alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group, and a methoxy group or an ethoxy group is preferable. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different. The same applies to the “lower alkoxy group” represented by Y.

当該「置換基を有してもよいアリール基」の「アリール基」としては、炭素数6〜10のアリール基、例えばフェニル、1−または2−ナフチル等が挙げられ、置換基としては、ハロゲン原子、上記と同じ低級アルキル基または上記「置換基を有してもよいアルキル基」と同じ置換基等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、同一または異なっていてもよい。   As the “aryl group” of the “aryl group optionally having substituent (s)”, aryl groups having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl, 1- or 2-naphthyl and the like can be mentioned. Atom, the same lower alkyl group as described above, or the same substituent as the above-mentioned “alkyl group optionally having substituent (s)” and the like can be mentioned. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different.

当該「置換基を有してもよいアラルキル基」の「アラルキル基」としては、上記で定義された「低級アルキル基」の任意の位置に上記で定義された「アリール基」が置換して形成されるアラルキル基、例えばベンジル、1−または2−フェネチル、1−、2−または3−フェニルプロピル、1−または2−ナフチルメチル、ベンゾヒドリル等が挙げられる。置換基としては、アリール部分には、上記「置換基を有してもよいアリール基」と同じ置換基が挙げられ、アルキル部分には、上記「置換基を有してもよいアルキル基」と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、同一または異なっていてもよい。   The “aralkyl group” of the “aralkyl group optionally having substituent (s)” is formed by substituting the “aryl group” defined above at any position of the “lower alkyl group” defined above. Aralkyl groups such as benzyl, 1- or 2-phenethyl, 1-, 2- or 3-phenylpropyl, 1- or 2-naphthylmethyl, benzohydryl and the like. Examples of the substituent include the same substituent as the above-mentioned “aryl group optionally having substituent (s)” for the aryl moiety, and the above-mentioned “alkyl group optionally having substituent (s)” for the alkyl moiety. The same substituents can be mentioned. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different.

およびRで示される「カルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基」としては、例えば、上記で定義された「置換基を有してもよい低級アルキル基」、上記で定義された「置換基を有してもよいアリール基」、上記で定義された「置換基を有してもよいアラルキル基」、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい飽和の複素環基、置換基を有してもよい不飽和の複素環基またはこれら複素環基で置換された上記で定義された低級アルキル基等が挙げられる。 Examples of the “group connected to the carbon atom at the carbonyl group α-position by the carbon-carbon bond and stable in the presence of a base” represented by R 3 and R 4 include “substituents defined above”. A lower alkyl group that may have ", an" aryl group that may have a substituent "as defined above, an" aralkyl group that may have a substituent "as defined above, and a substituent. An cycloalkyl group which may be substituted, a saturated heterocyclic group which may have a substituent, an unsaturated heterocyclic group which may have a substituent, or a substituent substituted with these heterocyclic groups, as defined above And lower alkyl groups.

当該「置換基を有していてもよいシクロアルキル基」の「シクロアルキル基」としては、炭素数3〜8個のシクロアルキル基、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基が挙げられる。置換基としては、上記と同じ低級アルキル基または上記「置換基を有していてもよい低級アルキル基」と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、同一または異なっていてもよい。   The “cycloalkyl group” of the “cycloalkyl group optionally having substituent (s)” is a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclo A heptyl group or a cyclooctyl group is mentioned. Examples of the substituent include the same lower alkyl group as described above or the same substituent as the above-mentioned “lower alkyl group which may have a substituent”. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different.

当該「置換基を有してもよい飽和の複素環基」の「飽和の複素環基」としては、例えば、炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜2個含む5〜8員の飽和の複素環基であって炭素原子でつながるもの、例えば、2−又は3−テトラヒドロフリル基、2−、3−又は4−テトラヒドロピラニル基、2−又は3−テトラヒドロチエニル基、2−、3−又は4−テトラヒドロチオピラニル基、1,3−ジオキソラン−2又は4−イル基、1,4−ジオキサン−2−イル基、2−又は3−ピロリジニル基、2−、3−又は4−ピペリジニル基、2−ピペラジニル基、2−又は3−モルホリニル基、2−または4−イミダゾリジニル基等が挙げられる。置換基としては、上記「置換基を有していてもよいシクロアルキル基」と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、同一または異なっていてもよい。   As the “saturated heterocyclic group” of the “saturated heterocyclic group optionally having substituent (s)”, for example, a hetero atom selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom in addition to a carbon atom is 1-2. 5 to 8 membered saturated heterocyclic groups including ones connected by carbon atoms, such as 2- or 3-tetrahydrofuryl group, 2-, 3- or 4-tetrahydropyranyl group, 2- or 3- Tetrahydrothienyl group, 2-, 3- or 4-tetrahydrothiopyranyl group, 1,3-dioxolan-2 or 4-yl group, 1,4-dioxan-2-yl group, 2- or 3-pyrrolidinyl group, Examples include 2-, 3- or 4-piperidinyl group, 2-piperazinyl group, 2- or 3-morpholinyl group, 2- or 4-imidazolidinyl group and the like. Examples of the substituent include the same substituent as the above-mentioned “cycloalkyl group optionally having substituent (s)”. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different.

当該「置換基を有してもよい不飽和の複素環基」の「不飽和の複素環基」としては、例えば、炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜2個含む5〜6員の不飽和複素環基またはその縮合環基であって炭素原子でつながるもの、例えば、2−又は3−チエニル、1,2−ジヒドロチオフェン−2、3、4又は5−イル、1,4−ジヒドロチオフェン−2又は3−イル、2−又は3−フリル、1,2−ジヒドロフラン−2、3、4又は5−イル、1,4−ジヒドロフラン−2又は3−イル、2−又は3−ピロリル、2−ピロリン−2、3、4又は5−イル、3−ピロリン−2又は3−イル、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン−2,3,4,5又は6−イル、3,4−ジヒドロ−2H−チオピラン−2,3,4,5または6−イル、2−又は4−イミダゾリル、2−又は4−イミダゾリニル、2−、4−又は5−オキサゾリル、2−、4−又は5−オキサゾリニル、2−、4−又は5−チアゾリル、2−、4−又は5−チアゾリニル、3−、4−又は5−ピラゾリル、3−、4−又は5−ピラゾリニル、3−、4−又は5−イソオキサゾリル、3−、4−又は5−イソオキサゾリニル、3−、4−又は5−イソチアゾリル、3−、4−又は5−イソチアゾリニル、1,2,4−トリアゾール−3又は5−イル、1,2,3−トリアゾール−4−イル、1H−テトラゾール−1又は5−イル、2H−テトラゾール−2又は5−イル、2−、3−又は4−ピリジル、2−、4−又は5−ピリミジニル、1−、2−、3−、4−、5−、6−又は7−インドリル、2−、3−、4−、5−、6−又は7−ベンゾフリル、2−、3−、4−、5−、6−又は7−ベンゾチエニル、1−、2−、4−、5−、6−又は7−ベンズイミダゾリル、2−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−キノリル、1−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−イソキノリル等が挙げられる。置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、同一または異なっていてもよい。   As the “unsaturated heterocyclic group” of the “unsaturated heterocyclic group which may have a substituent”, for example, a hetero atom selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom in addition to a carbon atom is 1 5 to 6-membered unsaturated heterocyclic group containing 2 or its condensed ring group connected by a carbon atom, such as 2- or 3-thienyl, 1,2-dihydrothiophene-2, 3, 4 or 5-yl, 1,4-dihydrothiophene-2 or 3-yl, 2- or 3-furyl, 1,2-dihydrofuran-2, 3, 4 or 5-yl, 1,4-dihydrofuran-2 or 3-yl, 2- or 3-pyrrolyl, 2-pyrrolin-2, 3, 4 or 5-yl, 3-pyrrolin-2 or 3-yl, 3,4-dihydro-2H-pyran-2,3,4 , 5 or 6-yl, 3,4-dihydro-2H-thiopyran-2,3 , 5 or 6-yl, 2- or 4-imidazolyl, 2- or 4-imidazolinyl, 2-, 4- or 5-oxazolyl, 2-, 4- or 5-oxazolinyl, 2-, 4- or 5-thiazolyl 2-, 4- or 5-thiazolinyl, 3-, 4- or 5-pyrazolyl, 3-, 4- or 5-pyrazolinyl, 3-, 4- or 5-isoxazolyl, 3-, 4- or 5-iso Oxazolinyl, 3-, 4- or 5-isothiazolyl, 3-, 4- or 5-isothiazolinyl, 1,2,4-triazol-3 or 5-yl, 1,2,3-triazol-4-yl, 1H-tetrazol-1 or 5-yl, 2H-tetrazol-2 or 5-yl, 2-, 3- or 4-pyridyl, 2-, 4- or 5-pyrimidinyl, 1-, 2-, 3--4 -, 5-, 6- or 7-yne Ryl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzofuryl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzothienyl, 1-, 2-, 4-, 5-, 6- or 7-benzimidazolyl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-quinolyl, 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- Or 8-isoquinolyl etc. are mentioned. Examples of the substituent include the same substituent as the above-mentioned “aryl group optionally having substituent (s)”. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different.

で示される「カルボニル基α位の炭素原子と炭素−ヘテロ原子結合でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基」としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子につながる水素原子の一つが通常用いられる保護基(例えば、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、アルカノイル基(アセチル基、プロピオニル基等)等)で保護されたもの、当該へテロ原子に上記で定義された「カルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基」が結合して形成される基、または上記で定義された「置換基を有してもよい飽和複素環基または不飽和複素環基」であってヘテロ原子でつながるもの(例えば、1−ピロリジニル、複素環基(VIII)、1−ピペリジニル、1−ピペラジニル、4−モルホリニル、1−−イミダゾリジニル、4−チオモルホニル)が挙げられ、複素環基(VIII)が好ましい。なお、上記へテロ原子がハロゲン原子の場合は、平衡エピメリ化反応において使用される塩基と反応し、副反応が起こるおそれがあるため、へテロ原子からハロゲン原子は除外される。 Examples of the group represented by R 4 "a group connected to a carbon atom at the carbonyl group α-position and a carbon-heteroatom bond and stable in the presence of a base" include heteroatoms such as a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. One of the connecting hydrogen atoms protected by a commonly used protective group (eg, tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, benzoyl group, alkanoyl group (acetyl group, propionyl group, etc.)), the heteroatom Or a group formed by bonding a “group connected to a carbon atom at the carbonyl group α-position by a carbon-carbon bond and stable in the presence of a base” as defined above, or “defined above” A saturated heterocyclic group or an unsaturated heterocyclic group optionally having substituent (s) connected by a hetero atom (for example, 1-pyrrolidinyl, heterocyclic group (VIII), 1-pi Lysinyl, 1-piperazinyl, 4-morpholinyl, 1-- imidazolidinyl, 4-Chiomoruhoniru), with a Hajime Tamaki (VIII) are preferred. In addition, when the said hetero atom is a halogen atom, since it reacts with the base used in an equilibrium epimerization reaction and a side reaction may occur, a halogen atom is excluded from a hetero atom.

およびRにおける「塩基の存在下で安定な」とは、ジアステレオマー混合物(I)の平衡エピメリ化に使用される塩基の存在下で安定であるということを意味する。 “Stable in the presence of a base” in R 3 and R 4 means stable in the presence of a base used for equilibrium epimerization of the diastereomeric mixture (I).

およびRがつながって、結合する炭素原子と一緒に形成してもよい「環」としては、5〜8員の同素環(例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等)または窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる1〜2個のヘテロ原子を含む5〜8員の非芳香族複素環(例えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、テトラヒドロチオフェン、1,4−ジオキサン、ピペリジン等)あるいはそれらの環とベンゼン環等との縮合環が挙げられる。当該環はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては上記「置換基を有してもよい低級アルキル基」と同じ置換基;窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子につながる水素原子の一つが通常用いられる保護基(例えば、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、アルカノイル基(アセチル基、プロピオニル基等)等)で保護されたものまたは当該へテロ原子に上記で定義された「カルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基」が結合して形成される基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、同一または異なっていてもよい。 As the “ring” that R 3 and R 4 may be connected to form with the carbon atom to which they are bonded, a 5- to 8-membered homocyclic ring (for example, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, etc.) Or a 5- to 8-membered non-aromatic heterocyclic ring containing 1 to 2 heteroatoms selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom (for example, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, tetrahydrothiopyran, tetrahydrothiophene, 1,4- Dioxane, piperidine, etc.) or condensed rings of these rings and benzene rings. The ring may further have a substituent, and the substituent is the same as the above-mentioned “lower alkyl group which may have a substituent”; a hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom; One of the connecting hydrogen atoms protected by a commonly used protecting group (eg, tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, benzoyl group, alkanoyl group (acetyl group, propionyl group, etc.)) or the hetero atom And a group formed by bonding a “group connected to the carbon atom at the α-position of the carbonyl group and a carbon-carbon bond and stable in the presence of a base” as defined above. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different.

およびRが結合する炭素原子は不斉炭素である必要があるため、RとRが同時に同じ基を意味することはない。 Since the carbon atom to which R 3 and R 4 are bonded must be an asymmetric carbon, R 3 and R 4 do not mean the same group at the same time.

およびRとしては低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましく、低級アルキル基と置換基を有してもよいアリール基の組み合わせが好ましく、化合物(III)の光学活性アミンとして入手容易であることから、メチル基とフェニル基、メチル基とナフチル基の組み合わせがより好ましい。 R 1 and R 2 are preferably a lower alkyl group or an aryl group which may have a substituent, preferably a combination of a lower alkyl group and an aryl group which may have a substituent, and the optical activity of the compound (III) A combination of a methyl group and a phenyl group, or a methyl group and a naphthyl group is more preferable because it is easily available as an amine.

及びRとしては、結合する炭素原子と一緒に環を形成する態様が好ましく、当該環としては、テトラヒドロピランまたはそのベンゼン環との縮合環、特に複素環(V)が、特開平1−93588号公報記載のアルドースリダクターゼ阻害活性を有する医薬の有用な中間体となるため好ましい。 As R 3 and R 4 , an embodiment in which a ring is formed together with the carbon atoms to be bonded is preferable. As the ring, tetrahydropyran or a condensed ring with a benzene ring, particularly a heterocyclic ring (V) is disclosed in JP-A-1 This is preferable because it becomes a useful intermediate of a drug having aldose reductase inhibitory activity described in JP-A-93588.

さらに好適な態様として、R及びカルボニル基α位の炭素原子が炭素−ヘテロ原子結合でつながれており、Rが上記で定義された「置換基を有してもよい飽和複素環基または不飽和複素環基であってヘテロ原子でつながるもの」である態様が挙げられ、特に複素環基(VIII)が好ましい。Rが複素環基(VIII)である場合、Rとしては低級アルキル基が好ましく、エチル基がより好ましい。 In a further preferred embodiment, R 4 and the carbon atom at the α-position of the carbonyl group are connected by a carbon-heteroatom bond, and R 4 is defined as the above-mentioned “saturated heterocyclic group which may have a substituent or An embodiment of “saturated heterocyclic group connected by hetero atom” is mentioned, and heterocyclic group (VIII) is particularly preferable. When R 4 is a heterocyclic group (VIII), R 3 is preferably a lower alkyl group, more preferably an ethyl group.

複素環(V)、化合物(Ia’)、(Ib’)、(II’)、(IVa’)、(IVb’)、(VI)のXとしては、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。   X in the heterocyclic ring (V), compounds (Ia ′), (Ib ′), (II ′), (IVa ′), (IVb ′), and (VI) is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom. .

およびRとしては低級アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。 R 5 and R 6 are preferably a lower alkyl group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.

複素環基(VIII)のYとしては水素原子が好ましく、mとしては1が好ましい。   Y in the heterocyclic group (VIII) is preferably a hydrogen atom, and m is preferably 1.

本発明の方法を、以下の反応スキームに示す。   The method of the present invention is shown in the following reaction scheme.

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号および波線は前記と同義を示す。)
すなわち本発明は、光学活性化合物(Ia)と光学活性化合物(Ib)の混合物であるジアステレオマー混合物(I)を塩基の存在下、カルボニル基α位の炭素原子上の水素原子を平衡エピメリ化させながら、同一反応系内で光学活性化合物(Ia)または光学活性化合物(Ib)を結晶化させる工程(以下、エピ化晶出工程ともいう。)を包含する光学活性化合物(Ia)または光学活性化合物(Ib)の製造方法、あるいはジアステレオマー混合物(I)からの光学活性化合物(Ia)または光学活性化合物(Ib)の分離方法である。さらに、得られたそれぞれの化合物は、酸性条件下加水分解する工程(以下、加水分解工程という。)に付することにより、カルボニル基α位の炭素原子のキラリティーを維持したまま、光学活性カルボン酸化合物である光学活性化合物(IVa)または光学活性化合物(IVb)に導くことができる。
(In the formula, each symbol and wavy line have the same meaning as described above.)
That is, according to the present invention, the diastereomeric mixture (I), which is a mixture of the optically active compound (Ia) and the optically active compound (Ib), is subjected to equilibrium epimerization of the hydrogen atom on the carbon atom at the α-position of the carbonyl group in the presence of a base. The optically active compound (Ia) or the optically active compound comprising the step of crystallizing the optically active compound (Ia) or the optically active compound (Ib) in the same reaction system (hereinafter also referred to as epicrystallization step). It is a method for producing compound (Ib), or a method for separating optically active compound (Ia) or optically active compound (Ib) from diastereomeric mixture (I). Further, each of the obtained compounds is subjected to a step of hydrolysis under acidic conditions (hereinafter referred to as a hydrolysis step), thereby maintaining the chirality of the carbon atom at the carbonyl group α-position while maintaining the chirality of the optically active carboxylic acid. It can lead to optically active compound (IVa) or optically active compound (IVb) which is an acid compound.

さらには、当該エピ化晶出工程の原料であるジアステレオマー混合物(I)の製法として、化合物(II)を塩基の存在下に化合物(III)と反応させる工程(以下、アミド化工程という。)を採用することにより、エピ化晶出工程とアミド化工程をワンポット反応で行うことができるので、さらに効率的に行うことができる。   Furthermore, as a method for producing the diastereomeric mixture (I) as a raw material for the epicrystallization step, a step of reacting compound (II) with compound (III) in the presence of a base (hereinafter referred to as amidation step). ) Can be performed more efficiently because the epicrystallization process and the amidation process can be performed by a one-pot reaction.

本発明のエピ化晶出工程では、光学活性化合物(Ia)または光学活性化合物(Ib)のうち、所望の立体配置のカルボニル基α位炭素原子を有する方のジアステレオマーが結晶化するように設定しておけば、比較的速い平衡エピメリ化により、不要のジアステレオマーが所望のジアステレオマーにエピメリ化する方向(上記スキームにおいて、所望のジアステレオマーが光学活性化合物(Ia)の場合は左側、光学活性化合物(Ib)の場合は右側)にずれるため、結晶化の進行に伴って、理論的には、すべて所望のジアステレオマーのみを結晶として得られ、一工程で100%以上の分割収率を達成することができるという大きな利点がある。ここで分割収率とは、ラセミ体の光学分割において所望の立体異性体をすべて回収した場合を100%として換算した収率を意味し、ラセミ体からの収率を2倍にした数値となる。   In the epicrystallization step of the present invention, the diastereomer having the carbon atom α-position of the desired configuration in the optically active compound (Ia) or optically active compound (Ib) is crystallized. If set, the direction in which an unnecessary diastereomer epimerizes to a desired diastereomer by relatively fast equilibrium epimerization (in the above scheme, when the desired diastereomer is an optically active compound (Ia)). Since it shifts to the left side, the right side in the case of the optically active compound (Ib), theoretically, all the desired diastereomers can be obtained as crystals as the crystallization progresses. There is a great advantage that a splitting yield can be achieved. Here, the resolution yield means a yield converted to 100% when all the desired stereoisomers are recovered in the optical resolution of the racemate, and is a value obtained by doubling the yield from the racemate. .

なお、エピ化晶出工程において、光学活性化合物(Ia)と光学活性化合物(Ib)のどちらが結晶化するかは、反応系におけるそれぞれの化合物の結晶性や溶解度の差によって決定され、すなわち、結晶性が高くまたは溶解度が低い方の化合物が結晶化する。光学活性化合物(Ia)および(Ib)の結晶性や溶解度は、アミド化工程における化合物(II)に対して、化合物(III)のRおよびRの選択によって容易に制御することができるので、所望の立体配置のカルボニル基α位炭素原子を有するジアステレオマーが結晶化するように、適切な化合物(III)を選択すればよい。また、化合物(III)の立体配置を選択することにより、結晶化する化合物を自在に制御することも可能である。
以下、本発明の各工程を説明する。
In the epicrystallization process, which of the optically active compound (Ia) and the optically active compound (Ib) is crystallized is determined by the difference in crystallinity and solubility of each compound in the reaction system. The compound with higher properties or lower solubility crystallizes. The crystallinity and solubility of optically active compounds (Ia) and (Ib) can be easily controlled by selecting R 1 and R 2 of compound (III) relative to compound (II) in the amidation step. An appropriate compound (III) may be selected so that a diastereomer having a carbonyl group α-position carbon atom having a desired configuration crystallizes. In addition, the compound to be crystallized can be freely controlled by selecting the configuration of compound (III).
Hereafter, each process of this invention is demonstrated.

1.エピ化晶出工程
エピ化晶出工程は、例えば溶媒中または無溶媒で、ジアステレオマー混合物(I)を塩基と反応させて、反応系中から光学活性化合物(Ia)または(Ib)を結晶化させることによって行うことができる。この場合、試薬の添加順序は特に限定はなく、ジアステレオマー混合物(I)および塩基を順次または同時に添加すればよい。
このような操作を行うことにより、ジアステレオマー混合物(I)を平衡エピメリ化させながら、同一反応系内で光学活性化合物(Ia)または(Ib)を結晶化させることができる。
1. Epimerization Crystallization Step In the epimerization crystallization step, the optically active compound (Ia) or (Ib) is crystallized from the reaction system by reacting the diastereomeric mixture (I) with a base in a solvent or without a solvent, for example. Can be performed. In this case, the addition order of the reagent is not particularly limited, and the diastereomeric mixture (I) and the base may be added sequentially or simultaneously.
By performing such an operation, the optically active compound (Ia) or (Ib) can be crystallized in the same reaction system while the diastereomeric mixture (I) is allowed to undergo equilibrium epimerization.

エピ化晶出工程において結晶化とは、光学活性化合物(Ia)または(Ib)のうちどちらかを多く含む結晶が析出してくることを意味する。晶出してくる結晶のジアステレオ過剰率(d.e.)は特に限定はないが、効率的に光学分割を行うためには、70%d.e.以上が好ましく、90%d.e.以上がより好ましい。   Crystallization in the epicrystallization step means that crystals containing either one of the optically active compounds (Ia) or (Ib) are precipitated. There is no particular limitation on the diastereoexcess ratio (de) of the crystal to be crystallized, but in order to perform optical resolution efficiently, 70% d.e. e. Or more, preferably 90% d. e. The above is more preferable.

平衡エピメリ化とは、下記スキームに示すように、ジアステレオマー混合物(I)のカルボニル基α位の不斉炭素を異性化させて、光学活性化合物(Ia)または(Ib)がお互いに変換して、平衡状態になることを意味する。   As shown in the following scheme, equilibrium epimerization means that an optically active compound (Ia) or (Ib) is converted into each other by isomerizing the asymmetric carbon at the carbonyl group α-position of the diastereomeric mixture (I). This means that an equilibrium state is reached.

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
当該平衡エピメリ化によって、通常、光学活性化合物(Ia)と(Ib)のほぼ当量混合物に達するが、例えば光学活性化合物(Ia)が結晶化した場合は、母液中においては光学活性化合物(Ib)が多い状態となり、上記平衡反応が光学活性化合物(Ia)に変換される方向(上記スキームで左側)に傾くため、光学活性化合物(Ia)を高収率で製造することができる。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
By the equilibrium epimerization, an optically active compound (Ia) and an optically active compound (Ib) are usually reached in the mother liquor when the optically active compound (Ia) is crystallized. Since the equilibrium reaction tends to be converted into the optically active compound (Ia) (left side in the above scheme), the optically active compound (Ia) can be produced in a high yield.

エピ化晶出工程は、円滑に行うために通常は、溶媒中において行われるが、ジアステレオマー混合物(I)の態様によっては、ほとんど無溶媒で行うことも可能である。溶媒中で行う場合使用される溶媒は光学活性化合物(Ia)または(Ib)のうち所望のジアステレオマーを結晶化させ、かつ平衡エピメリ化反応を阻害しないものを適宜選択すればよく、例えば低級アルコール類(例、メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノール等)、エーテル類(例、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルtert−ブチルエーテル等)、炭化水素系溶媒(例、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類またはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類)等の単独または混合溶媒が挙げられるが、好ましくは低級アルコール類等であり、より好ましくは2−プロパノール等である。なお、用いる溶媒は塩基を分解させないようにするために無水であることが好ましい。   The epicrystallization process is usually performed in a solvent in order to perform smoothly, but depending on the form of the diastereomeric mixture (I), it can also be performed almost without a solvent. The solvent used in the solvent may be appropriately selected from optically active compounds (Ia) or (Ib) that crystallize the desired diastereomers and do not inhibit the equilibrium epimerization reaction. Alcohols (eg, methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol, etc.), ethers (eg, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, etc.), hydrocarbon solvents (eg, heptane, An aliphatic hydrocarbon such as octane or decane, or an aromatic hydrocarbon such as toluene or xylene) or a mixed solvent such as lower alcohols, preferably 2-propanol or the like. is there. The solvent used is preferably anhydrous in order not to decompose the base.

当該溶媒の使用量は、使用する溶媒に対する所望のジアステレオマーの溶解度により、高純度かつ高収率で結晶化させ得る範囲の量を適宜決定すればよい。例えば、本発明の好ましい態様であるRとRが複素環(V)を形成するジアステレオマー混合物(I)に2−プロパノールを使用した場合は、ジアステレオマー混合物(I)1重量部に対して、1〜5重量部の範囲が好ましく、2〜4重量部の範囲がより好ましい。2−プロパノールの使用量は、この範囲外でも行うことができるが、この範囲より多いと回収率が低くなる傾向があり、少ないと結晶出後の撹拌が困難になる、または純度が低下する場合がある。 The amount of the solvent used may be appropriately determined within a range that can be crystallized with high purity and high yield, depending on the solubility of the desired diastereomer in the solvent to be used. For example, when 2-propanol is used for the diastereomeric mixture (I) in which R 3 and R 4, which are preferred embodiments of the present invention, form a heterocyclic ring (V), 1 part by weight of the diastereomeric mixture (I) On the other hand, the range of 1 to 5 parts by weight is preferable, and the range of 2 to 4 parts by weight is more preferable. The amount of 2-propanol can be used outside this range, but if it exceeds this range, the recovery rate tends to be low, and if it is less, stirring after crystallization becomes difficult or the purity decreases. There is.

エピ化晶出工程において使用される塩基としては、ジアステレオマー混合物(I)の平衡エピメリ化を行い得るような比較的強塩基性のもの、例えば、共役酸のpKaが16〜35の範囲である塩基が好ましい。そのような塩基としては、pKaが当該範囲である化合物のアルカリ金属塩や強塩基性有機アミン、例えば、水素化アルカリ金属類(例、水素化ナトリウム、水素化カリウム等)、アルカリ金属アルコキシド(例、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、カリウムプロポキシド、ナトリウム2−プロポキシド、カリウム2−プロポキシド等)、強塩基性有機アミン(例、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN)等)等が挙げられ、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウム2−プロポキシド等が好ましい。
なお、水素化アルカリ金属類を低級アルコール類溶媒中で使用した場合は、それらが反応して生成するアルカリ金属アルコキシドが塩基として働いていることになる。
また、アルカリ金属アルコキシドを低級アルコール類溶媒中で使用する場合において、使用溶媒と異なるアルコキシ基を有するアルカリ金属アルコキシドを用いる場合、生成する異種アルコールは留去等により除去することも可能である。
The base used in the epicrystallization step is a relatively strong base that can perform equilibrium epimerization of the diastereomeric mixture (I), for example, the pKa of the conjugate acid is in the range of 16 to 35. Certain bases are preferred. Examples of such bases include alkali metal salts and strongly basic organic amines of compounds having a pKa in the above range, such as alkali metal hydrides (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), alkali metal alkoxides (eg, Sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, sodium propoxide, potassium propoxide, sodium 2-propoxide, potassium 2-propoxide, etc.), strongly basic organic amines (eg, 1,8 -Diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN) and the like), sodium hydride, sodium, etc. Methoxide, sodium 2-propoxide and the like are preferable.
In addition, when alkali metal hydrides are used in a lower alcohol solvent, the alkali metal alkoxide produced by the reaction of them acts as a base.
Further, when the alkali metal alkoxide is used in a lower alcohol solvent, when the alkali metal alkoxide having an alkoxy group different from the solvent used is used, the produced different alcohol can be removed by distillation or the like.

当該塩基の使用量は、例えば、ジアステレオマー混合物(I)に対して、0.1〜2当量の範囲が好ましく、0.5〜1当量の範囲がより好ましい。塩基の使用量は、この範囲外でも行うことができるが、この範囲より少ないと平衡エピメリ化が遅くなり、エピ化晶出が円滑に行えなくなる傾向があり、多い場合は不必要に試剤が多いことで操作的な不具合が生じるおそれがあり、また経済的に不利となる。   The amount of the base used is, for example, preferably in the range of 0.1 to 2 equivalents and more preferably in the range of 0.5 to 1 equivalents with respect to the diastereomeric mixture (I). The amount of the base used can be outside this range, but if it is less than this range, the equilibrium epimerization tends to be slow, and there is a tendency that epicrystallization does not occur smoothly. This may cause operational problems and is economically disadvantageous.

エピ化晶出工程の反応温度は、通常は20℃〜150℃であるが、30℃〜80℃が好ましい。反応温度は、この範囲外でも行うことができるが、この範囲より低いと平衡エピメリ化が遅くなる傾向があり、高いと副反応が進行するおそれがある。反応時間は特に限定はないが、光学活性化合物(Ia)または(Ib)の晶出が十分進行するまで行えばよく、通常3時間〜24時間の範囲である。   The reaction temperature in the epicrystallization step is usually 20 ° C to 150 ° C, but preferably 30 ° C to 80 ° C. The reaction temperature can be carried out outside this range, but if it is lower than this range, the equilibrium epimerization tends to be slow, and if it is high, side reaction may proceed. Although the reaction time is not particularly limited, it may be carried out until the crystallization of the optically active compound (Ia) or (Ib) proceeds sufficiently, and is usually in the range of 3 to 24 hours.

エピ化晶出工程の終了後、反応液を冷水(0℃〜常温)に注ぎ反応を止め、次いで、抽出、洗浄、濃縮した後、濃縮物を結晶化に適当な溶媒から晶出することにより、光学活性化合物(Ia)または(Ib)の結晶を単離することができる。   After completion of the epicrystallization step, the reaction solution is poured into cold water (0 ° C. to room temperature) to stop the reaction, and then extracted, washed and concentrated, and then the concentrate is crystallized from a solvent suitable for crystallization. The crystals of the optically active compound (Ia) or (Ib) can be isolated.

光学活性化合物(Ia)または(Ib)の単離精製の他の態様としては、エピ化晶出反応の終了後、母液中に残存する所望のジアステレオマーを十分に晶出させるために10〜20℃に冷却し、結晶を濾過することができる。この時、光学活性化合物(Ia)または(Ib)を高純度かつ高収率にエピ化晶出させるために、攪拌しながら徐々に冷却し(例えば、2〜15℃/時間の速度で)、さらに25〜40℃で2〜24時間熟成させることが好ましい。十分に晶出した化合物は、濾過後、使用した溶媒(好ましくは冷却したもの)で洗浄することにより、単離することができる。   As another embodiment of the isolation and purification of the optically active compound (Ia) or (Ib), after the completion of the epicrystallization crystallization reaction, 10 to 10 in order to sufficiently crystallize the desired diastereomer remaining in the mother liquor. Cool to 20 ° C and filter the crystals. At this time, the optically active compound (Ia) or (Ib) is gradually cooled with stirring (for example, at a rate of 2 to 15 ° C./hour) in order to cause crystallization with high purity and high yield. Further, aging is preferably performed at 25 to 40 ° C. for 2 to 24 hours. The sufficiently crystallized compound can be isolated by washing with a used solvent (preferably cooled) after filtration.

上記の単離精製操作で回収される母液は光学活性化合物(Ia)または(Ib)を含んでおり、必要に応じてエピ化晶出工程の原料であるジアステレオマー混合物(I)として用いることができ、繰り返して結晶を取得することができる。その際、必要により留去による溶媒量の調整や塩基の追加等を行ってもよい。   The mother liquor recovered by the isolation and purification operation described above contains the optically active compound (Ia) or (Ib), and is used as a diastereomeric mixture (I) that is a raw material for the epicrystallization process as necessary. The crystal can be obtained repeatedly. At that time, if necessary, the amount of solvent may be adjusted by distillation or a base may be added.

2.アミド化工程(エピ化晶出工程とのワンポット反応)
エピ化晶出工程の原料であるジアステレオマー混合物(I)は、例えば、本発明のアミド化工程、すなわち、化合物(II)を塩基の存在下に、化合物(III)と反応させることによって製造することができる。アミド化工程においてジアステレオマー混合物(I)をジアステレオマー結晶として、一旦単離してエピ化晶出工程に供してもよいが、エピ化晶出工程に用いられる比較的強い塩基はアミド化工程を効率的に促進するため、好ましい態様として、アミド化工程に用いる溶媒および塩基をエピ化晶出工程と同じものを用いることにより、アミド化工程およびエピ化晶出工程をワンポット反応で行うことができる。本明細書においてワンポット反応とは、中間体を単離することなく、連続する2以上の工程を同一の反応容器内で連続的または同時に行う反応を意味する。以下にアミド化工程について説明するが、便宜上、当該ワンポット反応で行う態様について説明する。
なお、平衡エピメリ化にアンモニア水のような弱塩基が用いられる場合には、そのような弱塩基ではアミド化工程をあまり効率的には促進されず、さらには、アンモニア水を用いる従来技術では、原料のエステルがアンモニアと反応してアミドを生成するために、アミド化とエピ化晶出とをワンポット反応で行うことができない。
2. Amidation process (one-pot reaction with epicrystallization process)
The diastereomeric mixture (I) as the raw material for the epicrystallization process is produced, for example, by reacting the compound (II) with the compound (III) in the presence of a base, that is, the amidation process of the present invention. can do. In the amidation step, the diastereomeric mixture (I) may be once isolated as a diastereomeric crystal and used for the epicrystallization step, but the relatively strong base used in the epicrystallization step is an amidation step. In order to efficiently promote the reaction, it is preferable that the amidation step and the epimerization crystallization step be performed in a one-pot reaction by using the same solvent and base used in the amidation step as those in the epimerization crystallization step. it can. In the present specification, the one-pot reaction means a reaction in which two or more successive steps are carried out continuously or simultaneously in the same reaction vessel without isolating the intermediate. The amidation step will be described below, but for convenience, an embodiment performed in the one-pot reaction will be described.
When a weak base such as aqueous ammonia is used for equilibrium epimerization, such a weak base does not promote the amidation process very efficiently, and furthermore, in the prior art using aqueous ammonia, Since the raw material ester reacts with ammonia to produce an amide, amidation and epicrystallization cannot be performed in a one-pot reaction.

ワンポット反応は、例えば溶媒中において、化合物(II)を塩基の存在下、化合物(III)と反応させて、生成したジアステレオマー混合物(I)を含有する反応混合物から光学活性化合物(Ia)または(Ib)を晶出させることにより行うことができる。この場合、試薬の添加順序は特に限定はなく、化合物(II)、化合物(III)および塩基を順次または同時に添加すればよい。
このような操作を行うことにより、化合物(II)と化合物(III)からジアステレオマー混合物(I)を生成し、そのまま同一反応系においてエピ化晶出工程を行うことができる。
In the one-pot reaction, for example, in a solvent, compound (II) is reacted with compound (III) in the presence of a base, and the resulting diastereomeric mixture (I) is reacted with the optically active compound (Ia) or This can be done by crystallizing (Ib). In this case, the addition order of the reagent is not particularly limited, and the compound (II), the compound (III) and the base may be added sequentially or simultaneously.
By performing such an operation, the diastereomer mixture (I) can be produced from the compound (II) and the compound (III), and the epicrystallization process can be carried out as it is in the same reaction system.

使用される化合物(III)は、入手可能な光学活性一級アミンを特に制限なく使用することができ、入手容易で、安価であり、しかもR体もS体も入手できることから、光学活性1−フェニルエチルアミン、光学活性1−(1−ナフチル)エチルアミン、光学活性2−アミノ−1−ブタノール、ノルエフェドリン等が好ましく、光学活性1−フェニルエチルアミン、光学活性1−(1−ナフチル)エチルアミンがより好ましい。   As the compound (III) to be used, an optically active 1-phenyl can be used since any optically active primary amine that can be used can be used without particular limitation, is easily available, is inexpensive, and is available in both R and S forms. Ethylamine, optically active 1- (1-naphthyl) ethylamine, optically active 2-amino-1-butanol, norephedrine and the like are preferable, and optically active 1-phenylethylamine and optically active 1- (1-naphthyl) ethylamine are more preferable.

ワンポット反応において、化合物(III)の使用量は化合物(II)に対して0.9〜2当量の範囲が好ましく、1〜1.5当量の範囲がより好ましい。化合物(III)の使用量は、この範囲外でも行うことができるが、この範囲より少ないと化合物(II)が十分にジアステレオマー混合物(I)に変換されない場合があり、この範囲より多く使用しても使用量に見合う効果はなく、コスト的に不利になる。   In the one-pot reaction, the amount of compound (III) used is preferably in the range of 0.9 to 2 equivalents, more preferably in the range of 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (II). The amount of compound (III) can be used outside this range, but if it is less than this range, compound (II) may not be sufficiently converted to diastereomeric mixture (I), and the amount used is more than this range. Even if there is no effect commensurate with the amount used, it is disadvantageous in terms of cost.

ワンポット反応に使用される溶媒および塩基は、上記エピ化晶出工程と同じものを使用すればよい。または、アミド化工程においては、化合物(III)を化合物(II)よりも過剰量使用し、その過剰分の化合物(III)を塩基として作用させてもよい。また、その使用量は、エピ化晶出工程における使用量をアミド化工程により製造されるジアステレオマー混合物(I)の量に換算して使用量とすればよい。具体的には塩基の使用量は化合物(II)に対して0.1〜2当量の範囲が好ましく、0.5〜1当量の範囲がより好ましい。
なお、低級アルコール類を溶媒とする場合に、化合物(II)のアルキルエステルから遊離されるROHで表されるアルコールが使用溶媒と異なる場合、生成する当該アルコールを留去等により除去することができる。
The solvent and base used for the one-pot reaction may be the same as those used in the epicrystallization step. Alternatively, in the amidation step, an excess amount of compound (III) may be used as compared with compound (II), and the excess amount of compound (III) may be allowed to act as a base. Moreover, what is necessary is just to make the usage-amount into the usage-amount by converting the usage-amount in an epicrystallization process into the quantity of the diastereomeric mixture (I) manufactured by an amidation process. Specifically, the amount of the base used is preferably in the range of 0.1 to 2 equivalents, more preferably in the range of 0.5 to 1 equivalents, relative to compound (II).
When lower alcohols are used as solvents, if the alcohol represented by R 5 OH released from the alkyl ester of compound (II) is different from the solvent used, the generated alcohol should be removed by distillation or the like. Can do.

ワンポット反応は、エピ化晶出工程と同じ温度で行えばよく、当該温度範囲でアミド化工程も十分に進行する。反応時間はアミド化工程を完結させる必要があるため上記エピ化晶出工程にアミド化工程を含めた場合、見掛上より長く設定する必要があり、そのうちアミド化工程に要する時間は、通常0.5時間〜5時間である。   The one-pot reaction may be performed at the same temperature as the epicrystallization step, and the amidation step proceeds sufficiently within the temperature range. Since the reaction time needs to complete the amidation step, when the amidation step is included in the epicrystallization step, it is necessary to set the reaction time longer than apparent, and the time required for the amidation step is usually 0. .5 hours to 5 hours.

ワンポット反応終了後の処理は、上記エピ化晶出工程と同様である。この場合、回収される母液は上記エピ化晶出工程の原料として再利用することもできるが、当該母液に化合物(II)および化合物(III)を加えて、当該ワンポット反応を繰り返して行ってもよく、その際、必要により留去による溶媒量の調整や塩基の追加等を行ってもよい。   The treatment after the end of the one-pot reaction is the same as in the epicrystallization step. In this case, the recovered mother liquor can be reused as a raw material for the epicrystallization step, but compound (II) and compound (III) can be added to the mother liquor and the one-pot reaction can be repeated. In that case, if necessary, the amount of the solvent may be adjusted by distillation or a base may be added.

アミド化工程(ワンポット反応を含む。)の原料である化合物(II)は、ラセミのカルボン酸エステル化合物を特に制限なく使用することができるが、好ましい態様である化合物(II’)である場合は、下記スキームで示すように、化合物(VI)を酸の存在下に、オルソエステル(VII)と反応させることにより、化合物(II’)を製造することができる。   As the compound (II) which is a raw material of the amidation step (including a one-pot reaction), a racemic carboxylic acid ester compound can be used without any particular limitation, but when it is a compound (II ′) which is a preferred embodiment, As shown in the following scheme, compound (II ′) can be produced by reacting compound (VI) with orthoester (VII) in the presence of an acid.

Figure 2006028154
Figure 2006028154

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
化合物(II’)は新規化合物であり、アミド化工程およびエピ化晶出工程のワンポット反応の原料に適しており、後述の光学活性化合物(IVa’)に効率的に導くことができるので、特開平1−93588号公報記載のアルドースリダクターゼ阻害活性を有する医薬の中間体として極めて有用である。化合物(II’)においては、Xがフッ素原子であり、かつR’がメチル基である態様が医薬品の合成中間体としてより好ましい。
また、上記化合物(II’)の製造方法は、化合物(VI)のカルボニル基の保護とエステル化を一工程で行うことができるので、化合物(II’)の効率的な製造方法として有用性が高い。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
Compound (II ′) is a novel compound, suitable as a raw material for the one-pot reaction in the amidation step and epicrystallization step, and can be efficiently led to the optically active compound (IVa ′) described later. It is extremely useful as an intermediate of a pharmaceutical having aldose reductase inhibitory activity described in Kaihei 1-93588. In the compound (II ′), an embodiment in which X is a fluorine atom and R 6 ′ is a methyl group is more preferable as a synthetic intermediate of a pharmaceutical product.
In addition, since the production method of the compound (II ′) can protect and esterify the carbonyl group of the compound (VI) in one step, it is useful as an efficient production method of the compound (II ′). high.

なお、化合物(II’)においてカルボニル基を保護しない態様は、塩基の存在下で不安定であり、エピ化晶出工程に供することができないため、カルボニル基の保護は必須である。
以下、化合物(II’)の製造方法について詳細を説明する。
In addition, since the aspect which does not protect a carbonyl group in compound (II ') is unstable in presence of a base and cannot use for an epicrystallization process, protection of a carbonyl group is essential.
Hereinafter, the production method of compound (II ′) will be described in detail.

2−1.化合物(II’)の製造方法
化合物(II’)は、例えば溶媒中または無溶媒において、化合物(VI)を酸の存在下、オルソエステル(VII)と反応させることによって行うことができる。この場合、試薬の添加順序は特に限定はなく、化合物(VI)、オルソエステル(VII)および酸を順次または同時に添加すればよい。
2-1. Method for Producing Compound (II ′) Compound (II ′) can be produced, for example, by reacting compound (VI) with orthoester (VII) in the presence of an acid in a solvent or without a solvent. In this case, the addition order of the reagent is not particularly limited, and compound (VI), orthoester (VII) and acid may be added sequentially or simultaneously.

使用される酸としては特に限定はなく、有機スルホン酸(例、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等)の有機酸または鉱酸(例えば、塩酸、硫酸等)が挙げられ、好ましくはp−トルエンスルホン酸である。当該酸の使用量は化合物(VI)に対して0.01〜0.1当量の範囲が好ましく、0.01〜0.05当量の範囲がより好ましい。   The acid used is not particularly limited, and examples thereof include organic acids such as organic sulfonic acids (eg, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, etc.) or mineral acids (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.). P-toluenesulfonic acid is preferred. The amount of the acid used is preferably in the range of 0.01 to 0.1 equivalent, more preferably in the range of 0.01 to 0.05 equivalent, relative to compound (VI).

オルソエステル(VII)の使用量は化合物(VI)に対して1〜15当量の範囲が好ましく、1.5〜10当量の範囲がより好ましい。オルソエステル(VII)の使用量は、この範囲外でも行うことができるが、この範囲より少ないと収率が低くなる傾向があり、多く使用しても使用量に見合う効果は少なくコスト的に不利になりやすい。   The amount of orthoester (VII) used is preferably in the range of 1 to 15 equivalents, more preferably in the range of 1.5 to 10 equivalents, relative to compound (VI). The orthoester (VII) can be used outside this range, but if the amount is less than this range, the yield tends to be low. It is easy to become.

化合物(II’)の製造方法は溶媒中で行うこともできるが、オルソエステル(VII)を多く用いた場合は無溶媒で行うこともできる。溶媒を用いる場合、溶媒としては当該反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えば低級アルコール類(例、メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール等)、トルエン等の単独または混合溶媒が挙げられるが、R’と同じ残基を有する低級アルコール類を使用するのが好ましい。当該溶媒の使用量は、化合物(VI)1重量部に対して、1〜10重量部の範囲が好ましく、2〜5重量部の範囲がより好ましい。 Although the manufacturing method of compound (II ') can also be performed in a solvent, when many orthoesters (VII) are used, it can also be performed without a solvent. When a solvent is used, the solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, lower alcohols (eg, methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol etc.), toluene alone or a mixed solvent However, it is preferable to use a lower alcohol having the same residue as R 6 ′. The amount of the solvent used is preferably in the range of 1 to 10 parts by weight and more preferably in the range of 2 to 5 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound (VI).

反応温度は、通常、常温〜溶媒の沸点である。反応時間は、通常0.5時間〜10時間である。   The reaction temperature is usually from room temperature to the boiling point of the solvent. The reaction time is usually 0.5 hours to 10 hours.

得られる化合物(II’)は、常法により単離、精製することができる。例えば、反応終了後反応液を冷却し、塩基(例、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等)を添加するか、あるいは当該塩基を含む水溶液中に注ぐことにより、pH7.5〜12の範囲に調整する。その後、必要により濾過して固定分を除き、濾液を濃縮するか、あるいは抽出操作を行い、抽出液を濃縮することにより化合物(II’)を単離することができ、さらに再結晶等に付して精製することができる。   The resulting compound (II ′) can be isolated and purified by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is cooled, and a base (eg, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, etc.) is added, or poured into an aqueous solution containing the base, so that the pH is in the range of 7.5 to 12. Adjust to. Then, if necessary, the fixed part can be removed by filtration, and the filtrate can be concentrated or extracted, and the extract can be concentrated to isolate compound (II ′), which is then subjected to recrystallization and the like. And can be purified.

3.加水分解工程
上記の方法で製造される光学活性化合物(Ia)または(Ib)を、例えば、溶媒(例、酢酸および水の混合溶媒等)中において、酸(例、塩酸等)と100℃〜還流の温度範囲で5〜20時間加熱)で加水分解し、常法により単離精製することにより、それぞれ立体配置を保持して、光学活性化合物(IVa)または(IVb)に導くことができる。この際、加水分解により副生した化合物(III)を反応混合物から回収することができ、アミド化工程(上記ワンポット反応を含む)の原料として再利用することができる。
好ましい態様である光学活性化合物(Ia’)または(Ib’)を加水分解する場合は、当該酸性条件下で、カルボニルの脱保護も同時に進行して、光学活性化合物(IVa’)または(IVb’)をそれぞれ得ることができる。
3. Hydrolysis step The optically active compound (Ia) or (Ib) produced by the above method is mixed with an acid (eg, hydrochloric acid, etc.) in a solvent (eg, a mixed solvent of acetic acid and water), for example. The mixture is hydrolyzed in the reflux temperature range for 5 to 20 hours, and is isolated and purified by a conventional method, whereby the respective steric configurations can be maintained to lead to the optically active compound (IVa) or (IVb). At this time, compound (III) by-produced by hydrolysis can be recovered from the reaction mixture, and can be reused as a raw material for the amidation step (including the one-pot reaction).
When the optically active compound (Ia ′) or (Ib ′), which is a preferred embodiment, is hydrolyzed, deprotection of the carbonyl proceeds simultaneously under the acidic conditions, and the optically active compound (IVa ′) or (IVb ′) ) Respectively.

このようにして得られた光学活性化合物(IVa)、または(IVb)は、医薬、農薬などの種々の生物活性化合物として、または生物活性化合物の合成中間体として有用である。例えば、光学活性化合物(IVa’)は特開平1−93588号公報に記載の方法により、アルドースリダクターゼ阻害活性を有する医薬に導くことができる。また、(2S)−2−(2−オキソピロリジン−1−イル)ブタン酸は、例えば、欧州特許第0165919号明細書または米国特許4943639号明細書に記載の方法により中枢神経作用薬に導くことができる。   The optically active compound (IVa) or (IVb) thus obtained is useful as various biologically active compounds such as pharmaceuticals and agricultural chemicals, or as a synthetic intermediate of biologically active compounds. For example, the optically active compound (IVa ') can be led to a drug having aldose reductase inhibitory activity by the method described in JP-A-1-93588. In addition, (2S) -2- (2-oxopyrrolidin-1-yl) butanoic acid is led to a central nervous system drug by a method described in, for example, European Patent No. 0165919 or US Pat. No. 4,943,639. Can do.

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited by these.

実施例1:(RS)−4,4−ジメトキシ−6−フルオロクロマン−2−カルボン酸 メチル
丸底フラスコに粗製の(RS)−6−フルオロ−4−オキソクロマン−2−カルボン酸(50.0g,237.9mmol)、オルトギ酸トリメチル(250ml,約2.28mol)、メタノール(150ml)およびp−トルエンスルホン酸1水和物(1.5g,7.9mmol)を仕込み、窒素気流下60℃にて1時間攪拌反応した。内温を25℃まで冷却した後、炭酸カリウム(1.5g,10mmol)を添加し、室温で15分攪拌した。固形分を濾過後、濾過液を減圧下(40℃)で留去し、濃縮乾固した。濃縮残留物にメタノール(150ml)を加え、10分間加熱還流させ、その後5℃以下まで冷却した。3〜5℃で1時間攪拌後、晶出した結晶を濾過、さらに冷やしたメタノール(50ml)で結晶を洗浄した。減圧下、50℃で結晶を乾燥し、表題化合物(49.3g,182.4mmol)を得た(粗製のカルボン酸が仮に純度100%として収率76.7%)
Example 1: Methyl (RS) -4,4-dimethoxy-6-fluorochroman-2-carboxylic acid Crude (RS) -6-fluoro-4-oxochroman-2-carboxylic acid (50.0 g) in a round bottom flask. , 237.9 mmol), trimethyl orthoformate (250 ml, about 2.28 mol), methanol (150 ml) and p-toluenesulfonic acid monohydrate (1.5 g, 7.9 mmol), and the mixture was heated to 60 ° C. under a nitrogen stream. And stirred for 1 hour. After cooling the internal temperature to 25 ° C., potassium carbonate (1.5 g, 10 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. After filtering the solid content, the filtrate was distilled off under reduced pressure (40 ° C.) and concentrated to dryness. Methanol (150 ml) was added to the concentrated residue, heated to reflux for 10 minutes, and then cooled to 5 ° C. or lower. After stirring at 3-5 ° C. for 1 hour, the crystallized crystals were filtered and washed with cold methanol (50 ml). The crystals were dried at 50 ° C. under reduced pressure to obtain the title compound (49.3 g, 182.4 mmol) (the crude carboxylic acid had a purity of 100% and the yield was 76.7%).

1HNMR(ppm, CDCl3):δ 2.31(dd, 1H, J=9.0Hz, 12.9Hz, C3-H), 2.49(dd, 1H, J=3.9Hz, 13.2Hz, C3-H), 3.25(d, 6H, J=6.8Hz, -OCH3x2), 3.80(s, 3H, -COOCH3), 4.95(dd, 1H,
J=3.9Hz, 9.3Hz, C2-H), 6.91-7.24(m, 3H).
1 HNMR (ppm, CDCl 3 ): δ 2.31 (dd, 1H, J = 9.0Hz, 12.9Hz, C 3 -H), 2.49 (dd, 1H, J = 3.9Hz, 13.2Hz, C 3 -H), 3.25 (d, 6H, J = 6.8Hz, -OCH 3 x2), 3.80 (s, 3H, -COOCH 3 ), 4.95 (dd, 1H,
J = 3.9Hz, 9.3Hz, C 2 -H), 6.91-7.24 (m, 3H).

実施例2:(2S)−N−[(S)−α−メチル(ベンジル)]−4,4−ジメトキシ−6−フルオロクロマン−2−カルボキサミド
小型反応容器に、(RS)−4,4−ジメトキシ−6−フルオロクロマン−2−カルボン酸 メチル(2.7g,10.0mmol)、イソプロピルアルコール(10ml)およびS−(−)−フェニルエチルアミン(1.7g,14.0mmol)を仕込み、窒素気流下、注意深く水素化ナトリウム(含量60%,400mg,10.0mmol)を添加した。内温を60℃まで上げ、60〜70℃で3時間攪拌した。3時間後結晶が析出するため、その後、2時間かけて40℃まで冷却し、40℃で3時間保温攪拌した。さらに窒素雰囲気下に35℃で16時間攪拌後、5℃に冷却後濾過した。冷やしたイソプロピルアルコール(2ml)にて洗浄し、表題化合物を2.55g(7.1mmol)得た。収率71.0%(分割収率142%)。HPLCで分析したところ、ジアステレオ過剰率は98.4%d.e.であった。
Example 2: (2S) -N-[(S) -α-methyl (benzyl)]-4,4-dimethoxy-6-fluorochroman-2-carboxamide In a small reaction vessel, (RS) -4,4- Dimethyl-6-fluorochroman-2-carboxylate methyl (2.7 g, 10.0 mmol), isopropyl alcohol (10 ml) and S-(−)-phenylethylamine (1.7 g, 14.0 mmol) were charged, and a nitrogen stream Under the caution, sodium hydride (content 60%, 400 mg, 10.0 mmol) was carefully added. The internal temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was stirred at 60 to 70 ° C. for 3 hours. Since crystals precipitated after 3 hours, the mixture was cooled to 40 ° C. over 2 hours and stirred while keeping at 40 ° C. for 3 hours. The mixture was further stirred at 35 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere, cooled to 5 ° C. and filtered. Washing with chilled isopropyl alcohol (2 ml) gave 2.55 g (7.1 mmol) of the title compound. Yield 71.0% (division yield 142%). When analyzed by HPLC, the diastereomeric excess was 98.4% d. e. Met.

HPLC分析条件:
カラム; Develosil ODS-7 (NOMURA CHEMICAL),
移動相;アセトニトリル:水=50:50,
流速;1.0ml/分,波長;246nm,保持時間;14分付近.
HPLC analysis conditions:
Column; Develosil ODS-7 (NOMURA CHEMICAL),
Mobile phase: acetonitrile: water = 50: 50,
Flow rate: 1.0 ml / min, wavelength: 246 nm, retention time: around 14 minutes.

1HNMR(ppm, CDCl3): δ1.53(d, 3H, J=6.8Hz, -C-CH3), 2.04(d, 1H, J=11.2Hz, 13.2Hz, C3-H), 2.78(dd, 2H, J=3.4Hz, 13.2Hz, C3-H), 3.17(s, 3H, -OCH3), 3.34(s, 3H, -OCH3), 4.80(dd, 1H, J=3.2Hz, 11.0Hz, C2-H), 5.22(m, 1H, (NH)CH), 6.78-6.84(br, 1H, NH), 6.84-7.00(m, 2H), 7.24-7.42(m, 6H). 1 HNMR (ppm, CDCl 3 ): δ1.53 (d, 3H, J = 6.8Hz, -C-CH 3 ), 2.04 (d, 1H, J = 11.2Hz, 13.2Hz, C 3 -H), 2.78 (dd, 2H, J = 3.4Hz, 13.2Hz, C 3 -H), 3.17 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.34 (s, 3H, -OCH 3 ), 4.80 (dd, 1H, J = 3.2 Hz, 11.0Hz, C 2 -H), 5.22 (m, 1H, (NH) CH), 6.78-6.84 (br, 1H, NH), 6.84-7.00 (m, 2H), 7.24-7.42 (m, 6H ).

実施例3:(2S)−N−[(S)−α−メチル(ベンジル)]−4,4−ジメトキシ−6−フルオロクロマン−2−カルボキサミド(スケールアップ)
丸底フラスコに(RS)−4,4−ジメトキシ−6−フルオロクロマン−2−カルボン酸 メチル(20.0g,74.0mmol)、イソプロピルアルコール(74ml)およびS−(−)−フェニルエチルアミン(12.6g,104.0mmol)を仕込み、窒素気流下、注意深く水素化ナトリウム(含量60%,3.0g,75mmol)を添加した。内温を60℃まで上げ、60〜70℃で3時間攪拌した。3時間後結晶が析出するため、その後、2時間かけて40℃まで冷却し、40℃で2時間保温攪拌した。約20℃まで放冷し攪拌後、さらに5℃まで冷却し濾過した。濾過後、冷やしたイソプロピルアルコール(20ml)で結晶を洗浄し、減圧下乾燥することにより、表題化合物を19.1g(53mmol)得た。収率72%(分割収率144%)。上記と同様のHPLC条件で分析したところ、ジアステレオ過剰率は94.4%d.e.であった。このものを水でリパルプ後、濾取し、さらにイソプロピルアルコールによる再結晶に付することにより、回収率90%にて、ジアステレオ過剰率99.8%d.e.の結晶を得た。
Example 3: (2S) -N-[(S) -α-methyl (benzyl)]-4,4-dimethoxy-6-fluorochroman-2-carboxamide (scale up)
In a round bottom flask was added (RS) -4,4-dimethoxy-6-fluorochroman-2-carboxylate methyl (20.0 g, 74.0 mmol), isopropyl alcohol (74 ml) and S-(-)-phenylethylamine (12 .6 g, 104.0 mmol) was charged, and sodium hydride (content 60%, 3.0 g, 75 mmol) was carefully added under a nitrogen stream. The internal temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was stirred at 60 to 70 ° C. for 3 hours. Since crystals precipitated after 3 hours, the mixture was then cooled to 40 ° C. over 2 hours and stirred at 40 ° C. for 2 hours. After cooling to about 20 ° C. and stirring, the mixture was further cooled to 5 ° C. and filtered. After filtration, the crystals were washed with chilled isopropyl alcohol (20 ml) and dried under reduced pressure to obtain 19.1 g (53 mmol) of the title compound. Yield 72% (division yield 144%). When analyzed under the same HPLC conditions as described above, the diastereomer excess was 94.4% d. e. Met. This was repulped with water, collected by filtration, and further subjected to recrystallization with isopropyl alcohol to obtain a 90% recovery rate and a 91.9% d. e. Crystal was obtained.

実施例4:(2S)−N−[(S)−(1−ナフチル)エチル]−2−(2−オキソピロリジン−1−イル)ブタンアミド
窒素雰囲気下、2−(2−オキソピロリジン−1−イル)ブタン酸 メチル(2.05g,11.1mmol)、(S)−1−(1−ナフチル)エチルアミン(2.28g,13.3mmol)を160〜165℃の油浴につけて7時間加熱した。反応混合物を室温に冷却して、一旦トルエン(20ml)を加え、10%塩酸(10ml×2)で洗浄して得た有機層を10%苛性ソーダ水溶液(8ml)、10%食塩水(10ml)、水(10ml)の順に洗浄した。有機層を減圧濃縮すると、固体が析出し始めたので、ジイソプロピルエーテル(30ml)を加えて室温で結晶化を促し、その後濾過して粗結晶1.30g(36.2%,(S−S):(R−S)=89.2:10.8)を得た。このものを一旦メタノール(10ml)に溶かしてから、溶媒を減圧留去し、ジイソプロピルエーテル(20ml)を加えて結晶化させ、次いで濾過して粗結晶1.09g(30.4%,(S−S):(R−S)=99.0:1.0)を得た。
Example 4: (2S) -N-[(S)-(1-naphthyl) ethyl] -2- (2-oxopyrrolidin-1-yl) butanamide 2- (2-oxopyrrolidine-1- under nitrogen atmosphere Yl) methyl butanoate (2.05 g, 11.1 mmol), (S) -1- (1-naphthyl) ethylamine (2.28 g, 13.3 mmol) was placed in an oil bath at 160 to 165 ° C. and heated for 7 hours. . The reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (20 ml) was added once, and the organic layer obtained by washing with 10% hydrochloric acid (10 ml × 2) was washed with 10% aqueous sodium hydroxide (8 ml), 10% brine (10 ml), Washed in order of water (10 ml). When the organic layer was concentrated under reduced pressure, a solid began to precipitate. Diisopropyl ether (30 ml) was added to promote crystallization at room temperature, and then filtered to obtain 1.30 g (36.2%, (SS) of crude crystals. : (R-S) = 89.2: 10.8). This was once dissolved in methanol (10 ml), the solvent was distilled off under reduced pressure, diisopropyl ether (20 ml) was added to crystallize, and then filtered to obtain 1.09 g (30.4%, (S- S) :( RS) = 99.0: 1.0).

上記操作で得た二つの濾液を減圧濃縮し、無水イソプロパノール(3ml)を加えた。(この時の各結晶成分の割合は、(S−S):(R−S)=15.6:84.4であった。)これに窒素雰囲気下、水素化ナトリウム(含量60%、51.6mg,1.29mmol)を添加し、攪拌しながら70℃で1時間加熱後、4時間かけて60℃〜30℃に冷却し、最後に25℃で3時間保持した。反応混合物に10%塩酸(5ml)とジイソプロピルエーテル(20ml)を加えて、析出した結晶を濾過し、粗結晶1.54g(42.9%,(S−S):(R−S)=97.5:2.5)を得た。このものを一旦メタノール(10ml)に溶かしてから、脱色炭(0.5g)を加え濾過した。次いで、溶媒を減圧留去し、ジイソプロピルエーテル(10ml)を加えて結晶化させ、その後濾過して粗結晶1.45g(40.4%,(S−S):(R−S)=99.2:0.8)を得た。
この粗結晶1.45gと、最初の操作で得た粗結晶1.09gとを合わせて、イソプロパノール(10ml)で溶解し、再結晶後濾過した。減圧乾燥後、表題化合物2.19g(収率61.0%,(S−S)のみ)を得た。
The two filtrates obtained by the above operation were concentrated under reduced pressure, and anhydrous isopropanol (3 ml) was added. (The ratio of each crystal component at this time was (SS) :( RS) = 15.6: 84.4.) Under a nitrogen atmosphere, sodium hydride (content 60%, 51 .6 mg, 1.29 mmol) was added, heated at 70 ° C. for 1 hour with stirring, cooled to 60 ° C. to 30 ° C. over 4 hours, and finally held at 25 ° C. for 3 hours. 10% hydrochloric acid (5 ml) and diisopropyl ether (20 ml) were added to the reaction mixture, and the precipitated crystals were filtered, and 1.54 g (42.9%, (SS): (RS) = 97 of crude crystals. .5: 2.5). This was once dissolved in methanol (10 ml), filtered with decolorizing charcoal (0.5 g). Then, the solvent was distilled off under reduced pressure, diisopropyl ether (10 ml) was added to crystallize, and then filtered to obtain 1.45 g (40.4%, (SS) :( RS) = 99. 2: 0.8).
1.45 g of the crude crystals and 1.09 g of the crude crystals obtained in the first operation were combined, dissolved in isopropanol (10 ml), filtered after recrystallization. After drying under reduced pressure, 2.19 g (yield 61.0%, (SS) only) of the title compound was obtained.

HPLC分析条件:
カラム;Develosil ODS-7 (4.6mm×30cm、NOMURA CHEMICAL),
移動相; A液10mM KHPO、B液メタノール,
溶出条件;20分までB液60容量%で一定、B液を35分までに90容量%に漸増する。
流速;1.0ml/分,波長;246nm,保持時間:(S−S)体20.5分付近、(R−S)体18.5分付近。
HPLC analysis conditions:
Column: Develosil ODS-7 (4.6mm × 30cm, NOMURA CHEMICAL),
Mobile phase: A solution 10 mM KH 2 PO 4 , B solution methanol,
Elution condition: Constant at 60% by volume of B solution up to 20 minutes, and gradually increase B solution to 90% by volume by 35 minutes.
Flow rate: 1.0 ml / min, wavelength: 246 nm, retention time: (SS) body around 20.5 minutes, (RS) body around 18.5 minutes.

表題化合物((S−S)体)の物性データ
m.p. 204-206℃、TLCのRf値=0.15(ヘプタン:酢酸エチル=1:2)。
1H-NMR(ppm, CDCl3):δ 0.83 (t, 3H, J= 7.5Hz, CH3), 1.61 (d, 3H, J=6.8Hz, CH3), 1.60-2.10 (m, 4H, CH2-CH2), 2.30-2.50 (m, 2H, CH2), 3.30-3.65 (m, 2H, CH2-CO), 4.35 (t, 1H, J=7.5Hz, CHCO), 5.87 (q, 1H, J=7.3Hz, CHNaphthyl), 6.59 (brs, 1H, NH), 7.35-8.10 (m, 7H, aromatic protons).
Physical property data of title compound ((SS) form)
mp 204-206 ° C., TLC Rf value = 0.15 (heptane: ethyl acetate = 1: 2).
1 H-NMR (ppm, CDCl 3 ): δ 0.83 (t, 3H, J = 7.5Hz, CH 3 ), 1.61 (d, 3H, J = 6.8Hz, CH 3 ), 1.60-2.10 (m, 4H, CH 2 -CH 2 ), 2.30-2.50 (m, 2H, CH 2 ), 3.30-3.65 (m, 2H, CH 2 -CO), 4.35 (t, 1H, J = 7.5Hz, CHCO), 5.87 (q , 1H, J = 7.3Hz, CHNaphthyl), 6.59 (brs, 1H, NH), 7.35-8.10 (m, 7H, aromatic protons).

(R−S)体の物性データ
m.p. 124-126℃、TLCのRf値=0.23(ヘプタン:酢酸エチル=1:2)。
1H-NMR(ppm, CDCl3): δ 0.90 (t, 3H, J= 7.3Hz, CH3), 1.63 (d, 3H, J=6.8Hz, CH3), 1.60-2.30 (m, 6H, CH2-CH2 and CH2), 3.05-3.40 (m, 2H, CH2-CO), 4.41 (t, 1H, J=7.3Hz, CHCO), 5.87 (q, 1H, J=6.8Hz, CHNaphthyl), 6.57 (brs, 1H, NH), 7.35-8.10 (m, 7H, aromatic protons).
(RS) Body property data
mp 124-126 ° C., TLC Rf value = 0.23 (heptane: ethyl acetate = 1: 2).
1 H-NMR (ppm, CDCl 3 ): δ 0.90 (t, 3H, J = 7.3Hz, CH 3 ), 1.63 (d, 3H, J = 6.8Hz, CH 3 ), 1.60-2.30 (m, 6H, CH 2 -CH 2 and CH 2 ), 3.05-3.40 (m, 2H, CH 2 -CO), 4.41 (t, 1H, J = 7.3Hz, CHCO), 5.87 (q, 1H, J = 6.8Hz, CHNaphthyl ), 6.57 (brs, 1H, NH), 7.35-8.10 (m, 7H, aromatic protons).

Claims (16)

一般式(II):
Figure 2006028154


[式中、Rは低級アルキル基を示し、Rはカルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基を示し、Rはカルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合または炭素−ヘテロ原子結合(但し、炭素−ハロゲン原子結合を除く。)でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基を示し、RおよびRはつながって、結合する炭素原子と一緒に環を形成してもよい(但し、RとRが同時に同じ基を意味することはない。)。]で表される化合物を塩基の存在下に、一般式(III):
Figure 2006028154


(式中、RおよびRはそれぞれ独立して有機基を示す。但し、RとRが同時に同じ基を意味することはない。)で表される化合物と反応させて、一般式(I):
Figure 2006028154


(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表されるジアステレオマー混合物を得る工程と、
該ジアステレオマー混合物を塩基の存在下にカルボニル基α位の炭素原子上の水素原子を平衡エピメリ化させながら、同一反応系内で一般式(Ia):
Figure 2006028154


(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物または一般式(Ib):
Figure 2006028154


(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物を結晶化させる工程と
を包含することを特徴とする、前記一般式(Ia)で表される光学活性化合物または前記一般式(Ib)で表される光学活性化合物の製造方法。
General formula (II):
Figure 2006028154


[Wherein R 5 represents a lower alkyl group, R 3 represents a group which is connected to the carbon atom at the α-position of the carbonyl group by a carbon-carbon bond and is stable in the presence of a base, and R 4 represents a carbonyl group. a group that is connected to a carbon atom at the α-position by a carbon-carbon bond or a carbon-heteroatom bond (excluding a carbon-halogen atom bond) and is stable in the presence of a base; and R 3 and R 4 May be linked to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded (provided that R 3 and R 4 do not mean the same group at the same time). In the presence of a base, the compound represented by the general formula (III):
Figure 2006028154


(Wherein R 1 and R 2 each independently represents an organic group, provided that R 1 and R 2 do not mean the same group at the same time) (I):
Figure 2006028154


(Wherein each symbol has the same meaning as described above), and a step of obtaining a diastereomeric mixture represented by:
In the same reaction system, the diastereomeric mixture was subjected to equilibrium epimerization of the hydrogen atom on the carbon atom at the carbonyl group α-position in the presence of a base.
Figure 2006028154


(Wherein each symbol has the same meaning as described above) or the general formula (Ib):
Figure 2006028154


(Wherein each symbol has the same meaning as described above), and a step of crystallizing the optically active compound represented by the general formula (Ia) or The manufacturing method of the optically active compound represented by the said general formula (Ib).
ワンポット反応で行うことを特徴とする、請求項1記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the production is performed by a one-pot reaction. 請求項1または2記載の製造方法により得られる一般式(Ia):
Figure 2006028154


[式中、RおよびRはそれぞれ独立して有機基を示し(但し、RとRが同時に同じ基を意味することはない。)、Rはカルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基を示し、Rはカルボニル基α位の炭素原子と炭素−炭素結合または炭素−ヘテロ原子結合(但し、炭素−ハロゲン原子結合を除く。)でつながれており、かつ塩基の存在下で安定な基を示し、RおよびRは結合する炭素原子と一緒になって環を形成してもよい(但し、RとRが同時に同じ基を意味することはない。)。]で表される光学活性化合物または一般式(Ib):
Figure 2006028154


(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物を酸性条件下に加水分解することを特徴とする、一般式(IVa):
Figure 2006028154


(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物または一般式(IVb):
Figure 2006028154


(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物の製造方法。
General formula (Ia) obtained by the production method according to claim 1 or 2:
Figure 2006028154


[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent an organic group (provided that R 1 and R 2 do not mean the same group at the same time), and R 3 represents a carbon atom at the α-position of the carbonyl group; A group which is connected by a carbon-carbon bond and is stable in the presence of a base, and R 4 represents a carbon atom at the carbonyl group α-position and a carbon-carbon bond or a carbon-heteroatom bond (however, a carbon-halogen atom bond) And R 3 and R 4 may form a ring together with the carbon atoms to which R 3 and R 4 are bonded (provided that R 3 and R 4 are bonded together). 4 does not mean the same group at the same time.) Or an optically active compound represented by the general formula (Ib):
Figure 2006028154


(Wherein each symbol has the same meaning as described above), wherein the optically active compound represented by the general formula (IVa):
Figure 2006028154


(Wherein each symbol is as defined above) or an optically active compound represented by the general formula (IVb):
Figure 2006028154


(Wherein each symbol has the same meaning as described above).
およびRが結合する炭素原子と一緒に、一般式(V):
Figure 2006028154


(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を示し、Rは低級アルキル基を示す。)で表される複素環を形成する、請求項1または2記載の製造方法。
Along with the carbon atom to which R 3 and R 4 are attached, the general formula (V):
Figure 2006028154


(Wherein, X represents a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, R 6 is. Showing a lower alkyl group) to form a heterocyclic ring represented by claim 1 or 2 A process according.
およびRがR’(R’は低級アルキル基を示す。)である、請求項4記載の製造方法。 The production method according to claim 4, wherein R 5 and R 6 are R 6 '(R 6 ' represents a lower alkyl group). 一般式(VI):
Figure 2006028154


(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を示す。)で表される化合物を酸の存在下に、一般式(VII):
Figure 2006028154

(式中、Rは水素原子または低級アルキル基を示し、R’は低級アルキル基を示す。)で表されるオルソエステルと反応させて、一般式(II’):
Figure 2006028154


(式中、XおよびR’は前記と同義を示す。)で表される化合物を得る工程を包含することを特徴とする、前記一般式(II’)で表される化合物の製造方法。
General formula (VI):
Figure 2006028154


(Wherein X represents a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group) in the presence of an acid, the compound represented by the general formula (VII):
Figure 2006028154

(Wherein R 7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and R 6 ′ represents a lower alkyl group), and is reacted with an orthoester represented by the general formula (II ′):
Figure 2006028154


(In the formula, X and R 6 ′ have the same meanings as described above.), Which includes a step of obtaining a compound represented by the general formula (II ′).
請求項6記載の工程をさらに包含する、請求項5記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 5, further comprising the step according to claim 6. ’がメチル基またはエチル基である、請求項5〜7のいずれか一項に記載の製造方法。 The manufacturing method as described in any one of Claims 5-7 whose R < 6 '> is a methyl group or an ethyl group. 請求項4、5、7および8のいずれか一項に記載の製造方法によって得られる一般式(Ia’):
Figure 2006028154


[式中、Xは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を示し、RおよびRはそれぞれ独立して有機基を示し(但し、RとRが同時に同じ基を意味することはない。)、Rは低級アルキル基を示す。]で表される光学活性化合物または一般式(Ib’):
Figure 2006028154


(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物を、酸性条件下で脱保護および加水分解することを特徴とする、一般式(IVa’):
Figure 2006028154


(式中、Xは前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物または一般式(IVb’):
Figure 2006028154


(式中、Xは前記と同義を示す。)で表される光学活性化合物の製造方法。
General formula (Ia ′) obtained by the production method according to any one of claims 4, 5, 7 and 8:
Figure 2006028154


[Wherein, X represents a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, and R 1 and R 2 each independently represent an organic group (provided that R 1 and R 2 do not represent the same group simultaneously) ), R 6 represents a lower alkyl group. Or an optically active compound represented by the general formula (Ib ′):
Figure 2006028154


(Wherein each symbol has the same meaning as described above), wherein the optically active compound represented by the general formula (IVa ′):
Figure 2006028154


(Wherein X is as defined above) or an optically active compound represented by the general formula (IVb ′):
Figure 2006028154


(Wherein X is as defined above), a method for producing an optically active compound.
Xがフッ素原子であり、Rがフェニル基であり、かつRがメチル基である請求項4、5および7〜9のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 4, 5, and 7 to 9, wherein X is a fluorine atom, R 1 is a phenyl group, and R 2 is a methyl group. 一般式(II’):
Figure 2006028154


(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を示し、R’は低級アルキル基を示す。)で表される化合物。
General formula (II '):
Figure 2006028154


(Wherein X represents a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, and R 6 ′ represents a lower alkyl group).
Xがフッ素原子であり、かつR’がメチル基である請求項11記載の化合物。 The compound according to claim 11, wherein X is a fluorine atom, and R 6 'is a methyl group. が窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を1〜2個含み、置換基を有してもよい5〜8員の飽和複素環基または5〜6員の不飽和複素環基もしくはその縮合環基である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。 R 4 contains 1 to 2 heteroatoms selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and may have a substituent, a 5- to 8-membered saturated heterocyclic group or a 5- to 6-membered unsaturated heterocyclic ring The manufacturing method as described in any one of Claims 1-3 which is group or its condensed ring group. が一般式(VIII):
Figure 2006028154


(式中、Yはそれぞれ独立して水素原子、水酸基、オキソ、低級アルコキシ基または低級アルキル基を示し、mおよびnはそれぞれ独立して1〜3の整数を示す。)で表される複素環基である、請求項13記載の製造方法
R 4 represents the general formula (VIII):
Figure 2006028154


(Wherein Y is independently a hydrogen atom, hydroxyl group, oxo, lower alkoxy group or lower alkyl group, and m and n are each independently an integer of 1 to 3). The production method according to claim 13, which is a group.
が置換基を有していてもよい低級アルキル基である、請求項14記載の製造方法。 The production method according to claim 14, wherein R 3 is a lower alkyl group which may have a substituent. Yが水素原子であり、Rがエチル基であり、かつmが1である、請求項14または15記載の製造方法。 The production method according to claim 14 or 15, wherein Y is a hydrogen atom, R 3 is an ethyl group, and m is 1.
JP2005073123A 2004-06-14 2005-03-15 Method for producing optically active compound Pending JP2006028154A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005073123A JP2006028154A (en) 2004-06-14 2005-03-15 Method for producing optically active compound
PCT/JP2005/011190 WO2005121117A1 (en) 2004-06-14 2005-06-13 Processes for production of optically active compounds

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004176229 2004-06-14
JP2005073123A JP2006028154A (en) 2004-06-14 2005-03-15 Method for producing optically active compound

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006028154A true JP2006028154A (en) 2006-02-02

Family

ID=35502998

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005073123A Pending JP2006028154A (en) 2004-06-14 2005-03-15 Method for producing optically active compound

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2006028154A (en)
WO (1) WO2005121117A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010054762A (en) * 2008-08-28 2010-03-11 Sony Corp Apparatus and method for processing information, and program
JP2014129311A (en) * 2012-12-30 2014-07-10 Japan Polypropylene Corp Method of purifying crosslinked indenyl compound
JP2015168658A (en) * 2014-03-10 2015-09-28 田岡化学工業株式会社 Method for producing 2,2'-bis(2-hydroxyethoxy)-1,1'-bi-naphthalene

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008012268A1 (en) * 2006-07-25 2008-01-31 Zach System S.P.A. Process for the preparation of levetiracetam
LT3494108T (en) 2016-08-05 2021-01-25 Amgen Inc. Synthesis of (s)-2-amino-4-methyl-1-((r)-2-methyloxirane-2-yl)-pentan-1-one and pharmaceutically acceptable salts thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS597193A (en) * 1982-07-02 1984-01-14 Shionogi & Co Ltd Isomerization of malonylmethyl group
IT1271800B (en) * 1994-12-27 1997-06-09 Zambon Spa PROCESS OF PREPARATION OF ENANTIOMERS OF 2- (2-FLUORO- 4-BIPHENYL) PROPIONIC ACID
JP2000351776A (en) * 1999-04-08 2000-12-19 Kuraray Co Ltd Production of optically active homocysteinethiolactone salt and its intermediate

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010054762A (en) * 2008-08-28 2010-03-11 Sony Corp Apparatus and method for processing information, and program
JP2014129311A (en) * 2012-12-30 2014-07-10 Japan Polypropylene Corp Method of purifying crosslinked indenyl compound
JP2015168658A (en) * 2014-03-10 2015-09-28 田岡化学工業株式会社 Method for producing 2,2'-bis(2-hydroxyethoxy)-1,1'-bi-naphthalene

Also Published As

Publication number Publication date
WO2005121117A1 (en) 2005-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11897843B2 (en) Process for the preparation of enantiomerically enriched 3-aminopiperidine
CN110845482B (en) Process for preparing indole compounds
JP2006028154A (en) Method for producing optically active compound
JP2009544656A (en) Preparation of levetiracetam
JP5548129B2 (en) Asymmetric organic catalyst
CA2516465A1 (en) Chemical process for the preparation of intermediates to obtain n-formyl hydroxylamine compounds
RU2729074C2 (en) Method of purifying a benzopyran derivative, its crystalline form and a method of producing a crystalline form
JP2009507783A (en) Process for producing chiral 3-hydroxypyrrolidine compound having high optical purity and derivative thereof
EP1489066B1 (en) Process for production of optically active carboxylic acid
JP5959417B2 (en) Process for producing optically active α-substituted prolines
JP4631262B2 (en) Process for producing (cis) -4-hydroxyproline derivative
KR101299720B1 (en) A novel process for preparing 3-amino-5-fluoro-4-dialkoxypetanoic acid ester
JP5704763B2 (en) Production of trans-4-aminocyclopent-2-ene-1-carboxylic acid derivative
KR100850558B1 (en) Process for preparing useful in synthesis of atorvastatin
US20040236118A1 (en) Pyrrolidine derivatives and method of synthesizing these
JP2002371060A (en) Method for producing optically active aminopiperidine derivative
JP4109446B2 (en) Process for producing pure trans-2-[(α-methylbenzyl) amino] cyclopentanol as a diastereoisomer
JP3778843B2 (en) Optically active amine derivatives and synthetic methods
WO2002022543A1 (en) Process for preparing optically active carboxylic acid derivative
WO2008006096A1 (en) Metaxalone synthesis
JPH07247246A (en) 1-phenyl-3-butyne derivative and its production
KR20050122087A (en) A process for optical pure (r)-2-phenoxypropionic acid derivatives
WO2006046252A2 (en) Novel diasteriomeric salts of atenolol and their use in the production of optically active atenolol
KR20060125218A (en) The optical resolution method of benzoxazine derivative
JP2004284992A (en) Production method for optically active trans-3-cyclohexyl-oxiranecarboxylic acid