JP2005311185A - Semiconductor laser equipment - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、波長モニタ機能を有する半導体レーザ装置に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor laser device having a wavelength monitoring function.
波長分割多重(WDM;Wavelength Division Multiplexing)を用いた光通信システムでは、複数の半導体レーザから発振される波長の異なる光を1本の光ファイバに多重化して伝送させる。しかし、より高密度に光を多重化する高密度波長分割多重(DWDM;Dense WDM)を用いた通信システムでは、多重化される光の波長間隔が狭いため、各々の半導体レーザの発振波長にずれが生じると、多重化された光の間でクロストークが発生し信号劣化が生じるという問題があった。 In an optical communication system using wavelength division multiplexing (WDM), light having different wavelengths oscillated from a plurality of semiconductor lasers is multiplexed and transmitted on a single optical fiber. However, in a communication system using Dense Wavelength Division Multiplexing (DWDM; Dense WDM), which multiplexes light at a higher density, the wavelength interval of the multiplexed light is narrow, so that there is a shift to the oscillation wavelength of each semiconductor laser. When this occurs, there is a problem in that crosstalk occurs between multiplexed light and signal degradation occurs.
この問題を解決するため、半導体レーザ装置内に波長モニタ機能を内蔵し、半導体レーザから発射される光のうち、光ファイバに導かれる前方出射光と同時に出射される後方出射光の波長情報をモニタし、半導体レーザの動作温度に帰還することにより、発振波長を安定化させる半導体レーザ装置が提案されている。 In order to solve this problem, the wavelength monitoring function is built in the semiconductor laser device, and the wavelength information of the backward emitted light emitted simultaneously with the forward emitted light guided to the optical fiber out of the light emitted from the semiconductor laser is monitored. A semiconductor laser device that stabilizes the oscillation wavelength by returning to the operating temperature of the semiconductor laser has been proposed.
例えば、特許文献1に開示された従来の光伝送装置は、レーザ光源からの光をレンズで平行光化し、その平行光中にハーフミラーを配置することにより平行光の一部を分岐し、ハーフミラーにより分岐された光を第1の光検知器で受光すると共に、ハーフミラーを透過した光をエタロンに通し、エタロンからの透過光を第2の光検知器で受光する。第1の光検知器と第2の光検知器で受光された各々の信号光を比較することによりレーザ光源の発振波長を所望値になす為の信号を取得し、当該信号にてレーザ光源の波長制御を行っている。 For example, in the conventional optical transmission device disclosed in Patent Document 1, light from a laser light source is converted into parallel light by a lens, and a half mirror is arranged in the parallel light to branch a part of the parallel light. The light branched by the mirror is received by the first photodetector, the light transmitted through the half mirror is passed through the etalon, and the transmitted light from the etalon is received by the second photodetector. By comparing each signal light received by the first light detector and the second light detector, a signal for making the oscillation wavelength of the laser light source become a desired value is obtained, and the signal of the laser light source is obtained by the signal. Wavelength control is performed.
しかし、特許文献1に開示された従来の光伝送装置のように、ハーフミラーで信号光を分割する方式では、ハーフミラー部分の占める面積が大きく、半導体レーザ装置の小型化に影響するという問題があった。また、第1の光検知器と第2の光検知器との分岐比をハーフミラーの反射率及び透過率でしか決められないため、この比率を変える場合には反射率及び透過率の異なる別のハーフミラーを用意する必要があった。 However, as in the conventional optical transmission device disclosed in Patent Document 1, in the method of dividing the signal light by the half mirror, there is a problem that the area occupied by the half mirror portion is large and affects the miniaturization of the semiconductor laser device. there were. In addition, since the branching ratio between the first photodetector and the second photodetector can be determined only by the reflectance and transmittance of the half mirror, when changing this ratio, the reflectance and transmittance are different. It was necessary to prepare a half mirror.
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、波長モニタ部分を小型化し、半導体レーザ装置全体の小型化を図ることを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to reduce the size of the wavelength monitor portion and to reduce the size of the entire semiconductor laser device.
この発明に係る半導体レーザ装置は、半導体レーザと、半導体レーザの後方出射光の進路上に設置され、後方出射光を平行光化するレンズと、平行光を、その断面の一部分に相当する第1の部分光と第1の部分光を除いた部分に相当する第2の部分光に分離する光分離部と、第1の部分光を受光する第1の光検出器と、第2の部分光を透過させる波長フィルタと、波長フィルタを透過した第2の部分光を受光する第2の光検出器を備え、第1の光検出器で受光した光の波長情報と第2の光検出器で受光した光の波長情報に基づいて、半導体レーザから出射される光の波長を制御するものである。 The semiconductor laser device according to the present invention includes a semiconductor laser, a lens that is installed on the path of the backward emitted light of the semiconductor laser, converts the backward emitted light into parallel light, and the parallel light is a first portion corresponding to a part of the cross section. A light separation unit that separates the partial light and the second partial light corresponding to a portion excluding the first partial light, a first photodetector that receives the first partial light, and a second partial light A wavelength filter that transmits light, and a second photodetector that receives the second partial light that has passed through the wavelength filter. The wavelength information of the light received by the first photodetector and the second photodetector. Based on the wavelength information of the received light, the wavelength of the light emitted from the semiconductor laser is controlled.
この発明によれば、半導体レーザ光を第1の部分光と第2の部分光に分離する光分離部を設け、第1の部分光を第1の光検出器で受光し、波長フィルタを透過した第2の部分光を第2の光検出器で受光し、それらの検出した波長情報に基づいて、半導体レーザから出射される光の波長を制御するようにしたことにより、光分離部としてハーフミラーの代わりに反射鏡等小型の部品を用いることができるので、半導体レーザ装置全体の小型化が図れる。 According to the present invention, the light separation unit for separating the semiconductor laser light into the first partial light and the second partial light is provided, the first partial light is received by the first photodetector, and is transmitted through the wavelength filter. The second partial light is received by the second photodetector, and the wavelength of the light emitted from the semiconductor laser is controlled based on the detected wavelength information. Since a small component such as a reflecting mirror can be used instead of the mirror, the entire semiconductor laser device can be miniaturized.
以下、この発明の実施の様々な形態を説明する。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1による、半導体レーザ装置100の構成を示す図である。図に示すように半導体レーザ装置100は、レーザダイオード(半導体レーザ)10、コリメートレンズ(レンズ)20、第1のフォトダイオード(第1の光検出器)30、第2のフォトダイオード(第2の光検出器)40、エタロン(波長フィルタ)50、反射鏡(光分離部)60を備えている。
Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described.
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a
コリメートレンズ20は、レーザダイオード10から発射される後方出射光の進路上に設置される。
反射鏡60は、レーザダイオード10から発射される後方出射光の進路上で、コリメートレンズ20よりもレーザダイオード10から遠い位置に、コリメートレンズ20によって平行化された後方出射光の約半分が入射するように配置される。反射鏡60は、入射した光の進路を90度変化させるように設置されている。
反射鏡60によって全反射された光の進路上には、第1のフォトダイオード30が設置されている。
The collimating
About half of the rearward emitted light collimated by the collimating
On the path of the light totally reflected by the
また、コリメートレンズ20によって平行化された光の進路上で、反射鏡60よりもコリメートレンズ20から遠い位置に、エタロン50が設置されている。さらに平行化された光の進路上で、エタロン50よりもコリメートレンズ20から離れた位置に、第2のフォトダイオード40が設置されている。
Further, the
次に、動作について説明する。
レーザダイオード10の後方出射光は、コリメートレンズ20によって平行光化される。平行光線の約半分は反射鏡60に入射して全反射し、進路が90度変化する。全反射した光線は第1のフォトダイオード30に入射する。
Next, the operation will be described.
The light emitted backward from the
コリメートレンズ20によって平行化された光のうち、反射鏡60に入射しなかった残りの光線は、エタロン50に入射する。エタロン50を透過した光は第2のフォトダイオード40に入射する。
Of the light collimated by the
第1のフォトダイオード30からの出力は、レーザダイオード10の強度をモニタするのに用いられる。また、エタロン50の透過光は波長によって周期的に増減する特性を持つため、第2のフォトダイオード40からの出力は、レーザダイオード10の波長をモニタするのに用いられる。
The output from the
第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40からの出力によってモニタされる波長誤差をレーザダイオード10の動作温度に帰還することによって、発振波長を安定化させることができる。
By returning the wavelength error monitored by the outputs from the
なお、透過光が波長に依存するフィルタとしてはファブリペローエタロンを用いることが多いが、透過光が波長に依存するものであるならば他のものに置き換えてもよい。 As a filter whose transmitted light depends on the wavelength, a Fabry-Perot etalon is often used. However, if the transmitted light depends on the wavelength, it may be replaced with another filter.
以上のように、実施の形態1によれば、第1のフォトダイオード30及び第2のフォトダイオード40へ向かう光線の分岐手段として反射鏡60を利用するため、従来技術に関連して述べたようにハーフミラーを使う場合に比べ容積を約半分にすることができる。これにより、半導体レーザ装置100の小型化を図ることができる。
As described above, according to the first embodiment, the reflecting
また、反射鏡60の位置を、レーザダイオード10の発光面と第2のフォトダイオード40の受光面を結ぶ軸線に垂直な方向にずらすことにより、第1のフォトダイオード30及び第2のフォトダイオード40へ向かう光線の強度比を容易に変更することができる。
Further, by shifting the position of the reflecting
また、第1のフォトダイオード30及び第2のフォトダイオード40の受光部の面積は、通常、光線に比較して小さい。この場合、従来技術に関連して述べた光線分岐にハーフミラーを用いる方式に比べ、実施の形態1が優れている点について、以下具体例を用いて説明する。
In addition, the areas of the light receiving portions of the
図2は、実施の形態1の反射鏡60の代わりにハーフミラーを用いて第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40に向かう光線を分割する場合の、第2のフォトダイオード40の受光面と光線の位置関係を示す図である。
ここでは、第2のフォトダイオード40は、幅0.4mm、高さ0.4mmの受光部を持つとする。また、光線強度が光線中心の強度の1/e2となる範囲内の光線半径が0.5mmになる場合を考える。
FIG. 2 shows the light reception of the
Here, it is assumed that the
ハーフミラーでは、光線全体を分岐するため以下のような問題が生じる。図2に示すように、第2のフォトダイオード40に入射する光線の中心が、第2のフォトダイオード40の高さ方向中心と横方向中心に合うように実装した場合の、光強度分布とフォトダイオードの受光範囲の関係を図3に示す。この場合、第2のフォトダイオード40が受光する光の強度は光線全体の強度の16.6%となる。
In the half mirror, the following problems occur because the entire light beam is branched. As shown in FIG. 2, the light intensity distribution and the photo when the light beam incident on the
一方、図4は、実施の形態1による、第2のフォトダイオード40の受光面と光線の位置関係を示す図である。第2のフォトダイオード40の受光面の面積および光線半径は図2と同一である。
光線の分岐にハーフミラーを用いた場合には、光速の全体が一定の比率で分離されるため、第2のフォトダイオード40への光線の入射面は図2に示すようになるが、半導体レーザ装置100のように反射鏡60を用いた場合には、反射鏡60に入射した部分の光線は完全に分岐されるため、第2のフォトダイオード40に到達する光線は図4に示すようようになる。
On the other hand, FIG. 4 is a diagram showing the positional relationship between the light receiving surface of the
When a half mirror is used for beam splitting, the entire speed of light is separated at a constant ratio, so that the incident surface of the beam on the
第2のフォトダイオード40の受光部の横方向の端を反射鏡60が無い場合の光線中心に合わせ、高さ方向の中心は光線の中心に合わせて実装した場合の、光強度分布とフォトダイオードの受光範囲の関係を示す図5に示す。この場合、第2のフォトダイオード40が受光する光の強度は光線全体の強度の25.7%となる。
The light intensity distribution and the photodiode when the horizontal end of the light receiving portion of the
また、第1のフォトダイオード30についても第2のフォトダイオード40と同様のものを用い、第1のフォトダイオード30に入射する光線に対して上記と同じように実装した場合、第1のフォトダイオード30が受光する強度についても同様の結果が得られる。
このように、光線の分岐に反射鏡60を用いることにより、同じ受光部面積のフォトダイオードでより効率的に受光することができる。
When the
Thus, by using the reflecting
また、図6は、実施の形態1による、反射鏡60のより好ましい設置方法を示す図である。図は、反射鏡60の取り付け部分を図1と同じ方向から見た断面図である、図に示すように、反射鏡60の裏面を金属部材に接合し、金属部材をレーザダイオード10の光軸に垂直な方向に移動させる。これにより、任意の比率で光線を分岐する位置に、反射鏡60を容易に移動させることができる。
なお、金属部材は、反射鏡60による反射光の光軸が第1のフォトダイオード30の受光面の中心軸に一致するように設置することが望ましい。さらに、金属部材がレーザダイオード10の光軸に垂直な方向にのみ移動可能なように設置すれば、第1のフォトダイオード30に対する反射光の光軸の位置がずれるのを防ぐことができる。このため例えば、金属部材の端面を図に示すような突起部のスライド面に当てて、金属部材を移動させるような構造にしてもよい。
FIG. 6 is a diagram illustrating a more preferable installation method of the reflecting
The metal member is desirably installed so that the optical axis of the light reflected by the reflecting
実施の形態2.
図7は、この発明の実施の形態2による半導体レーザ装置200の構成を示す図である。図1と同一の符号は同一の構成要素を表している。実施の形態2では、エタロン51の入射面の一部に全反射ミラーが蒸着されており、ミラー部(反射鏡部)61を形成している。その他の構成は、実施の形態1と同様である。
Embodiment 2. FIG.
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a
次に、動作について説明する。
レーザダイオード10の後方出射光は、コリメートレンズ20によって平行光化される。平行光線は、エタロン51に入射する。入射した光の一部はミラー部61によって全反射され、進路が90度変化する。全反射した光線は第1のフォトダイオード30に入射する。
Next, the operation will be described.
The light emitted backward from the
エタロン51に入射した光のうち、ミラー部61によって全反射されなかった残りの光線は、エタロン51を透過する。エタロン51を透過した光は第2のフォトダイオード40に入射する。
Of the light incident on the
第1のフォトダイオード30からの出力は、実施の形態1と同様にレーザダイオード10の強度をモニタするのに用いられ、第2のフォトダイオード40からの出力は、レーザダイオード10の波長をモニタするのに用いられる。
第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40からの出力によってモニタされる波長誤差をレーザダイオード10の動作温度に帰還することによって、発振波長を安定化させることができる。
The output from the
By returning the wavelength error monitored by the outputs from the
以上のように、実施の形態2によれば、エタロン51の一部を反射鏡としたことにより、別部品として反射鏡を設置する必要がなく、半導体レーザ装置をより小型化することができる。
As described above, according to the second embodiment, since a part of the
また、光線の分岐に全反射ミラーを用いることにより、実施の形態1と同様に、同じ受光部面積のフォトダイオードでより効率的に受光することができる。 Further, by using the total reflection mirror for branching the light beam, it is possible to receive light more efficiently by the photodiode having the same light receiving area as in the first embodiment.
また、エタロン51をレーザダイオード10の光軸に垂直な方向に移動させることにより、所望の比率で光線を分岐する位置に、容易にミラー部61を移動させることができる。
Further, by moving the
実施の形態3.
図8は、この発明の実施の形態3による半導体レーザ装置300の構成を示す図である。図1と同一の符号は同一の構成要素を表している。半導体レーザ装置300は、反射鏡60の代わりに、平面基板(透過板)70を備えている。
Embodiment 3 FIG.
FIG. 8 shows a configuration of a
平面基板70は、相対する面が平行に形成されたガラス基板である。平面基板70は、コリメートレンズ20によって平行化された後方出射光の約半分が入射するように配置され、入射した光の進路を平行移動することにより光線を分岐する。
平面基板70を透過した光の進路上には、第1のフォトダイオード30が設置されている。
The
A
次に、動作について説明する。
レーザダイオード10の後方出射光は、コリメートレンズ20によって平行光化される。平行光線の約半分は平面基板70に入射し、進路が平行移動することにより、元の光線から分離される。平面基板70を透過して分離された光線は第1のフォトダイオード30に入射する。
Next, the operation will be described.
The light emitted backward from the
コリメートレンズ20によって平行化された光のうち、平面基板70に入射しなかった残りの光線は、エタロン50に入射する。エタロン50を透過した光は第2のフォトダイオード40に入射する。
Of the light collimated by the collimating
第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40からの出力は実施の形態1と同様に用いられ、レーザダイオード10の発振波長を安定化するのに利用される。
Outputs from the
この実施の形態3のように、光の分岐手段に平面基板70を利用しても、実施の形態1と同様に半導体レーザ装置を小型化することができる。
Even if the
また、平面基板70をレーザダイオード10の光軸に垂直な方向に移動させることにより、光線の分岐比率を容易に変化させることができる。
Further, by moving the
また、平面基板70によって分離された光線は、コリメートレンズ20で平行化された元の光線と平行なので、第1のフォトダイオード30と第2のフォトダイオード40を同じキャリア上に並べて実装することも可能であり、実施の形態1に比べ部品点数が減少し、コストも低減できる。また、第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40を実装するキャリアの内部に、波長制御装置等を収納するように構成してもよい。これにより、装置の小型化をよりいっそう図ることができる。
Further, since the light beam separated by the
実施の形態4.
図9は、この発明の実施の形態4による半導体レーザ装置400の構成を示す図である。図1と同一の符号は同一の構成要素を表している。半導体レーザ装置400は、光線の分岐手段を有していない。
Embodiment 4 FIG.
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a
半導体レーザ装置400において、第1のフォトダイオード30は、レーザダイオード10から発射される後方出射光の進路上で、エタロン50よりもコリメートレンズ20から近い位置に、コリメートレンズ20によって平行化された後方出射光の約半分が入射するように配置される。すなわち、実施の形態4では、第1のフォトダイオード30と第2のフォトダイオード40の間にエタロン50が挟まれるように配置される。
In the
次に、動作について説明する。
レーザダイオード10の後方出射光は、コリメートレンズ20によって平行光化される。平行光線の約半分は第1のフォトダイオード30に入射する。
Next, the operation will be described.
The light emitted backward from the
コリメートレンズ20によって平行化された光のうち、第1のフォトダイオード30に入射しなかった残りの光線は、エタロン50に入射する。エタロン50を透過した光は第2のフォトダイオード40に入射する。
Of the light collimated by the collimating
第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40からの出力は実施の形態1と同様に用いられ、レーザダイオード10の発振波長を安定化するのに利用される。
Outputs from the
この実施の形態4のように、第1のフォトダイオード30と第2のフォトダイオード40の間にエタロン50が挟まれるような構成にすることにより、光線の分岐手段を設置しなくても、実施の形態1と同様の効果が得られる。また、部品点数が減少できる分、コストを下げることができる。
As in the fourth embodiment, the configuration in which the
また、実施の形態4のように、第1のフォトダイオード30をエタロン50よりも光源に近い位置に配置することにより、強度モニタ用の光と波長モニタ用の光を完全に分離することができる。すなわち、第1のフォトダイオード30がエタロン50よりもコリメートレンズ20から遠いところに配置されていると、エタロン50の実装位置がずれた場合、エタロン50を透過した光のごく一部が第1のフォトダイオード30に入射してしまい、波長モニタ用の光が第1のフォトダイオード30に入ってしまうことになるためである。
Further, as in the fourth embodiment, by arranging the
また、第1のフォトダイオード30をレーザダイオード10の光軸に垂直な方向に移動させることにより、光線の分岐比率を容易に変化させることができる。
Further, by moving the
実施の形態5.
実施の形態1から4においてエタロン50,51に用いられるファブリペローエタロンの透過率は、周波数により周期的に増減する特性を持つ。周波数の極大値と次の極大値との周波数差はFSR(free spectral range)と称され、波長分割多重方式における隣接チャネル間の周波数間隔とこのFSRを合わせるようにすることが多い。
Embodiment 5 FIG.
The transmittance of the Fabry-Perot etalon used for the
しかし、近年、波長分割多重方式における多重化は高密度になっており、例えば隣接チャネル間の周波数間隔が25GHzになると、通常用いられている材質のファブリペローエタロンでは、エタロンで形成される共振器長を長くせざるを得ず、半導体レーザ装置の気密パッケージ内に納めることが困難である。これを、実施の形態1の構成を用いて図示すると、図10に示すようになる。 However, in recent years, the multiplexing in the wavelength division multiplexing system has become high density. For example, when the frequency interval between adjacent channels is 25 GHz, a Fabry-Perot etalon of a commonly used material is a resonator formed of an etalon. The length must be increased, and it is difficult to fit in the hermetic package of the semiconductor laser device. This is illustrated in FIG. 10 using the configuration of the first embodiment.
実施の形態5では、エタロンの共振器長が1方向に長くならず、かつ高密度の波長多重化に対応できるようにする。 In the fifth embodiment, the resonator length of the etalon is not increased in one direction, and it can cope with high-density wavelength multiplexing.
図11は、この発明の実施の形態5による、半導体レーザ装置500の構成を示すブロック図である。図1と同一の符号は、同一の構成要素を表している。
図に示すように、エタロン53は直方体の形状であり、光の入射面とは反対側の1角が斜めにカットされた形状になっている。エタロン53は、入射光がこのカットされた面で反射し、第2のフォトダイオード40に入射するように形成されている。
エタロン53をこのように構成することにより、エタロン53自身の長さを大きくせずにエタロン53内の光の通過経路を長くすることができる。
FIG. 11 is a block diagram showing a configuration of a
As shown in the drawing, the
By configuring the
半導体レーザ装置500の動作は半導体レーザ装置100と同様であり、実施の形態1と同様の効果に加え、より高密度の波長多重化に対しても、装置の小型化を実現できる。
The operation of the
また、半導体レーザ装置500では、第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40は1つの部材に接合されており、同一面上に実装することができるので、部品点数を削減することができる。また、第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40を接合する部材の内部に、波長制御装置等を収納するように構成してもよい。これにより、装置の小型化をよりいっそう図ることができる。
In the
また、図12は、実施の形態5の変形例による、半導体レーザ装置600の構成を示すブロック図である。
図に示すように、エタロン54は直方体の形状であり、光の入射面とは反対側の2角が斜めにカットされた形状になっている。エタロン54は、入射光がこのカットされた面で入射光が計2回反射し、第2のフォトダイオード40に入射するように形成されている。
エタロン54をこのように構成することにより、エタロン54自身の長さを大きくせずにエタロン54内の光の通過経路を、図11に示す半導体レーザ装置500よりもさらに長くすることができる。
半導体レーザ装置600の動作は半導体レーザ装置100と同様であり、実施の形態1と同様の効果に加え、より高密度の波長多重化に対しても、装置の小型化を実現できる。
FIG. 12 is a block diagram showing a configuration of a
As shown in the figure, the
By configuring the
The operation of the
また、半導体レーザ装置600では、図に示すような小型の部材に第1のフォトダイオード30および第2のフォトダイオード40を実装することができるので、部品点数を削減することができる。
Further, in the
なお、エタロン53またはエタロン54を実施の形態2〜4の半導体レーザ装置に適用してもよい。
Note that the
実施の形態6.
図13は実施の形態6による半導体レーザ装置700の構成を示すブロック図である。図11と同一の符号は同一の構成要素を表している。
また、図14は実施の形態6による半導体レーザ装置800の構成を示すブロック図である。図12と同一の符号は同一の構成要素を表している。
Embodiment 6 FIG.
FIG. 13 is a block diagram showing a configuration of a
FIG. 14 is a block diagram showing a configuration of a
実施の形態6では、光分離部として、反射鏡60の代わりにビームスプリッタ80を用いる。その他の点は実施の形態5と同様である。
In the sixth embodiment, a
実施の形態6においても、エタロンの実装面積について実施の形態5と同様の効果が得られる。 Also in the sixth embodiment, the same effect as in the fifth embodiment can be obtained with respect to the mounting area of the etalon.
10 レーザダイオード(半導体レーザ)、20 コリメートレンズ(レンズ)、30 第1のフォトダイオード(第1の光検出器)、40 第2のフォトダイオード(第2の光検出器)、50,51,52,53,54 エタロン(波長フィルタ)、60 反射鏡、61 ミラー部(反射鏡部)、70 平面基板(透過板)、80 ビームスプリッタ、100,200,300,400,500,600,700,800 半導体レーザ装置。
DESCRIPTION OF
Claims (9)
上記半導体レーザの後方出射光の進路上に設置され、上記後方出射光を平行光化するレンズと、
上記平行光を、その断面の一部分に相当する第1の部分光と上記第1の部分光を除いた部分に相当する第2の部分光に分離する光分離部と、
上記第1の部分光を受光する第1の光検出器と、
上記第2の部分光を透過させる波長フィルタと、
上記波長フィルタを透過した第2の部分光を受光する第2の光検出器を備え、
上記第1の光検出器で受光した光の波長情報と上記第2の光検出器で受光した光の波長情報に基づいて、上記半導体レーザから出射される光の波長を制御することを特徴とする半導体レーザ装置。 A semiconductor laser;
A lens that is installed on the path of the backward emitted light of the semiconductor laser and converts the backward emitted light into parallel light;
A light separating unit that separates the parallel light into a first partial light corresponding to a part of a cross section thereof and a second partial light corresponding to a portion excluding the first partial light;
A first photodetector for receiving the first partial light;
A wavelength filter that transmits the second partial light;
A second photodetector for receiving the second partial light transmitted through the wavelength filter;
The wavelength of light emitted from the semiconductor laser is controlled based on wavelength information of light received by the first photodetector and wavelength information of light received by the second photodetector. Semiconductor laser device.
第1の部分光が上記反射鏡で反射されて進路を変化させることにより、上記平行光が分離されることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。 The light separation part is a reflector,
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the parallel light is separated by changing a course of the first partial light reflected by the reflecting mirror.
上記第1の部分光が上記透過板を透過して進路を平行移動させることにより、上記平行光が分離されることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。 The light separation unit is a transmission plate having opposing surfaces formed in parallel.
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the parallel light is separated by the first partial light being transmitted through the transmission plate and translated in a path.
第1の部分光が上記反射鏡部で反射されて進路を変化させることにより、上記平行光が分離されることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。 The light separation part is a reflecting mirror part provided in a part of the wavelength filter,
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the parallel light is separated by changing the path of the first partial light reflected by the reflecting mirror portion.
レンズを透過した第1の部分光が、直接上記第1の光検出器に受光されることにより、上記平行光が分離されることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。 The first photodetector also serves as a light separation unit,
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the parallel light is separated when the first partial light transmitted through the lens is directly received by the first photodetector.
上記半導体レーザの後方出射光の進路上に設置され、上記後方出射光を平行光化するレンズと、
上記平行光を、第1の部分光と第2の部分光に分離する光分離部と、
上記第1の部分光を受光する第1の光検出器と、
上記第2の部分光を透過させる波長フィルタと、
上記波長フィルタを透過した第2の部分光を受光する第2の光検出器を備え、
上記波長フィルタは、内部に少なくとも1つの反射面を備え、その反射面において入射光を反射させ、
上記第1の光検出器で受光した光の波長情報と上記第2の光検出器で受光した光の波長情報に基づいて、上記半導体レーザから出射される光の波長を制御することを特徴とする半導体レーザ装置。 A semiconductor laser;
A lens that is installed on the path of the backward emitted light of the semiconductor laser and converts the backward emitted light into parallel light;
A light separating unit that separates the parallel light into a first partial light and a second partial light;
A first photodetector for receiving the first partial light;
A wavelength filter that transmits the second partial light;
A second photodetector for receiving the second partial light transmitted through the wavelength filter;
The wavelength filter includes at least one reflection surface therein, and reflects incident light on the reflection surface.
The wavelength of light emitted from the semiconductor laser is controlled based on wavelength information of light received by the first photodetector and wavelength information of light received by the second photodetector. Semiconductor laser device.
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- 2004-04-23 JP JP2004128555A patent/JP2005311185A/en active Pending
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