JP2006023491A - Microscopic imaging apparatus and biological material observation system - Google Patents

Microscopic imaging apparatus and biological material observation system Download PDF

Info

Publication number
JP2006023491A
JP2006023491A JP2004200866A JP2004200866A JP2006023491A JP 2006023491 A JP2006023491 A JP 2006023491A JP 2004200866 A JP2004200866 A JP 2004200866A JP 2004200866 A JP2004200866 A JP 2004200866A JP 2006023491 A JP2006023491 A JP 2006023491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imaging
image
exposure time
stage
measurement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004200866A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshimasa Suzuki
良政 鈴木
Kayu Muraki
香由 村木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Priority to JP2004200866A priority Critical patent/JP2006023491A/en
Priority to US11/173,020 priority patent/US20060018013A1/en
Publication of JP2006023491A publication Critical patent/JP2006023491A/en
Priority to US11/655,512 priority patent/US7271952B2/en
Priority to US11/655,507 priority patent/US20070121198A1/en
Priority to US11/655,793 priority patent/US20070121200A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microscopic imaging apparatus capable of accurately measuring an object to be inspected having drastic variance in luminance, and to provide a biological material observation system with which the microscopic imaging apparatus is used. <P>SOLUTION: The microscopic imaging apparatus is provided with a stage for holding the object to be inspected, an illuminating means for illuminating the object, an imaging means for photographing the image of the object, and a moving means for relatively moving the stage and the imaging means, and the imaging means is provided with an imager capable of imaging by a time-delay integration system, and in the case of imaging (S1 and S3) the object by the imaging means plural times so as to capture a plurality of sheet images, an exposure time for generating the accumulated charge in the imager is varied whenever capturing a different image, and the plurality of sheet images are synthesized (S4) to one sheet image. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、顕微鏡において使用される顕微鏡撮像装置およびそれを用いた生体試料観察システムに関する。   The present invention relates to a microscope imaging apparatus used in a microscope and a biological sample observation system using the same.

生体試料の蛍光などを測定する装置として、マイクロプレートを使用するものが知られている。この生体試料の蛍光強度は極めて暗いため、蛍光の撮影には長時間露出が必要となっている。また、マイクロプレートは、顕微鏡の視野よりも大きな外形を有している。したがって、マイクロプレートの全体を観察するには、時間がかかる。   A device using a microplate is known as a device for measuring fluorescence of a biological sample. Since the fluorescence intensity of this biological sample is extremely dark, exposure to fluorescence for a long time is required. The microplate has an outer shape larger than the field of view of the microscope. Therefore, it takes time to observe the entire microplate.

上述のような試料を長時間露出、かつ、高速で観察する撮像方式として、タイム・ディレイ・インテグレーション(TDI)方式が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
TDI方式による撮像は、次のようなものである。TDI方式で使用する撮像素子は、複数の光電素子で構成されている。この光電素子に、生体試料からの蛍光を入射させる。光電素子では、光電変換によって上記蛍光に対応した電荷が発生する。ここで、この電荷は、マイクロプレートの移動に対応して、光電素子内で転送される。電荷の移動とマイクロプレートの移動が対応しているので、移動後の光電素子に、生体試料の同じ場所からの蛍光が、再び入射する。この結果、電荷が加算されることになる。このように、TDI方式では、順次電荷が累積されることになる。
このように、TDI方式の特徴は、上記蛍光に対応した電荷を転送しながら積算している点である。そのため、1次元ラインセンサを用いて撮像する場合と比較して、電荷転送ライン数だけ早くステージを動かすことができる。その結果、測定時間を短くすることができる。
国際公開第03/014400号パンフレット (第1図等)
A time-delay integration (TDI) method is known as an imaging method for observing a sample as described above for a long time and at a high speed (for example, see Patent Document 1).
Imaging by the TDI method is as follows. An image sensor used in the TDI system is composed of a plurality of photoelectric elements. Fluorescence from a biological sample is incident on this photoelectric element. In the photoelectric element, a charge corresponding to the fluorescence is generated by photoelectric conversion. Here, this electric charge is transferred in the photoelectric element corresponding to the movement of the microplate. Since the movement of the electric charge corresponds to the movement of the microplate, the fluorescence from the same location of the biological sample is incident again on the photoelectric element after the movement. As a result, charges are added. Thus, in the TDI system, charges are accumulated sequentially.
As described above, the feature of the TDI method is that the charges corresponding to the fluorescence are integrated while being transferred. Therefore, the stage can be moved earlier by the number of charge transfer lines compared to the case of imaging using a one-dimensional line sensor. As a result, the measurement time can be shortened.
International Publication No. 03/014400 (Fig. 1 etc.)

しかしながら、上述の特許文献1に記載されている技術では、次のような問題があった。例えば、生体試料の蛍光観察のように、空間的に輝度のばらつきが大きな試料を測定したとする。この場合、蛍光の輝度が低い領域(低輝度領域)に適した露出時間で、撮像したとする。すると、蛍光の輝度が高い領域(高輝度領域)の明暗が検出できなくなる恐れがある。
つまり、低輝度領域の撮影に合わせると、露出時間が、高輝度領域の撮像に適さない(長すぎる)時間となる。すると、高輝度領域は不適当な露出時間で撮像されるので、高輝度領域に対応する光電素子内の蓄積電荷が飽和してしまう。その結果、高輝度領域内の明暗を検出できなくなる恐れがあった。
逆に、高輝度領域の撮像に適した露出時間で撮像したとする。この場合、露出時間は短くなる。そのため、低輝度領域に対応する光電素子内での蓄積電荷が十分蓄積されなくなってしまう。そのため、低輝度領域の明暗が検出できなくなる恐れがあった。
However, the technique described in Patent Document 1 described above has the following problems. For example, it is assumed that a sample having a large variation in brightness is measured, such as fluorescence observation of a biological sample. In this case, it is assumed that an image is captured with an exposure time suitable for an area with low fluorescence brightness (low brightness area). As a result, there is a risk that light and darkness in a region with high fluorescence luminance (high luminance region) cannot be detected.
In other words, the exposure time becomes a time that is not suitable (too long) for imaging in the high-luminance area, when it is adapted to shooting in the low-luminance area. Then, since the high brightness area is imaged with an inappropriate exposure time, the accumulated charge in the photoelectric element corresponding to the high brightness area is saturated. As a result, there is a possibility that light and darkness in the high luminance area cannot be detected.
Conversely, it is assumed that an image is captured with an exposure time suitable for capturing a high luminance area. In this case, the exposure time is shortened. Therefore, the accumulated charge in the photoelectric element corresponding to the low luminance region is not sufficiently accumulated. For this reason, there is a risk that the brightness of the low luminance area cannot be detected.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、輝度のばらつきが大きな被検査物に対しても正確な測定を行うことができる顕微鏡撮像装置およびそれを用いた生体試料観察システムを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and is a microscope imaging apparatus capable of performing accurate measurement even on an object to be inspected with large variations in luminance, and biological sample observation using the same The purpose is to provide a system.

上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
請求項1に係る発明は、被検査物を保持するステージと、前記被検査物を照明する照明手段と、前記被検査物の画像を撮影する撮像手段と、前記ステージと前記撮像手段とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、前記撮像手段が、前記被検査物に対応した蓄積電荷を発生させるとともに、前記ステージと撮像手段との相対移動に対応して前記蓄積電荷を転送し、順次前記蓄積電荷を加算して累積するタイム・ディレイ・インテグレーション方式での撮像が可能な撮像素子を備え、前記撮像手段が、前記被検査物を複数回撮像して複数枚の画像を取得する際に、異なる画像を取得するごとに、前記撮像素子に前記蓄積電荷を発生させる露出時間を異ならせ、前記複数枚の画像を1枚の画像に合成する顕微鏡撮像装置を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.
According to a first aspect of the present invention, a stage for holding an object to be inspected, an illuminating means for illuminating the object to be inspected, an image capturing means for capturing an image of the object to be inspected, and the stage and the image capturing means are relative to each other. Moving means, and the imaging means generates an accumulated charge corresponding to the object to be inspected, and transfers the accumulated charge corresponding to the relative movement between the stage and the imaging means, When an imaging device capable of imaging by a time delay integration method that sequentially accumulates and accumulates the accumulated charges is provided, and the imaging unit captures the inspection object a plurality of times to acquire a plurality of images In addition, there is provided a microscope imaging apparatus for combining the plurality of images into one image by varying the exposure time for generating the accumulated charge in the imaging device every time a different image is acquired.

本発明によれば、撮像手段が露出時間の異なる被検査物の画像を複数枚取得し、これら画像を1枚の画像に合成することにより、ダイナミックレンジの広い1枚の画像を得ることができる。
つまり、被検査物の輝度が高い領域については、短い露出時間で撮像を行い、被検査物の輝度が低い領域については、長い露出時間で撮像を行う。そして、夫々で得た画像を合成することにより、高輝度領域の明暗も低輝度領域の明暗も測定可能な画像を得ることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a single image with a wide dynamic range by acquiring a plurality of images of the inspection object having different exposure times by the imaging unit and combining these images into one image. .
That is, imaging is performed with a short exposure time for a region where the luminance of the inspection object is high, and imaging is performed with a long exposure time for a region where the luminance of the inspection object is low. Then, by synthesizing the images obtained respectively, it is possible to obtain an image capable of measuring the brightness of the high brightness region and the brightness of the low brightness region.

また、上記発明においては、前記露出時間を外部から入力させる露出時間入力手段を備え、前記撮像手段が、前記入力された露出時間を用いて前記被検査物の撮像を行い、前記入力された露出時間を用いた撮像により取得された画像に基づき、次の撮像に用いる露出時間の長さを決定することが望ましい。
より好ましくは、前記露出時間入力手段により入力された前記露出時間を、前記露出時間の上限である最長露出時間とすることが望ましい。
Further, in the above invention, the apparatus further comprises an exposure time input means for inputting the exposure time from the outside, wherein the imaging means images the inspection object using the input exposure time, and the input exposure It is desirable to determine the length of the exposure time used for the next imaging based on the image acquired by imaging using the time.
More preferably, the exposure time input by the exposure time input means is set as the longest exposure time that is the upper limit of the exposure time.

本発明によれば、外部から入力された露出時間に基づいた被検査物の画像から、次の撮像に用いる露出時間の長さを決定している。そのため、ダイナミックレンジの広い画像を、効率よく得ることができる。
また、外部から入力された露出時間を最長露出時間とすることにより、ダイナミックレンジの広い画像をより効率的に得ることができる。
つまり、外部から露出時間を入力することにより、プレスキャンなどを行うことなく、被検査物の画像を得ることができる。よって、測定時間が短縮されるので、画像の取得を効率化することができる。また、入力された露出時間を最長露出時間とすることで、露出時間制限することができる。すなわち、露出時間が不必要に長くなることを防止することができる。よって、画像の取得を、より効率良くすることができる。
According to the present invention, the length of the exposure time used for the next imaging is determined from the image of the inspection object based on the exposure time input from the outside. Therefore, an image with a wide dynamic range can be obtained efficiently.
Also, by setting the exposure time input from the outside as the longest exposure time, an image with a wide dynamic range can be obtained more efficiently.
That is, by inputting the exposure time from the outside, an image of the object to be inspected can be obtained without performing pre-scanning or the like. Therefore, since the measurement time is shortened, the image acquisition can be made efficient. Further, by setting the input exposure time as the longest exposure time, the exposure time can be limited. That is, it is possible to prevent the exposure time from becoming unnecessarily long. Therefore, the image acquisition can be made more efficient.

なお、露出時間入力手段への露出時間の入力は、例えば、被検査物を測定するユーザー等により行われることが好ましい。これは、ユーザーは、予め被検査物に適した最長露出時間を予測することができるからである。その結果、画像の取得をさらに効率化することができる。ここで、被検査物に適した最長露出時間とは、被検査物の最も輝度の低い部分を測定するのに最低限必要な長さの露出時間のことを意味している。なお、露出時間の入力は、顕微鏡撮像装置を用いて行えばよい。   Note that the exposure time input to the exposure time input means is preferably performed by, for example, a user who measures the object to be inspected. This is because the user can predict the longest exposure time suitable for the inspected object in advance. As a result, it is possible to further increase the efficiency of image acquisition. Here, the longest exposure time suitable for the object to be inspected means an exposure time having a minimum length necessary for measuring the lowest luminance portion of the object to be inspected. Note that the exposure time may be input using a microscope imaging device.

さらに、上記発明においては、前記撮像手段がスミア抑制機能を有する撮像素子を備えることが望ましい。
本発明によれば、スミア抑制機能を有する撮像素子を用いることにより、被検査物の輝度の高い部分からのスミア発生を防止することができる。
そのため、スミアによる測定困難な領域が形成されることを防止することができる。例えば、高輝度部分からのスミア発生を防止することにより、低輝度部分の正確な測定を行うことができる。
また、請求項5に係る発明は、上記顕微鏡撮像装置を備えた生体試料観察システムである。
本発明によれば、蛍光を発することが可能なように操作を行った生体試料の観察の際、撮像の時間間隔を短くすることができるので、生体試料に特有のわずかな時間しか起こらない現象を捉えることが可能であり、生体試料の状態についての観察結果の正確性を向上させることが可能である。
Furthermore, in the said invention, it is desirable for the said imaging means to provide the image pick-up element which has a smear suppression function.
According to the present invention, it is possible to prevent the occurrence of smear from a high-luminance portion of the object to be inspected by using an image sensor having a smear suppressing function.
Therefore, it is possible to prevent formation of a region difficult to measure due to smear. For example, it is possible to accurately measure the low-luminance portion by preventing smear from the high-luminance portion.
Moreover, the invention which concerns on Claim 5 is a biological sample observation system provided with the said microscope imaging device.
According to the present invention, when observing a biological sample that has been operated so as to emit fluorescence, the imaging time interval can be shortened, and therefore, a phenomenon that occurs only for a short period of time unique to the biological sample. And the accuracy of the observation result of the state of the biological sample can be improved.

本発明の顕微鏡撮像装置によれば、被検査物の画像を複数枚取得する際に、撮像手段の露出時間を異ならせて撮像できるようにしている。そして、これら画像を1枚の画像に合成している。このようにすることにより、輝度のばらつきが大きな被検査物に対しても、正確な測定を行うことができるという効果を奏する。
本発明の生体試料観察システムによれば、撮像の時間間隔を短くすることができるので、生体試料に特有のわずかな時間しか起こらない現象を捉えることが可能であり、生体試料の状態についての観察結果の正確性を向上させることができるという効果を奏する。
According to the microscope imaging apparatus of the present invention, when acquiring a plurality of images of an object to be inspected, it is possible to capture images with different exposure times of the imaging means. These images are combined into a single image. By doing in this way, there exists an effect that an exact measurement can be performed also to a to-be-inspected object with a large variation in brightness.
According to the biological sample observation system of the present invention, since the imaging time interval can be shortened, it is possible to capture a phenomenon that occurs only for a short period of time unique to the biological sample, and observe the state of the biological sample. There is an effect that the accuracy of the result can be improved.

〔第1の実施の形態〕
以下、本発明に係る顕微鏡撮像装置の第1の実施形態について、図1から図10を参照して説明する。
[First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment of a microscope imaging apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS.

まず、TDI方式による撮像動作について図1を用いて説明する。
図1(a)、(b)、(c)は、TDI方式の撮像動作を説明する図である。図2(a)、(b)、(c)は、TDI方式の信号電荷の転送を説明する図である。図3(a)は、水平ラインLAに蓄積された信号電荷の強度を示す図であり、図3(b)は、水平ラインLBに蓄積された信号電荷の強度を示す図であり、図3(c)は、水平ラインLCに蓄積された信号電荷の強度を示す図である。
ここでは、説明の容易化のため、星型状の試料を用いている。しかしながら、試料の形状は、特にこの形状に限定されるものではない。
First, an imaging operation by the TDI method will be described with reference to FIG.
FIGS. 1A, 1B, and 1C are diagrams illustrating a TDI imaging operation. FIGS. 2A, 2B, and 2C are diagrams for explaining signal charge transfer in the TDI system. 3A is a diagram showing the intensity of the signal charge accumulated in the horizontal line LA, and FIG. 3B is a diagram showing the intensity of the signal charge accumulated in the horizontal line LB. (C) is a figure which shows the intensity | strength of the signal charge accumulate | stored in the horizontal line LC.
Here, for ease of explanation, a star-shaped sample is used. However, the shape of the sample is not particularly limited to this shape.

試料(被検査物)20と撮像素子63の撮像エリアSとの配置関係を、図1(a)に示す。このように、撮像は、試料20の上方と撮像エリアSの下方とが重なる位置関係から始まる。そのため、最初に、上向き凸部の先端領域のみが、撮像素子63上に投影される。このとき、上向き凸部の先端領域の像は、図2(a)に示すように、撮像素子63の水平ラインLAによって撮影される。水平ラインLAには、図3(a)に示すように、試料20からの光量(輝度)に対応した強度の信号電荷が蓄積される。   An arrangement relationship between the sample (inspection object) 20 and the imaging area S of the imaging element 63 is shown in FIG. In this way, imaging starts from a positional relationship in which the upper side of the sample 20 and the lower side of the imaging area S overlap. Therefore, first, only the tip region of the upward convex portion is projected onto the image sensor 63. At this time, an image of the tip region of the upward convex portion is taken by the horizontal line LA of the image sensor 63 as shown in FIG. As shown in FIG. 3A, signal charges having an intensity corresponding to the amount of light (brightness) from the sample 20 are accumulated in the horizontal line LA.

次に、所定のタイミングで、ステージ30を移動させる。ここでは、図1(b)に示すように、Y軸の正方向に撮像素子63の1水平ライン分だけ移動させる。すると試料20の上向き凸部全体が撮像される。
このとき、図2(b)に示すように、ステージ30の移動と同時に、水平ラインLAに蓄積された信号電荷は、水平ラインLBに転送される。そして、試料20の像が、撮像素子63の水平ラインLAと水平ラインLBとによって撮影される。
したがって、水平ラインLBには、図3(b)に示すように、前回時に蓄積された信号電荷と今回の撮影時に蓄積された信号電荷が加算されることになる。つまり、水平ラインLBには、前回及び今回の撮影で得られた信号電荷が累積される。その結果、1ラインで測定された時と比較して、2倍の強度の信号電荷になる。
このように、図2(a)に示す状態から、図2(b)に示す状態のように電荷転送が行われる。この電荷が転送される時間間隔のことを、TDIライン転送レートと呼ぶことにする。
Next, the stage 30 is moved at a predetermined timing. Here, as shown in FIG. 1B, the image sensor 63 is moved by one horizontal line in the positive direction of the Y axis. Then, the whole upward convex part of the sample 20 is imaged.
At this time, as shown in FIG. 2B, simultaneously with the movement of the stage 30, the signal charge accumulated in the horizontal line LA is transferred to the horizontal line LB. Then, an image of the sample 20 is taken by the horizontal line LA and the horizontal line LB of the image sensor 63.
Therefore, as shown in FIG. 3B, the signal charge accumulated at the previous time and the signal charge accumulated at the current photographing are added to the horizontal line LB. That is, the signal charges obtained in the previous and current photographing are accumulated on the horizontal line LB. As a result, the signal charge is twice as strong as when measured on one line.
Thus, charge transfer is performed from the state shown in FIG. 2A to the state shown in FIG. The time interval at which this charge is transferred is called the TDI line transfer rate.

さらに、所定のタイミングで、ステージ30を移動させる。すなわち、図1(c)に示すように、Y軸の正方向に撮像素子63の1水平ライン分だけ移動させる。これにより、試料20の撮像が続行される。
このとき、図2(c)に示すように、ステージ30の移動と同時に、水平ラインLBに蓄積された信号電荷が、水平ラインLCに転送される。また、水平ラインLAに蓄積された信号電荷が、水平ラインLBに転送される。そして、試料20の像が、水平ラインLA、水平ラインLB、水平ラインLCによって撮影される。
したがって、水平ラインLCには、図3(c)に示すように、今回の撮影時に得られた信号電荷が、加算されることになる。よって、水平ラインLCには、前々回、前回及び今回の撮影で得られた信号電荷が、蓄積される。つまり、1ラインで測定された時と比較して、3倍の強度の信号電荷になる。なお、水平ラインLBには、前回及び今回の撮影時に得られた信号電荷が蓄積される。
Further, the stage 30 is moved at a predetermined timing. That is, as shown in FIG. 1C, the image sensor 63 is moved by one horizontal line in the positive direction of the Y axis. Thereby, the imaging of the sample 20 is continued.
At this time, as shown in FIG. 2C, simultaneously with the movement of the stage 30, the signal charges accumulated in the horizontal line LB are transferred to the horizontal line LC. Further, the signal charges accumulated in the horizontal line LA are transferred to the horizontal line LB. Then, an image of the sample 20 is taken by the horizontal line LA, the horizontal line LB, and the horizontal line LC.
Therefore, as shown in FIG. 3C, the signal charge obtained at the time of the current photographing is added to the horizontal line LC. Therefore, the signal charges obtained in the previous and current shootings are accumulated in the horizontal line LC two times in advance. That is, the signal charge is three times stronger than when measured on one line. In the horizontal line LB, signal charges obtained at the previous and current photographing are accumulated.

以上の動作を続けることで、水平走査ラインの本数と同じ回数の撮影が行われる。これにより、試料20の同一箇所に対応する信号電荷が、撮影回数だけ蓄積されることになる。このように、TDI方式では、撮像面に投影される試料20の像が、ステージ30の移動に伴ってシフトするが、それに同期して撮像素子63に蓄積される信号電荷をシフトさせている。   By continuing the above operation, photographing is performed as many times as the number of horizontal scanning lines. As a result, signal charges corresponding to the same part of the sample 20 are accumulated as many times as the number of photographing. As described above, in the TDI system, the image of the sample 20 projected on the imaging surface shifts with the movement of the stage 30, but the signal charges accumulated in the imaging device 63 are shifted in synchronization with the movement.

次に、TDI方式における撮影時の露出時間について説明する。
TDI方式における露出時間は、試料20から戻ってきた信号光が、信号電荷として蓄積される時間である。つまり、TDI方式における露出時間は、TDIライン転送レートと累積画素数の積として表すことができる。したがって、露出時間を変更するには、TDIライン転送レートを早くして露出時間を長くするか、ライン転送レートを遅くして露出時間を短くすればよい。
例えば、撮像素子63として、Y軸方向に1000画素あるCCDカメラを用いたとする。この場合、露出時間0.2(s)で撮影するには、下記に示す計算により、転送レートを5kHz(0.2ms)にすればよい。
0.2(s)/1000=0.2(ms)
Next, the exposure time at the time of shooting in the TDI system will be described.
The exposure time in the TDI system is a time during which the signal light returned from the sample 20 is accumulated as a signal charge. That is, the exposure time in the TDI system can be expressed as a product of the TDI line transfer rate and the cumulative number of pixels. Therefore, to change the exposure time, the exposure time can be shortened by increasing the exposure time by increasing the TDI line transfer rate, or by decreasing the line transfer rate.
For example, assume that a CCD camera having 1000 pixels in the Y-axis direction is used as the image sensor 63. In this case, in order to capture an image with an exposure time of 0.2 (s), the transfer rate may be set to 5 kHz (0.2 ms) by the following calculation.
0.2 (s) /1000=0.2 (ms)

次に、TDI方式におけるステージ走査速度について説明する。
ステージ30の移動は、信号電荷の転送と同期させて行われている。したがって、ステージ30移動速度は、ステージ30上における画素サイズを、TDIライン転送レートで割った値で表すことができる。ここで、ステージ30上における画素サイズは、撮像素子63(例えばCCD)の画素サイズと投影倍率から求めることができる。
例えば、投影倍率10倍、撮像素子63の画素サイズを6.45(μm)、TDIライン転送レートを5kHzとする。このときのステージ速度は、下記に示す計算式により、3.23(mm/s)になる。
6.45×10−3(mm)/10×5×10(Hz)=3.23(mm/s)
Next, the stage scanning speed in the TDI system will be described.
The movement of the stage 30 is performed in synchronization with the transfer of signal charges. Therefore, the moving speed of the stage 30 can be represented by a value obtained by dividing the pixel size on the stage 30 by the TDI line transfer rate. Here, the pixel size on the stage 30 can be obtained from the pixel size of the image sensor 63 (for example, CCD) and the projection magnification.
For example, the projection magnification is 10 times, the pixel size of the image sensor 63 is 6.45 (μm), and the TDI line transfer rate is 5 kHz. The stage speed at this time is 3.23 (mm / s) according to the calculation formula shown below.
6.45 × 10 −3 (mm) / 10 × 5 × 10 3 (Hz) = 3.23 (mm / s)

次に、本実施形態における顕微鏡撮像装置の構成について説明する。
図4は、本実施形態における顕微鏡撮像装置の全体構成を示す図である。
顕微鏡撮像装置10は、図4に示すように、ステージ30と、照明装置(照明手段)40と撮像装置(撮像手段)60と、から概略構成されている。ステージ30は、試料(被検査物)20を保持するとともに、移動可能になっている。照明装置40は、試料20に照明を照射する。撮像装置60は、照明の照射領域から発生する信号光を撮影・測定する。
Next, the configuration of the microscope imaging apparatus in the present embodiment will be described.
FIG. 4 is a diagram illustrating an overall configuration of the microscope imaging apparatus according to the present embodiment.
As shown in FIG. 4, the microscope imaging apparatus 10 is schematically configured by a stage 30, an illumination device (illuminating means) 40, and an imaging device (imaging means) 60. The stage 30 holds the sample (inspection object) 20 and is movable. The illumination device 40 irradiates the sample 20 with illumination. The imaging device 60 captures and measures signal light generated from an illumination area.

照明装置40は、ケーラー照明が可能なコンポーネントを有している。具体的には、ランプ41、コレクタレンズ42、反射鏡43、視野絞り44及びレンズ45である。光源用のランプ41としては、ガス放電ランプなどが用いられる。ガス放電ランプとしては、ハロゲンランプやキセノンランプ、水銀ランプなどがある。コレクタレンズ42は、ランプ41から放出された光を集める。反射鏡43は、ランプ41から後方に放射された光を、ランプ41に帰還的に反射する。また、コレクタレンズ42の後方には、視野絞り44が配置されている。この視野絞り44は、後述する対物レンズ49の焦点面と共役位置に配置されている。また、この視野絞り44は、開口の直径が調整可能となっている。視野絞り44の後方には、レンズ45が配置されている。レンズ45は、視野絞り44を無限遠に結像する。   The lighting device 40 includes a component capable of Koehler illumination. Specifically, the lamp 41, the collector lens 42, the reflecting mirror 43, the field stop 44, and the lens 45. A gas discharge lamp or the like is used as the light source lamp 41. Examples of the gas discharge lamp include a halogen lamp, a xenon lamp, and a mercury lamp. The collector lens 42 collects light emitted from the lamp 41. The reflecting mirror 43 reflects light emitted backward from the lamp 41 back to the lamp 41. A field stop 44 is disposed behind the collector lens 42. The field stop 44 is arranged at a conjugate position with a focal plane of an objective lens 49 described later. In addition, the field stop 44 has an adjustable opening diameter. A lens 45 is disposed behind the field stop 44. The lens 45 images the field stop 44 at infinity.

レンズ45後方のレンズ45の焦点面には、開口絞り46が配置されている。この開口絞り45は、開口の直径を変化させることが可能となっている。これにより、対物レンズ49の射出瞳位置における光束径の大きさを調整する。開口絞り46の後方には、ミラー47が配置されている。このミラー47としては、ランプ41からの光は反射し、試料20からの戻り光(蛍光)を透過する、ダイクロイックミラーが用いられている。なお、ダイクロイックミラーの代わりに、ハーフミラーを用いても良い。
ミラー47の後方には、対物レンズ49が配置されている。そして、対物レンズ49と対向する位置に、ステージ30が配置されている。
An aperture stop 46 is disposed on the focal plane of the lens 45 behind the lens 45. The aperture stop 45 can change the diameter of the aperture. Thereby, the size of the light beam diameter at the exit pupil position of the objective lens 49 is adjusted. A mirror 47 is disposed behind the aperture stop 46. As the mirror 47, a dichroic mirror that reflects light from the lamp 41 and transmits return light (fluorescence) from the sample 20 is used. A half mirror may be used instead of the dichroic mirror.
An objective lens 49 is disposed behind the mirror 47. A stage 30 is disposed at a position facing the objective lens 49.

ステージ30には、ステージ駆動機構(移動手段)31が配置されている。ステージ駆動機構(移動手段)31は、後述するコンピュータの出力に基づき、ステージ30をXY方向に駆動制御する。ステージ駆動機構31としては、公知の技術、例えば、スライド移動機構を用いることができる。ただし、特に、スライド移動機構に限定するものではない。   A stage driving mechanism (moving means) 31 is disposed on the stage 30. The stage drive mechanism (moving means) 31 controls the drive of the stage 30 in the XY directions based on the output of a computer to be described later. As the stage drive mechanism 31, a known technique, for example, a slide movement mechanism can be used. However, it is not particularly limited to the slide movement mechanism.

撮像装置60には、結像レンズ61と検出器62とが配置されている。結像レンズ61には、試料20からの戻り光(蛍光)が入射する。結像レンズ61は、入射した光を所定の位置に集光(結像)する。検出器62は、所定の位置に配置されている。検出器62は、試料20からの戻り光を検知する。検出器62には、TDI方式による撮像が可能な撮像素子63が配置されている。撮像素子63は、前述のように、ステージ30の移動に対応して、各水平ラインに蓄積された信号電荷を素子内で蓄積する。
検出器62の出力は、検出器62からの出力信号を処理する画像処理ユニット64に接続されている。画像処理ユニット64には、処理された信号を表示するモニター65が接続している。また画像処理ユニット64は、コンピュータ66に接続している。なお、コンピュータ66には、ステージ駆動機構31も接続されている。
また、コンピュータ(計算手段)66は、本測定での露出時間の計算を行っている。この計算は、後述するように、プレスキャンにおいて取得した情報に基づいて行われる。この情報は、各標本配置部における輝度である。
In the imaging device 60, an imaging lens 61 and a detector 62 are arranged. Return light (fluorescence) from the sample 20 enters the imaging lens 61. The imaging lens 61 condenses (images) incident light at a predetermined position. The detector 62 is disposed at a predetermined position. The detector 62 detects return light from the sample 20. The detector 62 is provided with an image sensor 63 capable of imaging by the TDI method. As described above, the image sensor 63 accumulates signal charges accumulated in each horizontal line in the element in accordance with the movement of the stage 30.
The output of the detector 62 is connected to an image processing unit 64 that processes the output signal from the detector 62. A monitor 65 for displaying the processed signal is connected to the image processing unit 64. The image processing unit 64 is connected to the computer 66. The stage drive mechanism 31 is also connected to the computer 66.
The computer (calculation means) 66 calculates the exposure time in the main measurement. As will be described later, this calculation is performed based on information acquired in the pre-scan. This information is the luminance in each specimen arrangement unit.

図5(a)は、試料20の形状を説明する図である。図5(b)は、試料20の標本配置部22を示す拡大図である。
試料20は、図5(a)に示すように、透明基板21を有する。この透明基板21は、例えばガラス板やプラスチック板などの材料で形成されている。そして、透明基板21には、標本配置部22がマトリクス状に形成されている。すなわち、複数の標本配置部22により、二次元パターン部23が形成されている。
標本配置部22は、平面視においては直径が略数mmの略円形状、断面視においては凹形状に形成されている。そして、標本配置部22内には、図5(b)に示すように、測定対象である細胞が配置されている。また、細胞は、標本配置部22内において培養される。
FIG. 5A illustrates the shape of the sample 20. FIG. 5B is an enlarged view showing the specimen arrangement part 22 of the sample 20.
The sample 20 has a transparent substrate 21 as shown in FIG. The transparent substrate 21 is made of a material such as a glass plate or a plastic plate. The transparent substrate 21 has sample arrangement portions 22 formed in a matrix. That is, the two-dimensional pattern portion 23 is formed by the plurality of specimen arrangement portions 22.
The specimen arrangement portion 22 is formed in a substantially circular shape having a diameter of about several millimeters in a plan view and a concave shape in a cross-sectional view. And in the sample arrangement | positioning part 22, as shown in FIG.5 (b), the cell which is a measuring object is arrange | positioned. Further, the cells are cultured in the specimen arrangement unit 22.

次に、TDI方式におけるステージの走査について説明する。
図6は、TDI方式における走査を説明する図である。なお、本実施形態においてはステージ30を動かして走査させている。しかしながら、図6においては、図示の容易化のため、撮像素子63を動かす形態で説明している。
Next, stage scanning in the TDI system will be described.
FIG. 6 is a diagram for explaining scanning in the TDI system. In this embodiment, the stage 30 is moved for scanning. However, in FIG. 6, for ease of illustration, the image pickup device 63 is described as being moved.

TDI方式で試料20を測定する場合は、図6に示すように、二次元パターン部23全面を走査する。この走査は、標本配置部22の有無に関わらず行われる。
ここでは、Y軸方向にステージ30を走査させると、ステージ30は−Y軸方向に等速に動く。一方、撮像素子63は、一方向のみに電荷転送が可能である。そのため、図6に示すように、ステージ30が−Y軸方向に進んでいるときのみ測定を行う。なお、+Y軸方向にステージ30が進んでいるときは測定をしない。+Y軸方向への移動は、ステージが初期位置に戻るための移動になる。初期位置に戻るまでの時間は、例えば取得したデータを、コンピュータ66のハードディスクに記録する時間に当てることができる。
When the sample 20 is measured by the TDI method, the entire surface of the two-dimensional pattern unit 23 is scanned as shown in FIG. This scanning is performed regardless of the presence / absence of the sample placement unit 22.
Here, when the stage 30 is scanned in the Y-axis direction, the stage 30 moves at a constant speed in the -Y-axis direction. On the other hand, the image sensor 63 can transfer charges only in one direction. Therefore, as shown in FIG. 6, the measurement is performed only when the stage 30 advances in the −Y axis direction. Note that no measurement is performed when the stage 30 advances in the + Y-axis direction. The movement in the + Y-axis direction is a movement for returning the stage to the initial position. The time until returning to the initial position can be applied to the time for recording the acquired data on the hard disk of the computer 66, for example.

次に、測定の手順について図7を用いて説明する。
図7は、本実施形態における測定手順を示すフローチャートである。また、図8は、試料20の画像の輝度と、撮像素子からの出力レベルとの相関関係を示す図である。ここで、図8(a)は、1回目の走査で取得された輝度と出力レベルとの相関関係を示す図である。また、図8(b)は、2回目の走査で取得された輝度と、出力レベルとの相関関係を示す図である。図8(c)は、1回目、2回目の走査で取得された輝度と出力レベルとの相関関係を示す図である。
Next, the measurement procedure will be described with reference to FIG.
FIG. 7 is a flowchart showing a measurement procedure in the present embodiment. FIG. 8 is a diagram illustrating the correlation between the luminance of the image of the sample 20 and the output level from the image sensor. Here, FIG. 8A is a diagram showing the correlation between the luminance and the output level acquired in the first scan. FIG. 8B is a diagram showing the correlation between the luminance acquired in the second scan and the output level. FIG. 8C is a diagram showing the correlation between the luminance and the output level acquired in the first and second scans.

まず、1回目の走査(撮像)を行い、試料20の画像を取得する(S1)。これが、プレスキャンに相当する
ここでは、試料20(ステージ30)を、図6中のaの位置からbの位置へ移動させながら、試料20を所定の露出時間で撮像している。
1回目の走査で取得された画像について、画像の輝度と撮像素子63からの出力レベルとの相関を調べる。この場合、例えば図8(a)に示すように、蓄積電荷が飽和している部分(以下、飽和レベル部分とする)と、蓄積電荷が微量な部分(以下、微量レベル部分とする)とが存在する。
First, the first scanning (imaging) is performed to acquire an image of the sample 20 (S1). This corresponds to pre-scanning. Here, the sample 20 is imaged with a predetermined exposure time while moving the sample 20 (stage 30) from the position a in FIG. 6 to the position b.
For the image acquired in the first scan, the correlation between the brightness of the image and the output level from the image sensor 63 is examined. In this case, for example, as shown in FIG. 8A, there are a portion where the accumulated charge is saturated (hereinafter referred to as a saturation level portion) and a portion where the accumulated charge is very small (hereinafter referred to as a trace level portion). Exists.

次に、2回目の走査の準備を行う(S2)。
ここでは、飽和レベル部分や、微量レベル部分に関して、これらの部分の出力レベルが適切となるようにする。すなわち、これらの部分ごとに、適切な長さの露出時間を設定する。
つまり、飽和レベル部分を解消するときには、露出時間の長さを1回目の走査における露出時間よりも短く設定する。このとき、出力レベルが、撮像素子63のダイナミックレンジを使い切るレベルにする。また、微量レベル部分を解消するときには、露出時間の長さを1回目の走査における露出時間よりも長く設定する。この場合も、出力レベルが、撮像素子63のダイナミックレンジを使い切るレベルにする。
また、このとき同時に、試料20(ステージ30)の位置を、bからaの位置へ移動させる。
なお、本実施の形態においては、飽和レベル部分を解消する例に適応して説明する。
Next, preparation for the second scan is performed (S2).
Here, regarding the saturation level portion and the minute level portion, the output levels of these portions are made appropriate. That is, an exposure time having an appropriate length is set for each of these portions.
That is, when eliminating the saturation level portion, the length of the exposure time is set shorter than the exposure time in the first scan. At this time, the output level is set to a level where the dynamic range of the image sensor 63 is used up. Further, when eliminating the minute level portion, the length of the exposure time is set longer than the exposure time in the first scanning. Also in this case, the output level is set to a level where the dynamic range of the image sensor 63 is used up.
At the same time, the position of the sample 20 (stage 30) is moved from b to a.
In the present embodiment, the description will be made with reference to an example of eliminating the saturation level portion.

次に、2回目の走査(撮像)を行い、再び試料20の画像を取得する(S3)。
今回の撮像においては、S2で求められた露出時間を用いて、S1と同様に試料20を撮像している。
2回目の走査で取得された画像は、得られた画像の輝度と撮像素子63からの出力レベルとの相関を示す図ということができる。2回目の走査で取得された画像を、図8(b)に示す。図に示すように、前の走査における飽和レベル部分で、飽和状態が解消されている。その一方で、微量レベル部分で、出力レベルが増大している。
Next, the second scanning (imaging) is performed, and an image of the sample 20 is acquired again (S3).
In this imaging, the sample 20 is imaged in the same manner as S1 using the exposure time obtained in S2.
It can be said that the image acquired by the second scanning shows a correlation between the brightness of the obtained image and the output level from the image sensor 63. FIG. 8B shows an image acquired by the second scan. As shown in the figure, the saturation state is eliminated at the saturation level portion in the previous scan. On the other hand, the output level is increased at the minute level portion.

次に、1回目、2回目の走査で取得された画像を1枚の画像に合成する(S4)。
ここでは、S1およびS3で取得された画像を合成する。これにより、ダイナミックレンジの広い1枚の画像が得られる。
このように、本実施の形態においては、図8(c)に示すように、露出時間の長いS1で取得された画像と、露出時間の短いS3で取得された画像を用いて、1枚の画像を合成している。
その後、試料20(ステージ30)をbからcの位置へ移動させ、次のラインの測定準備に移る。
Next, the images acquired in the first and second scans are combined into one image (S4).
Here, the images acquired in S1 and S3 are combined. Thereby, one image with a wide dynamic range is obtained.
Thus, in the present embodiment, as shown in FIG. 8C, one image is obtained using the image acquired in S1 with a long exposure time and the image acquired in S3 with a short exposure time. The image is synthesized.
Thereafter, the sample 20 (stage 30) is moved from the position b to the position c, and the measurement preparation for the next line is started.

なお、本実施の形態においては、同一箇所の走査を2回繰り返して測定する例で説明した。しかしながら、走査の回数は2回に限られることはない。例えば、同一箇所の走査を3回、もしくはそれ以上の回数、走査を繰り返してもよい。この場合、各走査による画像の取得の間に、次の走査の準備が行われ、取得された画像の合成は最後に行われる。   In the present embodiment, an example in which scanning at the same location is repeated twice is described. However, the number of scans is not limited to two. For example, the scanning of the same portion may be repeated three times or more times. In this case, preparation for the next scan is performed during the acquisition of the image by each scan, and the synthesis of the acquired image is performed last.

また、上述した撮像素子63の他に、電子シャッタを持つ撮像素子63aを用いてもよい。この撮像素子63aを用いると、露出時間の短時間化を図ることができるため好ましい。
電子シャッタは、CCDを使ったデジタルカメラやカメラ付き携帯電話に用いられているシャッタである。この電子シャッタは、光に晒されていてもCCDが動作をしていなければ、電荷を蓄積しないという現象を利用している。そのため、CCDの働き自体が一種のシャッタとなっている。
一方、塩銀カメラで用いられているメカニカルシャッタは、レンズとフィルムとの間に光を遮る板を置いて、その板の開閉(移動)によって露光を行っている。よって、電子シャッタは、メカニカルシャッタとは異なる。このように、電子シャッタでは、メカニカルシャッタを用いることなく、露出時間の制御を行っている。
In addition to the image sensor 63 described above, an image sensor 63a having an electronic shutter may be used. Use of the image sensor 63a is preferable because the exposure time can be shortened.
The electronic shutter is a shutter used in a digital camera using a CCD or a mobile phone with a camera. This electronic shutter utilizes a phenomenon that charges are not accumulated if the CCD is not operating even when exposed to light. Therefore, the CCD itself is a kind of shutter.
On the other hand, a mechanical shutter used in a silver halide camera places a plate that blocks light between a lens and a film, and performs exposure by opening and closing (moving) the plate. Therefore, the electronic shutter is different from the mechanical shutter. Thus, in the electronic shutter, the exposure time is controlled without using a mechanical shutter.

図9は、TDI方式における電子シャッタのタイムチャートである。
例えば、図9に示すように、TDI方式における最速転送レートをt1秒とすると、t1秒ごとに電荷を隣の水平ラインに転送している。なお、転送のタイミングは図中の矢印で示してある。
また、電子シャッタは各電荷転送タイミングからt2秒間だけOpenになり、電荷の蓄積を行っている。つまり、CCDの電荷蓄積は、1電荷転送タイミングあたり、t2秒となる。一方、電子シャッタを用いない場合の露出時間はt1である。よって、電子シャッタを用いた時の露出時間は、電子シャッタを用いないときのt2/t1倍になる。
例えば、撮像素子63aが、Y軸方向の画素数が1000画素で、最速転送レート(t1)が10kHz(0.1ms)の撮像素子だとする。この撮像素子63aを用いて、露出時間1msで撮影するには、以下の計算により、電子シャッタOpen時間(t2)を0.001msにすればよいことになる。
1000×0.1(ms)×(t2/0.1)=1(ms)
t2=0.001(ms)
電子シャッタを使わないと、最短露出時間は、TDIの最速転送レートと積算画素数の積で決まる。これに対して、上記のように電子シャッタを使うことによって、測定可能な露出時間のレンジを広げることができる。したがって、高輝度の試料20も正確に測定することができる。
FIG. 9 is a time chart of the electronic shutter in the TDI system.
For example, as shown in FIG. 9, assuming that the fastest transfer rate in the TDI system is t1 seconds, charges are transferred to the adjacent horizontal line every t1 seconds. The transfer timing is indicated by an arrow in the figure.
The electronic shutter is open for t2 seconds from each charge transfer timing, and charges are accumulated. That is, charge accumulation of the CCD is t2 seconds per charge transfer timing. On the other hand, the exposure time when the electronic shutter is not used is t1. Therefore, the exposure time when the electronic shutter is used is t2 / t1 times that when the electronic shutter is not used.
For example, it is assumed that the imaging device 63a is an imaging device having 1000 pixels in the Y-axis direction and a fastest transfer rate (t1) of 10 kHz (0.1 ms). In order to capture an image with an exposure time of 1 ms using the image sensor 63a, the electronic shutter Open time (t2) may be set to 0.001 ms by the following calculation.
1000 × 0.1 (ms) × (t2 / 0.1) = 1 (ms)
t2 = 0.001 (ms)
If the electronic shutter is not used, the shortest exposure time is determined by the product of the TDI fastest transfer rate and the number of integrated pixels. On the other hand, the measurable exposure time range can be expanded by using the electronic shutter as described above. Therefore, the high-intensity sample 20 can also be accurately measured.

上記の構成によれば、露出時間の異なる2回の走査S1、S3により得られた2枚の画像を、1枚の画像に合成する(S4)している。このようにすることにより、1つの露出時間で得られた画像に比べて、ダイナミックレンジの広い画像を得ることができる。そのため、輝度のばらつきが大きな試料20に対しても、正確な測定を行うことができる。   According to the above configuration, two images obtained by the two scans S1 and S3 having different exposure times are combined into one image (S4). By doing in this way, an image with a wide dynamic range can be obtained compared with the image obtained by one exposure time. Therefore, accurate measurement can be performed even for the sample 20 having a large variation in luminance.

なお、試料20は、図5に示すように、透明基板21上に標本配置部22のみが形成されていてもよい。あるいは、図10に示すように、透明基板21の左端の近傍領域に基準線BLが形成されていてもよい。
基準線BLが形成されていると、基準線BLを、各走査により取得された画像を合成する時の基準とすることができる。よって、画像の合成を行いやすくすることができる。
また、本実施の形態においては、蛍光観察を行っているため、基準線BLは蛍光を発する材料で形成されることが好ましい。
As shown in FIG. 5, the sample 20 may have only the specimen arrangement portion 22 formed on the transparent substrate 21. Alternatively, as shown in FIG. 10, the reference line BL may be formed in a region near the left end of the transparent substrate 21.
When the reference line BL is formed, the reference line BL can be used as a reference when the images acquired by the respective scans are combined. Therefore, it is possible to facilitate image composition.
In the present embodiment, since fluorescence observation is performed, the reference line BL is preferably formed of a material that emits fluorescence.

〔第2の実施の形態〕
次に、本発明の第2の実施形態について図11から図13を参照して説明する。
本実施の形態の顕微鏡撮像装置の基本構成は、第1の実施の形態と同様である。ただし、第1の実施の形態とは、試料の測定方法が異なっている。よって、本実施の形態においては、図11から図13を用いて試料の測定方法のみを説明し、TDI方式等の説明は省略する。
図11は、本実施の形態における顕微鏡撮像装置の全体構成を示す図である。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
The basic configuration of the microscope imaging apparatus of the present embodiment is the same as that of the first embodiment. However, the sample measurement method is different from the first embodiment. Therefore, in this embodiment, only the sample measurement method will be described with reference to FIGS. 11 to 13 and description of the TDI method and the like will be omitted.
FIG. 11 is a diagram illustrating an overall configuration of the microscope imaging apparatus according to the present embodiment.

顕微鏡撮像装置110は、図11に示すように、ステージ30と、照明装置40と像装置(撮像手段)160と、から概略構成されている。ステージ30は、試料20を保持するとともに、移動可能になっている。照明装置40は、試料20に照明光を照射する。像装置160は、照明の照射領域から発生する信号光を撮影・測定する。   As shown in FIG. 11, the microscope imaging device 110 is schematically configured by a stage 30, an illumination device 40, and an image device (imaging unit) 160. The stage 30 holds the sample 20 and is movable. The illumination device 40 irradiates the sample 20 with illumination light. The image device 160 captures and measures signal light generated from an illumination area.

撮像装置160には、結像レンズ61と検出器62とが配置されている。結像レンズ61には、試料20からの戻り光が入射する。検出器62は、試料20からの戻り光を検知する。
また、検出器62は、検出器62の出力を処理する画像処理ユニット64に接続されている。画像処理ユニット64、処理された信号を表示するモニター65、ステージ駆動機構31はコンピュータ166に接続されている。
コンピュータ166には、露出時間入力部(露出時間入力手段)167と、決定部168とが設けられている。露出時間入力部167は、最長露出時間Tmaxが入力される。この最長露出時間Tmaxは、試料20の測定に関する時間であって、ユーザーが設定する。また、決定部168は、撮影・測定に用いる露出時間Tmeasureを決定する。
In the imaging device 160, an imaging lens 61 and a detector 62 are arranged. Return light from the sample 20 enters the imaging lens 61. The detector 62 detects return light from the sample 20.
The detector 62 is connected to an image processing unit 64 that processes the output of the detector 62. The image processing unit 64, the monitor 65 that displays the processed signal, and the stage driving mechanism 31 are connected to the computer 166.
The computer 166 is provided with an exposure time input unit (exposure time input means) 167 and a determination unit 168. The exposure time input unit 167 receives the longest exposure time Tmax. The longest exposure time Tmax is a time related to the measurement of the sample 20, and is set by the user. Further, the determination unit 168 determines an exposure time Tmeasure used for photographing and measurement.

次に、測定手順について説明する。
図12は、本実施形態における測定手順を示すフローチャートである。
まず、ユーザーが、最長露出時間Tmaxを設定する(S10)。設定された最長露出時間Tmaxは、露出時間入力部167に入力される。
次に、1回目の走査(撮像)を行い、試料20の画像を取得する(S11)。
ここでは、決定部168に入力された最長露出時間Tmaxを、撮影・測定に用いる露出時間Tmeasureとする。よって、最長露出時間Tmaxで、試料20の画像が取得される。
Next, the measurement procedure will be described.
FIG. 12 is a flowchart showing a measurement procedure in the present embodiment.
First, the user sets the longest exposure time Tmax (S10). The set longest exposure time Tmax is input to the exposure time input unit 167.
Next, the first scanning (imaging) is performed to obtain an image of the sample 20 (S11).
Here, the longest exposure time Tmax input to the determination unit 168 is set as the exposure time Tmeasure used for photographing and measurement. Therefore, an image of the sample 20 is acquired with the longest exposure time Tmax.

次に、2回目の走査の準備を行う(S12)。
ここでは、決定部168が、飽和レベル部分の大きさ(飽和画素数)から、2回目の走査における露出時間Tmeasureを決定している。
具体的には、決定部168には、図13に示すように、飽和画素の数と次回の撮像における露出時間との相関関係(テーブル)が記憶されている。よって、このテーブルに基づいて、コンピュータは2回目の走査における露出時間Tmeasureを決定している。そのため、例えば標本配置部22あたりの飽和画素数が多くなると、2回目の露出時間が短くなる。
Next, preparation for the second scan is performed (S12).
Here, the determination unit 168 determines the exposure time Tmeasure in the second scan from the size of the saturation level portion (the number of saturated pixels).
Specifically, as shown in FIG. 13, the determination unit 168 stores a correlation (table) between the number of saturated pixels and the exposure time in the next imaging. Therefore, based on this table, the computer determines the exposure time Tmeasure in the second scan. Therefore, for example, when the number of saturated pixels per specimen arrangement unit 22 increases, the second exposure time is shortened.

飽和画素について説明する。例えば、12ビットのCCDを、撮像素子63として用いたとする。この場合、最大階調は、4095(=212:12ビットの最大値)となる。よって、飽和画素とは、撮像素子が4095となるような値を出力した時の画素のことである。言い換えれば、出力値が上限に達した画素のことである。 A saturated pixel will be described. For example, assume that a 12-bit CCD is used as the image sensor 63. In this case, the maximum gradation is 4095 (= 2 12 : the maximum value of 12 bits). Therefore, the saturated pixel is a pixel when the image sensor outputs a value that is 4095. In other words, the pixel whose output value has reached the upper limit.

次に、2回目の走査(撮像)を行い試料20の画像を取得し(S13)、1回目、2回目の走査で取得された画像を1枚の画像に合成する(S14)。
なお、S13以後の測定手順については、第1の実施形態と同様の手順であるため、図12を示して、その説明を省略する。
Next, the second scanning (imaging) is performed to obtain an image of the sample 20 (S13), and the images obtained by the first and second scannings are combined into one image (S14).
Since the measurement procedure after S13 is the same as that in the first embodiment, FIG. 12 is shown and the description thereof is omitted.

上記の構成によれば、ユーザーが、予め最長露出時間Tmaxを露出時間入力部167に入力する。このようにすることにより、露出時間の振り方を、短くする方向に限定することができる。よって、画像の取得を、より効率化することができる。そのため、ダイナミックレンジの広い画像を、効率よく取得することができる。   According to the above configuration, the user inputs the longest exposure time Tmax to the exposure time input unit 167 in advance. By doing in this way, how to change exposure time can be limited to the direction to shorten. Therefore, the image acquisition can be made more efficient. Therefore, an image with a wide dynamic range can be acquired efficiently.

なお、本実施の形態においては、ユーザーが最長露出時間を設定する例で説明している。しかしながら、露出時間入力部167に入力される時間は、単なる露出時間でもよい。すなわち、最長露出時間に限定されるものではない。   In the present embodiment, an example is described in which the user sets the longest exposure time. However, the time input to the exposure time input unit 167 may be a simple exposure time. That is, it is not limited to the longest exposure time.

〔第3の実施の形態〕
次に、本発明の第3の実施形態について、図14および図15を参照して説明する。
本実施の形態の顕微鏡撮像装置の基本構成は、第1の実施の形態と同様である。ただし、第1の実施の形態とは、撮像装置の構成が異なっている。よって、本実施の形態においては、図14および図15を用いて撮像装置周辺のみを説明し、照明装置等の説明を省略する。
図14は、本実施の形態における顕微鏡撮像装置の全体構成を示す図である。
顕微鏡撮像装置210は、図12に示すように、ステージ30と、照明装置40と撮像装置(撮像手段)260と、から概略構成されている。ステージ30は、試料20を保持するとともに、移動可能となっている。照明装置40は、試料20に照明光を照射する撮像装置260は、照明光が照射された領域から発生する信号光を撮影・測定する。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
The basic configuration of the microscope imaging apparatus of the present embodiment is the same as that of the first embodiment. However, the configuration of the imaging device is different from that of the first embodiment. Therefore, in this embodiment, only the periphery of the imaging device will be described with reference to FIGS. 14 and 15, and the description of the illumination device and the like will be omitted.
FIG. 14 is a diagram illustrating an overall configuration of the microscope imaging apparatus according to the present embodiment.
As shown in FIG. 12, the microscope image pickup device 210 is schematically configured by a stage 30, an illumination device 40, and an image pickup device (image pickup means) 260. The stage 30 holds the sample 20 and is movable. The illumination device 40 irradiates the sample 20 with illumination light, and the imaging device 260 captures and measures signal light generated from the region irradiated with the illumination light.

撮像装置260には、結像レンズ61と検出器262が配置されている。結像レンズ61には、試料20からの戻り光が入射する。検出器262は、試料20からの戻り光を検知する。検出器262には、撮像素子263が配置されている。撮像素子263はスミア抑制機能を有するとともに、TDI方式による撮像が可能となっている。TDI方式は、前述のように、ステージ30の移動に対応して、各水平ラインに蓄積された信号電荷を素子内で蓄積する方式である。   The imaging device 260 is provided with an imaging lens 61 and a detector 262. Return light from the sample 20 enters the imaging lens 61. The detector 262 detects return light from the sample 20. An image sensor 263 is disposed in the detector 262. The image sensor 263 has a smear suppressing function and can capture images by the TDI method. As described above, the TDI method is a method of accumulating signal charges accumulated in each horizontal line in the element in accordance with the movement of the stage 30.

ここで、スミアとは、CCD(Charge Coupled Device)のような光電子変換素子において生じる現象である。この現象は、光電子変換素子に一定以上の過剰な信号が入力された際に、信号処理の過程で、縦あるいは横方向の信号が全体的に変化し、擬似信号を生じることである。
つまり、例えば高輝度なスポット光が光電子変換素子に入射した場合に、縦または横方向に伸びる明るい帯が発生する現象のことである。
Here, smear is a phenomenon that occurs in a photoelectric conversion element such as a CCD (Charge Coupled Device). This phenomenon is that when an excess signal of a certain level or more is input to the photoelectric conversion element, the signal in the vertical or horizontal direction changes as a whole in the signal processing process to generate a pseudo signal.
That is, for example, when high-intensity spot light enters the photoelectric conversion element, a bright band extending in the vertical or horizontal direction is generated.

上記の構成によれば、このスミアの発生を防止することができる。例えば、図15に示すように、輝度の高い細胞BCと輝度の低い細胞DCとが、隣り合わせになっていたとする。この場合、輝度の低い細胞(生体試料)DCに合わせて長時間露出すると、輝度の高い細胞BCの画像においてスミアが発生する。しかしながら、上記の構成によれば、輝度の低い細胞DCに合わせて長露出時間で撮像を行っても、スミアの発生を防止することができる。そのため、輝度の高い細胞BCおよび輝度の低い細胞DCの両者を、正確に測定することができる。
なお、スミア抑制機能を持たない撮像素子を用いると、上述のように、輝度の低い細胞DC上に、輝度の高い細胞BCによるスミアが発生する恐れがある。その結果、輝度の低い細胞DCを、正確に測定できなくなる可能性がある。
According to said structure, generation | occurrence | production of this smear can be prevented. For example, as shown in FIG. 15, it is assumed that a cell BC having a high luminance and a cell DC having a low luminance are adjacent to each other. In this case, smear occurs in the image of the cell BC with high luminance when exposed to the cell (biological sample) DC with low luminance for a long time. However, according to the above configuration, it is possible to prevent smear even when imaging is performed with a long exposure time in accordance with the low-brightness cell DC. Therefore, both the high brightness cell BC and the low brightness cell DC can be accurately measured.
In addition, when an image sensor that does not have a smear suppressing function is used, smear due to a cell BC having a high luminance may occur on the cell DC having a low luminance as described above. As a result, there is a possibility that the low-brightness cell DC cannot be measured accurately.

〔第4の実施の形態〕
次に、本発明の第4の実施の形態について図16から図29を参照して説明する。第4の実施の形態は、上述の第1の実施の形態から第3の実施の形態に係る顕微鏡撮像装置のいずれかを適用した生体試料観察システムである。
図16は、本実施の形態に係る生体試料観察システムの概略を示す斜視図である。図17は、同じく生体試料観察システムのシステム構成を示す概略図である。
[Fourth Embodiment]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The fourth embodiment is a biological sample observation system to which any one of the above-described microscope imaging apparatuses according to the first to third embodiments is applied.
FIG. 16 is a perspective view showing an outline of the biological sample observation system according to the present embodiment. FIG. 17 is a schematic diagram showing the system configuration of the biological sample observation system.

生体試料観察システム410は、図16および図17に示すように、検出ユニット420と培養ユニット470とから概略構成されている。これら検出ユニット420および培養ユニット470は、接近して配置されることが望ましく、より好ましくは両ユニット420、470が接して配置されることが望ましい。   The biological sample observation system 410 is generally configured by a detection unit 420 and a culture unit 470, as shown in FIGS. The detection unit 420 and the culture unit 470 are desirably arranged close to each other, and more preferably, both the units 420 and 470 are disposed in contact with each other.

検出ユニット420は、図16および図17に示すように、生体試料を内部に収納する保温箱421と、生体試料としての細胞CEを測定する検出部(顕微鏡撮像装置)440とから概略構成されている。
保温箱421には、保温箱421内を所定の温度に保温するヒータ421Hと、後述するインキュベータボックス500を保持するステージ422と、細胞CEに光を照射する透過光源(照明手段)423と、保温箱421内の温度を均一にするファン424と、保温箱421内を殺菌するUVランプ425と、後述する培養液循環配管477や培養ガス供給配管497などを保護するキャリア426と、インキュベータボックス500などを保温箱421から出し入れする際に用いる開閉扉427と、検出ユニット420の主電源をON・OFFする主電源スイッチ428が備えられている。
As shown in FIGS. 16 and 17, the detection unit 420 is roughly configured by a heat insulating box 421 that houses a biological sample therein, and a detection unit (microscope imaging device) 440 that measures a cell CE as the biological sample. Yes.
The heat insulation box 421 includes a heater 421H that keeps the inside of the heat insulation box 421 at a predetermined temperature, a stage 422 that holds an incubator box 500 described later, a transmission light source (illuminating means) 423 that irradiates light to the cells CE, and heat insulation. A fan 424 that makes the temperature in the box 421 uniform, a UV lamp 425 that sterilizes the inside of the heat insulation box 421, a carrier 426 that protects a culture solution circulation pipe 477 and a culture gas supply pipe 497, which will be described later, an incubator box 500, and the like Is provided with an open / close door 427 used when taking out and putting in and out of the heat insulation box 421 and a main power switch 428 for turning on / off the main power of the detection unit 420.

ステージ422は、互いに直交方向に相対移動するX軸動作ステージ(ステージ)422Xと、Y軸動作ステージ(ステージ)422Yと、を有し、ステージ走査部(移動手段)429により走査制御されている。
ステージ走査部429は、X軸動作ステージ422XのX軸座標値を検出するX軸座標検出部430と、X軸動作ステージ422Xの動作(走査)を制御するX軸走査制御部431と、Y軸動作ステージ422YのY軸座標値を検出するY軸座標検出部432と、Y軸動作ステージ422Yの動作(走査)を制御するY軸走査制御部433と、から構成されている。
X軸座標検出部430およびY軸座標検出部432は、それぞれ検出したX軸動作ステージ422XのX座標と、Y軸動作ステージ422YのY座標と、をコンピュータPCに出力するように配置されている。X軸走査制御部431およびY軸走査制御部433は、それぞれコンピュータPCからの指示に基づきX軸動作ステージ422Xの走査と、Y軸動作ステージ422Yの走査とを制御するように配置されている。
The stage 422 includes an X-axis operation stage (stage) 422X and a Y-axis operation stage (stage) 422Y that move relative to each other in an orthogonal direction, and scanning control is performed by a stage scanning unit (movement means) 429.
The stage scanning unit 429 includes an X-axis coordinate detection unit 430 that detects an X-axis coordinate value of the X-axis operation stage 422X, an X-axis scan control unit 431 that controls the operation (scanning) of the X-axis operation stage 422X, and a Y-axis A Y-axis coordinate detection unit 432 that detects the Y-axis coordinate value of the operation stage 422Y, and a Y-axis scan control unit 433 that controls the operation (scanning) of the Y-axis operation stage 422Y.
The X-axis coordinate detection unit 430 and the Y-axis coordinate detection unit 432 are arranged to output the detected X-coordinate of the X-axis operation stage 422X and Y-coordinate of the Y-axis operation stage 422Y to the computer PC. . The X-axis scanning control unit 431 and the Y-axis scanning control unit 433 are arranged so as to control scanning of the X-axis operation stage 422X and scanning of the Y-axis operation stage 422Y based on instructions from the computer PC.

なお、X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yを駆動する機構としては、例えばモータおよびボールネジの組み合わせを挙げることができる。
コンピュータPCは、上述のように、X軸動作ステージ422X、Y軸動作ステージ422Yの走査と、を制御するとともに、後述するように、細胞CEの検出系の制御、撮像した細胞CEの画像の解析なども行い、X軸動作ステージ422X、Y軸動作ステージ422Yと検出系と解析系とを連動して制御している。
As a mechanism for driving the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y, for example, a combination of a motor and a ball screw can be used.
As described above, the computer PC controls the scanning of the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y, controls the detection system of the cell CE, and analyzes the captured image of the cell CE as described later. The X-axis operation stage 422X, the Y-axis operation stage 422Y, the detection system, and the analysis system are controlled in conjunction with each other.

透過光源423とインキュベータボックス500との間に、透過光源423から射出された光を細胞CEに集光するコンデンサレンズ434が配置されている。
なお、コンデンサレンズ434とインキュベータボックス500との間には、シャッタ435を設けなくても良いし、シャッタ435を設けても良い。
ファン424は保温箱421の壁面に配置されている。このファン424を動作させることにより、保温箱421内の空気を対流させ、保温箱421内の温度を均一かつ一定に保ちやすくすることができる。
A condenser lens 434 that condenses the light emitted from the transmissive light source 423 onto the cell CE is disposed between the transmissive light source 423 and the incubator box 500.
Note that the shutter 435 may not be provided between the condenser lens 434 and the incubator box 500, or the shutter 435 may be provided.
The fan 424 is disposed on the wall surface of the heat insulating box 421. By operating the fan 424, the air in the heat insulation box 421 can be convected, and the temperature in the heat insulation box 421 can be easily maintained uniformly.

UVランプ425は、検出ユニット420の壁面に配置されたUVランプスイッチ436と接続され、UVランプ425とUVランプスイッチ436との間には、UVランプ425の動作を時間的に制御するタイマ437が配置されている。さらに、UVランプ425の点灯を表示する滅菌中表示ランプ(図示せず)が配置されている。
例えば、細胞CEの非測定時にUVランプスイッチ436が押されると、タイマ437のカウントが開始されるとともに、UVランプ425に電力が供給され、UV光(紫外線光)が保温箱421内に照射される。これと同時に滅菌中表示ランプも点灯する。そして、所定の時間(例えば30分)が経過して、タイマ437のカウントが終了すると、タイマ437はUVランプ425への電力供給を停止し、UV光の照射が終了される。また、滅菌中表示ランプも消灯される。
なお、UVランプ425は、主電源スイッチ428とは別個に制御されており、主電源がOFFされていても動作することができる。
なお、UVランプ425の点灯時間は、上述した30分でも良いし、保温箱421内の雑菌類などを死滅させることができる時間であれば、30分未満でも良いし、30分よりも長くても良い。
The UV lamp 425 is connected to a UV lamp switch 436 disposed on the wall surface of the detection unit 420, and a timer 437 that temporally controls the operation of the UV lamp 425 is provided between the UV lamp 425 and the UV lamp switch 436. Is arranged. Further, a sterilization indicator lamp (not shown) for displaying the lighting of the UV lamp 425 is arranged.
For example, when the UV lamp switch 436 is pressed when the cell CE is not measured, the timer 437 starts counting, power is supplied to the UV lamp 425, and UV light (ultraviolet light) is irradiated into the heat insulating box 421. The At the same time, the sterilization indicator lamp is lit. When a predetermined time (for example, 30 minutes) elapses and the timer 437 finishes counting, the timer 437 stops supplying power to the UV lamp 425, and the UV light irradiation ends. The sterilization indicator lamp is also turned off.
The UV lamp 425 is controlled separately from the main power switch 428 and can operate even when the main power is turned off.
The lighting time of the UV lamp 425 may be 30 minutes as described above, or may be less than 30 minutes or longer than 30 minutes as long as it can kill the germs in the heat insulation box 421. Also good.

開閉扉427はアルマイト処理を施されたアルミなどの金属、または遮光性の高い半透明の樹脂により構成されている。
開閉扉427の構造としては、中空の二重構造としたものや、さらには、内側が上記金属とされ外側が樹脂とされるものが考えられる。開閉扉427の外側に樹脂を用いることにより、開閉扉427から保温箱421内の熱が外部に逃げることを防止することができる。また、開閉扉427の内側をアルマイト処理された金属とすることにより、UVランプ425により開閉扉427の寿命が損なわれることを防止することができる。
なお、開閉扉427が金属または金属と樹脂との二重構造とされたときには、完全に遮光されるため、インキュベータボックス500を覗く位置に覗き窓を設けることが望ましい。覗き窓には透明樹脂またはガラスがはめ込まれ、外側には、開閉可能なカバーが配置されていることが望ましい。
The opening / closing door 427 is made of an alumite-treated metal such as aluminum, or a translucent resin having a high light shielding property.
As the structure of the opening / closing door 427, a structure having a hollow double structure, or a structure in which the inside is made of the above metal and the outside is made of resin can be considered. By using resin on the outside of the opening / closing door 427, heat in the heat insulating box 421 can be prevented from escaping from the opening / closing door 427 to the outside. In addition, by making the inside of the opening / closing door 427 an anodized metal, it is possible to prevent the life of the opening / closing door 427 from being impaired by the UV lamp 425.
Note that, when the opening / closing door 427 has a double structure of metal or metal and resin, since the light is completely shielded, it is desirable to provide a viewing window at a position where the incubator box 500 is viewed. It is desirable that a transparent resin or glass is fitted in the viewing window, and a cover that can be opened and closed is disposed on the outside.

検出部440には、図16および図17に示すように、検出部440内を所定の温度に保温するヒータ440Hと、検出部440側から細胞CEを照射する落射光源441A、441Bと、落射光源441A、441Bからの光路を切り替える光路切替部442と、照射光の光量を調節する光量調整機構443と、照射光を細胞CEに向けて集光するレンズ系444と、照射光の波長および検出光の波長を制御するフィルタユニット445と、細胞CEに対して合焦動作を行うオートフォーカス(AF)ユニット446と、複数の倍率や性質の異なる対物レンズ448を備えたレボルバ447と、細胞CEからの検出光を検出する検出器(撮像手段)449と、検出光の光量を測定する光量モニタ450と、検出部440内の温度を均一にするファン451と、検出部440内を冷却する冷却ファン452と、が備えられている。   As shown in FIGS. 16 and 17, the detection unit 440 includes a heater 440H that keeps the inside of the detection unit 440 at a predetermined temperature, epi-illumination light sources 441A and 441B that irradiate cells CE from the detection unit 440 side, and an epi-illumination light source. An optical path switching unit 442 that switches the optical paths from 441A and 441B, a light amount adjustment mechanism 443 that adjusts the amount of irradiation light, a lens system 444 that collects the irradiation light toward the cell CE, and the wavelength and detection light of the irradiation light A filter unit 445 for controlling the wavelength of the light, an autofocus (AF) unit 446 for performing a focusing operation on the cell CE, a revolver 447 including a plurality of objective lenses 448 having different magnifications and properties, and a cell CE A detector (imaging means) 449 for detecting the detection light, a light amount monitor 450 for measuring the light amount of the detection light, and the temperature in the detection unit 440 are made uniform. A fan 451, a cooling fan 452 for cooling the inside detection part 440, is provided.

落射光源(照明手段)441A、441Bは、例えば水銀ランプなどからなり、検出部440の外部に配置されており、それぞれ電力を供給する電源453に接続されている。
また、通常は1つの落射光源、例えば落射光源441Aを用いるが、落射光源441Aの光量が所定の規定値以下に減少した場合には、落射光源441Bから照明光が照射され、落射光源441Aの電源はOFFされる。
The epi-illumination light sources (illuminating means) 441A and 441B are composed of, for example, mercury lamps, and are disposed outside the detection unit 440 and connected to a power source 453 that supplies power.
Normally, one incident light source, for example, the incident light source 441A is used. However, when the amount of light from the incident light source 441A decreases to a predetermined value or less, illumination light is emitted from the incident light source 441B, and the power source of the incident light source 441A is supplied. Is turned off.

光路切替部442は、落射光源441Aまたは落射光源441Bどちらか一方の照明光を光量調整機構443に導くように形成されている。また、光路切替部442には、後述のコンピュータPCに接続され、コンピュータPCの指示に基づき光路切替部442を制御する光路制御部454が配置されている。
光路切替部442の照明光射出側にはシャッタ442Sが配置され、照明光の透過・遮断制御を行っている。
The optical path switching unit 442 is formed to guide the illumination light of either the incident light source 441A or the incident light source 441B to the light amount adjusting mechanism 443. The optical path switching unit 442 is provided with an optical path control unit 454 that is connected to a computer PC described later and controls the optical path switching unit 442 based on an instruction from the computer PC.
A shutter 442S is disposed on the illumination light exit side of the optical path switching unit 442, and performs transmission / blocking control of illumination light.

シャッタ442Sの照明光射出側には光量調整機構443が配置され、シャッタ442Sを透過した照明光の光量を調整している。その機構としては、例えば公知の絞り機構などを用いても良いし、その他の光量を調節できる公知の機構、技術を用いても良い。
また、光量調整機構443には、後述のコンピュータPCに接続され、コンピュータPCの指示に基づき光量調整機構443を制御する光量制御部455が配置されている。
光量調整機構443の照明光射出側にはレンズ系444が配置されている。レンズ系444は、一対のレンズ444A、444Bと、レンズ444Aおよびレンズ444Bの間に配置された絞り444Cと、から構成されている。
A light amount adjusting mechanism 443 is disposed on the illumination light emission side of the shutter 442S to adjust the amount of illumination light transmitted through the shutter 442S. As the mechanism, for example, a known diaphragm mechanism or the like may be used, or a known mechanism or technique capable of adjusting the other light amount may be used.
The light amount adjustment mechanism 443 is provided with a light amount control unit 455 that is connected to a computer PC described later and controls the light amount adjustment mechanism 443 based on an instruction from the computer PC.
A lens system 444 is disposed on the illumination light exit side of the light amount adjustment mechanism 443. The lens system 444 includes a pair of lenses 444A and 444B, and a stop 444C disposed between the lens 444A and the lens 444B.

フィルタユニット445は、励起フィルタ456と、ダイクロイックミラー457と、吸収フィルタ458とから構成されている。励起フィルタ456は、照明光の中から細胞CEの蛍光発光に寄与する波長(励起光)を透過するフィルタであり、レンズ系444から射出された照明光が励起フィルタ456に入射するように配置されている。ダイクロイックミラー457は、励起光と蛍光とを分離する光学素子であり、励起フィルタ456を透過した励起光を、細胞CEに向けて反射するとともに、細胞CEからの蛍光を透過するように配置されている。吸収フィルタ458は、細胞CEからの蛍光とその他の不要な散乱光とを分離する光学素子であり、ダイクロイックミラー457を透過した光が入射するように配置されている。
フィルタユニット445には、後述するコンピュータPCの指示に基づき、フィルタユニット445から射出される励起光や検出光(蛍光)の波長を制御するフィルタ制御部446Cが配置されている。
なお、励起フィルタ456、ダイクロイックミラー457、吸収フィルタ458は1枚ずつ用いられてもよいし、複数枚用いられてもよい。
The filter unit 445 includes an excitation filter 456, a dichroic mirror 457, and an absorption filter 458. The excitation filter 456 is a filter that transmits the wavelength (excitation light) that contributes to the fluorescence emission of the cell CE from the illumination light, and is arranged so that the illumination light emitted from the lens system 444 enters the excitation filter 456. ing. The dichroic mirror 457 is an optical element that separates excitation light and fluorescence. The dichroic mirror 457 is arranged so as to reflect the excitation light transmitted through the excitation filter 456 toward the cell CE and to transmit fluorescence from the cell CE. Yes. The absorption filter 458 is an optical element that separates fluorescence from the cell CE and other unnecessary scattered light, and is arranged so that light transmitted through the dichroic mirror 457 enters.
The filter unit 445 is provided with a filter control unit 446C that controls the wavelengths of excitation light and detection light (fluorescence) emitted from the filter unit 445 based on instructions from the computer PC, which will be described later.
In addition, the excitation filter 456, the dichroic mirror 457, and the absorption filter 458 may be used one by one, or a plurality may be used.

AFユニット446はフィルタユニット445の励起光射出側に配置されていて、後述するコンピュータPCの指示に基づき、励起光を、対物レンズ448を介して細胞CEに集光させるように配置されている。
レボルバ447は、AFユニット446の励起光射出光側に配置されていて、倍率の異なる複数の対物レンズ448が配置されている。レボルバ447には、後述するコンピュータPCの指示に基づき、励起光が入射される対物レンズ448を選択・制御する対物レンズ制御部459が配置されている。
The AF unit 446 is arranged on the excitation light emission side of the filter unit 445, and is arranged so as to collect the excitation light on the cell CE via the objective lens 448 based on an instruction from the computer PC described later.
The revolver 447 is disposed on the excitation light emission light side of the AF unit 446, and a plurality of objective lenses 448 having different magnifications are disposed. The revolver 447 is provided with an objective lens control unit 459 that selects and controls the objective lens 448 on which the excitation light is incident, based on an instruction from the computer PC described later.

なお、対物レンズ448は、検出部440からX軸動作ステージ422X、Y軸動作ステージ422Yにそれぞれ設けられた孔を通して保温箱421内のインキュベータボックス内部が観察可能な構造になっている。
X軸動作ステージ422X、Y軸動作ステージ422Yには、ステージが動作する範囲を見込んで孔の大きさは多少余裕を見込んである。
そのため、保温箱421内において雰囲気を細胞の培養に適した湿度に保っていても、前記孔を通じて雰囲気が検出部440に対して抜けてしまい、細胞の培養に適した温度を維持できなくなり、細胞の活性低下を引き起こす可能性がある。
そこで、このような細胞培養に適した温度の雰囲気が保温箱421と検出部440との間で導通することを抑制する抑制手段499を設けてもよい。
その抑制手段499は、レボルバ447や対物レンズ448の動きを妨害しないように空気の流れを抑制できればよく、例えばフィルムや透明シートなど柔軟な材料からなるシートを保温箱421と検出部440との境目に設けられた孔の周囲に貼り付け、レボルバの周囲に垂らした状態で取り付ける幕状のものが考えられる。
The objective lens 448 has a structure in which the inside of the incubator box in the heat insulating box 421 can be observed through the holes provided in the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y from the detection unit 440.
In the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y, the size of the hole is expected to be somewhat marginal in consideration of the range in which the stage operates.
Therefore, even if the atmosphere is kept at a humidity suitable for cell culture in the heat insulating box 421, the atmosphere escapes to the detection unit 440 through the hole, and the temperature suitable for cell culture cannot be maintained. May cause decreased activity.
Therefore, suppression means 499 may be provided that suppresses conduction of an atmosphere having a temperature suitable for such cell culture between the heat insulating box 421 and the detection unit 440.
The suppression unit 499 only needs to be able to suppress the flow of air so as not to interfere with the movement of the revolver 447 and the objective lens 448. It is possible to use a curtain-like one that is attached around a hole provided in the slab and attached in a suspended state around the revolver.

フィルタユニット445の検出光射出側には、検出光を検出器449および光量モニタ450に集光する集光レンズ460が配置されている。
集光レンズ460の検出光射出側には、検出光の一部を検出器449に向けて反射し、残りの検出光を光量モニタ450に向けて透過するハーフミラー461が配置されている。
検出器449は、ハーフミラー461から反射された検出光が入射される位置に配置されている。また、検出器449には、検出器449からの検出信号を演算して後述するコンピュータPCに出力する検出器演算部462が接続されている。
なお、検出器449はラインセンサを用いても良いし、エリアセンサを用いても良いし、ラインセンサとエリアセンサとを共用してもよく、特に限定するものではない。
光量モニタ450は、ハーフミラー461を透過した検出光を測定し、測定した値をコンピュータPCに出力するように配置されている。
なお、上述のように、光量モニタ450を用いて検出光の光量を測定しても良いし、照度計やパワーメータなどを用いて検出光の光量を測定しても良い。
A condensing lens 460 that condenses the detection light on the detector 449 and the light amount monitor 450 is disposed on the detection light emission side of the filter unit 445.
A half mirror 461 that reflects part of the detection light toward the detector 449 and transmits the remaining detection light toward the light amount monitor 450 is disposed on the detection light emission side of the condenser lens 460.
The detector 449 is disposed at a position where the detection light reflected from the half mirror 461 is incident. The detector 449 is connected to a detector calculation unit 462 that calculates a detection signal from the detector 449 and outputs the detection signal to a computer PC described later.
Note that the detector 449 may use a line sensor, an area sensor, or may share the line sensor and the area sensor, and is not particularly limited.
The light amount monitor 450 is arranged to measure the detection light transmitted through the half mirror 461 and output the measured value to the computer PC.
As described above, the light amount of the detection light may be measured using the light amount monitor 450, or the light amount of the detection light may be measured using an illuminance meter, a power meter, or the like.

ヒータ440Hは、検出部440内を例えば30℃から37℃となるように保温制御している。ファン451は、検出部440内の空気を対流させ、検出部440内の温度を均一化するように配置されている。そのため、検出部440内の温度が保温箱421と近い温度に維持され、保温箱421の温度をより安定化させやすくなる。
冷却ファン452は、検出部440内に配置された温度センサ(図示せず)の出力に基づき、検出部440内の温度を下げるように駆動される。そのため、例えばモータなどの発熱による異常な検出部440内の温度上昇を防止することができる。
The heater 440H controls the temperature of the inside of the detection unit 440 so that the temperature becomes, for example, 30 ° C. to 37 ° C. The fan 451 is disposed so as to convect the air in the detection unit 440 and make the temperature in the detection unit 440 uniform. Therefore, the temperature in the detection unit 440 is maintained at a temperature close to that of the heat insulation box 421, and the temperature of the heat insulation box 421 is more easily stabilized.
The cooling fan 452 is driven to lower the temperature in the detection unit 440 based on the output of a temperature sensor (not shown) disposed in the detection unit 440. Therefore, for example, an abnormal temperature rise in the detection unit 440 due to heat generation of a motor or the like can be prevented.

図18は、本実施の形態に係るインキュベータボックスを示す斜視図であり、図19は、本実施の形態に係るチャンバの断面図である。
インキュベータボックス500は、図18および図19に示すように、チャンバ(被検査物)510と格納する筐体501と、筐体501とともに密閉空間を形成するカバー502とから概略構成されている。筐体501およびカバー502には、外界からの磁場を遮断する防磁処理や、インキュベータボックス500に発生した静電気を除去する静電除去処理が施されている。
FIG. 18 is a perspective view showing an incubator box according to the present embodiment, and FIG. 19 is a cross-sectional view of the chamber according to the present embodiment.
As shown in FIGS. 18 and 19, the incubator box 500 is generally configured from a chamber (inspection object) 510, a housing 501 for housing, and a cover 502 that forms a sealed space together with the housing 501. The housing 501 and the cover 502 are subjected to a magnetic shielding process for blocking a magnetic field from the outside and an electrostatic removal process for removing static electricity generated in the incubator box 500.

筐体501は、底板503と側壁504とから形成されていて、底板503の測定エリアに対応する領域は、ガラスのような透光性を有する材料で形成されている。底板503の他の領域および側壁504は、例えば、アルマイト処理されたアルミニウムやSUS316のようなステンレススチールなど防食性の高い遮光性の材料で制作するのが好ましく、より好ましくは、保温性の観点から熱伝導率の低い材料を選択するとよい。
また、底板503には、チャンバ510を保持するためのアダプタ505と、チャンバ510の温度を測定する温度センサ506と、が配置されている。なお、上述のようにアダプタ505を用いてチャンバ510を保持しても良いし、アダプタ505を用いないでチャンバ510を保持しても良い。
温度センサ506の出力は、インキュベータ温度検知部506Sを介してコンピュータPCに入力されるとともに、検出ユニット420の壁面に配置された温度表示部507にも入力されている。コンピュータPCは、図17に示すインキュベータ温度制御部506Cを介してヒータ421Hなどを制御して、インキュベータボックス500内の温度が一定に保たれるように制御するようになっている。
The housing 501 is formed of a bottom plate 503 and a side wall 504, and a region corresponding to the measurement area of the bottom plate 503 is formed of a light-transmitting material such as glass. The other region of the bottom plate 503 and the side wall 504 are preferably made of a light-shielding material having high anticorrosion properties such as anodized aluminum or stainless steel such as SUS316, and more preferably from the viewpoint of heat retention. A material with low thermal conductivity may be selected.
In addition, an adapter 505 for holding the chamber 510 and a temperature sensor 506 for measuring the temperature of the chamber 510 are arranged on the bottom plate 503. Note that the chamber 510 may be held using the adapter 505 as described above, or the chamber 510 may be held without using the adapter 505.
The output of the temperature sensor 506 is input to the computer PC via the incubator temperature detection unit 506S, and is also input to the temperature display unit 507 disposed on the wall surface of the detection unit 420. The computer PC controls the heater 421H and the like via an incubator temperature control unit 506C shown in FIG. 17 so that the temperature in the incubator box 500 is kept constant.

カバー502は、照明光を透過するガラス板517と、ガラス板517を支持する支持部517Aと、から構成されている。ガラス板517には、測定エリアに対応する領域に反射防止膜が両面に形成されていても良い。反射防止膜を両面に形成することにより、透過観察・落射観察におけるガラス板517による反射を防止するようになっている。
なお、ガラス板517の面積は、インキュベータボックス500の底板503と略同じ面積であっても良いし、測定を問題なく行うために必要最小限の面積であっても良い。
The cover 502 includes a glass plate 517 that transmits illumination light, and a support portion 517A that supports the glass plate 517. On the glass plate 517, antireflection films may be formed on both sides in a region corresponding to the measurement area. By forming antireflection films on both sides, reflection by the glass plate 517 in transmission observation and epi-illumination observation is prevented.
The area of the glass plate 517 may be substantially the same as that of the bottom plate 503 of the incubator box 500, or may be a minimum area necessary for performing measurement without any problem.

チャンバ510は、図19に示すように、対物レンズ448により観察するための下部ガラス部材511と、透過光源423からの光を透過するための上部ガラス部材512と、下部ガラス部材511および上部ガラス部材512を支持する枠部材513とから概略形成されている。
枠部材513の対向する辺には、培養液を循環させる流路が形成された継ぎ手514が形成されている。継ぎ手514には、後述する培養液循環配管477が接続され、培養ユニット470との間で培養液が循環されるようになっている。
また、枠部材513には、培養液の流れを均一化する整流子515が一対、培養液の流れに対して略垂直に配置されている。整流子515は、例えば小孔がマトリクス状に形成された板部材からなり、培養液が分散して複数形成された小孔を流れることにより、その流れを均一化している。そして、両整流子515の間には、細胞CEが播種されたスライドガラス516が配置されている。
As shown in FIG. 19, the chamber 510 includes a lower glass member 511 for observing with an objective lens 448, an upper glass member 512 for transmitting light from the transmission light source 423, a lower glass member 511, and an upper glass member. It is roughly formed from a frame member 513 that supports 512.
On opposite sides of the frame member 513, a joint 514 in which a channel for circulating the culture solution is formed is formed. The joint 514 is connected to a culture solution circulation pipe 477 described later, so that the culture solution is circulated with the culture unit 470.
The frame member 513 is provided with a pair of commutators 515 that make the flow of the culture solution uniform, substantially perpendicular to the flow of the culture solution. The commutator 515 is made of, for example, a plate member in which small holes are formed in a matrix, and the flow is made uniform by flowing through a plurality of small holes formed by dispersing the culture medium. Between the two commutators 515, a slide glass 516 seeded with cells CE is disposed.

なお、上述のように、インキュベータボックス500は内部にチャンバ510が配置されるものでも良いし、図20(a)に示すように、内部にマイクロプレート(被検査物)520(またはウェルプレート)が配置されるものでもよい。
この構成の場合には、図20(a)に示すように、インキュベータボックス500aの筐体501には、マイクロプレート520を口の字状に囲む水槽521と、水槽521の内側に配置された内部ファン522と、培養ガスを供給するコネクタ523と、培養ガス中の二酸化炭素ガス濃度を検出する培養ガス濃度センサ524とが配置されている。
温度センサ506は、マイクロプレート520の温度を測定するように配置されている。温度センサ506からコンピュータPCに入力されたマイクロプレート温度は、メモリにテキストデータとして蓄積されるとともに、コンピュータPCにおいてデータ処理が可能とされる。
培養ガス濃度センサ524は、コンピュータPCおよび培養ガス濃度表示部524Dに二酸化炭素ガス濃度を出力している。
As described above, the incubator box 500 may have a chamber 510 disposed therein, or a microplate (inspection object) 520 (or well plate) may be disposed inside as shown in FIG. It may be arranged.
In the case of this configuration, as shown in FIG. 20A, the casing 501 of the incubator box 500a has a water tank 521 that surrounds the microplate 520 in a mouth shape, and an inner part disposed inside the water tank 521 A fan 522, a connector 523 for supplying culture gas, and a culture gas concentration sensor 524 for detecting the carbon dioxide gas concentration in the culture gas are arranged.
The temperature sensor 506 is arranged to measure the temperature of the microplate 520. The microplate temperature input from the temperature sensor 506 to the computer PC is accumulated as text data in the memory and can be processed in the computer PC.
The culture gas concentration sensor 524 outputs the carbon dioxide gas concentration to the computer PC and the culture gas concentration display unit 524D.

水槽521の側壁521Wは筐体501の側壁の高さよりも低く形成されている。また、コネクタ523とは、供給された培養ガスが側壁521Wに当たるように、配置関係が調節されている。水槽521には殺菌された滅菌水が貯えられ、インキュベータボックス500a内の湿度を略100%に調節している。
内部ファン522は、その送風方向にマイクロプレート520が配置されないよう、水槽521の側壁521Wに沿って送風するように配置されている。
なお、培養ガス濃度センサ524は、水槽521の側壁521W内面に配置されていても良いし、インキュベータボックス500aから配管を外部へ配置し、吸引ポンプによりインキュベータボックス500a内の培養ガスを吸引して培養ガス濃度センサ524でその濃度を検出しても良い。
The side wall 521W of the water tank 521 is formed lower than the height of the side wall of the housing 501. Further, the arrangement relationship with the connector 523 is adjusted so that the supplied culture gas hits the side wall 521W. Sterilized water is stored in the water tank 521, and the humidity in the incubator box 500a is adjusted to approximately 100%.
The internal fan 522 is disposed so as to blow along the side wall 521W of the water tank 521 so that the microplate 520 is not disposed in the blowing direction.
The culture gas concentration sensor 524 may be arranged on the inner surface of the side wall 521W of the water tank 521, or a pipe is arranged outside from the incubator box 500a, and the culture gas in the incubator box 500a is sucked by a suction pump and cultured. The concentration may be detected by the gas concentration sensor 524.

このようなインキュベータボックス500aを用いる場合には、後述する培養ガス混合槽491の培養ガス供給先を、培養液瓶472からインキュベータボックス500aに変更するとともに、培養ユニット470から培養液を供給する必要がなくなるため、培養液ポンプ480などのポンプ類の動作を停止させている。   When such an incubator box 500a is used, it is necessary to change the culture gas supply destination of the culture gas mixing tank 491 described later from the culture solution bottle 472 to the incubator box 500a and to supply the culture solution from the culture unit 470. Therefore, the pumps such as the culture medium pump 480 are stopped.

このような構成をとることにより、インキュベータボックス500aによって、温度環境と比較して、その変化や不均一が細胞CEへのダメージの少ない湿度環境および培養ガス濃度を維持するため、細胞CEへのダメージを低減することができる。
また、検出部440と直接接触しないインキュベータボックス500aにおいて湿度および培養ガス濃度を維持しているため、観察の際におけるコンタミネーションを防止することができる。
さらに、保温箱421内は細胞CEの培養に適した湿度および培養ガス濃度に維持する必要がないため、保温箱421内に配置される対物レンズ448などが、湿度により機能を損なうことを防止することができる。また、対物レンズ448などの寿命が短縮することも防止することができる。
By adopting such a configuration, the incubator box 500a maintains the humidity environment and the culture gas concentration in which the change or non-uniformity is less damaging to the cell CE compared to the temperature environment. Can be reduced.
Further, since the humidity and the culture gas concentration are maintained in the incubator box 500a that is not in direct contact with the detection unit 440, contamination during observation can be prevented.
Furthermore, since it is not necessary to maintain the humidity and culture gas concentration suitable for cell CE culture in the heat insulation box 421, the objective lens 448 and the like disposed in the heat insulation box 421 prevent the function from being impaired by the humidity. be able to. In addition, shortening of the life of the objective lens 448 and the like can be prevented.

なお、上述のように、チャンバ510は密閉されているものでも良いし、密閉されていない開放型チャンバでも良い。開放型チャンバは、上部ガラス部材512を備えない以外はチャンバ510と同一構成として形成されている。
また、開放型チャンバを用いる場合には、上述したインキュベータボックス500を用いて、インキュベータボックス500a内を培養ガスで満たし、開放型チャンバには、培養液を供給している。
As described above, the chamber 510 may be sealed, or may be an open chamber that is not sealed. The open chamber is formed in the same configuration as the chamber 510 except that the upper glass member 512 is not provided.
When an open chamber is used, the incubator box 500a described above is used to fill the incubator box 500a with a culture gas, and a culture solution is supplied to the open chamber.

なお、インキュベータボックス500aに対して、図20(b)に示すように、上述したチャンバ510を用いてもよい。この場合には、培養ガスを供給するコネクタ523を塞ぐとともに、培養ガス濃度センサ524を使用しない。また、チャンバ510の大きさがマイクロプレート520と異なる場合には、アダプタ505を用いてインキュベータボックス500aにチャンバ510を配置してもよい。また、水槽521に滅菌水を入れなくてもよく、水槽521自体をインキュベータボックス500aから取り外しても良い。また、温度センサ506は、チャンバ510の温度を測定している。
なお、コネクタ523は上述のように塞いでもよいし、培養ガス供給配管497を接続したまま、インキュベータボックス500aへの培養ガスの供給を止めるだけでも良い。
Note that the chamber 510 described above may be used for the incubator box 500a as shown in FIG. In this case, the connector 523 for supplying the culture gas is closed and the culture gas concentration sensor 524 is not used. When the size of the chamber 510 is different from that of the microplate 520, the chamber 510 may be disposed in the incubator box 500a using the adapter 505. Moreover, it is not necessary to put sterilized water into the water tank 521, and the water tank 521 itself may be removed from the incubator box 500a. The temperature sensor 506 measures the temperature of the chamber 510.
The connector 523 may be closed as described above, or the supply of the culture gas to the incubator box 500a may be stopped while the culture gas supply pipe 497 is connected.

培養ユニット470は、図16および図17に示すように、培養液を内部に収納する滅菌箱471と、培養ガスを生成する混合部490とから概略構成されている。
滅菌箱471には、滅菌箱471内を所定の温度に保温するヒータ471Hと、培養液を内部に蓄える培養液瓶472と、予備の培養液を内部に蓄える予備タンク473と、使用済みの培養液を入れる廃液タンク474と、滅菌箱471内を殺菌するUVランプ425と、培養液瓶472などを滅菌箱471から出し入れする際に用いる開閉扉475と、培養ユニット470の主電源をON・OFFする主電源スイッチ476が備えられている。
As shown in FIGS. 16 and 17, the culture unit 470 is generally configured by a sterilization box 471 that stores a culture solution therein and a mixing unit 490 that generates culture gas.
The sterilization box 471 includes a heater 471H that keeps the inside of the sterilization box 471 at a predetermined temperature, a culture solution bottle 472 that stores a culture solution therein, a reserve tank 473 that stores a reserve culture solution therein, and a used culture. Turns ON / OFF the main power of the waste liquid tank 474 for storing the liquid, the UV lamp 425 for sterilizing the inside of the sterilization box 471, the open / close door 475 used when the culture solution bottle 472 and the like are taken in and out of the sterilization box 471, and the culture unit 470. A main power switch 476 is provided.

培養液瓶472には、インキュベータボックス500との間で培養液を循環させる培養液循環配管477と、予備タンク473から予備の培養液を供給する補給配管478と、培養液瓶472から使用済みの培養液を廃液タンク474に排出する廃液配管479とが配置されている。
また、培養液循環配管477には、培養液を培養液瓶472からインキュベータボックス500に送り出し、培養液を循環させる培養液ポンプ480が配置されている。培養液ポンプ480によりチャンバ510内の培養液を新しいものに交換することができるので、培養液を交換できないものと比較して、細胞CEの培養できる期間をより長くすることができる。
補給配管478には、予備タンク473から培養液を培養液瓶472に送る補給ポンプ481が配置され、廃液配管479には、培養液瓶472から使用済みの培養液を廃液タンク474に送る廃液ポンプ482が配置されている。
なお、上述のように、使用済みの培養液を貯める廃液タンク474を用いても良いし、廃液タンク474を用いないで、直接使用済みの培養液を外部に排出する排出ポートを設けても良い。
The culture solution bottle 472 includes a culture solution circulation pipe 477 that circulates the culture solution to and from the incubator box 500, a supply pipe 478 that supplies a spare culture solution from the reserve tank 473, and a culture solution bottle 472 that has been used from the culture solution bottle 472. A waste liquid pipe 479 for discharging the culture liquid to the waste liquid tank 474 is disposed.
In addition, a culture solution pump 480 for sending the culture solution from the culture solution bottle 472 to the incubator box 500 and circulating the culture solution is disposed in the culture solution circulation pipe 477. Since the culture solution in the chamber 510 can be replaced with a new one by the culture solution pump 480, the period during which the cells CE can be cultured can be further extended as compared with the case where the culture solution cannot be replaced.
The supply pipe 481 is provided with a supply pump 481 for sending the culture solution from the reserve tank 473 to the culture solution bottle 472. The waste solution pipe 479 is a waste solution pump for sending the used culture solution from the culture solution bottle 472 to the waste solution tank 474. 482 is arranged.
As described above, the waste liquid tank 474 for storing the used culture medium may be used, or a discharge port for directly discharging the used culture liquid to the outside without using the waste liquid tank 474 may be provided. .

培養液瓶472には、内部の培養液温度を検出する培養液温度センサ(図示せず)が配置され、培養液温度センサの出力は培養液温度検出部483を介してコンピュータPCに入力されるように配置されている。また、コンピュータPCに入力された培養液温度のデータは、テキストデータなどとしてメモリに蓄積され、細胞CEの検出結果との比較・検証などに用いることができる。   The culture solution bottle 472 is provided with a culture solution temperature sensor (not shown) for detecting the temperature of the culture solution inside, and the output of the culture solution temperature sensor is input to the computer PC via the culture solution temperature detection unit 483. Are arranged as follows. The culture medium temperature data input to the computer PC is stored as text data in a memory and can be used for comparison / verification with the detection result of the cell CE.

ヒータ471Hには、コンピュータPCからの指示に基づき、滅菌箱471内の温度を介して培養液の温度を制御する培養液温度制御部484が配置されている。培養液温度制御部484により、培養液瓶472から供給される培養液の温度は、ほぼ37℃に保たれ、培養液の温度変化による細胞CEの活性低下が防がれている。また、培養ユニット470の壁面には、前述の培養液温度センサにより検出された培養液温度を表示する温度表示部485が配置されている。
培養液ポンプ480には、コンピュータPCの指示に基づき、培養液の循環を制御する培養液ポンプ制御部486が配置されている。また、補給ポンプ481および廃液ポンプ482もコンピュータPCの指示に基づき、その動作が制御されるように配置されている。
In the heater 471H, a culture solution temperature control unit 484 for controlling the temperature of the culture solution via the temperature in the sterilization box 471 based on an instruction from the computer PC is disposed. The temperature of the culture solution supplied from the culture solution bottle 472 is maintained at approximately 37 ° C. by the culture solution temperature control unit 484, thereby preventing a decrease in the activity of the cells CE due to a change in the temperature of the culture solution. Further, on the wall surface of the culture unit 470, a temperature display unit 485 that displays the culture solution temperature detected by the culture solution temperature sensor is arranged.
The culture solution pump 480 is provided with a culture solution pump control unit 486 that controls the circulation of the culture solution based on instructions from the computer PC. The replenishment pump 481 and the waste liquid pump 482 are also arranged so that their operations are controlled based on instructions from the computer PC.

UVランプ425は、培養ユニット470の壁面に配置されたUVランプスイッチ436と接続され、UVランプ425とUVランプスイッチ436との間には、UVランプ425の動作を時間的に制御するタイマ437が配置されている。さらに、UVランプ425の点灯を表示する滅菌中表示ランプ(図示せず)が配置されている。
なお、UVランプ425は、主電源スイッチ476とは別個に制御されており、主電源がOFFされていても動作することができるようになっている。
The UV lamp 425 is connected to a UV lamp switch 436 disposed on the wall surface of the culture unit 470. Between the UV lamp 425 and the UV lamp switch 436, a timer 437 for temporally controlling the operation of the UV lamp 425 is provided. Has been placed. Further, a sterilization indicator lamp (not shown) for displaying the lighting of the UV lamp 425 is arranged.
The UV lamp 425 is controlled separately from the main power switch 476, and can operate even when the main power is turned off.

混合部490には、図16および図17に示すように、混合部490内を所定の温度に保温するヒータ(図示せず)と、インキュベータボックス500に供給する培養ガス中の二酸化炭素ガス濃度を調節する培養ガス混合槽491と、培養ガス混合槽491に培養ユニット470の外部に配置されたCO2タンク492から二酸化炭素ガスを供給するCO2ポンプ493とが配置されている。   As shown in FIGS. 16 and 17, the mixing unit 490 includes a heater (not shown) that keeps the inside of the mixing unit 490 at a predetermined temperature, and the carbon dioxide gas concentration in the culture gas supplied to the incubator box 500. A culture gas mixing tank 491 to be adjusted and a CO2 pump 493 for supplying carbon dioxide gas from a CO2 tank 492 disposed outside the culture unit 470 are arranged in the culture gas mixing tank 491.

培養ガス混合槽491には、内部の二酸化炭素ガス濃度を検出するCO2濃度検出部494が配置され、CO2濃度検出部494の出力がコンピュータPCに入力されるように配置されている。CO2ポンプ493には、コンピュータPCの指示に基づいて、培養ガス混合槽491に供給する二酸化炭素ガス量を制御するCO2濃度制御部495が配置されている。また、培養ユニット470の壁面には、CO2濃度検出部494により検出された培養ガス混合槽491内の二酸化炭素ガス濃度を表示するCO2濃度表示部496が配置されている。
さらには、培養ガス混合槽491と培養液瓶472との間に培養ガス供給配管497が配置されている。そのため、培養ガス供給配管497を介して培養液に培養ガスが供給され、培養液中に培養ガスを十分に溶け込ませることができる。このように、培養液瓶472内で二酸化炭素ガスの濃度が5%の培養ガスが溶解された培養液を生成することにより、培養気体および細胞CEの育成に必要な栄養素が含まれた培養液が、後述するチャンバ510に供給される。また、培養ガスを培養液に溶解させることにより、培養液のpHなどを調整することができる。
CO2濃度検出部494からコンピュータPCに入力された二酸化炭素ガス濃度は、メモリにデータとして蓄積されるとともに、コンピュータPCにおいてデータ処理が可能とされている。
In the culture gas mixing tank 491, a CO2 concentration detector 494 for detecting the carbon dioxide gas concentration inside is arranged, and the output of the CO2 concentration detector 494 is arranged to be input to the computer PC. The CO2 pump 493 is provided with a CO2 concentration control unit 495 that controls the amount of carbon dioxide gas supplied to the culture gas mixing tank 491 based on an instruction from the computer PC. In addition, a CO2 concentration display unit 496 for displaying the carbon dioxide gas concentration in the culture gas mixing tank 491 detected by the CO2 concentration detection unit 494 is disposed on the wall surface of the culture unit 470.
Further, a culture gas supply pipe 497 is disposed between the culture gas mixing tank 491 and the culture solution bottle 472. Therefore, the culture gas is supplied to the culture solution via the culture gas supply pipe 497, and the culture gas can be sufficiently dissolved in the culture solution. Thus, by producing a culture solution in which a culture gas having a carbon dioxide gas concentration of 5% is dissolved in the culture solution bottle 472, the culture solution containing the culture gas and nutrients necessary for the growth of the cells CE are contained. Is supplied to a chamber 510 described later. In addition, the pH of the culture solution can be adjusted by dissolving the culture gas in the culture solution.
The carbon dioxide gas concentration input to the computer PC from the CO2 concentration detector 494 is stored as data in the memory and can be processed in the computer PC.

次に、上記の構成からなる生体試料観察システム410における観察方法について説明する。
まず、本実施の形態における走査方法および検出範囲の選択について図21(a)、(b)、(c)、(d)を参照して説明する。
図21(a)、(b)、(c)、(d)は、本実施の形態における走査方法および検出範囲の選択例を示す図である。
Next, an observation method in the biological sample observation system 410 having the above configuration will be described.
First, scanning method and detection range selection in the present embodiment will be described with reference to FIGS. 21 (a), (b), (c), and (d).
FIGS. 21A, 21B, 21C, and 21D are diagrams showing examples of scanning method and detection range selection in the present embodiment.

図21(a)に示す例では、表示された画像上において測定対象範囲Mの左上の点aと右下の点bとを指定することにより、測定対象範囲M(図中の破線で囲まれた範囲)を設定している。具体的には、点a−点b間をマウスのような機器を用いてドラッグして測定対象範囲Mを設定しても良いし、点aおよび点bの座標値を入力して指示しても良い。
検出器449による測定部分は、図中の矢印で示すように、設定された測定対象範囲M内を左右方向に走査される。つまり、図中の左から右へ走査される際には、X軸方向と平行に走査され、右から左へ走査される際には、左斜め下方向に走査される。このうち、左から右へ走査される時に細胞CEの撮像が行われる。
In the example shown in FIG. 21A, by specifying the upper left point a and the lower right point b of the measurement target range M on the displayed image, the measurement target range M (enclosed by a broken line in the figure). Range). Specifically, the measurement target range M may be set by dragging between the points a and b using a device such as a mouse, or the coordinate values of the points a and b are input and instructed. Also good.
The measurement part by the detector 449 is scanned in the left-right direction within the set measurement target range M as indicated by arrows in the figure. That is, when scanning from the left to the right in the figure, the scanning is performed in parallel with the X-axis direction, and when scanning from the right to the left, the scanning is performed obliquely downward to the left. Among these, imaging of the cell CE is performed when scanning from left to right.

図21(b)は、上述した方法で設定される測定対象範囲Mが2つの例である。まず、上述した方法で2つの測定対象範囲MA、MBが設定される。測定対象範囲MAと測定対象範囲MBとは、図中のX軸方向に所定間隔を空けて並ぶとともに、Y軸方向において、その全てが重複するように設定されている。
この例における検出器449による測定部分は、図中の矢印で示すように、測定対象範囲MA、MBを並列に測定するように走査される。つまり、図中の左から右へ走査される際に、測定対象範囲MAから測定対象範囲MBへ走査され、右から左へ走査される際には、測定対象範囲MBから測定対象範囲MAへ走査される。
FIG. 21B shows two examples of the measurement target range M set by the method described above. First, two measurement target ranges MA and MB are set by the method described above. The measurement target range MA and the measurement target range MB are set so that they are arranged at a predetermined interval in the X-axis direction in the drawing and all overlap in the Y-axis direction.
The measurement part by the detector 449 in this example is scanned so as to measure the measurement target ranges MA and MB in parallel, as indicated by arrows in the figure. That is, when scanning from left to right in the figure, the measurement target range MA is scanned from the measurement target range MB, and when scanning from right to left, the measurement target range MB is scanned from the measurement target range MA. Is done.

図21(c)は、上述した方法で設定される測定対象範囲が2つの例であって、2つの測定対象範囲MA、MBの配置が異なっている例である。ここでは、測定対象範囲MAと測定対象範囲MBとは、図中のX軸方向に所定間隔を空けて並ぶとともに、図中のY軸方向において、その一部分が重複するように設定されている。
この例における検出器449による測定部分は、図中の矢印で示すように、測定対象範囲MA、MBのY軸方向に重複する部分のみが連続して走査されている。つまり、まず、測定対象範囲MAの重複していない部分の走査が行われる。次に、測定対象範囲MA、MBの重複している部分の走査が連続して行われる。そして、測定対象範囲MBの重複していない部分の走査が行われる。
FIG. 21C is an example in which the measurement target ranges set by the above-described method are two examples, and the arrangement of the two measurement target ranges MA and MB is different. Here, the measurement target range MA and the measurement target range MB are set so as to be arranged at a predetermined interval in the X-axis direction in the figure and partially overlapped in the Y-axis direction in the figure.
In the measurement part by the detector 449 in this example, as indicated by the arrows in the figure, only the overlapping part in the Y-axis direction of the measurement target ranges MA and MB is continuously scanned. That is, first, a portion where the measurement target range MA does not overlap is scanned. Next, scanning of overlapping portions of the measurement target ranges MA and MB is continuously performed. Then, the non-overlapping portion of the measurement target range MB is scanned.

図21(d)は、上述した方法で設定される測定対象範囲Mが2つの例であって、2つの測定対象範囲MA、MBの配置が図21(b)と同様であるが、走査方法が異なる例である。
この例における検出器449による測定部分は、図中の矢印で示すように、測定対象範囲MA、MBが別個に走査されている。つまり、まず測定対象範囲MAの全範囲の走査が行われた後に、測定対象範囲MBの全範囲の走査が行われる。
FIG. 21D shows two examples of the measurement target range M set by the above-described method, and the arrangement of the two measurement target ranges MA and MB is the same as that in FIG. Is a different example.
In the measurement part by the detector 449 in this example, the measurement target ranges MA and MB are separately scanned as indicated by arrows in the drawing. That is, first, the entire range of the measurement target range MA is scanned, and then the entire range of the measurement target range MB is scanned.

また、上述した図21(a)、(b)、(c)、(d)に示す走査方法のうち、トータルの移動距離または走査時間が最短になる走査方法が、後述する設定されたパラメータおよび測定モードに基づいて、コンピュータPCにより自動的に選択される。   Of the scanning methods shown in FIGS. 21A, 21B, 21C, and 21D described above, a scanning method that minimizes the total moving distance or scanning time is set by a set parameter described later and It is automatically selected by the computer PC based on the measurement mode.

なお、細胞を培養する範囲を撮像するとき、このように測定対象範囲Mを設定するなど複数の領域(検出範囲)に分けて撮像できる構成であれば、必要に応じて必要な部分だけの撮像を行うことが可能となる。
例えば、コンピュータPCの設定を変更して、走査対象となる全範囲の走査と、所定の一部の領域の走査とが交互に行われるようにしておけば、短い期間しか起こらない生体試料特有の現象を捉えることができる。一例として、走査対象となる全範囲の走査を30分ごとに行う場合、その合間に注目すべき細胞が存在する所定の測定対象範囲Mの走査が行われるようにしておけば、15分程度しか発現しない特有の現象が注目すべき細胞に起こったことを捉えることも可能となる。
また、必要なときに必要な測定対象範囲Mだけを走査するため、走査時間が短縮できるとともに、他の細胞に対する光の照射時間を短くすることができる。
In addition, when imaging the range in which cells are cultured, if the configuration allows the imaging to be divided into a plurality of areas (detection ranges) such as setting the measurement target range M in this way, imaging of only the necessary part is performed as necessary. Can be performed.
For example, if the setting of the computer PC is changed so that scanning of the entire range to be scanned and scanning of a predetermined part of the region are alternately performed, it is peculiar to biological samples that occur only for a short period of time. Can capture the phenomenon. As an example, when scanning of the entire range to be scanned is performed every 30 minutes, if scanning of a predetermined measurement target range M in which there are cells to be noticed is performed in between, only about 15 minutes are performed. It is also possible to capture that a unique phenomenon that does not occur has occurred in a cell of interest.
Further, since only the necessary measurement target range M is scanned when necessary, the scanning time can be shortened and the light irradiation time for other cells can be shortened.

次に、細胞CEの測定にかかる手順にについて、各フローチャートを用いながら説明する。
まず、細胞CEの測定の前に、測定パラメータの設定が行われる。そこで、測定パラメータの設定の流れを、図22を参照しながら説明する。
図22は、測定パラメータの設定の流れを説明するフローチャートである。
まず、測定パラメータの設定が行われる(STEP21)。
その後、デフォルトの条件設定が行われる(STEP22)。ここで設定される条件は、例えばCO2濃度5%、温度37℃などの培養条件および測定条件であり、これらの設定条件はユーザーによって所定の条件に変更することができる。
Next, the procedure for measuring the cell CE will be described using each flowchart.
First, measurement parameters are set before the measurement of the cell CE. Therefore, the flow of setting the measurement parameters will be described with reference to FIG.
FIG. 22 is a flowchart for explaining the flow of setting measurement parameters.
First, measurement parameters are set (STEP 21).
Thereafter, default conditions are set (STEP 22). The conditions set here are, for example, culture conditions and measurement conditions such as a CO 2 concentration of 5% and a temperature of 37 ° C. These set conditions can be changed to predetermined conditions by the user.

次に、測定対象の選択を行う(STEP23)。測定対象とは、例えばマイクロプレート520や、スライドガラス516など、細胞CEの容器である。
次に、測定モードの選択を行う(STEP24)。測定モードには、エリア撮像モードや、ライン撮像モードや、自動モード等がある。自動モードとは他の測定モードの中から測定時間の短い測定モードを自動的に選択するモードである。
Next, the measurement target is selected (STEP 23). The measurement target is a cell CE container such as a microplate 520 or a slide glass 516.
Next, the measurement mode is selected (STEP 24). Measurement modes include an area imaging mode, a line imaging mode, and an automatic mode. The automatic mode is a mode for automatically selecting a measurement mode with a short measurement time from other measurement modes.

次に、測定倍率を選択し(STEP25)、その後、検出波長を選択する(STEP26)。測定倍率の選択、および検出波長の選択は、それぞれ2種類以上の選択肢の中から選択することも可能である。
ここで、検出波長の選択方法としては、使用する蛍光タンパク、例えば、GFP、HC‐Red等のリストをコンピュータPCに予め記憶させておき、記憶させたリストの中から選択する。コンピュータPCは、選択された蛍光タンパクに基づいて自動的に観測に最適な励起フィルタ456や吸収フィルタ458などを選択する。このようにして、細胞CEから所定の蛍光を検出することができる。
なお、測定中の励起フィルタ456や吸収フィルタ458、対物レンズ448等の変更は、X軸動作ステージ422X、Y軸動作ステージ422Yの駆動に同期して自動的に行なわれる。
Next, the measurement magnification is selected (STEP 25), and then the detection wavelength is selected (STEP 26). The measurement magnification and the detection wavelength can be selected from two or more options.
Here, as a method for selecting the detection wavelength, a list of fluorescent proteins to be used, for example, GFP, HC-Red, and the like is stored in advance in the computer PC and selected from the stored list. The computer PC automatically selects an excitation filter 456, an absorption filter 458, and the like that are optimal for observation based on the selected fluorescent protein. In this way, predetermined fluorescence can be detected from the cell CE.
Note that the excitation filter 456, absorption filter 458, objective lens 448, and the like during measurement are automatically changed in synchronization with driving of the X-axis operation stage 422X and Y-axis operation stage 422Y.

次に、測定間隔が設定される(STEP27)。
そして、プレビュー画面が取り込まれ(STEP28)、プレビュー画像がモニタに表示される(STEP29)。ここでは、ユーザーがプレビュー画像のモニタへの表示を指示するプレビューボタンなどを用いて指示を出すことにより、プレビュー画像がモニタに表示される。そして、ユーザーがモニタに表示されたプレビュー画像を確認することができる。
Next, a measurement interval is set (STEP 27).
Then, a preview screen is captured (STEP 28), and a preview image is displayed on the monitor (STEP 29). Here, when the user gives an instruction using a preview button or the like for instructing display of the preview image on the monitor, the preview image is displayed on the monitor. Then, the user can check the preview image displayed on the monitor.

次に、測定範囲の選択が行われる(STEP30)。測定範囲の選択後、再度プレビュー画像をモニタに表示させて、測定範囲が所定の範囲であるか確認してもよい。
次に、設定された複数の測定間隔から所定の測定間隔を選択する(STEP31)。
そして、測定開始スイッチ(図示せず)が押されたら(STEP32)、細胞CEの測定が開始される(STEP33)。測定開始スイッチが押されない場合には、測定開始スイッチが押されるまで待機している(STEP32)。
Next, the measurement range is selected (STEP 30). After selecting the measurement range, the preview image may be displayed on the monitor again to check whether the measurement range is a predetermined range.
Next, a predetermined measurement interval is selected from the set plurality of measurement intervals (STEP 31).
When a measurement start switch (not shown) is pressed (STEP 32), the measurement of the cell CE is started (STEP 33). If the measurement start switch is not pressed, the process waits until the measurement start switch is pressed (STEP 32).

なお、STEP32において、測定開始スイッチが押されない場合には、各種設定を再設定できるように、種々所定のSTEPに戻ることが可能な設定にしてもよい。   In STEP 32, when the measurement start switch is not pressed, it may be set to be able to return to various predetermined STEPs so that various settings can be reset.

測定パラメータの設定が完了したら、次に、細胞CEの測定が行われる。そこで、細胞CEの測定の流れを、図23を参照しながら説明する。
図23は、測定の流れを説明するフローチャートである。
まず、測定が開始されると、測定対象範囲が読み込まれる(STEP41)。その後、倍率が読み込まれ(STEP42)、検出波長が読み込まれる(STEP43)。
次に、測定モードが読み込まれる(STEP44)。ここでは、読み込まれた測定対象範囲、倍率、検出波長(蛍光波長)などに基づき、最適なステージ走査方法が決定される。測定モードが自動モードに設定されている場合には、撮像モードもここで決定される。
When the setting of the measurement parameters is completed, the cell CE is measured next. Accordingly, the flow of measurement of the cell CE will be described with reference to FIG.
FIG. 23 is a flowchart for explaining the flow of measurement.
First, when measurement is started, the measurement target range is read (STEP 41). Thereafter, the magnification is read (STEP 42), and the detection wavelength is read (STEP 43).
Next, the measurement mode is read (STEP 44). Here, the optimum stage scanning method is determined based on the read measurement object range, magnification, detection wavelength (fluorescence wavelength), and the like. When the measurement mode is set to the automatic mode, the imaging mode is also determined here.

次に、決定されたステージ走査方法に応じたX軸動作ステージ422X、Y軸動作ステージ422Y等の動作方法が解析され(STEP45)、解析された動作方法のデータ(動作データ)は、コンピュータPCのテーブルに保存される(STEP46)。
その後、エリアセンサモードが選択されているか否かにより、異なる測定方法で測定が行われる(STEP47)。
Next, the operation methods such as the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y according to the determined stage scanning method are analyzed (STEP 45), and the analyzed operation method data (operation data) is stored in the computer PC. It is stored in a table (STEP 46).
Thereafter, measurement is performed by a different measurement method depending on whether or not the area sensor mode is selected (STEP 47).

まず、エリアセンサモードが選択されている場合について説明する。
測定開始スイッチが押されると、X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yを測定開始位置へ移動させる(STEP50)。ここでは、コンピュータPCが入力された測定開始位置を読み込み、X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yを測定開始位置に移動させるとともに、細胞CEが対物レンズ448の撮影視野内に位置するように移動される。
そして、シャッタ435がOPENにされて(STEP51)、対物レンズ448が選択される(STEP52)。ここでは、コンピュータPCが設定された測定倍率に基づいて、レボルバ447を駆動して所定の倍率の対物レンズ448を選択する。
First, the case where the area sensor mode is selected will be described.
When the measurement start switch is pressed, the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y are moved to the measurement start position (STEP 50). Here, the computer PC reads the input measurement start position, moves the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y to the measurement start position, and causes the cell CE to be positioned within the imaging field of the objective lens 448. Moved.
Then, the shutter 435 is set to OPEN (STEP 51), and the objective lens 448 is selected (STEP 52). Here, based on the measurement magnification set by the computer PC, the revolver 447 is driven to select the objective lens 448 having a predetermined magnification.

次に、フィルタユニット445が選択される(STEP53)。ここでは、コンピュータPCが設定された蛍光タンパクに基づいて、フィルタ制御部446Cが測定に最適な励起フィルタ456、吸収フィルタ458などを選択する。
以上の測定開始スイッチが押されてからここまで(STEP50からSTEP53まで)の動作は、測定モードに併せて自動で選択され、実行される。
その後、フォーカス位置が検出され(STEP54)、画像の取り込みおよびコンピュータPCの画像メモリ部への画像データ出力が行われる(STEP55)。
Next, the filter unit 445 is selected (STEP 53). Here, based on the fluorescent protein set by the computer PC, the filter control unit 446C selects an excitation filter 456, an absorption filter 458, and the like that are optimal for measurement.
The operations up to this point (from STEP 50 to STEP 53) after the above measurement start switch is pressed are automatically selected and executed in accordance with the measurement mode.
Thereafter, the focus position is detected (STEP 54), and the image is captured and output to the image memory unit of the computer PC (STEP 55).

そして、必要な画像の取得が完了していなければ、再び対物レンズ448の選択(STEP52)から画像の取り込みおよびコンピュータPCの画像メモリ部への画像データ出力(STEP55)までの動作が、必要な画像の取得が完了するまで繰り返される(STEP56)。
必要な画像の取得が完了すると、X軸動作ステージ422XまたはY軸動作ステージ422Yが1ステップ駆動される(STEP57)。そして、X軸動作ステージ422XまたはY軸動作ステージ422Yが移動した位置が測定対象範囲内であれば、再び対物レンズ448の選択(STEP52)から1ステップステージ駆動(STEP57)までの動作が繰り返される。この繰り返し作業は、ステージ422の移動した位置が測定対象範囲外になるまで繰り返される(STEP58)。
If the acquisition of the necessary image is not completed, the operations from the selection of the objective lens 448 (STEP 52) to the image capture and the image data output to the image memory unit of the computer PC (STEP 55) are performed again. The process is repeated until the acquisition is completed (STEP 56).
When the necessary image acquisition is completed, the X-axis operation stage 422X or the Y-axis operation stage 422Y is driven one step (STEP 57). If the position to which the X-axis operation stage 422X or Y-axis operation stage 422Y has moved is within the measurement target range, the operation from the selection of the objective lens 448 (STEP 52) to the one-step stage drive (STEP 57) is repeated again. This repetitive operation is repeated until the position where the stage 422 has moved is outside the measurement target range (STEP 58).

X軸動作ステージ422XまたはY軸動作ステージ422Yの移動先が測定対象範囲外となると、シャッタ435がOFFされる(STEP59)。
その後、所定の測定時間間隔になると、再びシャッタ435がOPEN(STEP51)にされてからシャッタ435がCloseされる(STEP59)までの動作が、測定時間が終了するまで繰り返される(STEP60)。
When the movement destination of the X-axis operation stage 422X or the Y-axis operation stage 422Y is outside the measurement target range, the shutter 435 is turned off (STEP 59).
Thereafter, when a predetermined measurement time interval is reached, the operation from the time when the shutter 435 is again set to OPEN (STEP 51) to the time when the shutter 435 is closed (STEP 59) is repeated until the measurement time ends (STEP 60).

次に、エリアセンサモードが選択されていない場合について説明する。
測定開始スイッチが押されると、X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yを測定開始位置へ移動させる(STEP70)。ここでは、コンピュータPCが入力された測定開始位置を読み込み、X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yを測定開始位置に移動させるとともに、細胞CEが対物レンズ448の撮影視野内に位置するように移動される。
そして、シャッタ435がOPENにされて(STEP71)、フォーカス位置が検出される(STEP72)。
Next, a case where the area sensor mode is not selected will be described.
When the measurement start switch is pressed, the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y are moved to the measurement start position (STEP 70). Here, the computer PC reads the input measurement start position, moves the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y to the measurement start position, and causes the cell CE to be positioned within the imaging field of the objective lens 448. Moved.
Then, the shutter 435 is set to OPEN (STEP 71), and the focus position is detected (STEP 72).

次に、対物レンズ448が選択される(STEP73)。ここでは、コンピュータPCが設定された測定倍率に基づいて、レボルバ447を駆動して所定の倍率の対物レンズ448を選択する。
そして、フィルタユニット445が選択される(STEP74)。ここでは、コンピュータPCが設定された蛍光タンパクに基づいて、フィルタ制御部446Cが測定に最適な励起フィルタ456や吸収フィルタ458などを選択する。これら測定開始スイッチが押されてからここまで(STEP70からSTEP74まで)の動作は、測定モードに併せて自動で選択され、実行される。
Next, the objective lens 448 is selected (STEP 73). Here, based on the measurement magnification set by the computer PC, the revolver 447 is driven to select the objective lens 448 having a predetermined magnification.
Then, the filter unit 445 is selected (STEP 74). Here, based on the fluorescent protein set by the computer PC, the filter control unit 446C selects an excitation filter 456, an absorption filter 458, and the like that are optimal for measurement. The operations up to this point (from STEP 70 to STEP 74) after the measurement start switch is pressed are automatically selected and executed in accordance with the measurement mode.

その後、X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yの駆動が開始され(STEP75)、画像の取り込みおよびコンピュータPCのメモリ部への画像データ出力が行われる(STEP76)。
そして、必要な画像の取得が完了していなければ、再び対物レンズ448の選択(STEP73)から画像の取り込みおよびコンピュータPCのメモリ部への画像データ出力(STEP76)までの動作が繰り返され、必要な画像の取得が完了するまで繰り返される(STEP77)。
Thereafter, driving of the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y is started (STEP 75), and image capture and image data output to the memory unit of the computer PC are performed (STEP 76).
If the necessary image acquisition has not been completed, the operations from the selection of the objective lens 448 (STEP 73) to the image capture and the image data output to the memory unit of the computer PC (STEP 76) are repeated. The process is repeated until the image acquisition is completed (STEP 77).

必要な画像の取得が完了すると、シャッタ435がCloseされる(STEP78)。
その後、所定の測定時間間隔になると、再びシャッタ435がOPEN(STEP71)にされてからシャッタ435がCloseされる(STEP78)までの動作が、測定時間が終了するまで繰り返される(STEP79)。
When the necessary image acquisition is completed, the shutter 435 is closed (STEP 78).
Thereafter, when a predetermined measurement time interval is reached, the operation from the time when the shutter 435 is again set to OPEN (STEP 71) to the time when the shutter 435 is closed (STEP 78) is repeated until the measurement time ends (STEP 79).

細胞CEの撮像が終了すると、次には撮像された画像の処理が行われる。そこで、撮像された画像の処理方法について、図24を参照しながら説明する。
図24は、画像の処理方法を説明するフローチャートである。
まず、コンピュータPCの画像処理部は、メモリ部に蓄積された撮像画像から、背景画像を抽出する(STEP91)と共に、撮像画像から背景画像(バックグラウンド)を除去する(STEP92)。
次に、強調できる画像の最大輝度範囲を読み込み(STEP93)、最大輝度範囲に応じて、例えば所定係数を掛けて画像を強調する(STEP94)。これらの処理により、バックグラウンドを除去した画像から1つ1つの細胞CEを粒状に認識し易いように画像が強調される。
When the imaging of the cell CE is completed, the captured image is processed next. Therefore, a processing method of the captured image will be described with reference to FIG.
FIG. 24 is a flowchart illustrating an image processing method.
First, the image processing unit of the computer PC extracts a background image from the captured image stored in the memory unit (STEP 91) and removes the background image (background) from the captured image (STEP 92).
Next, the maximum luminance range of the image that can be enhanced is read (STEP 93), and the image is enhanced by multiplying a predetermined coefficient, for example, according to the maximum luminance range (STEP 94). By these processes, the image is enhanced so that each cell CE can be easily recognized in granular form from the image from which the background is removed.

そして、強調された画像から、例えば所定の閾値以上の輝度を有する部分を抽出することで、細胞CEの1つ1つの輝度を明確な粒状として認識する(STEP95)。
次に、細胞CEの重心位置や面積等の幾何学的特徴量や、化学的特徴量や、蛍光輝度等の光学的特徴量をより正確に認識するとともに、細胞CEの位置情報とも関連付けて抽出する(STEP96)。これら特徴量を抽出することにより、1つ1つの細胞CEを識別することができる。
細胞CEの特徴量を抽出した後、細胞CEを認識するために行った強調作業(STEP94)の補正を行う(STEP97)。この補正により、画像の強調のために用いられた所定係数の影響が除去される。
次に、補正後の特徴量を、例えばファイルに出力するとともにそのファイルに蓄積する(STEP98)。
Then, for example, by extracting a part having a luminance equal to or higher than a predetermined threshold from the emphasized image, each luminance of the cell CE is recognized as a clear granularity (STEP 95).
Next, geometric features such as the center of gravity and area of the cell CE, chemical features, and optical features such as fluorescence luminance are more accurately recognized and extracted in association with the location information of the cell CE. (STEP 96). By extracting these feature amounts, each cell CE can be identified.
After extracting the feature quantity of the cell CE, the enhancement work (STEP 94) performed for recognizing the cell CE is corrected (STEP 97). By this correction, the influence of the predetermined coefficient used for image enhancement is removed.
Next, the corrected feature amount is output to, for example, a file and stored in the file (STEP 98).

そのため、コンピュータPCの画像処理部は、スライドガラス、マイクロプレートなどの全面の各位置における細胞CEの蛍光量分布等を画像化することができる。また、画像処理部は、1つ1つの細胞CEを正確に追跡可能であるので、例えば、所定の数の細胞CEだけに注目し、培養を行いながら細胞CE内部の蛍光分布を局所的に長時間測定することも可能である。更に、細胞CEを培養しながら、例えば、一定時間毎にスライドガラスや、マイクロプレートなどの全面を測定し、時間経過に対する細胞CEの蛍光量を自動測定することも可能である。   Therefore, the image processing unit of the computer PC can image the fluorescence amount distribution of the cells CE at each position on the entire surface such as a slide glass or a microplate. In addition, since the image processing unit can accurately track each cell CE, for example, paying attention to only a predetermined number of cells CE, the fluorescence distribution inside the cells CE is locally long while culturing. It is also possible to measure time. Furthermore, while culturing the cell CE, for example, the entire surface of a slide glass, a microplate, or the like is measured at regular intervals, and the fluorescence amount of the cell CE with respect to time can be automatically measured.

次に、撮像画像から細胞CEの特徴量などのデータが抽出された後に行われるデータ処理について、図25を参照しながら説明する。
図25は、データ処理の流れを説明するフローチャートである。
ここでは、コンピュータPCのデータ処理部によって、ファイル内に蓄積された細胞CEのデータ(特徴量)の処理が行われる。
まず、データ処理部は、ファイル内に蓄積された細胞CEの生データ(特徴量)を読み込む(STEP101)とともに、細胞CEごとに時系列に並ぶようにデータの並べ替えが行われる(STEP102)。データが並べ替えられると、データ処理部は、細胞CEごとに輝度、すなわち発現量の経時的変化をグラフ化する(STEP103)。
グラフ化が完了すると、データ処理部は、グラフをプレビュー表示し(STEP104)、グラフ化データをファイルに出力する(STEP105)。
Next, data processing performed after data such as the feature amount of the cell CE is extracted from the captured image will be described with reference to FIG.
FIG. 25 is a flowchart for explaining the flow of data processing.
Here, the data (feature value) of the cell CE accumulated in the file is processed by the data processing unit of the computer PC.
First, the data processing unit reads the raw data (feature amount) of the cells CE accumulated in the file (STEP 101), and rearranges the data so that the cells CE are arranged in time series (STEP 102). When the data is rearranged, the data processing unit graphs the luminance, that is, the change in the expression level with time for each cell CE (STEP 103).
When the graphing is completed, the data processing unit displays a preview of the graph (STEP 104), and outputs the graphed data to a file (STEP 105).

この処理を行うことにより、細胞CEを長期間培養した場合における1つの細胞の経時的変化を容易に観察することができる。従って、培養中の時間経過に伴う細胞CEの発現量の変化等を正確、かつ容易に測定することができる。   By performing this treatment, it is possible to easily observe the temporal change of one cell when the cell CE is cultured for a long time. Accordingly, it is possible to accurately and easily measure a change in the expression level of the cell CE over time during the culture.

次に、細胞CEの測定時に行われる照射光量の調整について、図26を参照しながら説明する。
図26は、光量の調整の流れを説明するフローチャートである。
まず、細胞CEに照射される照射光量が測定される(STEP111)。照射光量は、光量モニタ450の出力から算出されてもよいし、照度計を設けて測定しても良いし、パワーメータを設けてパワーメータの出力から算出してもよい。
Next, adjustment of the irradiation light amount performed at the time of measuring the cell CE will be described with reference to FIG.
FIG. 26 is a flowchart for explaining the flow of light amount adjustment.
First, the irradiation light quantity irradiated to the cell CE is measured (STEP 111). The irradiation light amount may be calculated from the output of the light amount monitor 450, may be measured by providing an illuminometer, or may be calculated from the output of the power meter by providing a power meter.

測定された照射光量が許容範囲内であれば、再び照射光量の測定(STEP111)に戻り、照射光量が許容範囲外になるまで繰り返される(STEP112)。
照射光量が許容範囲外になると、光量調整機構443に含まれるNDフィルタ(図示せず)が交換され(STEP113)、照射光量が許容範囲内になるように調節される。その後、再び照射光量の測定(STEP111)に戻り、照射光量の調節が繰り返される。
If the measured irradiation light quantity is within the allowable range, the process returns to the measurement of the irradiation light quantity (STEP 111) again and is repeated until the irradiation light quantity falls outside the allowable range (STEP 112).
When the amount of irradiation light falls outside the allowable range, the ND filter (not shown) included in the light amount adjustment mechanism 443 is replaced (STEP 113), and the amount of irradiation light is adjusted to be within the allowable range. Thereafter, the process returns to the measurement of the irradiation light amount (STEP 111), and the adjustment of the irradiation light amount is repeated.

次に、チャンバ510への培養液の補給・交換の制御方法を、図27を参照しながら説明する。
図27は、培養液の補給・交換方法を説明するフローチャートである。
まず、撮像された画像のバックグラウンド(背景)値が解析される(STEP121)。撮像された画像のバックグラウンドには培養溶液の自家蛍光が撮像されており、この培養溶液の自家蛍光の輝度が解析される。
ここで、培養液は古くなるほど自家蛍光の輝度が高くなるため、自家蛍光の輝度を測定することにより、培養液の交換時期を検出することができる。
Next, a method for controlling the supply / exchange of the culture medium to the chamber 510 will be described with reference to FIG.
FIG. 27 is a flowchart for explaining a culture solution replenishment / exchange method.
First, the background value of the captured image is analyzed (STEP 121). Autofluorescence of the culture solution is imaged in the background of the captured image, and the brightness of the autofluorescence of the culture solution is analyzed.
Here, since the brightness of the autofluorescence increases as the culture solution becomes older, the replacement time of the culture solution can be detected by measuring the brightness of the autofluorescence.

そして、解析されたバックグラウンド値の経時的変動が所定の規定値以内であれば、再びバックグラウンド値の解析(STEP121)に戻り、バックグラウンド値の経時的変動が所定の規定値より大きくなるまで繰り返される(STEP122)。
バックグラウンド値の経時的変動が所定の規定値より大きくなると、培養液の廃液ポンプ482が駆動され(STEP123)、次いで培養液の補給ポンプ481が駆動される(STEP124)。
If the temporal variation of the analyzed background value is within a predetermined specified value, the process returns to the background value analysis (STEP 121) again until the temporal variation of the background value becomes larger than the predetermined predetermined value. Repeated (STEP 122).
When the variation of the background value with time becomes larger than a predetermined specified value, the culture liquid waste pump 482 is driven (STEP 123), and then the culture liquid replenishment pump 481 is driven (STEP 124).

なお、培養液の補給・交換の時期は、上述のように、培養液の自家蛍光により決定しても良いし、連続して行ってもよいし、予めユーザーが指定した時間間隔で自動的に補給・交換を行っても良いし、予め登録されているテーブルから細胞CEを選択することにより、適宜、培養液の交換時期を指定できるようにしてもよい。また、交換する量もユーザーが設定しても良いし、培養液の自家蛍光により決定してもよいし、チャンバ510内の培養液を一括して全て交換してもよいし、予め登録されているテーブルから細胞CEを選択することにより、適宜、培養液の交換量を指定できるようにしてもよい。
重量などで換算して自動で設定しても良い。
なお、本実施の形態においては、撮像された画像を用いてバックグラウンドの自家蛍光の値を検出しているが、この検出は細胞CEが存在しない場所を撮像した画像から検出しても良いし、培養液瓶472近傍に、例えば光学的検出器を設けて検出してもよい。
上述したような測定手順により、図28に示すような、1つ1つの細胞の経時的位置変化を表した細胞追跡画像を取得できる。
As described above, the time for replenishment / exchange of the culture solution may be determined by autofluorescence of the culture solution, may be performed continuously, or automatically at a time interval specified in advance by the user. Replenishment / exchange may be performed, or by selecting a cell CE from a pre-registered table, it may be possible to appropriately designate the replacement time of the culture solution. Also, the amount to be replaced may be set by the user, may be determined by the autofluorescence of the culture solution, or all of the culture solution in the chamber 510 may be replaced in a batch or registered in advance. By selecting the cell CE from the existing table, the exchange amount of the culture solution may be appropriately designated.
It may be set automatically by converting the weight.
In the present embodiment, the value of the background autofluorescence is detected using the captured image, but this detection may be detected from an image captured where a cell CE does not exist. For example, an optical detector may be provided in the vicinity of the culture solution bottle 472 for detection.
By the measurement procedure as described above, a cell tracking image representing a change in position of each cell over time as shown in FIG. 28 can be acquired.

次に、マイクロプレート520を用いて培養・測定する場合の手順を、図29を参照しながら説明する。
図29は、マイクロプレート520を用いて培養・測定する手順を説明するフローチャートである。
まず、インキュベータボックス500aの水槽521に滅菌水を供給する(STEP131)。
次に、コンピュータPCを起動(STEP132)してから、検出ユニット420および培養ユニット470の主電源をONにする(STEP133)。
Next, the procedure for culturing and measuring using the microplate 520 will be described with reference to FIG.
FIG. 29 is a flowchart illustrating a procedure for culturing and measuring using the microplate 520.
First, sterilized water is supplied to the water tank 521 of the incubator box 500a (STEP 131).
Next, after the computer PC is started (STEP 132), the main power of the detection unit 420 and the culture unit 470 is turned on (STEP 133).

その後、インキュベータボックス500a内の内部ファン522を駆動(STEP134)して、インキュベータボックス500a内の空気を循環させる。そして、CO2濃度制御部495を起動(STEP135)して、インキュベータボックス500aに供給される培養ガスの二酸化炭素ガス濃度を5%に制御する。その後、各温度制御部を起動(STEP136)して、培養液温度、培養ガス温度、保温箱421内の温度などを略37℃に制御する。   Thereafter, the internal fan 522 in the incubator box 500a is driven (STEP 134) to circulate the air in the incubator box 500a. Then, the CO2 concentration control unit 495 is activated (STEP 135) to control the carbon dioxide gas concentration of the culture gas supplied to the incubator box 500a to 5%. Thereafter, each temperature control unit is activated (STEP 136), and the temperature of the culture solution, the temperature of the culture gas, the temperature in the heat insulating box 421, and the like are controlled to approximately 37 ° C.

その後、検出ユニット420の開閉扉427を開けて(STEP137)、インキュベータボックス500aをステージ422にセット(STEP138)し、開閉扉427を閉じる(STEP139)。
次に、透過光源423をONにして(STEP140)、細胞CEに透過光を照射し、測定条件を設定する(STEP141)。
Thereafter, the open / close door 427 of the detection unit 420 is opened (STEP 137), the incubator box 500a is set on the stage 422 (STEP 138), and the open / close door 427 is closed (STEP 139).
Next, the transmission light source 423 is turned on (STEP 140), the cell CE is irradiated with the transmitted light, and the measurement conditions are set (STEP 141).

そして、測定開始ボタンをONにする(STEP142)ことで、細胞CEの測定が開始される。
まず、所定の細胞CEへ事前に走査を行ってオートフォーカス(STEP143)が行われ、各部の焦点位置が決定されたところで、シャッタ435がOpenされる(STEP144)。
次に、細胞CEの画像の取り込み・出力が行われる(STEP145)。ここでは、取り込まれた画像データがコンピュータPCのメモリ部へ出力される。
Then, the measurement of the cell CE is started by turning on the measurement start button (STEP 142).
First, a predetermined cell CE is scanned in advance to perform autofocus (STEP 143), and when the focal position of each part is determined, the shutter 435 is opened (STEP 144).
Next, an image of the cell CE is captured and output (STEP 145). Here, the captured image data is output to the memory unit of the computer PC.

そして、必要な画像の取得が完了していなければ、再びオートフォーカス(STEP143)から画像の取り込みおよび出力(STEP145)までの動作が、必要な画像の取得が完了するまで繰り返される(STEP146)。ここで、必要な画像とは、例えば、選択された波長により撮影された画像や、選択された倍率により撮影された画像などのことである。   If the necessary image acquisition is not completed, the operations from autofocus (STEP 143) to image capture and output (STEP 145) are repeated until the necessary image acquisition is completed (STEP 146). Here, the necessary image is, for example, an image photographed at a selected wavelength or an image photographed at a selected magnification.

必要な画像の取得が完了すると、X軸動作ステージ422XまたはY軸動作ステージ422Yが1ステップ駆動される(STEP147)。そして、X軸動作ステージ422XまたはY軸動作ステージ422Yが移動した位置が測定対象範囲内であれば、再びオートフォーカス(STEP143)から1ステップステージ駆動(STEP147)までの動作が繰り返される。この繰り返し作業は、ステージ422の移動した位置が測定対象範囲外になるまで繰り返される(STEP148)。   When the necessary image acquisition is completed, the X-axis operation stage 422X or the Y-axis operation stage 422Y is driven one step (STEP 147). If the position to which the X-axis operation stage 422X or the Y-axis operation stage 422Y has moved is within the measurement target range, the operation from autofocus (STEP 143) to one-step stage drive (STEP 147) is repeated again. This repetitive operation is repeated until the position where the stage 422 has moved is outside the measurement target range (STEP 148).

X軸動作ステージ422XまたはY軸動作ステージ422Yの移動先が測定対象範囲外となると、シャッタ435がCloseされ(STEP149)、X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yがホームポジションに移動される(STEP150)。
その後、所定の測定時間間隔になると、再びオートフォーカス(STEP143)からホームポジションへステージを移動させる(STEP150)までの動作が、測定時間が終了するまで繰り返される(STEP151)。
When the movement destination of the X-axis operation stage 422X or the Y-axis operation stage 422Y is outside the measurement target range, the shutter 435 is closed (STEP 149), and the X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y are moved to the home position ( (STEP 150).
Thereafter, when a predetermined measurement time interval is reached, the operation from the autofocus (STEP 143) to moving the stage to the home position again (STEP 150) is repeated until the measurement time ends (STEP 151).

測定時間が終了(STEP152)すると、開閉扉427を開けて(STEP153)、マイクロプレート520をインキュベータボックス500aから取り外す(STEP154)。そして、水槽521から滅菌水を取り除き(STEP155)、開閉扉427を閉じる(STEP156)。
その後、保温箱421内のUVランプ425を点灯させ(STEP157)、保温箱421内の滅菌を行い、測定を終了する。
When the measurement time ends (STEP 152), the door 427 is opened (STEP 153), and the microplate 520 is removed from the incubator box 500a (STEP 154). Then, sterilized water is removed from the water tank 521 (STEP 155), and the open / close door 427 is closed (STEP 156).
Thereafter, the UV lamp 425 in the heat insulation box 421 is turned on (STEP 157), sterilization in the heat insulation box 421 is performed, and the measurement is finished.

なお、上述のように、保温箱421内の滅菌を測定手順の最後に入れてもよいし、測定手順の最初に入れて、測定前に保温箱421の滅菌を行っても良い。
なお、上述のように、細胞CEの測定ごとにオートフォーカスを行っても良いし、測定ごとの行わなくても良い。
As described above, sterilization in the heat insulation box 421 may be put at the end of the measurement procedure, or may be put at the beginning of the measurement procedure and the heat insulation box 421 may be sterilized before the measurement.
Note that, as described above, autofocus may be performed for each measurement of the cell CE, or may not be performed for each measurement.

上記の構成によれば、保温箱421により温度環境が維持されるとともに、保温箱421内に配置されたチャンバ510により湿度環境および培養液環境が維持されているので、湿度環境および培養液環境は温度環境の影響を受け、チャンバ510内においても温度環境が維持されている。
そのため、細胞CEにダメージを与えるような温度環境の急激な変化や不均一等は、湿度環境および培養液環境を介することで上記変化等が緩和されるため、細胞CEへのダメージを低減することができる。
また、チャンバ510は、保温箱421と比較して、容積が小さいため、湿度環境および培養液環境を維持・制御しやすくなり、細胞CEへダメージを与えにくくすることができる。
According to the above configuration, the temperature environment is maintained by the heat insulation box 421 and the humidity environment and the culture medium environment are maintained by the chamber 510 disposed in the heat insulation box 421. Under the influence of the temperature environment, the temperature environment is also maintained in the chamber 510.
Therefore, a rapid change or non-uniformity of the temperature environment that damages the cell CE is mitigated through the humidity environment and the culture medium environment, and therefore the damage to the cell CE is reduced. Can do.
Further, since the chamber 510 has a smaller volume than the heat retaining box 421, it is easy to maintain and control the humidity environment and the culture solution environment, and it is possible to make it difficult to damage the cells CE.

また、保温箱421、インキュベータボックス500、チャンバ510を介して細胞CEを観察することができるため、細胞CEにダメージを与えることなく培養しながら観察することができる。そのため、培養過程で起きる細胞CE内の挙動を正確、かつ経時的に測定することができる。
例えば、培養条件を変化させながら観察対象の細胞CEの反応をリアルタイムで測定することができ、タンパク質の発現の有無や発現量の測定、時間経過に伴う発現量の変化等を正確に測定することができる。
In addition, since the cell CE can be observed through the heat insulating box 421, the incubator box 500, and the chamber 510, it can be observed while culturing without damaging the cell CE. Therefore, the behavior in the cell CE occurring in the culture process can be measured accurately and with time.
For example, the response of the cell CE to be observed can be measured in real time while changing the culture conditions, and the presence or absence of protein expression, the measurement of the expression level, and the change in the expression level over time can be accurately measured. Can do.

さらに、1回の観察における諸操作により細胞CEの活性が損なわれることを防止することでき、同じ細胞CEを複数回観察することができる。また、同じ細胞CEを、時間間隔を空けて複数回観察することができるため、実験プロトコルを制限する必要がない。   Furthermore, the activity of the cell CE can be prevented from being impaired by various operations in one observation, and the same cell CE can be observed a plurality of times. In addition, since the same cell CE can be observed multiple times at time intervals, there is no need to limit the experimental protocol.

また、検出部440は、保温箱421、インキュベータボックス500、を介してチャンバ510内の細胞CEを観察するため、観察の際に細胞CEをチャンバ510から出し入れする必要がなく、観察している間中チャンバ510内に固定することができる。そのため、測定のたびに正確に同じ位置を観察することができる。また、観察する際のコンタミネーションを防止することができるとともに、細胞CEに対して負荷をかけることを防止することができる。
さらには、チャンバ510内の環境条件(例えば、二酸化炭素ガスおよび湿度の組み合わせ)により検出部440の機能が損なわれることを防止することができる。
In addition, since the detection unit 440 observes the cell CE in the chamber 510 via the heat insulation box 421 and the incubator box 500, it is not necessary to take the cell CE out of the chamber 510 during the observation. It can be fixed in the middle chamber 510. Therefore, the same position can be observed exactly every measurement. In addition, it is possible to prevent contamination during observation and to prevent the cell CE from being loaded.
Furthermore, it is possible to prevent the function of the detection unit 440 from being impaired by environmental conditions in the chamber 510 (for example, a combination of carbon dioxide gas and humidity).

さらには、細胞CEが保温箱421、インキュベータボックス500内に配置されたチャンバ510内に収納されているので、チャンバ510を配置していない場合と比較して、細胞CEとインキュベータボックス500外の環境との距離を確保できる。そのため、細胞CEが受けるインキュベータボックス500外のステージ422の駆動モータおよび開閉扉427に設けた磁石による電界や磁界などの影響を緩和することができる。   Further, since the cells CE are stored in the heat insulation box 421 and the chamber 510 disposed in the incubator box 500, the environment outside the cells CE and the incubator box 500 is compared with the case where the chamber 510 is not disposed. Can be secured. Therefore, the influence of an electric field, a magnetic field, and the like by the drive motor of the stage 422 outside the incubator box 500 received by the cell CE and the magnet provided on the open / close door 427 can be reduced.

〔第5の実施の形態〕
次に、本発明の第5の実施形態について図30から図32を参照して説明する。
本実施の形態の生体試料観察システムの基本構成は、第4の実施の形態と同様であるが、第4の実施の形態とは、検出ユニットおよび培養ユニットの構成が異なっている。よって、本実施の形態においては、図30から図32を用いて検出ユニットおよび培養ユニット周辺のみを説明し、チャンバ等の説明を省略する。
図30(a)は、本実施の形態における生体試料観察システムの正面図であり、図30(b)は、本実施の形態における生体試料観察システムの側面図である。
生体試料観察システム600は、図30に示すように、倒立型顕微鏡(顕微鏡撮像装置)610と、培養ステージ620とから概略構成されている。倒立型顕微鏡610と培養ステージ620とは一体的に固定されていても良いし、着脱ができるように構成されていてもよい。
[Fifth Embodiment]
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
The basic configuration of the biological sample observation system of the present embodiment is the same as that of the fourth embodiment, but the configurations of the detection unit and the culture unit are different from those of the fourth embodiment. Therefore, in the present embodiment, only the periphery of the detection unit and the culture unit will be described using FIGS. 30 to 32, and description of the chamber and the like will be omitted.
FIG. 30A is a front view of the biological sample observation system in the present embodiment, and FIG. 30B is a side view of the biological sample observation system in the present embodiment.
As shown in FIG. 30, the biological sample observation system 600 is roughly composed of an inverted microscope (microscope imaging device) 610 and a culture stage 620. The inverted microscope 610 and the culture stage 620 may be fixed integrally or may be configured to be detachable.

倒立型顕微鏡610に対して培養ステージ620が着脱できると、既存の倒立型顕微鏡を使用することもできる。この場合、例えば培養ステージ620の取り付けに係る形状・構造上の制約により、細胞CEの近傍にステージの駆動モータが配置されても、細胞CEに対する量電気や磁気の影響を緩和することができる。
また、例えば、倒立型顕微鏡610を用いて細胞CEを観察する際には、培養ステージ620を倒立型顕微鏡610に取り付けることができ、それ以外の時(例えば細胞CEの培養時)には、倒立型顕微鏡610を顕微鏡から取り外すことができる。
If the culture stage 620 can be attached to and detached from the inverted microscope 610, an existing inverted microscope can be used. In this case, for example, due to restrictions on the shape and structure related to the attachment of the culture stage 620, even if a stage drive motor is disposed in the vicinity of the cell CE, the influence of quantity electricity and magnetism on the cell CE can be reduced.
Further, for example, when observing the cell CE using the inverted microscope 610, the culture stage 620 can be attached to the inverted microscope 610, and at other times (for example, when culturing the cell CE), it is inverted. The mold microscope 610 can be removed from the microscope.

図31は、培養ステージ620の平面図であり、図32は、培養ステージ620の斜視図である。
培養ステージ620は、図30および図31に示すように、筐体621と、筐体621の上面に設けられた開閉蓋622と、X軸動作ステージ422Xと、Y軸動作ステージ422Yと、小型または帯状のヒータ620Hと、放熱板623と、ファン624と、培養ガス供給コネクタ625とから概略構成されている。
FIG. 31 is a plan view of the culture stage 620, and FIG. 32 is a perspective view of the culture stage 620.
As shown in FIGS. 30 and 31, the culture stage 620 includes a housing 621, an opening / closing lid 622 provided on the upper surface of the housing 621, an X-axis operation stage 422X, a Y-axis operation stage 422Y, The belt heater 620 </ b> H, a heat radiating plate 623, a fan 624, and a culture gas supply connector 625 are roughly configured.

筐体621は、例えば、アルマイト処理されたアルミニウムやSUS316のようなステンレススチールなど防食性の高い遮光性の材料で制作するのが好ましく、より好ましくは、保温性の観点から熱伝導率の低い材料を選択するとよい。
筐体621の内部は、培養した細胞の観察を行うための測定エリア626と、細胞の培養のみを行う非測定エリア627とに分割されている。そして、培養ステージ620では、細胞の培養を行うとともに、細胞を保持するマイクロプレート520を内部に収納し、培養ステージ620の外部からマイクロプレート520内の細胞を観察することが可能な構成とされる。ここでは、図31および図32に示すように、培養容器としてマイクロプレート520を使用する場合について説明するが、ディッシュやフラスコを使用することも可能である。
The housing 621 is preferably made of a light-shielding material with high anti-corrosion properties such as anodized aluminum or stainless steel such as SUS316, and more preferably a material with low thermal conductivity from the viewpoint of heat retention. It is good to select.
The inside of the housing 621 is divided into a measurement area 626 for observing cultured cells and a non-measurement area 627 for only culturing cells. In the culture stage 620, the cells are cultured, the microplate 520 holding the cells is housed inside, and the cells in the microplate 520 can be observed from the outside of the culture stage 620. . Here, as shown in FIG. 31 and FIG. 32, the case where a microplate 520 is used as a culture vessel will be described, but a dish or a flask can also be used.

筐体621の非測定エリア627における側壁には、ファン624および培養ガス供給コネクタ625が配置されている。また、ファン624および培養ガス供給コネクタ625が配置されていない領域(測定エリア626も含む)には、ヒータ620Hとヒータ620Hの熱を拡散させる放熱板623が配置されている。
ファン624は、培養ステージ620内の空気を対流させるとともに、インキュベータボックス500aに直接風が当たらないようになっている。
培養ステージ620内の温度は、ヒータ620Hにより昇温され、36.5℃±0.5℃に制御される。
A fan 624 and a culture gas supply connector 625 are arranged on the side wall in the non-measurement area 627 of the housing 621. Further, in a region where the fan 624 and the culture gas supply connector 625 are not disposed (including the measurement area 626), a heater 620H and a heat dissipation plate 623 that diffuses the heat of the heater 620H are disposed.
The fan 624 convects the air in the culture stage 620 and prevents direct air from hitting the incubator box 500a.
The temperature in the culture stage 620 is raised by the heater 620H and controlled to 36.5 ° C. ± 0.5 ° C.

筐体621の底面には、図31および図32に示すように、X軸動作ステージ422X及びY軸動作ステージ422Yが設置されている。X軸動作ステージ422XおよびY軸動作ステージ422Yは、例えばモータとボールネジにより駆動される。
Y軸動作ステージ422Yには、小型もしくは帯状のヒータ(図示せず)が取り付けられている。ヒータは、マイクロプレート520が均等に温められる位置に配置されている。
As shown in FIGS. 31 and 32, an X-axis operation stage 422X and a Y-axis operation stage 422Y are installed on the bottom surface of the housing 621. The X-axis operation stage 422X and the Y-axis operation stage 422Y are driven by, for example, a motor and a ball screw.
A small or strip-shaped heater (not shown) is attached to the Y-axis operation stage 422Y. The heater is disposed at a position where the microplate 520 is evenly heated.

測定エリア626および非測定エリア627は、筐体621に固定された天板628および一対の仕切り受け629により、培養ステージ620内がX軸方向に分割されたものである。すなわち、図31において仕切り受け629の左側領域が測定エリア626とされ、右側の領域が非測定エリア627とされている。
また、X軸動作ステージ422Xには、筐体621の断面形状と略一致する形状に形成された仕切り板629aが取り付けられている。
この仕切り板629aは、X軸動作ステージ422Xを非測定エリア627側へ移動させることにより、仕切り板629aの両端部(Y軸方向の端部)の側面が仕切り受け629と接触して筐体621の内部空間を左右(X軸)方向に2分割するように配置されている。
さらに、仕切り板629aの天板628側の端部が天板628の下面と接触するように配置されているため、測定エリア626および非測定エリア627を、互いに分割された2つの空間とすることができる。
The measurement area 626 and the non-measurement area 627 are obtained by dividing the inside of the culture stage 620 in the X-axis direction by a top plate 628 fixed to the housing 621 and a pair of partition receivers 629. That is, in FIG. 31, the left area of the partition receiver 629 is a measurement area 626, and the right area is a non-measurement area 627.
In addition, a partition plate 629a formed in a shape that substantially matches the cross-sectional shape of the housing 621 is attached to the X-axis operation stage 422X.
The partition plate 629a moves the X-axis operation stage 422X to the non-measurement area 627 side, whereby the side surfaces of both end portions (end portions in the Y-axis direction) of the partition plate 629a come into contact with the partition receiver 629 and the housing 621. The inner space is divided into two in the left-right (X-axis) direction.
Furthermore, since the end of the partition plate 629a on the top plate 628 side is arranged so as to contact the lower surface of the top plate 628, the measurement area 626 and the non-measurement area 627 are made into two spaces divided from each other. Can do.

測定エリア626の上部開口領域には、ガラス上蓋630が筐体621に着脱可能に取り付けられ、測定エリア626の上部開口領域を覆うように配置されている。ガラス上蓋630の取り付け方法としては、例えば、ガラス上蓋630を筐体621にビス止め固定する方法や、ロック機構、ツメ、磁石などで取り付ける方法を挙げることができる。
ガラス上蓋630は、全面あるいは周囲の枠部分を除いた略全面がガラス板631で構成されていてもよいし、測定に支障のない範囲内であれば最小限の面積としてもよい。ガラス板631には、透過観察および落射観察の際の光の反射を抑えるために、両面に反射防止膜(ARコート)をコーティングした光学ガラス材を使用するのが好ましい。
A glass upper lid 630 is detachably attached to the housing 621 in the upper opening area of the measurement area 626 and is disposed so as to cover the upper opening area of the measurement area 626. Examples of the method for attaching the glass upper lid 630 include a method for fixing the glass upper lid 630 to the housing 621 with a screw, and a method for attaching the glass upper lid 630 with a lock mechanism, a claw, a magnet, and the like.
The glass upper lid 630 may be formed of the glass plate 631 over the entire surface or substantially the entire surface excluding the surrounding frame portion, or may have a minimum area as long as the measurement is not hindered. For the glass plate 631, it is preferable to use an optical glass material coated on both sides with an antireflection film (AR coating) in order to suppress reflection of light during transmission observation and epi-illumination observation.

なお、反射防止膜は、上述のようにガラス板631の両面にコーティングしても良いし、ガラス板631の片面にコーティングしてもよい。
ガラス上蓋630は、例えば倒立型顕微鏡610の対物レンズ交換や、測定エリア626の内部クリーニングなど、各種の作業を行う際に必要に応じて取り外すことができる。
なお、ガラス上蓋630には、倒立型顕微鏡610の対物レンズを差し込む観察孔を設けても良い。また、観察孔にはゴム製のシートを配置し、対物レンズと観察孔との間の隙間を塞いでも良い。シートは対物レンズと培養ステージ620との相対移動を阻害しないように配置されることが望ましい。
Note that the antireflection film may be coated on both surfaces of the glass plate 631 as described above, or may be coated on one surface of the glass plate 631.
The glass top cover 630 can be removed as necessary when performing various operations such as replacement of the objective lens of the inverted microscope 610 and internal cleaning of the measurement area 626.
Note that the glass top cover 630 may be provided with an observation hole into which the objective lens of the inverted microscope 610 is inserted. Further, a rubber sheet may be arranged in the observation hole to close the gap between the objective lens and the observation hole. The sheet is desirably arranged so as not to hinder the relative movement between the objective lens and the culture stage 620.

非測定エリア627の上部開口領域には、開閉蓋622がヒンジなどを用いて開閉可能に取り付けられている。開閉蓋622が閉じた状態では、開閉蓋622の一端が天板628と接触し、支持されている。
開閉蓋622は、全体が遮光性の材料(例えば筐体621と同じ材料)で構成されており、必要に応じて覗き穴を塞ぐ覗き穴カバー632やUV照射穴を塞ぐUV照射穴カバー633が設けられている。
An opening / closing lid 622 is attached to the upper opening region of the non-measurement area 627 so as to be opened and closed using a hinge or the like. When the open / close lid 622 is closed, one end of the open / close lid 622 is in contact with and supported by the top plate 628.
The opening / closing lid 622 is entirely made of a light-shielding material (for example, the same material as the housing 621). Is provided.

覗き穴は開閉蓋622に形成した開口部(窓)であって、覗き穴カバー632は、例えば透過率の低いガラス板や樹脂板などから形成され、覗き穴に嵌め込まれている。また、覗き穴カバー632は、開閉蓋622と同じ遮光性材料などから形成され、着脱可能または開閉可能に取り付けられていても良い。
UV照射穴は開閉蓋622に形成した開口部(窓)であって、UV照射穴カバー633は、例えば開閉蓋622と同じ遮光性部材などから形成され、UV照射穴に対して、着脱可能または開閉可能に取り付けられている。
UV照射穴カバー633は、非測定エリア627内に紫外線を照射して殺菌する場合に取り外される。また、UV光の照射には、ハンディタイプのUVランプを用いることができる。
The peephole is an opening (window) formed in the opening / closing lid 622, and the peephole cover 632 is formed of, for example, a glass plate or a resin plate having a low transmittance, and is fitted into the peephole. Further, the peephole cover 632 may be formed of the same light-shielding material as the opening / closing lid 622, and may be attached detachably or closably.
The UV irradiation hole is an opening (window) formed in the opening / closing lid 622, and the UV irradiation hole cover 633 is formed of, for example, the same light-shielding member as the opening / closing lid 622, and is attachable / detachable to / from the UV irradiation hole. It is attached so that it can be opened and closed.
The UV irradiation hole cover 633 is removed when the non-measurement area 627 is irradiated with ultraviolet rays to be sterilized. A handy-type UV lamp can be used for UV light irradiation.

Y軸動作ステージ422Yの上には、マイクロプレート520を収納したインキュベータボックス500aが保持されている。インキュベータボックス500aは、第4の実施形態で説明したものと同一であるので、同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略する。
インキュベータボックス500aのコネクタ523には、培養ステージ620の培養ガス供給コネクタ625から培養ガス供給チューブ634を介して培養ガスが供給されている。
An incubator box 500a containing a microplate 520 is held on the Y-axis operation stage 422Y. Since the incubator box 500a is the same as that described in the fourth embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
The culture gas is supplied to the connector 523 of the incubator box 500a from the culture gas supply connector 625 of the culture stage 620 via the culture gas supply tube 634.

上記の構成によれば、本発明に係る生体試料観察システム600は、倒立型顕微鏡610が一体に設けられているため、倒立型顕微鏡610を用いて生体試料を観察することができる。そのため、倒立型顕微鏡610が設けられていない場合と比較して、より微細な観察を行うことができる。
なお、細胞の測定、培養時には、細胞が環境光の影響を受けないようにするため、生体試料観察システム600全体を暗幕などで覆っても良い。
また、測定を行う生体試料としては、細胞のほかに、細菌類や微生物、卵などの種々の生体試料を用いることができる。
According to the above configuration, the biological sample observation system 600 according to the present invention is provided with the inverted microscope 610 so that the biological sample can be observed using the inverted microscope 610. Therefore, finer observation can be performed as compared with the case where the inverted microscope 610 is not provided.
It should be noted that the whole biological sample observation system 600 may be covered with a black screen or the like in order to prevent the cells from being affected by ambient light during cell measurement and culture.
In addition to cells, various biological samples such as bacteria, microorganisms, and eggs can be used as biological samples for measurement.

TDI方式の撮像動作を説明する図である。It is a figure explaining the imaging operation of a TDI system. TDI方式の信号電荷の転送を説明する図である。It is a figure explaining transfer of the signal charge of a TDI system. 水平ラインに蓄積された信号電荷の強度を示す図である。It is a figure which shows the intensity | strength of the signal charge accumulate | stored in the horizontal line. 第1の実施形態における顕微鏡撮像装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the microscope imaging device in 1st Embodiment. 試料の構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of a sample. TDI方式における走査を説明する図である。It is a figure explaining the scanning in a TDI system. 第1の実施形態における測定手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the measurement procedure in 1st Embodiment. 試料の輝度と出力レベルとの相関関係を示す図である。It is a figure which shows the correlation of the brightness | luminance of a sample, and an output level. TDI方式における電子シャッタのタイムチャートである。It is a time chart of the electronic shutter in a TDI system. 試料の別の構成例を説明する図である。It is a figure explaining another structural example of a sample. 第2の実施形態における顕微鏡撮像装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the microscope imaging device in 2nd Embodiment. 第2の実施形態における測定手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the measurement procedure in 2nd Embodiment. 飽和画素数と次回の撮像における露出時間との相関図である。It is a correlation diagram between the number of saturated pixels and the exposure time in the next imaging. 第3の実施形態における顕微鏡撮像装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the microscope imaging device in 3rd Embodiment. 第3の実施形態における撮像画像を説明する図である。It is a figure explaining the captured image in 3rd Embodiment. 第4の実施形態における顕微鏡撮像装置を備えた生体試料観察システムを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the biological sample observation system provided with the microscope imaging device in 4th Embodiment. 図16に示した生体試料観察システムのシステム構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the system configuration | structure of the biological sample observation system shown in FIG. 図16に示した生体試料観察システムのインキュベータボックスを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the incubator box of the biological sample observation system shown in FIG. 図18に示したインキュベータボックスのチャンバの断面図である。It is sectional drawing of the chamber of the incubator box shown in FIG. 図19に示したインキュベータボックスの別の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows another example of the incubator box shown in FIG. 生体試料観察システムにおける走査方法および検出範囲の選択例を示す図である。It is a figure which shows the example of selection of the scanning method and detection range in a biological sample observation system. 生体試料観察システムにおける測定パラメータの設定の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the setting of the measurement parameter in a biological sample observation system. 生体試料観察システムにおける測定の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a measurement in a biological sample observation system. 生体試料観察システムにおける画像の処理方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the image processing method in a biological sample observation system. 生体試料観察システムにおけるデータ処理の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the data processing in a biological sample observation system. 生体試料観察システムにおける光量の調整の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of adjustment of the light quantity in a biological sample observation system. 生体試料観察システムにおける培養液の補給・交換方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the replenishment / exchange method of the culture solution in a biological sample observation system. 細胞の経時変化を表した細胞追跡画像を示す図である。It is a figure which shows the cell tracking image showing the time-dependent change of the cell. マイクロプレートを用いた培養・測定を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows culture | cultivation and a measurement using a microplate. 第5の実施形態における顕微鏡撮像装置を備えた生体試料観察システムを示す正面図および側面図である。It is the front view and side view which show the biological sample observation system provided with the microscope imaging device in 5th Embodiment. 図30に示した生体試料観察システムの培養ステージの平面図である。It is a top view of the culture | cultivation stage of the biological sample observation system shown in FIG. 図30に示した生体試料観察システムの培養ステージの斜視図である。It is a perspective view of the culture | cultivation stage of the biological sample observation system shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10、110、210 顕微鏡撮像装置
20 試料(被検査物)
22 標本配置部
30、422 ステージ
31 ステージ駆動機構(移動手段)
40 照明装置(照明手段)
49、448 対物レンズ
60、160、260 撮像装置(撮像手段)
63、63a、263 撮像素子
167 露出時間入力部(露出時間入力手段)
410、600 生体試料観察システム
440 検出部(顕微鏡撮像装置)
422X X軸動作ステージ(ステージ)
422Y Y軸動作ステージ(ステージ)
423 透過光源(照明手段)
429 ステージ走査部(移動手段)
441X、441Y 落射光源(照明手段)
449 検出器(撮像手段)
510 チャンバ(被検査物)
520 マイクロプレート(被検査物)
610 倒立型顕微鏡(顕微鏡撮像装置)
S1、S3、S11、S13 走査(撮像)
S4、S14 1枚の画像に合成
10, 110, 210 Microscope imaging device 20 Sample (inspection object)
22 Specimen Placement Unit 30, 422 Stage 31 Stage Drive Mechanism (Moving means)
40 Illumination device (illumination means)
49, 448 Objective lens 60, 160, 260 Imaging device (imaging means)
63, 63a, 263 Image sensor 167 Exposure time input section (exposure time input means)
410, 600 Biological sample observation system 440 Detection unit (microscope imaging device)
422X X-axis operation stage (stage)
422Y Y-axis operation stage (stage)
423 Transmitted light source (illumination means)
429 stage scanning unit (moving means)
441X, 441Y Epi-illumination light source (illumination means)
449 Detector (imaging means)
510 Chamber (inspection object)
520 Microplate (inspection object)
610 Inverted microscope (microscope imaging device)
S1, S3, S11, S13 Scanning (imaging)
S4, S14 Combined into one image

Claims (5)

被検査物を保持するステージと、前記被検査物を照明する照明手段と、前記被検査物の画像を撮影する撮像手段と、前記ステージと前記撮像手段とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、
前記撮像手段が、前記被検査物に対応した蓄積電荷を発生させるとともに、前記ステージと撮像手段との相対移動に対応して前記蓄積電荷を転送し、順次前記蓄積電荷を加算して累積するタイム・ディレイ・インテグレーション方式での撮像が可能な撮像素子を備え、
前記撮像手段が、前記被検査物を複数回撮像して複数枚の画像を取得する際に、
異なる画像を取得するごとに、前記撮像素子に前記蓄積電荷を発生させる露出時間を異ならせ、
前記複数枚の画像を1枚の画像に合成する顕微鏡撮像装置。
A stage for holding the inspection object, an illuminating means for illuminating the inspection object, an imaging means for capturing an image of the inspection object, a moving means for relatively moving the stage and the imaging means, With
The imaging means generates accumulated charges corresponding to the object to be inspected, transfers the accumulated charges corresponding to the relative movement between the stage and the imaging means, and sequentially adds the accumulated charges to accumulate.・ Equipped with an image sensor that can capture images using the delay integration method.
When the imaging means captures the inspection object a plurality of times to obtain a plurality of images,
Each time a different image is acquired, the exposure time for generating the accumulated charge in the image sensor is changed,
A microscope imaging apparatus for synthesizing the plurality of images into one image.
前記露出時間を外部から入力させる露出時間入力手段を備え、
前記撮像手段が、前記入力された露出時間を用いて前記被検査物の撮像を行い、
前記入力された露出時間を用いた撮像により取得された画像に基づき、次の撮像に用いる露出時間の長さを決定する請求項1記載の顕微鏡撮像装置。
Exposure time input means for inputting the exposure time from the outside,
The imaging means performs imaging of the inspection object using the input exposure time,
The microscope imaging apparatus according to claim 1, wherein the length of the exposure time used for the next imaging is determined based on an image acquired by imaging using the input exposure time.
前記露出時間入力手段により入力された前記露出時間を、前記露出時間の上限である最長露出時間とする請求項2記載の顕微鏡撮像装置。   The microscope imaging apparatus according to claim 2, wherein the exposure time input by the exposure time input unit is a longest exposure time that is an upper limit of the exposure time. 前記撮像手段がスミア抑制機能を有する撮像素子を備える請求項1から3のいずれかに記載の顕微鏡撮像装置。   The microscope imaging apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the imaging unit includes an imaging element having a smear suppressing function. 請求項1に記載の顕微鏡撮像装置を備えた生体試料観察システム。   A biological sample observation system comprising the microscope imaging apparatus according to claim 1.
JP2004200866A 2004-07-07 2004-07-07 Microscopic imaging apparatus and biological material observation system Pending JP2006023491A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004200866A JP2006023491A (en) 2004-07-07 2004-07-07 Microscopic imaging apparatus and biological material observation system
US11/173,020 US20060018013A1 (en) 2004-07-07 2005-07-05 Microscope imaging apparatus and biological-specimen examination system
US11/655,512 US7271952B2 (en) 2004-07-07 2007-01-18 Microscope imaging apparatus and biological-specimen examination system
US11/655,507 US20070121198A1 (en) 2004-07-07 2007-01-18 Microscope imaging apparatus and biological-specimen examination system
US11/655,793 US20070121200A1 (en) 2004-07-07 2007-01-18 Microscope imaging apparatus and biological-specimen examination system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004200866A JP2006023491A (en) 2004-07-07 2004-07-07 Microscopic imaging apparatus and biological material observation system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006023491A true JP2006023491A (en) 2006-01-26

Family

ID=35796797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004200866A Pending JP2006023491A (en) 2004-07-07 2004-07-07 Microscopic imaging apparatus and biological material observation system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006023491A (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008301332A (en) * 2007-06-01 2008-12-11 Keyence Corp Enlarging observation device, method and program for photographing enlarged image, and computer-readable recording medium
JP2009134100A (en) * 2007-11-30 2009-06-18 Sunx Ltd Magnifying observation device
WO2009136613A1 (en) * 2008-05-08 2009-11-12 株式会社 日立ハイテクノロジーズ Automatic analyzer
JP2010130408A (en) * 2008-11-28 2010-06-10 Keyence Corp Imaging apparatus
JP2013013112A (en) * 2012-08-10 2013-01-17 Keyence Corp Magnification observation device, magnified image photographing method, magnified image photographing program and computer readable recording medium
JP2013013111A (en) * 2012-08-10 2013-01-17 Keyence Corp Magnification observation device, magnified image photographing method, magnified image photographing program and computer readable recording medium
KR101271103B1 (en) 2012-01-31 2013-06-04 삼성테크윈 주식회사 Method and apparatus of measuring concentration of sample using a general camera
JP2016063540A (en) * 2014-09-15 2016-04-25 カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy Gmbh Apparatus and method for imaging with reflection suppression
EP3021105A4 (en) * 2013-09-13 2016-08-24 Mitsubishi Rayon Co Image reading method
JP2016212115A (en) * 2010-09-08 2016-12-15 テカン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフトTECAN Trading AG Microplate-reader with controlled gas atmosphere and corresponding method
JP2016208855A (en) * 2015-04-30 2016-12-15 富士フイルム株式会社 Imaging apparatus, imaging method, and imaging control program
CN115144247A (en) * 2022-09-02 2022-10-04 深圳明灏生物科技有限公司 Smear device for liquid-based thin-layer cell detection

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008301332A (en) * 2007-06-01 2008-12-11 Keyence Corp Enlarging observation device, method and program for photographing enlarged image, and computer-readable recording medium
JP2009134100A (en) * 2007-11-30 2009-06-18 Sunx Ltd Magnifying observation device
WO2009136613A1 (en) * 2008-05-08 2009-11-12 株式会社 日立ハイテクノロジーズ Automatic analyzer
JP5209705B2 (en) * 2008-05-08 2013-06-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ Automatic analyzer
JP2010130408A (en) * 2008-11-28 2010-06-10 Keyence Corp Imaging apparatus
JP2016212115A (en) * 2010-09-08 2016-12-15 テカン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフトTECAN Trading AG Microplate-reader with controlled gas atmosphere and corresponding method
KR101271103B1 (en) 2012-01-31 2013-06-04 삼성테크윈 주식회사 Method and apparatus of measuring concentration of sample using a general camera
JP2013013111A (en) * 2012-08-10 2013-01-17 Keyence Corp Magnification observation device, magnified image photographing method, magnified image photographing program and computer readable recording medium
JP2013013112A (en) * 2012-08-10 2013-01-17 Keyence Corp Magnification observation device, magnified image photographing method, magnified image photographing program and computer readable recording medium
EP3021105A4 (en) * 2013-09-13 2016-08-24 Mitsubishi Rayon Co Image reading method
JP2016063540A (en) * 2014-09-15 2016-04-25 カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy Gmbh Apparatus and method for imaging with reflection suppression
JP2016208855A (en) * 2015-04-30 2016-12-15 富士フイルム株式会社 Imaging apparatus, imaging method, and imaging control program
CN115144247A (en) * 2022-09-02 2022-10-04 深圳明灏生物科技有限公司 Smear device for liquid-based thin-layer cell detection
CN115144247B (en) * 2022-09-02 2022-11-15 深圳明灏生物科技有限公司 Smear device for liquid-based thin-layer cell detection

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7271952B2 (en) Microscope imaging apparatus and biological-specimen examination system
JP2006025789A (en) Observing system for biological sample and method for observing the same
JP2006003653A (en) Biological sample observating system
US8174686B2 (en) Focal position determining method, focal position determining apparatus, feeble light detecting apparatus and feeble light detecting method
JP4397993B2 (en) Photomicroscope
JP2011141444A (en) Microscope system
JP6044941B2 (en) Optical microscope and optical microscope autofocus device
US8497899B2 (en) Biological sample image acquiring apparatus, biological sample image acquiring method, and program
JP3585753B2 (en) Shooting system
JP3837145B2 (en) Microscope imaging device
JP2006023491A (en) Microscopic imaging apparatus and biological material observation system
US8842173B2 (en) Biological image acquisition device
JP6514832B2 (en) Observation device
KR100924117B1 (en) Lens inspection apparatus
JP2019106944A (en) Observation device and observation method using the same
JP2010220895A (en) Fluorescence observation apparatus
US10133054B2 (en) Organism sample observation device
JP4020893B2 (en) Microscope imaging apparatus and biological sample observation system
US10674044B2 (en) Observation apparatus, method for controlling observation apparatus, and non-transitory computer-readable medium storing control program for observation apparatus
JP2012019748A (en) Cell observation apparatus and observation method
JP2016161653A (en) Photographing device and method
JP5698483B2 (en) Fluorescence observation equipment
JP2006141326A (en) Culturing device
JP2012208252A (en) Photographing device, photographing program and photographing method
JP2006000054A (en) Culture vessel and biological sample observation system

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060810

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060926

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070220