JP2006022361A - Partial plating apparatus - Google Patents

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Hiroaki Sugihara
広明 杉原
Hiroyuki Takeshita
弘行 竹下
Makoto Nagahara
誠 永原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the quality of a plated surface by inhibiting a plating solution from being applied on an upper plated surface of a belt-shaped hoop material which has been plated in a partial plating apparatus, by a shutter mechanism arranged in an upper sparger of the partial plating apparatus. <P>SOLUTION: This partial plating apparatus has a sliding mechanism installed in the fixed window plate 18 and movable window plate 19 of the shutter mechanism arranged in the upper sparger 1. The partial plating method includes controlling the sliding mechanism so that the plating solution is not applied (deposited) on the upper part of the belt-shaped hoop material 17 while the hoop material is not plated. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、特に帯状のフープ材料に、部分めっきを行う部分めっき設備において、その上側スパージャー内に、めっき液漏れ止め用開閉シャッターを有する部分めっき装置に関するものである。   The present invention relates to a partial plating apparatus having an opening / closing shutter for preventing leakage of a plating solution in an upper sparger of a partial plating facility for performing partial plating on a band-like hoop material.

従来、この種の部分めっき設備は、図3、図4及び図5に示されるような構成を有していた。   Conventionally, this type of partial plating equipment has a configuration as shown in FIGS. 3, 4, and 5.

図4は、帯状フープ材料に部分めっきを行った概略図である。   FIG. 4 is a schematic view in which partial plating is performed on the band-shaped hoop material.

図4において、17は帯状フープ材料であり、この帯状フープ材料17は、所定の形状にトリミングされている。18は部分めっきを行った場所を示している。そして図4に示すように、帯状フープ材料17に部分めっき18を行う設備を、部分めっき設備(または装置)と言われている。   In FIG. 4, 17 is a band-shaped hoop material, and this band-shaped hoop material 17 is trimmed into a predetermined shape. Reference numeral 18 denotes a place where partial plating is performed. And as shown in FIG. 4, the installation which performs the partial plating 18 to the strip | belt-shaped hoop material 17 is called partial plating installation (or apparatus).

図3は、部分めっき設備の概略図である。   FIG. 3 is a schematic view of a partial plating facility.

図3において、12は鋼材等で作られた筐体である。9はめっき液を溜めるタンクであり、13は配管で、5つのポンプにつなげられている。14は配管で、24は上側スパージャーユニットで、配管14によりポンプ5と上側スパージャーユニット24はつなげられている。ポンプ5を動作させることにより、上側スパージャーユニット24にめっき液が供給されるようになっている。15は配管で、ポンプ6につながれている。16は配管、25は下側スパージャーユニットで、配管16によりポンプ6と下側スパージャーユニット25は接続されている。ポンプ6を動作させることにより、下側スパージャーユニット25にめっき液が供給されるようになっている。8はスライダで筐体12と上側スパージャーユニット24に取り付けられていて、7はシリンダーで筐体12と上側スパージャーユニット24に取り付けられている。17は帯状フープ材料である。   In FIG. 3, 12 is a housing made of steel or the like. Reference numeral 9 is a tank for storing a plating solution, and 13 is a pipe connected to five pumps. 14 is a pipe, 24 is an upper sparger unit, and the pump 5 and the upper sparger unit 24 are connected by a pipe 14. By operating the pump 5, the plating solution is supplied to the upper sparger unit 24. A pipe 15 is connected to the pump 6. Reference numeral 16 denotes a pipe, and reference numeral 25 denotes a lower sparger unit. The pump 16 and the lower sparger unit 25 are connected by the pipe 16. By operating the pump 6, the plating solution is supplied to the lower sparger unit 25. A slider 8 is attached to the housing 12 and the upper sparger unit 24, and a cylinder 7 is attached to the housing 12 and the upper sparger unit 24. Reference numeral 17 denotes a belt-like hoop material.

図5は、従来の部分めっき設備の上下スパージャーの概略図である。   FIG. 5 is a schematic view of an upper and lower sparger of a conventional partial plating facility.

図5において、上側スパージャーユニット24は、上側ブロック3と上側スパージャー1から構成されている。また、下側スパージャーユニット25は、下側ブロック4と下側スパージャー2から構成されている。   In FIG. 5, the upper sparger unit 24 includes the upper block 3 and the upper sparger 1. The lower sparger unit 25 is composed of the lower block 4 and the lower sparger 2.

以上のように構成された部分めっき設備について以下にその動作を説明する。   The operation | movement is demonstrated below about the partial plating equipment comprised as mentioned above.

シリンダー7を動作させることにより、上側スパージャーユニット24を所定の位置で上下出来るような構造になっている。17は帯状フープ材料であり、この帯状フープ材料17を下側スパージャーユニット25とシリンダー7を動作させることにより上側スパージャーユニット24で挟み、めっき液をポンプ5、ポンプ6を動作させ、上側スパージャーユニット24、下側スパージャーユニット25に供給し、帯状フープ材料17の必要部分のみめっきを行うものである。   The upper sparger unit 24 can be moved up and down at a predetermined position by operating the cylinder 7. Reference numeral 17 denotes a belt-like hoop material. The belt-like hoop material 17 is sandwiched between the upper sparger unit 24 by operating the lower sparger unit 25 and the cylinder 7, the plating solution is operated by the pump 5 and the pump 6, and the upper sparger is operated. The jar unit 24 and the lower sparger unit 25 are supplied, and only a necessary portion of the strip-shaped hoop material 17 is plated.

なお、この出願の発明に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3が知られている。
特許第2551531号公報 特開平9−184099号公報 特開2000−119893号公報
For example, Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3 are known as prior art document information relating to the invention of this application.
Japanese Patent No. 25551531 JP-A-9-184099 JP 2000-119893 A

しかしながら、従来の部分めっき設備においては、上側スパージャーと下側スパージャーに、上側スパージャーに蓄えられためっき液が落下して発生する、帯状フープ材料の上側のめっき液のシミやめっき置換などの品質の問題を有していた。   However, in the conventional partial plating equipment, the plating solution stored in the upper sparger falls on the upper and lower spargers, and the upper plating solution stain or plating replacement of the strip-shaped hoop material, etc. Had quality issues.

本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、上側スパージャー内にめっき液漏れシャッターを設け帯状フープ材料の品質課題をなくすようにした部分めっき設備を供給することを目的とするものである。   The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and aims to supply a partial plating facility in which a plating solution leakage shutter is provided in the upper sparger so as to eliminate the quality problem of the strip-shaped hoop material. is there.

上記目的を達成するために、本発明は、以下の構成を有する。   In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

本発明の請求項1に記載の発明は、特に、上側スパージャーに蓄えられためっき液を、帯状フープ材料に、めっき時間以外は塗布しないようにするシャッター機構を設けた部分めっき設備であり、めっきシミ、めっき置換などの品質課題をなくす作用効果が得られる。   The invention described in claim 1 of the present invention is a partial plating facility provided with a shutter mechanism that prevents the plating solution stored in the upper sparger from being applied to the strip-shaped hoop material except for the plating time, The effect which eliminates quality problems, such as plating stain and plating substitution, is obtained.

本発明の請求項2に記載の発明は、特に、上側スパージャーが部分めっきする時は、シャッターが開状態でめっき液が塗出するように、上側スパージャーと下側スパージャーが開いた状態のめっきしない状態の時は、シャッターが閉状態になるようにシャッター開閉が調整出来るシャッター機構により、めっきシミ、めっき置換などを抑制し、めっき品質を向上することが出来るという作用効果が得られる。   In the invention according to claim 2 of the present invention, particularly when the upper sparger is partially plated, the upper sparger and the lower sparger are opened so that the plating solution is applied with the shutter opened. When the plating is not performed, the shutter mechanism that can adjust the opening and closing of the shutter so that the shutter is in the closed state can suppress the plating stain, the plating replacement, and the like, thereby improving the plating quality.

本発明の請求項3に記載の発明は、特に、上側スパージャーに取り付けられたシャッターに、開閉するための開閉キー治具を設け、開閉用スライドシリンダーでシャッター開閉スライド出来るシャッター機構により、めっきシミ、めっき置換などを抑制し、めっき品質を向上することが出来るという作用効果が得られる。   The invention according to claim 3 of the present invention is provided with an opening / closing key jig for opening / closing, particularly on the shutter attached to the upper sparger, and by using a shutter mechanism capable of opening / closing the shutter with an opening / closing slide cylinder. The effect of suppressing plating substitution and improving plating quality can be obtained.

本発明の請求項4に記載の発明は、特に、上側スパージャー内に格納したシャッターに対して開閉機構を設け、上側スパージャー外からシャッター開閉が出来るシャッター機構により、めっきシミ、めっき置換などを抑制し、めっき品質を向上することができるという作用効果が得られる。   In the invention according to claim 4 of the present invention, in particular, an opening / closing mechanism is provided for the shutter stored in the upper sparger, and the plating mechanism, plating replacement, etc. are performed by the shutter mechanism capable of opening / closing the shutter from outside the upper sparger. The effect of suppressing and improving plating quality is obtained.

本発明の部分めっき設備は、上側スパージャー内のシャッター機構により、帯状フープ材料に部分めっきを行った上側のめっき面に対して品質課題(めっき品質)となるめっきシミ、めっき置換を解決出来るとともに、部分めっき設備の、めっき飛び散り防止効果を奏するものである。   The partial plating facility of the present invention can solve plating stains and plating substitutions which are quality issues (plating quality) on the upper plating surface where the strip-shaped hoop material is partially plated by the shutter mechanism in the upper sparger. The effect of preventing plating splattering from the partial plating equipment is achieved.

(実施の形態1)
以下、実施の形態1を用いて、本発明の特に請求項1〜4に記載の発明について説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the invention described in the first to fourth aspects of the present invention will be described using the first embodiment.

図1は本発明の実施の形態1における部分めっき設備のスパージャー内シャッター開閉機構、概略図の例を示す図であり、上側スパージャーユニット内のシャッター機構の詳細図である。   FIG. 1 is a diagram showing an example of a shutter opening / closing mechanism in a sparger of a partial plating facility and a schematic diagram in Embodiment 1 of the present invention, and is a detailed view of a shutter mechanism in an upper sparger unit.

図1において、17は帯状フープ材料である。3は上側ブロックであり、1は上側スパージャーである。上側スパージャー1内に格納したシャッター機構は、固定窓プレート18に可動窓プレート19をスライドするように設置し、可動キー20に可動用シリンダー21から伝達した駆動により可動軸に伝わり、可動窓プレート19をスライド出来るようになっている。   In FIG. 1, 17 is a belt-like hoop material. 3 is an upper block and 1 is an upper sparger. The shutter mechanism stored in the upper sparger 1 is installed so that the movable window plate 19 slides on the fixed window plate 18, and is transmitted to the movable shaft by the drive transmitted from the movable cylinder 21 to the movable key 20. 19 can be slid.

上側ブロック3と上側スパージャー1は上側仕切板28で仕切られていて、別の室になっている。   The upper block 3 and the upper sparger 1 are partitioned by an upper partition plate 28 and are separate chambers.

また下側ブロック4と下側スパージャー2も下側仕切板29で仕切られていて、別の室になっている。   The lower block 4 and the lower sparger 2 are also partitioned by the lower partition plate 29 and are separate chambers.

実際に部分めっきをする際には、帯状フープ材料17が、下側スパージャー2に密着して上側スパージャー1が下降してから、帯状フープ材料17が上側スパージャー1と下側スパージャー2に挟まれ、めっき液が漏れないようにしてめっき液を塗出するようにし、部分めっきを行う。   When actually performing partial plating, the band-shaped hoop material 17 is brought into close contact with the lower sparger 2 and the upper sparger 1 is lowered, and then the band-shaped hoop material 17 is moved to the upper sparger 1 and the lower sparger 2. The plating solution is applied so that the plating solution does not leak, and partial plating is performed.

上側スパージャー1の仕切られた室の中でめっき液が、ポンプ5の駆動で、上側ブロック3を通過し、上側スパージャー1に、めっき液が充満して固定窓26と可動窓27の位置が同一になった時に、部分めっきが出来るようになっている(図2(a))。   The plating solution passes through the upper block 3 by the drive of the pump 5 in the partitioned chamber of the upper sparger 1, and the upper sparger 1 is filled with the plating solution and the positions of the fixed window 26 and the movable window 27. When they become the same, partial plating can be performed (FIG. 2 (a)).

まためっきが終了した際には、上側スパージャー1が上昇して帯状フープ材料17から離れる際には、可動窓プレート19は、可動用シリンダー21を駆動することでスライドして固定窓26と可動窓27が一致しない状態になり、めっき液を帯状フープ材料17に塗布しない状態になることが出来る(図2(b))。   In addition, when the upper sparger 1 rises and leaves the band-shaped hoop material 17 when the plating is finished, the movable window plate 19 is slid by driving the movable cylinder 21 and is movable with the fixed window 26. The windows 27 do not coincide with each other, and the plating solution can not be applied to the strip-shaped hoop material 17 (FIG. 2B).

以上のような構成において、部分めっきをする際、めっき液を塗出させる、あるいは、塗出させない状態を、上側スパージャー外側の可動用シリンダー21の駆動で、制御することが出来る。   In the configuration as described above, when partial plating is performed, the state in which the plating solution is applied or not applied can be controlled by driving the movable cylinder 21 outside the upper sparger.

このように帯状フープ材料17に、部分めっきする時以外は、めっき液を塗布しないようにすることで、めっき仕上がり品質を高めることが出来る効果が得られる。また部分めっき設備の調整時間(めっき液が飛び散ることでの各部品の動作不良)を短縮できる効果が得られる。   Thus, the effect which can improve plating finish quality is acquired by not applying a plating solution except when carrying out partial plating to the strip | belt-shaped hoop material 17. FIG. Moreover, the effect which can shorten the adjustment time (partial operation failure by plating solution scattering) of partial plating equipment is acquired.

本発明の部分めっき装置は、上側スパージャー内のめっき液を、塗布するか塗布しないかを制御することができることにより、帯状フープ材料に行った部分めっきの上側にめっき液が付着(または塗布)しない状態を作ることができ、部分めっきの上側のシミ、置換という品質課題が解決できるとともに、部分めっき装置の調整作業の時間短縮が図れるという効果を有し、各種部分めっきを行う部分めっき設備として有用である。   The partial plating apparatus of the present invention can control whether the plating solution in the upper sparger is applied or not applied, so that the plating solution adheres (or is applied) to the upper side of the partial plating performed on the strip-shaped hoop material. As a partial plating facility that performs various partial plating, it has the effect of reducing the quality problem of stains and replacement on the upper side of partial plating, and reducing the adjustment work time of partial plating equipment. Useful.

本発明の部分めっき装置のスパージャー機構の概略図Schematic of the sparger mechanism of the partial plating apparatus of the present invention (a),(b)スパージャー内シャッター機構の状態図(A), (b) State diagram of shutter mechanism in sparger 部分めっき装置の概略図Schematic diagram of partial plating equipment (a),(b)帯状フープ材料に部分めっきを行った概略図(A), (b) Schematic of partial plating on strip-shaped hoop material 従来の部分めっき設備のスパージャー機構概略図Schematic diagram of sparger mechanism of conventional partial plating equipment

符号の説明Explanation of symbols

1 上側スパージャー
2 下側スパージャー
3 上側ブロック
4 下側ブロック
5 上側ポンプ
6 下側ポンプ
7 シリンダー
8 スライダ
9 タンク
10 受け
11 配管
12 筐体
13 配管
14 配管
15 配管
16 配管
17 帯状フープ材料
18 固定窓プレート
19 可動窓プレート
20 可動キー
21 可動用シリンダー
23 スパージャー外側用シリンダー箱
24 上側スパージャーユニット
25 下側スパージャーユニット
26 固定窓
27 可動窓
28 上側仕切板
29 下側仕切板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Upper sparger 2 Lower sparger 3 Upper block 4 Lower block 5 Upper pump 6 Lower pump 7 Cylinder 8 Slider 9 Tank 10 Receiving 11 Piping 12 Housing 13 Piping 14 Piping 15 Piping 16 Piping 17 Band-shaped hoop material 18 Fixation Window plate 19 Movable window plate 20 Movable key 21 Movable cylinder 23 Sparger outer cylinder box 24 Upper sparger unit 25 Lower sparger unit 26 Fixed window 27 Movable window 28 Upper partition plate 29 Lower partition plate

Claims (4)

帯状のフープ材料を上側のスパージャーと下側のスパージャーで挟み、めっきが必要な部分のみめっきを行う部分めっき装置において、上側スパージャーに蓄えられためっき液を、帯状のフープ材料に塗布させないシャッター機構を設けた部分めっき装置。 In a partial plating machine that sandwiches the strip-shaped hoop material between the upper sparger and the lower sparger and performs plating only on the parts that require plating, the plating solution stored in the upper sparger is not applied to the strip-shaped hoop material. Partial plating equipment with a shutter mechanism. 上側スパージャーが部分めっきする時は、シャッターが開状態で、上側スパージャーと下側スパージャーが開き、帯状フープ材料を挟まない状態の時は、シャッターが閉状態になるように、シャッター開閉がコントロール出来るシャッター機構を有した請求項1記載の部分めっき装置。 When the upper sparger is partially plated, the shutter opens and closes so that the upper and lower spargers open and when the belt-shaped hoop material is not sandwiched, the shutter is closed. The partial plating apparatus according to claim 1, further comprising a shutter mechanism that can be controlled. 上側スパージャーに取付けられたシャッターは、開閉キーを設けエアーシリンダーでシャッター開閉がスライド出来るシャッター機構を有した請求項1記載の部分めっき装置。 2. The partial plating apparatus according to claim 1, wherein the shutter attached to the upper sparger has a shutter mechanism provided with an open / close key and capable of sliding the shutter open / close with an air cylinder. 上側スパージャー内に格納したシャッターに対して、開閉用キー治具を軸に、上側スパージャーの外側に、開閉機構を設け上側スパージャーの外から、シャッター開閉が出来るシャッター機構を有した請求項1記載の部分めっき装置。 The shutter stored in the upper sparger is provided with an opening / closing mechanism on the outside of the upper sparger with the opening / closing key jig as an axis, and a shutter mechanism capable of opening and closing the shutter from the outside of the upper sparger. 1. The partial plating apparatus according to 1.
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