JP2005325048A - Compound containing metal complex and fluorene compound containing metal complex and method for producing the same - Google Patents

Compound containing metal complex and fluorene compound containing metal complex and method for producing the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new compound containing a metal complex and a fluorene compound containing metal complex and to provide a method for producing the same. <P>SOLUTION: The fluorene compound containing metal complex is represented by general formula (1). In the formula X<SP>1</SP>and X<SP>2</SP>are each independently the same or different functional group with halogenous character, R<SP>1</SP>s and R<SP>2</SP>s are each independently the same or different univalent organic group. R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>are each the same or different single bond or divalent organic group. At least one of R<SP>5</SP>and R<SP>6</SP>represents a region of the metal complex and the other represents the region for a univalent organic group or the metal complex and each may be the same or different. n1 is an integer of 0-3, n2 is an integer of 0-3. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、金属錯体含有化合物および、金属錯体含有フルオレン化合物およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a metal complex-containing compound, a metal complex-containing fluorene compound, and a method for producing the same.

有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」ともいう。)は、直流電圧によって駆動することが可能であること、自己発光素子であるため視野角が広くて視認性が高いこと、応答速度が速いことなどの優れた特性を有することから、次世代の表示素子として期待されており、その研究が活発に行われている。   An organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as “organic EL element”) can be driven by a DC voltage, is a self-luminous element, has a wide viewing angle, high visibility, and a response speed. Since it has excellent characteristics such as high speed, it is expected as a next-generation display element, and its research is being actively conducted.

このような有機EL素子における発光層を構成する機能性有機材料は、高い発光輝度が得られるものであることが要求されている。そして、最近においては、高い発光輝度を実現するために、有機EL素子の発光に、励起状態である三重項状態の分子などのエネルギーを利用することが試みられている。具体的には、このような構成を有する有機EL素子によれば、従来から有機EL素子の外部量子効率の限界値と考えられていた5%を超え、8%の外部量子効率が得られることが報告されている(例えば、非特許文献1参照。)。
しかしながら、この有機EL素子を構成する機能性有機材料は低分子量のものであることから、物理的耐久性および熱的耐久性が小さい、という問題がある。
The functional organic material constituting the light emitting layer in such an organic EL element is required to have a high light emission luminance. Recently, in order to realize high emission luminance, attempts have been made to use energy of triplet state molecules as an excited state for light emission of the organic EL element. Specifically, according to the organic EL element having such a configuration, it is possible to obtain an external quantum efficiency of 8% exceeding 5%, which was conventionally considered as a limit value of the external quantum efficiency of the organic EL element. Has been reported (for example, see Non-Patent Document 1).
However, since the functional organic material constituting the organic EL element has a low molecular weight, there is a problem that physical durability and thermal durability are small.

「アプライドフィジックスレターズ(Applied Physics Letters)」,1999年,第75巻,p.4“Applied Physics Letters”, 1999, vol. 75, p. 4

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、優れた発光特性および耐久性を有する機能性有機材料を得るための単量体について研究を重ねた結果、完成されたものであり、その目的は、新規な金属錯体含有化合物および金属錯体含有フルオレン化合物を提供することにある。
本発明の他の目的は、以上のような新規な金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made based on the above circumstances, and has been completed as a result of repeated research on monomers for obtaining a functional organic material having excellent luminescent properties and durability. It is an object of the present invention to provide a novel metal complex-containing compound and a metal complex-containing fluorene compound.
Another object of the present invention is to provide a method for producing the novel metal complex-containing fluorene compound as described above.

本発明の金属錯体含有化合物は、2つのハロゲン性官能基を有する芳香族化合物に、フェニルピリジン構造を有する金属錯体含有基が結合していることを特徴とする。
また、本発明の金属錯体含有フルオレン化合物は、下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする。
The metal complex-containing compound of the present invention is characterized in that a metal complex-containing group having a phenylpyridine structure is bonded to an aromatic compound having two halogen functional groups.
In addition, the metal complex-containing fluorene compound of the present invention is characterized by having a structure represented by the following general formula (1).

Figure 2005325048
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一般式(1)において、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R3 およびR4 は、単結合または2価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R5 およびR6 は、少なくとも一方が下記一般式(2)または一般式(3)に示される金属錯体部位を示すと共に、他方が1価の有機基、または下記一般式(2)または一般式(3)に示される金属錯体部位を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。 In the general formula (1), X 1 and X 2 each independently represent a halogenated functional group, and may be the same or different from each other. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. R 3 and R 4 represent a single bond or a divalent organic group, and may be the same or different from each other. At least one of R 5 and R 6 represents a metal complex moiety represented by the following general formula (2) or general formula (3), and the other is a monovalent organic group, or the following general formula (2) or general formula The metal complex part shown by (3) is shown, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3.

Figure 2005325048
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一般式(2)において、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数であり、wは1〜3の整数である。 In the general formula (2), R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may be unsubstituted or may form a ring structure, The same or different ones may be used. M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. m1 is an integer of 0 to 4, m2 is an integer of 0 to 3, and w is an integer of 1 to 3.

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(3)において、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。m3は0〜3の整数であり、m4は0〜4の整数であり、wは1〜3の整数である。 In the general formula (3), R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may be unsubstituted or may form a ring structure, The same or different ones may be used. M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. m3 is an integer of 0 to 3, m4 is an integer of 0 to 4, and w is an integer of 1 to 3.

本発明の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、上記の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(4)で示されるフェニルピリジン化合物と、下記一般式(5)で示されるジフェニル化合物とを反応させて中間反応生成物(1)を得、
この中間反応生成物(1)と、下記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする。
The method for producing a metal complex-containing fluorene compound of the present invention is a method for producing the above metal complex-containing fluorene compound,
A phenylpyridine compound represented by the following general formula (4) and a diphenyl compound represented by the following general formula (5) are reacted to obtain an intermediate reaction product (1),
The intermediate reaction product (1) is reacted with a metal complex compound represented by the following general formula (6).

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(4)において、X3 は、ハロゲン原子を示す。R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数である。 In the general formula (4), X 3 represents a halogen atom. R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may be unsubstituted or may form a ring structure and are the same as each other May be different. m1 is an integer of 0 to 4, and m2 is an integer of 0 to 3.

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(5)において、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。RLVは1価の有機基を示す。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。 In the general formula (5), X 1 and X 2 each independently represent a halogenated functional group, and may be the same or different from each other. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. R LV represents a monovalent organic group. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3.

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(6)において、R11は、2個の配位原子を有する二座のキレート配位子を示し、Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。wは1〜3の整数である。 In the general formula (6), R 11 represents a bidentate chelate ligand having two coordination atoms, M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. . w is an integer of 1-3.

本発明の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、上記の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(7)で示されるフェニルピリジン誘導体と、下記一般式(8)で示されるフルオレン誘導体とを反応させて中間反応生成物(2−1)を得、
この中間反応生成物(2−1)と、ハロゲンとを反応させて中間反応生成物(2−2)を得、
この中間反応生成物(2−2)と、上記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする。
The method for producing a metal complex-containing fluorene compound of the present invention is a method for producing the above metal complex-containing fluorene compound,
A phenylpyridine derivative represented by the following general formula (7) and a fluorene derivative represented by the following general formula (8) are reacted to obtain an intermediate reaction product (2-1).
This intermediate reaction product (2-1) is reacted with halogen to obtain an intermediate reaction product (2-2).
The intermediate reaction product (2-2) is reacted with the metal complex compound represented by the general formula (6).


Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(7)において、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。X4 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示す。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数である。 In the general formula (7), R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may or may not be substituted, and may form a ring structure, The same or different ones may be used. X 4 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group. m1 is an integer of 0 to 4, and m2 is an integer of 0 to 3.

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(8)において、X5 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(7)におけるX4 と互いに異なるものである。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R12およびR13は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数であり、q1は0〜4の整数であり、q2は0〜4の整数である。 In the general formula (8), X 5 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group, and is different from X 4 in the general formula (7). R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. R 12 and R 13 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, n2 is an integer of 0 to 3, q1 is an integer of 0 to 4, and q2 is an integer of 0 to 4.

本発明の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、上記の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
上記一般式(4)で示されるフェニルピリジン化合物と、下記一般式(9)で示されるフルオレノン化合物とを反応させて中間反応生成物(3−1)を得、
この中間反応生成物(3−1)と、1価の有機基よりなる置換基を1〜5個有するベンゼンとを反応させて中間反応生成物(3−2)を得、
この中間反応生成物(3−2)と、上記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする。
The method for producing a metal complex-containing fluorene compound of the present invention is a method for producing the above metal complex-containing fluorene compound,
The phenylpyridine compound represented by the general formula (4) and the fluorenone compound represented by the following general formula (9) are reacted to obtain an intermediate reaction product (3-1).
This intermediate reaction product (3-1) is reacted with benzene having 1 to 5 substituents composed of a monovalent organic group to obtain an intermediate reaction product (3-2).
The intermediate reaction product (3-2) is reacted with the metal complex compound represented by the general formula (6).

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(9)において、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。 In the general formula (9), X 1 and X 2 each independently represent a halogenated functional group, and may be the same or different from each other. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3.

本発明の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、上記の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(10)で示されるフェノールピリジン化合物と、その主鎖の両端にハロゲン原子を有する、有機基のジハロゲン化物とを反応させて中間反応生成物(4−1)を得、
この中間反応生成物(4−1)と、下記一般式(11)で示されるフルオレン化合物とを反応させて中間反応生成物(4−2)を得、
この中間反応生成物(4−2)と、上記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする。
The method for producing a metal complex-containing fluorene compound of the present invention is a method for producing the above metal complex-containing fluorene compound,
A phenol pyridine compound represented by the following general formula (10) is reacted with a dihalide of an organic group having halogen atoms at both ends of the main chain to obtain an intermediate reaction product (4-1).
This intermediate reaction product (4-1) is reacted with a fluorene compound represented by the following general formula (11) to obtain an intermediate reaction product (4-2).
The intermediate reaction product (4-2) is reacted with the metal complex compound represented by the general formula (6).

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(10)において、式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数である。 In the general formula (10), in the formula, R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may or may not be substituted, and form a ring structure. They may be the same or different from each other. m1 is an integer of 0 to 4, and m2 is an integer of 0 to 3.

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(11)において、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。 In the general formula (11), X 1 and X 2 each independently represent a halogenated functional group, and may be the same or different from each other. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3.

本発明の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、上記の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(12)で示されるヒドロキシピリジン誘導体と、その主鎖の両端にハロゲン原子を有する、有機基のジハロゲン化物とを反応させて中間反応生成物(5−1)を得、 この中間反応生成物(5−1)と、下記一般式(13)で示されるベンゼン誘導体とを反応させて中間反応生成物(5−2)を得、
この中間反応生成物(5−2)と、上記一般式(11)で示されるフルオレン化合物とを反応させて中間反応生成物(5−3)を得、
この中間反応生成物(5−3)と、上記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする。
The method for producing a metal complex-containing fluorene compound of the present invention is a method for producing the above metal complex-containing fluorene compound,
The intermediate reaction product (5-1) is obtained by reacting the hydroxypyridine derivative represented by the following general formula (12) with a dihalide of an organic group having halogen atoms at both ends of the main chain, and this intermediate reaction The product (5-1) is reacted with a benzene derivative represented by the following general formula (13) to obtain an intermediate reaction product (5-2).
This intermediate reaction product (5-2) is reacted with the fluorene compound represented by the general formula (11) to obtain an intermediate reaction product (5-3).
The intermediate reaction product (5-3) is reacted with the metal complex compound represented by the general formula (6).

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(12)において、R7 は、フッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよい。X6 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示す。m3は0〜3の整数である。 In the general formula (12), R 7 represents a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, may or may not be substituted, and may form a ring structure. X 6 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group. m3 is an integer of 0-3.

Figure 2005325048
Figure 2005325048

一般式(13)において、R8 は、フッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよい。X7 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(12)におけるX6 と互いに異なるものである。m4は0〜4の整数である。 In the general formula (13), R 8 represents a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, may be unsubstituted or may form a ring structure. X 7 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group, and is different from X 6 in the general formula (12). m4 is an integer of 0-4.

本発明によれば、2つのハロゲン性官能基を有する芳香族化合物に、フェニルピリジン構造を有する金属錯体含有基が結合している金属錯体含有化合物、並びに、2つのハロゲン性官能基および金属錯体部位を有するフルオレンに由来する骨格構造を有する新規な金属錯体含有フルオレン化合物が提供される。そして、本発明の新規な金属錯体含有化合物、並びに金属錯体含有フルオレン化合物は、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層を形成する、発光特性および耐久性に優れた機能性有機材料としての重合体の合成に用いられる単量体として、好適に用いることができる可能性がある。   According to the present invention, a metal complex-containing compound in which a metal complex-containing group having a phenylpyridine structure is bonded to an aromatic compound having two halogenated functional groups, and two halogenated functional groups and a metal complex site. There is provided a novel metal complex-containing fluorene compound having a skeleton structure derived from fluorene having benzene. The novel metal complex-containing compound of the present invention, and the metal complex-containing fluorene compound, for example, form a light-emitting layer of an organic electroluminescence device, and synthesize a polymer as a functional organic material excellent in light emission characteristics and durability. There is a possibility that it can be suitably used as a monomer used in the above.

本発明の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法によれば、新規な金属錯体含有フルオレン化合物を得ることができる。   According to the method for producing a metal complex-containing fluorene compound of the present invention, a novel metal complex-containing fluorene compound can be obtained.

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
<金属錯体含有フルオレン化合物>
本発明の金属錯体含有フルオレン化合物は、上記一般式(1)で示される構造を有する化合物である。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail.
<Metal complex-containing fluorene compound>
The metal complex-containing fluorene compound of the present invention is a compound having a structure represented by the general formula (1).

上記一般式(1)において、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基であって、互いに同一のものであっても異なるものであってもよいが、同一のものであることが好ましい。ハロゲン性官能基の具体例としては、例えば−Cl基、−Br基、−I基、トリフレート(CF3 SO3 - )に由来する基、トシラートに由来する基またはメシラートに由来する基などが挙げられ、これらの中では、特に、−Br基または−I基を好ましく挙げることができる。
ここで、上記一般式(1)において、X1 およびX2 は、それぞれ位置番号2および7の炭素原子に結合されていることが好ましい。
In the above general formula (1), X 1 and X 2 are each independently a halogenated functional group, which may be the same or different, but may be the same. preferable. Specific examples of the halogenated functional group include a group derived from —Cl group, —Br group, —I group, triflate (CF 3 SO 3 ), a group derived from tosylate, or a group derived from mesylate. Among these, -Br group or -I group can be particularly preferably mentioned.
Here, in the said General formula (1), it is preferable that X < 1 > and X < 2 > are couple | bonded with the carbon atom of position number 2 and 7, respectively.

1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよいが、同一のものであることが好ましい。R1 およびR2 に係る1価の有機基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基などが挙げられる。 R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other, but are preferably the same. Examples of the monovalent organic group related to R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a phenyl group.

n1およびn2は、それぞれ独立に0〜3の整数を示し、特に、n1およびn2が共に0であることが好ましい。n1またはn2が0であるときは、置換基がなくて水素原子が結合していることを意味する。   n1 and n2 each independently represent an integer of 0 to 3, and it is particularly preferred that both n1 and n2 are 0. When n1 or n2 is 0, it means that there is no substituent and a hydrogen atom is bonded.

3 およびR4 は、単結合または2価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよいが、同一のものであることが好ましい。2価の有機基としては、具体的には、例えば炭素原子数1〜8のアルコキシル基から水素原子が1つ失われて形成される2価の基、炭素原子数1〜8のアルキレン基および、置換基を有するまたは有さない1〜3環の2価の芳香族基(例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基またはキシリレン基等)が挙げられる。以上において、R3 およびR4 は、単結合、炭素原子数1〜8の特定のアルコキシル基から水素原子が1つ失われて形成される2価の基、フェニレン基であることが好ましい。 R 3 and R 4 each represent a single bond or a divalent organic group, and may be the same or different from each other, but are preferably the same. Specific examples of the divalent organic group include a divalent group formed by losing one hydrogen atom from an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and the like. 1 to 3 ring divalent aromatic groups (for example, a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, or a xylylene group) with or without a substituent. In the above, R 3 and R 4 are preferably a single bond, a divalent group formed by losing one hydrogen atom from a specific alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a phenylene group.

5 およびR6 は、少なくとも一方が上記一般式(2)または一般式(3)に示される金属錯体部位を示すと共に、他方が1価の有機基または、上記一般式(2)または一般式(3)に示される金属錯体部位を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。 At least one of R 5 and R 6 represents a metal complex moiety represented by the general formula (2) or the general formula (3), and the other is a monovalent organic group, the general formula (2) or the general formula The metal complex part shown by (3) is shown, and may be the same or different from each other.

そして、上記一般式(2)および一般式(3)において、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基(環構造を形成する場合には、これらに由来する基)を示し、置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよいが、R7 およびR8 は、共に置換されておらず、環構造を形成せず、また、互いに同一のものであることが好ましい。
ここで、R7 およびR8 が、各々、ベンゼン環またはピリジン環を形成する炭素原子の複数に結合して多環構造が形成されていてもよい。
In the general formula (2) and the general formula (3), R 7 and R 8 are each independently a fluorine atom, an alkyl group, or an aryl group (in the case of forming a ring structure, a group derived therefrom). R 7 and R 8 may be substituted or unsubstituted or may form a ring structure and may be the same or different from each other. It is preferable that they do not form a ring structure and are identical to each other.
Here, R 7 and R 8 may each be bonded to a plurality of carbon atoms forming a benzene ring or a pyridine ring to form a polycyclic structure.

7 およびR8 に係るアルキル基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、オクチル基などを挙げることができる。
アリール基の具体例としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基などを挙げることができる。
Specific examples of the alkyl group according to R 7 and R 8 include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a hexyl group, and an octyl group.
Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group.

m1は0〜4の整数を示し、m2は0〜3の整数を示し、また、m3は0〜3の整数を示し、m4は0〜4の整数を示し、特に、m1、m2、m3およびm4のすべてが0であることが好ましい。
ここで、m1、m2、m3およびm4のいずれか一つが0であるときは、置換基がなくて水素原子が結合していることを意味する。
m1 represents an integer of 0 to 4, m2 represents an integer of 0 to 3, m3 represents an integer of 0 to 3, m4 represents an integer of 0 to 4, and in particular, m1, m2, m3 and All of m4 are preferably 0.
Here, when any one of m1, m2, m3 and m4 is 0, it means that there is no substituent and a hydrogen atom is bonded.

上記一般式(2)および一般式(3)において、Mは、原子価が2〜4の金属原子である。この金属原子としては、イリジウム原子、白金原子、パラジウム原子、ルビジウム原子、オスミウム原子、レニウム原子などが挙げられるが、これらの中ではイリジウム原子が好ましい。
また、Lは有機配位子である。この有機配位子は、上記Mである金属原子に対して配位性を有する有機化合物によって形成されてなるものである。有機配位子の数wは1〜3の整数であり、用いられている金属原子の原子価および当該金属原子による中性錯体の安定配位数などを考慮して選択される。
In the said General formula (2) and General formula (3), M is a metal atom whose valence is 2-4. Examples of the metal atom include an iridium atom, a platinum atom, a palladium atom, a rubidium atom, an osmium atom, and a rhenium atom. Among these, an iridium atom is preferable.
L is an organic ligand. This organic ligand is formed by an organic compound having a coordination property with respect to the metal atom which is M. The number w of the organic ligand is an integer of 1 to 3, and is selected in consideration of the valence of the metal atom used and the stable coordination number of the neutral complex with the metal atom.

ここで、有機配位子としては、オルトメタル化錯体を形成し得るものが挙げられ、例えば含窒素ヘテロ環誘導体が用いられる。具体的には、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリダジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、ピロール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体などが挙げられる。
ここに、「オルトメタル化錯体」とは、例えば山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」150頁、232頁、裳華房社(1982年発行)や、H. Yersin著「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」71〜77頁、135〜146頁、Springer−Verlag社(1987年発行)等に記載されている化合物群の総称である。
Here, as an organic ligand, what can form an ortho metalated complex is mentioned, For example, a nitrogen-containing heterocyclic derivative is used. Specifically, pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, pyridazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, pyrrole derivatives, imidazole derivatives, pyrazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, thiadiazole derivatives, benzimidazole derivatives, Examples include benzoxazole derivatives and benzthiazole derivatives.
Here, the “orthometalated complex” refers to, for example, Yamamoto Akio, “Organic Metal Chemistry: Fundamentals and Applications”, pages 150 and 232, Hankabosha (published in 1982), H. Yersin, “Photochemistry and “Photophysics of Coordination Compounds”, pages 71 to 77, pages 135 to 146, Springer-Verlag (published in 1987), and the like.

また、有機配位子としては、ハロゲン、カルボニル基、シアノ基などの単座有機配位子となる有機化合物により形成されるもの、アセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、5, 5−ジメチル−2, 4−ヘキサジオンなどのβ−ジケトン類、エチレンジアミン、ジピリジルなどのジアミン類、9−ヒドロキシキノリン、ピコリン酸、サリチル酸などの多座有機配位子となる有機化合物により形成されるものなどが挙げられる。これらの有機配位子を形成する有機化合物は、1種単独で若しくは2種以上組み合わせて用いることができる。   Moreover, as an organic ligand, what is formed with the organic compound used as monodentate organic ligands, such as a halogen, a carbonyl group, and a cyano group, acetylacetone, hexafluoroacetylacetone, 5, 5-dimethyl-2, 4-hexadione Β-diketones such as, diamines such as ethylenediamine and dipyridyl, and those formed by organic compounds which become multidentate organic ligands such as 9-hydroxyquinoline, picolinic acid and salicylic acid. The organic compounds that form these organic ligands can be used singly or in combination of two or more.

以上において、本発明の金属錯体含有フルオレン化合物の好ましい具体例としては、下記構造式(1)〜構造式(5)に示される構造を有する金属錯体含有フルオレン化合物を挙げることができる。   In the above, as a preferable specific example of the metal complex containing fluorene compound of this invention, the metal complex containing fluorene compound which has a structure shown by following Structural formula (1)-Structural formula (5) can be mentioned.

Figure 2005325048
Figure 2005325048

ここで、上記構造式(3)に示される金属錯体含有フルオレン化合物において、R3 およびR4 が単結合であると共に、R5 は一般式(2)で示される金属錯体部位であり、R6 はメチルフェニル基である。 Here, in the metal complex-containing fluorene compound represented by the structural formula (3), R 3 and R 4 are single bonds, R 5 is a metal complex moiety represented by the general formula (2), and R 6 Is a methylphenyl group.

以上のような金属錯体含有フルオレン化合物を製造するための方法を下記に説明する。
<第1の製造方法>
第1の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、例えば上記構造式(1)で示される構造を有する金属錯体含有フルオレン化合物を得ることができるものである。
A method for producing the metal complex-containing fluorene compound as described above will be described below.
<First manufacturing method>
The manufacturing method of the 1st metal complex containing fluorene compound can obtain the metal complex containing fluorene compound which has a structure shown, for example by the said Structural formula (1).

すなわち、第1の製造方法において、本発明の金属錯体含有フルオレン化合物は、上記一般式(4)で示されるフェニルピリジン化合物(以下、単に「特定のフェニルピリジン化合物」ともいう。)と、上記一般式(5)で示されるジフェニル化合物(以下、単に「特定のジフェニル化合物」ともいう。)とを反応させることにより中間反応生成物(1)を得(以下、この反応工程を「反応工程(1−1)」ともいう。)、次いで、中間反応生成物(1)と、上記一般式(6)で示される金属錯体化合物(以下、単に「特定の金属錯体化合物」ともいう。)とを反応させること(以下、この反応工程を「反応工程(1−2)」ともいう。)により、製造することができる。   That is, in the first production method, the metal complex-containing fluorene compound of the present invention includes a phenylpyridine compound represented by the above general formula (4) (hereinafter also simply referred to as “specific phenylpyridine compound”) and the above general formula. An intermediate reaction product (1) is obtained by reacting with a diphenyl compound represented by the formula (5) (hereinafter also simply referred to as “specific diphenyl compound”) (hereinafter, this reaction step is referred to as “reaction step (1)”. -1) "), and then the intermediate reaction product (1) is reacted with the metal complex compound represented by the general formula (6) (hereinafter also simply referred to as" specific metal complex compound "). (Hereinafter, this reaction step is also referred to as “reaction step (1-2)”).

〔反応工程(1−1)〕
反応工程(1−1)に用いられる特定のフェニルピリジン化合物を示す一般式(4)において、X3 は、例えば臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子であって、好ましくは臭素原子を挙げることができる。
[Reaction step (1-1)]
In the general formula (4) showing the specific phenylpyridine compound used in the reaction step (1-1), X 3 is a halogen atom such as a bromine atom or an iodine atom, and preferably includes a bromine atom. it can.

このような特定のフェニルピリジン化合物の具体例としては、例えば上記一般式(4)において、m1およびm2が共に0であり、X3 が臭素原子であるものを特に好ましく挙げることができる。 Specific examples of such a specific phenylpyridine compounds, for example the general formula (4), m1 and m2 are 0 together, X 3 can be cited particularly preferably those which are bromine atoms.

また、反応工程(1−1)に用いられる特定のジフェニル化合物を示す一般式(5)において、RLVは、1価の有機基よりなる脱離基であり、好ましくはメチル基を挙げることができる。 Moreover, in General formula (5) which shows the specific diphenyl compound used for reaction process (1-1), RLV is a leaving group which consists of monovalent organic groups, Preferably a methyl group is mentioned. it can.

このような特定のジフェニル化合物の具体例としては、例えば上記一般式(5)において、X1 およびX2 が、それぞれ、形成されるフルオレン骨格における位置番号2および位置番号7となる炭素原子に結合する臭素原子であり、n1およびn2が共に0であり、RLVがメチル基であるものを特に好ましく挙げることができる。 As a specific example of such a specific diphenyl compound, for example, in the general formula (5), X 1 and X 2 are bonded to carbon atoms at position number 2 and position number 7 in the formed fluorene skeleton, respectively. Particularly preferred are those in which n1 and n2 are both 0 and RLV is a methyl group.

以上の反応工程(1−1)は、前反応処理および後反応処理の二つの処理工程からなるものである。
具体的には、前反応処理は、特定のフェニルピリジン化合物をリチオ化試剤の存在下において処理することによって、X3 である臭素原子がリチウム原子に置換されたものと、特定のジフェニル化合物との反応を行うものである。
The above reaction process (1-1) consists of two process steps, a pre-reaction process and a post-reaction process.
Specifically, the pre-reaction treatment is performed by treating a specific phenylpyridine compound in the presence of a lithiation reagent, so that a bromine atom as X 3 is substituted with a lithium atom and a specific diphenyl compound. The reaction is performed.

前反応処理において用いられるリチオ化試剤としては、具体的には、例えばn−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムを挙げることができ、特にn−ブチルリチウムが好ましく用いられる。   Specific examples of the lithiation reagent used in the pre-reaction treatment include n-butyllithium, s-butyllithium, and t-butyllithium, and n-butyllithium is particularly preferably used.

前反応処理においては極性溶剤が用いられ、通常、テトラヒドロフランが好ましく用いられる。   In the pre-reaction treatment, a polar solvent is used, and usually tetrahydrofuran is preferably used.

後反応処理は、酸性条件下で行われ、例えば硫酸と酢酸の組み合わせが好ましく用いられる。   The post-reaction treatment is performed under acidic conditions. For example, a combination of sulfuric acid and acetic acid is preferably used.

〔反応工程(1−2)〕
反応工程(1−2)に用いられる特定の金属錯体化合物を示す一般式(6)において、R11は、2個の配位原子を有すると共に、当該配位原子によって中心金属である金属に結合する、二座の特定の反応性キレート配位子を示す。特定の反応性キレート配位子としては、具体的には、アセチルアセトナト配位子、反応性の置換基を有するフェニルピリジン配位子などが好ましく用いられる。
[Reaction step (1-2)]
In the general formula showing a specific metal complex compound used in the reaction step (1-2) (6), R 11 , together with two coordinating atoms, bound to the metal as a central metal by the coordination atoms And bidentate specific reactive chelating ligands. Specifically, as the specific reactive chelate ligand, an acetylacetonato ligand, a phenylpyridine ligand having a reactive substituent, and the like are preferably used.

以上のような特定の反応性キレート配位子を有する特定の金属錯体化合物の具体例としては、例えば上記一般式(6)において、R11がアセチルアセトナト配位子であり、Mがイリジウム原子であり、Lが、フェニルピリジンから水素原子が失われて形成される2価のピリジン誘導体であるものを特に好ましく挙げることができる。 Specific examples of the specific metal complex compound having the specific reactive chelate ligand as described above include, for example, in the general formula (6), R 11 is an acetylacetonato ligand, and M is an iridium atom. And L is a divalent pyridine derivative formed by losing a hydrogen atom from phenylpyridine.

反応工程(1−2)においては、適宜の溶剤が用いられる。斯かる溶剤の具体例としては、例えばグリセリン、メトキシエタノール、エトキシエタノールなどを挙げることができ、これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、グリセリンを用いることが好ましい。   In the reaction step (1-2), an appropriate solvent is used. Specific examples of such a solvent include glycerin, methoxyethanol, ethoxyethanol and the like, and these solvents can be used alone or in combination of two or more. In these, it is preferable to use glycerol.

反応工程(1−2)における種々の反応条件としては、例えば反応温度は、150〜300℃、好ましくは200〜250℃とされる。
また、反応時間は、10〜50時間、好ましくは15〜30時間とされる。
As various reaction conditions in the reaction step (1-2), for example, the reaction temperature is 150 to 300 ° C, preferably 200 to 250 ° C.
The reaction time is 10 to 50 hours, preferably 15 to 30 hours.

<第2の製造方法>
第2の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、例えば上記構造式(2)で示される構造を有する金属錯体含有フルオレン化合物を得ることができるものである。
<Second production method>
The manufacturing method of the 2nd metal complex containing fluorene compound can obtain the metal complex containing fluorene compound which has a structure shown, for example by the said Structural formula (2).

すなわち、第2の製造方法において、本発明の金属錯体含有フルオレン化合物は、上記一般式(7)で示されるフェニルピリジン誘導体(以下、単に「特定のフェニルピリジン誘導体」ともいう。)と、上記一般式(8)で示されるフルオレン誘導体(以下、単に「特定のフルオレン誘導体」ともいう。)とを反応させることにより中間反応生成物(2−1)を得(以下、この反応工程を「反応工程(2−1)」ともいう。)、次いで、中間反応生成物(2−1)と、ハロゲンとを反応させて中間反応生成物(2−2)を得(以下、この反応工程を「反応工程(2−2)」ともいう。)、更に、中間反応生成物(2−2)と、特定の金属錯体化合物とを反応させること(以下、この反応工程を「反応工程(2−3)」ともいう。)により、製造することもできる。   That is, in the second production method, the metal complex-containing fluorene compound of the present invention includes a phenylpyridine derivative represented by the above general formula (7) (hereinafter also simply referred to as “specific phenylpyridine derivative”) and the above general formula. An intermediate reaction product (2-1) is obtained by reacting with a fluorene derivative represented by the formula (8) (hereinafter also simply referred to as “specific fluorene derivative”) (hereinafter, this reaction step is referred to as “reaction step”). Next, the intermediate reaction product (2-1) and halogen are reacted to obtain an intermediate reaction product (2-2) (hereinafter, this reaction step is referred to as “reaction”). In addition, the intermediate reaction product (2-2) is reacted with a specific metal complex compound (hereinafter, this reaction step is referred to as “reaction step (2-3)”. "). It is also possible to.

〔反応工程(2−1)〕
反応工程(2−1)に用いられる特定のフェニルピリジン誘導体を示す一般式(7)において、X4 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくはホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(8)におけるX5 と互いに異なるものである。
[Reaction step (2-1)]
In the general formula (7) indicating the specific phenylpyridine derivative used in the reaction step (2-1), X 4 represents a reactive halogen functional group or a boron derivative functional group, and the above general formula (8) Is different from X 5 in FIG.

ハロゲン性官能基の具体例としては、例えば−Cl基、−Br基、−I基、トリフレート(CF3 SO3 - )に由来する基、トシラートに由来する基またはメシラートに由来する基などが挙げられ、これらの中では、特に、−Br基または−I基を好ましく挙げることができる。 Specific examples of the halogenated functional group include a group derived from —Cl group, —Br group, —I group, triflate (CF 3 SO 3 ), a group derived from tosylate, or a group derived from mesylate. Among these, -Br group or -I group can be particularly preferably mentioned.

ホウ素誘導体官能基としては、式−B(OH2 )で表されるボロン酸基、ボロン酸エステル基、ボラン基が挙げられる。
ボロン酸エステル基としては、式−B(OR20)(OR21)で表される基、または式−B(OR22O)で表される基が好ましい。
ボラン基としては、式−BR2324で表される基が好ましい。
Examples of the boron derivative functional group include a boronic acid group, a boronic ester group, and a borane group represented by the formula -B (OH 2 ).
The boronic acid ester group is preferably a group represented by the formula -B (OR 20 ) (OR 21 ) or a group represented by the formula -B (OR 22 O).
As the borane group, a group represented by the formula -BR 23 R 24 is preferable.

ここに、ボロン酸エステル基に係るR20は、炭素数が1〜6のアルキル基であり、置換されていてもいなくてもよい。
21は、水素原子または炭素数が1〜6のアルキル基であり、置換されていてもいなくてもよい。
22は、式中の(OR22O)が5員環または6員環のエステル環となるような2価の炭化水素基であり、具体的には、炭素数が2または3のアルキレン基、オルトフェニレン基またはメタフェニレン基であることが好ましい。なお、これらアルキレン基およびフェニレン基は置換されていてもいなくてもよい。
Here, R 20 according to the boronic acid ester group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may or may not be substituted.
R 21 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may or may not be substituted.
R 22 is a divalent hydrocarbon group in which (OR 22 O) in the formula is a 5-membered or 6-membered ester ring, specifically, an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms An orthophenylene group or a metaphenylene group is preferable. These alkylene groups and phenylene groups may or may not be substituted.

このような構成のボロン酸エステル基として好ましい基には、例えば炭素数が1〜6のアルコール、ピナコール等のエタンジオール、プロパンジオールまたは1,2−ジヒドロキシベンゼン等のオルト芳香族ジオールと、対応するボロン酸とのエステル化による生成物に由来の基が含まれる。   Preferred examples of the boronic acid ester group having such a structure include alcohols having 1 to 6 carbon atoms, ethanediol such as pinacol, ortho aromatic diols such as propanediol or 1,2-dihydroxybenzene, and the like. Included are groups derived from products from esterification with boronic acids.

ボラン基に係るR23およびR24は、それぞれ独立に炭素数が1〜6のアルキル基であり、置換されていてもいなくてもよい。 R 23 and R 24 related to the borane group are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, which may or may not be substituted.

このような特定のフェニルピリジン誘導体の具体例としては、例えば上記一般式(7)において、m1およびm2が共に0であり、X4 が臭素原子であるものを特に好ましく挙げることができる。 Specific examples of such specific phenylpyridine derivatives, for example, in the above general formula (7), m1 and m2 are both 0, it may be mentioned particularly preferably those X 4 is a bromine atom.

また、当該反応工程(2−1)に用いられる特定のフルオレン誘導体を示す一般式(8)において、X5 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくはホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(7)におけるX4 と互いに異なるものである。
ハロゲン性官能基の具体例としては、上記X4 として挙げたものと同じものを挙げることができ、特に、−Br基または−I基を好ましく挙げることができる。
また、ホウ素誘導体官能基としては、上記X4 として挙げたものと同じものを挙げることができ、特に、式−B(OR22O)で表される基を好ましく挙げることができる。
In general formula showing a specific fluorene derivative used for the reaction step (2-1) in (8), X 5 is a reactive halogen functional group, or indicates a boron derivative functional group, the general formula ( It is different from X 4 in 7).
Specific examples of the halogen functional group include the same as those mentioned as X 4 above, and in particular, a —Br group or an —I group can be preferably mentioned.
Moreover, as a boron derivative functional group, the same thing as what was mentioned as said X < 4 > can be mentioned, Especially the group represented by Formula-B (OR < 22 > O) can be mentioned preferably.

12およびR13は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよいが、同一のものであることが好ましい。R12およびR13に係る1価の有機基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基などが挙げられる。 R 12 and R 13 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other, but are preferably the same. Examples of the monovalent organic group according to R 12 and R 13 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a phenyl group.

q1およびq2は、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、特に、q1およびq2び両方が0であることが好ましい。q1およびq2のいずれかが0であるときは、置換基がなくて水素原子が結合していることを意味する。   q1 and q2 each independently represent an integer of 0 to 4, and it is particularly preferred that both q1 and q2 are 0. When either q1 or q2 is 0, it means that there is no substituent and a hydrogen atom is bonded.

このような特定のフルオレン誘導体の具体例としては、例えば上記一般式(8)において、X5 が、R22が式−C(CH3 2 C(CH3 2 −で表されるアルキレン基である、式−B(OR22O)で表される基であり、n1、n2、q1およびq2のすべてが0であるものを特に好ましく挙げることができる。 As a specific example of such a specific fluorene derivative, for example, in the general formula (8), X 5 is an alkylene group in which R 22 is represented by the formula —C (CH 3 ) 2 C (CH 3 ) 2 —. Particularly preferred is a group represented by the formula -B (OR 22 O), wherein all of n1, n2, q1 and q2 are 0.

以上の反応工程(2−1)は、Organometallics3,1261(1984)において開示されている方法(以下、「スズキ法」ともいう。)を利用するものであって、具体的には、スズキ法は、反応溶媒中において、塩基化合物およびパラジウム触媒の存在下においてカップリング反応を行うものである。   The above reaction step (2-1) utilizes the method disclosed in Organometallics 3, 1261 (1984) (hereinafter also referred to as “Suzuki method”). In the reaction solvent, the coupling reaction is performed in the presence of a base compound and a palladium catalyst.

反応溶媒としては、水、不活性有機溶剤または水と不活性有機溶剤との混合物を用いることができ、これらの中では水と不活性有機溶剤との混合物を用いることが好ましい。   As the reaction solvent, water, an inert organic solvent, or a mixture of water and an inert organic solvent can be used, and among these, a mixture of water and an inert organic solvent is preferably used.

不活性有機溶剤としては、例えばジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテルおよびtert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、トルエンおよびキシレン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコールおよびエチレングリコール等のアルコール類、エチルメチルケトンおよびイソブチルメチルケトン等のケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびN−メチルピロリドン等のアミド類、およびそれらの混合物などが挙げられる。これらの不活性有機溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中では、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、およびそれらの混合物を用いることが好ましい。
Examples of the inert organic solvent include ethers such as dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diisopropyl ether and tert-butyl methyl ether, hydrocarbons such as hexane, heptane, cyclohexane, toluene and xylene, methanol, ethanol, Alcohols such as 1-propanol, 2-propanol, 1-butyl alcohol, tert-butyl alcohol and ethylene glycol, ketones such as ethyl methyl ketone and isobutyl methyl ketone, amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone And mixtures thereof. These inert organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
Among these, it is preferable to use dimethoxyethane, tetrahydrofuran, cyclohexane, toluene, xylene, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, and mixtures thereof.

反応溶媒の好ましい具体例としては、水とトルエンとの混合物、水とトルエンとテトラヒドロフランとの混合物、水とトルエンとエタノールとの混合物を好適に用いることができる。   Preferable specific examples of the reaction solvent include a mixture of water and toluene, a mixture of water, toluene and tetrahydrofuran, and a mixture of water, toluene and ethanol.

また、塩基化合物としては、例えばアルカリ金属ヒドロキシド、アルカリ土類金属ヒドロキシド、アルカリ金属カーボネート、アルカリ土類金属カーボネート、アルカリ金属アセテート、アルカリ土類金属アセテート、アルカリ金属ハイドロジェンカーボネート、アルカリ土類金属ハイドロジェンカーボネート、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属アルコキシド、一級アミン、二級アミン、および三級アミンなどを用いることができる。
これらの中では、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属ヒドロキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム等のアルカリ金属カーボネート、アルカリ金属ハイドロジェンカーボネートを用いることが好ましい。
Examples of the base compound include alkali metal hydroxide, alkaline earth metal hydroxide, alkali metal carbonate, alkaline earth metal carbonate, alkali metal acetate, alkaline earth metal acetate, alkali metal hydrogen carbonate, alkaline earth metal Hydrogen carbonate, alkali metal alkoxide, alkaline earth metal alkoxide, primary amine, secondary amine, tertiary amine, and the like can be used.
Among these, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydrogen carbonates are preferably used.

塩基化合物の使用量は、反応に供する特定のフェニルピリジン誘導体または特定のフルオレン誘導体に係るホウ素誘導体官能基の合計のモル数に対して、好ましくは150〜400mol%、特に好ましくは180〜250mol%である。   The amount of the base compound used is preferably 150 to 400 mol%, particularly preferably 180 to 250 mol%, based on the total number of moles of the boron derivative functional group related to the specific phenylpyridine derivative or specific fluorene derivative subjected to the reaction. is there.

パラジウム触媒としては、パラジウム(0)錯体、パラジウム(II)塩を用いることができるが、パラジウム(0)錯体を用いることが好ましい。
これらの中では、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(Pd(PPh3 4 )を用いることが好ましい。
As the palladium catalyst, a palladium (0) complex or a palladium (II) salt can be used, but a palladium (0) complex is preferably used.
Among these, it is preferable to use tetrakis (triphenylphosphine) palladium (Pd (PPh 3 ) 4 ).

パラジウム触媒の使用量は、通常、反応に供される単量体の合計のモル数に対して、0.05〜3mol%、好ましくは0.1〜1.5mol%である。   The usage-amount of a palladium catalyst is 0.05-3 mol% normally with respect to the total number of moles of the monomer with which reaction is used, Preferably it is 0.1-1.5 mol%.

反応工程(2−1)における種々の反応条件としては、例えば反応温度は、30〜200℃、好ましくは60〜120℃とされる。
また、反応時間は、5〜150時間、好ましくは10〜100時間とされる。
As various reaction conditions in the reaction step (2-1), for example, the reaction temperature is 30 to 200 ° C., preferably 60 to 120 ° C.
The reaction time is 5 to 150 hours, preferably 10 to 100 hours.

〔反応工程(2−2)〕
反応工程(2−2)において用いられるハロゲンとしては、例えば臭素、ヨウ素などを挙げることができ、臭素を特に好ましく挙げることができる。
[Reaction step (2-2)]
Examples of the halogen used in the reaction step (2-2) include bromine and iodine, with bromine being particularly preferable.

反応工程(2−2)においては、ハロゲン系の溶剤が用いられ、好ましくはクロロホルムが用いられる。   In the reaction step (2-2), a halogen-based solvent is used, and preferably chloroform is used.

また、反応工程(2−2)は、酸化剤の存在下において行うことが好ましい。酸化剤としては、塩化鉄が好ましく用いられる。   Moreover, it is preferable to perform a reaction process (2-2) in presence of an oxidizing agent. As the oxidizing agent, iron chloride is preferably used.

反応工程(2−2)における種々の反応条件としては、例えば反応温度は、30〜150℃、好ましくは50〜100℃とされる。
また、反応時間は、5〜30時間、好ましくは10〜20時間とされる。
As various reaction conditions in reaction process (2-2), reaction temperature shall be 30-150 degreeC, for example, Preferably it is 50-100 degreeC.
The reaction time is 5 to 30 hours, preferably 10 to 20 hours.

〔反応工程(2−3)〕
反応工程(2−3)は、前記反応工程(1−2)と同様に行うことができる。
[Reaction step (2-3)]
The reaction step (2-3) can be performed in the same manner as the reaction step (1-2).

<第3の製造方法>
第3の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、例えば上記構造式(3)で示される構造を有する金属錯体含有フルオレン化合物を得ることができるものである。
<Third production method>
The manufacturing method of the 3rd metal complex containing fluorene compound can obtain the metal complex containing fluorene compound which has a structure shown, for example by the said Structural formula (3).

すなわち、第3の製造方法において、本発明の金属錯体含有フルオレン化合物は、特定のフェニルピリジン化合物と、上記一般式(9)で示されるフルオレノン化合物(以下、単に「特定のフルオレノン化合物」ともいう。)とを反応させることにより中間反応生成物(3−1)を得(以下、この反応工程を「反応工程(3−1)」ともいう。)、次いで、中間反応生成物(3−1)と、1価の有機基よりなる置換基を1〜5個有するベンゼンとを反応させて中間反応生成物(3−2)を得(以下、この反応工程を「反応工程(3−2)」ともいう。)、更に、中間反応生成物(3−2)と、特定の金属錯体化合物とを反応させること(以下、この反応工程を「反応工程(3−3)」ともいう。)により、製造することもできる。   That is, in the third production method, the metal complex-containing fluorene compound of the present invention is also referred to as a specific phenylpyridine compound and a fluorenone compound represented by the general formula (9) (hereinafter simply referred to as “specific fluorenone compound”). ) To obtain an intermediate reaction product (3-1) (hereinafter, this reaction step is also referred to as “reaction step (3-1)”), and then the intermediate reaction product (3-1). And benzene having 1 to 5 substituents composed of a monovalent organic group to obtain an intermediate reaction product (3-2) (hereinafter, this reaction step is referred to as “reaction step (3-2)”). Furthermore, by reacting the intermediate reaction product (3-2) with a specific metal complex compound (hereinafter, this reaction step is also referred to as “reaction step (3-3)”). It can also be manufactured.

〔反応工程(3−1)〕
反応工程(3−1)において用いられる特定のフェニルピリジン化合物の具体例としては、例えば上記一般式(4)において、m1およびm2が共に0であり、X3 が臭素原子であるものを特に好ましく挙げることができる。
[Reaction step (3-1)]
Examples of specific phenylpyridine compound used in the reaction step (3-1), for example, the general formula (4), a 0 m1 and m2 are both particularly preferably ones X 3 is bromine atom Can be mentioned.

また、反応工程(3−1)において用いられる特定のフルオレノン化合物の具体例としては、例えば上記一般式(9)において、X1 およびX2 が、それぞれ、フルオレン骨格における位置番号2および位置番号7の炭素原子に結合する臭素原子であると共に、n1およびn2が共に0であるものを特に好ましく挙げることができる。 Moreover, as a specific example of the specific fluorenone compound used in the reaction step (3-1), for example, in the general formula (9), X 1 and X 2 are respectively position number 2 and position number 7 in the fluorene skeleton. Particularly preferred are those having a bromine atom bonded to the carbon atom of n1 and n1 and n2 being both 0.

反応工程(3−1)は、特定のジフェニル化合物の代わりに特定のフルオレノン化合物を用いたこと以外は前記反応工程(1−1)の前反応処理と同様に行うことができる。   The reaction step (3-1) can be performed in the same manner as the pre-reaction treatment in the reaction step (1-1) except that a specific fluorenone compound is used instead of the specific diphenyl compound.

〔反応工程(3−2)〕
反応工程(3−2)において用いられる、1価の有機基よりなる置換基を1〜5個有するベンゼンにおいて、置換基である1価の有機基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基などを挙げることができ、特にトルエンを好ましく挙げることができる。
[Reaction step (3-2)]
In the benzene having 1 to 5 substituents composed of a monovalent organic group used in the reaction step (3-2), specific examples of the monovalent organic group that is a substituent include, for example, a methyl group and an ethyl group. , A propyl group, an isopropyl group, a phenyl group, and the like, and particularly preferably toluene.

反応工程(3−2)は、酸性条件下で行われ、例えば硫酸が好ましく用いられる。   The reaction step (3-2) is performed under acidic conditions, and for example, sulfuric acid is preferably used.

〔反応工程(3−3)〕
反応工程(3−3)は、前記反応工程(1−2)と同様に行うことができる。
[Reaction step (3-3)]
The reaction step (3-3) can be carried out in the same manner as the reaction step (1-2).

<第4の製造方法>
第4の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、例えば上記構造式(4)で示される構造を有する金属錯体含有フルオレン化合物を得ることができるものである。
<Fourth manufacturing method>
The manufacturing method of the 4th metal complex containing fluorene compound can obtain the metal complex containing fluorene compound which has a structure shown, for example by the said Structural formula (4).

すなわち、第4の製造方法において、本発明の金属錯体含有フルオレン化合物は、上記一般式(10)で示されるフェノールピリジン化合物(以下、単に「特定のフェノールピリジン化合物」ともいう。)と、その主鎖の両端にハロゲン原子を有する、有機基のジハロゲン化物(以下、単に「特定のジハロゲン化物」ともいう。)とを反応させることにより中間反応生成物(4−1)を得(以下、この反応工程を「反応工程(4−1)」ともいう。)、次いで、中間反応生成物(4−1)と、上記一般式(11)で示されるフルオレン化合物(以下、単に「特定のフルオレン化合物」ともいう。)とを反応させて中間反応生成物(4−2)を得(以下、この反応工程を「反応工程(4−2)」ともいう。)、更に、中間反応生成物(4−2)と、特定の金属錯体化合物とを反応させること(以下、この反応工程を「反応工程(4−3)」ともいう。)により、製造することもできる。   That is, in the fourth production method, the metal complex-containing fluorene compound of the present invention is a phenol pyridine compound represented by the above general formula (10) (hereinafter also simply referred to as “specific phenol pyridine compound”) and its main component. An intermediate reaction product (4-1) is obtained by reacting with a dihalide of an organic group having a halogen atom at both ends of the chain (hereinafter also simply referred to as “specific dihalide”) (hereinafter referred to as this reaction). The step is also referred to as “reaction step (4-1)”), then the intermediate reaction product (4-1), and the fluorene compound represented by the general formula (11) (hereinafter simply referred to as “specific fluorene compound”). To obtain an intermediate reaction product (4-2) (hereinafter, this reaction step is also referred to as “reaction step (4-2)”), and further, an intermediate reaction product (4- 2) , Reacting the specific metal complex compound (hereinafter, also referred to the reaction step "reaction step (4-3).") By can also be prepared.

〔反応工程(4−1)〕
反応工程(4−1)において用いられる特定のフェノールピリジン化合物としては、例えば上記一般式(10)において、m1およびm2が共に0であるものを特に好ましく挙げることができる。
[Reaction step (4-1)]
As a specific phenol pyridine compound used in the reaction step (4-1), for example, in the general formula (10), those in which m1 and m2 are both 0 are particularly preferable.

反応工程(4−1)に用いられる特定のジハロゲン化物は、2価の有機基と、2つのハロゲン原子とよりなるものであり、2価の有機基としては、例えば炭素原子数1〜8のアルキレン基および、置換基を有するまたは有さない1〜3環の2価の芳香族基(例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基またはキシリレン基等)が挙げられ、好ましくは、炭素原子数1〜8のアルキレン基である。
このような特定のジハロゲン化物としては、例えばジブロモブタンを特に好ましく挙げることができる。
The specific dihalide used in the reaction step (4-1) is composed of a divalent organic group and two halogen atoms. Examples of the divalent organic group include those having 1 to 8 carbon atoms. Examples thereof include an alkylene group and a 1 to 3 ring divalent aromatic group (for example, a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, or a xylylene group) having or not having a substituent, and preferably has 1 carbon atom. Is an alkylene group of ˜8.
As such a specific dihalide, for example, dibromobutane can be particularly preferably mentioned.

反応工程(4−1)においては、適宜の溶剤が用いられる。斯かる溶剤の具体例としては、例えばジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができ、これらの中では、ジメチルスルホキシドを用いることが好ましい。   In the reaction step (4-1), an appropriate solvent is used. Specific examples of such a solvent include dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylformamide, dimethylacetamide and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more, and among them, dimethyl sulfoxide is preferably used.

また、反応工程(4−1)は、塩基化合物の存在下において行うことが好ましい。その具体例としては、例えばアルカリ金属ヒドロキシド、アルカリ土類金属ヒドロキシド、アルカリ金属カーボネート、アルカリ土類金属カーボネート、アルカリ金属アセテート、アルカリ土類金属アセテート、アルカリ金属ハイドロジェンカーボネート、アルカリ土類金属ハイドロジェンカーボネート、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属アルコキシド、一級アミン、二級アミン、および三級アミンなどを用いることができる。
以上において、炭酸カリウムを好ましく用いることができる。
このような塩基化合物は、例えば1〜10mol、好ましくは3〜7molの範囲で用いられる。
In addition, the reaction step (4-1) is preferably performed in the presence of a base compound. Specific examples thereof include, for example, alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, alkaline earth metal carbonates, alkali metal acetates, alkaline earth metal acetates, alkali metal hydrogen carbonates, alkaline earth metal hydroxides. Gen carbonate, alkali metal alkoxide, alkaline earth metal alkoxide, primary amine, secondary amine, tertiary amine, and the like can be used.
In the above, potassium carbonate can be preferably used.
Such a basic compound is used in the range of, for example, 1 to 10 mol, preferably 3 to 7 mol.

反応工程(4−1)は、反応の活性を高めるため、触媒量のヨウ化カリウムの存在下で行うことが好ましい。   The reaction step (4-1) is preferably performed in the presence of a catalytic amount of potassium iodide in order to increase the activity of the reaction.

反応工程(4−1)における種々の反応条件としては、例えば反応温度は、20〜100℃、好ましくは30〜60℃とされる。
また、反応時間は、5〜30時間、好ましくは10〜20時間とされる。
As various reaction conditions in reaction process (4-1), reaction temperature shall be 20-100 degreeC, for example, Preferably it is 30-60 degreeC.
The reaction time is 5 to 30 hours, preferably 10 to 20 hours.

〔反応工程(4−2)〕
反応工程(4−2)において用いられる特定のフルオレン化合物としては、例えば上記一般式(11)において、X1 およびX2 が、それぞれ、フルオレン骨格における位置番号2および位置番号7の炭素原子に結合する臭素原子であると共に、n1およびn2が共に0であるものを特に好ましく挙げることができる。
[Reaction step (4-2)]
As a specific fluorene compound used in the reaction step (4-2), for example, in the above general formula (11), X 1 and X 2 are bonded to carbon atoms at position number 2 and position number 7 in the fluorene skeleton, respectively. Particularly preferred are those in which n1 and n2 are both 0.

ここで、反応工程(4−2)は前記反応工程(4−1)と同様に行うことができる。   Here, the reaction step (4-2) can be performed in the same manner as the reaction step (4-1).

〔反応工程(4−3)〕
反応工程(4−3)は、前記反応工程(1−2)と同様に行うことができる。
[Reaction step (4-3)]
The reaction step (4-3) can be carried out in the same manner as in the reaction step (1-2).

<第5の製造方法>
第5の金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法は、例えば上記構造式(5)で示される構造を有する金属錯体含有フルオレン化合物を得ることができるものである。
<Fifth manufacturing method>
The manufacturing method of the 5th metal complex containing fluorene compound can obtain the metal complex containing fluorene compound which has a structure shown by the said Structural formula (5), for example.

すなわち、第5の製造方法において、本発明の金属錯体含有フルオレン化合物は、上記一般式(12)で示されるヒドロキシピリジン誘導体(以下、単に「特定のヒドロキシピリジン誘導体」ともいう。)と、特定のジハロゲン化物とを反応させることにより中間反応生成物(5−1)を得(以下、この反応工程を「反応工程(5−1)」ともいう。)、次いで、中間反応生成物(5−1)と、上記一般式(13)で示されるベンゼン誘導体(以下、単に「特定のベンゼン誘導体」ともいう。)とを反応させて中間反応生成物(5−2)を得(以下、この反応工程を「反応工程(5−2)」ともいう。)、更に、中間反応生成物(5−2)と、特定のフルオレン化合物とを反応させて中間反応生成物(5−3)を得(以下、この反応工程を「反応工程(5−3)」ともいう。)、更に、中間反応生成物(5−3)と、特定の金属錯体化合物とを反応させること(以下、この反応工程を「反応工程(5−4)」ともいう。)により、製造することもできる。   That is, in the fifth production method, the metal complex-containing fluorene compound of the present invention includes a hydroxypyridine derivative represented by the general formula (12) (hereinafter also simply referred to as “specific hydroxypyridine derivative”) and a specific compound. An intermediate reaction product (5-1) is obtained by reacting with a dihalide (hereinafter, this reaction step is also referred to as “reaction step (5-1)”), and then the intermediate reaction product (5-1). ) And a benzene derivative represented by the general formula (13) (hereinafter also simply referred to as “specific benzene derivative”) to obtain an intermediate reaction product (5-2) (hereinafter referred to as this reaction step). Is also referred to as “reaction step (5-2)”), and further, the intermediate reaction product (5-2) is reacted with a specific fluorene compound to obtain an intermediate reaction product (5-3) (hereinafter referred to as “reaction step (5-2)”). , This reaction process Reaction step (5-3) ”), and further reacting the intermediate reaction product (5-3) with a specific metal complex compound (hereinafter, this reaction step is referred to as“ reaction step (5-4) ”. ) ").) Can also be produced.

〔反応工程(5−1)〕
反応工程(5−1)において用いられる特定のヒドロキシピリジン誘導体を示す一般式(12)において、X6 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくはホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(13)におけるX7 と互いに異なるものである。
[Reaction step (5-1)]
In the general formula (12) indicating the specific hydroxypyridine derivative used in the reaction step (5-1), X 6 represents a reactive halogenated functional group or a boron derivative functional group, and the above general formula (13) Is different from X 7 in FIG.

ハロゲン性官能基の具体例としては、上記反応工程(2−1)で用いられる特定のフェニルピリジン誘導体におけるX4 として挙げたものと同じものを挙げることができ、特に、−Br基または−I基を好ましく挙げることができる。
また、ホウ素誘導体官能基としては、上記反応工程(2−1)で用いられる特定のフェニルピリジン誘導体におけるX4 として挙げたものと同じものを挙げることができ、特に、式−B(OH2 )で表されるボロン酸基を好ましく挙げることができる。
Specific examples of the halogenated functional group may include the same as those mentioned as X 4 in the specific phenylpyridine derivative used in the above reaction step (2-1), and in particular, —Br group or —I Preference is given to groups.
As the boron derivative functional group include the same as those exemplified as X 4 in particular phenyl pyridine derivative used in the reaction step (2-1), in particular, the formula -B (OH 2) The boronic acid group represented by these can be mentioned preferably.

このような特定のヒドロキシピリジン誘導体としては、例えば上記一般式(12)において、m3が0であると共に、X6 が臭素原子であるものを特に好ましく挙げることができる。 Such specific hydroxypyridine derivatives, for example, the general formula (12), the m3 is 0, X 6 can be cited particularly preferably those which are bromine atoms.

反応工程(5−1)に用いられる特定のジハロゲン化物としては、例えばジブロモブタンを特に好ましく挙げることができる。   As the specific dihalide used in the reaction step (5-1), for example, dibromobutane can be particularly preferably mentioned.

以上の反応工程(5−1)は、前記反応工程(4−1)と同様に行うことができる。   The above reaction process (5-1) can be performed similarly to the said reaction process (4-1).

〔反応工程(5−2)〕
また、反応工程(5−2)において用いられる特定のベンゼン誘導体を示す一般式(13)において、X7 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくはホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(12)におけるX6 と互いに異なるものである。
[Reaction step (5-2)]
In the general formula (13) indicating the specific benzene derivative used in the reaction step (5-2), X 7 represents a reactive halogenated functional group or a boron derivative functional group, and the above general formula (12) And X 6 in the above.

ハロゲン性官能基の具体例としては、上記X6 として挙げたものと同じものを挙げることができ、特に、−Br基または−I基を好ましく挙げることができる。
また、ホウ素誘導体官能基としては、上記X6 として挙げたものと同じものを挙げることができ、特に、式−B(OH2 )で表される基を好ましく挙げることができる。
Specific examples of the halogen functional group include the same as those mentioned as X 6 above, and in particular, a —Br group or an —I group can be preferably exemplified.
As the boron derivative functional groups, said X those same can be exemplified as mentioned as 6, in particular, can be preferably exemplified a group represented by the formula -B (OH 2).

このような特定のベンゼン誘導体の具体例としては、例えば上記一般式(13)において、X7 が、式−B(OH2 )で表されるボロン酸基であり、m4が0であるものを特に好ましく挙げることができる。 As a specific example of such a specific benzene derivative, for example, in the general formula (13), X 7 is a boronic acid group represented by the formula -B (OH 2 ), and m4 is 0. Particularly preferred examples are listed.

以上の反応工程(5−2)は、スズキ法を利用するものであって、前記反応工程(2−1)と同様に行うことができる。   The above reaction step (5-2) utilizes the Suzuki method and can be performed in the same manner as the reaction step (2-1).

〔反応工程(5−3)〕
反応工程(5−3)において用いられる特定のフルオレン化合物としては、例えば上記一般式(11)において、X1 およびX2 が、それぞれ、フルオレン骨格における位置番号2および位置番号7の炭素原子に結合する臭素原子であると共に、n1およびn2が共に0であるものを特に好ましく挙げることができる。
[Reaction step (5-3)]
As a specific fluorene compound used in the reaction step (5-3), for example, in the above general formula (11), X 1 and X 2 are bonded to carbon atoms at position number 2 and position number 7 in the fluorene skeleton, respectively. Particularly preferred are those in which n1 and n2 are both 0.

反応工程(5−3)においては、適宜の溶剤が用いられる。斯かる溶剤の具体例としては、例えばジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができ、これらの中では、ジメチルスルホキシドを用いることが好ましい。   In the reaction step (5-3), an appropriate solvent is used. Specific examples of such a solvent include dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylformamide, dimethylacetamide and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more, and among them, dimethyl sulfoxide is preferably used.

反応工程(5−3)は、適宜の触媒の存在下において行うことが好ましく、例えばトリエチルベンジルアンモニウムクロライドが好ましく用いられる。   The reaction step (5-3) is preferably performed in the presence of an appropriate catalyst, and for example, triethylbenzylammonium chloride is preferably used.

また、反応工程(5−3)は、アルカリ性とされた溶液中において行うことが好ましく、例えば水酸化ナトリウムの水溶液、水酸化カリウムの水溶液、水酸化バリウムの水溶液が好ましく用いられ、特に水酸化ナトリウムの水溶液が好ましく用いられる。   The reaction step (5-3) is preferably carried out in an alkaline solution. For example, an aqueous solution of sodium hydroxide, an aqueous solution of potassium hydroxide, or an aqueous solution of barium hydroxide is preferably used. An aqueous solution of is preferably used.

反応工程(5−3)における種々の反応条件としては、例えば反応温度は、20〜100℃、好ましくは30〜60℃とされる。
また、反応時間は、5〜70時間、好ましくは10〜50時間とされる。
As various reaction conditions in reaction process (5-3), reaction temperature shall be 20-100 degreeC, for example, Preferably it is 30-60 degreeC.
The reaction time is 5 to 70 hours, preferably 10 to 50 hours.

〔反応工程(5−4)〕
反応工程(5−4)は、前記反応工程(1−2)と同様に行うことができる。
[Reaction step (5-4)]
The reaction step (5-4) can be carried out in the same manner as in the reaction step (1-2).

以上に、金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法を説明したが、本発明に係る金属錯体含有フルオレン化合物は、上記の製造方法によって製造されたものに限定されるものではなく、他の製造方法によって製造されたものであってもよい。   As mentioned above, although the manufacturing method of the metal complex containing fluorene compound was demonstrated, the metal complex containing fluorene compound which concerns on this invention is not limited to what was manufactured by said manufacturing method, It manufactures by another manufacturing method It may be what was done.

本発明によれば、2つのハロゲン性官能基および特定の金属錯体部位を有するフルオレン骨格構造を有する、新規な金属錯体含有フルオレン化合物、およびその製造方法が提供される。そして、このような金属錯体含有フルオレン化合物は、例えば有機EL素子の形成に用いられる優れた発光特性および耐久性を有する機能性有機材料としての重合体の合成に用いられる単量体として好適に用いることができる可能性がある。   According to the present invention, a novel metal complex-containing fluorene compound having a fluorene skeleton structure having two halogen functional groups and a specific metal complex site, and a method for producing the same are provided. Such a metal complex-containing fluorene compound is suitably used as a monomer used for the synthesis of a polymer as a functional organic material having excellent light-emitting properties and durability, for example, used for forming an organic EL device. Could be possible.

以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

(フェニルピリジン化合物の合成)
2- ブロモピリジン24.5g(155mmol) を脱水ジエチルエーテル400mlに溶解した系をアセトン−ドライアイスバスを用いて−78℃に冷却した後、当該系にn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液) 97mlを滴下し、その後、30分間撹拌した。次いで、トリメトキシボラン32.2g(310mmol)を滴下した後、当該系を、アセトン−ドライアイスバスから外して室温にまで上昇させ、その後、24時間撹拌した。得られた反応溶液を水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留することにより、中間体(1)を得た。
(Synthesis of phenylpyridine compounds)
A system in which 24.5 g (155 mmol) of 2-bromopyridine was dissolved in 400 ml of dehydrated diethyl ether was cooled to −78 ° C. using an acetone-dry ice bath, and then n-butyllithium (1.6 M hexane solution) was added to the system. 97 ml was added dropwise and then stirred for 30 minutes. Subsequently, after 32.2 g (310 mmol) of trimethoxyborane was dropped, the system was removed from the acetone-dry ice bath and allowed to rise to room temperature, and then stirred for 24 hours. The obtained reaction solution was washed with water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure to obtain Intermediate (1).

上記において得られた中間体(1)の全量(155mmol)、ジブロモベンゼン146.3g(620mmol)およびテトラキス(トリフェニルホスフィンパラジウム)5g(4.3mmol) を、トルエン600mlおよび2NのNa2 CO3 水溶液300mlの混合溶剤に添加した系を90℃に加熱し、30時間撹拌した。そして、原料の消費を確認後、1Nの塩酸を滴下して反応を終了した。その後、当該系をトルエンによって抽出処理し、得られたトルエン溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。 The total amount (155 mmol) of intermediate (1) obtained above, 146.3 g (620 mmol) of dibromobenzene and 5 g (4.3 mmol) of tetrakis (triphenylphosphine palladium) were added to 600 ml of toluene and 2N aqueous Na 2 CO 3 solution. The system added to 300 ml of the mixed solvent was heated to 90 ° C. and stirred for 30 hours. Then, after confirming the consumption of the raw material, 1N hydrochloric acid was added dropwise to complete the reaction. Thereafter, the system was extracted with toluene, the obtained toluene solution was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.

得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、ブロモフェニルピリジン25g(107mmol)を得た。   The resulting crude product was purified by column chromatography to obtain 25 g (107 mmol) of bromophenylpyridine.

<反応工程(1−1)>
(前反応処理)
得られたブロモフェニルピリジン20g (85.4mmol)をテトラヒドロフラン150mlに溶解した系をアセトン−ドライアイスバスを用いて−78℃に冷却した後、当該系にn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液) 53.3mlを滴下し、その後、60分間撹拌した。次いで、4, 4’−ジブロモビフェニルカルボキシルエキシドメチルエステル(JACS, 1956, 78, 3196)15.5g(42mmol)をテトラヒドロフラン40mlに溶解した溶液を滴下した後、当該系を、アセトン−ドライアイスバスから外して室温にまで上昇させ、その後、24時間撹拌した。得られた反応溶液を水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。
<Reaction step (1-1)>
(Pre-reaction treatment)
A system in which 20 g (85.4 mmol) of bromophenylpyridine obtained was dissolved in 150 ml of tetrahydrofuran was cooled to −78 ° C. using an acetone-dry ice bath, and then n-butyllithium (1.6 M hexane solution) was added to the system. 53.3 ml was added dropwise and then stirred for 60 minutes. Subsequently, a solution prepared by dissolving 15.5 g (42 mmol) of 4,4′-dibromobiphenyl carboxylexoxide methyl ester (JACS, 1956, 78, 3196) in 40 ml of tetrahydrofuran was dropped, and then the system was added to an acetone-dry ice bath. And then allowed to warm to room temperature and then stirred for 24 hours. The obtained reaction solution was washed with water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.

(後反応処理)
得られた生成物を、硫酸4mlを添加した酢酸200mlと混合し、白色の沈殿物が生成するまで加熱還流した。
得られた沈殿物をフィルターにより濾過し、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間反応生成物(1)20gを得た。
(Post-reaction treatment)
The obtained product was mixed with 200 ml of acetic acid to which 4 ml of sulfuric acid was added, and heated to reflux until a white precipitate was formed.
The obtained precipitate was filtered through a filter and purified by column chromatography to obtain 20 g of an intermediate reaction product (1).

<反応工程(1−2)>
中間反応生成物(1)2.0g(3mmol)およびビス(2−フェニルピリジン)イリジウムアセチルアセトナート3.7g(6.2mmol)をグリセリン50mlに溶解した系を200℃に加熱し、3時間撹拌した。その後、室温に冷却した当該系にクロロホルムを添加し、得られたクロロホルム溶液を飽和食塩水で洗浄した。次いで、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、最終反応生成物(1)2.5gを得た。
<Reaction step (1-2)>
A system in which 2.0 g (3 mmol) of the intermediate reaction product (1) and 3.7 g (6.2 mmol) of bis (2-phenylpyridine) iridium acetylacetonate were dissolved in 50 ml of glycerol was heated to 200 ° C. and stirred for 3 hours. did. Thereafter, chloroform was added to the system cooled to room temperature, and the resulting chloroform solution was washed with saturated brine. Next, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 2.5 g of the final reaction product (1).

得られた最終反応生成物(1)を飛行時間型質量分析法により分析した結果、当該最終反応生成物(1)は、上記構造式(1)で示される金属錯体含有フルオレン化合物であった。   As a result of analyzing the obtained final reaction product (1) by time-of-flight mass spectrometry, the final reaction product (1) was a metal complex-containing fluorene compound represented by the structural formula (1).

以上の実施例1に係る反応工程(1−1)および反応(1−2)は、下記反応式(1)に係るものである。   The reaction step (1-1) and reaction (1-2) according to Example 1 described above relate to the following reaction formula (1).

Figure 2005325048
Figure 2005325048

(フルオレン誘導体の合成)
1,4−ジブロモベンゼン24.1g(94.3mmol)をテトラヒドロフラン150mlに溶解した系をアセトン−ドライアイスバスを用いて−78℃に冷却した後、当該系にt−ブチルリチウム(1.5Mヘキサン溶液)126mlを滴下し、その後、1時間撹拌した。次いで、メチル2−フェニルベンゾエイト10g(48mmol)をテトラヒドロフラン50mlに溶解した溶液を滴下した後、当該系を、アセトン−ドライアイスバスから外して室温にまで上昇させ、その後、12時間撹拌した。得られた反応溶液を飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。得られた生成物を100gのポリりん酸中に添加した系を80℃に加熱し、白色の沈殿物が生成されるまで加熱を続けた。その後、当該系にエーテルを添加して抽出処理し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧蒸留した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することによりフルオレン誘導体前躯体20gを得た。
(Synthesis of fluorene derivatives)
A system in which 24.1 g (94.3 mmol) of 1,4-dibromobenzene was dissolved in 150 ml of tetrahydrofuran was cooled to −78 ° C. using an acetone-dry ice bath, and then t-butyllithium (1.5 M hexane was added to the system. Solution) 126 ml was added dropwise and then stirred for 1 hour. Subsequently, a solution in which 10 g (48 mmol) of methyl 2-phenylbenzoate was dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran was dropped, and then the system was removed from the acetone-dry ice bath to room temperature, and then stirred for 12 hours. The obtained reaction solution was washed with saturated brine, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure. A system in which the obtained product was added to 100 g of polyphosphoric acid was heated to 80 ° C., and heating was continued until a white precipitate was formed. Thereafter, ether was added to the system for extraction treatment, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure. The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 20 g of a fluorene derivative precursor.

フルオレン誘導体前躯体9.5g(20mmol)をテトラヒドロフラン(THF)200mlに溶解した系をアセトン−ドライアイスバスを用いて−78℃に冷却した後、n−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液)26.2mlを滴下し、その後、2時間撹拌した。次いで、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン11.2g(60mmol)を滴下した後、当該系を、アセトン−ドライアイスバスから外して室温にまで上昇させ、その後、24時間撹拌した。得られた反応溶液を水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。得られた固体状の生成物をメタノールで再結晶することにより精製して、フルオレン誘導体8.5gを得た。   A system in which 9.5 g (20 mmol) of a fluorene derivative precursor was dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran (THF) was cooled to −78 ° C. using an acetone-dry ice bath, and then n-butyllithium (1.6 M hexane solution) 26. 2 ml was added dropwise and then stirred for 2 hours. Next, after 11.2 g (60 mmol) of 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane was added dropwise, the system was removed from the acetone-dry ice bath to room temperature. And then stirred for 24 hours. The obtained reaction solution was washed with water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure. The obtained solid product was purified by recrystallization from methanol to obtain 8.5 g of a fluorene derivative.

<反応工程(2−1)>
フルオレン誘導体2.8g(5mmol)と、実施例1において得られたブロモフェニルピリジン2.6g(11mmol)と、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.2g(0.15mmol)とを、トルエン15mlおよび2NのNa2 CO3 水溶液7.5mlの混合溶剤に添加した系を90℃に加熱し、24時間撹拌した。原料が反応に消費されたのを確認した後、1Nの塩酸を滴下して当該反応を終了した。得られた反応溶液をトルエンで抽出処理し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより中間反応生成物(2−1)2.0gを得た。
<Reaction step (2-1)>
2.8 g (5 mmol) of the fluorene derivative, 2.6 g (11 mmol) of bromophenylpyridine obtained in Example 1 and 0.2 g (0.15 mmol) of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were dissolved in toluene. A system added to a mixed solvent of 15 ml and 7.5 ml of a 2N Na 2 CO 3 aqueous solution was heated to 90 ° C. and stirred for 24 hours. After confirming that the raw material was consumed in the reaction, 1N hydrochloric acid was added dropwise to complete the reaction. The obtained reaction solution was extracted with toluene, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 2.0 g of an intermediate reaction product (2-1).

<反応工程(2−2)>
中間反応生成物(2−1)2.0g(3.3mmol)および塩化鉄(III)0.05g(0.3mmol)をクロロホルム5mlに溶解した系に、臭素0.4ml(7.2 mmol)を室温にて滴下した。その後、当該系を8時間撹拌し、次いで、チオ硫酸ナトリウム水溶液を滴下した。得られた反応溶液を水で3回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物を、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより中間反応生成物(2−2)2.2gを得た。
<Reaction step (2-2)>
In a system in which 2.0 g (3.3 mmol) of the intermediate reaction product (2-1) and 0.05 g (0.3 mmol) of iron (III) chloride were dissolved in 5 ml of chloroform, 0.4 ml (7.2 mmol) of bromine Was added dropwise at room temperature. Thereafter, the system was stirred for 8 hours, and then an aqueous sodium thiosulfate solution was added dropwise. The obtained reaction solution was washed with water three times, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 2.2 g of an intermediate reaction product (2-2).

<反応工程(2−3)>
中間反応生成物(2−2)2.0g(2.6mmol)およびビス(2−フェニルピリジン)イリジウムアセチルアセトナート3.4g(5.6mmol)をグリセリン50mlに溶解した系を用いたこと以外は実施例1の反応工程(1−2)と同様に反応処理を行うと共に、得られた粗生成物の精製を行うことにより、最終反応生成物(2)1.5gを得た。
<Reaction step (2-3)>
Except for using a system in which 2.0 g (2.6 mmol) of the intermediate reaction product (2-2) and 3.4 g (5.6 mmol) of bis (2-phenylpyridine) iridium acetylacetonate were dissolved in 50 ml of glycerol. The reaction process was performed in the same manner as in the reaction step (1-2) of Example 1, and the obtained crude product was purified to obtain 1.5 g of the final reaction product (2).

得られた最終反応生成物(2)を飛行時間型質量分析法により分析した結果、当該最終反応生成物(2)は、上記構造式(2)で示される金属錯体含有フルオレン化合物であった。   As a result of analyzing the obtained final reaction product (2) by time-of-flight mass spectrometry, the final reaction product (2) was a metal complex-containing fluorene compound represented by the structural formula (2).

以上の実施例2に係る反応工程(2−1)〜反応工程(2−3)は、下記反応式(2)に係るものである。   The above reaction process (2-1) to reaction process (2-3) according to Example 2 relate to the following reaction formula (2).


Figure 2005325048
Figure 2005325048

<反応工程(3−1)>
実施例1において得られたブロモフェニルピリジン2.3g (10mmol)をテトラヒドロフラン20mlに溶解した系をアセトン−ドライアイスバスを用いて−78℃に冷却した後、当該系にn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液) 6.8mlを滴下し、その後、60分間撹拌した。次いで、2, 7−ジブロモフルオレノン3.4g(10mmol)をテトラヒドロフラン5mlに溶解した溶液を滴下した後、当該系を、アセトン−ドライアイスバスから外して室温にまで上昇させ、その後、24時間撹拌した。得られた反応溶液にクロロホルムを添加し、得られたクロロホルム溶液を水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間反応生成物(3−1)3.6gを得た。
<Reaction step (3-1)>
A system in which 2.3 g (10 mmol) of bromophenylpyridine obtained in Example 1 was dissolved in 20 ml of tetrahydrofuran was cooled to −78 ° C. using an acetone-dry ice bath, and then n-butyllithium (1. 6.8 ml of 6M hexane solution) was added dropwise and then stirred for 60 minutes. Subsequently, a solution of 3.4 g (10 mmol) of 2,7-dibromofluorenone dissolved in 5 ml of tetrahydrofuran was dropped, and then the system was removed from the acetone-dry ice bath to room temperature, and then stirred for 24 hours. . Chloroform was added to the obtained reaction solution, the obtained chloroform solution was washed with water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 3.6 g of an intermediate reaction product (3-1).

<反応工程(3−2)>
中間反応生成物(3−1)3.5g(7.1mmol)をトルエン50mlに溶解した系に硫酸2mlを添加し、白色の沈殿物が生成するまで加熱還流した。
得られた沈殿物をフィルターにより濾過し、展開溶媒としてクロロホルムを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間反応生成物(3−2)2.9gを得た。
<Reaction step (3-2)>
2 ml of sulfuric acid was added to a system in which 3.5 g (7.1 mmol) of the intermediate reaction product (3-1) was dissolved in 50 ml of toluene, and the mixture was heated to reflux until a white precipitate was formed.
The obtained precipitate was filtered through a filter and purified by column chromatography using chloroform as a developing solvent to obtain 2.9 g of an intermediate reaction product (3-2).

<反応工程(3−3)>
中間反応生成物(3−2)3.0g(6.3mmol)およびビス(2−フェニルピリジン)イリジウムアセチルアセトナート3.9g(6.5mmol)をグリセリン65mlに溶解した系を用いたこと以外は実施例1の反応工程(1−2)と同様に反応処理を行うと共に、得られた粗生成物の精製を行うことにより、最終反応生成物(3)2.7gを得た。
<Reaction step (3-3)>
Except for using a system in which 3.0 g (6.3 mmol) of the intermediate reaction product (3-2) and 3.9 g (6.5 mmol) of bis (2-phenylpyridine) iridium acetylacetonate were dissolved in 65 ml of glycerol. The reaction process was performed in the same manner as in the reaction step (1-2) of Example 1, and the obtained crude product was purified to obtain 2.7 g of the final reaction product (3).

得られた最終反応生成物(3)を飛行時間型質量分析法により分析した結果、当該最終反応生成物(3)は、上記構造式(3)で示される金属錯体含有フルオレン化合物であった。   As a result of analyzing the obtained final reaction product (3) by time-of-flight mass spectrometry, the final reaction product (3) was a metal complex-containing fluorene compound represented by the structural formula (3).

実施例3に係る反応工程(3−1)〜反応工程(3−3)は、下記反応式(3)に係るものである。   The reaction step (3-1) to the reaction step (3-3) according to Example 3 relate to the following reaction formula (3).

Figure 2005325048
Figure 2005325048

(フェノールピリジン化合物の合成)
ブロモテトラヒドロピラニルオキシベンゼン10g(38.9mmol)をテトラヒドロフラン80mlに溶解した系をアセトン−ドライアイスバスを用いて−78℃に冷却した後、当該系にn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液) 26mlを滴下し、その後、2時間撹拌した。次いで、トリメトキシボラン5ml(44.6mmol)を滴下した後、当該系を、アセトン−ドライアイスバスから外して室温にまで上昇させ、その後、8時間撹拌した。得られた反応溶液を水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留して中間体(4−1)6.9gを得た。
(Synthesis of phenol pyridine compounds)
A system in which 10 g (38.9 mmol) of bromotetrahydropyranyloxybenzene was dissolved in 80 ml of tetrahydrofuran was cooled to −78 ° C. using an acetone-dry ice bath, and then n-butyllithium (1.6 M hexane solution) was added to the system. 26 ml was added dropwise and then stirred for 2 hours. Then, 5 ml (44.6 mmol) of trimethoxyborane was added dropwise, and then the system was removed from the acetone-dry ice bath to room temperature, and then stirred for 8 hours. The obtained reaction solution was washed with water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure to obtain 6.9 g of intermediate (4-1).

中間体(4−1)6.9g(28mmol)と、2−ブロモピリジン(3.9ml,40mmol)と、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)2.3g(2.16mmol)とを、トルエン160mlおよび2NのNa2 CO3 水溶液80mlの混合溶剤に溶解した系を110℃に加熱し、30時間撹拌した。その後、当該系をトルエンで抽出処理し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間体(4−2)5.1gを得た。
Intermediate (4-1) 6.9 g (28 mmol), 2-bromopyridine (3.9 ml, 40 mmol), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) 2.3 g (2.16 mmol), toluene A system dissolved in a mixed solvent of 160 ml and 80 ml of 2N Na 2 CO 3 aqueous solution was heated to 110 ° C. and stirred for 30 hours. Thereafter, the system was extracted with toluene, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 5.1 g of intermediate (4-2).

中間体(4−2)5.1gを75%エタノール水溶液50mlに溶解した系に濃塩酸1mlを添加し、当該系を6時間加熱還流させた。次いでエタノールを減圧留去し、残留した溶液にエーテルと水酸化カリウム水溶液を添加して抽出処理し、有機層を除去した。その後、得られた水層のpHを、塩酸を添加することにより酸性にし、更にエーテルを添加して抽出処理し、有機層を除去すると共に、得られた水層のpHを、炭酸ナトリウム水溶液を添加することにより中性にし、更にクロロホルムを添加して抽出処理した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧蒸留することにより、フェノールピリジン3.2gを得た。   1 ml of concentrated hydrochloric acid was added to a system in which 5.1 g of intermediate (4-2) was dissolved in 50 ml of 75% aqueous ethanol, and the system was heated to reflux for 6 hours. Subsequently, ethanol was distilled off under reduced pressure, and ether and an aqueous potassium hydroxide solution were added to the remaining solution for extraction treatment, and the organic layer was removed. Thereafter, the pH of the obtained aqueous layer is acidified by adding hydrochloric acid, and further, ether is added for extraction treatment, the organic layer is removed, and the pH of the obtained aqueous layer is adjusted with an aqueous sodium carbonate solution. The mixture was neutralized by addition, and further extracted with chloroform. The obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure to obtain 3.2 g of phenolpyridine.

<反応工程(4−1)>
フェノールピリジン3.0g(17.5mmol)と、ヨウ化カリウム0.01gと、炭酸カリウム6.9g(50mmol)とを、ジメチルスルホキシド50mlに溶解した系に、ジブロモブタン19.3gをジメチルスルホキシド30mlに溶解した溶液を滴下し、当該系を50℃に加熱し、12時間撹拌した。その後、得られた反応溶液に水5mlを滴下して反応を終了し、当該反応溶液をクロロホルムによって抽出処理し、得られたクロロホルム溶液を水で3回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留して中間反応生成物(4−1)3.7gを得た。
<Reaction step (4-1)>
In a system in which 3.0 g (17.5 mmol) of phenolpyridine, 0.01 g of potassium iodide, and 6.9 g (50 mmol) of potassium carbonate were dissolved in 50 ml of dimethyl sulfoxide, 19.3 g of dibromobutane was added to 30 ml of dimethyl sulfoxide. The dissolved solution was added dropwise and the system was heated to 50 ° C. and stirred for 12 hours. Thereafter, 5 ml of water was dropped into the obtained reaction solution to terminate the reaction, the reaction solution was extracted with chloroform, the resulting chloroform solution was washed with water three times, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. Further, the solvent was distilled under reduced pressure to obtain 3.7 g of an intermediate reaction product (4-1).

<反応工程(4−2)>
中間反応生成物(4−1)3.1g(10mmol)と、2,7−ジブロモフルオレン1.5g(4.5mmol)と、炭酸カリウム10g(72mmol) とを、ジメチルスルホキシド50mlに溶解した系を80℃に加熱し、12時間攪拌した。得られた反応溶液を室温まで冷却し、クロロホルムと水を添加して抽出処理した。更に水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間反応生成物(4−2)4.3gを得た。
<Reaction step (4-2)>
A system in which 3.1 g (10 mmol) of the intermediate reaction product (4-1), 1.5 g (4.5 mmol) of 2,7-dibromofluorene and 10 g (72 mmol) of potassium carbonate were dissolved in 50 ml of dimethyl sulfoxide. The mixture was heated to 80 ° C. and stirred for 12 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature and extracted by adding chloroform and water. Furthermore, it wash | cleaned in order of water and a saturated salt solution, the organic layer was dried with anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 4.3 g of an intermediate reaction product (4-2).

<反応工程(4−3)>
中間反応生成物(4−2)1.0g(1.3mmol)およびビス(2−フェニルピリジン)イリジウムアセチルアセトナート1.5g (2.6mmol)をグリセリン5mlに溶解した系を用いたこと以外は実施例1の反応工程(1−2)と同様に反応処理を行うと共に、得られた粗生成物の精製を行うことにより、最終反応生成物(4)2.7gを得た。
<Reaction step (4-3)>
Except that 1.0 g (1.3 mmol) of the intermediate reaction product (4-2) and 1.5 g (2.6 mmol) of bis (2-phenylpyridine) iridium acetylacetonate were dissolved in 5 ml of glycerol were used. The reaction process was performed in the same manner as in the reaction step (1-2) of Example 1, and the resulting crude product was purified to obtain 2.7 g of the final reaction product (4).

得られた最終反応生成物(4)を飛行時間型質量分析法により分析した結果、当該最終反応生成物(4)は、上記構造式(4)で示される金属錯体含有フルオレン化合物であった。   As a result of analyzing the obtained final reaction product (4) by time-of-flight mass spectrometry, the final reaction product (4) was a metal complex-containing fluorene compound represented by the structural formula (4).

以上の実施例4に係る反応工程(4−1)〜反応工程(4−3)は、下記反応式(4)に係るものである。   The above reaction process (4-1) to reaction process (4-3) according to Example 4 relate to the following reaction formula (4).

Figure 2005325048
Figure 2005325048

<反応工程(5−1)>
2−ブロモ−3−ヒドロキシピリジン17.4g(100mmol)と、ヨウ化カリウム0.82g(5mmol)と、炭酸カリウム 41.4g(300mmol)とを、ジメチルスルホキシド200mlに溶解した系に、ジブロモブタン54ml(448mmol)をジメチルスルホキシド100mlに溶解した溶液を滴下し、50℃で24時間撹拌した。原料の消費を確認した後、反応溶液を、クロロホルムと水とを添加することにより抽出処理した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間反応生成物(5−1)26.0gを得た。
<Reaction step (5-1)>
To a system in which 17.4 g (100 mmol) of 2-bromo-3-hydroxypyridine, 0.82 g (5 mmol) of potassium iodide and 41.4 g (300 mmol) of potassium carbonate were dissolved in 200 ml of dimethyl sulfoxide, 54 ml of dibromobutane was added. A solution of (448 mmol) dissolved in 100 ml of dimethyl sulfoxide was added dropwise and stirred at 50 ° C. for 24 hours. After confirming the consumption of the raw materials, the reaction solution was extracted by adding chloroform and water. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 26.0 g of an intermediate reaction product (5-1).

<反応工程(5−2)>
中間反応生成物(5−1)26g(84mmol)と、フェニルボロン酸15.2g(126mmol)と、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)2.9g(2.51mmol)とを、トルエン100mlおよび2NのNa2 CO3 50mlの混合溶剤に溶解した系を110℃に加熱し、48時間撹拌した。得られた反応溶液を室温まで冷却し、トルエンと水とを添加することにより抽出処理した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物を、展開溶媒としてクロロホルムを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間反応生成物(5−2)4.1gを得た。
<Reaction step (5-2)>
Intermediate reaction product (5-1) 26 g (84 mmol), phenylboronic acid 15.2 g (126 mmol), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) 2.9 g (2.51 mmol), toluene 100 ml and A system dissolved in a mixed solvent of 50 ml of 2N Na 2 CO 3 was heated to 110 ° C. and stirred for 48 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature and extracted by adding toluene and water. The obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography using chloroform as a developing solvent to obtain 4.1 g of an intermediate reaction product (5-2).

<反応工程(5−3)>
2,7−ジブロモフルオレン3.2g(10mmol)およびトリエチルベンジルアンモニウムクロリド4.5g(20mmol)をジメチルスルホキシド20mlに溶解した系に50%水酸化ナトリウム10ml水溶液を滴下し、その後、当該系に中間反応生成物(5−2 )4.1g(13mmol)をジメチルスルホキシド20mlに溶解した溶液を滴下し、50℃で24時間撹拌した。得られた反応溶液を室温まで冷却し、クロロホルムと水とを添加することにより抽出処理した。次いで飽和食塩水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、更に、溶媒を減圧蒸留した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間反応生成物(5−3)6.7gを得た。
<Reaction step (5-3)>
To a system in which 3.2 g (10 mmol) of 2,7-dibromofluorene and 4.5 g (20 mmol) of triethylbenzylammonium chloride were dissolved in 20 ml of dimethyl sulfoxide, a 10% aqueous solution of 50% sodium hydroxide was added dropwise. A solution of 4.1 g (13 mmol) of the product (5-2) in 20 ml of dimethyl sulfoxide was added dropwise and stirred at 50 ° C. for 24 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature and extracted by adding chloroform and water. Next, the organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure.
The obtained crude product was purified by column chromatography to obtain 6.7 g of an intermediate reaction product (5-3).

<反応工程(5−4)>
中間反応生成物(5−3)7.0g(9mmol)およびビス(2−フェニルピリジン)イリジウムアセチルアセトナート12.0 g (20mmol)をグリセリン150mlに溶解した系を用いたこと以外は実施例1の反応工程(1−2)と同様に反応処理を行うと共に、得られた粗生成物の精製を行うことにより、最終反応生成物(5)4.0gを得た。
<Reaction step (5-4)>
Example 1 except that 7.0 g (9 mmol) of the intermediate reaction product (5-3) and 12.0 g (20 mmol) of bis (2-phenylpyridine) iridium acetylacetonate were dissolved in 150 ml of glycerol. The reaction treatment was performed in the same manner as in the reaction step (1-2), and the resulting crude product was purified to obtain 4.0 g of the final reaction product (5).

得られた最終反応生成物(5)を飛行時間型質量分析法により分析した結果、当該最終反応生成物(5)は、上記構造式(5)で示される金属錯体含有フルオレン化合物であった。   As a result of analyzing the obtained final reaction product (5) by time-of-flight mass spectrometry, the final reaction product (5) was a metal complex-containing fluorene compound represented by the structural formula (5).

以上の実施例5に係る反応工程(5−1)〜反応工程(5−4)は、下記反応式(5)に係るものである。   The above reaction step (5-1) to reaction step (5-4) according to Example 5 relate to the following reaction formula (5).


Figure 2005325048
Figure 2005325048

Claims (7)

2つのハロゲン性官能基を有する芳香族化合物に、フェニルピリジン構造を有する金属錯体含有基が結合していることを特徴とする金属錯体含有化合物。   A metal complex-containing compound, wherein a metal complex-containing group having a phenylpyridine structure is bonded to an aromatic compound having two halogenated functional groups. 下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする金属錯体含有フルオレン化合物。
Figure 2005325048
〔式中、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R3 およびR4 は、単結合または2価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R5 およびR6 は、少なくとも一方が下記一般式(2)または一般式(3)に示される金属錯体部位を示すと共に、他方が1価の有機基、あるいは下記一般式(2)または一般式(3)に示される金属錯体部位を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数であり、wは1〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。m3は0〜3の整数であり、m4は0〜4の整数であり、wは1〜3の整数である。〕
The metal complex containing fluorene compound characterized by having the structure represented by following General formula (1).
Figure 2005325048
[In formula, X < 1 > and X < 2 > show a halogeno functional group each independently, and may mutually be same or different. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. R 3 and R 4 represent a single bond or a divalent organic group, and may be the same or different from each other. At least one of R 5 and R 6 represents a metal complex moiety represented by the following general formula (2) or general formula (3), and the other is a monovalent organic group, or the following general formula (2) or general formula The metal complex part shown by (3) is shown, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[Wherein, R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may or may not be substituted, may form a ring structure, and are the same as each other; It may be different or different. M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. m1 is an integer of 0 to 4, m2 is an integer of 0 to 3, and w is an integer of 1 to 3. ]
Figure 2005325048
[Wherein, R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may or may not be substituted, may form a ring structure, and are the same as each other; It may be different or different. M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. m3 is an integer of 0 to 3, m4 is an integer of 0 to 4, and w is an integer of 1 to 3. ]
請求項2に記載の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(4)で示されるフェニルピリジン化合物と、下記一般式(5)で示されるジフェニル化合物とを反応させて中間反応生成物を得、
この中間反応生成物と、下記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法。
Figure 2005325048
〔式中、X3 は、ハロゲン原子を示す。R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。RLVは1価の有機基をを示す。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R11は、2個の配位原子を有する二座のキレート配位子を示し、Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。wは1〜3の整数である。〕
A method for producing the metal complex-containing fluorene compound according to claim 2,
A phenylpyridine compound represented by the following general formula (4) and a diphenyl compound represented by the following general formula (5) are reacted to obtain an intermediate reaction product,
A method for producing a metal complex-containing fluorene compound, comprising reacting the intermediate reaction product with a metal complex compound represented by the following general formula (6).
Figure 2005325048
[Wherein X 3 represents a halogen atom. R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may be unsubstituted or may form a ring structure and are the same as each other May be different. m1 is an integer of 0 to 4, and m2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[In formula, X < 1 > and X < 2 > show a halogeno functional group each independently, and may mutually be same or different. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. R LV represents a monovalent organic group. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[Wherein R 11 represents a bidentate chelate ligand having two coordination atoms, M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. w is an integer of 1-3. ]
請求項2に記載の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(7)で示されるフェニルピリジン誘導体と、下記一般式(8)で示されるフルオレン誘導体とを反応させて中間反応生成物(1)を得、
この中間反応生成物(1)と、ハロゲンとを反応させて中間反応生成物(2)を得、
この中間反応生成物(2)と、下記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法。
Figure 2005325048
〔式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。X4 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示す。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、X5 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(7)におけるX4 と互いに異なるものである。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R12およびR13は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数であり、q1は0〜4の整数であり、q2は0〜4の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R11は、2個の配位原子を有する二座のキレート配位子を示し、Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。wは1〜3の整数である。〕
A method for producing the metal complex-containing fluorene compound according to claim 2,
A phenylpyridine derivative represented by the following general formula (7) and a fluorene derivative represented by the following general formula (8) are reacted to obtain an intermediate reaction product (1).
This intermediate reaction product (1) is reacted with halogen to obtain an intermediate reaction product (2).
A process for producing a metal complex-containing fluorene compound, comprising reacting the intermediate reaction product (2) with a metal complex compound represented by the following general formula (6).
Figure 2005325048
Wherein, R 7 and R 8 are each independently a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may or may not be substitution, may form a ring structure, identical to each other It may be different or different. X 4 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group. m1 is an integer of 0 to 4, and m2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[Wherein, X 5 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group, and is different from X 4 in the general formula (7). R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. R 12 and R 13 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, n2 is an integer of 0 to 3, q1 is an integer of 0 to 4, and q2 is an integer of 0 to 4. ]
Figure 2005325048
[Wherein R 11 represents a bidentate chelate ligand having two coordination atoms, M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. w is an integer of 1-3. ]
請求項2に記載の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(4)で示されるフェニルピリジン化合物と、下記一般式(9)で示されるフルオレノン化合物とを反応させて中間反応生成物(1)を得、
この中間反応生成物(1)と、1価の有機基よりなる置換基を1〜5個有するベンゼンとを反応させて中間反応生成物(2)を得、
この中間反応生成物(2)と、下記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法。
Figure 2005325048
〔式中、X3 は、ハロゲン原子を示す。R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R11は、2個の配位原子を有する二座のキレート配位子を示し、Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。wは1〜3の整数である。〕
A method for producing the metal complex-containing fluorene compound according to claim 2,
A phenylpyridine compound represented by the following general formula (4) and a fluorenone compound represented by the following general formula (9) are reacted to obtain an intermediate reaction product (1).
This intermediate reaction product (1) is reacted with benzene having 1 to 5 substituents composed of a monovalent organic group to obtain an intermediate reaction product (2).
A process for producing a metal complex-containing fluorene compound, comprising reacting the intermediate reaction product (2) with a metal complex compound represented by the following general formula (6).
Figure 2005325048
[Wherein X 3 represents a halogen atom. R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may be unsubstituted or may form a ring structure and are the same as each other May be different. m1 is an integer of 0 to 4, and m2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[In formula, X < 1 > and X < 2 > show a halogeno functional group each independently, and may mutually be same or different. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[Wherein R 11 represents a bidentate chelate ligand having two coordination atoms, M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. w is an integer of 1-3. ]
請求項2に記載の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(10)で示されるフェノールピリジン化合物と、その主鎖の両端にハロゲン原子を有する有機基のジハロゲン化物とを反応させて中間反応生成物(1)を得、
この中間反応生成物(1)と、下記一般式(11)で示されるフルオレン化合物とを反応させて中間反応生成物(2)を得、
この中間反応生成物(2)と、下記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法。
Figure 2005325048
〔式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立にフッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、これらは置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよく、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。m1は0〜4の整数であり、m2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R11は、2個の配位原子を有する二座のキレート配位子を示し、Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。wは1〜3の整数である。〕
A method for producing the metal complex-containing fluorene compound according to claim 2,
A phenol pyridine compound represented by the following general formula (10) is reacted with a dihalide of an organic group having a halogen atom at both ends of the main chain to obtain an intermediate reaction product (1).
This intermediate reaction product (1) is reacted with a fluorene compound represented by the following general formula (11) to obtain an intermediate reaction product (2).
A process for producing a metal complex-containing fluorene compound, comprising reacting the intermediate reaction product (2) with a metal complex compound represented by the following general formula (6).
Figure 2005325048
[Wherein, R 7 and R 8 each independently represent a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, which may or may not be substituted, may form a ring structure, and are the same as each other; It may be different or different. m1 is an integer of 0 to 4, and m2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[In formula, X < 1 > and X < 2 > show a halogeno functional group each independently, and may mutually be same or different. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[Wherein R 11 represents a bidentate chelate ligand having two coordination atoms, M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. w is an integer of 1-3. ]
請求項2に記載の金属錯体含有フルオレン化合物を製造する方法であって、
下記一般式(12)で示されるヒドロキシピリジン誘導体と、その主鎖の両端にハロゲン原子を有する有機基のジハロゲン化物とを反応させて中間反応生成物(1)を得、
この中間反応生成物(1)と、下記一般式(13)で示されるベンゼン誘導体とを反応させて中間反応生成物(2)を得、
この中間反応生成物(2)と、下記一般式(11)で示されるフルオレン化合物とを反応させて中間反応生成物(3)を得、
この中間反応生成物(3)と、下記一般式(6)で示される金属錯体化合物とを反応させることを特徴とする金属錯体含有フルオレン化合物の製造方法。
Figure 2005325048
〔式中、R7 は、フッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、置換されていてもいなくてもよく、環構造を形成していてもよい。X6 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示す。m3は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R8 は、フッ素原子、アルキル基またはアリール基を示し、置換されていてもいなくてもよく、環を形成していてもよい。X7 は、反応性のハロゲン性官能基、若しくは反応性のホウ素誘導体官能基を示し、上記一般式(12)におけるX6 と互いに異なるものである。m4は0〜4の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、X1 およびX2 は、それぞれ独立にハロゲン性官能基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、それぞれ独立に1価の有機基を示し、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。n1は0〜3の整数であり、n2は0〜3の整数である。〕
Figure 2005325048
〔式中、R11は、2個の配位原子を有する二座のキレート配位子を示し、Mは、2〜4価の金属原子を示し、Lは有機配位子を示す。wは1〜3の整数である。〕
A method for producing the metal complex-containing fluorene compound according to claim 2,
By reacting a hydroxypyridine derivative represented by the following general formula (12) with a dihalide of an organic group having a halogen atom at both ends of the main chain, an intermediate reaction product (1) is obtained.
This intermediate reaction product (1) is reacted with a benzene derivative represented by the following general formula (13) to obtain an intermediate reaction product (2).
This intermediate reaction product (2) is reacted with a fluorene compound represented by the following general formula (11) to obtain an intermediate reaction product (3).
The manufacturing method of the metal complex containing fluorene compound characterized by making this intermediate reaction product (3) react with the metal complex compound shown by following General formula (6).
Figure 2005325048
[Wherein, R 7 represents a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, may or may not be substituted, and may form a ring structure. X 6 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group. m3 is an integer of 0-3. ]
Figure 2005325048
[Wherein R 8 represents a fluorine atom, an alkyl group or an aryl group, may or may not be substituted, and may form a ring. X 7 represents a reactive halogen functional group or a reactive boron derivative functional group, and is different from X 6 in the general formula (12). m4 is an integer of 0-4. ]
Figure 2005325048
[In formula, X < 1 > and X < 2 > show a halogeno functional group each independently, and may mutually be same or different. R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group, and may be the same or different from each other. n1 is an integer of 0 to 3, and n2 is an integer of 0 to 3. ]
Figure 2005325048
[Wherein R 11 represents a bidentate chelate ligand having two coordination atoms, M represents a divalent to tetravalent metal atom, and L represents an organic ligand. w is an integer of 1-3. ]
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