JP2005338822A - 周期的非線形性を改善した微分干渉計 - Google Patents

Abstract

【課題】
干渉計システムにおける偏光漏洩を低減すること。
【解決手段】
平面鏡干渉計（２３０）、転向ミラー（２１２）、調節後に固定することが出来るリターデーションプレートを有するリターデーションプレートアセンブリ（２１６、８１６Ａ）およびレトロリフレクタ（２１４、８１４）を有する干渉計システム（２００、８００）。光ビームは、平面鏡干渉計、転向ミラー、リターデーションプレートアセンブリおよびレトロリフレクタからなる経路を伝搬する。リターデーションプレートアセンブリは、複数のベアリング（３０６）、ベアリングに搭載されたリング（３０４）、リングに取り付けられたリターデーションプレート（３０２）およびリングをベアリングに押し付けるプランジャ（３０８）を含む。リターデーションプレートは、干渉計システムの偏光漏洩が小さくなる向きに定められた後、接着剤で固定される。
【選択図】図２

Description

本発明は概して干渉計システムに関し、詳しくは偏光漏洩を低減した干渉計システムに関する。

特許文献１および特許文献２に記載されているような微分干渉計では、基準ビームの測定経路への（または、それとは逆の）偏光漏洩により、周期的非線形性が発生する。そのような偏光の劣化（即ち、望ましくない偏光の変化）の原因（上記の干渉計の場合は、漏洩が原因である）には、不完全な偏光コーティング、不完全なリターデーションプレート、および銀コーティングされたコーナーキューブ・レトロリフレクタによる偏光変換などが挙げられる。

特許文献１に記載されている図１に示すような干渉計では、転向ミラー１５０、１／４波長板１４および銀コーティングされたコーナーキューブ・レトロリフレクタ１３から構成される「差分吸収器」において、１／８波長の非線形性の大きな原因が発生する。１／４波長板１４は、直線偏光の入射光を銀コーティングされたコーナーキューブ１３に向かう途中で円偏光の光に変換する向きに配置される。しかしながら、銀コーティングされたコーナーキューブ１３はその構造から、円偏光を劣化させ、長軸が回転された楕円偏光の光を出力する。従って、光が戻ってきて１／４波長板１４を２度目に通過するときに、その出力光は完全な直線偏光にはならない。このとき、光は所望の偏光状態に対して直交する直線偏光成分を有する。この成分が、周期的な非線形性誤差の原因となる偏光漏洩である。

米国特許第４，９３０，８９４号明細書 米国特許第４，６９３，６０５号明細書

従って、微分干渉計システムにおける偏光漏洩に対処する装置および方法が必要とされており、特に、銀コーティングされたコーナーキューブへ向かう経路上の１／４波長板によって発生する偏光漏洩に対処する装置および方法が必要とされている。

本発明の一実施形態において干渉計システムは、平面鏡干渉計、転向ミラー、調節後に固定可能なリターデーションプレートを有するリターデーションプレートアセンブリ、およびレトロリフレクタを含む。光ビームは、平面鏡干渉計、転向ミラー、リターデーションプレートアセンブリおよびレトロリフレクタからなる経路上を伝搬する。一実施形態においてリターデーションプレートアセンブリは、複数のベアリング、ベアリング上に搭載されたリング、リングに取り付けられたリターデーションプレート、リングをベアリングに対して押圧するプランジャを含む。一実施形態においてリターデーションプレートは、システムに偏光漏洩がほとんど発生しない向きに定められた後、接着剤で固定される。

異なる図面に使用されている同じ参照符号は、類似の構成要素または同一の構成要素を意味する。

図２および図３は、本発明の一実施形態による微分干渉計システム２００を示す図である。レーザーヘッド２０２は、２つの直交する偏光の周波数成分から成るコヒーレントで平行な光ビームを生成する。一方の周波数成分ｆ_Ａ（例：Ｐ偏光を具備する測定ビーム）は、システムの測定経路に入射し、もう一方の周波数成分ｆ_Ｂ（例：Ｓ偏光を具備する基準ビーム）は、システムの基準経路に入射する。

測定経路上の偏光ビームスプリッタ２０４は、周波数成分ｆ_Ａを移動ステージに取り付けられた測定平面鏡２０６に向けて透過させる。周波数成分ｆ_Ａは１／４波長板２０８を通過するため、戻ってくる偏光は９０度回転され、その新たなＳ偏光の周波数成分ｆ_Ａは、偏光ビームスプリッタ２０４で反射され、コーナーキューブ・レトロリフレクタ２１０に入射する。次に、コーナーキューブ２１０は、周波数成分ｆ_Ａを再度偏光ビームスプリッタ２０４に誘導する。そして、周波数成分ｆ_Ａは、偏光ビームスプリッタ２０４によって再度反射され、測定平面鏡２０６に入射する。そして、周波数成分ｆ_Ａは再度１／４波長板２０８を通過するため、戻ってくる偏光は９０度回転され、その新たなＰ偏光の周波数成分ｆ_Ａは、偏光ビームスプリッタ２０４を通過して転向ミラー２１２に入射する。

転向ミラー２１２は、周波数成分ｆ_Ａをリターデーションプレートアセンブリ２１６（図４、図５および図６に詳細を示す）を通して、銀コーティングされたコーナーキューブ・レトロリフレクタ２１４に誘導する。そして、周波数成分ｆ_Ａはレトロリフレクタ２１４で反射され、ミラー２１２に返される。周波数成分ｆ_Ａはアセンブリ２１６において１／４波長板を通過するため、戻ってくる偏光は、理想的には９０度回転される（但し、実際にはそうではない）。次いでミラー２１２は、その新たなＳ偏光の周波数成分ｆ_Ａを偏光ビームスプリッタ２０４に向けて反射させ、偏光ビームスプリッタ２０４は、周波数成分ｆ_Ａをコーナーキューブ・レトロリフレクタ２１８に向けて反射させる。コーナーキューブ２１８は、周波数成分ｆ_Ａを偏光ビームスプリッタ２０４に向けて反射させ、偏光ビームスプリッタ２０４は、周波数成分ｆ_Ａをレシーバ２２０に向けて反射させる。尚、転向ミラー２１２は、システム２００の小型化のために使用されている。大型のシステム２００を構成する場合は、転向ミラー２１２を除去し、コーナーキューブ２１４とアセンブリ２１６をアセンブリ２１６を挟むようにして偏光ビームスプリッタ２０４の後ろに直接配置してもよい。

従来の構成の場合、直線偏光の入射光を円偏光の光に変換するために、アセンブリ２１６の１／４波長板の速軸（または遅軸）は、偏光ベクトルに対して４５°の向きに配置することが望ましかった。しかしながら、残念ながらそのような配置では、円偏光の入力ビームが、銀コーティングされたコーナーキューブ２１４によって楕円偏光の出力ビームに変換される場合がある。そして、この楕円偏光の光が戻ってきてアセンブリ２１６において１／４波長板を２度目に通過する際に、その出力ビームは、所望の直線偏光状態（即ち、入力ビームの偏光に対して直交する方向の完全な直線偏光）ではなくなる場合がある。それどころか、出力ビームは、所望の直線偏光状態に対して直交する方向の直線偏光成分を含む場合もある。

従って、円偏光の光を銀コーティングされたコーナーキューブに通過させる場合、直線偏光を円偏光に変換するための１／４波長板の速軸のこの理想的な向き（即ち、偏光ベクトルに対して４５°）は、もはや理想的なものではない。銀コーティングされたコーナーキューブが経路上に存在する場合、１／４波長板の速軸には、銀コーティングされたコーナーキューブの偏光変換効果を活用する回転の「スイートスポット」が存在する。このスイートスポットでは、１／４波長板の１回目の通過の際には、完全な円偏光の光が生成されない。しかしながら、このスイートスポットでは、光がコーナーキューブから１／４波長板を通して戻された後、銀コーティングされたコーナーキューブから出力される楕円偏光状態が、所望の直線偏光状態に対して直交する直線偏光成分が小さいものになる。その結果、復路において１／４波長板を通過した後は、当然ながら偏光状態が９０°回転されるものの、元の直線偏光状態が実質的に維持される。従って、偏光漏洩が低減され、干渉計による測定の際に生じる周期的な非線形性も小さくなる。

一般に微分干渉計システム２００では、コーナーキューブに施される銀コーティングの特性に応じてリターデーションプレートが選択される。「スイートスポット」の向きに配置されたリターデーションプレートと銀コーティングされたコーナーキューブ・レトロリフレクタの組み合わせは、１／４波長板と銀コーティングされたコーナーキューブの組み合わせに比べて、所望の直線偏光状態に対して直交する直線偏光成分を小さくすることができる。例えば、９０．１８９°のリターデーション角を有する線形リターデーションプレートを銀コーティングされたコーナーキューブと組み合わせた場合、１／４波長板（リターデーション角＝９０°）を銀コーティングされたコーナーキューブと組み合わせた場合に比べて、望ましくない直線成分を小さくすることができる。同様に、他のタイプのコーティングを有するコーナーキューブについても、リターデーションプレートには、リターデーションプレートとコーナーキューブの組み合わせによって所望の直線偏光状態に対して直交する直線偏光成分が小さくなるようなリターデーションプレートを選択することができる。

図４、図５および図６は、本発明の一実施形態による、１／４波長板のその場所での正確な回転アライメントが可能なリターデーションプレートアセンブリ２１６を示す図である。１／４波長板３０２は、接着剤でリング３０４に固定されている。一実施形態において、１／４波長板３０２は石英から作成され、リング３０４は真鍮から作成される。リング３０４は、「Ｖブロックベアリング」を形成する２本のベアリングピン３０６によって運動可能に支持される。一実施形態において、ベアリングピン３０６は、Ｄｅｌｒｉｎ ＡＦから作成される。リング３０４は、ハウジング３１０に取り付けられた２本のスプリング付きプランジャ３０８により、ＶブロックベアリングのＶブロック接触ライン間に押し付けられる。一実施形態において、プランジャ３０８はＤｅｌｒｉｎ ＡＦから作成される。

ハウジング３１０は、リング３０４を収容する円形の凹部３２４が形成された面３２２を有する。円形の凹部３２４の周囲には、ベアリングピン３０６を受け止めるためのスロット３２３（図６）が形成される。銀コーティングされたコーナーキューブ２１４は、ハウジング３１０の面３２２に取り付けることができる。転向ミラー２１２は、面３２２に対して４５°の角度で、ハウジング３１０の面３２８上に取り付けることができる。面３２２と面３２８の間には孔３２５および３２６が形成され、転向ミラー２１２とコーナーキューブ２１０との間に、オフセットされた経路を提供する。

平面鏡干渉計２３０（ビームスプリッタ２０４、コーナーキューブ２１０、２１８、および１／４波長板２０８から構成される）は、ハウジング３１０の面３３０に取り付けることができる。面３３０は、面３２２に対して垂直である。面３２８と面３３０の間には孔が形成され、転向ミラー２１２と平面鏡干渉計２３０との間に、オフセットされた経路を提供する。そして、ハウジング３１０の面には、円形の凹部３２４まで続く接着剤孔３３２が形成される。

リング３０４（および１／４波長板３０２）の精密な回転位置の制御は、デュアルボールレバー３１２によって実現される。小さなボール３１４（大きなボール３１８の上に設けられている）は、リング３０４の半径方向の孔３１６のうちの１つに係合する。大きなボール３１８は支点孔３２０に係合し、第１種てこの支点として機能する。ハウジング３１０の面３２１には、支点孔３２０とプランジャ取付孔３３４（図６）が形成され、それらが円形の凹部３２４まで接続される。

大きなてこの作用と、リング３０４とベアリングピン３０６との間における小さな摩擦の組み合わせにより、１／４波長板の速軸のスイートスポットを偏光ベクトルに正確に整合させることが可能になる。レバー３１２を外した後、１／４波長板３０４の位置は、スプリング付きプランジャ３０８によって維持される。次いで、接着剤を接着剤孔３３２に注入し、リング３０４の位置を固定する。

図２および図３をもう一度参照すると、基準経路上にある偏光ビームスプリッタ２０４は、周波数成分ｆ_Ｂをコーナーキューブ２１８に向けて反射させ、コーナーキューブ２１８は、周波数成分ｆ_Ｂを偏光ビームスプリッタ２０４に向けて反射させる。そして、偏光ビームスプリッタ２０４は、周波数成分ｆ_Ｂをミラー２１２に向けて反射させる。ミラー２１２は、周波数成分ｆ_Ｂを銀コーティングされたコーナーキューブ２１４に誘導し、コーナーキューブ２１４は、周波数成分ｆ_Ｂをミラー２１２に向けて反射させる。その際、周波数成分ｆ_Ｂは１／４波長板２１６を通過するため、戻ってくる偏光は９０度回転される。

ミラー２１２は、その新たなＰ偏光の周波数成分ｆ_Ｂを偏光ビームスプリッタ２０４に誘導し、ビームスプリッタ２０４は、周波数成分ｆ_Ｂを移動可能な基準ミラー２２２に向けて透過させる。その際、周波数成分ｆ_Ｂは１／４波長板２０８を通過するため、戻ってきる偏光は９０度回転され、その新たなＳ偏光の周波数成分ｆ_Ｂが、偏光ビームスプリッタ２０４によりコーナーキューブ２１０に向けて反射される。コーナーキューブ２１０は、周波数成分ｆ_Ｂを偏光ビームスプリッタ２０４に向けて反射させ、偏光ビームスプリッタ２０４は、周波数成分ｆ_Ｂを基準ミラー２２２に向けて再度反射させる。この場合も、周波数成分ｆ_Ｂは１／４波長板２０８を通過するため、戻ってきる偏光は９０度回転され、そのＰ偏光の周波数成分ｆ_Ｂが、偏光ビームスプリッタ２０４を通過してレシーバ２２０に伝達される。

図７は、本発明の一実施形態による、干渉計システム２００における１／４波長板の速軸のスイートスポットを探す方法７００を示すフロー図である。

ステップ７０２では、測定ビームと基準ビームの両方をオンにし、組立後の干渉計システム２００における測定経路および基準経路を通じてそれらを伝搬させる。

ステップ７０４では、再結合された測定ビームおよび基準ビームのビート信号の振幅（以下、「第１の振幅」と呼ぶ）を測定する。

ステップ７０６では、ビームの一方（測定ビームまたは基準ビーム）を遮断する。理論的には、偏光漏洩が存在しなければ、ビート信号は消滅することになる。しかしながら、偏光漏洩が存在すれば、（元のビート周波数を有する）検出可能なビート信号が残ることになる。

ステップ７０８では、元のビート周波数を有するビート信号の振幅（以下、「第２の振幅」と呼ぶ）を再度測定する。

ステップ７１０では、偏光漏洩が閾値未満であるか否かを判定する。閾値未満であることは、アセンブリ２１６の１／４波長板３０２の速軸のスイートスポットが見付かったことを意味する。一実施形態において、偏光漏洩は、第１の振幅と第２の振幅の比として定義される。偏光漏洩が閾値未満でない場合、本方法は、ステップ７１０からステップ７１２へ進む。一方、偏光漏洩が閾値以上である場合は、ステップ７１０からステップ７１４へ進む。

ステップ７１２では、アセンブリ２１６の１／４波長板３０２の速軸を調節する。図４、図５および図６を参照して前述したように、１／４波長板３０２の速軸は、レバー３１２によって調節される。ステップ７１２の後はステップ７０８へ進み、１／４波長板３０２の速軸のスイートスポットが検出されるまで、この処理を繰り返す。

ステップ７１４では、１／４波長板３０２の速軸を固定する。図４、図５および図６を参照して前述したように、接着剤をハウジング３１０の接着剤孔３３２に注入し、リング３０４および１／４波長板３０２の向きを固定する。

図８は、本発明の一実施形態による微分干渉計システム８００を示す図である。システム８００はシステム２００に似ている。但し、入力経路上では、リターデーションプレートアセンブリ２１６が入力半波長板アセンブリ８１６Ａによって置換され、出力経路上では、リターデーションプレートアセンブリ２１６が出力半波長板アセンブリ８１６Ｂによって置換されている点、そして、銀コーティングされたコーナーキューブ２１４が、コーティングされていないＴＩＲ（全反射型）コーナーキューブ・レトロリフレクタ８１４によって置換されている点が、システム２００とは異なる。適切な向きに配置されたＴＩＲコーナーキューブ８１４は、そこを通過する直交する直線（水平／垂直）偏光が、入力部において反時計方向に１３．７°だけ回転される場合に（コーナーキューブを覗き込む方向から見て）、その直線偏光を維持することが分かっている。出力偏光は、コーナーキューブを覗き込む方向から見て反対方向に１３．７°だけ回転されるが、直線偏光のまま維持される。この回転角１３．７°は、コーナーキューブの材料の特性によって決まる。材料が一般的な光学ガラスＢＫ−７の場合、回転角は１３．７°付近になる。

入力半波長板アセンブリ８１６Ａはその場所で調節され、ＴＩＲコーナーキューブ８１４へ向かう直線偏光入力を１３．７°だけ回転させるように調節される。出力半波長板アセンブリ８１６Ｂも、直線偏光の出力を１３．７°＋／−９０°だけ回転させるようにその場所で調節され、周波数成分ｆ_Ａおよびｆ_Ｂのそれぞれについて戻りのビームが入力ビームの偏光方向に対して直交する向きの直線偏光になるように調節される。システム８００では、銀コーティングされたコーナーキューブにより発生する望ましくない偏光変換が、全く発生しない。また、システム８００は、再帰反射効率と、垂直偏光の光から水平偏光の光への（およびそれとは逆の）偏光変換が改善されている。一実施形態において、アセンブリ８１６Ａおよび８１６Ｂは、１／４波長板の代わりに半波長板を用いて、図４、図５および図６におけるアセンブリ２１６と同様に構成される。

前述の方法７００は、システム８００の偏光漏洩を低減させるように変更することもできる。即ち、ステップ７１２で一枚の１／４波長板を調節するのではなく、２枚の半波長板を調節し、偏光漏洩が閾値未満になるスイートスポットを探すのである。

開示した実施形態の特徴の種々の変更および組み合わせも、本発明の範囲内である。例えば、例示の実施形態では、平面鏡とコーナーキューブ・レトロリフレクタを使用しているが、それらは、他の反射性、屈折性、回折性またはホログラフィックコンポーネントで置換することもできる。又、スプリング付きプランジャ３０８を２個使用する代わりに、ベアリングピン３０６の接触ライン間の中央に、スプリング付きプランジャ３０８を一個だけ使用してもよい。更に、銀コーティングされたコーナーキューブ２１４の代わりに、他の材料でコーティングされたコーナーキューブを使用してもよい。更に、実施例に記載した機械的ベアリングは減摩剤を使用した運動学的に安定した設計になっているが、当然ながらこのベアリングは、円形の凹部３２４内で動くリング３０４から構成される単純なジャーナルベアリングのような、安定性が低く効率悪いベアリングで置換してもよい。更に、リング３０４を支持する３つのボールベアリングのような、真に運動学的な設計を使用してもよい。従って、特許請求の範囲には、多数の実施形態が含まれる。

従来の微分干渉計システムを示す図である。 本発明の一実施形態による微分干渉計を示す図である。 本発明の一実施形態による微分干渉計システムを示す図である。 本発明の一実施形態による、図２および図３の干渉計システムのリターデーションプレートをその場所で正確に調節することが可能なリターデーションプレートアセンブリを示す図である。 本発明の一実施形態による、図２および図３の干渉計システムのリターデーションプレートをその場所で正確に調節することが可能なリターデーションプレートアセンブリを示す図である。 本発明の一実施形態による、図２および図３の干渉計システムのリターデーションプレートをその場所で正確に調節することが可能なリターデーションプレートアセンブリを示す図である。 本発明の一実施形態による、微分干渉計システムのリターデーションプレートアセンブリを調節して偏光漏洩を低減するための方法を示すフロー図である。 本発明の他の実施形態による微分干渉計システムを示す図である。

符号の説明

２００ 干渉計システム
２１２ 転向ミラー
２１４ レトロリフレクタ
２１６ リターデーションプレートアセンブリ
２３０ 平面鏡干渉計
３０２ リターデーションプレート
３０４ リング
３０６ ベアリングピン
３０８ プランジャ
３１０ ハウジング
３１２ デュアルボールレバー
３１４ 小さなボール
３１８ 大きなボール
３２０ 支点孔
３２１、３２２、３３０ ハウジングの面
３２３ スロット
３２４ 円形の凹部
３３２ 接着剤孔
３３４ プランジャ取付孔
８００ 微分干渉計システム
８１４ コーナーキューブ・レトロリフレクタ
８１６Ａ 入力反波長板アセンブリ
８１６Ｂ 出力反波長板アセンブリ
ｆ_Ａ 測定ビーム
ｆ_Ｂ 基準ビーム

Claims (14)

1. 複数のベアリング（３０６）と、
   前記ベアリングに搭載されたリング（３０４）と、
   前記リングに取り付けられたリターデーションプレート（３０２）と、
   前記リングを前記ベアリングに押し付けるプランジャ（３０８）と、
   からなるリターデーションプレートアセンブリ（２１６）。
2. レバーの一端に大きなボール（３１８）を有し、該大きなボール上に小さなボール（３１４）を有するレバー（３１２）と、
   ハウジング（３１０）とをさらに含み、該ハウジングは、
   前記リング（３０４）を収容する円形の凹部（３２４）が形成された第１の面（３２２）と、
   前記円形の凹部に接続された支点孔（３２０）が形成された第２の面（３２１）と、
   を有し、前記大きなボールは、前記支点孔に係合し、前記小さなボールは、前記リング上の半径方向の孔に係合し、前記大きな孔は、前記レバーが前記リングを回転させるための支点として機能する、請求項１に記載のリターデーションプレートアセンブリ。
3. 前記ベアリング（３０６）はピンベアリングであり、
   前記円形の凹部（３２４）は前記ピンベアリングを収容するスロット（３２３）を更に有し、
   前記ハウジング（３１０）には接着剤孔（３３２）が前記円形の凹部まで更に形成され、
   前記第２の面（３２１）には前記円形の凹部（３２４）に接続されたプランジャ取付孔（３３４）が更に形成され、
   前記プランジャ取付孔は前記プランジャ（３０８）を収容する、請求項２に記載のリターデーションプレートアセンブリ。
4. 前記ハウジング（３１０）は、前記第１の面（３２２）に対して４５°の向きの第３の面（３２８）を更に有し、
   前記第３の面は、転向ミラー（２１２）を収容し、
   前記ハウジングは、前記第１の面に対して直交する向きの第４の面（３３０）を更に有し、
   前記ハウジングは、前記第１の面と前記第３の面との間、および前記第３の面と前記第４の面との間に孔が更に形成され、
   前記第４の面は平面鏡干渉計（２３０）を収容する、請求項２に記載のリターデーションプレートアセンブリ。
5. 平面鏡干渉計（２３０）と、
   調節後に固定可能なリターデーションプレート（３０２）を有するリターデーションプレートアセンブリ（２１６、８１６Ａ）と、
   レトロリフレクタ（２１４、８１４）と、
   からなり、光ビームが、前記平面鏡干渉計、前記リターデーションプレートアセンブリおよび前記レトロリフレクタからなる経路を伝搬する、干渉計システム（２００、８００）。
6. 前記平面鏡干渉計（２３０）と前記リターデーションプレートアセンブリ（２１６、８１６Ａ）との間の経路に転向ミラーを更に含む、請求項５に記載の干渉計システム。
7. 前記リターデーションプレートアセンブリ（２１６、８１６Ａ）は、
   複数のベアリング（３０６）と、
   前記ベアリングに搭載されたリング（３０４）と、
   前記リングに取り付けられた前記リターデーションプレート（３０２）と、
   前記リングを前記ベアリングに押し付けるプランジャ（３０８）と、
   からなる、請求項５に記載の干渉計システム。
8. 前記レトロリフレクタ（２１４）は、コーティングされたコーナーキューブからなり、
   前記リターデーションプレート（３０２）は、１／４波長板からなり、
   前記経路は、前記リターデーションプレートアセンブリ（２１６）、前記転向ミラー（２１２）および前記平面鏡干渉計（２３０）を更に含む、請求項５に記載の干渉計システム。
9. 調節後に固定可能な別のリターデーションプレートを有する別のリターデーションプレートアセンブリ（８１６Ｂ）を更に含み、
   前記レトロリフレクタ（８１４）は、ＴＩＲ（全反射型）コーナーキューブからなり、
   前記リターデーションプレートおよび前記別のリターデーションプレートは、半波長板からなり、
   前記経路は、前記別のリターデーションプレートアセンブリ、前記転向ミラー（２１２）および前記平面鏡干渉計（２３０）を更に含む、請求項５に記載の干渉計システム。
10. 前記リターデーションプレートの速軸または遅軸は、前記ＴＩＲコーナーキューブ（８１４）へ向かう光を１３．７°だけ回転させる向きであり、
    前記別のリターデーションプレートの別の速軸または遅軸は、前記ＴＩＲコーナーキューブからの光の偏光を１３．７°＋／−９０°だけ回転させる向きである、請求項９に記載のシステム。
11. 偏光漏洩を低減する方法（７００）であって、
    測定ビーム（ｆ_Ａ）と基準ビーム（ｆ_Ｂ）のうちの少なくとも一方がリターデーションプレート（２１６、８１６Ａ）からレトロリフレクタ（２１４、８１４）への経路を伝搬するときに、前記測定ビーム（ｆ_Ａ）および前記基準ビーム（ｆ_Ｂ）に基づくビーム周波数を有するビート信号の第１の振幅を測定するステップと、
    前記測定ビームと前記基準ビームのうちの一方を遮断するステップと、
    前記ビート周波数を有する前記ビート信号の第２の振幅を測定するステップと、
    前記第２の振幅と前記第１の振幅の比が閾値未満であった場合に、前記リターデーションプレートの速軸を固定するステップと、
    からなる方法。
12. 前記測定ビーム（ｆ_Ａ）と前記基準ビーム（ｆ_Ｂ）のうちの前記少なくとも一方が、前記レトロリフレクタ（２１４）から前記リターデーションプレート（２１６）へ更に伝搬し、
    前記リターデーションプレートは、１／４波長板からなり、
    前記レトロリフレクタは、コーティングされたコーナーキューブからなり、
    前記方法は、前記比が前記閾値よりも大きい場合に、前記リターデーションプレートの前記速軸を調節するステップを更に含む、請求項１１に記載の方法。
13. 前記測定ビーム（ｆ_Ａ）と前記基準ビーム（ｆ_Ｂ）のうちの前記少なくとも一方が、前記レトロリフレクタ（８１４）から別のリターデーションプレート（８１６Ｂ）へ更に伝搬し、
    前記リターデーションプレートおよび前記別のリターデーションプレートは、半波長板からなり、
    前記レトロリフレクタは、ＴＩＲ（全反射型）コーナーキューブからなり、
    前記方法は、前記第１の振幅に対する前記第２の振幅の比が閾値よりも大きい場合に、前記リターデーションプレートの前記速軸と前記別のリターデーションプレートの別の速軸を調節するステップを更に含む、請求項１１に記載の方法。
14. 前記速軸を調節するステップは、前記ＴＩＲコーナーキューブ（８１４）へ向かう前記測定ビーム（ｆ_Ａ）と前記基準ビーム（ｆ_Ｂ）のうちの前記少なくとも一方の偏光を１３．７°だけ回転されるものであり、
    前記別の速軸を調節するステップは、前記ＴＩＲコーナーキューブからの前記測定ビームと前記基準ブームのうちの前記少なくとも一方の偏光を１３．７°＋／−９０°だけ回転させるものである、請求項１３に記載の方法。

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