JP2005520173A - パターン化重合体構造、特に微構造、及びその製造方法 - Google Patents
パターン化重合体構造、特に微構造、及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005520173A JP2005520173A JP2003584159A JP2003584159A JP2005520173A JP 2005520173 A JP2005520173 A JP 2005520173A JP 2003584159 A JP2003584159 A JP 2003584159A JP 2003584159 A JP2003584159 A JP 2003584159A JP 2005520173 A JP2005520173 A JP 2005520173A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- polymeric material
- polymer
- microstructure
- polymeric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- IGARGHRYKHJQSM-UHFFFAOYSA-N C(CC1)CCC1c1ccccc1 Chemical compound C(CC1)CCC1c1ccccc1 IGARGHRYKHJQSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C40—COMBINATORIAL TECHNOLOGY
- C40B—COMBINATORIAL CHEMISTRY; LIBRARIES, e.g. CHEMICAL LIBRARIES
- C40B60/00—Apparatus specially adapted for use in combinatorial chemistry or with libraries
- C40B60/14—Apparatus specially adapted for use in combinatorial chemistry or with libraries for creating libraries
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C40—COMBINATORIAL TECHNOLOGY
- C40B—COMBINATORIAL CHEMISTRY; LIBRARIES, e.g. CHEMICAL LIBRARIES
- C40B40/00—Libraries per se, e.g. arrays, mixtures
- C40B40/04—Libraries containing only organic compounds
- C40B40/10—Libraries containing peptides or polypeptides, or derivatives thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00277—Apparatus
- B01J2219/00351—Means for dispensing and evacuation of reagents
- B01J2219/00427—Means for dispensing and evacuation of reagents using masks
- B01J2219/00432—Photolithographic masks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00277—Apparatus
- B01J2219/00351—Means for dispensing and evacuation of reagents
- B01J2219/00436—Maskless processes
- B01J2219/00443—Thin film deposition
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00277—Apparatus
- B01J2219/00497—Features relating to the solid phase supports
- B01J2219/00527—Sheets
- B01J2219/00531—Sheets essentially square
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00585—Parallel processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00596—Solid-phase processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00603—Making arrays on substantially continuous surfaces
- B01J2219/00605—Making arrays on substantially continuous surfaces the compounds being directly bound or immobilised to solid supports
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00603—Making arrays on substantially continuous surfaces
- B01J2219/00605—Making arrays on substantially continuous surfaces the compounds being directly bound or immobilised to solid supports
- B01J2219/00612—Making arrays on substantially continuous surfaces the compounds being directly bound or immobilised to solid supports the surface being inorganic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00603—Making arrays on substantially continuous surfaces
- B01J2219/00605—Making arrays on substantially continuous surfaces the compounds being directly bound or immobilised to solid supports
- B01J2219/00614—Delimitation of the attachment areas
- B01J2219/00617—Delimitation of the attachment areas by chemical means
- B01J2219/00619—Delimitation of the attachment areas by chemical means using hydrophilic or hydrophobic regions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00603—Making arrays on substantially continuous surfaces
- B01J2219/00605—Making arrays on substantially continuous surfaces the compounds being directly bound or immobilised to solid supports
- B01J2219/00623—Immobilisation or binding
- B01J2219/00626—Covalent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00603—Making arrays on substantially continuous surfaces
- B01J2219/00605—Making arrays on substantially continuous surfaces the compounds being directly bound or immobilised to solid supports
- B01J2219/00623—Immobilisation or binding
- B01J2219/0063—Other, e.g. van der Waals forces, hydrogen bonding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00603—Making arrays on substantially continuous surfaces
- B01J2219/00605—Making arrays on substantially continuous surfaces the compounds being directly bound or immobilised to solid supports
- B01J2219/00632—Introduction of reactive groups to the surface
- B01J2219/00637—Introduction of reactive groups to the surface by coating it with another layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00583—Features relative to the processes being carried out
- B01J2219/00603—Making arrays on substantially continuous surfaces
- B01J2219/00659—Two-dimensional arrays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00709—Type of synthesis
- B01J2219/00711—Light-directed synthesis
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00718—Type of compounds synthesised
- B01J2219/0072—Organic compounds
- B01J2219/00722—Nucleotides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
- B01J2219/00718—Type of compounds synthesised
- B01J2219/0072—Organic compounds
- B01J2219/00725—Peptides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Architecture (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Description
本発明の開示は、重合体(重合体群)を含む構造、特に微構造、及びかかる構造を、所望のパターンにおいて、多様な基材上に、繋ぎ合せを誘導するUV照射の使用によるか、又はリンカー分子、例えば、ニトレノゲニック化合物の使用によって重合体膜を基材に接着させるかのいずれかによるような重合体物質の基材への直接的な繋ぎ合せによって調製するための方法の具体例に関する。
マイクロメータ及びナノメータ規模の構造〔まとめて“微構造(microstructure)” 〕は、マイクロセンサ、マイクロ作動装置、マイクロ機器、マイクロ光学、マイクロ流体の装置、及びマイクロ反応装置を作成するために有用である。かかる構造を作成するための以前の方法は、固体基材内での、例えば、フォトレジスト及び化学的エッチング技術の使用を介するそれらの生産に焦点が合わされていた。微構造を製造するのに用いることができる固体基材の数が限られているので、かかる構造によって表わされる化学的及び物理的特性の範囲も限られている。
ある。したがって、ケイ素チップ系ナノ穴中で行うPCR反応は不十分な再現性を示す。
重合体物質から微構造を調製するための多目的な方法を提供する。 この適応性のある方法は、様々な形及び様々な化学的及び物理的特性の微構造の生産を可能にする。開示する方法は、また、平坦な基材上の微構造の作製を可能にし、及び他のマイクロ加工の技術と簡単に統合することができる。
I.略語
次の略語を参照して、開示する具体例が最もよく理解される:
PHPA−ペルハロフェニルアジド
PFPA−ペルフルオロフェニルアジド
PS−ポリスチレン
PEOX−ポリ(2−エチル−2−オキサゾリン)
PVP−ポリビニルピロリドン
PVC−ポリ塩化ビニル
AFM−原子間力顕微鏡検査
UV−紫外線
本明細書において、次の用語を用い、読む者を助けるが、定義された用語が当技術分野の通常の技術を有する者によって理解されるより狭い範囲に限るようには意図していない:
“アジド官能化された(functionalized)基材”は、1種か又はそれより多いニトレノゲニック基が、共有結合的にか又はそうでないもので接着する基材である。
“ビス−アジド”は、少なくとも2つのニトレノゲニック基を含む官能化(functionalizing)試薬である。
“官能基”は、特定の化学的及び/又は物理的特性を持つように組織的に互いに結合した1種か又はそれより多い原子の基である。
用語“官能化された重合体”は、官能化された重合体基材又は官能化された重合体分子のいずれかに関連することができる。官能化された重合体分子は、重合体分子に共有結合的に結合した1つか又はそれより多い官能基を含む。
“官能化反応”は、基材表面がその基材表面に自然に存在する官能基以外の官能基で官能化される反応である。例えば、表面はニトレノゲニック基を用いて官能化され、アジド−官能化された基材を提供することができる。官能化反応は1種か又はそれより多い段階から成ることができる。少なくとも1段階には、官能化試薬の官能基と基材の表面原子との反応が含まれる。
(b)アルコール基、遊離か、又は例えば、脂肪酸、ステロイド酸、又はナプロシン(naprosin)又はアスピリンのような薬であることができる適切なカルボン酸にエステル化されるもののいずれか;
(c)ハロアルキル基で、ハロゲン化物がカルボン酸塩陰イオン、チオール陰イオン、カルボアニオン、又はアルコキシドイオンのような求核基と後に置換することができ、それにより、ハロゲン原子の部位で新しい基の共有結合的な付着を招くもの;
(d)マレイミド基、又は基が、例えば、エルゴステロールのような1,3−ジエン含有分子とのディールス・アルダーの付加環化反応において求ジエン体として働くことができるような他の求ジエン体基;
(e)アルデヒド、又はそれに続く誘導体化が、ヒドラゾン、セミカルバゾン、又はオキシムのようなよく知られたカルボニル誘導体の形成を介してか、又はグリニャール付加又はアルキルリチウム付加のようなかかる機構を介して可能であるようなケトン基;及び
(f)アミンとのそれに続く反応、例えば、スルホンアミドの形成のためのスルホニルハロゲン化物基。
“重合体分子”は、“単量体”と称されるより一層小さい分子を共有結合的に連結することによって形成される分子である。重合体分子中に存在する単量体は、同じか又は異なっていてもよい。単量体が異なっている場合、重合体はまた共重合体と呼ぶことができる。重合体分子は、(限られないが)セルロース、澱粉、タンパク質、及び核酸のような自然のものであるか;又は、(限られないが)ナイロン及びポリ脂肪族物質、特に、ポリアルキレン物質で、その例には、ポリエチレン及びポリプロピレンが含まれるもののような合成のものでよい。重合体物質では、重合体分子は、任意のいくつかの方法において、非共有結合的なもの(熱可塑性として)を含むか又は共有結合的に架橋結合された網状体(熱硬化性として)によって互いに関連することができる。
(a)ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、及びそれらの共重合体によって例証されるような飽和ポリオレフィン;
(b)アクリル酸、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(ヘキシルメタクリレート)、のようなメタクリル酸、及びアクリロニトリルの重合体及び共重合体のようなアクリル樹脂;
(c)ポリ(p−クロロスチレン)及びポリ(p−ヒドロキシスチレン)のようなポリスチレン及びその類似物;
(d)ポリ(イソプレン)及びポリ(ブタジエン)のような不飽和ポリオレフィン;
(e)ポリイミド(ベンゾフェノンテトラカリボキシルジ無水物/テトラエチルメチレンジアニリン)のようなポリイミド;
(f)ポリ(トリメチレンアジペート)、ポリ(エチレンテレフタレート)、及びポリ(ヘキシメチレンセバケート)のようなポリエステル;
(g)ポリ(3−アルキルチオフェン)、ポリ(3−アルキルピロール)、及びポリアニリンのような共役の及び誘導性重合体;
(h)ポリ(アリールオキシホスファゼン)、ポリ>ビス(トリフルオロエトキシ)ホスファゼン、ポリシラン、及びポリカルボシラン、シロキサン重合体、及び他のケイ素−含有重合体のような無機重合体;
(i) Chemical and Engineering News〔化学及び工学ニュース(1992年8月31日)〕で記載されているようなポリクロコネイン(polycroconaines)及びポリスクアレイン(polysquaraines)のような有機金属(すなわち、金属特性を有する有機重合体);
(j)パラジウムポリ−イネ(yne)及びフェロセン−含有ポリアミドのような有機金属重合体;
(k)セルロース繊維、キチン、及び澱粉のような多糖類;
(1)N−イソプロピルアクリルアミド(PNIPA)、及びPNIPAとポリ(アクリル酸)又はポリアクリルアミドとの共重合体のような熱的に反応性の重合体。
(m)ポリ−リジンのようなポリペプチド。
(n)ポリ(2−エチル−2−オキサゾリン)(PEOX)及びポリ(エチリミン)のような環状アミンの重合体が含まれる。
“反応エネルギー源”は、例えば、官能化試薬の分子上のニトレノゲニック基をニトレン基に変え、次いで、例えば、重合体物質と反応させることによるか、又は基材に重合体物質を直接接着させることによって、重合体物質の基材への接着を促進するエネルギー源である。適切な反応エネルギー源には(限られないが):光子〔紫外線(UV)光子、深紫外線光子、レーザ光線、X線、及び赤外線放射又は伝導加温の形式における熱〕、エネルギーを与えられた電子(電子線のような)、及びエネルギーを与えられたイオン(イオンビームのような)が含まれる。これらの反応エネルギー源は、石版印刷、走査顕微鏡のような課題のために通常使用され、及びUV及び可視的な光子の場合には、蛍光分子の光化学反応及び励起をもたらす。UV光線を含む反応エネルギー源は、例えば、水銀又はキセノンのランプを用いて供給することができる。中圧水銀ランプは、約360nmで最大強度を有する約220nmと約1,000nmとの間の光子の供給源である。フォトマスクを用いて、光子が試料の所定の部分に達するのを防ぐ一方で光子が他の部分に達するようにすることができる。これにより、所望のパターンを形成するための処理の1例が提供される。
1つの局面では、官能化されたニトレノゲニック分子を用いる固体基材上の重合体薄膜の固定への有効なアプローチを提供する。1具体例では、官能化されたニトレノゲニック分子は官能化アジド、例えば、官能化されたペルフルオロフェニルアジド(PFPA)のような官能化されたペルハロフェニルアジド(PHPA)である。官能化されたニトレノゲニック分子は、固体基材の表面に官能化されたニトロゲニック分子を接着させるのに働く官能基、及びアジド基のような、概して重合体物質との挿入又は付加反応を介して重合体物質と反応するニトレン部分に変わることができるニトレノゲニック基を含む。
分子を固定することによって構築する。次いで他の分子を、ナノ穴においてタンパク質分子に対するそれらの付着についてスクリーニングすることができ、それによって、タンパク質を標的とする薬としてそれらの能力が示される。
次の例を提供し更に上述の所定の特徴を説明するが、本発明は開示した特定の具体化に限られることを意味しない。
例1
官能化したアジドの合成、アジド官能化された基材の調製及び基材上でのポリスチレン薄膜の形成
材料及び方法:
メチルペンタフルオロベンゾエート、アジ化ナトリウム(99%)、N-ヒドロキシスクシンイミド(97%)、ジシクロヘキシルカルボイミド(DCC、99%)、ポリスチレン〔平均MW(分子量)280,000〕、及びシリカゲル(200メッシュ)をAldrich(アルドリッチ社、ウィスコンシン州ミルウォーキ所在)から購入し、及び認められるように用いた。115,700;393,400;1,015,000;及び1,815,000のMWの単分散のポリスチレンをScientific Polymer Products, Inc.(サイエンティフィク・ポリマー・プロダクツ社)から得た。3-アミノプロピルトリメトキシシラン〔United Chemical Technologies(ユナイテッド・ケミカル・テクノロジーズ社)〕を分留によって蒸留し、及び窒素の下で貯えた。用いる水は少なくとも18MΩの抵抗率を有するMillipore(ミリポア社)のMilli-Qシステムから得た。CH2Cl2をP2O5から蒸留した。シリコンウェファをダイヤモンドのペンで切断し、及びピラニア溶液(7/3v/vの濃H2SO4/H2O2の35重量%)中、80〜90℃で1時間浄化し、水で十分に洗浄し(100℃、1時間)、及び窒素の流れの下で乾燥させた。
反応工程のすべてを、アジド基の敏感な性質のために光から保護して遂行した。まず、NaN3(300mg、4.6ミリモル)及びアセトン(8mL)中のメチルペンタフルオロベンゾエート(0.972g、4.3ミリモル)及び水(3mL)の混合物を、8時間還流させた。混合物を冷却し、10mLの水で希釈し、及び次いでジエチルエーテルを用い抽出した(3×10mL)。抽出物を乾燥し(無水Na2SO4)、及び蒸発させてメチル4-アジド-2,3,5,6テトラフルオロベンゾエート(1.01g、94%)をオフホワイトの薄片、mp53.6〜54.3℃として与えた。
シリコンウェファをダイヤモンドのペンで切断し、及びピラニア溶液(7/3v/v濃H2SO4/H2O2の35重量%)中、80〜90℃で1時間浄化し、水(100℃、1時間)で十分に洗浄し、及び窒素の流れの下で乾燥した。清浄なウェファを24時間トルエン(90mg/9mL)中のPFPA-シラン2の溶液中に浸し、エタノールの穏やかな流れ中で洗浄し、及び圧縮された窒素の下で乾燥した。これらのウェファを次いで少なくとも24時間室温で硬化させた。
N-(3-トリメトキシシリルプロピル)-4-アジド-2,3,5,6-テトラフルオロベンズアミドを用いるシリコンウェファ上のPS薄膜の共有結合的固定化の全体的な処理を次の図式5において例示する。
ケイ質基材上へのPEOXの固定化
包括的な研究を、重合体物質としてポリ(2-エチル-2-オキサゾリン)(PEOX)、MW200,000を用いて行った。例1で説明したようなアジド官能化したシリコンウェファ基材を調製し、及び上記図式1に描写された方法で固定化されたPEOXを用いて被覆した。PEOX膜の厚さを偏光解析法によって試験し、重合体膜が1.520の屈折率を持つと仮定する。10mg/mLのクロロホルム溶液から60秒間の2,000rpmでスピン被覆されたPEOX膜はおよそ90nmの厚さを有し、及びかなり均一であると期待された。次いで、膜を280nmのガラスフィルタによって覆い、及び16.6mW/cm2の強度のUV光線を用いて5分間照射した(十分な出力に達するよう、照射時間には、UVランプのための1.75〜2分間のウォームアップが含まれた)。未結合の重合体を24〜48時間、CHCl3中で浸すことによって除去し、CHCl3で洗浄し、及び窒素の流れの下で乾燥した。5分間の光分解及び未結合膜の除去の後、共有結合的に付着したPEOX層が3.2nmの平均厚さを有することがに見出された。
パターン化されたPS及びPEOXの配列
重合体配列の作製は、未付着のPEOX膜が、例2で記載したパターン化されPEOX-被覆されたウェファの未露光領域から除去された後に可能であり、第2重合体膜への挿入のために利用できるウェファ上に未反応のアジド基を残す。これは、PEOXパターン化されたウェファの表面上に第2重合体(トルエン中の10mg/mLのPS)をスピン被覆することによって、次いで未付着の重合体のUV照射及び溶媒抽出によって成し遂げられた。PEOX/PS重合体配列の形成はAFM画像において確認された(図7A)。PEOX膜(3.0nm)は円の領域に存在するが、PS膜(6.4nm)はPEOX膜上にそびえ、PSの穴壁及びPEOXの穴基部を有する表面を生成させる。この画像の横断面プロファイル(図7B)は、直径5.5μmのPEOX膜がPS膜の付着の後に維持されることを確認し、重合体膜の付着のポイントがPFPA-シラン誘導体化ウェファの表面であることを示す。
重合体薄膜の紫外線固定化
この例は、UV照射だけ(すなわち、先立つ基材の官能化なしで)を用いる基材上への重合体薄膜の固定化を例示する。意外にも、薄い重合体膜は先立つ官能化なしで基材に接着する。基材の官能化がない場合でも、薄膜は溶媒抽出及び/又は高周波処理による除去に対して抵抗力がある。
シリコンウェファをダイヤモンドのペンで切断し、及び10分間イソプロピルアルコール中で高周波処理し、ピラニア溶液(7/3v/vの濃H2SO4/H2O2の35重量%)中、80〜90℃で1時間浄化し、水で十分に洗浄し(100℃、1時間)、及び窒素の流れの下で乾燥し、清浄なシリコンウェファ表面を提供した。
ポリスチレン薄膜を金の基材上に固定化し、基材はシリコンウェファ上に金の薄膜を蒸着させることによって調製した。ウェファをピラニア溶液(7/3v/vの濃H2SO4/H2O2の35重量%)中、80〜90℃で10秒間浄化し、水で十分に洗浄し(100℃、1時間)、及び窒素の流れの下で乾燥して、清浄な金の表面を提供した。
クロロホルム中のポリ(ビニルピロリドン)の溶液(10mg/mL)を清浄なシリコンウェファの表面上に60秒間2,000rpmでスピン被覆した。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を5分間行った。未結合の重合体を24〜48時間クロロホルムによって抽出した。膜厚の偏光解析法による測定はこの方法の次の段階を採用した:ポリ(ビニルピロリドン)の適用後及びUV照射前、UV照射後、及び浸漬の24〜48時間後。これらの処置のそれぞれの後の膜厚を図11に示す。PVP層はUV発光によりほんの少しだけ縮まるようで(約85nmから約84nmまで)、約45nmの層が浸漬後に基材上に残る。
THF中のポリ(塩化ビニル)の溶液(10mg/mL)を清浄なシリコンウェファ表面上に60秒間2,000rpmでスピン被覆した。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を5分間行った。未結合の重合体を24〜48時間THFによって抽出した。膜厚の偏光解析法による測定はこの方法の次の段階を採用した:ポリ(塩化ビニル)の適用後及びUV照射前、UV照射後、及び浸漬の24〜48時間後。各処置後の膜厚を図12に示す。PVC層はUV発光によりほんの少しだけ縮み(約45nmから約43nmまで)、及び約28nmの膜が浸漬後に基材上に残る。
UV接着させたパターン化薄膜
この例は、上記例4で論議されるUV固定化方法を用いて、パターン化された配列の形成を例示する。
トルエン中の280,000の分子量を有するポリスチレンの溶液(l0mg/mL)を清浄なウェファ上に60秒間2,000rpmでスピン被覆した。およそ5.5μmの直径を有する円を含む石英マスクを、真空を介してウェファ上で所定の位置に保持させた。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を15分間行った。未結合の重合体を24〜48時間トルエンによって抽出した。図19A及び図19Bは、それぞれ、試料の1部分の3次元AFM画像及び断面プロファイルを示す。この画像及び断面プロファイルは、PSが接着する高くなった部分(“タワー”)を示す。
トルエン中の1,815,000の分子量を有するポリスチレンの溶液(l0mg/mL)を清浄な金表面上に60秒間2,000rpmでスピン被覆した。およそ5.5μmの直径を有する円を含む石英マスクを、真空を介してウェファ上で所定の位置に保持させた。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を10分間行った。未結合の重合体を24〜48時間トルエンによって抽出した。図20A及び図20Bは、それぞれ、試料の1部分の3次元AFM画像及び断面プロファイルを示す。この画像及び断面プロファイルは、PSが接着する高くなった部分(“タワー”)を示す。
トルエン中の1,815,000の分子量を有するポリスチレンの溶液(l0mg/mL)を清浄なウェファ上に60秒間2,000rpmでスピン被覆した。およそ5.5μmの直径を有する円を含む石英マスクを、真空を介してウェファ上で所定の位置に保持させた。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を15分間行った。未結合の重合体を24〜48時間トルエンによって抽出した。次いで、その試料をトルエン中の280,000の分子量を有するポリスチレンの溶液(l0mg/mL)を用い60秒間2,000rpmでスピン被覆し、及び15分間照射した。未結合の重合体を24〜48時間トルエンによって抽出した。図13A及び図13Bは、それぞれ、試料の1部分の3次元AFM画像及び断面プロファイルを示す。この画像及び断面プロファイルは、より一層高いMWのPSが最初に接着し、より一層低いMWのPSによって囲まれる高くなった部分(“タワー”)を示し、これらのタワーは2種の重合体物質の間の界面によって画成される。
UV固定化されたポリ(ビニルピロリドン)/ポリスチレン配列を次のように調製した。クロロホルム中の1,300,000の分子量を有するポリ(ビニルピロリドン)の溶液(l0mg/mL)を清浄なウェファ上に60秒間2,000rpmでスピン被覆した。およそ5.5μmの直径を有する円を含む石英マスクを、真空を介してウェファ上で所定の位置に保持させた。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を15分間行った。未結合の重合体を24〜48時間クロロホルムによって抽出した。次いで、その試料をトルエン中の280,000の分子量を有するポリスチレンの溶液(l0mg/mL)を用い60秒間2,000rpmでスピン被覆し、及び15分間照射した。未結合の重合体を24〜48時間トルエンによって抽出した。図15A及び図15Bは、それぞれ、試料の1部分の3次元画像及び断面プロファイルを示す。この画像及び断面プロファイルは、PSによって囲まれるPVPの“タワー”を示し、これらのタワーは2種の重合体物質の間の界面によって画成される。
上述のようなタワーの代わりの穴を生産するために、ポリスチレン及びポリ(ビニルピロリドン)を逆の順に固定化した(以下に記述されるものの逆であるマスクが用いられれば上記で用いられる順で同じ種類の配列を生産することができる)。トルエン中の280,000の分子量を有するポリスチレンの溶液(l0mg/mL)を清浄なウェファ上に60秒間2,000rpmでスピン被覆した。およそ5.5μmの直径を有する円を含む石英マスクを、真空を介してウェファ上で所定の位置に保持させた。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を10分間行った。未結合の重合体を24〜48時間トルエンによって抽出した。次いで、その試料を、クロロホルム中の1,300,000の分子量を有するポリ(ビニルピロリドン)の溶液(l0mg/mL)を用い60秒間2,000rpmでスピン被覆し、及び10分間照射した。未結合の重合体を24〜48時間クロロホルムによって抽出した。図16A及び図16Bは、それぞれ、試料の1部分の3次元AFM画像及び断面プロファイルを示す。この画像及び断面プロファイルは、PVPによって囲まれるPSの底部を有する穴を明らかにし、これらの穴は2種の重合体物質の間の界面によって画成される。
PSの表面形態に及ぼすUV照射の効果
照射の前後のPS薄膜の間の表面形態における相違を研究した。清浄なウェファに、60秒間2,000rpmで、トルエン中の280,000の分子量のポリスチレンの溶液(10mg/mL)をスピン被覆した。薄膜の光分解(中圧Hgランプ、390W、Hanovia)を5分間行った。未結合の重合体を24〜48時間トルエン中で抽出した。図17A及び17Bは、それぞれ、UV照射に先立つPS薄膜の3次元AFM画像及び断面プロファイルを示す。図18A及び18Bは、それぞれ、UV照射及びトルエンでの溶媒抽出に続くPS薄膜の3次元AFM画像及び断面プロファイルを示す。これらの画像及び断面プロファイルは、これらの処置後の薄膜が図18A及び18Bのスピン被覆された表面より幾分荒いことを明らかにする。
Claims (53)
- 基材上の重合体構造を製造する方法であって:
第1重合体物質をアジド−官能化された基材の表面に適用すること;
第1重合体物質を予め定めるパターンにおいて反応エネルギー源に暴露して第1重合体物質の層を予め定めるパターンにおいて基材に共有結合的に結合させること;
第2重合体物質が第1重合体物質によって占められていない基材の表面の少なくとも1部分を占めるように第2重合体物質をアジド−官能化された基材の表面に適用すること;及び
第2重合体物質を反応エネルギー源に暴露して第2重合体物質の層を基材に共有結合的に結合させ、第1及び第2重合体物質が第1及び第2重合体物質によって画成される微構造を形成させること
を含むことを特徴とする重合体構造の製造方法。 - 第1及び第2重合体物質が同じ単量体を含有するが異なる平均分子量を有することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 第1及び第2重合体物質が異なる厚さを有する層を形成することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 第1及び第2重合体物質が異なることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 第1及び第2重合体物質が穴を画成することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 穴が第1重合体物質を含む底部を有し、及び壁が第2重合体物質を含むことを特徴とする請求項5記載の方法。
- 第1重合体物質が親水性重合体物質を含み及び第2重合体物質が疎水性重合体物質を含むことを特徴とする請求項6記載の方法。
- 第1重合体物質が疎水性重合体物質を含み及び第2重合体物質が親水性重合体物質を含むことを特徴とする請求項6記載の方法。
- 第1重合体物質がポリ(2−エチル−2−オキサゾリン)を含み及び第2重合体物質がポリスチレンを含むことを特徴とする請求項7記載の方法。
- 第1重合体物質がポリスチレンを含み及び第2重合体物質がポリ(2−エチル−2−オキサゾリン)を含むことを特徴とする請求項8記載の方法。
- アジド−官能化された基材が、シラン−官能化されたペルフルオロフェニルアジドを用いて官能化されたケイ酸質の金の基材であることを特徴とする請求項1記載の方法。
- アジド−官能化された基材が、金属及び半導体からなる群より選ばれ及びチオール−官能化されたペルフルオロフェニルアジドを用いて官能化されていることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 金属が金であることを特徴とする請求項12記載の方法。
- 暴露が、約200nm及び約350nmの間の波長の光子を用いる発光を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 適用がスピン−被覆を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 重合体物質をケイ酸質か又は金の基材に接着させる方法であって:
重合体物質を基材に適用すること;及び
重合体物質が基材に接着するのに十分な時間重合体物質を反応エネルギー源に暴露すること
を含むことを特徴とする接着方法。 - 重合体物質が、塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリ(2−エチル−2−オキサゾリン)、それらの混合物、及びそれらの組合せからなる群より選ばれることを特徴とする請求項16記載の方法。
- 重合体物質がビニル重合体物質であることを特徴とする請求項16記載の方法。
- 反応エネルギー源が電磁照射を含むことを特徴とする請求項16記載の方法。
- 電磁照射が約190nmから約400nmまでの波長でのUV光線であることを特徴とする請求項19記載の方法。
- 波長が約190nmから約280nmまでであることを特徴とする請求項20記載の方法。
- 反応エネルギー源が予め定めたパターンにおいて適用されることを特徴とする請求項16記載の方法。
- 請求項22記載の方法であって、
基材から予め定めるパターンの外側の重合体物質の少なくとも1部分を除去すること;
第2重合体物質を適用すること;及び
第2重合体物質を、重合体が基材の少なくとも1部分に接着するのに十分な時間反応エネルギー源に暴露すること
を含むことを特徴とする方法。 - 第2重合体物質の反応エネルギー源への暴露が、予め定めるパターンにおける暴露を含むことを特徴とする請求項23記載の方法。
- 重合体微構造であって、請求項1〜21のいずれか一項記載の方法により製造されたことを特徴とする重合体微構造。
- 重合体構造であって:
実質的に平坦な基材に官能化されたアジドによって共有結合的に付着している穴−底部を画成する第1重合体部分;及び
基材に共有結合的に付着している穴壁を画成する第2重合体部分を含み、第1及び第2重合体物質が微穴を集合的に画成していることを特徴とする重合体構造。 - 微穴の配列を含むことを特徴とする請求項26記載の重合体構造。
- 請求項26記載の微穴であって、第1及び第2重合体部分が同じ重合体物質であることを特徴とする微穴。
- 請求項26記載の微穴であって、第1及び第2重合体部分が異なる重合体物質であることを特徴とする微穴。
- 重合体微穴の配列であって、請求項26記載の微穴の配列であることを特徴とする微穴配列。
- 重合体微構造であって、幾何学的パターンにおいて実質的に平坦な基材に官能化されたアジドを介して共有結合的に結合している少なくとも2種の重合体物質を含むことを特徴とする重合体微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質の厚さが重合体物質の分子量によって定まることを特徴とする請求項31記載の微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質が1つ又はそれより多い穴を画成することを特徴とする請求項31記載の微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質が、親水性底部及び疎水性側部を有する1つ又はそれより多い穴を画成することを特徴とする請求項33記載の微構造。
- 穴の底部に、共有結合的にか又は非共有結合的に接着する試薬分子が更に含まれることを特徴とする請求項34記載の微構造。
- 試薬分子がDNA、RNA、タンパク質、又は薬分子であることを特徴とする請求項35記載の微構造。
- 基材がケイ素又は金のいずれかであることを特徴とする請求項31記載の微構造。
- 穴底部がタンパク質を吸着することで知られる重合体を含み及び穴側部及び頂部がタンパク質に耐えることで知られる重合体を含むことを特徴とする請求項33記載の微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質が、疎水性底部及び親水性側部を有する1つ又はそれより多い穴を画成することを特徴とする請求項33記載の微構造。
- 重合体微構造であって、幾何学的パターンにおいて実質的に平坦な基材に約190nm及び約400nmの間の波長を有するUV光子への暴露によって直接に接着する少なくとも2種の重合体物質を含むことを特徴とする重合体微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質の厚さが重合体物質の分子量によって定まることを特徴とする請求項40記載の微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質が1つ又はそれより多い穴を画成することを特徴とする請求項40記載の微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質が、親水性底部及び疎水性側部を有する1つ又はそれより多い穴を画成することを特徴とする請求項42記載の微構造。
- 穴の底部に、共有結合的にか又は非共有結合的に接着する試薬分子が更に含まれることを特徴とする請求項43記載の微構造。
- 試薬分子がDNA、RNA、タンパク質、又は薬分子であることを特徴とする請求項44記載の微構造。
- 基材がケイ素又は金のいずれかであることを特徴とする請求項40記載の微構造。
- 穴底部がタンパク質を吸着することで知られる重合体を含み及び穴側部及び頂部がタンパク質に耐えることで知られる重合体を含むことを特徴とする請求項42記載の微構造。
- 少なくとも2種の重合体物質が、疎水性底部及び親水性側部及び頂部を有する1つ又はそれより多い穴を画成することを特徴とする請求項42記載の微構造。
- 方法であって:
第1ビニル重合体物質を実質的に平坦なケイ酸質か又は金の基材に適用すること;
第1ビニル重合体物質を予め定めるパターンにおいて反応エネルギー源に暴露して第1重合体物質を予め定めるパターンにおいて基材に接着させること;
第2ビニル重合体物質が第1ビニル重合体物質によって占められていない基材の表面の少なくとも1部分を占めるように第2ビニル重合体物質を基材に適用すること;及び
第2ビニル重合体物質を反応エネルギー源に暴露して第2ビニル重合体物質を基材に接着させ、第1及び第2ビニル重合体物質が穴を画成すること
を含むことを特徴とする方法。 - 第1及び第2重合体物質が同じであることを特徴とする請求項49記載の方法。
- 第1及び第2ビニル重合体物質が異なることを特徴とする請求項49記載の方法。
- 第1及び第2重合体物質が微穴の配列を画成することを特徴とする請求項49記載の方法。
- クロマトグラフの支持体であって、請求項31〜48のいずれか一項記載の微構造を含むことを特徴とするクロマトグラフ支持体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US30938701P | 2001-08-01 | 2001-08-01 | |
PCT/US2002/024675 WO2003087206A2 (en) | 2001-08-01 | 2002-08-01 | Patterned polymeric structures, particularly microstructures, and methods for making same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005520173A true JP2005520173A (ja) | 2005-07-07 |
Family
ID=29250401
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003584159A Pending JP2005520173A (ja) | 2001-08-01 | 2002-08-01 | パターン化重合体構造、特に微構造、及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7405034B2 (ja) |
EP (2) | EP2390721B1 (ja) |
JP (1) | JP2005520173A (ja) |
AT (1) | ATE541237T1 (ja) |
AU (1) | AU2002367868A1 (ja) |
WO (1) | WO2003087206A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016160151A1 (en) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Micron Technology, Inc. | Methods of fabricating features associated with semiconductor substrates |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0411348D0 (en) * | 2004-05-21 | 2004-06-23 | Univ Cranfield | Fabrication of polymeric structures using laser initiated polymerisation |
US7697807B2 (en) * | 2006-06-01 | 2010-04-13 | Ut-Battelle, Llc | Multi-tipped optical component |
US7697808B2 (en) * | 2004-07-27 | 2010-04-13 | Ut-Battelle, Llc | Multi-tipped optical component |
ITNA20040067A1 (it) * | 2004-12-03 | 2005-03-03 | Consiglio Nazionale Ricerche | Immobilizzazione di biomolecole su supporti porosi, tramite fascio elettronici, per applicazioni in campo biomedico ed elettronico. |
US7744818B2 (en) * | 2005-02-28 | 2010-06-29 | Honeywell International Inc. | Stationary phase materials for micro gas analyzer |
US20070274867A1 (en) * | 2005-02-28 | 2007-11-29 | Honeywell International Inc. | Stationary phase for a micro fluid analyzer |
US7556776B2 (en) | 2005-09-08 | 2009-07-07 | President And Fellows Of Harvard College | Microfluidic manipulation of fluids and reactions |
US7713689B2 (en) | 2005-09-15 | 2010-05-11 | Duke University | Non-fouling polymeric surface modification and signal amplification method for biomolecular detection |
JP2007246417A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Canon Inc | 感光性シランカップリング剤、表面修飾方法、パターン形成方法およびデバイスの製造方法 |
JP5132117B2 (ja) * | 2006-10-10 | 2013-01-30 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法 |
WO2008156510A2 (en) * | 2007-03-12 | 2008-12-24 | State Of Oregon Acting By & Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Portland State University | Method for functionalizing materials and devices comprising such materials |
US8679859B2 (en) | 2007-03-12 | 2014-03-25 | State of Oregon by and through the State Board of Higher Education on behalf of Porland State University | Method for functionalizing materials and devices comprising such materials |
US8796184B2 (en) | 2008-03-28 | 2014-08-05 | Sentilus, Inc. | Detection assay devices and methods of making and using the same |
US9664619B2 (en) | 2008-04-28 | 2017-05-30 | President And Fellows Of Harvard College | Microfluidic device for storage and well-defined arrangement of droplets |
US8088551B2 (en) | 2008-10-09 | 2012-01-03 | Micron Technology, Inc. | Methods of utilizing block copolymer to form patterns |
JP5152361B2 (ja) * | 2011-04-20 | 2013-02-27 | ウシオ電機株式会社 | ワークの貼り合わせ方法および貼り合わせ装置 |
WO2013002858A1 (en) * | 2011-06-27 | 2013-01-03 | New York University | Nanoreactor printing |
US9244326B2 (en) | 2012-01-17 | 2016-01-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Inks including graft copolymer surface-modified pigments via azide chemistry |
CN104093792B (zh) * | 2012-01-26 | 2016-09-07 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 包含通过叠氮化学作用被链段共聚物接枝的颜料的油墨 |
WO2013187982A1 (en) * | 2012-06-11 | 2013-12-19 | Viceroy Chemical | Method and apparatus for a photocatalytic and electrocatalytic catalyst |
CN104937013B (zh) * | 2012-11-19 | 2019-02-22 | 奥胡斯大学 | 聚合物和表面修饰的固体部件的连接 |
CA2906011A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Douglas Scientific, LLC | Reusable belt with a matrix of wells |
US9828284B2 (en) | 2014-03-28 | 2017-11-28 | Ut-Battelle, Llc | Thermal history-based etching |
EP2975078A1 (en) | 2014-08-14 | 2016-01-20 | Omya International AG | Surface-treated fillers for breathable films |
WO2021190766A1 (de) | 2020-03-27 | 2021-09-30 | Wacker Chemie Ag | Perfluorphenylazid-haltige siloxanoligomermischungen |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5258041A (en) | 1982-09-29 | 1993-11-02 | Bio-Metric Systems, Inc. | Method of biomolecule attachment to hydrophobic surfaces |
US5002582A (en) | 1982-09-29 | 1991-03-26 | Bio-Metric Systems, Inc. | Preparation of polymeric surfaces via covalently attaching polymers |
US5217492A (en) | 1982-09-29 | 1993-06-08 | Bio-Metric Systems, Inc. | Biomolecule attachment to hydrophobic surfaces |
US5512329A (en) | 1982-09-29 | 1996-04-30 | Bsi Corporation | Substrate surface preparation |
US4973493A (en) | 1982-09-29 | 1990-11-27 | Bio-Metric Systems, Inc. | Method of improving the biocompatibility of solid surfaces |
US5263992A (en) | 1986-10-17 | 1993-11-23 | Bio-Metric Systems, Inc. | Biocompatible device with covalently bonded biocompatible agent |
US4979959A (en) | 1986-10-17 | 1990-12-25 | Bio-Metric Systems, Inc. | Biocompatible coating for solid surfaces |
US5342737A (en) | 1992-04-27 | 1994-08-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | High aspect ratio metal microstructures and method for preparing the same |
US5587273A (en) | 1993-01-21 | 1996-12-24 | Advanced Microbotics Corporation | Molecularly imprinted materials, method for their preparation and devices employing such materials |
WO1994017447A1 (en) * | 1993-01-21 | 1994-08-04 | The State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of The University Of Oregon | Chemical functionalization of surfaces |
US5582955A (en) * | 1994-06-23 | 1996-12-10 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of The University Of Oregon | Chemical functionalization of surfaces |
US6200737B1 (en) | 1995-08-24 | 2001-03-13 | Trustees Of Tufts College | Photodeposition method for fabricating a three-dimensional, patterned polymer microstructure |
US5830539A (en) * | 1995-11-17 | 1998-11-03 | The State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of The University Of Oregon | Methods for functionalizing and coating substrates and devices made according to the methods |
AU5250098A (en) * | 1996-11-08 | 1998-06-10 | Ikonos Corporation | Chemical functionalization of surfaces |
WO1998022541A2 (en) | 1996-11-08 | 1998-05-28 | Ikonos Corporation | Method for coating substrates |
JP3161362B2 (ja) | 1997-05-01 | 2001-04-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 微小構造体、その製造方法、その製造装置、基板および成形型 |
DE19741492A1 (de) | 1997-09-19 | 1999-03-25 | Microparts Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern |
US6251343B1 (en) | 1998-02-24 | 2001-06-26 | Caliper Technologies Corp. | Microfluidic devices and systems incorporating cover layers |
GB9824023D0 (en) * | 1998-11-03 | 1998-12-30 | Isis Innovation | Surface functionalisation |
US6197881B1 (en) | 1999-08-18 | 2001-03-06 | Biopixel Ltd. | Electrically conductive copolymers and their preparation |
GB0000896D0 (en) * | 2000-01-14 | 2000-03-08 | Univ Glasgow | Improved analytical chip |
US8758974B2 (en) * | 2003-03-27 | 2014-06-24 | Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College | Photoresist-free micropatterning on polymer surfaces |
-
2002
- 2002-08-01 WO PCT/US2002/024675 patent/WO2003087206A2/en active Search and Examination
- 2002-08-01 EP EP11179056.4A patent/EP2390721B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-01 EP EP02806828A patent/EP1576040B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-01 AU AU2002367868A patent/AU2002367868A1/en not_active Abandoned
- 2002-08-01 AT AT02806828T patent/ATE541237T1/de active
- 2002-08-01 JP JP2003584159A patent/JP2005520173A/ja active Pending
-
2004
- 2004-01-30 US US10/769,423 patent/US7405034B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016160151A1 (en) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Micron Technology, Inc. | Methods of fabricating features associated with semiconductor substrates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2003087206A2 (en) | 2003-10-23 |
WO2003087206A3 (en) | 2006-10-19 |
WO2003087206A8 (en) | 2005-03-17 |
EP2390721A3 (en) | 2012-03-07 |
AU2002367868A8 (en) | 2003-10-27 |
AU2002367868A1 (en) | 2003-10-27 |
EP2390721B1 (en) | 2016-03-23 |
US7405034B2 (en) | 2008-07-29 |
EP2390721A2 (en) | 2011-11-30 |
ATE541237T1 (de) | 2012-01-15 |
US20040242023A1 (en) | 2004-12-02 |
EP1576040A2 (en) | 2005-09-21 |
EP1576040A4 (en) | 2008-12-10 |
EP1576040B1 (en) | 2012-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1576040B1 (en) | Patterned polymeric structures, particularly microstructures, and methods for making same | |
Herzer et al. | Fabrication of patterned silane based self-assembled monolayers by photolithography and surface reactions on silicon-oxide substrates | |
US10474029B2 (en) | Polymer pen lithography | |
Harnett et al. | Bioactive templates fabricated by low-energy electron beam lithography of self-assembled monolayers | |
Hoff et al. | Nanoscale protein patterning by imprint lithography | |
Pallandre et al. | Binary nanopatterned surfaces prepared from silane monolayers | |
JP3377215B2 (ja) | 化学的に定義されたボディを配向析出する方法 | |
KR100549103B1 (ko) | 탄소나노튜브 어레이의 제작방법 | |
Lee et al. | Photolithographic technique for direct photochemical modification and chemical micropatterning of surfaces | |
US8652768B1 (en) | Nanopatterns by phase separation of patterned mixed polymer monolayers | |
Lamping et al. | Functionalization and patterning of self-assembled monolayers and polymer brushes using microcontact chemistry | |
US20120128882A1 (en) | Gel polymer pen lithography | |
Liu et al. | To patterned binary polymer brushes via capillary force lithography and surface-initiated polymerization | |
Besson et al. | A novel and simplified procedure for patterning hydrophobic and hydrophilic SAMs for microfluidic devices by using UV photolithography | |
Lin et al. | Multilength-scale chemical patterning of self-assembled monolayers by spatially controlled plasma exposure: nanometer to centimeter range | |
Critchley et al. | A mild photoactivated hydrophilic/hydrophobic switch | |
Yan et al. | Self-assembled monolayers (SAMS) and synthesis of planar micro-and nanostructures | |
US20080214410A1 (en) | Immobilization of discrete molecules | |
Soliman et al. | Controlled Growth of Organosilane Micropatterns on Hydrophilic and Hydrophobic Surfaces Templated by Vacuum Ultraviolet Photolithography | |
JPH08511284A (ja) | ポリマーの化学的官能化 | |
Wendeln et al. | Modification of surfaces by chemical transfer printing using chemically patterned stamps | |
Hozumi et al. | Spatially defined immobilization of biomolecules on microstructured polymer substrate | |
Bhure et al. | Surface patterning using self assembled monolayers (SAMs) | |
KR20080054776A (ko) | 오산화이바나듐 나노선 패턴 및 금나노입자 패턴을 포함하는 나노회로의 제조방법 | |
Cai | Simple alternative patterning techniques for selective protein adsorption |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080520 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080820 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080827 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080922 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080930 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081014 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090623 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100112 |